JP2017098218A - Display device and organic EL device - Google Patents

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山口 雅彦
Masahiko Yamaguchi
雅彦 山口
勝美 青木
Katsumi Aoki
勝美 青木
照彦 市村
Teruhiko Ichimura
照彦 市村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device and an organic EL device, in which a substrate is suppressed from being scratched by a spacer.SOLUTION: An organic EL display device includes: an organic EL element displaying an image; an element substrate 30 and a sealing substrate 20 facing to each other with the organic EL element interposed therebetween; a sealing material 43 connecting between the element substrate 30 and the sealing substrate 20; a photo spacer 41 serving as a first spacer, the photo spacer being formed in the sealing member 43 so as to be brought into surface contact with a surface (surface of the element substrate 30) that faces the sealing substrate 20 in the element substrate 30; and a bead spacer 42 serving as a second spacer, the bead spacer being located between the sealing substrate 20 and the photo spacer 41 in the sealing material 43.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、表示装置及び有機EL(Electro-Luminescence)装置に関する。   The present invention relates to a display device and an organic EL (Electro-Luminescence) device.

従来から、例えば、有機EL表示装置は、素子基板と、素子基板に対向して設けられた封止基板と、素子基板における封止基板に対向する面に形成される有機EL素子と、有機EL素子の外周において素子基板及び封止基板を接着するシール材と、を備える。例えば、特許文献1に記載されるように、シール材には、ガラス等のビーズからなるスペーサが混入されている。   Conventionally, for example, an organic EL display device includes an element substrate, a sealing substrate provided facing the element substrate, an organic EL element formed on a surface of the element substrate facing the sealing substrate, and an organic EL And a sealing material for bonding the element substrate and the sealing substrate on the outer periphery of the element. For example, as described in Patent Document 1, spacers made of beads such as glass are mixed in the sealing material.

特開2009−110785号公報JP 2009-110785 A

上記特許文献1の構成においては、素子基板及び封止基板をシール材によって貼り合わせる際に、スペーサがシール材を通って素子基板に到達し、その素子基板を傷つけるおそれがある。このようなスペーサによって基板に傷がつくという課題は、有機EL表示装置に限らず、その他、液晶表示装置等の表示装置や照明装置やプリンタヘッド光源装置等の表示装置以外の有機EL装置においても同様に存在する。   In the configuration of Patent Document 1, when the element substrate and the sealing substrate are bonded together with the sealing material, the spacer may reach the element substrate through the sealing material and damage the element substrate. The problem that the substrate is damaged by such a spacer is not limited to an organic EL display device, but also in an organic EL device other than a display device such as a display device such as a liquid crystal display device or a lighting device or a printer head light source device. It exists as well.

本発明は、上記実状を鑑みてなされたものであり、スペーサにより基板に傷がつくことを抑制した表示装置及び有機EL装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described actual situation, and an object thereof is to provide a display device and an organic EL device in which a substrate is prevented from being damaged by a spacer.

上記目的を達成するため、本発明の表示装置は、画像を表示する表示素子と、前記表示素子を介して互いに対面する第1及び第2基板と、前記第1及び第2基板の間に位置し、前記第1及び第2基板を連結するシール材と、前記シール材内において、前記第1基板における前記第2基板に対向する面に面接触するように形成される第1スペーサと、前記シール材内において、前記第2基板及び前記第1スペーサの間に位置する第2スペーサと、を備える。   In order to achieve the above object, a display device of the present invention is provided between a display element for displaying an image, a first and second substrate facing each other through the display element, and the first and second substrates. And a first spacer formed so as to be in surface contact with a surface of the first substrate facing the second substrate in the sealing material, the first spacer being connected to the first substrate and the second substrate; And a second spacer positioned between the second substrate and the first spacer in the sealing material.

また、前記表示装置においては、前記第2スペーサは球状に形成されるビーズスペーサあるいは柱状に形成されるロッドスペーサであって、前記第1スペーサは板状に形成されるフォトスペーサであって、前記フォトスペーサは、前記第2基板に対面し、かつ前記ビーズスペーサあるいは前記ロッドスペーサが設置される設置面を備えていてもよい。   Further, in the display device, the second spacer is a bead spacer formed in a spherical shape or a rod spacer formed in a column shape, and the first spacer is a photo spacer formed in a plate shape, The photo spacer may have an installation surface that faces the second substrate and on which the bead spacer or the rod spacer is installed.

また、前記表示装置においては、前記第1基板は、前記第1基板の厚さ方向において異なる位置に配置され、前記第1基板の厚さ方向から見て交差する複数の電気線を備え、前記第1スペーサは、前記第1基板の厚さ方向から見て、前記複数の電気線が交差する交差点とは異なる位置に形成されていてもよい。   Further, in the display device, the first substrate includes a plurality of electric lines arranged at different positions in the thickness direction of the first substrate and intersecting when viewed from the thickness direction of the first substrate, The first spacer may be formed at a position different from an intersection where the plurality of electric lines intersect when viewed from the thickness direction of the first substrate.

