JP2013015259A - Water treatment system - Google Patents

Water treatment system Download PDF

Info

Publication number
JP2013015259A
JP2013015259A JP2011148120A JP2011148120A JP2013015259A JP 2013015259 A JP2013015259 A JP 2013015259A JP 2011148120 A JP2011148120 A JP 2011148120A JP 2011148120 A JP2011148120 A JP 2011148120A JP 2013015259 A JP2013015259 A JP 2013015259A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
electrical conductivity
circulating water
supply
cooling tower
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011148120A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kensuke Iwamoto
健輔 岩本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miura Co Ltd
Original Assignee
Miura Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miura Co Ltd filed Critical Miura Co Ltd
Priority to JP2011148120A priority Critical patent/JP2013015259A/en
Publication of JP2013015259A publication Critical patent/JP2013015259A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a water treatment system that properly supplies a chemical in accordance with an operation state of the system.SOLUTION: The water treatment system includes: a cooling tower 110; a circulating water line L110; a makeup water line L120; an anticorrosive supplier 135 for supplying an anticorrosive to circulating water W110 and/or makeup water 121; a scale inhibitor supplier 134 for supplying a scale inhibitor to the circulating water W110 and/or the makeup water 121; an electrical conductivity detector 133; and a water quality controller for (i) supplying the anticorrosive from the anticorrosive supplier 135 when the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detector 133 is lower than a first electrical conductivity ECth1, and (ii) supplying the scale inhibitor from the scale inhibitor supplier 134 when the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detector 133 exceeds a second electrical conductivity ECth2.

Description

本発明は、冷却塔と被冷却装置との間で循環水を循環させる水処理システムに関する。   The present invention relates to a water treatment system that circulates circulating water between a cooling tower and a device to be cooled.

商業ビル、工業プラント等においては、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置(冷却負荷装置)を冷却するために、冷却水が用いられる。冷却水は、その節約を図る観点から、冷却塔で冷却しながら循環して用いられる(以下、循環する冷却水を適宜に「循環水」という)。水処理システムにおいて、循環水は、循環水ライン(循環水供給ライン及び循環水回収ライン)を介して、冷却塔と被冷却装置との間を循環する。   In commercial buildings, industrial plants, etc., cooling water is used to cool a device to be cooled (cooling load device) such as a heat exchanger incorporated in an air conditioner or a refrigerator. From the viewpoint of saving the cooling water, the cooling water is circulated and used while being cooled in the cooling tower (hereinafter, the circulating cooling water is appropriately referred to as “circulated water”). In a water treatment system, circulating water circulates between a cooling tower and a to-be-cooled device via a circulating water line (a circulating water supply line and a circulating water recovery line).

循環水は、冷却塔で冷却される際にその一部が蒸発する。このため、循環水を継続的に循環させると、循環水の濃縮度が徐々に高くなり、水質が悪化する。そこで、循環水の水質を改善するために、外部から定期的に水(補給水)を補給すると共に、濃縮度の高い循環水の一部を外部に排出して循環水を希釈する、いわゆるブロープロセスが実行されている。   A part of the circulating water evaporates when it is cooled by the cooling tower. For this reason, if circulating water is circulated continuously, the concentration of circulating water will become high gradually and water quality will deteriorate. Therefore, in order to improve the quality of circulating water, water (make-up water) is regularly replenished from the outside and part of the highly concentrated circulating water is discharged outside to dilute the circulating water. The process is running.

また、循環水の水質を改善するために、循環水への薬剤の供給(通称「薬注」)が行われている。循環水への薬剤の供給方式としては、薬剤の供給と停止を所定時間毎に交互に繰り返すタイマ薬注方式が知られている。また、補給水の給水量に比例した薬剤を供給する流量比例薬注方式が知られている(例えば、特許文献1参照)。   In addition, in order to improve the quality of circulating water, chemicals are supplied to the circulating water (commonly called “medicine”). As a method for supplying medicine to the circulating water, a timer medicine injection system that repeats supply and stoppage of medicine alternately every predetermined time is known. Also known is a flow rate proportional chemical injection method for supplying a drug proportional to the amount of makeup water supplied (see, for example, Patent Document 1).

特開平11−63746号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-63746

上述したタイマ薬注方式では、一定以上の薬剤濃度を確保するため、薬剤を過剰に供給する必要がある。そのため、ユーザの経済的な負担が大きくなる。また、流量比例薬注方式は、タイマ薬注方式に比べて薬剤の過剰な供給を抑制できる。しかし、流量比例薬注方式では、循環水の濃縮度が低い場合に薬剤の濃度も低くなりやすい。そのため、循環水の濃縮度が低い場合に、例えば、薬剤として防食剤を供給したときには、その濃度が本来の目標濃度よりも低くなるため、配管系に腐食が発生しやすくなる。   In the timer drug injection method described above, it is necessary to supply an excessive amount of drug in order to ensure a drug concentration of a certain level or more. Therefore, the user's economic burden increases. Further, the flow rate proportional chemical injection method can suppress excessive supply of the drug compared to the timer chemical injection method. However, in the flow proportional chemical injection method, the concentration of the drug tends to be low when the concentration of circulating water is low. For this reason, when the concentration of circulating water is low, for example, when an anticorrosive agent is supplied as a chemical, the concentration is lower than the original target concentration, so that the piping system is easily corroded.

このように、従来の水処理システムにおいては、システムの運転状況に応じた薬剤の供給がなされていないため、配管系に腐食等のトラブルを起こしやすいという課題があった。
従って、本発明は、システムの運転状況に応じて薬剤を適切に供給することができる水処理システムを提供することを目的とする。
Thus, in the conventional water treatment system, since the chemical | medical agent according to the driving | running condition of a system is not made, there existed a subject that troubles, such as corrosion, are easy to raise | generate a piping system.
Therefore, an object of this invention is to provide the water treatment system which can supply a chemical | medical agent appropriately according to the driving | running state of a system.

本発明は、被冷却装置へ供給する循環水を冷却する冷却塔と、循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、補給水を前記冷却塔内に供給する補給水ラインと、循環水及び/又は補給水に防食剤を供給する防食剤供給手段と、循環水及び/又は補給水にスケール防止剤を供給するスケール防止剤供給手段と、循環水の電気伝導率を検出する電気伝導率検出手段と、(i)前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率が防食剤の供給を開始させる電気伝導率の下限閾値である第1電気伝導率を下回る場合には、前記防食剤供給手段から防食剤を供給させる処理を実行し、(ii)前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率がスケール防止剤の供給を開始させる電気伝導率の上限閾値である第2電気伝導率を上回る場合には、前記スケール防止剤供給手段からスケール防止剤を供給させる処理を実行する水質制御手段と、を備える水処理システムに関する。   The present invention provides a cooling tower for cooling the circulating water supplied to the apparatus to be cooled, a circulating water line for circulating the circulating water between the cooling tower and the apparatus to be cooled, and supplying makeup water to the cooling tower. A replenishing water line, an anticorrosive agent supplying means for supplying an anticorrosive agent to the circulating water and / or make-up water, a scale inhibitor supplying means for supplying the scale inhibitor to the circulating water and / or make-up water, and the electricity of the circulating water Electric conductivity detecting means for detecting conductivity; and (i) a first electric conductivity that is a lower limit threshold of electric conductivity at which the electric conductivity detected by the electric conductivity detecting means starts supplying the anticorrosive agent. If it is lower, the anticorrosive agent is supplied from the anticorrosive agent supply means, and (ii) the electric conductivity detected by the electric conductivity detector means the electric conductivity for starting the supply of the scale inhibitor. Second electrical conductivity that is the upper threshold If above, the water quality control means for executing processing to provide the scale inhibitor from the scale preventive agent supply means, to a water treatment system comprising a.

また、前記水処理システムにおいて、循環水及び/又は補給水に殺菌剤を供給する殺菌剤供給手段を更に備え、前記水質制御手段が、前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率に基づいて、前記殺菌剤供給手段から供給する殺菌剤の量を制御することが好ましい。   The water treatment system further includes a sterilizing agent supplying means for supplying a sterilizing agent to the circulating water and / or makeup water, and the water quality control means is based on the electric conductivity detected by the electric conductivity detecting means. It is preferable to control the amount of the sterilizing agent supplied from the sterilizing agent supplying means.

また、前記水処理システムにおいて、少なくとも循環水の一部を前記冷却塔及び/又は前記循環水ラインから排出すると共に、補給水を前記冷却塔内に補給するブロープロセスを実行するブロープロセス実行手段を更に備え、前記水質制御手段が、前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率がブロープロセスの実行を開始させる電気伝導率の上限閾値である第3電気伝導率を上回る場合には、前記ブロープロセス実行手段によりブロープロセスを実行させると共に、前記スケール防止剤供給手段からのスケール防止剤の供給を停止させることが好ましい。   In the water treatment system, blow process execution means for discharging at least a part of the circulating water from the cooling tower and / or the circulating water line and executing a blow process for supplying make-up water into the cooling tower is provided. Further, the water quality control means, when the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detection means exceeds a third electrical conductivity that is an upper limit threshold of electrical conductivity for starting execution of the blow process, It is preferable that the blow process is executed by the blow process execution means and the supply of the scale inhibitor from the scale inhibitor supply means is stopped.

本発明によれば、システムの運転状況に応じて薬剤を適切に供給することができる水処理システムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the water treatment system which can supply a chemical | medical agent appropriately according to the driving | running state of a system can be provided.

