JP2017080901A - Metal-clad laminate, printed wiring board using the same, and electronic apparatus - Google Patents

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JP2017080901A JP2015208312A JP2015208312A JP2017080901A JP 2017080901 A JP2017080901 A JP 2017080901A JP 2015208312 A JP2015208312 A JP 2015208312A JP 2015208312 A JP2015208312 A JP 2015208312A JP 2017080901 A JP2017080901 A JP 2017080901A
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雅貴 野口
Masaki Noguchi
雅貴 野口
伸一 小松
Shinichi Komatsu
伸一 小松
龍一 上野
Ryuichi Ueno
龍一 上野
大輔 渡部
Daisuke Watabe
大輔 渡部
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal-clad laminate excellent in adhesion between a metal foil and a polyimide layer.SOLUTION: In a metal-clad laminate including a metal foil and a polyimide layer laminated on the metal foil, the polyimide layer is a layer comprising polyimide containing a repeating unit (A) having a carboxyl group and a repeating unit (B) not having a carboxyl group, and preferably, the metal foil includes, on the surface, a surface treatment layer comprising a silane coupling agent containing a nitrogen atom.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリイミド層を備える金属張積層板、それを用いたプリント配線基板及び電子機器に関する。   The present invention relates to a metal-clad laminate including a polyimide layer, a printed wiring board using the same, and an electronic device.

ポリイミドフィルムは、機械的強度や電気絶縁性に優れており、電気絶縁材料や配線基板の基材フィルム等、様々な用途に用いられている。また、ポリイミドフィルムは、耐熱性に優れているため、銅箔との接着時に高温での熱処理が必要な銅張積層板の基材用樹脂フィルムとして利用されている。しかしながら、従来のポリイミド層を備える銅張積層板は、銅箔とポリイミド層との密着性が必ずしも十分なものではなかった。このため、銅箔とポリイミド層との密着性を向上させるために、様々な方法が検討されている。   Polyimide films are excellent in mechanical strength and electrical insulation, and are used in various applications such as electrical insulation materials and substrate films for wiring boards. Moreover, since a polyimide film is excellent in heat resistance, it is utilized as a resin film for a base material of a copper clad laminate that requires heat treatment at a high temperature when bonded to a copper foil. However, the conventional copper clad laminate provided with a polyimide layer does not necessarily have sufficient adhesion between the copper foil and the polyimide layer. For this reason, in order to improve the adhesiveness of copper foil and a polyimide layer, various methods are examined.

例えば、特開2005−48269号公報(特許文献1)には、銅箔の表面を、窒素を含有するシランカップリング剤で処理することによって、銅箔とポリイミド層との密着性が向上することが記載されている。また、特開2012−76278号公報(特許文献2)及び特開2012−76363号公報(特許文献3)には、銅箔の表面にNi層及びCr層を順に形成し、その上に、特定構造のポリイミド層を形成することによって、銅箔とポリイミド層との密着性が向上することが記載されている。さらに、特開2014−141736号公報(特許文献4)には、銅箔表面に粗化処理を施すことによって、銅箔とポリイミド層との密着性が向上することが記載されている。   For example, in JP-A-2005-48269 (Patent Document 1), the adhesion between the copper foil and the polyimide layer is improved by treating the surface of the copper foil with a silane coupling agent containing nitrogen. Is described. In addition, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-76278 (Patent Document 2) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-76363 (Patent Document 3), a Ni layer and a Cr layer are sequentially formed on the surface of a copper foil, and a specific layer is formed thereon. It is described that the adhesion between the copper foil and the polyimide layer is improved by forming a polyimide layer having a structure. Furthermore, JP, 2014-141736, A (patent documents 4) describes that the adhesiveness of copper foil and a polyimide layer improves by performing roughening processing to the copper foil surface.

一方、国際公開第2011/099518号(特許文献5)には、特定の構造を有する脂環式ポリイミドが記載されている。この脂環式ポリイミドは、十分な光透過性と高度な耐熱性を有するものであった。   On the other hand, International Publication No. 2011/099518 (Patent Document 5) describes an alicyclic polyimide having a specific structure. This alicyclic polyimide had sufficient light transmittance and high heat resistance.

特開2005−48269号公報JP 2005-48269 A 特開2012−76278号公報JP 2012-76278 A 特開2012−76363号公報JP 2012-76363 A 特開2014−141736号公報JP, 2014-141736, A 国際公開第2011/099518号International Publication No. 2011/099518

しかしながら、特許文献1〜4に記載の方法は、主として、銅箔の表面を処理することによって、銅箔とポリイミド層との密着性を向上させる方法であり、ポリイミド層については、ほとんど検討されておらず、未だ改良の余地があった。また、ポリイミドについては、特許文献5に記載のポリイミドに比べて、より簡便に製造することが可能な新たなポリイミドが求められている。   However, the methods described in Patent Documents 1 to 4 are mainly methods for improving the adhesion between the copper foil and the polyimide layer by treating the surface of the copper foil, and the polyimide layer is almost studied. There was still room for improvement. As for polyimide, there is a demand for a new polyimide that can be more easily produced than the polyimide described in Patent Document 5.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性に優れた金属張積層板、それを用いたプリント配線基板及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art. A metal-clad laminate having excellent adhesion between a metal foil (in particular, a copper foil) and a polyimide layer, a printed wiring board using the same, and An object is to provide electronic equipment.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、金属箔とポリイミド層とを備える金属張積層板において、前記ポリイミド層を構成するポリイミドの一部の繰り返し単位にカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を導入することによって、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention, in a metal-clad laminate including a metal foil and a polyimide layer, have carboxyl groups in some repeating units of polyimide constituting the polyimide layer. It has been found that by introducing a group derived from an aromatic diamine, the adhesion between the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer is improved, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の金属張積層板は、金属箔と、該金属箔上に積層されたポリイミド層とを備え、かつ、
前記ポリイミド層が、下記一般式(1):
That is, the metal-clad laminate of the present invention comprises a metal foil and a polyimide layer laminated on the metal foil, and
The polyimide layer has the following general formula (1):

[式(1)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R10はカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、下記一般式(2):
[In the formula (1), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl group, an aromatic R 10 is a carboxyl group di- It shows the Min-derived group. ]
A repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the following general formula (2):

[式(2)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R11はカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層であることを特徴とするものである。
[In the formula (2), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl groups, aromatic R 11 is without a carboxyl group Indicating the amine-derived groups. ]
It is a layer which consists of a polyimide containing the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by these.

このような金属張積層板において、上記一般式(1)及び(2)中のAとしては、置換基を有していてもよく、かつ芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基が好ましい。また、前記R10としては、下記一般式(101)〜(104): In such a metal-clad laminate, A in the general formulas (1) and (2) may have a substituent, and the number of carbon atoms forming an aromatic ring is 6 to 30. Certain divalent aromatic groups are preferred. Further, as the R 10, the following general formula (101) to (104):

[式(101)中、R12は、水素原子、メトキシ基及びエトキシ基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基の中から選択される1種の基が好ましく、また、前記R11としては、下記一般式(201):
[In the formula (101), R 12 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methoxy group, and an ethoxy group. ]
One group selected from the group represented by formula (II) is preferred, and the R 11 is represented by the following general formula (201):

で表される基が好ましい。また、前記金属箔としては、表面に、窒素原子を含有するシランカップリング剤からなる表面処理層を備えるものが好ましい。また、銅箔が好ましい。 The group represented by these is preferable. Moreover, as said metal foil, what equips the surface with the surface treatment layer which consists of a silane coupling agent containing a nitrogen atom is preferable. Moreover, copper foil is preferable.

また、本発明のプリント配線基板は、前記本発明の金属張積層板を備えることを特徴とするものであり、本発明の電子機器は、前記本発明のプリント配線基板を備えることを特徴とするものである。   Moreover, the printed wiring board of the present invention includes the metal-clad laminate of the present invention, and the electronic device of the present invention includes the printed wiring board of the present invention. Is.

本発明のポリイミドは、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するものである。このようなポリイミドにおいて、上記一般式(1)及び(2)中のAとしては、置換基を有していてもよく、かつ芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基が好ましい。また、前記R10としては、上記一般式(101)〜(104)で表される基の中から選択される1種の基が好ましく、また、前記R11としては、上記一般式(201)で表される基が好ましい。 The polyimide of the present invention comprises a repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the general formula (1) and a repeating unit (B) having no carboxyl group represented by the general formula (2). It contains. In such a polyimide, as A in the general formulas (1) and (2), a divalent which may have a substituent and has 6 to 30 carbon atoms forming an aromatic ring. The aromatic group is preferred. Further, as the R 10, 1 kind of group selected from groups represented by the general formula (101) to (104) are preferred, and as the R 11, the above general formula (201) The group represented by these is preferable.

なお、本発明の金属張積層板において、金属箔(特に、銅箔)とポリアミド層との密着性が向上する理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、本発明にかかるポリイミド層は、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層である。このようなポリイミド層を金属箔上に積層すると、前記繰り返し単位(A)中のカルボキシル基と金属箔表面との間に相互作用が働くため、金属箔(特に、銅箔)と前記ポリイミド層との密着性が向上すると推察される。特に、金属箔の表面に、窒素原子を含有するシランカップリング剤(例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤)からなる表面処理層が形成されていると、窒素原子を含有する基(例えば、アミノ基)と前記カルボキシル基との間に、より強い相互作用が働くため、金属箔(特に、銅箔)と前記ポリイミド層との密着性が更に向上すると推察される。   In the metal-clad laminate of the present invention, the reason why the adhesion between the metal foil (particularly copper foil) and the polyamide layer is not necessarily clear, but the present inventors speculate as follows. That is, the polyimide layer according to the present invention comprises a repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the general formula (1) and a repeating unit (B) having no carboxyl group represented by the general formula (2). ) And a polyimide layer. When such a polyimide layer is laminated on a metal foil, an interaction works between the carboxyl group in the repeating unit (A) and the surface of the metal foil, so that the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer It is presumed that the adhesion is improved. In particular, when a surface treatment layer made of a silane coupling agent containing a nitrogen atom (for example, a silane coupling agent having an amino group) is formed on the surface of the metal foil, a group containing a nitrogen atom (for example, Since a stronger interaction acts between the amino group and the carboxyl group, it is presumed that the adhesion between the metal foil (particularly, copper foil) and the polyimide layer is further improved.

本発明によれば、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性に優れた金属張積層板、それを用いたプリント配線基板及び電子機器を提供することが可能となる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to provide the metal-clad laminated board excellent in the adhesiveness of metal foil (especially copper foil) and a polyimide layer, a printed wiring board using the same, and an electronic device.

実施例1で得られたポリイミドフィルムの赤外線吸収スペクトル(IRスペクトル)を示すグラフである。2 is a graph showing an infrared absorption spectrum (IR spectrum) of the polyimide film obtained in Example 1. FIG.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

[金属張積層板]
本発明の金属張積層板は、金属箔と、該金属箔上に積層されたポリイミド層とを備え、かつ、
前記ポリイミド層が、下記一般式(1):
[Metal-clad laminate]
The metal-clad laminate of the present invention comprises a metal foil and a polyimide layer laminated on the metal foil, and
The polyimide layer has the following general formula (1):

[式(1)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R10はカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、下記一般式(2):
[In the formula (1), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl group, an aromatic R 10 is a carboxyl group di- It shows the Min-derived group. ]
A repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the following general formula (2):

[式(2)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R11はカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層であることを特徴とするものである。
[In the formula (2), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl groups, aromatic R 11 is without a carboxyl group Indicating the amine-derived groups. ]
It is a layer which consists of a polyimide containing the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by these.

(金属箔)
本発明に用いられる金属箔としては、特に制限されず、ポリイミド層を積層することが可能な公知の金属箔を適宜利用することができる。このような金属箔としては、例えば、銅箔、リン青銅、丹銅、黄銅、洋白、チタン銅、コルソン系合金などの銅合金箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、鉄箔、鉄合金箔、ニッケル箔、ニッケル合金箔等がある。本発明においては、銅箔が特に好ましい。
(Metal foil)
The metal foil used in the present invention is not particularly limited, and a known metal foil capable of laminating a polyimide layer can be appropriately used. As such metal foil, for example, copper foil, phosphor bronze, red copper, brass, western white, titanium copper, Corson alloy, etc., copper alloy foil, stainless steel foil, aluminum foil, iron foil, iron alloy foil, nickel There are foil, nickel alloy foil and the like. In the present invention, copper foil is particularly preferable.

以下、本発明に用いられる金属箔について、銅箔を例として、詳細に説明する。   Hereinafter, the metal foil used in the present invention will be described in detail using a copper foil as an example.

本発明に用いられる銅箔としては、圧延銅箔又は電解銅箔のいずれでもよいが、圧延銅箔が好ましい。このような銅箔においては、ポリイミド層が積層される表面に粗化処理が施されていてもよい。粗化処理は、特開2014−141736号公報に記載されているように、銅−コバルト−ニッケル合金メッキ処理や銅−ニッケル−リン合金メッキ処理等によって行うことができる。   The copper foil used in the present invention may be a rolled copper foil or an electrolytic copper foil, but a rolled copper foil is preferred. In such a copper foil, the surface on which the polyimide layer is laminated may be roughened. The roughening treatment can be performed by copper-cobalt-nickel alloy plating treatment, copper-nickel-phosphorus alloy plating treatment, or the like, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-141736.

また、ポリイミド層が積層される銅箔表面(粗化処理を施した場合には粗化処理表面)には、耐熱層や防錆層が形成されていてもよい。粗化処理を施していない銅箔表面に対しては、特開2014−141736号公報に記載されているように、ニッケルメッキ処理等を施すことによって、耐熱層や防錆層を形成することができる。また、粗化処理を施した銅箔表面に対しては、特開2014−141736号公報に記載されているように、コバルト−ニッケル合金メッキ処理等を施した後、亜鉛メッキ処理や亜鉛合金メッキ処理等を施すことによって、耐熱層や防錆層を形成することができる。   Moreover, a heat resistant layer or a rust preventive layer may be formed on the surface of the copper foil on which the polyimide layer is laminated (the roughened surface when the roughened treatment is performed). On the copper foil surface that has not been subjected to the roughening treatment, a heat-resistant layer or a rust-preventing layer can be formed by applying a nickel plating treatment or the like, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-141736. it can. In addition, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-141736, the surface of the copper foil subjected to the roughening treatment is subjected to a cobalt-nickel alloy plating treatment or the like, followed by a zinc plating treatment or a zinc alloy plating. By performing treatment or the like, a heat-resistant layer or a rust-proof layer can be formed.

さらに、ポリイミド層が積層される銅箔表面(粗化処理を施した場合には粗化処理表面、また、耐熱層や防錆層を形成した場合にはそれらの層表面)には、窒素原子を含有するシランカップリング剤からなる表面処理層が形成されていることが好ましい。これにより、銅箔とポリイミド層との密着性が更に向上する。このような窒素原子を含有するシランカップリング剤としては、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を含有するシランカップリング剤;N−[3−(トリエトキシシリル)プロピル]−4,5−ジヒドロイミダゾール等のジヒドロイミダゾール基を含有するシランカップリング剤;トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート等のイソシアヌレート基を含有するシランカップリング剤;3−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン等のウレイド基を含有するシランカップリング剤;3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基を含有するシランカップリング剤等が挙げられる。   Furthermore, the surface of the copper foil on which the polyimide layer is laminated (the surface of the roughened surface when roughened or the surface of the layer when a heat-resistant layer or a rust-proof layer is formed) contains nitrogen atoms. It is preferable that the surface treatment layer which consists of a silane coupling agent containing is formed. Thereby, the adhesiveness of copper foil and a polyimide layer improves further. Examples of such a silane coupling agent containing a nitrogen atom include N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propyl Silane coupling agents containing amino groups such as amine, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane; N- [3- (Triethoxysilyl) propyl] -4,5-dihydroimidazole, etc. Silane coupling agent containing a dazole group; Silane coupling agent containing an isocyanurate group such as tris- (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate; Silane coupling containing a ureido group such as 3-ureidopropyltrialkoxysilane Agents; silane coupling agents containing isocyanate groups such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

本発明においては、このような銅箔として、JX日鉱日石金属株式会社が製造販売を行う、例えば、HA箔、HA−V2箔、タフピッチ箔といった折り曲げ特性に優れたベース箔に、微細粗化粒子を形成させた圧延銅箔や、JXEFL等の電解銅箔を使用することができる。   In the present invention, as such a copper foil, JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd. manufactures and sells, for example, a base foil excellent in bending characteristics such as HA foil, HA-V2 foil, tough pitch foil, and fine roughening It is possible to use rolled copper foil in which particles are formed or electrolytic copper foil such as JXEFL.

本発明に用いられる銅箔の厚みとしては、銅張積層板に適用できる厚みであれば特に制限されない。   The thickness of the copper foil used in the present invention is not particularly limited as long as it can be applied to a copper clad laminate.

(ポリイミド層)
本発明にかかるポリイミド層は、前記金属箔上に積層されたものであり、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層である。
(Polyimide layer)
The polyimide layer concerning this invention is laminated | stacked on the said metal foil, and is represented by the repeating unit (A) which has a carboxyl group represented by the said General formula (1), and the said General formula (2). It is the layer which consists of a polyimide containing the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group.

上記一般式(1)中のAは、単結合、2価の脂肪族基、2価の脂環族基及び2価の芳香族基よりなる群から選択される1種であり、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよい。このような連結基のうち、テトラカルボン酸二無水物の合成及び精製の容易さの観点から、単結合又は2価の芳香族基が好ましい。   A in the general formula (1) is one selected from the group consisting of a single bond, a divalent aliphatic group, a divalent alicyclic group and a divalent aromatic group, and the alicyclic ring The aromatic group and the aromatic group may have a substituent. Among such linking groups, a single bond or a divalent aromatic group is preferred from the viewpoint of ease of synthesis and purification of tetracarboxylic dianhydride.

前記脂肪族基中に含まれる鎖状構造を形成する炭素の数は1〜12であり、前記脂環族基中に含まれる環状構造を形成する炭素の数(なお、ここにいう「環状構造を形成する炭素の数」とは、その脂環族基が炭素を含む置換基(炭化水素基など)を有している場合、その置換基中の炭素の数は含まず、脂環族基中の環状構造が有する炭素の数のみをいう。例えば、2−エチル−1,4−シクロへキシレン基の場合、鎖状構造を形成する炭素の数は6となる。)は3〜12であり、前記芳香族基中に含まれる芳香環を形成する炭素の数(なお、ここにいう「芳香環を形成する炭素の数」とは、その芳香族基が炭素を含む置換基(炭化水素基など)を有している場合、その置換基中の炭素の数は含まず、芳香族基中の芳香環が有する炭素の数のみをいう。例えば、2−エチル−1,4−フェニレン基の場合、芳香環を形成する炭素の数は6となる。)は6〜30である。このような鎖状構造、環状構造又は芳香環を形成する炭素の数が前記上限を超えるとポリイミドが着色する傾向となる。また、得られるポリイミドの透明性、テトラカルボン酸二無水物の合成及び精製の容易さの観点から、前記2価の脂肪族基の鎖状構造を形成する炭素の数は、1〜10であることがより好ましく、1〜6であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましく、前記2価の脂環族基の環状構造を形成する炭素の数は、3〜10であることがより好ましく、4〜10であることが更に好ましく、5〜8であることが特に好ましく、前記2価の芳香族基の芳香環を形成する炭素の数は、6〜18であることがより好ましく、6〜12であることが更に好ましい。   The number of carbons forming a chain structure contained in the aliphatic group is 1 to 12, and the number of carbons forming a cyclic structure contained in the alicyclic group (herein, “cyclic structure” "The number of carbons forming" means that when the alicyclic group has a substituent containing carbon (such as a hydrocarbon group), the number of carbons in the substituent is not included, and the alicyclic group This refers only to the number of carbons in the cyclic structure, for example, in the case of 2-ethyl-1,4-cyclohexylene group, the number of carbons forming the chain structure is 6). Yes, the number of carbons forming an aromatic ring contained in the aromatic group (herein, “the number of carbons forming an aromatic ring” means that the aromatic group contains a carbon-containing substituent (hydrocarbon) Group), the number of carbons in the substituent is not included, only the number of carbons in the aromatic ring in the aromatic group Say. For example, in the case of 2-ethyl-1,4-phenylene group, the number of carbon forming an aromatic ring is 6.) Is 6-30. When the number of carbons forming such a chain structure, cyclic structure or aromatic ring exceeds the upper limit, the polyimide tends to be colored. Moreover, from the viewpoint of transparency of the obtained polyimide and ease of synthesis and purification of tetracarboxylic dianhydride, the number of carbons forming the chain structure of the divalent aliphatic group is 1-10. More preferably, it is more preferably 1-6, particularly preferably 1-3, and the number of carbons forming the cyclic structure of the divalent alicyclic group is 3-10. Is more preferably 4-10, particularly preferably 5-8, and the number of carbons forming the aromatic ring of the divalent aromatic group is more preferably 6-18. Preferably, it is 6-12.

このような2価の脂肪族基としては、上記炭素の数の条件を満たすものであればよく、特に制限されないが、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等の脂肪族系の化合物から2つの水素原子が脱離した残基(なお、このような残基としては、脱離する水素原子の位置は特に制限されないが、例えば、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、1,2−プロピレン基(1−メチルエチレン基)、1,3−プロピレン基(トリメチレン基)、1,2−ブチレン基(1−エチルエチレン基)、1,3−ブチレン基(1−メチル−1,3−プロピレン基)、1,4−ブチレン基(テトラメチレン基)等が挙げられる。)等を適宜利用することができる。   Such a divalent aliphatic group is not particularly limited as long as it satisfies the above condition of the number of carbons. For example, methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane , Decane, undecane, dodecane and other aliphatic compounds from which two hydrogen atoms are eliminated (in addition, as such a residue, the position of the hydrogen atom to be eliminated is not particularly limited, for example, Methylene group, ethylene group, ethylidene group, 1,2-propylene group (1-methylethylene group), 1,3-propylene group (trimethylene group), 1,2-butylene group (1-ethylethylene group), 1, A 3-butylene group (1-methyl-1,3-propylene group), a 1,4-butylene group (tetramethylene group) and the like can be used as appropriate.

