JP2018054404A - Gas cell, magnetic field measurement device, and method of manufacturing gas cell - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガスセル、磁場計測装置、およびガスセルの製造方法に関する。 The present invention relates to a gas cell, a magnetic field measurement device, and a method for manufacturing the gas cell.
生体の心臓等から発せられる磁場を検出する磁場計測装置として、光ポンピング式の磁場計測装置が知られている。光ポンピング式の磁場計測装置では、アルカリ金属ガスが封入されたガスセルに直線偏光を照射し、ガスセルを透過した光の偏光面の回転角に応じて磁場を測定する。 An optical pumping type magnetic field measuring apparatus is known as a magnetic field measuring apparatus that detects a magnetic field emitted from a living heart or the like. In the optical pumping type magnetic field measuring apparatus, linearly polarized light is irradiated to a gas cell in which an alkali metal gas is sealed, and the magnetic field is measured according to the rotation angle of the polarization plane of light transmitted through the gas cell.
このような磁場計測装置に用いられるガスセルの製造方法として、例えば、特許文献1には、コーティング層が形成された板材を組み立ててセルを形成した後、アルカリ金属が充填されたアンプルをセル内に収納し、収納されたアンプルをレーザー光で破壊することでアルカリ金属ガスを拡散させてセルに充填する手法が開示されている。 As a method of manufacturing a gas cell used in such a magnetic field measuring apparatus, for example, in Patent Document 1, after assembling a plate material on which a coating layer is formed to form a cell, an ampoule filled with an alkali metal is placed in the cell. A method is disclosed in which the cells are stored and the stored ampoules are destroyed with laser light to diffuse the alkali metal gas and fill the cells.
しかしながら、特許文献1に開示されたガスセルの製造方法では、セル内において、アルカリ金属が充填されたアンプルが固定されていない。そのため、アンプルの位置がばらついてレーザー光の照射位置からずれてしまったり、レーザー光が照射された衝撃でアンプルが動いてしまったりする場合がある。この結果、アンプルを破壊できずに、セル内にアルカリ金属を拡散させることができない場合がある。したがって、このようなガスセルの製造方法では、歩留まりが低下してしまう。 However, in the gas cell manufacturing method disclosed in Patent Document 1, an ampoule filled with an alkali metal is not fixed in the cell. For this reason, the position of the ampoule may vary and shift from the irradiation position of the laser light, or the ampoule may move due to the impact of the laser light irradiation. As a result, the ampoule cannot be destroyed and the alkali metal cannot be diffused into the cell. Therefore, in such a gas cell manufacturing method, the yield decreases.
本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、レーザー光を照射してアルカリ金属が収容された容器を破壊する際に、当該容器を安定に保持できるガスセルおよびその製造方法を提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記ガスセルを含む磁場計測装置を提供することにある。 One of the objects according to some aspects of the present invention is to provide a gas cell capable of stably holding a container containing alkali metal when irradiated with laser light and a method for manufacturing the same. It is in. Another object of some aspects of the present invention is to provide a magnetic field measurement apparatus including the gas cell.
本発明に係るガスセルは、
第1室と、
前記第1室に連通孔を介して連通する第2室と、
を備え、
前記第1室には、気体のアルカリ金属が収容され、
前記第1室の内壁には、有機膜が形成され、
前記第2室には、第1容器と、第2容器と、が収容され、
前記第1容器の幅をA、前記第2室の幅方向に配列されている前記第1容器の数をn(nは自然数)、前記第2容器の幅をB、前記第2室の幅方向に配列されている前記第2容器の数をm(mは自然数)、前記第2容器の内部空間の幅方向の大きさをCとした場合に、
前記第2室の幅Wは、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である。
The gas cell according to the present invention comprises:
The first room,
A second chamber communicating with the first chamber through a communication hole;
With
The first chamber contains gaseous alkali metal,
An organic film is formed on the inner wall of the first chamber,
The second chamber contains a first container and a second container,
The width of the first container is A, the number of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is n (n is a natural number), the width of the second container is B, and the width of the second chamber. When the number of the second containers arranged in the direction is m (m is a natural number), and the size in the width direction of the internal space of the second container is C,
The width W of the second chamber is in the range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2.
このようなガスセルでは、レーザー光を照射してアルカリ金属が収容された第2容器を破壊する工程において、第2室の幅方向における第2容器の位置ずれを第2容器の内部空間の幅の半分以下にできる(すなわち、第2容器を安定に保持できる)。したがって、このようなガスセルでは、確実に第2容器を破壊してアルカリ金属を拡散させることができるため、歩留まりの低下を抑制して生産性を向上できる。 In such a gas cell, in the step of irradiating the second container containing the alkali metal by irradiating the laser beam, the displacement of the second container in the width direction of the second chamber is caused by the width of the internal space of the second container. It can be less than half (that is, the second container can be stably held). Therefore, in such a gas cell, the second container can be reliably destroyed and the alkali metal can be diffused, so that the yield can be suppressed and the productivity can be improved.
本発明に係るガスセルにおいて、
前記第2室の幅方向に配列されている前記第1容器の数nは、2以上であり、
前記第2室の幅方向に配列されている前記第2容器の数mは、1であってもよい。
In the gas cell according to the present invention,
The number n of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is 2 or more,
The number m of the second containers arranged in the width direction of the second chamber may be one.
