JP2017179530A - Plated product and method for manufacturing the same - Google Patents

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俊彦 久保田
Toshihiko Kubota
俊彦 久保田
岳之 橋田
Takeyuki Hashida
岳之 橋田
渡辺 裕一
Yuichi Watanabe
裕一 渡辺
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Kizai KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin plated product having high adhesion strength between a plated layer and a body to be plated, and having sufficient surface appearance even when the plated layer is thin.SOLUTION: The plated product comprises a body to be plated having a resin layer including a thermoplastic resin composition on the surface and a plated layer provided thereon. The thermoplastic resin composition includes: a graft copolymer (I) obtained by graft co-polymerizing a monomer mixture including at least an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer with a rubbery polymer; and a styrene based copolymer (II) using at least the unsaturated nitrile monomer and the aromatic vinyl monomer as a constituent. The maximum height difference of irregularities on the surface of the body to be plated is 200 nm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、めっき製品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a plated product and a manufacturing method thereof.

近年、金属部品の樹脂化による軽量化や、樹脂製品への意匠性付与を目的として、樹脂表面へのめっき処理が行われている。この際用いられる樹脂としては種々あるが、めっきのしやすさ、剛性感(より金属感に近い)、及び価格面より、ABS樹脂が一般的に用いられている。
ところで、これまでの一般的な樹脂成形体等へのめっきの方法としては、クロム酸混液等の溶剤によるエッチングにより樹脂成形体表面に凹凸を形成した後に、中和、触媒付与、無電解めっき、電気めっきを行う方法が採られている。上述したように、このエッチングの溶剤としては、三酸化クロムを主成分とするクロム酸混液が用いられている。しかしながら、このクロム酸混液に含まれる6価クロムは有害物質であり、作業環境への悪影響、排水等の環境への悪影響といった問題が指摘されてきている。
このような課題に対し、例えば、特許文献1では過マンガン酸を使用したエッチング液を使用するめっき方法や、特許文献2では紫外線照射によるエッチング工程を含むめっき方法が提案されている。
エッチングの目的は、樹脂とめっき層の密着強度の向上である。すなわち、クロム酸混液の強力な酸化作用等により樹脂表面に、概ね500nm程度の高低差を有する大きな凹凸を生じさせ、その上にめっき層を施すことで、凹凸による物理的密着性を発現させるものである。
そのため、めっき表面外観(平滑性)を向上させるためには、樹脂上にこの凹凸が出ないほどの、かなり厚いめっき層を形成させる必要があった。この厚いめっき層により、樹脂成形品の表面形状のトレース性が大きく低下するとともに、工程での時間的負荷を生じさせコストの面でも不利であった。
In recent years, a plating process on a resin surface has been performed for the purpose of reducing the weight by converting a metal part into a resin and imparting design properties to a resin product. There are various types of resins used at this time, but ABS resins are generally used from the viewpoint of ease of plating, a feeling of rigidity (closer to a metal feeling), and price.
By the way, as a conventional plating method for resin moldings, etc., after forming irregularities on the resin molding surface by etching with a solvent such as chromic acid mixed solution, neutralization, catalyst application, electroless plating, A method of performing electroplating is employed. As described above, a chromic acid mixed solution containing chromium trioxide as a main component is used as a solvent for this etching. However, hexavalent chromium contained in this chromic acid mixture is a harmful substance, and problems such as adverse effects on the working environment and environmental effects such as drainage have been pointed out.
For example, Patent Document 1 proposes a plating method using an etching solution using permanganic acid, and Patent Document 2 proposes a plating method including an etching process by ultraviolet irradiation.
The purpose of the etching is to improve the adhesion strength between the resin and the plating layer. In other words, the surface of the resin has large irregularities with a height difference of about 500 nm due to the strong oxidizing action of the mixed chromic acid, and a plating layer is formed thereon to express physical adhesion due to the irregularities. It is.
Therefore, in order to improve the appearance (smoothness) of the plating surface, it is necessary to form a considerably thick plating layer that does not cause the unevenness on the resin. This thick plating layer greatly reduces the traceability of the surface shape of the resin molded product, and causes a time load in the process, which is disadvantageous in terms of cost.

近年、これまで金属が使用されてきていた部品へも、樹脂製のめっき製品を適用しようとする試みが行われており、微小な部品へめっきを施すことへの要望が高まっている。微小な部品ゆえに、樹脂製品の形状のトレース性が要求されてきており、市場からは、薄いめっき層でも、充分な表面外観を有するめっき製品が強く求められている。   In recent years, attempts have been made to apply resin-plated products to parts for which metal has been used so far, and there is an increasing demand for plating minute parts. The traceability of the shape of the resin product has been required due to the minute parts, and the market strongly demands a plated product having a sufficient surface appearance even with a thin plating layer.

WO2015/060196号WO2015 / 060196 特開2015−57515号公報JP2015-57515A

従来の技術における公知文献に示されたような依然として重金属をエッチング剤液として使用する技術では、エッチング時間が長く工程負荷が依然として高いといった課題は解決されていない。また、紫外線照射によるエッチング技術では、特定の樹脂のみへの適用の提案であって、ABS樹脂等に適用した場合には密着強度が充分でなく、適用できないものであった。
また、いずれにおいても、めっき層の厚みを薄くすると、良好な表面外観を得られないという問題があった。
すなわち、本発明は、高いめっき層−被めっき体間密着強度を有し、めっき層が薄い場合でも、充分な表面外観を有する樹脂めっき製品を提供することを目的とする。
In the technique using heavy metal as an etchant solution as shown in the publicly known literature in the prior art, the problem that the etching time is long and the process load is still high is not solved. In addition, the etching technique by ultraviolet irradiation is a proposal for application only to a specific resin, and when applied to an ABS resin or the like, the adhesion strength is not sufficient and cannot be applied.
In either case, there is a problem that a good surface appearance cannot be obtained if the thickness of the plating layer is reduced.
That is, an object of the present invention is to provide a resin plating product having a high plating layer-to-be-plated adhesion strength and having a sufficient surface appearance even when the plating layer is thin.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、めっき層に接する被めっき体の樹脂表面を高度に平滑にする、具体的には凹凸の高低差を特定の範囲にすることで、めっき層を厚くしなくても平滑な表面外観を有する樹脂めっき製品を形成することができ、しかも実用に耐え得る密着強度も実現できること、さらに、密着強度は、ABS樹脂に不飽和ニトリル単量体単位含有量の高いスチレン系共重合体を含有させた場合に高まることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have made the resin surface of the object to be plated in contact with the plating layer highly smooth, specifically, by setting the level difference of the unevenness to a specific range, It is possible to form a resin-plated product with a smooth surface appearance without increasing the thickness, and also to achieve an adhesive strength that can withstand practical use. Furthermore, the adhesive strength is the content of unsaturated nitrile monomer units in the ABS resin The present invention was completed by finding that it increases when a high styrene copolymer is contained.

すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]熱可塑性樹脂組成物を含む樹脂層を表面に有する被めっき体と、その上に設けられためっき層とを有するめっき製品であって、
前記熱可塑性樹脂組成物が、ゴム質重合体に少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体とを含む単量体混合物がグラフト共重合したグラフト共重合体(I)と、少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体を構成成分とするスチレン系共重合体(II)とを含み、
前記被めっき体の表面の凹凸の高低差の最大値が200nm以下である、
めっき製品。
[2]JIS H8630に準拠した測定方法による前記めっき層と前記被めっき体との密着強度が5N/cm以上である、[1]に記載のめっき製品。
[3]前記スチレン系共重合体(II)が、不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計を100質量%としたときに、不飽和ニトリル単量体単位を30〜50質量%含む、[1]又は[2]に記載のめっき製品。
[4]紫外線照射によるエッチング工程を含む、[1]〜[3]のいずれかに記載のめっき製品の製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1] A plated product having a body to be plated having a resin layer containing a thermoplastic resin composition on the surface, and a plating layer provided thereon,
The thermoplastic resin composition comprises at least a graft copolymer (I) obtained by graft copolymerization of a rubber mixture with a monomer mixture containing at least an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer. A styrene copolymer (II) comprising a saturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer as constituent components,
The maximum value of the height difference of the unevenness of the surface of the object to be plated is 200 nm or less,
Plating product.
[2] The plated product according to [1], wherein an adhesion strength between the plated layer and the object to be plated is 5 N / cm or more by a measurement method based on JIS H8630.
[3] When the styrene copolymer (II) has a total of 100% by mass of unsaturated nitrile monomer units and aromatic vinyl monomer units, 30 to 30 unsaturated nitrile monomer units. The plated product according to [1] or [2], containing 50% by mass.
[4] The method for producing a plated product according to any one of [1] to [3], including an etching step by ultraviolet irradiation.

本発明によれば、めっき層を極端に厚くしなくても表面外観が良好で、かつ、高い密着強度(めっき層−樹脂層間密着強度)を有する、樹脂めっき製品を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it does not make a plating layer extremely thick, the surface appearance is favorable and it can provide the resin plating product which has high adhesion strength (plating layer-resin interlayer adhesion strength).

めっき製品の断面の走査透過型電子顕微鏡(STEM)写真の具体例である。It is a specific example of the scanning transmission electron microscope (STEM) photograph of the cross section of a plating product. 実施例6及び比較例3における被めっき体の形状を示す概略図である。It is the schematic which shows the shape of the to-be-plated body in Example 6 and Comparative Example 3. FIG.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made without departing from the gist thereof. Is possible.

<被めっき体>
本実施形態のめっき製品を構成する、めっき層に接する被めっき体は、熱可塑性樹脂組成物を含む樹脂層を表面に有する。被めっき体は、その表面が樹脂で構成されていればよく、例えば、それ全体が樹脂(熱可塑性樹脂組成物を含む組成物)で形成されていてもよいし、樹脂以外のもので構成されたコア部とその表面に形成された樹脂層とから形成されていてもよい。
本実施形態においては、被めっき体の表面(前記樹脂層の表面)がきわめて平滑であり、具体的にはその凹凸の高低差の最大値が200nm以下である。この凹凸が小さい事で、めっき層を厚くすることなく良好な表面外観を与えることが可能となる。従来、被めっき体の表面には、密着強度を高めるために、エッチング処理等により比較的大きな凹凸が形成されていた。そのため、めっき層を厚くしないと良好な表面外観を達成することができなかった。しかしながら、本発明者らの研究によれば、予想外なことに、凹凸の高低差の最大値が200nm以下であっても十分な密着強度が得られることが判明した。
好ましい凹凸の高低差の最大値は、150nmであり、より好ましくは100nmであり、更により好ましくは70nmであり、最も好ましくは50nmである。平滑であればあるほど良いので、最小値は特にない。もっとも、一般的には数nmのなだらかな凹凸は有しているものである。
<Substance to be plated>
The to-be-plated body which contacts the plating layer which comprises the plating product of this embodiment has the resin layer containing a thermoplastic resin composition on the surface. The surface of the object to be plated only needs to be made of a resin. For example, the entire body may be made of a resin (a composition containing a thermoplastic resin composition) or made of a material other than a resin. It may be formed from a core portion and a resin layer formed on the surface thereof.
In the present embodiment, the surface of the object to be plated (the surface of the resin layer) is extremely smooth. Specifically, the maximum value of the height difference of the unevenness is 200 nm or less. Since the unevenness is small, it is possible to give a good surface appearance without increasing the thickness of the plating layer. Conventionally, relatively large irregularities have been formed on the surface of the object to be plated by etching or the like in order to increase the adhesion strength. Therefore, a good surface appearance could not be achieved unless the plating layer was thickened. However, according to the study by the present inventors, it has been unexpectedly found that sufficient adhesion strength can be obtained even if the maximum value of the uneven height difference is 200 nm or less.
The maximum value of the height difference of the preferable unevenness is 150 nm, more preferably 100 nm, still more preferably 70 nm, and most preferably 50 nm. Since the smoother the better, there is no minimum value. However, in general, the surface has gentle irregularities of several nm.

