JP2017124976A - Method for producing 1,2-bis(silyl)ethylene compound - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an efficient method for producing a 1,2-bis(silyl)ethylene compound, which makes it possible to obtain a 1,2-bis(silyl)ethylene compound in an excellent yield by a reaction in a non-closed system.SOLUTION: There is provided a method for producing a 1,2-bis(silyl)ethylene compound represented by the general formula (2) by reacting a vinylsilane compound represented by the general formula (1) in a solvent in the presence of a ruthenium catalyst (in the general formula (1), Rand Reach independently represent a substituted or unsubstituted C1-C20 monovalent hydrocarbon group, and n is an integer of 0, 1 or 2; and in the general formula (2), R, Rand n are the same as in the general formula (1)). The method uses, as the solvent, an organooxysilane compound (excluding the vinylsilane compound of the formula (1)).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法に関し、さらに詳述すると、ビニルシラン化合物を、触媒の存在下、所定の溶媒中で反応させる効率的な1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a 1,2-bissilylethylene compound, and more specifically, an efficient 1,2-bissilylethylene compound in which a vinylsilane compound is reacted in a predetermined solvent in the presence of a catalyst. It relates to a manufacturing method.

1,2−ビスシリルエチレン化合物は、シランカップリング剤や、有機シリカハイブリッド材料の原料等として有用な化合物であり、触媒存在下で、ビニルシラン化合物をメタセシス反応させて得られることが知られている。
具体的には、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンの製法として、グラブス第1世代触媒存在下、シュレンクチューブ中で密閉した状態で、ビニルトリエトキシシランを還流下で反応させて製造する手法が知られている(非特許文献1)。
また、ルテニウム触媒存在下、ベンゼンやトルエンを溶媒として用い、シュレンクフラスコ中で密閉した状態で、トリエトキシシランの不均化反応を行う方法も知られている(特許文献1)。
1,2-bissilylethylene compounds are compounds useful as silane coupling agents, raw materials for organic silica hybrid materials, etc., and are known to be obtained by metathesis reaction of vinylsilane compounds in the presence of a catalyst. .
Specifically, as a process for producing 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene, vinyltriethoxysilane is reacted under reflux in a state of being sealed in a Schlenk tube in the presence of Grubbs first generation catalyst. A technique is known (Non-Patent Document 1).
Also known is a method of performing a disproportionation reaction of triethoxysilane using benzene or toluene as a solvent in the presence of a ruthenium catalyst and sealed in a Schlenk flask (Patent Document 1).

一方、非密閉下で製造する方法として、ベンゼン溶媒中、Ru3(CO)12を触媒とし、トリフェニルシラン存在下でビニルトリエトキシシランを80℃程度に加熱し、反応液を還流させない条件で反応させる手法が知られている(非特許文献2)。
また、イオン液体を溶媒とし、RuH(CO)(PCy32触媒を用い、130℃で、反応液を還流させずに反応させる手法も知られている(非特許文献3,4)。
On the other hand, in a non-sealed production method, Ru 3 (CO) 12 is used as a catalyst in a benzene solvent, vinyltriethoxysilane is heated to about 80 ° C. in the presence of triphenylsilane, and the reaction solution is not refluxed. A method of reacting is known (Non-Patent Document 2).
Also known is a method in which an ionic liquid is used as a solvent and a RuH (CO) (PCy 3 ) 2 catalyst is used and the reaction solution is reacted at 130 ° C. without refluxing (Non-Patent Documents 3 and 4).

しかし、上述した各製法は、ビニルシラン化合物と、触媒および必要に応じて用いられる溶媒とを一括で仕込んで反応させる手法であるため、急激に反応を起こして反応制御が困難になる場合が考えられ、工業的実施は困難である。
なお、特許文献1の手法では、工業的に安全に1,2−ビスシリルエチレン化合物を製造するため、触媒を含有する溶媒中に、ビニルシラン化合物を添加して反応させることも考えられるが、従来用いられているトルエン、キシレン等の有機溶媒を用いる系では、十分な反応性を得ることができない。
However, since each of the above-mentioned production methods is a method in which a vinylsilane compound, a catalyst, and a solvent used as necessary are charged and reacted at the same time, there may be a case where reaction is suddenly caused and reaction control becomes difficult. Industrial implementation is difficult.
In addition, in order to produce a 1,2-bissilylethylene compound industrially safely by the method of patent document 1, although adding a vinylsilane compound and making it react in the solvent containing a catalyst, it is conventional. In a system using an organic solvent such as toluene and xylene, sufficient reactivity cannot be obtained.

また、密閉下で行う特許文献1および非特許文献1の製法では、副生するエチレンを系外に排出できないため、反応器内の圧力が上昇する。したがって、この手法により工業的に生産するためには、耐圧の特殊な圧力容器を使用する必要があり、安全性、製造コスト的に不利となる。
一方、非特許文献2の製法は、非密閉下で行われるが、有害なベンゼンを溶媒として用いる必要があるうえ、反応系を還流条件とすることができないため、トリエトキシビニルシランを用いた場合に副生するエチレンを系外へ除くことが困難となり、収率が向上しないという問題がある。
また、非特許文献3,4の製法も非密閉下で行われるが、溶媒として高価なイオン液体を用いる必要があるため製造コストが高くなるうえ、生成物をイオン液体から分離する方法が記載されていないため、工業的に実施することは困難である。
Further, in the production methods of Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 performed in a sealed state, the by-produced ethylene cannot be discharged out of the system, so the pressure in the reactor rises. Therefore, in order to produce industrially by this method, it is necessary to use a pressure vessel special in pressure resistance, which is disadvantageous in terms of safety and manufacturing cost.
On the other hand, although the production method of Non-Patent Document 2 is performed in a non-sealed state, it is necessary to use harmful benzene as a solvent and the reaction system cannot be brought to reflux conditions, so when triethoxyvinylsilane is used. There is a problem that it is difficult to remove by-produced ethylene out of the system and the yield is not improved.
In addition, although the production methods of Non-Patent Documents 3 and 4 are also performed in a non-sealed state, it is necessary to use an expensive ionic liquid as a solvent, which increases the production cost and describes a method for separating the product from the ionic liquid. Therefore, it is difficult to implement industrially.