このようなガスセルでは、第1容器の数が2以上であることにより、第1室の内壁に有機膜を成膜する工程において、より多くの有機膜の材料を供給することができる。さらに、このようなガスセルでは、第2容器の数が1であることにより、例えば第2容器が複数ある場合と比べて、レーザー光を照射して第2容器を破壊する工程において、レーザー光の照射回数を減らすことできる。 In such a gas cell, when the number of first containers is two or more, more organic film material can be supplied in the step of forming the organic film on the inner wall of the first chamber. Further, in such a gas cell, since the number of second containers is 1, for example, in the process of irradiating laser light and destroying the second container, compared to the case where there are a plurality of second containers, The number of irradiations can be reduced.
本発明に係るガスセルにおいて、
前記第2容器には、前記第2容器の内部空間と前記第2室とを接続する開口部が形成されていてもよい。
In the gas cell according to the present invention,
The second container may be formed with an opening that connects the internal space of the second container and the second chamber.
このようなガスセルでは、製造工程において、第2容器に収容されていたアルカリ金属から気化したアルカリ金属ガスを第2容器の開口部から、第2室および連通孔を介して、第1室に拡散させることができる。 In such a gas cell, in the manufacturing process, the alkali metal gas evaporated from the alkali metal contained in the second container is diffused from the opening of the second container to the first chamber through the second chamber and the communication hole. Can be made.
本発明に係るガスセルにおいて、
前記有機膜は、パラフィンの膜であってもよい。
In the gas cell according to the present invention,
The organic film may be a paraffin film.
このようなガスセルでは、第1室に収容されているアルカリ金属原子が第1室の内壁に衝突したときの挙動の変化(例えばスピンの変化)を抑制または低減することができる。 In such a gas cell, a change in behavior (for example, a change in spin) when an alkali metal atom accommodated in the first chamber collides with the inner wall of the first chamber can be suppressed or reduced.
本発明に係る磁場計測装置は、
本発明に係るガスセルを含む。
The magnetic field measurement apparatus according to the present invention is
A gas cell according to the present invention is included.
このような磁場計測装置では、本発明に係るガスセルを含むため、生産性を向上できる。 Such a magnetic field measurement apparatus includes the gas cell according to the present invention, so that productivity can be improved.
本発明に係るガスセルの製造方法は、
第1室と、前記第1室に連通孔を介して連通する第2室と、を備えた構造体を準備する工程と、
前記第2室に、有機膜の材料が収容された第1容器およびアルカリ金属が収容された第2容器を収容する工程と、
前記構造体を加熱し、気化した前記有機膜の材料を前記第1室に充填して、前記第1室の内壁に有機膜を成膜する工程と、
前記第2容器にレーザー光を照射して前記第2容器を破壊し、気化した前記アルカリ金属を前記第1室に充填する工程と、
を含み、
前記第1容器の幅をA、前記第2室の幅方向に配列される前記第1容器の数をn(nは自然数)、前記第2容器の幅をB、前記第2室の幅方向に配列される前記第2容器の数をm(mは自然数)、前記第2容器の内部空間の幅方向の大きさをCとした場合に、
前記第2室の幅Wは、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である。
The method for producing a gas cell according to the present invention includes:
Preparing a structure including a first chamber and a second chamber communicating with the first chamber via a communication hole;
Storing a first container in which the material of the organic film is stored and a second container in which the alkali metal is stored in the second chamber;
Heating the structure, filling the vaporized material of the organic film into the first chamber, and forming an organic film on the inner wall of the first chamber;
Irradiating the second container with laser light to destroy the second container and filling the vaporized alkali metal into the first chamber;
Including
The width of the first container is A, the number of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is n (n is a natural number), the width of the second container is B, and the width direction of the second chamber When the number of the second containers arranged in m is m (m is a natural number) and the size in the width direction of the internal space of the second container is C,
The width W of the second chamber is in the range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2.
このようなガスセルの製造方法では、レーザー光を照射してアルカリ金属が収容された第2容器を破壊する工程において、第2室の幅方向における第2容器の位置ずれを第2容器の内部空間の幅の半分以下にできる。したがって、このようなガスセルの製造方法では、確実に第2容器を破壊してアルカリ金属を拡散させることができるため、歩留まりの低下を抑制して生産性を向上できる。 In such a gas cell manufacturing method, in the step of destroying the second container containing the alkali metal by irradiating the laser beam, the displacement of the second container in the width direction of the second chamber is detected. It can be less than half of the width. Therefore, in such a gas cell manufacturing method, the second container can be surely destroyed and the alkali metal can be diffused, so that the yield can be suppressed and the productivity can be improved.
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below do not unduly limit the contents of the present invention described in the claims. In addition, not all of the configurations described below are essential constituent requirements of the present invention.
