JP2017125690A - Magnetic measurement device manufacturing method and gas cell manufacturing method - Google Patents

Magnetic measurement device manufacturing method and gas cell manufacturing method Download PDF

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JP2017125690A JP2016003291A JP2016003291A JP2017125690A JP 2017125690 A JP2017125690 A JP 2017125690A JP 2016003291 A JP2016003291 A JP 2016003291A JP 2016003291 A JP2016003291 A JP 2016003291A JP 2017125690 A JP2017125690 A JP 2017125690A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic measurement device manufacturing method and a gas cell manufacturing method with which it is possible to suppress a decrease in manufacturing yield and an increase in manufacturing man-hours and improve productivity.SOLUTION: A manufacturing method for a magnetic measurement device 100 for measuring a magnetic field includes: a storing step of inserting an ampule 20 from an opening 18 into a reservoir 16 of a cell part 12 having a main chamber 14, the reservoir 16 communicating with the main chamber 14 and having a longitudinal direction and an opening 18 provided at an opposite side to the main chamber 14 in the longitudinal direction of the reservoir 16, and storing the ampule 20 therein; a sealing step of sealing the opening 18 with a sealing part 19; and an irradiation step of irradiating a pulsed laser beam 40 to the ampule 20. In the storing step, an adhesive compound 25 is arranged on at least one of an inner wall of the reservoir 16 and the ampule 20.SELECTED DRAWING: Figure 2A

Description

本発明は、磁気計測装置の製造方法およびガスセルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic measuring device and a method for manufacturing a gas cell.

アルカリ金属ガスが封入されたガスセルに直線偏光を照射し、偏光面の回転角に応じて磁場を測定する光ポンピング式の磁気計測装置が知られている。特許文献1に、リザーバー(アンプル収容室)にアルカリ金属が封入されたアンプルを収納し、そのアンプルにレーザー光を照射することによりアンプルのガラス管に貫通孔を形成し、アンプル内のアルカリ金属を蒸発させて、その蒸気(ガス)をリザーバーから連通孔を介して主室内に充満させるガスセルの製造方法が開示されている。   2. Description of the Related Art An optically-pumped magnetic measuring device that irradiates a gas cell filled with an alkali metal gas with linearly polarized light and measures a magnetic field according to a rotation angle of a polarization plane is known. In Patent Document 1, an ampoule in which an alkali metal is sealed is stored in a reservoir (ampoule housing chamber), and a laser beam is irradiated to the ampoule to form a through hole in the ampoule glass tube. A gas cell manufacturing method is disclosed in which the main chamber is filled with vapor (gas) from a reservoir through a communication hole by evaporation.

特開2012−183290号公報JP 2012-183290 A

ところで、例えば、リザーバーに設けられた開口部からアンプルを挿入してリザーバー内に収納し、開口部を封止部で塞いで封止する場合、アンプルを収納する工程から封止する工程までの取り扱いや封止部で封止する際に、アンプルが開口部からリザーバー外へ出てしまうおそれがある。また、アンプルにレーザー光を照射する際に、アンプルの位置が個体によってばらついてレーザー光の照射位置からずれてしまったり、リザーバー内でアンプルが安定しないためにレーザー光照射による衝撃でアンプルが動いてしまったりすると、レーザー光照射による深さ方向の加工が進まずアルカリ金属のガスを発生させることができないおそれがある。これらが生じた場合、製造歩留まりの低下や、加工のやり直しなどによる製造工数の増大を招いてしまうこととなる。   By the way, for example, when the ampule is inserted from the opening provided in the reservoir and stored in the reservoir, and the opening is sealed with the sealing portion, the handling from the step of storing the ampule to the step of sealing is handled. When sealing with the sealing part, the ampoule may come out of the reservoir from the opening. Also, when irradiating the ampoule with laser light, the ampoule position varies from individual to individual and deviates from the laser light irradiation position, or the ampoule moves due to the impact of laser light irradiation because the ampoule is not stable in the reservoir. If this happens, there is a possibility that alkali metal gas cannot be generated without processing in the depth direction by laser light irradiation. If these occur, the manufacturing yield will decrease and the number of manufacturing steps will increase due to reworking.

アルカリ金属ガスを発生させるための部材としては、特許文献1に記載のアンプル以外の形態も考えられる。そこで、本願発明の課題は、リザーバー内に収納したアンプルなどのアルカリ金属ガスを発生させるための部材が開口部から外へ出てしまうことを抑止するとともにリザーバー内に安定した状態で保持してレーザー光照射により確実にアルカリ金属ガスを発生させ、製造歩留まりの低下や製造工数の増大を抑え生産性を向上させることが可能な磁気計測装置の製造方法およびガスセルの製造方法を提供することである。   As a member for generating the alkali metal gas, a form other than the ampoule described in Patent Document 1 is also conceivable. Accordingly, an object of the present invention is to prevent a member for generating an alkali metal gas such as an ampoule housed in the reservoir from going out of the opening and hold the laser in a stable state in the reservoir. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic measuring device and a method for manufacturing a gas cell, which can reliably generate an alkali metal gas by light irradiation, and can improve productivity by suppressing a decrease in manufacturing yield and an increase in manufacturing man-hours.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る磁気計測装置の製造方法は、磁場を計測する磁気計測装置の製造方法であって、第1室と、前記第1室と連通し長手方向を有する第2室と、前記第2室の前記長手方向における前記第1室とは反対側に設けられた開口部と、を有するセル部の前記第2室に前記開口部からアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する収納工程と、前記開口部を封止部で封止する封止工程と、前記固形物にレーザー光を照射する照射工程と、を含み、前記収納工程では、前記第2室の内壁および前記固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置することを特徴とする。   Application Example 1 A method for manufacturing a magnetic measurement device according to this application example is a method for manufacturing a magnetic measurement device that measures a magnetic field, and includes a first chamber and a second chamber that communicates with the first chamber and has a longitudinal direction. A solid material containing an alkali metal is inserted into the second chamber of the cell portion having a chamber and an opening provided on the opposite side of the first chamber in the longitudinal direction of the second chamber from the opening. Storage step, a sealing step of sealing the opening with a sealing portion, and an irradiation step of irradiating the solid material with laser light. In the storage step, the second chamber A chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall and the solid matter.

本適用例の製造方法によれば、収納工程で、セル部の第2室に開口部からアルカリ金属ガスを発生させるための部材であるアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する際に、第2室の内壁および固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置する。そのため、鎖式飽和炭化水素の粘着性により固形物を第2室の内壁に固定できるので、収納工程から封止工程までの取り扱いや封止工程で開口部を封止部で封止する際に、固形物が開口部から第2室外へ出てしまうことを抑止できる。そして、照射工程で固形物にレーザー光を照射してアルカリ金属のガスを発生させる際に、固形物がレーザー光の照射位置からずれてしまうことやレーザー光照射による衝撃で固形物が動いてしまうことが抑えられるので、より確実にアルカリ金属ガスを発生させることができる。この結果、製造歩留まりの低下や製造工数の増大を抑え、生産性を向上させることが可能な磁気計測装置の製造方法を提供することができる。   According to the manufacturing method of this application example, in the storing step, when inserting and storing a solid material containing alkali metal that is a member for generating alkali metal gas from the opening in the second chamber of the cell unit, A chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the second chamber and the solid. Therefore, solid matter can be fixed to the inner wall of the second chamber due to the stickiness of the chain saturated hydrocarbon, so when sealing the opening with the sealing part in the handling and sealing process from the storage process to the sealing process. The solid material can be prevented from going out of the second chamber through the opening. When the solid material is irradiated with laser light in the irradiation process to generate an alkali metal gas, the solid material is displaced from the irradiation position of the laser light or the solid material moves due to the impact of the laser light irradiation. Therefore, alkali metal gas can be generated more reliably. As a result, it is possible to provide a method of manufacturing a magnetic measuring device that can suppress a decrease in manufacturing yield and an increase in manufacturing man-hours and improve productivity.

[適用例2]上記適用例に係る磁気計測装置の製造方法であって、前記封止工程では、前記セル部を、前記長手方向が鉛直方向に沿うとともに前記開口部が鉛直方向の下方側となるようにして前記封止部の上に配置することが好ましい。   [Application Example 2] A method of manufacturing a magnetic measurement device according to the application example, wherein in the sealing step, the cell portion is arranged such that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side in the vertical direction. It is preferable to arrange on the sealing part.

本適用例の製造方法によれば、封止工程で開口部が鉛直方向の下方側となるようにしてセル部を封止部の上に配置するので、例えば、低融点ガラスをシール材として封止部とセル部とを固着する場合に、下方に位置する封止部側から低融点ガラスを加熱しながら上方に位置するセル部に対して荷重を付加して、効率良く封止を行うことができる。その際、固形物が鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、長手方向が鉛直方向に沿うとともに開口部が下方側となるようにセル部が配置されても、固形物が開口部から第2室外へ出てしまうことを抑止できる。   According to the manufacturing method of this application example, since the cell portion is arranged on the sealing portion so that the opening portion is on the lower side in the vertical direction in the sealing step, for example, the low melting point glass is sealed as a sealing material. When fixing the stopper and the cell part, the load should be applied to the cell part located above while heating the low melting point glass from the sealing part side located below, and the sealing is performed efficiently. Can do. At that time, since the solid matter is fixed to the inner wall of the second chamber via the chain saturated hydrocarbon, even if the cell portion is arranged so that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side. The solid material can be prevented from going out of the second chamber through the opening.

[適用例3]上記適用例に係る磁気計測装置の製造方法であって、前記固形物は内部にアルカリ金属が充填されたアンプルであり、前記照射工程では、前記アンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射することが好ましい。   [Application Example 3] A method of manufacturing a magnetic measuring device according to the application example, wherein the solid is an ampoule filled with an alkali metal, and in the irradiation step, a pulse having a wavelength in an ultraviolet region is applied to the ampoule. It is preferable to irradiate with laser light.

本適用例の製造方法によれば、照射工程において、内部にアルカリ金属が充填されたアンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射するので、セル部に損傷を与えることなくアンプルのガラス管に貫通孔を形成し内部のアルカリ金属を蒸発させて、アルカリ金属ガスを発生させることができる。また、パルスレーザー光を照射する際、アンプルが鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、アンプルがパルスレーザー光の照射位置からずれてしまったり、パルスレーザー光照射による衝撃でアンプルが動いてしまったりすることが抑えられる。   According to the manufacturing method of this application example, in the irradiation step, the ampule filled with alkali metal is irradiated with pulsed laser light having a wavelength in the ultraviolet region, so that the ampule glass tube is not damaged without damaging the cell portion. A through-hole can be formed and the alkali metal inside can be evaporated to generate an alkali metal gas. Also, when irradiating pulsed laser light, the ampoule is fixed to the inner wall of the second chamber via a chain saturated hydrocarbon, so the ampoule may be displaced from the irradiation position of the pulsed laser light, or irradiated with pulsed laser light. It is possible to prevent the ampoule from moving due to the shock caused by.

[適用例4]上記適用例に係る磁気計測装置の製造方法であって、前記固形物はアルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルであり、前記照射工程では、前記ピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射することが好ましい。   Application Example 4 In the method of manufacturing a magnetic measurement device according to the application example, the solid matter is a pill containing an alkali metal compound and an adsorbent, and in the irradiation step, the pill has a red to infrared region. It is preferable to irradiate a continuous wave laser beam having a wavelength.

本適用例の製造方法によれば、照射工程において、アルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射するので、ピルを局所的に加熱しアルカリ金属化合物を活性化してアルカリ金属ガスを発生させるとともに、その際に発生する不純物を吸着剤で吸着することができる。また、連続発振レーザー光を照射する際、ピルが鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、ピルが連続発振レーザー光の照射位置からずれてしまったり、連続発振レーザー光照射による衝撃でピルが動いてしまったりすることが抑えられる。   According to the manufacturing method of this application example, in the irradiation step, the pill containing the alkali metal compound and the adsorbent is irradiated with a continuous wave laser beam having a wavelength in the red to infrared region. The compound is activated to generate an alkali metal gas, and impurities generated at that time can be adsorbed by the adsorbent. In addition, when irradiating continuous wave laser light, the pill is fixed to the inner wall of the second chamber via a chain saturated hydrocarbon. It is possible to prevent the pill from moving due to the impact of laser light irradiation.