ポーランド特許第182268号明細書Polish Patent No. 182268

Vercaemst, Cael et al, Jornal of Materials Chemistry,19(46),8839−8845,2009Vercaemst, Cael et al, Jornal of Materials Chemistry, 19 (46), 8839-8845, 2009 :Seki Yoshio et al, Journal of Organometallic Chemistry,369(1),117−123,1989: Seki Yoshio et al, Journal of Organometallic Chemistry, 369 (1), 117-123, 1989. Rogaiski, Szymon et al, Applied Catalysi, A:General,445−446,2012Rogaiski, Szymon et al, Applied Catalysi, A: General, 445-446, 2012 Rogaiski, Szymon et al, Applied Catalysi, A:General,261−268,2012Rogaiski, Szymon et al, Applied Catalysi, A: General, 261-268, 2012

本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、非密閉系での反応により、良好な収率で1,2−ビスシリルエチレン化合物を得ることができる1,2−ビスシリルエチレン化合物の効率的な製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the efficiency of a 1,2-bissilylethylene compound capable of obtaining a 1,2-bissilylethylene compound in a good yield by a reaction in an unsealed system. An object of the present invention is to provide an efficient manufacturing method.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ルテニウム触媒存在下でビニルシラン化合物を反応させる場合に、オルガノオキシシラン化合物を溶媒として用いることで、ビニルシラン化合物の反応性を低下させることなく、良好な収率で1,2−ビスシリルエチレン化合物が得られることを見出すとともに、ルテニウム触媒とともに、ホスフィン化合物または酸化防止剤を助触媒として用いることで、触媒活性を維持しつつ、反応時間を短縮できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have reduced the reactivity of the vinyl silane compound by using an organooxysilane compound as a solvent when the vinyl silane compound is reacted in the presence of a ruthenium catalyst. In addition, it is found that a 1,2-bissilylethylene compound can be obtained in a good yield, and the reaction time is maintained while maintaining the catalytic activity by using a phosphine compound or an antioxidant as a co-catalyst together with a ruthenium catalyst. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、
1. 下記一般式(1)

Figure 2017124976
(式中、R1およびR2は、互いに独立して、置換または非置換の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表し、nは、0、1または2の整数を表す。)
で表されるビニルシラン化合物を、溶媒中、ルテニウム触媒存在下で反応させる、下記一般式(2)
Figure 2017124976
(式中、R1、R2およびnは、前記と同じ。)
で表される1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法であって、前記溶媒として、オルガノオキシシラン化合物(ただし、式(1)のビニルシラン化合物は除く。)を用いることを特徴とする1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
2. 前記反応を、200℃以下に保って還流下で行う1の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
3. 前記ルテニウム触媒と前記オルガノオキシシラン化合物との混合物中に、前記ビニルシラン化合物を添加しながら反応を行う、または前記ビニルシラン化合物および前記オルガノオキシシラン化合物の混合物を添加しながら反応を行う1または2の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
4. 前記ビニルシラン化合物および前記オルガノオキシシラン化合物として、予め還流脱気したものを用いる3の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
5. 前記ビニルシラン化合物が、トリメトキシビニルシランまたはトリエトキシビニルシランである1〜4のいずれかの1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
6. 前記オルガノオキシシラン化合物が、テトラオルガノオキシシラン、トリオルガノオキシシラン、ジオルガノオキシシラン、モノオルガノオキシシラン、およびビス(オルガノオキシシリル)アルカンから選ばれる少なくとも1種である1〜5のいずれかの1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法、
7. 助触媒として、ホスフィン化合物または酸化防止剤を添加する1〜6のいずれかの1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法
を提供する。 That is, the present invention
1. The following general formula (1)
Figure 2017124976
(In the formula, R 1 and R 2 independently represent a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 0, 1 or 2.)
The following general formula (2) is reacted in the presence of a ruthenium catalyst in a solvent.
Figure 2017124976
(Wherein R 1 , R 2 and n are the same as described above.)
A process for producing a 1,2-bissilylethylene compound represented by the formula 1, wherein an organooxysilane compound (excluding the vinylsilane compound of formula (1)) is used as the solvent: A method for producing a 2-bissilylethylene compound,
2. 1. The method for producing 1,2-bissilylethylene compound according to 1, wherein the reaction is carried out under reflux while maintaining at 200 ° C. or lower,
3. The reaction is carried out while adding the vinylsilane compound to the mixture of the ruthenium catalyst and the organooxysilane compound, or the reaction is carried out while adding the mixture of the vinylsilane compound and the organooxysilane compound. , 2-bissilylethylene compound production method,
4). The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to 3, wherein the vinylsilane compound and the organooxysilane compound are preliminarily refluxed and degassed,
5. The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to any one of 1 to 4, wherein the vinylsilane compound is trimethoxyvinylsilane or triethoxyvinylsilane,
6). Any one of 1-5, wherein the organooxysilane compound is at least one selected from tetraorganooxysilane, triorganooxysilane, diorganooxysilane, monoorganooxysilane, and bis (organooxysilyl) alkane. A method for producing a 1,2-bissilylethylene compound,
7). Provided is a method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to any one of 1 to 6, wherein a phosphine compound or an antioxidant is added as a co-catalyst.

本発明の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法によれば、特殊かつ高価な高耐圧の製造装置を用いることなく、非密閉下で、工業的かつ安全に1,2−ビスシリルエチレン化合物を製造することができる。   According to the method for producing a 1,2-bissilylethylene compound of the present invention, a 1,2-bissilylethylene compound can be industrially and safely used in an unsealed manner without using a special and expensive high pressure resistant production apparatus. Can be manufactured.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明に係る1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法は、一般式(1)で表されるビニルシラン化合物を、溶媒中、ルテニウム触媒存在下で反応させて、一般式(2)
で表される1,2−ビスシリルエチレン化合物を製造する際に、溶媒として、オルガノオキシシラン化合物を用いることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
In the process for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to the present invention, a vinylsilane compound represented by the general formula (1) is reacted in a solvent in the presence of a ruthenium catalyst, and the general formula (2)
In the production of a 1,2-bissilylethylene compound represented by the formula, an organooxysilane compound is used as a solvent.