上記目的を達成するため、本発明の有機EL装置は、有機EL素子と、前記有機EL素子を介して互いに対面する第1及び第2基板と、前記第1及び第2基板の間に位置し、前記第1及び第2基板を連結するシール材と、前記シール材内において、前記第1基板における前記第2基板に対向する面に面接触するように形成される第1スペーサと、前記シール材内において、前記第2基板及び前記第1スペーサの間に位置する第2スペーサと、を備える。   In order to achieve the above object, an organic EL device of the present invention is located between an organic EL element, first and second substrates facing each other through the organic EL element, and the first and second substrates. A sealing material for connecting the first and second substrates, a first spacer formed in the sealing material so as to be in surface contact with a surface of the first substrate facing the second substrate, and the seal And a second spacer positioned between the second substrate and the first spacer in the material.

また、前記有機EL装置においては、前記第2スペーサは球状に形成されるビーズスペーサあるいは柱状に形成されるロッドスペーサであって、前記第1スペーサは板状に形成されるフォトスペーサであって、前記フォトスペーサは、前記第2基板に対面し、かつ前記ビーズスペーサあるいは前記ロッドスペーサが設置される設置面を備えていてもよい。   In the organic EL device, the second spacer is a bead spacer formed in a spherical shape or a rod spacer formed in a column shape, and the first spacer is a photo spacer formed in a plate shape, The photo spacer may have an installation surface that faces the second substrate and on which the bead spacer or the rod spacer is installed.

また、前記有機EL装置においては、前記第1基板は、前記第1基板の厚さ方向において異なる位置に配置され、前記第1基板の厚さ方向から見て交差する複数の電気線を備え、前記第1スペーサは、前記第1基板の厚さ方向から見て、前記複数の電気線が交差する交差点とは異なる位置に形成されていてもよい。   Further, in the organic EL device, the first substrate includes a plurality of electric wires arranged at different positions in the thickness direction of the first substrate and intersecting when viewed from the thickness direction of the first substrate, The first spacer may be formed at a position different from an intersection where the plurality of electric lines intersect when viewed from the thickness direction of the first substrate.

本発明によれば、スペーサにより基板に傷がつくことを抑制できる。   According to the present invention, it is possible to suppress the substrate from being damaged by the spacer.

本発明の一実施形態に係る有機EL表示装置の模式的な断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention. 図1のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 本発明の一実施形態に係る素子基板の一部を示す概略的な平面図である。1 is a schematic plan view showing a part of an element substrate according to an embodiment of the present invention.

本発明に係る表示装置及び有機EL装置を、アクティブマトリクス方式の有機EL表示装置に具体化した一実施形態について、図面を参照して説明する。   An embodiment in which a display device and an organic EL device according to the present invention are embodied in an active matrix organic EL display device will be described with reference to the drawings.

有機EL表示装置1は、図1に模式的に示すように、第1基板である素子基板30と、素子基板30に対面する第2基板である封止基板20と、素子基板30における封止基板20に対向する面(素子基板30の表面)に形成される表示素子の一例である有機EL素子10と、有機EL素子10の外周であって、素子基板30及び封止基板20の間に位置するシール部40と、を備えている。   As schematically shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes an element substrate 30 that is a first substrate, a sealing substrate 20 that is a second substrate facing the element substrate 30, and sealing in the element substrate 30. The organic EL element 10, which is an example of a display element formed on the surface facing the substrate 20 (the surface of the element substrate 30), and the outer periphery of the organic EL element 10, between the element substrate 30 and the sealing substrate 20. And a seal part 40 positioned.

素子基板30及び封止基板20は、例えば、ガラス又はプラスチック等の絶縁性材料により形成されている。素子基板30には、図示しないTFT(Thin Film Transistor)がマトリクス状に配置されている。また、素子基板30の内部には、電源線及びゲート線等からなる電気線31,32が配線される。複数の電気線31は、それぞれ素子基板30の面方向に沿うX方向に延びるとともに、素子基板30の面方向に沿い、かつX方向に略直交するY方向に沿って配列される。複数の電気線32は、それぞれY方向に延びるとともに、X方向に沿って配列される。複数の電気線31と複数の電気線32とは、それぞれ素子基板30の厚さ方向に異なる位置に設けられている。図3に示すように、素子基板30の厚さ方向から見て、素子基板30には、電気線31,32の交差点Oが複数形成される。   The element substrate 30 and the sealing substrate 20 are made of an insulating material such as glass or plastic. On the element substrate 30, TFTs (Thin Film Transistors) (not shown) are arranged in a matrix. In addition, electric lines 31 and 32 including power supply lines and gate lines are wired inside the element substrate 30. The plurality of electric wires 31 extend in the X direction along the surface direction of the element substrate 30, and are arranged along the Y direction substantially along the surface direction of the element substrate 30 and substantially orthogonal to the X direction. The plurality of electric wires 32 each extend in the Y direction and are arranged along the X direction. The plurality of electric wires 31 and the plurality of electric wires 32 are provided at different positions in the thickness direction of the element substrate 30. As shown in FIG. 3, when viewed from the thickness direction of the element substrate 30, a plurality of intersections O of the electric wires 31 and 32 are formed on the element substrate 30.