実施形態の水処理システム100を示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing water treatment system 100 of an embodiment. 実施形態の水処理システム100の制御に係る機能ブロック図である。It is a functional block diagram concerning control of water treatment system 100 of an embodiment. 薬剤供給制御部162がブロープロセス及び薬剤供給処理を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process sequence in case the chemical | medical agent supply control part 162 performs a blow process and a chemical | medical agent supply process.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態の水処理システム100の概略構成について説明する。図1は、本実施形態の水処理システム100を示す概略構成図である。   Hereinafter, a schematic configuration of a water treatment system 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a water treatment system 100 of the present embodiment.

図1に示すように、本実施形態の水処理システム100は、空調機や冷凍機に組み込まれた熱交換器等の被冷却装置131を冷却するために、循環水W110(冷却水)を循環させるシステムである。循環水W110は、その節約を図る観点から、冷却塔110で冷却しながら循環して用いられる。本実施形態における冷却塔110は、いわゆる開放式冷却塔である。   As shown in FIG. 1, the water treatment system 100 of this embodiment circulates circulating water W110 (cooling water) in order to cool a cooled device 131 such as a heat exchanger incorporated in an air conditioner or a refrigerator. It is a system to let you. The circulating water W110 is circulated and used while being cooled by the cooling tower 110 from the viewpoint of saving. The cooling tower 110 in this embodiment is a so-called open type cooling tower.

本実施形態の水処理システム100は、主な構成として、冷却塔110と、被冷却装置131と、電気伝導率検出手段としての電気伝導率測定装置133と、スケール防止剤供給手段としてのスケール防止剤供給装置134と、防食剤供給手段としての防食剤供給装置135と、殺菌剤供給手段としての殺菌剤供給装置136と、システム制御装置101と、を備える。また、水処理システム100は、主なラインとして、循環水ラインL110と、補給水ラインL120と、を備える。なお、「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。また、図1では、電気的な接続の経路を破線で示している。   The water treatment system 100 of the present embodiment includes, as main components, a cooling tower 110, an apparatus to be cooled 131, an electrical conductivity measuring device 133 as an electrical conductivity detection unit, and scale prevention as a scale inhibitor supply unit. The agent supply apparatus 134, the anticorrosive agent supply apparatus 135 as an anticorrosive agent supply means, the bactericidal agent supply apparatus 136 as a bactericide supply means, and the system control apparatus 101 are provided. The water treatment system 100 includes a circulating water line L110 and a makeup water line L120 as main lines. The “line” is a general term for a line capable of fluid flow such as a flow path, a path, and a pipeline. Moreover, in FIG. 1, the path | route of electrical connection is shown with the broken line.

冷却塔110は、被冷却装置131を冷却するための循環水W110を冷却する設備である。冷却塔110は、塔本体111と、散水部112と、貯留部116と、ルーバ118と、ファン120と、上部開口部121と、ファン駆動部122と、を備える。   The cooling tower 110 is a facility for cooling the circulating water W110 for cooling the apparatus to be cooled 131. The cooling tower 110 includes a tower main body 111, a water sprinkling unit 112, a storage unit 116, a louver 118, a fan 120, an upper opening 121, and a fan driving unit 122.

塔本体111は、冷却塔110の外郭を形成する筐体である。塔本体111の上部には、複数の散水部112、ファン120、上部開口部121及びファン駆動部122が設けられている。塔本体111の下部には、貯留部116が設けられている。塔本体111の側部には、ルーバ118が設けられている。   The tower main body 111 is a housing that forms an outer shell of the cooling tower 110. A plurality of sprinklers 112, a fan 120, an upper opening 121, and a fan drive unit 122 are provided on the top of the tower body 111. A storage part 116 is provided in the lower part of the tower body 111. A louver 118 is provided on the side of the tower body 111.

散水部112は、被冷却装置131を冷却する循環水W110を冷却するために、循環水W110を散布する部位である。散水部112は、循環水回収ラインL112(後述)を介して被冷却装置131から回収された循環水W110を、塔本体111の内部に散布(散水)する。   The water sprinkling unit 112 is a part that sprays the circulating water W110 in order to cool the circulating water W110 that cools the apparatus to be cooled 131. The sprinkling unit 112 sprays (sprinkles) the circulating water W110 recovered from the cooled device 131 through the circulating water recovery line L112 (described later) into the tower main body 111.

散水部112は、上部水槽113と、散水口114とを備える。上部水槽113には、循環水回収ラインL112(循環水ラインL110)が接続されている。上部水槽113は、循環水回収ラインL112を介して被冷却装置131から回収された循環水W110を貯留する。散水口114は、上部水槽113に貯留された循環水W110を散布するために上部水槽113の下側に形成されたノズルからなる。   The watering part 112 includes an upper water tank 113 and a watering port 114. A circulating water recovery line L112 (circulating water line L110) is connected to the upper water tank 113. The upper water tank 113 stores the circulating water W110 recovered from the cooled device 131 via the circulating water recovery line L112. The water spout 114 is composed of a nozzle formed on the lower side of the upper water tank 113 in order to spray the circulating water W110 stored in the upper water tank 113.

貯留部116は、散水部112から散布された循環水W110を貯留する部位である。貯留部116は、塔本体111の下部に設けられている。散水部112から下方に向けて散布された循環水W110は、塔本体111の内部を落下する過程において、温度の低い外気E1(後述)と熱交換することにより冷却される。貯留部116の底部には、循環水ラインL110の循環水供給ラインL111(後述)が接続される。貯留部116に貯留された循環水W110は、循環水供給ラインL111を介して被冷却装置131へ供給される。   The storage part 116 is a site | part which stores the circulating water W110 sprayed from the water sprinkling part 112. FIG. The storage part 116 is provided in the lower part of the tower main body 111. The circulating water W110 sprayed downward from the sprinkler 112 is cooled by exchanging heat with the outside air E1 (described later) having a low temperature in the process of falling inside the tower body 111. A circulating water supply line L111 (described later) of the circulating water line L110 is connected to the bottom of the storage unit 116. The circulating water W110 stored in the storage unit 116 is supplied to the cooled apparatus 131 via the circulating water supply line L111.

ルーバ118は、塔本体111の内部へ外気(エア)E1を導入するための通気孔である。塔本体111の外部の外気E1は、ルーバ118を介して塔本体111の内部へ導入される。   The louver 118 is a vent hole for introducing outside air (air) E1 into the tower main body 111. Outside air E1 outside the tower body 111 is introduced into the tower body 111 via the louver 118.

上部開口部121は、塔本体111の上部に形成された開口部である。上部開口部121は、塔本体111の内部に位置する外気E1を塔本体111の外部に排出する。上部開口部121から排出されたエアを「排気E2」ともいう。   The upper opening 121 is an opening formed in the upper part of the tower main body 111. The upper opening 121 discharges the outside air E <b> 1 located inside the tower main body 111 to the outside of the tower main body 111. The air discharged from the upper opening 121 is also referred to as “exhaust E2”.

ファン120は、上部開口部121に配置されている。ファン120は、ファン駆動部122の回転軸(符号略)と連結されている。ファン120は、回転することにより内部に負圧を発生させ、ルーバ118から塔本体111の内部へ外気E1を導入すると共に、塔本体111の内部に導入された外気E1を、上部開口部121を介して塔本体111の外部に排出させる。   The fan 120 is disposed in the upper opening 121. The fan 120 is connected to a rotation shaft (reference number omitted) of the fan driving unit 122. The fan 120 generates a negative pressure inside by rotating, and introduces the outside air E1 from the louver 118 to the inside of the tower main body 111, and the outside air E1 introduced into the inside of the tower main body 111 through the upper opening 121. To the outside of the tower body 111.

ファン駆動部122は、ファン120を回転させる駆動源である。ファン駆動部122は、モータ(不図示)により構成される。ファン駆動部122は、ファン120の上方に配置されている。ファン駆動部122は、システム制御装置101と電気的に接続されている。ファン駆動部122の運転(駆動及び停止)、回転速度の調整(変速)等は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   The fan drive unit 122 is a drive source that rotates the fan 120. The fan drive unit 122 is configured by a motor (not shown). The fan drive unit 122 is disposed above the fan 120. The fan driving unit 122 is electrically connected to the system control device 101. Operation (drive and stop) of the fan drive unit 122, adjustment of the rotation speed (shift), and the like are controlled by a drive signal from the system control device 101.

循環水ラインL110は、冷却塔110と被冷却装置131との間で循環水W110を循環させるラインである。循環水ラインL110は、貯留部116に貯留された循環水W110を冷却塔110から被冷却装置131へ供給する循環水供給ラインL111と、循環水W110を被冷却装置131から冷却塔110の散水部112へ回収する循環水回収ラインL112と、から構成される。   The circulating water line L110 is a line for circulating the circulating water W110 between the cooling tower 110 and the apparatus to be cooled 131. The circulating water line L110 includes a circulating water supply line L111 that supplies the circulating water W110 stored in the storage unit 116 from the cooling tower 110 to the cooled device 131, and a sprinkling unit of the cooling tower 110 that supplies the circulating water W110 from the cooled device 131. And a circulating water recovery line L112 for recovery to 112.

循環水供給ラインL111は、冷却塔110の貯留部116と被冷却装置131との間を接続するラインである。循環水供給ラインL111は、貯留部116に貯留された循環水W110を被冷却装置131に供給することができる。   The circulating water supply line L111 is a line that connects between the storage unit 116 of the cooling tower 110 and the apparatus to be cooled 131. The circulating water supply line L111 can supply the circulating water W110 stored in the storage unit 116 to the cooled device 131.

