JP2017180985A - Water treatment system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、循環水を冷却塔と被冷却装置の間で循環させる水処理システムに関する。 The present invention relates to a water treatment system that circulates circulating water between a cooling tower and a device to be cooled.
商業ビル、工業プラント等において、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置(冷却負荷装置)を冷却するために、冷却水が用いられる。冷却水は、その節約を図る観点から、冷却塔で冷却しながら循環して用いられる(以下、循環する冷却水を適宜に「循環水」ともいう)。循環水は、循環水ライン(循環水供給ライン及び循環水回収ライン)を介して、冷却塔と被冷却装置との間を循環する。 In commercial buildings, industrial plants, etc., cooling water is used to cool a device to be cooled (cooling load device) such as a heat exchanger incorporated in an air conditioner or a refrigerator. From the viewpoint of saving the cooling water, the cooling water is circulated and used while being cooled in the cooling tower (hereinafter, the circulating cooling water is also referred to as “circulated water” as appropriate). The circulating water circulates between the cooling tower and the apparatus to be cooled through the circulating water line (the circulating water supply line and the circulating water recovery line).
水処理システムにおいて、循環水を継続的に循環させると、循環水の水質が徐々に悪化し、冷却能力を低下させる種々の水トラブルが発生する。そこで、循環水の水質を改善するために、スライム防止剤や防食剤等の水処理剤を主に循環水ラインに添加することが行われている。 In the water treatment system, when the circulating water is continuously circulated, the quality of the circulating water gradually deteriorates and various water troubles that reduce the cooling capacity occur. Therefore, in order to improve the quality of the circulating water, water treatment agents such as a slime inhibitor and an anticorrosive agent are mainly added to the circulating water line.
これらの水処理剤は、常時一定濃度以上を維持しなければ十分な効果を発揮しない。一方、水処理剤の過剰注入は経済的に無駄であると共に、弊害をもたらすこともある。従って、水処理剤を使用する場合には、使用目的が最も効果的、且つ、経済的に達成されるように、循環水中の薬剤濃度を管理することが望ましい。 These water treatment agents do not exhibit sufficient effects unless they are constantly maintained at a certain concentration or higher. On the other hand, excessive injection of the water treatment agent is economically wasteful and may cause harmful effects. Therefore, when a water treatment agent is used, it is desirable to control the concentration of the drug in the circulating water so that the purpose of use is achieved most effectively and economically.
循環水の水質を改善するためのスライム防止剤の添加方法に関して、循環水ラインの腐食速度が一定範囲内になるように、薬剤の添加量を調整するスライム抑制方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1は、ハロゲン系酸化物を含む薬剤の添加により腐食速度が増すことを利用して薬剤の添加量を腐食速度をもって調整するというものである。しかしながら、すべての薬剤が腐食速度と関係があるとは言えず、薬剤の種類によっては必ずしも有効とは言えない。さらに薬剤が長期間滞留し劣化した場合の薬剤の管理は困難である。 Regarding the addition method of the anti-slime agent for improving the quality of the circulating water, a slime suppression method that adjusts the addition amount of the drug so that the corrosion rate of the circulating water line is within a certain range has been proposed (for example, Patent Document 1). Japanese Patent Laid-Open No. 2004-228561 uses the fact that the corrosion rate is increased by the addition of a chemical containing a halogen-based oxide to adjust the amount of the chemical added with the corrosion rate. However, not all drugs are related to corrosion rate, and depending on the type of drug, it is not necessarily effective. Furthermore, it is difficult to manage the drug when the drug stays for a long time and deteriorates.
また、水処理剤と共に蛍光トレーサを循環水に添加し、循環水に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に添加した水処理剤の濃度を管理する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2によれば、水処理システムは、循環水に対する蛍光トレーサの濃度変化と循環水に対する薬剤の濃度変化を対応させることにより、循環水に対する水処理剤の濃度を管理している。 Further, a method has been proposed in which a fluorescent tracer is added to circulating water together with a water treatment agent, and the concentration of the water treatment agent added to the circulating water is managed based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water (for example, Patent Documents). 2). According to Patent Document 2, the water treatment system manages the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water by associating the concentration change of the fluorescent tracer with respect to the circulating water and the concentration change of the chemical with respect to the circulating water.
しかしながら、循環水が循環水ラインを循環する過程において、水処理剤は、循環水ライン等に含まれる有機物をはじめとした種々の成分と反応するため、水処理剤の有効成分濃度は低下する(以下、水処理剤が、循環水ライン等に含まれる種々の成分と反応すること等により、水処理剤の有効成分濃度が低下することを「剤の劣化」ともいう)。そのため、例えば、長期間にわたって循環水が循環水ラインを循環した場合には、剤の劣化が進行し、循環水に対する蛍光トレーサの濃度変化と循環水に対する薬剤の有効成分濃度の変化とを対応させることは、困難となる。従って、特許文献2に記載された技術を用いても、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理することは、困難である。 However, in the process in which the circulating water circulates in the circulating water line, the water treatment agent reacts with various components including organic substances contained in the circulating water line and the like, so that the effective component concentration of the water treatment agent decreases ( Hereinafter, when the water treatment agent reacts with various components contained in the circulating water line or the like, the decrease in the active ingredient concentration of the water treatment agent is also referred to as “agent deterioration”). Therefore, for example, when the circulating water circulates in the circulating water line for a long period of time, the deterioration of the agent proceeds, and the change in the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water corresponds to the change in the concentration of the active ingredient of the drug with respect to the circulating water. It becomes difficult. Therefore, even using the technique described in Patent Document 2, it is difficult to easily manage the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water.
本発明は、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理できる水処理システムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the water treatment system which can manage the density | concentration of the water treatment agent with respect to circulating water easily.
本発明は、被冷却装置へ供給するための循環水及び前記被冷却装置から返送される循環水を冷却する冷却塔と、循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、循環水に補給水を供給する補給手段と、循環水に水処理剤を添加する水処理剤添加手段と、循環水を前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置から排出する排水手段と、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する濃度検出手段と、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置の腐食速度を検出する腐食速度検出手段と、前記濃度検出手段によって検出された水処理剤の濃度が基準濃度値となるように、前記補給手段、前記水処理剤添加手段及び前記排水手段のうちの一つ以上を制御する濃度制御部と、前記腐食速度検出手段によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水が入れ替わるように前記補給手段及び前記排水手段を制御するか、又は、所定の量の水処理剤が添加されるように前記水処理剤添加手段を制御する水質制御部と、を備える水処理システムに関する。 The present invention provides a cooling tower for cooling circulating water to be supplied to the apparatus to be cooled, circulating water returned from the apparatus to be cooled, and circulation for circulating the circulating water between the cooling tower and the apparatus to be cooled. A water line, replenishing means for supplying makeup water to the circulating water, water treatment agent adding means for adding a water treatment agent to the circulating water, and discharging the circulating water from the cooling tower, the circulating water line or the device to be cooled. Draining means, concentration detecting means for detecting the concentration of the water treatment agent relative to the circulating water, corrosion rate detecting means for detecting the corrosion rate of the cooling tower, the circulating water line or the apparatus to be cooled, and the concentration detecting means A concentration control unit for controlling one or more of the replenishing means, the water treatment agent adding means, and the draining means so that the concentration of the water treatment agent detected by the step becomes a reference concentration value; and the corrosion rate detection Detected by means When the corrosion rate exceeds a predetermined threshold, the replenishing means and the draining means are controlled so that a predetermined amount of circulating water is replaced, or the predetermined amount of water treatment agent is added. The present invention relates to a water treatment system comprising a water quality control unit that controls water treatment agent addition means.
また、前記水処理剤添加手段によって添加される水処理剤は、蛍光トレーサを含み、前記濃度検出手段は、循環水に対する前記蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出することが好ましい。 The water treatment agent added by the water treatment agent addition means includes a fluorescent tracer, and the concentration detection means detects the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water. It is preferable to do.