1. 磁場計測装置の構成
まず、本実施形態に係る磁場計測装置の構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る磁場計測装置100の構成を示すブロック図である。
1. Configuration of Magnetic Field Measurement Device First, the configuration of the magnetic field measurement device according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a magnetic
本実施形態に係る磁場計測装置100は、非線形光学回転(Nonlinear Magneto−Optical Rotation:NMOR)を用いた磁場計測装置である。磁場計測装置100は、例えば、心臓からの磁場(心磁)や脳からの磁場(脳磁)などの生体から発せられる微小な磁場を測定する生体状態測定装置(心磁計または脳磁計など)に用いられる。磁場計測装置100は、金属探知機などにも用いることができる。
The magnetic
磁場計測装置100は、本発明に係るガスセルを含む。以下では、本発明に係るガスセルとして、ガスセル10を用いた例について説明する。
The magnetic
磁場計測装置100は、光源1と、光ファイバー2と、コネクター3と、偏光板4と、ガスセル10と、偏光分離器5と、光検出器(Photo Detector:PD)6と、光検出器(PD)7と、信号処理回路8と、表示装置9と、を含んで構成されている。ガスセル10内には、アルカリ金属ガス(気体のアルカリ金属)が収容されている。アルカリ金属としては、例えば、セシウム(Cs)、ルビジウム(Rb)、カリウム(K)、ナトリウム(Na)などを用いることができる。以下では、アルカリ金属としてセシウムを用いる場合を例に取り説明する。
The magnetic
光源1は、セシウムの吸収線に応じた波長(例えばD1線に相当する894nm)のレーザービームを出力する装置、例えばチューナブルレーザーである。光源1から出力されるレーザービームは、連続的に一定の光量を有する、いわゆるCW(Continuous Wave)光である。 The light source 1 is a device that outputs a laser beam having a wavelength corresponding to the absorption line of cesium (for example, 894 nm corresponding to the D1 line), for example, a tunable laser. The laser beam output from the light source 1 is so-called CW (Continuous Wave) light having a constant light amount continuously.
光ファイバー2は、光源1により出力されたレーザービームを、ガスセル10側に導く部材である。光ファイバー2には、例えば、基本モードのみを伝播するシングルモードの光ファイバーが用いられる。
The
コネクター3は、光ファイバー2を偏光板4に接続するための部材である。コネクター3は、例えば、ねじ込み式で、光ファイバー2を偏光板4に接続する。
The
偏光板4は、レーザービームを特定方向に偏光させ、直線偏光にする素子である。 The polarizing plate 4 is an element that polarizes the laser beam in a specific direction to make it linearly polarized light.
ガスセル10は、内部に空隙を有する箱(セル)であり、この空隙(図2に示す主室14)には気体のアルカリ金属(アルカリ金属の蒸気)が収容されている。ガスセル10の構成については、後述する。
The
偏光分離器5は、入射したレーザービームを、互いに直交する2つの偏光成分のビームに分離する素子である。偏光分離器5は、例えば、ウォラストンプリズムまたは偏光ビームスプリッターである。
The
光検出器6および光検出器7は、レーザービームの波長に感度を有する検出器であり、入射光の光量に応じた電流を信号処理回路8に出力する。光検出器6および光検出器7は、それ自体が磁場を発生すると測定に影響を与える可能性があるので、非磁性の材料で構成されることが望ましい。光検出器6および光検出器7は、ガスセル10からみて偏光分離器5と同じ側(下流側)に配置される。
The photodetector 6 and the
磁場計測装置100において、レーザービームの経路の最上流には光源1が位置し、以下、上流側から下流側に向かって、光ファイバー2、コネクター3、偏光板4、ガスセル10、偏光分離器5、および光検出器6,7の順で配置されている。
In the magnetic
磁場計測装置100における各部の動作を説明する。
The operation of each part in the magnetic
光源1から出力されたレーザービームは、光ファイバー2に導かれて偏光板4に到達する。偏光板4によってレーザービームは、偏光度がより高い直線偏光になる。ガスセル10において、レーザービームは、ガスセル10に封入されているアルカリ金属原子を励起(光ポンピング)する。このとき、レーザービームは、磁場の強さに応じた偏光面の回転作用を受けて偏光面が回転する。ガスセル10を透過したレーザービームは偏光分離器5により2つの偏光成分のビームに分離される。2つの偏光成分のビームの光量は、それぞれ光検出器6および光検出器7で計測(プロービング)される。
The laser beam output from the light source 1 is guided to the
信号処理回路8は、光検出器6および光検出器7により計測されたビームの光量を示す信号をそれぞれから受け取る。信号処理回路8は、受け取った各信号に基づいて、レーザービームの偏光面の回転角を求める。また、信号処理回路8は、偏光面の回転角からレーザービームの伝播方向における磁場の強さを求める。表示装置9は、信号処理回路8で求められた磁場の強さを表示する。
The signal processing circuit 8 receives from each of the signals indicating the light amounts of the beams measured by the photodetector 6 and the
2. ガスセルの構成
