JP2017187297A

JP2017187297A - Suction stand

Info

Publication number: JP2017187297A
Application number: JP2016074066A
Authority: JP
Inventors: 兼史植田; Kanefumi Ueda; 境　久嘉; Hisayoshi Sakai; 久嘉境
Original assignee: Mitutoyo Corp; Mitsutoyo Kiko Co Ltd
Current assignee: Mitutoyo Corp; Mitsutoyo Kiko Co Ltd
Priority date: 2016-04-01
Filing date: 2016-04-01
Publication date: 2017-10-12
Anticipated expiration: 2036-04-01
Also published as: JP6276318B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction stand that can function both to fix a base on a mount table through vacuum suction and to move maintaining a predetermined height over the mount table across an air film with high precision.SOLUTION: A suction stand 1 comprises: a base 10 having an opposite face opposed to a mount table 500; a vacuum ejector which increases a flow velocity of part of compressed air in the base 10 to generate negative pressure for sucking air between the mount table 500 and the opposite surface; suction means (a suction hole and the vacuum ejector) for sucking the base 10 to the mount table 500 under a vacuum with negative pressure; air film forming means (an air feed hole) for feeding the compressed air to the mount table 500 to form an air film between the opposite face and mount table 500; and alternation means (for example, an exhaust port) of alternating a sucking state and a suction release state by the suction means with a film thickness control state in which the vacuum ejector and air film forming means cooperate with each other to control a thickness of the air film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、測定器を保持した状態で載置台に吸着可能な吸着スタンドに関する。 The present invention relates to an adsorption stand that can be adsorbed to a mounting table while holding a measuring instrument.

ダイヤルゲージ等の測定器を定盤等の載置台に保持するためのスタンドが利用されている。例えば、特許文献１には、測定器が固定されたベースが定盤に対して真空吸着される吸着スタンドが開示されている。この吸着スタンドにおいては、真空ポンプを用いて空気を吸引して定盤に対して真空吸着させる吸着状態と、吸引を停止して吸着状態を解除する吸着解除状態とが、切り替え可能となっている。そして、測定者は、吸着スタンドが吸着解除状態である際に、吸着スタンドを定盤上で移動させることができる。 A stand for holding a measuring instrument such as a dial gauge on a mounting table such as a surface plate is used. For example, Patent Document 1 discloses a suction stand in which a base on which a measuring instrument is fixed is vacuum-sucked with respect to a surface plate. In this suction stand, a suction state in which air is sucked using a vacuum pump and vacuum suction is performed on the surface plate and a suction release state in which suction is stopped and the suction state is released can be switched. . The measurer can move the suction stand on the surface plate when the suction stand is in the suction release state.

特許第４６１６５６３号公報Japanese Patent No. 4616563

吸着スタンドに固定された測定器でワーク（被測定物）を高精度に測定するためには、載置台上で吸着スタンドを円滑に移動させることが望ましい。
しかし、特許文献１の吸着スタンドは、吸着解除状態の際に定盤上で移動させるときに、通常、この吸着スタンドを持ち上げずに、定盤に接触しながら移動させるため、移動の際に摩擦力や定盤の表面状態の影響を受ける。かかる場合には、吸着スタンドの上下動や振動を生じない円滑な移動に支障をきたすため、吸着スタンドを定盤から所定の高さに高精度に維持しながら移動させて連続測定する、いわゆる倣い測定を高精度に行うことが困難である。 In order to measure a work (object to be measured) with high accuracy using a measuring instrument fixed to the suction stand, it is desirable to smoothly move the suction stand on the mounting table.
However, when the suction stand of Patent Document 1 is moved on the surface plate in the suction-released state, the suction stand is usually moved without contacting the surface plate without lifting, so that the friction during the movement Influenced by force and surface condition of the surface plate. In such a case, in order to hinder the vertical movement of the suction stand and smooth movement that does not cause vibration, the suction stand is moved from the surface plate to a predetermined height while maintaining high accuracy, and so-called copying is performed. It is difficult to perform measurement with high accuracy.

そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、載置台上で真空吸着して固定できる機能と、空気膜を介して載置台から所定の高さに高精度に維持しながら移動できる機能の両方の機能を有する吸着スタンドを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made in view of these points, and has a function that can be vacuum-adsorbed and fixed on the mounting table, and is moved from the mounting table to a predetermined height with high accuracy via an air film. An object of the present invention is to provide an adsorption stand having both functions.

本発明の一の態様においては、載置台に対向する対向面を有するベースと、前記ベース内の圧縮空気の一部の流速を大きくして、前記載置台と前記対向面の間の空気を吸引する負圧を発生させる負圧発生手段と、前記負圧によって、前記ベースを前記載置台に対して真空吸着させる吸着手段と、圧縮空気を前記載置台へ給気して、前記対向面と前記載置台との間に空気膜を形成する空気膜形成手段と、前記吸着手段による吸着状態及び吸着解除状態と、前記負圧発生手段及び前記空気膜形成手段が協働して前記空気膜の厚さを管理する膜厚管理状態とを切り替える切替手段と、を備える、吸着スタンドを提供する。 In one aspect of the present invention, a base having an opposing surface facing the mounting table and a flow rate of a part of the compressed air in the base are increased to suck air between the mounting table and the opposing surface. Negative pressure generating means for generating negative pressure, suction means for vacuum-adsorbing the base to the mounting table by the negative pressure, and supplying compressed air to the mounting table, the opposing surface and the front An air film forming means for forming an air film between the mounting table, an adsorption state and an adsorption release state by the adsorption means, and the negative pressure generating means and the air film formation means cooperate to form a thickness of the air film. An adsorption stand is provided that includes switching means for switching between a film thickness management state for managing the thickness.

また、前記ベースは、外部から供給される圧縮空気が分岐部で分岐されて流される第１流路部及び第２流路部を有し、前記空気膜形成手段は、前記第１流路部に設けられ、圧縮空気を前記載置台へ給気して前記対向面と前記載置台との間に空気膜を形成する給気孔を有し、前記負圧発生手段は、前記第２流路部に設けられ、圧縮空気の流速を大きくして、前記載置台と前記対向面の間の空気を吸引する負圧を発生させる負圧発生部を有することとしてもよい。 The base includes a first flow path section and a second flow path section through which compressed air supplied from the outside is branched and flowed at the branch section, and the air film forming means includes the first flow path section. Provided with an air supply hole for supplying compressed air to the mounting table to form an air film between the facing surface and the mounting table, and the negative pressure generating means includes the second flow path section. It is good also as having a negative pressure generation part which raises the flow rate of compressed air and generates the negative pressure which attracts the air between the above-mentioned mounting table and the above-mentioned counter surface.

また、前記負圧発生部に連通されると共に、吸引力を発生する吸引領域を前記対向面に有することとしてもよい。 Moreover, it is good also as having the suction area | region which is connected to the said negative pressure generation part and generate | occur | produces a suction force in the said opposing surface.

また、前記吸引領域は、前記ベースの前記対向面と同一面に形成された凹部領域であることとしてもよい。 Further, the suction area may be a recessed area formed on the same surface as the facing surface of the base.

また、前記吸引領域は、前記ベースの前記対向面と同一面に形成された環状溝で囲まれた領域であることとしてもよい。 Further, the suction region may be a region surrounded by an annular groove formed on the same surface as the facing surface of the base.

また、前記切替手段は、前記第１流路部の圧縮空気の外部への排出状態及び排出抑制状態と、前記第２流路部の圧縮空気の外部への排出状態及び排出抑制状態とを、それぞれ切り替えることで、前記吸着状態と前記吸着解除状態と前記膜厚管理状態とを切り替えることとしてもよい。 Further, the switching means includes a discharge state and discharge suppression state of the compressed air in the first flow path portion, and a discharge state and discharge suppression state of the compressed air in the second flow path portion to the outside. It is good also as switching the said adsorption state, the said adsorption | suction cancellation | release state, and the said film thickness management state by switching each.

また、前記第１流路部には、圧縮空気が前記給気孔から給気されずに排出される第１排気口が設けられ、前記第２流路部には、前記負圧発生部を通過した圧縮空気が排出される第２排気口が設けられている。前記切替手段は、前記第１排気口及び前記第２排気口が開放されると、前記吸着状態に切り替え、前記第１排気口が開放され、かつ前記第２排気口が閉塞されると、前記吸着解除状態に切り替え、前記第１排気口が閉塞され、かつ前記第２排気口が開放されると、前記膜厚管理状態に切り替えることとしてもよい。 In addition, the first flow path portion is provided with a first exhaust port through which compressed air is discharged without being supplied from the air supply hole, and the second flow path portion passes through the negative pressure generating portion. A second exhaust port through which the compressed air is discharged is provided. The switching means switches to the adsorption state when the first exhaust port and the second exhaust port are opened, and when the first exhaust port is opened and the second exhaust port is closed, It is good also as switching to the said film thickness management state, if it switches to an adsorption | suction cancellation | release state, the said 1st exhaust port is obstruct | occluded, and the said 2nd exhaust port is open | released.

また、前記第１流路部には、前記分岐部から流される圧縮空気の流入口の開閉を制御する開閉弁が設けられ、前記切替手段は、前記開閉弁による前記流入口の開閉を制御することで、前記吸着状態と前記膜厚管理状態とを切り替えることとしてもよい。 The first flow path portion is provided with an opening / closing valve for controlling opening / closing of an inlet of compressed air flowing from the branch portion, and the switching means controls opening / closing of the inlet by the opening / closing valve. Thus, the adsorption state and the film thickness management state may be switched.