また、補給水の供給量を検出する補給水供給量検出手段と、循環水の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段と、を更に備え、前記水処理剤添加手段は、循環水に、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量に比例した量の水処理剤を添加し、前記濃度検出手段は、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量と、前記濃縮倍率検出手段によって検出された循環水の濃縮倍率とに基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出することが好ましい。 Further, the apparatus further comprises a makeup water supply amount detection means for detecting the supply amount of makeup water, and a concentration magnification detection means for detecting the concentration ratio of circulating water, wherein the water treatment agent addition means supplies the replenishment water to the supplement An amount of water treatment agent proportional to the supply amount of makeup water detected by the water supply amount detection means is added, and the concentration detection means includes a supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means, It is preferable to detect the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration rate of the circulating water detected by the concentration ratio detecting means.
また、前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも銅の腐食速度を検出することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said corrosion rate detection means detects the corrosion rate of at least copper among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus.
また、前記腐食速度検出手段は、前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置に含まれる金属のうち少なくとも鉄の腐食速度を検出することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said corrosion rate detection means detects the corrosion rate of at least iron among the metals contained in the said cooling tower, the said circulating water line, or the said to-be-cooled apparatus.
本発明によれば、循環水に対する水処理剤の濃度を容易に管理できる水処理システムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the water treatment system which can manage the density | concentration of the water treatment agent with respect to circulating water easily can be provided.
以下、本発明の水処理システムの実施形態について説明する。
(第1実施形態)
第1実施形態に係る水処理システムについて、図面を参照して説明する。図1は、第1実施形態に係る水処理システム1を示す概略構成図である。
Hereinafter, embodiments of the water treatment system of the present invention will be described.
(First embodiment)
The water treatment system according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. Drawing 1 is a schematic structure figure showing water treatment system 1 concerning a 1st embodiment.
図1に示すように、第1実施形態に係る水処理システム1は、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置131を冷却するために、循環水W2(冷却水)を循環させるシステムである。循環水W2は、その節約を図る観点から、冷却塔120で冷却しながら循環して用いられる。本実施形態において、冷却塔120は、いわゆる開放式冷却塔である。
As shown in FIG. 1, the water treatment system 1 according to the first embodiment circulates water W2 (cooling water) in order to cool a cooled
本実施形態の水処理システム1は、主な構成として、冷却塔120と、被冷却装置131と、補給手段(補給水ラインL120、補給水バルブ136、)と、排水手段(第1排水ラインL130、第2排水ラインL131、排水バルブ153)と、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133と、水処理剤添加手段としての薬剤供給装置134と、腐食速度検出手段としての腐食速度センサ140と、補給水供給量検出手段としての流量センサFMと、制御部100と、を備える。補給水バルブ136は排水手段としても機能する場合があり、排水バルブ153は補給手段としても機能する場合がある。
The water treatment system 1 of the present embodiment includes, as main components, a
なお、図1(及び後述する図4)において、制御部100と被制御対象装置との電気的接続線の図示については、省略している。また、水処理システム1は、主なラインとして、循環水ラインL110と、補給水ラインL120と、第1排水ラインL130と、第2排水ラインL131を備える。なお、「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
In addition, in FIG. 1 (and FIG. 4 mentioned later), illustration of the electrical connection line of the
冷却塔120は、被冷却装置131へ供給するための循環水W2及び被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する設備である。詳細には、冷却塔120は、補給水W1が供給されると共に、補給水W1を循環水W2として被冷却装置131へ供給し、被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する設備である。冷却塔120は、塔本体121と、貯留部122と、を備える。
The
塔本体121は、冷却塔120の外郭を形成する筐体である。塔本体121は、散水部、ファン、開口部、ルーバー、充填材等からなる循環水冷却部(図示せず)を有する。塔本体121の下部には、貯留部122が設けられている。循環水W2は、循環水冷却部により冷却され、貯留部122に落下する。
The tower
貯留部122は、循環水冷却部で冷却された循環水W2を貯留する部位である。貯留部122は、塔本体121の下部に設けられている。貯留部122の底部には、循環水ラインL110(後述する循環水供給ラインL111)が接続されている。貯留部122に貯留された循環水W2は、循環水供給ラインL111を介して被冷却装置131へ供給される。また、貯留部122の内部には、第1排水ラインL130の上流側の端部としてのオーバフロー口138が配置されている。貯留部122には、給水栓137、薬剤濃度センサ133及び腐食速度センサ140が設けられている。
The
濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する水処理剤(薬剤)の濃度(以下、「薬剤濃度M」ともいう)を検出する装置である。詳細には、薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、薬剤濃度Mを検出(演算)する。例えば、薬剤濃度センサ133は、薬剤濃度センサ133で検出された蛍光トレーサの濃度に、比例定数Aを乗じた値を薬剤濃度Mとして演算する。本実施形態においては、薬剤濃度センサ133は、貯留部122の底部に接続されている。薬剤濃度センサ133は、制御部100と電気的に接続されている。薬剤濃度センサ133によって検出された薬剤濃度Mは、制御部100へ送信される。薬剤濃度センサ133は、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で蛍光トレーサ濃度を検出し、制御部100へ薬剤濃度Mを送信する。制御部100は、受信した薬剤濃度Mを記憶する。
The
腐食速度センサ140は、冷却塔120(貯留部122)の腐食速度(以下、「腐食速度CR」ともいう)を検出する装置である。本実施形態においては、腐食速度センサ140は、貯留部122に貯留された循環水W2を用いて、分極抵抗法により冷却塔120(貯留部122の腐食速度CRを検出する装置である。具体的には、腐食速度センサ140は、貯留部122の底部に接続されている。腐食速度センサ140が貯留部122の腐食速度を分極抵抗法で検出することにより、貯留部122の腐食速度は連続的に検出される。腐食速度センサ140は、制御部100と電気的に接続されている。腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRは、制御部100へ送信される。腐食速度センサ140は、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で腐食速度CRを検出し、制御部100へ腐食速度CRを送信する。
The
腐食速度センサ140は、所定の間隔を空けて設置されている一対の電極(図示せず)を備えている。本実施形態において、一対の電極は、銅(Cu)製の電極又は鉄(Fe)製の電極である(以下において、電極が銅(Cu)製である腐食速度センサを「銅(Cu)製の腐食速度センサ」ともいい、電極が鉄(Fe)製である腐食速度センサを「鉄(Fe)製の腐食速度センサ」ともいう)。即ち、本実施形態においては、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサが用いられる。腐食速度センサ140は、貯留部122に貯留された循環水W2に一対の電極を浸し、電極間に電圧を印加することで、分極抵抗(腐食反応抵抗、電荷移動抵抗)を測定し、冷却塔120(貯留部122)の腐食速度CRを検出する。
The
銅(Cu)製の腐食速度センサは、冷却塔120に含まれる銅(Cu)の腐食速度を検出する。鉄(Fe)製の腐食速度センサは、冷却塔120に含まれる鉄(Fe)の腐食速度を検出する。
The copper (Cu) corrosion rate sensor detects the corrosion rate of copper (Cu) contained in the
循環水ラインL110は、循環水W2を冷却塔120と被冷却装置131との間で循環させるラインである。循環水ラインL110は、循環水供給ラインL111と、循環水回収ラインL112を有する。
The circulating water line L110 is a line that circulates the circulating water W2 between the
循環水供給ラインL111は、冷却塔120の貯留部122と被冷却装置131とを接続する。貯留部122に貯留された循環水W2は、循環水供給ラインL111を介して被冷却装置131に供給される。循環水供給ラインL111の途中には、循環水ポンプ132が設けられている。また、循環水供給ラインL111には、薬剤供給装置134が設けられている。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水ポンプ132よりも下流側の循環水供給ラインL111に接続されている。
The circulating water supply line L111 connects the
循環水ポンプ132は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)の上流側から下流側へ向けて、循環水W2を吐出する。循環水ポンプ132は、制御部100と電気的に接続されている。循環水ポンプ132の運転(駆動及び停止)は、制御部100から出力されるポンプ運転信号により制御される。
The circulating
薬剤供給装置134は、循環水W2に水処理剤を供給する装置である。本実施形態において、薬剤供給装置134は、通常添加処理(後述)及び強制添加処理(後述)により、循環水供給ラインL111を流通する循環水W2に、防食剤(蛍光トレーサが配合される)を含んだ薬剤(以下、「薬剤W3」ともいう)を供給する。つまり、薬剤供給装置134は、循環水W2に薬剤W3を添加し、薬剤供給装置134によって添加される薬剤W3は、蛍光トレーサを含む。
The
銅(Cu)成分の腐食速度を低下させる防食剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体を含む防食剤が用いられ、例えば、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール等を含む防食剤が挙げられる。 As an anticorrosive which reduces the corrosion rate of a copper (Cu) component, the anticorrosive containing a benzotriazole derivative is used, For example, the anticorrosive containing benzotriazole, tolyltriazole, mercaptobenzothiazole etc. is mentioned.