[適用例5]本適用例に係るガスセルの製造方法は、第1室と、前記第1室と連通し長手方向を有する第2室と、前記第2室の前記長手方向における前記第1室とは反対側に設けられた開口部と、を有するセル部の前記第2室に前記開口部からアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する収納工程と、前記開口部を封止部で封止する封止工程と、前記固形物にレーザー光を照射する照射工程と、を含み、前記収納工程では、前記第2室の内壁および前記固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置することを特徴とする。   Application Example 5 A gas cell manufacturing method according to this application example includes a first chamber, a second chamber communicating with the first chamber and having a longitudinal direction, and the first chamber in the longitudinal direction of the second chamber. A storage step of inserting and storing a solid material containing an alkali metal from the opening into the second chamber of the cell portion having an opening provided on the opposite side of the opening, and sealing the opening with the sealing portion A sealing step of sealing, and an irradiation step of irradiating the solid with a laser beam. In the storing step, a chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the second chamber and the solid. It is characterized by doing.

本適用例の製造方法によれば、収納工程で、セル部の第2室に開口部からアルカリ金属ガスを発生させるための部材であるアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する際に、第2室の内壁および固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置する。そのため、鎖式飽和炭化水素を介して固形物を第2室の内壁に固定できるので、収納工程から封止工程までの取り扱いや封止工程で開口部を封止部で封止する際に、固形物が開口部から第2室外へ出てしまうことを抑止できる。そして、照射工程で固形物にレーザー光を照射してアルカリ金属のガスを発生させる際に、固形物がレーザー光の照射位置からずれてしまうことやレーザー光照射による衝撃で固形物が動いてしまうことが抑えられるので、より確実にアルカリ金属ガスを発生させることができる。この結果、製造歩留まりの低下や製造工数の増大を抑え、生産性を向上させることが可能なガスセルの製造方法を提供することができる。   According to the manufacturing method of this application example, in the storing step, when inserting and storing a solid material containing alkali metal that is a member for generating alkali metal gas from the opening in the second chamber of the cell unit, A chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the second chamber and the solid. Therefore, since solids can be fixed to the inner wall of the second chamber via the chain saturated hydrocarbon, when sealing the opening with the sealing part in the handling and sealing process from the storage process to the sealing process, It can suppress that a solid substance comes out of a 2nd chamber from an opening part. When the solid material is irradiated with laser light in the irradiation process to generate an alkali metal gas, the solid material is displaced from the irradiation position of the laser light or the solid material moves due to the impact of the laser light irradiation. Therefore, alkali metal gas can be generated more reliably. As a result, it is possible to provide a method of manufacturing a gas cell that can suppress a decrease in manufacturing yield and an increase in manufacturing man-hours and can improve productivity.

[適用例6]上記適用例に係るガスセルの製造方法であって、前記封止工程では、前記セル部を、前記長手方向が鉛直方向に沿うとともに前記開口部が鉛直方向の下方側となるようにして前記封止部の上に配置することが好ましい。   Application Example 6 In the gas cell manufacturing method according to the application example described above, in the sealing step, the cell portion is configured such that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side in the vertical direction. It is preferable to arrange on the sealing part.

本適用例の製造方法によれば、封止工程で開口部が鉛直方向の下方側となるようにしてセル部を封止部の上に配置するので、例えば、低融点ガラスをシール材として封止部とセル部とを固着する場合に、下方に位置する封止部側から低融点ガラスを加熱しながら上方に位置するセル部に対して荷重を付加して、効率良く封止を行うことができる。その際、固形物が鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、長手方向が鉛直方向に沿うとともに開口部が下方側となるようにセル部が配置されても、固形物が開口部から第2室外へ出てしまうことを抑止できる。   According to the manufacturing method of this application example, since the cell portion is arranged on the sealing portion so that the opening portion is on the lower side in the vertical direction in the sealing step, for example, the low melting point glass is sealed as a sealing material. When fixing the stopper and the cell part, the load should be applied to the cell part located above while heating the low melting point glass from the sealing part side located below, and the sealing is performed efficiently. Can do. At that time, since the solid matter is fixed to the inner wall of the second chamber via the chain saturated hydrocarbon, even if the cell portion is arranged so that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side. The solid material can be prevented from going out of the second chamber through the opening.

[適用例7]上記適用例に係るガスセルの製造方法であって、前記固形物は内部にアルカリ金属が充填されたアンプルであり、前記照射工程では、前記アンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射することが好ましい。   Application Example 7 In the gas cell manufacturing method according to the application example, the solid material is an ampoule filled with an alkali metal, and in the irradiation step, the ampule has a pulse laser beam having a wavelength in an ultraviolet region. Is preferably irradiated.

本適用例の製造方法によれば、照射工程において、内部にアルカリ金属が充填されたアンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射するので、セル部に損傷を与えることなくアンプルのガラス管に貫通孔を形成し内部のアルカリ金属を蒸発させて、アルカリ金属ガスを発生させることができる。また、パルスレーザー光を照射する際、アンプルが鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、アンプルがパルスレーザー光の照射位置からずれてしまったり、パルスレーザー光照射による衝撃でアンプルが動いてしまったりすることが抑えられる。   According to the manufacturing method of this application example, in the irradiation step, the ampule filled with alkali metal is irradiated with pulsed laser light having a wavelength in the ultraviolet region, so that the ampule glass tube is not damaged without damaging the cell portion. A through-hole can be formed and the alkali metal inside can be evaporated to generate an alkali metal gas. Also, when irradiating pulsed laser light, the ampoule is fixed to the inner wall of the second chamber via a chain saturated hydrocarbon, so the ampoule may be displaced from the irradiation position of the pulsed laser light, or irradiated with pulsed laser light. It is possible to prevent the ampoule from moving due to the shock caused by.

[適用例8]上記適用例に係るガスセルの製造方法であって、前記固形物はアルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルであり、前記照射工程では、前記ピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射することが好ましい。   Application Example 8 In the gas cell manufacturing method according to the application example, the solid matter is a pill containing an alkali metal compound and an adsorbent, and in the irradiation step, the pill has a wavelength in a red to infrared region. Irradiation with continuous wave laser light is preferred.

本適用例の製造方法によれば、照射工程において、アルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射するので、ピルを局所的に加熱しアルカリ金属化合物を活性化してアルカリ金属ガスを発生させるとともに、その際に発生する不純物を吸着剤で吸着することができる。また、連続発振レーザー光を照射する際、ピルが鎖式飽和炭化水素を介して第2室の内壁に固定されているので、ピルが連続発振レーザー光の照射位置からずれてしまったり、連続発振レーザー光照射による衝撃でピルが動いてしまったりすることが抑えられる。   According to the manufacturing method of this application example, in the irradiation step, the pill containing the alkali metal compound and the adsorbent is irradiated with a continuous wave laser beam having a wavelength in the red to infrared region. The compound is activated to generate an alkali metal gas, and impurities generated at that time can be adsorbed by the adsorbent. In addition, when irradiating continuous wave laser light, the pill is fixed to the inner wall of the second chamber via a chain saturated hydrocarbon. It is possible to prevent the pill from moving due to the impact of laser light irradiation.

本実施形態に係る磁気計測装置の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of the magnetic measuring device which concerns on this embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの長手方向に沿った断面図。Sectional drawing along the longitudinal direction of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 図2AのA−A’線に沿った断面図。FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 2A. 第1の実施形態に係るアンプルの長手方向に沿った断面図。Sectional drawing along the longitudinal direction of the ampoule which concerns on 1st Embodiment. 図3AのB−B’線に沿った断面図。FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of FIG. 3A. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係るピルの斜視図。The perspective view of the pill which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るガスセルの長手方向に沿った断面図。Sectional drawing along the longitudinal direction of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the gas cell which concerns on the modification 1. As shown in FIG. 変形例2に係る原子発振器の構成を示す概略図。FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a configuration of an atomic oscillator according to a second modification. 変形例2に係る原子発振器の動作を説明する図。The figure explaining operation | movement of the atomic oscillator which concerns on the modification 2. FIG. 変形例2に係る原子発振器の動作を説明する図。The figure explaining operation | movement of the atomic oscillator which concerns on the modification 2. FIG.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面を参照して説明する。使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大、縮小、あるいは誇張して表示している。また、説明に必要な構成要素以外は図示を省略する場合がある。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. The drawings to be used are appropriately enlarged, reduced or exaggerated so that the part to be described can be recognized. In addition, illustrations of components other than those necessary for the description may be omitted.

(第1の実施形態)
<磁気計測装置の構成>
第1の実施形態に係る磁気計測装置の構成について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る磁気計測装置の構成を示すブロック図である。本実施形態に係る磁気計測装置100は、非線形光学回転(Nonlinear Magneto-Optical Rotation:NMOR)を用いた磁気計測装置である。磁気計測装置100は、例えば、心臓からの磁場(心磁)や脳からの磁場(脳磁)などの生体から発生される微小な磁場を測定する生体状態測定装置(心磁計または脳磁計など)に用いられる。磁気計測装置100は、金属探知機などにも用いることができる。
(First embodiment)
<Configuration of magnetic measuring device>
The configuration of the magnetic measurement apparatus according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the magnetic measurement apparatus according to this embodiment. The magnetic measurement apparatus 100 according to the present embodiment is a magnetic measurement apparatus that uses non-linear optical rotation (NMOR). The magnetic measurement apparatus 100 is a biological state measurement apparatus (such as a magnetocardiograph or a magnetoencephalograph) that measures a minute magnetic field generated from a living body such as a magnetic field from the heart (magnetomagnetic field) or a magnetic field from the brain (magnetomagnetic field). Used for. The magnetic measuring device 100 can also be used for a metal detector or the like.

図1に示すように、磁気計測装置100は、光源1と、光ファイバー2と、コネクター3と、偏光板4と、ガスセル10と、偏光分離器5と、光検出器(Photo Detector:PD)6と、光検出器7と、信号処理回路8と、表示装置9とを備えている。ガスセル10内には、アルカリ金属ガス(気体の状態のアルカリ金属原子)が封入されている。アルカリ金属としては、例えば、セシウム(Cs)、ルビジウム(Rb)、カリウム(K)、ナトリウム(Na)などを用いることができる。以下では、アルカリ金属としてセシウムを用いる場合を例に取り説明する。   As shown in FIG. 1, the magnetic measurement device 100 includes a light source 1, an optical fiber 2, a connector 3, a polarizing plate 4, a gas cell 10, a polarization separator 5, and a photodetector (Photo Detector: PD) 6. And a light detector 7, a signal processing circuit 8, and a display device 9. In the gas cell 10, an alkali metal gas (a gas-state alkali metal atom) is sealed. As the alkali metal, for example, cesium (Cs), rubidium (Rb), potassium (K), sodium (Na), or the like can be used. Hereinafter, a case where cesium is used as the alkali metal will be described as an example.

光源1は、セシウムの吸収線に応じた波長(例えばD1線に相当する894nm)のレーザービームを出力する装置、例えばチューナブルレーザーである。光源1から出力されるレーザービームは、連続的に一定の光量を有する、いわゆるCW(Continuous Wave)光である。   The light source 1 is a device that outputs a laser beam having a wavelength corresponding to the absorption line of cesium (for example, 894 nm corresponding to the D1 line), for example, a tunable laser. The laser beam output from the light source 1 is so-called CW (Continuous Wave) light having a constant light amount continuously.

偏光板4は、レーザービームを特定方向に偏光させ、直線偏光にする素子である。光ファイバー2は、光源1により出力されたレーザービームを、ガスセル10側に導く部材である。光ファイバー2には、例えば、基本モードのみを伝播するシングルモードの光ファイバーが用いられる。コネクター3は、光ファイバー2を偏光板4に接続するための部材である。コネクター3は、ねじ込み式で、光ファイバー2を偏光板4に接続する。   The polarizing plate 4 is an element that polarizes the laser beam in a specific direction to make it linearly polarized light. The optical fiber 2 is a member that guides the laser beam output from the light source 1 to the gas cell 10 side. For the optical fiber 2, for example, a single mode optical fiber that propagates only the fundamental mode is used. The connector 3 is a member for connecting the optical fiber 2 to the polarizing plate 4. The connector 3 is a screw-in type and connects the optical fiber 2 to the polarizing plate 4.

ガスセル10は、内部に空隙を有する箱(セル)であり、この空隙(図2Aに示す主室14)にはアルカリ金属の蒸気(図2Aに示すアルカリ金属ガス13)が封入されている。ガスセル10の構成については、後述する。   The gas cell 10 is a box (cell) having a gap inside, and an alkali metal vapor (alkali metal gas 13 shown in FIG. 2A) is sealed in the gap (main chamber 14 shown in FIG. 2A). The configuration of the gas cell 10 will be described later.