Figure 2017124976
Figure 2017124976

ここで、R1およびR2は、互いに独立して、置換または非置換の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表すが、置換または非置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基が好ましく、非置換の炭素数1〜10の1価炭化水素基がより好ましい。また、nは、0、1または2の整数を表す。
1価炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、その具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−へプチル、n−オクチル、n−デシル、n−オクタデシル基等の直鎖状アルキル基;イソプロピル、イソブチル、t−ブチル、2−エチルヘキシル基等の分岐鎖状アルキル基;シクロペンチル、シクロヘキシル基等の環状アルキル基;ビニル、プロペニル基等のアルケニル基;フェニル、トリル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基などが挙げられる。特に、原料の入手性の点で、R1はメチル基、R2はメチル基またはエチル基が好ましい。
なお、上記各1価炭化水素基は、その中の少なくとも1つの水素原子が、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子)、シアノ基、ニトロ基、アミノ基等で置換されていてもよい。
Here, R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, but is substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms. Group is preferable, and an unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable. N represents an integer of 0, 1 or 2.
The monovalent hydrocarbon group is not particularly limited, but specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n- Linear alkyl groups such as octyl, n-decyl and n-octadecyl groups; branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, t-butyl and 2-ethylhexyl groups; cyclic alkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl groups; vinyl, Examples thereof include alkenyl groups such as propenyl group; aryl groups such as phenyl and tolyl groups; aralkyl groups such as benzyl group and the like. In particular, from the viewpoint of availability of raw materials, R 1 is preferably a methyl group and R 2 is preferably a methyl group or an ethyl group.
Each monovalent hydrocarbon group may have at least one hydrogen atom substituted with a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine atom), a cyano group, a nitro group, an amino group, or the like. .

上記一般式(1)で表されるビニルシラン化合物の具体例としては、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、トリ−n−プロポキシビニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、トリ−n−ブトキシビニルシラン、トリフェノキシビニルシラン等のトリオルガノオキシシラン;メチルジメトキシビニルシラン、メチルジエトキシビニルシラン、エチルジメトキシビニルシラン、エチルジエトキシビニルシラン、メチルジフェノキシビニルシラン、エチルジフェノキシビニルシラン等のジオルガノオキシシラン;ジメチルメトキシビニルシラン、ジメチルエトキシビニルシラン、ジエチルメトキシビニルシラン、ジエチルエトキシビニルシラン、ジメチルフェノキシビニルシラン、ジエチルフェノキシビニルシラン等のモノオルガノオキシシランなどが挙げられるが、本発明においては、特に、トリメトキシビニルシランまたはトリエトキシビニルシランが好適である。   Specific examples of the vinylsilane compound represented by the general formula (1) include trimethoxyvinylsilane, triethoxyvinylsilane, tri-n-propoxyvinylsilane, triisopropoxyvinylsilane, tri-n-butoxyvinylsilane, and triphenoxyvinylsilane. Triorganooxysilane; methyldimethoxyvinylsilane, methyldiethoxyvinylsilane, ethyldimethoxyvinylsilane, ethyldiethoxyvinylsilane, methyldiphenoxyvinylsilane, ethyldiphenoxyvinylsilane, and the like; dimethylmethoxyvinylsilane, dimethylethoxyvinylsilane, diethylmethoxyvinylsilane , Diethylethoxyvinylsilane, dimethylphenoxyvinylsilane, diethylphenoxyvinylsilane, etc. Although such organooxysilane are mentioned, in the present invention, in particular, trimethoxyvinylsilane or triethoxy vinyl silane is preferred.

また、上記一般式(1)で表されるビニルシラン化合物が反応して得られる一般式(2)で表される1,2−ビスシリルエチレン化合物の具体例としては、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(トリ−n−プロピルシリル)エチレン、1,2−ビス(トリイソプロピルシリル)エチレン、1,2−ビス(トリ−n−ブトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(トリフェノキシシリル)エチレン、1,2−ビス(メチルジメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(メチルジエトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(エチルジメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(メチルジフェノキシシリル)エチレン、1,2−ビス(エチルジフェノキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジメチルメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジメチルエトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジエチルメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジエチルエトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジメチルフェノキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジエチルフェノキシシリル)エチレン等が挙げられる。   Specific examples of the 1,2-bissilylethylene compound represented by the general formula (2) obtained by the reaction of the vinylsilane compound represented by the general formula (1) include 1,2-bis (tri Methoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (tri-n-propylsilyl) ethylene, 1,2-bis (triisopropylsilyl) ethylene, 1,2-bis ( Tri-n-butoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (triphenoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (methyldimethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (methyldiethoxysilyl) ethylene, 1,2- Bis (ethyldimethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (methyldiphenoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (ethyldiphenoxysilyl) ethylene, , 2-bis (dimethylmethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (dimethylethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (diethylmethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (diethylethoxysilyl) ethylene, 1,2 -Bis (dimethylphenoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (diethylphenoxysilyl) ethylene and the like.