循環水供給ラインL111の途中には、循環水ポンプ132が接続されている。循環水ポンプ132は、循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)の上流側から下流側へ向けて、循環水W110を送り出すことができる。循環水ポンプ132は、システム制御装置101と電気的に接続されている。循環水ポンプ132の運転(駆動及び停止)は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   A circulating water pump 132 is connected in the middle of the circulating water supply line L111. The circulating water pump 132 can send out the circulating water W110 from the upstream side to the downstream side of the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water recovery line L112). The circulating water pump 132 is electrically connected to the system controller 101. The operation (drive and stop) of the circulating water pump 132 is controlled by a drive signal from the system controller 101.

循環水供給ラインL111の接続部J112には、測定ラインL113の上流側の端部が接続されている。   An upstream end portion of the measurement line L113 is connected to the connection portion J112 of the circulating water supply line L111.

循環水回収ラインL112は、被冷却装置131と冷却塔110の散水部112との間を接続するラインである。循環水回収ラインL112は、被冷却装置131において熱交換により加温された循環水W110を、冷却塔110の散水部112へ回収することができる。循環水回収ラインL112の下流側は、分岐部J111において複数のラインに分岐している。分岐したラインは、複数の散水部112にそれぞれ接続されている。   The circulating water recovery line L112 is a line that connects between the cooled device 131 and the sprinkler 112 of the cooling tower 110. The circulating water recovery line L <b> 112 can recover the circulating water W <b> 110 heated by heat exchange in the apparatus to be cooled 131 to the sprinkler 112 of the cooling tower 110. The downstream side of the circulating water recovery line L112 is branched into a plurality of lines at the branch portion J111. The branched line is connected to each of the plurality of sprinklers 112.

被冷却装置131は、循環水W110による冷却が必要な熱交換器等の各種装置である。被冷却装置131は、例えば、各種の化学プラントのターボ冷凍機や吸収冷凍機、建築物の空調用冷却機、食品工場の冷水製造機や真空冷却機等である。被冷却装置131は、内部に循環水流路(不図示)を備える。   The apparatus to be cooled 131 is various devices such as a heat exchanger that needs to be cooled by the circulating water W110. The apparatus to be cooled 131 is, for example, a turbo chiller or an absorption chiller for various chemical plants, an air conditioner chiller for buildings, a cold water production machine or a vacuum chiller for food factories, and the like. The apparatus to be cooled 131 includes a circulating water flow path (not shown) inside.

被冷却装置131において、循環水流路の一方の端部には、循環水供給ラインL111の下流側の端部が接続されている。また、被冷却装置131において、循環水流路の他方の端部には、循環水回収ラインL112の上流側の端部が接続されている。従って、循環水流路は、循環水供給ラインL111及び循環水回収ラインL112と共に、冷却塔110の塔本体111と被冷却装置131との間で循環水W110を循環させるための循環経路を形成する。   In the cooled device 131, the downstream end of the circulating water supply line L111 is connected to one end of the circulating water flow path. In the cooled device 131, the upstream end of the circulating water recovery line L112 is connected to the other end of the circulating water flow path. Therefore, the circulating water flow path, together with the circulating water supply line L111 and the circulating water recovery line L112, forms a circulation path for circulating the circulating water W110 between the tower body 111 of the cooling tower 110 and the cooled device 131.

電気伝導率測定装置133は、循環水W110の電気伝導率を測定する装置である。電気伝導率測定装置133は、測定ラインL113を介して、接続部J112において循環水ラインL110に接続されている。また、電気伝導率測定装置133は、システム制御装置101と電気的に接続されている。電気伝導率測定装置133で測定された電気伝導率は、システム制御装置101へ検出信号として送信される。電気伝導率測定装置133は、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で電気伝導率を測定し、システム制御装置101へ送信する。   The electrical conductivity measuring device 133 is a device that measures the electrical conductivity of the circulating water W110. The electrical conductivity measuring device 133 is connected to the circulating water line L110 at the connection portion J112 via the measurement line L113. In addition, the electrical conductivity measuring device 133 is electrically connected to the system control device 101. The electrical conductivity measured by the electrical conductivity measuring device 133 is transmitted to the system control device 101 as a detection signal. The electrical conductivity measuring device 133 measures the electrical conductivity at a predetermined time interval (or real time) and transmits it to the system control device 101.

スケール防止剤供給装置134は、冷却塔110の貯留部116へスケール防止剤を供給する装置である。スケール防止剤供給装置134は、スケール防止剤供給ラインL131を介して、冷却塔110の貯留部116に接続されている。スケール防止剤は、水中でのスケールの成長、或いは配管表面等へのスケールの堆積を防止するために用いられる薬品である。ここで利用可能なスケール防止剤としては、例えば、カルボン酸系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、ホスホン酸系キレート剤、カルボン酸系キレート剤等を挙げることができる。   The scale inhibitor supply device 134 is a device that supplies the scale inhibitor to the storage unit 116 of the cooling tower 110. The scale inhibitor supply device 134 is connected to the storage unit 116 of the cooling tower 110 via a scale inhibitor supply line L131. The scale inhibitor is a chemical used to prevent scale growth in water or scale deposition on a pipe surface or the like. Examples of the scale inhibitor usable here include carboxylic acid polymers, acrylic acid polymers, phosphonic acid chelating agents, carboxylic acid chelating agents, and the like.

スケール防止剤供給装置134は、システム制御装置101と電気的に接続されている。スケール防止剤供給装置134から冷却塔110の貯留部116へスケール防止剤を供給するタイミング及び供給量は、システム制御装置101から送信される駆動信号により制御される。   The scale inhibitor supply device 134 is electrically connected to the system control device 101. The timing and supply amount of the scale inhibitor supplied from the scale inhibitor supply apparatus 134 to the storage unit 116 of the cooling tower 110 are controlled by a drive signal transmitted from the system control apparatus 101.

防食剤供給装置135は、冷却塔110の貯留部116へ防食剤を供給する装置である。防食剤供給装置135は、防食剤供給ラインL132を介して、冷却塔110の貯留部116に接続されている。   The anticorrosive supply device 135 is a device that supplies the anticorrosive to the storage unit 116 of the cooling tower 110. The anticorrosive agent supply device 135 is connected to the storage unit 116 of the cooling tower 110 via an anticorrosive agent supply line L132.

防食剤は、主に配管系等における全面腐食、或いはピッチング等の部分腐食の発生を抑制するために用いられる薬品である。ここで利用可能な防食剤としては、例えば、ケイ酸塩、亜硝酸塩、亜鉛塩、モリブデン塩、ホスホノカルボン酸塩、ベンゾトリアゾール誘導体等を挙げることができる。   The anticorrosive is a chemical used mainly for suppressing the occurrence of overall corrosion in the piping system or the like, or partial corrosion such as pitting. Examples of the anticorrosive agent that can be used here include silicate, nitrite, zinc salt, molybdenum salt, phosphonocarboxylate, and benzotriazole derivative.

防食剤供給装置135は、システム制御装置101と電気的に接続されている。防食剤供給装置135から冷却塔110の貯留部116へ防食剤を供給するタイミング及び供給量は、システム制御装置101から送信される駆動信号により制御される。   The anticorrosive agent supply device 135 is electrically connected to the system control device 101. The timing and supply amount of the anticorrosive agent supplied from the anticorrosive agent supply device 135 to the storage unit 116 of the cooling tower 110 are controlled by a drive signal transmitted from the system control device 101.

殺菌剤供給装置136は、冷却塔110の貯留部116へ殺菌剤を供給する装置である。殺菌剤供給装置136は、殺菌剤供給ラインL133を介して、冷却塔110の貯留部116に接続されている。   The sterilizing agent supply device 136 is a device that supplies the sterilizing agent to the storage unit 116 of the cooling tower 110. The sterilizing agent supply device 136 is connected to the storage unit 116 of the cooling tower 110 via the sterilizing agent supply line L133.

なお、図1では、殺菌剤供給装置136が、冷却塔110の貯留部116において、その底部に接続されているように描かれている。しかし、殺菌剤供給装置136は、スケール防止剤供給装置134及び防食剤供給装置135と同じく、冷却塔110の貯留部116において、その側壁等に接続されている。   In FIG. 1, the disinfectant supply device 136 is depicted as being connected to the bottom of the storage unit 116 of the cooling tower 110. However, the disinfectant supply device 136 is connected to the side wall or the like in the storage unit 116 of the cooling tower 110, similarly to the scale inhibitor supply device 134 and the anticorrosive agent supply device 135.

殺菌剤は、水中における微生物の繁殖を抑制するために用いられる薬品であり、スライムコントロール剤とも呼ばれる。ここで利用可能な殺菌剤としては、例えば、次亜塩素酸ナトリウム等のハロゲン系酸化剤、過酸化水素等の酸素系酸化剤、イソチアゾリン系化合物、カルバメート系化合物等を挙げることができる。   A disinfectant is a chemical used to suppress the growth of microorganisms in water, and is also called a slime control agent. Examples of the bactericides that can be used here include halogen-based oxidizing agents such as sodium hypochlorite, oxygen-based oxidizing agents such as hydrogen peroxide, isothiazoline-based compounds, carbamate-based compounds, and the like.

殺菌剤供給装置136は、システム制御装置101と電気的に接続されている。殺菌剤供給装置136から冷却塔110の貯留部116へ殺菌剤を供給するタイミング及び供給量は、システム制御装置101から送信される駆動信号により制御される。   The disinfectant supply device 136 is electrically connected to the system control device 101. The timing and supply amount for supplying the sterilizing agent from the sterilizing agent supply device 136 to the storage unit 116 of the cooling tower 110 are controlled by a drive signal transmitted from the system control device 101.

