JP2017177391A - Thermal print head, method for manufacturing the same, and thermal printer - Google Patents

Thermal print head, method for manufacturing the same, and thermal printer Download PDF

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正克 土肥
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正克 土肥
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal print head enabling improvement in grounding quality of a discharging film.SOLUTION: A thermal print head is improved in grounding quality as follows: one surface of an insulation substrate is provided with a plurality of heat generation resistors 13, a plurality of electrodes 14, 15, and a protection film 17 coating a grounding terminal 14, the plurality of heat generation resistors 13 and the plurality of electrodes 14, 15; one surface of the protection film 17 is coated with a discharge film 18; the protection film 17 is provided with a hole part 17A on which the grounding terminal 14 is exposed; the edge of the hole part 17A is provided with projection parts 17AX each the width of which is gradually narrowed to its tip end from its bottom, the thickness of which is gradually thinned and the arch-like surface of which is inclined; and the discharging film 18 is coated ranging from one surface of the protection film 17 to the grounding terminal 14 of the bottom of the hole part 17A via the projection parts 17AX, thereby the discharging film 18 is coated on the surfaces of the projection parts 17AX of the protection film 17 to be prevented from breakage while improving bonding force by being pressed among portions where the film is coated on the grounding terminal 14 around.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、サーマルプリントヘッド、その製造方法及びサーマルプリントヘッドが設けられるサーマルプリンタに関するものである。   The present invention relates to a thermal print head, a manufacturing method thereof, and a thermal printer provided with the thermal print head.

サーマルプリントヘッドは、主走査方向に沿った発熱領域に配列された複数の発熱抵抗体を発熱させ、これら複数の発熱抵抗体の熱により感熱記録紙等の記録媒体に文字や図形等の画像を形成する出力用デバイスである。そしてサーマルプリントヘッドは、バーコードプリンタ、デジタル製版機、ビデオプリンタ、イメージャ、シールプリンタ等のサーマルプリンタ(すなわち記録機器)に広く利用されている。   The thermal print head generates heat from a plurality of heating resistors arranged in a heat generating area along the main scanning direction, and images of characters, figures, etc. are recorded on a recording medium such as thermal recording paper by the heat of the plurality of heating resistors. This is an output device to be formed. Thermal print heads are widely used in thermal printers (that is, recording devices) such as barcode printers, digital plate-making machines, video printers, imagers, and seal printers.

一般的なサーマルプリントヘッドは、主走査方向に長い放熱板の一面に、ヘッド基板及び回路基板が配置されている。ヘッド基板は、支持基板にグレーズ層を介して副走査方向に長い複数の発熱抵抗体が主走査方向へ順に所定の間隔で配置されると共に、複数の発熱抵抗体の両端に共通電極及び複数の個別電極が配置され、これらが複数の発熱素子を形成している。そしてヘッド基板は、グレーズ層の一面に、複数の発熱抵抗体、共通電極及び個別電極を覆う保護膜が形成されている。   In a general thermal print head, a head substrate and a circuit board are arranged on one surface of a heat sink long in the main scanning direction. In the head substrate, a plurality of heating resistors that are long in the sub-scanning direction are arranged in order in the main scanning direction via a glaze layer on the support substrate, and a common electrode and a plurality of electrodes are arranged at both ends of the plurality of heating resistors. Individual electrodes are arranged, and these form a plurality of heating elements. In the head substrate, a protective film is formed on one surface of the glaze layer to cover the plurality of heating resistors, the common electrode, and the individual electrodes.

回路基板は、一面に、複数の発熱素子を制御可能なスイッチング機能を有する複数の駆動用IC(Integrated Circuit)が主走査方向へ並べて配置されている。また複数の駆動用ICは、それぞれ複数のボンディングワイヤを介して複数の個別電極と接続されている。そして複数の駆動用ICは、複数のボンディングワイヤと共にヘッド基板及び回路基板の境界部分に塗布形成された封止体によって封止されている。   A circuit board has a plurality of driving ICs (Integrated Circuits) having a switching function capable of controlling a plurality of heat generating elements arranged in one row in the main scanning direction. The plurality of driving ICs are respectively connected to a plurality of individual electrodes via a plurality of bonding wires. The plurality of driving ICs are sealed together with a plurality of bonding wires by a sealing body that is applied and formed at the boundary between the head substrate and the circuit board.

このようなサーマルプリントヘッドが設けられるサーマルプリンタには、プラテンローラがローラ軸を主走査方向と平行にし、外周面をヘッド基板の保護膜の発熱領域と対応する箇所に接触させた状態で、ローラ軸を中心にして回転可能に設けられている。これによりサーマルプリンタは、プラテンローラの回転により、当該プラテンローラとヘッド基板の保護膜との間に挿入された記録媒体を副走査方向へ搬送しながら、複数の発熱抵抗体を選択的に発熱させることで、記録媒体の表面に所望の画像を形成していた。   In a thermal printer provided with such a thermal print head, the platen roller has a roller shaft in parallel with the main scanning direction, and the roller is in a state where the outer peripheral surface is in contact with a portion corresponding to the heat generation area of the protective film of the head substrate. It is provided so as to be rotatable about an axis. As a result, the thermal printer selectively causes the plurality of heating resistors to generate heat while the recording medium inserted between the platen roller and the protective film of the head substrate is conveyed in the sub-scanning direction by the rotation of the platen roller. Thus, a desired image was formed on the surface of the recording medium.

ところでサーマルプリンタでは、画像形成時、プラテンローラにより記録媒体をヘッド基板の保護膜に対して摺動させることで静電気が発生して、保護膜の表面が帯電する。そしてサーマルプリンタでは、静電気により保護膜の表面が帯電すると、保護膜の絶縁破壊を引き起して発熱素子に放電し、これを破壊する可能性がある。   In the thermal printer, static electricity is generated by sliding the recording medium against the protective film of the head substrate by the platen roller during image formation, and the surface of the protective film is charged. In the thermal printer, if the surface of the protective film is charged due to static electricity, the protective film may cause a dielectric breakdown and discharge to the heating element, which may be destroyed.

このため従来のサーマルプリントヘッドは、ヘッド基板において保護膜の一面に、穴縁部が傾斜する矩形状の貫通穴を形成して共通電極の一部を露出させると共に、導電性の除電膜を配置して、その除電膜を貫通穴内で共通電極に接続していた。これによりサーマルプリントヘッドは、画像形成時、記録媒体をヘッド基板の除電膜に対して摺動させ、静電気が発生しても、共通電極を接地端子として機能させて静電気を除電膜から共通電極へ逃がしていた(例えば特許文献1参照)。   For this reason, the conventional thermal print head forms a rectangular through hole with an inclined hole edge on one surface of the protective film on the head substrate to expose a part of the common electrode and to dispose a conductive charge removal film. Then, the charge removal film is connected to the common electrode in the through hole. As a result, the thermal print head slides the recording medium against the charge removal film on the head substrate during image formation, and even if static electricity is generated, the common electrode functions as a ground terminal, and the static electricity is transferred from the charge removal film to the common electrode. It was escaped (see, for example, Patent Document 1).