本実施形態における、上記凹凸の高低差は、めっき製品の断面(めっき表面の接平面に垂直な断面)からFIB(Focused Ion Beam)法により作成した超薄切片を用いて、走査透過型電子顕微鏡(STEM)にてめっき層と樹脂層の界面を、1.7×2.5μmの視野で任意に撮影し、めっき層と接触する樹脂表面の最も大きい凹凸の高低差を測定することで得られる。STEMの明視野観察では、原子番号の大きい領域が暗く、原子番号の小さい領域が明るいコントラストが得られる。めっきに用いる触媒やめっき層は金属であり、炭素や水素を主成分とする樹脂と比べて原子番号が大きい。これを利用して、各視野におけるコントラストの暗い層と接する明るい層の表面を、めっき層と接触する樹脂表面とみなすことができる(図1参照)。
このようにして、最も大きい凹凸の高低差を、めっき製品の断面の任意の10視野について測定し、それら10個の平均値を、本実施形態における、被めっき体の表面の凹凸の高低差の最大値とする。
In the present embodiment, the height difference of the unevenness is determined by using a scanning transmission electron microscope using an ultrathin section prepared by a FIB (Focused Ion Beam) method from a cross section of the plated product (cross section perpendicular to the tangent plane of the plating surface). (STEM) is obtained by arbitrarily photographing the interface between the plating layer and the resin layer with a field of view of 1.7 × 2.5 μm and measuring the height difference of the largest unevenness on the resin surface in contact with the plating layer. . In bright field observation of STEM, a region with a large atomic number is dark and a region with a small atomic number is bright. The catalyst or plating layer used for plating is a metal, and has a larger atomic number than a resin mainly composed of carbon or hydrogen. By utilizing this, the surface of the bright layer in contact with the dark contrast layer in each field of view can be regarded as the resin surface in contact with the plating layer (see FIG. 1).
In this way, the difference in height of the largest unevenness is measured for any 10 fields of view of the cross section of the plated product, and the average value of these 10 is the height difference of the unevenness on the surface of the object to be plated in this embodiment. Maximum value.

<熱可塑性樹脂組成物>
本実施形態において、被めっき体表面の樹脂層を構成する熱可塑性樹脂組成物は、グラフト共重合体(I)と、スチレン系共重合体(II)を含む。
<Thermoplastic resin composition>
In this embodiment, the thermoplastic resin composition which comprises the resin layer of the to-be-plated body surface contains the graft copolymer (I) and the styrene-type copolymer (II).

(グラフト共重合体(I))
グラフト共重合体(I)は、ゴム質重合体に、少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体とを含む単量体混合物をグラフト共重合させたグラフト共重合体である。
ゴム質重合体としては、例えば、ガラス転移温度(Tg)が0℃以下のものを好ましく用いることができる。
ゴム質重合体の具体例としては、以下に限定されないが、例えば、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレン−ブタジエンブロック共重合ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合ゴム等の共役ジエン系ゴム、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系ゴム、エチレン−プロピレンゴム、シリコンゴム、シリコン−アクリル複合ゴム、及びそれらの水素添加物等が挙げられる。
これらの中でも共役ジエン系ゴムが好ましく、特にポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムが好ましい。このうち、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンのブロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体は、めっき製品の耐衝撃性といった強度を維持するために好ましい。
(Graft copolymer (I))
The graft copolymer (I) is a graft copolymer obtained by graft copolymerizing a rubber polymer with a monomer mixture containing at least an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer.
As the rubbery polymer, for example, those having a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or less can be preferably used.
Specific examples of the rubbery polymer include, but are not limited to, polybutadiene, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, polyisoprene, polychloroprene, styrene-butadiene block copolymer rubber, styrene- Isoprene block copolymer rubber, conjugated diene rubber such as ethylene-propylene-diene terpolymer rubber, acrylic rubber such as polybutyl acrylate, ethylene-propylene rubber, silicon rubber, silicon-acrylic composite rubber, and their Examples thereof include hydrogenated products.
Among these, conjugated diene rubbers are preferable, and polybutadiene, styrene-butadiene copolymer rubber, and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber are particularly preferable. Among these, polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer, and acrylonitrile-butadiene copolymer are preferable in order to maintain strength such as impact resistance of the plated product.

また、グラフト共重合体(I)に含まれるゴム質重合体は、粒子状であることが好ましく、また熱可塑性樹脂組成物中で微分散した状態で存在することが好ましい。その数平均粒子径は、0.05μm以上0.4μm以下であることが、好ましい。より好ましいゴム質重合体の体積平均粒子径の下限としては、0.07μmであり、更に好ましくは0.10μmであり、最も好ましくは、0.15μmである。また好ましい上限は0.35μmであり、最も好ましくは0.3μmである。
上記数平均粒子径とは、被めっき体の表面の樹脂層の任意の少なくとも20μm×40μmの範囲について、透過型電子顕微鏡(TEM)により、粒子径を画像解析で求めることにより算出することができる。この時、少なくとも2000個の粒子を計測対象とし、長径と短径がある場合は、その平均をもって、粒子径とする。また、透過型電子顕微鏡で観察するに際し、ゴム質重合体をより確認しやすくするため、樹脂層を四酸化オスミウム等の重金属で染色することが推奨される。
The rubbery polymer contained in the graft copolymer (I) is preferably in the form of particles, and preferably present in a finely dispersed state in the thermoplastic resin composition. The number average particle diameter is preferably 0.05 μm or more and 0.4 μm or less. The lower limit of the volume average particle diameter of the rubbery polymer is more preferably 0.07 μm, further preferably 0.10 μm, and most preferably 0.15 μm. Moreover, a preferable upper limit is 0.35 micrometer, Most preferably, it is 0.3 micrometer.
The number average particle diameter can be calculated by obtaining the particle diameter by image analysis with a transmission electron microscope (TEM) in an arbitrary range of at least 20 μm × 40 μm of the resin layer on the surface of the object to be plated. . At this time, at least 2000 particles are to be measured, and when there are a major axis and a minor axis, the average is taken as the particle diameter. Further, when observing with a transmission electron microscope, it is recommended that the resin layer be stained with a heavy metal such as osmium tetroxide in order to make it easier to confirm the rubbery polymer.

本実施形態のゴム質重合体にグラフト共重合させることが可能な不飽和ニトリル単量体としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル及びエタクリロニトリル等が挙げられる。
これらの不飽和ニトリル単量体は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the unsaturated nitrile monomer that can be graft copolymerized with the rubbery polymer of the present embodiment include acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, and the like.
These unsaturated nitrile monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本実施形態のゴム質重合体にグラフト共重合させることが可能な芳香族ビニル単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−エチルスチレン、p−エチルスチレン及びp−t−ブチルスチレン、ビニルナフタレンなどが挙げられる。
これらの芳香族ビニル単量体は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the aromatic vinyl monomer that can be graft-copolymerized with the rubbery polymer of the present embodiment include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, o-ethylstyrene, Examples thereof include p-ethylstyrene, pt-butylstyrene, and vinylnaphthalene.
These aromatic vinyl monomers may be used alone or in combination of two or more.

ゴム質重合体にグラフト共重合させることが可能な単量体混合物には、不飽和ニトリル単量体及び芳香族ビニル単量体の他に、ゴム質重合体とグラフト共重合可能なその他の単量体を含んでも良い。
このような単量体としては、以下に限定されないが、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体、無水マレイン酸、N−フェニルマレイミド、N−メチルマレイミド等のN−置換マレイミド系単量体、グリシジルメタクリレート等のグリシジル基含有単量体等が挙げられる。
これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用しても良い。
In addition to the unsaturated nitrile monomer and aromatic vinyl monomer, the monomer mixture that can be graft copolymerized with the rubber polymer includes other monomers that can be graft copolymerized with the rubber polymer. A mer may be included.
Examples of such monomers include, but are not limited to, N-substituted maleimide monomers such as unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomers, maleic anhydride, N-phenylmaleimide, N-methylmaleimide, and the like. And glycidyl group-containing monomers such as glycidyl methacrylate.
These may be used alone or in combination of two or more.

グラフト共重合体(I)を構成するゴム質重合体の製造方法に限定はないが、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、塊状懸濁重合法、乳化重合等の方法が使用できる。このうち、粒子形状のゴム成分が得られ、その粒子径の制御が容易であることから、乳化重合法、懸濁重合法、塊状懸濁重合法が好ましく用いられる。
ゴム質重合体として、複数のTgを有する重合体を用いる場合は、異なる単量体組成のものを、多段階に分けて重合して製造することができる。乳化重合法を用い、多段重合により製造するのが好ましい。
また、ゴム質重合体が、組成勾配を有する重合体の場合、単量体組成を連続的に変化させて重合することができる。例えば、乳化重合において、いわゆるパワーフィード法を用いて製造することができる。
ゴム質重合体が、芳香族ビニル系単量体と、ジエン系ビニル単量体のブロック共重合体の場合、例えばスチレン−ブタジエンブロック共重合体の場合は、溶液中でリビングアニオン重合により、製造することができる。
The method for producing the rubbery polymer constituting the graft copolymer (I) is not limited, and examples thereof include bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, bulk suspension polymerization, and emulsion polymerization. Can be used. Among these, a particle-shaped rubber component is obtained, and the particle diameter can be easily controlled, so that an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, and a bulk suspension polymerization method are preferably used.
When a polymer having a plurality of Tg is used as the rubbery polymer, those having different monomer compositions can be polymerized and produced in multiple stages. It is preferable to produce by multistage polymerization using an emulsion polymerization method.
In addition, when the rubbery polymer is a polymer having a composition gradient, the polymerization can be performed by continuously changing the monomer composition. For example, in emulsion polymerization, it can manufacture using what is called a power feed method.
When the rubber polymer is a block copolymer of an aromatic vinyl monomer and a diene vinyl monomer, for example, a styrene-butadiene block copolymer, it is produced by living anion polymerization in a solution. can do.

