JP2017109295A - Polishing device - Google Patents
Polishing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017109295A JP2017109295A JP2015257779A JP2015257779A JP2017109295A JP 2017109295 A JP2017109295 A JP 2017109295A JP 2015257779 A JP2015257779 A JP 2015257779A JP 2015257779 A JP2015257779 A JP 2015257779A JP 2017109295 A JP2017109295 A JP 2017109295A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- polishing
- workpiece
- auxiliary
- wheel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、プロファイル研磨を行う研磨加工装置に関する。 The present invention relates to a polishing apparatus that performs profile polishing.
従来からプロファイル研磨を行う研磨加工装置では、円盤状の回転砥石を被加工物に接触させながら徐々に移動させていく研磨方法が用いられている。この種の研磨加工装置で用いる研磨工具としては、例えば、ロウ付けダイヤモンド層を含むロータリードレッシング工具(特許文献1参照)が用いられている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a polishing apparatus that performs profile polishing uses a polishing method in which a disk-shaped rotating grindstone is gradually moved while being in contact with a workpiece. As a polishing tool used in this type of polishing apparatus, for example, a rotary dressing tool including a brazing diamond layer (see Patent Document 1) is used.
研磨工具として円盤状のロータリードレッシング工具を用いる代わりに研磨ワイヤを用いたものとしては、ワイヤ研磨加工装置及びワイヤ研磨加工方法(特許文献2参照)が提案されている。また、研磨ワイヤとしてダイヤモンドワイヤを用いたものとしては、裁断刃の研磨方法及び装置(特許文献3参照)が提案されている。 As a polishing tool using a polishing wire instead of a disk-shaped rotary dressing tool, a wire polishing apparatus and a wire polishing method (see Patent Document 2) have been proposed. Moreover, as a thing using a diamond wire as a grinding | polishing wire, the grinding | polishing method and apparatus of a cutting blade (refer patent document 3) are proposed.
特許文献1に記載された研磨工具は、外周縁に研磨リムを有したロータリードレッシング工具として構成されており、このロータリードレッシング工具を用いた加工例として、研磨砥石のプロファイル面を形直しする加工例が示されている。 The polishing tool described in
特許文献2に記載されたワイヤ研磨加工装置では、片持ち支持された被加工物が片持ち支持された基端部から先端部に行くのに従って下方向に撓むことを考慮に入れたものであり、研磨ワイヤが研磨しながら被加工物の基端部から先端部に移動するのに従って、被加工物を押し付けている研磨ワイヤの加工荷重を減少させている。 The wire polishing apparatus described in
即ち、片持ち支持された被加工物の基端部から先端部に掛けての長さ方向における撓み曲線に対応させるようにして、研磨ワイヤから被加工物に加える加工荷重の大きさを先端部に行くのに従って減少させている。これによって、加工荷重と加工荷重を加えたときの被加工物からの反力とを被加工物の長さ方向に亘って均衡させることができ、被加工物に対して均一の研磨を行うことができる構成になっている。 That is, the size of the processing load applied to the workpiece from the polishing wire is adjusted so as to correspond to the bending curve in the length direction from the base end portion to the tip end portion of the workpiece supported by the cantilever. Decreasing as you go. As a result, the machining load and the reaction force from the workpiece when the machining load is applied can be balanced over the length of the workpiece, and the workpiece can be uniformly polished. It is configured to be able to.
