JP2017097939A - 記録装置及び記録方法 - Google Patents

Abstract

【課題】記録媒体に対して記録情報を効率的に記録する。
【解決手段】記録装置（１）は、記録媒体（１００）が搭載される搭載部（１６）と、記録情報が入力される入力部（１７４）と、入力部からの記録情報を用いて光源（１１）からの光ビーム（ＥＬ２）を二次元的に変調する空間光変調器を備え、空間光変調器で変調された光ビームを記録媒体上の照射領域に照射するビーム照射装置（１４）と、記録媒体の表面上の所定方向における照射領域と記録媒体との位置関係を変更するために、搭載部とビーム照射装置との少なくとも一方を制御する制御装置（１７３）とを備え、記録情報は、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである。
【選択図】図１

Description

記録媒体に記録情報を記録する記録装置及び記録方法の技術分野に関する。

記録情報を記録可能な（言い換えれば、書き込み可能な）既存の記録媒体として、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクや、ハードディスク等が知られている。しかしながら、これら既存の記録媒体に記録された記録情報を読み出す（言い換えれば、再生する）ことが可能な期間は、記録媒体の劣化等に起因して、数年ないしは数十年程度に制限される。つまり、これらの既存の記録媒体は、当該既存の記録媒体に記録された記録情報を１００年ないしは数百年以上の長期に渡って保存し続けることが困難である。そこで、例えば特許文献１に記載されているように、記録された記録情報を１０００年以上に渡って保存し得る密封形半導体記録媒体及び密封型半導体記録装置が提案されている。

米国特許出願公開第２０１２／００９１２１１Ａ１号明細書

第１の態様では、感光剤が塗布されている記録媒体に記録情報を記録する記録装置であって、前記記録媒体が搭載される搭載部と、前記記録情報が入力される入力部と、前記入力部からの前記記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調する空間光変調器を備え、前記空間光変調器で変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射するビーム照射装置と、前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更するために、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する制御装置とを備え、前記記録情報は、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録装置が提供される。

第２の態様では、第１の態様の記録装置と、前記記録装置によって前記光ビームが照射された前記記録媒体の前記感光剤を現像して、前記記録情報に応じた形状のマスク層を前記記録媒体の表面に形成する現像装置と、前記マスク層を介して前記記録媒体の表面を加工する加工装置とを備える記録システムが提供される。

第３の態様では、感光剤が塗布されている記録媒体に記録情報を記録する記録方法であって、前記記録情報が入力されることと、前記入力された前記記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調することと、前記変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射することと、前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更することと、を含み、前記記録情報は、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録方法が提供される。

第４の態様では、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調し、前記変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射し、前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更し、前記変調された光ビームを用いて照射された前記記録媒体を現像して、前記感光剤の少なくとも一部を除去し、前記少なくとも一部が除去された前記感光剤を介して前記記録媒体の表面を加工することで形成された凹凸パターンが形成されている記録媒体が提供される。

第５の態様では、第１の態様にかかる記録装置によって記録情報が記録された記録媒体が提供される。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。

本実施形態の記録システムの構成の一例を示す側面図である。 記録媒体の上面を示す平面図、及び、図２（ａ）に示す記録媒体のＩＩ−ＩＩ’断面図である。 空間光変調器の光変調面の構成を示す平面図、空間光変調器の光変調面の一部の構成を示す斜視図、空間光変調器の１つのミラー要素の構成を示す斜視図、及び、空間光変調器が備えるミラー要素がとりえる２つの状態を示す側面図である。 記録動作の全体の流れを示すフローチャートである。 記録媒体のレジスト膜の表面上における露光領域の移動経路の一例を示す平面図である。 露光領域内における露光光の強度分布の一例を示す平面図である 現像された記録媒体の構成を示す断面図、並びに、エッチングされた記録媒体の構成を示す断面図及び斜視図である。 図４のステップＳ２で記録装置が行う露光動作の流れを示すフローチャートである。 １次元デジタルデータの一例を示すデータ配列図、記録情報を示す１次元デジタルデータを構成するビットデータと２次元デジタルデータであるパターン分布情報を構成するビットデータとの関係を示す表、及び、２次元デジタルデータであるパターン分布情報の一例を示すデータ配列図である。 パターン分布情報とパターン分布情報ブロックとの関係を示す平面図である。 記録情報のデータ構造の一例を示すデータ構造図、及び、記録情報のデータフォーマットとパターン分布情報ブロックとの関係の一例を示すデータ構造図である。 第１変形例で用いられる露光対象面を示す平面図、第１変形例で用いられる露光対象面と露光領域との位置関係を示す平面図、及び、第１変形例で用いられる露光対象面（露光領域）内における露光光の強度分布を示す平面図である。 第２変形例で用いられる露光対象面を示す平面図である。 第３変形例で用いられる露光対象面を示す平面図である。 記録システムが第４変形例の露光動作を行う際の露光パターンを示す平面図である。

以下、図面を参照しながら、記録装置、記録方法及び記録媒体の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、記録装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。

（１）記録システム１の構成
初めに、図１を参照しながら、本実施形態の記録システム１の構成について説明する。図１は、本実施形態の記録システム１の構成の一例を示す側面図である。

図１に示すように、記録システム１は、記録媒体１００に対して記録情報を記録する記録動作の少なくとも一部の工程を行うために用いられる装置である。記録システム１は、記録媒体１００に対して記録情報を記録する記録動作のうち記録媒体１００を露光する（より具体的には、レジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部の面を、当該レジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部の面が位置する領域に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光する）ために用いられる記録装置１０を含む装置である。

ここで、図２（ａ）及び図２（ｂ）を参照しながら、記録媒体１００の構成の一例について説明する。図２（ａ）は、記録媒体１００の上面を示す平面図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す記録媒体１００のＩＩ−ＩＩ’断面図である。

図２（ａ）に示すように、記録媒体１００は、平面視円盤状の形状を有している。記録媒体１００の直径は、例えば、約１２インチ（つまり、約３００ミリメートル）である。但し、記録媒体１００の直径は、１２インチとは異なる大きさであってもよい。記録媒体１００は、平面視において任意の形状（例えば、矩形の形状等）を有していてもよい。

図２（ｂ）に示すように、記録媒体１００は、シリコン基板１０１と、「感光剤」の一具体例であるレジスト膜１０２とを備えている。レジスト膜１０２は、シリコン基板１０１の上面に塗布されている。レジスト膜１０２は、シリコン基板１０１の上面に積層されている。つまり、記録媒体１００は、シリコン基板１０１とレジスト膜１０２とが積層された積層構造を有している。

記録システム１は、記録媒体１００に対して記録情報を記録するために、記録媒体１００のレジスト膜１０２を露光する記録装置１０を含む装置である。記録システム１は、レジスト膜１０２を、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光する記録装置１０を含む装置である。記録装置１０は、レジスト膜１０２を、レジスト膜１０２上の所定方向における強度分布が記録媒体１００に記録すべき記録情報に応じた分布となる露光パターンで露光する。記録装置１０は、レジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部の面を、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光する。記録装置１０は、レジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部の面を、当該レジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部の面が位置する領域に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光する。

記録システム１は、記録媒体１００の表面を露光する装置であってもよい。記録システム１は、記録媒体１００の表面を、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光する記録装置１０を含む装置であってもよい。記録装置１０は、記録媒体１００の表面を、記録媒体１００上の所定方向における強度分布が記録媒体１００に記録すべき記録情報に応じた分布となる露光パターンで露光してもよい。記録装置１０は、記録媒体１００の表面のうちの少なくとも一部の面を、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光してもよい。記録装置１０は、記録媒体１００の表面のうちの少なくとも一部の面を、当該記録媒体１００の表面のうちの少なくとも一部の面が位置する領域に記録するべき記録情報に応じて定まる露光パターンで露光してもよい。

再び図１において、記録システム１は、コータ／デベロッパー２０及びエッチング装置３０の少なくとも一方を備えていてもよい。コータ／デベロッパー２０は、記録媒体１００の表面に感光剤としてのレジスト膜１０２を塗布する塗布装置である。コータ／デベロッパー２０は、露光されたレジスト膜１０２を現像する現像装置である。エッチング装置３０は、現像されたレジスト膜１０２を備える記録媒体１００をエッチングする加工装置である。

尚、後に図７（ａ）から図７（ｃ）を参照しながら詳述するように、記録システム１の記録装置１０がレジスト膜１０２を露光した後には、コータ／デベロッパー２０によってレジスト膜１０２が現像される。その後、エッチング装置３０を用いて、現像によって残ったレジスト膜１０２に基づくパターン（つまり、記録情報に基づくパターン）でシリコン基板１０１がエッチングされる。その結果、シリコン基板１０１の表面には、記録情報に基づく凹凸パターンが形成される。つまり、シリコン基板１０１に形成される凹凸パターンによって、記録媒体１００に記録情報が記録される。

記録システム１が備える記録装置１０は、光源１１と、照明光学系１２と、ミラー１３と、「ビーム照射装置」の一具体例である空間光変調器（ＳＬＭ：Ｓｐａｔｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）１４と、投影光学系１５と、「搭載部」の一具体例であるステージ１６と、「制御装置」の一具体例であるコントローラ１７とを備えている。

光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。光源１１は、露光光ＥＬ１として、所定の周波数で明滅を繰り返すパルス光を射出する。つまり、光源１１は、所定の発光時間（例えば、５０ｎｓ。以下、当該発光時間を“パルス幅”と称する。）で発光するパルス光を所定の周波数（例えば、４ｋＨｚから６ｋＨｚの周波数）で射出する。光源１１からパルス発光される露光光ＥＬ１は、波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光とすることができる。

照明光学系１２は、光源１１が射出した露光光ＥＬ１のビーム断面における大きさ（言い換えれば、ビームサイズ）、露光光ＥＬ１のビーム断面における形状（以降、“ビーム断面形状”と称する）及び露光光ＥＬ１のビーム断面における強度分布のうち少なくとも一つを調整することで得られる露光光ＥＬ２を射出する。例えば、照明光学系１２は、露光光ＥＬ２のビーム断面形状が所望形状（例えば、矩形状）となるように、露光光ＥＬ１のビーム断面形状を調整してもよい。

照明光学系１２は、露光光ＥＬ１を調整することで、露光光ＥＬ２を空間光変調器１４の光変調面１４ａの全体に照射する。照明光学系１２は、光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２のビーム断面形状が空間光変調器１４の光変調面１４ａの形状と一致する（或いは、相似の関係となる）ように、露光光ＥＬ１のビーム径及びスポット形状の少なくとも一方を調整してもよい。

尚、照明光学系１２は、露光光ＥＬ１のビームサイズやビーム断面形状の少なくとも一方を調整するビームエキスパンダを含んでいてもよい。照明光学系１２は、光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２の強度分布を均一化するためのフライアイレンズやロッド型インテグレータ等のオプティカルインテグレータを含んでいてもよい。照明光学系１２は、光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２の強度分布を変更するビーム強度分布変更部等を含んでいてもよい。

ミラー１３は、照明光学系１２から出力される露光光ＥＬ２を偏向して、空間光変調器１４の光変調面１４ａに導く。

空間光変調器１４は、後述するように、２次元的に配列された複数のミラー要素１４１を備える。ここで、複数のミラー要素１４１が配列されている面を光変調面１４ａと称する。この光変調面１４ａには、照明光学系１２からミラー１３を介して伝搬してくる露光光ＥＬ２が照射される。光変調面１４ａは、ＸＹ平面に平行な平面であって、露光光ＥＬ２の進行方向に交わる面である。光変調面１４ａは、矩形の形状を有している。露光光ＥＬ２は、光変調面１４ａをほぼ均一な照度分布で照明する。

空間光変調器１４は、当該空間光変調器１４の光変調面１４ａに照射された露光光ＥＬ２を、投影光学系１５に向けて反射する。空間光変調器１４は、露光光ＥＬ２を反射する際に、当該露光光ＥＬ２を、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて二次元的に空間変調する。ここで、「光を空間変調する」とは、当該光の進行方向を横切る断面における当該光の振幅（強度）、位相、偏光状態及び波長のうちの少なくとも１つであるビーム特性の分布を変化させることを指す。本実施形態では、空間光変調器１４は、反射型の空間光変調器である。

ここで、図３（ａ）から図３（ｄ）を参照しながら、空間光変調器１４について更に説明を加える。図３（ａ）は、空間光変調器１４の光変調面１４ａの構成を示す平面図である。図３（ｂ）は、空間光変調器１４の光変調面１４ａの一部の構成を示す斜視図である。図３（ｃ）は、空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１の構成を示す斜視図である。図３（ｄ）は、空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１がとり得る２つの状態を示す側面図である。

図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、空間光変調器１４は、複数のミラー要素１４１を備えている。尚、図３（ｂ）は、図面の見易さを考慮して、図３（ａ）に示す複数のミラー要素１４１の一部を抜粋した図面である。複数のミラー要素１４１は、光変調面１４ａに平行な面であるＸＹ平面上において、二次元のアレイ状に（言い換えれば、マトリクス状に）配列されている。例えば、複数のミラー要素１４１のＹ軸方向に沿った配列数は、数百から数千である。例えば、複数のミラー要素１４１のＸ軸方向に沿った配列数は、複数のミラー要素１４１のＹ軸方向に沿った配列数の数倍から数十倍である。複数のミラー要素１４１のＹ軸方向に沿った配列数の一例は、８０００である。複数のミラー要素１４１のＸ軸方向に沿った配列数の一例は、３２０００である。複数のミラー要素１４１は、Ｘ軸方向に沿って所定の配置間隔ｐｘの間隔を隔て且つＹ軸方向に沿って所定の配置間隔ｐｙの間隔を隔てるように、配列されている。

各ミラー要素１４１は、正方形の形状を有している。各ミラー要素１４１のＸ軸方向及びＹ軸方向のサイズは、夫々、上述した配置間隔ｐｘ及びｐｙと実質的に同一であってもよい。一例として、各ミラー要素１４１のＸ軸方向及びＹ軸方向のサイズは、共に４マイクロメートル（或いは、１マイクロメートルから１０マイクロメートルの間の任意の値）である。但し、各ミラー要素１４１形状及びサイズは任意であってもよい。