有機EL素子10は、図1に示すように、素子基板30の表面上に形成された第1電極11(陽極)と、第1電極11の表面上に形成された有機層13と、有機層13の表面上に形成された第2電極12(陰極)と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the organic EL element 10 includes a first electrode 11 (anode) formed on the surface of the element substrate 30, an organic layer 13 formed on the surface of the first electrode 11, and an organic layer. 13 and a second electrode 12 (cathode) formed on the surface.

第1電極11は、ITO(Indium Tin Oxide)等により形成されるとともに、素子基板30上に蒸着法やスパッタリング法等の手段によって素子基板30上に形成される。有機層13は、少なくとも発光層を有するものであればよいが、本例では正孔注入層、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を備え、それら各層が蒸着法やスパッタリング法等の手段によって順次積層されてなる。   The first electrode 11 is formed of ITO (Indium Tin Oxide) or the like, and is formed on the element substrate 30 on the element substrate 30 by means such as vapor deposition or sputtering. The organic layer 13 only needs to have at least a light emitting layer. In this example, the organic layer 13 includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, each of which is a means such as a vapor deposition method or a sputtering method. Are sequentially stacked.

第2電極12は、有機層13に電子を注入する機能を有するものであって、例えば、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、AlMg等)、マグネシウム合金(MgAg等)等の金属からなる。第2電極12は、有機層13上に蒸着法やスパッタリング法等の手段によって形成される。   The second electrode 12 has a function of injecting electrons into the organic layer 13 and is made of a metal such as an aluminum alloy (AlLi, AlCa, AlMg, etc.), a magnesium alloy (MgAg, etc.), for example. The second electrode 12 is formed on the organic layer 13 by means such as vapor deposition or sputtering.

シール部40は、有機EL素子10を外周から囲む枠状に形成され、素子基板30及び封止基板20の間のギャップ(間隔)を保ちつつ、素子基板30及び封止基板20を接着する。シール部40は、図2に示すように、シール材43と、第1スペーサに相当する複数のフォトスペーサ41と、第2スペーサに相当する複数のビーズスペーサ42と、を備える。   The seal part 40 is formed in a frame shape surrounding the organic EL element 10 from the outer periphery, and adheres the element substrate 30 and the sealing substrate 20 while maintaining a gap (interval) between the element substrate 30 and the sealing substrate 20. As shown in FIG. 2, the seal portion 40 includes a seal material 43, a plurality of photo spacers 41 corresponding to first spacers, and a plurality of bead spacers 42 corresponding to second spacers.

シール材43は、例えばUV(Ultra Violet)硬化性接着剤により構成され、素子基板30及び封止基板20の間に位置し、素子基板30及び封止基板20を連結する。シール材43内には、各フォトスペーサ41及び各ビーズスペーサ42が位置する。言い換えると、各フォトスペーサ41及び各ビーズスペーサ42は、シール材43によって封止されている。   The sealing material 43 is made of, for example, a UV (Ultra Violet) curable adhesive, and is positioned between the element substrate 30 and the sealing substrate 20 and connects the element substrate 30 and the sealing substrate 20. Each photo spacer 41 and each bead spacer 42 are located in the sealing material 43. In other words, each photo spacer 41 and each bead spacer 42 are sealed by the seal material 43.

各フォトスペーサ41は、例えば、直径φが150μmで、厚さdが5μmの円板状に形成される。フォトスペーサ41は、シール材43による素子基板30及び封止基板20の間の接着力を阻害しない程度の数及び大きさで形成される。各フォトスペーサ41は、本例では後述するフォトリソグラフィにより、素子基板30上に形成される。また、各フォトスペーサ41は、封止基板20に対面し、かつビーズスペーサ42が設置可能な設置面41sを備える。各フォトスペーサ41は、図3に示すように、素子基板30の厚さ方向から見て、電気線31,32の交差点Oに重複しないように、交差点Oと異なる位置に設けられている。フォトスペーサ41としては、例えば、JNC社製のフォトスペーサであるリクソンコート(商標)が採用される。   Each photospacer 41 is formed in a disk shape having a diameter φ of 150 μm and a thickness d of 5 μm, for example. The photo spacers 41 are formed in such a number and size that does not hinder the adhesive force between the element substrate 30 and the sealing substrate 20 by the sealing material 43. Each photospacer 41 is formed on the element substrate 30 by photolithography described later in this example. Each photospacer 41 has an installation surface 41s that faces the sealing substrate 20 and on which the bead spacer 42 can be installed. As shown in FIG. 3, each photo spacer 41 is provided at a position different from the intersection O so as not to overlap the intersection O of the electric wires 31 and 32 when viewed from the thickness direction of the element substrate 30. As the photo spacer 41, for example, Rixon Coat (trademark), which is a photo spacer manufactured by JNC, is employed.

各ビーズスペーサ42は直径φが5μmの球状に形成される。ビーズスペーサ42の直径φは電気線31,32の幅(素子基板30の表面に沿い、かつ電気線31,32の長手方向に直交する方向の長さ)の2/3以下に設定されることが好ましい。ビーズスペーサ42としては、例えば、宇部エクシモ社製のシリカビーズスペーサであるハイプレシカ(登録商標)が採用される。   Each bead spacer 42 is formed in a spherical shape having a diameter φ of 5 μm. The diameter φ of the bead spacer 42 is set to 2/3 or less of the width of the electric wires 31 and 32 (the length in the direction along the surface of the element substrate 30 and perpendicular to the longitudinal direction of the electric wires 31 and 32). Is preferred. As the bead spacer 42, for example, High Presica (registered trademark) which is a silica bead spacer manufactured by Ube Eximo Co., Ltd. is employed.