特開2006−181822公報(第6頁、第7頁、図5)JP-A-2006-181822 (6th page, 7th page, FIG. 5)

ところで従来のサーマルプリントヘッドは、画像形成時、プラテンローラが除電膜に押し付けられた状態で回転することで、ヘッド基板に応力が生じ易い。またサーマルプリントヘッドでは、例えば保護膜の穴縁部に対する除電膜の密着性が低いと、ヘッド基板に生じる応力によって除電膜が保護膜の穴縁部から剥離して破断する可能性がある。   By the way, in the conventional thermal print head, when the image is formed, the platen roller is rotated in a state of being pressed against the charge removal film, so that stress is easily generated on the head substrate. Further, in the thermal print head, for example, if the adhesion of the charge removal film to the hole edge of the protective film is low, the charge removal film may be peeled off from the hole edge of the protection film due to stress generated on the head substrate.

そしてサーマルプリントヘッドでは、除電膜が破断すると、除電膜に対する記録媒体の摺動によって生じた静電気を共通電極へ逃がすことができずに保護膜の絶縁破壊を引き起し、発熱素子を保護し得なくなる。このため従来のサーマルプリントヘッドは、ヘッド基板の保護膜の穴縁部を傾斜させて除電膜の密着性を高めていた。   In the thermal print head, when the charge removal film breaks, the static electricity generated by the sliding of the recording medium with respect to the charge removal film cannot be released to the common electrode, causing the dielectric breakdown of the protective film and protecting the heating element. Disappear. For this reason, in the conventional thermal print head, the hole edge portion of the protective film of the head substrate is inclined to improve the adhesion of the charge removal film.

ただしサーマルプリントヘッドでは、保護膜の穴縁部に対する除電膜の接着力を向上させなければ、ヘッド基板に応力が生じた際に除電膜が保護膜の穴縁部から剥離して破断する場合があり、除電膜の接地品位を向上させ難いという問題があった。   However, in thermal print heads, if the adhesion of the static elimination film to the hole edge of the protective film is not improved, the static elimination film may peel off from the hole edge of the protective film and break when the head substrate is stressed. There is a problem that it is difficult to improve the grounding quality of the charge removal film.

よって本発明は、除電膜の接地品位を向上させ得るサーマルプリントヘッド、その製造方法及びサーマルプリンタを提案するものである。   Therefore, the present invention proposes a thermal print head that can improve the grounding quality of the charge removal film, a manufacturing method thereof, and a thermal printer.

かかる課題を解決するため本発明においては、サーマルプリントヘッドにおいて、絶縁基板と、絶縁基板の一面に、主走査方向へ並べて配置された複数の発熱抵抗体と、絶縁基板の一面に配置され、複数の発熱抵抗体と接続される複数の電極と、絶縁基板の一面に配置された接地端子と、絶縁基板の一面に配置され、複数の発熱抵抗体及び複数の電極を覆う保護膜と、保護膜の一面に被着された除電膜とを設け、保護膜に接地端子を露出させる穴部を形成すると共に、当該穴部の縁に根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を傾斜させる突出部を設け、除電膜を保護膜の一面から突出部を介して穴部の底の接地端子までに亘って被着した。   In order to solve this problem, in the present invention, in a thermal print head, an insulating substrate, a plurality of heating resistors arranged side by side in the main scanning direction on one surface of the insulating substrate, and a surface of the insulating substrate are arranged. A plurality of electrodes connected to the heat generating resistor, a ground terminal disposed on one surface of the insulating substrate, a protective film disposed on one surface of the insulating substrate and covering the plurality of heat generating resistors and the plurality of electrodes, and a protective film And a hole for exposing the ground terminal to the protective film. The width of the hole is gradually narrowed from the root to the tip, and the thickness is gradually reduced. Then, a projecting portion for inclining the bow-shaped surface was provided, and the charge removal film was applied from one surface of the protective film to the ground terminal at the bottom of the hole portion through the projecting portion.

従って本発明では、除電膜を保護膜の突出部の表面に、その周囲の接地端子に被着した箇所の間で押さえ込むようにして接着力を向上させて被着し、絶縁基板に応力が生じても、その応力によって除電膜が保護膜の突出部から剥離して破断することを防止することができる。   Therefore, in the present invention, the static elimination film is applied to the surface of the protruding portion of the protective film so as to be pressed between the places where the static elimination film is applied to the surrounding ground terminal, thereby improving the adhesive force, and stress is generated on the insulating substrate. However, it can prevent that the static elimination film peels off from the protrusion part of a protective film, and it fractures | ruptures by the stress.

本発明によれば、サーマルプリントヘッドにおいて、絶縁基板と、絶縁基板の一面に、主走査方向へ並べて配置された複数の発熱抵抗体と、絶縁基板の一面に配置され、複数の発熱抵抗体と接続される複数の電極と、絶縁基板の一面に配置された接地端子と、絶縁基板の一面に配置され、複数の発熱抵抗体及び複数の電極を覆う保護膜と、保護膜の一面に被着された除電膜とを設け、保護膜に接地端子を露出させる穴部を形成すると共に、当該穴部の縁に根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を傾斜させる突出部を設け、除電膜を保護膜の一面から突出部を介して穴部の底の接地端子までに亘って被着したことにより、除電膜を保護膜の突出部の表面に、その周囲の接地端子に被着した箇所の間で押さえ込むようにして接着力を向上させて被着し、絶縁基板に応力が生じても、その応力によって除電膜が保護膜の突出部から剥離して破断することを防止することができ、かくして除電膜の接地品位を向上させ得るサーマルプリントヘッド、その製造方法及びサーマルプリンタを実現することができる。   According to the present invention, in the thermal print head, the insulating substrate, the plurality of heating resistors arranged in one side of the main scanning direction on one surface of the insulating substrate, the plurality of heating resistors arranged on the one surface of the insulating substrate, A plurality of electrodes to be connected, a ground terminal disposed on one surface of the insulating substrate, a protective film disposed on one surface of the insulating substrate and covering the plurality of heating resistors and the plurality of electrodes, and attached to one surface of the protective film A hole that exposes the grounding terminal to the protective film, and gradually reduces the width from the root to the tip of the hole, and gradually decreases the thickness to create a bow shape. The surface of the protrusion of the protective film is formed by providing a protrusion that inclines the surface of the protective film and depositing the charge removal film from one surface of the protective film to the ground terminal at the bottom of the hole through the protrusion. And between the places attached to the surrounding ground terminals Even if stress is applied to the insulating substrate and the insulating substrate is stressed so as to improve the adhesion, it is possible to prevent the antistatic film from being peeled off from the protruding portion of the protective film and broken. It is possible to realize a thermal print head that can improve the grounding quality, a manufacturing method thereof, and a thermal printer.

本発明の実施の形態に係るサーマルプリントヘッドの外観構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an external configuration of a thermal print head according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係るサーマルプリントヘッドの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the thermal print head which concerns on embodiment of this invention. 絶縁基板の一面に配置された保護膜の構成を示す上面図である。It is a top view which shows the structure of the protective film arrange | positioned on one surface of an insulated substrate. 絶縁基板の一面に配置された保護膜の構成を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the fragmentary top view and fragmentary sectional view which show the structure of the protective film arrange | positioned at one surface of an insulated substrate. 絶縁基板の一面に配置された除電膜の構成を示す上面図である。It is a top view which shows the structure of the static elimination film arrange | positioned on one surface of an insulated substrate. 絶縁基板の一面に配置された除電膜の構成を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the fragmentary top view and fragmentary sectional view which show the structure of the static elimination film arrange | positioned on one surface of an insulated substrate. 基板製造工程(1)を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the partial top view and partial sectional view which show a board | substrate manufacturing process (1). 基板製造工程(2)を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the partial top view and partial sectional view which show a board | substrate manufacturing process (2). 基板製造工程(3)を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the partial top view and partial sectional view which show a board | substrate manufacturing process (3). 基板製造工程(4)を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the partial top view and partial sectional view which show a board | substrate manufacturing process (4). 基板製造工程(5)を示す部分上面図及び部分断面図である。It is the partial top view and partial sectional view which show a board | substrate manufacturing process (5). 本発明の実施の形態に係るサーマルプリントヘッドが設けられたサーマルプリンタの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the thermal printer provided with the thermal print head concerning embodiment of this invention.