本発明の溶媒として用いられるオルガノオキシシラン化合物としては、オルガノオキシ基を含有するシラン化合物であれば特に限定されるものではない(ただし、式(1)のビニルシラン化合物は除く。)が、触媒の活性を低下させる硫黄原子や窒素原子を含有しない化合物が好ましい。
その具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン;テトラフェノキシシラン等のテトラアリールオキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−n−プロポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリ−n−ブトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ペンチルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−ウンデシルトリメトキシシラン、n−ウンデシルトリエトキシシラン、n−ドデシルトリメトキシラン、n−ドデシルトリエトキシシラン、n−テトラデシルトリメトキシシラン、n−テトラデシルトリエトキシシラン、n−ヘキサデシルトリメトキシシラン、n−ヘキサデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン;メチルトリフェノキシシラン、エチルトリフェノキシシラン等のトリアリールオキシシラン;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジエトキシシラン、ジ−n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−n−ヘキシルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン、ジメチルジフェノキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン等のジアリールオキシシラン;トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル−n−プロポキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、トリメチル−n−ブトキシシラン、トリメチルフェノキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチル−n−プロポキシシラン、トリエチルイソプロポキシシラン、トリエチル−n−ブトキシシラン、トリ−n−プロピルメトキシシラン、トリ−n−プロピルエトキシシラン、トリイソプロピルメトキシシラン、トリイソプロピルエトキシシラン、エチルジメチルメトキシシラン、エチルジメチルエトキシシラン、n−プロピルジメチルメトキシシラン、n−プロピルジメチルエトキシシラン、イソプロピルジメチルメトキシシラン、イソプロピルジメチルエトキシシラン、n−ブチルジメチルメトキシシラン、n−ブチルジメチルエトキシシラン、イソブチルジメチルメトキシシラン、イソブチルジメチルエトキシシラン、s−ブチルジメチルメトキシシラン、s−ブチルジメチルエトキシシラン、t−ブチルジメチルメトキシシラン、t−ブチルジメチルエトキシシラン、n−ペンチルジメチルメトキシシラン、n−ペンチルジメチルエトキシシラン、n−ヘキシルジメチルメトキシシラン、n−ヘキシルジメチルエトキシシラン、n−ヘプチルジメチルメトキシシラン、n−ヘプチルジメチルエトキシシラン、n−オクチルジメチルメトキシシラン、n−オクチルジメチルエトキシシラン、n−デシルジメチルメトキシシラン、n−デシルジメチルエトキシシラン、n−ウンデシルジメチルメトキシシラン、n−ウンデシルジメチルエトキシシラン、n−ドデシルジメチルメトキシシラン、n−ドデシルジメチルエトキシシラン、n−テトラデシルジメチルメトキシシラン、n−テトラデシルジメチルエトキシシラン、n−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、n−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、n−オクタデシルジメチルメトキシシラン、n−オクタデシルジメチルエトキシシラン等のモノアルコキシシラン;トリメチルフェノキシシラン、トリエチルフェノキシシラン等のモノアリールオキシシラン;1,2−ビス(トリメトキシシリル)エタン、1,1−ビス(トリメトキシシリル)エタン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,1−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,3−ビス(トリメトキシシリル)プロパン、1,3−ビス(トリエトキシシリル)プロパン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ブタン、1,4−ビス(トリエトキシシリル)ブタン、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレン、1,1−ビス(トリメトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン、1,1−ビス(トリエトキシシリル)エチレン、1,2−ビス(ジメトキシメチルシリル)エタン、1,2−ビス(ジエトキシメチルルシリル)エタン、1,2−ビス(ジメトキシメチルシリル)エチレン、1,2−ビス(ジエトキシメチルシリル)エチレン、1,2−ビス(メトキシジメチルシリル)エタン、1,2−ビス(エトキシジメチルシリル)エタン、1,2−ビス(メトキシジメチルシリル)エチレン、1,2−ビス(エトキシジメチルシリル)エチレン等のビス(アルコキシシリル)アルカン等が挙げられる。
The organooxysilane compound used as the solvent of the present invention is not particularly limited as long as it is a silane compound containing an organooxy group (however, the vinylsilane compound of the formula (1) is excluded). Compounds that do not contain sulfur or nitrogen atoms that reduce activity are preferred.
Specific examples thereof include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane and tetraisobutoxysilane; tetraaryloxysilanes such as tetraphenoxysilane; Methoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltri-n-propoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltri-n-propoxysilane, ethyltriisopropoxysilane , Ethyltri-n-butoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, n-butyl Limethoxysilane, n-butyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, t-butyltrimethoxysilane, t-butyltriethoxysilane, n-pentyltrimethoxysilane, n-pentyltriethoxysilane, n -Hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-undecyltrimethoxysilane, n -Undecyltriethoxysilane, n-dodecyltrimethoxysilane, n-dodecyltriethoxysilane, n-tetradecyltrimethoxysilane, n-tetradecyltriethoxysilane, n-hexadecyltrimethoxysilane, n-he Trialkoxysilanes such as sadecyltriethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane; triaryloxysilanes such as methyltriphenoxysilane, ethyltriphenoxysilane; dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Dimethyldi-n-propoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, dimethyldi-n-butoxysilane, dimethyldiphenoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldiethoxysilane , Diisopropyldimethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane, di-n-butyldimethoxysilane, di-n-butyldiethoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, di- Dialkoxysilanes such as isobutyldiethoxysilane, di-n-pentyldimethoxysilane, di-n-pentyldiethoxysilane, di-n-hexyldimethoxysilane, di-n-hexyldiethoxysilane, dimethyldiphenoxysilane, diethyl Diaryloxysilanes such as diphenoxysilane; trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethyl-n-propoxysilane, trimethylisopropoxysilane, trimethyl-n-butoxysilane, trimethylphenoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, triethyl- n-propoxysilane, triethylisopropoxysilane, triethyl-n-butoxysilane, tri-n-propylmethoxysilane, tri-n-propylethoxysilane, tri Isopropylmethoxysilane, triisopropylethoxysilane, ethyldimethylmethoxysilane, ethyldimethylethoxysilane, n-propyldimethylmethoxysilane, n-propyldimethylethoxysilane, isopropyldimethylmethoxysilane, isopropyldimethylethoxysilane, n-butyldimethylmethoxysilane, n-butyldimethylethoxysilane, isobutyldimethylmethoxysilane, isobutyldimethylethoxysilane, s-butyldimethylmethoxysilane, s-butyldimethylethoxysilane, t-butyldimethylmethoxysilane, t-butyldimethylethoxysilane, n-pentyldimethylmethoxy Silane, n-pentyldimethylethoxysilane, n-hexyldimethylmethoxysilane, n-hexyldimethyl Toxisilane, n-heptyldimethylmethoxysilane, n-heptyldimethylethoxysilane, n-octyldimethylmethoxysilane, n-octyldimethylethoxysilane, n-decyldimethylmethoxysilane, n-decyldimethylethoxysilane, n-undecyldimethylmethoxy Silane, n-undecyldimethylethoxysilane, n-dodecyldimethylmethoxysilane, n-dodecyldimethylethoxysilane, n-tetradecyldimethylmethoxysilane, n-tetradecyldimethylethoxysilane, n-hexadecyldimethylmethoxysilane, n- Monoalkoxysilanes such as hexadecyldimethylethoxysilane, n-octadecyldimethylmethoxysilane, n-octadecyldimethylethoxysilane; trimethylphenoxysilane; Monoaryloxysilanes such as triethylphenoxysilane; 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethane, 1,1-bis (trimethoxysilyl) ethane, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,1- Bis (triethoxysilyl) ethane, 1,3-bis (trimethoxysilyl) propane, 1,3-bis (triethoxysilyl) propane, 1,4-bis (trimethoxysilyl) butane, 1,4-bis ( Triethoxysilyl) butane, 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethylene, 1,1-bis (trimethoxysilyl) ethylene, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene, 1,1-bis (triethoxy Silyl) ethylene, 1,2-bis (dimethoxymethylsilyl) ethane, 1,2-bis (diethoxymethyllsilyl) ethane, , 2-bis (dimethoxymethylsilyl) ethylene, 1,2-bis (diethoxymethylsilyl) ethylene, 1,2-bis (methoxydimethylsilyl) ethane, 1,2-bis (ethoxydimethylsilyl) ethane, 1, Examples thereof include bis (alkoxysilyl) alkanes such as 2-bis (methoxydimethylsilyl) ethylene and 1,2-bis (ethoxydimethylsilyl) ethylene.