偏光分離器5は、入射したレーザービームを、互いに直交する2つの偏光成分のビームに分離する素子である。偏光分離器5は、例えば、ウォラストンプリズムまたは偏光ビームスプリッターである。光検出器6および光検出器7は、レーザービームの波長に感度を有する検出器であり、入射光の光量に応じた電流を信号処理回路8に出力する。光検出器6および光検出器7は、それ自体が磁場を発生すると測定に影響を与える可能性があるので、非磁性の材料で構成されることが望ましい。光検出器6および光検出器7は、ガスセル10からみて偏光分離器5と同じ側(下流側)に配置される。   The polarization separator 5 is an element that separates an incident laser beam into beams of two polarization components orthogonal to each other. The polarization separator 5 is, for example, a Wollaston prism or a polarization beam splitter. The photodetector 6 and the photodetector 7 are detectors sensitive to the wavelength of the laser beam, and output a current corresponding to the amount of incident light to the signal processing circuit 8. It is desirable that the photodetector 6 and the photodetector 7 are made of a non-magnetic material because they themselves may affect the measurement when a magnetic field is generated. The photodetector 6 and the photodetector 7 are disposed on the same side (downstream side) as the polarization separator 5 as viewed from the gas cell 10.

磁気計測装置100における各部の配置を、レーザービームの経路に沿って説明すると、レーザービームの経路の最上流には光源1が位置し、以下、上流側から、光ファイバー2、コネクター3、偏光板4、ガスセル10、偏光分離器5、および光検出器6,7の順で配置されている。   The arrangement of each part in the magnetic measuring device 100 will be described along the laser beam path. The light source 1 is located at the uppermost stream of the laser beam path. Hereinafter, the optical fiber 2, the connector 3, and the polarizing plate 4 from the upstream side. The gas cell 10, the polarization separator 5, and the photodetectors 6 and 7 are arranged in this order.

光源1から出力されたレーザービームは、光ファイバー2に導かれて偏光板4に到達する。偏光板4に到達したレーザービームは、偏光度がより高い直線偏光になる。ガスセル10を透過しているレーザービームは、ガスセル10に封入されているアルカリ金属原子を励起(光ポンピング)する。このとき、レーザービームは、磁場の強さに応じた偏光面回転作用を受けて偏光面が回転する。ガスセル10を透過したレーザービームは偏光分離器5により2つの偏光成分のビームに分離される。2つの偏光成分のビームの光量は、光検出器6および光検出器7で計測(プロービング)される。   The laser beam output from the light source 1 is guided to the optical fiber 2 and reaches the polarizing plate 4. The laser beam reaching the polarizing plate 4 becomes linearly polarized light having a higher degree of polarization. The laser beam passing through the gas cell 10 excites (optically pumps) the alkali metal atoms sealed in the gas cell 10. At this time, the polarization plane of the laser beam is rotated by receiving the polarization plane rotation action corresponding to the strength of the magnetic field. The laser beam transmitted through the gas cell 10 is separated into two polarized component beams by the polarization separator 5. The light amounts of the two polarized component beams are measured (probing) by the photodetector 6 and the photodetector 7.

信号処理回路8は、光検出器6および光検出器7により計測されたビームの光量を示す信号をそれぞれから受け取る。信号処理回路8は、受け取った各信号に基づいて、レーザービームの偏光面の回転角を計測する。偏光面の回転角は、レーザービームの伝播方向の磁場の強さに基づく関数で表される(例えば、D.バドカー、外5名,「原子の共鳴非線形磁気光学回転効果」,レビュー・オブ・モダン・フィジクス誌,米国,米国物理学会,2002年10月,第74巻,第4号,p.1153−1201の数式(2)を参照。数式(2)は線形光学回転に関するものであるが、NMORの場合もほぼ同様の式を用いることができる)。信号処理回路8は、偏光面の回転角からレーザービームの伝播方向における磁場の強さを測定する。表示装置9は、信号処理回路8により測定された磁場の強さを表示する。   The signal processing circuit 8 receives from each of the signals indicating the light amounts of the beams measured by the photodetector 6 and the photodetector 7. The signal processing circuit 8 measures the rotation angle of the polarization plane of the laser beam based on each received signal. The rotation angle of the polarization plane is expressed as a function based on the strength of the magnetic field in the propagation direction of the laser beam (for example, D. Budker, et al., “Resonant nonlinear magneto-optical rotation effect of atoms”, Review of See Equation (2) in Modern Physics, USA, American Physical Society, October 2002, Vol. 74, No. 4, p.1153-11201, although Equation (2) relates to linear optical rotation. In the case of NMOR, almost the same formula can be used). The signal processing circuit 8 measures the strength of the magnetic field in the propagation direction of the laser beam from the rotation angle of the polarization plane. The display device 9 displays the strength of the magnetic field measured by the signal processing circuit 8.

続いて、第1の実施形態に係るガスセルおよびガスセルに用いられるアンプルの構成について、図2A、図2B、図3A、および図3Bを参照して説明する。   Next, the configuration of the gas cell according to the first embodiment and the ampule used in the gas cell will be described with reference to FIGS. 2A, 2B, 3A, and 3B.

<ガスセルの構成>
図2Aは、第1の実施形態に係るガスセルの長手方向に沿った断面図である。図2Bは、図2AのA−A’線に沿った断面図である。
<Configuration of gas cell>
FIG. 2A is a sectional view along the longitudinal direction of the gas cell according to the first embodiment. 2B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2A.

図2Aおよび図2B、において、ガスセル10の高さ方向をZ軸とし、上方側を+Z方向とする。Z軸と交差する方向であって、ガスセル10の長手方向をX軸とし、図2Aにおける右側を+X方向とする。そして、Z軸およびX軸と交差する方向であって、ガスセル10の幅方向をY軸とし、図2Bの紙面における右側を+Y方向とする。   2A and 2B, the height direction of the gas cell 10 is taken as the Z axis, and the upper side is taken as the + Z direction. A direction intersecting the Z axis, the longitudinal direction of the gas cell 10 is taken as the X axis, and the right side in FIG. 2A is taken as the + X direction. And it is a direction which cross | intersects a Z-axis and an X-axis, Comprising: Let the width direction of the gas cell 10 be a Y-axis, and let the right side in the paper surface of FIG. 2B be a + Y direction.

図2Aに示すように、第1の実施形態に係るガスセル10は、セル部12と封止部19とで構成される。セル部12は、内部に空隙を有する箱(セル)であり、例えば、石英ガラスにより形成されている。セル部12の厚さは、1mm〜5mmであり、例えば、1.5mm程度である。   As shown in FIG. 2A, the gas cell 10 according to the first embodiment includes a cell part 12 and a sealing part 19. The cell portion 12 is a box (cell) having a gap inside, and is formed of, for example, quartz glass. The thickness of the cell portion 12 is 1 mm to 5 mm, for example, about 1.5 mm.

セル部12は、内部の空隙として、第1室としての主室14と、X軸方向を長手方向とする第2室としてのリザーバー16とを有している。主室14とリザーバー16とには、アルカリ金属が蒸発したガス(以下ではアルカリ金属ガスという)13が充填されている。主室14とリザーバー16とには、アルカリ金属ガス13の他に、希ガス等の不活性ガスが存在していてもよい。   The cell unit 12 includes a main chamber 14 serving as a first chamber and a reservoir 16 serving as a second chamber whose longitudinal direction is the X-axis direction as internal voids. The main chamber 14 and the reservoir 16 are filled with a gas 13 in which alkali metal has evaporated (hereinafter referred to as alkali metal gas). In addition to the alkali metal gas 13, an inert gas such as a rare gas may be present in the main chamber 14 and the reservoir 16.

主室14とリザーバー16とは、長手方向であるX軸方向に沿って並ぶように配置されており、連通孔15を介して連通している。連通孔15は、主室14およびリザーバー16の上方側(+Z方向側)に設けられている。リザーバー16の長手方向における主室14および連通孔15の反対側(−X方向側)には、開口部18が設けられている。   The main chamber 14 and the reservoir 16 are arranged so as to be aligned along the X-axis direction, which is the longitudinal direction, and communicate with each other via the communication hole 15. The communication hole 15 is provided on the upper side (+ Z direction side) of the main chamber 14 and the reservoir 16. An opening 18 is provided on the opposite side (−X direction side) of the main chamber 14 and the communication hole 15 in the longitudinal direction of the reservoir 16.

開口部18は封止部19により封止されており、これにより、セル部12(主室14およびリザーバー16)が密封されている。封止部19の材料としては、例えば、石英ガラスが用いられる。封止部19は、例えば、開口部18の周囲に配置された低融点ガラスフリット(図示しない)を介してセル部12に固着されている。   The opening 18 is sealed by a sealing part 19, and the cell part 12 (the main chamber 14 and the reservoir 16) is thereby sealed. For example, quartz glass is used as the material of the sealing portion 19. The sealing portion 19 is fixed to the cell portion 12 via, for example, a low melting point glass frit (not shown) disposed around the opening 18.

リザーバー16内には、アンプル20が収納されている。アンプル20のガラス管22には、貫通孔(開口部)21が形成されている。アルカリ金属ガス13は、アンプル20内に充填されていたアルカリ金属固体24(図3A参照)が蒸発(ガス化)したものである。アンプル20の構成については後述する。   An ampoule 20 is accommodated in the reservoir 16. A through hole (opening) 21 is formed in the glass tube 22 of the ampoule 20. The alkali metal gas 13 is obtained by evaporating (gasifying) the alkali metal solid 24 (see FIG. 3A) filled in the ampule 20. The configuration of the ampule 20 will be described later.

アンプル20とリザーバー16の内壁との間には、粘着剤25が配置されている。アンプル20は、粘着剤25を介してリザーバー16の内壁に固定されている。粘着剤25は、パラフィンなどの鎖式飽和炭化水素で構成されている。パラフィンの一例として、例えば、化学式(CH3(CH248CH3)で示されるペンタコンタンを用いることができる。 An adhesive 25 is disposed between the ampoule 20 and the inner wall of the reservoir 16. The ampoule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 via an adhesive 25. The adhesive 25 is composed of chain saturated hydrocarbons such as paraffin. As an example of paraffin, for example, pentacontane represented by a chemical formula (CH 3 (CH 2 ) 48 CH 3 ) can be used.

パラフィンなどの鎖式飽和炭化水素は、アンプル20をリザーバー16の内壁に固定できる粘着性を有するとともに、セル部12(主室14およびリザーバー16)の内壁の非緩和特性を高める効果を有するので、粘着剤25の材料として好適である。したがって、粘着剤25がリザーバー16の内壁のアンプル20が固定されていない部分に配置されていてもよいし、セル部12(主室14およびリザーバー16)の内壁に粘着剤25の薄い膜が形成されていてもよい。   The chain saturated hydrocarbon such as paraffin has an adhesive property that can fix the ampoule 20 to the inner wall of the reservoir 16 and also has an effect of increasing the non-relaxation characteristics of the inner wall of the cell portion 12 (the main chamber 14 and the reservoir 16). It is suitable as a material for the adhesive 25. Therefore, the adhesive 25 may be disposed on the inner wall of the reservoir 16 where the ampule 20 is not fixed, or a thin film of the adhesive 25 is formed on the inner wall of the cell portion 12 (the main chamber 14 and the reservoir 16). May be.

図2AのA−A’線はガスセル10の長手方向と交差するZ軸に沿ってアンプル20(ガラス管22)に形成された貫通孔21を通る線であり、図2Bは貫通孔21の位置におけるガスセル10のY−Z断面である。図2Bに示すように、開口部18は、例えば円形状である。開口部18の内径は、例えば、0.4mm〜1.5mm程度である。図示しないが、連通孔15は、例えば円形状である。連通孔15の内径は、例えば、0.4mm〜1mm程度である。封止部19は、例えば矩形状であるが、円形状など他の形状であってもよい。   2A is a line passing through the through hole 21 formed in the ampoule 20 (glass tube 22) along the Z axis intersecting the longitudinal direction of the gas cell 10, and FIG. It is a YZ cross section of the gas cell 10 in FIG. As shown in FIG. 2B, the opening 18 has, for example, a circular shape. The inner diameter of the opening 18 is, for example, about 0.4 mm to 1.5 mm. Although not shown, the communication hole 15 has a circular shape, for example. The inner diameter of the communication hole 15 is, for example, about 0.4 mm to 1 mm. The sealing part 19 has a rectangular shape, for example, but may have another shape such as a circular shape.