各ミラー要素１４１のうち露光光ＥＬ２が照射される面は、露光光ＥＬ２を反射する反射面１４１ａとなっている。各ミラー要素１４１のＸＹ平面に平行な２つの表面のうち−Ｚ方向側に位置する表面は、反射面１４１ａとなっている。反射面１４１ａには、例えば金属膜が形成されている。複数のミラー要素の１４１の反射面１４１ａの集合が、実質的には、露光光ＥＬ２が照射される光変調面１４ａとなる。

図３（ｃ）に示すように、各ミラー要素１４１は、第１接続部材１４３によってヒンジ部１４４と接続されている。ヒンジ部１４４は、弾性変形を利用してＺ軸方向に撓むことが可能な可撓性を有している。ヒンジ部１４４は、支持基板１４２上に設けられた複数のポスト部１４５によって支持されている。ヒンジ部１４４には、アンカー部１４６とヒンジ部１４４とを接続する第２接続部材１４７が設けられている。このように、アンカー部１４６とミラー要素１４１とは、第１接続部材１４３及び第２接続部材１４７並びにヒンジ部１４４を介して機械的に接続されている。支持基板１４２の表面には電極１４８が形成されている。

電極１４８に所定の電圧が印加されると、アンカー部１４６の裏面と電極１４４との間に静電力が働く。上述の通り、アンカー部１４６とミラー要素１４１とが接続されているため、アンカー部１４６が図中下方へ移動すると、ミラー要素１４１も図中下方へ移動する。

各ミラー要素１４１の状態は、アンカー部１４６の裏面と電極１４４との間の静電力とヒンジ部１４４の弾性力とに起因して、反射面１４１ａに直交する方向に沿った位置が異なる２つの状態の間で切り替わる。例えば、図３（ｄ）の左側に示すように、アンカー部１４６の裏面と電極１４４との間の静電力がない場合（ヒンジ部１４４が撓んでいない場合）には、各ミラー要素１４１は、各ミラー要素１４１の反射面１４１ａが基準平面Ａ１に一致する第１状態となる。例えば、図３（ｄ）の右側に示すように、アンカー部１４６の裏面と電極１４４との間に静電力が働いている場合（ヒンジ部１４３が撓んでいる場合）には、各ミラー要素１４１は、各ミラー要素１４１の反射面１４１ａが基準平面Ａ１からＺ軸方向に沿って間隔ｄ１だけシフトした変位平面Ａ２に一致する第２状態となる。

第２状態にあるミラー要素１４１の反射面１４１ａは、第１状態にあるミラー要素１４１の反射面１４１ａからＺ軸方向に沿って間隔ｄ１だけシフトした位置にある。このため、第２状態にあるミラー要素１４１が露光光ＥＬ２を反射することで得られる露光光ＥＬ３の波面の位相は、第１状態にあるミラー要素１４１が露光光ＥＬ２を反射することで得られる露光光ＥＬ３の波面の位相と比較して、間隔ｄ１の倍の位相量だけ異なる。本実施形態では、間隔ｄ１は、露光光ＥＬ１の波長λ／４（つまり、ｄ１＝λ／４）と一致する。この場合、第２状態にあるミラー要素１４１が露光光ＥＬ２を反射することで得られる露光光ＥＬ３の波面の位相は、第１状態にあるミラー要素１４１が露光光ＥＬ２を反射することで得られる露光光ＥＬ３の波面の位相と比較して、１８０度（πラジアン）だけ異なる。

空間光変調器１４は、コントローラ１７の制御下で（より具体的には、コントローラ１７が備える変調制御部１７２の制御下で）、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて、複数のミラー要素１４１の状態を制御する。具体的には、変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録されるべき記録情報に基づいて、複数のミラー要素１４１の状態の分布（複数のミラー要素１４１のそれぞれが第１状態であるか第２状態であるか）を決定する。これにより、複数のミラー要素１４１で反射される露光光ＥＬ３の進行方向に直交する（或いは、交わる）面における位相分布が決定される。

尚、このような空間光変調器１４の一例は、例えば、米国特許出願公開第２０１３／０２２２７８１号明細書に記載されている。

また、記録媒体１００に記録するべき記録情報は、コントローラ１７の入力部１７４を介して変調制御部１７２に入力される。入力部１７４は、コントローラ１７のインターフェースであってもよい。

再び図１において、投影光学系１５は、空間光変調器１４によって空間変調された露光光ＥＬ３を記録媒体１００（具体的には、レジスト膜１０２）に投影する。投影光学系１５は、露光光ＥＬ３を記録媒体１００の表面（具体的には、レジスト１０２膜の表面）に投影する。

投影光学系１５は、露光光ＥＬ３を、記録媒体１００の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡに投影する。つまり、投影光学系１５は、記録媒体１００の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡが露光光ＥＬ３によって露光されるように、露光領域ＥＬＡに露光光ＥＬ３を投影する。投影光学系１５は、記録媒体１００の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡが露光光ＥＬ３によってまとめて同時に露光されるように、露光領域ＥＬＡに露光光ＥＬ３を投影する。

投影光学系１５の光軸ＡＸは、面状の露光領域ＥＬＡ、記録媒体１００の表面及びレジスト膜１０２の表面の少なくとも一つに直交する。面状の露光領域ＥＬＡは投影光学系１５の光軸ＡＸから外れた位置に形成される。記録媒体１００の表面と投影光学系１５の光軸ＡＸとが一致する部分から外れた所定領域が、面状の露光領域ＥＬＡとなる。

投影光学系１５は、記録情報に基づく位相分布を有する露光光ＥＬ３を、位相分布に応じた強度分布を持つ空間像として記録媒体１００の表面（レジスト膜１０２の表面）に投影する。

投影光学系１５は、縮小倍率を有する。本実施形態では、投影光学系１５の投影倍率は、１／２００である。本実施形態における投影光学系１５の解像度は、空間光変調器１４の各ミラー要素１４１の大きさ（各ミラー要素の一辺の寸法）に投影倍率を乗じた値よりも大きくなるように設定されている。従って、複数のミラー要素１４１のうちの１つからの露光光ＥＬ３は、露光領域ＥＬＡ上では解像されない。

ステージ１６は、記録媒体１００を保持可能であり、保持した記録媒体１００をリリース可能である。ステージ１６は、記録媒体１００を保持した状態で、露光領域ＥＬＡを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。ステージ１６は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。例えば、ステージ１６は、平面モータを含むステージ駆動系１６１の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含むステージ駆動系１６１の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。但し、ステージ駆動系１６１は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。

ステージ１６のＸＹ平面内での位置（但し、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿った回転角度を含んでいてもよい）は、レーザ干渉計１６２によって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時計測されている。レーザ干渉計１６２の計測結果は、コントローラ１７（特に、コントローラ１７が備えるステージ制御部１７３）に出力される。

コントローラ１７は、記録システム１の動作を制御する。コントローラ１７は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）や、メモリを含んでいてもよい。本実施形態では、コントローラ１７は、その内部に論理的に実現される処理ブロックとして又はその内部に物理的に実現される処理回路として、光源制御部１７１と、「データ生成器」及び「調整器」の一具体例である変調制御部１７２と、ステージ制御部１７３とを備える。

光源制御部１７１は、光源１１による露光光ＥＬ１の射出動作を制御する。光源制御部１７１は、所定のパルス幅を有すると共に所定の周波数でパルス発光するパルス光を露光光ＥＬ１として適切なタイミングで射出するように光源１１を制御する。

特に、光源制御部１７１は、変調制御部１７２及びステージ制御部１７３と協調することで、光源１１を制御する。例えば、光源制御部１７１は、露光領域ＥＬＡに投影される露光光ＥＬ３の位相分布（実質的には、強度分布）を決定付ける空間光変調器１４の複数のミラー要素１４１の状態の制御と同期する適切なタイミングで露光光ＥＬ１を射出する（言い換えれば、パルス発光する）ように、光源１１を制御する。例えば、光源制御部１７１は、記録媒体１００上における露光領域ＥＬＡの相対的な位置を決定付けるステージ１６の移動と同期する適切なタイミングで露光光ＥＬ１を射出する（言い換えれば、パルス発光する）ように、光源１１を制御する。

変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１の状態を制御する。具体的には、変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録するべき記録情報のデジタルデータを、露光光ＥＬ３の位相分布を示すデジタルデータに変換する。つまり、変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録するべき記録情報のデジタルデータを、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１の状態を示すデジタルデータに変換する。その後、変調制御部１７２は、決定した露光光ＥＬ３の位相分布を示すデジタルデータに基づいて、複数のミラー要素１４１の状態を制御する。

特に、変調制御部１７２は、光源制御部１７１及びステージ制御部１７３と協調することで、空間光変調器１４を制御する。例えば、変調制御部１７２は、記録媒体１００上における露光領域ＥＬＡの位置を決定付けるステージ１６の移動と同期する適切なタイミングで複数のミラー要素１４１の状態を制御するように、空間光変調器１４を制御する。例えば、変調制御部１７２は、露光領域ＥＬＡに露光光ＥＬ３が投影されるタイミングを決定付ける光源１１の発光タイミングと同期する適切なタイミングで複数のミラー要素１４１の状態を制御するように、空間光変調器１４を制御する。

ステージ制御部１７３は、ステージ１６の移動を制御する。具体的には、ステージ制御部１７３は、ステージ１６を移動させることが可能なステージ駆動系１６１を制御する。ステージ制御部１７３は、露光領域ＥＬＡが記録媒体１００の表面（つまり、レジスト膜１０２の表面）を所望の移動経路を通って相対的に移動していくように、ステージ駆動系１６１を制御する。

特に、ステージ制御部１７３は、光源制御部１７１及び変調制御部１７２と協調することで、ステージ１６の移動を制御する。例えば、ステージ制御部１７３は、露光領域ＥＬＡに露光光ＥＬ３が投影されるタイミングを決定付ける光源１１の発光タイミングと同期する適切なタイミングでステージ１６が移動するように、ステージ１６の移動を制御する。例えば、ステージ制御部１７３は、露光領域ＥＬＡに投影される露光光ＥＬ３の位相分布を決定付ける空間光変調器１４の複数のミラー要素１４１の状態の制御と同期する適切なタイミングでステージ１６が移動するように、ステージ１６の移動を制御する。

尚、図１から図３を用いて説明した記録システム１の構成は一例である。従って、記録システム１の構成の少なくとも一部が適宜改変されてもよい。以下、記録システム１の構成の少なくとも一部の改変の例について説明する。

記録媒体１００は、シリコン基板１０１に代えて、石英ガラス基板を備えていてもよい。記録媒体１００は、シリコン基板１０１に代えて、シリコンを材料として含む基板を備えていてもよい。記録媒体１００は、シリコン基板１０１に代えて、耐火性能に優れた材料（例えば、光ディスクや磁気テープ等と比較して良好な耐火性能を有する材料）からなる基板を備えていてもよい。記録媒体１００は、シリコン基板１０１に代えて、耐湿性能に優れた材料（例えば、光ディスクや磁気テープやハードディスクや半導体メモリ等と比較して良好な耐湿性能を有する材料）からなる基板を備えていてもよい。

光源１１は、露光光ＥＬ１として、波長が１９３ｎｍであるＡｒＦエキシマレーザ光とは異なる任意の光を射出してもよい。例えば、光源１１は、波長が２４８ｎｍであるＫｒＦエキシマレーザ光を射出してもよい。光源１１は、所望の波長を有する任意のレーザ光又はその他任意の光を射出してもよい。記録システム１は、光源１１に加えて又は代えて、露光光ＥＬ１として用いることが可能な電子線ビームを射出する電子線ビーム源を備えていてもよい。記録システム１は、光源１１に加えて又は代えて、ＹＡＧレーザ若しくは固体レーザ（半導体レーザ等）から出力されるレーザ光の高調波を生成する固体パルスレーザ光源を備えていてもよい。固体パルスレーザ光源は、露光光ＥＬ１として用いることが可能な波長が１９３ｎｍ（これ以外の種々の波長、例えば２１３ｎｍ、２６６ｎｍ、３５５ｎｍ等の波長が可能）でパルス幅１ｎｓ程度のパルスレーザ光を１〜２ＭＨｚ程度の周波数で射出可能である。記録システム１は、光源１１に加えて又は代えて、露光光ＥＬ１として用いることが可能な任意のエネルギビームを射出するビーム源を備えていてもよい。

照明光学系１２は、露光光ＥＬ２が光変調面１４ａの一部に照射されるように露光光ＥＬ１を調整してもよい。照明光学系１２は、光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２が照射される照射領域が光変調面１４ａよりも小さくなるように、露光光ＥＬ１を調整してもよい。照明光学系１２は、光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ１が照射される照射領域の形状が光変調面１４ａの形状と一致しないように、露光光ＥＬ１を調整してもよい。また、照明光学系１２のビーム強度分布変更部は、露光光ＥＬ２のビーム断面内での強度分布を変更して、光変調面１４ａに達する露光光ＥＬ２の照度分布をほぼ均一にしてもよい。このビーム強度分布変更部は、照明光学系１２が備えるオプティカルインテグレータの射出側の光路に配置されてもよい。

空間光変調器１４は、露光光ＥＬ３の位相分布を制御することに加えて又は代えて、露光光ＥＬ３の強度分布（つまり、露光光ＥＬ３の進行方向に直交する（或いは、交わる）方向に沿った面上における強度分布）を制御してもよい。空間光変調器１４は、複数のミラー要素１４１に代えて、露光光ＥＬ２を空間変調することが可能な任意の装置（例えば、液晶パネル等）を備えていてもよい。空間光変調器１４は、透過型の空間光変調器であってもよい。

上述の例における空間光変調器１４は、それぞれの上下方向（つまり、露光光ＥＬ２の進行方向）に沿った位置が可変である複数のミラー要素１４１を備える位相型（ピストン型）の空間光変調器である。しかしながら、空間光変調器１４は、それぞれが傾斜可能な複数のミラー要素を備える傾斜型の空間光変調器であってもよい。また、空間光変調器１４は、傾斜型の空間光変調器の傾斜可能な複数のミラー要素の反射面に段差を設けた位相段差傾斜ミラー型の空間光変調器であってもよい。位相段差傾斜ミラー型の空間光変調器は、光変調面に平行な反射面からの反射光の位相と光変調面に対して傾斜している反射面からの反射光の位相との間の位相差を、λ／２（１８０度（πラジアン））とする空間光変調器である。また、国際公開第２０１４／１０４００１号パンプレットに開示されている、それぞれの上下方向の位置が可変である複数のミラー要素と、当該複数のミラー要素の間の固定反射面とを備え、ミラーの上下方向の移動によって光強度を空間変調する空間光変調器が用いられてもよい。