これらのオルガノオキシシラン化合物は、単独で用いても、2種類以上組み合わせて用いてもよい。2種類以上のオルガノオキシシランを用いる場合の混合比率は任意であり、混合液の沸点を考慮して混合比を決定すればよい。
また、オルガノオキシシラン化合物(の混合物)は、反応で生成する1,2−ビスシリルエチレン化合物と蒸留分離可能な沸点差があることが好ましく、このような観点から、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)エチレン、およびこれらの混合物が好適である。
なお、本発明の製造方法では、反応効率を妨げない範囲で、上記オルガノオキシシラン化合物に加え、従来この種の反応に用いられる各種溶媒を添加することもできるが、その場合でもオルガノオキシシラン化合物を70質量%以上の割合で用いることが好ましく、80質量%以上の割合で用いることがより好ましく、90質量%以上の割合で用いることがより一層好ましく、単独溶媒で反応を行うことがさらに好ましい。
These organooxysilane compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more types of organooxysilane are used, the mixing ratio is arbitrary, and the mixing ratio may be determined in consideration of the boiling point of the mixed solution.
Further, the organooxysilane compound (mixture thereof) preferably has a boiling point difference capable of being separated by distillation from the 1,2-bissilylethylene compound produced by the reaction. From such a viewpoint, tetramethoxysilane, methyltrimethoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethylene, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, bis (triethoxysilyl) ethylene, and mixtures thereof are preferred.
In addition, in the production method of the present invention, various solvents conventionally used in this type of reaction can be added in addition to the above-mentioned organooxysilane compound as long as the reaction efficiency is not hindered. Is preferably used in a proportion of 70% by mass or more, more preferably in a proportion of 80% by mass or more, still more preferably in a proportion of 90% by mass or more, and further preferably a reaction with a single solvent. .

本発明で用いるオルガノオキシシラン化合物の使用量は特に制限されないが、反応器内で溶媒として用いられることから、少なくとも反応器に設置される撹拌機や温度計等の機器類が使用可能となる最低限の量で用いることが好ましい。特に、ビニルシラン化合物のみを添加して還流下で反応を行う場合には、生成するビスシリルエチレン化合物の沸点によっては、内温が上昇していく場合があるため、生成するビスシリルエチレン化合物に対する溶媒量を調節して、反応温度を後述する温度範囲に保てる溶媒量とすることが好ましい。   The amount of the organooxysilane compound used in the present invention is not particularly limited, but since it is used as a solvent in the reactor, at least the equipment such as a stirrer and thermometer installed in the reactor can be used. It is preferable to use a limited amount. In particular, when the reaction is carried out under reflux with only the vinylsilane compound added, the internal temperature may increase depending on the boiling point of the bissilylethylene compound to be produced. It is preferable to adjust the amount so that the reaction temperature can be kept within the temperature range described below.

ルテニウム触媒としては、従来この種の反応に用いられている触媒から適宜選択して用いることができるが、特に、ルテニウム錯体触媒が好ましく、ルテニウムカルベン錯体触媒がより好ましい。
ルテニウム触媒の具体例としては、(3−フェニル−1H−インデン−1−イリデン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリフェニルホスフィン)−3,3−ジフェニルプロペニリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)t−ブチルビニリデンルテニウムジクロリド、ビス(1,3−ジイソプロピルイミダゾリン−2−イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリン−2−イリデン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、(1,3−ジメシチルイミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)エトキシメチリデンルテニウムジクロリド等が挙げられる。
これらの触媒の中でも、(3−フェニル−1H−インデン−1−イリデン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリドが、反応の選択性が良好なことから好ましく、特に反応の選択性、反応性および触媒の入手性などの点から、(3−フェニル−1H−インデン−1−イリデン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリドがより好ましい。
The ruthenium catalyst can be appropriately selected from the catalysts conventionally used for this type of reaction, but is particularly preferably a ruthenium complex catalyst, more preferably a ruthenium carbene complex catalyst.
Specific examples of the ruthenium catalyst include (3-phenyl-1H-indene-1-ylidene) bis (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, bis (tricyclohexylphosphine) benzylideneruthenium dichloride, bis (triphenylphosphine) -3,3. -Diphenylpropenylidene ruthenium dichloride, bis (tricyclohexylphosphine) t-butylvinylidene ruthenium dichloride, bis (1,3-diisopropylimidazoline-2-ylidene) benzylidene ruthenium dichloride, bis (1,3-dicyclohexylimidazolin-2-ylidene ) Benzylidene ruthenium dichloride, (1,3-dimesityrylimidazoline-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) benzylidene ruthenium dichloride, 1,3-dimesitylimidazolidine-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) benzylideneruthenium dichloride, bis (tricyclohexylphosphine) ethoxymethylideneruthenium dichloride, (1,3-dimesitylimidazolidine-2-ylidene) (Tricyclohexylphosphine) ethoxymethylidene ruthenium dichloride and the like.
Among these catalysts, (3-phenyl-1H-indene-1-ylidene) bis (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride and bis (tricyclohexylphosphine) benzylideneruthenium dichloride are preferable because of good reaction selectivity. In particular, (3-phenyl-1H-indene-1-ylidene) bis (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride is more preferable from the viewpoint of reaction selectivity, reactivity, availability of catalyst, and the like.

本発明の製造方法において、ルテニウム触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、反応速度を適度に保って効率的な反応を行うことを考慮すると、ビニルシラン化合物1molに対して、0.0001mmol〜0.1mol、好ましくは0.001mmol〜0.01molが好ましい。   In the production method of the present invention, the amount of the ruthenium catalyst used is not particularly limited, but considering that an efficient reaction is carried out while maintaining a moderate reaction rate, the amount of the ruthenium catalyst is 0.1% relative to 1 mol of the vinylsilane compound. 0001 mmol to 0.1 mol, preferably 0.001 mmol to 0.01 mol is preferred.

本発明の製造方法では、ルテニウム触媒の活性を向上させたり、その失活を抑えたりして反応時間の短縮を図る目的で、助触媒としてホスフィン化合物または酸化防止剤を添加してもよい。
ホスフィン化合物の具体例としては、トリフェニルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン、フェニルジシクロヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−t−ブチルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン等が挙げられ、特に、トリシクロヘキシルホスフィンが好ましい。
酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)等のフェノール系化合物;L−アスコルビン酸、α−トコフェロールなどが挙げられ、特に、L−アスコルビン酸が好ましい。
これら助触媒の添加量は、所期の効果が発揮される量であれば特に限定されるものではないが、ルテニウム触媒1molに対して0.1〜10molが好ましく、0.5〜4molがより好ましい。
In the production method of the present invention, a phosphine compound or an antioxidant may be added as a co-catalyst for the purpose of reducing the reaction time by improving the activity of the ruthenium catalyst or suppressing its deactivation.
Specific examples of the phosphine compound include triphenylphosphine, diphenylcyclohexylphosphine, phenyldicyclohexylphosphine, tricyclohexylphosphine, tricyclopentylphosphine, tri-n-butylphosphine, tri-t-butylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri -M-tolylphosphine, tri-p-tolylphosphine and the like can be mentioned, and tricyclohexylphosphine is particularly preferable.
Antioxidants include phenol compounds such as 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol); L-ascorbic acid, Examples include α-tocopherol, and L-ascorbic acid is particularly preferable.
The amount of these cocatalysts added is not particularly limited as long as the desired effect is exhibited, but is preferably 0.1 to 10 mol, more preferably 0.5 to 4 mol, relative to 1 mol of the ruthenium catalyst. preferable.