このような2価の脂環族基としては、上記炭素の数の条件を満たすものであればよく、特に制限されないが、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等の脂環族系の化合物から2つの水素原子が脱離した残基(なお、このような残基としては、脱離する水素原子の位置は特に制限されないが、例えば、1,2−シクロプロピレン基、1,3−シクロブチレン基、1,4−シクロヘキシレン基等が挙げられる。);及び該残基中の少なくとも1つの水素原子が置換基と置換した基(例えば、3−メチル−1,2−シクロプロピレン基、2−メチル−1,3−シクロブチレン基、2−メチル−1,4−シクロヘキシレン基、2,5−1,4−シクロヘキシレン基)等を適宜利用することができる。   Such a divalent alicyclic group is not particularly limited as long as it satisfies the above condition of the number of carbons. For example, cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, Residues in which two hydrogen atoms are eliminated from an alicyclic compound such as cyclononane, cyclodecane, cycloundecane, cyclododecane, etc. (Note that the position of the leaving hydrogen atom is not particularly limited as such a residue. For example, 1,2-cyclopropylene group, 1,3-cyclobutylene group, 1,4-cyclohexylene group, etc.); and at least one hydrogen atom in the residue is substituted with a substituent Group (for example, 3-methyl-1,2-cyclopropylene group, 2-methyl-1,3-cyclobutylene group, 2-methyl-1,4-cyclyl) Hexylene, 2,5-1,4- cyclohexylene group) can be appropriately used.

このような2価の芳香族基としては、上記炭素の数の条件を満たすものであればよく、特に制限されないが、例えば、ベンゼン、ナフタレン、ターフェニル、アントラセン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ビフェニル、ターフェニル、クオターフェニル、キンクフェニル等の芳香族系の化合物から2つの水素原子が脱離した残基(なお、このような残基としては、脱離する水素原子の位置は特に制限されないが、例えば、1,4−フェニレン基、2,6−ナフチレン基、4,4’−ビフェニレン基、9,10−アントラセニレン基等が挙げられる。);及び該残基中の少なくとも1つの水素原子が置換基と置換した基(例えば、2,5−ジメチル−1,4−フェニレン基、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−フェニレン基)等を適宜利用することができる。   Such a divalent aromatic group is not particularly limited as long as it satisfies the above condition of the number of carbons. For example, benzene, naphthalene, terphenyl, anthracene, phenanthrene, triphenylene, pyrene, chrysene, Residues from which two hydrogen atoms have been eliminated from an aromatic compound such as biphenyl, terphenyl, quaterphenyl, or kinkphenyl (Note that the position of the hydrogen atom to be eliminated is particularly limited as such a residue. And, for example, 1,4-phenylene group, 2,6-naphthylene group, 4,4'-biphenylene group, 9,10-anthracenylene group, etc.); and at least one hydrogen in the residue A group in which an atom is substituted with a substituent (for example, 2,5-dimethyl-1,4-phenylene group, 2,3,5,6-tetramethyl-1,4-phenyl); Ylene group) and the like can be used as appropriate.

また、このような2価の芳香族基の中でも、ポリイミドを製造した際にポリイミドの溶媒への溶解性がより優れたものとなり、より高度な加工性が得られるといった観点から、それぞれ置換基を有していても有さなくてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、ターフェニレン基であることが好ましく、それぞれ置換基を有していても有さなくてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基であることがより好ましく、それぞれ置換基を有していても有さなくてもよい、フェニレン基、ビフェニレン基であることが更に好ましい。   In addition, among these divalent aromatic groups, when a polyimide is produced, the solubility of the polyimide in the solvent becomes better, and from the viewpoint of obtaining a higher degree of workability, each substituent is changed. A phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, an anthracenylene group or a terphenylene group, which may or may not be present, is preferably a phenylene which may or may not have a substituent. Group, biphenylene group, and naphthylene group are more preferable, and a phenylene group and a biphenylene group, which may or may not have a substituent, are further preferable.

また、一般式(1)中のAにおいて、前記2価の脂環族基及び前記2価の芳香族基が有してよい置換基としては、特に制限されず、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。このような2価の脂環族基及び2価の芳香族基が有してよい置換基の中でも、ポリイミドの溶媒への溶解性がより優れたものとなり、より高度な加工性が得られるといった観点から、炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数が1〜10のアルコキシ基がより好ましい。このような置換基として好適なアルキル基及びアルコキシ基の炭素数が10を超えると、ポリイミドの耐熱性が低下する傾向にある。また、このような置換基として好適なアルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、より高度な耐熱性が得られるという観点から、1〜6であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましい。また、このような置換基として選択され得るアルキル基及びアルコキシ基はそれぞれ、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。   Further, in A in the general formula (1), the substituent that the divalent alicyclic group and the divalent aromatic group may have is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group and an alkoxy group. And halogen atoms. Among the substituents that the divalent alicyclic group and the divalent aromatic group may have, the solubility of the polyimide in the solvent becomes better, and higher processability is obtained. From the viewpoint, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms are more preferable. When the number of carbon atoms of the alkyl group and alkoxy group suitable as such a substituent exceeds 10, the heat resistance of the polyimide tends to decrease. In addition, the number of carbon atoms of the alkyl group and alkoxy group suitable as such a substituent is preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 5 from the viewpoint that higher heat resistance can be obtained. 1 to 4 is more preferable, and 1 to 3 is particularly preferable. In addition, each of the alkyl group and alkoxy group that can be selected as such a substituent may be linear or branched.

また、前記一般式(1)中のRとして選択され得るアルキル基は、炭素数が1〜10のアルキル基である。このような炭素数が10を超えるとガラス転移温度が低下し十分に高度な耐熱性が達成できなくなる。また、このようなRとして選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、1〜6であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましい。また、このようなRとして選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。更に、このようなアルキル基としては精製の容易さの観点から、メチル基、エチル基がより好ましい。 The alkyl group that can be selected as R 1 in the general formula (1) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 10, the glass transition temperature is lowered and a sufficiently high heat resistance cannot be achieved. As the number of carbon atoms in the alkyl group such can be selected as R 1, from the viewpoint of purification becomes easier, is preferably 1-6, more preferably 1-5, 1 4 is more preferable, and 1 to 3 is particularly preferable. Such an alkyl group that can be selected as R 1 may be linear or branched. Further, such an alkyl group is more preferably a methyl group or an ethyl group from the viewpoint of ease of purification.

また、前記一般式(1)中の複数のRのうち、同一の炭素原子に結合している2つのRは、それらが一緒になってメチリデン基(=CH)を形成していてもよい。すなわち、上記一般式(1)中の同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になって、該炭素原子(ノルボルナン環構造を形成する炭素原子のうち、Rが2つ結合している炭素原子)に二重結合によりメチリデン基(メチレン基)として結合していてもよい。 Further, among the plurality of R 1 in the general formula (1), the same two R 1 attached to a carbon atom, they form a methylidene group together (= CH 2) Also good. That is, two R 1 bonded to the same carbon atom in the general formula (1) are combined to form the carbon atom (of the carbon atoms forming the norbornane ring structure, two R 1 are bonded). May be bonded as a methylidene group (methylene group) by a double bond.

前記一般式(1)中のRとしては、ポリイミドを製造した際に、より高度な耐熱性が得られること、原料の入手が容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基又はイソプロピル基であることがより好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。また、このような式中の複数のRは、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。 As R 1 in the general formula (1), when a polyimide is produced, higher heat resistance is obtained, raw materials are easily obtained, purification is easier, and the like. Therefore, each independently is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. In addition, a plurality of R 1 in such a formula may be the same or different from each other, but may be the same from the viewpoint of ease of purification and the like. preferable.

前記一般式(1)中のR及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種である。このようなR及びRとして選択されるアルキル基の炭素数が10を超えると、ポリイミドの耐熱性が低下する。また、このようなR及びRとして選択され得るアルキル基の炭素数としては、より高度な耐熱性が得られるという観点から、1〜6であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜4であることが更に好ましく、1〜3であることが特に好ましい。また、このようなR及びRとして選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。 R 2 and R 3 in the general formula (1) are each independently one selected from the group consisting of a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When the carbon number of such an alkyl group selected as R 2 and R 3 exceeds 10, the heat resistance of the polyimide is lowered. Moreover, as carbon number of the alkyl group which can be selected as such R < 2 > and R < 3 >, it is preferable that it is 1-6 from a viewpoint that higher heat resistance is obtained, and it is 1-5. More preferably, it is still more preferably 1-4, and particularly preferably 1-3. Further, such an alkyl group that can be selected as R 2 and R 3 may be linear or branched.

また、前記一般式(1)中のR及びRは、ポリイミドを製造した際に、より高度な耐熱性が得られること、原料の入手が容易であること、精製がより容易であること、等といった観点から、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基であることが特に好ましい。また、上記一般式(1)中のR及びRは、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。 In addition, R 2 and R 3 in the general formula (1) have higher heat resistance when the polyimide is produced, are easily available, and are more easily purified. From the viewpoints of, etc., it is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. In addition, R 2 and R 3 in the general formula (1) may be the same or different from each other, but are the same from the viewpoint of ease of purification and the like. Preferably there is.

また、前記一般式(1)中の複数のR、R及びRは、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式(1)で表される繰り返し単位において、R、R及びRで表される置換基がいずれも水素原子である場合には、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。 Moreover, it is particularly preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (1) are hydrogen atoms. Thus, in the repeating unit represented by the general formula (1), when all of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms, higher heat resistance is obtained. Tend to be.

また、上記一般式(1)中のR10は、カルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基である。本発明の金属張積層板は、ポリイミド層を構成するポリイミドがこのようなカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を含有する繰り返し単位(A)を有しているため、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が向上する。また、上記一般式(1)中のR10として選択され得る基は、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が更に向上するという観点から、下記一般式(101)〜(104): R 10 in the general formula (1) is a group derived from an aromatic diamine having a carboxyl group. The metal-clad laminate of the present invention has a repeating unit (A) containing a group derived from an aromatic diamine having such a carboxyl group as the polyimide constituting the polyimide layer. The adhesion between the foil) and the polyimide layer is improved. The base which can be selected as R 10 in the general formula (1) is a metal foil (particularly, copper) from the viewpoint of adhesion between the polyimide layer is further improved by the following general formula (101) - ( 104):

[式(101)中、R12は、水素原子、メトキシ基及びエトキシ基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基の中から選択される1種であることが好ましく、上記一般式(101)又は(102)で表される基であることがより好ましく、上記一般式(101)で表される基であることが特に好ましい。
[In the formula (101), R 12 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methoxy group, and an ethoxy group. ]
Is preferably selected from the group represented by the general formula (101) or (102), more preferably a group represented by the general formula (101). Particularly preferred is a group.

さらに、上記一般式(2)中のA、R、R、Rは、上記一般式(1)中のA、R、R、Rと同義である。すなわち、上記一般式(2)中のA、R、R、Rは、上記一般式(1)中のA、R、R、Rと同様のものである(それらの好適なものも、それぞれ上記一般式(1)中のA、R、R、Rの好ましいものと同様である。)。 Furthermore, A in the general formula (2), R 1, R 2, R 3 have the same meaning as A, R 1, R 2, R 3 in the general formula (1). Ie, A in the general formula (2), R 1, R 2, R 3 are, A in the general formula (1), R 1, R 2, R 3 and is similar (their preferred Are the same as the preferable ones of A, R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (1).

また、上記一般式(2)中のR11は、カルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基である。このようなカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基としては特に制限はないが、耐熱性の観点から、下記一般式(21)〜(24): In addition, R 11 in the general formula (2) is a group derived from an aromatic diamine having no carboxyl group. Although there is no restriction | limiting in particular as a group derived from aromatic diamine which does not have such a carboxyl group, From a heat resistant viewpoint, following General formula (21)-(24):

[式(23)中、R13は、水素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基及びトリフルオロメチル基よりなる群から選択される1種を示し、式(24)中、Qは、式:−O−、−O−C−O−、−O−C−C−O−、−S−、−CO−、−O−C−CO−C−O−、−CONH−、−COO−、−C−、−C10−、−NHCO−C−CONH−、−CONH−C−NHCO−、−OCO−C−COO−、−COO−C−OCO−、−O−C10−O−、−OCO−C10−COO−、−COO−C10−OCO−、−CONH−C10−NHCO−、−NHCO−C10−CONH−、−SO−、−C(CF−、−C(CH−、−CH−、−O−C−C(CH−C−O−、−O−C−C(CF−C−O−、−O−C−SO−C−O−、及び、−C(CH−C−C(CH−で表される基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基が好ましく、上記一般式(23)又は(24)で表される基がより好ましく、上記一般式(24)で表される基が更に好ましい。
[In the formula (23), R 13 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group, and a trifluoromethyl group. In the formula (24), Q represents a formula: -O -, - O-C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O -, - S -, - CO -, - O-C 6 H 4 -CO-C 6 H 4 -O -, - CONH -, - COO -, - C 6 H 4 -, - C 10 H 6 -, - NHCO-C 6 H 4 -CONH -, - CONH-C 6 H 4 -NHCO- , -OCO-C 6 H 4 -COO -, - COO-C 6 H 4 -OCO -, - O-C 10 H 6 -O -, - OCO-C 10 H 6 -COO -, - COO-C 10 H 6 -OCO -, - CONH- C 10 H 6 -NHCO -, - NHCO-C 10 H 6 -CONH -, - SO 2 - , -C (CF 3) 2 - , - C (CH 3) 2 -, - CH 2 -, - O-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -O -, - O- C 6 H 4 -C (CF 3 ) 2 -C 6 H 4 -O -, - O-C 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 -O-, and, -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 - shows the one selected from the group consisting of groups represented by. ]
The group represented by general formula (23) or (24) is more preferable, and the group represented by general formula (24) is still more preferable.

なお、耐熱性の観点から、上記一般式(23)中のR13としては、水素原子、フッ素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましく、また、上記一般式(24)中のQとしては、式:−CONH−、−O−C−C−O−、−COO−、−C−、−O−C−C(CH−C−O−で表される基がより好ましく、式:−CONH−、−O−C−C−O−、−C−、−O−C−C(CH−C−O−で表される基が更に好ましく、式:−CONH−、−O−C−C−O−、−O−C−C(CH−C−O−で表される基が特に好ましく、式:−O−C−C(CH−C−O−で表される基が最も好ましい。 From the viewpoint of heat resistance, R 13 in the general formula (23) is more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or an ethyl group, particularly preferably a hydrogen atom, and the general formula (24). the Q in the formula: -CONH -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O -, - COO -, - C 6 H 4 -, - O-C 6 H 4 -C (CH 3) is more preferably 2 -C 6 H group represented by 4 -O-, formula: -CONH -, - O-C 6 H 4 -C 6 H 4 -O -, - C 6 H 4 -, - A group represented by O—C 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 —O— is more preferred, and the formula: —CONH—, —O—C 6 H 4 —C 6 H 4 —O —, —O—C 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 —O— is particularly preferred, and the formula: —O—C 6 H 4 —C (CH 3) is most preferred groups represented by 2 -C 6 H 4 -O-.

このようなカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基の中でも、上記一般式(2)中のR11としては、耐熱性及び金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性の観点から、下記一般式(201): Among the groups derived from aromatic diamines having no carboxyl group, R 11 in the general formula (2) has heat resistance and adhesion between the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer. From the viewpoint, the following general formula (201):

で表される基が特に好ましい。 Is particularly preferred.

本発明にかかるポリイミド層において、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)の含有比率は、ポリイミドを構成する全繰り返し単位100モル%に対して、1〜50モル%であることが好ましく、2〜30モル%であることがより好ましく、3〜20モル%であることが更に好ましく、3〜10モル%であることが特に好ましい。前記繰り返し単位(A)の含有比率が前記下限未満になると、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が向上しない傾向にあり、他方、前記上限を超えると、ポリイミド層を形成することが困難となる傾向にある。また、上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)の含有比率としては、ポリイミドを構成する全繰り返し単位100モル%に対して、50〜99モル%が好ましく、70〜98モル%がより好ましく、80〜97モル%が更に好ましく、90〜97モル%が特に好ましい。   In the polyimide layer according to the present invention, the content ratio of the repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the general formula (1) is 1 to 50 mol with respect to 100 mol% of all repeating units constituting the polyimide. %, More preferably 2 to 30 mol%, further preferably 3 to 20 mol%, particularly preferably 3 to 10 mol%. When the content ratio of the repeating unit (A) is less than the lower limit, the adhesion between the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer tends not to be improved. On the other hand, when the upper limit is exceeded, a polyimide layer is formed. Tend to be difficult to do. Moreover, as a content rate of the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by the said General formula (2), 50-99 mol% is preferable with respect to 100 mol% of all the repeating units which comprise a polyimide. 70-98 mol% is more preferable, 80-97 mol% is still more preferable, and 90-97 mol% is especially preferable.

また、本発明にかかるポリイミド層においては、本発明の効果を損なわない範囲において、前記繰り返し単位(A)及び(B)以外の他の繰り返し単位を含有していてもよい。このような他の繰り返し単位としては、特に制限されず、ポリイミドを構成することが可能な公知の繰り返し単位を適宜利用でき、例えば、後述する一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン以外の他のジアミンとの反応に由来して形成される繰り返し単位、後述する一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物以外の他のテトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの反応に由来して形成される繰り返し単位、後述する一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物以外の他のテトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン以外の他のジアミンとの反応に由来して形成される繰り返し単位等が挙げられる。このような他の繰り返し単位の含有比率としては、ポリイミド層の耐熱性、金属箔(特に、銅箔)との密着性、透明性の観点から、ポリイミドを構成する全繰り返し単位100モル%に対して、50モル%以下が好ましく、25モル%以下がより好ましく、10モル%以下が更に好ましく、5モル%以下が特に好ましく、0モル%が最も好ましい。   Moreover, in the polyimide layer concerning this invention, in the range which does not impair the effect of this invention, you may contain other repeating units other than the said repeating unit (A) and (B). Such other repeating unit is not particularly limited, and a known repeating unit capable of constituting polyimide can be appropriately used. For example, tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (3) Repeating units formed from the reaction of the product with other diamines other than aromatic diamines, other tetracarboxylic dianhydrides other than the tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formula (3) described later A repeating unit formed from the reaction of a diamine with an aromatic diamine, other than the tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine other than the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) described later Examples thereof include a repeating unit formed by reaction with other diamine. As the content ratio of such other repeating units, from the viewpoints of heat resistance of the polyimide layer, adhesion to metal foil (especially copper foil) and transparency, 100 mol% of all repeating units constituting the polyimide. 50 mol% or less is preferable, 25 mol% or less is more preferable, 10 mol% or less is more preferable, 5 mol% or less is particularly preferable, and 0 mol% is most preferable.

本発明にかかるポリイミド層の厚みは特に制限されないが、1〜500μmであることが好ましく、5〜100μmであることがより好ましい。このような厚みが前記下限未満では強度が低下して破断しやすくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、複数回の塗工が必要となったり、或いは、製造時に溶媒の乾燥が困難となり、気泡、ボイド、白化、斑が発生したり、層の均一性を保つのが困難となる傾向にある。   Although the thickness in particular of the polyimide layer concerning this invention is not restrict | limited, It is preferable that it is 1-500 micrometers, and it is more preferable that it is 5-100 micrometers. If the thickness is less than the lower limit, the strength tends to decrease and the glass tends to break. On the other hand, if the upper limit is exceeded, multiple coatings are required, or it is difficult to dry the solvent during production. Therefore, bubbles, voids, whitening and spots are generated, and it is difficult to maintain the uniformity of the layer.

また、このようなポリイミド層は、線膨張係数が0〜100ppm/Kであることが好ましく、5〜50ppm/Kであることがより好ましく、10〜25ppm/Kであることが更に好ましい。このような線膨張係数が前記上限を超えると、金属箔の線膨張係数(例えば、銅の線膨張係数:16ppm/K)との差が大きくなりすぎ、熱履歴による金属箔の剥がれが生じ易くなる傾向にある。また、線膨張係数が前記下限未満となると、剥がれやカールが発生しやすくなる傾向にある。なお、このようなポリイミド層の線膨張係数の値としては以下の値を採用する。すなわち、先ず、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなる、縦:76mm、横:52mm、厚み:13μmの大きさのフィルムを形成する。その後、該フィルムを真空乾燥(120℃で1時間)し、窒素雰囲気下で200℃で1時間熱処理し、乾燥フィルムを得る。そして、このようにして得られた乾燥フィルムを試料として用い、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用して、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜200℃における前記試料の縦方向の長さの変化を測定して、50℃〜200℃の温度範囲における1℃(1K)あたりの長さの変化の平均値を求める。そして、このようにして求められた前記平均値を、本発明にかかるポリイミド層の線膨張係数の値として採用する(厚みが13μmである場合のポリイミド層の線膨張係数の値を、本発明にかかるポリイミド層の線膨張係数の値として採用する。)。   Further, such a polyimide layer preferably has a linear expansion coefficient of 0 to 100 ppm / K, more preferably 5 to 50 ppm / K, and still more preferably 10 to 25 ppm / K. When such a linear expansion coefficient exceeds the upper limit, the difference from the linear expansion coefficient of the metal foil (for example, the linear expansion coefficient of copper: 16 ppm / K) becomes too large, and the metal foil is easily peeled off due to thermal history. Tend to be. Further, when the linear expansion coefficient is less than the lower limit, peeling or curling tends to occur. In addition, the following values are employ | adopted as a value of the linear expansion coefficient of such a polyimide layer. That is, first, regarding a polyimide layer as a measurement target, a film having a length of 76 mm, a width of 52 mm, and a thickness of 13 μm made of the same material as the material (polyimide) for forming the polyimide layer is formed. Thereafter, the film is vacuum-dried (120 ° C. for 1 hour) and heat-treated at 200 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere to obtain a dry film. The dry film thus obtained was used as a sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku) was used as a measuring device, under a nitrogen atmosphere, in a tensile mode (49 mN), ascending. Adopting a temperature rate of 5 ° C./min, measuring the change in the length of the sample in the vertical direction from 50 ° C. to 200 ° C., and measuring per 1 ° C. (1K) in the temperature range of 50 ° C. to 200 ° Find the average length change. Then, the average value thus obtained is adopted as the value of the linear expansion coefficient of the polyimide layer according to the present invention (the value of the linear expansion coefficient of the polyimide layer when the thickness is 13 μm is used in the present invention). Adopted as the value of the linear expansion coefficient of such a polyimide layer).

