JP2017180985A - Water treatment system - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a water treatment system capable of easily managing the concentration of a water treatment agent with respect to circulation water.SOLUTION: The water treatment system comprises: a circulation water line L110 for circulating circulation water W2 between a cooling tower 120 and a device to be cooled 131; replenishing means 136 and 153 for replenishing make-up water W1 to the circulation water W2; water treatment agent addition means 134 for adding the water treatment agent to the circulation water W2; water discharge means 136 and 153 for discharging the circulation water W2 to the outside of the system; a concentration control part 100 for controlling the replenishing means 136 and 153, the water treatment agent addition means 134 and the water discharge means 136 and 153 to maintain the concentration of the water treatment agent with respect to the circulation water W2; corrosion rate detection means 140 using the circulation water W2; and a water quality control part 100 which, when the corrosion rate exceeds the prescribed threshold, controls the replenishing means 136 and 153 and the water discharge means 136 and 153 so that the circulation water W2 is replaced, alternatively controls the water treatment agent addition means 134 so as to add the water treatment agent to the circulation water W2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、循環水を冷却塔と被冷却装置の間で循環させる水処理システムに関する。   The present invention relates to a water treatment system that circulates circulating water between a cooling tower and a device to be cooled.

商業ビル、工業プラント等において、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置(冷却負荷装置)を冷却するために、冷却水が用いられる。冷却水は、その節約を図る観点から、冷却塔で冷却しながら循環して用いられる(以下、循環する冷却水を適宜に「循環水」ともいう)。循環水は、循環水ライン(循環水供給ライン及び循環水回収ライン)を介して、冷却塔と被冷却装置との間を循環する。   In commercial buildings, industrial plants, etc., cooling water is used to cool a device to be cooled (cooling load device) such as a heat exchanger incorporated in an air conditioner or a refrigerator. From the viewpoint of saving the cooling water, the cooling water is circulated and used while being cooled in the cooling tower (hereinafter, the circulating cooling water is also referred to as “circulated water” as appropriate). The circulating water circulates between the cooling tower and the apparatus to be cooled through the circulating water line (the circulating water supply line and the circulating water recovery line).

水処理システムにおいて、循環水を継続的に循環させると、循環水の水質が徐々に悪化し、冷却能力を低下させる種々の水トラブルが発生する。そこで、循環水の水質を改善するために、スライム防止剤や防食剤等の水処理剤を主に循環水ラインに添加することが行われている。   In the water treatment system, when the circulating water is continuously circulated, the quality of the circulating water gradually deteriorates and various water troubles that reduce the cooling capacity occur. Therefore, in order to improve the quality of the circulating water, water treatment agents such as a slime inhibitor and an anticorrosive agent are mainly added to the circulating water line.

これらの水処理剤は、常時一定濃度以上を維持しなければ十分な効果を発揮しない。一方、水処理剤の過剰注入は経済的に無駄であると共に、弊害をもたらすこともある。従って、水処理剤を使用する場合には、使用目的が最も効果的、且つ、経済的に達成されるように、循環水中の薬剤濃度を管理することが望ましい。   These water treatment agents do not exhibit sufficient effects unless they are constantly maintained at a certain concentration or higher. On the other hand, excessive injection of the water treatment agent is economically wasteful and may cause harmful effects. Therefore, when a water treatment agent is used, it is desirable to control the concentration of the drug in the circulating water so that the purpose of use is achieved most effectively and economically.

循環水の水質を改善するためのスライム防止剤の添加方法に関して、循環水ラインの腐食速度が一定範囲内になるように、薬剤の添加量を調整するスライム抑制方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1は、ハロゲン系酸化物を含む薬剤の添加により腐食速度が増すことを利用して薬剤の添加量を腐食速度をもって調整するというものである。しかしながら、すべての薬剤が腐食速度と関係があるとは言えず、薬剤の種類によっては必ずしも有効とは言えない。さらに薬剤が長期間滞留し劣化した場合の薬剤の管理は困難である。   Regarding the addition method of the anti-slime agent for improving the quality of the circulating water, a slime suppression method that adjusts the addition amount of the drug so that the corrosion rate of the circulating water line is within a certain range has been proposed (for example, Patent Document 1). Japanese Patent Laid-Open No. 2004-228561 uses the fact that the corrosion rate is increased by the addition of a chemical containing a halogen-based oxide to adjust the amount of the chemical added with the corrosion rate. However, not all drugs are related to corrosion rate, and depending on the type of drug, it is not necessarily effective. Furthermore, it is difficult to manage the drug when the drug stays for a long time and deteriorates.

また、水処理剤と共に蛍光トレーサを循環水に添加し、循環水に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に添加した水処理剤の濃度を管理する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2によれば、水処理システムは、循環水に対する蛍光トレーサの濃度変化と循環水に対する薬剤の濃度変化を対応させることにより、循環水に対する水処理剤の濃度を管理している。   Further, a method has been proposed in which a fluorescent tracer is added to circulating water together with a water treatment agent, and the concentration of the water treatment agent added to the circulating water is managed based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water (for example, Patent Documents). 2). According to Patent Document 2, the water treatment system manages the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water by associating the concentration change of the fluorescent tracer with respect to the circulating water and the concentration change of the chemical with respect to the circulating water.

特開2010−167320号公報JP 2010-167320 A 特開2004−322058号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-322058

しかしながら、循環水が循環水ラインを循環する過程において、水処理剤は、循環水ライン等に含まれる有機物をはじめとした種々の成分と反応するため、水処理剤の有効成分濃度は低下する(以下、水処理剤が、循環水ライン等に含まれる種々の成分と反応すること等により、水処理剤の有効成分濃度が低下することを「剤の劣化」ともいう)。そのため、例えば、長期間にわたって循環水が循環水ラインを循環した場合には、剤の劣化が進行し、循環水に対する蛍光トレーサの濃度変化と循環水に対する薬剤の有効成分濃度の変化とを対応させることは、困難となる。従って、特許文献2に記載された技術を用いても、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理することは、困難である。   However, in the process in which the circulating water circulates in the circulating water line, the water treatment agent reacts with various components including organic substances contained in the circulating water line and the like, so that the effective component concentration of the water treatment agent decreases ( Hereinafter, when the water treatment agent reacts with various components contained in the circulating water line or the like, the decrease in the active ingredient concentration of the water treatment agent is also referred to as “agent deterioration”). Therefore, for example, when the circulating water circulates in the circulating water line for a long period of time, the deterioration of the agent proceeds, and the change in the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water corresponds to the change in the concentration of the active ingredient of the drug with respect to the circulating water. It becomes difficult. Therefore, even using the technique described in Patent Document 2, it is difficult to easily manage the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water.

本発明は、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理できる水処理システムを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the water treatment system which can manage the density | concentration of the water treatment agent with respect to circulating water easily.

本発明は、被冷却装置へ供給するための循環水及び前記被冷却装置から返送される循環水を冷却する冷却塔と、循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、循環水に補給水を供給する補給手段と、循環水に水処理剤を添加する水処理剤添加手段と、循環水を前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置から排出する排水手段と、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する濃度検出手段と、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置の腐食速度を検出する腐食速度検出手段と、前記濃度検出手段によって検出された水処理剤の濃度が基準濃度値となるように、前記補給手段、前記水処理剤添加手段及び前記排水手段のうちの一つ以上を制御する濃度制御部と、前記腐食速度検出手段によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水が入れ替わるように前記補給手段及び前記排水手段を制御するか、又は、所定の量の水処理剤が添加されるように前記水処理剤添加手段を制御する水質制御部と、を備える水処理システムに関する。   The present invention provides a cooling tower for cooling circulating water to be supplied to the apparatus to be cooled, circulating water returned from the apparatus to be cooled, and circulation for circulating the circulating water between the cooling tower and the apparatus to be cooled. A water line, replenishing means for supplying makeup water to the circulating water, water treatment agent adding means for adding a water treatment agent to the circulating water, and discharging the circulating water from the cooling tower, the circulating water line or the device to be cooled. Draining means, concentration detecting means for detecting the concentration of the water treatment agent relative to the circulating water, corrosion rate detecting means for detecting the corrosion rate of the cooling tower, the circulating water line or the apparatus to be cooled, and the concentration detecting means A concentration control unit for controlling one or more of the replenishing means, the water treatment agent adding means, and the draining means so that the concentration of the water treatment agent detected by the step becomes a reference concentration value; and the corrosion rate detection Detected by means When the corrosion rate exceeds a predetermined threshold, the replenishing means and the draining means are controlled so that a predetermined amount of circulating water is replaced, or the predetermined amount of water treatment agent is added. The present invention relates to a water treatment system comprising a water quality control unit that controls water treatment agent addition means.

また、前記水処理剤添加手段によって添加される水処理剤は、蛍光トレーサを含み、前記濃度検出手段は、循環水に対する前記蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出することが好ましい。   The water treatment agent added by the water treatment agent addition means includes a fluorescent tracer, and the concentration detection means detects the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water. It is preferable to do.

また、補給水の供給量を検出する補給水供給量検出手段と、循環水の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段と、を更に備え、前記水処理剤添加手段は、循環水に、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量に比例した量の水処理剤を添加し、前記濃度検出手段は、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量と、前記濃縮倍率検出手段によって検出された循環水の濃縮倍率とに基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出することが好ましい。   Further, the apparatus further comprises a makeup water supply amount detection means for detecting the supply amount of makeup water, and a concentration magnification detection means for detecting the concentration ratio of circulating water, wherein the water treatment agent addition means supplies the replenishment water to the supplement An amount of water treatment agent proportional to the supply amount of makeup water detected by the water supply amount detection means is added, and the concentration detection means includes a supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means, It is preferable to detect the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration rate of the circulating water detected by the concentration ratio detecting means.

また、前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも銅の腐食速度を検出することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said corrosion rate detection means detects the corrosion rate of at least copper among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus.

また、前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも鉄の腐食速度を検出することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said corrosion rate detection means detects the corrosion rate of at least iron among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus.

本発明によれば、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理できる水処理システムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the water treatment system which can manage the density | concentration of the water treatment agent with respect to circulating water easily can be provided.

第1実施形態に係る水処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the water treatment system which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る水処理システムにおいて、第1水質制御の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of 1st water quality control in the water treatment system which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る水処理システムにおいて、第2水質制御の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of 2nd water quality control in the water treatment system which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る水処理システムを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the water treatment system which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る水処理システムにおいて、第3水質制御の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of 3rd water quality control in the water treatment system which concerns on 3rd Embodiment.

以下、本発明の水処理システムの実施形態について説明する。
(第1実施形態)
第1実施形態に係る水処理システムについて、図面を参照して説明する。図1は、第1実施形態に係る水処理システム1を示す概略構成図である。
Hereinafter, embodiments of the water treatment system of the present invention will be described.
(First embodiment)
The water treatment system according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. Drawing 1 is a schematic structure figure showing water treatment system 1 concerning a 1st embodiment.

図1に示すように、第1実施形態に係る水処理システム1は、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置131を冷却するために、循環水W2(冷却水)を循環させるシステムである。循環水W2は、その節約を図る観点から、冷却塔120で冷却しながら循環して用いられる。本実施形態において、冷却塔120は、いわゆる開放式冷却塔である。   As shown in FIG. 1, the water treatment system 1 according to the first embodiment circulates water W2 (cooling water) in order to cool a cooled device 131 such as a heat exchanger incorporated in an air conditioner or a refrigerator. It is a system that circulates. The circulating water W2 is circulated and used while being cooled by the cooling tower 120 from the viewpoint of saving. In the present embodiment, the cooling tower 120 is a so-called open type cooling tower.

本実施形態の水処理システム1は、主な構成として、冷却塔120と、被冷却装置131と、補給手段(補給水ラインL120、補給水バルブ136、)と、排水手段(第1排水ラインL130、第2排水ラインL131、排水バルブ153)と、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133と、水処理剤添加手段としての薬剤供給装置134と、腐食速度検出手段としての腐食速度センサ140と、補給水供給量検出手段としての流量センサFMと、制御部100と、を備える。補給水バルブ136は排水手段としても機能する場合があり、排水バルブ153は補給手段としても機能する場合がある。   The water treatment system 1 of the present embodiment includes, as main components, a cooling tower 120, an apparatus to be cooled 131, replenishing means (a replenishing water line L120, a replenishing water valve 136), and a draining means (first draining line L130). , Second drain line L131, drain valve 153), chemical concentration sensor 133 as concentration detection means, chemical supply device 134 as water treatment agent addition means, corrosion rate sensor 140 as corrosion rate detection means, replenishment A flow rate sensor FM as water supply amount detection means and a control unit 100 are provided. The replenishing water valve 136 may function as a draining unit, and the draining valve 153 may function as a replenishing unit.

