JP2017109980A - 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound, production method, and use therefor - Google Patents

5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound, production method, and use therefor Download PDF

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繁明 沼田
Shigeaki Numata
繁明 沼田
山田 暁彦
Akihiko Yamada
暁彦 山田
修司 横山
Shuji Yokoyama
修司 横山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerization sensitizer of a new skeleton structure that is not an anthracene skeleton, a naphthalene skeleton, or a thioxanthone skeleton.SOLUTION: The present invention provides a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound having an optical dimer structure of 1,4-naphtho quinone represented by general formula (1) (A is an alkyl group having 1-10 carbon atoms, acyl group having 2-11 carbon atoms or carbonate ester group having 2-11 carbon atoms, X is a hydrogen atom, C1-C8 alkyl group or C1-C8 alkoxy group).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物、その製造法及び光重合増感剤としての用途に関する。 The present invention relates to a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound, a production method thereof, and a use as a photopolymerization sensitizer.

紫外線や可視光線等の活性エネルギー線により重合する光硬化性樹脂は、硬化が速く、熱硬化性樹脂に比べ有機溶剤の使用量を大幅に減らすことができることから、作業環境の改善、環境負荷を低減することができるという点で優れている。従来の光硬化性樹脂はそれ自体では重合開始機能が乏しく、硬化させるには通常、光重合開始剤を用いる必要がある。光重合開始剤として、ヒドロキシアセトフェノンやベンゾフェノン等のアルキルフェノン系重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤又はオニウム塩などが用いられる(特許文献1、2、3)。これら光重合開始剤の内でヒドロキシアセトフェノンやオニウム塩系開始剤を光重合開始剤として用いる場合、該光重合開始剤の光吸収は225nm〜350nm付近にあり、350nm以上には吸収を持たないため、350nm以上の長波長のランプを光源とした場合、光硬化反応が進行しにくいなどの問題があり、光重合増感剤を添加するのが一般的である。光重合増感剤としては、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、チオキサントン化合物等の多環芳香族化合物が知られている。特にアントラセン化合物が用いられることが多い(特許文献4)。 Photo-curing resins that are polymerized by active energy rays such as ultraviolet rays and visible rays cure quickly and can significantly reduce the amount of organic solvent used compared to thermosetting resins. It is excellent in that it can be reduced. Conventional photocurable resins themselves have a poor polymerization initiating function, and it is usually necessary to use a photopolymerization initiator for curing. As the photopolymerization initiator, alkylphenone-based polymerization initiators such as hydroxyacetophenone and benzophenone, acylphosphine oxide-based photopolymerization initiators, or onium salts are used (Patent Documents 1, 2, and 3). Among these photopolymerization initiators, when hydroxyacetophenone or an onium salt initiator is used as the photopolymerization initiator, the light absorption of the photopolymerization initiator is in the vicinity of 225 nm to 350 nm and does not absorb at 350 nm or more. When a lamp having a long wavelength of 350 nm or more is used as a light source, there is a problem that the photocuring reaction does not proceed easily, and a photopolymerization sensitizer is generally added. As photopolymerization sensitizers, polycyclic aromatic compounds such as naphthalene compounds, anthracene compounds, and thioxanthone compounds are known. In particular, anthracene compounds are often used (Patent Document 4).

このアントラセン系の光重合増感剤としては、9,10−ジアルコキシアントラセン化合物が用いられている。例えば、光重合における光重合開始剤であるヨードニウム塩に対し、光重合増感剤として9,10−ジブトキシアントラセンや9,10−ジエトキシアントラセンなどの9,10−ジアルコキシアントラセン化合物が使用されている(特許文献5、6、7、8)。また、近年、9,10−ビスオクタノイルオキシアントラセンも光重合増感剤として開発が進んでいる(特許文献9)。 As the anthracene photopolymerization sensitizer, a 9,10-dialkoxyanthracene compound is used. For example, a 9,10-dialkoxyanthracene compound such as 9,10-dibutoxyanthracene or 9,10-diethoxyanthracene is used as a photopolymerization sensitizer for an iodonium salt that is a photopolymerization initiator in photopolymerization. (Patent Documents 5, 6, 7, and 8). In recent years, 9,10-bisoctanoyloxyanthracene has also been developed as a photopolymerization sensitizer (Patent Document 9).

しかし、なかなか新しい骨格を持った光重合増感剤が提案されていないのも実情である。これは、光重合増感剤が単に所望の波長の光で励起するという物性のみを有していればよいのではないということが原因と考えられる。すなわち、光重合増感剤がその効果を発揮するためには、主たる性質として、所望の光により励起された後に、その励起エネルギーを対象となる光重合開始剤に受け渡す能力が必要である。そのためには、光重合増感剤と光重合開始剤の間で光エネルギーをやり取りできる電子構造を持っていることが必要である。そのため、なかなか新しい骨格を持つ光重合増感剤が提案されないのである。 However, the fact is that no photopolymerization sensitizer having a new skeleton has been proposed. This is thought to be because the photopolymerization sensitizer need not have only the physical property of being excited by light of a desired wavelength. That is, in order for the photopolymerization sensitizer to exert its effect, as a main property, it is necessary to have the ability to transfer the excitation energy to the target photopolymerization initiator after being excited by the desired light. For this purpose, it is necessary to have an electronic structure capable of exchanging light energy between the photopolymerization sensitizer and the photopolymerization initiator. Therefore, it is difficult to propose a photopolymerization sensitizer having a new skeleton.

一方、光重合開始剤との相性や重合性化合物との相性、更には重合性化合物の硬化物の物性などの向上を目指して、新しい骨格の光重合増感剤もまた、変わることなく求められている。特に、光重合増感剤が光硬化時あるいは硬化物の保存中にブルーミングにより、表面ににじみ出し、硬化物の粉吹きや着色の問題を引き起こすことが知られている。例えば、フィルムとフィルムを接着する光接着剤の一成分としてこれらの光重合増感剤を使用する場合、光重合増感剤が上部に被せたフィルムに移行する(マイグレーション)ことがあり、上部フィルム上に光重合増感剤の粉吹きや着色の問題を引き起こす場合がある。この問題を解決するため、耐マイグレーション性の高い光重合増感剤が求められている。 On the other hand, with the aim of improving compatibility with photopolymerization initiators, compatibility with polymerizable compounds, and further physical properties of cured products of polymerizable compounds, new skeleton photopolymerization sensitizers are also required without change. ing. In particular, it is known that the photopolymerization sensitizer oozes to the surface due to blooming during photocuring or during storage of the cured product, causing problems with powdering and coloring of the cured product. For example, when these photopolymerization sensitizers are used as a component of a photoadhesive that bonds the film to the film, the photopolymerization sensitizer may migrate to the film overlaid (migration). On top of this, it may cause problems with powdering and coloring of the photopolymerization sensitizer. In order to solve this problem, a photopolymerization sensitizer having high migration resistance is required.

特開平06−345614号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-345614 特開平07−062010号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-062010 特開平05−249606号公報JP 05-249606 A 特開平10−195117号公報JP-A-10-195117 特開2002−302507号公報JP 2002-302507 A 特開平11−279212号公報JP 11-279212 A 特開2000−344704号公報JP 2000-344704 A WO2007/126066号公報WO2007 / 126066 特開平2015−127381号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-127281

本発明の課題は、これまでの光重合増感剤の主骨格であるアントラセン骨格、ナフタレン骨格、チオキサントン骨格ではない、新しい骨格構造の光重合増感剤を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a photopolymerization sensitizer having a new skeleton structure that is not an anthracene skeleton, a naphthalene skeleton, or a thioxanthone skeleton, which are main skeletons of conventional photopolymerization sensitizers.

本発明者は、芳香族化合物の構造と光吸収特性について鋭意検討した結果、これまで光重合増感剤としては全く知られていない1,4−ナフトキノンの光二量体構造を有する5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物が光カチオン重合及び光ラジカル重合において光重合増感剤として作用すること、又当該化合物を光重合増感剤として含有する光重合性組成物及びその硬化物において、当該光重合増感剤の耐マイグレーション性が高いことを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies on the structure and light absorption characteristics of the aromatic compound, the present inventor has a photodimer structure of 1,4-naphthoquinone that has not been known at all as a photopolymerization sensitizer. 11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound acts as a photopolymerization sensitizer in photocationic polymerization and photoradical polymerization, and photopolymerization containing the compound as a photopolymerization sensitizer The present invention has been completed by finding that the photopolymerization sensitizer has high migration resistance in the photosensitive composition and its cured product.

即ち、本発明は、以下に記載の骨子を要旨とするものである。 That is, the gist of the present invention is the gist of the following.

上記目的を達成するために、第1発明では、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。 In order to achieve the above object, the first invention provides a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第2発明では、一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。 The second invention provides a 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2).

一般式(2)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (2), R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第3発明では、一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。 The third invention provides a 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3).

一般式(3)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (3), R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第4発明では、一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。 The fourth invention provides a 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4).

一般式(4)において、Rは炭素数1から10のアルキル基又はアリル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第5発明では、一般式(5)で表わされる5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物をエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤と反応させることによる、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法を提供する。 In the fifth invention, the 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (5) is converted into an etherifying agent, acylating agent or carbonic acid. Provided is a method for producing a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) by reacting with an esterifying agent.

一般式(5)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General formula (5), X represents a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl group, or a C1-C8 alkoxy group.

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第6発明では、一般式(6)で表わされる5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物をエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤と反応させることによる、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法を提供する。 In the sixth invention, the 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (6) is reacted with an etherifying agent, an acylating agent or a carbonic acid esterifying agent. Provided is a method for producing a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

一般式(6)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General formula (6), X represents a hydrogen atom, a C1-C8 alkyl group, or a C1-C8 alkoxy group.

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第7発明では、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物からなる光重合増感剤を提供する。 The seventh invention provides a photopolymerization sensitizer comprising a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

第8発明では、第7発明に記載の光重合増感剤と、光重合開始剤及び重合性化合物を含有する光重合性組成物を提供する。 The eighth invention provides a photopolymerizable composition comprising the photopolymerization sensitizer according to the seventh invention, a photopolymerization initiator, and a polymerizable compound.

第9発明では、第8発明に記載の光重合性組成物に、波長300nmから400nmの範囲の光を含むエネルギー線を照射することにより硬化する、硬化方法を提供する。 In the ninth invention, there is provided a curing method in which the photopolymerizable composition according to the eighth invention is cured by irradiating with an energy ray containing light having a wavelength in the range of 300 nm to 400 nm.

本明細書の記載において、基本骨格であるジベンゾビフェニレン骨格の炭素原子の位置の番号は下記の通りである。 In the description of the present specification, the numbers of the carbon atom positions in the dibenzobiphenylene skeleton which is the basic skeleton are as follows.

また、ビフェニレン骨格の辺の記号は下記の通りである。 Further, the symbols on the sides of the biphenylene skeleton are as follows.

また、炭素数2から11のアシル基及び炭素数2から11の炭酸エステル基という文言の炭素数には、カルボニル炭素を含む。 In addition, the carbon number in the terms of an acyl group having 2 to 11 carbon atoms and a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms includes carbonyl carbon.

本発明の5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は新規化合物であり、優れた光重合増感効果を示す化合物である。そして、当該化合物は1,4−ナフトキノンの光二量体という、これまでの光重合増感剤とは全く異なる構造を有する光重合増感剤である。 The 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound of the present invention is a novel compound and exhibits excellent photopolymerization sensitization effects. And the said compound is a photopolymerization sensitizer called the photodimer of 1, 4- naphthoquinone which has a completely different structure from the conventional photopolymerization sensitizer.

以下、本発明を詳細に記述する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(化合物)
まず、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物について説明する。
(Compound)
First, the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) will be described.

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

一般式(1)において、Aがアルキル基の場合は、一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物となる。 In the general formula (1), when A is an alkyl group, a 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2) is obtained.

一般式(2)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (2), R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

また、一般式(1)において、Aがアシル基である場合は、一般式(3)で表される、5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。 In the general formula (1), when A is an acyl group, a 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3) is provided.

一般式(3)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (3), R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

また、一般式(1)において、Aが炭酸エステル基である場合は、一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物となる。 In the general formula (1), when A is a carbonate group, a 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4) It becomes.

一般式(4)において、Rは炭素数1から10のアルキル基又はアリル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In General Formula (4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

次に、一般式(2)〜(4)の化合物についてその詳細を説明する。まず一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物について説明する。 Next, the details of the compounds of the general formulas (2) to (4) will be described. First, the 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2) will be described.

一般式(2)において、Rで表される炭素数1から10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基又はデシル基等が挙げられ、Xで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる、炭素数1〜8のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基,n−ブトキシ基等が挙げられる。 In the general formula (2), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 1 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, an n-pentyl group, Examples include an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group, a nonyl group, or a decyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by X include an ethyl group, n -Propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include methoxy group Ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group and the like.

一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の具体例としては次の化合物が挙げられる。 Specific examples of the 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2) include the following compounds.

5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン等である。 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-propoxy) Dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-pentyloxy) dibenzo [b, h ] Biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-heptyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5 , 6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (2-ethylhexyloxy) dibenzo [ , H] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h ] Biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-propoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-butoxy) ) Dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-pentyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11, 12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-heptyloxy) dibenzo [b, h] biphenyle 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexyloxy) ) Dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [B, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-propoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (N-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-pentyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-heptyloxy) Dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12 -Tetra (2-ethylhexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6, 11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (n-propoxy) dibenzo [b h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (n-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (n- Pentyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6 11,12-tetra (n-heptyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1, 10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy- , 6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6 , 11,12-tetra (n-propoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra (n-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10 -Diethoxy-5,6,11,12-tetra (n-pentyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b , H] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra (n-heptyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-die Toxi-5,6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexyloxy) dibenzo [b, h] Biphenylene and the like.

上記に挙げた化合物の中でも、製造の容易さから5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ペンチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ヘプチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−オクチルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましく、特に、光重合増感剤としての性能の高さと製造の容易さから、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(n−ブトキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましい。 Among the compounds mentioned above, 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene, 5 , 6,11,12-tetra (n-propoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12 -Tetra (n-pentyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-hexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n -Heptyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (n-octyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12- Tora (2-ethylhexyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene is preferred, and in particular, 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, b) because of its high performance as a photopolymerization sensitizer and ease of production. h] Biphenylene and 5,6,11,12-tetra (n-butoxy) dibenzo [b, h] biphenylene are preferred.

次に、一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物について説明する。 Next, the 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3) will be described.