特許文献3に記載された研磨装置では、ダイヤモンド砥粒が固着されたダイヤモンドワイヤが使用されており、2つのガイドローラ間にダイヤモンドワイヤを走行させている。そして、2つのガイドローラの間に配した被加工物を走行するダイヤモンドワイヤで研磨する構成になっている。 In the polishing apparatus described in
特許文献1に記載された研磨工具を用いた構成では、回転しているロータリードレッシング工具が長時間に亘り被加工物と接触した状態になり、ロータリードレッシング工具に高熱が発生して、発生した高熱によって被加工物が変形するという問題が生じる。また、ロータリードレッシング工具自体も外周表面のみで被加工物と接触する構成であるため、研磨加工中にロータリードレッシング工具自体が摩耗してその外周径が変化することになる。その結果、加工精度が低下するという問題も生じる。 In the configuration using the polishing tool described in
特許文献2に記載されたワイヤ研磨加工装置では、研磨ワイヤが走行しながら被加工物を研磨していく構成のため、被加工物に接触している研磨ワイヤの箇所は、研磨ワイヤの走行に伴って順次移動していくことになる。そのため、回転式の研磨工具における上述した問題を解決することができる。 In the wire polishing apparatus described in
しかし、可撓性の研磨ワイヤを用いた構成のため、被加工物に対して加工荷重を加えると、被加工物からの反力によって研磨ワイヤ自体が変形することになる。研磨ワイヤが被加工物からの反力によって変形すると、加工荷重の大きさも変化することになり、被加工物を研磨ワイヤによって均一に研磨することができなくなる。また、研磨ワイヤは、被加工物に対して接線方向に接触することがなくなり、変形した曲線部で被加工物を研磨することになり、正確なプロファイル研磨が行えなくなる。
この被加工物からの反力によって研磨ワイヤが変形することに関して、特許文献2では問題の認識や研磨ワイヤの変形に対する解決策は、開示も示唆もされていない。However, because of the configuration using a flexible polishing wire, when a processing load is applied to the workpiece, the polishing wire itself is deformed by a reaction force from the workpiece. When the polishing wire is deformed by the reaction force from the workpiece, the magnitude of the processing load also changes, and the workpiece cannot be uniformly polished by the polishing wire. Further, the polishing wire does not contact the workpiece in the tangential direction, and the workpiece is polished by the deformed curved portion, so that accurate profile polishing cannot be performed.
With respect to the deformation of the polishing wire due to the reaction force from the workpiece,
特許文献3には、ダイヤモンドワイヤを用いて研磨を行う構成は開示されているが、上述した特許文献2における研磨ワイヤの場合と同様に、ダイヤモンドワイヤも被加工物からの反力によって変形することになる。しかし、特許文献3においても、ダイヤモンドワイヤが反力によって変形する問題に関する認識や、これに対する解決策は、開示も示唆もされていない。
本発明は、上述した問題を解決するためになされたものであり、高い研磨精度を維持することができ、研磨工具自体の摩耗も少なくすることができる研磨加工装置の提供を課題としている。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a polishing apparatus that can maintain high polishing accuracy and can reduce wear of the polishing tool itself.
上記課題を解決するため本発明に係る研磨加工装置は、研磨砥粒を表面に分散固着した研磨ワイヤと、複数のホイール間に張架させて、前記研磨ワイヤを走行させるワイヤ走行機構と、前記研磨ワイヤに当接して前記研磨ワイヤの走行と等速で並走する長尺の補助ワイヤと、を備え、
前記補助ワイヤが、前記研磨ワイヤの走行方向と交差する左右方向への前記研磨ワイヤの移動を規制する形状を有するとともに、前記研磨ワイヤの撓みを抑制していることを最も主要な特徴としている。In order to solve the above problems, a polishing apparatus according to the present invention includes a polishing wire in which abrasive grains are dispersed and fixed on a surface, a wire traveling mechanism that stretches between a plurality of wheels and causes the polishing wire to travel, and A long auxiliary wire that contacts the polishing wire and runs parallel to the polishing wire at a constant speed;
The main feature is that the auxiliary wire has a shape that restricts the movement of the polishing wire in the left-right direction intersecting the traveling direction of the polishing wire and suppresses the bending of the polishing wire.
本発明に係る研磨加工装置では、研磨ワイヤを用いてプロファイル研磨を行うことができ、しかも、高い研磨精度を維持することができて、研磨工具自体の摩耗も少なくすることができる。 In the polishing apparatus according to the present invention, profile polishing can be performed using a polishing wire, high polishing accuracy can be maintained, and wear of the polishing tool itself can be reduced.