各ビーズスペーサ42a〜42dは、シール材43内にランダムに分布している。ビーズスペーサ42aは、フォトスペーサ41aの設置面41s上に位置し、ビーズスペーサ42b,42cは、フォトスペーサ41bの設置面41s上に位置する。各ビーズスペーサ42a〜42cは、フォトスペーサ41a,41bの設置面41sと封止基板20の裏面(素子基板30に対向する面)との間に位置し、設置面41s及び封止基板20の裏面に点接触している。ビーズスペーサ42dは、2つのフォトスペーサ41a,41bの間であって、第1電極11上に位置する。なお、図2に示すビーズスペーサ42の分布態様は一例であって、シール部40の位置によってビーズスペーサ42の分布態様は異なる。   The bead spacers 42 a to 42 d are randomly distributed in the seal material 43. The bead spacer 42a is located on the installation surface 41s of the photo spacer 41a, and the bead spacers 42b and 42c are located on the installation surface 41s of the photo spacer 41b. Each of the bead spacers 42 a to 42 c is located between the installation surface 41 s of the photo spacers 41 a and 41 b and the back surface of the sealing substrate 20 (surface facing the element substrate 30), and the installation surface 41 s and the back surface of the sealing substrate 20. Point contact. The bead spacer 42d is located on the first electrode 11 between the two photo spacers 41a and 41b. The distribution mode of the bead spacers 42 shown in FIG. 2 is an example, and the distribution mode of the bead spacers 42 differs depending on the position of the seal portion 40.

(シール部40に係る製造方法)
次に、素子基板30及び封止基板20をシール部40によって貼り合わせる際の製造方法について説明する。
(Manufacturing method according to seal 40)
Next, a manufacturing method when the element substrate 30 and the sealing substrate 20 are bonded together by the seal portion 40 will be described.

各フォトスペーサ41は、フォトリソグラフィにより形成される。具体的には、素子基板30上にレジスト(感光性有機物質)を塗布した上で、フォトマスクを介して露光及び現像を行うことを通じて、各フォトスペーサ41は素子基板30上にパターニングされる。各フォトスペーサ41は、素子基板30の表面の外周に沿って配置される。   Each photo spacer 41 is formed by photolithography. Specifically, each photo spacer 41 is patterned on the element substrate 30 by applying a resist (photosensitive organic substance) on the element substrate 30 and then performing exposure and development through a photomask. Each photospacer 41 is disposed along the outer periphery of the surface of the element substrate 30.

そして、液体状のUV硬化性接着剤に複数のビーズスペーサ42を混入させたうえで、そのUV硬化性接着剤を封止基板20の裏面の外周に沿って塗布する。次に、封止基板20に塗布されたUV硬化性接着剤が素子基板30の表面(正確にはその各フォトスペーサ41が形成される箇所)に当接するように、封止基板20を素子基板30に押し付ける。そして、UV硬化性接着剤にUV光を照射することで、UV硬化性接着剤を硬化させてシール材43を形成する。以上により、素子基板30及び封止基板20の貼り合わせが完了する。   Then, after mixing a plurality of bead spacers 42 in a liquid UV curable adhesive, the UV curable adhesive is applied along the outer periphery of the back surface of the sealing substrate 20. Next, the sealing substrate 20 is placed on the element substrate so that the UV curable adhesive applied to the sealing substrate 20 abuts on the surface of the element substrate 30 (precisely, the location where each photospacer 41 is formed). Press to 30. Then, the UV curable adhesive is cured by irradiating the UV curable adhesive with UV light, thereby forming the sealing material 43. Thus, the bonding of the element substrate 30 and the sealing substrate 20 is completed.

(作用)
例えば、有機EL表示装置1に、素子基板30の厚さ方向に沿う圧縮力が加わった場合、図2に示すように、ビーズスペーサ42aは、フォトスペーサ41aを素子基板30に向かって押圧する。フォトスペーサ41aは、ビーズスペーサ42aから加わる力によって潰れるように変形する。このように、フォトスペーサ41aが変形することで、フォトスペーサ41aが緩衝材として作用し、ビーズスペーサ42aが素子基板30を傷つけることが抑制される。フォトスペーサ41b及びビーズスペーサ42b,42cについても、フォトスペーサ41a及びビーズスペーサ42aと同様に作用する。また、ビーズスペーサ42dはフォトスペーサ41上に位置していないため、ビーズスペーサ42dには上記圧縮力が加わらない。よって、ビーズスペーサ42dが素子基板30を傷つけることはない。
(Function)
For example, when a compressive force along the thickness direction of the element substrate 30 is applied to the organic EL display device 1, the bead spacer 42 a presses the photo spacer 41 a toward the element substrate 30 as shown in FIG. 2. The photo spacer 41a is deformed so as to be crushed by the force applied from the bead spacer 42a. As described above, the deformation of the photospacer 41a prevents the photospacer 41a from acting as a buffer material, and the bead spacer 42a from damaging the element substrate 30. The photo spacer 41b and the bead spacers 42b and 42c also operate in the same manner as the photo spacer 41a and the bead spacer 42a. Further, since the bead spacer 42d is not positioned on the photo spacer 41, the compressive force is not applied to the bead spacer 42d. Therefore, the bead spacer 42d does not damage the element substrate 30.