さらに、このようなポリイミド層を構成するポリイミドとしては、ガラス転移温度(Tg)が250℃以上のものが好ましく、300〜500℃のものがより好ましい。このようなガラス転移温度(Tg)が前記下限未満では十分な耐熱性が達成困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとそのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このようなガラス転移温度(Tg)は、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなる、縦5mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさのフィルムを測定用試料として準備し、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」)を用いて、軟化温度測定と同一の方法で同時に測定することができる。なお、このようなガラス転移温度の測定に際しては、昇温速度:5℃/分の条件で、窒素雰囲気下、30℃から550℃の範囲を走査することで測定を行うことが好ましい。   Furthermore, as a polyimide which comprises such a polyimide layer, that whose glass transition temperature (Tg) is 250 degreeC or more is preferable, and the thing of 300-500 degreeC is more preferable. If the glass transition temperature (Tg) is less than the lower limit, sufficient heat resistance tends to be difficult to achieve, and if it exceeds the upper limit, it tends to be difficult to produce a polyimide having such characteristics. It is in. In addition, such a glass transition temperature (Tg) consists of the material similar to the material (polyimide) which forms the polyimide layer regarding the polyimide layer as a measuring object, 5 mm long, 5 mm wide, 0.013 mm (13 micrometers in thickness). ) Is prepared as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) is used as a measuring device and can be measured simultaneously by the same method as the softening temperature measurement. . In the measurement of such a glass transition temperature, it is preferable to perform the measurement by scanning a range of 30 ° C. to 550 ° C. in a nitrogen atmosphere under a temperature increase rate of 5 ° C./min.

また、このようなポリイミド層を構成するポリイミドとしては、軟化温度が250〜550℃のものが好ましく、350〜550℃のものがより好ましく、360〜510℃のものが更に好ましい。このような軟化温度が前記下限未満では耐熱性が低下し、金属張積層板の製造過程における加熱工程において、ポリイミド層の品質の劣化(割れの発生等)を十分に抑制することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミド層を形成する際にポリアミド酸の熱閉環縮合反応と同時に十分な固相重合反応が進行せず、ポリイミド層を形成した場合に却って脆いポリイミド層となる傾向にある。   Moreover, as a polyimide which comprises such a polyimide layer, a softening temperature of 250-550 degreeC is preferable, a 350-550 degreeC thing is more preferable, and a 360-510 degreeC thing is still more preferable. When the softening temperature is lower than the lower limit, the heat resistance is lowered, and it becomes difficult to sufficiently suppress deterioration of the quality of the polyimide layer (such as occurrence of cracks) in the heating step in the production process of the metal-clad laminate. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, when the polyimide layer is formed, a sufficient solid phase polymerization reaction does not proceed simultaneously with the thermal ring-closing condensation reaction of the polyamic acid, and when the polyimide layer is formed, a brittle polyimide layer and Tend to be.

なお、このようなポリイミドの軟化温度は以下のようにして測定することができる。すなわち、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなる、縦5mm、横5mm、厚み0.013mm(13μm)の大きさのフィルムを測定用試料として準備し、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件を採用して、30℃〜550℃の温度範囲の条件でフィルムに透明石英製ピン(先端の直径:0.5mm)を500mNの圧力で針入れすることによりガラス転移温度(Tg)と同時に測定することができる(いわゆるペネトレーション(針入れ)法により測定できる)。なお、このような測定に際しては、JIS K 7196(1991年)に記載の方法に準拠して、測定データに基づいて軟化温度を計算する。   In addition, the softening temperature of such a polyimide can be measured as follows. That is, regarding a polyimide layer as a measurement target, a film having a length of 5 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 0.013 mm (13 μm) made of the same material as that for forming the polyimide layer (polyimide) is used as a measurement sample. A temperature of 30 ° C. to 550 ° C. was prepared using a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) as a measuring device and employing a temperature rising rate of 5 ° C./min in a nitrogen atmosphere. It can be measured simultaneously with the glass transition temperature (Tg) by inserting a transparent quartz pin (tip diameter: 0.5 mm) into the film under a range of conditions at a pressure of 500 mN (so-called penetration method). Can be measured). In such measurement, the softening temperature is calculated based on the measurement data in accordance with the method described in JIS K 7196 (1991).

また、このようなポリイミド層を構成するポリイミドとしては、5%重量減少温度(Td5%)が400℃以上のものが好ましく、450〜550℃のものがより好ましい。このような5%重量減少温度が前記下限未満では十分な耐熱性が達成困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、そのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このような5%重量減少温度は、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなるフィルムを測定用試料として準備し、窒素ガス雰囲気下、窒素ガスを流しながら、走査温度を30℃〜550℃に設定して、昇温速度:10℃/min.の条件で加熱して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めることができる。また、このような測定には、測定装置として、例えば、熱重量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の「TG/DTA220」)を利用することができる。   Moreover, as a polyimide which comprises such a polyimide layer, a 5% weight loss temperature (Td5%) has a preferable thing of 400 degreeC or more, and a 450-550 degreeC thing is more preferable. If such a 5% weight loss temperature is less than the lower limit, sufficient heat resistance tends to be difficult to achieve, and if it exceeds the upper limit, it tends to be difficult to produce a polyimide having such characteristics. It is in. In addition, regarding such a 5% weight reduction temperature, a film made of the same material as the material for forming the polyimide layer (polyimide) is prepared as a measurement sample with respect to the polyimide layer as a measurement target, and under a nitrogen gas atmosphere, While flowing nitrogen gas, the scanning temperature was set to 30 ° C. to 550 ° C., and the rate of temperature increase was 10 ° C./min. It can be determined by measuring the temperature at which the weight of the used sample is reduced by 5% under the conditions of In addition, for such measurement, for example, a thermogravimetric analyzer (“TG / DTA220” manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.) can be used as a measuring device.

さらに、このようなポリイミド層を構成するポリイミドとしては、熱分解温度(Td)が450℃以上のものが好ましく、480〜600℃のものがより好ましい。このような熱分解温度(Td)が前記下限未満では十分な耐熱性が達成困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、そのような特性を有するポリイミドを製造することが困難となる傾向にある。なお、このような熱分解温度(Td)は、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなるフィルムを測定用試料として準備し、TG/DTA220熱重量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製)を使用して、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/min.の条件で熱分解前後の分解曲線にひいた接線の交点となる温度を測定することにより求めることができる。   Furthermore, as a polyimide which comprises such a polyimide layer, a thermal decomposition temperature (Td) is preferably 450 ° C. or higher, and more preferably 480 to 600 ° C. If such a thermal decomposition temperature (Td) is less than the lower limit, sufficient heat resistance tends to be difficult to achieve, and if it exceeds the upper limit, it is difficult to produce a polyimide having such characteristics. There is a tendency. In addition, regarding such a thermal decomposition temperature (Td), a film made of the same material as the material (polyimide) forming the polyimide layer is prepared as a measurement sample for the polyimide layer as a measurement target, and TG / DTA 220 heat Using a gravimetric analyzer (made by SII Nano Technology Co., Ltd.), a temperature increase rate of 10 ° C./min. It can be determined by measuring the temperature at the intersection of the tangent lines drawn on the decomposition curve before and after thermal decomposition under the conditions of

また、このようなポリイミド層を構成するポリイミドの数平均分子量(Mn)としては、ポリスチレン換算で1000〜1000000であることが好ましく、10000〜500000であることがより好ましい。このような数平均分子量が前記下限未満では十分な耐熱性が達成困難となるばかりか、ポリイミド層形成時に重合溶媒からポリイミドが十分に析出せず、効率よくポリイミド層を形成することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、粘性が増大し、溶解させるのに長時間を要したり、溶剤を大量に必要とするため、加工が困難となる傾向にある。   Moreover, as a number average molecular weight (Mn) of the polyimide which comprises such a polyimide layer, it is preferable that it is 1000-1 million in polystyrene conversion, and it is more preferable that it is 10000-500000. When the number average molecular weight is less than the lower limit, it is difficult to achieve sufficient heat resistance, and polyimide is not sufficiently precipitated from the polymerization solvent when forming the polyimide layer, making it difficult to efficiently form the polyimide layer. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, the viscosity increases, so that it takes a long time to dissolve or a large amount of solvent is required, so that processing tends to be difficult.

また、このようなポリイミド層を構成するポリイミドの重量平均分子量(Mw)としては、ポリスチレン換算で1000〜5000000であることが好ましい。また、このような重量平均分子量(Mw)の数値範囲の下限値としては、5000であることがより好ましく、10000であることが更に好ましく、20000であることが特に好ましい。また、重量平均分子量(Mw)の数値範囲の上限値としては、5000000であることがより好ましく、500000であることが更に好ましく、100000であることが特に好ましい。このような重量平均分子量が前記下限未満では十分な耐熱性が達成困難となるばかりか、ポリイミド層形成時に重合溶媒からポリイミドが十分に析出せず、効率よくポリイミド層を形成することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると粘性が増大し、溶解させるのに長時間を要したり、溶剤を大量に必要とするため、加工が困難となる傾向にある。   Moreover, as a weight average molecular weight (Mw) of the polyimide which comprises such a polyimide layer, it is preferable that it is 1000-5 million in polystyrene conversion. Moreover, as a lower limit of the numerical range of such a weight average molecular weight (Mw), it is more preferable that it is 5000, It is further more preferable that it is 10,000, It is especially preferable that it is 20000. Moreover, as an upper limit of the numerical range of a weight average molecular weight (Mw), it is more preferable that it is 5000000, It is further more preferable that it is 500,000, It is especially preferable that it is 100,000. When the weight average molecular weight is less than the lower limit, it is difficult to achieve sufficient heat resistance, and polyimide is not sufficiently precipitated from the polymerization solvent when forming the polyimide layer, making it difficult to efficiently form the polyimide layer. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the viscosity increases, so that it takes a long time to dissolve or a large amount of solvent is required, so that processing tends to be difficult.

さらに、このようなポリイミド層を構成するポリイミドの分子量分布(Mw/Mn)は1.1〜5.0であることが好ましく、1.5〜3.0であることがより好ましい。このような分子量分布が前記下限未満では製造することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると均一なポリイミド層を得にくい傾向にある。なお、このようなポリイミドの分子量(Mw又はMn)や分子量の分布(Mw/Mn)は、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料を測定用試料として準備し、測定装置としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定装置(デガッサ:JASCO社製DG−2080−54、送液ポンプ:JASCO社製PU−2080、インターフェイス:JASCO社製LC−NetII/ADC、カラム:Shodex社製GPCカラムKF−806M(×2本)、カラムオーブン:JASCO社製860−CO、RI検出器:JASCO社製RI−2031、カラム温度40℃、クロロホルム溶媒(流速1mL/min.)を用いて測定したデータをポリスチレンで換算して求めることができる。   Furthermore, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polyimide constituting such a polyimide layer is preferably 1.1 to 5.0, and more preferably 1.5 to 3.0. If such a molecular weight distribution is less than the lower limit, it tends to be difficult to produce, whereas if it exceeds the upper limit, it tends to be difficult to obtain a uniform polyimide layer. In addition, the molecular weight (Mw or Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of such a polyimide are the same as the material for forming the polyimide layer (polyimide) with respect to the polyimide layer as a measurement sample. As a measuring device, a gel permeation chromatography (GPC) measuring device (Degasser: DG-2080-54 manufactured by JASCO, liquid pump: PU-2080 manufactured by JASCO, interface: LC-NetII / ADC manufactured by JASCO Column: Shodex GPC column KF-806M (× 2), column oven: JASCO 860-CO, RI detector: JASCO RI-2031, column temperature 40 ° C., chloroform solvent (flow rate 1 mL / min) .) Is used to replace the data measured with polystyrene. It is possible to determined.

また、このようなポリイミド層としては、透明性が十分に高いものであることが好ましい。これにより、金属張積層板の視認性が向上し、複数のプリント配線板を半田や異方性導電膜ACFなどで接合する際の位置ずれを抑制することができ、歩留まりの低下を抑制することが可能となる。具体的には、全光線透過率が80%以上(より好ましくは85%以上、特に好ましくは87%以上)であるものが好ましい。また、このようなポリイミド層としては、より高度な透明性を得るといった観点から、ヘイズ(濁度)が5以下(更に好ましくは4以下、特に好ましくは3以下)であるものがより好ましい。さらに、このようなポリイミド層としては、より高度な透明性を得るといった観点から、黄色度(YI)が10以下(更に好ましくは8以下、特に好ましくは6以下)であるものがより好ましい。このような全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)は、ポリイミドの種類等を適宜選択することにより容易に達成することができる。なお、このような全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)としては、測定対象としてのポリイミド層に関して、そのポリイミド層を形成する材料(ポリイミド)と同様の材料からなる、縦:76mm、横52mm、厚み13μmの大きさのフィルムを測定用試料として形成し、測定装置として日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」を用いて測定した値を採用する。   Moreover, as such a polyimide layer, it is preferable that transparency is high enough. As a result, the visibility of the metal-clad laminate can be improved, misalignment when joining a plurality of printed wiring boards with solder, anisotropic conductive film ACF, or the like can be suppressed, and a decrease in yield can be suppressed. Is possible. Specifically, it is preferable that the total light transmittance is 80% or more (more preferably 85% or more, particularly preferably 87% or more). Further, such a polyimide layer is more preferably one having a haze (turbidity) of 5 or less (more preferably 4 or less, particularly preferably 3 or less) from the viewpoint of obtaining higher transparency. Further, such a polyimide layer is more preferably one having a yellowness (YI) of 10 or less (more preferably 8 or less, particularly preferably 6 or less) from the viewpoint of obtaining higher transparency. Such total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI) can be easily achieved by appropriately selecting the type of polyimide. In addition, as such total light transmittance, haze (turbidity), and yellowness (YI), the longitudinal direction which consists of the material similar to the material (polyimide) which forms the polyimide layer regarding the polyimide layer as a measuring object is used. : A film having a size of 76 mm, width 52 mm, and thickness 13 μm is formed as a measurement sample, and a value measured using a product name “Haze Meter NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. is employed as a measuring device. .

(金属張積層板)
本発明の金属張積層板は、前記金属箔と、該金属箔上に積層された、前記カルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と前記カルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層を備えるものである。このような金属張積層板は、前記金属箔(特に、銅箔)と前記ポリイミド層との密着性に優れており、例えば、前記金属箔と前記ポリイミド層との間のピール強度が、0.60kg/cm以上であることが好ましく、0.65kg/cm以上であることがより好ましく、0.70kg/cm以上であることが更に好ましく、0.80kg/cm以上であることが特に好ましく、1.0kg/cm以上であることが最も好ましい。なお、このようなピール強度としては、金属張積層板を、縦:約100mm、横:約25mmの大きさに裁断した測定用試料を用い、測定装置としてテンシロン型万能試験機(株式会社エー・アンド・ディ製の「UCT−10T」)を用いて、JIS C 6481に準拠して、90度剥離試験法により、引張速度50mm/minの条件で測定した値を採用する。
(Metal-clad laminate)
The metal-clad laminate of the present invention contains the metal foil, the repeating unit (A) having the carboxyl group and the repeating unit (B) having no carboxyl group, which are laminated on the metal foil. A layer made of polyimide is provided. Such a metal-clad laminate has excellent adhesion between the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer. For example, the peel strength between the metal foil and the polyimide layer is 0. It is preferably 60 kg / cm or more, more preferably 0.65 kg / cm or more, further preferably 0.70 kg / cm or more, particularly preferably 0.80 kg / cm or more. Most preferably, it is 0.0 kg / cm or more. As such peel strength, a measurement sample obtained by cutting a metal-clad laminate into a size of about 100 mm in length: about 25 mm in width: Tensilon type universal testing machine (A A value measured under the condition of a tensile speed of 50 mm / min by a 90-degree peel test method in accordance with JIS C 6481 is employed using “UCT-10T” manufactured by Andy.

また、本発明の金属張積層板は、透明性に優れた前記ポリイミド層を備えているため、視認性に優れている。多層のプリント配線基板の製造において、このような視認性に優れた金属張積層板を用いることによって、複数のプリント配線板を半田や異方性導電膜ACFなどで接合する際の位置ずれを抑制することができ、歩留まりの低下を抑制することが可能となる。   Moreover, since the metal-clad laminated board of this invention is equipped with the said polyimide layer excellent in transparency, it is excellent in visibility. In manufacturing multi-layer printed wiring boards, by using such a metal-clad laminate with excellent visibility, misalignment when bonding multiple printed wiring boards with solder or anisotropic conductive film ACF is suppressed. This makes it possible to suppress a decrease in yield.

さらに、本発明の金属張積層板は、高い耐熱性を有する前記ポリイミド層を備えているため、金属箔とポリイミド層とを接着する際に、高温での加熱処理が可能となる。このため、本発明の金属張積層板においては、接着剤を使用せずに、金属箔とポリイミド層とを接着することが可能となる。   Furthermore, since the metal-clad laminate of the present invention includes the polyimide layer having high heat resistance, heat treatment at a high temperature is possible when the metal foil and the polyimide layer are bonded. For this reason, in the metal-clad laminate of this invention, it becomes possible to adhere | attach a metal foil and a polyimide layer, without using an adhesive agent.

このような本発明の金属張積層板は、各種電子機器の構成部品である、2層フレキシブル銅張積層板(2層FCCL)、3層フレキシブル銅張積層板(3層FCCL)、片面フレキシブルプリント配線基板(片面FPC)、両面フレキシブルプリント配線基板(両面FPC)、多層フレキシブルプリント配線基板(多層FPC)等のプリント配線基板の材料や、プリンテッドエレクトロニクス技術によるタッチパネル用部材、電子ペーパー部材、デジタルサイネージ部材、フレキシブルディスプレイ部材、光学補償フィルム部材、反射型パネル用直線偏光 / 円偏光フィルム部材、反射光入射防止用1/4λフィルム部材、有機ELパネルの内部反射防止フィルム部材、有機EL等の基材(光学等方性フィルム・位相差フィルム)部材、環境センサー、電池用部材、照明等部材、ガス分離膜部材として使用することができる。   Such a metal-clad laminate of the present invention is a component of various electronic devices, such as a two-layer flexible copper-clad laminate (two-layer FCCL), a three-layer flexible copper-clad laminate (three-layer FCCL), and a single-sided flexible print. Materials for printed wiring boards such as wiring boards (single-sided FPC), double-sided flexible printed wiring boards (double-sided FPC), multilayer flexible printed wiring boards (multi-layer FPC), touch panel members by printed electronics technology, electronic paper members, digital signage Members, flexible display members, optical compensation film members, linearly polarized / circularly polarized film members for reflective panels, 1 / 4λ film members for preventing reflected light incidence, internal antireflective film members for organic EL panels, base materials for organic EL, etc. (Optical isotropic film, retardation film) materials, environmental sensor Chromatography, battery member, lighting, etc. member, can be used as a gas separation membrane member.

特に、本発明の金属張積層板は、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性に優れており、微細な配線パターンを形成することが可能であるため、高密度配線を有するプリント配線基板の材料として好適に使用することができる。また、本発明の金属張積層板は、視認性に優れており、積層した場合の位置ずれを抑制することが可能であるため、歩留まりの低下を抑制できるという観点から、複数のプリント配線板を半田や異方性導電膜ACFなどで接合する製造に好適に使用することができる。さらに、本発明の金属張積層板は、高い耐熱性を有しており、高温での加熱処理により、接着剤を使用せずに金属箔とポリイミド層とを接着することができるため、2層フレキシブル銅張積層板(2層FCCL)等の無接着剤タイプの銅張積層板として好適に使用することができる。   In particular, the metal-clad laminate of the present invention has excellent adhesion between a metal foil (especially copper foil) and a polyimide layer, and can form a fine wiring pattern, and thus has high-density wiring. It can be suitably used as a material for a printed wiring board. In addition, the metal-clad laminate of the present invention is excellent in visibility, and it is possible to suppress misalignment when laminated, so from the viewpoint of suppressing yield reduction, a plurality of printed wiring boards are provided. It can be suitably used for manufacturing by bonding with solder, anisotropic conductive film ACF or the like. Furthermore, since the metal-clad laminate of the present invention has high heat resistance and can be bonded to a metal foil and a polyimide layer without using an adhesive by heat treatment at high temperature, two layers It can be suitably used as a non-adhesive copper clad laminate such as a flexible copper clad laminate (two-layer FCCL).

(金属張積層板の製造方法)
本発明の金属張積層板を製造するための方法としては、前記金属箔上に前記ポリイミド層を積層できる方法であれば特に制限されないが、例えば、重合溶媒の存在下、下記一般式(3):
(Method for producing metal-clad laminate)
The method for producing the metal-clad laminate of the present invention is not particularly limited as long as it can laminate the polyimide layer on the metal foil. For example, in the presence of a polymerization solvent, the following general formula (3) :

[式(3)中、A、R、R、Rは上記一般式(1)中のA、R、R、Rと同義である。]
で表されるテトラカルボン酸二無水物と、カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及びカルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとを反応させて、下記一般式(4):
Wherein (3), A, R 1 , R 2, R 3 have the same meanings as A, R 1, R 2, R 3 in the general formula (1). ]
Are reacted with an aromatic diamine having a carboxyl group and an aromatic diamine having no carboxyl group, to thereby give the following general formula (4):

[式(4)中、A、R、R、R、R10は上記一般式(1)中のA、R、R、R、R10と同義である。]
で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A’)と、下記一般式(5):
Wherein (4), A, R 1 , R 2, R 3, R 10 has the same meaning as A, R 1, R 2, R 3, R 10 in the general formula (1). ]
A repeating unit (A ′) having a carboxyl group represented by the following general formula (5):

[式(5)中、A、R、R、R、R11は上記一般式(2)中のA、R、R、R、R11と同義である。]
で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B’)とを含有するポリアミド酸を形成した後、このポリアミド酸を含有するポリアミド酸溶液を、前記金属箔上に塗布し、イミド化せしめて、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層を形成して、前記金属箔上に前記ポリイミド層を形成する方法を採用することができる。なお、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミンとの反応に由来して形成される繰り返し単位が前記カルボキシル基を有する繰り返し単位(A)となり、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとの反応に由来して形成される繰り返し単位が前記カルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)となる。
Wherein (5), A, R 1 , R 2, R 3, R 11 has the same meaning as A, R 1, R 2, R 3, R 11 in the general formula (2). ]
After forming a polyamic acid containing a repeating unit (B ′) having no carboxyl group represented by the following formula, a polyamic acid solution containing this polyamic acid is applied onto the metal foil and imidized. A layer made of polyimide containing the repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the general formula (1) and the repeating unit (B) having no carboxyl group represented by the general formula (2) The method of forming the polyimide layer on the metal foil can be employed. The repeating unit formed from the reaction between the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) and the aromatic diamine having the carboxyl group is the repeating unit (A) having the carboxyl group. And the repeating unit formed from the reaction between the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) and the aromatic diamine having no carboxyl group is a repeating unit having no carboxyl group. Unit (B).