本発明に係る研磨加工装置の実施例1について、添付図面に基づいて以下において具体的に説明する。本発明に係わる研磨加工装置としては、本発明の課題を解決することができる形状、構成であれば、それらの形状、構成を採用することができる。そのため、本発明は、以下に説明する実施例の構成に限定されるものではなく、多様な変更が可能である。
また、各実施例の説明において、同一の部材に関しては同一の部材符号を用いることで重複した説明を省略している。
Further, in the description of each embodiment, the same member is denoted by the same reference numeral for the same member, and redundant description is omitted.
図1〜図4を用いて、本発明に係る研磨加工装置の実施例1の構成を説明する。図1には、移動機構3に備えたチャックに被加工物1が把持され、被加工物1の先端部に対してプロファイル加工を施すため、3つのホイール20間には無端状に掛け回された研磨ワイヤ10が張架されている。3つのホイール20のうち適宜のホイールを、駆動ホイールとして構成しておくことができ、ホイール20間に張架されている研磨ワイヤ10を時計回り方向や反時計回り方向に走行させることができる。 The configuration of the first embodiment of the polishing apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, the
移動機構3は、チャックを回転させることにより被加工物1をその回転軸回りに回転させることができ、また、被加工物1を上記回転軸に沿って移動させたり、前記回転軸と直交する方向に移動させたりすることができる。 The
図示例では、研磨ワイヤ10は、被加工物1の外周の長手方向に沿って走行することで、被加工物1の外周縁を研磨することができる構成になっているが、図4に示すように、研磨ワイヤ10を被加工物1の長手方向と直交する方向、即ち、紙面に垂直な方向に走行するように構成しておくこともできる。また、ホイール20を上記回転軸に対して直交する方向に移動させるように構成しておくことができる。 In the illustrated example, the
なお、ホイール20を研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13と共に上記回転軸に対して直交する方向に移動させるワイヤ走行機構18としては、その構成の具体的な図示例を省略しているが、従来から公知の研磨工具の移動機構を用いることができ、その図示は省略している。 In addition, although the illustration example of the structure is abbreviate | omitted as the
研磨ワイヤ10を被加工物1の外周の長手方向に沿って走行させることにより、被加工物1の研磨箇所を線状に研磨することができる。そして、被加工物1が円筒形状であれば、研磨ワイヤ10で被加工物1を直線状に研磨して、順次移動機構3を駆動して被加工物1を回転駆動させることにより、被加工物1の研磨箇所を全周に亘って研磨加工を施すことができる。 By causing the
以下における実施例の説明では、研磨ワイヤ10としてダイヤモンドワイヤを用いた構成について説明を行うが、本発明に係る研磨ワイヤ10としてはダイヤモンドワイヤに限定されるものではなく、被加工物1の材質に応じた研磨を行うことのできる研磨砥粒を分散固着した研磨ワイヤ10を用いることができる。そのための研磨砥粒としては、例えば、ダイヤモンド粒やCBN粒(立方晶窒化ホウ素粒)、Si粒(炭化ケイ素粒)等を用いることができる。 In the following description of the embodiment, a configuration using a diamond wire as the
研磨ワイヤ10の断面形状としては、図1のA−A断面図である図2(a)〜図2(c)に示したような断面形状を備えさせておくことができる。図2(a)には、ダイヤモンド粒を固着した砥粒固着部12を研磨ワイヤ10の芯線11aの外周面に形成した形状を示しており、図2(b)には、後述する補助ワイヤ13で研磨ワイヤ10の芯線11bを形成し、芯線11bにおける研磨ワイヤ10の研磨面と部位のみに砥粒固着部12を形成した形状を示している。また、図2(c)には、芯線11bにおける研磨ワイヤ10の研磨面と部位のみに砥粒固着部12を形成した形状を示している。補助ワイヤ13で研磨ワイヤ10の芯線11bを形成した構成としては、図2(b)の構成に限定されるものではなく、図9のように構成しておくこともできる。 As a cross-sectional shape of the
研磨ワイヤ10には、図1及び図2(a)〜図2(c)に示したように、研磨ワイヤ10の撓みを抑制するため、研磨ワイヤ10の研磨面に対して反対側の面から当接して、少なくとも研磨領域において研磨ワイヤ10が撓むのを防止する補助ワイヤ13が設けられている。 As shown in FIG. 1 and FIGS. 2A to 2C, the