(実験結果)

Figure 2017098218
(Experimental result)
Figure 2017098218

本願の発明者は、上記表1の比較例1、2及び本実施形態におけるシール部の構成において電気線31,32の短絡の有無及びシール部の剥離強度について計測する実験を行った。なお、上記表1において、ギャップは基板間の間隔である。スペーサが両基板によって圧縮されることでスペーサが潰れる。このため、スペーサに対してギャップが小さくなる。   The inventor of the present application conducted an experiment to measure the presence / absence of a short circuit of the electric wires 31 and 32 and the peel strength of the seal part in the configuration of the seal part in Comparative Examples 1 and 2 and this embodiment of Table 1 above. In Table 1 above, the gap is the distance between the substrates. The spacer is crushed by being compressed by both substrates. For this reason, a gap becomes small with respect to a spacer.

比較例1に係る有機EL表示装置においては、スペーサとしてシリカスペーサ(ロッドスペーサ又はビーズスペーサ)のみを含むシール部が採用されている。ロッドスペーサは、直径φが10μmの円柱状に形成される。ビーズスペーサは、直径φが10μmの球状で形成される。   In the organic EL display device according to Comparative Example 1, a seal part including only a silica spacer (rod spacer or bead spacer) is employed as a spacer. The rod spacer is formed in a cylindrical shape having a diameter φ of 10 μm. The bead spacer is formed in a spherical shape with a diameter φ of 10 μm.

比較例2に係る有機EL表示装置において、スペーサとしてフォトスペーサのみを含むシール部が採用されている。このフォトスペーサは、直径φが50μm、150μm又は300μmで、厚さdが5μmの円板状に形成されている。   In the organic EL display device according to Comparative Example 2, a seal portion including only a photo spacer is employed as the spacer. This photospacer is formed in a disk shape having a diameter φ of 50 μm, 150 μm, or 300 μm and a thickness d of 5 μm.

本実施形態に係る有機EL表示装置においては、上述したように、フォトスペーサ41及びビーズスペーサ42を含むシール部40が採用されている。フォトスペーサ41は、直径φが150μmで、厚さdが5μmの円板状に形成されている。ビーズスペーサ42は、直径φが5μmの球状で形成される。   In the organic EL display device according to this embodiment, as described above, the seal portion 40 including the photo spacer 41 and the bead spacer 42 is employed. The photo spacer 41 is formed in a disk shape having a diameter φ of 150 μm and a thickness d of 5 μm. The bead spacer 42 is formed in a spherical shape having a diameter φ of 5 μm.

比較例1の構成においては短絡が生じ易い。特に、比較例1のうちロッドスペーサが採用された構成においては、比較例1のうちビーズスペーサが採用された構成に比べて、さらに短絡が生じやすい。これは、ロッドスペーサは角部を有することから、その角部を通じて素子基板を突き破って電気線間を短絡させ易いものと考えられる。比較例2及び本実施形態に係る構成においては電気線間の短絡は生じない。比較例2においては、短絡の原因となるビーズスペーサ又はロッドスペーサがそもそも存在しないし、本実施形態においては、上述のように、ビーズスペーサ42から素子基板30を保護するようにフォトスペーサ41が存在するため、短絡が生じないものと考えられる。   In the configuration of Comparative Example 1, a short circuit is likely to occur. In particular, in the configuration in which the rod spacer is employed in the comparative example 1, compared to the configuration in which the bead spacer is employed in the comparative example 1, a short circuit is more likely to occur. This is presumably because the rod spacer has a corner portion, and thus it is easy to break through the element substrate through the corner portion to short-circuit the electric wires. In the configuration according to Comparative Example 2 and the present embodiment, no short circuit between the electric wires occurs. In Comparative Example 2, there are no bead spacers or rod spacers that cause a short circuit in the first place, and in the present embodiment, as described above, the photo spacer 41 exists so as to protect the element substrate 30 from the bead spacers 42. Therefore, it is considered that no short circuit occurs.