また、冷却塔110には、補給水ラインL120が接続されている。補給水ラインL120は、補給水W121を冷却塔110の貯留部116へ補給するラインである。補給水ラインL120の上流側は、水道水や工業用水等の原水W120の供給源(図示せず)に接続された第1補給水ラインL121となっている。一方、補給水ラインL120の下流側は、接続部J121において、第2補給水ラインL122及び第3補給水ラインL123に分岐している。第1補給水ラインL121には、上流側から順に、原水ポンプ141及び原水バルブ142が設けられている。   The cooling tower 110 is connected to a makeup water line L120. The makeup water line L120 is a line for replenishing the makeup water W121 to the storage section 116 of the cooling tower 110. The upstream side of the makeup water line L120 is a first makeup water line L121 connected to a supply source (not shown) of raw water W120 such as tap water or industrial water. On the other hand, the downstream side of the makeup water line L120 branches to the second makeup water line L122 and the third makeup water line L123 at the connecting portion J121. In the first makeup water line L121, a raw water pump 141 and a raw water valve 142 are provided in order from the upstream side.

原水ポンプ141は、補給水ラインL120の上流側から下流側へ向けて、補給水W121を送り出すことができる。原水ポンプ141は、システム制御装置101と電気的に接続されている。原水ポンプ141の運転(駆動及び停止)は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   The raw water pump 141 can send makeup water W121 from the upstream side to the downstream side of the makeup water line L120. The raw water pump 141 is electrically connected to the system control device 101. The operation (drive and stop) of the raw water pump 141 is controlled by a drive signal from the system controller 101.

原水バルブ142は、原水ポンプ141の吐出側において、補給水ラインL120を開閉することができる。原水バルブ142は、システム制御装置101と電気的に接続されている(接続の経路は不図示)。原水バルブ142における弁体の開閉は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   The raw water valve 142 can open and close the makeup water line L120 on the discharge side of the raw water pump 141. The raw water valve 142 is electrically connected to the system controller 101 (connection path is not shown). The opening and closing of the valve body in the raw water valve 142 is controlled by a drive signal from the system control device 101.

第2補給水ラインL122の下流側の端部は、冷却塔110の塔本体111に接続されている。第2補給水ラインL122の途中には、補給水バルブ143が設けられている。補給水バルブ143は、第2補給水ラインL122を開閉することにより、貯留部116に対して補給水W121を強制的に供給する給水設備である。補給水バルブ143は、システム制御装置101と電気的に接続されている。補給水バルブ143における弁体の開閉は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   The downstream end of the second makeup water line L122 is connected to the tower body 111 of the cooling tower 110. A makeup water valve 143 is provided in the middle of the second makeup water line L122. The makeup water valve 143 is a water supply facility that forcibly supplies the makeup water W121 to the storage section 116 by opening and closing the second makeup water line L122. The makeup water valve 143 is electrically connected to the system control device 101. The opening and closing of the valve body in the makeup water valve 143 is controlled by a drive signal from the system control device 101.

第3補給水ラインL123の下流側の端部は、冷却塔110の塔本体111に接続されている。第3補給水ラインL123の下流側の端部には、給水栓145が設けられている。給水栓145は、貯留部116に貯留される循環水W110の水位(すなわち、水量)を管理するボールタップ式の給水設備である。給水栓144において、貯留部116に貯留される循環水W110の水位が低下すると、ボールタップが作動し、第3補給水ラインL123を流通する補給水W121が貯留部116に補給される。   The downstream end of the third makeup water line L123 is connected to the tower main body 111 of the cooling tower 110. A water faucet 145 is provided at the downstream end of the third makeup water line L123. The water tap 145 is a ball tap type water supply facility that manages the water level (that is, the amount of water) of the circulating water W <b> 110 stored in the storage unit 116. When the water level of the circulating water W110 stored in the storage unit 116 decreases in the water tap 144, the ball tap operates and the supply water W121 flowing through the third supply water line L123 is supplied to the storage unit 116.

排水ラインL130は、貯留部116の底部に接続され、下方に延びている。排水ラインL130は、後述するブロープロセスにおいて、冷却塔110の貯留部116に貯留された循環水W110を、水処理システム100の系外に強制的に排出するラインである。排水ラインL130の途中には、排水バルブ146が設けられている。排水バルブ146は、排水ラインL130を開閉することができる。排水バルブ146は、システム制御装置101と電気的に接続されている。排水バルブ146における弁体の開閉は、システム制御装置101からの駆動信号により制御される。   The drain line L130 is connected to the bottom of the storage part 116 and extends downward. The drainage line L130 is a line that forcibly discharges the circulating water W110 stored in the storage unit 116 of the cooling tower 110 to the outside of the water treatment system 100 in a blow process described later. A drain valve 146 is provided in the middle of the drain line L130. The drain valve 146 can open and close the drain line L130. The drain valve 146 is electrically connected to the system control device 101. The opening and closing of the valve body in the drain valve 146 is controlled by a drive signal from the system control device 101.

なお、冷却塔110には、上述した循環水ラインL110、補給水ラインL120及び排水ラインL130のほかに、オーバーフローラインL140が接続されている。オーバーフローラインL140は、補給水バルブ143を開放して補給水W121を強制的に供給した場合に、冷却塔110の貯留部116から溢れた循環水W110を、水処理システム100の系外に排出するラインである。すなわち、オーバーフローラインL140は、後述するブロープロセスにおいて、排水バルブ146の開閉制御に替えて、補給水バルブ143を開閉制御することにより、冷却塔110の貯留部116に貯留された循環水W110を、水処理システム100の系外に強制的に排出するラインとして機能する。   The cooling tower 110 is connected to an overflow line L140 in addition to the circulating water line L110, the makeup water line L120, and the drainage line L130 described above. The overflow line L140 discharges the circulating water W110 overflowing from the storage part 116 of the cooling tower 110 to the outside of the water treatment system 100 when the makeup water valve 143 is opened and the makeup water W121 is forcibly supplied. Line. That is, the overflow line L140 is configured to control the opening / closing control of the replenishing water valve 143 instead of the opening / closing control of the drain valve 146 in the blow process described later, thereby circulating water W110 stored in the storage unit 116 of the cooling tower 110, It functions as a line forcibly discharging out of the water treatment system 100.

次に、図2を参照して、本実施形態の水処理システム100の制御に係る機能について説明する。図2は、本実施形態の水処理システム100の制御に係る機能ブロック図である。   Next, with reference to FIG. 2, the function which concerns on control of the water treatment system 100 of this embodiment is demonstrated. FIG. 2 is a functional block diagram relating to control of the water treatment system 100 of the present embodiment.

システム制御装置101は、本実施形態の水処理システム100における各部の動作を制御する。図2に示すように、システム制御装置101は、例えば、ファン駆動部122、循環水ポンプ132、原水ポンプ141、補給水バルブ143、排水バルブ146、スケール防止剤供給装置134、防食剤供給装置135及び殺菌剤供給装置136に電気的に接続される。   The system control apparatus 101 controls the operation of each unit in the water treatment system 100 of the present embodiment. As shown in FIG. 2, the system control apparatus 101 includes, for example, a fan drive unit 122, a circulating water pump 132, a raw water pump 141, a makeup water valve 143, a drain valve 146, a scale inhibitor supply device 134, and an anticorrosive agent supply device 135. And electrically connected to the disinfectant supply device 136.

また、システム制御装置101は、水処理システム100の測定装置と電気的に接続され、この測定装置から測定情報を受信する。例えば、システム制御装置101は、電気伝導率測定装置133と電気的に接続され、電気伝導率測定装置133において測定された循環水W110の電気伝導率ECを検出信号として受信する。   In addition, the system control device 101 is electrically connected to the measurement device of the water treatment system 100 and receives measurement information from this measurement device. For example, the system control device 101 is electrically connected to the electrical conductivity measuring device 133, and receives the electrical conductivity EC of the circulating water W110 measured by the electrical conductivity measuring device 133 as a detection signal.

システム制御装置101において、電気伝導率測定装置133から受信した電気伝導率ECは、メモリ103(後述)に記憶される。また、電気伝導率ECは、所定の時間間隔(又はリアルタイム)で最新の値に順次更新される。   In the system controller 101, the electrical conductivity EC received from the electrical conductivity measuring device 133 is stored in the memory 103 (described later). Further, the electrical conductivity EC is sequentially updated to the latest value at a predetermined time interval (or real time).

システム制御装置101は、制御部102と、メモリ103と、を備える。制御部102は、ブロープロセス実行手段としてのブロープロセス実行部161と、水質制御手段としての薬剤供給制御部162と、を有する。制御部102におけるブロープロセス実行部161及び薬剤供給制御部162の機能は、CPU及び内部メモリ含むマイクロプロセッサ(不図示)により実現される。   The system control apparatus 101 includes a control unit 102 and a memory 103. The control unit 102 includes a blow process execution unit 161 as a blow process execution unit and a chemical supply control unit 162 as a water quality control unit. The functions of the blow process execution unit 161 and the medicine supply control unit 162 in the control unit 102 are realized by a microprocessor (not shown) including a CPU and an internal memory.

ブロープロセス実行部161は、ブロープロセスとして、循環水W110の排水及び補給を同時(又は連続して)実施する。循環水W110の排水は、次のいずれかの方法により行われる。以下、適宜に図1を参照しながら説明する。   The blow process execution unit 161 simultaneously (or continuously) drains and replenishes the circulating water W110 as a blow process. The drainage of the circulating water W110 is performed by one of the following methods. Hereinafter, description will be made with reference to FIG.