鉄(Fe)成分の腐食速度を低下させる防食剤としては、カルボン酸系の素材、アクリル酸系の素材又は重金属系の素材を含む防食剤が用いられる。例えば、カルボン酸系の素材として、マレイン酸重合物、ホスフィノカルボン酸共重合物、ビス(ポリ‐2‐カルボキシエチル)ホスフィン酸等を含む防食剤が挙げられる。アクリル酸系の素材として、アクリル酸重合物、アクリル酸共重合物(例えば、ヒドロキシプロピルアクリレート共重合物)等を含む防食剤が挙げられる。重金属系の素材として、モリブデンナトリウム、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛等を含む防食剤が挙げられる。 As the anticorrosive that reduces the corrosion rate of the iron (Fe) component, an anticorrosive containing a carboxylic acid-based material, an acrylic acid-based material, or a heavy metal-based material is used. Examples of the carboxylic acid-based material include an anticorrosive containing maleic acid polymer, phosphinocarboxylic acid copolymer, bis (poly-2-carboxyethyl) phosphinic acid, and the like. Examples of the acrylic material include anticorrosives including acrylic acid polymer, acrylic acid copolymer (for example, hydroxypropyl acrylate copolymer), and the like. Examples of heavy metal materials include anticorrosives including sodium molybdenum, zinc sulfate, and zinc nitrate.
また、薬剤W3に含まれる蛍光トレーサとしては、塩化リチウム等のリチウム塩、ピレンスルホン酸等の蛍光化合物、特定波長に吸収を持つ色素等が用いられる。 As the fluorescent tracer contained in the medicine W3, a lithium salt such as lithium chloride, a fluorescent compound such as pyrenesulfonic acid, a dye having absorption at a specific wavelength, or the like is used.
被冷却装置131は、循環水W2による冷却が必要な熱交換器等の各種装置である。被冷却装置131は、例えば、各種の化学プラントのターボ冷凍機や吸収冷凍機、建築物の空調用冷却機、食品工場の冷水製造機や真空冷却機等である。
The to-
被冷却装置131は、循環水流路(図示せず)を有する。この循環水流路には、上流側から下流側に向けて循環水W2が流通する。この循環水流路の上流側の端部は、循環水供給ラインL111の下流側の端部に接続されている。この循環水流路の下流側の端部は、循環水回収ラインL112の上流側の端部に接続されている。
The to-
循環水回収ラインL112は、被冷却装置131と冷却塔120とを接続するラインである。被冷却装置131において、熱交換により加温された循環水W2は、循環水回収ラインL112を介して冷却塔120の循環水冷却部(図示せず)に回収される。また、循環水回収ラインL112の接続部J2から、第2排水ラインL131が分岐している。
The circulating water recovery line L112 is a line that connects the cooled
また、冷却塔120には、補給水ラインL120が接続されている。循環水W2に補給水W1を供給する補給手段は、補給水ラインL120と、補給水バルブ136と、を備える。補給水ラインL120は、補給水W1を冷却塔120(貯留部122)に供給するラインである。補給水ラインL120は、第1補給水ラインL121と、第2補給水ラインL122と、第3補給水ラインL123を有する。
In addition, a makeup water line L120 is connected to the
第1補給水ラインL121は、補給水W1の供給源(図示せず)と分岐部J3とを接続するラインである。第1補給水ラインL121の上流側は、補給水W1の供給源(図示せず)に接続される。一方、第1補給水ラインL121の下流側は、分岐部J3において、第2補給水ラインL122と第3補給水ラインL123とに分岐している。第1補給水ラインL121の途中には、流量センサFMが設けられている。 The 1st makeup water line L121 is a line which connects the supply source (not shown) of makeup water W1, and branching part J3. The upstream side of the first makeup water line L121 is connected to a supply source (not shown) of makeup water W1. On the other hand, the downstream side of the first makeup water line L121 is branched into a second makeup water line L122 and a third makeup water line L123 at the branch portion J3. A flow sensor FM is provided in the middle of the first makeup water line L121.
流量センサFMは、補給水W1の供給量を検出する装置である。流量センサFMは、補給水W1の供給源(図示せず)と分岐部J3との間に配置されている。流量センサFMは、制御部100と電気的に接続されている。流量センサFMから出力されたパルス信号は、制御部100へ送信される。流量センサFMとして、例えば、流路ハウジング内に軸流羽根車又は接線羽根車(図示せず)を配置したパルス発信式の流量センサを用いることができる。
The flow sensor FM is a device that detects the supply amount of the makeup water W1. The flow sensor FM is disposed between a supply source (not shown) of the makeup water W1 and the branch portion J3. The flow sensor FM is electrically connected to the
本実施形態で用いられるパルス発信式の流量センサは、偶数枚の羽根の先端部分がN極とS極とに交互に着磁された羽根車を備え、この羽根車の回転をホールICで検出することにより、補給水W1の流速に比例した時間幅のパルス信号を出力する。ホールICは、羽根車の回転運動に伴う磁束変化に応答して、羽根車が1回転する毎に矩形波のパルス信号を供給量として出力する。そのため、制御部100では、流量センサFMから出力されるパルス信号に基づいて、補給水W1の供給量を検出することができる。
The pulse transmission type flow sensor used in this embodiment includes an impeller in which the tips of even-numbered blades are alternately magnetized with N and S poles, and the rotation of the impeller is detected by a Hall IC. By doing so, a pulse signal having a time width proportional to the flow rate of the makeup water W1 is output. In response to the change in magnetic flux accompanying the rotational movement of the impeller, the Hall IC outputs a rectangular wave pulse signal as a supply amount every time the impeller rotates once. Therefore, the
第2補給水ラインL122の下流側の端部は、冷却塔120の貯留部122に接続されている。第2補給水ラインL122において、分岐部J3と冷却塔120との間には、補給水バルブ136が設けられている。
The downstream end portion of the second makeup water line L122 is connected to the
補給水バルブ136は、第2補給水ラインL122を開閉することにより、貯留部122に対して補給水W1を強制的に供給する給水設備である。補給水バルブ136は、制御部100と電気的に接続されている。補給水バルブ136における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力される補給水バルブ駆動信号により制御される。
The
第3補給水ラインL123の下流側の端部は、冷却塔120の塔本体121に接続されている。第3補給水ラインL123の下流側の端部には、給水栓137が設けられている。給水栓137は、貯留部122に貯留される循環水W2の水位(即ち、水量)を管理するボールタップ式の給水設備である。循環水W2の蒸発や飛散損失により貯留部122の水位が低下すると、給水栓137のボールタップが作動し、第3補給水ラインL123を流通する補給水W1が貯留部122に供給される。
The downstream end of the third makeup water line L123 is connected to the
水処理システム1は、循環水W2を系外に排出するラインとして、冷却塔120に接続された第1排水ラインL130と、循環水回収ラインL112に接続された第2排水ラインL131を有する。循環水W2を冷却塔120から排出する排水手段は、第1排水ラインL130と、第2排水ラインL131と、排水バルブ153と、を備える。
The water treatment system 1 has a first drainage line L130 connected to the
第1排水ラインL130は、後述する強制補水ブローダウン処理において、補給水バルブ136が開状態となり補給水W1を強制的に供給した場合に、冷却塔120の貯留部122から溢れた循環水W2を、水処理システム1の系外に排出するラインである。第1排水ラインL130は、貯留部122の内部に接続され、下方に延びている。第1排水ラインL130の上流側の端部は、循環水W2のオーバフロー口138を形成する。オーバフロー口138は、給水栓137の管理水位よりも上方に開口している。一方、第1排水ラインL130の下流側の端部は、貯留部122の外部に通じている。
The first drain line L130 is configured to supply the circulating water W2 overflowing from the
補給水バルブ136は、第2補給水ラインL122を開閉することにより、貯留部122に対して補給水W1を強制的に供給する給水設備である。補給水バルブ136は、制御部100と電気的に接続されている。補給水バルブ136における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力されるバルブ駆動信号により制御される。
The
第2排水ラインL131には、排水バルブ153が設けられている。排水バルブ153は、制御部100と電気的に接続されている。排水バルブ153における弁体の開閉状態(開状態/閉状態)は、制御部100から出力される排水バルブ駆動信号により制御される。第2排水ラインL131は、後述する強制排水ブローダウン処理において、排水バルブ153が開状態となった場合に、循環水ラインL110から循環水W2の一部を系外に排出するラインである。第2排水ラインL131は、接続部J2において、循環水回収ラインL112に接続されている。接続部J2は、循環水回収ラインL112における被冷却装置131と冷却塔120との間に配置されている。
A
制御部100は、水処理システム1における各部の動作を制御する。制御部100の機能は、CPU及び内部メモリ含むマイクロプロセッサ(図示せず)により実現される。
The
制御部100は、例えば、循環水ポンプ132、薬剤供給装置134、補給水バルブ136及び排水バルブ153と電気的に接続される。また、制御部100は、水処理システム1の各検出装置(薬剤濃度センサ133、腐食速度センサ140、流量センサFM等)と電気的に接続され、これらの検出装置から検出情報を受信する。
The