なお、図1(及び後述する図4)において、制御部100と被制御対象装置との電気的接続線の図示については、省略している。また、水処理システム1は、主なラインとして、循環水ラインL110と、補給水ラインL120と、第1排水ラインL130と、第2排水ラインL131を備える。なお、「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。   In addition, in FIG. 1 (and FIG. 4 mentioned later), illustration of the electrical connection line of the control part 100 and a to-be-controlled device is abbreviate | omitted. The water treatment system 1 includes a circulating water line L110, a makeup water line L120, a first drainage line L130, and a second drainage line L131 as main lines. The “line” is a general term for a line capable of fluid flow such as a flow path, a path, and a pipeline.

冷却塔120は、被冷却装置131へ供給するための循環水W2及び被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する設備である。詳細には、冷却塔120は、補給水W1が供給されると共に、補給水W1を循環水W2として被冷却装置131へ供給し、被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する設備である。冷却塔120は、塔本体121と、貯留部122と、を備える。   The cooling tower 120 is a facility for cooling the circulating water W <b> 2 to be supplied to the cooled device 131 and the circulating water W <b> 2 returned from the cooled device 131. Specifically, the cooling tower 120 is a facility for supplying the makeup water W1 and supplying the makeup water W1 as the circulating water W2 to the cooled device 131 and cooling the circulating water W2 returned from the cooled device 131. is there. The cooling tower 120 includes a tower main body 121 and a storage unit 122.

塔本体121は、冷却塔120の外郭を形成する筐体である。塔本体121は、散水部、ファン、開口部、ルーバー、充填材等からなる循環水冷却部(図示せず)を有する。塔本体121の下部には、貯留部122が設けられている。循環水W2は、循環水冷却部により冷却され、貯留部122に落下する。   The tower main body 121 is a casing that forms an outer shell of the cooling tower 120. The tower main body 121 has a circulating water cooling unit (not shown) including a watering unit, a fan, an opening, a louver, a filler, and the like. A storage part 122 is provided in the lower part of the tower main body 121. The circulating water W2 is cooled by the circulating water cooling unit and falls into the storage unit 122.

貯留部122は、循環水冷却部で冷却された循環水W2を貯留する部位である。貯留部122は、塔本体121の下部に設けられている。貯留部122の底部には、循環水ラインL110(後述する循環水供給ラインL111)が接続されている。貯留部122に貯留された循環水W2は、循環水供給ラインL111を介して被冷却装置131へ供給される。また、貯留部122の内部には、第1排水ラインL130の上流側の端部としてのオーバフロー口138が配置されている。貯留部122には、給水栓137、薬剤濃度センサ133及び腐食速度センサ140が設けられている。   The storage part 122 is a site | part which stores the circulating water W2 cooled by the circulating water cooling part. The storage part 122 is provided in the lower part of the tower main body 121. A circulating water line L110 (a circulating water supply line L111 described below) is connected to the bottom of the storage unit 122. The circulating water W2 stored in the storage unit 122 is supplied to the cooled apparatus 131 via the circulating water supply line L111. In addition, an overflow port 138 serving as an upstream end portion of the first drainage line L <b> 130 is disposed inside the storage unit 122. The reservoir 122 is provided with a water tap 137, a drug concentration sensor 133, and a corrosion rate sensor 140.

濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する水処理剤(薬剤)の濃度(以下、「薬剤濃度M」ともいう)を検出する装置である。詳細には、薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、薬剤濃度Mを検出(演算)する。例えば、薬剤濃度センサ133は、薬剤濃度センサ133で検出された蛍光トレーサの濃度に、比例定数Aを乗じた値を薬剤濃度Mとして演算する。本実施形態においては、薬剤濃度センサ133は、貯留部122の底部に接続されている。薬剤濃度センサ133は、制御部100と電気的に接続されている。薬剤濃度センサ133によって検出された薬剤濃度Mは、制御部100へ送信される。薬剤濃度センサ133は、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で蛍光トレーサ濃度を検出し、制御部100へ薬剤濃度Mを送信する。制御部100は、受信した薬剤濃度Mを記憶する。   The drug concentration sensor 133 as a concentration detection unit is a device that detects the concentration of the water treatment agent (drug) (hereinafter also referred to as “drug concentration M”) with respect to the circulating water W2. Specifically, the drug concentration sensor 133 detects (calculates) the drug concentration M based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water W2. For example, the drug concentration sensor 133 calculates a value obtained by multiplying the concentration of the fluorescent tracer detected by the drug concentration sensor 133 by a proportional constant A as the drug concentration M. In the present embodiment, the drug concentration sensor 133 is connected to the bottom of the storage unit 122. The drug concentration sensor 133 is electrically connected to the control unit 100. The drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133 is transmitted to the control unit 100. The drug concentration sensor 133 detects the fluorescence tracer concentration at a predetermined time interval (or real time), and transmits the drug concentration M to the control unit 100. The control unit 100 stores the received drug concentration M.

腐食速度センサ140は、冷却塔120(貯留部122)の腐食速度(以下、「腐食速度CR」ともいう)を検出する装置である。本実施形態においては、腐食速度センサ140は、貯留部122に貯留された循環水W2を用いて、分極抵抗法により冷却塔120(貯留部122の腐食速度CRを検出する装置である。具体的には、腐食速度センサ140は、貯留部122の底部に接続されている。腐食速度センサ140が貯留部122の腐食速度を分極抵抗法で検出することにより、貯留部122の腐食速度は連続的に検出される。腐食速度センサ140は、制御部100と電気的に接続されている。腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRは、制御部100へ送信される。腐食速度センサ140は、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で腐食速度CRを検出し、制御部100へ腐食速度CRを送信する。   The corrosion rate sensor 140 is a device that detects the corrosion rate (hereinafter also referred to as “corrosion rate CR”) of the cooling tower 120 (reservoir 122). In the present embodiment, the corrosion rate sensor 140 is a device that detects the corrosion rate CR of the cooling tower 120 (the storage unit 122 by the polarization resistance method) using the circulating water W2 stored in the storage unit 122. The corrosion rate sensor 140 is connected to the bottom of the reservoir 122. The corrosion rate of the reservoir 122 is continuously detected by the corrosion rate sensor 140 detecting the corrosion rate of the reservoir 122 by the polarization resistance method. The corrosion rate sensor 140 is electrically connected to the control unit 100. The corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 is transmitted to the control unit 100. The corrosion rate sensor 140 is The corrosion rate CR is detected at a predetermined time interval (or real time), and the corrosion rate CR is transmitted to the control unit 100.

腐食速度センサ140は、所定の間隔を空けて設置されている一対の電極(図示せず)を備えている。本実施形態において、一対の電極は、銅(Cu)製の電極又は鉄(Fe)製の電極である(以下において、電極が銅(Cu)製である腐食速度センサを「銅(Cu)製の腐食速度センサ」ともいい、電極が鉄(Fe)製である腐食速度センサを「鉄(Fe)製の腐食速度センサ」ともいう)。即ち、本実施形態においては、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサが用いられる。腐食速度センサ140は、貯留部122に貯留された循環水W2に一対の電極を浸し、電極間に電圧を印加することで、分極抵抗(腐食反応抵抗、電荷移動抵抗)を測定し、冷却塔120(貯留部122)の腐食速度CRを検出する。   The corrosion rate sensor 140 includes a pair of electrodes (not shown) installed at a predetermined interval. In this embodiment, the pair of electrodes is an electrode made of copper (Cu) or an electrode made of iron (Fe) (hereinafter, a corrosion rate sensor in which the electrode is made of copper (Cu) is referred to as “made of copper (Cu). Corrosion rate sensor whose electrode is made of iron (Fe) is also called “iron (Fe) corrosion rate sensor”). That is, in this embodiment, a corrosion rate sensor made of copper (Cu) or a corrosion rate sensor made of iron (Fe) is used as the corrosion rate sensor 140. The corrosion rate sensor 140 measures polarization resistance (corrosion reaction resistance, charge transfer resistance) by immersing a pair of electrodes in the circulating water W2 stored in the storage unit 122 and applying a voltage between the electrodes, and cooling tower The corrosion rate CR of 120 (reservoir 122) is detected.

銅(Cu)製の腐食速度センサは、冷却塔120に含まれる銅(Cu)の腐食速度を検出する。鉄(Fe)製の腐食速度センサは、冷却塔120に含まれる鉄(Fe)の腐食速度を検出する。   The copper (Cu) corrosion rate sensor detects the corrosion rate of copper (Cu) contained in the cooling tower 120. The iron (Fe) corrosion rate sensor detects the corrosion rate of iron (Fe) contained in the cooling tower 120.

循環水ラインL110は、循環水W2を冷却塔120と被冷却装置131との間で循環させるラインである。循環水ラインL110は、循環水供給ラインL111と、循環水回収ラインL112を有する。   The circulating water line L110 is a line that circulates the circulating water W2 between the cooling tower 120 and the apparatus to be cooled 131. The circulating water line L110 includes a circulating water supply line L111 and a circulating water recovery line L112.

循環水供給ラインL111は、冷却塔120の貯留部122と被冷却装置131とを接続する。貯留部122に貯留された循環水W2は、循環水供給ラインL111を介して被冷却装置131に供給される。循環水供給ラインL111の途中には、循環水ポンプ132が設けられている。また、循環水供給ラインL111には、薬剤供給装置134が設けられている。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水ポンプ132よりも下流側の循環水供給ラインL111に接続されている。   The circulating water supply line L111 connects the storage part 122 of the cooling tower 120 and the apparatus to be cooled 131. The circulating water W2 stored in the storage unit 122 is supplied to the cooled device 131 via the circulating water supply line L111. A circulating water pump 132 is provided in the middle of the circulating water supply line L111. In addition, a chemical supply device 134 is provided in the circulating water supply line L111. In the present embodiment, the medicine supply device 134 is connected to the circulating water supply line L111 on the downstream side of the circulating water pump 132.

循環水ポンプ132は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)の上流側から下流側へ向けて、循環水W2を吐出する。循環水ポンプ132は、制御部100と電気的に接続されている。循環水ポンプ132の運転(駆動及び停止)は、制御部100から出力されるポンプ運転信号により制御される。   The circulating water pump 132 discharges the circulating water W2 from the upstream side to the downstream side of the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water recovery line L112). The circulating water pump 132 is electrically connected to the control unit 100. The operation (drive and stop) of the circulating water pump 132 is controlled by a pump operation signal output from the control unit 100.

薬剤供給装置134は、循環水W2に水処理剤を供給する装置である。本実施形態において、薬剤供給装置134は、通常添加処理(後述)及び強制添加処理(後述)により、循環水供給ラインL111を流通する循環水W2に、防食剤(蛍光トレーサが配合される)を含んだ薬剤(以下、「薬剤W3」ともいう)を供給する。つまり、薬剤供給装置134は、循環水W2に薬剤W3を添加し、薬剤供給装置134によって添加される薬剤W3は、蛍光トレーサを含む。   The chemical supply device 134 is a device that supplies a water treatment agent to the circulating water W2. In the present embodiment, the chemical supply device 134 applies an anticorrosive agent (a fluorescent tracer is blended) to the circulating water W2 flowing through the circulating water supply line L111 by a normal addition process (described later) and a forced addition process (described later). The contained drug (hereinafter also referred to as “drug W3”) is supplied. That is, the medicine supply device 134 adds the medicine W3 to the circulating water W2, and the medicine W3 added by the medicine supply device 134 includes a fluorescent tracer.

銅(Cu)成分の腐食速度を低下させる防食剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体を含む防食剤が用いられ、例えば、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール等を含む防食剤が挙げられる。   As an anticorrosive which reduces the corrosion rate of a copper (Cu) component, the anticorrosive containing a benzotriazole derivative is used, For example, the anticorrosive containing benzotriazole, tolyltriazole, mercaptobenzothiazole etc. is mentioned.

