JP2017090947A - 製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム - Google Patents
製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017090947A JP2017090947A JP2015215416A JP2015215416A JP2017090947A JP 2017090947 A JP2017090947 A JP 2017090947A JP 2015215416 A JP2015215416 A JP 2015215416A JP 2015215416 A JP2015215416 A JP 2015215416A JP 2017090947 A JP2017090947 A JP 2017090947A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- prediction
- manufacturing
- manufacturing process
- lot
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Abstract
【解決手段】予測制御システムによって、製造プロセスにおいて製品の特性値を予測し、その予測結果に基づいて製造プロセスの制御を行う。データベース11は、各ロット毎に、製造プロセスの各工程で測定されるデータ、または、製造プロセスの状態を示すデータとを格納する。数式モデル作成部13は、データベースに格納されているデータを用いて、製造プロセス全体の数式モデルを作成する。製品特性予測部15は、新規ロットに対して、処理済み工程に関しては実績値を、未処理工程に関しては過去ロットに基づいて得られる代表値を数式モデルに入力して製品の特性値を予測する。最適製造条件計算部16は、予測結果に応じて、制御対象工程の最適製造条件を計算する。
【選択図】図1
Description
・工程間に関連性があり、製品品質を保証する単工程の狙い値や管理基準設定が難しい、
・製品の特性値に対する製造プロセスの十分な知見を得ることが難しい、
という問題があった。
(1) プラントの運転状態を示す運転状態データと、プラントの運転を評価する運転指標データを取得する。
(2) 運転状態データと運転指標データとを所定の項目に基づき関連させた一組の計測データとする。
(3) 複数組の計測データに基づき、運転状態データ側を表す運転状態変数を説明変数とし、運転指標データ側を表す運転指標変数を目的変数として所定の多変量解析を行い、回帰モデルを作成する。
(4) 回帰モデルに基づき運転指標変数を最適化する運転状態変数を求める。
(1) 半導体デバイスを製造する間に、半導体デバイスの特性を表すデータを収集・格納する。
(2) 半導体デバイスに関連する特性の初期設定値のベクトルを設定する。
(3) 製造中の半導体デバイスの処理に合せて上記ベクトルを更新する。
(4) 半導体デバイスの少なくとも1つの電気的特性を、更新したベクトルに基づいて予測する。
12 モデル用データテーブル作成部
13 数式モデル作成部
14 予測用データテーブル作成部
15 製品特性予測部
16 最適製造条件計算部
17 条件加工部
21,22 製造装置
23 制御装置
24 表示装置
Claims (5)
- 製造プロセスの製造途中において製品の特性値を予測し、その予測結果に基づいて後工程の製造プロセスの制御条件を計算する予測システムであって、
ロット毎に、製造プロセスの工程で測定されるデータ、および/または、製造プロセスの状態を示すデータとが格納されるデータベースと、
前記データベースに格納されているデータを用いて、製造プロセスの数式モデルを作成する数式モデル作成部と、
製造中のロットに対して、処理済み工程に関しては実績値を、未処理工程に関しては過去のロットに基づいて得られる代表値を前記数式モデルに入力して製品の特性値を予測する製品特性予測部と、
前記製品特性予測部による予測結果に応じて、未処理工程のうちの制御する対象の工程の最適製造条件を計算する最適製造条件計算部とを備えており、
前記製品特性予測部による予測および前記最適製造条件計算部による計算を、前記製造中のロットに対して所定の制御対象工程毎に実施することを特徴とする予測システム。 - 請求項1に記載の予測システムであって、
前記数式モデル作成部は、前記数式モデルで使用する変数の選択を繰り返しながら前記数式モデルを作成するものであり、かつ、定期的に前記数式モデルの更新を行うことを特徴とする予測システム。 - 請求項1または2に記載の予測システムであって、
前記最適製造条件計算部が導出した最適製造条件を、使用者が見やすいように加工する条件加工部を備えていることを特徴とする予測システム。 - 請求項1または2に記載の予測システムであって、
最適製造条件計算部は、導出した最適製造条件を製造プロセスの制御装置が直接利用可能となるデータ形式で前記制御装置に出力することを特徴とする予測システム。 - 請求項1に記載の予測システムと、
製造プロセスの制御装置とからなることを特徴とする予測制御システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015215416A JP6477423B2 (ja) | 2015-11-02 | 2015-11-02 | 製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015215416A JP6477423B2 (ja) | 2015-11-02 | 2015-11-02 | 製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017090947A true JP2017090947A (ja) | 2017-05-25 |
JP6477423B2 JP6477423B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=58770790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015215416A Active JP6477423B2 (ja) | 2015-11-02 | 2015-11-02 | 製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6477423B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018221948A1 (ko) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 주식회사 지오네트 | 빅데이터 분석을 통한 공정 관리 방법 |