本発明に係るサーマルプリントヘッド及びサーマルプリンタの実施の形態を、図1乃至図12を参照して説明する。因みに図2は、図1のV1−V1矢視断面図である。また図4(B)、図6(B)乃至図11(B)は、図4(A)、図6(A)乃至図11(A)のV2−V2矢視断面図である。なお本実施の形態は単なる例示であり、本発明はこれに限定されない。   Embodiments of a thermal print head and a thermal printer according to the present invention will be described with reference to FIGS. Incidentally, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line V1-V1 of FIG. 4B and 6B to 11B are cross-sectional views taken along arrows V2-V2 of FIGS. 4A and 6A to 11A. Note that this embodiment is merely an example, and the present invention is not limited to this.

図1及び図2に示すように、サーマルプリントヘッド1は、放熱板5、ヘッド基板6、回路基板7及び複数の駆動用IC8を有している。放熱板5は、アルミニウム等の放熱性の良い金属により、主走査方向S1に長い長方形状に形成されている。そして放熱板5は、一面に回路基板7及びヘッド基板6が、主走査方向S1と直交する副走査方向S2へ並べて配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the thermal print head 1 includes a heat radiating plate 5, a head substrate 6, a circuit substrate 7, and a plurality of driving ICs 8. The heat radiating plate 5 is made of a metal having good heat radiating properties such as aluminum and has a rectangular shape that is long in the main scanning direction S1. The heat radiating plate 5 has a circuit board 7 and a head substrate 6 arranged on one side in the sub-scanning direction S2 orthogonal to the main scanning direction S1.

ヘッド基板6は、主走査方向S1に長い長方形状の酸化アルミニウム(Al)等のセラミックでなる支持基板10の一面に、二酸化珪素(SiO)等のガラス膜でなるグレーズ層11を配置して形成された絶縁基板12を有している。絶縁基板12の一面(すなわちグレーズ層11の一面)には、副走査方向S2に長い複数の発熱抵抗体13が主走査方向S1へ所定の間隔で並べて配置されている。 The head substrate 6 has a glaze layer 11 made of a glass film such as silicon dioxide (SiO 2 ) on one surface of a support substrate 10 made of ceramic such as rectangular aluminum oxide (Al 2 O 3 ) that is long in the main scanning direction S1. It has an insulating substrate 12 formed by being arranged. On one surface of the insulating substrate 12 (that is, one surface of the glaze layer 11), a plurality of heating resistors 13 that are long in the sub-scanning direction S2 are arranged side by side at a predetermined interval in the main scanning direction S1.

また絶縁基板12の一面には、副走査方向S2の基板一端部に、主走査方向S1に長い帯状の共通電極14が配置されている。共通電極14は、副走査方向S2とは逆の副走査反対方向の縁に、副走査方向S2に長い複数の電極一端部が主走査方向S1へ所定の間隔で並べて設けられている。そして共通電極14は、複数の電極一端部が複数の発熱抵抗体13の副走査方向S2の抵抗体一端部を覆って、これら複数の発熱抵抗体13に接続されている。   On one surface of the insulating substrate 12, a strip-like common electrode 14 that is long in the main scanning direction S1 is disposed at one end of the substrate in the sub-scanning direction S2. The common electrode 14 is provided with a plurality of electrode ends that are long in the sub-scanning direction S2 and arranged at predetermined intervals in the main scanning direction S1 at the edge in the sub-scanning direction opposite to the sub-scanning direction S2. The common electrode 14 is connected to the plurality of heating resistors 13 such that one end of the plurality of electrodes covers one end of the resistor in the sub-scanning direction S2 of the plurality of heating resistors 13.

さらに絶縁基板12の一面には、副走査反対方向の基板他端部寄りに、副走査方向S2に長い複数の個別電極15が主走査方向S1へ所定の間隔で配置されている。そして複数の個別電極15は、電極一端部が、複数の発熱抵抗体13の副走査反対方向の抵抗体他端部を覆って、これら複数の発熱抵抗体13に接続されている。   Further, on one surface of the insulating substrate 12, a plurality of individual electrodes 15 that are long in the sub-scanning direction S2 are arranged at predetermined intervals in the main scanning direction S1, near the other end of the substrate in the sub-scanning direction. The plurality of individual electrodes 15 are connected to the plurality of heating resistors 13 such that one end of the electrodes covers the other end of the resistors in the sub-scanning direction of the plurality of heating resistors 13.

これによりヘッド基板6は、複数の発熱抵抗体13と共通電極14及び複数の個別電極15とにより、それぞれ1個の発熱抵抗体13を有する複数の発熱素子が形成されている。複数の発熱素子は、それぞれ1個の発熱抵抗体13において共通電極14の電極一端部と個別電極15の電極一端部との間の部分が通電によって発熱する発熱部となっている。よってヘッド基板6は、これら複数の発熱素子の発熱部が順に並ぶ主走査方向S1に沿った帯状の領域が発熱領域16になっている。   As a result, the head substrate 6 includes a plurality of heating elements each having one heating resistor 13 by the plurality of heating resistors 13, the common electrode 14, and the plurality of individual electrodes 15. In each of the plurality of heat generating elements, a portion between one electrode end portion of the common electrode 14 and one electrode end portion of the individual electrode 15 in one heat generating resistor 13 is a heat generating portion that generates heat when energized. Therefore, in the head substrate 6, a belt-shaped region along the main scanning direction S <b> 1 in which the heat generating portions of the plurality of heat generating elements are sequentially arranged is a heat generating region 16.

因みに共通電極14は、例えば主走査方向S1の縁、及びこれとは逆の主走査反対方向の縁の少なくとも一方に設けられた電極他端部(図示せず)が、基板側端部に沿って基板他端部まで引き回されている。また複数の個別電極15は、それぞれ基板他端部に位置する電極他端にボンディングパッド15Aが設けられている。   Incidentally, the common electrode 14 has, for example, an electrode other end portion (not shown) provided on at least one of the edge in the main scanning direction S1 and the opposite edge in the main scanning direction along the substrate side end portion. And routed to the other end of the substrate. Each of the plurality of individual electrodes 15 is provided with a bonding pad 15A at the other end of the electrode located at the other end of the substrate.