制御部100は、薬剤濃度センサ133によって検出された薬剤W3の濃度が基準濃度値となるように、補給手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)、薬剤供給装置134及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)のうちの一つ以上を制御する濃度制御部として機能する。また、制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように水処理剤添加手段(134)を制御する水質制御部として機能する。
The
濃度制御部としての制御部100の機能の一例について説明する。
濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133が送信する薬剤濃度Mを受信(取得)する。制御部100は、受信した薬剤濃度Mが基準濃度値の下限値を下回るか否かを判定する。制御部100によって、薬剤濃度Mが基準濃度値の下限値を下回ると判定された場合には、薬剤濃度Mが基準濃度値となるように薬剤供給装置134を制御する「通常添加処理」を実行する。通常添加処理において、例えば、制御部100は、検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるための薬剤W3の添加量を演算し、演算された添加量の薬剤W3が薬剤供給装置134によって添加されるように、薬剤供給装置134を制御する。
An example of the function of the
The
なお、制御部100は、後述するように、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するように薬剤供給装置134を制御する「強制添加処理」を実行する場合がある。強制添加処理において、例えば、制御部100は、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するための薬剤W3の添加量を演算し、演算された添加量の薬剤W3が薬剤供給装置134によって添加されるように、薬剤供給装置134を制御する。
As will be described later, the
水質制御部としての制御部100の機能の一例について説明する。
水質制御部としての制御部100は、第1水質制御又は第2水質制御を実行することにより、循環水W2の水質を制御する。本実施形態においては、第1水質制御及び第2水質制御は、制御部100によって適宜に択一して実行される。
An example of the function of the
The
(第1水質制御)
本実施形態の水処理システム1において、水質制御部としての制御部100が実行する第1水質制御の動作を、図2に示すフローチャートを参照して説明する。図2は、第1実施形態に係る水処理システム1において、第1水質制御の動作を示すフローチャートである。図2に示すフローチャートの処理は、水処理システム1の運転中において、繰り返し実行される。
(First water quality control)
In the water treatment system 1 of the present embodiment, the operation of the first water quality control executed by the
図2に示すステップST101において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の腐食速度CRと、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第1腐食速度閾値TCR1とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、腐食速度CRとして分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。
In step ST101 shown in FIG. 2, the
ステップST102において、制御部100は、腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1以上か否かを判定する。腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST103へ移行する。腐食速度CR<第1腐食速度閾値TCR1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST101へ戻る。
In step ST102, the
ステップST103(ステップST102:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第1薬剤濃度閾値TM1とを、制御部100の内部メモリから取得する。なお、本実施形態における剤の劣化とは、循環水ラインL110等に含まれる金属と反応すること等により、循環水W2に対する防食剤の実際の(真の)濃度が所定の基準を下回ることをいう。
In step ST103 (step ST102: YES), the
ステップST104において、制御部100は、薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第1薬剤濃度閾値TM1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST105へ移行する。薬剤濃度M<第1薬剤濃度閾値TM1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST101へ戻る。
In step ST104, the
なお、腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1(ステップST102:YES)であり、且つ、薬剤濃度M≧第1薬剤濃度閾値TM1(ステップST104:YES)である場合には、腐食速度は高く検出されているにもかかわらず、薬剤濃度Mは高く検出されているため、剤が劣化していると認められる。一方で、腐食速度CR≧第1腐食速度閾値TCR1(ステップST102:YES)であり、且つ、薬剤濃度M<第1薬剤濃度閾値TM1(ステップST104:NO)である場合には、薬剤W3が不足しているために腐食速度は高く検出されており、腐食速度が高い原因が必ずしも剤の劣化とは限らないと認められる。 When corrosion rate CR ≧ first corrosion rate threshold TCR1 (step ST102: YES) and chemical concentration M ≧ first chemical concentration threshold TM1 (step ST104: YES), the corrosion rate is detected to be high. However, since the drug concentration M is detected high, it is recognized that the agent is deteriorated. On the other hand, when the corrosion rate CR ≧ the first corrosion rate threshold value TCR1 (step ST102: YES) and the drug concentration M <the first drug concentration threshold value TM1 (step ST104: NO), the drug W3 is insufficient. Therefore, the corrosion rate is detected to be high, and it is recognized that the cause of the high corrosion rate is not necessarily the deterioration of the agent.
ステップST105において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。
In step ST105, the
ステップST106において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように通常添加処理を実行する。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。通常添加処理により、循環水W2に対する薬剤W3(防食剤)の濃度は所定の基準濃度値に維持される。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。
In step ST106, the
(第2水質制御)
本実施形態の水処理システム1において、水質制御部としての制御部100が実行する第2水質制御の動作を、図3に示すフローチャートを参照して説明する。図3に示すフローチャートの処理は、水処理システム1の運転中において、繰り返し実行される。
(Second water quality control)
In the water treatment system 1 of this embodiment, the operation | movement of the 2nd water quality control which the
図3に示すステップST201において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の腐食速度CRと、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第2腐食速度閾値TCR2とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、腐食速度CRとして分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。
In step ST201 shown in FIG. 3, the
ステップST202において、制御部100は、腐食速度CRが第2腐食速度閾値TCR2以上か否かを判定する。腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST203へ移行する。腐食速度CR<第2腐食速度閾値TCR2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST201へ戻る。
In step ST202, the
ステップST203(ステップST202:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第2薬剤濃度閾値TM2とを、制御部100の内部メモリから取得する。
In step ST203 (step ST202: YES), the
ステップST204において、制御部100は、薬剤濃度Mが第2薬剤濃度閾値TM2以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第2薬剤濃度閾値TM2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST205へ移行する。薬剤濃度M<第2薬剤濃度閾値TM2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST201へ戻る。
In step ST204, the
なお、腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2(ステップST202:YES)であり、且つ、薬剤濃度M≧第2薬剤濃度閾値TM2(ステップST204:YES)である場合には、腐食速度は高く検出されているにもかかわらず、薬剤濃度Mは高く検出されているため、剤が劣化していると認められる。一方で、腐食速度CR≧第2腐食速度閾値TCR2(ステップST202:YES)であり、且つ、薬剤濃度M<第2薬剤濃度閾値TM2(ステップST204:NO)である場合には、薬剤W3が不足しているために腐食速度は高く検出されており、腐食速度が高い原因が必ずしも剤の劣化とは限らないと認められる。 When corrosion rate CR ≧ second corrosion rate threshold value TCR2 (step ST202: YES) and chemical concentration M ≧ second chemical concentration threshold value TM2 (step ST204: YES), the corrosion rate is detected to be high. However, since the drug concentration M is detected high, it is recognized that the agent is deteriorated. On the other hand, if the corrosion rate CR ≧ the second corrosion rate threshold value TCR2 (step ST202: YES) and the drug concentration M <the second drug concentration threshold value TM2 (step ST204: NO), the drug W3 is insufficient. Therefore, the corrosion rate is detected to be high, and it is recognized that the cause of the high corrosion rate is not necessarily the deterioration of the agent.