また、グラフト成分を含むグラフト共重合体(I)を製造する方法(ゴム質重合体に単量体混合物をグラフト重合させる方法)にも限定はなく、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、塊状懸濁重合法、乳化重合等の方法が使用できる。なお、粒子状のゴム質重合体を製造した後、同一の反応器で連続的にグラフト重合を行っても良いし、ゴム質重合体粒子を一旦ラテックスとして単離したのち、改めてグラフト重合を行っても良い。また、ラジカル開始剤を使用する場合、ペルオキソ二硫酸塩、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の開始剤を使うことができる。
このうち、乳化重合にて製造する際には、熱によりラジカルを発生する熱分解型の開始剤や、レドックス型の開始剤を用いることができる。乳化重合法では、例えば別途乳化重合で得たゴム質重合体を使用し、さらに不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体を含む単量体混合物を乳化重合させる方法等を用いることができる。ここで得られたグラフト部分は、スチレン系共重合体(II)と相溶するものであると耐衝撃性の点で好ましい。
また、溶液重合法を使用する場合は、ジエン単量体をリビングアニオン重合して無架橋のゴム質重合体を得た後、これと芳香族ビニル単量体と不飽和ニトリル単量体を溶かし合わせて重合を行うことにより、ゴム成分と高Tgの樹脂成分の複合体を析出させて得る方法等を用いることができる。
Further, there is no limitation on the method for producing the graft copolymer (I) containing the graft component (the method of graft polymerizing the monomer mixture onto the rubbery polymer). For example, the bulk polymerization method, the solution polymerization method, Methods such as turbid polymerization, bulk suspension polymerization, and emulsion polymerization can be used. In addition, after the production of the particulate rubber polymer, the graft polymerization may be continuously performed in the same reactor, or after the rubber polymer particles are once isolated as a latex, the graft polymerization is performed again. May be. When a radical initiator is used, an initiator such as peroxodisulfate or t-butylperoxy-2-ethylhexanoate can be used.
Among these, when producing by emulsion polymerization, a thermal decomposition type initiator that generates radicals by heat or a redox type initiator can be used. In the emulsion polymerization method, for example, a rubbery polymer obtained separately by emulsion polymerization may be used, and a method of emulsion polymerization of a monomer mixture containing an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer may be used. it can. The graft portion obtained here is preferably compatible with the styrene copolymer (II) from the viewpoint of impact resistance.
When using the solution polymerization method, a diene monomer is subjected to living anion polymerization to obtain an uncrosslinked rubber polymer, and then the aromatic vinyl monomer and unsaturated nitrile monomer are dissolved. By performing polymerization together, a method obtained by precipitating a composite of a rubber component and a high Tg resin component can be used.

グラフト共重合体(I)において、グラフト共重合している不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体の合計量100質量%に対する、不飽和ニトリル単量体の割合は20〜50質量%であることが好ましい。より好ましい下限は、25質量%であり、更に好ましくは28質量%であり、更により好ましくは30質量%であり、最も好ましくは32質量%である。また、より好ましい上限は、45質量%であり、更に好ましくは42質量%であり、最も好ましくは40質量%である。めっき層との密着性を高めるためには、20質量%以上であることが好ましく、成形体の色目の悪化を抑制するために、50質量%以下であることが好ましい。   In the graft copolymer (I), the ratio of the unsaturated nitrile monomer to the total amount of 100% by mass of the unsaturated nitrile monomer and aromatic vinyl monomer copolymerized is 20 to 50% by mass. It is preferable that A more preferable lower limit is 25% by mass, still more preferably 28% by mass, still more preferably 30% by mass, and most preferably 32% by mass. Moreover, a more preferable upper limit is 45 mass%, More preferably, it is 42 mass%, Most preferably, it is 40 mass%. In order to improve adhesiveness with a plating layer, it is preferable that it is 20 mass% or more, and in order to suppress the deterioration of the color of a molded object, it is preferable that it is 50 mass% or less.

グラフト共重合体(I)として最も好ましい態様の一例としては、ポリブタジエンをゴム質重合体として用い、該ポリブタジエンに不飽和ニトリル単量体としてアクリロニトリルが、芳香族ビニル単量体としてスチレンがグラフト共重合した共重合体が挙げられる。   As an example of the most preferred embodiment as the graft copolymer (I), polybutadiene is used as a rubber polymer, and acrylonitrile is used as an unsaturated nitrile monomer and styrene is used as an aromatic vinyl monomer. The copolymer which was made is mentioned.

本実施形態において、熱可塑性樹脂組成物に含まれるグラフト共重合体(I)やそれに含まれるゴム質重合体の含有量に特に制限はないが、ゴム質重合体の含有量が1〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましい。めっき層との密着強度を高く保つためには、ゴム質重合体の含有量は、1質量%以上であることが望ましく、めっき製品の表面外観悪化を抑制するためには30質量%以下であることが好ましい。
なお、本発明でいうゴム質重合体の含有量はフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いた成分解析によって求めることができる。具体的には、濃度既知のゴム質重合体を含有する複数サンプル(熱可塑性樹脂組成物)のピーク値を用いて作成された検量線を使用して、その含有量を求めることによって算出することができる。
In the present embodiment, the content of the graft copolymer (I) contained in the thermoplastic resin composition and the rubbery polymer contained therein is not particularly limited, but the content of the rubbery polymer is 1 to 30 mass. %, And more preferably 1 to 20% by mass. In order to keep the adhesion strength with the plating layer high, the content of the rubbery polymer is desirably 1% by mass or more, and in order to suppress deterioration of the surface appearance of the plated product, it is 30% by mass or less. It is preferable.
In addition, content of the rubber-like polymer as used in the field of this invention can be calculated | required by the component analysis using a Fourier-transform infrared spectrophotometer (FT-IR). Specifically, using a calibration curve created using the peak values of multiple samples (thermoplastic resin composition) containing rubbery polymers with known concentrations, calculating the content Can do.

(スチレン系共重合体(II))
スチレン系共重合体(II)は、少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体を構成成分とするスチレン系共重合体である。
スチレン系共重合体(II)を構成する不飽和ニトリル単量体及び芳香族ビニル単量体としては、各々、グラフト共重合体(I)に含まれる不飽和ニトリル単量体及び芳香族ビニル単量体の具体例として上述したものと同様のものを用いることができる。
(Styrene copolymer (II))
The styrene copolymer (II) is a styrene copolymer having at least an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer as constituent components.
Examples of the unsaturated nitrile monomer and aromatic vinyl monomer constituting the styrene copolymer (II) include the unsaturated nitrile monomer and aromatic vinyl monomer contained in the graft copolymer (I), respectively. The thing similar to what was mentioned above as a specific example of a monomer can be used.

スチレン系共重合体(II)には、これらと共重合可能なその他の単量体を含んでも良い。このような単量体としては、以下に限定されないが、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体、無水マレイン酸、N−フェニルマレイミド、N−メチルマレイミド等のN−置換マレイミド系単量体、グリシジルメタクリレート等のグリシジル基含有単量体等が挙げられる。
これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用しても良い。
The styrenic copolymer (II) may contain other monomers copolymerizable therewith. Examples of such monomers include, but are not limited to, N-substituted maleimide monomers such as unsaturated carboxylic acid alkyl ester monomers, maleic anhydride, N-phenylmaleimide, N-methylmaleimide, and the like. And glycidyl group-containing monomers such as glycidyl methacrylate.
These may be used alone or in combination of two or more.

スチレン系共重合体(II)を構成する不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量100質量%に対する、不飽和ニトリル単量体単位の割合は30〜50質量%であることが好ましい。より好ましい下限は、32質量%であり、更に好ましくは34質量%であり、最も好ましくは35質量%である。また、より好ましい上限は、48質量%であり、更に好ましくは45質量%であり、最も好ましくは40質量%である。
本発明者らの研究によれば、スチレン系共重合体(II)における不飽和ニトリル単量体単位の割合を、一般的な範囲(25〜30質量%程度)より高くすると、熱可塑性樹脂組成物とめっき層との密着性が高まることが判明した。十分なめっき層−被めっき体間密着強度を得るためには、不飽和ニトリル単量体単位の割合は20質量%以上であることが好ましく、もっとも、あまり高くし過ぎるとスチレン系共重合体(II)を含む組成物の耐衝撃性が低下するため、50質量%以下であることが好ましい。
The ratio of the unsaturated nitrile monomer unit to the total amount of 100% by mass of the unsaturated nitrile monomer unit and the aromatic vinyl monomer unit constituting the styrene copolymer (II) is 30 to 50% by mass. Preferably there is. A more preferable lower limit is 32% by mass, still more preferably 34% by mass, and most preferably 35% by mass. Moreover, a more preferable upper limit is 48 mass%, More preferably, it is 45 mass%, Most preferably, it is 40 mass%.
According to the study by the present inventors, when the ratio of the unsaturated nitrile monomer unit in the styrene copolymer (II) is higher than the general range (about 25 to 30% by mass), the thermoplastic resin composition It has been found that the adhesion between the object and the plating layer is increased. In order to obtain a sufficient adhesion strength between the plating layer and the object to be plated, the ratio of the unsaturated nitrile monomer unit is preferably 20% by mass or more. However, if it is too high, a styrene copolymer ( Since the impact resistance of the composition containing II) is lowered, it is preferably 50% by mass or less.

スチレン系共重合体(II)は、アセトンに溶解する。したがって、スチレン系共重合体(II)を構成する不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量に対する、不飽和ニトリル単量体単位の割合は、めっき製品の樹脂層部分をアセトンに浸漬し、その可溶成分を取出し、フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いて成分解析することによって求めることができる。具体的な手順を以下に示す。
(アセトン可溶分の分離)
乾燥した遠沈管を1サンプルにつき2本準備する。まず、遠沈管をデシケーター中で15分以上放冷した後、電子天秤で0.1mgまで精秤する。次に、めっき製品からめっきを剥離させることで得られた熱可塑性樹脂組成物から約1gを切削し、遠沈管に計量し、0.1mgまで精秤する。また、メスシリンダーでアセトン約20mLを採取し遠沈管に入れ、シリコン栓をして振とう機で2時間振とうする。振とう後、シリコン栓に付着しているサンプルは、少量のアセトンを用いて遠沈管内へ落とす。次いで、2本の遠沈管を日立工機株式会社製の日立高速冷却遠心機のローターへ対角線上にセットし、上記の日立高速冷却遠心機を操作して、回転数20000rpmで60分間遠心分離を行う。遠心分離終了後、沈殿管をローターから取り出し、上澄み液をデカンテーションする。この上澄み液を、80℃で1時間乾燥させた後、100℃で1時間減圧乾燥させ、アセトン可溶分を得ることができる。
(不飽和ニトリル単量体の割合の測定方法)
上記のようにして得られたアセトン可溶分からFT−IRを用いて組成分析を行うことができる。この場合、不飽和ニトリル単量体単位及び芳香族ビニル単量体単位の含有量が既知の共重合体のピーク値を用いて作成された検量線を使用して、不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の割合を求め、不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量に対する不飽和ニトリル単量体単位の割合を求めることができる。
The styrenic copolymer (II) is dissolved in acetone. Therefore, the ratio of the unsaturated nitrile monomer unit to the total amount of the unsaturated nitrile monomer unit and the aromatic vinyl monomer unit constituting the styrene copolymer (II) is the resin layer portion of the plated product. Is soaked in acetone, the soluble component is taken out, and the component is analyzed using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). The specific procedure is shown below.
(Separation of acetone-soluble matter)
Prepare two centrifuge tubes per sample. First, the centrifuge tube is allowed to cool for 15 minutes or more in a desiccator and then precisely weighed to 0.1 mg with an electronic balance. Next, about 1 g is cut from the thermoplastic resin composition obtained by peeling the plating from the plated product, weighed into a centrifuge tube, and precisely weighed to 0.1 mg. In addition, about 20 mL of acetone is collected with a graduated cylinder, put into a centrifuge tube, put on a silicon stopper, and shaken with a shaker for 2 hours. After shaking, the sample adhering to the silicon stopper is dropped into the centrifuge tube using a small amount of acetone. Next, set the two centrifuge tubes diagonally to the rotor of a Hitachi high-speed cooling centrifuge manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd., operate the Hitachi high-speed cooling centrifuge, and centrifuge for 60 minutes at a rotational speed of 20000 rpm. Do. After completion of the centrifugation, the sedimentation tube is taken out of the rotor, and the supernatant liquid is decanted. This supernatant can be dried at 80 ° C. for 1 hour and then dried under reduced pressure at 100 ° C. for 1 hour to obtain an acetone-soluble component.
(Measurement method of the ratio of unsaturated nitrile monomer)
Composition analysis can be performed using FT-IR from the acetone-soluble component obtained as described above. In this case, an unsaturated nitrile monomer unit is obtained using a calibration curve created using a peak value of a copolymer having a known content of unsaturated nitrile monomer unit and aromatic vinyl monomer unit. The ratio of the unsaturated nitrile monomer unit to the total amount of the unsaturated nitrile monomer unit and the aromatic vinyl monomer unit can be determined.