さらに図2、図3、図4(A)及び(B)に示すように、絶縁基板12の一面には、基板他端部を除き、シリコン酸化膜(Si0)やシリコン酸窒化膜(SiON)等の耐酸化性及び耐磨耗性を有する保護膜17が配置されている。これによりヘッド基板6は、保護膜17により複数の発熱抵抗体13及び共通電極14と、複数の個別電極15の電極一端部側(すなわちボンディングパッド15Aを除く部分)とが覆われている。 Furthermore Figure 2, Figure 3, as shown in FIG. 4 (A) and (B), on one surface of the insulating substrate 12, except for the substrate and the other end portion, the silicon oxide film (Si0 2) or silicon oxynitride film (SiON A protective film 17 having oxidation resistance and wear resistance such as) is disposed. As a result, the head substrate 6 is covered with the plurality of heating resistors 13 and the common electrode 14 and the electrode one end side of the plurality of individual electrodes 15 (that is, the portion excluding the bonding pad 15A) by the protective film 17.

ただし保護膜17は、副走査方向S2の一端部に主走査方向S1に長い長方形状の穴部17Aが形成され、当該穴部17Aを介して共通電極14の中央部を露出させている。また保護膜17は、穴部17Aの副走査方向S2の縁に、頂角が例えば45[°]よりも鋭角な半円錐状又は半楕円錐状の複数の突出部17AXが先端を穴部17Aの内側(すなわち副走査反対方向)に向け、主走査方向S1へ並べて設けられている。   However, the protective film 17 has a rectangular hole 17A that is long in the main scanning direction S1 at one end in the sub-scanning direction S2, and the central portion of the common electrode 14 is exposed through the hole 17A. Further, the protective film 17 has a plurality of semi-conical or semi-elliptical pyramidal projections 17AX whose apex angle is more acute than 45 [°], for example, at the edge of the hole 17A in the sub-scanning direction S2. Are arranged side by side in the main scanning direction S1 toward the inner side (that is, in the direction opposite to the sub-scanning direction).

さらに保護膜17は、穴部17Aの副走査反対方向の縁にも同様の複数の突出部17AXが先端を穴部17Aの内側(すなわち副走査方向S2)に向け、主走査方向S1へ並べて設けられている。すなわち保護膜17の穴部17Aの縁には、根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、角や段差の無い弓形状の表面を緩やかに傾斜させた複数の突出部17AXが設けられている。   Further, the protective film 17 is provided with a plurality of similar protrusions 17AX arranged at the edge of the hole portion 17A in the sub-scanning direction in a row in the main scanning direction S1 with the tip directed inside the hole portion 17A (ie, the sub-scanning direction S2). It has been. That is, at the edge of the hole 17A of the protective film 17, a plurality of protrusions are formed by gradually narrowing the width from the root to the tip and gradually reducing the thickness so that the bow-shaped surface having no corners or steps is gently inclined. A portion 17AX is provided.

そして図2、図5、図6(A)及び(B)に示すように、保護膜17の一面には、副走査方向S2の中央部から一端までに亘り、導電性金属膜である除電膜18が被着されている。すなわち除電膜18は、保護膜17の一面において発熱領域16と対応する箇所を含むほとんどの部分に被着されている。   As shown in FIGS. 2, 5, 6A and 6B, on one surface of the protective film 17, a static elimination film which is a conductive metal film is formed from the center to one end in the sub-scanning direction S2. 18 is attached. That is, the charge removal film 18 is attached to almost the entire portion including the portion corresponding to the heat generating region 16 on one surface of the protective film 17.

また除電膜18は、保護膜17の穴部17Aの縁から複数の突出部17AXを介して当該穴部17Aの底となる共通電極14の中央部にまでも被着されている。これにより除電膜18は、保護膜17の一面を覆いつつ、一部が穴部17Aを介して共通電極14の中央部に接続されている。   Further, the charge removal film 18 is also applied from the edge of the hole 17A of the protective film 17 to the center of the common electrode 14 serving as the bottom of the hole 17A via the plurality of protrusions 17AX. Thereby, the charge removal film 18 covers one surface of the protective film 17, and a part thereof is connected to the central portion of the common electrode 14 through the hole 17 </ b> A.

ここで保護膜17は、複数の突出部17AXを、それぞれ表面を角や段差の無い弓形状にし、根元から先端にかけて共通電極14側に緩やかに傾斜させている。よって保護膜17は、複数の突出部17AXの表面に対する除電膜18の密着性を向上させている。   Here, the protective film 17 has a plurality of protrusions 17AX each having a bow shape with no corners or steps, and is gently inclined toward the common electrode 14 from the root to the tip. Therefore, the protective film 17 improves the adhesion of the charge removal film 18 to the surfaces of the plurality of protrusions 17AX.

また共通電極14は、保護膜17の複数の突出部17AX各々の間から、これらの先端側に亘る周囲で露出し、その露出部分に除電膜18が被着されている。よって除電膜18は、保護膜17の複数の突出部17AXの表面それぞれを、当該突出部17AXの周囲の共通電極14に被着された箇所の間で押さえ込むようにして、これら複数の突出部17AXの表面に接着力を高めて被着されている。   Further, the common electrode 14 is exposed from between each of the plurality of projecting portions 17AX of the protective film 17 to the periphery thereof, and a charge removal film 18 is attached to the exposed portion. Therefore, the charge removal film 18 presses the surface of each of the plurality of protrusions 17AX of the protective film 17 between the portions attached to the common electrode 14 around the protrusions 17AX, so that the plurality of protrusions 17AX. It is attached to the surface of the surface with increased adhesion.

そしてヘッド基板6は、放熱板5の一面の一端部に、両面テープ又はシリコン樹脂等の熱可塑性の樹脂である接着剤19を介して絶縁基板12の他面(すなわち支持基板10の他面)が接着されている。   The head substrate 6 is attached to the other surface of the insulating substrate 12 (that is, the other surface of the support substrate 10) on one end of one surface of the heat radiating plate 5 via an adhesive 19 that is a thermoplastic resin such as double-sided tape or silicon resin. Is glued.

回路基板7(図1及び図2)は、主走査方向S1に長いプリント配線基板として形成され、又はそれぞれ主走査方向S1に長いセラミック板にフレキシブル基板が貼着されて形成されている。そして回路基板7は、一端面をヘッド基板6の他端面と接触又は近接させて、放熱板5の一面の他端部に接着剤19を介して他面の一端部が接着されている。因みに回路基板7は、他面の他端部にコネクタ20、21が実装されている。コネクタ20、21は、外部から回路基板7に駆動電力や駆動用IC8用の制御信号等を入力し、当該回路基板7を外部のグランドに接地するものである。   The circuit board 7 (FIGS. 1 and 2) is formed as a printed wiring board that is long in the main scanning direction S1, or is formed by sticking a flexible board to a ceramic plate that is long in the main scanning direction S1. The circuit board 7 has one end surface in contact with or close to the other end surface of the head substrate 6, and one end portion of the other surface is bonded to the other end portion of one surface of the heat sink 5 via an adhesive 19. Incidentally, the circuit board 7 has connectors 20 and 21 mounted on the other end of the other surface. The connectors 20 and 21 are for inputting driving power, a control signal for the driving IC 8 and the like to the circuit board 7 from the outside, and grounding the circuit board 7 to an external ground.

複数の駆動用IC8は、それぞれ複数の発熱素子(すなわち発熱抵抗体13の発熱)を制御可能なスイッチング機能を有する制御素子である。また複数の駆動用IC8は、回路基板7の一面の一端部(すなわちヘッド基板6との境界部分)に、主走査方向S1へ並べて配置されている。そして複数の駆動用IC8は、複数のボンディングワイヤ23、24を介して複数の個別電極15のボンディングパッド15A及び回路基板7の複数の電極(図示せず)と接続されている。   The plurality of driving ICs 8 are control elements each having a switching function capable of controlling a plurality of heating elements (that is, heat generation of the heating resistor 13). The plurality of driving ICs 8 are arranged side by side in the main scanning direction S1 at one end portion of one surface of the circuit board 7 (that is, the boundary portion with the head substrate 6). The plurality of driving ICs 8 are connected to the bonding pads 15A of the plurality of individual electrodes 15 and the plurality of electrodes (not shown) of the circuit board 7 through the plurality of bonding wires 23 and 24.