JP2019003651A (ja) * | 2017-06-18 | 2019-01-10 | コベンター・インコーポレーテッドCoventor Incorporated | 仮想半導体デバイス製作環境におけるキーパラメータ識別、プロセスモデル較正、及び変動性解析のためのシステムと方法 |
JP2019144970A (ja) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | 株式会社日立製作所 | 分析装置、分析方法、および分析プログラム |
WO2021015093A1 (ja) * | 2019-07-19 | 2021-01-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 不調要因特定装置、不調予兆検知装置、不調要因特定方法及び不調予兆検知方法 |
JP2021022275A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 横浜ゴム株式会社 | データ処理方法、データ処理装置、及びプログラム |
WO2021153271A1 (ja) * | 2020-01-31 | 2021-08-05 | 株式会社日立製作所 | モデル更新装置及び方法並びにプロセス制御システム |
WO2021157666A1 (ja) * | 2020-02-04 | 2021-08-12 | 株式会社ダイセル | 制御装置、制御方法及びプログラム |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021157670A1 (ja) | 2020-02-04 | 2021-08-12 | 株式会社ダイセル | 予測装置、予測方法及びプログラム |
JPWO2021157667A1 (ja) | 2020-02-04 | 2021-08-12 | ||
WO2023233927A1 (ja) * | 2022-06-03 | 2023-12-07 | オムロン株式会社 | 異常検知装置、異常検知方法およびプログラム |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55150221A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-22 | Toshiba Corp | Semiconductor fabricating process control system |
JPS63249328A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | 物品の製造システム及び物品の製造方法 |
JPH07302826A (ja) * | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Hitachi Ltd | 電子回路装置の製造方法 |
JP2002287803A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Denso Corp | 製品の製造プロセスにおける特性調整方法 |
JP2002312014A (ja) * | 2001-04-09 | 2002-10-25 | Hitachi Ltd | 加工物の製造方法、製造装置及び製造用プログラム |
-
2015
- 2015-11-02 JP JP2015215416A patent/JP6477423B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55150221A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-22 | Toshiba Corp | Semiconductor fabricating process control system |
JPS63249328A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | 物品の製造システム及び物品の製造方法 |
JPH07302826A (ja) * | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Hitachi Ltd | 電子回路装置の製造方法 |
JP2002287803A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Denso Corp | 製品の製造プロセスにおける特性調整方法 |
JP2002312014A (ja) * | 2001-04-09 | 2002-10-25 | Hitachi Ltd | 加工物の製造方法、製造装置及び製造用プログラム |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018221948A1 (ko) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 주식회사 지오네트 | 빅데이터 분석을 통한 공정 관리 방법 |
JP7097757B2 (ja) | 2017-06-18 | 2022-07-08 | コベンター・インコーポレーテッド | 仮想半導体デバイス製作環境におけるキーパラメータ識別、プロセスモデル較正、及び変動性解析のためのシステムと方法 |
JP2019003651A (ja) * | 2017-06-18 | 2019-01-10 | コベンター・インコーポレーテッドCoventor Incorporated | 仮想半導体デバイス製作環境におけるキーパラメータ識別、プロセスモデル較正、及び変動性解析のためのシステムと方法 |