次に、本実施形態に係る磁場計測装置100のガスセル10の構成について、図面を参照しながら説明する。図2は、本実施形態に係る磁場計測装置100のガスセル10を模式的に示す断面図である。図3は、本実施形態に係る磁場計測装置100のガスセル10を模式的に示す図2のIII−III線断面図である。なお、図2および図3には、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸、およびZ軸を図示している。
2. Next, the configuration of the
ガスセル10は、セル本体12と、封止栓19と、を含んで構成されている。
The
セル本体12の材質は、耐熱性に優れ、紫外光領域での吸収が小さい石英が望ましい。セル本体12は、例えば、石英板を貼り合わせることで形成することができる。セル本体12を構成する石英板の厚さは、例えば、1.5mm程度である。
The material of the
セル本体12は、主室(第1室)14と、連通孔15と、リザーバー(第2室)16と、投入口18と、を備えている。
The
主室14には、アルカリ金属ガス50(気体のアルカリ金属)が収容されている。主室14に収容されるアルカリ金属がセシウムである場合、セシウムの融点は約28℃であるため、磁場計測装置100は、ガスセル10の温度が室温付近でも動作が可能となる。例えば、主室14に収容されるアルカリ金属がルビジウムである場合、ルビジウムの融点は約37℃であるため、磁場計測装置100は、動作時にはヒーター等でガスセル10を加熱する必要がある。
The
主室14の内壁には、有機膜11(コーティング膜)が形成されている。有機膜11は、例えば、直鎖状の分子構造を有する炭化水素、例えばパラフィンにより構成される。すなわち、有機膜11は、例えば、パラフィンの膜である。パラフィンは、炭素数が20以上のアルカン(一般式がCnH2n+2の鎖式飽和炭化水素)をいう。有機膜11は、例えば、鎖式飽和炭化水素(CnH2n+2)のうち炭素数nが20〜100のものが好ましく、より好ましくは炭素数nが50程度である。有機膜11は、主室14内のアルカリ金属原子が主室14の内壁に衝突したときの挙動の変化(例えばスピンの変化)を抑制または低減する機能を有する。
An organic film 11 (coating film) is formed on the inner wall of the
リザーバー16は、連通孔15を介して主室14に連通している。リザーバー16と主室14とは、Y軸に沿って配置されており、Y軸に沿って延在する連通孔15によって接続されている。連通孔15は、主室14に収容されているアルカリ金属ガス50が主室14からリザーバー16に戻る割合が小さくなるような大きさに形成されている。
The
リザーバー16には、有機膜11の材料(有機材料)が収容されていた第1容器20と、アルカリ金属が収容されていた第2容器30と、が収容されている。すなわち、磁場計測装置100において、第1容器20には有機材料は収容されておらず、第2容器30にはアルカリ金属は収容されていない。なお、図2では、便宜上、第1容器20および第2容器30を簡略化して図示している。第1容器20および第2容器30の構成については後述する。
The
図示の例では、リザーバー16には、第1容器20が5個、第2容器30が1個収容されているが、リザーバー16に収容される第1容器20の数、および第2容器30の数は特に限定されない。リザーバー16には、少なくとも第1容器20および第2容器30が1つずつあればよい。
In the illustrated example, the
リザーバー16には、複数(図示の例では5個)の第1容器20および第2容器30がリザーバー16の幅方向であるX軸方向に配列されている。リザーバー16において、第1容器20は、第1容器20の幅方向がX軸方向、第1容器20の長さ方向(長手方向)がY軸方向となるように配置されている。同様に、リザーバー16において、第2容器30は、第2容器30の幅方向がX軸方向、第2容器30の長さ方向(長手方向)がY軸方向となるように配置されている。
In the
図2に示すように、第1容器20の幅をA、リザーバー16の幅方向(すなわちX軸方向)に配列されている第1容器20の数をn(nは自然数)、第2容器30の幅をB、リザーバー16の幅方向(すなわちX軸方向)に配列されている第2容器30の数をm(mは自然数)、第2容器30の内部空間32の幅方向(X軸方向)の大きさをCとした場合に、リザーバー16の幅W(すなわちX軸方向の大きさ)は、次式の範囲である。
As shown in FIG. 2, the width of the
n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2 n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2
リザーバー16の幅Wが上記の範囲であることにより、後述するように、レーザー光を照射して第2容器30を破壊する工程において、第2容器30を安定に保持できる。
When the width W of the
リザーバー16のY軸方向の大きさは、第1容器20のY軸方向の大きさおよび第2容器30のY軸方向の大きさよりも大きければ特に限定されない。
The size of the
投入口18は、第1容器20および第2容器30を外部からリザーバー16に導入するための入口である。投入口18は、第1容器20および第2容器30を通過させることができれば、その大きさは特に限定されない。
The
封止栓19は、投入口18を密封している。これにより、セル本体12内の空間(主室14、連通孔15、リザーバー16、投入口18)を気密にできる。封止栓19の材質は、例えば、石英ガラスである。封止栓19の材質は、セル本体12の材質と同じであってもよい。封止栓19は、例えば、低融点ガラスの粉末(ガラスフリット)を用いてセル本体12に接合される。
The sealing
3. 第1容器の構成
次に、リザーバー16に収容されている第1容器20の構成について、図面を参照しながら説明する。図4は、第1容器20を模式的に示す断面図である。図5は、第1容器20を模式的に示す図4のV−V線断面図である。なお、図4および図5には、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸、およびZ軸を図示している。
3. Next, the configuration of the
第1容器20は、有機膜11の材料を収容するための容器であるが、ガスセル10が磁場計測装置100に搭載されている状態において(すなわち、ガスセル10が機能を発揮できる状態において)、第1容器20には有機膜11の材料は収容されていない。
The