また、前記負圧発生部は、前記第２流路部の流路を狭くして、圧縮空気の流速を大きくするノズル部を有し、前記第２流路部は、前記ノズル部の先端側に発生された負圧によって、前記載置台と前記対向面の間の空気を吸引する吸引孔を有することとしてもよい。 Further, the negative pressure generating section has a nozzle section that narrows the flow path of the second flow path section and increases the flow velocity of the compressed air, and the second flow path section is on the tip side of the nozzle section. It is good also as having the suction hole which attracts | sucks the air between the said mounting base and the said opposing surface with the negative pressure generate | occur | produced in (3).

また、前記吸引孔は、前記ベースの前記対向面と同一面に形成された環状溝と繋がっていることとしてもよい。 Further, the suction hole may be connected to an annular groove formed on the same surface as the facing surface of the base.

また、前記切替手段は、外部から圧縮空気が供給されている状態で、前記吸着状態と前記吸着解除状態と前記膜厚管理状態とを切り替えることとしてもよい。 The switching unit may switch between the adsorption state, the adsorption release state, and the film thickness management state in a state where compressed air is supplied from the outside.

また、前記吸引孔は、前記対向面の中央側の吸引領域の空気を吸引し、前記給気孔は、前記吸引領域よりも外側の給気領域へ圧縮空気を給気することとしてもよい。 The suction hole may suck air in a suction area on the center side of the facing surface, and the air supply hole may supply compressed air to an air supply area outside the suction area.

また、前記給気孔は、前記対向面の中央側の給気領域へ圧縮空気を給気し、前記吸引孔は、前記給気領域よりも外側の吸引領域の空気を吸引することとしてもよい。 The air supply hole may supply compressed air to an air supply area on the center side of the facing surface, and the suction hole may suck air in a suction area outside the air supply area.

本発明によれば、簡易な構成でありながら、吸着状態と吸着解除状態と膜厚管理状態とを簡単な操作で切替え可能な吸着スタンドを提供できるという効果を奏する。特に、吸着スタンドの膜厚管理状態においては、載置台上で空気膜を介して浮上すると共に吸引されているので、吸着スタンドを載置台から所定の高さに高精度に維持しながら移動させることが可能となる。 According to the present invention, there is an effect that it is possible to provide an adsorption stand that can be switched between an adsorption state, an adsorption release state, and a film thickness management state with a simple operation while having a simple configuration. In particular, in the film thickness control state of the suction stand, the suction stand floats and is sucked through the air film on the mounting table, so that the suction stand is moved from the mounting table to a predetermined height while maintaining high accuracy. Is possible.

本発明の一の実施形態に係る吸着スタンド１の使用例を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the usage example of the adsorption stand 1 which concerns on one Embodiment of this invention. 吸着スタンド１の底面側を示した図である。It is the figure which showed the bottom face side of the adsorption stand. 吸着スタンド１の内部構成を示す図である。It is a figure which shows the internal structure of the adsorption stand. 図３のＩ−Ｉ断面図である。It is II sectional drawing of FIG. 図３のＩＩ−ＩＩ断面図である。It is II-II sectional drawing of FIG. 吸着スタンド１の吸着状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the adsorption state of the adsorption stand. 吸着スタンド１の吸着状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the adsorption state of the adsorption stand. 吸着スタンド１の吸着解除状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the suction release state of the suction stand. 吸着スタンド１の膜厚管理状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the film thickness management state of the adsorption stand. 吸着スタンド１の膜厚管理状態を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the film thickness management state of the adsorption stand. 吸着スタンド１の第１変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of the adsorption stand. 吸着スタンド１の第２変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of the suction stand. 吸着スタンド１の第３変形例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification of the adsorption stand. 吸着スタンド１の第４変形例を示す図である。It is a figure which shows the 4th modification of the suction stand. 吸着スタンド１の第５変形例を示す図である。It is a figure which shows the 5th modification of the suction stand. 本発明が適用されるハイトゲージ７００を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the height gauge 700 with which this invention is applied.

＜吸着スタンドの概要＞
図１及び図２を参照しながら、本発明の一の実施形態に係る吸着スタンド１の概要について説明する。
図１は、一の実施形態に係る吸着スタンド１の使用例を説明するための模式図である。図２は、吸着スタンド１の底面側を示した図である。 <Outline of adsorption stand>
The outline of the suction stand 1 according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
Drawing 1 is a mimetic diagram for explaining an example of use of adsorption stand 1 concerning one embodiment. FIG. 2 is a view showing the bottom side of the suction stand 1.

吸着スタンド１は、図１に示すように、被測定物６１０が載置されている定盤等の載置台５００に載置可能である。また、吸着スタンド１は、被測定物６１０を測定する測定器６００を保持する。そして、吸着スタンド１は、載置台５００の載置面５０１上において、保持している測定器６００を被測定物６１０に対して移動させながら、又は測定器６００を固定した状態で測定等の作業を行う際に用いられる。載置面５０１として、ここでは石の定盤が用いられるが、これに限定されず、吸着スタンド１を使用する上で必要な平面度を有する板状の部材であれば、他の材料から成ってもよい。例えば、載置面５０１は、鉄、アルミ、ステンレス、ガラス、アクリルから成ってもよい。 As shown in FIG. 1, the suction stand 1 can be placed on a placing table 500 such as a surface plate on which a measurement object 610 is placed. Further, the suction stand 1 holds a measuring device 600 that measures the object to be measured 610. Then, the suction stand 1 performs a measurement operation or the like while moving the measuring device 600 held on the mounting surface 501 of the mounting table 500 with respect to the measurement object 610 or with the measuring device 600 fixed. Used when performing. Here, a stone surface plate is used as the mounting surface 501, but is not limited to this, and any plate-like member having flatness necessary for using the suction stand 1 may be used. May be. For example, the mounting surface 501 may be made of iron, aluminum, stainless steel, glass, or acrylic.

測定器６００は、例えばダイヤルゲージであるが、これに限定されず、他の測定器であってもよい。また、測定器６００は、吸着スタンド１の上面に固定された支柱３ａにブラケット３ｂを介して支持されているが、これに限定されない。例えば、測定器６００がマグネットスタンドを有する場合には、マグネットスタンドを吸着スタンド１に固定することで、測定器６００を吸着スタンド１に保持させてもよい。 The measuring device 600 is, for example, a dial gauge, but is not limited thereto, and may be another measuring device. Moreover, although the measuring device 600 is supported by the support | pillar 3a fixed to the upper surface of the adsorption stand 1 via the bracket 3b, it is not limited to this. For example, when the measuring device 600 has a magnet stand, the measuring device 600 may be held on the suction stand 1 by fixing the magnet stand to the suction stand 1.

吸着スタンド１は、載置面５０１に対して吸着されて固定されている吸着状態と、吸着状態が解除されて載置面５０１上で移動可能な吸着解除状態との間で切替可能である。吸着状態は、例えば、吸着スタンド１と載置面５０１の間の空気（以下、吸引空気とも呼ぶ）を吸引している真空吸着状態である。本実施形態では、吸着スタンド１が載置面５０１に吸着されている状態で、測定器６００が被測定物６１０を測定する。かかる場合には、吸着スタンド１が載置面５０１に強固に固定されるので、測定器６００の測定中のがたつきや傾きを防止でき、この結果、精度の高い測定を行うことができる。 The suction stand 1 can be switched between a suction state in which the suction stand 1 is sucked and fixed to the placement surface 501 and a suction release state in which the suction state is released and movable on the placement surface 501. The suction state is, for example, a vacuum suction state in which air between the suction stand 1 and the placement surface 501 (hereinafter also referred to as suction air) is sucked. In the present embodiment, the measuring instrument 600 measures the object to be measured 610 in a state where the suction stand 1 is attracted to the placement surface 501. In such a case, since the suction stand 1 is firmly fixed to the mounting surface 501, rattling or tilting during measurement by the measuring instrument 600 can be prevented, and as a result, highly accurate measurement can be performed.

また、吸着スタンド１は、吸着スタンド１から載置面５０１へ向かって圧縮空気を給気して吸着スタンド１と載置面５０１の間に空気膜を形成している状態へ切替可能である。空気膜が形成されている場合には、吸着スタンド１が載置面５０１に接触しないので、吸着スタンド１は載置面５０１上で精度良く移動可能となる。特に、本実施形態では、圧縮空気により空気膜を形成する際に、吸着スタンド１の内部に設けられた負圧発生部４５（真空エジェクタ４０）により圧縮空気を利用して負圧を発生することで吸着力を発生させて空気膜をプリロードして、空気膜の厚さを管理している（膜厚管理状態）。かかる場合には、空気膜の厚さが大きくなることに起因して空気膜の剛性が低下することを抑制できるので、吸着スタンド１を載置面５０１から所定の高さにより高精度に維持しながら移動させることが可能となる。すなわち、吸着スタンド１は、極めて薄い空気膜を介して載置面５０１に対して浮上しているが、同時に真空プリロードがかかっていて、この真空プリロードの吸着力以上の力で引っ張らない限り、載置面５０１から離れることはない。このように、本実施形態に係る吸着スタンド１は、吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態を切替可能な構成となっている。 The suction stand 1 can be switched to a state in which compressed air is supplied from the suction stand 1 toward the placement surface 501 to form an air film between the suction stand 1 and the placement surface 501. When the air film is formed, the suction stand 1 does not come into contact with the placement surface 501, so that the suction stand 1 can be moved on the placement surface 501 with high accuracy. In particular, in this embodiment, when forming an air film with compressed air, a negative pressure is generated using the compressed air by the negative pressure generator 45 (vacuum ejector 40) provided inside the adsorption stand 1. The air film is preloaded by generating an adsorption force in order to control the thickness of the air film (film thickness control state). In such a case, it is possible to suppress a decrease in the rigidity of the air film due to the increase in the thickness of the air film, so that the suction stand 1 can be maintained with high accuracy from the mounting surface 501 at a predetermined height. It is possible to move while. In other words, the suction stand 1 floats with respect to the placement surface 501 through an extremely thin air film, but at the same time a vacuum preload is applied and the suction stand 1 is loaded unless it is pulled with a force greater than the suction force of the vacuum preload. There is no separation from the placement surface 501. Thus, the suction stand 1 according to the present embodiment is configured to be able to switch between the suction state, the suction release state, and the film thickness management state.