（２）記録動作
続いて、図４から図１１を参照しながら、本実施形態の記録システム１を用いて行われる記録媒体１００に対する記録情報の記録動作について説明する。

（２−１）記録動作の全体の流れ
はじめに、図４を参照しながら、記録動作の全体の流れについて説明する。図４は、記録動作の全体の流れを示すフローチャートである。

図４に示すように、記録システム１は、記録媒体１００をローディングする（ステップＳ１）。言い換えれば、ステージ１６上に記録媒体１００（つまり、レジスト膜１０２がシリコン基板１０１上に塗布された記録媒体１００）が搭載される。尚、記録システム１は、レジスト膜１０２が塗布されていないシリコン基板１０１をローディングしてもよい。この場合、記録システム１は、コータ／デベロッパー２０を用いて、ステージ１６に搭載されたシリコン基板１０１にレジスト膜１０２をコーティングしてもよい。尚、レジスト膜１０２がシリコン基板１０１上に塗布された記録媒体１００を用いる場合、コータ／デベロッパー２０は、露光済みの記録媒体１００を現像する現像装置であってもよい。

その後、記録システム１は、記録媒体１００（特に、記録媒体１００が備えるレジスト膜１０２）を露光する（ステップＳ２）。尚、記録システム１が行う露光動作については、後に詳述するが（図８参照）、ここでは、図５（ａ）から図５（ｃ）及び図６を参照しながら、露光動作の概要について説明する。図５（ａ）から図５（ｃ）は、夫々、記録媒体１００のレジスト膜１０２の表面上における露光領域ＥＬＡの移動経路の一例を示す平面図である。図６は、露光領域ＥＬＡ内における露光光ＥＬ３の強度分布の一例を示す平面図である。

図５（ａ）から図５（ｃ）に示すように、露光光ＥＬ３は、記録媒体１００のレジスト膜１０２の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡに照射される。露光光ＥＬ３は、露光領域ＥＬＡをまとめて同時に露光する。露光領域ＥＬＡは、露光光ＥＬ３であるパルス光のうちの１回のパルス発光によってまとめて同時に露光される。その結果、露光光ＥＬ３は、露光領域ＥＬＡと重なるレジスト膜１０２の表面のうちの少なくとも一部である露光対象面１１０に照射される。露光光ＥＬ３は、露光対象面１１０をまとめて同時に露光する。露光対象面１１０は、露光光ＥＬ３であるパルス光のうちの１回のパルス発光によってまとめて同時に露光される。ここで、露光対象面１１０と露光光ＥＬ３との位置関係を固定した状態（露光対象面１１０が静止している状態で露光対象面１１０に露光光ＥＬ３が達する状態）で、露光光ＥＬ３であるパルス光のうちの複数回のパルス露光によって露光対象面１１０が露光されてもよい。

尚、図３（ａ）を用いて説明したように、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１のＸ軸方向に沿った配列数は、複数のミラー要素１４１のＹ軸方向に沿った配列数の数倍から数十倍である。つまり、空間光変調器１４の光変調面１４ａは、Ｘ軸方向に沿ったサイズがＹ軸方向に沿ったサイズよりも大きくなる形状を有する。従って、図５（ａ）から図５（ｃ）に示すように、露光領域ＥＬＡは、Ｘ軸方向に沿ったサイズがＹ軸方向に沿ったサイズよりも大きくなる形状を有する。同様に、露光対象面１１０は、Ｘ軸方向に沿ったサイズがＹ軸方向に沿ったサイズよりも大きくなる形状を有する。

但し、空間光変調器１４の光変調面１４ａの形状は任意の形状（例えば、円弧や、台形等）であってもよい。この場合、露光領域ＥＬＡ及び露光対象面１１０の形状もまた任意の形状であってもよい。露光領域ＥＬＡ及び露光対象面１１０の形状が任意の形状である場合であっても、露光領域ＥＬＡ及び露光対象面１１０の形状は、光変調面１４ａの形状と相似の関係にあってもよい。

また、空間光変調器１４の光変調面１４ａの形状と、光変調面１４ａ上で露光光ＥＬ２が照射される照射領域の形状は異なっていてもよい。この場合、光変調面１４ａ上での照射領域の形状は、露光領域ＥＬＡ及び露光対象面１１０の形状と相似の関係にあってもよい。

ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが記録媒体１００の表面（つまり、レジスト膜１０２の表面）を所望の移動経路を通って相対的に移動していくように移動する。図５（ａ）から図５（ｃ）中に示す矢印は、露光領域ＥＬＡの移動経路の一例を示している。

図５（ａ）に示す例では、ステージ１６は、あるタイミングで露光領域ＥＬＡが＋Ｙ方向に向かって移動するように、−Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが−Ｘ方向に向かって移動するように、＋Ｘ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが−Ｙ方向に向かって移動するように、＋Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが−Ｘ方向に向かって移動するように、＋Ｘ方向に向かって移動する。以降、ステージ１６は、−Ｙ方向に向かう移動、＋Ｘ方向に向かう移動、＋Ｙ方向に向かう移動及び＋Ｘ方向に向かう移動を繰り返す。その結果、露光領域ＥＬＡは、記録媒体１００の表面を図５（ａ）中の矢印が示す経路を通って相対的に移動する。

図５（ｂ）に示す例では、ステージ１６は、あるタイミングで露光領域ＥＬＡが−Ｘ方向に向かって移動するように、＋Ｘ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが＋Ｙ方向に向かって移動するように、−Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが＋Ｘ方向に向かって移動するように、−Ｘ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが＋Ｙ方向に向かって移動するように、−Ｙ方向に向かって移動する。以降、ステージ１６は、＋Ｘ方向に向かう移動、−Ｙ方向に向かう移動、−Ｘ方向に向かう移動及び−Ｙ方向に向かう移動を繰り返す。その結果、露光領域ＥＬＡは、記録媒体１００の表面を図５（ｂ）中の矢印が示す経路を通って相対的に移動する。

図５（ｃ）に示す例では、ステージ１６は、あるタイミングで露光領域ＥＬＡが＋Ｙ方向に向かって移動するように、−Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが−Ｘ方向に向かって移動するように、＋Ｘ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが−Ｙ方向に向かって移動するように、＋Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが＋Ｘ方向に向かって移動するように、−Ｘ方向に向かって移動する。以降、ステージ１６は、−Ｙ方向に向かう移動、＋Ｘ方向に向かう移動、＋Ｙ方向に向かう移動及び−Ｘ方向に向かう移動を繰り返す。その結果、露光領域ＥＬＡは、記録媒体１００の表面を図５（ｃ）中の矢印が示す経路（いわゆる、スパイラル状の経路）を通って相対的に移動する。

記録媒体１００の表面（レジスト膜１０２の表面）は、複数の露光対象面１１０に区分可能である。この場合、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが複数の露光対象面１１０に順次重なるように移動する。ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが複数の露光対象面１１０を順次トレースするように移動する。

具体的には、図５（ａ）に示す例では、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ａに重なるように−Ｙ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ａに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−１ａ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。つまり、光源１１は、露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ａに重なるタイミングと光源１１が射出するパルス光のうちの１回のパルス発光のタイミングとが一致するように、露光光ＥＬ３を射出する。その後、ステージ１６は、Ｙ軸方向に沿って露光対象面１１０−１ａに隣接する露光対象面１１０−２ａに露光領域ＥＬＡが重なるように−Ｙ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ａから露光対象面１１０−２ａに向かって移動している間は、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出しない。つまり、露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ａから露光対象面１１０−２ａに向かって移動している間は、パルス発光が行われることはない。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−２ａに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−２ａ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。以降、Ｙ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。その後、Ｙ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対する露光が終了する（つまり、露光対象面１１０−３ａに対する露光が終了する）と、ステージ１６は、露光対象面１１０−３ａにＸ軸方向に沿って隣接する露光対象面１１０−４ａに露光領域ＥＬＡが重なるように−Ｘ方向に向かって移動する。以降、露光対象面１１０−４ａを起点として、Ｙ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。以降は、図５（ａ）に示す移動経路を通って露光対象面ＥＬＡが移動するように、上述した動作が繰り返される。

図５（ｂ）に示す例では、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｂに重なるように＋Ｘ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｂに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−１ｂ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。その後、ステージ１６は、Ｘ軸方向に沿って露光対象面１１０−１ｂに隣接する露光対象面１１０−２ｂに露光領域ＥＬＡが重なるように＋Ｘ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｂから露光対象面１１０−２ｂに向かって移動している間は、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出しない。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−２ｂに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−２ｂ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。以降、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。その後、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対する露光が終了する（つまり、露光対象面１１０−３ｂに対する露光が終了する）と、ステージ１６は、露光対象面１１０−３ｂにＹ軸方向に沿って隣接する露光対象面１１０−４ｂに露光領域ＥＬＡが重なるように−Ｙ方向に向かって移動する。以降、露光対象面１１０−４ｂを起点として、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。以降は、図５（ｂ）に示す移動経路を通って露光対象面ＥＬＡが移動するように、上述した動作が繰り返される。

図５（ｃ）に示す例では、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｃに重なるように−Ｙ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｃに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−１ｃ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。その後、ステージ１６は、Ｙ軸方向に沿って露光対象面１１０−１ｃに隣接する露光対象面１１０−２ｃに露光領域ＥＬＡが重なるように−Ｙ方向に向かって移動する。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−１ｃから露光対象面１１０−２ｃに向かって移動している間は、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出しない。露光領域ＥＬＡが露光対象面１１０−２ｃに重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、露光対象面１１０−２ｃ）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。以降、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。その後、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対する露光が終了する（つまり、露光対象面１１０−３ｃに対する露光が終了する）と、ステージ１６は、露光対象面１１０−３ｃよりも−Ｘ方向に位置する露光対象面１１０−４ｃに露光領域ＥＬＡが重なるよう＋Ｘ方向に向かって移動する。以降、露光対象面１１０−４ｃを起点として、Ｘ軸に沿って並ぶ一連の露光対象面１１０に対しても同様の動作が繰り返される。以降は、図５（ｃ）に示す移動経路を通って露光対象面ＥＬＡが移動するように、上述した動作が繰り返される。

尚、図５（ａ）から図５（ｃ）に示す例では、説明の簡略化のために、一の露光対象面１１０は、隣接する他の露光対象面１１０と重なることはないものとする。つまり、一の露光対象面１１０の一部が、隣接する他の露光対象面１１０の一部と重複することはないものとする。但し、後に変形動作例（図１１等参照）として説明するように、一の露光対象面１１０は、隣接する他の露光対象面１１０と重なってもよい。

また、上述した図５（ａ）から図５（ｃ）に示す例では、露光領域ＥＬＡが記録媒体１００の表面を所望の移動経路を通って相対的に移動している動作中に１回のパルス発光で露光を行ったが、露光を行うタイミングにおいて、露光領域ＥＬＡは記録媒体１００上で静止していてもよい。この場合、記録装置１０は、露光対象面１１０への露光動作の後に、露光領域ＥＬＡを記録媒体１００の表面上で移動させる動作を行う。また、このように露光領域ＥＬＡと記録媒体とを静止した状態で露光を行う場合、記録装置１０は、１回のパルス発光による露光ではなく、複数回のパルス発光による露光を行ってもよい。

さて、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１は、１回の露光（つまり、１回のパルス発光）毎に、１回のパルス発光による露光によって記録媒体１００に記録される記録情報に基づく状態に遷移する。図５（ａ）に示す例では、露光対象面１１０−１ａが露光される場合には、複数のミラー要素１４１は、露光対象面１１０−１ａに対する１回の露光によって記録媒体１００に記録されるべき記録情報（つまり、露光対象面１１０−１ａの下部に位置するシリコン基板１０１に形成されるべき凹凸パターン）に基づく状態に遷移する。その後、露光対象面１１０−１ａに続いて露光対象面１１０−２ａが露光される場合には、複数のミラー要素１４１は、露光対象面１１０−２ａに対する１回の露光によって記録媒体１００に記録されるべき記録情報（つまり、露光対象面１１０−２ａの下部に位置するシリコン基板１０１に形成されるべき凹凸パターン）に基づく状態に遷移する。以降、複数のミラー要素１４１は、同様の動作を繰り返す。

記録媒体１００に記録するべき記録情報に応じて定まる複数のミラー要素１４１の状態が変わると、レジスト膜１０２を露光する露光光ＥＬ３の位相分布（つまり、露光光ＥＬ３の進行方向に直交する所定面内の位相分布）が変わる。露光光ＥＬ３の位相分布が変わると、レジスト膜１０２の表面上における露光光ＥＬ３の強度分布（つまり、露光領域ＥＬＡ内における露光光ＥＬ３の強度分布）が変わる。

ここで、図６（ａ）は、露光領域ＥＬＡ内における露光光ＥＬ３の強度分布の一例を示している。図６（ｂ）は、空間光変調器１４の複数のミラー要素１４１のうちの一部の状態と露光領域ＥＬＡ内における微小領域ＥＬＡ１との対応関係を示している。図６（ｃ）は、空間光変調器１４の複数のミラー要素１４１のうちの一部の状態と露光領域ＥＬＡ内における微小領域ＥＬＡ２との対応関係を示している。

図６（ａ）中の白色で示す各微小領域（言い換えれば、ドット領域）ＥＬＡ１は、露光光ＥＬ３の強度が実質的にゼロでない領域を示している。図６中の白色で示す各微小領域ＥＬＡ１は、露光光ＥＬ３の強度がレジスト膜１０２を感光させることができる程度に大きい領域を示している。図６（ａ）中の白色で示す各微小領域ＥＬＡ１は、図６（ｂ）に示すように、全てが第１状態及び第２状態のいずれか一方である複数のミラー要素１４１に対応する。つまり、図６（ａ）中の白色で示す各微小領域ＥＬＡ１は、全てが第１状態及び第２状態のいずれか一方の複数のミラー要素１４１によって反射された露光光ＥＬ３が照射される領域に相当する。図６（ｂ）に示す例では、各微小領域ＥＬＡ１は、全てが第１状態である２行２列で配列された互いに隣接する４つのミラー要素１４１に対応する。つまり、図６（ｂ）に示す例では、各微小領域ＥＬＡ１は、全てが第１状態である互いに隣接する２行２列で配列された４つのミラー要素１４１によって反射された露光光ＥＬ３が照射される領域に相当する。ここで、微小領域ＥＬＡ１の大きさは、２行２列で配列された４つのミラー要素１４１の集合体の大きさに投影光学系１５の投影倍率を乗じた大きさとなる。なお、この４つのミラー要素１４１の集合体は、投影校学系１５によって解像される。言い換えると、微小領域ＥＬＡ１は、４つのミラー要素１４１の集合体の投影像である。