ステップST205において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。
In step ST205, the
ステップST206において、強制添加処理が実行されることにより、循環水W2に対する防食剤の濃度は、所定の基準濃度値よりもΔMだけ高い値に維持される。また、循環水W2に対するトレーサ濃度(薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度M)は、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。 In step ST206, by performing the forced addition process, the concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 is maintained at a value higher by ΔM than the predetermined reference concentration value. Further, the tracer concentration (the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133) with respect to the circulating water W2 is increased by the increase concentration ΔM from the reference concentration value.
ステップST207において、制御部100は、基準濃度値としての第2薬剤濃度閾値TM2を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)する。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。
In step ST207, the
第1水質処理又は第2水質処理により、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。本実施形態においては、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1又は第2腐食速度閾値TCR2を上回り、且つ、薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1又は第2薬剤濃度閾値TM2を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御する。更に、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが第1腐食速度閾値TCR1又は第2腐食速度閾値TCR2を上回り、且つ、薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度Mが第1薬剤濃度閾値TM1又は第2薬剤濃度閾値TM2を上回る場合に、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。
By the first water quality treatment or the second water quality treatment, the
上述の通り、第1水質制御と第2水質制御とは適宜に択一して実行される。また、第1水質制御では通常添加処理が行われるのに対し、第2水質制御では強制添加処理が行われる点が、異なっている。また、第1水質制御と第2水質制御とは、薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)の変更の有無が異なっている。また、第1水質制御では第1腐食速度閾値TCR1が第1水質制御の閾値となっているのに対し、第2水質制御では第2腐食速度閾値TCR2が第2水質制御の閾値となっている点が、異なっている。 As described above, the first water quality control and the second water quality control are executed by appropriately selecting one. The first water quality control is different from the normal addition process in the second water quality control in that the forced addition process is performed. In addition, the first water quality control and the second water quality control differ in whether or not the drug concentration threshold (second drug concentration threshold TM2) is changed. In the first water quality control, the first corrosion rate threshold value TCR1 is a threshold value for the first water quality control, whereas in the second water quality control, the second corrosion rate threshold value TCR2 is a threshold value for the second water quality control. The point is different.
制御部100が第2水質制御を実行する場合には、制御部100は、薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)を変更するため、基準濃度値としての薬剤濃度閾値(第2薬剤濃度閾値TM2)が適切な値に設定されていない場合であっても、基準濃度値としての第2薬剤濃度閾値TM2を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)し、新しく設定(上方修正)した管理濃度での第2水質制御を実行できる。
When the
制御部100が第2水質制御を実行する場合には、強制添加処理が行われることから、通常添加処理よりも多くの薬剤W3が循環水W2に添加される。従って、腐食速度を大きく低下させることができる。そのため、第2水質制御の閾値となる第2腐食速度CR2を、例えば、第1水質制御の閾値となる第1腐食速度CR1よりも高い値に設定することができる。なお、2水質制御の閾値となる第2腐食速度CR2が高い値に設定されるほど、第2水質処理制御が行われる頻度が低くなり、循環水入替処理が頻繁に行われることを抑制できる。これによれば、制御部100は、循環水入替処理の頻度を抑制しつつ、新しく設定した管理濃度での第2水質処理を実行できる。なお、これらに限定されず、第1腐食速度閾値TCR1及び第2腐食速度閾値TCR2は、適宜に設定されてもよい。
When the
上述した第1実施形態に係る水処理システム1によれば、例えば、以下のような効果が奏される。 According to the water treatment system 1 which concerns on 1st Embodiment mentioned above, the following effects are show | played, for example.
第1実施形態の水処理システム1は、被冷却装置131へ供給するための循環水W2及び被冷却装置131から返送される循環水W2を冷却する冷却塔120と、循環水W2を冷却塔120と被冷却装置131との間で循環させる循環水ラインL110と、循環水W2に補給水W1を供給する補給手段(補給水ラインL120、補給水バルブ136等)と、循環水W2に薬剤W3を添加する薬剤供給装置134と、循環水W2を冷却塔120から排出する排水手段(第1排水ラインL130、第2排水ラインL131、排水バルブ153等)と、薬剤濃度Mを検出する薬剤濃度センサ133と、冷却塔120の腐食速度CRを検出する腐食速度センサ140と、を備える。また、濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるように、例えば、水処理剤添加手段(薬剤供給装置134)を制御する。また、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するか、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する。
The water treatment system 1 of the first embodiment includes a
そのため、制御部100は、循環水W2に対する防食剤の濃度の低下を腐食速度CRの増加として検出し、第1水質処理又は第2水質処理を実行することができる。これによれば、循環水W2に対する防食剤の濃度を容易に管理できる。
Therefore, the
また、薬剤供給装置134によって添加される薬剤W3は、蛍光トレーサを含み、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133は、循環水W2に対する蛍光トレーサの濃度に基づいて、薬剤濃度Mを検出する。これによれば、より正確に薬剤濃度Mを検出できる。
The drug W3 added by the
また、腐食速度センサ140として銅(Cu)製の腐食速度センサを用いた場合、冷却塔120における銅(Cu)の腐食速度をより正確に検出できる。
When a corrosion rate sensor made of copper (Cu) is used as the
また、腐食速度センサ140として鉄(Fe)製の腐食速度センサを用いた場合、冷却塔120における鉄(Fe)の腐食速度をより正確に検出できる。
Further, when a corrosion rate sensor made of iron (Fe) is used as the
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態に係る水処理システムについて説明する。図4は、第2実施形態に係る水処理システム1Aを示す概略構成図である。第2実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第2実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第2実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
(Second Embodiment)
A water treatment system according to a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a
図4に示すように、第2実施形態に係る水処理システム1Aは、主な構成として、濃度検出手段としての薬剤濃度センサ133に代えて、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2を備える点が、第1実施形態に係る水処理システム1と異なっている。
As shown in FIG. 4, the water treatment system 1 </ b> A according to the second embodiment has, as a main configuration, a first electrical conductivity sensor EC <b> 1 as a concentration detection unit and a
第1電気伝導率センサEC1は、循環水ラインL110を流通する循環水W2の電気伝導率を検出して、第1検出電気伝導率E1として出力する装置である。第1電気伝導率センサEC1は、循環水供給ラインL111に接続されている。第1電気伝導率センサEC1は、循環水ポンプ132と被冷却装置131との間を流通する循環水W2の電気伝導率を所定の時間間隔(又はリアルタイム)で検出する。第1電気伝導率センサEC1は、例えば、第2電気伝導率センサEC2、流量センサFM及び制御部100と電気的に接続されている。
The first electrical conductivity sensor EC1 is a device that detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing through the circulating water line L110 and outputs the detected electrical conductivity as the first detected electrical conductivity E1. The first electrical conductivity sensor EC1 is connected to the circulating water supply line L111. The first electrical conductivity sensor EC1 detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing between the circulating
第2電気伝導率センサEC2は、補給水ラインL120を流通する循環水W2の電気伝導率を検出して、第2検出電気伝導率E2として出力する装置である。第2電気伝導率センサEC2は、第1補給水ラインL121に接続されている。第2電気伝導率センサEC2は、補給水W1の供給源(図示せず)と流量センサFMとの間を流通する補給水W1の電気伝導率を所定の時間間隔(又はリアルタイム)で検出する。第2電気伝導率センサEC2は、例えば、第1電気伝導率センサEC1、流量センサFM及び制御部100と電気的に接続されている。
The second electrical conductivity sensor EC2 is a device that detects the electrical conductivity of the circulating water W2 flowing through the makeup water line L120 and outputs the detected electrical conductivity as the second detected electrical conductivity E2. The second electrical conductivity sensor EC2 is connected to the first makeup water line L121. The second electrical conductivity sensor EC2 detects the electrical conductivity of the makeup water W1 flowing between the supply source (not shown) of the makeup water W1 and the flow rate sensor FM at a predetermined time interval (or real time). The second electrical conductivity sensor EC2 is electrically connected to, for example, the first electrical conductivity sensor EC1, the flow rate sensor FM, and the
また、第2実施形態に係る薬剤W3Aには蛍光トレーサが含まれない点が、第1実施形態に係る薬剤W3と異なっている。 Further, the medicine W3A according to the second embodiment is different from the medicine W3 according to the first embodiment in that a fluorescent tracer is not included.