吸着スタンド１は、直方体形状のベース１０を有する。ベース１０は、ここでは金属製であり、十分な流量の圧縮空気（例えば、０．５ＭＰａ以上、１５Ｌ／ｍｉｎ以上）を供給するコンプレッサに供給路５１０を介して接続されている。ベース１０の内部には、供給されてきた圧縮空気が流れる流路部（後述）が設けられている。また、ベース１０の底面１１には、図２に示すように、対向面２０と、給気孔２１と、溝部２２と、凹部２５と、吸引孔２６とが設けられている。 The suction stand 1 has a rectangular parallelepiped base 10. Here, the base 10 is made of metal, and is connected to a compressor that supplies compressed air having a sufficient flow rate (for example, 0.5 MPa or more, 15 L / min or more) via a supply path 510. Inside the base 10, a flow path portion (described later) through which the supplied compressed air flows is provided. Further, as shown in FIG. 2, the bottom surface 11 of the base 10 is provided with a facing surface 20, an air supply hole 21, a groove portion 22, a concave portion 25, and a suction hole 26.

対向面２０は、載置台５００の載置面５０１に対向している。吸着スタンド１が吸着状態である場合には、対向面２０は載置面５０１に密接している。一方で、吸着スタンド１が空気膜形成状態である場合には、対向面２０と載置面５０１の間に圧縮空気で形成された空気膜が介在している。 The facing surface 20 faces the mounting surface 501 of the mounting table 500. When the suction stand 1 is in the suction state, the facing surface 20 is in close contact with the placement surface 501. On the other hand, when the adsorption stand 1 is in the air film formation state, an air film formed of compressed air is interposed between the facing surface 20 and the placement surface 501.

給気孔２１は、対向面２０とベース１０内の流路部とを連通している貫通孔であり、載置面５０１に向けて圧縮空気を給気する。これにより、対向面２０と載置面５０１との間に、圧縮空気による空気膜が形成される。すなわち、給気孔２１は、空気膜を形成する空気膜形成手段の機能を有する。給気孔２１は、底面１１の四隅に設けられている。 The air supply hole 21 is a through hole that communicates the facing surface 20 and the flow path portion in the base 10, and supplies compressed air toward the placement surface 501. Thereby, an air film by compressed air is formed between the facing surface 20 and the mounting surface 501. That is, the air supply hole 21 has a function of air film forming means for forming an air film. The air supply holes 21 are provided at the four corners of the bottom surface 11.

溝部２２は、給気孔２１と連通するように、ベース１０の底面１１の四隅にＬ字状にそれぞれ設けられている。４つの溝部２２は互いに離間しているが、これに限定されず、繋がっていてもよい。給気孔２１が給気した圧縮空気が溝部２２に沿って流れることで、対向面２０と載置面５０１の間に空気膜が形成される。なお、溝部２２を設ける場合には、広い面積に均一な厚みの空気膜を安定して形成させる点で効果がある。 The groove portions 22 are respectively provided in L-shapes at the four corners of the bottom surface 11 of the base 10 so as to communicate with the air supply holes 21. The four groove portions 22 are separated from each other, but are not limited to this, and may be connected. The compressed air supplied from the air supply holes 21 flows along the groove portion 22, so that an air film is formed between the facing surface 20 and the placement surface 501. In addition, when providing the groove part 22, it is effective at the point which forms the air film of uniform thickness in a wide area stably.

凹部２５は、ベース１０の対向面２０と同一面に形成された凹部領域である。凹部２５は、対向面２０から所定の深さだけ凹んでいる。凹部２５は、底面の中央側に矩形状に形成されている。 The recess 25 is a recess region formed on the same surface as the facing surface 20 of the base 10. The recess 25 is recessed from the facing surface 20 by a predetermined depth. The recess 25 is formed in a rectangular shape on the center side of the bottom surface.

吸引孔２６は、凹部２５とベース１０内の流路部とを連通している貫通孔であり、凹部２５の空気（ベース１０と載置面５０１との間（吸引領域）の空気）を吸引する。吸引孔２６は、詳細は後述するが、ベース１０内の流路部に設けられた負圧発生部が発生させた負圧によって、凹部２５の空気を吸引する。これにより、凹部２５において吸着力（プリロード）を発生させることができる。この吸着力は、凹部２５の面積に比例する。ここでは、１（cm²）あたり約０．８（kgf）発生させるので、例えば凹部２５の面積が５０（cm²）であれば、約４０（kgf）の吸着力を発生させることができる。 The suction hole 26 is a through hole that communicates the concave portion 25 with the flow path portion in the base 10, and sucks air in the concave portion 25 (air between the base 10 and the mounting surface 501 (suction region)). To do. As will be described in detail later, the suction hole 26 sucks the air in the concave portion 25 by the negative pressure generated by the negative pressure generating portion provided in the flow path portion in the base 10. Thereby, an attractive force (preload) can be generated in the recess 25. This adsorption force is proportional to the area of the recess 25. Here, since about 0.8 (kgf) is generated per 1 (cm ² ), for example, if the area of the recess 25 is 50 (cm ² ), an adsorption force of about 40 (kgf) can be generated.

＜吸着スタンドの内部構成＞
図３〜図５を参照しながら、吸着スタンド１の内部構成について説明する。
図３は、吸着スタンド１の内部構成を示す図である。図４は、図３のＩ−Ｉ断面図である。図５は、図３のＩＩ−ＩＩ断面図である。なお、図４及び図５には、載置面５０１との間に圧縮空気による空気膜が介在している状態の吸着スタンド１が示されている。 <Internal configuration of suction stand>
The internal configuration of the suction stand 1 will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a diagram illustrating an internal configuration of the suction stand 1. 4 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 4 and 5 show the suction stand 1 in a state where an air film of compressed air is interposed between the mounting surface 501 and the mounting surface 501.

吸着スタンド１は、図３に示すように、流入口３０と、流路部３１、３２、３３と、分岐部３４と、排気口３５、３６と、真空エジェクタ４０と、負圧発生部４５と、絞り部５０とを有する。なお、本実施形態では、流路部３２及び流路部３３が第１流路部に該当し、流路部３１が第２流路部に該当し、排気口３６が第１排気口に該当し、排気口３５が第２排気口に該当する。 As shown in FIG. 3, the suction stand 1 includes an inflow port 30, flow path portions 31, 32, 33, a branch portion 34, exhaust ports 35, 36, a vacuum ejector 40, a negative pressure generating portion 45, and the like. And a diaphragm 50. In the present embodiment, the flow channel portion 32 and the flow channel portion 33 correspond to the first flow channel portion, the flow channel portion 31 corresponds to the second flow channel portion, and the exhaust port 36 corresponds to the first exhaust port. The exhaust port 35 corresponds to the second exhaust port.

流入口３０は、供給路５１０（図１）から供給されてきた圧縮空気が流入する開口である。流入口３０は、流路部３１の一端側に位置している。また、流入口３０は、図３には示していないが供給路５１０と連結されている。 The inflow port 30 is an opening into which the compressed air supplied from the supply path 510 (FIG. 1) flows. The inflow port 30 is located on one end side of the flow path portion 31. Further, the inflow port 30 is connected to a supply path 510 (not shown in FIG. 3).

流路部３１、３２、３３は、ベース１０内に設けられ、流入口３０から流入した圧縮空気が流れる流路である。流路部３１及び流路部３３は、図３のＸ軸方向に沿って設けられ、流路部３２は、流路部３１、３３と直交するように図３のＹ軸方向に沿って設けられている。流路部３２、３３には、前述した給気孔２１が設けられており、流路部３１には、前述した吸引孔２６が設けられている。なお、流路部３３の端部の開口には、開口を塞ぐ栓６０が設けられている。 The flow path portions 31, 32, and 33 are flow paths that are provided in the base 10 and through which the compressed air that flows in from the inflow port 30 flows. The flow path part 31 and the flow path part 33 are provided along the X-axis direction of FIG. 3, and the flow path part 32 is provided along the Y-axis direction of FIG. 3 so as to be orthogonal to the flow path parts 31 and 33. It has been. The flow passage portions 32 and 33 are provided with the aforementioned air supply holes 21, and the flow passage portion 31 is provided with the aforementioned suction holes 26. A plug 60 that closes the opening is provided at the opening at the end of the flow path portion 33.