このような上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物に関し、上記一般式式(3)中のA、R、R、Rは上記一般式(1)中のA、R、R、Rと同義であり、その好適なものも上記一般式(1)中のA、R、R、Rの好適なものと同様である。 Regarding the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3), A, R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (3) are A in the general formula (1). , R 1 , R 2 , and R 3, and preferable examples thereof are the same as the preferable examples of A, R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (1).

上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミンとの反応によって形成される前記ポリアミド酸中のカルボキシル基を有する繰り返し単位(A’)に関し、上記一般式(4)中のA、R、R、R、R10は上記一般式(1)中のA、R、R、R、R10と同義であり、その好適なものも上記一般式(1)中のA、R、R、R、R10の好適なものと同様である。また、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとの反応によって形成される前記ポリアミド酸中のカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B’)に関し、上記一般式(5)中のA、R、R、R、R11は上記一般式(2)中のA、R、R、R、R11と同義であり、その好適なものも上記一般式(2)中のA、R、R、R、R11の好適なものと同様である。 Regarding the repeating unit (A ′) having a carboxyl group in the polyamic acid formed by the reaction of the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) and the aromatic diamine having the carboxyl group, a in the formula (4) in, R 1, R 2, R 3, R 10 has the same meaning as a, R 1, R 2, R 3, R 10 in the general formula (1), the suitable what is also the same as those preferred for a, R 1, R 2, R 3, R 10 in the general formula (1). Moreover, the repeating unit which does not have a carboxyl group in the said polyamic acid formed by reaction with the tetracarboxylic dianhydride represented by the said General formula (3) and the aromatic diamine which does not have the said carboxyl group ( relates B '), a in the general formula (5), R 1, R 2, R 3, R 11 is a in the general formula (2), R 1, R 2, R 3, R 11 as defined The preferred ones are also the same as the preferred ones of A, R 1 , R 2 , R 3 and R 11 in the general formula (2).

このような金属張積層板の製造方法に用いられる、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物のうち、上記一般式(3)中のAが、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種であるテトラカルボン酸二無水物は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、ギ酸、2−プロパノール及び水素からなる群から選択される少なくとも1種の還元剤と、塩基と、パラジウム触媒と、下記一般式(6):   Of the tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formula (3) used in the method for producing such a metal-clad laminate, A in the general formula (3) forms a chain structure. A divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms, a divalent alicyclic group having 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure, and a carbon atom forming an aromatic ring The tetracarboxylic dianhydride, which is one selected from the group consisting of divalent aromatic groups in which is 6 to 30, can be produced, for example, by the following method. That is, at least one reducing agent selected from the group consisting of formic acid, 2-propanol and hydrogen, a base, a palladium catalyst, and the following general formula (6):

[式(6)中、R、R、Rは上記一般式(3)中のR、R、Rと同義である。]
で表される酸無水物と、下記一般式(7):
−A−R (7)
[式(7)中、Aは、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、R、Rはそれぞれ独立に脱離基を示す。]
で表される芳香族化合物とを含む混合液中で、前記酸無水物と前記芳香族化合物とを反応させることによって、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物(ただし、上記一般式(3)中のAが単結合のものを除く。)を得ることができる。
Wherein (6), R 1, R 2, R 3 have the same meanings as R 1, R 2, R 3 in the general formula (3). ]
An acid anhydride represented by the following general formula (7):
R 4 -A-R 5 (7)
[In Formula (7), A is a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, and a divalent having 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. And the alicyclic group and the aromatic group are selected from the group consisting of divalent aromatic groups having 6 to 30 carbon atoms to form an aromatic ring. May have a substituent, and R 4 and R 5 each independently represent a leaving group. ]
In the mixed solution containing the aromatic compound represented by the above formula, the acid anhydride and the aromatic compound are reacted to give a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) (however, In the general formula (3), A is a single bond is excluded).

上記一般式(6)で表される酸無水物に関し、上記一般式(6)中のR、R、Rは上記一般式(3)中のR、R、Rと同義であり、その好適なものも上記一般式(3)中のR、R、Rの好適なものと同様である。そのため、上記一般式(6)で表される酸無水物としては、例えば、無水ナジック酸、5−メチル無水ナジック酸、5,6−ジメチル無水ナジック酸、5−エチル−6−メチル無水ナジック酸、5,6−ジエチル無水ナジック酸、5−メチル−6−イソプロピル無水ナジック酸、5−n−ブチル無水ナジック酸等が挙げられる。なお、上記一般式(6)で表される酸無水物を製造するための方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用できる。また、上記一般式(6)で表される酸無水物としては、市販のものを適宜利用してもよい。 Relates acid anhydrides represented by the above general formula (6), R 1, R 2, R 3 as defined in R 1, R 2, R 3 in the general formula (6) is the general formula (3) The preferred ones are also the same as the preferred ones of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (3). Therefore, examples of the acid anhydride represented by the general formula (6) include nadic anhydride, 5-methyl nadic anhydride, 5,6-dimethyl nadic anhydride, and 5-ethyl-6-methyl nadic anhydride. 5,6-diethyl nadic anhydride, 5-methyl-6-isopropyl nadic anhydride, 5-n-butyl nadic anhydride and the like. In addition, the method for manufacturing the acid anhydride represented by the general formula (6) is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. Moreover, as an acid anhydride represented by the general formula (6), a commercially available product may be appropriately used.

上記一般式(7)で表される芳香族化合物に関し、上記一般式(7)中のAは上記一般式(3)中のAと同義であり(ただし、単結合を除く。)、その好適なものも上記一般式(3)中のAの好適なものと同様である(ただし、単結合を除く。)。また、上記一般式(7)中のR及びRはそれぞれ独立に脱離基を示す。このようなR又はRで表される脱離基は、いわゆる還元的ヘック反応が可能となるようなものであればよく、特に制限されず、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、およびノナフルオロブタンスルホニル基等が挙げられる。このようなR及びRで表される脱離基の中でもハロゲン原子がより好ましく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子がより好ましく、臭素原子、ヨウ素原子が特に好ましい。このような芳香族化合物としては、ジヨードベンゼン、ジヨードビフェニル、ジブロモベンゼン、2,5−ジブロモ−p−キシレン、ジエチルジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。なお、このような芳香族化合物を製造するための方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用できる。また、このような芳香族化合物としては、市販のものを適宜利用してもよい。 Regarding the aromatic compound represented by the general formula (7), A in the general formula (7) has the same meaning as A in the general formula (3) (however, a single bond is excluded). Is the same as the preferable one of A in the general formula (3) (except for a single bond). In the general formula (7), R 4 and R 5 each independently represent a leaving group. The leaving group represented by R 4 or R 5 is not particularly limited as long as it enables a so-called reductive Heck reaction. For example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, Examples include halogen atoms such as iodine atom, trifluoromethanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group, methanesulfonyl group, and nonafluorobutanesulfonyl group. Among such leaving groups represented by R 4 and R 5 , a halogen atom is more preferable, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are more preferable, and a bromine atom and an iodine atom are particularly preferable. Examples of such aromatic compounds include diiodobenzene, diiodobiphenyl, dibromobenzene, 2,5-dibromo-p-xylene, diethyldibromobenzene, dichlorobenzene and the like. In addition, the method for manufacturing such an aromatic compound is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. Moreover, as such an aromatic compound, you may utilize a commercially available thing suitably.

また、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物(ただし、上記一般式(3)中のAが単結合のものを除く。)を製造するに際しては、上記一般式(6)で表される酸無水物及び上記一般式(7)で表される芳香族化合物とともに、前記還元剤、前記塩基、前記パラジウム触媒を含有する混合液を用いる。このように、前記混合液中にパラジウム触媒を含有せしめることにより、パラジウム触媒の存在下において反応を進行せしめることが可能となる。   Further, when producing the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) (except that A in the general formula (3) is a single bond), the general formula (6 The mixed solution containing the reducing agent, the base, and the palladium catalyst is used together with the acid anhydride represented by (II) and the aromatic compound represented by the general formula (7). Thus, by including a palladium catalyst in the mixed solution, the reaction can proceed in the presence of the palladium catalyst.

このようなパラジウム触媒としては、特に制限されず、公知のパラジウム触媒を適宜利用することができ、例えば、パラジウム錯体やパラジウムを担体に担持した触媒を好適に利用することができる。このようなパラジウム触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、パラジウム炭素、パラジウムアルミナ及びパラジウム黒等が挙げられる。このようなパラジウム触媒としては、反応収率の観点からは、酢酸パラジウム、塩化パラジウム又はこれらに他の配位子(他の錯イオンや他の分子:例えば、酢酸パラジウムの場合、酢酸イオン以外の錯イオンや分子)が更に結合した錯体を用いることがより好ましく、酢酸パラジウム又はこれに配位子(他の錯イオンや他の分子)が更に結合した錯体を用いることが特に好ましい。なお、このようなパラジウム触媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて利用することができる。また、このようなパラジウム触媒として好適な、酢酸パラジウムに他の配位子他の錯イオンや他の分子が更に結合した錯体としては、例えば、トランス−ジ−(μ−アセテート)ビス[o−(ジ−o−トリルホスフィノ)ベンジル]ジパラジウム(Herrmann’s触媒)等の錯体が挙げられる。   Such a palladium catalyst is not particularly limited, and a known palladium catalyst can be appropriately used. For example, a palladium complex or a catalyst having palladium supported on a carrier can be preferably used. Examples of such a palladium catalyst include palladium acetate, palladium chloride, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium propionate, palladium carbon, palladium alumina, and palladium black. As such a palladium catalyst, from the viewpoint of the reaction yield, palladium acetate, palladium chloride or other ligands (other complex ions and other molecules: for example, in the case of palladium acetate, other than acetate ions) It is more preferable to use a complex in which a complex ion or molecule is further bonded, and it is particularly preferable to use palladium acetate or a complex in which a ligand (another complex ion or another molecule) is further bonded thereto. In addition, such a palladium catalyst can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Moreover, as a complex suitable for such a palladium catalyst, other ligands or other complex ions or other molecules are further bonded to palladium acetate, for example, trans-di- (μ-acetate) bis [o- And a complex such as (di-o-tolylphosphino) benzyl] dipalladium (Herrmann's catalyst).

また、前記混合液には、パラジウムに配位子として結合する化合物を更に含有させることが好ましい。このようなパラジウムに配位子として結合する化合物としては、例えば、ホスフィン化合物(有機リン化合物:例えば、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−ジメチルアミノビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−メチルビフェニル、オルト−ビス(ジメチルアミノホスフィノ)トルエン、トリス(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等)等が挙げられる。このような化合物を用いることで、混合液中において、パラジウム錯体と配位子が結合した新たなパラジウム錯体を形成して反応せしめることも可能であり、これにより、反応効率を向上させることが可能となる。また、このようなパラジウムに配位子として結合する化合物としては、反応効率の観点から、ホスフィン化合物を用いることが好ましく、中でも、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−ジメチルアミノビフェニル、2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−メチルビフェニル、オルト−ビス(ジメチルアミノホスフィノ)トルエン、トリス(2−メチルフェニル)ホスフィンを用いることがより好ましい。   Moreover, it is preferable that the liquid mixture further contains a compound that binds to palladium as a ligand. Examples of the compound that binds to palladium as a ligand include, for example, phosphine compounds (organic phosphorus compounds: for example, 2- (dicyclohexylphosphino) -2′-dimethylaminobiphenyl, 2- (dicyclohexylphosphino) -2. '-Methylbiphenyl, ortho-bis (dimethylaminophosphino) toluene, tris (2-methylphenyl) phosphine, triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, and the like). By using such a compound, it is possible to react by forming a new palladium complex in which a palladium complex and a ligand are bonded in the mixed solution, thereby improving the reaction efficiency. It becomes. Moreover, as a compound couple | bonded with such palladium as a ligand, it is preferable to use a phosphine compound from a viewpoint of reaction efficiency, Especially, 2- (dicyclohexylphosphino) -2'-dimethylamino biphenyl, 2- More preferably, (dicyclohexylphosphino) -2′-methylbiphenyl, ortho-bis (dimethylaminophosphino) toluene, tris (2-methylphenyl) phosphine is used.

また、このようなパラジウム触媒においては、触媒中のパラジウムが2価のものがより好ましく、式:PdX[式中、Xは2価のパラジウム錯体を形成し得る1価のイオン(例えば、酢酸イオン、ハロゲンイオン、硫酸イオン等)を示す。]で表される化合物(又は構造)を含むものを好適に利用できる。 In addition, in such a palladium catalyst, the palladium in the catalyst is more preferably divalent, and the formula: PdX 2 [wherein X is a monovalent ion capable of forming a divalent palladium complex (for example, acetic acid). Ion, halogen ion, sulfate ion, etc.). A compound containing a compound (or structure) represented by

また、前記塩基としては、特に制限されず、いわゆる還元的ヘック反応に用いることが可能な公知の塩基を適宜利用することができる。このような塩基としては、特に制限されず、例えば、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、ピロリジン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等をあげることができる。また、このような塩基としては、例えば、式:NR[式中、Rはそれぞれ独立にアミンを形成し得る1価の有機基(例えば炭素原子数1〜20の直鎖状又は分岐鎖状の飽和炭化水素基等]で表されるアミンを利用してもよい。このような式:NRで表されるアミンにおいて、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1〜20(より好ましくは1〜5)の直鎖状又は分岐鎖状の飽和炭化水素基であることが好ましい。このような炭素数が前記上限を超えると精製が困難となる傾向にある。また、このような塩基としては、反応収率向上の観点から、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムを用いることがより好ましく、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミンを用いることが更に好ましい。なお、このような塩基は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて利用することができる。 The base is not particularly limited, and a known base that can be used for the so-called reductive Heck reaction can be appropriately used. Such a base is not particularly limited, and examples thereof include triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, pyridine, piperidine, pyrrolidine, sodium acetate, potassium acetate, calcium acetate, magnesium acetate, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, Examples thereof include magnesium carbonate. Examples of such a base include, for example, the formula: NR 3 [wherein R is a monovalent organic group capable of forming an amine independently (for example, a linear or branched chain having 1 to 20 carbon atoms) In the amine represented by the formula: NR 3 , each R independently represents 1 to 20 carbon atoms (more preferably 1 to 5) is preferably a linear or branched saturated hydrocarbon group, and when such a carbon number exceeds the upper limit, purification tends to be difficult. From the viewpoint of improving the reaction yield, it is more preferable to use triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, sodium acetate or potassium acetate, and it is more preferable to use triethylamine or N, N-diisopropylethylamine. Preferred. Such a base can be used alone or in combination of two or more thereof.

また、前記混合液においては、上記一般式(6)で表される酸無水物、上記一般式(7)で表される芳香族化合物、前記還元剤、前記塩基、前記パラジウム触媒の他に、更に溶媒を含有させることが好ましい。このように溶媒を用いることにより、溶媒中においてより効率よく反応を進行させることが可能となる。このような溶媒としては、公知の溶媒を用いることでき、特に制限されないが、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。このような溶媒の中でも、反応収率がより向上することや、用いる各成分の溶解性が高いこと等から、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドを用いることが好ましく、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドを用いることがより好ましい。   In the mixed solution, in addition to the acid anhydride represented by the general formula (6), the aromatic compound represented by the general formula (7), the reducing agent, the base, and the palladium catalyst, Furthermore, it is preferable to contain a solvent. By using the solvent in this way, it becomes possible to advance the reaction more efficiently in the solvent. As such a solvent, a known solvent can be used and is not particularly limited, and examples thereof include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, N-methylpyrrolidone and the like. Among these solvents, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide are preferably used because the reaction yield is improved and the solubility of each component used is high. N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide are more preferable.

なお、前記混合液中に、前記還元剤及び前記塩基を含有させる方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、前記還元剤(例えばギ酸等)と、前記塩基(例えばトリエチルアミン等)とをそれぞれ添加することにより、前記還元剤及び前記塩基を混合液中に含有させてもよく、また、前記還元剤(例えばギ酸)と前記塩基とからなる塩を混合液中に添加することにより、混合液中に前記還元剤と、前記塩基とを含有させてもよい。このような前記還元剤(例えばギ酸)と前記塩基とからなる塩としては、例えば、ギ酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアミン塩等が挙げられる。   In addition, the method for containing the reducing agent and the base in the mixed solution is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. For example, the reducing agent (for example, formic acid) and the base ( For example, triethylamine or the like) may be added to the mixture to contain the reducing agent and the base, and a salt composed of the reducing agent (for example, formic acid) and the base may be added to the mixture. By adding, the reducing agent and the base may be contained in the mixed solution. Examples of the salt composed of the reducing agent (for example, formic acid) and the base include ammonium formate, triethylamine formate, and the like.

また、このような混合液中の上記一般式(6)で表される酸無水物の含有量は、上記一般式(7)で表される芳香族化合物1モルに対して0.5〜10モルとすることが好ましく、1.5〜5モルとすることがより好ましい。上記一般式(6)で表される酸無水物の含有量が前記下限未満では反応効率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。   Moreover, content of the acid anhydride represented by the said General formula (6) in such a liquid mixture is 0.5-10 with respect to 1 mol of aromatic compounds represented by the said General formula (7). It is preferable to set it as a mol, and it is more preferable to set it as 1.5-5 mol. When the content of the acid anhydride represented by the general formula (6) is less than the lower limit, the reaction efficiency tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the by-product tends to increase.

また、このような混合液中の上記一般式(6)及び(7)で表される化合物の総量は、1〜80質量%とすることが好ましく、5〜50質量%とすることがより好ましい。このような総量が前記下限未満では反応効率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。   Moreover, it is preferable to set it as 1-80 mass%, and, as for the total amount of the compound represented by the said General formula (6) and (7) in such a liquid mixture, it is more preferable to set it as 5-50 mass%. . When the total amount is less than the lower limit, the reaction efficiency tends to decrease. On the other hand, when the total amount exceeds the upper limit, the by-products tend to increase.

また、このような混合液中のパラジウム触媒の含有量としては、前記パラジウム触媒中のパラジウムのモル量が、上記一般式(6)で表される化合物のモル量の0.00001〜0.1倍モル(より好ましくは0.0001〜0.05倍モル)となる量とすることが好ましい。このようなパラジウム触媒の含有量が前記下限未満では反応効率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応が過剰に進行し、制御しにくくなる傾向がある傾向にある。   Moreover, as content of the palladium catalyst in such a liquid mixture, the molar amount of palladium in the said palladium catalyst is 0.00001-0.1 of the molar amount of the compound represented by the said General formula (6). It is preferable to set the amount to be a double mole (more preferably 0.0001 to 0.05 mole). When the content of the palladium catalyst is less than the lower limit, the reaction efficiency tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the reaction proceeds excessively and tends to be difficult to control.

なお、前記混合液に、パラジウムに配位子として結合する化合物(好ましくはホスフィン化合物)を更に含有させる場合において、該化合物の含有量は、パラジウム触媒中のパラジウムのモル量に対して0.5〜10倍モル(より好ましくは1〜5倍モル)となる量とすることが好ましい。このような化合物の含有量が前記下限未満では収率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応が過剰に進行し、制御しにくくなる傾向がある傾向にある。   When the mixed solution further contains a compound (preferably a phosphine compound) that binds to palladium as a ligand, the content of the compound is 0.5 to the molar amount of palladium in the palladium catalyst. It is preferable to make it the quantity used as 10 times mole (more preferably 1-5 times mole). If the content of such a compound is less than the lower limit, the yield tends to decrease. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the reaction proceeds excessively and tends to be difficult to control.

また、このような混合液中の塩基の含有量としては、上記一般式(6)で表される化合物のモル量に対して0.5〜10.0倍モル(より好ましくは1.0〜5.0倍モル)となる量とすることが好ましい。このような塩基の含有量が前記下限未満では反応速度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。   Moreover, as content of the base in such a liquid mixture, it is 0.5-10.0 times mole with respect to the molar amount of the compound represented by the said General formula (6) (more preferably, 1.0- The amount is preferably 5.0 times mole). When the content of such a base is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, a by-product tends to increase.

また、前記混合液中の前記還元剤の含有量としては特に制限されないが、前記還元剤のモル量が、上記一般式(6)で表される化合物のモル量の0.5〜10倍モル(より好ましくは1.0〜5.0倍モル)となる量とすることが好ましい。このような還元剤の含有量が前記下限未満では反応速度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。   Further, the content of the reducing agent in the mixed solution is not particularly limited, but the molar amount of the reducing agent is 0.5 to 10 times the molar amount of the compound represented by the general formula (6). It is preferable that the amount is (more preferably 1.0 to 5.0 times mol). When the content of such a reducing agent is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the by-products tend to increase.

このような混合液中の溶媒の含有量としては、混合液の全量に対して、20〜99質量%とすることが好ましく、50〜95質量%とすることがより好ましい。このような溶媒の使用量が前記下限未満では副生成物が増加する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応効率が低下する傾向にある。   As content of the solvent in such a liquid mixture, it is preferable to set it as 20-99 mass% with respect to the whole quantity of a liquid mixture, and it is more preferable to set it as 50-95 mass%. When the amount of such a solvent used is less than the lower limit, by-products tend to increase. On the other hand, when the amount exceeds the upper limit, the reaction efficiency tends to decrease.