<アンプルの構成>
図3Aは、第1の実施形態に係るアンプルの長手方向に沿った断面図である。図3Bは、図3AのB−B’線に沿った断面図である。図3Aに示すように、第1の実施形態に係るアルカリ金属を含む固形物としてのアンプル20は、長手方向を有している。図3Aには、アンプル20を、その長手方向がX軸方向に沿うように配置したときのX−Z断面を示している。アンプル20は、中空状のガラス管22で構成される。ガラス管22は、例えば、ホウ珪酸ガラスにより形成されている。
<Configuration of ampoule>
FIG. 3A is a cross-sectional view along the longitudinal direction of the ampoule according to the first embodiment. 3B is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 3A. As shown to FIG. 3A, the ampoule 20 as a solid substance containing the alkali metal which concerns on 1st Embodiment has a longitudinal direction. FIG. 3A shows an XZ cross section when the ampoule 20 is arranged so that the longitudinal direction thereof is along the X-axis direction. The ampoule 20 is composed of a hollow glass tube 22. The glass tube 22 is made of, for example, borosilicate glass.

ガラス管22は、一方向(図3AではX軸方向)に沿って延在しており、その両端部が溶着されている。これにより、内部が中空状のガラス管22は密封されている。なお、ガラス管22の両端部の形状は、図3Aに示すような丸い形状に限定されず、平面に近い形状や一部が尖った形状などであってもよい。ガラス管22の中空状の内部には、アルカリ金属固体(粒状や粉末状のアルカリ金属原子)24が充填されている。アルカリ金属固体24としては、上述したように、セシウムの他に、ルビジウム、カリウム、ナトリウムを用いることができる。   The glass tube 22 extends along one direction (X-axis direction in FIG. 3A), and both ends thereof are welded. Thereby, the hollow glass tube 22 is sealed. In addition, the shape of the both ends of the glass tube 22 is not limited to a round shape as shown to FIG. 3A, The shape close | similar to a plane, the shape where one part sharpened, etc. may be sufficient. The hollow interior of the glass tube 22 is filled with an alkali metal solid (granular or powdery alkali metal atoms) 24. As the alkali metal solid 24, as described above, rubidium, potassium, and sodium can be used in addition to cesium.

図3Aには、アンプル20(ガラス管22)が密封された状態を示している。アンプル20が製造された段階ではガラス管22は密封された状態であるが、ガスセル10が完成した段階では、ガラス管22に貫通孔21(図2A参照)が形成され密封が破られる。これにより、アンプル20内のアルカリ金属固体24が蒸発してガスセル10内に流出し、セル部12の空隙がアルカリ金属ガス13で満たされる(図2A参照)。なお、アンプル20内からアルカリ金属固体24が蒸発して流出し易くなるように、アンプル20の上面とセル部12の内面との間には、例えば+Z方向に1.5mm程度の隙間が設けられている(図2A参照)。   FIG. 3A shows a state where the ampoule 20 (glass tube 22) is sealed. At the stage where the ampule 20 is manufactured, the glass tube 22 is in a sealed state, but when the gas cell 10 is completed, a through hole 21 (see FIG. 2A) is formed in the glass tube 22 and the sealing is broken. Thereby, the alkali metal solid 24 in the ampoule 20 evaporates and flows out into the gas cell 10, and the gap of the cell portion 12 is filled with the alkali metal gas 13 (see FIG. 2A). In addition, a gap of about 1.5 mm is provided in the + Z direction, for example, between the upper surface of the ampoule 20 and the inner surface of the cell part 12 so that the alkali metal solid 24 can easily evaporate and flow out from the ampoule 20. (See FIG. 2A).

図3Bに、アンプル20の長手方向と交差する方向におけるY−Z断面を示す。図3Bに示すように、ガラス管22のY−Z断面の形状は、例えば略円形であるが、他の形状であってもよい。ガラス管22の外径φは、0.2mm≦φ≦1.2mmである。ガラス管22の肉厚tは、0.1mm≦t≦0.5mmであり、概ね外径φの20%程度であることが好ましい。ガラス管22の肉厚tが0.1mm未満であるとガラス管22が破損し易くなり、ガラス管22の肉厚tが0.5mmを超えると、ガラス管22に貫通孔21を形成する加工(詳細は後述する)が困難となる。   FIG. 3B shows a YZ cross section in a direction intersecting the longitudinal direction of the ampoule 20. As shown in FIG. 3B, the shape of the glass tube 22 in the YZ section is, for example, a substantially circular shape, but may be another shape. The outer diameter φ of the glass tube 22 is 0.2 mm ≦ φ ≦ 1.2 mm. The thickness t of the glass tube 22 is 0.1 mm ≦ t ≦ 0.5 mm, and is preferably about 20% of the outer diameter φ. When the thickness t of the glass tube 22 is less than 0.1 mm, the glass tube 22 is likely to be damaged, and when the thickness t of the glass tube 22 exceeds 0.5 mm, the through hole 21 is formed in the glass tube 22. (Details will be described later).

<ガスセルの製造方法>
次に、第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を図4A、図4B、図5A、図5B、図6A、および図6Bを参照して説明する。図4A、図4B、図5A、図5B、図6A、および図6Bは、第1の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図である。なお、図4A、図4B、図5A、図5B、および図6Bは図2Aに対応する断面図であり、図6Aは図2Bに対応する断面図である。本実施形態に係るガスセルの製造方法は、収納工程と、封止工程と、照射工程とを含む。
<Gas cell manufacturing method>
Next, a method for manufacturing a gas cell according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 4A, 4B, 5A, 5B, 6A, and 6B. FIG. 4A, FIG. 4B, FIG. 5A, FIG. 5B, FIG. 6A, and FIG. 6B are views for explaining a gas cell manufacturing method according to the first embodiment. 4A, 4B, 5A, 5B, and 6B are cross-sectional views corresponding to FIG. 2A, and FIG. 6A is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2B. The manufacturing method of the gas cell which concerns on this embodiment includes a storage process, a sealing process, and an irradiation process.

まず、図4Aに示すセル部12を用意する。図示を省略するが、例えば、石英ガラスからなるガラス板を切断して、セル部12を構成する各壁面に対応するガラス板部材を準備する。そして、これらのガラス板部材を組立て、ガラス板部材同士を接着剤または溶着により接合して、図4Aに示すような主室14とリザーバー16とを有するセル部12を得る。この段階では、セル部12の開口部18は開放されている。   First, the cell unit 12 shown in FIG. 4A is prepared. Although illustration is omitted, for example, a glass plate made of quartz glass is cut to prepare glass plate members corresponding to the respective wall surfaces constituting the cell portion 12. Then, these glass plate members are assembled, and the glass plate members are joined together by an adhesive or welding to obtain a cell portion 12 having a main chamber 14 and a reservoir 16 as shown in FIG. 4A. At this stage, the opening 18 of the cell portion 12 is opened.

続いて、図4Bに示すように、セル部12のリザーバー16内にアンプル20を収納する(収納工程)。図4Bに矢印で示すように、アンプル20を、セル部12のリザーバー16に設けられた開口部18から長手方向(X軸方向)に沿ってリザーバー16内に挿入する。アンプル20は、その延在方向がリザーバー16の長手方向(X軸方向)に沿うようにリザーバー16内に挿入される。   Subsequently, as shown in FIG. 4B, the ampule 20 is stored in the reservoir 16 of the cell portion 12 (storage step). As shown by an arrow in FIG. 4B, the ampule 20 is inserted into the reservoir 16 along the longitudinal direction (X-axis direction) from the opening 18 provided in the reservoir 16 of the cell portion 12. The ampule 20 is inserted into the reservoir 16 so that the extending direction thereof is along the longitudinal direction (X-axis direction) of the reservoir 16.

収納工程では、リザーバー16の内壁およびアンプル20の表面の少なくとも一方に、鎖式飽和炭化水素で構成された粘着剤25を配置する。粘着剤25をリザーバー16の内壁に配置する場合は、アンプル20を挿入する前に、例えばニードルなどを用いて開口部18から粘着剤25をリザーバー16の内壁の一部に配置する。粘着剤25を配置する位置は、リザーバー16の底部(−Z方向側)が好ましく、底部における角部がより好ましい。   In the storing step, an adhesive 25 made of chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the reservoir 16 and the surface of the ampoule 20. When the adhesive 25 is disposed on the inner wall of the reservoir 16, the adhesive 25 is disposed on a part of the inner wall of the reservoir 16 from the opening 18 using, for example, a needle or the like before the ampoule 20 is inserted. The position where the adhesive 25 is disposed is preferably the bottom of the reservoir 16 (−Z direction side), and more preferably the corner of the bottom.

アンプル20を開口部18からリザーバー16内に挿入し、内壁の粘着剤25が配置された位置にアンプル20を配置する。これにより、アンプル20は粘着剤25を介してリザーバー16の内壁に固定される。リザーバー16の内壁に配置する粘着剤25の量は、アンプル20の大きさや質量を考慮し、後述する封止工程での姿勢変化や照射工程でのレーザー光照射時の衝撃に対してアンプル20が動いてしまわないような量を最小量とし、この最小量よりも多くなってもよい。   The ampoule 20 is inserted into the reservoir 16 through the opening 18, and the ampoule 20 is disposed at the position where the adhesive 25 on the inner wall is disposed. Thereby, the ampoule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 via the adhesive 25. The amount of the adhesive 25 disposed on the inner wall of the reservoir 16 takes into account the size and mass of the ampoule 20, and the ampoule 20 is subject to a change in posture in a sealing process, which will be described later, and an impact when laser light is irradiated in the irradiation process. The amount that does not move may be the minimum amount, and it may be larger than this minimum amount.

粘着剤25をアンプル20の表面に配置する場合は、アンプル20の表面の少なくとも一部にニードルなどを用いて粘着剤25を配置した後、そのアンプル20を開口部18からリザーバー16内に挿入する。そして、リザーバー16内でアンプル20を、その表面の粘着剤25がリザーバー16の内壁に付着するように配置する。粘着剤25をリザーバー16の内壁に配置しておいて、粘着剤25を表面に配置したアンプル20をリザーバー16内に収納するようにして、リザーバー16の内壁およびアンプル20の表面の双方に粘着剤25を配置することとしてもよい。   When the adhesive 25 is disposed on the surface of the ampoule 20, the adhesive 25 is disposed on at least a part of the surface of the ampoule 20 using a needle or the like, and then the ampoule 20 is inserted into the reservoir 16 from the opening 18. . Then, the ampoule 20 is arranged in the reservoir 16 so that the adhesive 25 on the surface adheres to the inner wall of the reservoir 16. The adhesive 25 is disposed on the inner wall of the reservoir 16, and the ampoule 20 having the adhesive 25 disposed on the surface thereof is accommodated in the reservoir 16, so that both the inner wall of the reservoir 16 and the surface of the ampoule 20 are adhesive. 25 may be arranged.

なお、収納工程までの段階では、アンプル20は、図3Aに示すように、中空状のガラス管22の内部にアルカリ金属固体24が充填され密封された状態となっている。アンプル20は、真空に近い低圧環境下(理想的には真空中)において、管状のガラス管22の中空状の内部にアルカリ金属固体24を充填し、ガラス管22の両端部をそれぞれ溶着し密封して形成する。アルカリ金属固体24として用いられるセシウムなどのアルカリ金属は、反応性に富み大気中で取り扱うことができないため、低圧環境下でアンプル20内に密封された状態でセル部12に収納される。   In the stage up to the storing step, the ampoule 20 is in a state where the hollow glass tube 22 is filled with an alkali metal solid 24 and sealed, as shown in FIG. 3A. The ampule 20 is filled with an alkali metal solid 24 in a hollow interior of a tubular glass tube 22 in a low pressure environment close to vacuum (ideally in a vacuum), and both ends of the glass tube 22 are welded and sealed. To form. Alkali metals such as cesium used as the alkali metal solid 24 are highly reactive and cannot be handled in the atmosphere. Therefore, they are stored in the cell portion 12 in a sealed state in the ampoule 20 under a low pressure environment.

続いて、図5Aに示すように、リザーバー16の開口部18を封止部19で封止する(封止工程)。封止工程では、セル部12内の脱気を十分に行い、内部の空隙に不純物が極めて少ない状態で、セル部12(主室14、連通孔15、およびリザーバー16)を密封する。例えば、真空に近い低圧環境下(理想的には真空中)において、セル部12および封止部19の少なくとも一方における開口部18の周囲に低融点ガラスフリット(図示しない)を配置し、セル部12と封止部19とを固着して封止することにより、セル部12が密封される。   Subsequently, as shown in FIG. 5A, the opening 18 of the reservoir 16 is sealed with a sealing portion 19 (sealing step). In the sealing step, the cell portion 12 is sufficiently deaerated, and the cell portion 12 (the main chamber 14, the communication hole 15, and the reservoir 16) is sealed with a very small amount of impurities in the internal space. For example, a low melting point glass frit (not shown) is arranged around the opening 18 in at least one of the cell part 12 and the sealing part 19 in a low pressure environment close to a vacuum (ideally in a vacuum), and the cell part The cell part 12 is sealed by adhering 12 and the sealing part 19 to each other and sealing.