一般式(3)において、Rで表される炭素数1から10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。Xで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜8のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等が挙げられる。 In the general formula (3), examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, an n-pentyl group, Examples include n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, decyl group and the like. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by X include ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2 -Ethylhexyl group etc. are mentioned, As a C1-C8 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group etc. are mentioned.

一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の具体例としては次の化合物が挙げられる。 Specific examples of the 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3) include the following compounds.

5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン等である。 5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrabutyl Ryloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrapentanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrahexanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra ( 2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetranonanoyloxydibenzo [ , H] biphenylene, 5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h ] Biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetrapentanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetrahexanoyloxydibenzo [b , H] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl -5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] Biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetranonanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [ b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl Ru-5,6,11,12-tetrapentanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetrahexanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1, 10-dimethyl-5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetranonanoyloxydibenzo [B, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, , 10-dihydroxy-5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetrapentanoyloxydibenzo [b, h ] Biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetrahexanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b , H] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetraoctanoyloxydiben [B, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11, 12-tetranonanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6 11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5 6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-teto Lapentanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetrahexanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11, 12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6, 11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetranonanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,10 -Diethoxy-5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene and the like.

上記に挙げた化合物の中でも、製造の容易さから5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラプロピポニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラペンタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラヘキサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラデサノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましく、特に、光重合増感剤としての性能の高さと製造の容易さから、5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましい。 Among the above-listed compounds, 5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] are easy to manufacture. ] Biphenylene, 5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetrapentanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12 Tetrahexanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h ] Biphenylene, 5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6, 1,12-tetranonanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene and 5,6,11,12-tetradesanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene are preferable, and particularly high performance as a photopolymerization sensitizer. In view of the ease of production, 5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene is preferred.

次に、一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物について説明する。 Next, the 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4) will be described.

一般式(4)において、Rで表される炭素数1から10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、アリル基としてはアリル基又はメタリル基が挙げられる。Xで表される炭素数1〜8のアルキル基としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜8のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等が挙げられる。 In the general formula (4), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, an n-pentyl group, An n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like can be given. Examples of the allyl group include an allyl group and a methallyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by X include ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2 -Ethylhexyl group etc. are mentioned, As a C1-C8 alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group etc. are mentioned.

一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の具体例としては次の化合物が挙げられる。 Specific examples of the 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4) include the following compounds.

5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジメチル−5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,10−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン等である。 5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12- (tetraethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11, 12-tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6 11,12-tetra [(i-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-pentyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5 , 6,11,12-tetra [(n-hexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,1 , 12-tetra [(n-heptyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-octyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5, , 6,11,12-tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 5, , 6,11,12-tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene 2,8-dimethyl-5,6,11,12- (tetraethoxycarbonyloxy) dibenzo [b h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12- Tetra [(n-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(i-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n-pentyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra [( n-hexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n-heptyloxy) carbo Nyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-octyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12 -Tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 2 , 8-dimethyl-5,6,11,12-tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) dibenzo [B, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12- (tetraethoxycarbonyloxy) di Benzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6, 11,12-tetra [(n-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(i-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n-pentyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12 -Tetra [(n-hexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra [(n Heptyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-octyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6 , 11,12-tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h ] Biphenylene, 1,10-dimethyl-5,6,11,12-tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12- (tetramethoxy) Carbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,1 -(Tetraethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10 -Dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(n-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(i-butoxy) Carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(n-pentyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy- 5,6,11,12-tetra [(n-hexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenyl Lene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(n-heptyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-octyloxy) ) Carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy -5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-dihydroxy-5,6,11,12-tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] Biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) Benzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12- (tetraethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12- Tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(n-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(i-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(n -Pentyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(n Hexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(n-heptyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6 , 11,12-tetra [(n-octyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [B, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene, 1,10-diethoxy-5,6,11,12- Tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene and the like.

上記に挙げた化合物の中でも、製造の容易さから5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−(テトラエトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−プロポキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(i−ブトキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ペンチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−ヘプチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(n−オクチルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ[(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン、5,6,11,12−テトラ(メタリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましく、特に、光重合増感剤としての性能の高さと製造の容易さから、5,6,11,12−テトラエトキシカルボニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンが好ましい。 Among the compounds listed above, 5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene and 5,6,11,12- (tetraethoxycarbonyloxy) dibenzo are easy to manufacture. [B, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-propoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-butoxy) carbonyloxy ] Dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(i-butoxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-pentyloxy) ) Carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-hexyloxy) carbonyloxy] Dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-heptyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(n-octyloxy) ) Carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra [(2-ethylhexyloxy) carbonyloxy] dibenzo [b, h] biphenylene, 5,6,11,12-tetra (allyl) Oxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene and 5,6,11,12-tetra (methallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene are preferred, and particularly high performance as a photopolymerization sensitizer. And 5,6,11,12-tetraethoxycarbonyloxydibenzo [b, h] biphenylene preferable.

(製造方法)
次に、上記一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法について説明する。本発明の5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を製造する方法としては、一般式(5)で表される5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物から出発する方法と一般式(6)で表される5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物から出発する方法の二通りがある。
(Production method)
Next, a method for producing the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) will be described. As a method for producing the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound of the present invention, 5,6,11,12-tetraoxo- represented by the general formula (5) is used. 5a, 5b, 11a, 11b-From a method starting from a tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound and from a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (6) There are two ways to start.

(製造ルートその1)
まず第一の方法では、下記反応式(1−1)に従って、一般式(5)で表される5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤の何れかからなる反応試剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を得ることができる。
(Production route 1)
In the first method, according to the following reaction formula (1-1), 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h represented by the general formula (5) ] By reacting a biphenylene compound with a reaction agent comprising any of an etherifying agent, an acylating agent or a carbonic acid esterifying agent in the presence of a basic compound, 5, 6, 11 represented by the general formula (1) , 12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compounds can be obtained.

反応式(1−1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (1-1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an -8 alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms;

反応式(1−1)で用いられる、一般式(5)で表される5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、下記反応式(3)に示したように、1,4−ナフトキノン化合物を溶媒中光照射し、二量化させることによって製造することができる。 The 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (5) used in the reaction formula (1-1) is as follows. As shown in the reaction formula (3), the 1,4-naphthoquinone compound can be produced by light irradiation in a solvent and dimerization.

反応式(3)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (3), X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

反応は、1,4−ナフトキノン化合物を溶媒、例えばアセトニトリルなどに溶解し、窒素雰囲気下、紫外光、例えば300nmから500nmの光を照射することにより行うことができる。溶媒を選ぶことにより、生成物である5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物が反応とともに析出してくる。 The reaction can be carried out by dissolving a 1,4-naphthoquinone compound in a solvent such as acetonitrile and irradiating with ultraviolet light, for example, light of 300 to 500 nm in a nitrogen atmosphere. By selecting the solvent, the product 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound precipitates with the reaction.

当該反応は、いわゆる[2+2]光環化反応であり、ナフトキノン化合物の2,3位の二重結合が光で励起され、競争的に付加二量化反応を起こし、シクロブタン環を生成する。当該反応は熱反応としては禁制であり、熱がかかるとトリフタロイルベンゼンを生成する。よって、当該反応は発生する反応熱を除去しながら行う。 This reaction is a so-called [2 + 2] photocyclization reaction, in which the double bond at the 2- and 3-positions of the naphthoquinone compound is excited by light, and undergoes an addition dimerization reaction to generate a cyclobutane ring. This reaction is forbidden as a thermal reaction, and when heated, triphthaloylbenzene is produced. Therefore, the reaction is performed while removing the generated reaction heat.

反応式(3)で用いられる原料の1,4−ナフトキノン化合物としては、1,4−ナフトキノン、5−メチル−1,4−ナフトキノン、6−メチル−1,4−ナフトキノン、5−メチル−1,4−ナフトキノン、5−メトキシ−1,4−ナフトキノン、5−エトキシ−1,4−ナフトキノンなどが挙げられる。 As raw material 1,4-naphthoquinone compounds used in the reaction formula (3), 1,4-naphthoquinone, 5-methyl-1,4-naphthoquinone, 6-methyl-1,4-naphthoquinone, 5-methyl-1 , 4-naphthoquinone, 5-methoxy-1,4-naphthoquinone, 5-ethoxy-1,4-naphthoquinone and the like.

反応式(3)で得られる一般式(5)の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物としては、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジメチル−5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジメトキシ−5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン等が挙げられる。 As the 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound of the general formula (5) obtained by the reaction formula (3), 5,6,11, 12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene, 2,8-dimethyl-5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene, 1,11-dimethyl-5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene, 1,11-dimethoxy-5,6,11,12 -Tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene, 1,11-diethoxy-5, , 11,12-tetraoxo -5a, 5b, 11a, 11b- tetrahydropyran dibenzo [b, h] biphenylene, and the like.

次に、上記反応で得られた一般式(5)の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物から、上記一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法について説明する。 Next, from the 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound of the general formula (5) obtained by the above reaction, the above general formula (2) A method for producing a 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the formula:

一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、反応式(1−2)に従って、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とエーテル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 According to the reaction formula (1-2), the 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2) is 5,6,11,12-tetraoxo-5a, It can be obtained by reacting 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound with an etherifying agent in the presence of a basic compound.

反応式(1−2)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (1-2), R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

反応式(1−2)において用いられるエーテル化剤としては、好適にはハロゲン化アルキル化合物又はジアルキル硫酸が使用される。ハロゲン化アルキル化合物としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル、塩化n−プロピル、塩化n−ブチル、塩化i−ブチル、塩化n−アミル、臭化メチル、臭化エチル、臭化n−プロピル、臭化n−ブチル、臭化i−ブチル、臭化n−ペンチル、臭化n−ヘキシル、臭化n−オクチル、臭化−2−エチルヘキシル等が挙げられる。また、ジアルキル硫酸としてはジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピル硫酸等が挙げられる。 As the etherifying agent used in the reaction formula (1-2), an alkyl halide compound or a dialkyl sulfuric acid is preferably used. Examples of the halogenated alkyl compound include methyl chloride, ethyl chloride, n-propyl chloride, n-butyl chloride, i-butyl chloride, n-amyl chloride, methyl bromide, ethyl bromide, n-propyl bromide, and odor. And n-butyl bromide, i-butyl bromide, n-pentyl bromide, n-hexyl bromide, n-octyl bromide, and 2-ethylhexyl bromide. Examples of the dialkyl sulfuric acid include dimethyl sulfuric acid, diethyl sulfuric acid, dipropyl sulfuric acid and the like.

エーテル化剤の使用量は、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物に対して、通常4.0モル倍以上、6.0モル倍以下、好ましくは4.2モル倍以上、5.5モル倍以下である。エーテル化剤の使用量が4.0モル倍未満の場合は、未反応の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物が増加し、6.0モル倍を超えて添加しても効果の増大は見られず、逆に生成した5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の溶媒に対する溶解度が高くなり、単離収率が低下する。 The amount of the etherifying agent used is usually 4.0 mol times or more, 6.0 times the amount of 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound. It is not more than mol times, preferably not less than 4.2 mol times and not more than 5.5 mol times. When the amount of the etherifying agent used is less than 4.0 mol times, unreacted 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound increases. Even if added over 6.0 mole times, the effect is not increased, and the solubility of the 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound produced on the contrary increases. , The isolation yield decreases.

使用する塩基性化合物としては、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、一級アミン、二級アミン、三級アミン及びピリジン類が挙げられる。 Examples of basic compounds to be used include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, primary amines, secondary amines, tertiary amines and pyridines.

水酸化アルカリ金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が上げられる。水酸化アルカリ土類金属としては水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。炭酸アルカリ金属としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。 Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Examples of the alkaline earth metal hydroxide include calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Examples of the alkali metal carbonate include sodium carbonate and potassium carbonate.

一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等が挙げられ、二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン等が挙げられ、三級アミンとしてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等が挙げられ、ピリジン類としては、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ルチジン等が挙げられる。 Examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, and propylamine. Examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, dibutylamine, and piperidine. Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Examples thereof include tributylamine, and examples of pyridines include pyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, and lutidine.

塩基性化合物の添加量は、添加するエーテル化剤と凡そ等モルが望ましい。 The addition amount of the basic compound is preferably about equimolar with the etherifying agent to be added.

使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエチレンのようなハロゲン化炭素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン系溶媒、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンのようなエーテル系溶媒が好適に用いられる。 Solvents used include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated carbon solvents such as methylene chloride, dichloroethane and dichloroethylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane are preferably used.

反応温度は、通常0〜150℃、好ましくは室温〜80℃である。反応温度が0℃未満の場合は、反応速度が遅すぎて反応に時間が掛かかり、150℃より高い場合は、副反応が起きて生成物の純度が低下する。反応時間は、反応温度にもよるが、通常0.5〜20時間である。通常、反応は大気圧下で行い、反応容器内部はアルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気にすることが好ましい。 The reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably room temperature to 80 ° C. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the reaction rate is too slow and the reaction takes time. When the reaction temperature is higher than 150 ° C., side reaction occurs and the purity of the product decreases. The reaction time is usually 0.5 to 20 hours, although it depends on the reaction temperature. Usually, the reaction is carried out under atmospheric pressure, and the inside of the reaction vessel is preferably in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

反応終了後、反応混合物をメタノール又はヘキサン等の貧溶媒に添加し、濃縮して析出した結晶をろ過・乾燥することにより、さらに必要に応じて再結晶することにより、純度良く目的物を得ることができる。 After completion of the reaction, the reaction mixture is added to a poor solvent such as methanol or hexane, concentrated, and the precipitated crystals are filtered and dried, and then recrystallized as necessary to obtain the desired product with high purity. Can do.

つぎに、一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法について説明する。 Next, a method for producing a 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3) will be described.

一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、反応式(1−3)に従って、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とアシル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 According to the reaction formula (1-3), the 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (3) is 5,6,11,12-tetraoxo-5a, It can be obtained by reacting 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound with an acylating agent in the presence of a basic compound.

反応式(1−3)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (1-3), R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

反応式(1−3)で原料として用いられる5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、反応式(1−2)で用いられたものと同じである。 The 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound used as a raw material in the reaction formula (1-3) is used in the reaction formula (1-2). Is the same as

反応式(1−3)において使用するアシル化剤としては、ハロゲン化アシル化合物又は有機酸無水物が用いられる。 As the acylating agent used in the reaction formula (1-3), an acyl halide compound or an organic acid anhydride is used.