第2実施形態に係る水処理システム1Aの濃度検出手段について説明する。
第2実施形態に係る水処理システム1Aにおいて、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は互いに電気的に接続されており、協働して、濃縮倍率検出手段及び濃度検出手段として機能する。この第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、第1実施形態に係る薬剤濃度センサ133と同等の機能を有する。詳細には、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された循環水W2の濃縮倍率とに基づいて、循環水W2に対する薬剤W3Aの濃度(薬剤濃度M)を検出する。
The concentration detection means of the
In the
濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、循環水W2の濃縮倍率Nを検出する。例えば、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、循環水W2の濃縮倍率Nを、下記の式(1)に基づいて演算する。
N=E1÷E2 (1)
N:循環水W2の濃縮倍率[−]
E1:第1検出電気伝導率[mS/m]
E2:第2検出電気伝導率[mS/m]
The first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as the concentration magnification detecting means detect the concentration magnification N of the circulating water W2. For example, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 calculate the concentration factor N of the circulating water W2 based on the following formula (1).
N = E1 ÷ E2 (1)
N: Concentration magnification of circulating water W2 [−]
E1: First detected electric conductivity [mS / m]
E2: Second detected electric conductivity [mS / m]
更に、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMで検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率Nに基づいて、薬剤濃度Mを検出する。例えば、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、薬剤濃度Mを下記の式(2)に基づいて演算する。
M=W×D×N÷V (2)
M:循環水W2に対する防食剤の濃度[mg/L]
W:薬剤W3Aの投入量[mL]
D:薬剤W3Aに対する防食剤の密度[mg/mL]
N:循環水W2の濃縮倍率[−]
V:補給水W1の供給量[L]
Further, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 as the concentration detection means calculate the drug concentration M based on the supply amount of the makeup water W1 detected by the flow sensor FM and the concentration factor N. To detect. For example, the first electrical conductivity sensor EC1 and the second electrical conductivity sensor EC2 calculate the drug concentration M based on the following formula (2).
M = W × D × N ÷ V (2)
M: Concentration of anticorrosive to circulating water W2 [mg / L]
W: Amount of drug W3A input [mL]
D: Density of anticorrosive agent against drug W3A [mg / mL]
N: Concentration magnification of circulating water W2 [−]
V: Supply amount of makeup water W1 [L]
制御部100は、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された薬剤濃度Mを記憶する。
The
また、第2実施形態に係る水処理システム1Aにおいて、第1実施形態に係る水処理システム1と同等の通常添加処理、強制添加処理、第1水質制御及び第2水質制御等が実行される。
In addition, in the
上述した第2実施形態に係る水処理システム1Aは、補給水W1の供給量を検出する流量センサFMと、循環水W2の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2と、を更に備え、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3Aを添加し、濃度検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量と、濃縮倍率検出手段としての第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2によって検出された循環水W2の濃縮倍率とに基づいて、循環水W2に対する薬剤W3Aの濃度を検出する。
The
第2実施形態の水処理システム1Aによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と同等の効果が奏される。
更に、第2実施形態の水処理システム1Aによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と比較して、薬剤濃度センサ133を設置しなくてよいこと、及び薬剤W3Aに蛍光トレーサを含ませなくてよいことから、水処理システム1Aの導入及びメンテナンスに伴うコストを低減できる。
According to the
Furthermore, according to the
また、第2実施形態の水処理システム1Aにおいて、被冷却装置131の負荷が低い状態で循環水W2が循環する場合(冬場等)には、濃度検出手段は、濃縮倍率を1として薬剤濃度Mを検出してもよい。この場合、第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2を設置しなくてよいことから、水処理システム1Aの導入及びメンテナンスに伴うコストを更に低減できる。
In addition, in the
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態に係る水処理システムについて説明する。第3実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。第3実施形態では、第1実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第3実施形態では、第1実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
(Third embodiment)
A water treatment system according to a third embodiment of the present invention will be described. In the third embodiment, differences from the first embodiment will be mainly described. In the third embodiment, the same or equivalent components as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals. In the third embodiment, the description overlapping with that of the first embodiment is omitted as appropriate.
第3実施形態に係る水処理システムは、水質制御部としての制御部100が第3水質制御を実行する点が、第1実施形態に係る水処理システム1と異なっている。なお、第3実施形態において実行される第3水質制御は、第1実施形態において実行される第1水質制御及び第2水質制御を直列的に実行するものであるともいえる。具体的には、第3実施形態において実行される第3水質制御は、第1水質制御における薬剤管理濃度が低い値に設定され、且つ、循環水の入替処理によっても腐食速度の低下が認められなかった場合に、第2水質制御と同様の強制添加処理を実行するものであるともいえる。
The water treatment system according to the third embodiment is different from the water treatment system 1 according to the first embodiment in that the
(第3水質制御)
第3実施形態に係る水処理システムにおいて、水質制御部としての制御部100が実行する第3水質制御の動作を、図5に示すフローチャートを参照して説明する。図5は、第3実施形態に係る水処理システムにおいて、第3水質制御の動作を示すフローチャートである。図5に示すフローチャートの処理は、第3実施形態に係る水処理システムの運転中において、繰り返し実行される。
(Third water quality control)
The operation | movement of the 3rd water quality control which the
図5に示すステップST301において、制御部100は、腐食速度センサ140で検出された循環水W2の第1腐食速度CR1と、冷却塔120(貯留部122)、循環水供給ラインL111、被冷却装置131及び循環水回収ラインL112等の腐食が進行しているか否かを判定するための閾値としての第1腐食速度閾値TCR1とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、第1腐食速度閾値TCR1として分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。
In step ST301 shown in FIG. 5, the
ステップST302において、制御部100は、第1腐食速度CR1が第1腐食速度閾値TCR1以上か否かを判定する。第1腐食速度CR1≧第1腐食速度閾値TCR1である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST303へ移行する。第1腐食速度CR1<第1腐食速度閾値TCR1である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST301へ戻る。
In step ST302, the
ステップST303(ステップST302:YES)において、制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mと、剤の劣化を判定するための閾値としての第3薬剤濃度閾値TM3とを、制御部100の内部メモリから取得する。
In step ST303 (step ST302: YES), the
ステップST304において、制御部100は、薬剤濃度Mが第3薬剤濃度閾値TM3以上か否かを判定する。薬剤濃度M≧第3薬剤濃度閾値TM3である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST305へ移行する。薬剤濃度M<第3薬剤濃度閾値TM3である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST301へ戻る。
In step ST304, the
ステップST305において、制御部100は、所定量の循環水W2が入れ替わるように循環水入替処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御する。本実施形態においては、制御部100は、排水手段としての排水バルブ153を開状態とするように排水バルブ153を制御する。循環水ラインL110を流通する循環水W2の一部は、排水手段の第2排水ラインL131から強制的に排出される。一方で、補給水手段の第3補給水ラインL123から、補給水W1は貯留部122に供給される。そのため、循環水W2は、補給水W1と徐々に入れ替わる。本実施形態においては、循環水W2の全部が排水手段の第2排水ラインL131から排出される(即ち、劣化した薬剤W3が全て排出される)と、制御部100は、排水手段の排水バルブ153を閉状態とするように排水バルブ153を制御する。
In step ST305, the
ステップST306において、制御部100は、腐食速度センサ140で新たに検出される循環水W2の第2腐食速度CR2と、基準濃度値が適切な値であるか否かを判定するための閾値としての第2腐食速度閾値TCR2とを、制御部100の内部メモリから取得する。本実施形態においては、制御部100は、第2腐食速度閾値TCR2として分極抵抗法で連続的に検出された腐食速度のうち最新の値を取得する。
In step ST306, the
ステップST307において、制御部100は、第2腐食速度CR2が第2腐食速度閾値TCR2以下か否かを判定する。第2腐食速度CR2≦第2腐食速度閾値TCR2である(YES)と判定された場合には、処理は、ステップST308へ移行する。第2腐食速度CR2>第2腐食速度閾値TCR2である(NO)と判定された場合には、処理は、ステップST310へ移行する。
In step ST307, the
ステップST308(ステップST307:YES)において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように通常添加処理を実行する。本実施形態においては、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。通常添加処理により、循環水W2に対する薬剤W3(防食剤)の濃度は所定の基準濃度値に維持される。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。
In step ST308 (step ST307: YES), the
ステップST309(ステップST307:NO)において、制御部100は、循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されるように強制添加処理を実行する。本実施形態においては、制御部100は、薬剤濃度Mが基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加するための薬剤W3の添加量を、所定量の薬剤W3として演算する。また、薬剤供給装置134は、循環水W2に、演算された添加量の薬剤W3(所定量の薬剤W3)を添加する。循環水W2に所定量の薬剤W3が添加されることによって、薬剤濃度Mは、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。
In step ST309 (step ST307: NO), the
ステップST309において、強制添加処理が実行されることにより、循環水W2に対する防食剤の濃度は、所定の基準濃度値に維持される。一方で、循環水W2に対するトレーサ濃度(薬剤濃度センサ133で検出される薬剤濃度M)は、基準濃度値よりも増加濃度ΔMだけ増加する。 In step ST309, the forced addition process is executed, so that the concentration of the anticorrosive with respect to the circulating water W2 is maintained at a predetermined reference concentration value. On the other hand, the tracer concentration (the drug concentration M detected by the drug concentration sensor 133) with respect to the circulating water W2 increases by an increase concentration ΔM from the reference concentration value.
