JP2017176975A - Binary fluid spray system, control device for binary fluid spray system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、二流体噴霧システム、二流体噴霧システム用制御装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a two-fluid spray system and a control device for the two-fluid spray system.
従来の二流体噴霧システムとして、空気及び純水を二流体ノズルに供給すると共に、二流体ノズルに供給される空気及び純水の圧力はそれぞれ圧力調整装置から得られる指令値に応じて比例制御可能であって、二流体ノズルにより得られる二流体噴霧粒子を室内空間に供給することにより、室内空間を加湿するようにしたものがある。 As a conventional two-fluid spray system, air and pure water are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure of air and pure water supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to the command value obtained from the pressure regulator. However, there are some which humidify the indoor space by supplying the two-fluid spray particles obtained by the two-fluid nozzle to the indoor space.
前述した従来の二流体噴霧システムでは、導入時に、導入先の風速、空間の広さ、温湿度、噴霧量等の適用条件に応じて、ノズルの数量、配置方法、噴霧方向、噴霧する霧の液体流量、気液比、粒径等の霧の性質を事前に検討し、予め作成したノズルの特性表を元に、空気圧、水圧を比例制御の出力値に対してどの様に変化させるか、検討の上、関数の乗数を算出して装置に設定する様にしていた。 In the conventional two-fluid spray system described above, the number of nozzles, the arrangement method, the spray direction, and the amount of mist to be sprayed are determined at the time of introduction according to the application conditions such as the wind speed of the introduction destination, the size of the space, temperature and humidity, and the amount of spray. How to change the air pressure and water pressure with respect to the output value of proportional control based on the characteristics table of the nozzle prepared in advance, considering the properties of the mist such as liquid flow rate, gas-liquid ratio, particle size, etc. After examination, the function multiplier was calculated and set in the apparatus.
この従来の二流体噴霧システムでは、実際に計画に基づいて噴霧を行い、霧の性質が粗すぎる、若しくは細かすぎるから変えたい時に、再度ノズルの特性表を元に関数の乗数を計算して設定する必要が有り、時間がかかり実用的ではなかった。 In this conventional two-fluid spray system, spraying is actually performed based on the plan, and when the characteristics of the mist are too rough or too fine to change, the function multiplier is calculated and set again based on the nozzle characteristics table. It was time consuming and not practical.
本実施形態は上記のような課題を解決するためになされたものであり、噴霧特性の変更を簡単に設定することが可能な二流体噴霧システム、二流体噴霧システム用制御装置を得ることを目的とする。 The present embodiment has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to obtain a two-fluid spray system and a control device for a two-fluid spray system that can easily set a change in spray characteristics. And
実施形態1は、気体及び流体を二流体ノズルに供給すると共に、前記二流体ノズルに供給される気体及び流体の圧力又は流量はそれぞれ調整装置から得られる指令値に応じて比例制御可能であって、前記二流体ノズルにより得られる霧を対象に噴霧する二流体噴霧システムにおいて、
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の特性の一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値に定め、この目標値を前記調整装置の制御目標値に変更する制御装置を備えた二流体噴霧システムである。
In the first embodiment, gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure and flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. In the two-fluid spray system for spraying the mist obtained by the two-fluid nozzle onto the target,
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristic is stored in a memory by an input device, one of the arbitrary characteristics stored in the memory is selected, and the gas pressure applied to the two-fluid nozzle from the selected nozzle characteristic or It is a two-fluid spray system provided with a control device that determines a flow rate and a target value of the pressure or flow rate of the liquid and changes the target value to a control target value of the adjusting device.