補助ワイヤ13を研磨ワイヤ10と一体的に走行させることにより、研磨ワイヤ10がホイール20と直接接触することを防止することができ、ホイール20のガイド溝が研磨ワイヤ10によって研磨されて摩耗するのを防ぐことができる。 By running the
即ち、参考図としての図10に示したように、研磨ワイヤ10をホイール20で直接支持すると、走行する研磨ワイヤ10によってホイール20のガイド溝21は研磨されてしまうことになる。 That is, as shown in FIG. 10 as a reference diagram, when the
図1の場合には、研磨領域に配設したホイール20と当該ホイール20に支持された補助ワイヤ13とによって、研磨ワイヤ10の撓みを抑制して、精密な研磨加工が行えるように構成されている。研磨領域に配設したホイール20は、研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13が変形するのを抑制する支持部材としても機能している。 In the case of FIG. 1, the
補助ワイヤ13は、研磨ワイヤ10の撓みを抑制するため、上下方向に所望の厚みを有している。補助ワイヤ13の研磨ワイヤ10に当接する一端面には、研磨ワイヤ10の芯線11aを支持できるよう凹状に形成されており、凹状の形状は、研磨ワイヤ10の外周面における略半周面の部位全面に当接することができる。 The
そして、補助ワイヤ13の端面に形成した凹状の内表面形状は、研磨ワイヤ10の外周面形状に倣った形状に形成されており、内表面形状における一対の端縁部15によって、研磨ワイヤ10が走行中に、走行方向と交差する左右方向にブレながら移動するのを防止している。 The concave inner surface shape formed on the end surface of the
また、補助ワイヤ13の他端面側は、ホイール20との接触面積を大きくするため四角形状に形成されている。補助ワイヤ13を研磨ワイヤ10と一体的に走行させることにより、研磨ワイヤ10がホイール20と直接接触することを防止し、ホイール20の摩耗を防ぐことができる。このため、補助ワイヤ13としては、ホイール20に対して摩耗が少ない材質で、駆動ホイール20からの駆動力を受けることのできる材質を用いて構成しておくことができる。例えば、補助ワイヤ13として、樹脂材等を用いることができる。 Further, the other end surface side of the
図1における3つのホイール20のうちで、駆動ホイールを除いた従動ホイールのガイド溝21には、補助ワイヤ13との間に生じる摺動抵抗を低下させるため摩擦防止部材14が設けられている。駆動ホイールとしては、被加工物1に近接した位置に配したホイール20を駆動ホイールとして構成しておくことも、被加工物1から離間した位置に配したホイールを駆動ホイールとして構成しておくこともできる。あるいは、複数のホイール20を駆動ホイールとして構成しておくこともできる。 Among the three
各ホイール20は、回転軸22と回転軸22に固定されたストッパー26とを備えた構成になっており、図2では駆動ホイールとしての構成を図示している。即ち、駆動ホイールは、回転軸22に固定されて回転軸22からの駆動力によって補助ワイヤ13及び研磨ワイヤ10を長手方向に走行させることができる。
また、図示を省略しているが、ホイール20のうちで従動ホイールは、回転軸22に固定された一対のストッパー26に挟まれた形で回転軸22に回転支持されている。Each
Although not shown, the driven wheel of the
図1では、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを一体的に構成した構成例を示しているが、図3に示すように、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを別体に構成しておくこともできる。研磨ワイヤ10は、例えば、巻装されている一方の巻取り・巻戻しリール23から巻戻して、他方の巻取り・巻戻しリール24に巻取りながら、研磨領域では補助ワイヤ13と一体的に走行させることができる。巻取り・巻戻しリール23、24は、駆動軸25によって、正逆転駆動される。 FIG. 1 shows a configuration example in which the
一方の巻取り・巻戻しリール23からの巻戻しが終了したら、今度は逆に他方の巻取り・巻戻しリール24から巻戻しを行い、一方の巻取り・巻戻しリール23で巻取りを行わせることで、双方向に亘って研磨ワイヤ10を走行させることができる。これにより、繰り返し双方向に研磨ワイヤ10を走行させて被加工物1に対する研磨加工を施すことができる。実施例1における構成では、被加工物1を点状に研磨することができるので、微細な箇所に対する研磨加工としての効果を奏することができる。 When the rewinding from one winding / rewinding