因みに共通電極14は、電極他端部がボンディングワイヤ(図示せず)を介して回路基板7の電極と接続されている。そして複数の駆動用IC8は、複数のボンディングワイヤ23、24(共通電極14と回路基板7とを接続するボンディングワイヤを含む)と共に、回路基板7の一面及びヘッド基板6の一面の境界付近に、エポキシ樹脂からなる封止体25によって封止されている。   Incidentally, the other end of the common electrode 14 is connected to the electrode of the circuit board 7 through a bonding wire (not shown). The plurality of driving ICs 8 include a plurality of bonding wires 23 and 24 (including bonding wires for connecting the common electrode 14 and the circuit board 7), near the boundary between one surface of the circuit board 7 and one surface of the head substrate 6. It is sealed with a sealing body 25 made of an epoxy resin.

ここでサーマルプリントヘッド1の製造工程の中でヘッド基板6を製造する基板製造工程について説明する。まず基板製造工程では、支持基板10の一面にグレーズ層11を融着させて絶縁基板12を形成した後、スパッタ装置等の薄膜形成装置によって絶縁基板12の一面に、抵抗体層及び導電体層を順に積層形成する。そして基板製造工程では、例えばフォトエングレービングプロセスによって、絶縁基板12の一面に導電体層を成形して共通電極14及び複数の個別電極15を形成した後、抵抗体層を成形して複数の発熱抵抗体13を形成する。   Here, a substrate manufacturing process for manufacturing the head substrate 6 in the manufacturing process of the thermal print head 1 will be described. First, in the substrate manufacturing process, after the glaze layer 11 is fused to one surface of the support substrate 10 to form the insulating substrate 12, a resistor layer and a conductor layer are formed on one surface of the insulating substrate 12 by a thin film forming apparatus such as a sputtering apparatus. Are sequentially stacked. In the substrate manufacturing process, for example, a conductive layer is formed on one surface of the insulating substrate 12 by a photo-engraving process to form the common electrode 14 and the plurality of individual electrodes 15, and then the resistor layer is formed to form a plurality of resistor layers. A heating resistor 13 is formed.

因みに発熱抵抗体13は、タンタル(Ta)等がドーピングされたシリコン酸化膜であり、1[μm]程度の厚さに形成されている。また共通電極14及び複数の個別電極15は、例えばアルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、タングステン(W)、あるいはこれらを主成分とする合金、あるいはこれらの金属または合金の積層体であり、例えば1[μm]程度の厚さに形成されている。   Incidentally, the heating resistor 13 is a silicon oxide film doped with tantalum (Ta) or the like, and has a thickness of about 1 [μm]. The common electrode 14 and the plurality of individual electrodes 15 are made of, for example, aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), titanium (Ti), tungsten ( W), or an alloy containing these as a main component, or a laminate of these metals or alloys, for example, having a thickness of about 1 [μm].

次いで図7(A)及び(B)に示すように、基板製造工程では、絶縁基板12の一面全体に、シリコン酸化膜(Si0)やシリコン酸窒化膜(SiON)等でなる保護膜層30を例えば1[μm]乃至5[μm]程度の厚みで積層する。これにより基板製造工程では、絶縁基板12の一面の複数の発熱抵抗体13、共通電極14及び複数の個別電極15と、露出しているグレーズ層11とを保護膜層30によって覆う。 Next, as shown in FIGS. 7A and 7B, in the substrate manufacturing process, the protective film layer 30 made of a silicon oxide film (SiO 2 ), a silicon oxynitride film (SiON) or the like is formed on the entire surface of the insulating substrate 12. For example, with a thickness of about 1 [μm] to 5 [μm]. Thus, in the substrate manufacturing process, the plurality of heating resistors 13, the common electrode 14 and the plurality of individual electrodes 15 on one surface of the insulating substrate 12, and the exposed glaze layer 11 are covered with the protective film layer 30.

続いて図8(A)及び(B)に示すように、基板製造工程では、保護膜層30の一面全体に、ネガ型やポジ型のドライフィルムレジストや液状レジストでなるフォトレジスト31を例えば40[μm]乃至50[μm]程度の厚みで積層する。また基板製造工程では、フォトレジスト31を、保護膜17の一面の形状に応じてパターニングしたマスク(図示せず)を介して露光した後、現像する。   Subsequently, as shown in FIGS. 8A and 8B, in the substrate manufacturing process, for example, a photoresist 31 made of a negative or positive dry film resist or a liquid resist is applied to the entire surface of the protective film layer 30. Lamination is performed with a thickness of about [μm] to 50 [μm]. In the substrate manufacturing process, the photoresist 31 is exposed through a mask (not shown) patterned in accordance with the shape of one surface of the protective film 17 and then developed.

これにより基板製造工程では、保護膜層30の一面上でフォトレジスト31をマスクのパターンに応じた形状に成形する。すなわち基板製造工程では、フォトレジスト31を現像して、保護膜17の穴部17Aに対応するレジスト穴部31Aと、複数の突出部17AXに対応する、頂角が例えば45[°]よりも鋭角な三角形状の複数のレジスト突出部31AXとを有する形状に成形する。因みに以下の説明では、現像して成形したフォトレジスト31を現像レジスト31とも呼ぶ。   Thereby, in the substrate manufacturing process, the photoresist 31 is formed on one surface of the protective film layer 30 into a shape corresponding to the mask pattern. That is, in the substrate manufacturing process, the photoresist 31 is developed, and the apex angles corresponding to the resist hole portions 31A corresponding to the hole portions 17A of the protective film 17 and the plurality of protruding portions 17AX are more acute than 45 [°], for example. And having a plurality of triangular resist protrusions 31AX. In the following description, the photoresist 31 formed by development is also referred to as a development resist 31.

ところで一般的に現像レジストは、例えば厚みが40[μm]乃至50[μm]程度のように所定の厚み以上であると、45[°]以下の鋭角な三角形のような突出部が形成された部分では、下層の物質に対する密着性が当該突出部の根元から先端にかけて徐々に低下する傾向にある。このため現像レジスト31も、保護膜層30の一面に対する複数のレジスト突出部31AXの密着性が根元から先端にかけて徐々に低下している。   By the way, in general, the development resist has a sharp triangular protrusion of 45 [°] or less when the thickness is a predetermined thickness or more, for example, about 40 [μm] to 50 [μm]. In the portion, the adhesiveness to the underlying substance tends to gradually decrease from the base of the protrusion to the tip. For this reason, also in the developing resist 31, the adhesiveness of the plurality of resist protrusions 31AX to one surface of the protective film layer 30 gradually decreases from the root to the tip.