本実施形態において、熱可塑性樹脂組成物に含まれるスチレン系共重合体(II)の含有量に限定はないが、めっき層との密着強度を高く保つという観点から、10質量%以上であることが好ましく、より好ましくは20質量%以上、さらに好ましくは30質量%以上である。また、その上限についても限定はなく、例えば、80質量%以下としてもよいし、70質量%以下としてもよいし、60質量%以下としてもよい。   In the present embodiment, the content of the styrenic copolymer (II) contained in the thermoplastic resin composition is not limited, but is 10% by mass or more from the viewpoint of maintaining high adhesion strength with the plating layer. Is preferable, more preferably 20% by mass or more, and still more preferably 30% by mass or more. Moreover, there is no limitation also about the upper limit, for example, it is good also as 80 mass% or less, good also as 70 mass% or less, and good also as 60 mass% or less.

(添加剤)
本実施形態において、熱可塑性樹脂組成物には、必要に応じて、添加剤を配合して用いてもよい。上記添加剤としては、以下に限定されないが、例えば、ホスファイト系、ヒンダードフェノール系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系及びシアノアクリレート系の紫外線吸収剤及び酸化防止剤;高級脂肪酸や酸エステル系及び酸アミド系、さらに高級アルコール等の滑剤及び可塑剤;モンタン酸及びその塩、そのエステル、そのハーフエステル、ステアリルアルコール、ステラアマイド及びエチレンワックス等の離型剤;亜リン酸塩、次亜リン酸塩等の着色防止剤;核剤;アミン系、スルホン酸系、ポリエーテル系等の帯電防止剤;1,3−フェニレンビス(2,6−ジメチルフェニル=ホスファート)、テトラフェニル−m−フェニレンビスホスファート、フェノキシホスホリル、フェノキシホスファゼン等のリン系難燃剤;ハロゲン系難燃剤等を挙げることができる。
(Additive)
In this embodiment, you may mix | blend and use an additive for a thermoplastic resin composition as needed. Examples of the additive include, but are not limited to, for example, phosphite-based, hindered phenol-based, benzotriazole-based, benzophenone-based, benzoate-based, and cyanoacrylate-based UV absorbers and antioxidants; higher fatty acids and acid esters. And acid amides, lubricants and plasticizers such as higher alcohols; release agents such as montanic acid and its salts, esters, half esters, stearyl alcohol, stellar amide and ethylene wax; Anti-coloring agents such as phosphates; Nucleating agents; Antistatic agents such as amines, sulfonic acids, and polyethers; 1,3-phenylenebis (2,6-dimethylphenyl phosphate), tetraphenyl-m- Lithium bisphosphate, phenoxyphosphoryl, phenoxyphosphazene, etc. And a halogen-based flame retardants; system flame retardant.

上記滑剤としては、以下に限定されないが、例えば、脂肪族金属塩、ポリオレフィン類、ポリエステルエラストマー、ポリアミドエラストマー等が挙げられる。
これらの滑剤を配合して用いる場合、その好ましい量は、熱可塑性樹脂組成物を100質量部としたとき、0.1質量部以上10質量部以下である。
Examples of the lubricant include, but are not limited to, aliphatic metal salts, polyolefins, polyester elastomers, polyamide elastomers, and the like.
When these lubricants are blended and used, the preferred amount is 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less when the thermoplastic resin composition is 100 parts by mass.

上記脂肪酸金属塩としては、以下に限定されないが、例えば、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、亜鉛から選ばれる1種以上が含まれた金属と脂肪酸の塩が挙げられる。上記脂肪酸金属塩の具体例としては、以下に限定されないが、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム(モノ、ジ、トリ)、ステアリン酸亜鉛、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、リシノール酸カルシウム、ラウリン酸カルシウムを挙げることができる。上記の中でも好ましくは、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛等のステアリン酸系の金属塩が挙げられる。上記ステアリン酸系の金属塩の中でも、具体的にはステアリン酸カルシウムがより好ましい。
これらを配合して用いる場合、その好ましい量は、熱可塑性樹脂組成物を100質量部としたとき、0.1質量部以上5質量部以下である。
Examples of the fatty acid metal salt include, but are not limited to, a metal and fatty acid salt containing at least one selected from sodium, magnesium, calcium, aluminum, and zinc. Specific examples of the fatty acid metal salt include, but are not limited to, for example, sodium stearate, magnesium stearate, calcium stearate, aluminum stearate (mono, di, tri), zinc stearate, sodium montanate, montanic acid Examples include calcium, calcium ricinoleate, and calcium laurate. Among the above, stearic acid-based metal salts such as sodium stearate, magnesium stearate, calcium stearate, and zinc stearate are preferable. Among the stearic acid-based metal salts, specifically, calcium stearate is more preferable.
When these are blended and used, the preferable amount is 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less when the thermoplastic resin composition is 100 parts by mass.

上記ポリオレフィン類としては、以下に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、α−オレフィンなどの少なくとも1種以上から生成される組成物が挙げられ、これらは該組成物を原料に誘導された組成物も含む。具体的には、以下に限定されないが、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリエチレン(高密度、低密度、直鎖状低密度)、酸化型ポリオレフィン、グラフト重合ポリオレフィンなどが挙げられる。これらのうち、酸化型ポリオレフィンワックス、スチレン系樹脂をグラフトしたポリオレフィンが好ましく、更に好ましくは、ポリプロピレンワックス、ポリエチレンワックス、酸化型ポリプロピレンワックス、酸化型ポリエチレンワックス、アクリロニトリル−スチレン共重合体グラフトポリプロピレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体グラフトポリエチレン、スチレン重合体グラフトポリプロピレン、及びスチレン重合体グラフトポリエチレンである。
これらを配合して用いる場合、その好ましい量は、熱可塑性樹脂組成物を100質量部としたとき、0.1質量部以上10質量部以下である。
Although not limited to the following as said polyolefin, For example, the composition produced | generated from at least 1 or more types, such as ethylene, propylene, an alpha olefin, is mentioned, These are the compositions induced | guided | derived from this composition as a raw material Including. Specific examples include, but are not limited to, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polyethylene (high density, low density, linear low density), oxidized polyolefin, and graft polymerized polyolefin. Of these, oxidized polyolefin wax and polyolefin grafted with styrene resin are preferred, more preferably polypropylene wax, polyethylene wax, oxidized polypropylene wax, oxidized polyethylene wax, acrylonitrile-styrene copolymer grafted polypropylene, acrylonitrile- Styrene copolymer grafted polyethylene, styrene polymer grafted polypropylene, and styrene polymer grafted polyethylene.
When these are blended and used, the preferable amount is 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less when the thermoplastic resin composition is 100 parts by mass.

上記ポリエステルエラストマーとしては、以下に限定されないが、例えば、ジカルボン酸化合物とジヒドロキシ化合物との重縮合、オキシカルボン酸化合物の重縮合ラクトン化合物の開環重縮合、或いはこれらの各成分の混合物の重縮合などによって得られるポリエステルが挙げられる。ホモポリエステル又はコポリエステルの何れを用いてもよい。
これらを配合して用いる場合、その好ましい量は、熱可塑性樹脂組成物を100質量部としたとき、0.1質量部以上10質量部以下である。
上記ジカルボン酸化合物としては、以下に限定されないが、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、ナフタレン−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4−ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、3−スルホイソフタル酸ナトリウムなどの芳香族ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4−ジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、コハク酸、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、及びこれらのジカルボン酸の混合物などが挙げられ、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体なども含まれる。また、これらのジカルボン酸化合物は、エステル形成可能な誘導体、例えば、ジメチルエステルのような低級アルコールエステルの形で使用することも可能である。本実施形態においては、これらのジカルボン酸化合物を単独で、又は2種以上組み合わせて用いることができる。このうち、テレフタル酸、イソフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、セバシン酸、アジピン酸及びドデカンジカルボン酸が好ましい。
上記ジヒドロキシ化合物としては、以下に限定されないが、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ブテンジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシジフェニルエーテル、シクロヘキサンジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシジフェニルエーテル、シクロヘキサンジオール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンなどが挙げられ、これらのポリオキシアルキレングリコール及びこれらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体が挙げられる。これらのジヒドロキシ化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
上記オキシカルボン酸化合物としては、以下に限定されないが、例えば、オキシ安息香酸、オキシナフトエ酸、ジフェニレンオキシカルボン酸などが挙げられ、これらのアルキル、アルコキシ及びハロゲン置換体も含まれる。これらのオキシカルボン酸化合物は、単独で、又は2種以上組み合わせて用いることができる。また、ポリエステルエラストマーの製造のために、ε−カプロラクトンなどのラクトン化合物を用いることもできる。
Examples of the polyester elastomer include, but are not limited to, for example, polycondensation of a dicarboxylic acid compound and a dihydroxy compound, ring-opening polycondensation of a polycondensation lactone compound of an oxycarboxylic acid compound, or polycondensation of a mixture of these components. And polyester obtained by the above. Either a homopolyester or a copolyester may be used.
When these are blended and used, the preferable amount is 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less when the thermoplastic resin composition is 100 parts by mass.
Examples of the dicarboxylic acid compound include, but are not limited to, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, naphthalene-2,7-dicarboxylic acid, and diphenyl-4,4-dicarboxylic acid. , Aromatic dicarboxylic acids such as diphenoxyethanedicarboxylic acid, sodium 3-sulfoisophthalate, and aliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, dicyclohexyl-4,4-dicarboxylic acid , Diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethane dicarboxylic acid, succinic acid, oxalic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid and other aliphatic dicarboxylic acids, and mixtures of these dicarboxylic acids. Haloge And substituted are also included. These dicarboxylic acid compounds can also be used in the form of an ester-forming derivative, for example, a lower alcohol ester such as dimethyl ester. In this embodiment, these dicarboxylic acid compounds can be used alone or in combination of two or more. Of these, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, sebacic acid, adipic acid and dodecanedicarboxylic acid are preferred.
Examples of the dihydroxy compound include, but are not limited to, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, neopentyl glycol, butenediol, hydroquinone, resorcin, dihydroxy diphenyl ether, cyclohexane diol, hydroquinone, resorcin, dihydroxy diphenyl ether, cyclohexane diol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and the like, and these polyoxyalkylene glycols and their alkyl, alkoxy or halogen-substituted products are exemplified. These dihydroxy compounds can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the oxycarboxylic acid compound include, but are not limited to, oxybenzoic acid, oxynaphthoic acid, diphenyleneoxycarboxylic acid, and the like, and these alkyl, alkoxy, and halogen substituted products are also included. These oxycarboxylic acid compounds can be used alone or in combination of two or more. A lactone compound such as ε-caprolactone can also be used for producing a polyester elastomer.