ステップST310において、制御部100は、基準濃度値が適切な値に設定されていたかの判定を行い、基準濃度値としての第3薬剤濃度閾値TM3を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)する。これにより、本フローチャートの処理は、終了する。
In step ST310, the
上述した第3実施形態に係る水処理システムによれば、第1実施形態に係る水処理システム1と同様の効果が奏される。 According to the water treatment system which concerns on 3rd Embodiment mentioned above, there exists an effect similar to the water treatment system 1 which concerns on 1st Embodiment.
また、第3実施形態における制御部100は、薬剤濃度Mが第3薬剤濃度閾値TM3以上か否かを判定する(ステップST304)。この第3薬剤濃度閾値TM3は、適宜に変更(上方修正)される値である(ステップST304)。これにより、制御部100は、最適な薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)に基づいて、第3水質処理を実行できる。
Moreover, the
また、第3実施形態における制御部100が第3水質制御を実行する場合には、制御部100は、薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)を変更するため、基準濃度値としての薬剤濃度閾値(第3薬剤濃度閾値TM3)が適切な値に設定されていない場合には、基準濃度値としての第3薬剤濃度閾値TM3を、高い値(例えば、増加濃度ΔMだけ高い値)に変更(上方修正)し、新しく設定(上方修正)した管理濃度での第3水質制御を実行できる。
Moreover, when the
また、第3実施形態における制御部100が第3水質制御を実行する場合には、第2腐食速度CR2が第2腐食速度閾値TCR2を下回らない(ステップST307:NO)と判定された場合には、強制添加処理が実行される(ステップST309)。強制添加処理では、通常添加処理よりも多くの薬剤W3が循環水W2に添加される。従って、腐食速度を大きく低下させることができる。そのため、例えば、第3水質制御の閾値となる第1腐食速度CR1を、高い値に設定することができる。なお、3水質制御の閾値となる第3腐食速度CR3が高い値に設定されるほど、第3水質処理制御が行われる頻度が低くなり、循環水入替処理が頻繁に行われることを抑制できる。これによれば、制御部100は、循環水入替処理の頻度を抑制しつつ、新しく設定した管理濃度での第3水質処理を実行できる。
Moreover, when the
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention can be implemented with a various form, without being limited to embodiment mentioned above.
例えば、薬剤供給装置134が、循環水W2に防食剤等の水処理剤を供給する例について説明した。しかし、循環水W2に供給される水処理剤は、防食剤に限定されない。循環水W2に供給される水処理剤は、スケール分散剤又はスライム防止剤でもよい。また、薬剤供給装置134とは異なる装置が、循環水W2にスケール分散剤及びスライム防止剤を供給してもよい。
For example, an example in which the
また、制御部100が、単独で濃度制御部及び水質制御部として機能する例について説明した。しかし、制御部100と他の制御部が協働して濃度制御部及び水質制御部として機能してもよい。例えば、薬剤供給装置134の内部に設置される制御装置(図示しない)が循環水W2に薬剤W3を供給する処理(通常添加処理、強制添加処理)を実行してもよい。
Moreover, the example which the
また、腐食速度センサ140は、分極抵抗法により腐食速度CRを検出する例について説明したが、分極抵抗法によらず他の方法によって腐食速度を検出してもよい。例えば、腐食速度センサ140は、電気抵抗法及び電気化学ノイズ法等の電気的な検出方法や、テストピースを用いた検出方法によって腐食速度CRを検出してもよい。なお、電気的な検出方法を用いることにより、腐食速度CRをリアルタイムで精度よく、連続的に検出できる。
Moreover, although the
また、濃度制御部としての制御部100は、薬剤濃度センサ133で検出された薬剤濃度Mが基準濃度値となるように、薬剤供給装置134を制御する例について説明した。これに限定されずに、制御部100は、薬剤濃度Mを基準濃度値となるように他の手段を制御してもよい。具体的には、制御部100は、薬剤濃度Mが基準値となるように補給水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)又は排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)を制御してもよい。また、制御部100は、薬剤濃度Mを基準濃度値となるように、補給水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)、薬剤供給装置134及び排水手段(補給水バルブ136、排水バルブ153)のいずれか二つ以上を制御することによって薬剤濃度Mが基準値となるようにしてもよい。
Moreover, the
また、水質制御部としての制御部100は、薬剤濃度Mを取得せずに、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御を実行してもよい。例えば、非常手段として腐食速度CRが異常に高い値を示した場合には、薬剤濃度Mを取得せずに循環水入替処理等を実行してもよい。
Moreover, the
また、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御において、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御し、且つ、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御する例について説明した。これに限定されず、水質制御部としての制御部100は、腐食速度センサ140によって検出された腐食速度CRが所定の値を上回る場合に、所定の量の循環水W2が入れ替わるように補給手段(例えば、排水バルブ153)及び排水手段(例えば、排水バルブ153)を制御するが、薬剤供給装置134を制御しなくてもよく、又は、所定の量の薬剤W3が添加されるように薬剤供給装置134を制御するが、補給手段及び排水手段を制御しなくてもよい。
Further, in the first water quality control, the second water quality control, and the third water quality control, the
また、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御において、水質制御部としての制御部100は、補給水手段及び排水手段としての排水バルブ153を制御することによって循環水入替処理を実行する例について説明した。これに限定されず、制御部100は他の手段を制御することによって循環水入替処理を実行してもよい。例えば、制御部100は、補給水手段及び排水手段としての補給水バルブ136を制御することによって循環水入替処理を実行してもよい。
In the first water quality control, the second water quality control, and the third water quality control, the
また、補給手段は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)又は被冷却装置131に設置されてよい。また、排水手段は、循環水供給ラインL111又は被冷却装置131に設置されてもよい。また、腐食速度検出手段は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)又は被冷却装置131に設置されてもよい。
Further, the replenishing means may be installed in the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water recovery line L112) or the cooled
また、第1実施形態における腐食速度センサ140の検出する腐食速度CRは、冷却塔120の腐食速度CRではなく、例えば、被冷却装置131又は循環水ラインL110の腐食速度CRを検出してもよい。
Further, the corrosion rate CR detected by the
また、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサが用いられる例について説明した。しかし、腐食速度センサ140は、銅(Cu)製の腐食速度センサ又は鉄(Fe)製の腐食速度センサでなくてもよい。また、腐食速度センサ140として、銅(Cu)製のセンサ及び鉄(Fe)製の腐食速度センサを併用してもよい。この場合、制御部100は、銅(Cu)製の腐食速度センサによって検出される銅センサ腐食速度と、鉄(Fe)製の腐食速度センサによって検出される鉄センサ腐食速度のうち、高い値を示した腐食速度に基づいて、第1水質制御、第2水質制御及び第3水質制御を実行してもよい。
Further, an example in which a corrosion rate sensor made of copper (Cu) or a corrosion rate sensor made of iron (Fe) is used as the
また第1水質制御、第2水質処理及び第3水質処理において、循環水入替処理によって、循環水W2の全てが補給水W1と入れ替わる例について説明した。しかし、循環水入替処理によって、必ずしも循環水W2の全てが補給水W1と入れ替わらなくてもよい。例えば、循環水入替処理によって循環水W2の総量の半分が補給水W1と入れ替わってもよい。 In the first water quality control, the second water quality process, and the third water quality process, the example in which all of the circulating water W2 is replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process has been described. However, not all of the circulating water W2 is necessarily replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process. For example, half of the total amount of the circulating water W2 may be replaced with the makeup water W1 by the circulating water replacement process.