そして図9(A)及び(B)に示すように、基板製造工程では、現像レジスト31をエッチングマスクとして用いて、保護膜層30をドライエッチング又はウェットエッチングする。これにより基板製造工程では、絶縁基板12の一面上から保護膜層30の他端部(すなわち現像レジスト31に覆われていない部分)を除去して複数の個別電極15のボンディングパッド15Aを露出させる。また基板製造工程では、絶縁基板12の一面上から保護膜層30においてレジスト穴部31Aとの対応部分を除去して穴部30Aを形成し、共通電極14の中央部を露出させる。   Then, as shown in FIGS. 9A and 9B, in the substrate manufacturing process, the protective film layer 30 is dry-etched or wet-etched using the developing resist 31 as an etching mask. Thus, in the substrate manufacturing process, the other end portion of the protective film layer 30 (that is, the portion not covered with the developing resist 31) is removed from one surface of the insulating substrate 12 to expose the bonding pads 15A of the plurality of individual electrodes 15. . Further, in the substrate manufacturing process, a portion corresponding to the resist hole 31A in the protective film layer 30 is removed from one surface of the insulating substrate 12 to form the hole 30A, and the central portion of the common electrode 14 is exposed.

さらに保護膜層30の一面に対する複数のレジスト突出部31AXの密着性は、その根元から先端にかけて徐々に低下している。このため基板製造工程では、複数のレジスト突出部31AXと保護膜層30の対応する複数の穴縁部30AXとの間にそれぞれエッチングガス又はエッチング液を入り込ませる。これにより基板製造工程では、保護膜層30の複数の穴縁部30AXをそれぞれレジスト突出部31AXとの密着性の程度に応じて、根元から密着性が低下する先端にかけて徐々に除去量を多くして厚みを薄くするように除去する。   Furthermore, the adhesiveness of the plurality of resist protrusions 31AX to one surface of the protective film layer 30 gradually decreases from the base to the tip. Therefore, in the substrate manufacturing process, an etching gas or an etchant is introduced between the plurality of resist protrusions 31AX and the corresponding plurality of hole edges 30AX of the protective film layer 30, respectively. Thereby, in the substrate manufacturing process, the removal amount of the plurality of hole edge portions 30AX of the protective film layer 30 is gradually increased from the root to the tip where the adhesion is lowered according to the degree of adhesion to the resist protrusion 31AX. Remove to reduce the thickness.

このようにして基板製造工程では、絶縁基板12の一面と現像レジスト31との間で保護膜層30を保護膜17の形状に成形する。すなわち基板製造工程では、保護膜17に、形状が特殊な半円錐状又は半楕円錐状の複数の突出部17AXが設けられるものの、現像レジスト31の特性を利用し、保護膜17の形状に応じた現像レジスト31をエッチングマスクとして保護膜層30をエッチングするだけで、当該保護膜17の複数の突出部17AXを容易に形成することができる。   In this way, in the substrate manufacturing process, the protective film layer 30 is formed in the shape of the protective film 17 between one surface of the insulating substrate 12 and the developing resist 31. That is, in the substrate manufacturing process, although the protective film 17 is provided with a plurality of protrusions 17AX having a special semi-conical shape or semi-elliptical pyramid shape, depending on the shape of the protective film 17 using the characteristics of the developing resist 31. The plurality of protrusions 17AX of the protective film 17 can be easily formed only by etching the protective film layer 30 using the developed resist 31 as an etching mask.

そして図10(A)及び(B)に示すように、基板製造工程では、成形した保護膜層30の一面から現像レジスト31を剥離する。これにより基板製造工程では、絶縁基板12の一面に保護膜17を形成する。   Then, as shown in FIGS. 10A and 10B, in the substrate manufacturing process, the developing resist 31 is peeled from one surface of the formed protective film layer 30. Thus, the protective film 17 is formed on one surface of the insulating substrate 12 in the substrate manufacturing process.

次いで図11(A)及び(B)に示すように、基板製造工程では、スパッタリング等により、保護膜17の一面の中央部から一端部までに亘り導電性金属膜である除電膜18を例えば0.1[μm]乃至0.4[μm]程度の厚さで被着する。これにより基板製造工程では、除電膜18により保護膜17の一面の発熱領域16と対応する箇所を含むほとんどの部分を覆うと共に、その除電膜18を当該保護膜17の穴部17Aを介して共通電極14の中央部に接続する。   Next, as shown in FIGS. 11A and 11B, in the substrate manufacturing process, the neutralization film 18, which is a conductive metal film, is formed, for example, by 0 or the like from the center to one end of one surface of the protective film 17 by sputtering or the like. It is applied with a thickness of about 1 [μm] to 0.4 [μm]. Thus, in the substrate manufacturing process, the neutralization film 18 covers most of the portion including the portion corresponding to the heat generation region 16 on one surface of the protective film 17, and the neutralization film 18 is shared through the hole 17 </ b> A of the protective film 17. Connect to the center of the electrode 14.

このようにして基板製造工程では、ヘッド基板6を製造する。因みに除電膜18は、例えば共通電極14と同じ導電性材料によって形成されることで、共通電極14の中央部に強固に接続されている。ただし除電膜18は、共通電極14とは異なる導電性材料によって形成することもできる。   Thus, the head substrate 6 is manufactured in the substrate manufacturing process. Incidentally, the charge removal film 18 is formed of, for example, the same conductive material as that of the common electrode 14, and is thus firmly connected to the central portion of the common electrode 14. However, the charge removal film 18 can also be formed of a conductive material different from the common electrode 14.

このようなサーマルプリントヘッド1が設けられたサーマルプリンタ40について、図12を用いて説明する。サーマルプリンタ40は、プラテンローラ41がローラ軸42を主走査方向S1と平行にし、かつ外周面をヘッド基板6の除電膜18において発熱領域16と対応する箇所に接触させた状態で、ローラ軸42を中心にして回転可能に設けられている。   A thermal printer 40 provided with such a thermal print head 1 will be described with reference to FIG. The thermal printer 40 has a roller shaft 42 in a state where the platen roller 41 makes the roller shaft 42 parallel to the main scanning direction S1 and the outer peripheral surface is in contact with the portion corresponding to the heat generating region 16 in the charge removal film 18 of the head substrate 6. Is provided so as to be rotatable around the center.

これによりサーマルプリンタ40は、画像形成時、プラテンローラ41の回転により、当該プラテンローラ41とヘッド基板6の除電膜18との間に挿入した記録媒体Pを副走査方向S2へ搬送しながら、複数の発熱抵抗体13を選択的に発熱させることで、記録媒体Pの表面に所望の画像を形成する。またサーマルプリンタ40は、このとき記録媒体Pをヘッド基板6の除電膜18に対して摺動させることで静電気が発生しても、その静電気を除電膜18で受けて共通電極14へ、これを接地端子として機能させて逃がすことができる。   As a result, the thermal printer 40 rotates the platen roller 41 during image formation, while conveying the recording medium P inserted between the platen roller 41 and the charge removal film 18 of the head substrate 6 in the sub-scanning direction S2. The heating resistor 13 is selectively heated to form a desired image on the surface of the recording medium P. Further, even if static electricity is generated by sliding the recording medium P with respect to the charge removal film 18 of the head substrate 6 at this time, the thermal printer 40 receives the static electricity by the charge removal film 18 and transfers it to the common electrode 14. It can function as a ground terminal and escape.