剥離強度に係る実験においては、素子基板及び封止基板を固定具(図示しない)により素子基板の厚さ方向から挟み込んで固定した状態で、素子基板を封止基板から離間させる方向に押す。この剥離強度に係る実験を行ったところ、比較例1及び本実施形態においては、シール部に剥離が生じなかった。比較例2においては、直径φが50μm及び150μmのフォトスペーサが採用される場合、高温で一部シール部の剥離が生じ、300μmのフォトスペーサが採用される場合、シール部の剥離が生じた。フォトスペーサのみが採用される比較例2においては、フォトスペーサが存在することで、シール材が封止基板と素子基板とを接着する面積が小さくなる。このため、シール部の剥離が生じやすいものと考えられる。特に、比較例2において、フォトスペーサの直径φが大きくなるにつれて、シール材による接着面積が小さくなるため、剥離が生じ易くなるものと考えられる。また、比較例2に係る構成においては、フォトスペーサのみでは10μm程度の厚さで形成することが困難である。このため、基板間のギャップを十分に確保することが困難となる。   In the experiment relating to the peel strength, the element substrate and the sealing substrate are pushed in the direction of separating the element substrate from the sealing substrate in a state where the element substrate and the sealing substrate are sandwiched and fixed by a fixture (not shown) from the thickness direction of the element substrate. When an experiment related to the peel strength was performed, in Comparative Example 1 and the present embodiment, no peeling occurred in the seal portion. In Comparative Example 2, when a photo spacer having a diameter φ of 50 μm and 150 μm was employed, a part of the seal part was peeled off at a high temperature, and when a 300 μm photo spacer was employed, the seal part was peeled off. In Comparative Example 2 in which only the photo spacer is employed, the area where the sealing material adheres the sealing substrate and the element substrate is reduced due to the presence of the photo spacer. For this reason, it is considered that peeling of the seal portion is likely to occur. In particular, in Comparative Example 2, as the diameter φ of the photospacer increases, the adhesion area by the sealing material decreases, and it is considered that peeling is likely to occur. Moreover, in the structure which concerns on the comparative example 2, it is difficult to form with the thickness of about 10 micrometers only with a photo spacer. For this reason, it becomes difficult to ensure a sufficient gap between the substrates.

(効果)
以上、説明した一実施形態によれば、以下の効果を奏する。
(effect)
As mentioned above, according to one Embodiment described, there exist the following effects.

(1)有機EL表示装置1は、画像を表示する有機EL素子10と、有機EL素子10を介して互いに対面する素子基板30及び封止基板20と、素子基板30及び封止基板20を連結するシール材43と、シール材43内において、素子基板30における封止基板20に対向する面(素子基板30の表面)に面接触するように形成される第1スペーサとしてのフォトスペーサ41と、シール材43内において、封止基板20及びフォトスペーサ41の間に位置し、封止基板20及びフォトスペーサ41に点接触する第2スペーサとしてのビーズスペーサ42と、を備える。この構成によれば、フォトスペーサ41が素子基板30の表面に位置することで、そのフォトスペーサ41上のビーズスペーサ42によって、素子基板30に傷がつくことが抑制される。   (1) The organic EL display device 1 connects an organic EL element 10 that displays an image, an element substrate 30 and a sealing substrate 20 that face each other via the organic EL element 10, and the element substrate 30 and the sealing substrate 20. A sealing material 43 to be formed, and a photo spacer 41 as a first spacer formed in the sealing material 43 so as to be in surface contact with a surface of the element substrate 30 facing the sealing substrate 20 (a surface of the element substrate 30), In the sealing material 43, a bead spacer 42 is provided as a second spacer that is positioned between the sealing substrate 20 and the photo spacer 41 and makes point contact with the sealing substrate 20 and the photo spacer 41. According to this configuration, since the photospacer 41 is positioned on the surface of the element substrate 30, the bead spacer 42 on the photospacer 41 is suppressed from being damaged.

(2)ビーズスペーサ42は球状に形成され、フォトスペーサ41は板状に形成される。フォトスペーサ41は、封止基板20に対面し、かつビーズスペーサ42が設置される設置面41sを備える。ビーズスペーサ42がフォトスペーサ41の設置面41sに設置された状態においては、封止基板20及び素子基板30の間の距離は、ビーズスペーサ42の直径φよりも大きくなる。このため、設置面41sに位置しないビーズスペーサ42dが封止基板20及び素子基板30によって押されることが抑制され、ひいては、そのビーズスペーサ42dによって素子基板30が傷つくことが抑制される。   (2) The bead spacer 42 is formed in a spherical shape, and the photo spacer 41 is formed in a plate shape. The photo spacer 41 includes an installation surface 41 s that faces the sealing substrate 20 and on which the bead spacer 42 is installed. In a state where the bead spacer 42 is installed on the installation surface 41 s of the photo spacer 41, the distance between the sealing substrate 20 and the element substrate 30 is larger than the diameter φ of the bead spacer 42. For this reason, it is suppressed that the bead spacer 42d which is not located in the installation surface 41s is pushed by the sealing substrate 20 and the element substrate 30, and consequently the element substrate 30 is suppressed from being damaged by the bead spacer 42d.

(3)素子基板30は、素子基板30の厚さ方向において異なる位置に配置され、素子基板30の厚さ方向から見て交差する複数の電気線31,32を備える。フォトスペーサ41は、素子基板30の厚さ方向から見て、複数の電気線31,32が交差する交差点Oとは異なる位置に形成される。この構成によれば、万が一、ビーズスペーサ42がフォトスペーサ41を突き破った場合であっても、ビーズスペーサ42が電気線31,32の交差点Oから離れた位置にあるため、電気線31,32間が短絡することが抑制される。   (3) The element substrate 30 includes a plurality of electric lines 31 and 32 that are arranged at different positions in the thickness direction of the element substrate 30 and intersect when viewed from the thickness direction of the element substrate 30. The photo spacer 41 is formed at a position different from the intersection O where the plurality of electric lines 31 and 32 intersect as seen from the thickness direction of the element substrate 30. According to this configuration, even if the bead spacer 42 breaks through the photo spacer 41, the bead spacer 42 is located at a position away from the intersection O of the electric wires 31, 32. Is suppressed from short-circuiting.