上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物(ただし、上記一般式(3)中のAが単結合のものを除く。)を製造するに際しては、前記混合液中で、前記酸無水物と前記芳香族化合物とを反応させる。このような反応の概略を反応式で示すと、下記反応式(I):   In producing the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) (excluding those in which A in the general formula (3) is a single bond), in the mixed solution, An acid anhydride is reacted with the aromatic compound. An outline of such a reaction is shown by the following reaction formula (I):

[反応式(I)中、R、R、R、R、R、Aは、それぞれ上記一般式(3)、(6)及び(7)中のR、R、R、R、R、Aと同義である(ただし、上記一般式(3)及び(7)中のAが単結合の場合を除く。)。]
で表されるようなものとなる。なお、上記反応式(I)中の塩基としては、前述のものを適宜利用すればよく、例えば、式:NR[式中、Rはそれぞれ独立にアミンを形成し得る1価の有機基(例えば炭素原子数1〜20の直鎖状の飽和炭化水素基等]で表されるアミン等を用いてもよい。また、上記反応式(I)中のパラジウム触媒としては、前述のパラジウム触媒を適宜利用でき、例えば、式:PdX[式中、Xは2価のパラジウム錯体を形成し得る一価のイオン(例えば、酢酸イオン、ハロゲンイオン、硫酸イオン等)を示す。]で表される化合物を含む触媒等を用いてもよい。上記反応式(I)は、パラジウム触媒の存在下、いわゆる還元的ヘック反応により、前記酸二無水物と前記芳香族化合物とを反応させる工程の概略を示すものである。このように、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸無水物(ただし、上記一般式(3)中のAが単結合のものを除く。)は、パラジウム触媒と、上記一般式(6)で表される酸二無水物と、上記一般式(7)で表される芳香族化合物と、ギ酸、2−プロパノール及び水素からなる群から選択される少なくとも1種の還元剤と、塩基とを含有する混合液中において、還元的ヘック反応により、パラジウム触媒の存在下、前記酸二無水物と前記芳香族化合物との反応を進行せしめることによって製造することができる。
[In Reaction formula (I), R 1, R 2, R 3, R 4, R 5, A , respectively the general formula (3), R 1 in (6) and (7), R 2, R 3 , R 4 , R 5 and A are the same as defined above (except that A in the above general formulas (3) and (7) is a single bond). ]
It will be something like that. As the base in the above reaction formula (I), the above-mentioned bases may be appropriately used. For example, the formula: NR 3 [wherein R is a monovalent organic group capable of independently forming an amine ( For example, an amine represented by a linear saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, etc.] Further, as the palladium catalyst in the above reaction formula (I), the above-mentioned palladium catalyst may be used. For example, it is represented by the formula: PdX 2 [wherein X represents a monovalent ion (for example, acetate ion, halogen ion, sulfate ion, etc.) capable of forming a divalent palladium complex]. You may use the catalyst containing a compound etc. The said Reaction formula (I) is the outline of the process with which the said acid dianhydride and the said aromatic compound are made to react by what is called reductive Heck reaction in presence of a palladium catalyst. As you can see, The tetracarboxylic acid anhydride represented by the general formula (3) (excluding those in which A in the general formula (3) is a single bond) is represented by the palladium catalyst and the general formula (6). Acid dianhydride, an aromatic compound represented by the general formula (7), at least one reducing agent selected from the group consisting of formic acid, 2-propanol and hydrogen, and a base. In the mixed liquid, it can be produced by a reaction of the acid dianhydride and the aromatic compound in the presence of a palladium catalyst by a reductive Heck reaction.

このような反応における雰囲気ガスの条件としては、原料及び生成物の安定性の観点から、不活性ガス雰囲気であることが好ましい。このような不活性ガスとしては、特に制限されず、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン等が挙げられる。また、このような反応の際の反応温度は、用いる原料化合物やパラジウム触媒の種類によっても異なるものであり、特に制限されず、例えば、20〜180℃としてもよく、より高い反応効率が得られるといった観点からは、40〜150℃に加熱することがより好ましく、50〜120℃に加熱することが更に好ましい。このような反応温度の温度条件が前記下限未満では反応効率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。また、このような反応の反応時間は、0.5〜20時間(より好ましくは2〜15時間)とすることが好ましい。このような反応時間が前記下限未満では収率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副生成物が増加する傾向にある。   As the conditions of the atmospheric gas in such a reaction, an inert gas atmosphere is preferable from the viewpoint of the stability of the raw material and the product. Such an inert gas is not particularly limited, and examples thereof include nitrogen, helium, and argon. In addition, the reaction temperature during such a reaction varies depending on the type of raw material compound and palladium catalyst used, and is not particularly limited. For example, the reaction temperature may be 20 to 180 ° C., and higher reaction efficiency is obtained. From such a viewpoint, it is more preferable to heat to 40 to 150 ° C, and it is more preferable to heat to 50 to 120 ° C. When the temperature condition of such reaction temperature is less than the lower limit, the reaction efficiency tends to decrease, and when it exceeds the upper limit, the by-product tends to increase. In addition, the reaction time of such a reaction is preferably 0.5 to 20 hours (more preferably 2 to 15 hours). If the reaction time is less than the lower limit, the yield tends to decrease. On the other hand, if the upper limit is exceeded, by-products tend to increase.

このようにして、前記混合液を用いて適宜加熱する等して、還元的ヘック反応を進行せしめることによって、十分に効率よく上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物(ただし、上記一般式(3)中のAが単結合のものを除く。)を得ることができる。   In this way, the tetracarboxylic dianhydride represented by the above general formula (3) is sufficiently efficiently obtained by allowing the reductive Heck reaction to proceed, for example, by appropriately heating using the mixed solution. , Except that A in the general formula (3) is a single bond).

一方、上記一般式(3)中のAが単結合であるテトラカルボン酸二無水物は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、下記一般式(8):   On the other hand, the tetracarboxylic dianhydride in which A in the general formula (3) is a single bond can be produced, for example, by the following method. That is, the following general formula (8):

[式(8)中、R、R、Rは上記一般式(3)中のR、R、Rと同義であり、複数のRはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基及び炭素数7〜20のアラルキル基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表されるカルボニル化合物を、酸触媒を用いて、炭素数1〜5のカルボン酸中において加熱することにより、下記一般式(9):
Wherein (8), R 1, R 2, R 3 has the same meaning as R 1, R 2, R 3 in the general formula (3), a plurality of R 6 is independently a hydrogen atom, the number of carbon atoms Selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. One type is shown. ]
Is heated in a carboxylic acid having 1 to 5 carbon atoms using an acid catalyst, and the following general formula (9):

[式(9)中、R、R、Rは上記一般式(8)中のR、R、Rと同義である。]
で表されるテトラカルボン酸二無水物(上記一般式(3)中のAが単結合であるテトラカルボン酸二無水物)を得ることができる。
Wherein (9), R 1, R 2, R 3 have the same meanings as R 1, R 2, R 3 in the general formula (8). ]
The tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (tetracarboxylic dianhydride in which A in the general formula (3) is a single bond) can be obtained.

上記一般式(8)で表されるカルボニル化合物に関し、上記一般式(8)中のR、R、Rは上記一般式(3)中のR、R、Rと同義であり、その好適なものも上記一般式(3)中のR、R、Rの好適なものと同様である。また、上記一般式(9)で表されるテトラカルボン酸二無水物に関し、上記一般式(9)中のR、R、Rは上記一般式(8)中のR、R、Rと同義であり、その好適なものも上記一般式(8)中のR、R、Rの好適なものと同様である。なお、上記一般式(8)及び(9)中の複数のRは、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。更に、上記一般式(8)及び(9)中のR及びRも、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。 Relates carbonyl compound represented by the above general formula (8), R 1, R 2, R 3 in the general formula (8) is R 1, R 2, R 3 as defined in the general formula (3) And preferred ones thereof are the same as the preferred ones of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (3). Also relates to the tetracarboxylic dianhydride represented by the above general formula (9), R 1, R 2 of R 1, R 2, R 3 in the general formula (9) is the general formula (8) in , R 3, and preferable examples thereof are the same as the preferable examples of R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (8). The plurality of R 1 in the general formulas (8) and (9) may be the same or different from each other, but are the same from the viewpoint of ease of purification and the like. It is preferable that. Furthermore, R 2 and R 3 in the general formulas (8) and (9) may be the same or different, respectively, but from the viewpoint of ease of purification, It is preferable that they are the same.

また、前記一般式(8)及び(9)中の複数のR、R及びRは、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物及び前記一般式(9)で表されるテトラカルボン酸二無水物において、R、R及びRで表される置換基がいずれも水素原子である場合には、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。 Moreover, it is especially preferable that all of the plurality of R 1 , R 2 and R 3 in the general formulas (8) and (9) are hydrogen atoms. Thus, in the carbonyl compound represented by the general formula (8) and the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (9), the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 are When both are hydrogen atoms, higher heat resistance tends to be obtained.

また、前記一般式(8)中のRとして選択され得るアルキル基は炭素数が1〜10のアルキル基である。このようなアルキル基の炭素数が10を超えると、精製が困難となる。また、このような複数のRとして選択され得るアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、1〜5であることがより好ましく、1〜3であることが更に好ましい。また、このような複数のRとして選択され得るアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。 Moreover, the alkyl group which can be selected as R < 6 > in the said General formula (8) is a C1-C10 alkyl group. When the carbon number of such an alkyl group exceeds 10, purification becomes difficult. Moreover, as carbon number of the alkyl group which can be selected as such some R < 6 >, it is more preferable that it is 1-5 from a viewpoint that refinement | purification becomes easier, and it is still more preferable that it is 1-3. . In addition, the alkyl group that can be selected as the plurality of R 6 may be linear or branched.

また、前記一般式(8)中のRとして選択され得るシクロアルキル基は、炭素数が3〜10のシクロアルキル基である。このようなシクロアルキル基の炭素数が10を超えると精製が困難となる。また、このような複数のRとして選択され得るシクロアルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、3〜8であることがより好ましく、5〜6であることが更に好ましい。 Moreover, the cycloalkyl group which can be selected as R < 6 > in the said General formula (8) is a C3-C10 cycloalkyl group. If the number of carbon atoms in such a cycloalkyl group exceeds 10, purification becomes difficult. As the number of carbon atoms of the cycloalkyl group which may be selected as a plurality of R 6 such as this, from the viewpoint of purification becomes easier, more preferably 3-8, to be 5-6 further preferable.

さらに、前記一般式(8)中のRとして選択され得るアルケニル基は、炭素数が2〜10のアルケニル基である。このようなアルケニル基の炭素数が10を超えると、精製が困難となる。また、このような複数のRとして選択され得るアルケニル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、2〜5であることがより好ましく、2〜3であることが更に好ましい。 Furthermore, the alkenyl group that can be selected as R 6 in the general formula (8) is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. When the carbon number of such an alkenyl group exceeds 10, purification becomes difficult. Further, the number of carbon atoms of the alkenyl group that can be selected as the plurality of R 6 is more preferably 2 to 5 and even more preferably 2 to 3 from the viewpoint of easier purification. .

また、前記一般式(8)中のRとして選択され得るアリール基は、炭素数が6〜20のアリール基である。このようなアリール基の炭素数が20を超えると精製が困難となる。また、このような複数のRとして選択され得るアリール基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、6〜10であることがより好ましく、6〜8であることが更に好ましい。 The aryl group that can be selected as R 6 in the general formula (8) is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. If the number of carbon atoms in such an aryl group exceeds 20, purification becomes difficult. As the carbon number of a plurality of such aryl group which may be selected as R 6, from the viewpoint of purification becomes easier, more preferably 6-10, more preferably 6-8 .

また、前記一般式(8)中のRとして選択され得るアラルキル基は、炭素数が7〜20のアラルキル基である。このようなアラルキル基の炭素数が20を超えると精製が困難となる。また、このような複数のRとして選択され得るアラルキル基の炭素数としては、精製がより容易となるという観点から、7〜10であることがより好ましく、7〜9であることが更に好ましい。 The aralkyl group that can be selected as R 6 in the general formula (8) is an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. If the number of carbon atoms in such an aralkyl group exceeds 20, purification becomes difficult. In addition, the number of carbon atoms of the aralkyl group that can be selected as the plurality of R 6 is more preferably 7 to 10 and even more preferably 7 to 9 from the viewpoint of easier purification. .

さらに、前記一般式(8)中の複数のRとしては、精製がより容易となるという観点から、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル、t−ブチル、シクロヘキシル基、アリル基、フェニル基又はベンジル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基であることがより好ましく、メチル基、エチル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。なお、前記一般式(8)中の複数のRは、それぞれ、同一のものであっても異なっていてもよいが、合成上の観点からは、同一のものであることがより好ましい。 Further, as the plurality of R 6 in the general formula (8), from the viewpoint that purification becomes easier, each of them is independently a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, It is preferably an isobutyl group, sec-butyl, t-butyl, cyclohexyl group, allyl group, phenyl group or benzyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group or an n-propyl group, a methyl group, an ethyl group. Is more preferable, and a methyl group is particularly preferable. In addition, although several R < 6 > in the said General formula (8) may be respectively the same or different, it is more preferable that it is the same from a synthetic viewpoint.

前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物は、例えば、以下の方法により製造することができる。すなわち、パラジウム触媒及び酸化剤の存在下において、下記一般式(10):   The carbonyl compound represented by the general formula (8) can be produced, for example, by the following method. That is, in the presence of a palladium catalyst and an oxidizing agent, the following general formula (10):

[式(10)中、R、R、Rは上記一般式(8)中のR、R、Rと同義である。]
で表されるノルボルネン系化合物をアルコール及び一酸化炭素と反応させて、上記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を得ることができる。
Wherein (10), R 1, R 2, R 3 have the same meanings as R 1, R 2, R 3 in the general formula (8). ]
The carbonyl compound represented by the above general formula (8) can be obtained by reacting the norbornene-based compound represented by general formula (8) with alcohol and carbon monoxide.

前記カルボニル化合物の製造に際しては、上記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物を原料化合物として利用する。上記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物において、上記一般式(10)中のR、R及びRは上記一般式(8)中のR、R及びRと同義であり、その好適なものも上記一般式(8)中のR、R及びRの好適なものと同様である。なお、上記一般式(10)中の複数のRは、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。更に、上記一般式(10)中のR及びRも、それぞれ、同一のものであってもあるいは異なるものであってもよいが、精製の容易さ等の観点からは、同一のものであることが好ましい。 In the production of the carbonyl compound, a norbornene compound represented by the general formula (10) is used as a raw material compound. In the norbornene compound represented by the general formula (10), R 1, R 2 and R 3 in the general formula (10) R 1, R 2 and R 3 as defined in the general formula (8) The preferred ones are also the same as the preferred ones of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (8). The plurality of R 1 in the general formula (10) may be the same or different from each other, but are the same from the viewpoint of ease of purification and the like. It is preferable. Further, R 2 and R 3 in the general formula (10) may be the same or different, but from the viewpoint of ease of purification and the like, they are the same. Preferably there is.

また、前記一般式(10)中の複数のR、R及びRは、いずれも水素原子であることが特に好ましい。このように、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物においてR、R及びRで表される置換基がいずれも水素原子である場合には、より高度な耐熱性が得られる傾向にある。 Moreover, it is particularly preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (10) are hydrogen atoms. Thus, when the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 are all hydrogen atoms in the norbornene compound represented by the general formula (10), higher heat resistance can be obtained. Tend to be.

なお、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物としては、例えば、5,5’−ビビシクロ[2.2.1]ヘプト―2−エン(別名:5,5’−ビ−2−ノルボルネンともいう。(CAS番号:36806−67−4)、3−メチル−3’−メチレン−2,2’−ビス(ビシクロ[2.2.1]ヘプテン−5,5’−ジエン)(CAS番号:5212−61−3)、5,5’−ビスビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,2’−ジオール(CAS番号:15971−85−4)等が挙げられる。前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物を製造するための方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。   The norbornene compound represented by the general formula (10) is, for example, 5,5′-bibicyclo [2.2.1] hept-2-ene (also known as 5,5′-bi-2-). Also referred to as norbornene (CAS number: 36806-67-4), 3-methyl-3′-methylene-2,2′-bis (bicyclo [2.2.1] heptene-5,5′-diene) (CAS No .: 5212-61-3), 5,5′-bisbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,2′-diol (CAS number: 15971-85-4) and the like. The method for producing the norbornene-based compound represented by the general formula (10) is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物の製造に際しては、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物とアルコールとを反応させる。このようなアルコールとしては、特に制限されるものではないが、精製の容易さの観点から、下記一般式(11):
OH (11)
[式(11)中、Rは前記一般式(8)中のRとして選択され得る原子及び基のうちの水素原子以外のものである。]
で表されるアルコールであることが好ましい。すなわち、このようなアルコールとしては、炭素数が1〜10のアルキルアルコール、炭素数が3〜10のシクロアルキルアルコール、炭素数が2〜10のアルケニルアルコール、炭素数が6〜20のアリールアルコール、炭素数が7〜20のアラルキルアルコールを用いることが好ましい。
Further, when the carbonyl compound represented by the general formula (8) is produced, the norbornene compound represented by the general formula (10) is reacted with an alcohol. Such alcohol is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of purification, the following general formula (11):
R a OH (11)
[In the formula (11), R a is an atom other than a hydrogen atom among the atoms and groups that can be selected as R 6 in the general formula (8). ]
It is preferable that it is alcohol represented by these. That is, as such an alcohol, an alkyl alcohol having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl alcohol having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl alcohol having 2 to 10 carbon atoms, an aryl alcohol having 6 to 20 carbon atoms, It is preferable to use aralkyl alcohol having 7 to 20 carbon atoms.

このようなアルコールとしては、具体的には、メタノール、エタノール、ブタノール、アリルアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙げられ、中でも、得られるカルボニル化合物の精製がより容易となるという観点から、メタノール、エタノールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。また、このようなアルコールは1種を単独であるいは2種以上を混合して用いてもよい。   Specific examples of such alcohols include methanol, ethanol, butanol, allyl alcohol, cyclohexanol, benzyl alcohol, and the like. Among these, methanol, methanol, Ethanol is more preferred and methanol is particularly preferred. Such alcohols may be used alone or in combination of two or more.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物の製造に際しては、パラジウム触媒及び酸化剤の存在下において、前記アルコール(好ましくはROH)及び一酸化炭素(CO)と、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物とを反応せしめることで、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物中のオレフィン部位の炭素に、それぞれ下記一般式(12):
−COOR (12)
[式(12)中、Rは前記一般式(11)中のRと同義である。]
で表されるエステル基(かかるエステル基は導入される位置ごとにRが同一であっても異なっていてもよい。)を導入することが可能となり、これにより、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を得ることができる。このように、パラジウム触媒及び酸化剤の存在下、アルコール(好ましくはROH)及び一酸化炭素(CO)を用いて、カルボニル化合物中のオレフィン部位の炭素にエステル基を導入する反応(以下、かかる反応を場合により単に「エステル化反応」と称する。)を利用して、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を得ることを可能とする。
In the production of the carbonyl compound represented by the general formula (8), in the presence of a palladium catalyst and an oxidizing agent, the alcohol (preferably R a OH) and carbon monoxide (CO) are mixed with the general formula. By reacting with the norbornene-based compound represented by (10), carbon in the olefin moiety in the norbornene-based compound represented by the general formula (10) is respectively represented by the following general formula (12):
-COOR a (12)
Wherein (12), the R a is synonymous with R a in the general formula (11). ]
It is possible to introduce an ester group represented by the formula (wherein R 6 may be the same or different at each introduced position), whereby the general formula (8) The carbonyl compound represented can be obtained. Thus, in the presence of a palladium catalyst and an oxidant, an alcohol (preferably R a OH) and carbon monoxide (CO) are used to introduce an ester group into the carbon of the olefin moiety in the carbonyl compound (hereinafter, Such a reaction is sometimes simply referred to as “esterification reaction”) to obtain a carbonyl compound represented by the general formula (8).

このようなエステル化反応に用いるパラジウム触媒としては特に制限されず、パラジウムを含有する公知の触媒を適宜用いることができ、例えば、パラジウムの無機酸塩、パラジウムの有機酸塩、担体にパラジウムを担持した触媒等が挙げられる。また、このようなパラジウム触媒としては、例えば、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、パラジウム炭素、パラジウムアルミナ及びパラジウム黒、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(式:Pd(CHCOO)(NO)等が好適なものとして挙げられる。 The palladium catalyst used in such esterification reaction is not particularly limited, and a known catalyst containing palladium can be appropriately used. For example, palladium inorganic acid salt, palladium organic acid salt, palladium is supported on a carrier. And the like. Examples of such a palladium catalyst include palladium chloride, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium acetate, palladium propionate, palladium carbon, palladium alumina, palladium black, and palladium acetate having a nitrite ligand (formula: Pd 3 ( CH 3 COO) 5 (NO 2 ) and the like are preferable.

また、このようなパラジウム触媒としては、副生成物の生成をより十分に抑制することができ、より高い選択率で、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を製造することが可能となるといった観点から、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(式:Pd(CHCOO)(NO)で表される触媒)を含有するパラジウム触媒(以下、場合により、単に「Pd(OAc)(NO)」と称する。)を用いることが好ましい。 Further, as such a palladium catalyst, it is possible to sufficiently suppress the formation of by-products, and to produce the carbonyl compound represented by the general formula (8) with higher selectivity. From the viewpoint of becoming, a palladium catalyst containing a nitrite ligand-containing palladium acetate (a catalyst represented by the formula: Pd 3 (CH 3 COO) 5 (NO 2 )) (hereinafter sometimes referred to simply as “Pd 3 (OAc)”. ) 5 (NO 2 ) ”).