以上の構成において、サーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において絶縁基板12の一面に、複数の発熱抵抗体13を主走査方向S1へ並べて配置すると共に、共通電極14及び複数の個別電極15を配置して、これらを複数の発熱抵抗体13に接続した。またサーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において絶縁基板12の一面に、複数の発熱抵抗体13、共通電極14及び複数の個別電極15を覆う保護膜17を配置するが、その保護膜17の一面に、共通電極14の中央部を露出させる穴部17Aを形成すると共に、当該穴部17Aの縁に根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を緩やかに傾斜させた突出部17AXを穴部17Aの中央部へ突出させて設けた。   In the above configuration, in the thermal print head 1, the plurality of heating resistors 13 are arranged side by side in the main scanning direction S 1 on the one surface of the insulating substrate 12 in the head substrate 6, and the common electrode 14 and the plurality of individual electrodes 15 are arranged. These were connected to a plurality of heating resistors 13. In the thermal print head 1, the protective film 17 covering the plurality of heating resistors 13, the common electrode 14, and the plurality of individual electrodes 15 is disposed on one surface of the insulating substrate 12 in the head substrate 6. In addition, the hole 17A that exposes the central portion of the common electrode 14 is formed, the width of the hole 17A is gradually narrowed from the root to the tip, and the thickness is gradually reduced to form an arcuate surface. The projecting portion 17AX that is gently inclined is provided so as to project to the center of the hole portion 17A.

そしてサーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において保護膜17の一面から突出部17AXを介して穴部17Aの底の共通電極14の中央部までに亘って除電膜18を被着して、当該除電膜18の一部を共通電極14の中央部に接続した。   In the thermal print head 1, the static elimination film 18 is deposited from one surface of the protective film 17 on the head substrate 6 to the central portion of the common electrode 14 at the bottom of the hole 17 A via the protrusion 17 AX. A part of the film 18 was connected to the central part of the common electrode 14.

以上の構成によれば、サーマルプリントヘッド1は、ヘッド基板6において除電膜18を保護膜17の突出部17AXの表面に、その周囲の共通電極14に被着された箇所の間で押さえ込むようにして接着力を向上させて被着することができる。これによりサーマルプリントヘッド1は、サーマルプリンタ40に設けられて記録媒体Pに画像を形成する際、プラテンローラ41が除電膜18に押し付けられた状態で回転してヘッド基板6に応力が生じても、その応力によって除電膜18が保護膜17の突出部17AXから剥離して破断することを防止して、除電膜18の接地品位を向上させることができる。   According to the above configuration, the thermal print head 1 presses the static elimination film 18 on the surface of the protrusion 17AX of the protective film 17 between the portions of the head substrate 6 that are attached to the common electrode 14 around it. It can be applied with improved adhesion. Accordingly, when the thermal print head 1 is provided in the thermal printer 40 and forms an image on the recording medium P, the thermal print head 1 is rotated in a state where the platen roller 41 is pressed against the charge removal film 18 and stress is generated on the head substrate 6. The static elimination film 18 can be prevented from being peeled off from the protruding portion 17AX of the protective film 17 due to the stress, and the ground quality of the static elimination film 18 can be improved.

またサーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において保護膜17の穴部17Aの縁に複数の突出部17AXを設けた。よってサーマルプリントヘッド1は、ヘッド基板6に生じた応力により、仮に突出部17AX上で除電膜18が剥離して破断しても、このような破断を一部の突出部17AX上に留めることができ、除電膜18の接地品位が低下することを回避することができる。   In the thermal print head 1, a plurality of protrusions 17 </ b> AX are provided on the edge of the hole 17 </ b> A of the protective film 17 in the head substrate 6. Therefore, even if the static elimination film 18 peels off and breaks on the protrusion 17AX due to the stress generated on the head substrate 6, the thermal print head 1 can keep such breakage on some protrusions 17AX. It is possible to avoid a reduction in the grounding quality of the charge removal film 18.

さらにサーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において保護膜17に長方形の穴部17Aを形成し、当該穴部17Aの異なる縁にそれぞれ複数の突出部17AXを設けた。よってサーマルプリントヘッド1は、ヘッド基板6の何れかの部分に応力が集中して、仮に突出部17AX上で除電膜18が剥離して破断しても、このような破断を一部の突出部17AX上に留めることができ、除電膜18の接地品位が低下することを回避することができる。   Further, in the thermal print head 1, a rectangular hole 17A is formed in the protective film 17 on the head substrate 6, and a plurality of protrusions 17AX are provided on different edges of the hole 17A. Therefore, even if the thermal print head 1 has stress concentrated on any part of the head substrate 6 and the charge removal film 18 is peeled off and ruptured on the protrusion 17AX, such a rupture is partially broken. 17AX can be retained, and a reduction in grounding quality of the charge removal film 18 can be avoided.

さらにサーマルプリントヘッド1では、ヘッド基板6において除電膜18を、静電気を逃がすための接地端子としての共通電極14に接続した。よってサーマルプリントヘッド1は、ヘッド基板6に除電膜18を接地するための専用の接地端子を特に設ける必要がない。すなわちサーマルプリントヘッド1は、ヘッド基板6が接地端子を設けることで大型化し、また構成が煩雑化することを回避して、除電膜18を接地することができる。   Further, in the thermal print head 1, the charge removal film 18 in the head substrate 6 is connected to the common electrode 14 as a ground terminal for releasing static electricity. Therefore, the thermal print head 1 does not need to provide a dedicated ground terminal for grounding the charge removal film 18 on the head substrate 6. In other words, the thermal print head 1 can be grounded by avoiding an increase in size and a complicated configuration of the head substrate 6 by providing a ground terminal.

なお上述した実施の形態においては、保護膜17の2カ所の縁に複数の突出部17AXを設ける場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、保護膜17の何れか1カ所の縁に突出部17AXを1個だけ設けても良い。また本発明は、保護膜17の2カ所以上の縁にそれぞれ少なくとも1個以上の同数、又は異なる個数の突出部17AXを設けても良い。   In the above-described embodiment, the case where the plurality of protrusions 17AX are provided at the two edges of the protective film 17 has been described. However, the present invention is not limited to this, and only one protrusion 17AX may be provided at the edge of any one of the protective films 17. In the present invention, at least one of the same or different number of protrusions 17AX may be provided at two or more edges of the protective film 17 respectively.

また上述した実施の形態においては、保護膜17に長方形状の穴部17Aを形成して、その穴部17Aの縁に突出部17AXを設ける場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、保護膜17に正方形状や楕円形状、円形状等の種々の形状の穴部17Aを形成して、その穴部17Aの縁の少なくとも1以上の箇所に少なくとも1個以上の突出部17AXを設け、また縁に一周に亘り複数の突出部17AXを設けても良い。   Further, in the above-described embodiment, the case where the rectangular hole portion 17A is formed in the protective film 17 and the protrusion portion 17AX is provided at the edge of the hole portion 17A has been described. However, the present invention is not limited to this, and a hole 17A having various shapes such as a square shape, an oval shape, and a circular shape is formed in the protective film 17, and at least at least one place on the edge of the hole portion 17A. One or more protrusions 17AX may be provided, and a plurality of protrusions 17AX may be provided around the edge.

さらに上述した実施の形態においては、共通電極14を接地端子として、これに除電膜18を接続(すなわち接地)する場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、絶縁基板12の一面に専用の接地端子を設け、これに除電膜18を接続(すなわち接地)しても良い。   Further, in the above-described embodiment, the case where the common electrode 14 is used as a ground terminal and the charge removal film 18 is connected (that is, grounded) to this is described. However, the present invention is not limited to this, and a dedicated ground terminal may be provided on one surface of the insulating substrate 12, and the charge removal film 18 may be connected (that is, grounded) thereto.