第1容器20は、筒状の細管である。図示の例では、第1容器20の形状は、Y軸に沿った中心軸を有する円筒状である。第1容器20は、両端部にそれぞれ開口を有している。すなわち、第1容器20の内部空間22は、開口を介して、外部(リザーバー16)に接続されている。第1容器20の内部空間22は、有機膜11の材料を収容するための空間である。
The
第1容器20の幅A(すなわち第1容器20の外径)は、有機膜11の材料を収容するための容器として機能する限り限定されない。第1容器20の幅Aは、例えば、2mm以上3mm以下である。第1容器20の幅Aは、第1容器20をリザーバー16に収容したときの第1容器20のX軸方向の大きさである。また、第1容器20の内径は、有機膜11の材料を収容するための容器として機能する限り限定されない。第1容器20の内径は、例えば、0.1mm以上0.3mm以下である。第1容器20の内径を0.1mm以上0.3mm以下程度にすることで、有機膜11の材料を第1容器20に充填する際に毛細管現象を利用できる。
The width A of the first container 20 (that is, the outer diameter of the first container 20) is not limited as long as it functions as a container for accommodating the material of the
第1容器20の材質は、例えば、ガラス、石英などの耐熱性を有する無機材料である。また、第1容器20の材質は、ガラス、石英など磁化されにくいものが望ましい。第1容器20の材質は、例えば、ホウケイ酸ガラスである。
The material of the
なお、第1容器20の形状は、有機膜11の材料を収容可能であれば、図4および図5に示す形状に限定されない。
The shape of the
4. 第2容器の構成
次に、リザーバー16に収容されている第2容器30の構成について、図面を参照しながら説明する。図6は、第2容器30を模式的に示す断面図である。図7は、第2容器30を模式的に示す図6のVII−VII線断面図である。なお、図6および図7には、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸、およびZ軸を図示している。
4). Next, the configuration of the
第2容器30は、アルカリ金属を収容するための容器(アンプル)であるが、ガスセル10が磁場計測装置100に搭載されている状態において(すなわち、ガスセル10が機能を発揮できる状態において)、第2容器30にはアルカリ金属は収容されていない。
The
第2容器30は、中空状のガラス管であり、その両端部が溶着されている。図示の例では、第2容器30の両端部は半球状であるが、その形状は特に限定されない。第2容器30は、Y軸方向に長手方向を有している。
The
第2容器30には、第2容器30の内部空間32とリザーバー16とを接続する開口部34が形成されている。すなわち、第2容器30の内部空間32は、開口部34を介してリザーバー16に接続されている。開口部34は、後述するレーザー光の照射により第2容器30を破壊する工程で形成される。開口部34は、図示の例では、第2容器30を貫通して内部空間32とリザーバー16とを接続する貫通孔である。なお、開口部34は、図示はしないが、レーザー光の照射により第2容器30に生じた亀裂であってもよいし、レーザー光の照射により第2容器30が分断されて生じた開口であってもよい。また、図示の例では、第2容器30に1つの開口部34が形成されているが、第2容器30に複数の開口部34が形成されていてもよい。
The
第2容器30の幅B(すなわち第2容器30の外径)は、アルカリ金属を収容するための容器として機能する限り限定されない。第2容器30の幅Bは、例えば、2mm以上3mm以下である。第2容器30の幅Bは、第2容器30をリザーバー16に収容したときの第2容器30のX軸方向の大きさである。また、第2容器30の内部空間32の幅C(すなわち第2容器30の内径)は、アルカリ金属を収容するための容器として機能する限り限定されない。第2容器30の内部空間の幅Cは、例えば、1mm以上2.5mm以下である。第2容器30の内部空間32の幅Cは、第2容器30をリザーバー16に収容したときの第2容器30の内部空間32のX軸方向の大きさである。
The width B of the second container 30 (that is, the outer diameter of the second container 30) is not limited as long as it functions as a container for containing an alkali metal. The width B of the
第2容器30の幅Bは、第1容器20の幅Aと同じであってもよい。すなわち、第2容器30の外径は、第1容器20の外径と同じであってもよい。
The width B of the
第2容器30の材質は、例えば、ガラス、石英などの耐熱性を有する無機材料である。また、第2容器30の材質は、ガラス、石英など磁化されにくいものが望ましい。第2容器30の材質は、例えば、ホウケイ酸ガラスである。第2容器30の材質は、第1容器20の材質と同じであってもよい。
The material of the
5. ガスセルの製造方法
次に、ガスセル10の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図8は、ガスセル10の製造方法の一例を示すフローチャートである。図9〜図16は、ガスセル10の製造工程を模式的に示す断面図である。
5. Next, a method for manufacturing the
図9および図10に示すように、主室14とリザーバー16とを備えた構造体(セル本体)12を準備する(ステップS10)。構造体(セル本体)12は、例えば、石英板を貼り合わせることで形成することができる。
As shown in FIGS. 9 and 10, a structure (cell body) 12 including a
図11および図12に示すように、リザーバー16に、有機膜11の材料(有機材料)11aが収容されている第1容器20、および固体(または液体)のアルカリ金属50aが収容されている第2容器30を収容する(ステップS12)。
As shown in FIGS. 11 and 12, the