実施形態1は、従来の二流体噴霧システムに以下に述べる制御装置例えばタッチパネル付コントローラ(二流体噴霧システム用制御装置)10を備えたものである。従来の二流体噴霧システムは、図1に示すように気体例えば圧縮空気3及び流体例えば純水2を二流体ノズル1に供給すると共に、二流体ノズル1に供給される圧縮空気3及び純水2の圧力又は流量はそれぞれ調整装置例えば空気用電空レギュレータ41と、純水用電空レギュレータ40から得られる指令値例えば圧力指令値に応じて比例制御可能であって、二流体ノズル1により得られる霧を対象に噴霧するものである。
In the first embodiment, a control device described below, for example, a controller with a touch panel (a control device for a two-fluid spray system) 10 is provided in a conventional two-fluid spray system. As shown in FIG. 1, the conventional two-fluid spray system supplies a gas such as compressed air 3 and a fluid such as pure water 2 to the two-fluid nozzle 1, and a compressed air 3 and pure water 2 supplied to the two-fluid nozzle 1. Can be proportionally controlled in accordance with a command value obtained from the adjustment device, for example, the
図1において、二流体ノズル1に図示しない液体供給源からの液体例えば純水2及び図示しない気体供給源からの気体例えば圧縮空気3が供給できるように、二流体ノズル1と各供給源との間に、水供給路5と空気供給路8を接続する配管が配設してある。
In FIG. 1, the two-fluid nozzle 1 and each supply source are supplied so that a liquid such as pure water 2 from a liquid supply source (not shown) and a gas such as compressed air 3 from a gas supply source (not shown) can be supplied to the two-fluid nozzle 1. A pipe for connecting the
空気供給路8と二流体ノズル1の間には空気用電空レギュレータ41が設けてある。水供給路5と空気供給路8の間に供給タンク32、圧力タンク31がそれぞれ配設してある。
An air
空気供給路8と圧力タンク31との間の配管には水用電空レギュレータ40が設けてある。電空レギュレータ40は、圧力タンク31内の水の圧力を例えば400kPaにしたり、図示しない水排気系に設けてある排気弁EXTに開放又は閉路指令を与えるものである。
A water electro-
二流体ノズル1に供給される圧縮空気3及び純水2の圧力は、電空レギュレータ41と電空レギュレータ40からの指令値に応じて比例制御されるようになっている。
The pressures of the compressed air 3 and pure water 2 supplied to the two-fluid nozzle 1 are proportionally controlled according to command values from the
水供給路5であって供給タンク32の間に、水供給弁33と逆止弁34が設けてあり、水供給路5であって供給タンク32と圧力タンク31の間に逆止弁42が設けてある。空気供給路5と供給タンク32とを接続する配管に三方弁39が設けてある。
A
圧力タンク31及び供給タンク32内にはそれぞれ高位液面センサ(H)7と低位液面センサ(L)6が設けられており、これらの計測値に基づき、予め供給タンク32内には純水2が補給されると共に供給タンク32内に純水2が満タンになると自動的に純水の供給が停止され、さらに圧力タンク31内の純水が少なくなったとき供給タンク32内の純水2が自動的に移送されるようになっている。
A high liquid level sensor (H) 7 and a low liquid level sensor (L) 6 are provided in the
タッチパネル付コントローラ10は、二流体ノズル1に供給される純水2の流量及び圧力の少なくとも一つと、二流体ノズル1に供給される圧縮空気3の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズル1のノズル特性を、複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置例えばタッチスィツチにより図示しないメモリに保存し、メモリに保存された任意の特性の一つをタッチスイッチで選択し、選択されたノズル特性から、二流体ノズル1に与える圧縮空気3の圧力若しくは流量及び純水2の圧力若しくは流量の目標値に定め、この目標値を電空レギュレータ41、40の制御目標値に変更するものである。
The
タッチパネル付コントローラ10は、予め測定した図3に示すようなノズル特性表を記憶する図示しないメモリテーブルと、図示しない演算手段を備え、二流体ノズル1の圧縮空気3の圧力である空気圧(Pa)、純水2の圧力である噴霧水圧(Pw)と、純水2の噴霧流量(Qw)、圧縮空気3の空気流量(Qa)或いは予め測定した二流体ノズル1の空気圧(Pa)、噴霧水圧(Pw)と、噴霧流量(Qw)に基づき、二流体ノズル1に与える圧縮空気3及び純水2の空気圧(Pa)、噴霧水圧(Pw)を演算し、演算結果を電空レギュレータ41、40の制御目標値に変更させるものである。
The
図2は図1のコントローラ11の圧力パターン設定画面を示す図であり、高側噴霧水圧用設定器と、低側噴霧水圧用設定器と、高側噴霧流量用設定器と、低側噴霧流量用設定器とを備えている。
FIG. 2 is a diagram illustrating a pressure pattern setting screen of the
高側噴霧水圧用設定器は現在設定されている高側噴霧水圧Pw例えば300を表示する表示部20と、この表示部20に表示された値を大きくする上昇ボタン12と、表示部20に表示された値を小さくする下降ボタン13を有している。低側噴霧水圧用設定器も同様に表示部21と上昇ボタン16と下降ボタン17を有している。