鉄(Fe)成分の腐食速度を低下させる防食剤としては、カルボン酸系の素材、アクリル酸系の素材又は重金属系の素材を含む防食剤が用いられる。例えば、カルボン酸系の素材として、マレイン酸重合物、ホスフィノカルボン酸共重合物、ビス(ポリ‐2‐カルボキシエチル)ホスフィン酸等を含む防食剤が挙げられる。アクリル酸系の素材として、アクリル酸重合物、アクリル酸共重合物(例えば、ヒドロキシプロピルアクリレート共重合物)等を含む防食剤が挙げられる。重金属系の素材として、モリブデンナトリウム、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛等を含む防食剤が挙げられる。   As the anticorrosive that reduces the corrosion rate of the iron (Fe) component, an anticorrosive containing a carboxylic acid-based material, an acrylic acid-based material, or a heavy metal-based material is used. Examples of the carboxylic acid-based material include an anticorrosive containing maleic acid polymer, phosphinocarboxylic acid copolymer, bis (poly-2-carboxyethyl) phosphinic acid, and the like. Examples of the acrylic material include anticorrosives including acrylic acid polymer, acrylic acid copolymer (for example, hydroxypropyl acrylate copolymer), and the like. Examples of heavy metal materials include anticorrosives including sodium molybdenum, zinc sulfate, and zinc nitrate.

また、薬剤W3に含まれる蛍光トレーサとしては、塩化リチウム等のリチウム塩、ピレンスルホン酸等の蛍光化合物、特定波長に吸収を持つ色素等が用いられる。   As the fluorescent tracer contained in the medicine W3, a lithium salt such as lithium chloride, a fluorescent compound such as pyrenesulfonic acid, a dye having absorption at a specific wavelength, or the like is used.

被冷却装置131は、循環水W2による冷却が必要な熱交換器等の各種装置である。被冷却装置131は、例えば、各種の化学プラントのターボ冷凍機や吸収冷凍機、建築物の空調用冷却機、食品工場の冷水製造機や真空冷却機等である。   The to-be-cooled device 131 is various devices such as a heat exchanger that needs to be cooled by the circulating water W2. The apparatus to be cooled 131 is, for example, a turbo chiller or an absorption chiller for various chemical plants, an air conditioner chiller for buildings, a cold water production machine or a vacuum chiller for food factories, and the like.

被冷却装置131は、循環水流路(図示せず)を有する。この循環水流路には、上流側から下流側に向けて循環水W2が流通する。この循環水流路の上流側の端部は、循環水供給ラインL111の下流側の端部に接続されている。この循環水流路の下流側の端部は、循環水回収ラインL112の上流側の端部に接続されている。   The to-be-cooled device 131 has a circulating water flow path (not shown). In this circulating water flow path, the circulating water W2 flows from the upstream side toward the downstream side. The upstream end of the circulating water flow path is connected to the downstream end of the circulating water supply line L111. The downstream end of the circulating water flow path is connected to the upstream end of the circulating water recovery line L112.

循環水回収ラインL112は、被冷却装置131と冷却塔120とを接続するラインである。被冷却装置131において、熱交換により加温された循環水W2は、循環水回収ラインL112を介して冷却塔120の循環水冷却部(図示せず)に回収される。また、循環水回収ラインL112の接続部J2から、第2排水ラインL131が分岐している。   The circulating water recovery line L112 is a line that connects the cooled device 131 and the cooling tower 120. In the to-be-cooled device 131, the circulating water W2 heated by heat exchange is recovered to a circulating water cooling unit (not shown) of the cooling tower 120 via the circulating water recovery line L112. Moreover, the 2nd drainage line L131 has branched from the connection part J2 of the circulating water collection | recovery line L112.

また、冷却塔120には、補給水ラインL120が接続されている。循環水W2に補給水W1を供給する補給手段は、補給水ラインL120と、補給水バルブ136と、を備える。補給水ラインL120は、補給水W1を冷却塔120(貯留部122)に供給するラインである。補給水ラインL120は、第1補給水ラインL121と、第2補給水ラインL122と、第3補給水ラインL123を有する。   In addition, a makeup water line L120 is connected to the cooling tower 120. The replenishing means for supplying makeup water W1 to the circulating water W2 includes a makeup water line L120 and a makeup water valve 136. The makeup water line L120 is a line that supplies the makeup water W1 to the cooling tower 120 (reservoir 122). The makeup water line L120 includes a first makeup water line L121, a second makeup water line L122, and a third makeup water line L123.

第1補給水ラインL121は、補給水W1の供給源(図示せず)と分岐部J3とを接続するラインである。第1補給水ラインL121の上流側は、補給水W1の供給源(図示せず)に接続される。一方、第1補給水ラインL121の下流側は、分岐部J3において、第2補給水ラインL122と第3補給水ラインL123とに分岐している。第1補給水ラインL121の途中には、流量センサFMが設けられている。   The 1st makeup water line L121 is a line which connects the supply source (not shown) of makeup water W1, and branching part J3. The upstream side of the first makeup water line L121 is connected to a supply source (not shown) of makeup water W1. On the other hand, the downstream side of the first makeup water line L121 is branched into a second makeup water line L122 and a third makeup water line L123 at the branch portion J3. A flow sensor FM is provided in the middle of the first makeup water line L121.

流量センサFMは、補給水W1の供給量を検出する装置である。流量センサFMは、補給水W1の供給源(図示せず)と分岐部J3との間に配置されている。流量センサFMは、制御部100と電気的に接続されている。流量センサFMから出力されたパルス信号は、制御部100へ送信される。流量センサFMとして、例えば、流路ハウジング内に軸流羽根車又は接線羽根車(図示せず)を配置したパルス発信式の流量センサを用いることができる。   The flow sensor FM is a device that detects the supply amount of the makeup water W1. The flow sensor FM is disposed between a supply source (not shown) of the makeup water W1 and the branch portion J3. The flow sensor FM is electrically connected to the control unit 100. The pulse signal output from the flow sensor FM is transmitted to the control unit 100. As the flow rate sensor FM, for example, a pulse transmission type flow rate sensor in which an axial flow impeller or a tangential impeller (not shown) is disposed in the flow path housing can be used.

本実施形態で用いられるパルス発信式の流量センサは、偶数枚の羽根の先端部分がN極とS極とに交互に着磁された羽根車を備え、この羽根車の回転をホールICで検出することにより、補給水W1の流速に比例した時間幅のパルス信号を出力する。ホールICは、羽根車の回転運動に伴う磁束変化に応答して、羽根車が1回転する毎に矩形波のパルス信号を供給量として出力する。そのため、制御部100では、流量センサFMから出力されるパルス信号に基づいて、補給水W1の供給量を検出することができる。   The pulse transmission type flow sensor used in this embodiment includes an impeller in which the tips of even-numbered blades are alternately magnetized with N and S poles, and the rotation of the impeller is detected by a Hall IC. By doing so, a pulse signal having a time width proportional to the flow rate of the makeup water W1 is output. In response to the change in magnetic flux accompanying the rotational movement of the impeller, the Hall IC outputs a rectangular wave pulse signal as a supply amount every time the impeller rotates once. Therefore, the control unit 100 can detect the supply amount of the makeup water W1 based on the pulse signal output from the flow sensor FM.

第2補給水ラインL122の下流側の端部は、冷却塔120の貯留部122に接続されている。第2補給水ラインL122において、分岐部J3と冷却塔120との間には、補給水バルブ136が設けられている。   The downstream end portion of the second makeup water line L122 is connected to the storage portion 122 of the cooling tower 120. In the second makeup water line L122, a makeup water valve 136 is provided between the branch portion J3 and the cooling tower 120.

補給水バルブ136は、第2補給水ラインL122を開閉することにより、貯留部122に対して補給水W1を強制的に供給する給水設備である。補給水バルブ136は、制御部100と電気的に接続されている。補給水バルブ136における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力される補給水バルブ駆動信号により制御される。   The makeup water valve 136 is a water supply facility that forcibly supplies the makeup water W1 to the storage section 122 by opening and closing the second makeup water line L122. The makeup water valve 136 is electrically connected to the control unit 100. The open / close state (open / closed state) of the valve body in the makeup water valve 136 is controlled by a makeup water valve drive signal output from the control unit 100.

第3補給水ラインL123の下流側の端部は、冷却塔120の塔本体121に接続されている。第3補給水ラインL123の下流側の端部には、給水栓137が設けられている。給水栓137は、貯留部122に貯留される循環水W2の水位(即ち、水量)を管理するボールタップ式の給水設備である。循環水W2の蒸発や飛散損失により貯留部122の水位が低下すると、給水栓137のボールタップが作動し、第3補給水ラインL123を流通する補給水W1が貯留部122に供給される。   The downstream end of the third makeup water line L123 is connected to the tower body 121 of the cooling tower 120. A water faucet 137 is provided at the downstream end of the third makeup water line L123. The water tap 137 is a ball tap type water supply facility that manages the water level (that is, the amount of water) of the circulating water W <b> 2 stored in the storage unit 122. When the water level of the storage unit 122 decreases due to evaporation of the circulating water W2 or scattering loss, the ball tap of the water tap 137 operates, and supply water W1 flowing through the third supply water line L123 is supplied to the storage unit 122.

水処理システム1は、循環水W2を系外に排出するラインとして、冷却塔120に接続された第1排水ラインL130と、循環水回収ラインL112に接続された第2排水ラインL131を有する。循環水W2を冷却塔120から排出する排水手段は、第1排水ラインL130と、第2排水ラインL131と、排水バルブ153と、を備える。   The water treatment system 1 has a first drainage line L130 connected to the cooling tower 120 and a second drainage line L131 connected to the circulating water recovery line L112 as lines for discharging the circulating water W2 out of the system. The drain means for discharging the circulating water W2 from the cooling tower 120 includes a first drain line L130, a second drain line L131, and a drain valve 153.

第1排水ラインL130は、後述する強制補水ブローダウン処理において、補給水バルブ136が開状態となり補給水W1を強制的に供給した場合に、冷却塔120の貯留部122から溢れた循環水W2を、水処理システム1の系外に排出するラインである。第1排水ラインL130は、貯留部122の内部に接続され、下方に延びている。第1排水ラインL130の上流側の端部は、循環水W2のオーバフロー口138を形成する。オーバフロー口138は、給水栓137の管理水位よりも上方に開口している。一方、第1排水ラインL130の下流側の端部は、貯留部122の外部に通じている。   The first drain line L130 is configured to supply the circulating water W2 overflowing from the storage unit 122 of the cooling tower 120 when the supplementary water valve 136 is opened and the supplementary water W1 is forcibly supplied in a forced supplementary water blowdown process described later. This is a line that discharges outside the water treatment system 1. The first drain line L130 is connected to the inside of the storage unit 122 and extends downward. The upstream end of the first drain line L130 forms an overflow port 138 for the circulating water W2. The overflow port 138 is opened above the control water level of the water tap 137. On the other hand, the downstream end of the first drainage line L130 communicates with the outside of the reservoir 122.

補給水バルブ136は、第2補給水ラインL122を開閉することにより、貯留部122に対して補給水W1を強制的に供給する給水設備である。補給水バルブ136は、制御部100と電気的に接続されている。補給水バルブ136における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力されるバルブ駆動信号により制御される。   The makeup water valve 136 is a water supply facility that forcibly supplies the makeup water W1 to the storage section 122 by opening and closing the second makeup water line L122. The makeup water valve 136 is electrically connected to the control unit 100. The open / close state (open / closed state) of the valve body in the makeup water valve 136 is controlled by a valve drive signal output from the control unit 100.

第2排水ラインL131には、排水バルブ153が設けられている。排水バルブ153は、制御部100と電気的に接続されている。排水バルブ153における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力される排水バルブ駆動信号により制御される。第2排水ラインL131は、後述する強制排水ブローダウン処理において、排水バルブ153が開状態となった場合に、循環水ラインL110から循環水W2の一部を系外に排出するラインである。第2排水ラインL131は、接続部J2において、循環水回収ラインL112に接続されている。接続部J2は、循環水回収ラインL112における被冷却装置131と冷却塔120との間に配置されている。   A drain valve 153 is provided in the second drain line L131. The drain valve 153 is electrically connected to the control unit 100. The open / close state (open / closed state) of the valve body in the drain valve 153 is controlled by a drain valve driving signal output from the control unit 100. The second drainage line L131 is a line for discharging a part of the circulating water W2 from the circulating water line L110 to the outside when the drainage valve 153 is opened in a forced drainage blowdown process described later. The second drainage line L131 is connected to the circulating water recovery line L112 at the connection portion J2. The connection part J2 is arrange | positioned between the to-be-cooled apparatus 131 and the cooling tower 120 in the circulating water collection | recovery line L112.

制御部100は、水処理システム1における各部の動作を制御する。制御部100の機能は、CPU及び内部メモリ含むマイクロプロセッサ(図示せず)により実現される。   The control unit 100 controls the operation of each unit in the water treatment system 1. The function of the control unit 100 is realized by a microprocessor (not shown) including a CPU and an internal memory.