また、ビーズスペーサ42の直径φを電気線31,32の幅に対して小さく、例えば、ビーズスペーサ42の直径φを電気線31,32の幅の2/3以下に設定することで、ビーズスペーサ42による電気線31,32の断線を抑制することができる。   Further, the diameter φ of the bead spacer 42 is smaller than the width of the electric wires 31, 32, for example, the diameter φ of the bead spacer 42 is set to 2/3 or less of the width of the electric wires 31, 32. The disconnection of the electric wires 31 and 32 by 42 can be suppressed.

(変形例)
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の形態にて実施することができる。
(Modification)
In addition, the said embodiment can be implemented with the following forms which changed this suitably.

上記実施形態においては、封止基板20は平板状に形成されていたが、封止基板20の形状はこれに限らず、例えば断面コの字状に形成されてもよい。この場合、封止基板の両下端面と素子基板30の表面との間にシール部40が形成される。   In the above embodiment, the sealing substrate 20 is formed in a flat plate shape, but the shape of the sealing substrate 20 is not limited to this, and may be formed in a U-shaped cross section, for example. In this case, the seal portion 40 is formed between both lower end surfaces of the sealing substrate and the surface of the element substrate 30.

上記実施形態におけるフォトスペーサ41の直径φ及び厚さdは適宜変更可能である。また、上記実施形態においては、フォトスペーサ41は円板状に形成されていたが、円板状に限らず、その他、例えば、楕円板状、多角形板状、円錐台形状等であってもよい。   The diameter φ and the thickness d of the photo spacer 41 in the above embodiment can be changed as appropriate. Moreover, in the said embodiment, although the photo spacer 41 was formed in disk shape, it is not restricted to disk shape, For example, even if it is elliptical plate shape, polygonal plate shape, truncated cone shape, etc. Good.

上記実施形態においては、第1スペーサとしてフォトスペーサ41が採用されていたが、フォトスペーサ以外の固形スペーサが採用されてもよい。例えば、印刷により素子基板30上に第1スペーサを形成してもよい。   In the above embodiment, the photo spacer 41 is employed as the first spacer. However, a solid spacer other than the photo spacer may be employed. For example, the first spacer may be formed on the element substrate 30 by printing.

上記実施形態においては、各フォトスペーサ41は、図3に示すように、素子基板30の厚さ方向から見て、電気線31,32の交差点Oと重複しないように、交差点Oと異なる位置に形成されていたが、各フォトスペーサ41は、電気線31,32の交差点Oと重複していてもよい。   In the above embodiment, as shown in FIG. 3, each photo spacer 41 is located at a position different from the intersection point O so as not to overlap with the intersection point O of the electric wires 31 and 32 when viewed from the thickness direction of the element substrate 30. Although formed, each photospacer 41 may overlap with the intersection O of the electric wires 31 and 32.

上記実施形態におけるビーズスペーサ42の形状は適宜変更可能である。例えば、ビーズスペーサ42に代えて円柱状のロッドスペーサが採用されてもよい。ロッドスペーサはフォトスペーサ41a,41bの設置面41sと封止基板20の裏面(素子基板30に対向する面)との間に位置し、設置面41s及び封止基板20の裏面に線接触していてもよい。ロッドスペーサとしては、例えば、日本電気硝子社製のガラスファイバースペーサであるPF−100(商品名)が採用されてもよい。   The shape of the bead spacer 42 in the above embodiment can be changed as appropriate. For example, instead of the bead spacer 42, a cylindrical rod spacer may be employed. The rod spacer is located between the installation surface 41s of the photo spacers 41a and 41b and the back surface of the sealing substrate 20 (the surface facing the element substrate 30), and is in line contact with the installation surface 41s and the back surface of the sealing substrate 20. May be. As the rod spacer, for example, PF-100 (trade name) which is a glass fiber spacer manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. may be employed.

上記実施形態においては、フォトスペーサ41は素子基板30側に設けられ、ビーズスペーサ42は封止基板20側に設けられていたが、反対にフォトスペーサ41を封止基板20側に設け、ビーズスペーサ42を素子基板30側に設けてもよい。   In the above embodiment, the photo spacer 41 is provided on the element substrate 30 side and the bead spacer 42 is provided on the sealing substrate 20 side. On the contrary, the photo spacer 41 is provided on the sealing substrate 20 side, and the bead spacer 42 is provided. 42 may be provided on the element substrate 30 side.

上記実施形態においては、有機EL表示装置1は、アクティブマトリクス方式であったが、パッシブマトリクス方式であってもよい。   In the above embodiment, the organic EL display device 1 is an active matrix system, but may be a passive matrix system.