The high-side spray water pressure setting device has a
高側噴霧流量用設定器は例えば図5に現在設定されている高側噴霧流量Qw例えば50を表示する表示部22と、この表示部22に表示されている値を大きくする上昇ボタン14と、表示部22に表示されている値を小さくする下降ボタン15を有している。
The high-side spray flow rate setting device includes, for example, a
低側噴霧水圧用設定器も同様に表示部23と上昇ボタン18と下降ボタン19を有している。
Similarly, the low-side spray water pressure setting device has a
低側噴霧流量用設定器と、高側噴霧流量用設定器と、低側噴霧流量用設定器と、特性評価要素例えば現在の霧の平均粒径(SMD)を高側及び低側の値をそれぞれ表示する表示部52、53と、前の表示に戻るとき使用する戻るボタン25と、指令値MVを表示する表示部26と、表示されている値を確定するときに使用する確定ボタン27と、現在の表示をキャンセルするキャンセルボタン28とを備えている。
Low-side spray flow rate setting device, high-side spray flow rate setting device, low-side spray flow rate setting device, and characteristic evaluation factors such as the average particle size (SMD) of the current mist on the high-side and low-side
高側噴霧水圧用設定器は、表示部20と上昇ボタン12と下降ボタン13を有している。低側噴霧水圧用設定器は、表示部21と上昇ボタン16と下降ボタン17を有している。高側噴霧流量用設定器は、表示部22と上昇ボタン14と下降ボタン15を有している。低側噴霧水圧用設定器は表示部23と上昇ボタン18と下降ボタン19を有している。
The high-side spray water pressure setting device has a
これ以外に実際に備えているもので、図示しない演算手段は、前述のようにメモリに保存されたノズル特性から、図5のように純水2の噴霧流量の異なる少なくとも2つの点を選択し、メモリから読み出されたノズル特性の情報から噴霧流量(Qw)、噴霧流量に応じた圧縮空気3及び純水2の圧力若しくは噴霧流量の演算式例えば一次式を求め、この求めた演算式から圧縮空気3気体及び純水2の圧力(Pa)、(Pw)を若しくは噴霧流量(Qw)を、電空レギュレータ40、41の指令値として出力できるようになってぃる。
In addition to this, the calculation means (not shown) selects at least two points with different spray flow rates of the pure water 2 as shown in FIG. 5 from the nozzle characteristics stored in the memory as described above. From the nozzle characteristic information read from the memory, a calculation formula for the spray flow rate (Qw), the pressure of the compressed air 3 and the pure water 2 corresponding to the spray flow rate, or a spray flow rate, for example, a primary formula, is obtained. The pressure (Pa), (Pw) of the compressed air 3 gas and the pure water 2 or the spray flow rate (Qw) can be output as a command value of the
図5は、横軸に噴霧流量と縦軸に空気圧がとってあり、予め計測された高い値と低い値とを結んだり、例えば横軸に噴霧流量と縦軸に噴霧水圧と空気圧がとってあり、予め計測された高い値と低い値とを結んだりするものである。 In FIG. 5, the horizontal axis represents the spray flow rate and the vertical axis represents the air pressure, and the pre-measured high value and the low value are connected. For example, the horizontal axis represents the spray flow rate and the vertical axis represents the spray water pressure and air pressure. There is a connection between a pre-measured high value and a low value.
以上述べた制御装置を備えているので、電空レギュレータ40、41の圧力設定パターンの変更がきわめて簡単であり、従来の二流体噴霧システムのように噴霧すべき対象の条件を変更する度にその都度圧力パターンを検討し、設定するものとははるかに優れている。
Since the control device described above is provided, it is very easy to change the pressure setting pattern of the
本実施形態は噴霧圧力を算出する関数を、予めメモリに保存した図3の様なノズルの特性表から、複数の特性を選ぶことで、算出することで、噴霧特性の変更を簡単に設定することが可能になる。 In the present embodiment, a change in spray characteristics can be easily set by calculating a function for calculating the spray pressure by selecting a plurality of characteristics from a nozzle characteristic table as shown in FIG. It becomes possible.