(強制排水ブロー)
ブロープロセス実行部161は、排水バルブ146を開状態として、冷却塔110の貯留部116に貯留された循環水W110の一部を排水ラインL130から外部に排出する。循環水W110の一部が排出されると、貯留部116の水位が低下するため、給水栓145のボールタップが作動し、新たな補給水W121が第3補給水ラインL123を通じて補給される。なお、この強制排水ブローを実施する場合には、補給水バルブ143は閉状態のままとし、開閉操作は行わない。
(Forced drainage blow)
The blow process execution unit 161 opens the drain valve 146 to discharge a part of the circulating water W110 stored in the storage unit 116 of the cooling tower 110 from the drain line L130 to the outside. When a part of the circulating water W110 is discharged, the water level of the storage unit 116 is lowered, so that the ball tap of the water tap 145 is operated, and new makeup water W121 is replenished through the third makeup water line L123. When this forced drainage blow is performed, the replenishing water valve 143 remains in the closed state and no opening / closing operation is performed.

(強制補水ブロー)
ブロープロセス実行部161は、補給水バルブ143を開状態として、第2補給水ラインL122を通じて新たな補給水W121を貯留部116に強制的に補給する。補給水W121が補給されると、貯留部116の水位が上昇するため、溢れた循環水W110がオーバーフローラインL140から外部に排出される。なお、この強制補水ブローを実施する場合には、排水バルブ146は閉状態のままとし、開閉操作は行わない。
(Forced rehydration blow)
The blow process execution unit 161 opens the makeup water valve 143 and forcibly replenishes the storage section 116 with new makeup water W121 through the second makeup water line L122. When the makeup water W121 is replenished, the water level in the storage unit 116 rises, so that the overflowing circulating water W110 is discharged from the overflow line L140 to the outside. In addition, when this forced water replenishment blow is performed, the drain valve 146 remains in the closed state, and the opening / closing operation is not performed.

なお、強制排水ブローにおける循環水W110の排出は、冷却塔110の貯留部116に限らず、排水バルブ及び排水ライン(いずれも不図示)を設けた循環水ラインL110から排出してもよい。また、循環水W110を、冷却塔110の貯留部116及び循環水ラインL110の両方から排出してもよい。   The discharge of the circulating water W110 in the forced drainage blow is not limited to the storage unit 116 of the cooling tower 110, and may be discharged from a circulating water line L110 provided with a drain valve and a drain line (both not shown). Further, the circulating water W110 may be discharged from both the storage unit 116 of the cooling tower 110 and the circulating water line L110.

上記のように、補給水W121を補給する場合、ブロープロセス実行部161は、補給水バルブ143を開状態として(強制補水ブローの場合)、或いは排水バルブ146を開状態として(強制排水ブローの場合)、補給水ラインL120から補給水W121を冷却塔110の貯留部116へ補給する。新たに補給される補給水W121は、電気伝導率が低いため、循環水ラインL110における循環水W110の電気伝導率を全体的に下げることができる。   As described above, when the makeup water W121 is replenished, the blow process execution unit 161 opens the makeup water valve 143 (in the case of forced supplemental water blow) or opens the drain valve 146 (in the case of forced drainage blow). ), Makeup water W121 is replenished from the makeup water line L120 to the storage section 116 of the cooling tower 110. Since the newly supplied makeup water W121 has a low electrical conductivity, the electrical conductivity of the circulating water W110 in the circulating water line L110 can be lowered as a whole.

再び、図2に示す制御部102の構成について説明する。
薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で検出された循環水W110の電気伝導率ECに基づいて、防食剤、スケール防止剤及び殺菌剤の供給を制御すると共に、ブロープロセス実行部161によるブロープロセスの実行を制御する。
The configuration of the control unit 102 shown in FIG. 2 will be described again.
The chemical supply control unit 162 controls the supply of the anticorrosive agent, the scale preventive agent, and the bactericidal agent based on the electrical conductivity EC of the circulating water W110 detected by the electrical conductivity measuring device 133, and the blow process execution unit 161. Controls the execution of the blow process.

薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で検出された循環水W110の電気伝導率ECが防食剤の供給を開始させる電気伝導率の下限閾値である第1電気伝導率ECth1未満の場合には、防食剤供給装置135から防食剤を供給させる処理を実行する。第1電気伝導率ECth1は、原水W120に含まれる腐食性イオン(塩化物イオン及び硫酸イオン等)の濃度を考慮して決定され、例えば、40mS/mに設定される。   The medicine supply control unit 162 is configured such that the electrical conductivity EC of the circulating water W110 detected by the electrical conductivity measuring device 133 is less than the first electrical conductivity ECth1 that is the lower threshold value of the electrical conductivity for starting the supply of the anticorrosive. In this case, a process of supplying the anticorrosive agent from the anticorrosive agent supply device 135 is executed. The first electrical conductivity ECth1 is determined in consideration of the concentration of corrosive ions (such as chloride ions and sulfate ions) contained in the raw water W120, and is set to 40 mS / m, for example.

また、薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で検出された循環水W110の電気伝導率ECがスケール防止剤の供給を開始させる電気伝導率の上限閾値である第2電気伝導率ECth2以上の場合には、スケール防止剤供給装置134からスケール防止剤を供給させる処理を実行する。第2電気伝導率ECth2は、原水W120に含まれるスケール原因物質(シリカ、カルシウムイオン、炭酸水素イオン及び炭酸イオン等)の濃度を考慮して決定され、例えば、50mS/mに設定される。   Further, the medicine supply control unit 162 has a second electric conductivity ECth2 in which the electric conductivity EC of the circulating water W110 detected by the electric conductivity measuring device 133 is an upper limit threshold value of electric conductivity for starting the supply of the scale inhibitor. In the above case, the processing for supplying the scale inhibitor from the scale inhibitor supply apparatus 134 is executed. The second electrical conductivity ECth2 is determined in consideration of the concentration of scale-causing substances (silica, calcium ions, bicarbonate ions, carbonate ions, etc.) contained in the raw water W120, and is set to 50 mS / m, for example.

なお、薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で検出された循環水W110の電気伝導率ECが第1電気伝導率ECth1以上、且つ第2電気伝導率ECth2未満の場合には、冷却塔110の貯留部116へのスケール防止剤及び防食剤の供給を停止する。   The medicine supply control unit 162 cools the circulating water W110 detected by the electrical conductivity measuring device 133 when the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is equal to or higher than the first electrical conductivity ECth1 and lower than the second electrical conductivity ECth2. The supply of the scale inhibitor and the anticorrosive agent to the storage part 116 of the tower 110 is stopped.

また、薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で測定された電気伝導率ECが第3電気伝導率ECth3以上の場合には、ブロープロセス実行部161によりブロープロセスを実行させると共に、スケール防止剤供給装置134からのスケール防止剤の供給を停止させる。第3電気伝導率ECth3は、スケール防止剤の効果の持続性を担保できる濃縮倍数を考慮して決定され、例えば、100mS/mに設定される。   In addition, when the electrical conductivity EC measured by the electrical conductivity measuring device 133 is equal to or higher than the third electrical conductivity ECth3, the medicine supply control unit 162 causes the blow process execution unit 161 to execute the blow process and the scale. The supply of the scale inhibitor from the inhibitor supply device 134 is stopped. The third electrical conductivity ECth3 is determined in consideration of the concentration factor that can ensure the sustainability of the effect of the scale inhibitor, and is set to 100 mS / m, for example.

薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で測定された電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4未満の場合には、殺菌剤供給装置136から冷却塔110の貯留部116へ第1設定量の殺菌剤を供給させる。   When the electrical conductivity EC measured by the electrical conductivity measuring device 133 is less than the fourth electrical conductivity ECth4, the medicine supply control unit 162 performs the first supply from the disinfectant supply device 136 to the storage unit 116 of the cooling tower 110. Supply a set amount of disinfectant.

また、薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で測定された電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となった場合には、殺菌剤供給装置136から冷却塔110の貯留部116へ第2設定量(>後述の第1設定量)の殺菌剤を供給させる。   In addition, when the electrical conductivity EC measured by the electrical conductivity measuring device 133 is equal to or higher than the fourth electrical conductivity ECth4, the medicine supply control unit 162 stores the storage unit of the cooling tower 110 from the sterilizing agent supply device 136. 116 is supplied with a second set amount (> first set amount described later) of the bactericide.

第4電気伝導率ECth4は、第1設定量の殺菌剤の効果の持続性を考慮して決定され、例えば、80mS/mに設定される。この第4電気伝導率ECth4は、ブロープロセスを実行させる第3電気伝導率ECth3よりもわずかに低い値に設定されている。このため、水処理システム100の運転中(ブロープロセスの実行中を除く)において、冷却塔110の貯留部116には、少なくとも第1設定量の殺菌剤が継続的に供給される。   The fourth electrical conductivity ECth4 is determined in consideration of the sustainability of the effect of the first set amount of the bactericide, and is set to 80 mS / m, for example. The fourth electrical conductivity ECth4 is set to a value slightly lower than the third electrical conductivity ECth3 for executing the blow process. For this reason, during operation of the water treatment system 100 (except during the execution of the blow process), at least the first set amount of the bactericide is continuously supplied to the storage unit 116 of the cooling tower 110.

尚、第1電気伝導率ECth1、第2電気伝導率ECth2、第3電気伝導率ECth3及び第4電気伝導率ECth4は、薬剤を含む状態での循環水W110の電気伝導率として設定される。   In addition, 1st electrical conductivity ECth1, 2nd electrical conductivity ECth2, 3rd electrical conductivity ECth3, and 4th electrical conductivity ECth4 are set as the electrical conductivity of the circulating water W110 in the state containing a chemical | medical agent.