セル部12と封止部19とを固着する際は、図5Aに示すように、セル部12を、長手方向が鉛直方向に沿うとともに開口部18が鉛直方向の下方側となるようにして、封止部19の上に配置することが好ましい。このように配置すれば、鉛直方向の下方に位置する封止部19側から低融点ガラスフリットを加熱しながら、上方に位置するセル部12に荷重を付加してセル部12と封止部19とを密着させることにより、効率良く封止を行うことができる。   When fixing the cell part 12 and the sealing part 19, as shown in FIG. 5A, the cell part 12 is set so that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening 18 is on the lower side in the vertical direction. It is preferable to arrange on the sealing part 19. With this arrangement, the cell portion 12 and the sealing portion 19 are applied with a load applied to the cell portion 12 located above while heating the low melting point glass frit from the sealing portion 19 side located below in the vertical direction. Can be efficiently sealed.

ここで、アンプル20が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されていない場合は、封止工程でセル部12を開口部18が鉛直方向の下方側となるように配置すると、アンプル20は、その長手方向が鉛直方向に沿うように配置されているため、開口部18からリザーバー16外へ出てしまうおそれがある。本実施形態では、アンプル20が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されているので、封止工程で開口部18が下方側となるようにセル部12が配置されても、アンプル20が開口部18からリザーバー16外へ出てしまうことを抑止できる。   Here, when the ampule 20 is not fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25, when the cell portion 12 is arranged in the sealing step so that the opening 18 is on the lower side in the vertical direction, the ampule 20 is Since the longitudinal direction is arranged along the vertical direction, there is a possibility of going out of the reservoir 16 from the opening 18. In this embodiment, since the ampule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25, the ampule 20 is opened even if the cell portion 12 is arranged so that the opening 18 is on the lower side in the sealing process. It is possible to prevent the part 18 from going out of the reservoir 16.

続いて、図5Bおよび図6Aに示すように、パルスレーザー光40を、集光レンズ42で集光して、セル部12を間に介してアンプル20のガラス管22に照射する(照射工程)。パルスレーザー光40は、アンプル20(ガラス管22)の上面で焦点を結ぶように照射する。   Subsequently, as shown in FIG. 5B and FIG. 6A, the pulsed laser light 40 is condensed by the condensing lens 42 and irradiated to the glass tube 22 of the ampoule 20 through the cell portion 12 (irradiation process). . The pulsed laser light 40 is irradiated so as to focus on the upper surface of the ampoule 20 (glass tube 22).

これにより、図6Bに示すように、ガラス管22に貫通孔21が形成され、アンプル20内のアルカリ金属固体24が蒸発して、ガスセル10の空隙に流出する。リザーバー16内に流出したアルカリ金属ガス13は、連通孔15を通ってセル部12の主室14に流入し拡散する。この結果、図2Aに示すように、セル部12の空隙がアルカリ金属ガス13で満たされる。レーザー光は指向性や収束性に優れているので、パルスレーザー光40を照射することにより、ガラス管22に容易に貫通孔21を形成することができる。   As a result, as shown in FIG. 6B, a through hole 21 is formed in the glass tube 22, and the alkali metal solid 24 in the ampoule 20 evaporates and flows out into the gap of the gas cell 10. The alkali metal gas 13 flowing into the reservoir 16 flows into the main chamber 14 of the cell part 12 through the communication hole 15 and diffuses. As a result, as shown in FIG. 2A, the gap of the cell portion 12 is filled with the alkali metal gas 13. Since the laser beam is excellent in directivity and convergence, the through hole 21 can be easily formed in the glass tube 22 by irradiating the pulse laser beam 40.

照射工程では、セル部12に損傷を与えることなく、アンプル20のガラス管22に貫通孔21を形成する必要がある。そこで、セル部12が石英ガラスで形成されガラス管22がホウ珪酸ガラスで形成されている場合、例えば、紫外線領域の波長のパルスレーザー光40を用いる。紫外線領域の波長の光は、石英ガラスを透過するが、ホウ珪酸ガラスには僅かに吸収される。これにより、セル部12に損傷を与えることなく、アンプル20のガラス管22を選択的に加工して貫通孔21を形成することができる。   In the irradiation process, it is necessary to form the through hole 21 in the glass tube 22 of the ampoule 20 without damaging the cell portion 12. Therefore, when the cell portion 12 is formed of quartz glass and the glass tube 22 is formed of borosilicate glass, for example, pulse laser light 40 having a wavelength in the ultraviolet region is used. Light having a wavelength in the ultraviolet region passes through the quartz glass, but is slightly absorbed by the borosilicate glass. Accordingly, the through hole 21 can be formed by selectively processing the glass tube 22 of the ampoule 20 without damaging the cell portion 12.

パルスレーザー光40のエネルギーは、例えば、20μJ/pulse〜200μJ/pulseとする。パルスレーザー光40のパルス幅は、例えば、10ナノ秒〜50ナノ秒とし、30ナノ秒程度であることが好ましい。パルスレーザー光40の繰り返し周波数は、例えば、50kHz程度とし、パルスレーザー光40の照射時間は、例えば、100msec程度とする。   The energy of the pulse laser beam 40 is, for example, 20 μJ / pulse to 200 μJ / pulse. The pulse width of the pulse laser beam 40 is, for example, 10 nanoseconds to 50 nanoseconds, and preferably about 30 nanoseconds. The repetition frequency of the pulse laser beam 40 is, for example, about 50 kHz, and the irradiation time of the pulse laser beam 40 is, for example, about 100 msec.

また、照射工程でアンプル20のガラス管22に確実に貫通孔21を形成するためには、図6Aに示すように、アンプル20に対するパルスレーザー光40の照射位置を、パルスレーザー光40の焦点がアンプル20の幅方向(Y軸方向)における中央部に位置するように設定することが好ましい。パルスレーザー光40の焦点がアンプル20の幅方向における中央部からずれると、深さ方向の加工が進まなくなりガラス管22を貫通させることができなくなる場合がある。   Further, in order to reliably form the through-hole 21 in the glass tube 22 of the ampoule 20 in the irradiation process, as shown in FIG. It is preferable to set so that it is located in the center part in the width direction (Y-axis direction) of the ampule 20. If the focal point of the pulse laser beam 40 is deviated from the central portion in the width direction of the ampoule 20, processing in the depth direction may not proceed and the glass tube 22 may not be able to penetrate.

ところで、アンプル20が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されていない場合は、リザーバー16内でアンプル20の位置が個体によってばらつくことや、セル部12を取り扱う際のわずかな傾きや衝撃などによってアンプル20が動いてパルスレーザー光40の照射位置からずれてしまうことがある。また、アンプル20が固定されていないと、パルスレーザー光40が照射されたことによる衝撃で、アンプル20が動いてその位置からずれてしまうことがある。そうすると、照射工程でガラス管22に貫通孔21を形成できず、ガスセル10を製造する工程における製造歩留まりの低下や、加工のやり直しによる製造工数の増大を招くこととなる。   By the way, when the ampule 20 is not fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25, the position of the ampule 20 varies depending on the individual in the reservoir 16, or a slight inclination or impact when the cell portion 12 is handled. The ampoule 20 may move and shift from the irradiation position of the pulse laser beam 40. If the ampoule 20 is not fixed, the ampoule 20 may move and deviate from the position due to the impact caused by the irradiation with the pulse laser beam 40. If it does so, the through-hole 21 cannot be formed in the glass tube 22 at an irradiation process, and the fall of the manufacturing yield in the process of manufacturing the gas cell 10 will result, and the increase in the manufacturing man-hour by reworking will be caused.

本実施形態では、図5Bおよび図6Aに示すように、アンプル20が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されているため、リザーバー16内でアンプル20の位置がばらつくことや取り扱いにおいてアンプル20が動いてしまうことを抑止できるので、アンプル20のパルスレーザー光40の照射位置からのずれが抑えられる。そして、照射工程においてパルスレーザー光40の照射による衝撃でアンプル20が動いてしまうことが抑えられる。これにより、アンプル20に安定的かつ確実に貫通孔21を形成しアルカリ金属ガス13を発生させることができるので、ガスセル10の製造歩留まりの低下や製造工数の増大を抑え、生産性を向上させることができる。   In this embodiment, as shown in FIG. 5B and FIG. 6A, the ampule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25. Since it can suppress moving, the deviation | shift from the irradiation position of the pulse laser beam 40 of the ampule 20 is suppressed. And it can suppress that the ampule 20 moves by the impact by irradiation of the pulse laser beam 40 in an irradiation process. Thereby, since the through-hole 21 can be stably and reliably formed in the ampoule 20 and the alkali metal gas 13 can be generated, a decrease in the manufacturing yield of the gas cell 10 and an increase in manufacturing man-hours are suppressed, and productivity is improved. Can do.

ここで、アンプル20のY−Z断面形状が略円形であると、セル部12の傾きや衝撃で回転して動いてしまうおそれがある。図6Aに示すように、アンプル20がリザーバー16内の角部に配置されていると、角部で交差する2つの内壁にアンプル20が接して保持されるので、より安定した状態でアンプル20を固定することができる。   Here, if the YZ cross-sectional shape of the ampoule 20 is substantially circular, there is a possibility that the ampoule 20 may rotate and move due to the inclination or impact of the cell portion 12. As shown in FIG. 6A, when the ampoule 20 is arranged at the corner of the reservoir 16, the ampoule 20 is held in contact with two inner walls intersecting at the corner, so that the ampoule 20 can be held in a more stable state. Can be fixed.

なお、照射工程では、アンプル20内からアルカリ金属固体24が蒸発して流出すればよいので、貫通孔21の形成に限定されず、例えば、ガラス管22に亀裂を生じさせてアンプル20を分断してもよいし、ガラス管22を破壊してもよい。   In the irradiation process, the alkali metal solid 24 only needs to evaporate and flow out from the ampoule 20, so that the invention is not limited to the formation of the through hole 21. For example, the glass tube 22 is cracked to divide the ampoule 20. Alternatively, the glass tube 22 may be broken.

本実施形態に係る磁気計測装置100の製造方法は、上述したガスセル10の製造方法を含んでいる。本実施形態に係る磁気計測装置100を製造する工程は、ガスセル10を製造する工程以外の工程では公知の方法を用いることができるため、その説明を省略する。   The method for manufacturing the magnetic measuring device 100 according to the present embodiment includes the method for manufacturing the gas cell 10 described above. The process of manufacturing the magnetic measurement device 100 according to the present embodiment can be omitted in the description since a known method can be used in processes other than the process of manufacturing the gas cell 10.

(第2の実施形態)
第2の実施形態は、第1の実施形態に対して、アルカリ金属を含む固形物がアンプルではなくピルである点が異なるが、セル部の構成はほぼ同じである。第2の実施形態に係るガスセルおよびガスセルに用いられるピルの構成について、図7Aおよび図7Bを参照して説明する。なお、第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付してその説明を省略する。
(Second Embodiment)
The second embodiment is different from the first embodiment in that the solid material containing an alkali metal is a pill instead of an ampule, but the configuration of the cell portion is substantially the same. The structure of the gas cell which concerns on 2nd Embodiment, and the pill used for a gas cell is demonstrated with reference to FIG. 7A and FIG. 7B. In addition, about the component which is common in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the description is abbreviate | omitted.

<ピルの構成>
まず、第2の実施形態に係るアルカリ金属を含む固形物としてのピルの構成を説明する。図7Aは、第2の実施形態に係るピルの斜視図である。図7Aに示すように、第2の実施形態に係るピル30は、例えば略円筒形である。ピル30の円筒形の径φは、例えば1mm程度であり、ピル30の円筒形の高さhは、例えば1mm程度である。なお、ピル30の外形形状は略円筒形に限定されず、直方体や球体など他の形状であってもよい。
<Pill configuration>
First, the structure of the pill as a solid substance containing an alkali metal according to the second embodiment will be described. FIG. 7A is a perspective view of a pill according to a second embodiment. As shown in FIG. 7A, the pill 30 according to the second embodiment has, for example, a substantially cylindrical shape. The cylindrical diameter φ of the pill 30 is, for example, about 1 mm, and the cylindrical height h of the pill 30 is, for example, about 1 mm. Note that the outer shape of the pill 30 is not limited to a substantially cylindrical shape, and may be another shape such as a rectangular parallelepiped or a sphere.