本発明のビスシリルエチレン化合物の製造方法は、原料であるビニルシラン化合物、溶媒であるオルガノオキシラン化合物、ルテニウム触媒、および必要に応じて用いられる助触媒を任意の順序で混合して行うことができるが、特に、ルテニウム触媒と溶媒であるオルガノオキシシラン化合物との混合物中に、ビニルシラン化合物を添加して反応を行うことが好ましい。
この際、ビニルシラン化合物は、それ単独で添加してもよく、また、反応温度を一定の範囲内に保つために、ビニルシラン化合物と溶媒であるオルガノオキシシラン化合物との混合物で添加してもよい。
さらに、添加されるビニルシラン化合物およびこれとともに用いられるオルガノオキシシラン化合物は、反応前に予め還流脱気しておくことが好ましい。この還流脱気により、触媒の活性低下を防ぐことができ、使用する触媒量を低減したり、反応時間を短縮したりすることができる。
The method for producing a bissilylethylene compound of the present invention can be carried out by mixing a raw material vinylsilane compound, a solvent organooxirane compound, a ruthenium catalyst, and a co-catalyst used as necessary in any order. In particular, it is preferable to carry out the reaction by adding a vinylsilane compound to a mixture of a ruthenium catalyst and an organooxysilane compound as a solvent.
At this time, the vinylsilane compound may be added alone, or in order to keep the reaction temperature within a certain range, it may be added as a mixture of the vinylsilane compound and the organooxysilane compound as a solvent.
Furthermore, it is preferable that the vinylsilane compound to be added and the organooxysilane compound used therewith are refluxed and deaerated in advance before the reaction. This reflux deaeration can prevent a decrease in the activity of the catalyst, reduce the amount of catalyst used, and shorten the reaction time.

また、本発明の製造方法は、副生するエチレンを系外に除去するために、還流下で行うことが好ましい。
還流時の反応温度は、原料であるビニルシラン化合物の種類により変動するが、反応温度が200℃を超えると、触媒の活性が低下する場合があるので、200℃以下に保って還流させることが好ましく、特に、140〜180℃に保って還流させることが好ましい。
なお、上述したように、ビニルシラン化合物とともに溶媒であるオルガノオキシシラン化合物を添加して、反応温度が一定の範囲となるようにしてもよく、このようにすることで、反応温度の上昇による触媒の活性低下を効率的に防いだり、還流を保つために加熱を調整する作業を軽減したりすることができる。
The production method of the present invention is preferably carried out under reflux in order to remove by-produced ethylene out of the system.
The reaction temperature at the time of reflux varies depending on the kind of the vinylsilane compound as a raw material. However, if the reaction temperature exceeds 200 ° C, the activity of the catalyst may be lowered. In particular, it is preferable to reflux at 140 to 180 ° C.
As described above, an organooxysilane compound that is a solvent may be added together with the vinylsilane compound so that the reaction temperature falls within a certain range. The activity can be effectively prevented from decreasing, and the work of adjusting the heating to maintain the reflux can be reduced.

一例を挙げると、ビニルトリエトキシシランの反応では、反応温度を150〜180℃に保って還流下で反応させることが好ましいが、この反応温度を保つ方法としては、テトラエトキシシランを溶媒として用いて、反応終了時の温度が180℃となる量のビニルトリエトキシシランを添加する方法が挙げられる。
さらに、上記反応温度を150〜165℃に保つ方法として、メチルトリエトキシシランとビス(トリエトキシシリル)エチレンとの混合液またはメチルトリエトキシシランとテトラエトキシシランとの混合液を溶媒として用い、ビニルトリエトキシシランとメチルトリエトキシシランとを添加して反応する方法や、メチルトリメトキシシランとビス(トリメトキシシリル)エチレンとの混合液を溶媒として用い、ビニルトリメトキシシランとメチルトリメトキシシランとを添加して反応する方法などが挙げられる。
For example, in the reaction of vinyltriethoxysilane, the reaction temperature is preferably maintained at 150 to 180 ° C., and the reaction is performed under reflux. As a method of maintaining this reaction temperature, tetraethoxysilane is used as a solvent. And a method of adding vinyltriethoxysilane in such an amount that the temperature at the end of the reaction is 180 ° C.
Further, as a method of maintaining the reaction temperature at 150 to 165 ° C., a mixed liquid of methyltriethoxysilane and bis (triethoxysilyl) ethylene or a mixed liquid of methyltriethoxysilane and tetraethoxysilane is used as a solvent. A method in which triethoxysilane and methyltriethoxysilane are added and reacted, or a mixed liquid of methyltrimethoxysilane and bis (trimethoxysilyl) ethylene is used as a solvent, and vinyltrimethoxysilane and methyltrimethoxysilane are mixed. The method of adding and reacting is mentioned.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
なお、以下の反応率は、ガスクロマトグラフィー(GC−2014、(株)島津製作所製)を用いて測定した値である。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example.
In addition, the following reaction rates are the values measured using gas chromatography (GC-2014, Shimadzu Corporation Corp.).

[実施例1]
1Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、(3−フェニル−1H−インデン−1−イリデン)ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド(ユミコア社製、以下、「UmicoreM1触媒」という。)1.84g(2mmol)およびテトラエトキシシラン528.9gを仕込み、162〜178℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン380.6g(2.0mol)を15時間かけて滴下し(途中でUmicoreM1触媒0.92g(1mmol)を追加した)、さらに、8時間、還流下で熟成した。
ビニルトリエトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン305.9g(0.868mol)を得た(収率:86.8%)。
[Example 1]
A 1 L four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Among them, 1.84 g (2 mmol) of (3-phenyl-1H-indene-1-ylidene) bis (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride (manufactured by Umicore, hereinafter referred to as “Umicore M1 catalyst”) and tetraethoxysilane 528 .9 g was charged and 380.6 g (2.0 mol) of vinyltriethoxysilane was added dropwise over 15 hours at a reaction temperature of 162 to 178 ° C. and refluxing (0.92 g (1 mmol) of Umicore M1 catalyst was added on the way). ), And further aged for 8 hours under reflux.
The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 95% or more, and the resulting reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 305.9 g (0.868 mol) of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene (yield: (86.8%).