次に、本実施形態の水処理システム100において、薬剤供給制御部162がブロープロセス及び薬剤供給処理を実行する場合の動作を、図3を参照しながら説明する。図3は、薬剤供給制御部162がブロープロセス及び薬剤供給処理を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図3に示すフローチャートの制御は、メモリ103に記憶された制御プログラムに基づいて、制御部102により実行される。また、図3に示すフローチャートの処理は、水処理システム100の運転中において、繰り返し実行される。   Next, in the water treatment system 100 of the present embodiment, an operation when the medicine supply control unit 162 executes the blow process and the medicine supply process will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a flowchart showing a processing procedure when the medicine supply control unit 162 executes a blow process and a medicine supply process. The control in the flowchart shown in FIG. 3 is executed by the control unit 102 based on a control program stored in the memory 103. 3 is repeatedly executed during operation of the water treatment system 100.

図3に示すように、ステップST101において、薬剤供給制御部162は、殺菌剤供給装置136に駆動信号を送信して、冷却塔110の貯留部116へ第1設定量の殺菌剤を供給させる。
ステップST102において、薬剤供給制御部162は、電気伝導率測定装置133で測定された循環水W110の電気伝導率ECを取得する。
As shown in FIG. 3, in step ST <b> 101, the medicine supply control unit 162 transmits a drive signal to the sterilizing agent supply device 136 to supply the first set amount of sterilizing agent to the storage unit 116 of the cooling tower 110.
In step ST102, the medicine supply control unit 162 acquires the electrical conductivity EC of the circulating water W110 measured by the electrical conductivity measurement device 133.

ステップST103において、薬剤供給制御部162は、取得した電気伝導率ECが第1電気伝導率ECth1未満か否かを判定する。このステップST103において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC<第1電気伝導率ECth1である(YES)と判定した場合には、配管系等に腐食が発生しやすい濃縮度であるため、処理はステップST104へ移行する。また、ステップST103において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC≧第1電気伝導率ECth1である(NO)と判定した場合には、配管系等に腐食が発生しやすい濃縮度ではないため、処理はステップST105へ移行する。   In step ST103, the medicine supply control unit 162 determines whether the acquired electrical conductivity EC is less than the first electrical conductivity ECth1. In this step ST103, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC <the first electrical conductivity ECth1 (YES), it is a concentration that is likely to cause corrosion in the piping system or the like. The process moves to step ST104. In Step ST103, when the chemical supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC ≧ the first electrical conductivity ECth1 (NO), the concentration is not likely to cause corrosion in the piping system or the like. The process proceeds to step ST105.

ステップST104(ステップST103:YES)において、薬剤供給制御部162は、防食剤供給装置135に駆動信号を送信して、冷却塔110の貯留部116へ防食剤を供給させる。この後、処理は再びステップST101へ戻る。   In step ST104 (step ST103: YES), the medicine supply control unit 162 transmits a drive signal to the anticorrosive agent supply device 135 to supply the anticorrosive agent to the storage unit 116 of the cooling tower 110. Thereafter, the process returns to step ST101 again.

ステップST105において、薬剤供給制御部162は、取得した電気伝導率ECが第2電気伝導率ECth2未満か否かを判定する。このステップST105において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC<第2電気伝導率ECth2である(YES)と判定した場合には、スケール及び腐食が発生しやすい濃縮度ではないため、処理はステップST106へ移行する。また、ステップST105において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC≧第2電気伝導率ECth2である(NO)と判定した場合には、ブロープロセスの実行は必要ないが、スケールが発生しやすい濃縮度であるため、処理はステップST107へ移行する。   In step ST105, the medicine supply control unit 162 determines whether the acquired electrical conductivity EC is less than the second electrical conductivity ECth2. In this step ST105, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC <the second electrical conductivity ECth2 (YES), the concentration is not likely to cause scale and corrosion. The process proceeds to step ST106. In step ST105, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC ≧ the second electrical conductivity ECth2 (NO), the blow process is not necessary, but scale is likely to occur. Since it is the degree of enrichment, the process proceeds to step ST107.

ステップST106(ステップST105:YES)において、薬剤供給制御部162は、防食剤供給装置135に停止信号を送信して、冷却塔110の貯留部116への防食剤の供給を停止させる。この後、処理は再びステップST101へ戻る。   In step ST106 (step ST105: YES), the chemical supply control unit 162 transmits a stop signal to the anticorrosive agent supply device 135 to stop the supply of the anticorrosive agent to the storage unit 116 of the cooling tower 110. Thereafter, the process returns to step ST101 again.

ステップST107(ステップST105:NO)において、薬剤供給制御部162は、スケール防止剤供給装置134に駆動信号を送信して、冷却塔110の貯留部116へスケール防止剤を供給させる。   In step ST107 (step ST105: NO), the chemical supply control unit 162 transmits a drive signal to the scale inhibitor supply device 134 to supply the scale inhibitor to the storage unit 116 of the cooling tower 110.

ステップST108において、薬剤供給制御部162は、取得した電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4未満か否かを判定する。このステップST108において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC<第4電気伝導率ECth4である(YES)と判定した場合には、微生物が繁殖しやすい濃縮度ではないため、第1設定量の殺菌剤の供給を維持すべく、処理は再びステップST101へ戻る。また、ステップST108において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC≧第4電気伝導率ECth4である(NO)と判定した場合には、スケールが発生しやすいだけでなく、微生物が繁殖しやすい濃縮度であるため、処理はステップST109へ移行する。   In Step ST108, the medicine supply control unit 162 determines whether the acquired electrical conductivity EC is less than the fourth electrical conductivity ECth4. In this step ST108, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC <the fourth electrical conductivity ECth4 (YES), it is not the enrichment level at which microorganisms are likely to propagate, so the first set amount. In order to maintain the supply of the disinfectant, the process returns to step ST101 again. In Step ST108, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC ≧ the fourth electrical conductivity ECth4 (NO), not only the scale is likely to be generated but also the microorganisms are easily propagated. Since it is the degree of concentration, the process proceeds to step ST109.

ステップST109(ステップST108:NO)において、薬剤供給制御部162は、殺菌剤供給装置136に駆動信号を送信して、冷却塔110の貯留部116へ第2設定量(>第1設定量)の殺菌剤を供給させる。   In step ST109 (step ST108: NO), the medicine supply control unit 162 transmits a drive signal to the sterilizing agent supply device 136, and sets the second set amount (> first set amount) to the storage unit 116 of the cooling tower 110. Supply a disinfectant.

ステップST110において、薬剤供給制御部162は、取得した電気伝導率ECが第3電気伝導率ECth3未満か否かを判定する。このステップST110において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC<第3電気伝導率ECth3である(YES)と判定した場合には、ブロープロセスの実行が必要な濃縮度ではないため、第2設定量の殺菌剤の供給を維持したまま、処理はステップST102へ移行する。また、ステップST110において、薬剤供給制御部162が、電気伝導率EC≧第3電気伝導率ECth3である(NO)と判定した場合には、ブロープロセスの実行が必要な濃縮度であるため、処理はステップST111へ移行する。   In step ST110, the medicine supply control unit 162 determines whether or not the acquired electrical conductivity EC is less than the third electrical conductivity ECth3. In this step ST110, when the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC <the third electrical conductivity ECth3 (YES), it is not the concentration that requires execution of the blow process. The process moves to step ST102 while maintaining the supply of the set amount of the bactericide. In Step ST110, if the drug supply control unit 162 determines that the electrical conductivity EC ≧ the third electrical conductivity ECth3 (NO), the concentration is a concentration that requires execution of the blow process. Moves to step ST111.

ステップST111において、薬剤供給制御部162は、スケール防止剤供給装置134に停止信号を送信して、冷却塔110の貯留部116へのスケール防止剤の供給を停止させる。   In step ST <b> 111, the chemical supply control unit 162 transmits a stop signal to the scale inhibitor supply apparatus 134 to stop the supply of the scale inhibitor to the storage unit 116 of the cooling tower 110.

ステップST112において、薬剤供給制御部162は、ブロープロセス実行部161によりブロープロセスを実行させる。ブロープロセス実行部161がブロープロセスを実行することにより、冷却塔110の貯留部116に貯留された循環水W110の一部が排水ラインL130から外部に排出される。また、補給水ラインL120から補給水W121が冷却塔110の貯留部116へ補給される。ブロープロセスの実行後、処理は再びステップST101へ戻る。   In step ST112, the medicine supply control unit 162 causes the blow process execution unit 161 to execute a blow process. When the blow process execution unit 161 executes the blow process, part of the circulating water W110 stored in the storage unit 116 of the cooling tower 110 is discharged from the drain line L130 to the outside. Further, makeup water W121 is replenished from the makeup water line L120 to the storage section 116 of the cooling tower 110. After executing the blow process, the process returns to step ST101 again.

尚、ブロープロセスは、所定時間、若しくは所定量の循環水W110の排出が行われると終了するように制御される。或いは、ブロープロセスは、循環水W110の電気伝導率ECが、第3電気伝導率ECth3よりも低い所定値以下(例えば、原水W120の電気伝導率と第1電気伝導率ECth1との中間値以下)になった場合に終了するように制御することもできる。   Note that the blow process is controlled so as to end when a predetermined time or a predetermined amount of circulating water W110 is discharged. Alternatively, in the blow process, the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is equal to or lower than a predetermined value lower than the third electrical conductivity ECth3 (for example, an intermediate value between the electrical conductivity of the raw water W120 and the first electrical conductivity ECth1). It can also be controlled to end when it becomes.

上述した本実施形態の水処理システム100によれば、例えば、次のような効果を奏する。   According to the water treatment system 100 of this embodiment mentioned above, there exist the following effects, for example.