また、第1実施形態における薬剤濃度センサ133は、循環水W2の蛍光トレーサ濃度を検出できるのであれば、貯留部122の底部に接続される必要はなく、例えば、循環水供給ラインL111に接続されていてもよい。
Further, the
また、第2実施形態における第1電気伝導率センサEC1は、循環水W2の電気伝導率を検出できるのであれば、循環水供給ラインL111に接続される必要はなく、例えば、貯留部122の底部に接続されていてもよい。同様に、第2電気伝導率センサEC2は、補給水W1の電気伝導率を検出できるのであれば、第1補給水ラインL121に接続される必要はなく、例えば、第2補給水ラインL122に接続されていてもよい。 Further, the first electrical conductivity sensor EC1 in the second embodiment does not need to be connected to the circulating water supply line L111 as long as the electrical conductivity of the circulating water W2 can be detected. It may be connected to. Similarly, the second electrical conductivity sensor EC2 need not be connected to the first makeup water line L121 as long as it can detect the electrical conductivity of the makeup water W1, for example, connected to the second makeup water line L122. May be.
また、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に比例した量の薬剤W3を添加する、通常添加処理を実行する例について説明した。言い換えれば、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量に基づいて、薬剤W3を添加する例について説明した。これに限定されず、薬剤供給装置134は、循環水W2に、流量センサFMによって検出された補給水W1の供給量によらないで薬剤W3を添加してもよい。
Further, the example in which the
また、第1実施形態においては、薬剤濃度センサ133が、薬剤濃度Mを検出(演算)する例について説明した。同様に、第2実施形態における第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2は、薬剤濃度Mを検出(演算)する例について説明した。しかし、薬剤濃度Mを演算する装置は、薬剤濃度センサ133と、電気伝導率センサ(第1電気伝導率センサEC1及び第2電気伝導率センサEC2)とに限定されない。例えば、制御部100が、薬剤濃度センサ133で検出される蛍光トレーサ濃度等に基づいて演算を行ってもよく、制御部100以外の演算装置が演算を行ってもよい。
In the first embodiment, the example in which the
1 水処理システム
100 制御部(濃度制御部、水質制御部)
120 冷却塔
131 被冷却装置
133 薬剤濃度センサ(濃度検出手段)
134 薬剤供給装置(水処理剤添加手段)
136 補給水バルブ(補給手段、排水手段)
140 腐食速度センサ(腐食速度検出手段)
153 排水バルブ(排水手段)
FM 流量センサ(補給水供給量検出手段)
EC1 第1電気伝導率センサ(濃縮倍率検出手段、濃度検出手段)
EC2 第2電気伝導率センサ(濃縮倍率検出手段、濃度検出手段)
L110 循環水ライン
L120 補給水ライン(補給手段)
L130 第1排水ライン(排水手段)
L131 第2排水ライン(排水手段)
W1 補給水
W2 循環水
W3、W3A 薬剤
1
120
134 Drug supply device (water treatment agent addition means)
136 Supply water valve (Supplying means, draining means)
140 Corrosion rate sensor (corrosion rate detection means)
153 Drain valve (drainage means)
FM Flow sensor (Supply water supply amount detection means)
EC1 first electrical conductivity sensor (concentration magnification detection means, concentration detection means)
EC2 Second electrical conductivity sensor (concentration magnification detection means, concentration detection means)
L110 Circulating water line L120 Makeup water line (Supplying means)
L130 1st drainage line (drainage means)
L131 Second drainage line (drainage means)
W1 makeup water W2 circulating water W3, W3A medicine
Claims (5)
循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、
循環水に補給水を供給する補給手段と、
循環水に水処理剤を添加する水処理剤添加手段と、
循環水を前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置から排出する排水手段と、
循環水に対する水処理剤の濃度を検出する濃度検出手段と、
前記冷却塔、前記循環水ライン又は前記被冷却装置の腐食速度を検出する腐食速度検出手段と、
前記濃度検出手段によって検出された水処理剤の濃度が基準濃度値となるように、前記補給手段、前記水処理剤添加手段及び前記排水手段のうちの一つ以上を制御する濃度制御部と、
前記腐食速度検出手段によって検出された腐食速度が所定の閾値を上回る場合に、所定の量の循環水が入れ替わるように前記補給手段及び前記排水手段を制御するか、又は、所定の量の水処理剤が添加されるように前記水処理剤添加手段を制御する水質制御部と、を備える水処理システム。 A cooling tower for cooling the circulating water to be supplied to the cooled apparatus and the circulating water returned from the cooled apparatus;
A circulating water line for circulating circulating water between the cooling tower and the cooled device;
Replenishment means for supplying makeup water to the circulating water;
Water treatment agent addition means for adding a water treatment agent to the circulating water;
Drainage means for discharging circulating water from the cooling tower, the circulating water line or the cooled device;
Concentration detecting means for detecting the concentration of the water treatment agent relative to the circulating water;
Corrosion rate detection means for detecting the corrosion rate of the cooling tower, the circulating water line or the cooled device;
A concentration control unit that controls one or more of the replenishing means, the water treatment agent adding means, and the draining means so that the concentration of the water treatment agent detected by the concentration detection means becomes a reference concentration value;
When the corrosion rate detected by the corrosion rate detection unit exceeds a predetermined threshold, the replenishment unit and the drainage unit are controlled so that a predetermined amount of circulating water is replaced, or a predetermined amount of water treatment is performed. A water treatment system comprising: a water quality control unit that controls the water treatment agent addition means so that the agent is added.
前記濃度検出手段は、循環水に対する前記蛍光トレーサの濃度に基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する、請求項1に記載の水処理システム。 The water treatment agent added by the water treatment agent addition means includes a fluorescent tracer,
The water treatment system according to claim 1, wherein the concentration detection means detects the concentration of the water treatment agent with respect to the circulating water based on the concentration of the fluorescent tracer with respect to the circulating water.
循環水の濃縮倍率を検出する濃縮倍率検出手段と、を更に備え、
前記水処理剤添加手段は、循環水に、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量に比例した量の水処理剤を添加し、
前記濃度検出手段は、前記補給水供給量検出手段によって検出された補給水の供給量と、前記濃縮倍率検出手段によって検出された循環水の濃縮倍率とに基づいて、循環水に対する水処理剤の濃度を検出する、請求項1又は2に記載の水処理システム A makeup water supply amount detecting means for detecting a makeup water supply amount;
A concentration magnification detecting means for detecting the concentration rate of circulating water;
The water treatment agent adding means adds, to the circulating water, an amount of water treatment agent proportional to the supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means,
The concentration detection means is configured to supply a water treatment agent for circulating water based on a supply amount of makeup water detected by the makeup water supply amount detection means and a concentration ratio of circulating water detected by the concentration magnification detection means. The water treatment system of Claim 1 or 2 which detects a density | concentration.
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2016
- 2016-03-31 JP JP2016071107A patent/JP6750278B2/en active Active
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JP2020200983A (en) * | 2019-06-07 | 2020-12-17 | 三浦工業株式会社 | Diagnostic device |
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