実施形態3は、前述の制御装置を以下のようにしたものである。すなわち、二流体ノズル1に供給される純水2の流量及び圧力の少なくとも一つと、二流体ノズル1に供給される圧縮空気3の流量及び圧力の少なくとも一つに加え、純水2流量若しくは圧力と、二流体ノズル1に供給される圧縮空気3の流量及び圧力の中で制御に用いない値と、霧の平均粒径と、霧の蒸発距離と、霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを含む二流体ノズル1のノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を図示しない入力装置により図示しないメモリに保存し、メモリに保存された任意の複数のノズル特性から少なくとも一つを選択し、選択されたノズル特性から、二流体ノズル1に与える圧縮空気3の圧力若しくは流量及び純水2の圧力若しくは流量の目標値を定めるものであって、ノズル特性を選択する際に、選択したノズル特性の評価要素として、純水2の流量若しくは圧力と、二流体ノズル1に供給される圧縮空気3の流量若しくは圧力のうち、制御に用いない値と、霧の平均粒径と、霧の蒸発距離と、霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを表示し、選択した霧の特性情報を、表示する機能を備えたものである。 In the third embodiment, the above-described control device is as follows. That is, in addition to at least one of the flow rate and pressure of the pure water 2 supplied to the two-fluid nozzle 1 and at least one of the flow rate and pressure of the compressed air 3 supplied to the two-fluid nozzle 1, the flow rate or pressure of pure water 2 And at least one of a value not used for control in the flow rate and pressure of the compressed air 3 supplied to the two-fluid nozzle 1, an average particle size of the mist, an evaporation distance of the mist, and an evaporation time of the mist The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle 1 including the above are measured in advance under a plurality of conditions, the measured nozzle characteristics are stored in a memory (not shown) by an input device (not shown), and at least one of the plurality of arbitrary nozzle characteristics stored in the memory is stored. From the selected nozzle characteristics, target values for the pressure or flow rate of the compressed air 3 and the pressure or flow rate of the pure water 2 to be applied to the two-fluid nozzle 1 are determined, and the nozzle characteristics are selected. When the selected nozzle characteristics are evaluated, the flow rate or pressure of pure water 2 and the flow rate or pressure of compressed air 3 supplied to the two-fluid nozzle 1 are not used for control, and the average of fog It has a function of displaying at least one of the particle size, the fog evaporation distance, and the fog evaporation time, and displaying the characteristic information of the selected fog.
実施形態4は、前述の制御装置を次のようにしたものである。すなわち、二流体ノズル1の個数を設定可能であって、この設定に基づきシステム全体の噴霧量を算出可能にしたものである。 In the fourth embodiment, the above-described control device is configured as follows. That is, the number of the two-fluid nozzles 1 can be set, and the spray amount of the entire system can be calculated based on this setting.
実施形態5は前述の制御装置を次のようにしたものである。すなわち、制御装置はシステム全体の噴霧量を基に想定噴霧量を演算し、想定噴霧量から二流体ノズル1若しくはシステム全体の健全性を判定できるようにしたものである。 In the fifth embodiment, the above-described control device is configured as follows. That is, the control device calculates an assumed spray amount based on the spray amount of the entire system, and can determine the soundness of the two-fluid nozzle 1 or the entire system from the assumed spray amount.
実施形態6は前述の制御装置を次のようにしたものである。すなわち、制御装置は前記演算した想定噴霧量に基づき、二流体ノズル1に供給する純水2を貯めるタンク例えば圧力タンク31内に配設され、純水2の下限液位を測定するセンサLが固着して、純水2を噴霧していない状態になっていないことを判定する機能を具備したものである。
In the sixth embodiment, the above-described control device is configured as follows. That is, the control device is provided in a tank, for example, a
実施形態7は、気体及び流体を二流体ノズルに供給すると共に、前記二流体ノズルに供給される気体及び流体の圧力又は流量はそれぞれ調整装置から得られる指令値に応じて比例制御可能であって、前記二流体ノズルにより得られる霧を対象に噴霧する二流体噴霧システムに使用されるものであって、
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の特性の一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値に定め、この目標値を前記調整装置の制御目標値として出力する二流体噴霧システム用制御装置である。
In the seventh embodiment, gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure and flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. , Used in a two-fluid spray system for spraying a mist obtained by the two-fluid nozzle onto a target,
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristic is stored in a memory by an input device, one of the arbitrary characteristics stored in the memory is selected, and the gas pressure applied to the two-fluid nozzle from the selected nozzle characteristic or It is a control device for a two-fluid spray system that determines a flow rate and a target value of liquid pressure or flow rate and outputs the target value as a control target value of the adjusting device.