本実施形態の水処理システム100は、循環水W110の電気伝導率ECが第1電気伝導率ECth1未満の場合には、防食剤供給装置135から防食剤を供給させ、循環水W110の電気伝導率ECが第2電気伝導率ECth2以上の場合には、スケール防止剤供給装置134からスケール防止剤を供給させる薬剤供給制御部162を備える。   When the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is less than the first electrical conductivity ECth1, the water treatment system 100 of the present embodiment supplies an anticorrosive agent from the anticorrosive agent supply device 135, and the electrical conductivity of the circulating water W110. When the EC is equal to or higher than the second electrical conductivity ECth2, the medicine supply control unit 162 that supplies the scale inhibitor from the scale inhibitor supply apparatus 134 is provided.

そのため、循環水W110の濃縮度が低い場合には、循環水W110に防食剤が供給されるので、配管系の腐食を抑制することができる。また、循環水W110の濃縮度が低い場合には、循環水W110の硬度が高まっておらず、スケールの発生が起こりにくい水質となっているので、循環水W110にスケール防止剤は供給されない。このため、スケール防止剤の過剰な供給を抑制することができる。   Therefore, when the degree of concentration of the circulating water W110 is low, the anticorrosive agent is supplied to the circulating water W110, so that corrosion of the piping system can be suppressed. Further, when the concentration of the circulating water W110 is low, the hardness of the circulating water W110 is not increased and the water quality is unlikely to generate scale. Therefore, no scale inhibitor is supplied to the circulating water W110. For this reason, the excessive supply of a scale inhibitor can be suppressed.

一方、循環水W110の濃縮度が高い場合には、循環水W110にスケール防止剤が供給されるので、配管系におけるスケールの発生を抑制することができる。また、循環水W110の濃縮度が高い場合には、循環水W110の硬度が高まっており、腐食が起こりにくい水質となっているので、循環水W110に防食剤は供給されない。このため、防食剤の過剰な供給を抑制することができる。
従って、本実施形態の水処理システム100によれば、システムの運転状況に応じて薬剤を適切に供給することができる。
On the other hand, when the degree of concentration of the circulating water W110 is high, the scale inhibitor is supplied to the circulating water W110, so that generation of scale in the piping system can be suppressed. In addition, when the concentration of the circulating water W110 is high, the hardness of the circulating water W110 is increased, and the water quality is such that corrosion does not easily occur. Therefore, the anticorrosive agent is not supplied to the circulating water W110. For this reason, excessive supply of the anticorrosive agent can be suppressed.
Therefore, according to the water treatment system 100 of the present embodiment, the medicine can be appropriately supplied according to the operation status of the system.

また、本実施形態の水処理システム100において、薬剤供給制御部162は、少なくとも第1設定量の殺菌剤を継続的に供給させると共に、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となった場合に第2設定量(>第1設定量)の殺菌剤を供給させる。   In the water treatment system 100 of the present embodiment, the chemical supply control unit 162 continuously supplies at least the first set amount of the bactericide, and the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is the fourth electrical conductivity ECth4. When it becomes above, the 2nd set amount (> 1st set amount) disinfectant is supplied.

これによれば、循環水W110の濃縮度が低い場合でも、少なくとも第1設定量の殺菌剤が供給されるので、循環水系において微生物の繁殖を抑制するのに必要な最低限の殺菌剤の濃度を維持することができる。特に、循環水ラインL110の経路が長い場合や、貯留部116の容積が大きい場合には、第2設定量による殺菌剤の効果が反映されるまでに時間がかかる。このため、第1設定量の殺菌剤を継続的に供給することにより、循環水系における微生物の繁殖を効果的に抑制することができる。また、循環水W110の濃縮度が高くなった場合には、第1設定量より増量した第2設定量の殺菌剤が供給されるので、循環水系において微生物の繁殖を抑制するのに十分な殺菌剤の濃度を確保することができる。   According to this, even when the concentration of the circulating water W110 is low, since at least the first set amount of the bactericidal agent is supplied, the minimum concentration of the bactericide necessary for suppressing the growth of microorganisms in the circulating water system. Can be maintained. In particular, when the path of the circulating water line L110 is long or when the volume of the reservoir 116 is large, it takes time until the effect of the bactericide by the second set amount is reflected. For this reason, it is possible to effectively suppress the growth of microorganisms in the circulating water system by continuously supplying the first set amount of the bactericide. Further, when the concentration of the circulating water W110 becomes high, the second set amount of the bactericide increased from the first set amount is supplied, so that sterilization sufficient to suppress the growth of microorganisms in the circulating water system. The concentration of the agent can be ensured.

また、本実施形態の水処理システム100において、薬剤供給制御部162は、循環水W110の電気伝導率ECが第3電気伝導率ECth3以上の場合にはブロープロセスを実行させると共に、スケール防止剤の供給を停止させる。   In the water treatment system 100 of the present embodiment, the chemical supply control unit 162 causes the blow process to be executed when the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is equal to or higher than the third electrical conductivity ECth3, and the scale inhibitor Stop supplying.

そのため、ブロープロセスの実行により、循環水W110の濃縮度が低くなった場合には、スケール防止剤が供給されない。このため、スケール防止剤の過剰な供給を抑制することができる。   Therefore, when the concentration of the circulating water W110 becomes low due to the execution of the blow process, the scale inhibitor is not supplied. For this reason, the excessive supply of a scale inhibitor can be suppressed.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention can be implemented with a various form, without being limited to embodiment mentioned above.

本実施形態では、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となるまで、少なくとも第1設定量の殺菌剤を継続的に供給させるようにしている。これに限らず、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4未満の場合には殺菌剤を供給せず、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となった場合にのみ、例えば、第2設定量の殺菌剤を供給させるようにしてもよい。   In the present embodiment, at least the first set amount of the bactericide is continuously supplied until the electrical conductivity EC of the circulating water W110 becomes equal to or higher than the fourth electrical conductivity ECth4. Not limited to this, when the electrical conductivity EC of the circulating water W110 is less than the fourth electrical conductivity ECth4, no bactericidal agent is supplied, and the electrical conductivity EC of the circulating water W110 becomes equal to or higher than the fourth electrical conductivity ECth4. For example, the second set amount of the bactericidal agent may be supplied only when the sterilizing agent is used.

本実施形態では、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となった場合に、第2設定量(固定値)の殺菌剤を供給するようにしている。これに限らず、循環水W110の電気伝導率ECが第4電気伝導率ECth4以上となった場合に、その増加量に比例して殺菌剤の供給量を多くしてもよい。このような制御を行うことにより、循環水W110の濃縮度に応じて殺菌効果を高めることができる。   In the present embodiment, when the electrical conductivity EC of the circulating water W110 becomes equal to or higher than the fourth electrical conductivity ECth4, the second set amount (fixed value) of the bactericide is supplied. Not limited to this, when the electrical conductivity EC of the circulating water W110 becomes equal to or higher than the fourth electrical conductivity ECth4, the supply amount of the bactericide may be increased in proportion to the increase amount. By performing such control, the sterilizing effect can be enhanced according to the concentration of the circulating water W110.

本実施形態では、薬剤としてのスケール防止剤、防食剤及び殺菌剤を、循環水W110へ供給する例について説明した。これに限らず、これら薬剤を補給水W121に供給してもよい。又は、これら薬剤を循環水W110と補給水W121の両方へ供給してもよい。   In this embodiment, the example which supplies the scale inhibitor, the anticorrosive, and the disinfectant as a chemical | medical agent to the circulating water W110 was demonstrated. Not limited to this, these chemicals may be supplied to the makeup water W121. Alternatively, these chemicals may be supplied to both the circulating water W110 and the makeup water W121.

本実施形態では、薬剤としてのスケール防止剤、防食剤及び殺菌剤を、冷却塔110の貯留部116へ供給する例について説明した。これに限らず、これら薬剤を冷却塔110の散水部112又は循環水ラインL110(循環水供給ラインL111、循環水回収ラインL112)に供給してもよい。   In this embodiment, the example which supplies the scale inhibitor, the anticorrosive, and the disinfectant as a chemical | medical agent to the storage part 116 of the cooling tower 110 was demonstrated. Not only this but these chemical | medical agents may be supplied to the watering part 112 or the circulating water line L110 (the circulating water supply line L111, the circulating water collection | recovery line L112) of the cooling tower 110. FIG.

本実施形態においては、冷却塔110を開放式冷却塔として構成した例について示したが、これに限らず、冷却塔110を密閉式冷却塔として構成してもよい。   In this embodiment, although the example which comprised the cooling tower 110 as an open type cooling tower was shown, it does not restrict to this and you may comprise the cooling tower 110 as a closed type cooling tower.