分岐部３４は、流路部３１の途中に設けられ、流入口３０から流入した圧縮空気の一部を流路部３２へ向かわせるための部分である。流入口３０から分岐部３４に至った圧縮空気は、分岐部３４において３方向に分流される。分岐部３４から流路部３２へ分流した圧縮空気は、排気口３６が塞がれていなければ、排気口３６の大きさが給気孔２１に比べて十分大きいので、排気口３６から排気されて給気孔２１からは排気されない。 The branch part 34 is provided in the middle of the flow path part 31 and is a part for directing a part of the compressed air flowing in from the inflow port 30 to the flow path part 32. The compressed air that reaches the branch portion 34 from the inflow port 30 is branched in three directions at the branch portion 34. If the exhaust port 36 is not blocked, the compressed air that has diverted from the branch portion 34 to the flow path portion 32 is exhausted from the exhaust port 36 because the size of the exhaust port 36 is sufficiently larger than the air supply hole 21. The air supply holes 21 are not exhausted.

排気口３５は、流路部３１において流入口３０とは反対側に設けられた開口である。分岐部３４を直進して流路部３１を流れた圧縮空気は、負圧発生部４５を通過して排気口３５から大気へ排出される。負圧発生部４５が発生した負圧（約−８０（ｋPa））によって吸引された吸引空気（凹部２５の空気）も、排気口３５から大気へ排出される。なお、排気口３５が閉塞されている場合には、圧縮空気及び吸引空気は排気口３５から排出されない。 The exhaust port 35 is an opening provided on the side opposite to the inflow port 30 in the flow path portion 31. The compressed air that has traveled straight through the branch section 34 and has flowed through the flow path section 31 passes through the negative pressure generation section 45 and is discharged from the exhaust port 35 to the atmosphere. Suction air (air in the recess 25) sucked by the negative pressure (about −80 (kPa)) generated by the negative pressure generator 45 is also discharged from the exhaust port 35 to the atmosphere. When the exhaust port 35 is closed, the compressed air and the suction air are not discharged from the exhaust port 35.

排気口３６は、流路部３２の端部に設けられた開口である。流路部３２を流れた圧縮空気は、排気口３６から大気へ排出される。具体的には、排気口３６が開放されている場合には、圧縮空気が、給気孔２１から給気されずに排気口３６から排出される。一方で、排気口３６が閉塞されている場合には、圧縮空気は、給気孔２１から載置面５０１へ向けて給気される。排気口３５及び排気口３６の閉塞は、例えば、吸着スタンド１の使用者が指で開口を塞ぐことで実現される。 The exhaust port 36 is an opening provided at the end of the flow path portion 32. The compressed air that has flowed through the flow path portion 32 is discharged from the exhaust port 36 to the atmosphere. Specifically, when the exhaust port 36 is open, the compressed air is discharged from the exhaust port 36 without being supplied from the air supply hole 21. On the other hand, when the exhaust port 36 is closed, the compressed air is supplied from the air supply hole 21 toward the placement surface 501. The closing of the exhaust port 35 and the exhaust port 36 is realized, for example, by the user of the suction stand 1 closing the opening with a finger.

真空エジェクタ４０は、圧縮空気を利用して負圧を発生させる負圧発生手段の機能を有する。真空エジェクタ４０は、流路部３１の流入口３０側において着脱可能に装着されている金属製の部材である。例えば、真空エジェクタ４０は、流路部３１と締結可能なネジ部を有する。真空エジェクタ４０は、円筒形状を成しており、内部を圧縮空気が通過する。真空エジェクタ４０の外周面と流路部３１の内壁との間には、シール部材であるＯリング４２が設けられている。 The vacuum ejector 40 has a function of a negative pressure generating unit that generates a negative pressure using compressed air. The vacuum ejector 40 is a metal member that is detachably mounted on the inflow port 30 side of the flow path portion 31. For example, the vacuum ejector 40 has a screw part that can be fastened to the flow path part 31. The vacuum ejector 40 has a cylindrical shape, and compressed air passes through the inside thereof. An O-ring 42 as a seal member is provided between the outer peripheral surface of the vacuum ejector 40 and the inner wall of the flow path portion 31.

真空エジェクタ４０には、分岐部３４に対応する位置に、圧縮空気が流路部３２へ分流できるように開口４１が設けられている。また、真空エジェクタ４０は、図３に示すように、負圧発生部４５と、ディフューザ部４７とを有する。 The vacuum ejector 40 is provided with an opening 41 at a position corresponding to the branch portion 34 so that the compressed air can be diverted to the flow path portion 32. Further, as shown in FIG. 3, the vacuum ejector 40 includes a negative pressure generation unit 45 and a diffuser unit 47.

負圧発生部４５は、真空エジェクタ４０の内部を通過する圧縮空気の流速を大きくして、吸引孔２６を介して凹部２５の空気を吸引する負圧を発生させる。これにより、負圧発生部４５及び吸引孔２６は、凹部２５の空気を吸引して真空にすることで、対向面２０と載置面５０１を真空吸着させる吸着手段の機能を有する。また、負圧を発生することで、空気膜をプリロードすることが可能となり、空気膜の剛性を高められる。なお、プリロード量は、負圧発生部が発生した負圧と凹部２５の面積の積となる。ここでは、吸引力は約０．８（kgf/cm²）であるので、例えば、凹部２５の面積が５０（cm²）であれば、吸着力は約４０（kgf）となる。 The negative pressure generator 45 increases the flow rate of the compressed air passing through the vacuum ejector 40 and generates a negative pressure that sucks the air in the recess 25 through the suction hole 26. Thereby, the negative pressure generating part 45 and the suction hole 26 have a function of a suction means for sucking the air in the concave part 25 and making it vacuum to suck the opposing surface 20 and the mounting surface 501. Moreover, by generating a negative pressure, the air film can be preloaded, and the rigidity of the air film can be increased. The preload amount is a product of the negative pressure generated by the negative pressure generating portion and the area of the recess 25. Here, since the suction force is about 0.8 (kgf / cm ² ), for example, if the area of the recess 25 is 50 (cm ² ), the suction force is about 40 (kgf).

負圧発生部４５は、交換可能なノズル部４６を有する。ノズル部４６は、流路部３１の流路を狭くして、圧縮空気の流速を大きくする。ノズル部４６の先端側は、円錐状に形成されており、ノズル先端で圧縮空気の流速を大きくする。具体的には、ノズル部４６の先端の開口４６ａの直径の大きさ（例えば、直径の大きさは、０．５（mm）〜１．０（mm））に応じて、圧縮空気の流速が大きくなる。ノズル先端で圧縮空気の流速が大きくなると、ノズル先端の周囲の圧力が小さくなって負圧になる。 The negative pressure generating part 45 has a replaceable nozzle part 46. The nozzle unit 46 narrows the channel of the channel unit 31 and increases the flow rate of the compressed air. The tip side of the nozzle portion 46 is formed in a conical shape, and the flow velocity of the compressed air is increased at the nozzle tip. Specifically, the flow rate of the compressed air depends on the diameter of the opening 46a at the tip of the nozzle portion 46 (for example, the diameter is 0.5 (mm) to 1.0 (mm)). growing. When the flow velocity of compressed air at the nozzle tip increases, the pressure around the nozzle tip decreases and becomes negative pressure.

本実施形態では、ノズル部４６の先端が吸引孔２６の真上に位置しているため、吸引孔２６の周囲で負圧が発生する。負圧は、ベルヌーイの負圧発生の原理に従い、圧縮空気の流れと直交する方向に発生する。ここでは、吸引孔２６から上方のノズル部４６の先端へ向かう方向に、負圧が発生する。このような負圧が発生することで、凹部２５の空気が吸引孔２６を通過して流路部３１へ流れ込む。なお、流路部３１へ流れ込んだ空気は、圧縮空気と共に、排気口３５から大気へ排出される。 In the present embodiment, since the tip of the nozzle portion 46 is located immediately above the suction hole 26, a negative pressure is generated around the suction hole 26. The negative pressure is generated in a direction orthogonal to the flow of compressed air in accordance with the Bernoulli negative pressure generation principle. Here, a negative pressure is generated in a direction from the suction hole 26 toward the tip of the upper nozzle portion 46. By generating such a negative pressure, the air in the recess 25 passes through the suction hole 26 and flows into the flow path portion 31. Note that the air that has flowed into the flow path portion 31 is discharged from the exhaust port 35 to the atmosphere together with the compressed air.

ディフューザ部４７は、吸引孔２６から流れ込んできた空気の流速を小さくして、圧力を大きくする部分である。 The diffuser portion 47 is a portion that increases the pressure by reducing the flow velocity of the air that has flowed from the suction hole 26.