ハロゲン化アシル化合物としては塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化ペンタノイル、塩化ヘキサノイル、塩化ヘプタノイル、塩化オクタノイル、塩化2−エチルヘキサノイル、塩化ノナノイル、塩化デサノイル等が挙げられる。有機酸無水物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等が挙げられる。 Examples of the acyl halide compound include acetyl chloride, propionyl chloride, butyryl chloride, pentanoyl chloride, hexanoyl chloride, heptanoyl chloride, octanoyl chloride, 2-ethylhexanoyl chloride, nonanoyl chloride, desanoyl chloride and the like. Examples of the organic acid anhydride include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and the like.

アシル化剤の使用量は、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物に対して、通常4モル倍以上、20モル倍以下、好ましくは5モル倍以上、15モル倍以下である。アシル化剤の使用量が4モル倍未満の場合は、未反応の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物が増加し、20モル倍を超えて添加しても効果の増大は見られず、逆に生成した5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の溶媒に対する溶解度が高くなり、単離収率が低下する。 The amount of the acylating agent used is usually 4 mol times or more and 20 mol times or less with respect to 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11b, tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound, Preferably they are 5 mol times or more and 15 mol times or less. When the amount of the acylating agent used is less than 4 mole times, unreacted 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound increases, Even when added in excess of the molar ratio, the effect is not increased, and the solubility of the 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound formed on the contrary increases, and the isolated yield increases. The rate drops.

使用する塩基性化合物としては、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、一級アミン、二級アミン、三級アミン及びピリジン類が挙げられる。 Examples of basic compounds to be used include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, primary amines, secondary amines, tertiary amines and pyridines.

水酸化アルカリ金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が上げられる。水酸化アルカリ土類金属としては水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。炭酸アルカリ金属としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。 Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Examples of the alkaline earth metal hydroxide include calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Examples of the alkali metal carbonate include sodium carbonate and potassium carbonate.

一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等が挙げられ、二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン等が挙げられ、三級アミンとしてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等が挙げられ、ピリジン類としては、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ルチジン等が挙げられる。 Examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, and propylamine. Examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, dibutylamine, and piperidine. Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Examples thereof include tributylamine, and examples of pyridines include pyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, and lutidine.

塩基性化合物の添加量は、添加するアシル化剤に対して0.8モル倍以上1.3モル倍以下が好ましい。 The addition amount of the basic compound is preferably 0.8 mol times or more and 1.3 mol times or less with respect to the acylating agent to be added.

使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエチレンのようなハロゲン化炭素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン系溶媒、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンのようなエーテル系溶媒が好適に用いられる。 Solvents used include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated carbon solvents such as methylene chloride, dichloroethane and dichloroethylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane are preferably used.

反応温度は、通常0〜150℃、好ましくは室温〜80℃である。反応温度が0℃未満の場合は、反応速度が遅すぎて反応に時間が掛かかり、150℃より高い場合は、副反応が起きて生成物の純度が低下する。反応時間は、反応温度にもよるが、通常0.5〜20時間である。通常、反応は大気圧下で行い、反応容器内部はアルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気にすることが好ましい。 The reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably room temperature to 80 ° C. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the reaction rate is too slow and the reaction takes time. When the reaction temperature is higher than 150 ° C., side reaction occurs and the purity of the product decreases. The reaction time is usually 0.5 to 20 hours, although it depends on the reaction temperature. Usually, the reaction is carried out under atmospheric pressure, and the inside of the reaction vessel is preferably in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

反応終了後、反応混合物をメタノール又はヘキサン等の貧溶媒に添加し、濃縮して析出した結晶をろ過・乾燥することにより、さらに必要に応じて再結晶することにより、純度良く目的物を得ることができる。 After completion of the reaction, the reaction mixture is added to a poor solvent such as methanol or hexane, concentrated, and the precipitated crystals are filtered and dried, and then recrystallized as necessary to obtain the desired product with high purity. Can do.

つぎに、一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法について説明する。 Next, a method for producing a 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4) will be described.

一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、反応式(1−4)に従って、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物と炭酸エステル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 The 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4) is obtained according to the reaction formula (1-4). It can be obtained by reacting tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound with a carbonic acid esterifying agent in the presence of a basic compound.

反応式(1−4)において、Rは炭素数1から10のアルキル基又はアリル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (1-4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. Represent.

反応式(1−4)で原料として用いられる5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、反応式(1−2)で用いられたものと同じである。 The 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound used as a raw material in the reaction formula (1-4) is used in the reaction formula (1-2). Is the same as

反応式(1−4)において用いる炭酸エステル化剤としては、ハロゲン化炭酸エステルが挙げられる。すなわち、塩化炭酸メチル、塩化炭酸エチル、塩化炭酸n−プロピル、塩化炭酸i−プロピル、塩化炭酸n−プロピル、塩化炭酸i−ブチル、塩化炭酸ヘキシル、塩化炭酸オクチル、塩化炭酸2-エチルヘキシル、塩化炭酸アリル等である。 Examples of the carbonate esterifying agent used in the reaction formula (1-4) include halogenated carbonates. Methyl chloride carbonate, ethyl chloride carbonate, n-propyl chloride, i-propyl chloride, n-propyl chloride, i-butyl chloride, hexyl chloride, hexyl chloride, octyl chloride, 2-ethylhexyl chloride, carbonate Such as allyl.

炭酸エステル化剤の使用量は、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物に対して、通常4.0モル倍以上、6.0モル倍以下、好ましくは4.2モル倍以上、5.5モル倍以下である。炭酸エステル化剤の使用量が4.0モル倍未満の場合は、未反応の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物が増加し、6.0モル倍を超えて添加しても効果の増大は見られず、逆に生成した5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の溶媒に対する溶解度が高くなり、単離収率が低下する。 The amount of the carbonic acid esterifying agent used is usually 4.0 mol times or more and 6,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound. It is 0 mol times or less, preferably 4.2 mol times or more and 5.5 mol times or less. When the amount of carbonic acid esterifying agent used is less than 4.0 mol times, the amount of unreacted 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound increases. However, even if added over 6.0 mole times, the effect is not increased, and the solubility of the 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound produced on the contrary is high. And the isolation yield decreases.

使用する塩基性化合物としては、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、一級アミン、二級アミン、三級アミン及びピリジン類が挙げられる。 Examples of basic compounds to be used include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, primary amines, secondary amines, tertiary amines and pyridines.

水酸化アルカリ金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が上げられる。水酸化アルカリ土類金属としては水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等が挙げられる。炭酸アルカリ金属としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。 Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Examples of the alkaline earth metal hydroxide include calcium hydroxide and magnesium hydroxide. Examples of the alkali metal carbonate include sodium carbonate and potassium carbonate.

一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等が挙げられ、二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン等が挙げられ、三級アミンとしてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等が挙げられ、ピリジン類としては、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ルチジン等が挙げられる。 Examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, and propylamine. Examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, dibutylamine, and piperidine. Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Examples thereof include tributylamine, and examples of pyridines include pyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, and lutidine.

塩基性化合物の添加量は、添加するアシル化剤に対して0.8モル倍以上1.3モル倍以下が好ましい。 The addition amount of the basic compound is preferably 0.8 mol times or more and 1.3 mol times or less with respect to the acylating agent to be added.

使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエチレンのようなハロゲン化炭素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン系溶媒、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンのようなエーテル系溶媒が好適に用いられる。 Solvents used include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, halogenated carbon solvents such as methylene chloride, dichloroethane and dichloroethylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and dimethylacetamide, and ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane are preferably used.

反応温度は、通常0〜150℃、好ましくは室温〜80℃である。反応温度が0℃未満の場合は、反応速度が遅すぎて反応に時間が掛かかり、150℃より高い場合は、副反応が起きて生成物の純度が低下する。反応時間は、反応温度にもよるが、通常0.5〜20時間である。通常、反応は大気圧下で行い、反応容器内部はアルゴンや窒素などの不活性ガス雰囲気にすることが好ましい。 The reaction temperature is generally 0 to 150 ° C., preferably room temperature to 80 ° C. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the reaction rate is too slow and the reaction takes time. When the reaction temperature is higher than 150 ° C., side reaction occurs and the purity of the product decreases. The reaction time is usually 0.5 to 20 hours, although it depends on the reaction temperature. Usually, the reaction is carried out under atmospheric pressure, and the inside of the reaction vessel is preferably in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen.

反応終了後、反応混合物をメタノール又はヘキサン等の貧溶媒に添加し、濃縮して析出した結晶をろ過・乾燥することにより、さらに必要に応じて再結晶することにより、純度良く目的物を得ることができる。 After completion of the reaction, the reaction mixture is added to a poor solvent such as methanol or hexane, concentrated, and the precipitated crystals are filtered and dried, and then recrystallized as necessary to obtain the desired product with high purity. Can do.

(製造ルートその2)
次に、一般式(6)で表される5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を出発原料として製造する方法について説明する。
(Production route 2)
Next, a method for producing a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (6) as a starting material will be described.

5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、下記反応式(2−1)に従って、一般式(6)で表される5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤の何れかからなる反応試剤を塩基性化合物の存在下に反応させることによって得ることができる。 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound is represented by general formula (6) according to the following reaction formula (2-1). It can be obtained by reacting a tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound with a reaction reagent comprising any of an etherifying agent, an acylating agent or a carbonic acid esterifying agent in the presence of a basic compound.

反応式(2−1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the reaction formula (2-1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an -8 alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms;

反応式(2−1)で用いられる、一般式(6)で表される5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、一般式(5)で示される5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を塩基存在下加熱してエノール化する反応(7)により得ることができる。 The 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (6) used in the reaction formula (2-1) is a compound represented by the general formula (5). The 6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound can be obtained by a reaction (7) in which it is enolized by heating in the presence of a base.

反応式(4)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (4), X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

当該エノール化反応は、通常のエノール化反応条件で進行する。例えば、5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物をN,N−ジメチルアセトアミドなどの溶媒に溶かし、トリエチルアミンなどの塩基触媒を添加し、加熱撹拌することにより収率よくエノール化することができ、生成したエノール体はスラリー状態で析出しており、濾過するだけで単離できる。 The enolization reaction proceeds under normal enolization reaction conditions. For example, 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound is dissolved in a solvent such as N, N-dimethylacetamide and a base catalyst such as triethylamine is added. The enol body can be enolized with good yield by heating and stirring, and the produced enol body is precipitated in a slurry state and can be isolated only by filtration.

反応式(4)で得られた5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物としては、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、2,8−ジメチル−5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジメチル−5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジヒドロキシ−5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン、1,11−ジエトキシ−5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン等が挙げられる。 As the 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound obtained by the reaction formula (4), 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, 2, 8-dimethyl-5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,11-dimethyl-5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,11- Examples include dihydroxy-5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, 1,11-diethoxy-5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, and the like.

当該5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を用いて、一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を製造する方法としては、下記反応式(2−2)に従って、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とエーテル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 The 5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2) using the 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound As a method for producing a compound, a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound and an etherifying agent are reacted in the presence of a basic compound according to the following reaction formula (2-2). Can be obtained.

反応式(2−2)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (2-2), R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

反応式(2−2)において用いられるエーテル化剤及びその使用量は、反応式(1−2)において用いられるエーテル化剤及びその使用量と同様である。 The etherifying agent used in the reaction formula (2-2) and the amount of use thereof are the same as the etherifying agent used in the reaction formula (1-2) and the amount of use thereof.

また、使用する塩基性化合物及びその使用量も、反応式(1−2)において用いられる塩基性化合物及びその使用量と同様である。更に、使用する溶媒、反応温度、反応時間、反応雰囲気、そして反応後の処理方法も反応式(1−2)と同様である。 Moreover, the basic compound to be used and its usage-amount are the same as the basic compound and its usage-amount used in Reaction formula (1-2). Furthermore, the solvent used, the reaction temperature, the reaction time, the reaction atmosphere, and the treatment method after the reaction are the same as in the reaction formula (1-2).

次に、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を用いて、一般式(3)で表される5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を製造する方法であるが、下記反応式(2−3)に従って、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とアシル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 Next, 5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] represented by the general formula (3) using a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound. A method for producing a biphenylene compound. According to the following reaction formula (2-3), a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound and an acylating agent are added in the presence of a basic compound. It can be obtained by reacting.

反応式(2−3)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (2-3), R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

反応式(2−3)において用いられるアシル化剤及びその使用量は、反応式(1−3)において用いられるアシル化剤及びその使用量と同様である。 The acylating agent used in Reaction Formula (2-3) and the amount used thereof are the same as the acylating agent used in Reaction Formula (1-3) and the amount used.

また、使用する塩基性化合物及びその使用量も、反応式(1−3)において用いられる塩基性化合物及びその使用量と同様である。更に、使用する溶媒、反応温度、反応時間、反応雰囲気、そして反応後の処理方法も反応式(1−3)と同様である。 Moreover, the basic compound to be used and its usage-amount are the same as the basic compound and its usage-amount used in Reaction formula (1-3). Furthermore, the solvent used, the reaction temperature, the reaction time, the reaction atmosphere, and the treatment method after the reaction are the same as in the reaction formula (1-3).

次に、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を用いて、一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を製造する方法であるが、下記反応式(2−4)に従って、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物と炭酸エステル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。 Next, using a 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound, a 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [ b, h] is a method for producing a biphenylene compound. According to the following reaction formula (2-4), 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound and a carbonic acid esterifying agent are made basic. It can be obtained by reacting in the presence of a compound.

反応式(2−4)において、Rは炭素数1から10のアルキル基又はアリル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In Reaction Formula (2-4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. Represent.

反応式(2−4)において用いられる炭酸エステル化剤及びその使用量は、反応式(1−4)において用いられる炭酸エステル化剤及びその使用量と同様である。 The carbonic acid esterifying agent used in the reaction formula (2-4) and the amount of use thereof are the same as the carbonic acid esterifying agent used in the reaction formula (1-4) and the amount of use thereof.

また、使用する塩基性化合物及びその使用量も、反応式(1−4)において用いられる塩基性化合物及びその使用量と同様である。更に、使用する溶媒、反応温度、反応時間、反応雰囲気、そして反応後の処理方法も反応式(1−4)と同様である。 Moreover, the basic compound to be used and its usage-amount are the same as the basic compound and its usage-amount used in Reaction formula (1-4). Furthermore, the solvent used, the reaction temperature, the reaction time, the reaction atmosphere, and the treatment method after the reaction are the same as in the reaction formula (1-4).