上記ポリアミドエラストマーとしては、以下に限定されないが、例えば、炭素数6以上のアミノカルボン酸もしくはラクタム、又はm+nが12以上のナイロンmn塩などが挙げられ、ハードセグメント(X)としては、以下に限定されないが、例えば、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナン酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノベルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸などのアミノカルボン酸;カプロラクタムラウロラクタムなどのラクタム類、ナイロン6,6、ナイロン6,10、ナイロン6,12、ナイロン11,6、ナイロン11,10、ナイロン12,6、ナイロン11,12、ナイロン12,10、ナイロン12,12などのナイロン塩が挙げられる。また、ポリオールなどのソフトセグメント(Y)としては、ポリエチレングリコール、ポリ(1,2−及び1,3−プロピレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ポリ(ヘキサメチレンオキシド)グリコール、エチレンオキシドとプロピレンオキシドとのブロック又はランダム共重合体、エチレンオキシドとテトラヒドロフランとのブロック又はランダム共重合体などが挙げられる。これらのソフトセグメント(Y)の数平均分子量は2.0×102〜6.0×103であることが好ましく、より好ましくは2.5×102〜4.0×103である。上記数平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により標準ポリスチレンとの比較からスチレン換算分子量として測定することができる。なお、ポリ(アルキレンオキシド)グリコールの両末端を、アミノ化又はカルボキシル化して用いてもよい。 Examples of the polyamide elastomer include, but are not limited to, for example, aminocarboxylic acids or lactams having 6 or more carbon atoms, nylon mn salts having m + n of 12 or more, and the hard segment (X) is limited to the following. For example, aminocarboxylic acids such as ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanoic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminobergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid; caprolactam Lactams such as laurolactam, nylon 6,6, nylon 6,10, nylon 6,12, nylon 11,6, nylon 11,10, nylon 12,6, nylon 11,12, nylon 12,10, nylon 12, Nylon salts such as 12. In addition, the soft segment (Y) such as polyol includes polyethylene glycol, poly (1,2- and 1,3-propylene oxide) glycol, poly (tetramethylene oxide) glycol, poly (hexamethylene oxide) glycol, and ethylene oxide. Examples thereof include a block or random copolymer of propylene oxide and a block or random copolymer of ethylene oxide and tetrahydrofuran. The number average molecular weight of these soft segments (Y) is preferably 2.0 × 10 2 to 6.0 × 10 3 , more preferably 2.5 × 10 2 to 4.0 × 10 3 . The number average molecular weight can be measured as a styrene equivalent molecular weight by comparison with standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). Note that both ends of poly (alkylene oxide) glycol may be aminated or carboxylated.

本実施形態において熱可塑性樹脂組成物に滑剤を添加する場合には、その相容性を向上させる目的で、さらに酸変性或いはエポキシ変性した変性樹脂を混合してもよい。
また、熱可塑性樹脂組成物の一部を、酸変性或いはエポキシ変性してもよい。このようなものとしては、例えば、熱可塑性樹脂組成物に含まれるグラフト共重合体(I)やスチレン系共重合体(II)にカルボキシル基又はグリシジル基を含有するビニルモノマーを共重合させたものなどが挙げられる。
これらを用いる場合、その好ましい量は、熱可塑性樹脂組成物全体を100質量部としたとき、0.1質量部以上10質量部以下である。
上記カルボキシル基を含有するビニルモノマーとしては、以下に限定されないが、例えば、アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、イタコン酸、マレイン酸等の遊離カルボキル基を含有する不飽和化合物、無水マレイン酸、無水イタコン酸、クロロ無水マレイン酸、無水シトラコン酸などの酸無水物型カルボキシル基を含有する不飽和化合物等があげられるが、これらの中では、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が好適である。
上記グリシジル基を含有するビニルモノマーとしては、以下に限定されないが、例えば、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、メチルグリシジルエーテル、メチルグリシジルメタクリレート等が挙げられるが、これらの中ではメタクリル酸グリシジルが好適である。
In the present embodiment, when a lubricant is added to the thermoplastic resin composition, an acid-modified or epoxy-modified modified resin may be further mixed for the purpose of improving the compatibility.
Further, a part of the thermoplastic resin composition may be acid-modified or epoxy-modified. For example, the graft copolymer (I) or the styrene copolymer (II) contained in the thermoplastic resin composition is copolymerized with a vinyl monomer containing a carboxyl group or a glycidyl group. Etc.
When using these, the preferable quantity is 0.1 to 10 mass parts when the whole thermoplastic resin composition is 100 mass parts.
Examples of the vinyl monomer containing a carboxyl group include, but are not limited to, unsaturated compounds containing a free carboxyl group such as acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, Examples thereof include unsaturated compounds containing an acid anhydride-type carboxyl group such as itaconic anhydride, chloromaleic anhydride, and citraconic anhydride. Among these, acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride are preferable. .
Examples of the vinyl monomer containing the glycidyl group include, but are not limited to, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, methyl glycidyl ether, methyl glycidyl methacrylate, and the like. Glycidyl is preferred.

(熱可塑性樹脂組成物の製造方法)
本実施形態に係るめっき製品の被めっき体の少なくとも表面を構成する熱可塑性樹脂組成物は、単軸又は2軸のベント付き押出機、プラストミル、ニーダー、バンバリーミキサー、ブラベンダー等の熱可塑性樹脂組成物組成物の製造に一般的に用いられる各種混合装置を用いて原料を混合することによって製造することができる。
(Method for producing thermoplastic resin composition)
The thermoplastic resin composition constituting at least the surface of the plated product of the plated product according to the present embodiment is a thermoplastic resin composition such as a single-screw or twin-screw extruder, plastmill, kneader, Banbury mixer, Brabender, etc. It can manufacture by mixing a raw material using the various mixing apparatuses generally used for manufacture of a composition.

<めっき製品>
本実施形態のめっき製品は、JIS H8630に準拠した測定方法によるめっき層と被めっき体との密着強度が5N/cm以上であることが望ましい。被めっき体の表面を大きな凹凸のない平滑なものとして、触媒金属を樹脂に浸透させることで、平滑な表面外観を有しながらこのような強固な密着性を有するめっき層を得られることは、これまでの技術常識からは考えると全く意外なことである。
密着強度はより好ましくは、8N/cm以上、更により好ましくは9N/cm以上、最も好ましくは10N/cm以上の強度である。上限は特になく、樹脂成形体の材料破壊が起きる強度によって異なる。密着強度がこの範囲にあることで、実使用時のめっき剥がれを防ぐことができる。
<Plating products>
As for the plating product of this embodiment, it is desirable that the adhesion strength of the plating layer by the measuring method based on JISH8630 and a to-be-plated body is 5 N / cm or more. It is possible to obtain a plating layer having such a strong adhesion while having a smooth surface appearance by making the surface of the object to be plated smooth without large unevenness and infiltrating the catalyst metal into the resin. It is quite surprising considering the conventional technical common sense.
The adhesion strength is more preferably 8 N / cm or more, even more preferably 9 N / cm or more, and most preferably 10 N / cm or more. There is no particular upper limit, and the upper limit varies depending on the strength at which the material destruction of the resin molding occurs. When the adhesion strength is within this range, plating peeling during actual use can be prevented.

本実施形態において、めっき層の厚みは、目的よって適宜調節可能であるが、0.5μm〜30μmであることが好ましい。より好ましくは1μm〜20μm、さらに好ましくは1.5μm〜25μm、最も好ましくは2μm〜10μmである。0.5μm以上であることで、より外観に優れる。また、30μm以下であることで、より被めっき体の表面形状をトレースしやすくなり、また、めっき処理工程での時間的負荷も小さくなる。一般に、曇りがなく綺麗な金属光沢を有する表面外観を達成するためには、めっき層の厚みは40μm以上は必要であるところ、本実施形態のめっき製品においては、めっき層の厚みが30μm以下であっても、良好な表面外観を実現することができる。
めっき層の厚みは、JIS H 8501に基づいて測定することができる。具体的には、めっき製品の断面(製品のめっき表面の接平面に垂直な断面)からFIB法により作成した超薄切片をSTEM観察し、めっき層表面から、めっき層と接する被めっき物表面までの距離を各視野3か所ずつ測定し、任意の10視野分、合計30個測定し、それらの平均値をめっき層厚みとする。
In the present embodiment, the thickness of the plating layer can be appropriately adjusted depending on the purpose, but is preferably 0.5 μm to 30 μm. More preferably, they are 1 micrometer-20 micrometers, More preferably, they are 1.5 micrometers-25 micrometers, Most preferably, they are 2 micrometers-10 micrometers. By being 0.5 μm or more, the appearance is more excellent. Moreover, it becomes easier to trace the surface shape of a to-be-plated body because it is 30 micrometers or less, and the time load in a plating process process also becomes small. In general, in order to achieve a surface appearance having a clean metallic luster without fogging, the thickness of the plating layer is required to be 40 μm or more. However, in the plating product of this embodiment, the thickness of the plating layer is 30 μm or less. Even if it exists, a favorable surface external appearance can be implement | achieved.
The thickness of the plating layer can be measured based on JIS H8501. Specifically, an ultra-thin slice created by the FIB method from the cross section of the plated product (cross section perpendicular to the tangential plane of the plated surface of the product) is observed by STEM, from the plated layer surface to the surface of the object to be plated in contact with the plated layer Are measured at three locations for each visual field, and a total of 30 are measured for any 10 visual fields, and the average value thereof is defined as the plating layer thickness.

<被めっき体の製造方法>
本実施形態における被めっき体は、表面に前述の樹脂層を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、公知の成形方法等によって製造された成形体を用いることができる。例えば、プレス成形、射出成形、ガスアシスト射出成形、溶着成形、押出成形、吹込成形、フィルム成形、中空成形、多相成形、発泡成形等のいずれを用いてもよい。また、射出成形法においては、金属とのインサート成形、アウトサート成形、ガスアシスト成形等を組み合わせて使用してもよい。使用する金型についても特に限定されるものではなく、ゲート形状についてもピンゲート、タブゲート、フィルムゲート、サブマリンゲート、ファンゲート、リングゲート、ダイレクトゲート、ディスクゲート等のいずれの種類であってもよい。
<Method of manufacturing the object to be plated>
The body to be plated in the present embodiment is not particularly limited as long as it has the above-described resin layer on the surface. For example, a molded body manufactured by a known molding method or the like can be used. For example, any of press molding, injection molding, gas assist injection molding, welding molding, extrusion molding, blow molding, film molding, hollow molding, multiphase molding, foam molding, and the like may be used. In the injection molding method, insert molding with metal, outsert molding, gas assist molding, or the like may be used in combination. The die used is not particularly limited, and the gate shape may be any kind of pin gate, tab gate, film gate, submarine gate, fan gate, ring gate, direct gate, disk gate, and the like.