絞り部５０は、流路部３２の流路を狭めた部分である。絞り部５０は、流路部３２において分岐部３４と給気孔２１の間に位置している。給気孔２１の上流側に絞り部５０を設けることで、給気孔２１に向かう圧縮空気の流量が過大になることを抑制できる（２段絞り方式）。ここで、絞り部５０の先端の開口５０ａの直径の大きさ（例えば、直径ｄ１＝０．２（mm）の給気孔２１が２箇所ある場合は、一般的にはｄ_０≦（ｎ）^1/2×ｄ_１で求められるので、ｄ_０≦（２）^1/2×０．２≒０．２８である。従って、直径ｄ_０の大きさは０．２８（mm）以下が適当である。）に応じて、圧縮空気の流量が調整される。これにより、給気孔２１から給気される圧縮空気の流量も少なくなり、空気膜の膜厚が大きくなることを抑制できるので、空気膜の剛性が低くなることを抑制できる。 The restricting portion 50 is a portion where the flow path of the flow path section 32 is narrowed. The throttle part 50 is located between the branch part 34 and the air supply hole 21 in the flow path part 32. By providing the throttle portion 50 on the upstream side of the air supply hole 21, it is possible to suppress an excessive flow rate of the compressed air toward the air supply hole 21 (two-stage throttle method). Here, when there are two air supply holes 21 having a diameter of the opening 50a at the tip of the throttle unit 50 (for example, a diameter d1 = 0.2 (mm)), generally d ₀ ≦ (n) ^{1. / 2} × d ₁ , so d ₀ ≦ (2) ^1/2 × 0.2≈0.28 Therefore, the size of the diameter d ₀ is suitably 0.28 (mm) or less. .), The flow rate of the compressed air is adjusted. Thereby, since the flow rate of the compressed air supplied from the air supply holes 21 is reduced and the film thickness of the air film can be suppressed, it is possible to suppress the rigidity of the air film from being lowered.

また、一般的なエアベアリングでは不安定な振動である自励振動が発生する恐れがあるが、本実施形態では絞り部５０を設けることで、絞り部５０と給気孔２１との間に設けられるエアチャンバー５５により吸着スタンド１の自励振動を効果的に抑制できる。 In addition, self-excited vibration, which is unstable vibration, may occur in a general air bearing, but in the present embodiment, by providing the throttle portion 50, it is provided between the throttle portion 50 and the air supply hole 21. The air chamber 55 can effectively suppress the self-excited vibration of the suction stand 1.

エアチャンバー５５は、流路部３２の流路を広げた部分であり、給気孔２１の周囲に位置している。また、エアチャンバー５５は、流路部３３と交わるように形成されている。エアチャンバー５５を設けることで、２箇所ある給気孔２１に均等の空気圧力（背圧）を供給することができる。この結果、各給気孔２１から給気される空気の流量が均等になるので、空気膜の膜厚が均等になり、空気膜の剛性が低くなることを有効に抑制できる。 The air chamber 55 is a portion where the flow path of the flow path portion 32 is widened, and is located around the air supply hole 21. The air chamber 55 is formed so as to intersect with the flow path portion 33. By providing the air chamber 55, an equal air pressure (back pressure) can be supplied to the two air supply holes 21. As a result, since the flow rate of the air supplied from each air supply hole 21 becomes equal, the film thickness of the air film becomes uniform, and the rigidity of the air film can be effectively suppressed from being lowered.

負圧発生部４５によって載置面５０１とベース１０の間の空気を吸引する場合には、載置面５０１に付着していた塵やゴミ等が真空エジェクタ４０内に入り込む恐れがある。かかる場合には、塵やゴミ等で真空エジェクタ４０のディフューザ部４７等が詰まる恐れがある。これに対して、本実施形態では、前述したように真空エジェクタ４０がベース１０に対して着脱可能に装着される構成にすることで、塵やゴミ等が詰まった真空エジェクタ４０を取り外して清掃したり、故障した場合は交換したりすることが可能となる。 When the air between the mounting surface 501 and the base 10 is sucked by the negative pressure generating unit 45, there is a possibility that dust, dust, or the like adhering to the mounting surface 501 enters the vacuum ejector 40. In such a case, there is a possibility that the diffuser portion 47 and the like of the vacuum ejector 40 may be clogged with dust or dust. On the other hand, in the present embodiment, as described above, the vacuum ejector 40 is detachably attached to the base 10 so that the vacuum ejector 40 clogged with dust or dirt is removed and cleaned. Or if it breaks down, it can be replaced.

＜吸着スタンドの吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態＞
図６〜図１０を参照しながら、吸着スタンド１の吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態について説明する。 <Adsorption state of adsorption stand, adsorption release state, and film thickness management state>
The suction state, suction release state, and film thickness management state of the suction stand 1 will be described with reference to FIGS.

図６及び図７は、吸着スタンド１の吸着状態を説明するための図である。図６及び図７では、空気の流れを太線で示している。吸着状態では、図６に示すように、排気口３５及び排気口３６が、塞がれずに開放されている。かかる場合に、供給路５１０（図１）から供給されてきた圧縮空気は、流入口３０から流路部３１へ流れ込んだ後に、図６に示すように分岐部３４にて３方向に分流する。すなわち、圧縮空気の一部は、分岐部３４から左右の流路部３２へ流れ、圧縮空気の残りは、分岐部３４を直進して負圧発生部４５へ向かって流れる。 6 and 7 are diagrams for explaining the suction state of the suction stand 1. In FIG.6 and FIG.7, the flow of air is shown by the thick line. In the adsorption state, as shown in FIG. 6, the exhaust port 35 and the exhaust port 36 are opened without being blocked. In such a case, the compressed air supplied from the supply path 510 (FIG. 1) flows from the inlet 30 to the flow path portion 31, and then is divided into three directions at the branch portion 34 as shown in FIG. That is, a part of the compressed air flows from the branch part 34 to the left and right flow path parts 32, and the remaining compressed air travels straight through the branch part 34 and flows toward the negative pressure generating part 45.

分岐部３４から流路部３２へ流れた圧縮空気は、絞り部５０及びエアチャンバー５５を通過して、排気口３６から排出される。一方で、分岐部３４から負圧発生部４５へ直進した圧縮空気の流速は、ノズル部４６の先端で大きくなる。圧縮空気の流速が大きくなることで、負圧発生部４５において吸引孔２６の周囲の圧力が小さくなり、負圧が発生する。そして、負圧によって、図７に示すように凹部２５の空気が吸引孔２６を介して流路部３１に流れ込み、圧縮空気と共に排気口３５から大気へ排出される。これにより、凹部２５が真空状態となり、対向面２０が載置面５０１に真空吸着される。 The compressed air that has flowed from the branch part 34 to the flow path part 32 passes through the throttle part 50 and the air chamber 55 and is discharged from the exhaust port 36. On the other hand, the flow rate of the compressed air that has traveled straight from the branch portion 34 to the negative pressure generating portion 45 increases at the tip of the nozzle portion 46. By increasing the flow rate of the compressed air, the pressure around the suction hole 26 is reduced in the negative pressure generating portion 45, and negative pressure is generated. Then, due to the negative pressure, as shown in FIG. 7, the air in the recess 25 flows into the flow path portion 31 through the suction hole 26 and is discharged together with the compressed air from the exhaust port 35 to the atmosphere. As a result, the concave portion 25 is in a vacuum state, and the facing surface 20 is vacuum-sucked to the placement surface 501.

図８は、吸着スタンド１の吸着解除状態を説明するための図である。吸着解除状態では、図８に示すように、排気口３５が指Ｆで塞がれている。かかる場合に、分岐部３４から流路部３２へ流れた圧縮空気は、吸着状態時と同様に、排気口３６から排出される。一方で、排気口３５が指Ｆで塞がれているため、圧縮空気が分岐部３４から負圧発生部４５へ直進し難くなる。また、圧縮空気が負圧発生部４５へ直進した場合には、吸着状態とは異なり、圧縮空気が吸引孔２６から凹部２５へ向かって流れる。これにより、凹部２５が真空状態とならず、吸着スタンド１が載置面５０１に対して移動や分離が可能となる。 FIG. 8 is a view for explaining the suction release state of the suction stand 1. In the suction release state, the exhaust port 35 is closed by the finger F as shown in FIG. In such a case, the compressed air that has flowed from the branch portion 34 to the flow path portion 32 is discharged from the exhaust port 36 as in the adsorption state. On the other hand, since the exhaust port 35 is blocked by the finger F, it becomes difficult for the compressed air to travel straight from the branch portion 34 to the negative pressure generating portion 45. In addition, when the compressed air travels straight to the negative pressure generating portion 45, unlike the adsorption state, the compressed air flows from the suction hole 26 toward the concave portion 25. Thereby, the concave portion 25 is not in a vacuum state, and the suction stand 1 can be moved and separated with respect to the placement surface 501.

図９及び図１０は、吸着スタンド１の膜厚管理状態を説明するための図である。膜厚管理状態では、図９に示すように、２つの排気口３６が、それぞれ指Ｆで塞がれている。かかる場合に、分岐部３４から流路部３２へ流れた圧縮空気は、絞り部５０を通過してエアチャンバー５５へ向かって流れる。膜厚管理状態では、吸着状態及び吸着解除状態とは異なり排気口３６が指Ｆで塞がれているため、圧縮空気は、排気口３６から排出されずに、図１０に示すように給気孔２１を介して載置面５０１へ向かって給気される。これにより、対向面２０と載置面５０１との間に、空気膜が形成される。 9 and 10 are diagrams for explaining the film thickness management state of the suction stand 1. In the film thickness management state, as shown in FIG. 9, the two exhaust ports 36 are respectively closed with the fingers F. In this case, the compressed air that has flowed from the branch portion 34 to the flow path portion 32 passes through the throttle portion 50 and flows toward the air chamber 55. In the film thickness control state, unlike the adsorption state and the adsorption release state, the exhaust port 36 is closed with the finger F, so that the compressed air is not discharged from the exhaust port 36, and as shown in FIG. The air is supplied toward the mounting surface 501 through 21. Thereby, an air film is formed between the opposing surface 20 and the mounting surface 501.