本発明は、デジタル製版機、ビデオプリンタ、イメージャ、シールプリンタ等のサーマルプリンタと、当該サーマルプリンタに設けられるサーマルプリントヘッドに利用することができる。   The present invention can be used for a thermal printer such as a digital plate making machine, a video printer, an imager, and a seal printer, and a thermal print head provided in the thermal printer.

1……サーマルプリントヘッド、6……ヘッド基板、12……絶縁基板、13……発熱抵抗体、14……共通電極、15……個別電極、17……保護膜、17A……穴部、17AX……突出部、18……除電膜、30……保護膜層、31……フォトレジスト、40……サーマルプリンタ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermal print head, 6 ... Head substrate, 12 ... Insulating substrate, 13 ... Heating resistor, 14 ... Common electrode, 15 ... Individual electrode, 17 ... Protective film, 17A ... Hole, 17AX: Projection, 18: Static elimination film, 30 ... Protective film layer, 31 ... Photoresist, 40 ... Thermal printer.

Claims (6)

絶縁基板と、
前記絶縁基板の一面に、主走査方向へ並べて配置された複数の発熱抵抗体と、
前記絶縁基板の一面に配置され、複数の前記発熱抵抗体と接続される複数の電極と、
前記絶縁基板の一面に配置された接地端子と、
前記絶縁基板の一面に配置され、複数の前記発熱抵抗体及び複数の前記電極を覆う保護膜と、
前記保護膜の一面に被着された除電膜と
を具え、
前記保護膜は、
前記接地端子を露出させる穴部が形成されると共に、当該穴部の縁に根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を傾斜させる突出部が設けられ、
前記除電膜は、
前記保護膜の一面から前記突出部を介して前記穴部の底の前記接地端子までに亘って被着された
サーマルプリントヘッド。
An insulating substrate;
A plurality of heating resistors arranged side by side in the main scanning direction on one surface of the insulating substrate;
A plurality of electrodes disposed on one surface of the insulating substrate and connected to the plurality of heating resistors;
A ground terminal disposed on one surface of the insulating substrate;
A protective film disposed on one surface of the insulating substrate and covering the plurality of heating resistors and the plurality of electrodes;
A neutralizing film deposited on one surface of the protective film,
The protective film is
A hole for exposing the ground terminal is formed, and a protrusion is provided at the edge of the hole to gradually narrow the width from the root to the tip and gradually reduce the thickness to incline the bow-shaped surface. And
The charge removal membrane is
A thermal print head attached from one surface of the protective film to the ground terminal at the bottom of the hole through the protrusion.
前記保護膜は、
穴部の縁に、複数の前記突出部が設けられた
請求項1に記載のサーマルプリントヘッド。
The protective film is
The thermal print head according to claim 1, wherein a plurality of the protrusions are provided on an edge of the hole.
前記保護膜は、
穴部の縁の少なくとも1カ所以上に、少なくとも1個以上の前記突出部が設けられた
請求項1又は請求項2に記載のサーマルプリントヘッド。
The protective film is
The thermal print head according to claim 1, wherein at least one of the protrusions is provided at least at one edge of the hole.
前記電極は、
複数の前記発熱抵抗体に接続される共通電極と、複数の前記発熱抵抗体に接続される複数の個別電極とであり、
前記接地端子は、
前記共通電極である
請求項1乃至請求項3の何れかに記載のサーマルプリントヘッド。
The electrode is
A plurality of common electrodes connected to the plurality of heating resistors, and a plurality of individual electrodes connected to the plurality of heating resistors,
The ground terminal is
The thermal print head according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermal print head is the common electrode.
絶縁基板の一面に、複数の発熱抵抗体を主走査方向へ並べて形成すると共に、複数の電極及び接地端子を形成して、複数の前記電極を複数の前記発熱抵抗体に接続する第1工程と、
前記絶縁基板の一面に、複数の前記発熱抵抗体、複数の前記電極及び前記接地端子を覆う保護膜層を積層する第2工程と、
前記保護膜層の一面に、前記接地端子に対応する穴部を有すると共に、当該穴部の縁に頂角が鋭角な三角形状の突起部が設けられた所定の厚み以上のフォトレジストを積層して前記保護膜層をエッチングすることにより、前記絶縁基板の一面に、複数の前記発熱抵抗体及び複数の前記電極を覆いつつ、前記接地端子を露出させる穴部が形成されると共に、当該穴部の縁に根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を傾斜させる突出部が設けられた保護膜を形成する第3工程と、
前記保護膜の一面から前記突出部を介して前記穴部の底の前記接地端子までに亘って除電膜を被着する第4工程と
を具えるサーマルプリントヘッドの製造方法。
Forming a plurality of heating resistors on one surface of the insulating substrate in the main scanning direction, forming a plurality of electrodes and a ground terminal, and connecting the plurality of electrodes to the plurality of heating resistors; ,
A second step of laminating a protective film layer covering the plurality of heating resistors, the plurality of electrodes and the ground terminal on one surface of the insulating substrate;
A photoresist having a predetermined thickness or more having a hole corresponding to the ground terminal on one surface of the protective film layer and a triangular protrusion having an acute angle on the edge of the hole is laminated. Etching the protective film layer forms a hole that exposes the ground terminal while covering the plurality of heating resistors and the plurality of electrodes on one surface of the insulating substrate. A third step of forming a protective film provided with protrusions that gradually reduce the width and gradually reduce the thickness from the root to the tip of the edge of the rim, and tilt the bow-shaped surface;
And a fourth step of depositing a charge removal film from one surface of the protective film to the ground terminal at the bottom of the hole through the protrusion.
絶縁基板と、当該絶縁基板の一面に、主走査方向へ並べて配置された複数の発熱抵抗体と、前記絶縁基板の一面に配置され、複数の前記発熱抵抗体と接続される電極と、前記絶縁基板の一面に配置された接地端子と、前記絶縁基板の一面に配置され、複数の前記発熱抵抗体及び前記電極を覆う保護膜と、当該保護膜の一面に被着された除電膜とを有し、前記保護膜に前記接地端子を露出させる穴部が形成されると共に、当該穴部の縁に、根元から先端にかけて徐々に幅を狭め、かつ徐々に厚みを薄くして、弓形状の表面を傾斜させる突出部が設けられ、前記除電膜が前記保護膜の一面から前記突出部を介して前記穴部の底の前記接地端子までに亘って被着されたサーマルプリントヘッド
を具えるサーマルプリンタ。
An insulating substrate; a plurality of heating resistors arranged side by side in the main scanning direction on one surface of the insulating substrate; an electrode disposed on one surface of the insulating substrate and connected to the plurality of heating resistors; and the insulation A grounding terminal disposed on one surface of the substrate; a protective film disposed on the one surface of the insulating substrate; covering the plurality of heating resistors and the electrodes; and a neutralizing film deposited on the one surface of the protective film. And a hole for exposing the ground terminal to the protective film is formed, and at the edge of the hole, the width is gradually narrowed from the root to the tip, and the thickness is gradually reduced to provide a bow-shaped surface. A thermal printer comprising a thermal print head provided with a projecting portion that inclines, and wherein the charge removal film is attached from one surface of the protective film to the ground terminal at the bottom of the hole portion through the projecting portion .
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