(光重合増感剤)
このようにして得られた本発明の一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、光カチオン重合性化合物や光ラジカル重合性化合物を光重合開始剤存在下に重合させる際に、光カチオン重合増感剤又は光ラジカル重合増感剤として用いることができる。
(Photopolymerization sensitizer)
The 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) of the present invention thus obtained is a photocationically polymerizable compound or a photoradical. When the polymerizable compound is polymerized in the presence of a photopolymerization initiator, it can be used as a photocationic polymerization sensitizer or a photoradical polymerization sensitizer.

一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。 In the general formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom or 1 to 8 carbon atoms. An alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.

また、本発明の一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を含有する光重合増感剤は、5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を有効成分とするものであり、その全量を、5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物とするもののほか、本発明の効果を損なわない限り、5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物以外の光重合増感剤等を含んでもよい。 Moreover, the photopolymerization sensitizer containing the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) of the present invention is 5,6,11. , 12-Tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound as an active ingredient, the total amount of which is 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound In addition to the above, a photopolymerization sensitizer other than the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound may be included as long as the effects of the present invention are not impaired.

このような5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物以外の光重合増感剤としては、チオキサントン化合物(例えば2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン)、ナフタレン化合物(例えば1,4−ジエトキシナフタレン、1,4−ビス(n−オクチルオキシ)−ナフタレン、1,4−ビス(置換オキシ)ナフタレン、4−メトキシ−1−ナフトール)、アントラセン化合物(例えば,9,10−ジブトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン)、アミン化合物(例えばジエチルアミノ安息香酸メチル)等が挙げられる。 Examples of photopolymerization sensitizers other than such 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compounds include thioxanthone compounds (for example, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone). , Naphthalene compounds (for example, 1,4-diethoxynaphthalene, 1,4-bis (n-octyloxy) -naphthalene, 1,4-bis (substituted oxy) naphthalene, 4-methoxy-1-naphthol), anthracene compounds ( For example, 9,10-dibutoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene), an amine compound (for example, methyl diethylaminobenzoate), etc. are mentioned.

5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物に対する5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物以外の光重合増感剤の添加比率は、特に限定されないが、5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物に対して0.1重量倍以上10重量倍未満である。 Photopolymerization sensitizers other than 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compounds with respect to 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compounds Although the addition ratio of is not particularly limited, it is 0.1 to 10 times the weight of the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound.

(光重合開始剤)
光重合開始剤としては、オニウム塩、ベンジルメチルケタール系、α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤等が好ましい。オニウム塩としては通常ヨードニウム塩またはスルホニウム塩が用いられる。ヨードニウム塩としては4−イソブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサメトキシアンチモネート、4−イソプロピルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタメトキシフェニルボレート、4−イソプロピルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げられ、例えばビー・エー・エス・エフ社製イルガキュア250(イルガキュアはビー・エー・エス・エフ社の登録商標)、ローディア社製ロードシル2074(ロードシルはローディア社の登録商標)、サンアプロ社製のIK−1等を用いることができる。一方、スルホニウム塩としてはS,S,S’,S’−テトラフェニル−S,S’−(4、4’−チオジフェニル)ジスルホニウムビスヘキサメトキシフォスフェート、ジフェニル−4−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサメトキシフォスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサメトキシフォスフェート等が挙げられ、例えばダイセル社製CPI−100P,CPI101P,CPI−200K,ビー・エー・エス社製イルガキュア270、ダウ・ケミカル社製UVI6992等を用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で用いても2種以上併用しても構わない。
(Photopolymerization initiator)
As the photopolymerization initiator, onium salts, benzylmethyl ketal-based, α-hydroxyalkylphenone-based polymerization initiators and the like are preferable. As the onium salt, an iodonium salt or a sulfonium salt is usually used. Examples of the iodonium salt include 4-isobutylphenyl-4′-methylphenyliodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexamethoxyantimonate, 4-isopropylphenyl-4′-methylphenyliodonium tetrakispentamethoxyphenylborate, 4- Examples thereof include isopropylphenyl-4′-methylphenyliodonium tetrakispentafluorophenylborate and the like. For example, IRGACURE 250 manufactured by BASF (Irgacure is a registered trademark of BASF), manufactured by Rhodia A load sill 2074 (a load sill is a registered trademark of Rhodia Co., Ltd.), IK-1 manufactured by Sun Apro, etc. can be used. On the other hand, examples of the sulfonium salt include S, S, S ′, S′-tetraphenyl-S, S ′-(4,4′-thiodiphenyl) disulfonium bishexamethoxyphosphate, diphenyl-4-phenylthiophenylsulfonium hexanium. Examples thereof include methoxyphosphate, triphenylsulfonium hexamethoxyphosphate, etc., for example, using CPI-100P, CPI101P, CPI-200K manufactured by Daicel, Irgacure 270 manufactured by BAS, UVI6992 manufactured by Dow Chemical Can do. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、ベンジルメチルケタール系、α−ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤等のラジカル重合開始剤が挙げられる。 Moreover, radical polymerization initiators, such as a benzyl methyl ketal type | system | group and an alpha-hydroxyalkyl phenone type polymerization initiator, are mentioned.

具体的な化合物としては、ベンジルメチルケタール系ラジカル重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」ビーエーエスエフ社製)等が挙げられ、α−ヒドロキシアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤としては2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(商品名「ダロキュア1173」ビーエーエスエフ社製)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名「イルガキュア184」ビーエーエスエフ社製)、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名「イルガキュア2959」ビーエーエスエフ社製)、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−1−オン(商品名「イルガキュア127」ビーエーエスエフ社製)が挙げられる。 Specific examples of the benzylmethyl ketal radical polymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name “Irgacure 651” manufactured by BSF Corporation). As an α-hydroxyalkylphenone radical polymerization initiator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (trade name “Darocur 1173” manufactured by BASF Corporation), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (product) Name “Irgacure 184” manufactured by BSF Corporation), 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (trade name “Irgacure 2959” BSF Corporation) , 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy 2-methyl-propionyl) - benzyl] phenyl} -2-methyl-1-one (trade name "Irgacure 127" BASF Corporation).

特に、ベンジルメチルケタール系ラジカル重合開始剤である2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」ビーエーエスエフ社製)、α−ヒドロキシアルキルフェノン系ラジカル重合開始剤である2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(商品名「ダロキュア1173」ビーエーエスエフ社製)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名「イルガキュア184」ビーエーエスエフ社製)が好ましい。 In particular, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name “Irgacure 651” manufactured by BASF), which is a benzylmethyl ketal radical polymerization initiator, and α-hydroxyalkylphenone radical polymerization initiation 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (trade name “Darocur 1173” manufactured by BASF), 1-hydroxycyclohexyl phenylketone (trade name “Irgacure 184” manufactured by BASF) Is preferred.

また、アセトフェノン系ラジカル重合開始剤であるアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−エトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−イソプロポキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−イソブトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンジル系ラジカル重合開始剤であるベンジル、4,4’−ジメトキシベンジル、アントラキノン系ラジカル重合開始剤である2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−フェノキシアントラキノン、2−(フェニルチオ)アントラキノン、2−(ヒドロキシエチルチオ)アントラキノン等も用いることができる。 Further, acetophenone radical polymerization initiators such as acetophenone, 2-hydroxy-2-phenylacetophenone, 2-ethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methoxy-2-phenylacetophenone, 2-isopropoxy-2-phenylacetophenone, 2 -Isobutoxy-2-phenylacetophenone, benzyl radical polymerization initiator benzyl, 4,4'-dimethoxybenzyl, anthraquinone radical polymerization initiator 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-phenoxyanthraquinone 2- (phenylthio) anthraquinone, 2- (hydroxyethylthio) anthraquinone, and the like can also be used.

本発明の一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を含有する光重合増感剤の光重合開始剤に対する使用量は、特に限定されないが、光重合開始剤に対して通常5重量%以上、100重量%以下の範囲、好ましくは10重量%以上、60重量%以下の範囲である。光重合増感剤の使用量が5重量%未満では光重合性化合物を光重合させるのに時間がかかりすぎてしまい、一方、100重量%を超えて使用しても添加に見合う効果は得られない。 The amount of the photopolymerization sensitizer containing the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) of the present invention to the photopolymerization initiator is: Although not particularly limited, it is usually in the range of 5 to 100% by weight, preferably in the range of 10 to 60% by weight, based on the photopolymerization initiator. If the amount of the photopolymerization sensitizer used is less than 5% by weight, it takes too much time to photopolymerize the photopolymerizable compound. On the other hand, even if it exceeds 100% by weight, an effect commensurate with the addition is obtained. Absent.

本発明の一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を含有する光重合増感剤と光重合開始剤はあらかじめ混合して、光重合開始剤組成物として用いてもよく、別々に光ラジカル重合性化合物又は光カチオン重合性化合物に添加され、光ラジカル重合性化合物又は光カチオン重合性化合物中で、結果として光重合開始剤組成物を形成してもよい。 A photopolymerization sensitizer containing a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) of the present invention and a photopolymerization initiator are mixed in advance. May be used as a photopolymerization initiator composition, separately added to the photoradical polymerizable compound or the photocationic polymerizable compound, and in the photoradical polymerizable compound or the photocationic polymerizable compound, as a result, the photopolymerization start An agent composition may be formed.

(光重合性組成物)
さらに該光重合開始剤組成物と光重合性化合物を配合することにより、光重合性組成物を調製することができる。本発明の光重合性組成物は、本発明の一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を含有する光重合増感剤と光重合開始剤を含有する光重合開始剤組成物と、光ラジカル重合性化合物又は光カチオン重合性化合物とを含有する組成物である。
(Photopolymerizable composition)
Furthermore, a photopolymerizable composition can be prepared by blending the photopolymerization initiator composition and a photopolymerizable compound. The photopolymerizable composition of the present invention is a photopolymerization sensitization containing a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1) of the present invention. It is a composition containing the photoinitiator composition containing an agent and a photoinitiator, and a radical photopolymerizable compound or a photocationic polymerizable compound.

光重合性化合物としては、光ラジカル重合性化合物と光カチオン重合性化合物がある。 Photopolymerizable compounds include photoradical polymerizable compounds and photocationic polymerizable compounds.

光ラジカル重合性化合物としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の二重結合を有する有機化合物を用いることができる。これらのラジカル重合性化合物のうち、フィルム形成能等の面から、アクリル酸エステルやメタクリル酸エステル(以下、両者をあわせて(メタ)アクリル酸エステルという)が好ましい。(メタ)アクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリ ル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸イソボルニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。これらの光ラジカル重合性化合物は、一種でも二種以上の混合物であっても良い。 As the photoradical polymerizable compound, for example, an organic compound having a double bond such as styrene, vinyl acetate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, acrylic acid ester, and methacrylic acid ester can be used. . Of these radical polymerizable compounds, acrylic acid esters and methacrylic acid esters (hereinafter, both are referred to as (meth) acrylic acid esters) are preferable from the viewpoint of film forming ability and the like. (Meth) acrylic acid esters include methyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, methyl methacrylate, butyl methacrylate, methacrylic acid. Examples include acid cyclohexyl, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polybutadiene acrylate, polyol acrylate, polyether acrylate, silicone resin acrylate, and imide acrylate. These radical photopolymerizable compounds may be one kind or a mixture of two or more kinds.

光カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、ビニルエーテル等が挙げられる。エポキシ化合物として一般的なものは、脂環式エポキシ化合物、エポキシ変性シリコーン、芳香族のグリシジルエーテル等が挙げられる。脂環式エポキシ化合物としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート等が挙げられ、例えばダウ・ケミカル社製UVR6105、UVR6110、ダイセル社製セロキサイド2021P(セロキサイドはダイセル社の登録商標)等を用いることができる。エポキシ変性シリコーンとしては、東芝GEシリコーン製UV−9300等が挙げられる。芳香族グリシジル化合物としては、2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン等が挙げられる。ビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等が挙げられる。これらの光カチオン重合性化合物は、一種でも二種以上の混合物であっても良い。 Examples of the cationic photopolymerizable compound include epoxy compounds and vinyl ethers. Examples of general epoxy compounds include alicyclic epoxy compounds, epoxy-modified silicones, and aromatic glycidyl ethers. Examples of the alicyclic epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, and examples thereof include UVR6105, UVR6110, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. Daicel's Celoxide 2021P (Celoxide is a registered trademark of Daicel Corporation) and the like can be used. Examples of the epoxy-modified silicone include UV-9300 manufactured by Toshiba GE Silicone. Examples of the aromatic glycidyl compound include 2,2'-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane. Examples of the vinyl ether include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether and the like. These photocationically polymerizable compounds may be one kind or a mixture of two or more kinds.

本発明の光重合性組成物において、光重合開始剤組成物の使用量は、光重合性組成物に対して0.005重量%以上、10重量%未満の範囲、好ましくは0.025重量%以上、5重量%以下である。0.005重量%以下だと光重合性組成物を光重合させるのに時間がかかってしまい、一方、10重量%を超えて添加すると光重合させて得られる光硬化物の硬度が低下し、硬化物の物性を悪化させるため好ましくない。 In the photopolymerizable composition of the present invention, the photopolymerization initiator composition is used in an amount of 0.005% by weight or more and less than 10% by weight, preferably 0.025% by weight, based on the photopolymerizable composition. The content is 5% by weight or less. If it is 0.005% by weight or less, it takes time to photopolymerize the photopolymerizable composition. On the other hand, if it exceeds 10% by weight, the hardness of the photocured product obtained by photopolymerization decreases, This is not preferable because the physical properties of the cured product are deteriorated.

なお、本発明の光重合性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、希釈剤、着色剤、有機又は無機の充填剤、レベリング剤、界面活性剤、消泡剤、増粘剤、難燃剤、酸化防止剤、安定剤、滑剤、可塑剤等の各種樹脂添加剤を配合してもよい。 In addition, the photopolymerizable composition of the present invention has a diluent, a colorant, an organic or inorganic filler, a leveling agent, a surfactant, an antifoaming agent, a thickener, within a range not impairing the effects of the present invention. Various resin additives such as flame retardants, antioxidants, stabilizers, lubricants, and plasticizers may be blended.

(光硬化物)
本発明の光重合性組成物に光を照射して重合することにより、光硬化物を得ることができる。光重合性組成物に光を照射し重合させ光硬化させる場合、当該光重合性組成物をフィルム状に成形して光硬化させることもできるし、塊状に成形して光硬化させることもできる。フィルム状に成形して光硬化させる場合は、液状の当該光重合性組成物を例えばポリエステルフィルムなどの基材にバーコーターなどを用いて膜厚5〜300ミクロンになるように塗布する。一方、スピンコーティング法やスクリーン印刷法により、さらに薄い膜厚あるいは厚い膜厚にして塗布することもできる。
(Photocured product)
A photocured product can be obtained by polymerizing the photopolymerizable composition of the present invention by irradiating light. When the photopolymerizable composition is irradiated with light to be polymerized and photocured, the photopolymerizable composition can be formed into a film and photocured, or can be formed into a lump and photocured. When forming into a film shape and photocuring, the liquid photopolymerizable composition is applied to a substrate such as a polyester film so as to have a film thickness of 5 to 300 microns using a bar coater or the like. On the other hand, it can also be applied with a thinner or thicker film by spin coating or screen printing.