実施形態8は、実施形態7同様に二流体ノズルにより得られる霧を対象に噴霧する二流体噴霧システムに使用されるものであって、前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存されたノズル特性から、前記液体の噴霧流量の異なる少なくとも2種類の条件を選択し、前記メモリから読み出されたノズル特性の情報から噴霧流量に応じた前記気体及び液体の圧力若しくは前記噴霧流量の演算式を求め、この求めた演算式から気体及び液体の圧力を若しくは流量を、前記調整装置の指令値として出力する二流体噴霧システム用制御装置である。 The eighth embodiment is used in a two-fluid spray system that sprays a mist obtained by a two-fluid nozzle on a target as in the seventh embodiment, and at least the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle are used. The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including one and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance, and the measured nozzle characteristics are stored in a memory by an input device and stored in the memory. From the stored nozzle characteristics, at least two types of conditions with different spray flow rates of the liquid are selected, and the gas and liquid pressures or the spray flow rates according to the spray flow rates from the nozzle characteristic information read from the memory The two-fluid spray system that outputs the pressure and flow rate of gas and liquid as the command value of the adjusting device from the calculated equation It is a use control device.
実施形態9は、実施形態7同様に二流体ノズルにより得られる霧を対象に噴霧する二流体噴霧システムに使用されるものであって、前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つに加え、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の中で制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の複数のノズル特性から少なくとも一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値を定めるものであって、前記ノズル特性を選択する際に、選択したノズル特性の評価要素として、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量若しくは圧力のうち、制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを表示し、選択した霧の特性情報を、表示する機能を備えた二流体噴霧システム用制御装置である。 The ninth embodiment is used in a two-fluid spray system that sprays a mist obtained by a two-fluid nozzle on a target as in the seventh embodiment, and at least the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle are used. In addition to at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle, the flow rate or pressure of the liquid and the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are used for control. The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the above-mentioned values, the average particle diameter of the mist, the evaporation distance of the mist, and the evaporation time of the mist, and measured in advance under a plurality of conditions. A nozzle characteristic is stored in a memory by an input device, at least one of a plurality of nozzle characteristics stored in the memory is selected, and the selected nozzle characteristic is applied to the two-fluid nozzle. A target value of the pressure or flow rate of the gas and the pressure or flow rate of the liquid, and when selecting the nozzle characteristics, the flow rate or pressure of the liquid and the two Of the flow rate or pressure of the gas supplied to the fluid nozzle, at least one of a value not used for control, the average particle diameter of the mist, the evaporation distance of the mist, and the evaporation time of the mist is displayed. A control device for a two-fluid spray system having a function of displaying characteristic information of a selected mist.
実施形態10は、前記二流体ノズルの個数を設定可能であって、この設定に基づきシステム全体の噴霧量を算出可能にした二流体噴霧システム用制御装置である。
実施形態11は、前記システム全体の噴霧量を基に想定噴霧量を演算し、前記想定噴霧量から前記二流体ノズル若しくはシステム全体の健全性を判定できるようにしたことを特徴とする二流体噴霧システム用制御装置である。 In the eleventh embodiment, an assumed spray amount is calculated based on the spray amount of the entire system, and the soundness of the two-fluid nozzle or the entire system can be determined from the assumed spray amount. This is a system control device.
実施形態12は、前記演算した想定噴霧量に基づき、前記二流体ノズルに供給する液体を貯めるタンク内に配設され、液体の下限液位を測定するセンサが固着して、前記液体を噴霧していない状態になっていないことを判定する機能を具備した二流体噴霧システム用制御装置である。 The twelfth embodiment is arranged in a tank for storing the liquid to be supplied to the two-fluid nozzle based on the calculated assumed spray amount, and a sensor for measuring the lower limit liquid level of the liquid is fixed to spray the liquid. This is a control device for a two-fluid spray system having a function of determining that it is not in a state.