また、このような亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))を含有するパラジウム触媒においては、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))の含有量が金属換算で(パラジウム触媒中の全パラジウム量に対して)10モル%以上であることが好ましい。このような亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウムの含有比率が前記下限未満では、副生成物の生成を十分に抑制することが困難となり、十分に高い選択率で前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を製造することが困難となる傾向にある。また、前記パラジウム触媒としては、より高度な水準で副生成物の生成を抑制することができ、より高い選択率でエステル化合物を製造することが可能となるといった観点から、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))の含有比率が、金属換算で(パラジウム触媒中の全パラジウム量に対して)、30モル%以上であることがより好ましく、40モル%以上であることが更に好ましく、50モル%以上であることが特に好ましく、70モル%〜100モル%であることが最も好ましい。 Further, palladium acetate having such a nitrite ligands (Pd 3 (OAc) 5 ( NO 2)) in a palladium catalyst containing palladium acetate (Pd 3 with nitrous acid ligand (OAc) 5 (NO 2) ) Is preferably 10 mol% or more in terms of metal (relative to the total amount of palladium in the palladium catalyst). When the content ratio of palladium acetate having such a nitrous acid ligand is less than the lower limit, it is difficult to sufficiently suppress the formation of by-products, and is represented by the general formula (8) with a sufficiently high selectivity. It tends to be difficult to produce a carbonyl compound. In addition, as the palladium catalyst, acetic acid having a nitrite ligand can be used from the viewpoint that the production of by-products can be suppressed at a higher level and an ester compound can be produced with higher selectivity. The content ratio of palladium (Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 )) is more preferably 30 mol% or more in terms of metal (relative to the total amount of palladium in the palladium catalyst), and 40 mol% or more. More preferably, it is more preferably 50 mol% or more, and most preferably 70 mol% to 100 mol%.

また、前記エステル化反応に用いるパラジウム触媒として、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))を含有するものを用いる場合において、Pd(OAc)(NO)以外に含有し得る他の触媒(他のパラジウム触媒成分)としては、特に制限されず、オレフィン部位に一酸化炭素及びアルコールを反応させる際(エステル化の際)に利用することが可能な公知のパラジウム系の触媒成分(例えば、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、パラジウム炭素、パラジウムアルミナ及びパラジウム黒等)を適宜利用することができる。 Further, as the palladium catalyst used for the esterification reaction, palladium acetate having a nitrite ligands (Pd 3 (OAc) 5 ( NO 2)) in the case of using those containing, Pd 3 (OAc) 5 ( NO 2) The other catalyst (other palladium catalyst component) that can be contained in addition to the above is not particularly limited, and is a known catalyst that can be used when reacting carbon monoxide and an alcohol with an olefin site (during esterification). Palladium-based catalyst components (for example, palladium chloride, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium acetate, palladium propionate, palladium carbon, palladium alumina, palladium black, etc.) can be used as appropriate.

また、このようなパラジウム触媒中に含有され得る亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム以外の成分(パラジウム系の触媒成分)としては、重合物等の副生成物の生成の抑制、選択性向上の観点からは、酢酸パラジウムを用いることが好ましい。また、前記パラジウム触媒としては、重合物等の副生成物の生成の抑制、選択性向上の観点からは、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))と酢酸パラジウムとの混合触媒、亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))のみからなる触媒を、より好適に利用することができる。 Moreover, as a component other than palladium acetate having a nitrite ligand that can be contained in such a palladium catalyst (palladium-based catalyst component), from the viewpoint of suppressing the generation of by-products such as a polymer and improving selectivity. It is preferable to use palladium acetate. In addition, as the palladium catalyst, palladium acetate having a nitrite ligand (Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 )) and palladium acetate are used from the viewpoint of suppressing generation of by-products such as a polymer and improving selectivity. And a catalyst comprising only palladium acetate having a nitrite ligand (Pd 3 (OAc) 5 (NO 2 )) can be used more suitably.

なお、このような亜硝酸リガンドを有する酢酸パラジウム(Pd(OAc)(NO))を製造するための方法としては特に制限されず、公知の方法を適宜利用することができ、例えば、2005年6月7日に発行されたDalton Trans(vol.11)の第1989頁から第1992頁に記載された方法(著者:Vladimir I, Bakhmutov,et al.)等を適宜利用してもよい。 Incidentally, no particular restriction on a method for the production of palladium acetate (Pd 3 (OAc) 5 ( NO 2)) having such a nitrite ligands, can be appropriately used a known method, for example, A method described in pages 1989 to 1992 of Dalton Trans (vol. 11) issued on June 7, 2005 (author: Vladimir I, Bakhmutov, et al.) May be used as appropriate. .

また、前記エステル化反応に用いる酸化剤としては、エステル化反応において前記パラジウム触媒中のPd2+がPdに還元された場合に、そのPdをPd2+に酸化することが可能なものであればよい。このような酸化剤としては、特に制限されず、例えば、銅化合物、鉄化合物等が挙げられる。また、このような酸化剤としては、具体的には、塩化第二銅、硝酸第二銅、硫酸第二銅、酢酸第二銅、塩化第二鉄、硝酸第二鉄、硫酸第二鉄、酢酸第二鉄等が挙げられる。 As the oxidizing agent used in the esterification reaction, when the Pd 2+ of the palladium catalyst in the esterification reaction has been reduced to Pd 0, long as it can oxidize the Pd 0 to Pd 2+ That's fine. Such an oxidizing agent is not particularly limited, and examples thereof include a copper compound and an iron compound. Moreover, as such an oxidizing agent, specifically, cupric chloride, cupric nitrate, cupric sulfate, cupric acetate, ferric chloride, ferric nitrate, ferric sulfate, And ferric acetate.

さらに、このようなエステル化反応におけるアルコールの使用量は、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を得ることが可能な量であればよく、特に制限されず、例えば、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を得るために理論上必要となる量(理論量)以上に前記アルコールを加えて、余剰のアルコールをそのまま溶媒として使用してもよい。   Furthermore, the amount of alcohol used in such an esterification reaction is not particularly limited as long as it is an amount capable of obtaining the carbonyl compound represented by the general formula (8). For example, the general formula ( The alcohol may be added to the amount theoretically required to obtain the carbonyl compound represented by 8) (theoretical amount), and the excess alcohol may be used as a solvent as it is.

また、前記エステル化反応においては、前記一酸化炭素は必要量を反応系に供給できればよい。そのため、前記一酸化炭素としては、一酸化炭素の高純度ガスを用いる必要は無く、前記エステル化反応に不活性なガス(例えば窒素)と一酸化炭素とを混合した混合ガスを用いてもよい。また、このような一酸化炭素の圧力は特に制限されないが、常圧(約0.1MPa[1atm])以上10MPa以下であることが好ましい。   In the esterification reaction, the carbon monoxide may be supplied in a required amount to the reaction system. Therefore, it is not necessary to use a high purity gas of carbon monoxide as the carbon monoxide, and a mixed gas in which a gas inert to the esterification reaction (for example, nitrogen) and carbon monoxide may be used. . Further, the pressure of such carbon monoxide is not particularly limited, but is preferably normal pressure (about 0.1 MPa [1 atm]) or more and 10 MPa or less.

さらに、前記一酸化炭素を反応系に供給する方法は特に制限されず、公知の方法を適宜採用でき、例えば、前記アルコールと前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物と前記パラジウム触媒とを含む混合液中に一酸化炭素をバブリングにより供給する方法や、反応容器を用いる場合においてはその容器中の雰囲気ガスに一酸化炭素を導入することで一酸化炭素を反応系に供給する方法等を適宜採用できる。   Furthermore, a method for supplying the carbon monoxide to the reaction system is not particularly limited, and a known method can be appropriately employed. For example, the alcohol, the norbornene compound represented by the general formula (10), the palladium catalyst, A method of supplying carbon monoxide by bubbling into a mixed solution containing, or a method of supplying carbon monoxide to the reaction system by introducing carbon monoxide into the atmospheric gas in the vessel when using a reaction vessel, etc. Can be adopted as appropriate.

また、前記アルコールと前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物と前記パラジウム触媒とを含む混合液中に一酸化炭素を供給する場合には、一酸化炭素を前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物に対して0.002〜0.2モル当量/分(より好ましくは0.005〜0.1モル当量/分、更に好ましくは0.005〜0.05モル当量/分)の割合(供給速度)で供給することが好ましい。このような一酸化炭素の供給割合が前記下限未満では反応速度が遅くなり、重合物等の副生物が生成され易くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、反応速度が向上し一気に反応が進み反応を制御することが困難となる傾向にある。なお、原料である一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物1モルに対して、理論上、4モル当量の一酸化炭素が反応することから、例えば、前記割合(供給速度)が0.1モル当量/分であれば、前記一般式(9)で表されるテトラカルボン酸二無水物の化合物1モルに対して、理論量モル当量を導入するためには、40分(4[モル当量]/0.1[モル当量/分]=40分)要することとなる。また、このような供給速度で一酸化炭素を供給するための方法としては、前記アルコールと前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物と前記パラジウム触媒とを含む混合液中にバブリングにより一酸化炭素を供給する方法を採用することが好ましい。   In addition, when carbon monoxide is supplied into a mixed solution containing the alcohol, the norbornene compound represented by the general formula (10), and the palladium catalyst, the carbon monoxide is represented by the general formula (10). 0.002 to 0.2 molar equivalent / minute (more preferably 0.005 to 0.1 molar equivalent / minute, still more preferably 0.005 to 0.05 molar equivalent / minute) with respect to the norbornene-based compound represented. ) Is preferably supplied at a rate (supply speed). When the supply ratio of carbon monoxide is less than the lower limit, the reaction rate tends to be slow, and by-products such as polymers tend to be generated. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the reaction rate is improved and the reaction is performed at once. Tends to become difficult to control the reaction. In addition, since 4 mol equivalent of carbon monoxide theoretically reacts with respect to 1 mol of the norbornene-based compound represented by the general formula (10) as a raw material, for example, the ratio (feed rate) is 0.00. If it is 1 molar equivalent / minute, in order to introduce a theoretical molar equivalent with respect to 1 mole of the tetracarboxylic dianhydride compound represented by the general formula (9), 40 minutes (4 [mol Equivalent] /0.1 [molar equivalent / minute] = 40 minutes). Further, as a method for supplying carbon monoxide at such a supply rate, bubbling is performed in a mixed solution containing the alcohol, the norbornene compound represented by the general formula (10), and the palladium catalyst. It is preferable to employ a method of supplying carbon oxide.

また、前記一酸化炭素をバブリングにより供給する場合、前記バブリングの具体的な方法は特に制限されず、公知のバブリングの方法を適宜採用でき、例えば、いわゆるバブリングノズルや、多数の孔が設けられた管等を適宜用いて、混合液中に一酸化炭素をバブリングして供給すればよい。   Further, when supplying the carbon monoxide by bubbling, a specific method of the bubbling is not particularly limited, and a known bubbling method can be appropriately employed. For example, a so-called bubbling nozzle and a large number of holes are provided. Carbon monoxide may be bubbled and supplied into the mixed solution using a tube or the like as appropriate.

さらに、前記一酸化炭素の供給速度の制御方法は、特に制限されず、公知の制御方法を適宜採用すればよく、例えば、バブリングにより一酸化炭素を供給する場合には、前記バブリングノズルや、多数の孔が設けられた管等に特定の割合でガスを供給できるような公知の装置を用いて、一酸化炭素の供給速度を前記割合に制御する方法を採用してもよい。また、バブリングにより一酸化炭素を供給する場合において、反応容器を用いた場合には、バブリングノズルや管等を同容器の底部付近に調整することが好ましい。これは、底部に存在する前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物とバブリングノズル等から供給される一酸化炭素との接触を促進させるためである。   Furthermore, the method for controlling the supply rate of the carbon monoxide is not particularly limited, and a known control method may be adopted as appropriate. For example, in the case of supplying carbon monoxide by bubbling, the bubbling nozzle or many A method of controlling the supply rate of carbon monoxide at the above-mentioned ratio using a known apparatus capable of supplying a gas at a specific ratio to a pipe or the like provided with the holes may be adopted. In addition, when supplying carbon monoxide by bubbling, when a reaction vessel is used, it is preferable to adjust a bubbling nozzle, a pipe, and the like near the bottom of the vessel. This is to promote contact between the norbornene compound represented by the general formula (10) present at the bottom and carbon monoxide supplied from a bubbling nozzle or the like.

また、前記エステル化反応において、前記パラジウム触媒の使用量としては、前記パラジウム触媒中のパラジウムのモル量が前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物に対して0.001〜0.1倍モル(より好ましくは0.001〜0.01倍モル)となる量とすることが好ましい。このようなパラジウム触媒の使用量が前記下限未満では反応速度の低下により収率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると生成物中からパラジウムを除くことが困難となり、生成物の純度が低下する傾向にある。   In the esterification reaction, the amount of the palladium catalyst used is such that the molar amount of palladium in the palladium catalyst is 0.001 to 0.1 relative to the norbornene compound represented by the general formula (10). It is preferable that the amount be double mole (more preferably 0.001 to 0.01 mole). If the amount of the palladium catalyst used is less than the lower limit, the yield tends to decrease due to a decrease in the reaction rate. On the other hand, if the upper limit is exceeded, it is difficult to remove palladium from the product, and the purity of the product Tend to decrease.

このような酸化剤の使用量は、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物に対して2〜16倍モル(より好ましくは2〜8倍モル、更に好ましくは2〜6倍モル)とすることが好ましい。このような酸化剤の使用量が前記下限未満ではパラジウムの酸化反応を十分に促進できず、その結果副生成物が多く生成する傾向にあり、他方、前記上限を超えると精製が困難となり、生成物の純度が低下する傾向にある。   The amount of the oxidizing agent used is 2 to 16 times mol (more preferably 2 to 8 times mol, further preferably 2 to 6 times mol) based on the norbornene compound represented by the general formula (10). It is preferable that If the amount of the oxidizing agent used is less than the lower limit, the oxidation reaction of palladium cannot be promoted sufficiently, and as a result, a large amount of by-products tend to be formed. The purity of the product tends to decrease.

また、前記一般式(10)で表されるノルボルネン系化合物と、アルコール及び一酸化炭素との反応(エステル化反応)には溶媒を用いてもよい。このような溶媒としては特に制限されず、エステル化反応に利用可能な公知の溶媒を適宜利用でき、例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒が挙げられる。   In addition, a solvent may be used for the reaction (esterification reaction) of the norbornene compound represented by the general formula (10) with alcohol and carbon monoxide. Such a solvent is not particularly limited, and a known solvent that can be used for the esterification reaction can be appropriately used, and examples thereof include hydrocarbon solvents such as n-hexane, cyclohexane, benzene, and toluene.

さらに、前記エステル化反応においては、前記酸化剤等から酸が副生されることから、かかる酸を除去するために塩基を添加してもよい。このような塩基としては、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、酪酸ナトリウム等の脂肪酸塩が好ましい。また、このような塩基の使用量は酸の発生量等に応じて適宜調整すればよい。   Furthermore, in the esterification reaction, an acid is by-produced from the oxidizing agent or the like, and therefore a base may be added to remove the acid. As such a base, fatty acid salts such as sodium acetate, sodium propionate, and sodium butyrate are preferable. Further, the amount of such base used may be appropriately adjusted according to the amount of acid generated.

また、前記エステル化反応の際の反応温度条件としては特に制限されないが、0℃〜200℃{より好ましくは0℃〜100℃、更に好ましくは10〜60℃程度、特に好ましくは20〜50℃程度の温度}であることが好ましい。このような反応温度が前記上限を超えると、収量が低下する傾向にあり、他方、前記下限未満では、反応速度が低下する傾向にある。また、前記エステル化反応の反応時間は特に制限されないが、30分〜24時間程度とすることが好ましい。   In addition, the reaction temperature condition in the esterification reaction is not particularly limited, but is 0 ° C to 200 ° C {more preferably 0 ° C to 100 ° C, more preferably about 10 to 60 ° C, particularly preferably 20 to 50 ° C. It is preferable that the temperature is about the same. When such a reaction temperature exceeds the upper limit, the yield tends to decrease. On the other hand, when the reaction temperature is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease. The reaction time for the esterification reaction is not particularly limited, but is preferably about 30 minutes to 24 hours.

また、前記エステル化反応における雰囲気ガスとしては、特に制限されず、エステル化の反応に利用可能なガスを適宜利用することができ、例えば、エステル化反応に不活性なガス(窒素、アルゴン等)、一酸化炭素、一酸化炭素と他のガス(窒素、空気、酸素、水素、二酸化炭素、アルゴン等)との混合ガスとしてもよく、触媒や酸化剤に対して影響を与えないという観点から、一酸化炭素、エステル化反応に不活性なガス、一酸化炭素とエステル化反応に不活性なガスとの混合ガスが好ましい。なお、前記混合液中に一酸化炭素を供給する方法として、バブリングにより一酸化炭素を導入する方法を採用する場合には、例えば、反応前に雰囲気ガスをエステル化反応に不活性なガスからなるものとしておき、上述のバブリングにより反応を開始して、結果的に雰囲気ガスが一酸化炭素とエステル化反応に不活性なガスとの混合ガスとなるようにして反応を進めてもよい。   Further, the atmospheric gas in the esterification reaction is not particularly limited, and a gas that can be used for the esterification reaction can be appropriately used. For example, an inert gas (nitrogen, argon, etc.) for the esterification reaction , Carbon monoxide, mixed gas of carbon monoxide and other gas (nitrogen, air, oxygen, hydrogen, carbon dioxide, argon, etc.), from the viewpoint of not affecting the catalyst and oxidant, Carbon monoxide, a gas inert to the esterification reaction, and a mixed gas of carbon monoxide and a gas inert to the esterification reaction are preferable. In addition, when adopting a method of introducing carbon monoxide by bubbling as a method of supplying carbon monoxide into the mixed solution, for example, the atmosphere gas is made of a gas inert to the esterification reaction before the reaction. Alternatively, the reaction may be started by bubbling as described above, and as a result, the reaction may proceed so that the atmospheric gas becomes a mixed gas of carbon monoxide and a gas inert to the esterification reaction.

さらに、前記エステル化反応における圧力条件(雰囲気ガスの圧力条件:反応容器内で反応を進行せしめる場合には容器内のガスの圧力の条件)は特に制限されないが、0.05MPa〜15MPaであることが好ましく、常圧(0.1MPa[1atm])〜15MPaであることがより好ましく、0.1MPa〜10MPaであることが更に好ましく、0.11MPa〜5MPaであることが特に好ましい。このような圧力条件が前記下限未満では反応速度が低下し目的物の収率が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応速度が向上し一気に反応が進み反応を制御することが困難となったり、反応を実施できる設備が限定される傾向にある。   Further, the pressure condition in the esterification reaction (atmospheric gas pressure condition: when the reaction is allowed to proceed in the reaction vessel) is not particularly limited, but is 0.05 MPa to 15 MPa. The pressure is preferably normal pressure (0.1 MPa [1 atm]) to 15 MPa, more preferably 0.1 MPa to 10 MPa, and particularly preferably 0.11 MPa to 5 MPa. When the pressure condition is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease and the yield of the target product tends to decrease. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the reaction rate improves and the reaction proceeds at a stretch, making it difficult to control the reaction There is a tendency that facilities that can carry out the reaction are limited.

このようにしてエステル化反応を進行せしめることで、前記一般式(8)中のRがいずれも水素原子以外の基である前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物(テトラエステル化合物)を得ることができる。また、前記式(8)中のRがいずれも水素原子である前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を製造する場合には、前記エステル化反応により上記式:−COORで表される基を導入した後に、かかる基をRが水素原子である式:−COOHで表される基に変換するために、加水分解処理やカルボン酸とのエステル交換反応を施してもよい。このような反応の方法は特に制限されず、式:−COORで表される基(エステル基)を式:−COOH(カルボキシ基)とすることが可能な公知の方法を適宜採用することができる。 By allowing the esterification reaction to proceed in this manner, the carbonyl compound (tetraester compound) represented by the general formula (8) in which R 6 in the general formula (8) is a group other than a hydrogen atom. Can be obtained. In the case where the carbonyl compound represented by the general formula (8) in which R 6 in the formula (8) is a hydrogen atom is produced, the above formula: —COOR a represents the esterification reaction. Then, in order to convert the group into a group represented by the formula: —COOH where R a is a hydrogen atom, a hydrolysis treatment or a transesterification reaction with a carboxylic acid may be performed. The method of such a reaction is not particularly limited, and a known method capable of converting the group (ester group) represented by the formula: —COOR a into the formula: —COOH (carboxy group) may be appropriately adopted. it can.

前記一般式(9)で表されるテトラカルボン酸二無水物を製造するに際しては、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を、酸触媒を用いて、炭素数1〜5のカルボン酸中において加熱する。前記テトラカルボン酸二無水物を製造するに際して用いる酸触媒としては特に制限されず、均一系酸触媒であっても不均一系酸触媒(固体触媒)であってもよい。このような酸触媒の中でも、精製の容易さの観点から、均一系酸触媒であることが好ましい。   In producing the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (9), the carbonyl compound represented by the general formula (8) is converted to a carboxylic acid having 1 to 5 carbon atoms using an acid catalyst. Heat in. The acid catalyst used in producing the tetracarboxylic dianhydride is not particularly limited, and may be a homogeneous acid catalyst or a heterogeneous acid catalyst (solid catalyst). Among such acid catalysts, a homogeneous acid catalyst is preferable from the viewpoint of ease of purification.

このような均一系酸触媒としては特に制限されず、カルボン酸を無水物とする反応やエステル化合物を酸無水物とする反応に用いることが可能な公知の均一系酸触媒を適宜利用することができる。このような均一系酸触媒としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロエタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ヘプタフルオロイソプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ヘプタフルオロデカンスルホン酸、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド、N,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、クロロジフルオロ酢酸を挙げることができる。   Such a homogeneous acid catalyst is not particularly limited, and a known homogeneous acid catalyst that can be used for a reaction in which a carboxylic acid is an anhydride or a reaction in which an ester compound is an acid anhydride can be appropriately used. it can. Examples of such a homogeneous acid catalyst include trifluoromethanesulfonic acid, tetrafluoroethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, heptafluoropropanesulfonic acid, heptafluoroisopropanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, heptafluoro Examples thereof include decanesulfonic acid, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide, N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and chlorodifluoroacetic acid.