このようにして調製した光重合性組成物からなる塗膜に、250〜500nmの波長範囲を含む紫外線を1〜1000mW/cm程度の強さで光照射することにより、光硬化物を得ることができる。用いる光源としては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ガリウムドープドランプ、ブラックライト、395nm紫外線LED、385nm紫外線LED、365nm紫外線LED、青色LED、白色LED、フュージョン社製のDバルブ、Vバルブ等が挙げられる。また、太陽光等の自然光を使用することもできる。特に、300〜400nmの波長範囲を含む紫外線が好ましく、照射光源としては、特に、395nm紫外線LED、385nm紫外線LED、365nm紫外線LEDが好ましい。 A photocured product is obtained by irradiating the coating film made of the photopolymerizable composition thus prepared with ultraviolet light having a wavelength range of 250 to 500 nm at an intensity of about 1 to 1000 mW / cm 2. Can do. As a light source to be used, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, gallium doped lamp, black light, 395 nm ultraviolet LED, 385 nm ultraviolet LED, 365 nm ultraviolet LED, blue LED, white LED, D manufactured by Fusion Examples thereof include a valve and a V valve. Natural light such as sunlight can also be used. In particular, ultraviolet rays including a wavelength range of 300 to 400 nm are preferable, and 395 nm ultraviolet LEDs, 385 nm ultraviolet LEDs, and 365 nm ultraviolet LEDs are particularly preferable as the irradiation light source.

(タック・フリー・テスト)
本発明の光重合性組成物が光硬化したかどうかを判定する方法としては、タック・フリー・テスト(指触テスト)がある。すなわち、光重合性組成物に光を照射すると、重合して表面のタック(べたつき)がなくなるため、光を照射してからタック(べたつき)がなくなるまでの時間を測定することにより、光硬化時間を測定することができる。
(Tack free test)
As a method for determining whether or not the photopolymerizable composition of the present invention has been photocured, there is a tack free test. That is, when the photopolymerizable composition is irradiated with light, it is polymerized and there is no tack (stickiness) on the surface. Therefore, the photocuring time is measured by measuring the time from when the light is irradiated until tack (stickiness) disappears. Can be measured.

(耐マイグレーション性の判定)
本発明の光重合性組成物に含まれる光重合増感剤がフィルム等に移行(マイグレーション)するかどうかを判定する方法としては、光重合増感剤を含む光重合性組成物を薄いフィルム状物に塗布したものを作成し、その上にポリエチレンフィルムを被せて一定温度(26℃)で一定期間保管し、その後ポリエチレンフィルムを剥がし、光重合増感剤がポリエチレンフィルムに移行しているかを調べ、耐マイグレーション性を判定した。剥がしたポリエチレンフィルムは、アセトンで表面の組成物を洗った後乾燥し、当該ポリエチレンフィルムのUVスペクトルを測定し、光重合増感剤に起因する吸収強度の増大を調べることにより耐マイグレーション性を測定した。なお、当該測定には、紫外・可視分光光度計(島津製作所製、型式:UV2200)を用いた。比較例の化合物である9,10−ジブトキシアントラセンと量的な比較するために、得られた吸光度を9,10−ジブトキシアントラセンの吸光度の値に換算した。換算に当たっては、紫外・可視分光光度計により本発明の化合物及び9,10−ジブトキシアントラセンの260nmにおける吸光度を測定し、その吸光度の値とモル濃度からそれぞれのモル吸光係数を計算し、その比をもちいて換算した。
(Determination of migration resistance)
As a method for determining whether or not the photopolymerization sensitizer contained in the photopolymerizable composition of the present invention migrates to a film or the like, the photopolymerizable composition containing the photopolymerization sensitizer is a thin film. Create a product applied to the object, cover it with a polyethylene film, store it at a constant temperature (26 ° C) for a certain period of time, then peel off the polyethylene film, and examine whether the photopolymerization sensitizer has transferred to the polyethylene film The migration resistance was determined. The peeled polyethylene film was washed after washing the surface composition with acetone, measured for UV resistance of the polyethylene film, and measured for migration resistance by examining the increase in absorption intensity caused by the photopolymerization sensitizer. did. For the measurement, an ultraviolet / visible spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model: UV2200) was used. In order to quantitatively compare with 9,10-dibutoxyanthracene, which is the compound of the comparative example, the obtained absorbance was converted to the absorbance value of 9,10-dibutoxyanthracene. In conversion, the absorbance at 260 nm of the compound of the present invention and 9,10-dibutoxyanthracene was measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer, the respective molar extinction coefficients were calculated from the absorbance value and molar concentration, and the ratio And converted.

下記の実施例により本発明を例示するが、これらの実施例は本発明の範囲を限定するものではない。また、特記しない限り、すべての部は重量部である。生成物の確認は下記の機器による測定に基づいて行った。 The present invention is illustrated by the following examples which are not intended to limit the scope of the invention. Unless otherwise specified, all parts are parts by weight. The product was confirmed based on the measurement by the following equipment.

(1)融点:ゲレンキャンプ社製の融点測定装置、型式MFB−595(JIS K0064に準拠)
(2)赤外線(IR)分光光度計:日本分光社製、型式IR−810
(3)核磁気共鳴装置(NMR):日本電子社製、型式GSX FT NMR Spectorometer
(1) Melting point: Melting point measuring device manufactured by Gelen Camp, model MFB-595 (conforms to JIS K0064)
(2) Infrared (IR) spectrophotometer: Model IR-810 manufactured by JASCO Corporation
(3) Nuclear magnetic resonance apparatus (NMR): manufactured by JEOL Ltd., model GSX FT NMR Spectrometer

(合成例1)5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
100mlナスフラスコ中、1,4−ナフトキノン3.0g(19.0ミリモル)をアセトニトリル30gに溶解した。次いで窒素雰囲気下、岩崎電気製の365nmUV−LED(照射面積10cm)LHPUV365を用い、照射強度50mW/cmで照射した。10時間照射後、析出した白色沈殿を吸引ろ過・乾燥し、1.8g(11.4ミリモル)の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレンを得た。
(1)融点:254−255℃
(2)IR(KBr、cm−1):1676,1681,1287,1252,945,780,703,678,541.
(3)H−NMR(400MHz,重アセトン):δ3.96(s、4H),7.91(s,4H),8.10(s,4H).
Synthesis Example 1 Synthesis of 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene 3.0 g (19.0) of 1,4-naphthoquinone in a 100 ml eggplant flask Mmol) was dissolved in 30 g of acetonitrile. Subsequently, irradiation was performed at an irradiation intensity of 50 mW / cm 2 using a 365 nm UV-LED (irradiation area: 10 cm 2 ) LHPUV365 manufactured by Iwasaki Electric under a nitrogen atmosphere. After irradiation for 10 hours, the precipitated white precipitate was suction filtered and dried, and 1.8 g (11.4 mmol) of 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h ] Biphenylene was obtained.
(1) Melting point: 254-255 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 1676, 1681, 1287, 1252, 945, 780, 703, 678, 541.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, heavy acetone): δ 3.96 (s, 4H), 7.91 (s, 4H), 8.10 (s, 4H).

(合成例2)5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口ナスフラスコに合成例1と同様にして合成した5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン3.16g(10ミリモル)をN,N−ジメチルアセトアミド30g中に分散し、トリエチルアミン 1.0g(10ミリモル)を加えて、60℃で2時間加熱した。白色のスラリーが真黄色のスラリーとなるので、吸引ろ過、乾燥し、5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン の真黄色の粉末2.84g(9.1ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する収率は91モル%であった。
(1)融点:252−254℃
(2)IR(KBr、cm−1):3180,1583,1508,1292,1257,1187,1097,965,762,632,595.
(3)H−NMR(400MHz,重アセトン):δ7.30(s,4H),7.98(s、4H),8.56(bs,4H)
Synthesis Example 2 Synthesis of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 5,6,11 synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 in a 100 ml three-necked eggplant flask equipped with a thermometer and a condenser. , 12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene (3.16 g, 10 mmol) is dispersed in 30 g of N, N-dimethylacetamide, and 1.0 g (10 mmol) of triethylamine is dispersed. In addition, it was heated at 60 ° C. for 2 hours. Since the white slurry becomes a true yellow slurry, suction filtration and drying are performed, and 2.84 g (9.1 mmol) of a true yellow powder of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene is obtained. Obtained. The yield based on the raw material 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene was 91 mol%.
(1) Melting point: 252-254 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 3180, 1583, 1508, 1292, 1257, 1187, 1097, 965, 762, 632, 595.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, heavy acetone): δ 7.30 (s, 4H), 7.98 (s, 4H), 8.56 (bs, 4H)

(合成実施例1)製造ルートその1による5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、合成例1と同様にして合成した5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン2.0g(6.3ミリモル)、N.N−ジメチルアセトアミド25g、ジエチル硫酸4.6g(30ミリモル)の黄色のスラリーに水酸化ナトリウム1.2g(30ミリモル)の水12g溶液を滴下した。直ちに黒緑色の溶液となるので、60℃で30分加熱した。黄色の結晶が析出するので、吸引ろ過・メタノール洗い、乾燥し、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの黄色の粉末1.7g(3.97ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は63モル%であった。
(1)融点:135−137℃
(2)IR(KBr、cm−1):3080,2980,2945,2900,1670,1610、1580,1565,1370,1330,1279,1188,1095,1026,934,895,759,659
(3)H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.50(t,J=8Hz,12H),4.44(q,J=8Hz,8H),7.38(s,4H),7.96(s、4H)
(Synthesis Example 1) 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 1 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser in a nitrogen atmosphere under Synthesis Example 1 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene (2.0 g, 6.3 mmol) synthesized in the same manner; To a yellow slurry of 25 g of N-dimethylacetamide and 4.6 g (30 mmol) of diethyl sulfate, a solution of 12 g of sodium hydroxide (12 g) in 12 g of water was added dropwise. Since it became a blackish green solution immediately, it was heated at 60 ° C. for 30 minutes. Since yellow crystals were precipitated, suction filtration, washing with methanol, and drying were performed to obtain 1.7 g (3.97 mmol) of a yellow powder of 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene. . The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene was 63 mol%.
(1) Melting point: 135-137 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 3080, 2980, 2945, 2900, 1670, 1610, 1580, 1565, 1370, 1330, 1279, 1188, 1095, 1026, 934, 895, 759, 659
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 1.50 (t, J = 8 Hz, 12H), 4.44 (q, J = 8 Hz, 8H), 7.38 (s, 4H), 7 .96 (s, 4H)

(合成実施例2)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0g(3.1ミリモル)、N.N−ジメチルアセトアミド16g、ジメチル硫酸1.89g(15ミリモル)の黄色のスラリーに水酸化ナトリウム0.60g(15ミリモル)の水8g溶液を滴下した。直ちに黒緑色の溶液となるので、60℃で30分加熱した。冷却後、結晶が析出するので、吸引ろ過・メタノール洗い、乾燥し、5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの黄色の粉末0.70g(1.88ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は63モル%であった。
(1)融点:217−218℃
(2)IR(KBr、cm−1):3070,3010,2940,2850,1613,1570,1510,1450,1337,1281,1200,1179,1097,1078,1011,960,769,747,663,560
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ4.18(s,12H),7.40(s、4H),7.97(s,4H)
(Synthesis Example 2) Synthesis route 2 and 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer, in a 100 ml three-necked flask with a condenser, in a nitrogen atmosphere, in Synthesis Example 2 1.0 g (3.1 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner; To a yellow slurry of 16 g of N-dimethylacetamide and 1.89 g (15 mmol) of dimethyl sulfate, a solution of 8 g of water of 0.60 g (15 mmol) of sodium hydroxide was added dropwise. Since it became a blackish green solution immediately, it was heated at 60 ° C. for 30 minutes. After cooling, crystals precipitate. Suction filtration, washing with methanol, and drying to obtain 0.70 g (1.88 mmol) of a yellow powder of 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene. It was. The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 63 mol%.
(1) Melting point: 217-218 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 3070, 3010, 2940, 2850, 1613, 1570, 1510, 1450, 1337, 1281, 1200, 1179, 1097, 1078, 1011, 960, 769, 747, 663 560
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 4.18 (s, 12H), 7.40 (s, 4H), 7.97 (s, 4H)

(合成実施例3)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン0.49g(1.55ミリモル)、N.N−ジメチルアセトアミド10g、ジエチル硫酸1.23g(8ミリモル)の黄色のスラリーに水酸化ナトリウム0.32g(8ミリモル)の水5g溶液を滴下した。直ちに黒緑色の溶液となるので、60℃で30分加熱した。冷却後、反応液のpHを中性に戻し、結晶が析出するので、吸引ろ過・メタノール洗い、乾燥し、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの黄色の粉末0.37g(0.87ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は56モル%であった。
(1)融点:254−255℃
(2)IR(KBr、cm−1):1676,1681,1287,1252,945,780,703,678,541.
(3)H−NMR(400MHz,重アセトン):δ3.96(s、4H),7.91(s,4H),8.10(s,4H).
(Synthesis Example 3) Synthesis route 2 and 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer, in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser, in a nitrogen atmosphere, in Synthesis Example 2 0.49 g (1.55 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner; To a yellow slurry of 10 g of N-dimethylacetamide and 1.23 g (8 mmol) of diethylsulfuric acid, a 5 g solution of 0.32 g (8 mmol) of sodium hydroxide was added dropwise. Since it became a blackish green solution immediately, it was heated at 60 ° C. for 30 minutes. After cooling, the pH of the reaction solution is returned to neutral, and crystals are precipitated. Thus, suction filtration, washing with methanol, and drying are performed, and yellow powder of 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene is obtained. .37 g (0.87 mmol) was obtained. The isolated yield based on 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene as a raw material was 56 mol%.
(1) Melting point: 254-255 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 1676, 1681, 1287, 1252, 945, 780, 703, 678, 541.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, heavy acetone): δ 3.96 (s, 4H), 7.91 (s, 4H), 8.10 (s, 4H).

