JP2017176956A - 磁性高硬金属粒子の粉砕装置 - Google Patents

Abstract

【課題】従来利用価値のなかった機械加工刃物チップ等のように、NiやCoの含有した磁性金属粒子を磁気浮上させながら高圧高速旋回流でナノ粉砕し、複合鍍金等への利用を可能にした磁性高硬金属粒子の粉砕装置を提供する。
【解決手段】磁性高硬金属荒粒子を供給する荒粒子ジェット供給装置と、粉砕ケーシングに二次噴射ノズルと衝突部材との対を複数対配置し全内壁に複数のネオジ磁石を埋設して粒子の磁気浮上用の同極磁場を形成し前記荒粒子を微粉砕すると共に一次分級するジェット旋回流粉砕ミルと、前記粉砕ケーシングの中心軸部に設けられ、粉砕ケーシングからの磁性高硬金属微粒子を吸引して二次分級するサイクロンと、から構成してなる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、磁性高硬金属粒子の粉砕装置に関する。

従来、高硬金属チップのジェットミル式粉砕装置は、一般に販売されているもので、筒型で水平円盤形状の中に６〜８本の複数の噴射ノズルより、高圧空気を吹き込み旋回流にして原料を噴射圧と衝突と摩擦力にて微細に粉砕しているが、内筒壁にも当り摩耗させ、不純物となる金属粉を作り出している為、この除去が大変である。
SUS304〜316のオーステナイト組織は磁石に吸着しない為、分級が大変であった。その為内壁に特注セラミックリングを張ったりする為、高価と成る。

噴射ノズルが多いほど円形に近ずく為、トルネートに近い旋回流と成るが、あく迄多角形である。
自己重量の重い物ほど遠心力の為内筒の外側に流れて旋回する軽い物ほど内側で旋回する。衝突のくり変えしにて次第に小さく成る為内側に近ずいて行く。
同心円渦流の中でも遠心力が強い粒子ほど外を回る為、粉砕物の粒子間衝突を持つ為、時間が掛る欠点がある。

時間は掛るが次第に微粉砕が円形粉砕ケーシングの中で連続発生すると同心渦流の中心にある分級ゾーンに導かれて、高速ジェット流の風圧にて粉砕出口に集る為簡単に捕足出来る。
掃除機をこの捕足口金に当てる事で紙パックの中に納める事が可能であるが、金属粉も一緒に入ってくる欠点が残る。

金属で構成されたジェットミルは高速で内部で旋回流と粉砕物体が高速旋回する事は完全な研削摩耗である。
ナノ粉砕と成っても研削摩耗は続く、従来の市販ジェット粉砕装置の最大の欠点でもあった、磁石選別出来る物は良いが、TiO²（酸化チタンでUVCut化粧パウダーに利用）等は100%粉砕ケーシングは大理石にて作られている。
食品関係は主に金属粉砕ケーシングであるが、人体に悪い物は使えぬ為Tiやインコネルと非常に高価と成る。

特開2005-131633公報で紹介の技術は、100%金属にて構成されて、粉砕物の粒度のバラツキが小さく、高精度の分級が可能であるジェットミルである、かつ粉砕ゾーンと分級ゾーンに別れているが、研削摩耗にて金属が入る事は同じである。

特開2007-196147号公報で紹介の技術は、従来の遠心力粉砕方式はジェットミルの中の粉砕ゾーンと分級ゾーンの間に設けられた狭隘路の間隔設定の変化にて分級する為、分級効率の悪かった事を改良してあり粒度のバラツキをより小さくする事が可能である。

特開2009-178645号公報で紹介の技術は、この両者の長所を生かしているが、分級ノズルがラッパ管方式の上下移動での自重の差を旋回流と同時に回収するため、ラッパ管の上下と回収した微細粉にて位置を決めると言う手数が掛る。このラッパ管の放物線も数多くの実験にて生み出しているので粉砕する物体で変わる為、100%ではない。

特開2005-131633公報 特開2007-196147公報 特開2009-178645公報

粉の技術（工業調査会） ナノテクノロジー大辞典（工業調査会） 理化学辞典（第５版）（岩波書店）

本発明は、磁性高硬金属チップ例えば廃材サーメットチップの荒粒子を磁気浮上させながら微粉砕して純TiC（炭化チタン）を１００％回収する粉砕専用機として開発したものである。
サーメットはTiC（炭化チタン）と、バインダー鑞としてNi又はCoを3〜5%混合し、Ni の場合は1455℃±1℃、Co の場合は1495℃±1℃で焼結結合し真空圧縮したものであり、非常に硬い。TiCは1880℃以上と難溶点の為切削刃物として使われるが、超硬WCのように回収して再使用するには新作より高価と成る為、工具メーカーがチップからの回収率は50%近くそれもTiC製のチップで50%は未利用であった。
つまり廃材サーメットを粉砕して再利用するにも硬く、ましてや微粉砕しようにも専用機がないため、粉砕費が掛り過ぎて、市販TiCより高価と成る為、今日迄利用されなく廃棄されていた。
つまり、TiC（サーメットチップ）は表面にTiN．TiCrN等の真空薄膜が形成されているため純粋なTiCを100%回収することは不可能であった。

本発明は、NiやCoを含む TiC（サーメットチップ）が、磁石に吸引されると言う磁性を最大の利点として応用して噴射圧と衝突と摩擦力にて微細に粉砕してTiCを100%回収することを可能にした磁性高硬金属粒子の粉砕装置を提供するものである。

課題を解決する為の手段

本発明の高硬金属粒子粉砕装置の技術的特徴は次に記載の(1)の通りである。
(1)、破砕用に荒粒子にした磁性高硬金属荒粒子を一次噴射ノズルから供給する荒粒子ジェット供給装置と、
円筒状の粉砕ケーシングの内周壁部材に二次噴射ノズルと衝突部材との組を複数組配置し前記内周壁部材と底部材と円錐状の天井部材に磁石を埋設して粉砕ケーシング内に前記磁性高硬金属粒子の磁気浮上用の同極磁場を形成し前記荒粒子ジェット供給装置から供給した荒粒子を微粉砕するジェット旋回流粉砕ミル（以下ジェットミルと称する）と、
前記粉砕ケーシングの中心軸部に設けられ、小径上昇排気管を内設した大径落降排出管を設け大径落降排出管の前記天井部材に対面する位置に吸引口を形成し粉砕ケーシングからの磁性高硬金属微粒子を吸引して分級するサイクロンと、
から構成してなることを特徴とする磁性高硬金属粒子粉砕装置。

本発明の特徴ある前記構成による優れた作用効果を以下に詳述する。
本発明の磁性高硬金属荒粒子の粉砕装置は、荒粒子ジェット供給装置の一次噴射ノズルから高圧高速気流にて前記磁性高硬金属荒粒子例えばサーメットの荒粒子（0.5ｍｍ³〜1.5ｍｍ³粒子）をジェットミルの粉砕ケーシング内に噴射供給し、粉砕ケーシングの全内壁に埋設配置した磁石により粉砕ケーシング内に形成した同極磁場により磁気浮上旋回させると共に、粉砕ケーシング内周壁に配置した複数の二次噴射ノズルから別途高圧高速気流を、粉砕ケーシング内壁に配置の衝突部材に向けて噴射衝突させながら強力な旋回流を形成し、前記磁気浮上の磁性高硬金属荒粒子を旋回流中に強制流入させる。これで旋回流に乗った磁性高硬金属荒粒子は、粒子相互の旋回衝突による衝撃力と粒子間の摩擦力により微粉砕されると共に衝突部材に衝突して更に微粉砕する。

配置磁石による磁性高硬金属荒粒子の磁気浮上については、磁性高硬金属荒粒子中の結合蝋である例えばNiやCo等を含む磁性金属に対する磁場吸着力を逆に反磁場となる磁性高硬金属荒粒子で互いに吸着したり、反撥したりしながら磁気浮上する。
この磁気浮上力と旋回流による遠心力により磁性高硬金属荒粒子は一次分級される。つまり粉砕ケーシング内の内周壁側に寄り、微細化粒子は粉砕ケーシングの中央部に押し込まれる一種の押しくら饅頭と成り密度が濃く成る。その中で軽い物ほど遠心力が弱いため浮き上り粉砕ケーシングの円錐状天井部材の円錐トップ面に形成した吸引口からサイクロン内に入り、ここで、効率よく二次分級される。
このように本発明の磁気浮上型の磁性高硬金属荒粒子の粉砕装置は、磁性高硬金属荒粒子を正確且つ迅速にナノ級迄粉砕し分離出来る。サイクロンの下部に貯った大き目の磁性高硬金属粒子はもう1回粉砕するか溶射粉とするかは分級フルイ選別で可能である。

そこで、本発明の磁性高硬金属粒子の粉砕装置は、前述粉砕ケーシングの内壁に磁石埋設配置した磁気浮上型であるため、磁性高硬金属の荒粒子及び/又は微細化粒子を粉砕ケーシンの中の同極磁場中で磁力線に添って高速旋回しても内周壁面に当り難く、粉砕ケーシン内壁面を研削することが殆んどなく内壁面からの異種金属の混入のないナノサイズの磁性高硬金属粒微粒子を短時間（迅速）で得る事を可能とする。

ジェットミルの粉砕ケーシンの二次噴射ノズルへの高圧高速エアー供給は、1次、2次タンクを持つ事で従来の1次タンク方式と比較して正確なジェットミル内同圧噴射を可能とし、その上高磁場磁気シール形成により微細なTiC粉が周囲に吸着することなく、安定した高速旋回流を保持し、迅速な微粉砕を可能とした。
又、ジェットミルの中心軸部にサイクロンを設置している為、多種多様サイズの微粉砕粒子を回収可能とした。TiC専用のジェットミルとして利用することで始めて市販TiC並の安価で作り出す事に成功した。

例えば、市販TiCはHV800〜900と硬度が低いのに対して、刃物粉砕TiCはHV1000以上ある事が最大の特長である。
市販チップはX線分析値で Nb.Mo.W.V.Cr等がNiやCo以外に見られる事から、Nbc.Moc.Wc.Vc.Cr₂C₇等を各メーカーが長年の経験より含有させている為である。かつTiN.TiCrN等の真空薄膜も掛っている為、純なTiCより高く出ているのはこの為である。
刃物TiCチップの高硬度は、HV-1000以上の物を得られる利点がある。

チップメーカー秘伝の配合の為、詳細な分析をしなかったが、X線アノライサーにて、ピークの山が出る事は色々な炭化物を使っている事を示している。本ナノ微細ジェットミルが磁気浮上形式を取った事は金属イオン（SUS304Ni-Cr）が入りにくいTiCの複合メッキを可能とし、かつ溶射粉として市場のTiCより硬い物を供給可能と成った。
耐熱、耐蝕、耐摩耗のTiC紛体を自由に作る事を可能とした。
10nm〜100nm級のTiC微粒子の用途としては次の事が考えられる。

１）製鐵関連
モールドの摩耗対策（従来Ni-P（カニゼンメッキ0.5ｍｍ〜1ｍｍ厚み）
メッキ後表面を550℃〜700℃加熱等で硬度upを計っていた。
高炉の羽口よりアトマイズする微粉炭の吹き込みパイプ：SUS310S-20A
パイプ外はAl₂O₃溶射内面出来ないが、パイプ内・外にTiCの複合メッキ可能。
２）航空関連
ヘリコプターの旋回羽根（旋回摩耗防止）として、Crメッキ又はNi-Pのカニゼンメッキ：0.3〜0.5ｍｍ可能。
TiCの複合メッキは軽るく（比重4.2カニゼン7.7）プロペラの摩耗方式
飛行機の揚力羽根の先端尺部：Al₂O₃溶射板（Al）のビス止めに利用
３）自動車
Alエンジンのシリンダーライナー等(熱伝導率のupに継り、燃比up）
４）産業機器
樹脂成型機の押し出しラム及シリンダー
５）化粧関連
UVCutのTiO₂ナノ粉砕装置：TiC100%全体複合メッキ）
（旋回送りブロアー：従来金属でWCの張り合せ）
（ブロアー粉砕ケーシング：大理石）
複合鍍金にて金属部を全面シールする事で多量生産が可能。
装置の大型が可能である。（細川ミクロンが分級機を作ってる）
６）医薬品メーカー
攪拌機、粒度機、すべて金属部をTiCの複合メッキ
やっと粒子微細技術を可能としたが、物性評価や皮膜密着強度テストを確実に消化する中で生れる技術である。

本発明の実施例の全体を示す側面説明図である。 図１に示す荒粒子ジェット供給装置と粉砕ケーシング、サイクロンの縦断面説明図である 荒粒子ジェット供給装置の拡大縦断面説明図である。 図２の矢視Ａ-Ａから見た粉砕ケーシングの内周壁部材の横断面説明図である。 図２の矢視Ｂ-Ｂから見た粉砕ケーシングの天井壁部材に配置の磁石配列状態を示す説明図である。 図２の矢視Ｃ-Ｃから見た粉砕ケーシング底壁部材に配置の磁石配列状態を示す説明図である。

本発明の磁性高硬金属粒子粉砕装置を実施するための主な構成の形態は、前述したように「破砕用に荒粒子にした磁性高硬金属荒粒子を一次噴射ノズルから供給する荒粒子ジェット供給装置と、粉砕ケーシングの内周壁部材に二次噴射ノズルと衝突部材との対を複数対配置し前記内周壁部材と底壁部材と円錐状の天井壁部材に磁石を埋設して粉砕ケーシング内に前記磁性高硬金属粒子の磁気浮上用の同極磁場を形成し前記荒粒子ジェット供給装置から供給した荒粒子を微粉砕し一次分級するジェットミルと、前記粉砕ケーシングの中心軸部に小径上昇排気管を内設した大径落降排出管を配置し前記大径落降排出管の前記天井部材に対面する位置に吸引口を形成し粉砕ケーシングからの磁性高硬金属微粒子を吸引して二次分級するサイクロンと、から構成してなる。」ものであり、図１〜図６に示す実施例により詳細に説明する。

＜全体構成＞
図１〜図６に示す本実施例１の磁性高硬金属粒子粉砕装置の主な構成は、磁性高硬金属荒粒子を供給する荒粒子ジェット供給装置100を備え、底面フラットな底壁部材201と上面が円錐状の天井壁部材202との間に配置した円筒状の内周壁部材203を有する粉砕ケーシング204を備え、荒粒子ジェット供給装置100の一次噴射ノズル101からの荒粒子を二次噴射ノズル205と衝突部材206により微粉砕し一次分級するジェットミル200を備え、前記粉砕ケーシング204内で微粉砕した磁性高硬金属微細粒子を吸引して二次分級するサイクロン300を備えてなる。

＜荒粒子ジェット供給装置100の構成とその意義＞
而して、本例の磁性高硬金属粒子粉砕装置において、前記荒粒子ジェット供給装置100は、ホッパー102からの磁性高硬金属荒粒子を、弁103、オリフィス104を介してエアーエゼクター方式の一次噴射ノズル101からmax10kg/㎠でジェットミル200の粉砕ケーシング204内に連続して高圧高速導入する。前記一次噴射ノズル101は、ノズル105配置部のオリフィス104側上部を吸気口106とし、ノズル105に高圧高速作動エアー管107を接続し、ノズル105の前方に45の穴を明けた円筒構造の超硬チップ108（耐研削摩耗チップ）を介して噴出口109を形成してある。
前記磁性高硬金属荒粒子としては、TiC（サーメットチップ）荒粒子を用いるがこのTiC（サーメットチップ）荒粒子は、非常に固く簡単には粉砕出来ない為1次粉砕として原始的であるが、前もって臼と杵の関係の位置エネルギー粉砕にて0.5ｍｍ³〜1.5ｍｍ³のTiCの荒粉砕をする。臼はHi-Cr鋳鉄の深い壺状で簡単に荒粉砕粒子が飛び上らぬ構造と口を持つ蛸壺上の中に杵が落降して、30kg/1個の杵の持つ自重と位置エネルギーにて粉砕した物を磁石にてHi-Cr鋳鉄粉を除去した物を使う。

＜ジェットミル200の構成とその意義＞
前記ジェットミル200は、円筒状の粉砕ケーシング204の内周壁部材203に二次噴射ノズル205と衝突部材206とを対で複数対設ける。
二次噴射ノズル205は、ノズル孔の径を変更して噴射速度と粉砕粒度を調節することができる。又二次噴射ノズル205は、衝突部材206への噴射方向線F1と粉砕ケーシング204の半径線R1とがなす角度つまり噴射方向角度θを60°±5°にして衝突部材206との衝突破砕効率と粉砕ケーシング204内の高速旋回流の形成を良好に維持させる。

二次噴射ノズル205の外側には同圧空気噴射を可能にするためにリング状の2次タンク室207を設置し、2次タンク室207（：0.013㎥）には1次タンク室208（：φ0.3×0.5→0.035㎥）を連通させる。
前記1次タンク室208は、1次空気供給をロータリーコンプレサーから受ける。
前記2次タンク室207は、1次タンク室208から2次的に受けた高圧空気の圧力の均一化を図ると共に材質をSS400製にすることにより、粉砕ケーシング204からの強磁場の磁気シールをして周辺機々の保全及び粉砕で散った微粒子の磁着防止をする役目を持たせ、6〜7個の二次噴射ノズル205に同圧空気を供給する。

1次タンク室208のみの場合は、二次噴射ノズル5〜6個ワンタッチ継手にて継う為、1個1個同圧とはなりにくい。本例は前記1次タンク室208と2次タンク室207の採用により二次噴射ノズル205のノズルオリフィス径を変える事で全部の二次噴射ノズル205からの旋回流を同圧で均一な旋回流にコントロール可能としている。二次噴射ノズル205から噴射される粉砕粒子の粒度が持つエネルギーは圧力と旋回流に比例する為、前記オリフィス径は実験にて決定して調節する。この同圧旋回流は前記強磁気浮上をも均一にする。

因みに、従来のTiCチップの粉砕は、浮上が無く内壁面との衝突粉砕が100%であり内壁面からの研削摩耗金属粉が多量に含有する。
この研削摩耗金属粉がどのくらい含有しているかは、他社のデーターもない為不明であるが、本発明者等はこのTiCの粉砕を複合メッキとして使ったり、溶射として使う場合、複合メッキ用のTiC粉の中に最大1%以下の異種金属粉が入ると電位差によりTiC粉の密着力が劣る。又、溶射の場合は膨張率の変化として皮膜にクラックが入る恐れもある。本発明の磁気浮上方式がいかに良いかを物語る。

＜粉砕ケーシング204への磁石の埋設構成とその意義＞
本例において、荒粒子供給装置100の1次噴射ノズル101から10kg/㎠圧力にてTiC（サーメットチップ）の荒粒子を受けても、粉砕ケーシング204の内周壁部材203、底壁部材201及び井壁部材202に合計1194.5KGのネオジ磁石を全て同極例えばＮ極を粉砕ケーシング204の内に向けて埋設して同極押えつけ強磁場（：反発強磁場）即ち強磁同極圧縮磁場を形成するため1次噴射ノズル101からの前記荒粒子は、前記強磁同極圧縮磁場内にて浮上旋回して内周壁部材202の壁面との衝突を避け研削摩耗金属粉の発生を防止する。
つまり、粉砕ケーシング204内に前記一次噴射ノズル101から噴射供給された当該荒粒子は、内周壁部材202の壁面近傍に沿って浮上し磁力線に添って高速旋回し内壁面との衝突を極小とする。しかも当該荒粒子は、二次噴射ノズル205からの高圧高速噴射気体により衝突部材206に衝突し微粉砕される。この衝突部材206と荒粒子との衝突は瞬時で微粉砕され直ちに宙に浮き上って粉砕ケーシング204の内周壁面202近傍に沿って高速旋回する。
本例において、粉砕ケーシング204の内周壁部材203には各ノズル101、205間に1個4500Gのネオジ磁石210を3個×3段配列で合計90個（4.5KG×90＝405KG）、底壁部材201には、1個4500Gのネオジ磁石211を118個（4.5KG×118個＝531KG）、円錐状の天井壁部材202には1個5.5KG のネオジ磁石212を47個（5.5KG×47＝258.5KG）をそれぞれ埋設してある。

これで粉砕ケーシング204内の強磁同極圧縮磁場を高速旋回する磁気浮上荒粒子及び/粉砕粒子は、中央に集り噴射圧と摩擦力により次々に粒子同士が旋回衝突や旋回摩耗する自己粉砕現象をおこし微細に微粉砕して種々多用な粒子を得ることができる。例えばTiCチップからは、異種金属粉の混入の非常に少ないTiC粉を迅速に安価で得られ、このTiC粉は複合鍍金材や溶射粉とすることが実現した。

このように強磁場で磁気浮上粉砕が主であるが、当該荒粒子が、一次噴射ノズル101より粉砕ケーシング204内に入った時は、一瞬であるが内周壁部材203の内周面に当り、また遠心力の大きな粒子も粉砕ケーシング204の内周壁部材203の内周面に当る事も考えられる為、前記衝突部材206は、高速旋回TiC粉による研削摩耗対策として、二次噴射ノズル205からの射噴中心流の当る所に当該二次噴射ノズル205と対にして内周壁部材203の内壁面に密着する構造で簡単に交換も可能に配置してある。
また衝突部材206は30ｍｍ縦×30ｍｍ横×6ｍｍ厚で材質を難削材のジルコニヤセラミックス製にして摩耗を極小にする。

＜二次噴射ノズル205と衝突部材206の配置構成とその意義＞
本例において、二次噴射ノズル205と衝突部材206との配置は、同一高さに対にして配置し、しかも各対間も、同一高さ位置に配置して、二次噴射ノズル205間における高圧噴射流を干渉させて、衝突部材206との衝突粉砕作用を抑制して衝突部材206からの研削摩耗を極力防止している。しかし各対間配置は、前記高圧噴射流の直接干渉を避けるため上下に段差を設けて配置して衝突部材206との衝突粉砕作用効果が少しは得られるようしてもよく、特に限定されるものではない。
かくして粉砕ケーシング204内では異種金属粉の混入が極小となり、磁性高硬金属粒子の、荒い粒子は粉砕ケーシング204内の内周壁部材206側に寄り、微細化粒子は粉砕ケーシング204の中央部に寄り、最も軽い微粒子は円錐状天井壁部材202の円錐トップ面に上昇して一次分級され、吸引口301からサイクロン300内に入り二次分級される。