また、このような均一系酸触媒としては、反応収率向上の観点から、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、クロロジフルオロ酢酸がより好ましく、トリフルオロメタンスルホン酸、テトラフルオロエタンスルホン酸が更に好ましい。なお、このような均一系酸触媒としては、1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて利用してもよい。   As such a homogeneous acid catalyst, from the viewpoint of improving the reaction yield, trifluoromethanesulfonic acid, tetrafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, and chlorodifluoroacetic acid are more preferable. More preferred is fluoroethanesulfonic acid. In addition, as such a homogeneous acid catalyst, you may use 1 type individually or in combination of 2 or more types.

また、前記酸触媒(より好ましくは均一系酸触媒)の使用量としては、特に制限されないが、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物(テトラカルボン酸二無水物の原料化合物)の使用量(モル量)に対して、酸触媒の酸のモル量が0.001〜2.00モル当量(より好ましくは0.01〜1.00モル当量)となるような量とすることが好ましい。このような酸触媒の使用量が前記下限未満では、反応速度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えた場合には、精製がやや困難となり生成物の純度が低下する傾向にある。なお、ここにいう酸触媒の酸のモル量は、前記酸触媒中の官能基(例えばスルホン酸基(スルホ基)やカルボン酸基(カルボキシ基)等)換算によるモル量である。   The amount of the acid catalyst (more preferably a homogeneous acid catalyst) used is not particularly limited, but the carbonyl compound (tetracarboxylic dianhydride raw material compound) represented by the general formula (8) is used. It is preferable to set the amount so that the molar amount of the acid in the acid catalyst is 0.001 to 2.00 molar equivalent (more preferably 0.01 to 1.00 molar equivalent) with respect to the amount (molar amount). . When the amount of the acid catalyst used is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease. On the other hand, when the upper limit is exceeded, purification becomes somewhat difficult and the purity of the product tends to decrease. The molar amount of the acid in the acid catalyst referred to here is a molar amount in terms of a functional group (for example, a sulfonic acid group (sulfo group) or a carboxylic acid group (carboxy group)) in the acid catalyst.

また、前記酸触媒(より好ましくは均一系酸触媒)の使用量は、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物100質量部に対して0.1〜100質量部であることが好ましく、1〜20質量部であることがより好ましい。このような酸触媒の使用量が前記下限未満では反応速度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると副反応物が生成しやすくなる傾向にある。   Further, the amount of the acid catalyst (more preferably a homogeneous acid catalyst) used is preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carbonyl compound represented by the general formula (8). It is more preferable that it is 1-20 mass parts. When the amount of the acid catalyst used is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease. On the other hand, when the amount exceeds the upper limit, a side reaction product tends to be generated.

さらに、前記テトラカルボン酸二無水物を製造するに際しては、炭素数1〜5のカルボン酸(以下、場合により単に「低級カルボン酸」と称する。)を用いる。このような低級カルボン酸の炭素数が前記上限を超えると、製造及び精製が困難となる。また、このような低級カルボン酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等が挙げられ、中でも、製造及び精製の容易さの観点から、ギ酸、酢酸、プロピオン酸が好ましく、ギ酸、酢酸がより好ましい。このような低級カルボン酸は1種を単独で或は2種以上を組み合わせて利用してもよい。   Furthermore, in producing the tetracarboxylic dianhydride, a carboxylic acid having 1 to 5 carbon atoms (hereinafter sometimes simply referred to as “lower carboxylic acid”) is used. When the carbon number of such a lower carboxylic acid exceeds the upper limit, production and purification become difficult. Examples of such lower carboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, etc. Among them, formic acid, acetic acid, propionic acid are preferable from the viewpoint of ease of production and purification, and formic acid, acetic acid Is more preferable. Such lower carboxylic acids may be used singly or in combination of two or more.

また、このような低級カルボン酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸)の使用量としては特に制限されないが、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物に対して4〜100倍モルとすることが好ましい。このような低級カルボン酸(ギ酸、酢酸、プロピオン酸等)の使用量が前記下限未満では収量が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応速度が低下する傾向にある。   The amount of such lower carboxylic acid (for example, formic acid, acetic acid, propionic acid) is not particularly limited, but is 4 to 100 times mol with respect to the carbonyl compound represented by the general formula (8). It is preferable. If the amount of such a lower carboxylic acid (formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.) used is less than the lower limit, the yield tends to decrease, whereas if it exceeds the upper limit, the reaction rate tends to decrease.

また、前記テトラカルボン酸二無水物を製造するに際しては、前記カルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱するため、前記カルボニル化合物を前記低級カルボン酸中に含有せしめることが好ましい。このような低級カルボン酸中における前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物の含有量としては、1〜40質量%であることが好ましく、2〜30質量%であることがより好ましい。このようなカルボニル化合物の含有量が前記下限未満では収量が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると反応速度が低下する傾向にある。   Moreover, when manufacturing the said tetracarboxylic dianhydride, since the said carbonyl compound is heated in the said lower carboxylic acid, it is preferable to contain the said carbonyl compound in the said lower carboxylic acid. As content of the carbonyl compound represented by the said General formula (8) in such a lower carboxylic acid, it is preferable that it is 1-40 mass%, and it is more preferable that it is 2-30 mass%. When the content of such a carbonyl compound is less than the lower limit, the yield tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the reaction rate tends to decrease.

以上、前記テトラカルボン酸二無水物を製造する際に用いる前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物、酸触媒及び炭素数1〜5のカルボン酸について説明したが、次いで、これらを用いた加熱工程(前記カルボニル化合物を、酸触媒を用いて、炭素数1〜5のカルボン酸中において加熱する工程)について説明する。   As mentioned above, although the carbonyl compound represented by the said General formula (8) used when manufacturing the said tetracarboxylic dianhydride, an acid catalyst, and a C1-C5 carboxylic acid were demonstrated, these were then used. A heating step (a step of heating the carbonyl compound in a carboxylic acid having 1 to 5 carbon atoms using an acid catalyst) will be described.

なお、前記カルボニル化合物が、前記一般式(8)で表されかつ該式中のRがいずれも水素原子である化合物(テトラカルボン酸)である場合には、前記加熱工程によって、前記カルボニル化合物(テトラカルボン酸)から、テトラカルボン酸二無水物と水とが生成される反応(正反応)が進行する。そして、このような正反応と、テトラカルボン酸二無水物と水とから前記カルボニル化合物(テトラカルボン酸)が生成される逆反応とは、平衡反応である。また、本発明において、前記カルボニル化合物が、前記一般式(8)で表されかつ該式中のRが水素原子以外の基である化合物である場合には、前記加熱工程によって、前記カルボニル化合物と前記低級カルボン酸とから、テトラカルボン酸二無水物と低級カルボン酸のエステル化合物と水とが生成される反応(正反応)が進行する。そして、このような正反応と、カルボン酸無水物と低級カルボン酸のエステル化合物と水とから、前記カルボニル化合物と低級カルボン酸とが生成されてしまう逆反応とは、平衡反応である。そのため、このような加熱工程においては、系中の成分の濃度等を適宜変更することで効率よく反応(正反応)を進行させることも可能である。 When the carbonyl compound is a compound represented by the general formula (8) and R 6 in the formula is a hydrogen atom (tetracarboxylic acid), the carbonyl compound is obtained by the heating step. A reaction (positive reaction) in which tetracarboxylic dianhydride and water are generated from (tetracarboxylic acid) proceeds. Such a normal reaction and a reverse reaction in which the carbonyl compound (tetracarboxylic acid) is generated from tetracarboxylic dianhydride and water are equilibrium reactions. In the present invention, when the carbonyl compound is a compound represented by the general formula (8) and R 6 in the formula is a group other than a hydrogen atom, the carbonyl compound is obtained by the heating step. And a reaction (positive reaction) in which tetracarboxylic dianhydride, a lower carboxylic acid ester compound and water are produced from the lower carboxylic acid. Such a forward reaction and a reverse reaction in which the carbonyl compound and the lower carboxylic acid are generated from the carboxylic acid anhydride, the ester compound of the lower carboxylic acid, and water are equilibrium reactions. Therefore, in such a heating step, it is possible to efficiently advance the reaction (positive reaction) by appropriately changing the concentration of the component in the system.

また、このような加熱工程において採用し得る条件(加熱温度や雰囲気の条件等を含む。)は特に制限されず、前記酸触媒を用いて前記低級カルボン酸中において前記カルボニル化合物を加熱し、これにより前記カルボニル化合物中のエステル基及び/又はカルボキシ基(カルボン酸基)を、酸無水物基とすることが可能な方法(条件)であれば、その条件を適宜採用することができ、例えば、酸無水物基を形成することが可能な公知の反応において採用されるような条件を適宜利用することができる。   The conditions that can be employed in such a heating step (including heating temperature and atmospheric conditions) are not particularly limited, and the carbonyl compound is heated in the lower carboxylic acid using the acid catalyst. As long as the method (conditions) enables the ester group and / or carboxy group (carboxylic acid group) in the carbonyl compound to be an acid anhydride group, the conditions can be appropriately employed. Conditions such as those employed in known reactions capable of forming acid anhydride groups can be used as appropriate.

また、このような加熱工程に際しては、先ず、前記低級カルボン酸中における加熱が可能となるように、前記低級カルボン酸、前記カルボニル化合物及び前記酸触媒の混合物を調製することが好ましい。このような混合物の調製方法は特に制限されず、加熱工程に利用する装置などに応じて適宜調製すればよく、例えば、同一の容器内にこれらを添加(導入)することで調製してもよい。   In such a heating step, it is preferable to first prepare a mixture of the lower carboxylic acid, the carbonyl compound and the acid catalyst so that heating in the lower carboxylic acid is possible. The method for preparing such a mixture is not particularly limited, and may be appropriately prepared according to the apparatus used for the heating step. For example, the mixture may be prepared by adding (introducing) them in the same container. .

また、このような加熱工程においては、前記低級カルボン酸に更に他の溶剤を添加して利用してもよい。このような溶剤(他の溶媒)としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族系溶媒;エーテル、THF、ジオキサン等のエーテル系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ペンタン等の炭化水素系溶媒;アセトニトリルやベンゾニトリル等のニトリル系溶媒;塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒;アセトンやMEKなどのケトン系溶媒;DMF、NMP、DMI、DMAc等のアミド系溶媒が挙げられる。   Further, in such a heating step, another solvent may be added to the lower carboxylic acid for use. Examples of such solvents (other solvents) include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ether solvents such as ether, THF and dioxane; ester solvents such as ethyl acetate; hexane and cyclohexane , Hydrocarbon solvents such as heptane and pentane; nitrile solvents such as acetonitrile and benzonitrile; halogen solvents such as methylene chloride and chloroform; ketone solvents such as acetone and MEK; amides such as DMF, NMP, DMI and DMAc And system solvents.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱する際の温度条件としては特に制限されないが、加熱温度の上限を180℃(より好ましくは150℃、更に好ましくは140℃、特に好ましくは130℃)とすることが好ましく、他方、前記加熱温度の下限を80℃(より好ましくは100℃、更に好ましくは110℃)とすることが好ましい。このような加熱の際の温度範囲(温度条件)としては、80〜180℃とすることが好ましく、80〜150℃とすることがより好ましく、100〜140℃とすることが更に好ましく、110〜130℃とすることが特に好ましい。このような温度条件が前記下限未満では反応が十分に進行せず、目的とするテトラカルボン酸二無水物を十分に効率よく製造することができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると触媒活性が低下する傾向にある。また、このような加熱温度は、上記温度条件の範囲内において、前記均一系酸触媒の沸点よりも低い温度に設定することが好ましい。このように加熱温度を設定することにより、より効率よく生成物を得ることができる。   The temperature condition for heating the carbonyl compound represented by the general formula (8) in the lower carboxylic acid is not particularly limited, but the upper limit of the heating temperature is 180 ° C. (more preferably 150 ° C., still more preferably). Is preferably 140 ° C., particularly preferably 130 ° C., while the lower limit of the heating temperature is preferably 80 ° C. (more preferably 100 ° C., still more preferably 110 ° C.). As a temperature range (temperature condition) at the time of such heating, it is preferable to set it as 80-180 degreeC, It is more preferable to set it as 80-150 degreeC, It is further more preferable to set it as 100-140 degreeC, 110-110 A temperature of 130 ° C. is particularly preferable. If the temperature condition is less than the lower limit, the reaction does not proceed sufficiently, and the target tetracarboxylic dianhydride tends to be unable to be produced sufficiently efficiently. The activity tends to decrease. Further, such a heating temperature is preferably set to a temperature lower than the boiling point of the homogeneous acid catalyst within the range of the temperature condition. By setting the heating temperature in this way, the product can be obtained more efficiently.

また、前記加熱工程においては、より効率よくカルボン酸無水物を生成するといった観点から、前記混合物(前記低級カルボン酸、前記カルボニル化合物及び前記酸触媒の混合物)を加熱により還流する工程を含んでいてもよい。このように、前記加熱工程に還流工程を含むことにより、より効率よくカルボン酸無水物を製造することが可能となる。すなわち、前記加熱工程において、加熱の初期段階においては、反応が十分に進行していないため、水等の副生成物がほとんど生成されていないこととなる。したがって、反応がある程度進むまでの間(加熱の初期段階)は、留出成分(蒸気)を除去しなくても、副生成物(水等)の影響をそれほど受けることなく、カルボン酸二無水物を製造する正反応を効率よく進行させることが可能である。そのため、特に、加熱の初期段階においては、還流することで低級カルボン酸をより効率よく利用して正反応を効率よく進行させることが可能となり、これによりカルボン酸無水物をより効率よく生成することが可能となる。   In addition, the heating step includes a step of refluxing the mixture (mixture of the lower carboxylic acid, the carbonyl compound, and the acid catalyst) by heating from the viewpoint of more efficiently generating a carboxylic acid anhydride. Also good. Thus, it becomes possible to manufacture a carboxylic anhydride more efficiently by including a refluxing step in the heating step. That is, in the heating step, in the initial stage of heating, since the reaction does not proceed sufficiently, by-products such as water are hardly generated. Therefore, until the reaction proceeds to some extent (initial stage of heating), the carboxylic acid dianhydride is not significantly affected by by-products (water, etc.) without removing the distillate component (steam). It is possible to efficiently proceed the positive reaction for producing. Therefore, in particular, in the initial stage of heating, it becomes possible to efficiently use the lower carboxylic acid by refluxing to allow the forward reaction to proceed efficiently, thereby producing the carboxylic acid anhydride more efficiently. Is possible.

ここで、前記正反応の進行の程度は、蒸気中に含まれている副生成物(例えば水や低級カルボン酸のエステル化合物)の量等を確認することにより判断することができる。そのため、還流工程を施す場合には、蒸気中の副生成物(例えば低級カルボン酸のエステル化合物)の量等を確認しながら、効率よく反応が進行するように還流時間を適宜設定し、その後、加熱しながら留出成分の除去工程を施してもよい。このようにして留出成分の除去工程を施すことにより、反応系から副生成物(例えば低級カルボン酸のエステル化合物及び水)を除去することができ、前記正反応をより効率よく進行させることが可能となる。また、前記留出成分の除去工程時には、留出成分(蒸気)を適宜留去した場合に低級カルボン酸が減少する場合(例えば、副生成物として、低級カルボン酸のエステル化合物と水とが生成されて、カルボン酸が消費され、その蒸気を留去することで、結果的にカルボン酸が減少するような場合等)には、その減少した分の低級カルボン酸を適宜追加(場合により連続的に追加)して加熱を行うことが好ましい。このようにして、低級カルボン酸を追加(場合により連続的に追加)することで、例えば、前記カルボニル化合物が、前記一般式(8)で表されかつ該式中のRが水素原子以外の基である化合物である場合等には、正反応を更に効率よく進行せしめることが可能となる。 Here, the degree of progress of the positive reaction can be determined by confirming the amount of by-products (for example, water or an ester compound of lower carboxylic acid) contained in the steam. Therefore, when the reflux step is performed, the reflux time is appropriately set so that the reaction proceeds efficiently while confirming the amount of by-products in the steam (for example, an ester compound of a lower carboxylic acid), You may perform the removal process of a distilling component, heating. By performing the distilling component removal step in this manner, by-products (eg, ester compounds of lower carboxylic acid and water) can be removed from the reaction system, and the positive reaction can proceed more efficiently. It becomes possible. Further, in the step of removing the distillate component, when the distillate component (vapor) is appropriately distilled off, the lower carboxylic acid is reduced (for example, a lower carboxylic acid ester compound and water are formed as by-products). When the carboxylic acid is consumed and the vapor is distilled off, resulting in a decrease in the carboxylic acid, etc.), the reduced amount of the lower carboxylic acid is appropriately added (in some cases, continuously). It is preferable to carry out heating. In this way, by adding a lower carboxylic acid (in some cases, continuously added), for example, the carbonyl compound is represented by the general formula (8), and R 6 in the formula is other than a hydrogen atom. In the case of a compound that is a group, the positive reaction can proceed more efficiently.

また、このような加熱工程が前記混合物を還流する工程を含む場合、その還流の条件は特に制限されず、公知の条件を適宜採用でき、用いるカルボニル化合物(原料化合物)の種類等に応じて好適な条件に適宜変更することができる。   In addition, when such a heating step includes a step of refluxing the mixture, the reflux conditions are not particularly limited, and known conditions can be appropriately employed, and are suitable according to the type of the carbonyl compound (raw material compound) to be used. Can be appropriately changed to various conditions.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物(原料化合物)を前記低級カルボン酸中において加熱する際の圧力条件(反応時の圧力条件)としては特に制限されず、常圧下であっても、加圧条件下であっても或は減圧条件下であってもよく、いずれの条件下であっても反応を進行させることが可能である。そのため、加熱工程の際には、例えば、特に圧力を制御せずに、例えば、前述の還流工程を採用する場合には溶媒となる低級カルボン酸の蒸気等による加圧条件下で反応を行ってもよい。また、このような圧力条件としては、0.001〜10MPaとすることが好ましく、0.1〜1.0MPaとすることが更に好ましい。このような圧力条件が前記下限未満では低級カルボン酸が気化してしまう傾向にあり、他方、前記上限を超えると、加熱による反応で生成される低級カルボン酸のエステル化合物が揮発せず、前記正反応が進行しにくくなる傾向にある。   In addition, the pressure condition (pressure condition at the time of reaction) when heating the carbonyl compound (raw material compound) represented by the general formula (8) in the lower carboxylic acid is not particularly limited, In addition, it may be under pressurized conditions or under reduced pressure conditions, and the reaction can proceed under any conditions. Therefore, during the heating step, for example, without particularly controlling the pressure, for example, in the case of adopting the above-described refluxing step, the reaction is performed under a pressurized condition with a vapor of a lower carboxylic acid serving as a solvent. Also good. Moreover, as such a pressure condition, it is preferable to set it as 0.001-10 Mpa, and it is still more preferable to set it as 0.1-1.0 Mpa. If the pressure condition is less than the lower limit, the lower carboxylic acid tends to vaporize. On the other hand, if the pressure condition exceeds the upper limit, the ester compound of the lower carboxylic acid produced by the reaction by heating does not volatilize, and the positive The reaction tends to be difficult to proceed.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱する際の雰囲気ガスとしては特に制限されず、例えば、空気であっても不活性ガス(窒素、アルゴン等)であってもよい。なお、反応で生成する副生成物(低級カルボン酸のエステル化合物や水)を効率良く揮発させ、反応をより効率よく進行させるために(エステル交換の平衡反応を生成系により傾向させるために)、上記のガス(望ましくは窒素、アルゴン等の不活性ガス)をバブリングしてもよく、反応機(反応容器)の気相部に通気させながら撹拌してもよい。   Further, the atmospheric gas for heating the carbonyl compound represented by the general formula (8) in the lower carboxylic acid is not particularly limited. For example, even an air is an inert gas (nitrogen, argon, etc.). It may be. In addition, in order to volatilize by-products (lower carboxylic acid ester compounds and water) generated in the reaction efficiently and to advance the reaction more efficiently (to make the equilibrium reaction of transesterification more prone to the generation system), The above gas (preferably an inert gas such as nitrogen or argon) may be bubbled, or may be agitated while venting the gas phase portion of the reactor (reaction vessel).

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱する際の加熱時間としては、特に制限されないが、0.5〜100時間とすることが好ましく、1〜50時間とすることがより好ましい。このような加熱時間が前記下限未満では反応が十分に進行せず、十分な量のカルボン酸無水物を製造することができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、反応がそれ以上進行せず、生産効率が低下して経済性等が低下する傾向にある。   The heating time for heating the carbonyl compound represented by the general formula (8) in the lower carboxylic acid is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 100 hours, preferably 1 to 50 More preferably, it is time. If the heating time is less than the lower limit, the reaction does not proceed sufficiently, and a sufficient amount of carboxylic anhydride tends to be unable to be produced. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the reaction proceeds further. However, there is a tendency that the production efficiency is lowered and the economy is lowered.

また、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱する際には、均一に反応を進行せしめるという観点から、前記カルボニル化合物が導入された前記低級カルボン酸(より好ましくは前記低級カルボン酸、前記カルボニル化合物及び前記酸触媒の混合物)を撹拌しながら反応を進行せしめてもよい。   In addition, when the carbonyl compound represented by the general formula (8) is heated in the lower carboxylic acid, the lower carboxylic acid (more than The reaction may be allowed to proceed while stirring the mixture of the lower carboxylic acid, the carbonyl compound and the acid catalyst.