ピル30は、アルカリ金属化合物と吸着剤とを含む。ピル30は、後述する照射工程でレーザー光を照射するとアルカリ金属化合物が加熱され活性化されることでアルカリ金属が生成され、その際に放出される不純物や不純ガスは吸着剤に吸着される。アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属としてセシウムを用いる場合、例えば、モリブデン酸セシウム、塩化セシウムなどのセシウム化合物を用いることができる。吸着剤としては、例えば、ジルコニウム粉末、アルミニウムなどを用いることができる。   The pill 30 includes an alkali metal compound and an adsorbent. When the pill 30 is irradiated with laser light in an irradiation process described later, the alkali metal compound is heated and activated to generate alkali metal, and impurities and impure gas released at that time are adsorbed by the adsorbent. As the alkali metal compound, when cesium is used as the alkali metal, for example, a cesium compound such as cesium molybdate or cesium chloride can be used. As the adsorbent, for example, zirconium powder, aluminum or the like can be used.

<ガスセルの構成>
図7Bは、第2の実施形態に係るガスセルの長手方向に沿った断面図である。図7Bに示すように、第2の実施形態に係るガスセル10Aは、第1の実施形態に係るガスセル10と同様に、連通孔15で連通された主室14およびリザーバー16を有するセル部12とで構成される。
<Configuration of gas cell>
FIG. 7B is a cross-sectional view along the longitudinal direction of the gas cell according to the second embodiment. As shown in FIG. 7B, the gas cell 10A according to the second embodiment is similar to the gas cell 10 according to the first embodiment, and includes a cell portion 12 having a main chamber 14 and a reservoir 16 communicated with each other through a communication hole 15. Consists of.

図7Bに示すガスセル10Aが完成した状態では、リザーバー16内にピル30のアルカリ金属化合物からアルカリ金属26(例えば、セシウム)が生成され、アルカリ金属26が蒸発したアルカリ金属ガス13で主室14およびリザーバー16が満たされている。リザーバー16内に、不純ガスを吸着した吸着剤31や不純物等が残留していてもよい。吸着剤31とリザーバー16の内壁との間には、鎖式飽和炭化水素からなる粘着剤25が配置されている。   7B is completed, an alkali metal 26 (for example, cesium) is generated from the alkali metal compound of the pill 30 in the reservoir 16 and the main chamber 14 and the alkali metal gas 13 are evaporated from the alkali metal 26. Reservoir 16 is full. The adsorbent 31 that has adsorbed the impure gas, impurities, or the like may remain in the reservoir 16. Between the adsorbent 31 and the inner wall of the reservoir 16, an adhesive 25 made of chain saturated hydrocarbon is disposed.

<ガスセルの製造方法>
次に、第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を図8A、図8B、図9A、および図9Bを参照して説明する。図8A、図8B、図9A、および図9Bは、第2の実施形態に係るガスセルの製造方法を説明する図である。第2の実施形態に係るガスセルの製造方法は、第1の実施形態に係るガスセルの製造方法に対して、配置工程でピル30をリザーバー16内に配置する点と、照射工程で連続発振レーザー光を照射する点とが異なるが、それ以外はほぼ同じである。なお、第1の実施形態と共通する製造方法についてはその説明を省略する。
<Gas cell manufacturing method>
Next, a method for manufacturing a gas cell according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 8A, 8B, 9A, and 9B. FIG. 8A, FIG. 8B, FIG. 9A, and FIG. 9B are views for explaining a gas cell manufacturing method according to the second embodiment. The gas cell manufacturing method according to the second embodiment is different from the gas cell manufacturing method according to the first embodiment in that the pill 30 is disposed in the reservoir 16 in the disposing step, and the continuous wave laser beam is irradiated in the irradiation step. However, the rest is almost the same. Note that description of the manufacturing method common to the first embodiment is omitted.

図8Aに示すように、セル部12を用意し、セル部12のリザーバー16内にピル30を収納する(収納工程)。第1の実施形態と同様に、リザーバー16の内壁およびピル30の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素で構成された粘着剤25を配置する。そして、図8Aに矢印で示すように、ピル30を、セル部12のリザーバー16に設けられた開口部18からリザーバー16内に挿入し、粘着剤25を介してリザーバー16の内壁に固定させる。   As shown in FIG. 8A, the cell unit 12 is prepared, and the pill 30 is stored in the reservoir 16 of the cell unit 12 (storage process). Similar to the first embodiment, an adhesive 25 made of chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the reservoir 16 and the pill 30. 8A, the pill 30 is inserted into the reservoir 16 from the opening 18 provided in the reservoir 16 of the cell portion 12 and fixed to the inner wall of the reservoir 16 via the adhesive 25.

続いて、図8Bに示すように、第1の実施形態と同様の方法で、リザーバー16の開口部18を封止部19で封止する(封止工程)。封止工程では、ピル30が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されているので、開口部18が下方側となるようにセル部12が配置されても、ピル30が開口部18からリザーバー16外へ出てしまうことを抑止できる。   Subsequently, as shown in FIG. 8B, the opening 18 of the reservoir 16 is sealed with a sealing portion 19 in the same manner as in the first embodiment (sealing step). In the sealing process, since the pill 30 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25, the pill 30 is opened from the opening 18 to the reservoir even if the cell portion 12 is arranged so that the opening 18 is on the lower side. 16 can be prevented from going outside.

続いて、図9Aおよび図9Bに示すように、連続発振レーザー光44を、集光レンズ42で集光して、セル部12を間に介してピル30に照射する(照射工程)。連続発振レーザー光44は、ピル30の上面の略中央部で焦点を結ぶように照射する。   Subsequently, as shown in FIGS. 9A and 9B, the continuous wave laser beam 44 is condensed by the condenser lens 42 and irradiated to the pill 30 through the cell portion 12 (irradiation process). The continuous wave laser beam 44 is irradiated so as to be focused at a substantially central portion of the upper surface of the pill 30.

連続発振レーザー光44として、例えば、赤色から赤外線領域(680nm〜1200nm程度)の波長で連続発振するLD(Laser Diode)レーザーを用いることができる。連続発振レーザー光44の波長は、800nm程度であることが好ましい。連続発振レーザー光44の出力は、例えば、1W〜10W程度とし、2W〜5W程度であることが好ましい。連続発振レーザー光44の照射時間は、例えば、10秒〜5分程度とし、30秒〜90秒程度であることが好ましい。   As the continuous wave laser beam 44, for example, an LD (Laser Diode) laser that continuously oscillates in a wavelength from red to an infrared region (about 680 nm to 1200 nm) can be used. The wavelength of the continuous wave laser beam 44 is preferably about 800 nm. The output of the continuous wave laser beam 44 is, for example, about 1 W to 10 W, and preferably about 2 W to 5 W. The irradiation time of the continuous wave laser beam 44 is, for example, about 10 seconds to 5 minutes, and preferably about 30 seconds to 90 seconds.

連続発振レーザー光44を照射することにより、ピル30が加熱されてピル30に含まれるアルカリ金属化合物が活性化され、アルカリ金属26が生成される。そして、アルカリ金属26が蒸発しアルカリ金属ガス13となってリザーバー16内に流出し、連通孔15を通ってセル部12の主室14に流入し拡散する。この結果、図7Bに示すように、セル部12の空隙がアルカリ金属ガス13で満たされる。アルカリ金属化合物から放出された不純物や不純ガスは、吸着剤31に吸着される。   By irradiating the continuous wave laser beam 44, the pill 30 is heated, the alkali metal compound contained in the pill 30 is activated, and the alkali metal 26 is generated. Then, the alkali metal 26 evaporates to become the alkali metal gas 13, flows out into the reservoir 16, flows into the main chamber 14 of the cell portion 12 through the communication hole 15, and diffuses. As a result, as shown in FIG. 7B, the gap of the cell portion 12 is filled with the alkali metal gas 13. Impurities and impurity gases released from the alkali metal compound are adsorbed by the adsorbent 31.

第2の実施形態に係るガスセル10Aでは、セル部12に損傷を与えることなく、ピル30を加熱する必要がある。第2の実施形態に係る照射工程では、連続発振レーザー光44を照射することにより、ピル30を局所的に加熱するので、ピル30が収納されたリザーバー16(セル部12)全体を加熱する場合と比べて、セル部12を構成する部材に対する熱の影響を抑えることができる。   In the gas cell 10A according to the second embodiment, it is necessary to heat the pill 30 without damaging the cell portion 12. In the irradiation step according to the second embodiment, since the pill 30 is locally heated by irradiating the continuous wave laser beam 44, the entire reservoir 16 (cell unit 12) in which the pill 30 is stored is heated. Compared with, the influence of heat with respect to the member which comprises the cell part 12 can be suppressed.

ピル30を局所的に加熱するためには、ピル30に対する連続発振レーザー光44の照射位置を、連続発振レーザー光44の焦点がピル30の上面における中央部に位置するように設定することが好ましい。連続発振レーザー光44の焦点がピル30からずれると、ピル30の加熱が不十分となりアルカリ金属の生成が進まなくなり、ガスセル10Aの製造歩留まりの低下や、加工のやり直しによる製造工数の増大を招くこととなる。   In order to locally heat the pill 30, it is preferable to set the irradiation position of the continuous wave laser beam 44 to the pill 30 so that the focal point of the continuous wave laser beam 44 is located at the center of the upper surface of the pill 30. . If the focus of the continuous wave laser beam 44 is deviated from the pill 30, the heating of the pill 30 is insufficient and the generation of alkali metal does not proceed, leading to a decrease in the manufacturing yield of the gas cell 10A and an increase in manufacturing man-hours due to reworking. It becomes.

本実施形態では、図9Aおよび図9Bに示すように、ピル30が粘着剤25でリザーバー16の内壁に固定されているため、リザーバー16内でピル30の位置がばらつくことや取り扱いにおいてピル30が動いてしまうことを抑止できるので、ピル30の連続発振レーザー光44の照射位置からのずれが抑えられる。そして、照射工程において連続発振レーザー光44の照射による衝撃でピル30が動いてしまうことが抑えられる。これにより、ピル30に安定的かつ確実に連続発振レーザー光44を照射して加熱しアルカリ金属ガス13を発生させることができるので、ガスセル10Aの製造歩留まりの低下や製造工数の増大を抑え、生産性を向上させることができる。   In this embodiment, as shown in FIGS. 9A and 9B, the pill 30 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 with the adhesive 25, so that the position of the pill 30 varies in the reservoir 16 and the pill 30 is not handled in handling. Since it can suppress that it moves, the shift | offset | difference from the irradiation position of the continuous wave laser beam 44 of the pill 30 is suppressed. And it can suppress that the pill 30 moves by the impact by irradiation of the continuous wave laser beam 44 in an irradiation process. As a result, the alkali metal gas 13 can be generated by irradiating the pill 30 with the continuous wave laser beam 44 stably and surely to generate the alkali metal gas 13, thereby suppressing a decrease in manufacturing yield of the gas cell 10A and an increase in manufacturing man-hours. Can be improved.

上述した実施形態は、あくまでも本発明の一態様を示すものであり、本発明の範囲内で任意に変形および応用が可能である。変形例としては、例えば、以下のようなものが考えられる。   The above-described embodiments merely show one aspect of the present invention, and can be arbitrarily modified and applied within the scope of the present invention. As modifications, for example, the following can be considered.

(変形例1)
上記実施形態の磁気計測装置およびガスセルの製造方法では、収納工程でアンプル20をリザーバー16の内壁に固定するため、アンプル20およびリザーバー16の内壁の少なくとも一方の一部に粘着剤25を配置していたが、本発明はこのような方法に限定されない。アンプル20の表面全体またはリザーバー16の内壁全体に粘着剤25(鎖式飽和炭化水素)をコーティングするようにしてもよい。
(Modification 1)
In the magnetic measuring device and the gas cell manufacturing method of the above embodiment, the adhesive 25 is disposed on at least one part of the inner wall of the ampoule 20 and the reservoir 16 in order to fix the ampoule 20 to the inner wall of the reservoir 16 in the storing step. However, the present invention is not limited to such a method. The entire surface of the ampoule 20 or the entire inner wall of the reservoir 16 may be coated with the adhesive 25 (chain saturated hydrocarbon).