100 水処理システム
101 システム制御装置
102 制御部
103 メモリ
110 冷却塔
112 散水部
116 貯留部
131 被冷却装置
133 電気伝導率測定装置(電気伝導率検出手段)
134 スケール防止剤供給装置(スケール防止剤供給手段)
135 防食剤供給装置(防食剤供給手段)
136 殺菌剤供給装置(殺菌剤供給手段)
161 ブロープロセス実行部(ブロープロセス実行手段)
162 薬剤供給制御部(水質制御手段)
L110 循環水ライン
L120 補給水ライン
L140 排水ライン
W110 循環水
W120 補給水
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Water treatment system 101 System control apparatus 102 Control part 103 Memory 110 Cooling tower 112 Sprinkling part 116 Storage part 131 Cooled apparatus 133 Electrical conductivity measuring apparatus (electrical conductivity detection means)
134 Scale inhibitor supply device (scale inhibitor supply means)
135 Anticorrosive supply device (corrosion preventive supply means)
136 Disinfectant supply device (disinfectant supply means)
161 Blow process execution unit (Blow process execution means)
162 Drug supply control unit (water quality control means)
L110 Circulating water line L120 Makeup water line L140 Drainage line W110 Circulating water W120 Makeup water

Claims (3)

被冷却装置へ供給する循環水を冷却する冷却塔と、
循環水を前記冷却塔と前記被冷却装置との間で循環させる循環水ラインと、
補給水を前記冷却塔内に供給する補給水ラインと、
循環水及び/又は補給水に防食剤を供給する防食剤供給手段と、
循環水及び/又は補給水にスケール防止剤を供給するスケール防止剤供給手段と、
循環水の電気伝導率を検出する電気伝導率検出手段と、
(i)前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率が防食剤の供給を開始させる電気伝導率の下限閾値である第1電気伝導率を下回る場合には、前記防食剤供給手段から防食剤を供給させる処理を実行し、(ii)前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率がスケール防止剤の供給を開始させる電気伝導率の上限閾値である第2電気伝導率を上回る場合には、前記スケール防止剤供給手段からスケール防止剤を供給させる処理を実行する水質制御手段と、
を備える水処理システム。
A cooling tower for cooling the circulating water supplied to the apparatus to be cooled;
A circulating water line for circulating circulating water between the cooling tower and the cooled device;
A makeup water line for supplying makeup water into the cooling tower;
An anticorrosive supply means for supplying an anticorrosive to the circulating water and / or makeup water;
Anti-scale agent supply means for supplying anti-scale agent to circulating water and / or makeup water;
Electrical conductivity detecting means for detecting the electrical conductivity of the circulating water;
(I) When the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detecting means is lower than the first electrical conductivity which is a lower threshold of electrical conductivity for starting the supply of the anticorrosive agent, the anticorrosive agent supplying means (Ii) When the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detecting means exceeds the second electrical conductivity that is the upper limit threshold value of electrical conductivity for starting the supply of the scale inhibitor. The water quality control means for executing the process of supplying the scale inhibitor from the scale inhibitor supply means,
A water treatment system comprising.
循環水及び/又は補給水に殺菌剤を供給する殺菌剤供給手段を更に備え、
前記水質制御手段は、前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率に基づいて、前記殺菌剤供給手段から供給する殺菌剤の量を制御する請求項1に記載の水処理システム。
A sterilizing agent supplying means for supplying the sterilizing water to the circulating water and / or makeup water;
2. The water treatment system according to claim 1, wherein the water quality control unit controls the amount of the sterilizing agent supplied from the sterilizing agent supplying unit based on the electrical conductivity detected by the electrical conductivity detecting unit.
少なくとも循環水の一部を前記冷却塔及び/又は前記循環水ラインから排出すると共に、補給水を前記冷却塔内に補給するブロープロセスを実行するブロープロセス実行手段を更に備え、
前記水質制御手段は、前記電気伝導率検出手段で検出された電気伝導率がブロープロセスの実行を開始させる電気伝導率の上限閾値である第3電気伝導率を上回る場合には、前記ブロープロセス実行手段によりブロープロセスを実行させると共に、前記スケール防止剤供給手段からのスケール防止剤の供給を停止させる請求項1又は2に記載の水処理システム。
And further comprising a blow process execution means for discharging a at least part of the circulating water from the cooling tower and / or the circulating water line and executing a blow process for supplying make-up water into the cooling tower,
The water quality control means executes the blow process when the electric conductivity detected by the electric conductivity detection means exceeds a third electric conductivity that is an upper limit threshold of electric conductivity for starting execution of the blow process. The water treatment system according to claim 1 or 2, wherein the blow process is executed by the means and the supply of the scale inhibitor from the scale inhibitor supply means is stopped.
JP2011148120A 2011-07-04 2011-07-04 Water treatment system Pending JP2013015259A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011148120A JP2013015259A (en) 2011-07-04 2011-07-04 Water treatment system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011148120A JP2013015259A (en) 2011-07-04 2011-07-04 Water treatment system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013015259A true JP2013015259A (en) 2013-01-24

Family

ID=47688090

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011148120A Pending JP2013015259A (en) 2011-07-04 2011-07-04 Water treatment system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013015259A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104390321A (en) * 2014-11-20 2015-03-04 北京世纪微熵科技有限公司 Central air-conditioning system and device and method for controlling water treating device of central air-conditioning system
CN107101510A (en) * 2017-05-26 2017-08-29 西安长庆科技工程有限责任公司 A kind of sealing and circulating water integrating device
JP2019032099A (en) * 2017-08-04 2019-02-28 アクアス株式会社 Chemical feeder and cooling tower facility
CN111747561A (en) * 2020-06-10 2020-10-09 华电电力科学研究院有限公司 Automatic control system for water quality of high-level water collecting cooling tower of thermal power plant
JP2020534505A (en) * 2017-09-19 2020-11-26 エコラブ ユーエスエイ インク Cooling water monitoring and control system
US11668535B2 (en) 2017-11-10 2023-06-06 Ecolab Usa Inc. Cooling water monitoring and control system

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06317393A (en) * 1992-11-02 1994-11-15 Aqua Yunitei Kk Water quality control method for circulating cooling water in cooling tower
JP2002372396A (en) * 2001-06-13 2002-12-26 Katayama Chem Works Co Ltd Method and system for treating water of circulating cooling water system
JP2003256029A (en) * 2002-02-27 2003-09-10 Hakuto Co Ltd Control facility management system
JP2005169330A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Sharp Corp Scale deposition prevention system and scale deposition prevention method
JP2010094624A (en) * 2008-10-17 2010-04-30 Miura Co Ltd Operation control unit of circulating water system and method for operating circulating water system
WO2011074043A1 (en) * 2009-12-18 2011-06-23 三菱電機株式会社 Fluid quality adjustment device, fluid quality adjustment method, and wire electric discharge machining apparatus
JP2011127810A (en) * 2009-12-16 2011-06-30 Miura Co Ltd Water treatment system

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06317393A (en) * 1992-11-02 1994-11-15 Aqua Yunitei Kk Water quality control method for circulating cooling water in cooling tower
JP2002372396A (en) * 2001-06-13 2002-12-26 Katayama Chem Works Co Ltd Method and system for treating water of circulating cooling water system
JP2003256029A (en) * 2002-02-27 2003-09-10 Hakuto Co Ltd Control facility management system
JP2005169330A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Sharp Corp Scale deposition prevention system and scale deposition prevention method
JP2010094624A (en) * 2008-10-17 2010-04-30 Miura Co Ltd Operation control unit of circulating water system and method for operating circulating water system
JP2011127810A (en) * 2009-12-16 2011-06-30 Miura Co Ltd Water treatment system
WO2011074043A1 (en) * 2009-12-18 2011-06-23 三菱電機株式会社 Fluid quality adjustment device, fluid quality adjustment method, and wire electric discharge machining apparatus

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104390321A (en) * 2014-11-20 2015-03-04 北京世纪微熵科技有限公司 Central air-conditioning system and device and method for controlling water treating device of central air-conditioning system
CN104390321B (en) * 2014-11-20 2017-02-22 北京世纪微熵科技股份有限公司 Central air conditioning system and control device and control method of water treatment equipment of central air conditioning system
CN107101510A (en) * 2017-05-26 2017-08-29 西安长庆科技工程有限责任公司 A kind of sealing and circulating water integrating device
JP2019032099A (en) * 2017-08-04 2019-02-28 アクアス株式会社 Chemical feeder and cooling tower facility
JP7019340B2 (en) 2017-08-04 2022-02-15 アクアス株式会社 Grout equipment and cooling tower equipment
JP2020534505A (en) * 2017-09-19 2020-11-26 エコラブ ユーエスエイ インク Cooling water monitoring and control system
JP7354113B2 (en) 2017-09-19 2023-10-02 エコラブ ユーエスエイ インク Cooling water monitoring and control system
US11891309B2 (en) 2017-09-19 2024-02-06 Ecolab Usa Inc. Cooling water monitoring and control system
US11668535B2 (en) 2017-11-10 2023-06-06 Ecolab Usa Inc. Cooling water monitoring and control system
CN111747561A (en) * 2020-06-10 2020-10-09 华电电力科学研究院有限公司 Automatic control system for water quality of high-level water collecting cooling tower of thermal power plant

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013015259A (en) Water treatment system
JP5206308B2 (en) Circulating water system operation control device and circulating water system operating method
JP5136830B2 (en) Cooling tower makeup water quality control device
JP5853444B2 (en) Water treatment system
JP2014087728A (en) Water treatment adjusting system
JP2010194402A (en) Water treatment system and treatment method of cooling system circulating water
JP5375908B2 (en) Heat pump water heater
JP2013000698A (en) Water treatment system
JP5454122B2 (en) Water treatment system
JP5045618B2 (en) Water treatment agent and water treatment method
JP5811621B2 (en) Water treatment system
JP5359745B2 (en) Water treatment system
JP5703552B2 (en) Water treatment system
JP5799717B2 (en) Water treatment system
JP5471422B2 (en) Water treatment system
JP5703554B2 (en) Water treatment system
JP6084385B2 (en) Circulating water system chemical injection control method and circulating water system chemical injection control apparatus
JP2015089547A (en) Chemical agent supplying device
JP2013128927A (en) Chemicals feeding control method of circulating water system and chemicals feeding control device of circulating water system
JP6455201B2 (en) Water treatment system
JP2007205591A (en) Operating method of cooling tower
JP5707708B2 (en) Water treatment system
JP5895626B2 (en) Water treatment system
JP6750278B2 (en) Water treatment system
JP2006200855A (en) Cooling tower, cooling method for circulation water in cooling tower, and cooling method for circulation water-cooling sprinkling water in cooling tower

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140424

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150210

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150401

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150908