一方で、図６（ａ）中の黒色で示す各微小領域ＥＬＡ２は、露光光ＥＬ３の強度が実質的にゼロである領域を示している。図６（ａ）中の黒色で示す各微小領域ＥＬＡ２は、露光光ＥＬ３の強度がレジスト膜１０２を感光させることができない程度に小さい領域を示している。図６（ａ）中の黒色で示す各微小領域ＥＬＡ２は、図６（ｃ）に示すように、一部が第１状態となり且つ他の一部が第２状態となる複数のミラー要素１４１に対応する。図６（ｃ）に示す例では、各微小領域ＥＬＡ２は、Ｙ軸に沿って隣接する２つのミラー要素１４１が第１状態となり且つＹ軸に沿って隣接する他の２つのミラー要素１４１が第２状態となる２行２列で配列された互いに隣接する４つのいミラー要素１４１に対応する。ここで、微小領域ＥＬＡ２の大きさは、２行２列で配列された４つのミラー要素１４１の集合体の大きさに投影光学系１５の投影倍率を乗じた大きさとなる。

上述したように、１つのミラー要素１４１は露光領域ＥＬＡ上で解像されない。言い換えると、１つのミラー要素１４１からの０次反射光（正反射光）のみが投影光学系１５に入射する一方で当該１つのミラー要素１４１で回折される回折光が投影光学系１５に入射しないため、露光領域ＥＬＡでは像が形成されない。図６（ｃ）に示した例では、第１状態の２つのミラー要素１４１の集合体と第２状態の２つのミラー要素の集合体とがＸ方向に沿って配列されている。このため、これら４つのミラー要素１４１の集合体からはＸＺ面に沿った方向に回折光が発生するものの、これらの回折光は投影光学系１５には入射しない。また、第１状態のミラー要素１４１で反射される光と第２状態のミラー要素１４１で反射される光との位相差は１８０度である。このため、第１状態のミラー要素１４１で反射される光と第２状態のミラー要素１４１で反射される光とは互いに打ち消し合う。従って、これら４つのミラー要素１４１の集合体からの０次反射光は発生しない。

記録媒体１００に記録するべき記録情報に基づいて複数のミラー要素１４１の状態が変わることで、図６（ａ）に示す露光領域ＥＬＡ内の露光光ＥＬ３の強度分布が変わる。

レジスト膜１０２の表面上における露光光ＥＬ３の強度分布が変わると、レジスト膜１０２の露光パターンが変わる。レジスト膜１０２の露光パターンが変わると、エッチングにより形成されるシリコン基板１０１の凹凸パターンが変わる。つまり、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１の夫々が記録情報に基づく状態に遷移することで、レジスト膜１０２は、記録情報に基づく露光パターンで露光される。その結果、後述するように、記録媒体１００が備えるシリコン基板１０１には、記録情報に基づく凹凸パターンが形成される。つまり、記録媒体１００には、シリコン基板１０１に形成される凹凸パターンを用いて記録情報が記録される。

再び図４において、その後、記録システム１が備えるコータ／デベロッパー２０は、露光光ＥＬ３によって露光された記録媒体１００を現像する（ステップＳ３）。このコータ／デベロッパー２０は記録システム１に含まれていなくともよい。つまり、記録システム１又はコータ／デベロッパー２０は、露光光ＥＬ３によって露光されたレジスト膜１０２を現像する（ステップＳ３）。現像の結果、レジスト膜１０２がポジ型のレジストである場合には、レジスト膜１０２のうち露光光ＥＬ３に感光した部分が除去される。レジスト膜１０２がネガ型のレジストである場合には、レジスト膜１０２のうち露光光ＥＬ３に感光していない部分が除去される。このため、図７（ａ）に示すように、露光パターンに基づく（つまり、記録情報に基づく）レジスト膜１０２のパターンがシリコン基板１０１上に残存する。

その後、記録システム１が備えるエッチング装置３０は、ステップＳ３で現像された記録媒体１００をエッチングする（ステップＳ４）。このエッチング装置３０は記録システム１に含まれていなくてもよい。つまり、記録システム１又はエッチング装置３０は、ステップＳ３の現像の結果残存しているレジスト膜１０２のパターンをマスクとして利用しながら、シリコン基板１０１をエッチングする。その結果、図７（ｂ）に示すように、レジスト膜１０２が上部から除去されたシリコン基板１０１の一部がエッチングされる一方で、レジスト膜１０２が上部に残存しているシリコン基板１０１の他の一部は殆どエッチングされない。

エッチングが終了すると、シリコン基板１０１には、露光パターンに基づく（つまり、記録情報に基づく）凹凸パターンが形成される。従って、記録媒体１００には、シリコン基板１０１に形成される凹凸パターンを用いて記録情報が記録される。

尚、シリコン基板１０１に形成された凹凸パターンを保護するために、図７（ｄ）に示すように、エッチングが終了した後に、シリコン基板１０１上に保護膜１０３が形成されてもよい。

従って、記録システム１は、照射領域とみなすことができる露光対象面１１０に、所定方向（Ｘ方向：図５（ａ））における強度分布が記録情報に応じた分布となる露光光ＥＬ３を照射し、所定方向と交差する方向（Ｙ方向：図５（ａ））における露光対象面１１０と記録媒体１００との位置関係を変更することによって、記録媒体１００上に記録情報を記録することができる。更に、記録システム１は、照射領域とみなすことができる露光対象面１１０に、所定方向（Ｘ方向：図５（ａ））における強度分布が記録情報に応じた分布となることに加えて又は代えて所定方向と交差する方向（Ｙ方向：図５（ａ））における強度分布が記録情報に応じた分布となる露光光ＥＬ３を照射し、所定方向と交差する方向（Ｙ方向：図５（ａ））における露光対象面１１０と記録媒体１００との位置関係を変更することによって、記録媒体１００上に記録情報を記録することができる。

また、記録システム１は、露光対象面１１０という面状に広がる領域をまとめて同時に露光することができる。つまり、記録システム１は、露光光ＥＬ１を記録媒体１００上の微小領域に集光することで記録媒体１００上に微小なビームスポットを形成しなくてもよい。従って、記録システム１は、露光対象面１１０内において、所定方向と交差する方向（Ｙ方向であり、露光対象面１１０の移動方向：図５（ａ））に沿って離散的に分布する複数の微小領域ＥＬＡ１が同時に形成されるように、露光光ＥＬ３を露光対象面１１０に照射することができる。

参考までに、例えば、既存の光ディスクに記録情報を記録する（或いは、光ディスクのマスタスタンパを製造する）場合には、既存の記録装置は、光ディスク上に微小なビームスポットを形成するようにレーザ光等の光を集光する。この場合、既存の記録装置は、記録媒体１００を移動させる（或いは、回転させる）ことで、当該ビームスポットを記録媒体１００の移動方向に沿った一筆書きの移動経路を順次移動させる。その結果、ビームスポットの移動に応じて、記録情報が、一筆書きの如き記録トラック（或いは、記録ピット又は記録マーク）として順次記録されていく。このため、既存の記録装置は、記録媒体の移動方向に沿って複数のビームスポットを形成してしまうと、記録媒体の移動方向に沿って先行するビームスポットによって記録された記録情報を記録媒体の移動方向に沿って後行するビームスポットによって記録された記録情報で上書きしてしまうおそれがある。つまり、記録情報が適切に記録されないおそれがある。しかるに、本実施形態の記録システム１は、露光対象面１１０の移動方向（或いは、記録媒体１００の移動方向）に沿って離散的に分布する複数の微小領域ＥＬＡ１に対して光を同時に照射することができる。このように露光対象面１１０の移動方向（或いは、記録媒体１００の移動方向）に沿って離散的に分布する複数の微小領域ＥＬＡ１に対して光を同時に照射しても、記録システム１は、ビームスポットを形成することなく面状の露光対象面１１０をまとめて露光することができるがゆえに、記録情報を適切に記録することができる。

尚、記録システム１は、エッチングが終了したシリコン基板１０１を洗浄する洗浄装置を備えていてもよい。

（２−２）露光動作の詳細
続いて、図８を参照しながら、図４のステップＳ２で記録システム１が備える記録装置１０が行う露光動作について更に説明する。図８は、図４のステップＳ２で記録システム１が行う露光動作の流れを示すフローチャートである。

図８に示すように、変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録するべき記録情報を取得する（ステップＳ２１）。例えば、変調制御部１７２は、記録システム１００にマウントされた外部記録媒体（例えば、磁気テープや光ディスクや半導体メモリ等）に記録されている記録情報を読み出すことで、記録情報を取得してもよい。例えば、変調制御部１７２は、記録システム１００に対してネットワークを介して接続された外部サーバ等から記録情報をダウンロードすることで、記録情報を取得してもよい。例えば、変調制御部１７２は、その他の方法を用いて、記録情報を取得してもよい。

その後、変調制御部１７２は、ステップＳ２１で取得した記録情報を、１次元デジタルデータに変換する（ステップＳ２２）。例えば、変調制御部１７２は、記録情報と１次元デジタルデータとの関係を規定する所定の関数（或いは、マップや、数式や、その他任意の情報）等を用いて、記録情報を１次元デジタルデータに変換する。

１次元デジタルデータとは、データの配列を規定する次元が１つであるデータを意味する。例えば、記録情報から変換される１次元デジタルデータは、当該１次元デジタルデータが一方向に連なる（言い換えれば、配列される）複数のビットデータから構成される場合の当該ビットデータの配列方向を規定する次元によって規定されるデータの配列であってもよい。

尚、通常は、記録情報そのものもデジタルデータである場合が多い。従って、変調制御部１７２は、記録情報をデジタルデータとして取得する場合には、取得した記録情報をそのまま１次元デジタルデータとして取り扱ってもよい。或いは、変調制御部１７２は、記録情報をデジタルデータとして取得する場合には、取得した記録情報の形式のみを１次元デジタルデータに応じた形式に変換してもよい。

その後、変調制御部１７２は、ステップＳ２２で取得した１次元デジタルデータ（つまり、記録情報を示す１次元デジタルデータ）の配列を変更することで、当該１次元デジタルデータを、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換する（ステップＳ２３）。このパターン分布情報１８は、１次元デジタルデータが示す記録情報を記録媒体１００に記録するために記録媒体１００を露光する露光光ＥＬ３の位相分布のパターンを示す位相分布情報及び記録媒体１００を露光する露光光ＥＬ３の露光領域ＥＬＡ内での強度分布のパターンを示す強度分布情報に対応する。尚、パターン分布情報１８は、１次元デジタルデータが示す記録情報を記録媒体１００に記録するために複数のミラー要素１４１が遷移するべき状態を規定する情報である。

２次元デジタルデータとは、当該２次元デジタルデータを構成する複数のデータ（例えば、後述するビットデータ）の配列を規定する次元が２つであるデータを意味する。上述したように、露光光ＥＬ３の位相分布は、露光光ＥＬ３の進行方向に直交する所定面内の位相分布に相当する。言い換えれば、露光光ＥＬ３の位相分布は、空間光変調器１４の光変調面１４ａに平行な面に沿ってマトリクス状に配列される複数のミラー要素１４１の状態のパターンに相当する。従って、複数のミラー要素１４１の状態のパターンを示すパターン分布情報１８は、所定面内の位置に対応する情報となる。ここで、所定面内の位置は、少なくとも２つの座標（つまり、少なくとも２つの座標軸）を用いて特定することができる。このため、１次元デジタルデータから変換される２次元デジタルデータは、所定面内の位置を特定する２つの座標軸（例えば、図１に示すＸ軸及びＹ軸）という２つの次元によって規定されるデータの配列であってもよい。尚、この所定面は、典型的には空間光変調器１４の光変調面１４ａと一致する。

尚、入力部１７４には、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８が入力されてもよい。この場合、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換しなくてもよい。

ここで、図９（ａ）から図９（ｃ）を参照しながら、１次元デジタルデータを２次元デジタルデータに変換する変換処理の一例について説明する。図９（ａ）は、１次元デジタルデータの一例を示すデータ配列図である。図９（ｂ）は、記録情報を示す１次元デジタルデータを構成するビットデータと２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８を構成するビットデータとの関係の一例を示す表である。図９（ｃ）は、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８の一例を示すデータ配列図である。

図９（ａ）に示すように、記録情報を示す（言い換えれば、記録情報を変換することで取得される）１次元デジタルデータは、ビットデータ０とビットデータ１とが記録情報に基づく順序で配列されているデータである。

図９（ｂ）に示すように、本実施形態では、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを構成する各ビットデータを、複数のミラー要素１４１のうち互いに隣接するＹ個のミラー要素１４１の状態を規定するＹ（但し、Ｙは１以上の整数）ビットのパターン分布情報１８に変換する。つまり、記録情報の一部を示す１ビットの１次元デジタルデータが、Ｙビットのパターン分布情報１８に対応する。従って、互いに隣接するＹ個のミラー要素１４１によって反射された露光光ＥＬ３による露光動作は、１ビットの１次元デジタルデータ（つまり、１ビットの１次元デジタルデータが示す記録情報）を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。

空間光変調器１４がＸ個のミラー要素１４１を備えている場合には、１回のパルス発光による露光動作は、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータ（つまり、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータが示す記録情報）を記録媒体１００に記録する記録動作に相当する。尚、空間光変調器１４の光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２の照射領域が光変調面１４ａよりも小さい場合又は空間光変調器１４の光変調面１４ａ上での露光光ＥＬ２の照射領域が光変調面１４ａの全体的な領域の内側にある場合には、当該照射領域内に位置するミラー要素１４１が考慮されればよい。例えば、空間光変調器１４の光変調面１４ａ上の照射領域内にＸ個のミラー要素１４１が位置する場合には、１回のパルス発光による露光動作は、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータ（つまり、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータが示す記録情報）を記録媒体１００に記録する記録動作に相当する。

図９（ｂ）に示す例では、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを構成する各ビットデータを、複数のミラー要素１４１のうち２行２列のマトリクス状に互いに隣接する４個のミラー要素１４１の状態を規定する４ビットのパターン分布情報１８に変換している。つまり、１ビットの１次元デジタルデータが、４ビットのパターン分布情報１８に対応する。従って、マトリクス状に互いに隣接する４個のミラー要素１４１によって反射された露光ＥＬ３による露光動作は、１ビットの１次元デジタルデータ（つまり、１ビットの１次元デジタルデータが示す記録情報）を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。