上記実施形態においては、シール部40を備えた有機EL表示装置1であったが、同様のシール部40を備えた液晶表示装置であってもよい。また、同様のシール部40を備えた表示装置以外の有機EL装置であってもよい。具体的には、この有機EL装置は、有機EL照明装置や有機ELプリンタヘッド光源装置等であってもよい。係る装置の場合、有機EL素子は発光素子として機能する。   In the above embodiment, the organic EL display device 1 includes the seal portion 40. However, a liquid crystal display device including the same seal portion 40 may be used. Further, an organic EL device other than a display device provided with the same seal portion 40 may be used. Specifically, the organic EL device may be an organic EL lighting device, an organic EL printer head light source device, or the like. In the case of such a device, the organic EL element functions as a light emitting element.

1…有機EL表示装置
10…有機EL素子
11…第1電極
12…第2電極
13…有機層
20…封止基板
30…素子基板
31,32…電気線
40…シール部
41,41a,41b…フォトスペーサ
41s…設置面
42,42a〜42d…ビーズスペーサ
43…シール材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display apparatus 10 ... Organic EL element 11 ... 1st electrode 12 ... 2nd electrode 13 ... Organic layer 20 ... Sealing substrate 30 ... Element board | substrate 31, 32 ... Electric wire 40 ... Sealing part 41, 41a, 41b ... Photo spacer 41s ... Installation surface 42, 42a to 42d ... Bead spacer 43 ... Sealing material

Claims (6)

画像を表示する表示素子と、
前記表示素子を介して互いに対面する第1及び第2基板と、
前記第1及び第2基板の間に位置し、前記第1及び第2基板を連結するシール材と、
前記シール材内において、前記第1基板における前記第2基板に対向する面に面接触するように形成される第1スペーサと、
前記シール材内において、前記第2基板及び前記第1スペーサの間に位置する第2スペーサと、を備える、
ことを特徴とする表示装置。
A display element for displaying an image;
First and second substrates facing each other through the display element;
A sealing material located between the first and second substrates and connecting the first and second substrates;
A first spacer formed so as to be in surface contact with a surface of the first substrate facing the second substrate in the sealing material;
A second spacer positioned between the second substrate and the first spacer in the sealing material;
A display device characterized by that.
前記第2スペーサは球状に形成されるビーズスペーサあるいは柱状に形成されるロッドスペーサであって、
前記第1スペーサは板状に形成されるフォトスペーサであって、
前記フォトスペーサは、前記第2基板に対面し、かつ前記ビーズスペーサあるいは前記ロッドスペーサが設置される設置面を備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
The second spacer is a bead spacer formed in a spherical shape or a rod spacer formed in a columnar shape,
The first spacer is a photo spacer formed in a plate shape,
The photo spacer includes an installation surface that faces the second substrate and on which the bead spacer or the rod spacer is installed.
The display device according to claim 1.
前記第1基板は、前記第1基板の厚さ方向において異なる位置に配置され、前記第1基板の厚さ方向から見て交差する複数の電気線を備え、
前記第1スペーサは、前記第1基板の厚さ方向から見て、前記複数の電気線が交差する交差点とは異なる位置に形成される、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。
The first substrate includes a plurality of electric wires arranged at different positions in the thickness direction of the first substrate and intersecting when viewed from the thickness direction of the first substrate,
The first spacer is formed at a position different from an intersection where the plurality of electric lines intersect when viewed from the thickness direction of the first substrate.
The display device according to claim 1 or 2.
有機EL素子と、
前記有機EL素子を介して互いに対面する第1及び第2基板と、
前記第1及び第2基板の間に位置し、前記第1及び第2基板を連結するシール材と、
前記シール材内において、前記第1基板における前記第2基板に対向する面に面接触するように形成される第1スペーサと、
前記シール材内において、前記第2基板及び前記第1スペーサの間に位置する第2スペーサと、を備える、
ことを特徴とする有機EL装置。
An organic EL element;
First and second substrates facing each other through the organic EL element;
A sealing material located between the first and second substrates and connecting the first and second substrates;
A first spacer formed so as to be in surface contact with a surface of the first substrate facing the second substrate in the sealing material;
A second spacer positioned between the second substrate and the first spacer in the sealing material;
An organic EL device characterized by that.
前記第2スペーサは球状に形成されるビーズスペーサあるいは柱状に形成されるロッドスペーサであって、
前記第1スペーサは板状に形成されるフォトスペーサであって、
前記フォトスペーサは、前記第2基板に対面し、かつ前記ビーズスペーサあるいは前記ロッドスペーサが設置される設置面を備える、
ことを特徴とする請求項4に記載の有機EL装置。
The second spacer is a bead spacer formed in a spherical shape or a rod spacer formed in a columnar shape,
The first spacer is a photo spacer formed in a plate shape,
The photo spacer includes an installation surface that faces the second substrate and on which the bead spacer or the rod spacer is installed.
The organic EL device according to claim 4.
前記第1基板は、前記第1基板の厚さ方向において異なる位置に配置され、前記第1基板の厚さ方向から見て交差する複数の電気線を備え、
前記第1スペーサは、前記第1基板の厚さ方向から見て、前記複数の電気線が交差する交差点とは異なる位置に形成される、
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の有機EL装置。
The first substrate includes a plurality of electric wires arranged at different positions in the thickness direction of the first substrate and intersecting when viewed from the thickness direction of the first substrate,
The first spacer is formed at a position different from an intersection where the plurality of electric lines intersect when viewed from the thickness direction of the first substrate.
The organic EL device according to claim 4, wherein:
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