[実施例2]
2Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒1.11g(1.2mmol)とトリシクロヘキシルホスフィン63.7mg(2.4mmol)、およびメチルトリエトキシシラン242.4gと1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン202.0gを仕込み、155〜160℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン570.9g(3.0mol)とメチルトリエトキシシラン634.8gとの混合液を14時間かけて滴下し(途中で、UmicoreM1触媒0.56g(0.6mmol)を追加した)、さらに、8時間熟成した。
ビニルトリエトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン664.4gを得た。溶媒として用いた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンを考慮すると、反応で得られた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンは462.4g(1.31mol)であった(収率:87.4%)。
[Example 2]
A 2 L four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Among them, 1.11 g (1.2 mmol) of Umicore M1 catalyst and 63.7 mg (2.4 mmol) of tricyclohexylphosphine, and 242.4 g of methyltriethoxysilane and 202.0 g of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene. And a mixture of 570.9 g (3.0 mol) of vinyltriethoxysilane and 634.8 g of methyltriethoxysilane was added dropwise over 14 hours at a reaction temperature of 155 to 160 ° C. and under reflux (on the way, Umicore M1 catalyst 0.56 g (0.6 mmol) was added), and further aged for 8 hours.
The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 95% or more, and the obtained reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 664.4 g of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene. In consideration of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene used as a solvent, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene obtained by the reaction was 462.4 g (1.31 mol) (yield) : 87.4%).

[実施例3]
2Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒1.11g(1.2mmol)とトリシクロヘキシルホスフィン63.7mg(2.4mmol)、およびメチルトリエトキシシラン141.5gとテトラエトキシシラン297.8gを仕込み、155〜160℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン570.9g(3.0mol)とメチルトリエトキシシラン634.8gの混合液を18時間かけて滴下し(途中で、UmicoreM1触媒0.56g(0.6mmol)を追加した)、さらに、12時間熟成した。
ビニルトリエトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン457.7g(1.30mol)を得た(収率:86.5%)。
[Example 3]
A 2 L four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. It was charged with 1.11 g (1.2 mmol) of Umicore M1 catalyst and 63.7 mg (2.4 mmol) of tricyclohexylphosphine, 141.5 g of methyltriethoxysilane and 297.8 g of tetraethoxysilane, Under a reaction temperature and under reflux, a mixed liquid of 570.9 g (3.0 mol) of vinyltriethoxysilane and 634.8 g of methyltriethoxysilane was dropped over 18 hours (on the way, 0.56 g (0.6 mmol of Umicore M1 catalyst) ) Was added) and further aged for 12 hours.
The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 95% or more, and the resulting reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 457.7 g (1.30 mol) of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene (yield: 86.5%).

[実施例4]
2Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒692.3mg(0.75mmol)とL−アスコルビン酸264.2mg(1.5mmol)、およびメチルトリエトキシシラン242.4gと1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン202.0gを仕込み、155〜160℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン570.9g(3.0mol)とメチルトリエトキシシラン634.8gとの混合液を16時間かけて滴下し、さらに12時間熟成した。
ビニルトリエトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン664.4gを得た。溶媒として用いた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンを考慮すると、反応で得られた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンは460.1g(1.30mol)であった(収率:87.0%)。
[Example 4]
A 2 L four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Among them, 692.3 mg (0.75 mmol) of Umicore M1 catalyst and 264.2 mg (1.5 mmol) of L-ascorbic acid, and 242.4 g of methyltriethoxysilane and 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene 202. 0 g was charged, and a mixture of 570.9 g (3.0 mol) of vinyltriethoxysilane and 634.8 g of methyltriethoxysilane was added dropwise over a period of 16 hours at a reaction temperature of 155 to 160 ° C. and refluxing. Aged for hours.
The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 95% or more, and the obtained reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 664.4 g of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene. Considering 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene used as a solvent, the amount of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene obtained by the reaction was 460.1 g (1.30 mol) (yield) : 87.0%).

[実施例5]
2Lの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒692.3mg(0.75mmol)とL−アスコルビン酸264.2mg(1.5mmol)、およびメチルトリエトキシシラン242.4gと1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン202.0gを仕込み、155〜160℃の反応温度かつ還流下で、滴下前に1時間還流して脱気を行ったビニルトリエトキシシラン570.9g(3.0mol)とメチルトリエトキシシラン634.8gとの混合液を14時間かけて滴下し、さらに10時間熟成した。
ビニルトリエトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン667.4gを得た。溶媒として用いた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンを考慮すると、反応で得られた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンは465.4g(1.30mol)であった(収率:88.0%)。
[Example 5]
A 2 L four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Among them, 692.3 mg (0.75 mmol) of Umicore M1 catalyst and 264.2 mg (1.5 mmol) of L-ascorbic acid, and 242.4 g of methyltriethoxysilane and 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene 202. 00.9 g, 570.9 g (3.0 mol) of vinyltriethoxysilane and 634.8 g of methyltriethoxysilane which were degassed by refluxing for 1 hour before dropping at a reaction temperature of 155 to 160 ° C. and under reflux. Was added dropwise over 14 hours and aged for another 10 hours.
The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 95% or more, and the obtained reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 667.4 g of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene. In consideration of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene used as a solvent, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene obtained by the reaction was 465.4 g (1.30 mol) (yield) : 88.0%).

[実施例6]
500mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒166.2mg(0.18mmol)、メチルトリエトキシシラン50.5gおよび1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレン60.6gを仕込み、156〜160℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン34.5g(0.18mol)とメチルトリエトキシシラン38.4gとの混合液を2.5時間かけて滴下した。ビニルトリエトキシシランの反応率は94%であった。
[Example 6]
A 500 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. It was charged with 166.2 mg (0.18 mmol) of Umicore M1 catalyst, 50.5 g of methyltriethoxysilane and 60.6 g of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene, at a reaction temperature of 156 to 160 ° C. under reflux. Then, a mixed solution of 34.5 g (0.18 mol) of vinyltriethoxysilane and 38.4 g of methyltriethoxysilane was added dropwise over 2.5 hours. The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 94%.