<めっき処理方法>
被めっき体にめっき処理を施すことでめっき製品を得ることができる。めっき処理に限定はなく、既知の方法を採用することができるが、本実施形態は、例えば、エッチング、表面調整、触媒付与、活性化、触媒付与、及び、無電解めっきの各工程を順に行うことが好ましい。
<Plating method>
A plated product can be obtained by plating the object to be plated. There is no limitation on the plating treatment, and a known method can be adopted. In the present embodiment, for example, each step of etching, surface adjustment, catalyst application, activation, catalyst application, and electroless plating is sequentially performed. It is preferable.

(エッチング工程)
エッチング工程におけるエッチング方法に限定はなく、例えば紫外線照射、オゾン水への浸漬、紫外線照射とオゾン水浸漬の併用等既知のエッチング方法を用いることができるが、被めっき体の表面の凹凸の高低差を200nm以下にする観点から、紫外線照射を行うことが好ましい。
紫外線照射を行う場合、使用する光源については、特に限定されないが、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマランプなどが挙げられる。紫外線の照度は特に制限されないが、照度は波長254nmにおいて5mW/cm2〜150mW/cm2であることが好ましい。照度が5mW/cm2以上であると、より密着強度が優れる傾向にある。また、150mW/cm2以下であると、めっき層の表面外観がより優れたものとなる傾向にある。紫外線の照射時間は0.1分〜50分が好ましい。より好ましくは0.2分〜40分、最も好ましくは0.3分〜30分である。0.1分以上であることにより十分な密着強度が得られ、また、50分以下であることで、より表面外観に優れる傾向にある。
(Etching process)
There is no limitation on the etching method in the etching step, and for example, known etching methods such as ultraviolet irradiation, immersion in ozone water, combined use of ultraviolet irradiation and ozone water immersion can be used. From the viewpoint of setting the thickness to 200 nm or less, it is preferable to perform ultraviolet irradiation.
When ultraviolet irradiation is performed, the light source to be used is not particularly limited, and examples thereof include a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, and an excimer lamp. Although the illuminance of ultraviolet rays is not particularly limited, it is preferable illuminance is 5mW / cm 2 ~150mW / cm 2 at a wavelength of 254 nm. When the illuminance is 5 mW / cm 2 or more, the adhesion strength tends to be more excellent. Moreover, it exists in the tendency for the surface appearance of a plating layer to become the more excellent in it being 150 mW / cm < 2 > or less. The irradiation time of ultraviolet rays is preferably 0.1 minutes to 50 minutes. More preferably, it is 0.2 to 40 minutes, and most preferably 0.3 to 30 minutes. Sufficient adhesion strength is obtained when the time is 0.1 minutes or longer, and the surface appearance tends to be more excellent when the time is 50 minutes or shorter.

(表面調整工程1)
エッチング工程の後に、被めっき体表面の洗浄と濡れ性の付与のため、被めっき体を処理液に浸漬させる表面調整1を行っても良い。
表面調整1に用いる処理液は既知のものが使用可能であり、例えばCPコンディショナー(キザイ(株)製)などが挙げられる。CPコンディショナーを使用する場合、処理液の温度は30〜60℃が好ましく、浸漬時間は1〜5分が好ましい。これらの条件下で処理することで、めっきがムラなく析出し、より密着強度に優れる。
(Surface adjustment step 1)
After the etching step, surface adjustment 1 may be performed in which the object to be plated is immersed in a treatment liquid for cleaning the surface of the object to be plated and imparting wettability.
The processing liquid used for the surface adjustment 1 can use a well-known thing, for example, CP conditioner (made by Kizai Co., Ltd.) etc. are mentioned. When using a CP conditioner, the temperature of the treatment liquid is preferably 30 to 60 ° C., and the immersion time is preferably 1 to 5 minutes. By treating under these conditions, the plating deposits evenly and is more excellent in adhesion strength.

(表面調整工程2)
触媒付与工程において触媒を析出させやすくするため、エッチング工程の後(表面調整工程1を行う場合はその後)に、被めっき体を処理液に浸漬させる表面調整2を行っても良い。
表面調整2に用いられる処理液に含まれる処理剤としては、紫外線照射によってエッチングされた被めっき体表面の官能基及び触媒、両方に吸着可能な物質であれば良い。このような化合物としては多価アミンが好ましく、具体的には、エチレンアミン、ポリエチレンイミン、ポリエチレンアミン、ポリアリルアミンがより好ましい。これらの中でも特にポリアリルアミン、ポリエチレンイミンが好ましい。これらの物質を用いることで、より密着強度に優れる。
処理剤としてポリアリルアミンを使用する場合、その処理液中の濃度は0.01g/l〜10g/lが好ましく、0.1g/l〜1g/lがより好ましい。
処理液の温度は30〜60℃が好ましく、35℃〜50℃がより好ましい。処理時間は1〜10分が好ましく、1〜5分がより好ましい。これらの条件下で処理することで、ムラがなく、より密着強度に優れるめっき層を実現することができる。
(Surface adjustment step 2)
In order to make it easy to deposit the catalyst in the catalyst application step, after the etching step (or after the surface adjustment step 1), surface adjustment 2 in which the object to be plated is immersed in the treatment liquid may be performed.
The treatment agent contained in the treatment liquid used for the surface conditioning 2 may be any substance that can be adsorbed to both the functional group and the catalyst on the surface of the object to be plated etched by ultraviolet irradiation. As such a compound, a polyvalent amine is preferable, and specifically, ethyleneamine, polyethyleneimine, polyethyleneamine, and polyallylamine are more preferable. Among these, polyallylamine and polyethyleneimine are particularly preferable. By using these substances, the adhesion strength is further improved.
When polyallylamine is used as the treating agent, the concentration in the treating solution is preferably 0.01 g / l to 10 g / l, more preferably 0.1 g / l to 1 g / l.
30-60 degreeC is preferable and the temperature of a process liquid has more preferable 35-50 degreeC. The treatment time is preferably 1 to 10 minutes, more preferably 1 to 5 minutes. By treating under these conditions, it is possible to realize a plating layer with no unevenness and better adhesion strength.

(触媒付与工程)
表面調整後に、触媒付与を行うことができる。触媒付与工程においては、表面調整後の被めっき体を金属錯体を含む溶液で処理し、被めっき体表面に金属錯体を担持させる。
金属錯体としては特に制限はないが、パラジウム錯体、銅錯体、銀錯体が好ましく、塩化パラジウムがより好ましい。塩化パラジウムを使用する場合、溶液中の塩化パラジウム濃度は50〜500mg/lが好ましい。
溶液としては酸性の水溶液が好ましく、塩酸や硫酸水溶液などがより好ましい。水溶液中の酸濃度としては10〜100g/lが好ましい。金属錯体を含む溶液の温度は30〜60℃が好ましく、浸漬時間は1〜5分が好ましい。これらの条件下で処理することで、より外観、密着強度に優れるめっき層を実現することができる。
(Catalyst application process)
The catalyst can be applied after the surface adjustment. In the catalyst application step, the object to be plated after the surface adjustment is treated with a solution containing a metal complex, and the metal complex is supported on the surface of the object to be plated.
Although there is no restriction | limiting in particular as a metal complex, A palladium complex, a copper complex, and a silver complex are preferable, and palladium chloride is more preferable. When palladium chloride is used, the palladium chloride concentration in the solution is preferably 50 to 500 mg / l.
The solution is preferably an acidic aqueous solution, more preferably hydrochloric acid or sulfuric acid aqueous solution. The acid concentration in the aqueous solution is preferably 10 to 100 g / l. The temperature of the solution containing the metal complex is preferably 30 to 60 ° C., and the immersion time is preferably 1 to 5 minutes. By treating under these conditions, it is possible to realize a plating layer with better appearance and adhesion strength.

(活性化工程)
触媒付与後には、活性化を行うことが好ましい。活性化工程においては、触媒付与後の被めっき体を、還元剤を含む溶液で処理し、触媒を活性化させる。還元剤としては特に制限はないが、水素、次亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムが好ましく、次亜リン酸ナトリウムがより好ましい。次亜リン酸ナトリウムを使用する場合、溶液中の還元剤濃度としては0.1〜100g/lが好ましく、5〜100g/lがより好ましい。
溶液としては水溶液が好ましい。還元剤を含む溶液の温度は30〜60℃が好ましく、浸漬時間は1〜5分が好ましい。これらの条件下で処理することで、より外観、密着強度に優れるめっき層を実現することができる。
(Activation process)
It is preferable to perform activation after applying the catalyst. In the activation step, the object to be plated after applying the catalyst is treated with a solution containing a reducing agent to activate the catalyst. Although there is no restriction | limiting in particular as a reducing agent, Hydrogen, sodium hypophosphite, and sodium borohydride are preferable, and sodium hypophosphite is more preferable. When sodium hypophosphite is used, the reducing agent concentration in the solution is preferably 0.1 to 100 g / l, more preferably 5 to 100 g / l.
The solution is preferably an aqueous solution. The temperature of the solution containing the reducing agent is preferably 30 to 60 ° C., and the immersion time is preferably 1 to 5 minutes. By treating under these conditions, it is possible to realize a plating layer with better appearance and adhesion strength.

(無電解めっき工程)
活性化工程後(活性化処理を行わない場合は触媒付与工程の後)に、無電解めっきを行う。無電解めっきには、既知の無電解めっき方法を採用することができる。例えば、銅めっき、ニッケルめっき、パラジウムめっき、銀めっき、金めっき、及びこれらの合金めっき等を目的に応じて使用可能である。
(Electroless plating process)
Electroless plating is performed after the activation step (after the catalyst application step if no activation treatment is performed). A known electroless plating method can be adopted for the electroless plating. For example, copper plating, nickel plating, palladium plating, silver plating, gold plating, and alloy plating thereof can be used according to the purpose.

(電解めっき工程)
無電解めっきの後にさらに電解めっきを行っても良い。電解めっきは、意匠性付与や、耐腐性付与等、目的に応じて特に限定されずに使用可能である。
(Electrolytic plating process)
Electrolytic plating may be further performed after electroless plating. Electrolytic plating can be used without particular limitation depending on the purpose, such as designability and anticorrosion.

以下、本実施形態を実施例及び比較例を用いてより具体的に説明するが、本実施形態は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, although this embodiment is described more specifically using examples and comparative examples, this embodiment is not limited to the following examples.