具体的には、図９（ｂ）に示す例では、４個のミラー要素１４１の中心を原点とする仮想的な座標系において、（ｉ）４個のミラー要素１４１のうち第１象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にあり、（ｉｉ）４個のミラー要素１４１のうち第２象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にあり、（ｉｉｉ）４個のミラー要素１４１のうち第３象限に位置するミラー要素１４１が第２状態にあり、（ｉｖ）４個のミラー要素１４１のうち第４象限に位置するミラー要素１４１が第２状態にある場合には、当該４個のミラー要素１４１によって反射された露光光ＥＬ３による露光動作は、記録情報を示す１次元デジタルデータを構成するビットデータ０を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。従って、１次元デジタルデータを構成するビットデータ０は、第１象限にビットデータ０が位置し、第２象限にビットデータ０が位置し、第３象限にビットデータ１が位置し、第４象限にビットデータ１が位置する４ビットの２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換される。

一方で、図９（ｂ）に示す例では、４個のミラー要素１４１の中心を原点とする仮想的な座標系において、（ｉ）４個のミラー要素１４１のうち第１象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にあり、（ｉｉ）４個のミラー要素１４１のうち第２象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にあり、（ｉｉｉ）４個のミラー要素１４１のうち第３象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にあり、（ｉｖ）４個のミラー要素１４１のうち第４象限に位置するミラー要素１４１が第１状態にある場合には、当該４個のミラー要素１４１によって反射された露光光ＥＬ３による露光動作は、記録情報を示す１次元デジタルデータを構成するビットデータ１を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。従って、１次元デジタルデータを構成するビットデータ１は、第１象限にビットデータ０が位置し、第２象限にビットデータ０が位置し、第３象限にビットデータ０が位置し、第４象限にビットデータ０が位置する４ビットの２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換される。

空間光変調器１４１がＸ個のミラー要素１４１を備えている場合には、１回のパルス発光による露光動作は、Ｘ／４ビットの１次元デジタルデータ（つまり、Ｘ／４ビットの１次元デジタルデータが示す記録情報）を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。例えば、空間光変調器１４１が２５６，０００，０００個（＝８，０００個×３２，０００個）のミラー要素１４１を備えている場合には、１回のパルス発光による露光動作は、現像及びエッチングに要する時間を無視すれば、６４，０００，０００（＝２５６，０００，０００／４）ビット＝６４メガビットの１次元デジタルデータを記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。つまり、１回のパルス発光による露光動作は、６４メガビットの１次元デジタルデータに対応するサイズの記録情報を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。

従って、例えば４ｋＨｚの周波数でパルス発光するパルス光が露光光ＥＬ１として光源１１から射出される場合には、現像及びエッチングに要する時間を無視すれば、記録システム１は、１秒間当たり２５６ギガビット（＝６４メガビット×４ｋＨｚ）の１次元デジタルデータを記録媒体１００に記録するための露光動作を行うことができる。一例として、例えば１ビットの記録情報が１ビットの１次元デジタルデータに変換される場合には、１回のパルス発光による露光動作は、６４メガビットの記録情報を記録媒体１００に記録するための露光動作に相当し、記録システム１は、１秒間当たり２５６ギガビットの記録情報を記録媒体１００に記録するための露光動作を行うことができる。

図９（ｃ）に示すように、変調制御部１７２は、図９（ｂ）に示すルールに従って、１次元デジタルデータを２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換する。尚、図９（ｃ）は、空間光変調器１４の光変調面１４ａ（つまり、複数のミラー要素１４１が配列される面）のうちの一部のミラー要素１４１の状態を規定するパターン分布情報１８の例を示している。つまり、図９（ｃ）は、記録媒体１００の表面（レジスト膜１０２の表面）の一部である露光対象面１１０の更に一部を露光する露光光ＥＬ３の位相分布及び記録媒体１００の表面（レジスト膜１０２の表面）の一部である露光対象面１１０の更に一部を露光する露光光ＥＬ３の強度分布のパターンを規定するための、ミラー要素１４１の状態を規定するパターン分布情報１８の例を示している。

尚、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを構成するビットデータ０を、第１象限にビットデータ０が位置し、第２象限にビットデータ１が位置し、第３象限にビットデータ０が位置し、第４象限にビットデータ１が位置する４ビットの２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換してもよい。変調制御部１７２は、第１象限にビットデータ１が位置し、第２象限にビットデータ１が位置し、第３象限にビットデータ０が位置し、第４象限にビットデータ０が位置する４ビットの２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換してもよい。また、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを構成するビットデータ１を、第１象限にビットデータ１が位置し、第２象限にビットデータ１が位置し、第３象限にビットデータ１が位置し、第４象限にビットデータ１が位置する４ビットの２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換してもよい。

再び図８において、その後、変調制御部１７２は、ステップＳ２３で取得したパターン分布情報１８（つまり、２次元デジタルデータ）から、１回のパルス発光による露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａを抽出する（ステップＳ２４）。その後、変調制御部１７２は、ステップＳ２４で抽出したパターン分布情報ブロック１８ａに基づいて、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１の状態を制御する（ステップＳ２５）。複数のミラー要素１４１の状態がステップＳ２４で抽出したパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移した場合には、変調制御部１７２は、その旨を光源制御部１７１やステージ制御部１７３に通知してもよい。

ここで、図１０を参照しながら、１回のパルス発光による露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａについて説明する。図１０は、パターン分布情報１８とパターン分布情報ブロック１８ａとの関係を示す平面図である。

図１０に示すように、パターン分布情報ブロック１８ａは、パターン分布情報１８の一部の情報ブロックである。パターン分布情報ブロック１８ａは、１回のパルス発光による露光動作で用いる情報ブロックである。パターン分布情報ブロック１８ａは、所定サイズの情報ブロックである。パターン分布情報ブロック１８ａは、空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１の数（或いは、空間光変調器１４の光変調面１４ａ上の照射領域内に位置するミラー要素１４１の数、以下同じ）と同一のサイズを有する情報ブロックである。例えば、空間光変調器１４がＸ個のミラー要素１４１を備えている場合には、パターン分布情報ブロック１８ａはＸビットのサイズを有する情報ブロックである。例えば、空間光変調器１４の光変調面１４ａ上の照射領域内にＸ個のミラー要素１４１が位置する場合には、パターン分布情報ブロック１８ａはＸビットのサイズを有する情報ブロックである。

１回のパルス発光による第１露光動作が行われる場合には、変調制御部１７２は、１つのパターン分布情報ブロック１８ａ（第１パターン分布情報ブロック１８ａ）を抽出する。特に、変調制御部１７２は、第１露光動作において露光対象面１１０を露光する露光光ＥＬ３の位相分布及び記録媒体１００を露光する露光光ＥＬ３の露光領域ＥＬＡ内での強度分布を規定するための複数のミラー要素１４１の状態のパターンを示す第１パターン分布情報ブロック１８ａを抽出する。第１パターン分布情報ブロック１８ａが、空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１の数と同一のサイズを有する情報ブロックであることを考慮すれば、第１パターン分布情報ブロック１８ａは、複数のミラー要素１４１の全ての状態を規定する情報ブロックであると言える。従って、複数のミラー要素１４１は、第１パターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移することができる。

その後、第１露光動作に続いて１回のパルス発光による第２露光動作が行われる場合には、変調制御部１７２は、既に抽出した第１パターン分布情報ブロック１８ａとは異なる他の１つのパターン分布情報ブロック１８ａ（第２パターン分布情報ブロック１８ａ）を抽出する。特に、変調制御部１７２は、第２露光動作において露光対象面１１０を露光する露光光ＥＬ３の位相分布及び記録媒体１００を露光する露光光ＥＬ３の露光領域ＥＬＡ内での強度分布を規定するための複数のミラー要素１４１の状態のパターンを示す第２パターン分布情報ブロック１８ａを抽出する。その結果、複数のミラー要素１４１は、第２パターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移することができる。以降、同様の動作が繰り返される。

ところで、一つのパターン分布情報ブロック１８ａが、空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１の数と同一のサイズを有する情報ブロックであることを考慮すれば、各パターン分布情報ブロック１８ａ内の各ビットデータと各ミラー要素１４１との対応付けは固定することができる。つまり、各ミラー要素１４１は、どのようなパターン分布情報ブロック１８が抽出される場合であっても、抽出されるパターン分布情報ブロック１８ａ内の同一位置（つまり、各ミラー要素１４１に一義的に対応する所定位置）のビットデータに基づく状態に遷移することができる。つまり、パルス発光が行われる度に異なるパターン分布情報ブロック１８ａが抽出される場合であっても、各ミラー要素１４１は、各パターン分布情報ブロック１８ａ内における同一位置に位置するビットデータに基づく状態に遷移することができる。

一方で、パターン分布情報１８（パターン分布情報ブロック１８ａ）の変換元である記録情報は、通常は所定のデータフォーマットに準じたデータ構造を有している。そうすると、記録情報のデータ構造とパターン分布情報ブロック１８ａとが所定の関係を有する場合には、パルス発光が行われる度に異なるパターン分布情報ブロック１８ａが抽出される場合であっても、各ミラー要素１４１は、記録情報のデータ構造のうち同一位置に位置するビットデータに基づく状態に遷移することができると想定される。そこで、以下では、図１１（ａ）から図１１（ｃ）を参照しながら、記録情報のデータ構造（データフォーマット）とパターン分布情報ブロック１８ａとの関係の一例について説明する。図１１（ａ）は、記録情報のデータ構造の一例を示すデータ構造図である。図１１（ｂ）及び図１１（ｃ）は、夫々、記録情報のデータフォーマットとパターン分布情報ブロック１８ａとの関係の一例を示すデータ構造図である。

図１１（ａ）に示すように、記録情報は、複数のデータフレームを含むデータ構造を有している。各データフレームは、夫々が固有の機能又は特徴を有する一又は複数のデータ部を含む。図１１（ａ）に示す例では、各データフレームは、第１データ部と第２データ部とを含んでいる。第１データ部の一例として、記録情報そのものを格納するペイロードが例示される。第２データ部の一例として、ペイロードの先頭に付加されるヘッダが例示される。

図１１（ｂ）に示すように、データフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる記録情報のサイズと同一であってもよい。例えば、空間光変調器１４がＸ個のミラー要素１４１を備えている場合には、パターン分布情報ブロック１８ａのサイズは、Ｘビットとなる。また、１ビットの１次元デジタルデータがＹビットのパターン分布情報１８に対応する場合には、Ｘビットのパターン分布情報ブロック１８ａは、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータを変換することで得られる２次元デジタルデータを含む。ここで、二次元デジタルデータは、第１方向（例えば図１１（ｂ）における横方向）及び第２方向（例えば図１１（ｂ）における縦方向）に符号化されたデータであってもよい。また、１ビットの記録情報がＺビットの１次元デジタルデータに対応する場合には、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータは、（Ｘ／Ｙ）／Ｚビットの記録情報を変換することで得られる１次元デジタルデータを含む。従って、記録情報を構成するデータフレームのサイズもまた、（Ｘ／Ｙ）／Ｚビットとなってもよい。一例として、１ビットの記録情報が１ビットの１次元デジタルデータに対応する場合には、記録情報を構成するデータフレームのサイズは、Ｘ／Ｙとなってもよい。

この場合、記録情報を構成するデータフレームのうちの第１データ部及び第２データ部とパターン分布情報ブロック１８ｂとの対応関係が固定されてもよい。例えば、第１データ部がいずれのデータフレームに含まれている第１データ部であるかに関わらず、第１データ部を変換することで得られる２次元デジタルデータが、パターン分布情報ブロック１８ａ中で固定された第１Ａ位置に位置する２次元デジタルデータとして取り扱われてもよい。例えば、第２データ部がいずれのデータフレームに含まれている第２データ部であるかに関わらず、第２データ部を変換することで得られる２次元デジタルデータが、パターン分布情報ブロック１８ａ中で固定され且つ第１Ａ位置とは異なる第２Ａ位置に位置する２次元デジタルデータとして取り扱われてもよい。

図１１（ｃ）に示すように、データフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる記録情報のサイズより小さくてもよい。特に、データフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる記録情報のサイズの１／Ａ（但し、Ａは、自然数）倍であってもよい。つまり、データフレームのサイズは、１つのパターン分布情報ブロック１８ａ中にＡ個のデータフレームに相当する記録情報を変換することで得られる二次元デジタルデータが含まれるようなサイズであってもよい。例えば、空間光変調器１４がＸ個のミラー要素１４１を備えている場合には、パターン分布情報ブロック１８ａのサイズは、Ｘビットとなる。また、１ビットの１次元デジタルデータがＹビットのパターン分布情報１８に対応する場合には、Ｘビットのパターン分布情報ブロック１８ａは、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータを変換することで得られる２次元デジタルデータを含む。また、１ビットの記録情報がＺビットの１次元デジタルデータに対応する場合には、Ｘ／Ｙビットの１次元デジタルデータは、（Ｘ／Ｙ）／Ｚビットの記録情報を変換することで得られる１次元デジタルデータを含む。従って、記録情報を構成するデータフレームのサイズは、（（Ｘ／Ｙ）／Ｚ）／Ａビットとなってもよい。

この場合、Ａ個のデータフレームの夫々とパターン分布情報ブロック１８ｂとの対応関係が固定されてもよい。例えば、Ａ個のデータフレームのうちの第１データフレームがどのようなデータフレームであるかに関わらず、第１データフレームを変換することで得られる２次元デジタルデータが、パターン分布情報ブロック１８ａ中で固定された第１Ｂ位置に位置する２次元デジタルデータとして取り扱われてもよい。例えば、Ａ個のデータフレームのうちの第１データフレームとは異なる第２データフレームがどのようなデータフレームであるかに関わらず、第２データフレームを変換することで得られる２次元デジタルデータが、パターン分布情報ブロック１８ａ中で固定され且つ第１Ｂ位置とは異なる第２Ｂ位置に位置する２次元デジタルデータとして取り扱われてもよい。