(合成実施例4)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラブトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコ中、窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0g(3.2ミリモル)、N.N−ジメチルアセトアミド15g、臭化ブチル2.1g(15ミリモル)の黄色のスラリーに水酸化ナトリウム0.60g(15ミリモル)の水7g溶液を滴下した。直ちに黒緑色の溶液となるので、60℃で30分加熱した。冷却後、反応液のpHを中性に戻し、結晶が析出するので、吸引ろ過・メタノール洗い、乾燥し、5,6,11,12−テトラブトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの黄色の粉末0.54g(1.02ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は31モル%であった。
(1)融点:81−82℃
(2)IR(KBr、cm−1):3070,2960,2930,2870,1540,1600,1332,1280,1185,1094,1073,1059,1020,942,763,744,660,555cm−1.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ1.00(t,J=8Hz,12H),1.49−1.59(m,8H),1.78−1.88(m,8H),4.32(t,J=8Hz,8H),7.39(s,4H),7.98(s、4H)。
(Synthesis Example 4) Synthesis route of 5,6,11,12-tetrabutoxydibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 in a 100 ml three-necked flask with a condenser in a nitrogen atmosphere under Synthesis Example 2 1.0 g (3.2 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner; A solution of sodium hydroxide (0.60 g, 15 mmol) in water (7 g) was added dropwise to a yellow slurry of N-dimethylacetamide (15 g) and butyl bromide (2.1 g, 15 mmol). Since it became a blackish green solution immediately, it was heated at 60 ° C. for 30 minutes. After cooling, the pH of the reaction solution is returned to neutral, and crystals are precipitated. Thus, suction filtration, washing with methanol, and drying are performed, and a yellow powder of 5,6,11,12-tetrabutoxydibenzo [b, h] biphenylene is obtained. Obtained .54 g (1.02 mmol). The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 31 mol%.
(1) Melting point: 81-82 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 3070, 2960, 2930, 2870, 1540, 1600, 1332, 1280, 1185, 1094, 1073, 1059, 1020, 942, 763, 744, 660, 555 cm−1.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ1.00 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.49-1.59 (m, 8H), 1.78-1.88 (m, 8H), 4.32 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.39 (s, 4H), 7.98 (s, 4H).

(合成実施例5)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラアセチルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン2.2g(7.0ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド25g、無水酢酸5.9g(50ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン4.04g(40ミリモル)を加え、30分間攪拌した。スラリーが白くなった。吸引ろ過し、ヘキサンで洗い、乾燥して、5,6,11,12−テトラアセトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末2.4g(4.56ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は65モル%であった。
(1)融点:255℃以上
(2)IR(KBr、cm−1):2920,1761,1645,1520,1410,1370,1340,1285,1192,1173,1089,1058,1007,942,896,863,758,659,597,573.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ4.00(s,12H),7.45(t,J=9Hza,4H),7.80(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 5) Synthesis route 2 and 5,6,11,12-tetraacetyloxydibenzo [b, h] biphenylene thermometer, in a 100 ml three-necked flask equipped with a cooler, in Synthesis Example 2 In the same manner, 2.2 g (7.0 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene, 25 g of N, N-dimethylacetamide and 5.9 g (50 mmol) of acetic anhydride were synthesized. In addition, a light yellow slurry was obtained. Next, 4.04 g (40 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. The slurry turned white. Suction filtered, washed with hexane and dried to give 2.4 g (4.56 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetraacetoxydibenzo [b, h] biphenylene. The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 65 mol%.
(1) Melting point: 255 ° C. or higher (2) IR (KBr, cm −1 ): 2920, 1761, 1645, 1520, 1410, 1370, 1340, 1285, 1192, 1173, 1089, 1058, 1007, 942, 896 863, 758, 659, 597, 573.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 4.00 (s, 12H), 7.45 (t, J = 9 Hza, 4H), 7.80 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例6)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラプロピオニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン0.9g(2.85ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、無水プロピオン酸3.9g(30ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン3.03g(30ミリモル)を加え、5分間攪拌した。均一溶液となるがさらに攪拌すると、10分後には多量の白い結晶が析出したのでさらに20分間攪拌した。得られた白いスラリーを吸引ろ過し、メタノールで洗い、乾燥して、5,6,11,12−テトラプロピオニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末0.7g(1.3ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は46モル%であった。
(1)融点:255℃以上
(2)IR(KBr、cm−1):3045,2970,2930,1758,1555,1410,1335,1285,1139,1119,1093,1072,880,810,754
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ1.31(t,J=8Hz,12H),2,85(q,J=8Hz,8H),7.50(t,J=9Hz,4H),7.79(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 6) 5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 and a 100 ml three-neck flask with a condenser in a nitrogen atmosphere under Synthesis Example 2 Similarly synthesized 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 0.9 g (2.85 mmol), N, N-dimethylacetamide 15 g, propionic anhydride 3.9 g (30 mmol) Was added to obtain a light yellow slurry. Next, 3.03 g (30 mmol) of triethylamine was added and stirred for 5 minutes. When the solution was further stirred, a large amount of white crystals precipitated after 10 minutes, and the mixture was further stirred for 20 minutes. The resulting white slurry was filtered with suction, washed with methanol, and dried to obtain 0.7 g (1.3 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetrapropionyloxydibenzo [b, h] biphenylene. It was. The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 46 mol%.
(1) Melting point: 255 ° C. or higher (2) IR (KBr, cm −1 ): 3045, 2970, 2930, 1758, 1555, 1410, 1335, 1285, 1139, 1119, 1093, 1072, 880, 810, 754
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ1.31 (t, J = 8 Hz, 12H), 2,85 (q, J = 8 Hz, 8H), 7.50 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.79 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例7)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.58g(5.0ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド20g、塩化ブチリル3.18g(30ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン4.04g(40ミリモル)を加え、30分間攪拌した。次いでメタノールを30g加え、得られた白いスラリーを吸引ろ過し、乾燥して、5,6,11,12−テトラブチリルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末2.1g(3.5ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は70モル%であった。
(1)融点:260℃以上
(2)IR(KBr、cm−1):3040,2960,2940,2865,1758,1339,1282,1179,1130,1099,1073,943,754.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ1.10(t,J=8Hz,12H),1.83−1.94(m,8H),2.68(t,J=8Hz,8H),7.39(t,J=9Hz,4H),7.65(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 7) Synthesis route 2 for 5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis route 2 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser under a nitrogen atmosphere, Synthesis Example 2 5,8,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.58 g (5.0 mmol), N, N-dimethylacetamide 20 g, butyryl chloride 3.18 g (30 mmol) Was added to obtain a light yellow slurry. Next, 4.04 g (40 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. Subsequently, 30 g of methanol was added, and the resulting white slurry was suction filtered, dried, and 2.1 g (3.5 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetrabutyryloxydibenzo [b, h] biphenylene. ) The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 70 mol%.
(1) Melting point: 260 ° C. or higher (2) IR (KBr, cm −1 ): 3040, 2960, 2940, 2865, 1758, 1339, 1282, 1179, 1130, 1099, 1073, 943, 754.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 1.10 (t, J = 8 Hz, 12 H), 1.83-1.94 (m, 8 H), 2.68 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.39 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.65 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例8)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラヘプタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.11g(3.48ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化オクタノイル8.13g(50ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン5.05g(50ミリモル)を加え、30分間攪拌した。次いでメタノールを20g加え、得られた白いスラリーを吸引ろ過し、乾燥して、5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末1.50g(1.9ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は55モル%であった。
(1)融点:184−186℃
(2)IR(KBr、cm−1):2960,2926,2840,1755,1660,1520,1460,1410,1380,1337,1280,1131,1104,758,723
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.91(t,J=8Hz,12H),1.31−1.40(m,16H),1.40−1.60(m,8H),1.80−1.90(m,8H),2.69(t,J=8Hz,8H),7.39(t,J=9Hz,4H),7.64(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 8) 5,6,11,12-tetraheptanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 Synthesis Example 2 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser in a nitrogen atmosphere 5,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.11 g (3.48 mmol), N, N-dimethylacetamide 15 g, octanoyl chloride 8.13 g (50 mmol) Was added to obtain a light yellow slurry. Next, 5.05 g (50 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. Next, 20 g of methanol was added, and the resulting white slurry was suction filtered, dried, and 1.50 g (1.9 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene. ) The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 55 mol%.
(1) Melting point: 184-186 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2960, 2926, 2840, 1755, 1660, 1520, 1460, 1410, 1380, 1337, 1280, 1131, 1104, 758, 723
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 0.91 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.31-1.40 (m, 16H), 1.40-1.60 (m, 8H), 1.80-1.90 (m, 8H), 2.69 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.39 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.64 (d, J = 9Hz, 4H).

(合成実施例9)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.11g(3.48ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化オクタノイル8.13g(50ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン5.05g(50ミリモル)を加え、30分間攪拌した。次いでメタノールを20g加え、得られた白いスラリーを吸引ろ過し、乾燥して、5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末1.50g(1.9ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は55モル%であった。
(1)融点:184−186℃
(2)IR(KBr、cm−1):2950,2915,2850,1759,1700,1580,1510,1460,1450,1340,1285,1271,1222,1113,942,919,754,719,703,541.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.87(t,J=8Hz,12H),1.11−1.66(m,32H),1.75−1.92(m,8H),2.70(t,J=8Hz,8H),7.39(t,J=9Hz,4H),7.63(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 9) 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 Synthesis Example 2 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser in a nitrogen atmosphere 5,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.11 g (3.48 mmol), N, N-dimethylacetamide 15 g, octanoyl chloride 8.13 g (50 mmol) Was added to obtain a light yellow slurry. Next, 5.05 g (50 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. Next, 20 g of methanol was added, and the resulting white slurry was suction filtered, dried, and 1.50 g (1.9 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene. ) The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 55 mol%.
(1) Melting point: 184-186 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2950, 2915, 2850, 1759, 1700, 1580, 1510, 1460, 1450, 1340, 1285, 1271, 1222, 1113, 942, 919, 754, 719, 703 541.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 0.87 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.11-1.66 (m, 32H), 1.75-1.92 (m, 8H), 2.70 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.39 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.63 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例10)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.58g(5.0ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド20g、塩化2−エチルヘキサノイル4.86g(30ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン4.04g(40ミリモル)を加え、30分間攪拌した。次いでメタノールを20g加え、得られた白いスラリーを吸引ろ過し、乾燥して、5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキサノイルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末1.90g(2.4ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は48モル%であった。
(1)融点:100−101℃
(2)IR(KBr、cm−1):2950,2932,2865,1755,1630,1450,1336,1280,1159,1092,759.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.92(t,J=8Hz,12H),1.08(t,J=8Hz,12H),1.34−1.49(m,16H),1.70−2.00(m,16H),2.64−2.76(m,4H),7.37(t,J=9Hz,4H),7.61(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 10) Synthesis route for 5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 and nitrogen atmosphere in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser Below, 1.56 g (5.0 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2, 20 g of N, N-dimethylacetamide, 2-ethyl chloride 4.86 g (30 mmol) of hexanoyl was added to form a pale yellow slurry. Next, 4.04 g (40 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. Next, 20 g of methanol was added, and the resulting white slurry was suction filtered, dried, and 1.90 g of white powder of 5,6,11,12-tetra (2-ethylhexanoyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene. (2.4 mmol) was obtained. The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 48 mol%.
(1) Melting point: 100-101 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2950, 2932, 2865, 1755, 1630, 1450, 1336, 1280, 1159, 1092, 759.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 0.92 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.08 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.34-1.49 (m, 16H), 1.70-2.00 (m, 16H), 2.64-2.76 (m, 4H), 7.37 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.61 (d, J = 9Hz, 4H).

(合成実施例11)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラノナノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100ml三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.10g(3.48ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化ノナノイル8.8g(50ミリモル)を加え薄黄色のスラリーとした。次いで、トリエチルアミン5.05g(50ミリモル)を加え、30分間攪拌した。次いでメタノールを20g加え、得られた白いスラリーを吸引ろ過し、乾燥して、5,6,11,12−テトラノナノイルジベンゾ[b,h]ビフェニレンの白い粉末2.10g(2.4ミリモル)を得た。原料の5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は69モル%であった。
(1)融点:173−174℃
(2)IR(KBr、cm−1):2916,2850,1758,1338,1284,1261,1130,1116,1061,755,719.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.89(t,J=8Hz,12H),1.13−1.40(m,32H),1.40−1.50(m,8H),1.79−1.90(m,8H),2.69(t,J=8Hz,8H),7.40(t,J=9Hz,4H),7.64(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 11) 5,6,11,12-tetranonanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 Synthesis Example 2 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser in a nitrogen atmosphere 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.10 g (3.48 mmol), N, N-dimethylacetamide 15 g, nonanoyl chloride 8.8 g (50 mmol) Was added to obtain a light yellow slurry. Next, 5.05 g (50 mmol) of triethylamine was added and stirred for 30 minutes. Next, 20 g of methanol was added, and the resulting white slurry was suction filtered, dried, and 2.10 g (2.4 mmol) of white powder of 5,6,11,12-tetranonanoyldibenzo [b, h] biphenylene. Got. The isolated yield based on the starting material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 69 mol%.
(1) Melting point: 173-174 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2916, 2850, 1758, 1338, 1284, 1261, 1130, 1116, 1061, 755, 719.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 0.89 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.13-1.40 (m, 32H), 1.40-1.50 (m, 8H), 1.79-1.90 (m, 8H), 2.69 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.40 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.64 (d, J = 9Hz, 4H).