本実施例、比較例では、以下のような原料を用いた。
なお、各共重合体の組成は、FT−IRを用いた組成分析の結果得られた値である。
[グラフト共重合体(I)]
グラフト共重合体(I)を含む以下のABS樹脂(A−1)、(A−2)を用いた。
(A−1)
ゴム質重合体(ブタジエン)含有量30質量%、含有されるグラフト共重合体(I)のグラフト率45%のABS樹脂。
なお、グラフト共重合体(I)のグラフト率は、溶剤(本実施例においてはアセトン)を用いて、樹脂部分から溶剤可溶分を取り除き、溶剤不溶分としてグラフト共重合体(I)を取り出し、フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)により、グラフト共重合体(I)中のゴム質重合体及びその他の成分(すなわち、グラフト重合した単量体)の質量を測定し、これらの値から、ゴム質重合体の質量に対する、グラフト重合した単量体の質量の割合として求めた。
また、(A−1)はアセトン可溶分としてスチレン系共重合体(II)も含有しており、その含有量は56.5質量%であった。
(A−2)
ゴム質重合体(ブタジエン)含有量36質量%、含有されるグラフト共重合体(I)のグラフト率37%のABS樹脂。
また、(A−2)は、アセトン可溶分としてスチレン系共重合体(II)も含有しており、その含有量は50.7質量%であった。
In the examples and comparative examples, the following raw materials were used.
In addition, the composition of each copolymer is a value obtained as a result of composition analysis using FT-IR.
[Graft Copolymer (I)]
The following ABS resins (A-1) and (A-2) containing the graft copolymer (I) were used.
(A-1)
An ABS resin having a rubbery polymer (butadiene) content of 30% by mass and a graft copolymer (I) content of 45%.
The graft ratio of the graft copolymer (I) is determined by using a solvent (acetone in this embodiment) to remove the solvent-soluble component from the resin portion and taking out the graft copolymer (I) as the solvent-insoluble component. The mass of the rubbery polymer and other components (that is, the graft polymerized monomer) in the graft copolymer (I) is measured by a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), From the value, it was determined as the ratio of the mass of the graft polymerized monomer to the mass of the rubbery polymer.
Moreover, (A-1) also contains styrene-type copolymer (II) as an acetone soluble part, The content was 56.5 mass%.
(A-2)
An ABS resin having a rubbery polymer (butadiene) content of 36% by mass and a graft copolymer (I) content of 37%.
Moreover, (A-2) also contains styrene-type copolymer (II) as an acetone soluble part, The content was 50.7 mass%.

[スチレン系共重合体(II)]
スチレン系共重合体(II)としては、上記(A−1)又は(A−2)のABS樹脂に含まれるスチレン系共重合体(II)だけでなく、以下の(II−1)及び(II−2)を混合して用いた。
(II−1)
アクリロニトリル単位40質量%、スチレン単位60質量%であるAS樹脂
(II−2)
アクリロニトリル単位27質量%、スチレン単位73質量%であるAS樹脂
[Styrene copolymer (II)]
As the styrene copolymer (II), not only the styrene copolymer (II) contained in the ABS resin of the above (A-1) or (A-2), but also the following (II-1) and ( II-2) was mixed and used.
(II-1)
AS resin (II-2) having 40% by mass of acrylonitrile units and 60% by mass of styrene units
AS resin having 27% by mass of acrylonitrile units and 73% by mass of styrene units

(樹脂表面の凹凸の最大値の測定)
めっき製品の断面からFIB法により超薄切片を作成し、1.7×2.5μmの視野で10か所STEM観察した。それぞれの視野の中の被めっき体表面(めっき層と接触する樹脂層表面)の凹凸の高低差の最大値を測定し、10か所の値の平均値を凹凸の高低差とした。
(めっき層厚みの測定)
上記において作成した超薄切片をSTEM観察し、任意の10視野の各視野において任意の3か所のめっき層の厚みを測定し、合計30か所の平均値をめっき厚みとした。
(Measurement of maximum unevenness of resin surface)
An ultrathin section was prepared from the cross section of the plated product by the FIB method, and STEM observation was performed at 10 locations in a field of 1.7 × 2.5 μm. The maximum value of the unevenness on the surface of the object to be plated (the surface of the resin layer in contact with the plating layer) in each field of view was measured, and the average value of 10 values was defined as the unevenness of the unevenness.
(Measurement of plating layer thickness)
The ultrathin sections prepared above were observed with a STEM, and the thicknesses of any three plating layers were measured in each of 10 fields of view, and the average value of a total of 30 places was defined as the plating thickness.

(実施例1)
(A−1)55質量部、(II−1)45質量部を混合した後、二軸押出機(TEM−35B、東芝機械(株)製)を使用してシリンダー設定温度250℃、スクリュー回転数200rpmで混練した後、水浴で冷却切断し、熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。この熱可塑性組成物のアセトン可溶分中の、スチレン系共重合体(II)を構成する不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量に対する、不飽和ニトリル単量体単位の割合(P)は40質量%であった。その後、射出成形機(EC−60N、東芝機械(株)製)を使用して、バレル設定温度250℃、金型温度60℃、射出速度25mm/sにて90mm×50mm×2.5mmの平板を成形した。
この平板を被めっき体として用い、これに対し、下記の処理を行いめっき製品を得た。
(1)紫外線照射工程
成形後の平板に対し、KOV1−30H(江東電気(株)製)を用い、照射距離50cmにおいて3分間紫外線の照射を行った。
(2)表面調整工程1
紫外線照射工程後の成形体を、CPコンディショナー(キザイ(株)製)を100mL/L、水酸化ナトリウムを30g/Lの濃度となるように添加した水溶液に、50℃で2分間浸漬した。
(3)表面調整工程2
表面調整工程1後の成形体を、CP−COND 1256(キザイ(株)製)を50mL/Lの濃度となるように添加した水溶液に、40℃で2分間浸漬した。
(4)触媒付与工程
表面調整工程2後の成形体を、EPアクチPA C(キザイ(株)製)を30mL/L、35%塩酸を35mL/Lの濃度となるように添加した水溶液に、40℃で2分間浸漬した。
(5)活性化工程
触媒付与工程後の成形体を、EPアクセPAコンク(キザイ(株)製)を20mL/Lの濃度となるように添加した水溶液に、40℃で2分間浸漬した。
(6)無電解めっき工程
活性化工程後の成形体を、ナイコSLE(キザイ(株)製)A液と、B液を各々125mL/Lの濃度となるように添加した水溶液に、35℃で10分間浸漬し、無電解めっき(ニッケル)を行った。
Example 1
(A-1) After mixing 55 parts by mass and (II-1) 45 parts by mass, using a twin screw extruder (TEM-35B, manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), a cylinder set temperature of 250 ° C., screw rotation After kneading at several 200 rpm, it was cooled and cut in a water bath to obtain a thermoplastic resin composition pellet. Unsaturated nitrile monomer with respect to the total amount of unsaturated nitrile monomer units and aromatic vinyl monomer units constituting styrene copolymer (II) in the acetone-soluble component of this thermoplastic composition The unit ratio (P) was 40% by mass. Thereafter, using an injection molding machine (EC-60N, manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), a flat plate of 90 mm × 50 mm × 2.5 mm at a barrel set temperature of 250 ° C., a mold temperature of 60 ° C., and an injection speed of 25 mm / s. Was molded.
Using this flat plate as a body to be plated, the following treatment was performed to obtain a plated product.
(1) Ultraviolet irradiation step The molded flat plate was irradiated with ultraviolet rays for 3 minutes at an irradiation distance of 50 cm using KOV1-30H (manufactured by Koto Electric Co., Ltd.).
(2) Surface adjustment step 1
The molded body after the ultraviolet irradiation step was immersed in an aqueous solution to which CP conditioner (manufactured by Kizai Co., Ltd.) was added to a concentration of 100 mL / L and sodium hydroxide to a concentration of 30 g / L at 50 ° C. for 2 minutes.
(3) Surface adjustment step 2
The molded body after the surface adjustment step 1 was immersed in an aqueous solution to which CP-COND 1256 (manufactured by Kizai Co., Ltd.) was added to a concentration of 50 mL / L at 40 ° C. for 2 minutes.
(4) Catalyst application step The molded body after the surface adjustment step 2 was added to an aqueous solution in which EP ActiPAC (manufactured by Kizai Co., Ltd.) was added to a concentration of 30 mL / L and 35% hydrochloric acid to a concentration of 35 mL / L. It was immersed for 2 minutes at 40 ° C.
(5) Activation step The molded body after the catalyst application step was immersed in an aqueous solution to which EP Accel PA Conk (manufactured by Kizai Co., Ltd.) was added to a concentration of 20 mL / L at 40 ° C for 2 minutes.
(6) Electroless plating step The molded body after the activation step is added to an aqueous solution in which Nyco SLE (manufactured by Kizai Co., Ltd.) A solution and B solution are added to a concentration of 125 mL / L at 35 ° C. It was immersed for 10 minutes and electroless plating (nickel) was performed.

(実施例2)
紫外線照射工程における紫外線照射時間を1分間とした以外は実施例1と同様にしてめっき製品を得た。
(Example 2)
A plated product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet irradiation time in the ultraviolet irradiation step was 1 minute.

(実施例3)
紫外線照射工程における紫外線照射時間を0.1分間とした以外は実施例1と同様にしてめっき製品を得た。
(Example 3)
A plated product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet irradiation time in the ultraviolet irradiation step was 0.1 minute.

(実施例4)
紫外線照射工程における紫外線照射時間を10分間とした以外は実施例1と同様にしてめっき製品を得た。
Example 4
A plated product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet irradiation time in the ultraviolet irradiation step was 10 minutes.

(実施例5)
原料として(A−2)45質量部、(II−2)55質量部を使用した以外は実施例2と同様にしてめっき製品を得た。使用した熱可塑性組成物のアセトン可溶分中の、スチレン系共重合体(II)を構成する不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量に対する、不飽和ニトリル単量体単位の割合(P)は27質量%であった。
(Example 5)
A plated product was obtained in the same manner as in Example 2 except that (A-2) 45 parts by mass and (II-2) 55 parts by mass were used as raw materials. Unsaturated nitrile monomer based on the total amount of unsaturated nitrile monomer units and aromatic vinyl monomer units constituting the styrene copolymer (II) in the acetone-soluble component of the used thermoplastic composition The ratio (P) of the body unit was 27% by mass.

(比較例1)
実施例1と同様にして得られた平板に対し、下記の処理を行いめっき製品を得た。
(a)エッチング工程
成形後の平板を、三酸化クロム濃度が400g/L、硫酸濃度が400g/Lとなるよう、98質量%硫酸を調整した水溶液に、68℃で10分間浸漬した。
(b)中和工程
エッチング工程後の成形体を、35質量%塩酸を50mL/Lに調整した水溶液に、室温で1分間浸漬した。
(c)触媒付与工程
中和工程後の成形体を、CPキャタ5(キザイ(株)製)の濃度が12mL/L、塩酸濃度が200mL/Lとなるよう、35質量%塩酸を調整した水溶液に、35℃で3分間浸漬した。
(d)活性化工程
触媒付与工程後の成形体を、35質量%塩酸を80mL/Lに調整した水溶液に、35℃で3分間浸漬した。

(e)無電解めっき工程
活性化工程後の成形体を、ナイコSLE(キザイ(株)製)のA液とB液を各々125mL/Lの濃度になるように調整した水溶液に、35℃で10分間浸漬した。
(Comparative Example 1)
The following treatment was performed on the flat plate obtained in the same manner as in Example 1 to obtain a plated product.
(A) Etching Step The shaped flat plate was immersed in an aqueous solution prepared by adjusting 98% by mass sulfuric acid so that the chromium trioxide concentration was 400 g / L and the sulfuric acid concentration was 400 g / L at 68 ° C. for 10 minutes.
(B) Neutralization process The molded body after the etching process was immersed in an aqueous solution prepared by adjusting 35 mass% hydrochloric acid to 50 mL / L at room temperature for 1 minute.
(C) Catalyst application process The molded body after the neutralization process is an aqueous solution prepared by adjusting 35 mass% hydrochloric acid so that the concentration of CP Cat 5 (manufactured by Kizai Co., Ltd.) is 12 mL / L and the hydrochloric acid concentration is 200 mL / L For 3 minutes at 35 ° C.
(D) Activation process The molded object after a catalyst provision process was immersed for 3 minutes at 35 degreeC in the aqueous solution which adjusted 35 mass% hydrochloric acid to 80 mL / L.