図5〜図7を用いて、本発明に係る実施例2の構成について説明する。実施例1では、被加工物1に対する研磨箇所に配したホイール20で、研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13を支持しながら研磨ワイヤ10で被加工物1を研磨する研磨加工装置の構成について説明を行った。本発明に係る実施例2では、被加工物1側に配設した一対のホイール20a、20b間に研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13を張架して、張架した研磨ワイヤ10で被加工物1の長手方向への研磨を行う研磨加工装置の構成について説明する。 The configuration of the second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the first embodiment, the configuration of a polishing apparatus that polishes the
なお、ホイール20を研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13と共に被加工物1に対して近接する方向に移動させるワイヤ走行機構18としては、その構成の具体的な図示例を省略しているが、従来から公知の研磨工具の移動機構を用いることができ、その図示は省略している。 In addition, although the illustration example of the structure is abbreviate | omitted as the
そして、一対のホイール20a、20b間での研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13の変形を抑制するため、支持部材としてのガイド板30が研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13の走行方向に沿って配設されている。ガイド板30の表面には、補助ワイヤ13との間での摩擦力を低減させるための摩擦防止部材14が設けられている。また、必要に応じて一対のホイール20a、20bの各ガイド溝31に摩擦防止部材を構成しておくこともできる。 And in order to suppress the deformation | transformation of the grinding | polishing
実施例2における他の構成は、実施例1における構成と同様の構成になっており、実施例1と同様の構成については同一の部材符号を用いることで重複した説明を省略する。
図5では、研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13が無端状に4つのホイール20に張架された構成を示しており、4つのホイール20のうち適宜のホイール20を駆動ホイールと従動ホイールとして構成しておくことができる。Other configurations in the second embodiment are the same as the configurations in the first embodiment, and the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
FIG. 5 shows a configuration in which the
駆動ホイールを正逆転させることにより、ホイール20間に張架されている研磨ワイヤ10を時計回り方向や反時計回り方向に走行させることができる。各ホイール20は、実施例1で説明したと同様の構成を備えており、各ホイール20のうちで駆動ホイールを駆動させることで、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを一体的に走行させることができる。 By rotating the drive wheel forward and backward, the
研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13の構成としては、図6(a)〜図6(c)のいずれかの構成としておくことができる。図6(a)〜図6(c)に示した研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13の構成は、実施例1の図2で示した構成と同様の構成になっている。
研磨位置を移動する場合は、被加工物1或いは研磨ワイヤ10のワイヤ走行機構18のどちらかを動かすことにより行うことができる。As a structure of the
The polishing position can be moved by moving either the
ガイド板30と研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13との関係は、図6(a)〜図6(c)に示す構成になっている。図示例では、ガイド板30の板厚は、ホイール20の直径と略等しい厚さを有した構成例を示しているが、ガイド板30の剛性等やガイド板30を支持する支持構造等によっては、ガイド板30の板厚としては、研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13の変形を抑制することができる適宜の板厚に構成しておくことができる。 The relationship between the