再び図８において、変調制御部１７２が動作している（つまり、ステップＳ２１からステップＳ２５に示す動作を行っている）間には、ステージ制御部１７３は、露光領域ＥＬＡが記録媒体１００の表面（つまり、レジスト膜１０２の表面）を所望の移動経路を通って相対的に移動していくように、ステージ駆動系１６１を制御している。この際、ステージ制御部１７３は、レーザ干渉計１６２の計測結果に基づいて、ステージ１６が所定位置に位置しているか否かを判定する（ステップＳ２６）。ここでは、ステージ１６が所定位置に位置している状態は、今からまさに行おうとしている１回のパルス発光による露光動作で露光される露光対象面１１０に露光領域ＥＬＡが重なっている（つまり、一致している）状態を意味するものとする。ステージ１６が所定位置に位置することになった場合には、ステージ制御部１７３は、その旨を光源制御部１７１や変調制御部１７２に通知してもよい。

光源制御部１７１は、複数のミラー要素１４１の状態がステップＳ２４で抽出したパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移し且つステージ１０が所定位置に位置しているタイミングで光源１１が１回のパルス発光を行うように、光源１１を制御する（ステップＳ２７）。その結果、ステップＳ２４で抽出したパターン分布情報ブロック１８ａに基づく強度分布（位相分布）を有する露光光ＥＬ３が、今回のパルス発光による露光動作で露光されるべき露光対象面１１０を露光する。

以上のステップＳ２４からステップＳ２７の動作が、記録動作を終了すると判定されるまで繰り返し行われる。つまり、以上のステップＳ２４からステップＳ２７の動作が、ステップＳ２１で取得した全ての記録情報に基づく露光動作が完了するまで繰り返し行われる。

記録動作を終了しない（露光動作が完了していない）場合には、変調制御部１７２は、次に行うべき１回のパルス発光による露光動作で用いる新たなパターン分布情報ブロック１８ａを抽出する（ステップＳ２４）。変調制御部１７２は、ステップＳ２４で抽出した新たなパターン分布情報ブロック１８ａに基づいて、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１の状態を制御する（ステップＳ２５）。光源制御部１７１は、複数のミラー要素１４１の状態がステップＳ２４で抽出した新たなパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移し且つステージ１０が所定位置に位置している（つまり、露光領域ＥＬＡが次に行うべき１回のパルス発光による露光動作で露光される新たな露光対象面１１０に重なる）タイミングで光源１１が１回のパルス発光を行うように、光源１１を制御する（ステップＳ２７）。その結果、記録媒体１００の表面に設定可能な複数の露光対象面１１０が順次露光される。

以上説明したように、本実施形態の記録システム１は、記録媒体１００に記録する記録情報に基づく露光パターンで記録媒体１００のレジスト膜１０２を露光することができる。その結果、記録媒体１００のシリコン基板１０１には、記録媒体１００に記録する記録情報に基づく凹凸パターンが形成される。その結果、記録媒体１００には、凹凸パターンを用いて記録情報が記録される。このように、記録システム１は、記録媒体１００に記録情報を記録する記録動作の少なくとも一部を行うことができる。つまり、記録システム１は、実質的には、記録媒体１００に記録情報を記録することができる。

記録情報は、シリコン基板１０１に形成される凹凸パターンとして、記録媒体１００に記録される。シリコン基板１０１は、磁気テープや光ディスク等と比較して、耐火性や耐湿性に優れている。従って、記録媒体１００は、シリコン基板１０１の凹凸パターンとして記録された記録情報を１００年以上（或いは、数百年ないしは１０００年以上）に渡って保存し続けることができる。

記録情報は、シリコン基板１０１に形成されるマスクＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）等の集積回路を用いることなく、シリコン基板１０１に直接的に形成される凹凸パターンとして、記録媒体１００に記録される。ここで、記録情報がシリコン基板１０１に形成される集積回路を用いて記録媒体１００に記録される場合には、シリコン基板１０１上には、集積回路を構成するトランジスタ等の回路素子や、回路素子を電気的に接続する回路配線等が形成される。しかしながら、シリコン基板１０１上には、回路配線や回路素子が形成されない領域（言い換えれば、スペース）が存在する。このため、記録情報が集積回路を用いて記録媒体１００に記録される場合には、回路配線や回路素子が形成されない領域が存在することに起因して、シリコン基板１０１上の利用効率（典型的には、単位面積当たりの記録可能なデータのビットサイズ）が悪化する可能性がある。しかるに、本実施形態では、シリコン基板１０１上の全面（或いは、シリコン基板１０１のうちの記録情報を記録するべき領域として割り当てられている領域の全体）に渡って、記録情報を示す凹凸パターンが形成可能である。従って、記録情報が集積回路を用いて記録媒体１００に記録される場合と比較して、シリコン基板１０１上の利用効率（典型的には、単位面積当たりの記録可能なデータのビットサイズ）が向上し得る。

記録システム１は、１回のパルス発光で露光対象面１１０をまとめて同時に露光する。記録システム１は、露光対象面１１０という面状に広がる領域をまとめて同時に露光する。従って、記録システム１が行う露光動作を含む一連の記録動作は、相対的に早い記録速度で記録情報を記録媒体１００に記録する記録動作となり得る。例えば、上述したように空間光変調器１４１が２５６，０００，０００個のミラー要素１４１を備え、１ビットの記録情報が４ビットのパターン分布情報１８（つまり、４個のミラー要素１４１）に対応し、４ｋＨｚの周波数でパルス発光するパルス光が露光光ＥＬ１として光源１１から射出される場合には、現像及びエッチングに要する時間を無視すれば、記録システム１は、１秒間当たり２５６ギガビット（＝（２５６メガビット／４）×４ｋＨｚ）の記録情報を記録媒体１００に記録するための露光動作を行うことができる。

尚、参考までに、ＤＶＤやＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）等の光ディスクに対しては、１つの点状のビームスポットが記録面に形成されることで、記録情報に相当する線状の記録マークが形成される。しかしながら、記録面上に形成されるビームスポットが面状ではなく点状であるがゆえに、せいぜい１秒間当たり数百メガビットの記録情報が記録されるに過ぎない。従って、本実施形態の記録システム１は、記録媒体１００に対して大容量の記録情報を相対的に効率的に（つまり、高速に）記録することができる。

このように、本実施形態の記録システム１は、記録された記録情報を１００年以上の長期に亘って保存する記録媒体１００に対しても、大容量の記録情報を高速に記録できる利点を奏する。このため、例えば、記録システム１は、アクセス頻度の少ないデータを記録するコールドストレージ装置への適用が可能である。

記録システム１は、記録媒体１００に記録する記録情報を、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換する。従って、記録システム１は、２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８を用いて、露光対象面１１０という面状に広がる領域をまとめて同時に露光することができる。

パターン分布情報１８は、夫々のデータサイズ（ビット数）が空間光変調器１４が備えるミラー要素１４１の数と同一になり得る複数のパターン分布情報ブロック１８ａに分割可能である。従って、記録システム１は、パルス発光を行う都度新たなパターン分布情報ブロック１８ａを抽出することで、露光対象面１１０という面状に広がる領域をまとめて同時に露光する露光動作を、複数の露光対象面１１０に対して順次行うことができる。

記録情報は、パターン分布情報ブロック１８ａと所定の関係を有するデータ構造を有することが可能である。従って、各パターン分布情報ブロック１８ａ内の各ビットデータと各ミラー要素１４１との対応付けが固定可能である。つまり、パルス発光が行われる度に異なるパターン分布情報ブロック１８ａが抽出される場合であっても、各ミラー要素１４１は、記録情報のデータ構造のうち同一位置に位置するビットデータに基づく状態に遷移することができる。

各パターン分布情報ブロック１８ａ内の各ビットデータと各ミラー要素１４１との対応付けが固定されると、以下のような技術的効果が得られる。例えば、記録情報を構成する複数のデータフレームの夫々の所定位置の情報が、複数のデータフレームの間で同一になることがある。例えば、記録情報を構成する複数のデータフレームの夫々のヘッダ部分の一部の情報が、複数のデータフレームの間で同一になることがある。この場合、複数のデータフレームの間で同一になる情報に相当するビットデータに対応するミラー要素１４１は、その状態を殆ど遷移させなくてもよくなる。従って、ミラー要素１４１（或いは、空間光変調器１４）の消費電力等が低減され得る。更には、ミラー要素１４１の頻繁な状態遷移に起因するヒンジ部１４４の劣化もまた抑制される。

記録情報を構成する基本情報単位であるデータフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる記録情報のサイズと同一であってもよいことは上述したとおりである。この場合、あるデータフレームを変換することで取得される２次元デジタルデータを、同一のパターン分布情報ブロック１８ａに含めることができる。つまり、あるデータフレームを変換することで取得される２次元デジタルデータが、複数のパターン分布情報ブロック１８に分散して含まれることは殆どない。また、１つのパターン分布情報ブロック１８ａに基づく１回のパルス発光による露光動作は、１つのデータフレームを記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。

記録情報を構成する基本情報単位であるデータフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる記録情報のサイズの１／Ａ（但し、Ａは、自然数）倍であってもよいことは上述したとおりである。この場合においても、あるデータフレームを変換することで取得される２次元デジタルデータを、同一のパターン分布情報ブロック１８ａに含めることができる。つまり、あるデータフレームを変換することで取得される２次元デジタルデータが、複数のパターン分布情報ブロック１８に分散して含まれることは殆どない。また、１つのパターン分布情報ブロック１８ａに基づく１回のパルス発光による露光動作は、Ａ個のデータフレームを記録媒体１００に記録するための露光動作に相当する。

尚、図８を用いて説明した記録システム１による露光動作の流れは一例である。従って、記録システム１による露光動作の少なくとも一部が適宜改変されてもよい。以下、記録システム１による露光動作の少なくとも一部の改変の例について説明する。

変調制御部１７２は、記録媒体１００に記録するべき記録情報をまとめて取得することに加えて又は代えて、１回の（或いは、所定回の）パルス発光による露光動作で記録媒体１００に記録するべき記録情報を順次取得してもよい。この場合、変調制御部１７２は、記録情報を取得する都度、取得した記録情報を１次元デジタルデータに変換し且つ１次元デジタルデータを２次元デジタルデータに変換してもよい。つまり、位相変調部１７２は、記録情報を取得する都度、取得した記録情報を１次元デジタルデータに変換し、且つ、当該１次元デジタルデータを位相情報ブロック１８ａに変換してもよい。その結果、変調制御部１７２が取得した記録情報を一時的に格納しておくバッファメモリのサイズが相対的に小さい場合であっても、変調制御部１７２は、記録情報を１次元デジタルデータに変換することができる。変調制御部１７２が取得した１次元デジタルデータを一時的に格納しておくバッファメモリのサイズが相対的に小さい場合であっても、変調制御部１７２は、記録情報を１次元デジタルデータに変換し且つ１次元デジタルデータを２次元デジタルデータに変換することができる。変調制御部１７２が取得したパターン分布情報１８を一時的に格納しておくバッファメモリのサイズが相対的に小さい場合であっても、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを２次元デジタルデータに変換することができる。

データフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる１次元デジタルデータのサイズより大きくてもよい。特に、データフレームのサイズは、パターン分布情報ブロック１８ａが含み得る二次元デジタルデータの変換元となる１次元デジタルデータのサイズのＢ（但し、Ｂは、自然数）倍であってもよい。つまり、データフレームのサイズは、Ｂ個のパターン分布情報ブロック１８ａ中に１つのデータフレームに相当する記録情報（１次元デジタルデータ）を変換することで得られる二次元デジタルデータが含まれるようなサイズであってもよい。

空間光変調器１４として、それぞれが傾斜可能な複数の平面ミラー要素を備える傾斜型の空間光変調器が用いられる場合には、１つのミラー要素の反射面からの光が記録媒体１００上における１つの微小領域（図６（ａ）参照）に対応する。この場合、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを構成する各ビットデータの並べ替えを行って、複数のミラー要素１４１の状態を規定するパターン分布情報を取得すればよい。また、位相段差傾斜ミラー型の空間光変調器を用いる場合には、変調制御部１７２は、上述の位相型の空間光変調器１４を用いる場合と同様の制御を行えばよい。

（３）露光動作の変形例
続いて、図１２から図１５を参照しながら、記録システム１が行う露光動作の変形例について説明する。

（３−１）第１変形例
はじめに、図１２（ａ）から図１２（ｅ）を参照しながら、記録システム１が行う露光動作の第１変形例について説明する。図１２（ａ）は、第１変形例で用いられる露光対象面１１０を示す平面図である。図１２（ｂ）は、第１変形例で用いられる露光対象面１１０を示す平面図である。図１２（ｃ）及び図１２（ｄ）は、夫々、第１変形例で用いられる露光対象面１１０と露光領域ＥＬＡとの位置関係を示す平面図である。図１２（ｅ）は、第１変形例で用いられる露光対象面１１０（露光領域ＥＬＡ）内における露光光ＥＬ３の強度分布を示す平面図である。

図１２（ａ）に示すように、第１変形例では、露光対象面１１０の一部は、他の露光対象面１１０の一部と重なる。露光対象面１１０の一部は、露光領域ＥＬＡの相対的な移動方向に沿って隣接する又は近接する他の露光対象面１１０の一部と重なることができる。露光対象面１１０は、他の露光対象面１１０と重複する重複する重複面１１０ａを含む。

例えば、図１２（ｂ）に示す例では、第１の露光対象面１１０−１の一部は、第１の露光対象面１１０−１と露光領域ＥＬＡの相対的な移動方向であるＹ軸方向に沿って隣接する第２の露光対象面１１０−２の一部と重なる。第１の露光対象面１１０−１の一部は、第１の露光対象面１１０−１が露光された後に露光される第２の露光対象面１１０−２の一部と重なる。尚、図１２（ｂ）に示す例では、第１の露光対象面１１０−１の一部は、第２の露光対象面１１０−２とＹ軸方向に沿って隣接する第３の露光対象面１１０−３の一部とも重なっている。また、図１２（ｂ）に示す例では、第１の露光対象面１１０−１の一部は、第３の露光対象面１１０−３とＹ軸方向に沿って隣接する第４の露光対象面１１０−４の一部とも重なっている。

図１２（ｂ）に示す例では、第２の露光対象面１１０−２の一部は、第２の露光対象面１１０−２とＹ軸方向に沿って隣接する第３の露光対象面１１０−３の一部と重なっている。第２の露光対象面１１０−２の一部は、第２の露光対象面１１０−２が露光された後に露光される第３の露光対象面１１０−３の一部と重なっている。尚、図１２（ｂ）に示す例では、第２の露光対象面１１０−２の一部は、第３の露光対象面１１０−３とＹ軸方向に沿って隣接する第４の露光対象面１１０−４の一部とも重なっている。