図10A、図10B、図10C、図11A、図11B、および図11Cは、変形例1に係るガスセルの製造方法を説明する図である。詳しくは、図10A、図10B、および図10Cは粘着剤25をアンプル20の表面全体にコーティングする場合を説明する図であり、図11A、図11B、および図11Cはリザーバー16の内壁全体に粘着剤25をコーティングする場合を説明する図である。   10A, FIG. 10B, FIG. 10C, FIG. 11A, FIG. 11B, and FIG. 11C are views for explaining a method of manufacturing a gas cell according to the first modification. Specifically, FIGS. 10A, 10B, and 10C are diagrams for explaining the case where the adhesive 25 is coated on the entire surface of the ampoule 20, and FIGS. 11A, 11B, and 11C are attached to the entire inner wall of the reservoir 16. It is a figure explaining the case where the agent 25 is coated.

<アンプルの表面全体にコーティングする場合>
図10Aに示すように、予めアンプル20の表面全体に粘着剤25(鎖式飽和炭化水素)をコーティングする。図示を省略するが、例えば、密閉した容器の中にアンプル20と粘着剤25とを配置して容器全体を200℃程度に加熱する。これにより、アンプル20の表面全体を覆うように粘着剤25の薄い膜が形成される。
<When coating the entire surface of the ampoule>
As shown in FIG. 10A, an adhesive 25 (chain saturated hydrocarbon) is coated on the entire surface of the ampoule 20 in advance. Although illustration is omitted, for example, the ampoule 20 and the adhesive 25 are disposed in a sealed container, and the entire container is heated to about 200 ° C. Thereby, the thin film | membrane of the adhesive 25 is formed so that the whole surface of the ampoule 20 may be covered.

図10Bに示すように、粘着剤25の薄い膜が形成されたアンプル20をリザーバー16内に収納すると、アンプル20は粘着剤25を介してリザーバー16の内壁に固定される。アンプル20の表面全体が粘着剤25で覆われているので、アンプル20がリザーバー16内のいずれの位置に配置されても、アンプル20をリザーバー16の内壁に固定することができる。   As shown in FIG. 10B, when the ampoule 20 on which a thin film of the adhesive 25 is formed is stored in the reservoir 16, the ampoule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 via the adhesive 25. Since the entire surface of the ampoule 20 is covered with the adhesive 25, the ampoule 20 can be fixed to the inner wall of the reservoir 16 regardless of the position of the ampoule 20 in the reservoir 16.

なお、アンプル20の表面全体が粘着剤25で覆われているため、アンプル20がリザーバー16の内壁の好ましくない位置に固定されてしまう場合がある。例えば、図10Cに示すように、リザーバー16の上方側(+Z方向側)の内壁に固定されてしまうと、リザーバー16の上面(+Z方向側の面)とアンプル20の表面との距離が小さくなるため、照射工程においてパルスレーザー光40の焦点をアンプル20の表面に合わせにくくなる。   Since the entire surface of the ampoule 20 is covered with the adhesive 25, the ampoule 20 may be fixed at an undesirable position on the inner wall of the reservoir 16. For example, as shown in FIG. 10C, when the reservoir 16 is fixed to the inner wall on the upper side (+ Z direction side) of the reservoir 16, the distance between the upper surface of the reservoir 16 (the surface on the + Z direction side) and the surface of the ampoule 20 is reduced. Therefore, it becomes difficult to focus the pulse laser beam 40 on the surface of the ampoule 20 in the irradiation process.

このような場合、図10Cに示すように、加熱装置45(例えば、半田ごてなど)でリザーバー16の上面のアンプル20が固定されている部分を局所的に加熱すると、粘着剤25が融解してアンプル20がリザーバー16の内壁から離れるので、アンプル20をリザーバー16内の他の位置に移動させることができる。アンプル20をリザーバー16の底部側(−Z方向側)の内壁に固定すると、リザーバー16の上面とアンプル20の表面との距離が大きくなるため、照射工程においてパルスレーザー光40の焦点をアンプル20の表面に合わせ易くなる。   In such a case, as shown in FIG. 10C, when the portion where the ampule 20 on the upper surface of the reservoir 16 is fixed is locally heated with a heating device 45 (for example, a soldering iron), the adhesive 25 is melted. Since the ampule 20 is separated from the inner wall of the reservoir 16, the ampule 20 can be moved to another position in the reservoir 16. When the ampoule 20 is fixed to the inner wall on the bottom side (−Z direction side) of the reservoir 16, the distance between the upper surface of the reservoir 16 and the surface of the ampoule 20 is increased. It becomes easy to match the surface.

<リザーバーの内壁全体にコーティングする場合>
図11Aに示すように、リザーバー16の内壁全体に粘着剤25(鎖式飽和炭化水素)をコーティングする。図示を省略するが、例えば、リザーバー16内の一部に粘着剤25を配置し、開口部18(図4A参照)を仮封止してセル12部内を密閉し、200℃程度の温度で10分程度のベーキングを行う。これにより、図11Aに示すように、リザーバー16の内壁全体を覆うように粘着剤25の薄い膜が形成される。リザーバー16の内壁に粘着剤25の薄い膜を形成する際に、主室14の内壁に粘着剤25の薄い膜が形成されてもよい。
<When coating the entire inner wall of the reservoir>
As shown in FIG. 11A, the entire inner wall of the reservoir 16 is coated with an adhesive 25 (chain saturated hydrocarbon). Although illustration is omitted, for example, the adhesive 25 is disposed in a part of the reservoir 16, the opening 18 (see FIG. 4A) is temporarily sealed, the inside of the cell 12 is sealed, and the temperature is about 200 ° C. Bake for about a minute. Thereby, as shown in FIG. 11A, a thin film of the adhesive 25 is formed so as to cover the entire inner wall of the reservoir 16. When forming a thin film of the adhesive 25 on the inner wall of the reservoir 16, a thin film of the adhesive 25 may be formed on the inner wall of the main chamber 14.

内壁全体に粘着剤25の薄い膜が形成されたリザーバー16内にアンプル20を収納すると、アンプル20は粘着剤25を介してリザーバー16の内壁に固定される。リザーバー16の内壁全体が粘着剤25で覆われているので、アンプル20がリザーバー16内のいずれの位置に配置されても、アンプル20をリザーバー16の内壁に固定することができる。   When the ampoule 20 is stored in the reservoir 16 in which the thin film of the adhesive 25 is formed on the entire inner wall, the ampoule 20 is fixed to the inner wall of the reservoir 16 via the adhesive 25. Since the entire inner wall of the reservoir 16 is covered with the adhesive 25, the ampoule 20 can be fixed to the inner wall of the reservoir 16 regardless of the position of the ampoule 20 in the reservoir 16.

図11Bに示すように、アンプル20がリザーバー16の内壁の好ましくない位置(例えば、上部側)に固定されてしまった場合は、リザーバー16の上部側(+Z方向側)を加熱装置46で加熱するとともに、リザーバー16の底部側(+Z方向側)を冷却装置48で冷却する。   As shown in FIG. 11B, when the ampoule 20 is fixed to an unfavorable position (for example, the upper side) of the inner wall of the reservoir 16, the upper side (+ Z direction side) of the reservoir 16 is heated by the heating device 46. At the same time, the bottom side (+ Z direction side) of the reservoir 16 is cooled by the cooling device 48.

これにより、図11Cに示すように、リザーバー16の上部側の粘着剤25が融解して底部側へ集中するので、アンプル20をリザーバー16の上部側の内壁から離してリザーバー16の底部側へ移動させて固定することができる。また、粘着剤25をリザーバー16の底部側へ集中させることにより、底部側における粘着剤25の膜厚が厚くなるので、アンプル20をより確実にリザーバー16の内壁に固定することができる。   Accordingly, as shown in FIG. 11C, the adhesive 25 on the upper side of the reservoir 16 is melted and concentrated on the bottom side, so that the ampoule 20 is moved away from the inner wall on the upper side of the reservoir 16 and moved to the bottom side of the reservoir 16. Can be fixed. Further, by concentrating the adhesive 25 to the bottom side of the reservoir 16, the thickness of the adhesive 25 on the bottom side is increased, so that the ampoule 20 can be more securely fixed to the inner wall of the reservoir 16.

変形例1の製造方法において、アンプル20の表面全体を粘着剤25でコーティングするとともに、リザーバー16の内壁全体を粘着剤25でコーティングすることとしてもよい。なお、変形例1で説明した方法は、第2の実施形態のピル30を用いる場合にも適用できる。   In the manufacturing method of Modification 1, the entire surface of the ampoule 20 may be coated with the adhesive 25 and the entire inner wall of the reservoir 16 may be coated with the adhesive 25. In addition, the method demonstrated in the modification 1 is applicable also when using the pill 30 of 2nd Embodiment.

(変形例2)
上記実施形態に係るガスセルを適用可能な装置は、磁気計測装置100に限定されない。上記実施形態および変形例に係るガスセルは、例えば、原子時計などの原子発振器にも適用できる。図12は、変形例2に係る原子発振器の構成を示す概略図である。また、図13Aおよび図13Bは、変形例2に係る原子発振器の動作を説明する図である。
(Modification 2)
An apparatus to which the gas cell according to the embodiment is applicable is not limited to the magnetic measurement apparatus 100. The gas cell according to the embodiment and the modification can be applied to, for example, an atomic oscillator such as an atomic clock. FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a configuration of an atomic oscillator according to the second modification. 13A and 13B are diagrams illustrating the operation of the atomic oscillator according to the second modification.

図13に示す変形例2に係る原子発振器(量子干渉装置)101は、量子干渉効果を利用した原子発振器である。図12に示すように、原子発振器101は、上記実施形態に係るガスセル10(またはガスセル10A)と、光源71と、光学部品72,73,74,75と、光検出部76と、ヒーター77と、温度センサー78と、磁場発生部79と、制御部80とを備えている。   An atomic oscillator (quantum interference device) 101 according to the second modification illustrated in FIG. 13 is an atomic oscillator using a quantum interference effect. As shown in FIG. 12, the atomic oscillator 101 includes a gas cell 10 (or a gas cell 10A) according to the embodiment, a light source 71, optical components 72, 73, 74, and 75, a light detection unit 76, a heater 77, and the like. , A temperature sensor 78, a magnetic field generator 79, and a controller 80.

光源71は、ガスセル10内のアルカリ金属原子を励起する励起光LLとして、後述する周波数の異なる2種の光(図13Aに示す共鳴光L1および共鳴光L2)を射出する。光源71は、例えば、垂直共振器面発光レーザー(VCSEL)などの半導体レーザーなどで構成される。光学部品72,73,74,75は、それぞれ、光源71とガスセル10との間における励起光LLの光路上に設けられ、光源71側からガスセル10側へ、光学部品72(レンズ)、光学部品73(偏光板)、光学部品74(減光フィルター)、光学部品75(λ/4波長板)の順に配置されている。   The light source 71 emits two types of light (resonance light L1 and resonance light L2 shown in FIG. 13A) having different frequencies, which will be described later, as excitation light LL for exciting alkali metal atoms in the gas cell 10. The light source 71 is composed of, for example, a semiconductor laser such as a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL). The optical components 72, 73, 74, and 75 are provided on the optical path of the excitation light LL between the light source 71 and the gas cell 10, respectively, and the optical component 72 (lens) and the optical component from the light source 71 side to the gas cell 10 side. 73 (polarizing plate), optical component 74 (darkening filter), and optical component 75 (λ / 4 wavelength plate) are arranged in this order.

光検出部76は、ガスセル10内を透過した励起光LL(共鳴光L1,L2)の強度を検出する。光検出部76は、例えば、太陽電池、フォトダイオードなどで構成されており、後述する制御部80の励起光制御部82に接続されている。ヒーター77(加熱部)は、ガスセル10内のアルカリ金属をガス状に(アルカリ金属ガス13として)維持するために、ガスセル10を加熱する。ヒーター77(加熱部)は、例えば、発熱抵抗体などで構成される。   The light detection unit 76 detects the intensity of the excitation light LL (resonance light L1, L2) that has passed through the gas cell 10. The light detection part 76 is comprised, for example with the solar cell, the photodiode, etc., and is connected to the excitation light control part 82 of the control part 80 mentioned later. The heater 77 (heating unit) heats the gas cell 10 in order to maintain the alkali metal in the gas cell 10 in a gaseous state (as the alkali metal gas 13). The heater 77 (heating unit) is composed of, for example, a heating resistor.