(合成実施例12)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラメトキシカルボニルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0g(3.2ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化炭酸メチル1.5g(16ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン1.3g(13ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド4g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を15g加えリスラリー後、吸引ろ過・水洗、メタノール洗い・乾燥し、5,6,11,12−(テトラメトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.3g(2.4ミリモル)の黄白色粉末を得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は75モル%であった。
(1)融点:255℃以上
(2)IR(KBr、cm−1):3075,3030,2970,2840,1769,1440,1294,1234,1183,1090,1056,929,762,602,539.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ4.00(s,12H),7.45(t,J=9Hza,4H),7.80(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 12) Synthesis route of 5,6,11,12-tetramethoxycarbonyloxydibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 and synthesis in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser under a nitrogen atmosphere 2,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.0 g (3.2 mmol), N, N-dimethylacetamide 15 g, methyl chloride 1.5 g (16 Millimoles). A solution of 1.3 g (13 mmol) of triethylamine in 4 g of N, N-dimethylacetamide was added to the pale yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 15 g of water was added to the obtained yellow-green slurry and reslurried, followed by suction filtration, washing with water, washing with methanol and drying, and then 5,6,11,12- (tetramethoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h ] 1.3 g (2.4 mmol) of biphenylene was obtained as a pale yellow powder. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 75 mol%.
(1) Melting point: 255 ° C. or higher (2) IR (KBr, cm −1 ): 3075, 3030, 2970, 2840, 1769, 1440, 1294, 1234, 1183, 1090, 1056, 929, 762, 602, 539.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 4.00 (s, 12H), 7.45 (t, J = 9 Hza, 4H), 7.80 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例13)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(n−プロポキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0g(3.2ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化炭酸n−プロピル1.83g(15ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン1.3g(13ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド4g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を15g加えリスラリー後、吸引ろ過・水洗、メタノール洗い・乾燥し、5,6,11,12−[テトラ(n−プロポキシ)カルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.3g(2.0ミリモル)の黄白色粉末を得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は62モル%であった。
(1)融点:173−174℃
(2)IR(KBr、cm−1):2960,2930,2870,1760,1214,1180,1154,1052,934,764.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ1.00(t,J=8Hz,12H),1.83−1.94(m,8H),4.30(t,J=8Hz,8H),7.43(t,J=9Hz,4H),7.81(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 13) Synthesis route of 5,6,11,12-tetra (n-propoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 and nitrogen atmosphere in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser Below, 1.0 g (3.2 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2, 15 g of N, N-dimethylacetamide, n-chlorocarbonate 1.83 g (15 mmol) of propyl was charged. A solution of 1.3 g (13 mmol) of triethylamine in 4 g of N, N-dimethylacetamide was added to the pale yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 15 g of water was added to the resulting yellow-green slurry and reslurried, followed by suction filtration, washing with water, washing with methanol, and drying, 5,6,11,12- [tetra (n-propoxy) carbonyloxy) dibenzo [B, h] A pale white powder of 1.3 g (2.0 mmol) of biphenylene was obtained. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 62 mol%.
(1) Melting point: 173-174 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2960, 2930, 2870, 1760, 1214, 1180, 1154, 1052, 934, 764.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ1.00 (t, J = 8 Hz, 12H), 1.83-1.94 (m, 8H), 4.30 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.43 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.81 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例14)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(i−プロポキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.1g(3.5ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド15g、塩化炭酸i−プロピル2.13g(17.5ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン1.8g(18ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド5g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を15g加えリスラリー後、吸引ろ過・水洗、メタノール洗い・乾燥し、5,6,11,12−[テトラ(i−プロポキシ)カルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.5g(2.3ミリモル)の黄白色粉末を得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は65モル%であった。
(1)融点:260℃以上
(2)IR(KBr、cm−1):3060,2970,2920,2840,1757,1222,1179,1077,983,928,906,842,771,740,711,601,538,425.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ1.41(d,J=8Hz,24H),5.01−5.10(m,4H),7.45(t,J=9Hz,4H),7.78(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 14) Synthesis route of 5,6,11,12-tetra (i-propoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 and nitrogen atmosphere in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser Below, 1.1 g (3.5 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2, 15 g of N, N-dimethylacetamide, i-chlorocarbonate 2.13 g (17.5 mmol) of propyl was charged. A solution of 1.8 g (18 mmol) of triethylamine in 5 g of N, N-dimethylacetamide was added to the light yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 15 g of water was added to the obtained yellow-green slurry and reslurried, followed by suction filtration, washing with water, washing with methanol, and drying, 5,6,11,12- [tetra (i-propoxy) carbonyloxy) dibenzo [B, h] 1.5 g (2.3 mmol) of yellowish white powder was obtained. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 65 mol%.
(1) Melting point: 260 ° C. or higher (2) IR (KBr, cm −1 ): 3060, 2970, 2920, 2840, 1757, 1222, 1179, 1077, 983, 928, 906, 842, 771, 740, 711 601,538,425.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ1.41 (d, J = 8 Hz, 24H), 5.01-5.10 (m, 4H), 7.45 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.78 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例15)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(i−ブトキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.58g(5.0ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド20g、塩化炭酸i−ブチル4.08g(30ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン4g(40ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド10g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を25g加えリスラリー後、吸引ろ過・水洗、メタノール洗い・乾燥し、5,6,11,12−[テトラ(i−ブトキシ)カルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン 2.3g(32ミリモル)の黄白色粉末を得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は64モル%であった。
(1)融点:180−181℃
(2)IR(KBr、cm−1):2960,2870,1763,1217,1177,1151,1084,1042,949,768,752.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.99(d,J=8Hz,24H),2.01−2.11(m,4H),4.12(d,J=9Hz,8H),7.45(t,J=9Hz,4H),7.80(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 15) 5,6,11,12-tetra (i-butoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 and nitrogen atmosphere in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser Below, 1.56 g (5.0 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2, 20 g of N, N-dimethylacetamide, i-chlorocarbonate 4.08 g (30 mmol) of butyl was charged. A solution of 4 g (40 mmol) of triethylamine in 10 g of N, N-dimethylacetamide was added to the pale yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 25 g of water was added to the obtained yellow-green slurry and reslurried, followed by suction filtration, washing with water, washing with methanol, and drying, 5,6,11,12- [tetra (i-butoxy) carbonyloxy) dibenzo [B, h] biphenylene 2.3 g (32 mmol) of yellowish white powder was obtained. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 64 mol%.
(1) Melting point: 180-181 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 2960, 2870, 1763, 1217, 1177, 1151, 1084, 1042, 949, 768, 752.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ0.99 (d, J = 8 Hz, 24H), 2.01-2.11 (m, 4H), 4.12 (d, J = 9 Hz, 8H), 7.45 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.80 (d, J = 9 Hz, 4H).

(合成実施例16)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.75g(5.5ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド20g、塩化炭酸2−エチルヘキシル5.0g(26ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン2.5g(25ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド5g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を15g加え、底に沈んだ薄橙色の水あめをよく水洗い・乾燥し、5,6,11,12−[テトラ(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン5.1g(52ミリモル)の薄橙色水あめを得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は96モル%であった。
(1)融点:室温水あめ状
(2)IR(ヌジョール、cm−1):2950,2915,2850,1770,1460、1217,1182,1153,940,766.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ0.82(t,J=8Hz,12H),0.92(t,J=9Hz,12H),1.21−1.48(m,32H),1.64−1.74(m,4H),4.28(t,J=8Hz,8H),7.44(t,J=9Hz,4H),7.79(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 16) 5,6,11,12-tetra (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene synthesis thermometer according to production route 2 and nitrogen in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser Under an atmosphere, 1.75 g (5.5 mmol) of 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 2, 20 g of N, N-dimethylacetamide, 2 carbonic acid chloride -5.0 g (26 mmol) of ethylhexyl was charged. A solution of 2.5 g (25 mmol) of triethylamine in 5 g of N, N-dimethylacetamide was added to the light yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 15 g of water was added to the resulting yellow-green slurry, and the pale orange candy that settled on the bottom was washed thoroughly with water and dried to give 5,6,11,12- [tetra (2-ethylhexyloxy) carbonyl Oxy) dibenzo [b, h] biphenylene 5.1 g (52 mmol) of pale orange candy was obtained. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 96 mol%.
(1) Melting point: room temperature candy-like (2) IR (Nujol, cm −1 ): 2950, 2915, 2850, 1770, 1460, 1217, 1182, 1153, 940, 766.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 0.82 (t, J = 8 Hz, 12H), 0.92 (t, J = 9 Hz, 12H), 1.21-1.48 (m, 32H), 1.64-1.74 (m, 4H), 4.28 (t, J = 8 Hz, 8H), 7.44 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.79 (d, J = 9Hz, 4H).

(合成実施例17)製造ルートその2による5,6,11,12−テトラ(アリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレンの合成
温度計、冷却器付きの100mlの三口フラスコに窒素雰囲気下、合成例2と同様にして合成した5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0g(3.2ミリモル)、N,N−ジメチルアセトアミド20g、塩化炭酸アリル1.92g(16ミリモル)を仕込んだ。薄黄色のスラリーにトリエチルアミン1.5g(15ミリモル)のN,N−ジメチルアセトアミド5g溶液を添加した。30分攪拌後、得られた黄緑色のスラリーに水を20g加えリスラリー後、吸引ろ過・水洗、メタノール洗い・乾燥し、5,6,11,12−(テトラアリルオキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン2.3g(35ミリモル)の黄白色粉末を得た。原料5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンに対する単離収率は70モル%であった。
(1)融点:181−182℃
(2)IR(KBr、cm−1):3065,2940、1767,1755,1216,1181,1150,1090,1045,991,979,956,930,821,755,614.
(3)H−NMR(400MHz,CDCl):δ4.82(d,J=8Hz,8H),5.33(d,J=9Hz,4H),5.45(d,J=17Hz,4H),5.97−6.09(m,4H),7.45(t,J=9Hz,4H),7.82(d,J=9Hz,4H).
(Synthesis Example 17) Synthesis route for 5,6,11,12-tetra (allyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene according to production route 2 in a 100 ml three-necked flask equipped with a condenser under nitrogen atmosphere 1,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene 1.0 g (3.2 mmol), N, N-dimethylacetamide 20 g, allyl chloride 1. 92 g (16 mmol) was charged. A solution of 1.5 g (15 mmol) of triethylamine in 5 g of N, N-dimethylacetamide was added to the pale yellow slurry. After stirring for 30 minutes, 20 g of water was added to the obtained yellow-green slurry and reslurried, followed by suction filtration, water washing, methanol washing and drying, and then 5,6,11,12- (tetraallyloxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] 2.3 g (35 mmol) of yellowish white powder was obtained. The isolated yield based on the raw material 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene was 70 mol%.
(1) Melting point: 181-182 ° C
(2) IR (KBr, cm −1 ): 3065, 2940, 1767, 1755, 1216, 1181, 1150, 1090, 1045, 991, 979, 956, 930, 821, 755, 614.
(3) 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ): δ 4.82 (d, J = 8 Hz, 8H), 5.33 (d, J = 9 Hz, 4H), 5.45 (d, J = 17 Hz, 4H), 5.97-6.09 (m, 4H), 7.45 (t, J = 9 Hz, 4H), 7.82 (d, J = 9 Hz, 4H).

以下に光カチオン硬化評価実施例を示す。 Examples of photocationic curing evaluation are shown below.

(評価実施例1)
光カチオン重合性化合物として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル社製 セロキサイド2021P)100部に、光重合開始剤4−イソブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート(ビーエーエスエフ社製イルガキュア250)2.0部と合成実施例1と同様にして合成した光重合増感剤5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0部を加え、均一な組成物とした。この組成物をバーコーターを用いてポリエステルフィルムルミラー(膜厚100ミクロン、ルミラーは東レ株式会社の登録商標)上に膜厚18ミクロンになるように塗布した。ついで岩崎電気製LHPUV365を用いて紫外線LEDを照射した。照射光の中心波長は365nmで照射強度は15mW/cm2である。べたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は14秒であった。
(Evaluation Example 1)
A photopolymerization initiator 4-isobutylphenyl-4′-methylphenyliodonium was added to 100 parts of 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021P, manufactured by Daicel) as a photocationically polymerizable compound. Photopolymerization sensitizer 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene 1 synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 with 2.0 parts of hexafluorophosphate (Irgacure 250 manufactured by BASF) 0.0 part was added to obtain a uniform composition. This composition was applied using a bar coater to a film thickness of 18 microns on a polyester film mirror (film thickness 100 microns, Lumirror is a registered trademark of Toray Industries, Inc.). Subsequently, ultraviolet LED was irradiated using LHPUV365 made from Iwasaki Electric. The central wavelength of the irradiation light is 365 nm and the irradiation intensity is 15 mW / cm 2 . The light irradiation time “tack free time” until stickiness disappears was 14 seconds.

(評価比較例1−1)
光重合増感剤として、5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンを使用しないこと以外は、評価実施例1と同様にして光重合性組成物を調製し、次いで光重合性組成物を塗布し、365nmのUV−LEDを用いて評価実施例1と同様の条件で光照射した。1000秒照射後も光硬化しなかった。
(Evaluation Comparative Example 1-1)
A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Evaluation Example 1 except that 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene was not used as a photopolymerization sensitizer, The polymerizable composition was applied, and irradiated with light under the same conditions as in Evaluation Example 1 using a 365-nm UV-LED. It was not photocured even after 1000 seconds of irradiation.

(評価比較例1−2)
光重合増感剤として、5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの代わりに公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンにすること以外は、評価実施例1と同様にして光重合性組成物を調製し、次いで光重合性組成物を塗布し、365nmのUV−LEDを用いて評価実施例1と同様の条件で光照射した。べたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は18秒であった。
(評価実施例2)
光カチオン重合性化合物として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル社製セロキサイド2021P)100部に、光重合開始剤4−イソブチルフェニル−4’−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート(ビーエーエスエフ社製イルガキュア250)2.0部と合成実施例1と同様にして合成した光重合増感剤5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0部を加え、均一な組成物とした。この組成物をバーコーターを用いてポリエステルフィルムルミラー(膜厚100ミクロン、ルミラーは東レ株式会社の登録商標)上に膜厚18ミクロンになるように塗布した。ついでPhoseon社製FireFly395を用いて紫外線LEDを照射した。照射光の中心波長は395nmで照射強度は25mW/cm2である。べたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は16秒であった。
(Evaluation Comparative Example 1-2)
Evaluation was made except that 9,10-dibutoxyanthracene, which is a known photopolymerization sensitizer, was used instead of 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene as the photopolymerization sensitizer. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1, then the photopolymerizable composition was applied, and irradiated with light under the same conditions as in Evaluation Example 1 using a 365-nm UV-LED. The light irradiation time “tack free time” until stickiness disappears was 18 seconds.
(Evaluation Example 2)
As a photocationically polymerizable compound, 100 parts of 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021P manufactured by Daicel) was added to a photopolymerization initiator 4-isobutylphenyl-4′-methylphenyliodonium hexa. Photopolymerization sensitizer 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 with 2.0 parts of fluorophosphate (Irgacure 250 manufactured by BASF). 0 parts was added to obtain a uniform composition. This composition was applied using a bar coater to a film thickness of 18 microns on a polyester film mirror (film thickness 100 microns, Lumirror is a registered trademark of Toray Industries, Inc.). Subsequently, ultraviolet LED was irradiated using FireFly395 of Phoseon. The central wavelength of the irradiation light is 395 nm and the irradiation intensity is 25 mW / cm 2 . The light irradiation time “tack free time” until stickiness disappears was 16 seconds.