US11861289B2 (en) | 2017-06-18 | 2024-01-02 | Coventor, Inc. | System and method for performing process model calibration in a virtual semiconductor device fabrication environment |
JP2022126827A (ja) * | 2017-06-18 | 2022-08-30 | コベンター・インコーポレーテッド | 仮想半導体デバイス製作環境においてプロセスモデル較正を実行するためのシステムと方法 |
WO2019163160A1 (ja) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | 株式会社日立製作所 | 分析装置、分析方法、および分析プログラム |
US11507881B2 (en) | 2018-02-22 | 2022-11-22 | Hitachi, Ltd. | Analysis apparatus, analysis method, and analysis program for calculating prediction error and extracting error factor |
JP2019144970A (ja) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | 株式会社日立製作所 | 分析装置、分析方法、および分析プログラム |
WO2021015093A1 (ja) * | 2019-07-19 | 2021-01-28 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 不調要因特定装置、不調予兆検知装置、不調要因特定方法及び不調予兆検知方法 |
JP2021022275A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 横浜ゴム株式会社 | データ処理方法、データ処理装置、及びプログラム |
JP7352070B2 (ja) | 2019-07-30 | 2023-09-28 | 横浜ゴム株式会社 | データ処理方法、データ処理装置、及びプログラム |
WO2021153271A1 (ja) * | 2020-01-31 | 2021-08-05 | 株式会社日立製作所 | モデル更新装置及び方法並びにプロセス制御システム |
WO2021157666A1 (ja) * | 2020-02-04 | 2021-08-12 | 株式会社ダイセル | 制御装置、制御方法及びプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6477423B2 (ja) | 2019-03-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6477423B2 (ja) | 製造プロセスの予測システムおよび予測制御システム | |
JP6928119B2 (ja) | 予測推論モデルをオンラインで構築し配備するコンピュータシステム及び方法 | |
JP6778666B2 (ja) | 探索装置及び探索方法 | |
KR101917006B1 (ko) | 머신 러닝 기반 반도체 제조 수율 예측 시스템 및 방법 | |
CN101908495B (zh) | 虚拟测量工艺控制系统和设置方法 | |
JP5734961B2 (ja) | 多変数プロセス制御においてモデルの品質を推定しモデルを適応させる装置およびその方法 | |
TWI737959B (zh) | 探索裝置、探索方法及電漿處理裝置 | |
JP6063313B2 (ja) | 電子デバイスの製造支援システム、製造支援方法及び製造支援プログラム | |
WO2008157498A1 (en) | Methods and systems for predicting equipment operation | |
JP4568786B2 (ja) | 要因分析装置および要因分析方法 | |
JP2020061575A (ja) | 高次元変数選択モデルを使用した重要なパラメータの決定システム | |
US8793106B2 (en) | Continuous prediction of expected chip performance throughout the production lifecycle | |
JP2009282703A (ja) | 製造指示評価支援システム、製造指示評価支援方法、および製造指示評価支援プログラム | |
JP5696354B2 (ja) | 信頼度判断装置 | |
JP2006252465A (ja) | 製造装置の予知保全装置、並びに、製造装置の予知保全用コンピュータプログラム | |
JP4568790B1 (ja) | 出来映え予測装置、出来映え予測方法、出来映え予測プログラム、及び、プログラム記録媒体 | |
JP2011077287A (ja) | 信頼度判断装置、信頼度判断方法、及び信頼度判断用コンピュータプログラム | |
JP2016086521A (ja) | 消費電力予測方法および装置 | |
Warburton et al. | Critical Analysis of Linear and Nonlinear Project Duration Forecasting Methods | |
JP2011054804A (ja) | 半導体製造装置の管理方法およびシステム | |
JP2009099960A (ja) | 品質管理方法、半導体装置の製造方法及び品質管理システム | |
JP7149499B2 (ja) | データ分析方法、データ分析装置及びデータ分析プログラム | |
EP4193236A1 (en) | Methods and systems for predictive analysis and/or process control | |
JP5596832B2 (ja) | プラズマ処理方法のRun−to−Run制御方法 | |
Greeneltch et al. | Design-aware virtual metrology and process recipe recommendation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6477423 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |