JP2017133070A - 酸化亜鉛薄膜製造装置、マルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置、酸化亜鉛薄膜製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成膜チャンバ10の左側(基板100と反対側)には、円筒形状のベルジャ20が連結されている。ベルジャ20の外面の周囲には、その中心軸の周りにコイル21が巻回されており、コイル21には、13.56MHzの高周波電流を流すことができる。また、ベルジャ20内には、酸化性ガスを導入することができる。ベルジャ20内の中心軸付近には、線状のZnソース22Aが内部に設置されたオーブン22が設けられる。オーブン22の温度を上昇させることによって、Znソース22Aを加熱することができる。堆積方向におけるコイル21のベルジャ20に対する位置は、調整が可能とされる。
【選択図】図1
Description
本発明の酸化亜鉛薄膜製造装置は、基板上に酸化亜鉛薄膜を形成する酸化亜鉛薄膜製造装置であって、前記基板を減圧雰囲気下で収容する成膜チャンバと、前記基板に対する前記酸化亜鉛薄膜の堆積方向における前記基板と反対側において、前記成膜チャンバと連結され、酸素を含む酸化性ガスが流されるベルジャと、前記ベルジャの外部に装着され、高周波電力が印加されることによって前記ベルジャの内部における前記酸化性ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と、内部に亜鉛材料を収容し、加熱されることによって前記亜鉛材料から亜鉛を蒸気化して前記基板の側に噴射するように前記ベルジャの内部に設けられたオーブンと、を具備し、前記プラズマ生成手段と前記基板との間の前記堆積方向に沿った間隔が調整可能とされたことを特徴とする。
本発明の酸化亜鉛薄膜製造装置において、前記プラズマ生成手段は、前記ベルジャの外面を前記堆積方向の周りで巻回するコイルであることを特徴とする。
本発明の酸化亜鉛薄膜製造装置は、前記堆積方向に沿った前記オーブンと前記基板との間の間隔が調整可能とされたことを特徴とする。
本発明のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置は、前記酸化亜鉛薄膜製造装置が複数、前記成膜チャンバを共通として前記堆積方向と垂直な面内において配列されたことを特徴とする。
本発明のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置は、前記プラズマ生成手段と前記基板との間の間隔が、各前記プラズマ生成手段毎に調整可能とされたことを特徴とする。
本発明のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置は、前記プラズマ生成手段に投入される前記高周波電力が、各前記プラズマ生成手段毎に調整可能とされたことを特徴とする。
本発明の酸化亜鉛薄膜製造方法は、前記酸化亜鉛薄膜製造装置又は前記マルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法であって、前記基板が収容された前記成膜チャンバを1×10−4〜8×10−3Paの範囲に減圧する減圧工程と、前記減圧工程後に、前記酸化性ガスを導入して前記ベルジャ内の圧力を0.05〜0.5Paの範囲とし、前記プラズマ生成手段に前記高周波電力を投入し、前記ベルジャ内の前記酸化性ガスをプラズマ化すると共に、前記オーブンを加熱する成膜工程と、を具備し、前記堆積方向に沿った前記プラズマ生成手段と前記基板との間の間隔を20〜100mmの範囲とすることを特徴とする。
本発明の酸化亜鉛薄膜製造方法は、酸素濃度が99mol%以上とされた前記酸化性ガスを用いることを特徴とする。
10 成膜チャンバ
11 マスク
12 シャッター
12A シャッター軸
20 ベルジャ
21 コイル(アンテナ:プラズマ生成手段)
22 オーブン
22A Znソース
31 発光分析器受光部
32 ラングミュアプローブ
100 基板
MP 混合ガスプラズマ
OP 酸化性ガスプラズマ
V Zn蒸気
Claims (8)
- 基板上に酸化亜鉛薄膜を形成する酸化亜鉛薄膜製造装置であって、
前記基板を減圧雰囲気下で収容する成膜チャンバと、
前記基板に対する前記酸化亜鉛薄膜の堆積方向における前記基板と反対側において、前記成膜チャンバと連結され、酸素を含む酸化性ガスが流されるベルジャと、
前記ベルジャの外部に装着され、高周波電力が印加されることによって前記ベルジャの内部における前記酸化性ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と、
内部に亜鉛材料を収容し、加熱されることによって前記亜鉛材料から亜鉛を蒸気化して前記基板の側に噴射するように前記ベルジャの内部に設けられたオーブンと、
を具備し、
前記プラズマ生成手段と前記基板との間の前記堆積方向に沿った間隔が調整可能とされたことを特徴とする酸化亜鉛薄膜製造装置。 - 前記プラズマ生成手段は、前記ベルジャの外面を前記堆積方向の周りで巻回するコイルであることを特徴とする請求項1に記載の酸化亜鉛薄膜製造装置。
- 前記堆積方向に沿った前記オーブンと前記基板との間の間隔が調整可能とされたことを特徴とする請求項1又は2に記載の酸化亜鉛薄膜製造装置。
- 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の酸化亜鉛薄膜製造装置が複数、前記成膜チャンバを共通として前記堆積方向と垂直な面内において配列されたことを特徴とするマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置。
- 前記プラズマ生成手段と前記基板との間の間隔が、各前記プラズマ生成手段毎に調整可能とされたことを特徴とする請求項4に記載のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置。
- 前記プラズマ生成手段に投入される前記高周波電力が、各前記プラズマ生成手段毎に調整可能とされたことを特徴とする請求項4又は5に記載のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置。
- 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の酸化亜鉛薄膜製造装置、又は請求項4から請求項6までのいずれか1項に記載のマルチプラズマ酸化亜鉛薄膜製造装置を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法であって、
前記基板が収容された前記成膜チャンバを1×10−4〜8×10−3Paの範囲に減圧する減圧工程と、
前記減圧工程後に、前記酸化性ガスを導入して前記ベルジャ内の圧力を0.05〜0.5Paの範囲とし、前記プラズマ生成手段に前記高周波電力を投入し、前記ベルジャ内の前記酸化性ガスをプラズマ化すると共に、前記オーブンを加熱する成膜工程と、
を具備し、
前記堆積方向に沿った前記プラズマ生成手段と前記基板との間の間隔を20〜100mmの範囲とすることを特徴とする酸化亜鉛薄膜製造方法。 - 酸素濃度が99mol%以上とされた前記酸化性ガスを用いることを特徴とする請求項7に記載の酸化亜鉛薄膜製造方法。
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