制御部100は、例えば、循環水ポンプ132、薬剤供給装置134、補給水バルブ136及び排水バルブ153と電気的に接続される。また、制御部100は、水処理システム1の各検出装置(薬剤濃度センサ133、腐食速度センサ140、流量センサFM等)と電気的に接続され、これらの検出装置から検出情報を受信する。   The control unit 100 is electrically connected to, for example, the circulating water pump 132, the medicine supply device 134, the makeup water valve 136, and the drain valve 153. Moreover, the control part 100 is electrically connected with each detection apparatus (The chemical | medical agent concentration sensor 133, the corrosion rate sensor 140, the flow sensor FM etc.) of the water treatment system 1, and receives detection information from these detection apparatuses.

制御部100は、薬剤濃度センサ133によって検出された薬剤W3の濃度が基準濃度値となるように、補給手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)、薬剤供給装置134及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)のうちの一つ以上を制御する濃度制御部として機能する。また、制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように水処理剤添加手段(134)を制御する水質制御部として機能する。   The controller 100 supplies the replenishment means (replenishment water valve 136, drainage valve 153), the medicine supply device 134, and the drainage means (replenishment water valve) so that the concentration of the medicine W3 detected by the medicine concentration sensor 133 becomes the reference concentration value. 136 and functions as a concentration control unit for controlling one or more of the drainage valves 153). The control unit 100 also supplies replenishing means (a replenishing water valve 136 and a draining valve 153) so that a predetermined amount of circulating water W2 is replaced when the corrosion rate detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds a predetermined threshold. It functions as a water quality control unit that controls the drainage means (replenishment water valve 136, drainage valve 153) or controls the water treatment agent addition means (134) so that a predetermined amount of the medicine W3 is added.

濃度制御部としての制御部100の機能の一例について説明する。
濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133が送信する薬剤濃度Mを受信(取得)する。制御部100は、受信した薬剤濃度Mが基準濃度値の下限値を下回るか否かを判定する。制御部100によって、薬剤濃度Mが基準濃度値の下限値を下回ると判定された場合には、薬剤濃度Mが基準濃度値となるように薬剤供給装置134を制御する「通常添加処理」を実行する。通常添加処理において、例えば、制御部100は、検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるための薬剤W3の添加量を演算し、演算された添加量の薬剤W3が薬剤供給装置134によって添加されるように、薬剤供給装置134を制御する。
An example of the function of the control unit 100 as the density control unit will be described.
The control unit 100 as the concentration control unit receives (acquires) the drug concentration M transmitted from the drug concentration sensor 133. The control unit 100 determines whether or not the received drug concentration M is below the lower limit value of the reference concentration value. When the control unit 100 determines that the drug concentration M is below the lower limit value of the reference concentration value, a “normal addition process” is performed to control the drug supply device 134 so that the drug concentration M becomes the reference concentration value. To do. In the normal addition process, for example, the control unit 100 calculates the addition amount of the drug W3 for the detected drug concentration M to be the reference concentration value, and the calculated addition amount of the drug W3 is added by the drug supply device 134. Then, the medicine supply device 134 is controlled.

なお、制御部100は、後述するように、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するように薬剤供給装置134を制御する「強制添加処理」を実行する場合がある。強制添加処理において、例えば、制御部100は、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するための薬剤W3の添加量を演算し、演算された添加量の薬剤W3が薬剤供給装置134によって添加されるように、薬剤供給装置134を制御する。   As will be described later, the control unit 100 may execute a “forced addition process” for controlling the drug supply device 134 such that the drug concentration M increases by an increase concentration ΔM from the reference concentration value. In the forcible addition process, for example, the control unit 100 calculates the amount of drug W3 added to increase the drug concentration M by an increase concentration ΔM from the reference concentration value, and the calculated amount of drug W3 is calculated as a drug supply device. The drug delivery device 134 is controlled to be added by 134.

水質制御部としての制御部100の機能の一例について説明する。
水質制御部としての制御部100は、第1水質制御又は第2水質制御を実行することにより、循環水W2の水質を制御する。本実施形態においては、第1水質制御及び第2水質制御は、制御部100によって適宜に択一して実行される。
An example of the function of the control unit 100 as the water quality control unit will be described.
The control unit 100 as the water quality control unit controls the water quality of the circulating water W2 by executing the first water quality control or the second water quality control. In the present embodiment, the first water quality control and the second water quality control are appropriately selected and executed by the control unit 100.

(第1水質制御)
本実施形態の水処理システム1において、水質制御部としての制御部100が実行する第1水質制御の動作を、図2に示すフローチャートを参照して説明する。図2は、第1実施形態に係る水処理システム1において、第1水質制御の動作を示すフローチャートである。図2に示すフローチャートの処理は、水処理システム1の運転中において、繰り返し実行される。
(First water quality control)
In the water treatment system 1 of the present embodiment, the operation of the first water quality control executed by the control unit 100 as the water quality control unit will be described with reference to the flowchart shown in FIG. FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the first water quality control in the water treatment system 1 according to the first embodiment. The process of the flowchart shown in FIG. 2 is repeatedly executed during operation of the water treatment system 1.

図2に示すステップST101において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の腐食速度CRと、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第1腐食速度閾値TCR1とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、腐食速度CRとして分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。   In step ST101 shown in FIG. 2, the control unit 100 determines the corrosion rate CR of the circulating water W2 detected by the corrosion rate sensor 140, the cooling tower 120 (the storage unit 122), the circulating water supply line L111, the cooled device 131, and A first corrosion rate threshold value TCR1 as a threshold value for determining whether or not corrosion of the circulating water recovery line L112 or the like is progressing is acquired from the internal memory of the control unit 100. In the present embodiment, the control unit 100 acquires the latest value of the corrosion rates continuously detected by the polarization resistance method as the corrosion rate CR.

ステップST102において、制御部100は、腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1以上か否かを判定する。腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST103へ移行する。腐食速度CR<第1腐食速度閾値TCR1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST101へ戻る。   In step ST102, the control unit 100 determines whether or not the corrosion rate CR is equal to or higher than the first corrosion rate threshold TCR1. When it is determined that the corrosion rate CR is equal to or greater than the first corrosion rate threshold value TCR1 (YES), the process proceeds to step ST103. When it is determined that (corrosion rate CR <first corrosion rate threshold value TCR1) (NO), the process returns to step ST101.

ステップST103(ステップST102:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第1薬剤濃度閾値TM1とを、制御部100の内部メモリから取得する。なお、本実施形態における剤の劣化とは、循環水ラインL110等に含まれる金属と反応すること等により、循環水W2に対する防食剤の実際の(真の)濃度が所定の基準を下回ることをいう。   In step ST103 (step ST102: YES), the control unit 100 uses the control unit 100 to determine the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133 and the first drug concentration threshold TM1 as a threshold for determining deterioration of the agent. Obtained from 100 internal memories. The deterioration of the agent in the present embodiment means that the actual (true) concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 falls below a predetermined standard by reacting with a metal contained in the circulating water line L110 or the like. Say.

ステップST104において、制御部100は、薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第1薬剤濃度閾値TM1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST105へ移行する。薬剤濃度M<第1薬剤濃度閾値TM1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST101へ戻る。   In step ST104, the control unit 100 determines whether or not the drug concentration M is equal to or higher than the first drug concentration threshold TM1. If it is determined that drug concentration M ≧ first drug concentration threshold TM1 (YES), the process proceeds to step ST105. If it is determined that the drug concentration M <the first drug concentration threshold TM1 (NO), the process returns to step ST101.

なお、腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1(ステップST102:YES)であり、且つ、薬剤濃度M≧第1薬剤濃度閾値TM1(ステップST104:YES)である場合には、腐食速度は高く検出されているにもかかわらず、薬剤濃度Mは高く検出されているため、剤が劣化していると認められる。一方で、腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1(ステップST102:YES)であり、且つ、薬剤濃度M<第1薬剤濃度閾値TM1(ステップST104:NO)である場合には、薬剤W3が不足しているために腐食速度は高く検出されており、腐食速度が高い原因が必ずしも剤の劣化とは限らないと認められる。   When corrosion rate CR ≧ first corrosion rate threshold TCR1 (step ST102: YES) and chemical concentration M ≧ first chemical concentration threshold TM1 (step ST104: YES), the corrosion rate is detected to be high. However, since the drug concentration M is detected high, it is recognized that the agent is deteriorated. On the other hand, when the corrosion rate CR ≧ the first corrosion rate threshold value TCR1 (step ST102: YES) and the drug concentration M <the first drug concentration threshold value TM1 (step ST104: NO), the drug W3 is insufficient. Therefore, the corrosion rate is detected to be high, and it is recognized that the cause of the high corrosion rate is not necessarily the deterioration of the agent.

ステップST105において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。   In step ST105, the control unit 100 executes a circulating water replacement process so that a predetermined amount of the circulating water W2 is replaced. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 as a makeup water unit and a drain unit. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 so that the drain valve 153 as the drain means is opened. Part of the circulating water W2 flowing through the circulating water line L110 is forcibly discharged from the second drainage line L131 of the drainage means. On the other hand, makeup water W <b> 1 is supplied to the reservoir 122 from the third makeup water line L <b> 123 of the makeup water means. Therefore, the circulating water W2 is gradually replaced with the makeup water W1. In the present embodiment, when all of the circulating water W2 is discharged from the second drain line L131 of the drainage means (that is, all the deteriorated medicine W3 is discharged), the control unit 100 causes the drainage valve 153 of the drainage means. The drain valve 153 is controlled so as to be closed.

ステップST106において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように通常添加処理を実行する。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。通常添加処理により、循環水W2に対する薬剤W3(防食剤)の濃度は所定の基準濃度値に維持される。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。   In step ST106, the control unit 100 executes a normal addition process so that a predetermined amount of the medicine W3 is added to the circulating water W2. In the present embodiment, the medicine supply device 134 adds to the circulating water W2 an amount of medicine W3 (predetermined amount of medicine W3) proportional to the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM. By the normal addition process, the concentration of the drug W3 (anticorrosive) with respect to the circulating water W2 is maintained at a predetermined reference concentration value. Thereby, the process of this flowchart is complete | finished.

(第2水質制御)
本実施形態の水処理システム1において、水質制御部としての制御部100が実行する第2水質制御の動作を、図3に示すフローチャートを参照して説明する。図3に示すフローチャートの処理は、水処理システム1の運転中において、繰り返し実行される。
(Second water quality control)
In the water treatment system 1 of this embodiment, the operation | movement of the 2nd water quality control which the control part 100 as a water quality control part performs is demonstrated with reference to the flowchart shown in FIG. The process of the flowchart shown in FIG. 3 is repeatedly executed during operation of the water treatment system 1.

図3に示すステップST201において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の腐食速度CRと、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第2腐食速度閾値TCR2とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、腐食速度CRとして分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。   In step ST201 shown in FIG. 3, the control unit 100 detects the corrosion rate CR of the circulating water W2 detected by the corrosion rate sensor 140, the cooling tower 120 (storage unit 122), the circulating water supply line L111, the cooled device 131, and A second corrosion rate threshold value TCR2 as a threshold value for determining whether or not corrosion of the circulating water recovery line L112 or the like is progressing is acquired from the internal memory of the control unit 100. In the present embodiment, the control unit 100 acquires the latest value of the corrosion rates continuously detected by the polarization resistance method as the corrosion rate CR.

ステップST202において、制御部100は、腐食速度CRが第2腐食速度閾値TCR2以上か否かを判定する。腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST203へ移行する。腐食速度CR<第2腐食速度閾値TCR2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST201へ戻る。   In step ST202, the control unit 100 determines whether or not the corrosion rate CR is equal to or greater than the second corrosion rate threshold TCR2. When it is determined that the corrosion rate CR is equal to or greater than the second corrosion rate threshold value TCR2 (YES), the process proceeds to step ST203. If it is determined that (corrosion rate CR <second corrosion rate threshold value TCR2) (NO), the process returns to step ST201.

ステップST203(ステップST202:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第2薬剤濃度閾値TM2とを、制御部100の内部メモリから取得する。   In step ST203 (step ST202: YES), the control unit 100 determines the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133 and the second drug concentration threshold TM2 as a threshold for determining the deterioration of the agent. Obtained from 100 internal memories.

ステップST204において、制御部100は、薬剤濃度Mが第2薬剤濃度閾値TM2以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第2薬剤濃度閾値TM2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST205へ移行する。薬剤濃度M<第2薬剤濃度閾値TM2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST201へ戻る。   In step ST204, the control unit 100 determines whether or not the drug concentration M is greater than or equal to the second drug concentration threshold TM2. If it is determined that drug concentration M ≧ second drug concentration threshold value TM2 (YES), the process proceeds to step ST205. If it is determined that the drug concentration M <the second drug concentration threshold value TM2 (NO), the process returns to step ST201.