一方で、分岐部３４から負圧発生部４５へ直進した圧縮空気の流速は、ノズル部４６の先端で大きくなる。圧縮空気の流速が大きくなることで、負圧発生部４５において吸引孔２６の周囲の圧力が小さくなり、負圧が発生する。そして、負圧によって、凹部２５の空気が吸引孔２６を介して流路部３１に流れ込み、圧縮空気と共に排気口３５から大気へ排出される。膜厚管理状態では、対向面２０と載置面５０１との間に空気膜が形成されているため、負圧が発生しても対向面２０が載置面５０１に真空吸着されない。一方で、負圧によって空気膜をプリロードすることで、空気膜に所定の負荷が作用することになり、空気膜の膜厚が管理される。 On the other hand, the flow rate of the compressed air that has traveled straight from the branch portion 34 to the negative pressure generating portion 45 increases at the tip of the nozzle portion 46. By increasing the flow rate of the compressed air, the pressure around the suction hole 26 is reduced in the negative pressure generating portion 45, and negative pressure is generated. And the air of the recessed part 25 flows into the flow-path part 31 via the suction hole 26 with a negative pressure, and is discharged | emitted from the exhaust port 35 to air | atmosphere with compressed air. In the film thickness control state, since an air film is formed between the facing surface 20 and the mounting surface 501, the facing surface 20 is not vacuum-adsorbed to the mounting surface 501 even if a negative pressure is generated. On the other hand, by preloading the air film with a negative pressure, a predetermined load acts on the air film, and the film thickness of the air film is managed.

吸着スタンド１の使用者は、測定器６００（図１）による測定時に、排気口３５及び排気口３６を開放し、又は指で塞ぐことで、吸着スタンド１の吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態を簡単に切替操作することができる。すなわち、使用者は、排気口３５からの圧縮空気の排出状態及び排出抑制状態と、排気口３６からの圧縮空気の排出状態及び排出抑制状態とを、それぞれ切り替えることで、吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態の３つの状態を簡単に切り替えることができる。 The user of the suction stand 1 opens the exhaust port 35 and the exhaust port 36 or closes it with a finger at the time of measurement by the measuring instrument 600 (FIG. 1). The management state can be easily switched. That is, the user switches between the discharge state and the discharge suppression state of the compressed air from the exhaust port 35 and the discharge state and the discharge suppression state of the compressed air from the exhaust port 36, respectively. In addition, the three states of the film thickness management state can be easily switched.

具体的には、排気口３５及び排気口３６を開放することで吸着スタンド１が吸着状態に切り替わり、排気口３５を塞ぐ一方で排気口３６を開放することで吸着スタンド１が吸着解除状態に切り替わり、排気口３５を開放する一方で排気口３６を塞ぐことで吸着スタンド１が膜厚管理状態に切り替わる。このように、本実施形態では、排気口３５及び排気口３６が、吸着スタンド１の吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態を切り替える切替手段の機能を有する。かかる構成の場合には、使用者は、簡易な操作で、吸着スタンド１の吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態を切り替えることが可能となる。 Specifically, the suction stand 1 is switched to the suction state by opening the exhaust port 35 and the exhaust port 36, and the suction stand 1 is switched to the suction release state by closing the exhaust port 35 while opening the exhaust port 36. The suction stand 1 is switched to the film thickness control state by opening the exhaust port 35 and closing the exhaust port 36. Thus, in the present embodiment, the exhaust port 35 and the exhaust port 36 have a function of a switching unit that switches the adsorption state, the adsorption release state, and the film thickness management state of the adsorption stand 1. In the case of such a configuration, the user can switch the suction state, the suction release state, and the film thickness management state of the suction stand 1 with a simple operation.

また、本実施形態では、吸着スタンド１に圧縮空気が供給されている状態で、吸着状態、吸着解除状態及び膜厚管理状態が切り替わる。かかる場合には、使用者は、圧縮空気の供給の有無を切り替える必要がなく、状態を切り替えることができるので、吸着スタンド１の利便性が向上する。 In the present embodiment, the suction state, the suction release state, and the film thickness management state are switched while the compressed air is supplied to the suction stand 1. In such a case, the user does not need to switch the presence or absence of the supply of compressed air and can switch the state, so the convenience of the suction stand 1 is improved.

＜変形例＞
図１１〜図１５を参照しながら、吸着スタンド１の変形例について説明する。 <Modification>
A modification of the suction stand 1 will be described with reference to FIGS.

図１１は、吸着スタンド１の第１変形例を示す図である。
上述した実施形態では、ベース１０の底面１１に凹部２５（図５）が形成されており、負圧発生部４５で発生した負圧によって凹部２５の空気を吸引することとしたが、これに限定されない。例えば、凹部２５に代えて、図１１に示すようにベース１０の底面１１に環状溝８０が設けられている。 FIG. 11 is a diagram illustrating a first modification of the suction stand 1.
In the embodiment described above, the concave portion 25 (FIG. 5) is formed on the bottom surface 11 of the base 10, and the air in the concave portion 25 is sucked by the negative pressure generated in the negative pressure generating portion 45. However, the present invention is not limited to this. Not. For example, instead of the recess 25, an annular groove 80 is provided on the bottom surface 11 of the base 10 as shown in FIG.

環状溝８０は、吸引孔２６と連通している。このため、負圧発生部４５で発生した負圧によって、環状溝８０の空気が吸引孔２６を介して流路部３１へ流れる。また、環状溝８０で囲まれた面８１は、対向面２０と同一面となっている。これにより環状溝８０で囲まれた内側は全て同じ気圧の吸引領域となる。環状溝８０の場合には、矩形状の凹部２５に比べて加工量が少なくなるので、ベース１０を製造しやすくなる。 The annular groove 80 communicates with the suction hole 26. For this reason, the air in the annular groove 80 flows to the flow path portion 31 through the suction hole 26 due to the negative pressure generated in the negative pressure generating portion 45. Further, the surface 81 surrounded by the annular groove 80 is the same surface as the facing surface 20. As a result, the inner side surrounded by the annular groove 80 becomes a suction region of the same atmospheric pressure. In the case of the annular groove 80, since the amount of processing is smaller than that of the rectangular recess 25, the base 10 can be easily manufactured.

図１２は、吸着スタンド１の第２変形例を示す図である。図１２（ａ）には吸着状態の吸着スタンド１が示され、図１２（ｂ）には膜厚管理状態の吸着スタンド１が示されている。第２変形例では、流路部３２に開閉弁９０が設けられている。開閉弁９０は、弁体９１と、操作部９２とを有する。 FIG. 12 is a diagram illustrating a second modification of the suction stand 1. FIG. 12A shows the suction stand 1 in the suction state, and FIG. 12B shows the suction stand 1 in the film thickness management state. In the second modification, an opening / closing valve 90 is provided in the flow path portion 32. The on-off valve 90 includes a valve body 91 and an operation unit 92.

弁体９１は、連結軸９３によって操作部９２に連結されており、弁体９１と操作部９２は一緒に移動可能となっている。弁体９１は、流路部３２に設けられた弁座９４の開口（圧縮空気の流入口）を閉塞する閉塞位置（図１２（ａ）と、弁座９４の開口を開放する開放位置（図１２（ｂ））との間で移動する。弁座９４は、流路部３２において給気孔２１よりも分岐部３４（図４）側に位置しており、弁座９４の開口（貫通孔）は、開放されている際に圧縮空気が通過可能となっている。弁体９１は、分岐部３４から流路部３２へ圧縮空気が流れると、圧縮空気の圧力によって開放位置から閉塞位置へ移動して、弁座９４の開口を閉塞する。すなわち、外部から操作しなくても、吸着スタンド１に圧縮空気が供給されていることで、弁体９１が弁座９４の開口を閉塞する。 The valve body 91 is connected to the operation portion 92 by a connecting shaft 93, and the valve body 91 and the operation portion 92 are movable together. The valve body 91 has a closed position (FIG. 12A) that closes an opening (compression air inlet) of a valve seat 94 provided in the flow path portion 32, and an open position (FIG. 12A) that opens the opening of the valve seat 94. 12 (b)) The valve seat 94 is positioned on the branching portion 34 (FIG. 4) side of the air supply hole 21 in the flow path portion 32, and the valve seat 94 is opened (through hole). When the compressed air flows from the branch part 34 to the flow path part 32, the valve body 91 moves from the open position to the closed position by the pressure of the compressed air. Thus, the opening of the valve seat 94 is closed, that is, the valve body 91 closes the opening of the valve seat 94 when compressed air is supplied to the adsorption stand 1 without being operated from the outside.

操作部９２は、排気口３６の外側に位置しており、図１２（ｂ）に示すように指Ｆで押されると排気口３６を閉塞する。操作部９２が押されると、弁体９１が閉塞位置から開放位置へ移動して、弁座９４の開口が開放される。 The operation unit 92 is located outside the exhaust port 36, and closes the exhaust port 36 when pressed with a finger F as shown in FIG. When the operation unit 92 is pushed, the valve body 91 moves from the closed position to the open position, and the opening of the valve seat 94 is opened.