図１２（ａ）に示す例では、第３の露光対象面１１０−３の一部は、第３の露光対象面１１０−３とＹ軸方向に沿って隣接する第４の露光対象面１１０−４の一部と重なっている。第３の露光対象面１１０−３の一部は、第３の露光対象面１１０−３が露光された後に露光される第４の露光対象面１１０−４の一部と重なっている。

この場合、図１２（ｃ）に示すように、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが第１の露光対象面１１０−１に重なるように移動する。また、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１は、第１の露光対象面１１０−１の露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移する。露光領域ＥＬＡが第１の露光対象面１１０−１に重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、第１の露光対象面１１０−１）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。

その後、図１２（ｄ）に示すように、ステージ１６は、露光領域ＥＬＡが第２の露光対象面１１０−２に重なるように移動する。この場合、第２の露光対象面１１０−２の一部は、既に露光された第１の露光対象面１１０−１の一部と重複している。尚、図１２（ｄ）では、第２の露光対象面１１０−２と第１の露光対象面１１０−１との重複部分１１０ａ−１２は、ハッチングされた領域に相当する。

また、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１は、第２の露光対象面１１０−２の露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移する。ここで、第２の露光対象面１１０−２の一部が第１の露光対象面１１０−１の一部と重複しているがゆえに、第２の露光対象面１１０−２の露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａの一部は、第１の露光対象面１１０−１の露光動作で既に用いたパターン分布情報ブロック１８ａの一部と同一である。従って、変調制御部１７２は、第２の露光対象面１１０−２の露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａのうち第１の露光対象面１１０−１の露光動作で既に用いたパターン分布情報ブロック１８ａと重複していない情報を新たに抽出する。その結果、空間光変調器１４が備える複数のミラー要素１４１は、第２の露光対象面１１０−２の露光動作で用いるパターン分布情報ブロック１８ａに基づく状態に遷移する。

露光領域ＥＬＡが第２の露光対象面１１０−２に重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、第２の露光対象面１１０−２）を露光するように、光源１１は、露光光ＥＬ１を射出する。ここで、第２の露光対象面１１０−２の一部が第１の露光対象面１１０−１の一部と重複しているがゆえに、図１２（ｅ）に示すように、第２の露光対象面１１０−２のうちの重複部分１１０ａ−１２内における露光光ＥＬ３の強度分布は、第１の露光対象面１１０−１のうちの重複部分１１０ａ−１２内における露光光ＥＬ３の強度分布と同一となる。

以降、記録システム１は、同様の動作を、露光対象面１１０−３及び１１０−４に対しても行う。

以上説明したように、記録システム１が第１変形例の露光動作を行う場合であっても、記録システム１は、上述した各種効果を享受することができる。更に、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるがゆえに、特に重複部分１１０ａがより好適に又は確実に露光される。従って、露光ミスによって記録情報が記録媒体１００に記録されないという事態が発生しにくくなる。このため、第１変形例の露光動作を含む記録動作によって記録される記録情報の記録品質が向上する。その結果、記録媒体１００に記録された記録情報を再生する（つまり、読み出す）際の再生エラー（読み出しエラー）の低減が図られる。

ここで、露光対象面１１０への露光動作は、露光対象面１１０と露光領域ＥＬＡとの位置関係を固定した状態（露光対象面１１０が静止している状態で露光対象面に露光光ＥＬ３が達する）で露光を行ってもよく、露光対象面１１０と露光領域ＥＬＡとを移動させつつ露光を行ってもよい。露光対象面１１０と露光領域ＥＬＡとを移動させつつ露光を行う場合の露光対象面１１０上でのパターンのブレは、パルス発光幅を短くすることによって許容値以内にすることができる。上述した実施形態及び他の変形例においても同様である。

尚、図１２（ａ）から図１２（ｅ）に示す例では、一の露光対象面１１０の一部は、当該一の露光対象面１１０−１と露光領域ＥＬＡの相対的な移動方向（図１２に示す例では、Ｙ軸方向）に沿って隣接する他の露光対象面１１０の一部と重なっている。つまり、図１２（ａ）から図１２（ｅ）は、図５（ａ）に示す露光対象面１１０−１ａの一部と露光対象面１１０−２ａの一部とが重なる例を示している。しかしながら、一の露光対象面１１０の一部は、当該一の露光対象面１１０−１と露光領域ＥＬＡの相対的な移動方向に交わる方向に沿って隣接する他の露光対象面１１０の一部と重なっていてもよい。例えば、図５（ａ）に示す露光対象面１１０−３ａの一部と露光対象面１１０−４ａの一部とが重なっていてもよい。

（３−２）第２変形例
続いて、図１３（ａ）から図１３（ｂ）を参照しながら、記録システム１が行う露光動作の第２変形例について説明する。図１３（ａ）から図１３（ｂ）は、第２変形例で用いられる露光対象面１１０を示す平面図である。

図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に示すように、第２変形例では、第１変形例と同様に、露光対象面１１０の一部は、他の露光対象面１１０の一部と重なる。第２変形例では更に、記録システム１は、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整する。記録システム１は、露光動作又は記録動作に関連する何らかの情報に基づいて、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。

例えば、記録システム１は、記録情報の記録に際して要求される記録特性に基づいて、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。記録特性の一例として、記録媒体１００に対する記録情報の記録速度の向上を優先する（言い換えれば、重視する）記録速度優先特性が例示される。記録特性の他の一例として、記録媒体１００に記録された記録情報を再生する際の再生エラーの低減を優先する（言い換えれば、重視する）記録品質優先特性が例示される。尚、記録速度優先特性は、記録情報を再生する際の再生エラーの低減よりも記録情報の記録速度の向上を優先する記録特性であってもよい。記録品質優先特性は、記録情報の記録速度の向上よりも記録情報を再生する際の再生エラーの低減を優先する記録特性であってもよい。

図１３（ａ）は、記録品質優先特性が要求されている場合に用いられる重複部分１１０ａの一例を示す。一方で、図１３（ｂ）は、記録速度優先特性が要求されている場合に用いられる重複部分１１０ａの一例を示す。

図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に示すように、記録品質優先特性が要求されている場合には、記録システム１は、記録速度優先特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが大きくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。記録速度優先特性が要求されている場合には、記録システム１は、記録品質優先特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが小さくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。

以上説明したように、記録システム１が第２変形例の露光動作を行う場合であっても、記録システム１は、上述した各種効果を享受することができる。

更に、第２変形例では、記録システム１が重複部分１１０ａのサイズを適宜調整するがゆえに、以下に説明する技術的効果が得られる。まず、重複部分１１０ａのサイズが小さくなるほど、レジスト膜１０２を露光する一連の露光動作に要する時間が短くなる。その結果、重複部分１１０ａのサイズが小さくなるほど、記録情報の記録速度が向上する。一方で、重複部分１１０ａのサイズが大きくなるほど、重複部分１１０ａがより好適に又は確実に露光されやすくなる。その結果、第１変形例で説明したように、露光動作を含む記録動作によって記録される記録情報の記録品質がより一層向上する。従って、記録システム１は、重複部分１１０ａのサイズを適宜調整することで、記録情報の記録速度の向上を図ったり、記録情報の記録品質の向上を図ったりすることができる。

（３−３）第３変形例
続いて、図１４（ａ）から図１４（ｃ）を参照しながら、記録システム１が行う露光動作の第３変形例について説明する。図１４（ａ）から図１４（ｃ）は、第３変形例で用いられる露光対象面１１０を示す平面図である。

図１４（ａ）から図１４（ｃ）に示すように、第３変形例では、第１変形例と同様に、露光対象面１１０の一部は、他の露光対象面１１０の一部と重なる。第３変形例では更に、記録システム１は、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整することに加えて又は代えて、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるか否かを適宜決定してもよい。記録システム１１０ａは、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるように露光動作を行うか又は露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重ならないように露光動作を行うかを適宜選択してもよい。

記録システム１は、露光動作又は記録動作に関連する何らかの情報に基づいて、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるか否かを適宜決定してもよい。

例えば、記録システム１は、記録情報の記録に際して要求される記録特性に基づいて、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるか否かを適宜決定してもよい。記録特性の一例として、上述した記録速度優先特性及び記録品質優先特性が例示される。記録特性の他の一例として、記録媒体１００に対する記録情報の記録速度の向上及び記録媒体１００に記録された記録情報を再生する際の再生エラーの低減を両立する（例えば、どちらも同じ程度に重視する）バランス特性が例示される。記録速度優先特性は、バランス特性が要求されている場合と比較して記録情報の記録速度の向上をより優先する記録特性であってもよい。記録品質優先特性は、バランス特性が要求されている場合と比較して記録情報を再生する際の再生エラーの低減をより優先する記録特性であってもよい。

図１４（ａ）は、記録品質優先特性が要求されている場合に用いられる重複部分１１０ａの一例を示す。図１４（ｂ）は、バランス特性が要求されている場合に用いられる重複部分１１０ａの一例を示す。図１４（ｃ）は、記録速度優先特性が要求されている場合に用いられる重複部分１１０ａの一例を示す。

図１４（ａ）から図１４（ｃ）に示すように、記録品質優先特性又はバランス特性が要求されている場合には、記録システム１は、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるように露光動作を行うことを選択してもよい。一方で、記録速度優先特性が要求されている場合には、記録システム１は、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重ならないように露光動作を行うことを選択してもよい。

図１４（ａ）から図１４（ｃ）に示すように、記録品質優先特性が要求されている場合には、記録システム１は、バランス特性及び記録速度優先特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが大きくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。バランス特性が要求されている場合には、記録システム１は、記録品質優先特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが小さくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。バランス特性が要求されている場合には、記録システム１は、記録速度優先特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが大きくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。記録速度優先特性が要求されている場合には、記録システム１は、記録品質優先特性及びバランス特性が要求されている場合と比較して、重複部分１１０ａのサイズが小さくなるように、重複部分１１０ａの大きさを適宜調整してもよい。

以上説明したように、記録システム１が第３変形例の露光動作を行う場合であっても、記録システム１は、上述した各種効果を享受することができる。

更に、第２変形例では、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるか否かを記録システム１が適宜決定するがゆえに、以下に説明する技術的効果が得られる。まず、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重ならない場合には、レジスト膜１０２を露光する一連の露光動作に要する時間が相対的に短くなる。その結果、記録情報の記録速度が向上する。一方で、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なる場合には、重複部分１１０ａがより好適に又は確実に露光されやすくなる。その結果、第１変形例で説明したように、露光動作を含む記録動作によって記録される記録情報の記録品質がより一層向上する。従って、記録システム１は、露光対象面１１０の一部が他の露光対象面１１０の一部と重なるか否かを適宜決定することで、記録情報の記録速度の向上を図ったり、記録情報の記録品質の向上を図ったりすることができる。

尚、記録システム１は、重複部分１１０ａのサイズを調整しなくてもよい。

（３−４）第４変形例
続いて、図１５を参照しながら、記録システム１が行う露光動作の第４変形例について説明する。図１５は、記録システム１が第４変形例の露光動作を行う際の露光パターンを示す平面図である。

第４変形例では、記録システム１は、記録情報を記録するための露光動作を行うことに加えて、記録情報に付随して記録媒体１００に記録されるべき付加情報を記録するための露光動作を行う。

付加情報は、記録情報を記録媒体１００に記録する際の記録方式を示す記録方式情報を含んでいてもよい。記録方式情報は、記録情報から１次元デジタルデータへの変換方式を示す情報を含んでいてもよい。記録方式情報は、１次元デジタルデータから２次元デジタルデータへの変換方式を示す情報を含んでいてもよい。記録方式情報は、記録システム１の仕様を示す情報を含んでいてもよい。記録方式情報は、記録システム１が行う露光動作を含む記録動作に関する任意の情報を含んでいてもよい。

付加情報は、記録媒体１００に記録された記録情報を再生する（つまり、読み出す）際の再生方式を示す再生方式情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、シリコン基板１０１に形成された凹凸パターンの意味（或いは、規則ないしは仕様）を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、シリコン基板１０１に形成された凹凸パターンを検出する方法を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、凹凸パターンから２次元デジタルデータへの変換方式を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、２次元デジタルデータから１次元デジタルデータへの変換方式を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、１次元デジタルデータから記録情報への変換方式を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、記録媒体１００に記録された記録情報を再生する再生装置の仕様を示す情報を含んでいてもよい。再生方式情報は、記録媒体１００に記録された記録情報を再生するための再生動作に関する任意の情報を含んでいてもよい。

付加情報は、記録情報と同様の記録方法で記録されてもよい。この場合、変調制御部１７２は、付加情報を１次元デジタルデータに変換する。その後、変調制御部１７２は、１次元デジタルデータを２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換する。その後、変調制御部１７２は、パターン分布情報１８に基づいて空間光変調器１４を制御する。その結果、付加情報に基づく位相分布を有する露光光ＥＬ３が記録媒体１００を露光する。その結果、付加情報に基づく凹凸パターンがシリコン基板１０１に形成される。

付加情報は、付加情報の内容をユーザがそのまま理解することができる文字等（例えば、文字や、数字や、記号や、図形等）のパターンを描く凹凸パターンがシリコン基板１０１に形成されることで、記録媒体１００に記録されてもよい。この場合、変調制御部１７２は、付加情報を、付加情報の内容を示す文字等のパターンを示す２次元デジタルデータであるパターン分布情報１８に変換する。その後、変調制御部１７２は、パターン分布情報１８に基づいて空間光変調器１４を制御する。その結果、付加情報に基づく位相分布を有する露光光ＥＬ３が記録媒体１００を露光する。この場合、記録媒体１００を露光する露光パターンは、図１５に示すように、付加情報の内容を示す文字等のパターンそのものとなる。

以上説明したように、記録システム１が第４変形例の露光動作を行う場合であっても、記録システム１は、上述した各種効果を享受することができる。

更には、第４変形例では、記録方式情報が記録媒体１００に記録可能である。従って、記録媒体１００に記録された記録情報を記録動作が行われてから数十年以上経過した後に再生する場合であっても、ユーザは、どのような記録方式を用いて記録情報が記録されたかが認識可能である。記録された記録情報を１００年以上（或いは、数百年ないしは１０００年以上）に渡って記録媒体１００が保存し続ける場合であっても、ユーザは、どのような記録方式を用いて記録情報が記録されたかが認識可能である。