なお、腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2(ステップST202:YES)であり、且つ、薬剤濃度M≧第2薬剤濃度閾値TM2(ステップST204:YES)である場合には、腐食速度は高く検出されているにもかかわらず、薬剤濃度Mは高く検出されているため、剤が劣化していると認められる。一方で、腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2(ステップST202:YES)であり、且つ、薬剤濃度M<第2薬剤濃度閾値TM2(ステップST204:NO)である場合には、薬剤W3が不足しているために腐食速度は高く検出されており、腐食速度が高い原因が必ずしも剤の劣化とは限らないと認められる。   When corrosion rate CR ≧ second corrosion rate threshold value TCR2 (step ST202: YES) and chemical concentration M ≧ second chemical concentration threshold value TM2 (step ST204: YES), the corrosion rate is detected to be high. However, since the drug concentration M is detected high, it is recognized that the agent is deteriorated. On the other hand, if the corrosion rate CR ≧ the second corrosion rate threshold value TCR2 (step ST202: YES) and the drug concentration M <the second drug concentration threshold value TM2 (step ST204: NO), the drug W3 is insufficient. Therefore, the corrosion rate is detected to be high, and it is recognized that the cause of the high corrosion rate is not necessarily the deterioration of the agent.

ステップST205において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。   In step ST205, the control unit 100 executes a circulating water replacement process so that a predetermined amount of the circulating water W2 is replaced. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 as a makeup water unit and a drain unit. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 so that the drain valve 153 as the drain means is opened. Part of the circulating water W2 flowing through the circulating water line L110 is forcibly discharged from the second drainage line L131 of the drainage means. On the other hand, makeup water W <b> 1 is supplied to the reservoir 122 from the third makeup water line L <b> 123 of the makeup water means. Therefore, the circulating water W2 is gradually replaced with the makeup water W1. In the present embodiment, when all of the circulating water W2 is discharged from the second drain line L131 of the drainage means (that is, all the deteriorated medicine W3 is discharged), the control unit 100 causes the drainage valve 153 of the drainage means. The drain valve 153 is controlled so as to be closed.

ステップST206において、強制添加処理が実行されることにより、循環水W2に対する防食剤の濃度は、所定の基準濃度値よりもΔMだけ高い値に維持される。また、循環水W2に対するトレーサ濃度(薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度M)は、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。   In step ST206, by performing the forced addition process, the concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 is maintained at a value higher by ΔM than the predetermined reference concentration value. Further, the tracer concentration (the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133) with respect to the circulating water W2 is increased by the increase concentration ΔM from the reference concentration value.

ステップST207において、制御部100は、基準濃度値としての第2薬剤濃度閾値TM2を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)する。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。   In step ST207, the control unit 100 changes (upwards corrects) the second drug concentration threshold value TM2 as the reference concentration value to a high value (for example, a value that is higher by the increase concentration ΔM). Thereby, the process of this flowchart is complete | finished.

第1水質処理又は第2水質処理により、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。本実施形態においては、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1又は第2腐食速度閾値TCR2を上回り、且つ、薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1又は第2薬剤濃度閾値TM2を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御する。更に、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1又は第2腐食速度閾値TCR2を上回り、且つ、薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1又は第2薬剤濃度閾値TM2を上回る場合に、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。   By the first water quality treatment or the second water quality treatment, the control unit 100 as the water quality control unit replaces a predetermined amount of the circulating water W2 when the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds a predetermined value. The replenishing means (for example, the drain valve 153) and the drain means (for example, the drain valve 153) are controlled as described above, or the medicine supply device 134 is controlled so that a predetermined amount of the medicine W3 is added. In the present embodiment, the control unit 100 as the water quality control unit has a corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 that exceeds the first corrosion rate threshold value TCR1 or the second corrosion rate threshold value TCR2, and the chemical concentration sensor 133. When the drug concentration M detected in (1) exceeds the first drug concentration threshold value TM1 or the second drug concentration threshold value TM2, a replenishing means (for example, a drain valve 153) and a drain means ( For example, the drain valve 153) is controlled. Further, the control unit 100 as the water quality control unit detects that the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds the first corrosion rate threshold value TCR1 or the second corrosion rate threshold value TCR2 and is detected by the chemical concentration sensor 133. When the drug concentration M exceeds the first drug concentration threshold value TM1 or the second drug concentration threshold value TM2, the drug supply device 134 is controlled so that a predetermined amount of the drug W3 is added.

上述の通り、第1水質制御と第2水質制御とは適宜に択一して実行される。また、第1水質制御では通常添加処理が行われるのに対し、第2水質制御では強制添加処理が行われる点が、異なっている。また、第1水質制御と第2水質制御とは、薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)の変更の有無が異なっている。また、第1水質制御では第1腐食速度閾値TCR1が第1水質制御の閾値となっているのに対し、第2水質制御では第2腐食速度閾値TCR2が第2水質制御の閾値となっている点が、異なっている。   As described above, the first water quality control and the second water quality control are executed by appropriately selecting one. The first water quality control is different from the normal addition process in the second water quality control in that the forced addition process is performed. In addition, the first water quality control and the second water quality control differ in whether or not the drug concentration threshold (second drug concentration threshold TM2) is changed. In the first water quality control, the first corrosion rate threshold value TCR1 is a threshold value for the first water quality control, whereas in the second water quality control, the second corrosion rate threshold value TCR2 is a threshold value for the second water quality control. The point is different.

制御部100が第2水質制御を実行する場合には、制御部100は、薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)を変更するため、基準濃度値としての薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)が適切な値に設定されていない場合であっても、基準濃度値としての第2薬剤濃度閾値TM2を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)し、新しく設定(上方修正)した管理濃度での第2水質制御を実行できる。   When the control unit 100 executes the second water quality control, the control unit 100 changes the drug concentration threshold (second drug concentration threshold TM2), so that the drug concentration threshold (second drug concentration threshold) is used as the reference concentration value. Even if TM2) is not set to an appropriate value, the second drug concentration threshold value TM2 as the reference concentration value is changed to a higher value (for example, a value higher by the increased concentration ΔM) (upward correction) The second water quality control at the newly set (upward correction) management concentration can be executed.

制御部100が第2水質制御を実行する場合には、強制添加処理が行われることから、通常添加処理よりも多くの薬剤W3が循環水W2に添加される。従って、腐食速度を大きく低下させることができる。そのため、第2水質制御の閾値となる第2腐食速度CR2を、例えば、第1水質制御の閾値となる第1腐食速度CR1よりも高い値に設定することができる。なお、2水質制御の閾値となる第2腐食速度CR2が高い値に設定されるほど、第2水質処理制御が行われる頻度が低くなり、循環水入替処理が頻繁に行われることを抑制できる。これによれば、制御部100は、循環水入替処理の頻度を抑制しつつ、新しく設定した管理濃度での第2水質処理を実行できる。なお、これらに限定されず、第1腐食速度閾値TCR1及び第2腐食速度閾値TCR2は、適宜に設定されてもよい。   When the control unit 100 executes the second water quality control, the forced addition process is performed, so that more medicine W3 is added to the circulating water W2 than the normal addition process. Therefore, the corrosion rate can be greatly reduced. Therefore, the second corrosion rate CR2 that is the threshold value for the second water quality control can be set to a value that is higher than, for example, the first corrosion rate CR1 that is the threshold value for the first water quality control. In addition, the frequency where 2nd water quality treatment control is performed becomes low, and it can suppress that circulating water replacement processing is performed frequently, so that 2nd corrosion rate CR2 used as the threshold value of 2 water quality control is set to a high value. According to this, the control part 100 can perform the 2nd water quality process by the newly set management density | concentration, suppressing the frequency of a circulating water replacement process. In addition, it is not limited to these, The 1st corrosion rate threshold value TCR1 and the 2nd corrosion rate threshold value TCR2 may be set suitably.

上述した第1実施形態に係る水処理システム1によれば、例えば、以下のような効果が奏される。   According to the water treatment system 1 which concerns on 1st Embodiment mentioned above, the following effects are show | played, for example.

第1実施形態の水処理システム1は、被冷却装置131へ供給するための循環水W2及び被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する冷却塔120と、循環水W2を冷却塔120と被冷却装置131との間で循環させる循環水ラインL110と、循環水W2に補給水W1を供給する補給手段(補給水ラインL120、補給水バルブ136等)と、循環水W2に薬剤W3を添加する薬剤供給装置134と、循環水W2を冷却塔120から排出する排水手段(第1排水ラインL130、第2排水ラインL131、排水バルブ153等)と、薬剤濃度Mを検出する薬剤濃度センサ133と、冷却塔120の腐食速度CRを検出する腐食速度センサ140と、を備える。また、濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるように、例えば、水処理剤添加手段(薬剤供給装置134)を制御する。また、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。   The water treatment system 1 of the first embodiment includes a cooling tower 120 that cools the circulating water W2 to be supplied to the cooled apparatus 131 and the circulating water W2 that is returned from the cooled apparatus 131, and the circulating water W2 is cooled to the cooling tower 120. A circulating water line L110 that circulates between the cooling device 131 and the cooled device 131, a replenishing means that supplies the replenishing water W1 to the circulating water W2 (a replenishing water line L120, a replenishing water valve 136, etc.), and a chemical W3 to the circulating water W2. Drug supply device 134 to be added, drainage means (first drainage line L130, second drainage line L131, drainage valve 153, etc.) for discharging circulating water W2 from cooling tower 120, and drug concentration sensor 133 for detecting drug concentration M And a corrosion rate sensor 140 that detects the corrosion rate CR of the cooling tower 120. Further, the control unit 100 as the concentration control unit controls, for example, the water treatment agent adding means (the drug supply device 134) so that the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133 becomes the reference concentration value. In addition, the control unit 100 as a water quality control unit supplies replenishing means (for example, a drain valve) so that a predetermined amount of circulating water W2 is replaced when the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds a predetermined value. 153) and the drainage means (for example, drainage valve 153), or the medicine supply device 134 is controlled so that a predetermined amount of medicine W3 is added.

そのため、制御部100は、循環水W2に対する防食剤の濃度の低下を腐食速度CRの増加として検出し、第1水質処理又は第2水質処理を実行することができる。これによれば、循環水W2に対する防食剤の濃度を容易に管理できる。   Therefore, the control part 100 can detect the fall of the density | concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 as an increase in the corrosion rate CR, and can perform a 1st water quality process or a 2nd water quality process. According to this, the density | concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 can be managed easily.

また、薬剤供給装置134によって添加される薬剤W3は、蛍光トレーサを含み、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、薬剤濃度Mを検出する。これによれば、より正確に薬剤濃度Mを検出できる。   The drug W3 added by the drug supply device 134 includes a fluorescent tracer, and the drug concentration sensor 133 as a concentration detection unit detects the drug concentration M based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water W2. According to this, the drug concentration M can be detected more accurately.

また、腐食速度センサ140として銅(Cu)製の腐食速度センサを用いた場合、冷却塔120における銅(Cu)の腐食速度をより正確に検出できる。   When a corrosion rate sensor made of copper (Cu) is used as the corrosion rate sensor 140, the corrosion rate of copper (Cu) in the cooling tower 120 can be detected more accurately.

また、腐食速度センサ140として鉄(Fe)製の腐食速度センサを用いた場合、冷却塔120における鉄(Fe)の腐食速度をより正確に検出できる。   Further, when a corrosion rate sensor made of iron (Fe) is used as the corrosion rate sensor 140, the corrosion rate of iron (Fe) in the cooling tower 120 can be detected more accurately.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態に係る水処理システムについて説明する。図4は、第2実施形態に係る水処理システム1Aを示す概略構成図である。第2実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第2実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第2実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
(Second Embodiment)
A water treatment system according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a water treatment system 1A according to the second embodiment. In the second embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described. In the second embodiment, the same or equivalent components as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals. In the second embodiment, the description overlapping with the first embodiment is omitted as appropriate.

図4に示すように、第2実施形態に係る水処理システム1Aは、主な構成として、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133に代えて、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2を備える点が、第1実施形態に係る水処理システム1と異なっている。   As shown in FIG. 4, the water treatment system 1 </ b> A according to the second embodiment has, as a main configuration, a first electrical conductivity sensor EC <b> 1 as a concentration detection unit and a drug concentration sensor 133 as a concentration detection unit. The point provided with 2nd electrical conductivity sensor EC2 differs from the water treatment system 1 which concerns on 1st Embodiment.