1…二流体ノズル、2…純水、3…圧縮空気、5…水流路、6…下限水位計、7…上限水位計、8…空気流路、10…タッチパネル付コントローラ、11…タッチパネル、12、14、16、18…上昇ボタン、13、15、17、19…下降ボタン、…調節計、20…設定器、21…設定器、22…設定器、23…設定器、24…無効ボタン、25…戻るボタン、26…表示部、27…確定ボタン、 28…キャンセルボタン、31…圧力タンク、32…供給タンク、33…水供給弁、34、42…逆止弁、39…三方弁、40…水用電空レギュレータ、41…空気用電空レギュレータ、52…表示部、53…表示部。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Two-fluid nozzle, 2 ... Pure water, 3 ... Compressed air, 5 ... Water flow path, 6 ... Lower limit water level meter, 7 ... Upper limit water level meter, 8 ... Air flow path, 10 ... Controller with a touch panel, 11 ... Touch panel, 12 , 14, 16, 18 ... ascending button, 13, 15, 17, 19 ... descending button, ... controller, 20 ... setting device, 21 ... setting device, 22 ... setting device, 23 ... setting device, 24 ... invalid button, 25 ... Back button, 26 ... Display, 27 ... Confirm button, 28 ... Cancel button, 31 ... Pressure tank, 32 ... Supply tank, 33 ... Water supply valve, 34, 42 ... Check valve, 39 ... Three-way valve, 40 ... electro-pneumatic regulator for water, 41 ... electro-pneumatic regulator for air, 52 ... display section, 53 ... display section.
Claims (12)
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の特性の一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値に定め、この目標値を前記調整装置の制御目標値に変更する制御装置を備えた二流体噴霧システム。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. In a two-fluid spray system that sprays the mist obtained by
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristic is stored in a memory by an input device, one of the arbitrary characteristics stored in the memory is selected, and the gas pressure applied to the two-fluid nozzle from the selected nozzle characteristic or A two-fluid spray system provided with a control device that determines a flow rate and a target value of a liquid pressure or flow rate and changes the target value to a control target value of the adjusting device.
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存されたノズル特性から、前記液体の噴霧流量の異なる少なくとも2種類の条件を選択し、前記メモリから読み出されたノズル特性の情報から噴霧流量に応じた前記気体及び液体の圧力若しくは前記噴霧流量の演算式を求め、この求めた演算式から気体及び液体の圧力若しくは流量を、前記調整装置の指令値として出力できる制御装置を備えた二流体噴霧システム。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. In a two-fluid spray system that sprays the mist obtained by
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristics are stored in a memory by an input device, and at least two types of conditions with different liquid spray flow rates are selected from the nozzle characteristics stored in the memory, and the nozzles read from the memory are selected. Control capable of obtaining the gas and liquid pressure or the spray flow rate calculation formula corresponding to the spray flow rate from the characteristic information, and outputting the gas and liquid pressure or flow rate as the command value of the adjusting device from the calculated formula A two-fluid spray system with a device.
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つに加え、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の中で制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の複数のノズル特性から少なくとも一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値を定めるものであって、前記ノズル特性を選択する際に、選択したノズル特性の評価要素として、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量若しくは圧力のうち、制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを表示し、選択した霧の特性情報を、表示する機能を備えた二流体噴霧システム。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. In a two-fluid spray system that sprays the mist obtained by
In addition to at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle, the flow rate or pressure of the liquid and the two-fluid nozzle A two-fluid nozzle including at least one of a value not used for control in the flow rate and pressure of gas supplied to the mist, the average particle diameter of the mist, the evaporation distance of the mist, and the evaporation time of the mist The nozzle characteristics are measured in advance under a plurality of conditions, the measured nozzle characteristics are stored in a memory by an input device, and at least one of the plurality of arbitrary nozzle characteristics stored in the memory is selected and the selected The target value of the gas pressure or flow rate and the liquid pressure or flow rate applied to the two-fluid nozzle is determined from the nozzle characteristics, and is selected when selecting the nozzle characteristics. As evaluation elements of the nozzle characteristics, the flow rate or pressure of the liquid, the flow rate or pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle, a value not used for control, the average particle size of the mist, and the evaporation of the mist A two-fluid spray system having a function of displaying at least one of the distance and the evaporation time of the mist and displaying characteristic information of the selected mist.