補助ワイヤ13の走行方向に対して左右方向に補助ワイヤ13が移動するのを抑制するため、補助ワイヤ13の走行方向に沿って延びたガイド溝31を形成しておくことができる。 In order to suppress the movement of the
図5では、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを一体的に構成した構成例を示しているが、図7に示すように、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを別体に構成しておくこともできる。研磨ワイヤ10は、例えば、巻装されている一方の巻取り・巻戻しリール23から巻戻して、他方の巻取り・巻戻しリール24に巻取りながら、一対のホイール20a、20b間の研磨領域では補助ワイヤ13と一体的に走行させることができる。巻取り・巻戻しリール23、24は、駆動軸25によって、正逆転駆動される。 FIG. 5 shows a configuration example in which the
一方の巻取り・巻戻しリール23からの巻戻しが終了したら、今度は逆に他方の巻取り・巻戻しリール24から巻戻しを行い、一方の巻取り・巻戻しリール23によって巻取りを行わせることで、研磨ワイヤ10を双方向に亘って走行させることができる。これにより、繰り返し双方向に亘って研磨ワイヤ10を走行させることができ、被加工物1に対する研磨加工を効率よく施すことができる。 When the rewinding from one winding / rewinding
実施例2のように構成しておくことにより、被加工物1を一度に直線状に研磨することができ、広範囲の研磨面に対して効率よく研磨加工を施すことができる。 By configuring as in the second embodiment, the
図8を用いて、本発明に係る実施例2の構成について説明する。実施例1、2では、被加工物1の外周面を研磨する研磨加工装置の構成について説明を行った。本発明に係る実施例3では、被加工物1に形成した貫通孔2の内表面を研磨する研磨加工装置の構成について説明する。 The configuration of the second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In the first and second embodiments, the configuration of the polishing apparatus that polishes the outer peripheral surface of the
実施例3における他の構成は、実施例2における構成と同様の構成になっており、実施例2と同様の構成については同一の部材符号を用いることで重複した説明を省略する。また、図8では、研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13を無端状に配設した構成を示しているが、図7に示したように、研磨ワイヤ10を補助ワイヤ13とは別体に構成しておくこともできる。 Other configurations in the third embodiment are the same as the configurations in the second embodiment, and the same components as those in the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. 8 shows a configuration in which the
この場合には、図7に示した巻取り・巻戻しリール23、24と同様の巻取り・巻戻しリールを少なくとも貫通孔2の内表面を研磨する研磨ワイヤ10を張架させておくように配設しておくことが望ましい構成となる。 In this case, a winding wire / rewinding reel similar to the winding / rewinding
なお、ホイール20を研磨ワイヤ10及び補助ワイヤ13と共に被加工物1に対して近接する方向に移動させるワイヤ走行機構18としては、その構成の具体的な図示例を省略しているが、従来から公知の研磨工具の移動機構を用いることができ、その図示は省略している。 In addition, although the illustration example of the structure is abbreviate | omitted as the
図8に示すように、被加工物1の貫通孔2内の内表面研磨を行う場合でも、少なくとも図5、図7に示した実施例2の構成と同様に構成しておくことができ、研磨ワイヤ10は4個のホイール20を介して閉ループ状に張架されている。4個のホイール20のうちで、駆動ホイールを回転駆動させることで、研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とを一体的に走行させることができる。 As shown in FIG. 8, even when the inner surface polishing in the through