第1電気伝導率センサEC1は、循環水ラインL110を流通する循環水W2の電気伝導率を検出して、第1検出電気伝導率E1として出力する装置である。第1電気伝導率センサEC1は、循環水供給ラインL111に接続されている。第1電気伝導率センサEC1は、循環水ポンプ132と被冷却装置131との間を流通する循環水W2の電気伝導率を所定の時間間隔(又はリアルタイム)で検出する。第1電気伝導率センサEC1は、例えば、第2電気伝導率センサEC2、流量センサFM及び制御部100と電気的に接続されている。   The first electrical conductivity sensor EC1 is a device that detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing through the circulating water line L110 and outputs the detected electrical conductivity as the first detected electrical conductivity E1. The first electrical conductivity sensor EC1 is connected to the circulating water supply line L111. The first electrical conductivity sensor EC1 detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing between the circulating water pump 132 and the cooled device 131 at a predetermined time interval (or real time). The first electrical conductivity sensor EC1 is electrically connected to, for example, the second electrical conductivity sensor EC2, the flow rate sensor FM, and the control unit 100.

第2電気伝導率センサEC2は、補給水ラインL120を流通する循環水W2の電気伝導率を検出して、第2検出電気伝導率E2として出力する装置である。第2電気伝導率センサEC2は、第1補給水ラインL121に接続されている。第2電気伝導率センサEC2は、補給水W1の供給源(図示せず)と流量センサFMとの間を流通する補給水W1の電気伝導率を所定の時間間隔(又はリアルタイム)で検出する。第2電気伝導率センサEC2は、例えば、第1電気伝導率センサEC1、流量センサFM及び制御部100と電気的に接続されている。   The second electrical conductivity sensor EC2 is a device that detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing through the makeup water line L120 and outputs the detected electrical conductivity as the second detected electrical conductivity E2. The second electrical conductivity sensor EC2 is connected to the first makeup water line L121. The second electrical conductivity sensor EC2 detects the electrical conductivity of the makeup water W1 flowing between the supply source (not shown) of the makeup water W1 and the flow rate sensor FM at a predetermined time interval (or real time). The second electrical conductivity sensor EC2 is electrically connected to, for example, the first electrical conductivity sensor EC1, the flow rate sensor FM, and the control unit 100.

また、第2実施形態に係る薬剤W3Aには蛍光トレーサが含まれない点が、第1実施形態に係る薬剤W3と異なっている。   Further, the medicine W3A according to the second embodiment is different from the medicine W3 according to the first embodiment in that a fluorescent tracer is not included.

第2実施形態に係る水処理システム1Aの濃度検出手段について説明する。
第2実施形態に係る水処理システム1Aにおいて、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は互いに電気的に接続されており、協働して、濃縮倍率検出手段及び濃度検出手段として機能する。この第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、第1実施形態に係る薬剤濃度センサ133と同等の機能を有する。詳細には、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された循環水W2の濃縮倍率とに基づいて、循環水W2に対する薬剤W3Aの濃度(薬剤濃度M)を検出する。
The concentration detection means of the water treatment system 1A according to the second embodiment will be described.
In the water treatment system 1A according to the second embodiment, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 are electrically connected to each other, and in cooperation, the concentration magnification detection unit and the concentration detection unit. Function as. The first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 have a function equivalent to that of the drug concentration sensor 133 according to the first embodiment. Specifically, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as the concentration detection means are supplied with the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM and the first electrical conductivity sensor as the concentration ratio detection means. Based on the concentration rate of the circulating water W2 detected by the conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2, the concentration of the drug W3A (drug concentration M) with respect to the circulating water W2 is detected.

濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、循環水W2の濃縮倍率Nを検出する。例えば、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、循環水W2の濃縮倍率Nを、下記の式(1)に基づいて演算する。
N=E1÷E2 (1)
N:循環水W2の濃縮倍率[−]
E1:第1検出電気伝導率[mS/m]
E2:第2検出電気伝導率[mS/m]
The first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as the concentration magnification detecting means detect the concentration magnification N of the circulating water W2. For example, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 calculate the concentration factor N of the circulating water W2 based on the following formula (1).
N = E1 ÷ E2 (1)
N: Concentration magnification of circulating water W2 [−]
E1: First detected electric conductivity [mS / m]
E2: Second detected electric conductivity [mS / m]

更に、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMで検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率Nに基づいて、薬剤濃度Mを検出する。例えば、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、薬剤濃度Mを下記の式(2)に基づいて演算する。
M=W×D×N÷V (2)
M:循環水W2に対する防食剤の濃度[mg/L]
W:薬剤W3Aの投入量[mL]
D:薬剤W3Aに対する防食剤の密度[mg/mL]
N:循環水W2の濃縮倍率[−]
V:補給水W1の供給量[L]
Further, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as the concentration detection means calculate the drug concentration M based on the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM and the concentration factor N. To detect. For example, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 calculate the drug concentration M based on the following formula (2).
M = W × D × N ÷ V (2)
M: Concentration of anticorrosive to circulating water W2 [mg / L]
W: Amount of drug W3A input [mL]
D: Density of anticorrosive agent against drug W3A [mg / mL]
N: Concentration magnification of circulating water W2 [−]
V: Supply amount of makeup water W1 [L]

制御部100は、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された薬剤濃度Mを記憶する。   The control unit 100 stores the drug concentration M detected by the first electric conductivity sensor EC1 and the second electric conductivity sensor EC2.

また、第2実施形態に係る水処理システム1Aにおいて、第1実施形態に係る水処理システム1と同等の通常添加処理、強制添加処理、第1水質制御及び第2水質制御等が実行される。   In addition, in the water treatment system 1A according to the second embodiment, normal addition processing, forced addition processing, first water quality control, second water quality control, and the like equivalent to the water treatment system 1 according to the first embodiment are executed.

上述した第2実施形態に係る水処理システム1Aは、補給水W1の供給量を検出する流量センサFMと、循環水W2の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2と、を更に備え、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3Aを添加し、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された循環水W2の濃縮倍率とに基づいて、循環水W2に対する薬剤W3Aの濃度を検出する。   The water treatment system 1A according to the second embodiment described above includes a flow rate sensor FM that detects the supply amount of the makeup water W1, and a first electrical conductivity sensor EC1 as a concentration magnification detection unit that detects a concentration factor of the circulating water W2. And the second electrical conductivity sensor EC2, and the drug supply device 134 adds the drug W3A in an amount proportional to the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM to the circulating water W2. The first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as detection means include the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM, the first electrical conductivity sensor EC1 as the concentration factor detection means, and Based on the concentration rate of the circulating water W2 detected by the second electrical conductivity sensor EC2, the concentration of the medicine W3A with respect to the circulating water W2 is detected.

第2実施形態の水処理システム1Aによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と同等の効果が奏される。
更に、第2実施形態の水処理システム1Aによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と比較して、薬剤濃度センサ133を設置しなくてよいこと、及び薬剤W3Aに蛍光トレーサを含ませなくてよいことから、水処理システム1Aの導入及びメンテナンスに伴うコストを低減できる。
According to the water treatment system 1A of the second embodiment, the same effect as the water treatment system 1 according to the first embodiment is exhibited.
Furthermore, according to the water treatment system 1A of the second embodiment, compared to the water treatment system 1 according to the first embodiment, it is not necessary to install the drug concentration sensor 133, and the drug W3A includes a fluorescent tracer. This eliminates the need to reduce the costs associated with the introduction and maintenance of the water treatment system 1A.

また、第2実施形態の水処理システム1Aにおいて、被冷却装置131の負荷が低い状態で循環水W2が循環する場合(冬場等)には、濃度検出手段は、濃縮倍率を1として薬剤濃度Mを検出してもよい。この場合、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2を設置しなくてよいことから、水処理システム1Aの導入及びメンテナンスに伴うコストを更に低減できる。   In addition, in the water treatment system 1A of the second embodiment, when the circulating water W2 circulates in a state where the load of the apparatus to be cooled 131 is low (in winter, etc.), the concentration detection means sets the concentration magnification to 1 and the drug concentration M May be detected. In this case, since it is not necessary to install the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2, costs associated with the introduction and maintenance of the water treatment system 1A can be further reduced.

(第3実施形態)
本発明の第3実施形態に係る水処理システムについて説明する。第3実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第3実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第3実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
(Third embodiment)
A water treatment system according to a third embodiment of the present invention will be described. In the third embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described. In the third embodiment, the same or equivalent components as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals. In the third embodiment, the description overlapping with that of the first embodiment is omitted as appropriate.

第3実施形態に係る水処理システムは、水質制御部としての制御部100が第3水質制御を実行する点が、第1実施形態に係る水処理システム1と異なっている。なお、第3実施形態において実行される第3水質制御は、第1実施形態において実行される第1水質制御及び第2水質制御を直列的に実行するものであるともいえる。具体的には、第3実施形態において実行される第3水質制御は、第1水質制御における薬剤管理濃度が低い値に設定され、且つ、循環水の入替処理によっても腐食速度の低下が認められなかった場合に、第2水質制御と同様の強制添加処理を実行するものであるともいえる。   The water treatment system according to the third embodiment is different from the water treatment system 1 according to the first embodiment in that the control unit 100 as a water quality control unit executes the third water quality control. In addition, it can be said that the 3rd water quality control performed in 3rd Embodiment performs the 1st water quality control and 2nd water quality control performed in 1st Embodiment in series. Specifically, in the third water quality control executed in the third embodiment, the chemical management concentration in the first water quality control is set to a low value, and a decrease in the corrosion rate is also recognized by the replacement process of the circulating water. If not, it can be said that the forced addition process similar to the second water quality control is executed.

(第3水質制御)
第3実施形態に係る水処理システムにおいて、水質制御部としての制御部100が実行する第3水質制御の動作を、図5に示すフローチャートを参照して説明する。図5は、第3実施形態に係る水処理システムにおいて、第3水質制御の動作を示すフローチャートである。図5に示すフローチャートの処理は、第3実施形態に係る水処理システムの運転中において、繰り返し実行される。
(Third water quality control)
The operation | movement of the 3rd water quality control which the control part 100 as a water quality control part performs in the water treatment system which concerns on 3rd Embodiment is demonstrated with reference to the flowchart shown in FIG. FIG. 5 is a flowchart showing the operation of the third water quality control in the water treatment system according to the third embodiment. The process of the flowchart shown in FIG. 5 is repeatedly executed during operation of the water treatment system according to the third embodiment.

図5に示すステップST301において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の第1腐食速度CR1と、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第1腐食速度閾値TCR1とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、第1腐食速度閾値TCR1として分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。   In step ST301 shown in FIG. 5, the control unit 100 detects the first corrosion rate CR1 of the circulating water W2 detected by the corrosion rate sensor 140, the cooling tower 120 (reservoir 122), the circulating water supply line L111, and the apparatus to be cooled. 131 and the first corrosion rate threshold value TCR1 as a threshold value for determining whether or not the corrosion of the circulating water recovery line L112 or the like is progressing are acquired from the internal memory of the control unit 100. In the present embodiment, the control unit 100 acquires the latest value among the corrosion rates continuously detected by the polarization resistance method as the first corrosion rate threshold TCR1.

ステップST302において、制御部100は、第1腐食速度CR1が第1腐食速度閾値TCR1以上か否かを判定する。第1腐食速度CR1≧第1腐食速度閾値TCR1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST303へ移行する。第1腐食速度CR1<第1腐食速度閾値TCR1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST301へ戻る。   In step ST302, the control unit 100 determines whether or not the first corrosion rate CR1 is equal to or greater than the first corrosion rate threshold TCR1. If it is determined that the first corrosion rate CR1 ≧ the first corrosion rate threshold value TCR1 (YES), the process proceeds to step ST303. If it is determined that (first corrosion rate CR1 <first corrosion rate threshold TCR1) (NO), the process returns to step ST301.

ステップST303(ステップST302:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第3薬剤濃度閾値TM3とを、制御部100の内部メモリから取得する。   In step ST303 (step ST302: YES), the control unit 100 displays the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133 and the third drug concentration threshold TM3 as a threshold for determining the deterioration of the agent. Obtained from 100 internal memories.

ステップST304において、制御部100は、薬剤濃度Mが第3薬剤濃度閾値TM3以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第3薬剤濃度閾値TM3である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST305へ移行する。薬剤濃度M<第3薬剤濃度閾値TM3である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST301へ戻る。   In step ST304, the control unit 100 determines whether or not the drug concentration M is greater than or equal to the third drug concentration threshold value TM3. If it is determined that drug concentration M ≧ third drug concentration threshold value TM3 (YES), the process proceeds to step ST305. If it is determined that the drug concentration M <the third drug concentration threshold value TM3 (NO), the process returns to step ST301.