[比較例1]
200mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒332.4mg(0.36mmol)、o−キシレン34.3gを仕込み、144〜160℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリエトキシシラン68.5g(0.36mol)を8時間かけて滴下した。ビニルトリエトキシシランの反応率は10%であった。
[Comparative Example 1]
A 200 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Into this, 332.4 mg (0.36 mmol) of Umicore M1 catalyst and 34.3 g of o-xylene were charged, and 68.5 g (0.36 mol) of vinyltriethoxysilane was added at a reaction temperature of 144 to 160 ° C. under reflux. It was added dropwise over time. The reaction rate of vinyltriethoxysilane was 10%.

[実施例7]
500mlの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒0.46g(0.5mmol)およびオクチルトリメトキシシラン100gを仕込み、138〜220℃の反応温度かつ還流下で、ビニルジメチルメトキシシラン116.2g(1.0mol)を5時間かけて滴下し、さらに5時間熟成した。
ビニルジメチルメトキシシランの反応率は96%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(ジメチルメトキシシリル)エチレン84.8g(0.83mol)を得た(収率:83.0%)。
[Example 7]
A 500 ml four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. Into this, 0.46 g (0.5 mmol) of Umicore M1 catalyst and 100 g of octyltrimethoxysilane were charged, and 116.2 g (1.0 mol) of vinyldimethylmethoxysilane was added for 5 hours at a reaction temperature of 138 to 220 ° C. under reflux. Over the course of 5 hours.
The reaction rate of vinyldimethylmethoxysilane was 96% or more, and the obtained reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 84.8 g (0.83 mol) of 1,2-bis (dimethylmethoxysilyl) ethylene (yield: 83.0%).

[実施例8]
500mLの4つ口ガラスフラスコに、還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。その中に、UmicoreM1触媒923.1mg(1mmol)、メチルトリメトキシシラン13.8g、および1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレン110.6gを仕込み、170〜180℃の反応温度かつ還流下で、ビニルトリメトキシシラン296.4g(2.0mol)とメチルトリメトキシシラン70.4gの混合液を36時間かけて滴下し、さらに10時間熟成した。
ビニルトリメトキシシランの反応率は95%以上であり、得られた反応液を減圧蒸留し、1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレン330.7gを得た。溶媒として用いた1,2−ビス(トリメトキシシリル)エチレンを考慮すると、反応により得られた1,2−ビス(トリエトキシシリル)エチレンは220.1g(0.82mol)であった(収率:82.0%)。
[Example 8]
A 500 mL four-necked glass flask was equipped with a reflux condenser, a thermometer and a stirrer, and the interior was purged with nitrogen. In the mixture, 923.1 mg (1 mmol) of Umicore M1 catalyst, 13.8 g of methyltrimethoxysilane, and 110.6 g of 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethylene were charged at a reaction temperature of 170 to 180 ° C. and under reflux. Then, a mixed solution of 296.4 g (2.0 mol) of vinyltrimethoxysilane and 70.4 g of methyltrimethoxysilane was added dropwise over 36 hours, followed by aging for 10 hours.
The reaction rate of vinyltrimethoxysilane was 95% or more, and the obtained reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 330.7 g of 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethylene. Considering 1,2-bis (trimethoxysilyl) ethylene used as a solvent, the amount of 1,2-bis (triethoxysilyl) ethylene obtained by the reaction was 220.1 g (0.82 mol) (yield) : 82.0%).

Claims (7)

下記一般式(1)
Figure 2017124976
(式中、R1およびR2は、互いに独立して、置換または非置換の炭素数1〜20の1価炭化水素基を表し、nは、0、1または2の整数を表す。)
で表されるビニルシラン化合物を、溶媒中、ルテニウム触媒存在下で反応させる、下記一般式(2)
Figure 2017124976
(式中、R1、R2およびnは、前記と同じ。)
で表される1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法であって、
前記溶媒として、オルガノオキシシラン化合物(ただし、式(1)のビニルシラン化合物は除く。)を用いることを特徴とする1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。
The following general formula (1)
Figure 2017124976
(In the formula, R 1 and R 2 independently represent a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 0, 1 or 2.)
The following general formula (2) is reacted in the presence of a ruthenium catalyst in a solvent.
Figure 2017124976
(Wherein R 1 , R 2 and n are the same as described above.)
A process for producing a 1,2-bissilylethylene compound represented by:
A method for producing a 1,2-bissilylethylene compound, wherein an organooxysilane compound (excluding the vinylsilane compound of formula (1)) is used as the solvent.
前記反応を、200℃以下に保って還流下で行う請求項1記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to claim 1, wherein the reaction is carried out under reflux while maintaining at 200 ° C or lower. 前記ルテニウム触媒と前記オルガノオキシシラン化合物との混合物中に、前記ビニルシラン化合物を添加しながら反応を行う、または前記ビニルシラン化合物および前記オルガノオキシシラン化合物の混合物を添加しながら反応を行う請求項1または2記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   The reaction is performed while adding the vinylsilane compound to the mixture of the ruthenium catalyst and the organooxysilane compound, or the reaction is performed while adding the mixture of the vinylsilane compound and the organooxysilane compound. A process for producing the 1,2-bissilylethylene compound as described. 前記ビニルシラン化合物および前記オルガノオキシシラン化合物として、予め還流脱気したものを用いる請求項3記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   4. The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to claim 3, wherein the vinylsilane compound and the organooxysilane compound are preliminarily refluxed and degassed. 前記ビニルシラン化合物が、トリメトキシビニルシランまたはトリエトキシビニルシランである請求項1〜4のいずれか1項記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the vinylsilane compound is trimethoxyvinylsilane or triethoxyvinylsilane. 前記オルガノオキシシラン化合物が、テトラオルガノオキシシラン、トリオルガノオキシシラン、ジオルガノオキシシラン、モノオルガノオキシシラン、およびビス(オルガノオキシシリル)アルカンから選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれか1項記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   6. The method according to claim 1, wherein the organooxysilane compound is at least one selected from tetraorganooxysilane, triorganooxysilane, diorganooxysilane, monoorganooxysilane, and bis (organooxysilyl) alkane. A process for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to claim 1. 助触媒として、ホスフィン化合物または酸化防止剤を添加する請求項1〜6のいずれか1項記載の1,2−ビスシリルエチレン化合物の製造方法。   The method for producing a 1,2-bissilylethylene compound according to any one of claims 1 to 6, wherein a phosphine compound or an antioxidant is added as a cocatalyst.
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