第２変形例においては、開閉弁９０による弁座９４の開口の開閉を制御することで、吸着スタンド１の吸着状態と膜厚管理状態とを切り替える。具体的には、図１２（ａ）に示すように操作部９２が指Ｆで押されていない場合（吸着状態）には、分岐部３４から流れてきた圧縮空気の圧力によって弁体９１が図１２（ａ）に示すように弁座９４を閉塞する。かかる場合には、弁座９４の開口を圧縮空気が流れなくなるので、圧縮空気が排気口３６から排出されない。これにより、吸着状態時に、圧縮空気が排気口３６から無駄に排出されることを防止できる。 In the second modified example, by controlling the opening / closing of the opening of the valve seat 94 by the opening / closing valve 90, the adsorption state and the film thickness management state of the adsorption stand 1 are switched. Specifically, as shown in FIG. 12A, when the operation unit 92 is not pressed by the finger F (in the adsorbed state), the valve body 91 is illustrated by the pressure of the compressed air flowing from the branch unit 34. The valve seat 94 is closed as shown in FIG. In such a case, since the compressed air does not flow through the opening of the valve seat 94, the compressed air is not discharged from the exhaust port 36. Thereby, it is possible to prevent the compressed air from being exhausted from the exhaust port 36 in the adsorbing state.

図１２（ｂ）に示すように操作部９２が指Ｆで押されている場合（膜厚管理状態）には、操作部９２が排気口３６を閉塞する一方で、弁体９１は弁座９４の開口を開放している。かかる場合には、弁座９４の開口を通過した圧縮空気は、排気口３６から排出されずに、給気孔２１を介して載置面５０１へ向かって給気される。これにより、対向面２０と載置面５０１との間に、空気膜が形成される。 As shown in FIG. 12B, when the operation unit 92 is pressed with the finger F (film thickness control state), the operation unit 92 closes the exhaust port 36, while the valve body 91 is the valve seat 94. The opening of is open. In such a case, the compressed air that has passed through the opening of the valve seat 94 is supplied to the mounting surface 501 through the air supply hole 21 without being discharged from the exhaust port 36. Thereby, an air film is formed between the opposing surface 20 and the mounting surface 501.

上述した第２変形例の場合には、吸着スタンド１の吸着状態と膜厚管理状態とを、より簡易かつ確実に切り替えることが可能となる。また、第２変形例においては、開閉弁９０が給気孔２１や排気口３６へ向かう圧縮空気の流量を調整できるので、前述した絞り部５０（図３）を設けていない。絞り部５０の開口５０ａは小さい（直径の大きさが、０．３〜０．５（mm））ため加工に手間が掛るが、第２変形例においては絞り部５０を設けないことによって上述した絞り部５０の加工が不要となる。 In the case of the second modification described above, the suction state and the film thickness management state of the suction stand 1 can be switched more easily and reliably. In the second modification, the on-off valve 90 can adjust the flow rate of the compressed air toward the air supply hole 21 and the exhaust port 36, and thus the above-described throttle portion 50 (FIG. 3) is not provided. Since the aperture 50a of the aperture 50 is small (diameter is 0.3 to 0.5 (mm)), it takes time for processing. However, in the second modified example, the aperture 50a is not provided and the aperture 50a is not provided. Processing of the aperture 50 is not necessary.

なお、第２変形例では、開閉弁９０が、排気口３６が設けられた流路部３２に設けられていることとしたが、これに限定されない。例えば、開閉弁９０が、排気口３５が設けられた流路部３１にも設けられていてもよい。 In the second modification, the on-off valve 90 is provided in the flow path portion 32 provided with the exhaust port 36, but the present invention is not limited to this. For example, the on-off valve 90 may be provided in the flow path portion 31 in which the exhaust port 35 is provided.

図１３は、吸着スタンド１の第３変形例を示す図である。第３変形例では、吸引孔２６が、第２変形例よりも幅広の環状溝８０に連通している。また、環状溝８０の内側には、田の字状の溝部２２が設けられている。給気孔２１は、ここではベース１０の底面の中心に一つ設けられているが、これに限定されず、例えば溝部２２上に複数設けられてもよい。この結果、溝部２２の内側全てと溝部２２の外側周辺に空気膜が形成されて、吸着スタンド１を浮上させる。 FIG. 13 is a diagram illustrating a third modification of the suction stand 1. In the third modification, the suction hole 26 communicates with the annular groove 80 that is wider than in the second modification. Further, inside the annular groove 80, a square-shaped groove portion 22 is provided. Here, one air supply hole 21 is provided at the center of the bottom surface of the base 10, but the present invention is not limited to this. For example, a plurality of air supply holes 21 may be provided on the groove 22. As a result, an air film is formed all around the inside of the groove part 22 and around the outside of the groove part 22, and the suction stand 1 is lifted.

また、対向面２０は、環状溝８０と溝部２２の間に位置し、環状溝８０の外側の面８１と同一面となっている。かかる構成の場合にも、負圧発生部４５で発生した負圧によって、環状溝８０の空気が吸引孔２６を介して流路部３１へ流れる。この結果、環状溝８０の外側の面８１では、負圧による吸着力が発生する。環状溝８０は、溝部２２の周囲の空気膜の空気を吸引する。 The facing surface 20 is located between the annular groove 80 and the groove portion 22 and is flush with the outer surface 81 of the annular groove 80. Even in such a configuration, the air in the annular groove 80 flows to the flow path portion 31 through the suction hole 26 due to the negative pressure generated in the negative pressure generating portion 45. As a result, an adsorption force due to negative pressure is generated on the outer surface 81 of the annular groove 80. The annular groove 80 sucks air in the air film around the groove portion 22.

第３変形例によれば、吸着スタンド１の対向面２０の内側（給気領域）で浮上させる一方で、外側（吸引領域）で吸着するように構成することが可能である。かかる場合には、給気孔２１から給気される空気を吸引孔２６から回収することが可能である。この結果、吸着スタンド１の周囲に空気が排出されないので、吸着スタンド１は、温度が均一な環境や極めて清潔な環境が要求される半導体製造装置等での使用に適している。 According to the 3rd modification, it is possible to constitute it so that it may float on the inner side (air supply area) of the opposing surface 20 of the suction stand 1 and adsorb on the outer side (suction area). In such a case, the air supplied from the air supply hole 21 can be recovered from the suction hole 26. As a result, since air is not discharged around the suction stand 1, the suction stand 1 is suitable for use in a semiconductor manufacturing apparatus or the like that requires a uniform temperature environment or a very clean environment.

図１４は、吸着スタンド１の第４変形例を示す図である。第４変形例は、第３変形例に示すベース１０を円形状にしたものである。これに伴い、環状溝８０及び溝部２２の形状も、円形状のベース１０に対応するように形成されている。かかる構成の場合にも、負圧発生部４５で発生した負圧によって、環状溝８０の空気が吸引孔２６を介して流路部３１へ流れる。従って、第４変形例が奏する作用効果は、第３変形例が奏する作用効果とほぼ同じである。 FIG. 14 is a diagram illustrating a fourth modification of the suction stand 1. In the fourth modification, the base 10 shown in the third modification is circular. Accordingly, the annular groove 80 and the groove portion 22 are also formed so as to correspond to the circular base 10. Even in such a configuration, the air in the annular groove 80 flows to the flow path portion 31 through the suction hole 26 due to the negative pressure generated in the negative pressure generating portion 45. Therefore, the operational effects exhibited by the fourth modified example are substantially the same as the operational effects exhibited by the third modified example.

図１５は、吸着スタンド１の第５変形例を示す図である。第５変形例では、第４変形例と同様に、ベース１０が円形状になっている。一方で、第５変形例では、吸引孔２６が、ベース１０の底面の中心に位置しており、環状溝８０と連通している。かかる構成の場合にも、負圧発生部４５で発生した負圧によって、環状溝８０の空気が吸引孔２６を介して流路部３１へ流れる。なお、吸引孔２６は、底面の中心に位置しなくてもよく、環状溝８０上のいずれかの場所に位置してもよい。かかる場合でも、環状溝８０の内側（吸引領域）の全てがほぼ均一の負圧になって、吸着力を発生する。 FIG. 15 is a diagram illustrating a fifth modification of the suction stand 1. In the fifth modification, the base 10 has a circular shape as in the fourth modification. On the other hand, in the fifth modification, the suction hole 26 is located at the center of the bottom surface of the base 10 and communicates with the annular groove 80. Even in such a configuration, the air in the annular groove 80 flows to the flow path portion 31 through the suction hole 26 due to the negative pressure generated in the negative pressure generating portion 45. The suction hole 26 does not have to be located at the center of the bottom surface, and may be located anywhere on the annular groove 80. Even in such a case, the entire inner side (suction region) of the annular groove 80 has a substantially uniform negative pressure, and generates an attractive force.

また、環状溝８０の周囲には、例えばバランスを考量して対称的な位置に４つの給気孔２１が設けられている。この４つの給気孔２１は、環状溝８０の周囲に、円周方向に所定間隔で設けられている。これにより、環状溝８０の外側（給気領域）に空気膜が形成されて、吸着スタンド１が浮上する。従って、吸着スタンド１は、空気膜を介して載置面５０１から浮上すると共に、環状溝８０の内側で発生する吸着力によって真空プリロードが作用するので、この吸着力以上の力で引っ張らない限り、吸着スタンド１は載置面５０１から離れることはない。 Further, around the annular groove 80, for example, four air supply holes 21 are provided at symmetrical positions in consideration of balance. The four air supply holes 21 are provided around the annular groove 80 at a predetermined interval in the circumferential direction. Thereby, an air film is formed outside the annular groove 80 (air supply region), and the adsorption stand 1 is lifted. Accordingly, the suction stand 1 floats from the mounting surface 501 through the air film, and a vacuum preload acts by the suction force generated inside the annular groove 80. Therefore, unless the suction stand 1 is pulled by a force greater than the suction force, The suction stand 1 does not leave the placement surface 501.