ステップST305において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。   In step ST305, the control unit 100 executes a circulating water replacement process so that a predetermined amount of the circulating water W2 is replaced. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 as a makeup water unit and a drain unit. In the present embodiment, the control unit 100 controls the drain valve 153 so that the drain valve 153 as the drain means is opened. Part of the circulating water W2 flowing through the circulating water line L110 is forcibly discharged from the second drainage line L131 of the drainage means. On the other hand, makeup water W <b> 1 is supplied to the reservoir 122 from the third makeup water line L <b> 123 of the makeup water means. Therefore, the circulating water W2 is gradually replaced with the makeup water W1. In the present embodiment, when all of the circulating water W2 is discharged from the second drain line L131 of the drainage means (that is, all the deteriorated medicine W3 is discharged), the control unit 100 causes the drainage valve 153 of the drainage means. The drain valve 153 is controlled so as to be closed.

ステップST306において、制御部100は、腐食速度センサ140で新たに検出される循環水W2の第2腐食速度CR2と、基準濃度値が適切な値であるか否かを判定するための閾値としての第2腐食速度閾値TCR2とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、第2腐食速度閾値TCR2として分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。   In step ST306, the control unit 100 uses the second corrosion rate CR2 of the circulating water W2 newly detected by the corrosion rate sensor 140 and a threshold for determining whether or not the reference concentration value is an appropriate value. The second corrosion rate threshold value TCR2 is acquired from the internal memory of the control unit 100. In the present embodiment, the control unit 100 acquires the latest value among the corrosion rates continuously detected by the polarization resistance method as the second corrosion rate threshold TCR2.

ステップST307において、制御部100は、第2腐食速度CR2が第2腐食速度閾値TCR2以下か否かを判定する。第2腐食速度CR2≦第2腐食速度閾値TCR2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST308へ移行する。第2腐食速度CR2>第2腐食速度閾値TCR2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST310へ移行する。   In step ST307, the control unit 100 determines whether or not the second corrosion rate CR2 is equal to or less than the second corrosion rate threshold TCR2. If it is determined that second corrosion rate CR2 ≦ second corrosion rate threshold TCR2 (YES), the process proceeds to step ST308. If it is determined that the second corrosion rate CR2> the second corrosion rate threshold TCR2 (NO), the process proceeds to step ST310.

ステップST308(ステップST307:YES)において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように通常添加処理を実行する。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。通常添加処理により、循環水W2に対する薬剤W3(防食剤)の濃度は所定の基準濃度値に維持される。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。   In step ST308 (step ST307: YES), the control unit 100 executes a normal addition process so that a predetermined amount of the medicine W3 is added to the circulating water W2. In the present embodiment, the medicine supply device 134 adds to the circulating water W2 an amount of medicine W3 (predetermined amount of medicine W3) proportional to the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM. By the normal addition process, the concentration of the drug W3 (anticorrosive) with respect to the circulating water W2 is maintained at a predetermined reference concentration value. Thereby, the process of this flowchart is complete | finished.

ステップST309(ステップST307:NO)において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように強制添加処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するための薬剤W3の添加量を、所定量の薬剤W3として演算する。また、薬剤供給装置134は、循環水W2に、演算された添加量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されることによって、薬剤濃度Mは、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。   In step ST309 (step ST307: NO), the control unit 100 executes the forcible addition process so that a predetermined amount of the medicine W3 is added to the circulating water W2. In the present embodiment, the control unit 100 calculates, as a predetermined amount of drug W3, the amount of drug W3 added for increasing the drug concentration M by an increase concentration ΔM from the reference concentration value. Further, the medicine supply device 134 adds the calculated amount of medicine W3 (predetermined amount of medicine W3) to the circulating water W2. By adding a predetermined amount of drug W3 to the circulating water W2, the drug concentration M increases by an increase concentration ΔM from the reference concentration value.

ステップST309において、強制添加処理が実行されることにより、循環水W2に対する防食剤の濃度は、所定の基準濃度値に維持される。一方で、循環水W2に対するトレーサ濃度(薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度M)は、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。   In step ST309, the forced addition process is executed, so that the concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 is maintained at a predetermined reference concentration value. On the other hand, the tracer concentration (the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133) with respect to the circulating water W2 increases by an increase concentration ΔM from the reference concentration value.

ステップST310において、制御部100は、基準濃度値が適切な値に設定されていたかの判定を行い、基準濃度値としての第3薬剤濃度閾値TM3を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)する。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。   In step ST310, the control unit 100 determines whether the reference concentration value has been set to an appropriate value, and sets the third drug concentration threshold value TM3 as the reference concentration value to a high value (for example, a value that is higher by the increase concentration ΔM). Change to (upward correction). Thereby, the process of this flowchart is complete | finished.

上述した第3実施形態に係る水処理システムによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と同様の効果が奏される。   According to the water treatment system which concerns on 3rd Embodiment mentioned above, there exists an effect similar to the water treatment system 1 which concerns on 1st Embodiment.

また、第3実施形態における制御部100は、薬剤濃度Mが第3薬剤濃度閾値TM3以上か否かを判定する(ステップST304)。この第3薬剤濃度閾値TM3は、適宜に変更(上方修正)される値である(ステップST304)。これにより、制御部100は、最適な薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)に基づいて、第3水質処理を実行できる。   Moreover, the control part 100 in 3rd Embodiment determines whether the chemical | medical agent density | concentration M is more than 3rd chemical | medical agent concentration threshold value TM3 (step ST304). The third drug concentration threshold value TM3 is a value that is appropriately changed (upward correction) (step ST304). Thereby, the control part 100 can perform a 3rd water quality process based on the optimal chemical | medical agent concentration threshold value (3rd chemical | medical agent concentration threshold value TM3).

また、第3実施形態における制御部100が第3水質制御を実行する場合には、制御部100は、薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)を変更するため、基準濃度値としての薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)が適切な値に設定されていない場合には、基準濃度値としての第3薬剤濃度閾値TM3を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)し、新しく設定(上方修正)した管理濃度での第3水質制御を実行できる。   Moreover, when the control part 100 in 3rd Embodiment performs 3rd water quality control, since the control part 100 changes a chemical | medical agent concentration threshold value (3rd chemical | medical agent concentration threshold value TM3), the chemical | medical agent density | concentration as a reference | standard density | concentration value If the threshold value (third drug concentration threshold value TM3) is not set to an appropriate value, the third drug concentration threshold value TM3 as the reference concentration value is changed to a high value (for example, a value that is higher by the increase concentration ΔM) ( The third water quality control can be executed with the management concentration newly set (upward correction) and newly set (upward correction).

また、第3実施形態における制御部100が第3水質制御を実行する場合には、第2腐食速度CR2が第2腐食速度閾値TCR2を下回らない(ステップST307:NO)と判定された場合には、強制添加処理が実行される(ステップST309)。強制添加処理では、通常添加処理よりも多くの薬剤W3が循環水W2に添加される。従って、腐食速度を大きく低下させることができる。そのため、例えば、第3水質制御の閾値となる第1腐食速度CR1を、高い値に設定することができる。なお、3水質制御の閾値となる第3腐食速度CR3が高い値に設定されるほど、第3水質処理制御が行われる頻度が低くなり、循環水入替処理が頻繁に行われることを抑制できる。これによれば、制御部100は、循環水入替処理の頻度を抑制しつつ、新しく設定した管理濃度での第3水質処理を実行できる。   Moreover, when the control part 100 in 3rd Embodiment performs 3rd water quality control, when it determines with 2nd corrosion rate CR2 not falling below 2nd corrosion rate threshold value TCR2 (step ST307: NO). The forced addition process is executed (step ST309). In the forced addition process, a larger amount of medicine W3 is added to the circulating water W2 than in the normal addition process. Therefore, the corrosion rate can be greatly reduced. Therefore, for example, the first corrosion rate CR1 that is the threshold value for the third water quality control can be set to a high value. In addition, the frequency with which 3rd water quality process control is performed becomes low, and it can suppress that a circulating water replacement process is performed frequently, so that 3rd corrosion rate CR3 used as the threshold value of 3 water quality control is set to a high value. According to this, the control part 100 can perform the 3rd water quality process by the newly set management density | concentration, suppressing the frequency of a circulating water replacement process.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention can be implemented with a various form, without being limited to embodiment mentioned above.

例えば、薬剤供給装置134が、循環水W2に防食剤等の水処理剤を供給する例について説明した。しかし、循環水W2に供給される水処理剤は、防食剤に限定されない。循環水W2に供給される水処理剤は、スケール分散剤又はスライム防止剤でもよい。また、薬剤供給装置134とは異なる装置が、循環水W2にスケール分散剤及びスライム防止剤を供給してもよい。   For example, an example in which the chemical supply device 134 supplies a water treatment agent such as an anticorrosive to the circulating water W2 has been described. However, the water treatment agent supplied to the circulating water W2 is not limited to the anticorrosive agent. The water treatment agent supplied to the circulating water W2 may be a scale dispersant or an antislime agent. Further, an apparatus different from the chemical supply apparatus 134 may supply the scale dispersant and the slime inhibitor to the circulating water W2.

また、制御部100が、単独で濃度制御部及び水質制御部として機能する例について説明した。しかし、制御部100と他の制御部が協働して濃度制御部及び水質制御部として機能してもよい。例えば、薬剤供給装置134の内部に設置される制御装置(図示しない)が循環水W2に薬剤W3を供給する処理(通常添加処理、強制添加処理)を実行してもよい。   Moreover, the example which the control part 100 functions as a density | concentration control part and a water quality control part independently was demonstrated. However, the control unit 100 and other control units may function in cooperation with each other as a concentration control unit and a water quality control unit. For example, a control device (not shown) installed inside the medicine supply device 134 may execute processing (normal addition processing, forced addition processing) for supplying the medicine W3 to the circulating water W2.

また、腐食速度センサ140は、分極抵抗法により腐食速度CRを検出する例について説明したが、分極抵抗法によらず他の方法によって腐食速度を検出してもよい。例えば、腐食速度センサ140は、電気抵抗法及び電気化学ノイズ法等の電気的な検出方法や、テストピースを用いた検出方法によって腐食速度CRを検出してもよい。なお、電気的な検出方法を用いることにより、腐食速度CRをリアルタイムで精度よく、連続的に検出できる。   Moreover, although the corrosion rate sensor 140 demonstrated the example which detects the corrosion rate CR by a polarization resistance method, you may detect a corrosion rate by another method irrespective of a polarization resistance method. For example, the corrosion rate sensor 140 may detect the corrosion rate CR by an electrical detection method such as an electric resistance method and an electrochemical noise method, or a detection method using a test piece. In addition, the corrosion rate CR can be continuously detected with high accuracy in real time by using an electrical detection method.

また、濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるように、薬剤供給装置134を制御する例について説明した。これに限定されずに、制御部100は、薬剤濃度Mを基準濃度値となるように他の手段を制御してもよい。具体的には、制御部100は、薬剤濃度Mが基準値となるように補給水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)又は排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)を制御してもよい。また、制御部100は、薬剤濃度Mを基準濃度値となるように、補給水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)、薬剤供給装置134及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)のいずれか二つ以上を制御することによって薬剤濃度Mが基準値となるようにしてもよい。   Moreover, the control part 100 as a density | concentration control part demonstrated the example which controls the chemical | medical agent supply apparatus 134 so that the chemical | medical agent density | concentration M detected by the chemical | medical agent concentration sensor 133 may become a reference | standard density | concentration value. Without being limited thereto, the control unit 100 may control other means so that the drug concentration M becomes the reference concentration value. Specifically, the control unit 100 controls the replenishing water means (replenishing water valve 136 and drainage valve 153) or the draining means (replenishing water valve 136 and drainage valve 153) so that the drug concentration M becomes the reference value. Also good. Further, the control unit 100 supplies the replenishing water means (replenishing water valve 136 and drainage valve 153), the medicine supply device 134 and the draining means (replenishing water valve 136 and drainage valve 153) so that the drug concentration M becomes the reference concentration value. The drug concentration M may be set to the reference value by controlling any two or more of the above.

また、水質制御部としての制御部100は、薬剤濃度Mを取得せずに、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御を実行してもよい。例えば、非常手段として腐食速度CRが異常に高い値を示した場合には、薬剤濃度Mを取得せずに循環水入替処理等を実行してもよい。   Moreover, the control part 100 as a water quality control part may perform 1st water quality control, 2nd water quality control, and 3rd water quality control, without acquiring the chemical | medical agent density | concentration M. For example, when the corrosion rate CR shows an abnormally high value as an emergency means, the circulating water replacement process or the like may be executed without acquiring the drug concentration M.