＜サイクロン300の構成とその意義＞
前記サイクロン300は、従来のラッパ管方式の上下位置合わせ方式でなく、円錐形状の最上段に設置したもので、このサイクロン300がジェットミル200の中央即ち中心軸部にある事は従来の粉砕装置にはない構造である。
本例のサイクロン300は一般のサイクロン公式にて計算し作られた物で、強制的に強磁場に打ち勝ったナノ級やメッシュ級のTiC粒子を吸引口301から吸引して螺旋回転流を形成して、サイクロン300の中で螺旋回転流による遠心力にて自重の差にて上下に分離され自重2次選別する。つまりジェットミル200中心側に集まったナノサイズの磁性高硬金属微粒子を大径落降排出管302の吸引口301からサイクロン300内に吸引して螺旋旋回させて軽いナノ級粒子を小径上昇排気管303から吸引分級して掃除機方式の紙フィルターやバグフィルタ等により回収し、重い10〜30メッシュ級の微粒子を大径落降排出管302内壁に沿って螺旋旋回落降させて迅速に分級しホッパー304や回収箱等に回収するものである。
ホッパーや回収箱等に回収した磁性高硬金属微粒子は、そのまま利用し、或いは再度前記荒粒子供給装置を介してジェットミルで微粉砕してもよい。

本発明の磁性高硬金属粒子の粉砕装置は、磁性高硬金属の中でも従来廃棄していたTiCサーメットチップよりTiCの微粉砕を作れる専用機として磁気浮上方式とし、研削摩耗のない紛体を得る事が可能と成った。その為、前述の作用効果で紹介したように耐摩耗、耐熱、耐蝕性のあらゆる粒度の複合メッキ粉、溶射粉を自由に得られる。特にTiCチップは従来廃品であったものが高い利用価値のまったく新しい製品素材として生まれ変わる。
この磁気浮上型の磁性高硬金属粒子の粉砕装置は、大型化が可能でありそれに成功したら、TiC紛体の入った塗料等を多量に安価に製造することができ、例えば排気ファンの摩耗対策は該TiC紛体の入った摩耗性のある塗料を塗布するだけで実現できる。また道路のセンターライン等、摩耗消耗する所に利用してその長寿命化も計れる。
現状では、Al₂O₃の入った塗料はあるが、TiCの入ったHV-1000を持つ塗料はない。
このように本発明の磁性高硬金属粒子の粉砕装置から得られる磁性高硬金属微粒子は、製鉄関連事業、航空関連事業、自動車、産業機器、化粧関連事業々の産業界における摩耗対策手段として貢献すること多大なものがある。

100：荒粒子ジェット供給装置
101：エアーエゼクター方式の一次噴射ノズル
102：ホッパー
200：ジェットミル
201：底面フラットな底壁部材
202：上面が円錐状の天井壁部材
203：円筒状の内周壁部材
204：粉砕ケーシング
205：二次噴射ノズル
206：衝突部材
210、211、212、213：ネオジ磁石
300：サイクロン
302：大径落降排出管
301：吸引口
303：小径上昇排気管

Claims (3)

1. 破砕用に荒粒子にした磁性高硬金属荒粒子を一次噴射ノズルから供給する荒粒子ジェット供給装置と、
   粉砕ケーシングの内周壁部材に二次噴射ノズルと衝突部材との組を複数組配置し前記内周壁部材と底壁部材と円錐状の天井壁部材に磁石を埋設して粉砕ケーシング内に前記磁性高硬金属粒子の磁気浮上用の同極磁場を形成し前記荒粒子ジェット供給装置から供給した荒粒子を微粉砕し一次分級するジェット旋回流粉砕ミルと、
   前記粉砕ケーシングの中心軸部に設けられ小径上昇排気管を内設した大径落降排出管を設け大径落降排出管の前記天井部材に対面する位置に吸引口を形成し粉砕ケーシングからの磁性高硬金属微粒子を吸引して二次分級するサイクロンと、
   から構成してなることを特徴とする磁性高硬金属粒子粉砕装置。
2. 前記磁性高硬金属荒粒子は、結合材であるNiやCo等の金属で固め焼結したTiC（チタンカバーイト）でHV1000以上の高硬度を持つことを特徴とする
3. ジェット旋回流粉砕ミルの粉砕ケーシング内壁面に配置する複数個の第２噴射ノズルは、衝突部材に対する噴射方向線とケーシング半径線とがなす噴射角度を60°±5°にし、ノズルの噴射方向に配置の衝突部材はジルコニヤセラミックス製にしたことを特徴とする。