(E) Electroless Plating Process The molded body after the activation process was adjusted to an aqueous solution prepared by adjusting the liquid A and liquid B of Nyco SLE (manufactured by Kizai Co., Ltd.) to a concentration of 125 mL / L at 35 ° C. Soaked for 10 minutes.

(比較例2)
めっき層厚みを15μmとなるように(e)工程における浸漬時間を調整した以外は、比較例1と同様にしてめっき製品を得た。
(密着強度の測定)
密着強度の測定を可能にするため、無電解めっき工程後の成形体(めっき製品)に対し、下記からなるめっき浴を用いて、浴温20℃、電流密度3A/dm2、60分間、電解めっきを施した。この成形体から平滑な部分を切り出し、JIS H8630に基づいて密着強度を測定した。
<電解めっき浴の組成>
硫酸銅 200g/L
硫酸 60g/L
塩素イオン 60mg/L
コータックメイクアップ 4mL/L
コータック1 0.5mL/L
(外観の評価)
めっき製品の外観を、目視評価において下記の基準で判断した。
◎:曇りがなく綺麗な金属光沢を有する
○:一部曇りがあるが金属光沢を有する
△:大部分が曇っており殆ど金属光沢を有さない
×:全体が曇っており金属光沢を有さない
(Comparative Example 2)
A plated product was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the immersion time in the step (e) was adjusted so that the thickness of the plating layer was 15 μm.
(Measurement of adhesion strength)
In order to make it possible to measure the adhesion strength, the molded body (plated product) after the electroless plating process is subjected to electrolysis using a plating bath consisting of the following, bath temperature 20 ° C., current density 3 A / dm 2 , 60 minutes. Plating was applied. A smooth portion was cut out from this molded body, and the adhesion strength was measured based on JIS H8630.
<Composition of electrolytic plating bath>
Copper sulfate 200g / L
Sulfuric acid 60g / L
Chloride ion 60mg / L
Kotak Makeup 4mL / L
Kotak 1 0.5mL / L
(Appearance evaluation)
The visual appearance of the plated product was judged according to the following criteria.
◎: No cloudiness and beautiful metallic luster ○: Partially cloudy but metallic luster △: Mostly cloudy and almost no metallic luster ×: Whole cloudy and metallic luster Absent

結果を以下の表に示す。
The results are shown in the table below.

実施例1のめっき製品は密着強度、外観ともに優れていた。
実施例2のめっき製品は、実施例1のものと比べ、被めっき体表面の凹凸の高低差の最大値が小さくなったことで、密着強度が若干小さくなったものの、十分実用性のあるものであった。
実施例3のめっき製品は、実施例2のものと比べ、被めっき体表面の凹凸の高低差の最大値がさらに小さくなったことで、密着強度がさらに小さくなったが、実用には耐え得る密着強度を有していた。
実施例4のめっき製品は、実施例1のものと比べ、被めっき体の表面凹凸の高低差の最大値が大きくなったため、外観には一部曇りが見られたが、実用性のあるものであった。
実施例5のめっき製品は、スチレン系共重合体(II)中の不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計量に対する、不飽和ニトリル単量体単位の割合が、実施例2の40質量%と比べ、30質量%と低くなっており、密着強度が実施例2のものより小さかった。
比較例1のめっき製品は、被めっき体の凹凸の高低差の最大値が300nmであったため、外観に劣っていた。
比較例2のめっき製品は、比較例1と同様に被めっき体の凹凸の高低差の最大値が300nmであり、比較例1よりめっき層の厚さを厚くしても、外観は実用には適さなかった。
The plated product of Example 1 was excellent in both adhesion strength and appearance.
Compared with Example 1, the plated product of Example 2 is sufficiently practical, although the adhesion strength is slightly reduced due to the fact that the maximum height difference of the unevenness on the surface of the object to be plated is reduced. Met.
Compared with the product of Example 2, the plating product of Example 3 has an even lower adhesion strength due to a further decrease in the maximum value of the unevenness on the surface of the object to be plated, but it can withstand practical use. It had adhesion strength.
The plated product of Example 4 has a higher maximum value of the surface unevenness of the surface of the object to be plated than that of Example 1, so that the appearance was partially cloudy, but it was practical. Met.
In the plated product of Example 5, the ratio of the unsaturated nitrile monomer unit to the total amount of the unsaturated nitrile monomer unit and the aromatic vinyl monomer unit in the styrene copolymer (II) was measured. Compared with 40 mass% of Example 2, it was as low as 30 mass%, and the adhesive strength was smaller than that of Example 2.
The plated product of Comparative Example 1 was inferior in appearance because the maximum value of the unevenness of the object to be plated was 300 nm.
The plating product of Comparative Example 2 has a maximum unevenness of the unevenness of the object to be plated of 300 nm as in Comparative Example 1. Even if the plating layer is thicker than Comparative Example 1, the appearance is practical. It was not suitable.

(実施例6)
被めっき体の形状を、平板から、図2のような流動長400mm、幅20mm、厚み2mmの玩具用鋸刃形状に変えた以外は実施例1とすべて同様にしてめっき製品を得た。なお、この被めっき体の片側面の一部は、刃のピッチ1.8mm、切溝幅0.8mmの鋸刃形状を有している。図2中、「ゲート位置」とあるのは、この被めっき体を成形する際、金型に熱可塑性樹脂組成物を射出した入口に対応する箇所である。
この被めっき体の表面の凹凸の高低差の最大値は52nm、めっき製品の密着強度は16N/cm、めっき層の厚みは11μmであった。
このめっき製品の外観は、曇りがなく綺麗な金属光沢を有していた。さらに、このめっき製品の流動末端部の鋸刃部分(図中「試験に使用」と示した箇所)を用いて、2つ折りにした紙を切ったところ、抵抗が少なく綺麗に切断することができた。
(Example 6)
A plated product was obtained in the same manner as in Example 1 except that the shape of the object to be plated was changed from a flat plate to a toy saw blade shape having a flow length of 400 mm, a width of 20 mm, and a thickness of 2 mm as shown in FIG. In addition, a part of one side surface of the object to be plated has a saw blade shape with a blade pitch of 1.8 mm and a kerf width of 0.8 mm. In FIG. 2, the “gate position” is a portion corresponding to the inlet through which the thermoplastic resin composition is injected into the mold when the object to be plated is formed.
The maximum value of the unevenness on the surface of the object to be plated was 52 nm, the adhesion strength of the plated product was 16 N / cm, and the thickness of the plating layer was 11 μm.
The appearance of this plated product was clean and had a beautiful metallic luster. Furthermore, when the folded paper is cut using the saw blade part at the flow end of this plated product (the part shown in the figure as “used for testing”), it can be cut cleanly with little resistance. It was.

(比較例3)
被めっき体の形状を、実施例6のものと同様にした以外は比較例1と同様にして、玩具用鋸刃形状のめっき製品を得た。この被めっき体の表面の凹凸の最大値は315nmであった。
しかし、このめっき製品の外観は、全体が曇っており金属光沢を有していなかったため、曇りがなく綺麗な金属光沢を示すまでめっき層の厚みを増加させたところ、めっき層の厚みは40μmとなり、密着強度は7N/cmであった。
実施例6と同様にして、このめっき製品の流動末端部の鋸刃の部分を用いて2つ折りにした紙を切ったところ、抵抗が大きく、綺麗に切断することができなかった。
(Comparative Example 3)
A toy saw blade-shaped plated product was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the shape of the object to be plated was the same as that in Example 6. The maximum unevenness of the surface of the object to be plated was 315 nm.
However, the appearance of this plated product was entirely cloudy and did not have a metallic luster. Therefore, when the thickness of the plated layer was increased until it showed a clean metallic luster without fogging, the thickness of the plated layer became 40 μm. The adhesion strength was 7 N / cm.
When the folded paper was cut using the saw blade portion at the flow end of this plated product in the same manner as in Example 6, the resistance was so great that it could not be cut cleanly.

本発明のめっき製品は、密着強度と外観に優れるため、自動車用途、家電用途、電子機器用途等の各種用途において好適に利用できる。   Since the plated product of the present invention is excellent in adhesion strength and appearance, it can be suitably used in various applications such as automotive applications, household appliance applications, and electronic device applications.

Claims (4)

熱可塑性樹脂組成物を含む樹脂層を表面に有する被めっき体と、その上に設けられためっき層とを有するめっき製品であって、
前記熱可塑性樹脂組成物が、ゴム質重合体に少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体とを含む単量体混合物がグラフト共重合したグラフト共重合体(I)と、少なくとも不飽和ニトリル単量体と芳香族ビニル単量体を構成成分とするスチレン系共重合体(II)とを含み、
前記被めっき体の表面の凹凸の高低差の最大値が200nm以下である、
めっき製品。
A plated product having a body to be plated having a resin layer containing a thermoplastic resin composition on the surface, and a plating layer provided thereon,
The thermoplastic resin composition comprises at least a graft copolymer (I) obtained by graft copolymerization of a rubber mixture with a monomer mixture containing at least an unsaturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer. A styrene copolymer (II) comprising a saturated nitrile monomer and an aromatic vinyl monomer as constituent components,
The maximum value of the height difference of the unevenness of the surface of the object to be plated is 200 nm or less,
Plating product.
JIS H8630に準拠した測定方法による前記めっき層と前記被めっき体との密着強度が5N/cm以上である、請求項1に記載のめっき製品。   The plated product according to claim 1, wherein the adhesion strength between the plated layer and the object to be plated by a measuring method based on JIS H8630 is 5 N / cm or more. 前記スチレン系共重合体(II)が、不飽和ニトリル単量体単位と芳香族ビニル単量体単位の合計を100質量%としたときに、不飽和ニトリル単量体単位を30〜50質量%含む、請求項1又は2に記載のめっき製品。   When the total amount of the unsaturated nitrile monomer unit and the aromatic vinyl monomer unit is 100% by mass, the styrene copolymer (II) is 30 to 50% by mass of the unsaturated nitrile monomer unit. The plated product according to claim 1, comprising: 紫外線照射によるエッチング工程を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のめっき製品の製造方法。   The manufacturing method of the plating product of any one of Claims 1-3 including the etching process by ultraviolet irradiation.
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