また、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御において、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御し、且つ、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する例について説明した。これに限定されず、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するが、薬剤供給装置134を制御しなくてもよく、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御するが、補給手段及び排水手段を制御しなくてもよい。   Further, in the first water quality control, the second water quality control, and the third water quality control, the control unit 100 as the water quality control unit has a predetermined value when the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds a predetermined value. The replenishing means (for example, the drain valve 153) and the drain means (for example, the drain valve 153) are controlled so that the amount of circulating water W2 is replaced, and the medicine supply device 134 is added so that a predetermined amount of the medicine W3 is added. An example of controlling the above has been described. The control unit 100 as the water quality control unit is not limited to this, and the replenishing means (a replenishing unit (2) so that a predetermined amount of the circulating water W2 is replaced when the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 exceeds a predetermined value. For example, the drainage valve 153) and the drainage means (for example, the drainage valve 153) are controlled, but the drug supply apparatus 134 may not be controlled, or the drug supply apparatus is added so that a predetermined amount of the drug W3 is added. Although 134 is controlled, it is not necessary to control the replenishing means and the draining means.

また、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御において、水質制御部としての制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御することによって循環水入替処理を実行する例について説明した。これに限定されず、制御部100は他の手段を制御することによって循環水入替処理を実行してもよい。例えば、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての補給水バルブ136を制御することによって循環水入替処理を実行してもよい。   In the first water quality control, the second water quality control, and the third water quality control, the control unit 100 as the water quality control unit executes the circulating water replacement process by controlling the drain valve 153 as the makeup water unit and the drain unit. The example to do was demonstrated. It is not limited to this, The control part 100 may perform a circulating water replacement | exchange process by controlling another means. For example, the control unit 100 may perform the circulating water replacement process by controlling the makeup water valve 136 as the makeup water means and the drainage means.

また、補給手段は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)又は被冷却装置131に設置されてよい。また、排水手段は、循環水供給ラインL111又は被冷却装置131に設置されてもよい。また、腐食速度検出手段は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)又は被冷却装置131に設置されてもよい。   Further, the replenishing means may be installed in the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water recovery line L112) or the cooled device 131. Further, the drainage means may be installed in the circulating water supply line L111 or the apparatus to be cooled 131. Further, the corrosion rate detection means may be installed in the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water recovery line L112) or the cooled device 131.

また、第1実施形態における腐食速度センサ140の検出する腐食速度CRは、冷却塔120の腐食速度CRではなく、例えば、被冷却装置131又は循環水ラインL110の腐食速度CRを検出してもよい。   Further, the corrosion rate CR detected by the corrosion rate sensor 140 in the first embodiment is not the corrosion rate CR of the cooling tower 120, but may be, for example, the corrosion rate CR of the cooled device 131 or the circulating water line L110. .

また、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサが用いられる例について説明した。しかし、腐食速度センサ140は、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサでなくてもよい。また、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製のセンサ及び鉄(Fe)製の腐食速度センサを併用してもよい。この場合、制御部100は、銅(Cu)製の腐食速度センサによって検出される銅センサ腐食速度と、鉄(Fe)製の腐食速度センサによって検出される鉄センサ腐食速度のうち、高い値を示した腐食速度に基づいて、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御を実行してもよい。   Further, an example in which a corrosion rate sensor made of copper (Cu) or a corrosion rate sensor made of iron (Fe) is used as the corrosion rate sensor 140 has been described. However, the corrosion rate sensor 140 may not be a corrosion rate sensor made of copper (Cu) or a corrosion rate sensor made of iron (Fe). Further, as the corrosion rate sensor 140, a copper (Cu) sensor and an iron (Fe) corrosion rate sensor may be used in combination. In this case, the control unit 100 sets a high value among the copper sensor corrosion rate detected by the copper (Cu) corrosion rate sensor and the iron sensor corrosion rate detected by the iron (Fe) corrosion rate sensor. Based on the indicated corrosion rate, the first water quality control, the second water quality control, and the third water quality control may be executed.

また第1水質制御、第2水質処理及び第3水質処理において、循環水入替処理によって、循環水W2の全てが補給水W1と入れ替わる例について説明した。しかし、循環水入替処理によって、必ずしも循環水W2の全てが補給水W1と入れ替わらなくてもよい。例えば、循環水入替処理によって循環水W2の総量の半分が補給水W1と入れ替わってもよい。   In the first water quality control, the second water quality process, and the third water quality process, the example in which all of the circulating water W2 is replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process has been described. However, not all of the circulating water W2 is necessarily replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process. For example, half of the total amount of the circulating water W2 may be replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process.

また、第1実施形態における薬剤濃度センサ133は、循環水W2の蛍光トレーサ濃度を検出できるのであれば、貯留部122の底部に接続される必要はなく、例えば、循環水供給ラインL111に接続されていてもよい。   Further, the drug concentration sensor 133 in the first embodiment does not need to be connected to the bottom of the storage unit 122 as long as it can detect the fluorescent tracer concentration of the circulating water W2, and is connected to the circulating water supply line L111, for example. It may be.

また、第2実施形態における第1電気伝導率センサEC1は、循環水W2の電気伝導率を検出できるのであれば、循環水供給ラインL111に接続される必要はなく、例えば、貯留部122の底部に接続されていてもよい。同様に、第2電気伝導率センサEC2は、補給水W1の電気伝導率を検出できるのであれば、第1補給水ラインL121に接続される必要はなく、例えば、第2補給水ラインL122に接続されていてもよい。   Further, the first electrical conductivity sensor EC1 in the second embodiment does not need to be connected to the circulating water supply line L111 as long as the electrical conductivity of the circulating water W2 can be detected. It may be connected to. Similarly, the second electrical conductivity sensor EC2 need not be connected to the first makeup water line L121 as long as it can detect the electrical conductivity of the makeup water W1, for example, connected to the second makeup water line L122. May be.

また、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3を添加する、通常添加処理を実行する例について説明した。言い換えれば、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に基づいて、薬剤W3を添加する例について説明した。これに限定されず、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量によらないで薬剤W3を添加してもよい。   Further, the example in which the medicine supply device 134 performs the normal addition process in which the medicine W3 is added to the circulating water W2 in an amount proportional to the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM has been described. In other words, the example in which the medicine supply device 134 adds the medicine W3 to the circulating water W2 based on the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM has been described. Without being limited thereto, the medicine supply device 134 may add the medicine W3 to the circulating water W2 without depending on the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM.

また、第1実施形態においては、薬剤濃度センサ133が、薬剤濃度Mを検出(演算)する例について説明した。同様に、第2実施形態における第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、薬剤濃度Mを検出(演算)する例について説明した。しかし、薬剤濃度Mを演算する装置は、薬剤濃度センサ133と、電気伝導率センサ(第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2)とに限定されない。例えば、制御部100が、薬剤濃度センサ133で検出される蛍光トレーサ濃度等に基づいて演算を行ってもよく、制御部100以外の演算装置が演算を行ってもよい。   In the first embodiment, the example in which the drug concentration sensor 133 detects (calculates) the drug concentration M has been described. Similarly, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 in the second embodiment have been described with respect to the example in which the drug concentration M is detected (calculated). However, the device for calculating the drug concentration M is not limited to the drug concentration sensor 133 and the electric conductivity sensors (the first electric conductivity sensor EC1 and the second electric conductivity sensor EC2). For example, the control unit 100 may perform calculation based on the fluorescence tracer concentration detected by the drug concentration sensor 133, or a calculation device other than the control unit 100 may perform calculation.

1 水処理システム
100 制御部(濃度制御部、水質制御部)
120 冷却塔
131 被冷却装置
133 薬剤濃度センサ(濃度検出手段)
134 薬剤供給装置(水処理剤添加手段)
136 補給水バルブ(補給手段、排水手段)
140 腐食速度センサ(腐食速度検出手段)
153 排水バルブ(排水手段)
FM 流量センサ(補給水供給量検出手段)
EC1 第1電気伝導率センサ(濃縮倍率検出手段、濃度検出手段)
EC2 第2電気伝導率センサ(濃縮倍率検出手段、濃度検出手段)
L110 循環水ライン
L120 補給水ライン(補給手段)
L130 第1排水ライン(排水手段)
L131 第2排水ライン(排水手段)
W1 補給水
W2 循環水
W3、W3A 薬剤
1 Water treatment system 100 Control unit (concentration control unit, water quality control unit)
120 Cooling tower 131 Cooled device 133 Drug concentration sensor (concentration detection means)
134 Drug supply device (water treatment agent addition means)
136 Supply water valve (Supplying means, draining means)
140 Corrosion rate sensor (corrosion rate detection means)
153 Drain valve (drainage means)
FM Flow sensor (Supply water supply amount detection means)
EC1 first electrical conductivity sensor (concentration magnification detection means, concentration detection means)
EC2 Second electrical conductivity sensor (concentration magnification detection means, concentration detection means)
L110 Circulating water line L120 Makeup water line (Supplying means)
L130 1st drainage line (drainage means)
L131 Second drainage line (drainage means)
W1 makeup water W2 circulating water W3, W3A medicine

Claims (5)

被冷却装置へ供給するための循環水及び前記被冷却装置から返送される循環水を冷却する冷却塔と、
循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、
循環水に補給水を供給する補給手段と、
循環水に水処理剤を添加する水処理剤添加手段と、
循環水を前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置から排出する排水手段と、
循環水に対する水処理剤の濃度を検出する濃度検出手段と、
前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置の腐食速度を検出する腐食速度検出手段と、
前記濃度検出手段によって検出された水処理剤の濃度が基準濃度値となるように、前記補給手段、前記水処理剤添加手段及び前記排水手段のうちの一つ以上を制御する濃度制御部と、
前記腐食速度検出手段によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水が入れ替わるように前記補給手段及び前記排水手段を制御するか、又は、所定の量の水処理剤が添加されるように前記水処理剤添加手段を制御する水質制御部と、を備える水処理システム。
A cooling tower for cooling the circulating water to be supplied to the cooled apparatus and the circulating water returned from the cooled apparatus;
A circulating water line for circulating circulating water between the cooling tower and the cooled device;
Replenishment means for supplying makeup water to the circulating water;
Water treatment agent addition means for adding a water treatment agent to the circulating water;
Drainage means for discharging circulating water from the cooling tower, the circulating water line or the cooled device;
Concentration detecting means for detecting the concentration of the water treatment agent relative to the circulating water;
Corrosion rate detection means for detecting the corrosion rate of the cooling tower, the circulating water line or the cooled device;
A concentration control unit that controls one or more of the replenishing means, the water treatment agent adding means, and the draining means so that the concentration of the water treatment agent detected by the concentration detection means becomes a reference concentration value;
When the corrosion rate detected by the corrosion rate detection unit exceeds a predetermined threshold, the replenishment unit and the drainage unit are controlled so that a predetermined amount of circulating water is replaced, or a predetermined amount of water treatment is performed. A water treatment system comprising: a water quality control unit that controls the water treatment agent addition means so that the agent is added.
前記水処理剤添加手段によって添加される水処理剤は、蛍光トレーサを含み、
前記濃度検出手段は、循環水に対する前記蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する、請求項1に記載の水処理システム。
The water treatment agent added by the water treatment agent addition means includes a fluorescent tracer,
The water treatment system according to claim 1, wherein the concentration detection means detects the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water.
補給水の供給量を検出する補給水供給量検出手段と、
循環水の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段と、を更に備え、
前記水処理剤添加手段は、循環水に、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量に比例した量の水処理剤を添加し、
前記濃度検出手段は、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量と、前記濃縮倍率検出手段によって検出された循環水の濃縮倍率とに基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する、請求項1又は2に記載の水処理システム
A makeup water supply amount detecting means for detecting a makeup water supply amount;
A concentration magnification detecting means for detecting the concentration rate of circulating water;
The water treatment agent adding means adds, to the circulating water, an amount of water treatment agent proportional to the supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means,
The concentration detection means is configured to supply a water treatment agent for circulating water based on a supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means and a concentration ratio of circulating water detected by the concentration magnification detection means. The water treatment system of Claim 1 or 2 which detects a density | concentration.
前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも銅の腐食速度を検出する、請求項1〜3のいずれかに記載の水処理システム。   The said corrosion rate detection means is a water treatment system in any one of Claims 1-3 which detects the corrosion rate of at least copper among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus. 前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも鉄の腐食速度を検出する、請求項1〜4のいずれかに記載の水処理システム。   The said corrosion rate detection means is a water treatment system in any one of Claims 1-4 which detects the corrosion rate of at least iron among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus.
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