更には、第４変形例では、再生方式情報が記録媒体１００に記録可能である。従って、記録媒体１００に記録された記録情報を記録動作が行われてから数十年以上経過した後に再生する場合であっても、ユーザは、どのような再生方式を用いて記録情報を再生すればよいかが認識可能である。つまり、記録された記録情報を１００年以上（或いは、数百年ないしは１０００年以上）に渡って記録媒体１００が保存し続ける場合であっても、ユーザは、どのような再生方式を用いて記録情報を再生すればよいかが認識可能である。

更には、第４変形例では、付加情報が、付加情報の内容をユーザがそのまま理解することができる文字等のパターンを描く凹凸パターンとして記録可能である。従って、仮に記録媒体を再生する再生装置が存在しない場合であっても、ユーザは、必要に応じて顕微鏡等を用いて光学的に付加情報の内容を認識することができる。つまり、記録された記録情報を１００年以上（或いは、数百年ないしは１０００年以上）に渡って記録媒体１００が保存し続ける場合であっても、ユーザは、必要に応じて顕微鏡等を用いて光学的に付加情報の内容を認識することができる。

尚、図１から図１４を用いて説明した露光装置１及び２の構成及び動作は一例である。従って、露光装置１及び２の構成及び動作の少なくとも一部が適宜改変されてもよい。以下、露光装置１及び２の構成及び動作の少なくとも一部の改変の例について説明する。

上述の説明では、記録システム１は、露光光ＥＬ３の光路に液体が介在することなく記録媒体１００（レジスト膜１０２）を露光している。しかしながら、記録システム１は、露光光ＥＬ３の光路に液体が介在させた上で記録媒体１００（レジスト膜１０２）を露光してもよい。記録システム１は、露光光ＥＬ３の光路を含む液浸空間を投影光学系１５と記録媒体１００との間に形成すると共に、投影光学系１５及び液浸空間を介して記録媒体１００を露光してもよい。

記録システム１は、複数のステージ１６を備えるツインステージ型又はマルチステージ型の記録装置であってもよい。

投影光学系１５は、等倍系又は拡大系であってもよい。投影光学系１５は、屈折光学素子を含まない一方で反射光学素子を含む反射系であってもよい。投影光学系１５は、屈折光学素子及び反射光学素子の双方を含む屈折反射系であってもよい。投影光学系１５が投影する像は、倒立像であってもよいし、正立像であってもよい。

露光光ＥＬ１は、例えば、水銀ランプから射出される輝線（例えば、ｇ線、ｈ線若しくはｉ線等）であってもよい。露光光ＥＬ１は、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光：Ｄｅｅｐ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬ１は、Ｆ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光：Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬ１は、例えば、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（或いは、エルビウムとイットリウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅すると共に非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換することで得られる高調波であってもよい。

露光光ＥＬ１として、波長が１００ｎｍ以上の光に限らず、波長が１００ｎｍ未満の光が用いられてもよい。例えば、露光光ＥＬ１は、軟Ｘ線領域（例えば、５から１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光であってもよい。露光光ＥＬ１に代えて、電子線又はイオンビーム等の荷電粒子線が、露光用パターンを露光するために用いられてもよい。

上述の記録システム１は、現像されたレジスト膜１０２のパターンをマスクとしてシリコン基板１０１をエッチングすることにより、記録情報に基づく凹凸パターンを形成している。しかしながら、記録システム１は、現像されたレジスト膜１０２のパターンをマスクとしてシリコン基板１０１上に何らかの材料を堆積させて、記録情報に基づく凹凸パターンを形成してもよい。この場合、記録システム１は、エッチング装置３０に加えて又は代えて、加工装置としての堆積装置を備えていてもよい。尚、現像されたレジスト膜１０２のパターンをマスクとしてシリコン基板１０１の表面をメッキしてもよい。この場合には、記録システム１は、エッチング装置３０に加えて又は代えて、加工装置としてのメッキ装置を備えていてもよい。

上述の記録システム１は、シリコン基板１０１上に形成されたレジスト膜１０２を露光している。しかしながら、記録システム１は、シリコン基板１０１を直接露光してもよい。この場合、記録システム１は、露光光ＥＬ３によって熱加工又はアブレーション加工等の非熱加工をシリコン基板１０１の表面に施すことになる。

上述の記録システム１は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで記録システム１の全体としての各種精度が確保される。尚、記録システム１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。

上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う記録装置、記録方法及び記録媒体もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

１ 記録装置
１１ 光源
１２ 照明光学系
１３ ミラー
１４ 空間光変調器
１４ａ 光変調面
１４１ ミラー要素
１４２ 支持基板
１４３ ヒンジ部
１５ 投影光学系
１６ ステージ
１７ コントローラ
１７１ 光源制御部
１７２ 変調制御部
１７３ ステージ制御部
１８ パターン分布情報
１００ 記録媒体
１０１ シリコン基板
１０２ レジスト膜
１１０ 露光対象面
ＥＬ１、ＥＬ２、ＥＬ３ 露光光
ＥＬＡ 露光領域

Claims (32)

1. 感光剤が塗布されている記録媒体に記録情報を記録する記録装置であって、
   前記記録媒体が搭載される搭載部と、
   前記記録情報が入力される入力部と、
   前記入力部からの前記記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調する空間光変調器を備え、前記空間光変調器で変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射するビーム照射装置と、
   前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更するために、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する制御装置と
   を備え、
   前記記録情報は、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録装置。
2. 前記空間光変調器による前記光ビームの変調と、前記制御装置による前記照射領域と前記記録媒体との位置関係の変更とは、互いに同期して行われる
   請求項１に記載の記録装置。
3. 前記制御装置は、前記記録媒体上の第１照射領域に第１の変調がなされた前記光ビームを照射し、且つ前記記録媒体上の第２照射領域に第２の変調がなされた前記光ビームを照射するように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する
   請求項１又は２に記載の記録装置。
4. 前記第１照射領域と前記第２照射領域との少なくとも一部は互いに重複している
   請求項３に記載の記録装置。
5. 前記制御装置は、前記第１及び第２照射領域の重複の度合いを変更するように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する
   請求項４に記載の記録装置。
6. 前記制御装置は、前記記録情報の記録に際して要求される記録特性に基づいて、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御して、前記第１照射領域と前記第２照射領域との重複部分の大きさを変化させる
   請求項４又は５に記載の記録装置。
7. 前記記録特性は、互いに異なる複数の記録特性を含む
   請求項６に記載の記録装置。
8. 前記制御装置は、前記複数の記録特性のうち第１の記録特性が要求されている場合には、前記複数の記録特性のうち前記第１の記録特性とは異なる第２の記録特性が要求されている場合と比較して、前記重複部分の大きさが小さくなるように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する
   請求項７に記載の記録装置。
9. 前記制御装置は、前記複数の記録特性のうち第１の記録特性が要求されている場合には、前記第１照射領域と前記第２照射領域とが重複しない一方で、前記複数の記録特性のうち前記第１の記録特性とは異なる第２の記録特性が要求されている場合には、前記第１照射領域と前記第２照射領域とが重複するように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する
   請求項７に記載の記録装置。
10. 前記第１の記録特性は、前記記録媒体に対する前記記録情報の記録速度の向上を優先する記録速度優先特性を含み、
    前記第２の記録特性は、前記記録媒体に記録された前記記録情報の再生エラーの低減を優先する記録品質優先特性を含む
    請求項８又は９に記載の記録装置。
11. 前記制御装置は、前記複数の記録特性のうち第３の記録特性が要求されている場合には、前記複数の記録特性のうち前記第３の記録特性とは異なる第４の記録特性が要求されている場合と比較して、前記重複部分の大きさが小さくなり、且つ、前記複数の記録特性のうち、前記第３の特性及び前記第４の特性と異なる第５の記録特性が要求されている場合には、前記第１照射領域と前記第２照射領域とが重複しないように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御する
    請求項７に記載の記録装置。
12. 前記第３の記録特性は、前記記録媒体に対する前記記録情報の記録速度の向上及び前記記録媒体に記録された前記記録情報の再生エラーの低減の双方を両立するバランス特性を含み、
    前記第４の記録特性は、前記バランス特性が要求されている場合と比較して、前記記録媒体に記録された前記記録情報の再生エラーの低減を優先する記録品質優先特性を含み、
    前記第５の記録特性は、前記バランス特性が要求されている場合と比較して、前記記録媒体に対する前記記録情報の記録速度の向上を優先する記録速度優先特性を含む
    請求項１１に記載の記録装置。
13. 前記入力部からの前記記録情報を、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに符号化するデータ生成器を備え、
    前記空間光変調器は、前記データ生成器からの前記二次元デジタルデータを用いて、前記光ビームを二次元的に変調する
    請求項１から１２のいずれか一項に記載の記録装置。
14. 前記データ生成器は、前記記録情報を一次元デジタルデータに変換した後、前記一次元デジタルデータの配列を変更して前記二次元デジタルデータを生成する
    請求項１３に記載の記録装置。
15. 前記データ生成器は、一次元デジタルデータである前記記録情報を受け取り、前記一次元デジタルデータの配列を変更して前記二次元デジタルデータを生成する
    請求項１３に記載の記録装置。
16. 前記第１方向及び前記第２方向に符号化された前記二次元デジタルデータが前記入力部に入力される
    請求項１から１２のいずれか一項に記載の記録装置。
17. 前記２次元デジタルデータは、複数のブロックに分割されている
    請求項１から１６のいずれか一項に記載の記録装置。
18. 前記ビーム照射装置は、前記複数のブロック毎の前記２次元デジタルデータに基づいて、前記光ビームを変調する
    請求項１７に記載の露光装置。
19. 前記ビーム照射装置は、前記記録情報を前記記録媒体に記録するための記録方式を示す記録方式情報及び前記記録媒体に記録された前記記録情報を再生するための再生方式を示す再生方式情報のうちの少なくとも一方を示す付加情報を用いて、前記光ビームを変調して、前記変調された光ビームを前記記録媒体に照射する
    請求項１から１８のいずれか一項に記載の記録装置。
20. 前記付加情報に基づいて前記変調された前記光ビームの露光パターンは、前記記録方式情報及び前記再生方式情報のうちの少なくとも一方をユーザが認識可能な文字配列として示すパターンを含む請求項１９に記載の記録装置。
21. 前記記録媒体は、前記感光剤が塗布されており且つシリコンを含む基板を備える請求項１から２０のいずれか一項に記載の記録装置。
22. 前記空間光変調器は、Ｘ（但し、Ｘは１以上の整数）個の光学素子を備えており、
    前記記録情報を示すビットデータのうちの１ビットが、Ｙ（但し、Ｙは、Ｙ＜Ｘを満たす整数）個の光学素子の動作状態によって示され、
    前記記録情報は、Ｘ／Ｙビット又はＸ／Ｙビットの整数倍若しくはＸ／Ｙビットの整数分の１倍に相当するサイズのビットデータが単位情報ブロックとなるデータフォーマット構造を有する請求項１から２１のいずれか一項に記載の記録装置。
23. 前記空間光変調器を制御する調整器を備え、
    前記空間光変調器は、複数の光学素子を備えており、
    前記複数の光学素子のうちの第１の光学素子を前記記録情報のデータフォーマット構造によって規定される第１情報に基づいて動作させると共に、前記複数の光学素子のうちの前記第１の光学素子とは異なる第２の光学素子を前記記録情報のデータフォーマット構造によって規定される第２情報に基づいて動作させる
    請求項１から２２のいずれか一項に記載の記録装置。
24. 前記光源は、前記光ビームとして、ビーム強度がパルス状に変化するパルスビームを射出し、
    前記調整器は、前記空間光変調器を調整し、前記光源から射出される前記パルスビームの射出タイミングに同期して前記光ビームを前記記録情報に基づいて順次変調させる請求項２３に記載の記録装置。
25. 前記制御装置は、前記記録媒体上の第１照射領域に第１の変調がなされた前記光ビームを照射し、且つ前記記録媒体上の第２照射領域に第２の変調がなされた前記光ビームを照射するように、前記搭載部と前記ビーム照射装置との少なくとも一方を制御し、
    前記調整器は、前記空間光変調器を調整し、前記第１照射領域と前記第２照射領域とが重複する重複部分を露光する際に、前記第１照射領域を露光する前記光ビームのうち前記重複部分を露光するビーム部分と、前記第２照射を領域露光する前記光ビームのうち前記重複部分を露光するビーム部分とを同様に変調する
    請求項２３又は２４に記載の記録装置。
26. 前記空間光変調器による前記光ビームの変調は、前記光ビームの強度分布変調及び位相分布変調の少なくとも一方を含む
    請求項１から２５のいずれか一項に記載の記録装置。
27. 請求項１から２６のいずれか一項に記載の記録装置と、
    前記記録装置によって前記光ビームが照射された前記記録媒体の前記感光剤を現像して、前記記録情報に応じた形状のマスク層を前記記録媒体の表面に形成する現像装置と、
    前記マスク層を介して前記記録媒体の表面を加工する加工装置と
    を備える記録システム。
28. 前記記録媒体に前記感光剤を塗布する塗布装置を備える
    請求項２７に記載の記録システム。
29. 感光剤が塗布されている記録媒体に記録情報を記録する記録方法であって、
    前記記録情報が入力されることと、
    前記入力された前記記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調することと、
    前記変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射することと、
    前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更することと、
    を含み、
    前記記録情報は、第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録方法。
30. 前記変調された光ビームを用いて照射された前記記録媒体を現像して、前記感光剤の少なくとも一部を除去することと、
    前記少なくとも一部が除去された前記感光剤を介して前記記録媒体の表面を加工することと
    を含む
    請求項２９に記載の記録方法。
31. 第１方向及び第２方向に符号化された二次元デジタルデータである記録情報を用いて光源からの光ビームを二次元的に変調し、前記変調された光ビームを前記記録媒体上の照射領域に照射し、前記記録媒体の表面上の所定方向における前記照射領域と前記記録媒体との位置関係を変更し、前記変調された光ビームを用いて照射された前記記録媒体を現像して、前記感光剤の少なくとも一部を除去し、前記少なくとも一部が除去された前記感光剤を介して前記記録媒体の表面を加工することで形成された凹凸パターンが形成されている記録媒体。
32. 請求項１から２６のいずれか一項に記載の記録装置によって記録情報が記録された記録媒体。