本工程(ステップS12)では、まず、有機材料11aが収容されている第1容器20を準備する。第1容器20への有機材料11aの充填は、例えば、毛細管現象を利用して行われる。例えば、有機材料11aがペンタコンタン(C50H102)である場合、2×10−6Torr程度の真空環境で150℃〜200℃程度で加熱することで、第1容器20に有機材料11aを毛細管現象により充填することができる。有機材料11aが収容されている第1容器20は、有機膜11を形成するために必要な個数分(図示の例では5個)だけ準備される。
In this step (step S12), first, the
次に、アルカリ金属50aが収容されている第2容器30を準備する。アルカリ金属50aが収容されている第2容器30は、例えば、真空状態において、管状のガラス管の内部にアルカリ金属50aを充填し、ガラス管の両端を溶着し密封することで得られる。アルカリ金属50aが収容されている第2容器30は、主室14に所定量のアルカリ金属ガス50を充填するために必要な個数分(図示の例では1個)だけ準備される。
Next, the
次に、真空環境下において、構造体(セル本体)12を加熱し、脱ガスを行う。脱ガスは、例えば、5×10−6Torr以下の真空環境下で、構造体(セル本体)12を400℃に加熱することで行われる。その後、構造体(セル本体)12は、室温まで冷却される。 Next, in a vacuum environment, the structure (cell body) 12 is heated and degassed. The degassing is performed, for example, by heating the structure (cell body) 12 to 400 ° C. in a vacuum environment of 5 × 10 −6 Torr or less. Thereafter, the structure (cell body) 12 is cooled to room temperature.
次に、有機材料11aが収容されている第1容器20を投入口18に挿入し、第1容器20をリザーバー16に収容する。ここでは、準備した5個の第1容器20をリザーバー16に収容する。次に、アルカリ金属50aが収容されている第2容器30を投入口18に挿入し、第2容器30をリザーバー16に収容する。ここでは、準備した1個の第2容器30をリザーバー16に収容する。
Next, the
ここで、上述したように、リザーバー16の幅W(すなわちX軸方向の大きさ)は、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である。したがって、リザーバー16内において、第2容器30のX軸方向の位置ずれは、内部空間32の幅Cの半分以下となる。
Here, as described above, the width W of the reservoir 16 (that is, the size in the X-axis direction) is in the range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2. Therefore, in the
なお、ここでは、5個の第1容器20を収容した後に第2容器30を収容したが、後述するレーザー光Lを照射して第2容器30を破壊する工程において、リザーバー16内における第2容器30の位置を特定できれば、容器を収容する順番は特に限定されない。例えば、あらかじめ決められた順番で、第1容器20および第2容器30をリザーバー16に収容すれば、第2容器30の位置を特定できる。
Here, the
次に、真空環境下(例えば2×10−6Torr程度)において、投入口18を封止栓19で密封する。これにより、構造体(セル本体)12内の空間を、真空状態にすることができる。
Next, the
以上の工程により、リザーバー16に、有機材料11aが収容されている第1容器20、およびアルカリ金属50aが収容されている第2容器30を収容することができる。
Through the above-described steps, the
図13および図14に示すように、構造体(セル本体)12を加熱して、気化した有機材料11aを主室14に充填し、主室14の内壁に有機膜11を成膜する(ステップS14)。例えば、リザーバー16を230℃程度で加熱して主室14に気化した有機材料11aを充填し、主室14の内壁に有機膜11を成膜する。次に、構造体(セル本体)12を、200℃で10分間加熱した後、徐冷することで有機膜11の膜厚を均一化する。さらなる均一化を図るために、構造体(セル本体)12を、80℃〜200℃で1〜10時間加熱してもよい。
As shown in FIGS. 13 and 14, the structure (cell body) 12 is heated to fill the vaporized
図15および図16に示すように、レーザー光Lを第2容器30に照射して、第2容器30を破壊し、気化したアルカリ金属50aを主室14に充填する(ステップS16)。
As shown in FIGS. 15 and 16, the
図16に示すように、レーザー光Lは、構造体(セル本体)12を透過して、第2容器30に照射される。そのため、レーザー光Lは、構造体(セル本体)12に損傷を与えることなく第2容器30を破壊できる波長のレーザー光が用いられる。レーザー光Lは、例えば、パルスレーザー光である。
As shown in FIG. 16, the laser light L passes through the structure (cell body) 12 and is irradiated to the
レーザー光Lは、Z軸に沿って照射される。すなわち、レーザー光Lは、構造体(セル本体)12の面に対して垂直に入射する。例えば、レーザー光Lを構造体(セル本体)12の面に対して斜め方向から入射させた場合、レーザー光Lが屈折するため、レーザー光Lの照射位置の制御が困難になってしまう。 The laser beam L is irradiated along the Z axis. That is, the laser beam L is incident perpendicular to the surface of the structure (cell body) 12. For example, when the laser beam L is incident on the surface of the structure (cell body) 12 from an oblique direction, the laser beam L is refracted, so that it is difficult to control the irradiation position of the laser beam L.