研磨領域で研磨ワイヤ10と補助ワイヤ13とが変形するのを抑制するため、貫通孔2内にもガイド板32の一部が挿入されている。貫通孔2内にガイド板32を挿入させることができない場合には、貫通孔2の入り口近傍と出口近傍までそれぞれガイド板32を配設した構成にしておき、研磨箇所において研磨ワイヤ10や補助ワイヤ13が変形しないように構成しておくことができる。補助ワイヤ13を当接させながら摺接させるガイド板32の表面には、摩擦防止部材14を形成しておくことができる。
研磨位置を移動する場合は、移動機構3あるいはワイヤ走行機構のどちらかを作動させることにより行うことができる。In order to suppress deformation of the
The polishing position can be moved by operating either the moving
上述した各実施例では、研磨ワイヤ10を無端状の閉ループ状に張架して研磨を行う構成やコイル状に巻き上げた巻取り・巻戻しリールから研磨ワイヤ10の巻戻しと巻取りとを行う構成を例に挙げて説明したが、本発明に係る実施例の構成では、これらの構成に限定されるものではなく、研磨ワイヤ10の両端を固定して研磨ワイヤ10を往復走行させる構成等も採用することができる。 In each of the above-described embodiments, the
このように、本発明に係る研磨加工装置では、走行する研磨ワイヤを支持するホイールやガイド板の摩耗を防止し、また研磨ワイヤの走行中に左右方向にブレて走行経路が変化するのも防止できるため、研磨加工装置の保守点検を容易にすることができ、また研磨加工の精度も向上することができる。 As described above, in the polishing apparatus according to the present invention, wear of the wheel and guide plate that supports the traveling polishing wire is prevented, and the traveling path is also prevented from being shaken in the left-right direction while the polishing wire is traveling. Therefore, the maintenance and inspection of the polishing apparatus can be facilitated, and the accuracy of the polishing process can be improved.
走行する研磨ワイヤを用いて研磨加工を行う研磨加工装置として、本発明に係る技術を利用することができる。 The technology according to the present invention can be used as a polishing apparatus that performs polishing using a traveling polishing wire.
1・・・被加工物、2・・・貫通孔、3・・・移動機構、10・・・研磨ワイヤ、11、11a、11c・・・芯線、11b・・・補助ワイヤを兼ねた芯線、12・・・砥粒固着部、13・・・補助ワイヤ、14・・・摩擦防止部材、15・・・端縁部、18・・・ワイヤ走行機構、20、20a、20b・・・ホイール、21・・・ガイド溝、22・・・回転軸、23、24・・・巻取り・巻戻しリール、25・・・回転軸、26・・・ストッパー、30・・・ガイド板、31・・・ガイド溝、32・・・ガイド板。 DESCRIPTION OF
Claims (8)
複数のホイール間に張架させて、前記研磨ワイヤを走行させるワイヤ走行機構と、
前記研磨ワイヤに当接して前記研磨ワイヤの走行と等速で並走する長尺の補助ワイヤと、
を備え、
前記補助ワイヤが、前記研磨ワイヤの走行方向と交差する左右方向への前記研磨ワイヤの移動を規制する形状を有するとともに、前記研磨ワイヤの撓みを抑制していることを特徴とする研磨加工装置。A polishing wire having abrasive grains dispersed and fixed on the surface;
A wire traveling mechanism that stretches between a plurality of wheels and travels the polishing wire;
A long auxiliary wire that abuts the polishing wire and runs parallel to the polishing wire at a constant speed;
With
The polishing apparatus characterized in that the auxiliary wire has a shape that restricts movement of the polishing wire in the left-right direction intersecting the traveling direction of the polishing wire, and suppresses bending of the polishing wire.
前記支持部材における前記補助ワイヤとの当接面に摩擦防止部材が設けられ、
前記支持部材が、一対の前記ホイール間に配されたガイド板及び/又は前記ホイールのうちの従動ホイールであることを特徴とする請求項1または2に記載の研磨加工装置。A support member that suppresses deformation of the auxiliary wire is disposed in a polishing region for polishing the workpiece with the polishing wire,
A friction preventing member is provided on a contact surface of the support member with the auxiliary wire,
The polishing apparatus according to claim 1, wherein the support member is a guide plate disposed between a pair of the wheels and / or a driven wheel of the wheels.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015257779A JP2017109295A (en) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | Polishing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015257779A JP2017109295A (en) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | Polishing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017109295A true JP2017109295A (en) | 2017-06-22 |
Family
ID=59079104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015257779A Pending JP2017109295A (en) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | Polishing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017109295A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110370179A (en) * | 2019-07-31 | 2019-10-25 | 王占锋 | A kind of method of diamond abrasive band, rapid stock-removal silicon single crystal rod outer circle device and rapid stock-removal silicon single crystal rod outer circle |
CN111716209A (en) * | 2020-07-09 | 2020-09-29 | 横店集团英洛华电气有限公司 | Polishing assembly |
CN113352154A (en) * | 2021-07-04 | 2021-09-07 | 兴化市富翔不锈钢制品有限公司 | Novel terrace die blade repairing and forming device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0911109A (en) * | 1995-06-24 | 1997-01-14 | Kobatsukusu:Kk | Drawing-out type polishing belt and polishing head device using the same |
JP2011177883A (en) * | 2010-02-03 | 2011-09-15 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | Polishing method for diamond surface |
-
2015
- 2015-12-14 JP JP2015257779A patent/JP2017109295A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0911109A (en) * | 1995-06-24 | 1997-01-14 | Kobatsukusu:Kk | Drawing-out type polishing belt and polishing head device using the same |
JP2011177883A (en) * | 2010-02-03 | 2011-09-15 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | Polishing method for diamond surface |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110370179A (en) * | 2019-07-31 | 2019-10-25 | 王占锋 | A kind of method of diamond abrasive band, rapid stock-removal silicon single crystal rod outer circle device and rapid stock-removal silicon single crystal rod outer circle |
CN111716209A (en) * | 2020-07-09 | 2020-09-29 | 横店集团英洛华电气有限公司 | Polishing assembly |
CN113352154A (en) * | 2021-07-04 | 2021-09-07 | 兴化市富翔不锈钢制品有限公司 | Novel terrace die blade repairing and forming device |
CN113352154B (en) * | 2021-07-04 | 2022-04-26 | 兴化市富翔不锈钢制品有限公司 | Novel terrace die blade repairing and forming device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8210905B2 (en) | Wafer polishing device and method | |
JP5100727B2 (en) | Traverse equipment | |
JP2017109295A (en) | Polishing device | |
JP6191835B2 (en) | Wire saw and wire groove jump prevention driving method | |
WO2013168510A1 (en) | Device for polishing slide fastener element, and slide fastener element | |
JP5464497B2 (en) | Substrate polishing method and apparatus | |
JP6270796B2 (en) | Fixed abrasive wire saw and fixed abrasive wire dressing method | |
CN109311177A (en) | There are the roundwood saw and grinding method of abrasive wheel | |
JP6211188B2 (en) | Polishing tool, polishing method and polishing apparatus | |
JP5401749B2 (en) | Wafer edge processing apparatus and edge processing method thereof | |
JP2002103195A (en) | Groove machining device | |
JP2781816B2 (en) | Wire electrode supply device | |
JP5127759B2 (en) | Capstan roll and wire drawing machine | |
CN108778623B (en) | Method for manufacturing wire saw device and wire saw device | |
JP4960028B2 (en) | Truing device and truing method | |
JP5550971B2 (en) | Grinding equipment | |
JP2005199409A (en) | Precise finishing device | |
JP5700264B2 (en) | Wafer edge processing apparatus and edge processing method thereof | |
JP7351871B2 (en) | polishing equipment | |
JP5861062B2 (en) | Wire saw and silicon manufacturing method using wire saw | |
JPH1158208A (en) | Bobbin for wire saw | |
JP2001054849A (en) | Polishing device | |
JP6072591B2 (en) | Processing equipment | |
JP2012076172A (en) | Wire saw | |
WO2021044735A1 (en) | Polishing device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190320 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191112 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191210 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20200122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200415 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201013 |