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の特性の一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値に定め、この目標値を前記調整装置の制御目標値として出力する二流体噴霧システム用制御装置。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. Used in a two-fluid spray system for spraying a mist obtained by
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristic is stored in a memory by an input device, one of the arbitrary characteristics stored in the memory is selected, and the gas pressure applied to the two-fluid nozzle from the selected nozzle characteristic or A control device for a two-fluid spray system, which sets a flow rate and a target value of a liquid pressure or flow rate and outputs the target value as a control target value of the adjusting device.
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存されたノズル特性から、前記液体の噴霧流量の異なる少なくとも2種類の条件を選択し、前記メモリから読み出されたノズル特性の情報から噴霧流量に応じた前記気体及び液体の圧力若しくは前記噴霧流量の演算式を求め、この求めた演算式から気体及び液体の圧力を若しくは流量を、前記調整装置の指令値として出力する二流体噴霧システム用制御装置。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. Used in a two-fluid spray system for spraying a mist obtained by
The nozzle characteristics of the two-fluid nozzle including at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle are measured in advance under a plurality of conditions. The measured nozzle characteristics are stored in a memory by an input device, and at least two types of conditions with different liquid spray flow rates are selected from the nozzle characteristics stored in the memory, and the nozzles read from the memory are selected. The gas and liquid pressure or the spray flow rate calculation formula corresponding to the spray flow rate is obtained from the characteristic information, and the gas and liquid pressure or flow rate is output from the calculated calculation formula as a command value of the adjusting device. Control device for two-fluid spray system.
前記二流体ノズルに供給される液体の流量及び圧力の少なくとも一つと、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の少なくとも一つに加え、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量及び圧力の中で制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを含む二流体ノズルのノズル特性を複数の条件で予め測定し、この測定したノズル特性を入力装置によりメモリに保存し、前記メモリに保存された任意の複数のノズル特性から少なくとも一つを選択し、前記選択されたノズル特性から、前記二流体ノズルに与える気体の圧力若しくは流量及び液体の圧力若しくは流量の目標値を定めるものであって、前記ノズル特性を選択する際に、選択したノズル特性の評価要素として、前記液体の流量若しくは圧力と、前記二流体ノズルに供給される気体の流量若しくは圧力のうち、制御に用いない値と、前記霧の平均粒径と、前記霧の蒸発距離と、前記霧の蒸発時間の中から少なくとも一つを表示し、選択した霧の特性情報を、表示する機能を備えた二流体噴霧システム用制御装置。 The gas and fluid are supplied to the two-fluid nozzle, and the pressure or flow rate of the gas and fluid supplied to the two-fluid nozzle can be proportionally controlled according to command values obtained from the adjusting device, respectively. A two-fluid spray system for spraying the mist obtained by
In addition to at least one of the flow rate and pressure of the liquid supplied to the two-fluid nozzle and at least one of the flow rate and pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle, the flow rate or pressure of the liquid and the two-fluid nozzle A two-fluid nozzle including at least one of a value not used for control in the flow rate and pressure of gas supplied to the mist, the average particle diameter of the mist, the evaporation distance of the mist, and the evaporation time of the mist The nozzle characteristics are measured in advance under a plurality of conditions, the measured nozzle characteristics are stored in a memory by an input device, and at least one of the plurality of arbitrary nozzle characteristics stored in the memory is selected and the selected The target value of the gas pressure or flow rate and the liquid pressure or flow rate applied to the two-fluid nozzle is determined from the nozzle characteristics, and is selected when selecting the nozzle characteristics. As evaluation elements of the nozzle characteristics, the flow rate or pressure of the liquid, the flow rate or pressure of the gas supplied to the two-fluid nozzle, a value not used for control, the average particle size of the mist, and the evaporation of the mist A control device for a two-fluid spray system having a function of displaying at least one of a distance and the evaporation time of the mist and displaying characteristic information of the selected mist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016066288A JP2017176975A (en) | 2016-03-29 | 2016-03-29 | Binary fluid spray system, control device for binary fluid spray system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016066288A JP2017176975A (en) | 2016-03-29 | 2016-03-29 | Binary fluid spray system, control device for binary fluid spray system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017176975A true JP2017176975A (en) | 2017-10-05 |
Family
ID=60008041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016066288A Pending JP2017176975A (en) | 2016-03-29 | 2016-03-29 | Binary fluid spray system, control device for binary fluid spray system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017176975A (en) |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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