ここで、上述したように、リザーバー16の幅W(すなわちX軸方向の大きさ)は、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲であるため、リザーバー16内において、第2容器30のX軸方向の位置ずれを、内部空間32の幅Cの半分以下にできる。したがって、第2容器30にX軸方向の位置ずれが生じたとしても、レーザー光Lの照射位置は内部空間32と重なる位置となるため、確実に第2容器30を破壊して気化したアルカリ金属50aを拡散させることができる。
Here, as described above, the width W of the reservoir 16 (that is, the size in the X-axis direction) is in the range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2. The positional deviation in the X-axis direction of the
レーザー光Lの照射により、第2容器30が破壊されて開口部34が形成される。開口部34が形成されることにより、第2容器30の内部空間32に充填されていたアルカリ金属50aから気化したアルカリ金属ガス50がリザーバー16に放出される。このアルカリ金属ガス50は、リザーバー16から連通孔15を通って主室14に拡散する。この結果、図2および図3に示すように、主室14がアルカリ金属ガス50で満たされる。
By irradiation with the laser beam L, the
以上の工程により、ガスセル10を製造することができる。
The
ガスセル10、ガスセル10の製造方法、および磁場計測装置100は、例えば、以下の特徴を有する。
The
ガスセル10では、第1容器20の幅をA、リザーバー16の幅方向(X軸方向)に配列されている第1容器20の数をn、第2容器30の幅をB、リザーバー16の幅方向(X軸方向)に配列されている第2容器30の数をm、第2容器30の内部空間32の幅方向(X軸方向)の大きさをCとした場合に、リザーバー16の幅W(すなわちX軸方向の大きさ)は、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である。そのため、ガスセル10では、リザーバー16に収容されている第2容器30の位置が個体によってばらついたり、レーザー光Lの照射による衝撃で第2容器30が動いてしまったりした場合であっても、第2容器30のX軸方向の位置ずれを第2容器30の内部空間32の幅Cの半分以下にできる。このように、ガスセル10では、レーザー光Lを照射して第2容器30を破壊する工程において、第2容器30を安定に保持することができる。したがって、ガスセル10では、確実に第2容器30を破壊してアルカリ金属ガス50を拡散させることができる。よって、ガスセル10では、歩留まりの低下を抑制して、生産性を向上できる。
In the
ガスセル10では、第1容器20の数が2以上であることにより、有機膜11を成膜する工程において、より多くの有機材料11aを供給することができる。また、ガスセル10では、第2容器30の数が1であることにより、例えば第2容器30の数が複数の場合と比べて、レーザー光Lを照射して第2容器30を破壊する工程において、レーザー光Lの照射回数を減らすことできる。
In the
ガスセル10では、第2容器30には、第2容器30の内部空間32とリザーバー16とを接続する開口部34が形成されている。そのため、ガスセル10では、製造工程において、第2容器30に収容されていたアルカリ金属50aから気化したアルカリ金属ガス50を、第2容器30の開口部34から、リザーバー16および連通孔15を介して、主室14に拡散させることができる。
In the
ガスセル10では、有機膜11は、パラフィンの膜であるため、主室14内のアルカリ金属原子が主室14の内壁に衝突したときの挙動の変化(例えばスピンの変化)を抑制または低減することができる。
In the
磁場計測装置100は、ガスセル10を含むため、生産性を向上できる。
Since the magnetic
ガスセル10の製造方法では、第2容器30にレーザー光Lを照射して第2容器30を破壊し、気化したアルカリ金属50aを主室14に充填する工程を含み、リザーバー16の幅Wは、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である。そのため、ガスセル10の製造方法では、上述したように、レーザー光Lを照射して第2容器30を破壊する工程において、第2容器30のX軸方向の位置ずれを第2容器30の内部空間32の幅Cの半分以下にできる。したがって、ガスセル10の製造方法では、確実に第2容器30を破壊してアルカリ金属を拡散させることができるため、歩留まりの低下を抑制して生産性を向上できる。
The manufacturing method of the
6. 変形例
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
6). Modifications The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
例えば、上述した実施形態では、有機膜11がパラフィンの膜である例について説明したが、有機膜11の材質はこれに限定されない。有機膜11は、例えば、シラン系の材料からなる膜であってもよい。
For example, in the above-described embodiment, the example in which the
また、例えば、上述した実施形態では、図3に示すように、複数の第1容器20および第2容器30がX軸方向に配列されており、それぞれが重ならないように1段に配置されている例について説明したが、図17に示すように、容器の列を複数段(図示の例では2段)に重ねて配置してもよい。このとき、リザーバー16の幅方向(X軸方向)に配列されている第1容器20の数nおよび第2容器30の数mは、第2容器30を含む列である2段目に配列された第1容器20および第2容器30の数である。すなわち、リザーバー16の幅Wは、2段目に配列された、第1容器20の数n、第1容器20の幅A、第2容器30の数m、第2容器30の幅B、第2容器30の内部空間32の幅Cで規定される。図17に示すように、ガスセル10において容器の列を複数段に重ねることにより、例えば、有機膜11を成膜する工程において、より多くの有機材料11aを供給することができる。
Further, for example, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 3, the plurality of
また、例えば、上述した実施形態では、本発明に係るガスセルを磁場計測装置に適用した例について説明したが、本発明に係るガスセルを適用できる装置は磁場計測装置に限定されない。例えば、本発明に係るガスセルは原子発振器にも適用できる。本発明に係るガスセルを含み原子発振器によれば、上述した磁場計測装置の例と同様に、生産性を向上できる。 For example, in the above-described embodiment, the example in which the gas cell according to the present invention is applied to the magnetic field measurement apparatus has been described. However, the apparatus to which the gas cell according to the present invention can be applied is not limited to the magnetic field measurement apparatus. For example, the gas cell according to the present invention can also be applied to an atomic oscillator. According to the atomic oscillator including the gas cell according to the present invention, productivity can be improved as in the above-described example of the magnetic field measurement apparatus.
なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。 In addition, embodiment mentioned above and a modification are examples, Comprising: It is not necessarily limited to these. For example, each embodiment and each modification can be combined as appropriate.
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。 The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same objects and effects). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.
1…光源、2…光ファイバー、3…コネクター、4…偏光板、5…偏光分離器、6…光検出器、7…光検出器、8…信号処理回路、9…表示装置、10…ガスセル、11…有機膜、11a…有機材料、12…セル本体、14…主室、15…連通孔、16…リザーバー、18…投入口、19…封止栓、20…第1容器、22…内部空間、30…第2容器、32…内部空間、34…開口部、50…アルカリ金属ガス、50a…アルカリ金属、100…磁場計測装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light source, 2 ... Optical fiber, 3 ... Connector, 4 ... Polarizing plate, 5 ... Polarization separator, 6 ... Photodetector, 7 ... Photodetector, 8 ... Signal processing circuit, 9 ... Display apparatus, 10 ... Gas cell, DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記第1室に連通孔を介して連通する第2室と、
を備え、
前記第1室には、気体のアルカリ金属が収容され、
前記第1室の内壁には、有機膜が形成され、
前記第2室には、第1容器と、第2容器と、が収容され、
前記第1容器の幅をA、前記第2室の幅方向に配列されている前記第1容器の数をn(nは自然数)、前記第2容器の幅をB、前記第2室の幅方向に配列されている前記第2容器の数をm(mは自然数)、前記第2容器の内部空間の幅方向の大きさをCとした場合に、
前記第2室の幅Wは、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である、ガスセル。 The first room,
A second chamber communicating with the first chamber through a communication hole;
With
The first chamber contains gaseous alkali metal,
An organic film is formed on the inner wall of the first chamber,
The second chamber contains a first container and a second container,
The width of the first container is A, the number of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is n (n is a natural number), the width of the second container is B, and the width of the second chamber. When the number of the second containers arranged in the direction is m (m is a natural number), and the size in the width direction of the internal space of the second container is C,
The width W of the second chamber is a gas cell in a range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2.
前記第2室の幅方向に配列されている前記第1容器の数nは、2以上であり、
前記第2室の幅方向に配列されている前記第2容器の数mは、1である、ガスセル。 In claim 1,
The number n of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is 2 or more,
The gas cell, wherein the number m of the second containers arranged in the width direction of the second chamber is 1.
前記第2容器には、前記第2容器の内部空間と前記第2室とを接続する開口部が形成されている、ガスセル。 In claim 1 or 2,
A gas cell in which an opening for connecting the internal space of the second container and the second chamber is formed in the second container.
前記有機膜は、パラフィンの膜である、ガスセル。 In any one of Claims 1 thru | or 3,
The organic film is a gas cell, which is a paraffin film.
前記第2室に、有機膜の材料が収容された第1容器およびアルカリ金属が収容された第2容器を収容する工程と、
前記構造体を加熱し、気化した前記有機膜の材料を前記第1室に充填して、前記第1室の内壁に有機膜を成膜する工程と、
前記第2容器にレーザー光を照射して前記第2容器を破壊し、気化した前記アルカリ金属を前記第1室に充填する工程と、
を含み、
前記第1容器の幅をA、前記第2室の幅方向に配列される前記第1容器の数をn(nは自然数)、前記第2容器の幅をB、前記第2室の幅方向に配列される前記第2容器の数をm(mは自然数)、前記第2容器の内部空間の幅方向の大きさをCとした場合に、
前記第2室の幅Wは、n×A+m×B≦W≦n×A+m×B+C/2の範囲である、ガスセルの製造方法。 Preparing a structure including a first chamber and a second chamber communicating with the first chamber via a communication hole;
Storing a first container in which the material of the organic film is stored and a second container in which the alkali metal is stored in the second chamber;
Heating the structure, filling the vaporized material of the organic film into the first chamber, and forming an organic film on the inner wall of the first chamber;
Irradiating the second container with laser light to destroy the second container and filling the vaporized alkali metal into the first chamber;
Including
The width of the first container is A, the number of the first containers arranged in the width direction of the second chamber is n (n is a natural number), the width of the second container is B, and the width direction of the second chamber When the number of the second containers arranged in m is m (m is a natural number) and the size in the width direction of the internal space of the second container is C,
The width W of the second chamber is a method for manufacturing a gas cell, which is in a range of n × A + m × B ≦ W ≦ n × A + m × B + C / 2.
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