温度センサー78は、ヒーター77の発熱量を制御するために、ヒーター77またはガスセル10の温度を検出する。温度センサー78は、サーミスター、熱電対などの公知の各種温度センサーで構成される。磁場発生部79は、ガスセル10内のアルカリ金属の縮退した複数のエネルギー準位をゼーマン分裂させる磁場を発生させる。ゼーマン分裂により、アルカリ金属の縮退している異なるエネルギー準位間のギャップを拡げて、分解能を向上させることができる。その結果、原子発振器101の発振周波数の精度を高めることができる。磁場発生部79は、例えば、ヘルムホルツコイルやソレノイドコイルなどで構成される。   The temperature sensor 78 detects the temperature of the heater 77 or the gas cell 10 in order to control the amount of heat generated by the heater 77. The temperature sensor 78 includes various known temperature sensors such as a thermistor and a thermocouple. The magnetic field generator 79 generates a magnetic field that causes Zeeman splitting of a plurality of energy levels of the alkali metal in the gas cell 10 that are degenerated. Zeeman splitting can increase the resolution by widening the gap between different energy levels of alkali metal degeneration. As a result, the accuracy of the oscillation frequency of the atomic oscillator 101 can be increased. The magnetic field generator 79 is composed of, for example, a Helmholtz coil or a solenoid coil.

制御部80は、光源71が射出する励起光LL(共鳴光L1,L2)の周波数を制御する励起光制御部82と、温度センサー78の検出結果に基づいてヒーター77への通電を制御する温度制御部81と、磁場発生部79から発生する磁場が一定となるように制御する磁場制御部83とを有する。制御部80は、例えば、基板上に実装されたICチップに設けられている。   The control unit 80 controls the excitation light control unit 82 that controls the frequency of the excitation light LL (resonant light L 1, L 2) emitted by the light source 71, and the temperature that controls the energization of the heater 77 based on the detection result of the temperature sensor 78. The controller 81 and the magnetic field controller 83 that controls the magnetic field generated from the magnetic field generator 79 to be constant. The control unit 80 is provided, for example, on an IC chip mounted on a substrate.

原子発振器101の原理を簡単に説明する。図13Aは原子発振器101のガスセル10内におけるアルカリ金属のエネルギー状態を説明する図であり、図13Bは原子発振器101の光源71からの2つの光の周波数差と光検出部76での検出強度との関係を示すグラフである。図13Aに示すように、ガスセル10内に封入されているアルカリ金属(アルカリ金属ガス13)は、3準位系のエネルギー準位を有しており、エネルギー準位の異なる2つの基底状態(基底状態S1、基底状態S2)と、励起状態との3つの状態をとり得る。ここで、基底状態S1は、基底状態S2よりも低いエネルギー状態である。   The principle of the atomic oscillator 101 will be briefly described. FIG. 13A is a diagram for explaining the energy state of alkali metal in the gas cell 10 of the atomic oscillator 101, and FIG. 13B shows the frequency difference between the two lights from the light source 71 of the atomic oscillator 101 and the detection intensity at the light detector 76. It is a graph which shows the relationship. As shown in FIG. 13A, the alkali metal (alkali metal gas 13) enclosed in the gas cell 10 has a three-level energy level and has two ground states (bases) having different energy levels. There can be three states: a state S1, a ground state S2) and an excited state. Here, the ground state S1 is a lower energy state than the ground state S2.

このようなアルカリ金属ガス13に対して周波数の異なる2種の共鳴光L1,L2を照射すると、共鳴光L1の周波数ω1と共鳴光L2の周波数ω2との差(ω1−ω2)に応じて、共鳴光L1,L2のアルカリ金属ガス13における光吸収率(光透過率)が変化する。そして、共鳴光L1の周波数ω1と共鳴光L2の周波数ω2との差(ω1−ω2)が基底状態S1と基底状態S2とのエネルギー差に相当する周波数と一致したとき、基底状態S1,S2から励起状態への励起がそれぞれ停止する。このとき、共鳴光L1,L2は、いずれも、アルカリ金属ガス13に吸収されずに透過する。このような現象をCPT現象または電磁誘起透明化現象(EIT:Electromagnetically Induced Transparency)と呼ぶ。   When such an alkali metal gas 13 is irradiated with two types of resonant lights L1 and L2 having different frequencies, according to the difference (ω1−ω2) between the frequency ω1 of the resonant light L1 and the frequency ω2 of the resonant light L2. The optical absorptance (light transmittance) of the resonance lights L1 and L2 in the alkali metal gas 13 changes. When the difference (ω1−ω2) between the frequency ω1 of the resonant light L1 and the frequency ω2 of the resonant light L2 matches the frequency corresponding to the energy difference between the ground state S1 and the ground state S2, the ground states S1 and S2 Each excitation to the excited state stops. At this time, the resonance lights L1 and L2 are transmitted without being absorbed by the alkali metal gas 13. Such a phenomenon is called a CPT phenomenon or an electromagnetically induced transparency (EIT) phenomenon.

光源71は、ガスセル10に向けて、上述したような周波数の異なる2種の光(共鳴光L1および共鳴光L2)を射出する。ここで、例えば、共鳴光L1の周波数ω1を固定し、共鳴光L2の周波数ω2を変化させていくと、共鳴光L1の周波数ω1と共鳴光L2の周波数ω2との差(ω1−ω2)が基底状態S1と基底状態S2とのエネルギー差に相当する周波数ω0に一致したとき、光検出部76の検出強度は、図13Bに示すように急峻に上昇する。このような急峻な信号をEIT信号と呼ぶ。このEIT信号は、アルカリ金属の種類によって決まった固有値をもっている。したがって、このようなEIT信号を基準として用いることにより、高精度な原子発振器101を実現することができる。   The light source 71 emits two types of light (resonant light L1 and resonant light L2) having different frequencies as described above toward the gas cell 10. Here, for example, when the frequency ω1 of the resonant light L1 is fixed and the frequency ω2 of the resonant light L2 is changed, the difference (ω1−ω2) between the frequency ω1 of the resonant light L1 and the frequency ω2 of the resonant light L2 is obtained. When the frequency ω0 corresponds to the energy difference between the ground state S1 and the ground state S2, the detection intensity of the light detection unit 76 increases sharply as shown in FIG. 13B. Such a steep signal is called an EIT signal. This EIT signal has an eigenvalue determined by the type of alkali metal. Therefore, by using such an EIT signal as a reference, a highly accurate atomic oscillator 101 can be realized.

原子発振器101に用いられるガスセル10には小型であり、かつ、長寿命であることが要求されるが、上記実施形態のガスセルの構成およびその製造方法によれば、小型で長寿命のガスセル10を安定的に製造できるので、小型で精度が高く長寿命の原子発振器101に好適に用いることができる。   The gas cell 10 used for the atomic oscillator 101 is required to be small and have a long life. However, according to the configuration of the gas cell and the manufacturing method thereof according to the above embodiment, the gas cell 10 having a small size and a long life is provided. Since it can be stably manufactured, it can be suitably used for the atomic oscillator 101 having a small size, high accuracy, and long life.

10,10A…ガスセル、12…セル部、13…アルカリ金属ガス(アルカリ金属のガス)、14…主室(第1室)、16…リザーバー(第2室)、18…開口部、19…封止部、20…アンプル(アルカリ金属を含む固形物)、25…粘着剤(鎖式飽和炭化水素)、30…ピル(アルカリ金属を含む固形物)、40…パルスレーザー光(レーザー光)、44…連続発振レーザー光(レーザー光)、100…磁気計測装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,10A ... Gas cell, 12 ... Cell part, 13 ... Alkali metal gas (alkali metal gas), 14 ... Main chamber (first chamber), 16 ... Reservoir (second chamber), 18 ... Opening, 19 ... Sealing Stop part, 20 ... Ampoule (solid matter containing alkali metal), 25 ... Adhesive (chain saturated hydrocarbon), 30 ... Pill (solid matter containing alkali metal), 40 ... Pulse laser beam (laser beam), 44 ... continuous oscillation laser beam (laser beam), 100 ... magnetic measuring device.

Claims (8)

磁場を計測する磁気計測装置の製造方法であって、
第1室と、前記第1室と連通し長手方向を有する第2室と、前記第2室の前記長手方向における前記第1室とは反対側に設けられた開口部と、を有するセル部の前記第2室に前記開口部からアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する収納工程と、
前記開口部を封止部で封止する封止工程と、
前記固形物にレーザー光を照射する照射工程と、を含み、
前記収納工程では、前記第2室の内壁および前記固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置することを特徴とする磁気計測装置の製造方法。
A method of manufacturing a magnetic measuring device for measuring a magnetic field,
A cell portion having a first chamber, a second chamber communicating with the first chamber and having a longitudinal direction, and an opening provided on the opposite side of the second chamber from the first chamber in the longitudinal direction. A storage step of inserting and storing a solid material containing an alkali metal into the second chamber from the opening;
A sealing step of sealing the opening with a sealing portion;
An irradiation step of irradiating the solid with a laser beam,
In the storing step, a chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the second chamber and the solid material.
請求項1に記載の磁気計測装置の製造方法であって、
前記封止工程では、前記セル部を、前記長手方向が鉛直方向に沿うとともに前記開口部が鉛直方向の下方側となるようにして前記封止部の上に配置することを特徴とする磁気計測装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the magnetic measuring device according to claim 1,
In the sealing step, the cell part is arranged on the sealing part so that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side in the vertical direction. Device manufacturing method.
請求項1または2に記載の磁気計測装置の製造方法であって、
前記固形物は内部にアルカリ金属が充填されたアンプルであり、
前記照射工程では、前記アンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射することを特徴とする磁気計測装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the magnetic measuring device according to claim 1 or 2,
The solid matter is an ampoule filled with alkali metal inside,
In the irradiation step, the ampoule is irradiated with pulsed laser light having a wavelength in the ultraviolet region.
請求項1または2に記載の磁気計測装置の製造方法であって、
前記固形物はアルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルであり、
前記照射工程では、前記ピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射することを特徴とする磁気計測装置の製造方法。
It is a manufacturing method of the magnetic measuring device according to claim 1 or 2,
The solid matter is a pill containing an alkali metal compound and an adsorbent,
In the irradiation step, the pill is irradiated with a continuous wave laser beam having a wavelength from red to an infrared region.
第1室と、前記第1室と連通し長手方向を有する第2室と、前記第2室の前記長手方向における前記第1室とは反対側に設けられた開口部と、を有するセル部の前記第2室に前記開口部からアルカリ金属を含む固形物を挿入して収納する収納工程と、
前記開口部を封止部で封止する封止工程と、
前記固形物にレーザー光を照射する照射工程と、を含み、
前記収納工程では、前記第2室の内壁および前記固形物の少なくとも一方に鎖式飽和炭化水素を配置することを特徴とするガスセルの製造方法。
A cell portion having a first chamber, a second chamber communicating with the first chamber and having a longitudinal direction, and an opening provided on the opposite side of the second chamber from the first chamber in the longitudinal direction. A storage step of inserting and storing a solid material containing an alkali metal into the second chamber from the opening;
A sealing step of sealing the opening with a sealing portion;
An irradiation step of irradiating the solid with a laser beam,
In the storing step, a chain saturated hydrocarbon is disposed on at least one of the inner wall of the second chamber and the solid material.
請求項5に記載のガスセルの製造方法であって、
前記封止工程では、前記セル部を、前記長手方向が鉛直方向に沿うとともに前記開口部が鉛直方向の下方側となるようにして前記封止部の上に配置することを特徴とするガスセルの製造方法。
It is a manufacturing method of the gas cell according to claim 5,
In the sealing step, the cell portion is disposed on the sealing portion so that the longitudinal direction is along the vertical direction and the opening is on the lower side in the vertical direction. Production method.
請求項5または6に記載のガスセルの製造方法であって、
前記固形物は内部にアルカリ金属が充填されたアンプルであり、
前記照射工程では、前記アンプルに紫外線領域の波長のパルスレーザー光を照射することを特徴とするガスセルの製造方法。
It is a manufacturing method of the gas cell according to claim 5 or 6,
The solid matter is an ampoule filled with alkali metal inside,
In the irradiation step, the ampule is irradiated with pulsed laser light having a wavelength in the ultraviolet region.
請求項5または6に記載のガスセルの製造方法であって、
前記固形物はアルカリ金属化合物と吸着剤とを含むピルであり、
前記照射工程では、前記ピルに赤色から赤外線領域の波長の連続発振レーザー光を照射することを特徴とするガスセルの製造方法。
It is a manufacturing method of the gas cell according to claim 5 or 6,
The solid matter is a pill containing an alkali metal compound and an adsorbent,
In the irradiation step, the pill is irradiated with a continuous wave laser beam having a wavelength in a red to infrared region.
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