第５変形例によれば、環状溝８０の周囲に配置された給気孔２１から空気を給気して吸着スタンド１を浮上させるので、吸着スタンド１の周辺のゴミを吹き飛ばし、環状溝８０の内側に配置された吸引孔２６からゴミを吸い込むことを防止できる。なお、環状溝８０及びその内側を凹部に変更しても、同様の効果が得られる。 According to the fifth modified example, air is supplied from the air supply holes 21 arranged around the annular groove 80 to lift the suction stand 1, so that dust around the suction stand 1 is blown off, and the inner side of the annular groove 80. It is possible to prevent the dust from being sucked through the suction holes 26 arranged in the front. Note that the same effect can be obtained even if the annular groove 80 and the inside thereof are changed to recesses.

＜本実施形態における効果＞
上述した実施形態に係る吸着スタンド１おいては、ベース１０の載置台５００への吸着状態及び吸着解除状態と、ベース１０と載置台５００の間に形成される空気膜の厚さを管理する膜厚管理状態とを切り替える。
かかる場合には、簡易な構成でありながら、吸着状態と吸着解除状態と膜厚管理状態とを簡単な操作で切替え可能な吸着スタンド１を提供できる。また、吸着スタンド１を膜厚管理状態に切り替えることで、吸着スタンド１のベース１０と載置台５００との間に空気膜が形成されて、吸着スタンド１が載置台５００に接触しない。このため、吸着スタンド１を移動させる際に、摩擦力や載置面５０１の表面状態（凹凸）の影響を受けない。また、膜厚管理状態においては空気膜がプリロードされるので、空気膜の剛性が高くなり、空気膜が安定した状態となる。この結果、吸着スタンド１を載置台５００から所定の高さに高精度に維持しながら移動させることが可能となる。 <Effect in this embodiment>
In the adsorption stand 1 according to the above-described embodiment, a film that manages the adsorption state and adsorption release state of the base 10 to the mounting table 500 and the thickness of the air film formed between the base 10 and the mounting table 500. Switch between thickness management states.
In such a case, it is possible to provide the suction stand 1 that can be switched between the suction state, the suction release state, and the film thickness control state with a simple operation, although it has a simple configuration. Moreover, by switching the suction stand 1 to the film thickness management state, an air film is formed between the base 10 of the suction stand 1 and the mounting table 500, and the suction stand 1 does not contact the mounting table 500. For this reason, when the suction stand 1 is moved, it is not affected by the frictional force or the surface state (unevenness) of the mounting surface 501. Further, since the air film is preloaded in the film thickness control state, the rigidity of the air film increases and the air film becomes stable. As a result, the suction stand 1 can be moved from the mounting table 500 to a predetermined height with high accuracy.

また、上記した通り、吸着スタンド１のベース１０は直方体形状に限定されず、第４変形例及び第５変形例のような円柱形状、三角柱形状、楕円柱形状、又はその他の形状であってもよい。 Further, as described above, the base 10 of the suction stand 1 is not limited to a rectangular parallelepiped shape, and may be a cylindrical shape, a triangular prism shape, an elliptical prism shape, or other shapes as in the fourth and fifth modified examples. Good.

また、上記では、圧縮空気が分岐部３４において左右２つの流路部３２に分流することとしたが、これに限定されない。例えば、圧縮空気は分岐部３４において一つの流路部３２に分流してもよい。 In the above description, the compressed air is divided into the two right and left flow passage portions 32 in the branch portion 34, but is not limited thereto. For example, the compressed air may be diverted to one flow path portion 32 at the branch portion 34.

また、上記では、図１に示すように吸着スタンド１が測定器６００（ダイヤルゲージ）を支持することとしたが、これに限定されない。例えば、吸着スタンドが、図１６に示すように、ハイトゲージ７００のベース部７０１になっていてもよい。
図１６は、本発明が適用されるハイトゲージ７００を示す斜視図である。ハイトゲージ７００のベース部７０１は、前述した吸着スタンド１の排気口３５、３６を有する。また、ベース部７０１の内部構成は、吸着スタンド１の内部構成と同様である。具体的には、ベース部７０１の内部には、吸着スタンド１の流路部３１、３２、３３及び真空エジェクタ４０が設けられている。これにより、ハイトゲージ７００を載置台５００から所定の高さに高精度に維持しながら移動させることが可能となる。特に、本発明をハイトゲージ７００に適用した場合には、ハイトゲージ７００を浮上させて移動させることで、けがき作業（例えば、材料の中心や基準を決めるための作業）が非常に効率的に行えるという優れた効果が奏される。 In the above description, the suction stand 1 supports the measuring device 600 (dial gauge) as shown in FIG. 1, but the present invention is not limited to this. For example, the suction stand may be a base portion 701 of the height gauge 700 as shown in FIG.
FIG. 16 is a perspective view showing a height gauge 700 to which the present invention is applied. The base portion 701 of the height gauge 700 has the exhaust ports 35 and 36 of the suction stand 1 described above. The internal configuration of the base unit 701 is the same as the internal configuration of the suction stand 1. Specifically, the flow path portions 31, 32, 33 of the suction stand 1 and the vacuum ejector 40 are provided inside the base portion 701. As a result, the height gauge 700 can be moved from the mounting table 500 to a predetermined height with high accuracy. In particular, when the present invention is applied to the height gauge 700, the scribing work (for example, work for determining the center and reference of the material) can be performed very efficiently by lifting and moving the height gauge 700. Excellent effect is achieved.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

１吸着スタンド
１０ベース
２０対向面
２１給気孔
２６吸引孔
３１、３２、３３流路部
３５、３６排気口
４０真空エジェクタ
４５負圧発生部
８０環状溝
９０開閉弁
５００載置台
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Adsorption stand 10 Base 20 Opposite surface 21 Air supply hole 26 Suction hole 31, 32, 33 Flow path part 35, 36 Exhaust port 40 Vacuum ejector 45 Negative pressure generation part 80 Annular groove 90 On-off valve 500 Mounting stand

Claims

A base having a facing surface facing the mounting table;
A negative pressure generating means for increasing a flow rate of a part of the compressed air in the base and generating a negative pressure for sucking air between the mounting table and the facing surface;
Suction means for vacuum-sucking the base to the mounting table by the negative pressure;
Air film forming means for supplying compressed air to the mounting table and forming an air film between the opposing surface and the mounting table;
Switching means for switching between an adsorption state and an adsorption release state by the adsorption means, and a film thickness management state in which the negative pressure generation means and the air film formation means cooperate to manage the thickness of the air film;
An adsorption stand.

The base has a first flow path section and a second flow path section in which compressed air supplied from the outside is branched and flowed at the branch section,
The air film forming means is provided in the first flow path portion, and has air supply holes for supplying compressed air to the mounting table to form an air film between the facing surface and the mounting table,
The negative pressure generating means is provided in the second flow path section, and increases the flow rate of compressed air to generate a negative pressure generating section that sucks air between the mounting table and the facing surface. Have
The adsorption stand according to claim 1.

The suction surface is connected to the negative pressure generator and generates a suction force on the facing surface.
The adsorption stand according to claim 2.

The suction region is a recessed region formed on the same surface as the facing surface of the base.
The adsorption stand according to claim 3.

The suction region is a region surrounded by an annular groove formed on the same surface as the facing surface of the base.
The adsorption stand according to claim 3.

The switching means is
By switching between the discharge state and discharge suppression state of the compressed air in the first flow path part and the discharge state and discharge suppression state of the compressed air in the second flow path part to the outside, respectively.
Switching between the adsorption state, the adsorption release state, and the film thickness management state,
The adsorption stand according to any one of claims 2 to 5.

The first flow path portion is provided with a first exhaust port through which compressed air is discharged without being supplied from the air supply hole,
The second flow path portion is provided with a second exhaust port through which compressed air that has passed through the negative pressure generating portion is discharged,
The switching means is
When the first exhaust port and the second exhaust port are opened, switching to the adsorption state,
When the first exhaust port is opened and the second exhaust port is closed, switching to the adsorption release state,
When the first exhaust port is closed and the second exhaust port is opened, the film thickness management state is switched.
The adsorption stand according to claim 6.

The first flow path part is provided with an on-off valve for controlling the opening and closing of the inlet of the compressed air flowing from the branch part,
The switching means switches between the adsorption state and the film thickness management state by controlling opening and closing of the inlet by the on-off valve.
The adsorption stand according to any one of claims 2 to 5.

The negative pressure generating section has a nozzle section that narrows the flow path of the second flow path section and increases the flow rate of compressed air,
The second flow path portion has a suction hole for sucking air between the mounting table and the facing surface by the negative pressure generated on the tip side of the nozzle portion.
The suction stand according to any one of claims 2 to 8.

The suction hole is connected to an annular groove formed on the same surface as the facing surface of the base.
The adsorption stand according to claim 9.

The switching means switches between the adsorption state, the adsorption release state, and the film thickness management state in a state where compressed air is supplied from the outside.
The adsorption stand according to any one of claims 1 to 10.

The suction hole sucks air in a suction area on the center side of the facing surface,
The air supply holes supply compressed air to an air supply area outside the suction area.
The adsorption stand according to claim 9.

The air supply hole supplies compressed air to the air supply region on the center side of the facing surface,
The suction hole sucks air in a suction area outside the supply area,
The adsorption stand according to claim 9.