(評価比較例2−1)
光重合増感剤として、5,6,11,12−テトラメトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンを使用しないこと以外は、評価実施例2と同様にして光重合性組成物を調製し、次いで光重合性組成物を塗布し、395nmのUV−LEDを用いて評価実施例2と同様の条件で光照射した。1000秒照射後も光硬化しなかった。
(Evaluation Comparative Example 2-1)
A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Evaluation Example 2, except that 5,6,11,12-tetramethoxydibenzo [b, h] biphenylene was not used as the photopolymerization sensitizer, The polymerizable composition was applied, and irradiated with light under the same conditions as in Evaluation Example 2 using a 395 nm UV-LED. It was not photocured even after 1000 seconds of irradiation.

評価実施例1と評価比較例1−1及び評価実施例2と評価比較例2−1を比較することにより明らかなように、光カチオン重合において365nm及び395nmの光照射のいずれの重合条件の場合においても、本発明の本発明の5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンを添加することによる著しい硬化速度の促進効果、すなわち光重合増感効果が認められる。更に、評価実施例1と評価実施例1−2を比較することで明らかなように、公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンよりもその増感効果が優れていることがわかる。 As is clear by comparing Evaluation Example 1 with Evaluation Comparative Example 1-1 and Evaluation Example 2 with Evaluation Comparative Example 2-1, in the case of any polymerization conditions of 365 nm and 395 nm light irradiation in the photocationic polymerization. Also, in the present invention, the remarkable curing rate promoting effect by adding 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene of the present invention, that is, photopolymerization sensitizing effect is recognized. Furthermore, as is clear by comparing Evaluation Example 1 and Evaluation Example 1-2, the sensitizing effect is superior to 9,10-dibutoxyanthracene, which is a known photopolymerization sensitizer. I understand.

次に、光ラジカル硬化評価実施例を示す。 Next, a photo-radical curing evaluation example is shown.

(評価実施例3)
光ラジカル重合性化合物として、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(大阪有機化学工業社製ビスコート400、ビスコートは大阪有機化学社の登録商標)100部に、光重合開始剤1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(ビーエーエスエフ社製イルガキュア184)1.0部と合成実施例9と同様にして合成した光重合増感剤5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1.0部を加え、均一な組成物とした。この組成物をバーコーターを用いてポリエステルフィルムルミラー(膜厚100ミクロン、ルミラーは東レ株式会社の登録商標)上に膜厚30ミクロンになるように塗布した。塗布した光重合性組成物上に膜厚50ミクロンのタックフィルムでカバーし、ついで紫外線LEDを照射した。照射光の中心波長は365nmで照射強度は10mW/cm2である。べたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は3秒であった。
(Evaluation Example 3)
As a photo-radically polymerizable compound, 100 parts of pentaerythritol tetraacrylate (Osaka Organic Chemical Co., Ltd. Biscoat 400, Biscoat is a registered trademark of Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), photopolymerization initiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by BISF) Irgacure 184) 1.0 part and 1.0 part of photopolymerization sensitizer 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 9 were added, and uniform. Composition. This composition was applied on a polyester film mirror (thickness: 100 microns, Lumirror is a registered trademark of Toray Industries, Inc.) to a thickness of 30 microns using a bar coater. The coated photopolymerizable composition was covered with a tack film having a thickness of 50 microns and then irradiated with an ultraviolet LED. The central wavelength of the irradiation light is 365 nm and the irradiation intensity is 10 mW / cm 2 . The light irradiation time “tack free time” until tackiness disappears was 3 seconds.

(評価比較例3−1)
光重合増感剤として、5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンを公知の光重合増感剤である9,10−ビスオクタノイルオキシアントラセンとすること以外は、評価実施例3と同様にして光重合性組成物を調製し、次いで光重合性組成物を塗布し、365nmのUV−LEDを用いて評価実施例3と同様の条件で光照射した。べたつき(タック)がなくなるまでの光照射時間「タック・フリー・タイム」は9秒であった。
(Evaluation Comparative Example 3-1)
As a photopolymerization sensitizer, except that 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene is used as 9,10-bisoctanoyloxyanthracene which is a known photopolymerization sensitizer. Then, a photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Evaluation Example 3, and then the photopolymerizable composition was applied and irradiated with light under the same conditions as in Evaluation Example 3 using a 365-nm UV-LED. The light irradiation time “tack free time” until tackiness disappears was 9 seconds.

(評価実施例3)と(評価比較例3−1)の結果の比較により、次のことが明らかである。本発明の5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンを光重合増感剤として光ラジカル重合させた場合優れた光重合増感効果を示し、タック・フリー・テストの結果からも、公知の光重合増感剤である9,10−ビス(オクタノイルオキシ)アントラセンに比べ同等程度以上の光重合増感能を有することがわかる。 Comparison of the results of (Evaluation Example 3) and (Evaluation Comparative Example 3-1) reveals the following. When the photoradical polymerization is performed using the 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene of the present invention as a photopolymerization sensitizer, it exhibits an excellent photopolymerization sensitization effect and is a tack-free test. From these results, it can be seen that the photopolymerization sensitizing ability is equivalent to or higher than 9,10-bis (octanoyloxy) anthracene which is a known photopolymerization sensitizer.

次に、光カチオン重合及び光ラジカル重合における耐マイグレーション性の評価実施例を示す。 Next, evaluation examples of migration resistance in photocationic polymerization and photoradical polymerization are shown.

(光カチオン重合における耐マイグレーション性の評価実施例)
(評価実施例4)
光カチオン重合性化合物として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル社製 セロキサイド2021P)100部に、光重合増感剤として合成実施例1と同様の方法によって合成した5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1部を混合し、調製した組成物をポリエステルフィルム上で膜厚が12ミクロンになるようにバーコーターを用いて塗布した。次いで、得られた塗布物上に低密度ポリエチレンフィルム(膜厚30ミクロン)を被せて、暗所で一日間保管したもの、二日間保管したもの、四日間保管したものを、それぞれ保管後、ポリエチレンフィルムを剥がし、ポリエチレンフィルムをアセトンで洗い乾燥した後、フィルムのUVスペクトルを測定し、304nmの吸光度を測定した。得られた5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの吸光度を9,10−ジブトキシアントラセン換算した。吸光度は、一日保管後0.10、二日保管後0.11、四日保管後0.11であった。
(Evaluation Example of Migration Resistance in Photocationic Polymerization)
(Evaluation Example 4)
In the same manner as in Synthesis Example 1 as a photopolymerization sensitizer, 100 parts of 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021P manufactured by Daicel) was used as the photocationically polymerizable compound. 1 part of the synthesized 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene was mixed, and the prepared composition was coated on a polyester film using a bar coater so that the film thickness was 12 microns. . Next, a low-density polyethylene film (film thickness of 30 microns) was put on the obtained coating and stored in the dark for one day, stored for two days, or stored for four days. The film was peeled off, the polyethylene film was washed with acetone and dried, then the UV spectrum of the film was measured, and the absorbance at 304 nm was measured. The absorbance of the obtained 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene was converted to 9,10-dibutoxyanthracene. The absorbance was 0.10 after 1 day storage, 0.11 after 2 days storage, and 0.11 after 4 days storage.

(評価比較例4)
光重合増感剤として5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの代わりに公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンを使用すること以外は評価実施例4と同様に調製した。アセトン洗いしたポリエチレンフィルムの260nmの吸光度を測定した結果、9,10−ジブトキシアントラセンの吸光度は、一日保管後0.68、二日保管後0.72、四日保管後0.74であった。
(Evaluation Comparative Example 4)
Evaluation was performed except that 9,10-dibutoxyanthracene, which is a known photopolymerization sensitizer, was used instead of 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene as a photopolymerization sensitizer. Prepared as in Example 4. As a result of measuring the absorbance at 260 nm of the polyethylene film washed with acetone, the absorbance of 9,10-dibutoxyanthracene was 0.68 after 1 day storage, 0.72 after 2 days storage, and 0.74 after 4 days storage. It was.

(光ラジカル重合における耐マイグレーション性の評価実施例)
(評価実施例5)
光ラジカル重合性化合物としてトリメチロールプロパントリアクリレート100部に対し、合成実施例9と同様の方法で合成した5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン1部を混合し、調製した組成物をポリエステルフィルム上で膜厚が12ミクロンになるようにバーコーターを用いて塗布した。次いで、得られた塗布物上に低密度ポリエチレンフィルム(膜厚30ミクロン)を被せて、暗所で一日間保管したもの、二日間保管したもの、四日間保管したものを、それぞれ保管後、ポリエチレンフィルムを剥がし、ポリエチレンフィルムをアセトンで洗い乾燥した後、フィルムのUVスペクトルを測定し、295nmの吸光度を測定した。得られた5,6,11,12−テトラオクタノイルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの吸光度を9,10−ジブトキシアントラセン換算した。吸光度は、一日保管後0.001、二日保管後0.0015、四日保管後0.001であった。
(Evaluation Example of Migration Resistance in Photoradical Polymerization)
(Evaluation Example 5)
1 part of 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene synthesized in the same manner as in Synthesis Example 9 was mixed with 100 parts of trimethylolpropane triacrylate as a photoradical polymerizable compound. The prepared composition was applied on a polyester film using a bar coater so as to have a film thickness of 12 microns. Next, a low-density polyethylene film (film thickness of 30 microns) was put on the obtained coating and stored in the dark for one day, stored for two days, or stored for four days. The film was peeled off, the polyethylene film was washed with acetone and dried, then the UV spectrum of the film was measured, and the absorbance at 295 nm was measured. The absorbance of the obtained 5,6,11,12-tetraoctanoyloxydibenzo [b, h] biphenylene was converted to 9,10-dibutoxyanthracene. The absorbance was 0.001 after 1 day storage, 0.0015 after 2 days storage, and 0.001 after 4 days storage.

(評価比較例5)
光重合増感剤として5,6,11,12−テトラエトキシジベンゾ[b,h]ビフェニレンの代わりに公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンを使用すること以外は評価実施例3と同様に調製した。アセトン洗いしたポリエチレンフィルムの260nmの吸光度を測定した結果、9,10−ジブトキシアントラセンの吸光度は、一日保管後1.14、二日保管後1.24、四日保管後1.20であった。
(Evaluation Comparative Example 5)
Evaluation was performed except that 9,10-dibutoxyanthracene, which is a known photopolymerization sensitizer, was used instead of 5,6,11,12-tetraethoxydibenzo [b, h] biphenylene as a photopolymerization sensitizer. Prepared as in Example 3. As a result of measuring the absorbance at 260 nm of the polyethylene film washed with acetone, the absorbance of 9,10-dibutoxyanthracene was 1.14 after 1 day storage, 1.24 after 2 days storage, and 1.20 after 4 days storage. It was.

以上の結果より、本発明の5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物は、光カチオン重合及び光ラジカル重合において、公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンと比較して、同等の光重合増感能を有するだけでなく、重合性組成物上に被せたポリエチレンフィルムへの移行割合が公知の光重合増感剤である9,10−ジブトキシアントラセンよりも著しく低いことから、耐マイグレーション性が高い優れた化合物であり、光重合増感剤として極めて有用な化合物であることが判る。
From the above results, the 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound of the present invention is a known photopolymerization sensitizer in photocationic polymerization and photoradical polymerization. , 10-Dibutoxyanthracene has not only the same photopolymerization sensitizing ability, but also a transfer rate to a polyethylene film placed on the polymerizable composition is a known photopolymerization sensitizer. Since it is remarkably lower than 10-dibutoxyanthracene, it can be seen that it is an excellent compound with high migration resistance and is a very useful compound as a photopolymerization sensitizer.

Claims (9)

一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物。

(一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

(In General Formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, X is a hydrogen atom, 8 represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(2)で表される5,6,11,12−テトラアルコキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物。

(一般式(2)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
5,6,11,12-tetraalkoxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (2).

(In General Formula (2), R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
5,6,11,12−テトラアシルオキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物。

(一般式(3)において、Rは炭素数1から10のアルキル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
5,6,11,12-tetraacyloxydibenzo [b, h] biphenylene compound.

(In General Formula (3), R 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(4)で表される5,6,11,12−テトラ(アルコキシカルボニルオキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物を提供する。

(一般式(4)において、Rは炭素数1から10のアルキル基又はアリル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
There is provided a 5,6,11,12-tetra (alkoxycarbonyloxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (4).

(In General Formula (4), R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an allyl group, and X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. .)
一般式(5)で表わされる5,6,11,12−テトラオキソ−5a,5b,11a,11b−テトラヒドロジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物をエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤と反応させることによる、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法。

(一般式(5)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)

(一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
Reaction of 5,6,11,12-tetraoxo-5a, 5b, 11a, 11b-tetrahydrodibenzo [b, h] biphenylene compound represented by general formula (5) with an etherifying agent, acylating agent or carbonic acid esterifying agent To produce a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

(In General Formula (5), X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)

(In General Formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, X is a hydrogen atom, 8 represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(6)で表わされる5,6,11,12−テトラヒドロキシジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物をエーテル化剤、アシル化剤又は炭酸エステル化剤と反応させることによる、一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物の製造方法。

(一般式(6)において、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)

(一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
By reacting the 5,6,11,12-tetrahydroxydibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (6) with an etherifying agent, an acylating agent or a carbonic acid esterifying agent, the general formula (1) A process for producing a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the formula:

(In General Formula (6), X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)

(In General Formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, X is a hydrogen atom, 8 represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
一般式(1)で表される5,6,11,12−テトラ(置換オキシ)ジベンゾ[b,h]ビフェニレン化合物からなる光重合増感剤。

(一般式(1)において、Aは炭素数1から10のアルキル基、炭素数2から11のアシル基又は炭素数2から11の炭酸エステル基を表し、Xは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を表す。)
A photopolymerization sensitizer comprising a 5,6,11,12-tetra (substituted oxy) dibenzo [b, h] biphenylene compound represented by the general formula (1).

(In General Formula (1), A represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 2 to 11 carbon atoms, or a carbonic acid ester group having 2 to 11 carbon atoms, X is a hydrogen atom, 8 represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.)
請求項7記載の光重合増感剤、光重合開始剤、及び重合性化合物を含有する光重合性組成物。 A photopolymerizable composition comprising the photopolymerization sensitizer according to claim 7, a photopolymerization initiator, and a polymerizable compound. 請求項8記載の光重合性組成物に、波長300nmから400nmの範囲の光を含むエネルギー線を照射することにより硬化する、硬化方法。 The hardening method which hardens | cures by irradiating the photopolymerizable composition of Claim 8 with the energy ray containing the light of the wavelength of the range of 300 nm to 400 nm.
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