さらに、このような前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物を前記低級カルボン酸中において加熱する工程(加熱工程)においては、前記低級カルボン酸とともに無水酢酸を利用することが好ましい。すなわち、本発明においては、前記加熱の際に無水酢酸を利用することが好ましい。このように無水酢酸を利用することにより、反応時に生成された水と無水酢酸とを反応させて酢酸を形成させることが可能となり、反応時に生成される水の除去を効率よく行うことが可能となり、前記正反応をより効率よく進行させることが可能となる。また、このような無水酢酸を利用する場合、該無水酢酸の使用量は特に制限されないが、前記一般式(8)で表されるカルボニル化合物に対して4〜100倍モルとすることが好ましい。このような無水酢酸の使用量が前記下限未満では、反応速度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると収量が低下する傾向にある。   Further, in the step of heating the carbonyl compound represented by the general formula (8) in the lower carboxylic acid (heating step), it is preferable to use acetic anhydride together with the lower carboxylic acid. That is, in the present invention, it is preferable to use acetic anhydride during the heating. By using acetic anhydride in this way, it is possible to react the water produced during the reaction with acetic anhydride to form acetic acid, and to efficiently remove the water produced during the reaction. The positive reaction can be advanced more efficiently. Moreover, when utilizing such acetic anhydride, the usage-amount of this acetic anhydride is although it does not restrict | limit, It is preferable to set it as 4-100 times mole with respect to the carbonyl compound represented by the said General formula (8). When the amount of acetic anhydride used is less than the lower limit, the reaction rate tends to decrease, and when it exceeds the upper limit, the yield tends to decrease.

また、このように無水酢酸を利用する場合においても、加熱の際の温度条件、圧力条件、雰囲気ガスの条件、加熱時間の条件等は、上述の加熱工程において説明した条件を採用することが好ましい。また、このように、無水酢酸を利用する場合、反応時に生成された水と無水酢酸とを反応させて酢酸を形成させることが可能となり、蒸気の留去等を行わなくても、反応時に生成される水の除去を効率よく行うことが可能となるばかりか、無水酢酸と水とから酢酸が形成されて、テトラカルボン酸二無水物が生成される反応(正反応)が、より効率よく進行することとなる。そのため、このように無水酢酸を利用する場合においては、前記加熱工程において、前記還流する工程を採用して、効率よく反応を進行せしめることが可能である。このような観点から、無水酢酸を利用する場合においては前記加熱工程が前記混合物を還流する工程であることが好ましい。このようにして、無水酢酸を利用して還流を施した場合には、その使用量などに応じて蒸気の留去や低級カルボン酸の追加といった工程を施すことなく、還流工程を施すだけで反応を十分に進行せしめることも可能となり、より効率よくテトラカルボン酸二無水物を製造することも可能となる。   Even when acetic anhydride is used in this way, it is preferable to adopt the conditions described in the above heating step for the temperature conditions, pressure conditions, atmospheric gas conditions, heating time conditions, etc. during heating. . In addition, when acetic anhydride is used in this way, it is possible to form acetic acid by reacting water produced during the reaction with acetic anhydride, and it can be produced during the reaction without vapor distillation. Water can be efficiently removed, and the reaction (positive reaction) in which acetic acid is formed from acetic anhydride and water to produce tetracarboxylic dianhydride proceeds more efficiently. Will be. Therefore, in the case of using acetic anhydride in this way, it is possible to efficiently advance the reaction by employing the refluxing step in the heating step. From such a viewpoint, when acetic anhydride is used, the heating step is preferably a step of refluxing the mixture. In this way, when refluxing is performed using acetic anhydride, the reaction can be performed only by performing the refluxing step without performing steps such as distillation of vapor or addition of lower carboxylic acid depending on the amount of use. Can be made to proceed sufficiently, and tetracarboxylic dianhydride can be more efficiently produced.

また、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミンとしては、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が更に向上するという観点から、下記一般式(301)〜(304):   Moreover, as aromatic diamine which has the said carboxyl group, from a viewpoint that the adhesiveness of metal foil (especially copper foil) and a polyimide layer improves further, following general formula (301)-(304):

[式(301)中、R12は、水素原子、メトキシ基及びエトキシ基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される芳香族ジアミンの中から選択される1種であることが好ましく、上記一般式(301)又は(302)で表される基であることがより好ましく、上記一般式(301)で表される基であることが特に好ましい。このようなカルボキシル基を有する芳香族ジアミンとして、市販のものを適宜利用してもよい。
[In the formula (301), R 12 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methoxy group, and an ethoxy group. ]
It is preferable that it is 1 type selected from the aromatic diamine represented by the above-mentioned, it is more preferable that it is group represented by the said general formula (301) or (302), and the said general formula (301) It is particularly preferable that the group is represented. As the aromatic diamine having such a carboxyl group, commercially available products may be used as appropriate.

また、前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとしては特に制限はなく、公知のカルボキシル基を有さない芳香族ジアミンを用いることができるが、耐熱性の観点から、下記一般式(41)〜(44):   Moreover, there is no restriction | limiting in particular as aromatic diamine which does not have the said carboxyl group, Although the well-known aromatic diamine which does not have a carboxyl group can be used, from a heat resistant viewpoint, following General formula (41)- (44):

[式(43)中、R13は上記一般式(23)中のR13と同義であり、式(44)中、Qは上記一般式(24)中のQと同義である。]
で表される芳香族ジアミンが好ましく、上記一般式(43)又は(44)で表される芳香族ジアミンがより好ましく、上記一般式(44)で表される芳香族ジアミンが更に好ましい。このような上記一般式(43)中のR13は上記一般式(23)中のR13と同義であり、その好適なものも上記一般式(23)中のR13の好適なものと同様である。また、上記一般式(44)中のQは上記一般式(24)中のQと同義であり、その好適なものも上記一般式(24)中のQの好適なものと同様である。このようなカルボキシル基を有さない芳香族ジアミンの中でも、耐熱性及び金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性が更に向上するという観点から、下記一般式(401):
[In formula (43), R 13 has the same meaning as R 13 in general formula (23), and in formula (44), Q has the same meaning as Q in general formula (24). ]
The aromatic diamine represented by the general formula (43) or (44) is more preferable, and the aromatic diamine represented by the general formula (44) is more preferable. Such R 13 in the general formula (43) has the same meaning as R 13 in the general formula (23), and its preferable one is the same as the preferable one of R 13 in the general formula (23). It is. Further, Q in the general formula (44) has the same meaning as Q in the general formula (24), and the preferable one thereof is the same as the preferable one of Q in the general formula (24). Among such aromatic diamines having no carboxyl group, from the viewpoint of further improving the heat resistance and the adhesion between the metal foil (especially copper foil) and the polyimide layer, the following general formula (401):

で表される芳香族ジアミンが特に好ましい。また、このようなカルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとして、市販のものを適宜利用してもよい。 The aromatic diamine represented by these is especially preferable. Moreover, you may utilize suitably a commercially available thing as such aromatic diamine which does not have a carboxyl group.

このような金属張積層板の製造方法において、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとの使用割合は、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミン中の全アミノ基1当量に対して、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基を0.2〜2当量とすることが好ましく、0.3〜1.2当量とすることがより好ましい。このような使用割合が前記下限未満では重合反応が効率よく進行せず、高分子量のポリアミド酸が得られない傾向にあり、他方、前記上限を超えると前記と同様に高分子量のポリアミド酸が得られない傾向にある。   In such a method for producing a metal-clad laminate, a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3), an aromatic diamine having the carboxyl group, and an aromatic diamine having no carboxyl group, The ratio of use of tetracarboxylic dianhydride represented by the above general formula (3) with respect to 1 equivalent of all amino groups in the aromatic diamine having a carboxyl group and the aromatic diamine having no carboxyl group The acid anhydride group of the product is preferably 0.2 to 2 equivalents, more preferably 0.3 to 1.2 equivalents. When such a use ratio is less than the lower limit, the polymerization reaction does not proceed efficiently, and a high molecular weight polyamic acid tends not to be obtained. On the other hand, when the upper limit is exceeded, a high molecular weight polyamic acid is obtained as described above. It tends to be impossible.

また、このような金属張積層板の製造方法において、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミンの混合割合は、ジアミンの全量100モル%に対して、1〜50モル%であることが好ましく、2〜30モル%であることがより好ましく、3〜20モル%であることが更に好ましく、3〜10モル%であることが特に好ましい。これにより、上記一般式(1)で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)を上記比率で含有するポリイミド層を形成することができる。また、前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンの混合割合は、ジアミンの全量100モル%に対して、50〜99モル%が好ましく、70〜98モル%がより好ましく、80〜97モル%が更に好ましく、90〜97モル%が特に好ましい。これにより、上記一般式(2)で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)を上記比率で含有するポリイミド層を形成することができる。   Moreover, in the manufacturing method of such a metal-clad laminated board, it is preferable that the mixing ratio of the aromatic diamine which has the said carboxyl group is 1-50 mol% with respect to the total amount of diamine 100 mol%, It is more preferably 30 mol%, further preferably 3 to 20 mol%, particularly preferably 3 to 10 mol%. Thereby, the polyimide layer which contains the repeating unit (A) which has a carboxyl group represented by the said General formula (1) with the said ratio can be formed. The mixing ratio of the aromatic diamine having no carboxyl group is preferably 50 to 99 mol%, more preferably 70 to 98 mol%, and more preferably 80 to 97 mol% with respect to 100 mol% of the total amount of diamine. More preferably, 90 to 97 mol% is particularly preferable. Thereby, the polyimide layer which contains the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by the said General formula (2) by the said ratio can be formed.

さらに、このような金属張積層板の製造方法においては、本発明の効果を損なわない範囲において、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物以外の他のテトラカルボン酸二無水物を混合してもよい。このような他のテトラカルボン酸二無水物としては、特に制限されず、ポリイミドを構成することが可能な公知の他のテトラカルボン酸二無水物を適宜利用できる。このような他のテトラカルボン酸二無水物の混合割合としては、ポリイミド層の耐熱性、透明性の観点から、テトラカルボン酸二無水物の全量100モル%に対して、50モル%以下が好ましく、25モル%以下がより好ましく、10モル%以下が更に好ましく、5モル%以下が特に好ましく、0モル%が最も好ましい。   Furthermore, in the method for producing such a metal-clad laminate, other tetracarboxylic dianhydrides other than the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) are within the range not impairing the effects of the present invention. You may mix things. Such other tetracarboxylic dianhydrides are not particularly limited, and other known tetracarboxylic dianhydrides capable of constituting polyimide can be appropriately used. The mixing ratio of such other tetracarboxylic dianhydrides is preferably 50 mol% or less with respect to 100 mol% of the total amount of tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of heat resistance and transparency of the polyimide layer. 25 mol% or less is more preferable, 10 mol% or less is more preferable, 5 mol% or less is particularly preferable, and 0 mol% is most preferable.

また、このような金属張積層板の製造方法においては、本発明の効果を損なわない範囲において、芳香族ジアミン以外の他のジアミンを混合してもよい。このような他のジアミンとしては、特に制限されず、ポリイミドを構成することが可能な公知の他のジアミンを適宜利用できる。このような他のジアミンの混合割合としては、ポリイミド層の耐熱性、金属箔(特に、銅箔)との密着性、透明性の観点から、ジアミンの全量100モル%に対して、50モル%以下が好ましく、25モル%以下がより好ましく、10モル%以下が更に好ましく、5モル%以下が特に好ましく、0モル%が最も好ましい。   Moreover, in the manufacturing method of such a metal-clad laminated board, you may mix other diamines other than aromatic diamine in the range which does not impair the effect of this invention. Such other diamines are not particularly limited, and other known diamines that can constitute polyimide can be appropriately used. As a mixing ratio of such other diamines, from the viewpoint of heat resistance of the polyimide layer, adhesion to metal foil (especially copper foil) and transparency, 50 mol% with respect to 100 mol% of the total amount of diamine. Or less, more preferably 25 mol% or less, still more preferably 10 mol% or less, particularly preferably 5 mol% or less, and most preferably 0 mol%.

上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとの反応に用いられる前記重合溶媒としては、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンの全てを溶解することが可能な有機溶媒であることが好ましい。このような有機溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、プロピレンカーボネート、テトラメチル尿素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ピリジンなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒;テトラハイドロフラン、ジオキサン、セロソルブ、グライム、ジグライムなどのエーテル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒;シクロペンタノンやシクロヘキサノン等のケトン系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒などが挙げられる。このような重合溶媒(有機溶媒)は、1種を単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。   As said polymerization solvent used for reaction with the tetracarboxylic dianhydride represented by the said General formula (3), the aromatic diamine which has the said carboxyl group, and the aromatic diamine which does not have the said carboxyl group, said general It is preferably an organic solvent capable of dissolving all of the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (3), the aromatic diamine having a carboxyl group, and the aromatic diamine having no carboxyl group. . Examples of such an organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, propylene carbonate, tetramethylurea, 1,3- Aprotic polar solvents such as dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoric triamide, pyridine; phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol; tetrahydrofuran, dioxane, cellosolve, glyme And ether solvents such as diglyme; aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; ketone solvents such as cyclopentanone and cyclohexanone; and nitrile solvents such as acetonitrile and benzonitrile. Such polymerization solvents (organic solvents) may be used alone or in combination of two or more.

さらに、このような重合反応における前記重合溶媒(有機溶媒)の使用量としては、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミンと前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンの総量が、反応溶液の全量に対して1〜80質量%(より好ましくは5〜50質量%)になるような量であることが好ましい。このような有機溶媒の使用量が前記下限未満では効率よくポリアミド酸を得ることができなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると高粘度化により撹拌が困難となる傾向にある。   Furthermore, as the usage-amount of the said polymerization solvent (organic solvent) in such a polymerization reaction, the tetracarboxylic dianhydride represented by the said General formula (3), the aromatic diamine which has the said carboxyl group, and the said carboxyl group It is preferable that the total amount of the aromatic diamine not having the amount is 1 to 80% by mass (more preferably 5 to 50% by mass) with respect to the total amount of the reaction solution. If the amount of such an organic solvent used is less than the lower limit, it tends to be impossible to obtain polyamic acid efficiently. On the other hand, if it exceeds the upper limit, stirring tends to be difficult due to the increase in viscosity.

本発明の金属張積層板を製造するための方法において、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとを反応させる方法としては、特に制限されず、テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの反応を行うことが可能な公知の方法を適宜採用でき、例えば、大気圧の条件で、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気下において、前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンを溶媒に溶解させた後、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物を添加し、その後、10〜48時間反応させる方法を採用してもよい。また、このような反応に際しては温度条件を15〜100℃程度とすることが好ましい。このような反応時間や反応温度が前記下限未満では十分に反応させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合物を劣化させる物質(酸素等)の混入確率が高まり分子量が低下する傾向にある。   In the method for producing the metal-clad laminate of the present invention, the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3), the aromatic diamine having the carboxyl group, and the aromatic not having the carboxyl group The method for reacting with diamine is not particularly limited, and a known method capable of reacting tetracarboxylic dianhydride with aromatic diamine can be appropriately employed. For example, nitrogen, After dissolving the aromatic diamine having a carboxyl group and the aromatic diamine having no carboxyl group in a solvent under an inert atmosphere such as helium or argon, the tetracarboxylic acid represented by the general formula (3) is used. You may employ | adopt the method of adding an acid dianhydride and making it react for 10 to 48 hours after that. In such a reaction, the temperature condition is preferably about 15 to 100 ° C. If the reaction time or reaction temperature is less than the lower limit, it tends to be difficult to cause sufficient reaction. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the probability of mixing a substance (such as oxygen) that degrades the polymer increases and the molecular weight increases. It tends to decrease.

また、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとを反応させる際に、反応速度の向上と高重合度のポリアミド酸を得るという観点から、前記重合溶媒中に塩基性化合物を更に添加してもよい。このような塩基性化合物としては特に制限されないが、例えば、トリエチルアミン、テトラブチルアミン、テトラヘキシルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデセン−7、ピリジン、イソキノリン、α−ピコリン等が挙げられる。また、このような塩基性化合物の使用量は、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物1当量に対して、0.001〜10当量とすることが好ましく、0.01〜0.1当量とすることがより好ましい。このような塩基性化合物の使用量が前記下限未満では添加効果が発現しない傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色等の原因になる傾向にある。   In addition, when the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3) is reacted with the aromatic diamine having the carboxyl group and the aromatic diamine not having the carboxyl group, the reaction rate is improved. From the viewpoint of obtaining a polyamic acid having a high degree of polymerization, a basic compound may be further added to the polymerization solvent. Examples of such basic compounds include, but are not limited to, triethylamine, tetrabutylamine, tetrahexylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undecene-7, pyridine, isoquinoline, α-picoline, and the like. Can be mentioned. Moreover, it is preferable that the usage-amount of such a basic compound shall be 0.001-10 equivalent with respect to 1 equivalent of tetracarboxylic dianhydrides represented by the said General formula (3), 0.01 It is more preferable to set it to -0.1 equivalent. If the amount of such a basic compound used is less than the above lower limit, the effect of addition tends not to be exhibited. On the other hand, if it exceeds the upper limit, it tends to cause coloring or the like.

このようにして形成されるポリイミド酸は、固有粘度[η]が0.05〜3.0dL/gであることが好ましく、0.1〜2.0dL/gであることがより好ましい。このような固有粘度[η]が前記下限より小さいと、これを用いて形成したポリイミド層が脆くなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、粘度が高すぎて加工性が低下し、均一なポリイミド層を形成することが困難となる傾向にある。   The polyimide acid thus formed preferably has an intrinsic viscosity [η] of 0.05 to 3.0 dL / g, and more preferably 0.1 to 2.0 dL / g. When the intrinsic viscosity [η] is smaller than the lower limit, a polyimide layer formed using the same tends to be brittle. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the viscosity is too high and the workability is lowered, and the uniform It tends to be difficult to form a simple polyimide layer.

また、このようなポリアミド酸の固有粘度[η]は、以下のようにして測定することができる。すなわち、先ず、溶媒としてN,N−ジメチルアセトアミドを用い、そのN,N−ジメチルアセトアミド中に前記ポリアミド酸を濃度が0.5g/dLとなるようにして溶解させて、測定試料(溶液)を得る。次に、前記測定試料を用いて、30℃の温度条件下において動粘度計を用いて、前記測定試料の粘度を測定し、求められた値を固有粘度[η]として採用する。なお、このような動粘度計としては、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用いる。   The intrinsic viscosity [η] of such polyamic acid can be measured as follows. That is, first, N, N-dimethylacetamide is used as a solvent, and the polyamic acid is dissolved in the N, N-dimethylacetamide so as to have a concentration of 0.5 g / dL, and a measurement sample (solution) is obtained. obtain. Next, using the measurement sample, the viscosity of the measurement sample is measured using a kinematic viscometer under a temperature condition of 30 ° C., and the obtained value is adopted as the intrinsic viscosity [η]. In addition, as such a kinematic viscometer, an automatic viscosity measuring apparatus (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd. is used.

このような金属張積層板の製造方法において、前記金属箔上に前記ポリアミド酸の溶液を塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、滴下法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、凸版印刷法、ダイコート法、カーテンコート法、インクジェット法等の公知の方法を適宜採用することができる。   In such a method for producing a metal-clad laminate, the method for applying the polyamic acid solution on the metal foil is not particularly limited. For example, spin coating, spray coating, dip coating, dropping, Known methods such as a gravure printing method, a screen printing method, a relief printing method, a die coating method, a curtain coating method, and an ink jet method can be appropriately employed.

また、このような金属張積層板の製造方法において、前記ポリアミド酸をイミド化する方法も特に制限されず、ポリアミド酸をイミド化し得る方法であればよく、特に制限されず、公知の方法を適宜採用することができる。このようなポリアミド酸をイミド化する方法としては、例えば、前記ポリアミド酸を60〜400℃(より好ましくは150〜350℃)の温度条件で加熱処理を施すことによりイミド化する方法や、いわゆる「イミド化剤」を用いてイミド化する方法を採用することが好ましい。   Further, in such a method for producing a metal-clad laminate, the method for imidizing the polyamic acid is not particularly limited, and may be any method that can imidize polyamic acid, and is not particularly limited. Can be adopted. As a method for imidizing such a polyamic acid, for example, a method of imidizing the polyamic acid by subjecting the polyamic acid to a heat treatment at a temperature of 60 to 400 ° C. (more preferably 150 to 350 ° C.) or so-called “ It is preferable to employ a method of imidization using an “imidating agent”.

このような加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用する場合において、前記加熱温度が前記下限未満では反応の進行が遅れる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色したり、熱分解による分子量低下などが起きたりする傾向にある。また、加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用する場合の反応時間(加熱時間)は0.5〜5時間とすることが好ましい。このような反応時間が前記下限未満では十分にイミド化することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると着色したり、熱分解による分子量低下などが起きる傾向にある。   In the case of adopting a method for imidizing by performing such a heat treatment, if the heating temperature is less than the lower limit, the progress of the reaction tends to be delayed, and on the other hand, if the upper limit is exceeded, coloring or thermal decomposition occurs. There is a tendency for molecular weight to decrease. Moreover, it is preferable that reaction time (heating time) in the case of employ | adopting the method to imidize by heat-processing shall be 0.5 to 5 hours. If such a reaction time is less than the lower limit, it tends to be difficult to sufficiently imidize. On the other hand, if it exceeds the upper limit, it tends to be colored or decrease in molecular weight due to thermal decomposition.

また、いわゆる「イミド化剤」を利用してイミド化する方法を採用する場合、イミド化剤の存在下、溶媒中で前記ポリアミド酸をイミド化することが好ましい。このような溶媒としては前記重合反応に用いる重合溶媒(有機溶媒)と同様のものを好適に用いることができる。   Moreover, when employ | adopting the method of imidating using what is called an "imidating agent", it is preferable to imidize the said polyamic acid in a solvent in presence of an imidizing agent. As such a solvent, the thing similar to the polymerization solvent (organic solvent) used for the said polymerization reaction can be used conveniently.

このようなイミド化剤としては、公知のイミド化剤を適宜利用することができ、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、N−メチルピペリジンなどの3級アミンなどを挙げることができる。また、イミド化剤を添加してイミド化する場合におけるイミド化の際の反応温度は、0〜180℃であることが好ましく、30〜150℃であることがより好ましい。また、反応時間は0.1〜48時間とすることが好ましい。このような反応温度や時間が前記下限未満では十分にイミド化することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると重合物を劣化させる物質(酸素等)の混入確率が高まり分子量が低下する傾向にある。また、このようなイミド化剤の使用量としては、特に制限されず、ポリアミド酸中の上記一般式(4)で表される繰り返し単位と上記一般式(5)で表される繰り返し単位の合計1モルに対して数ミリモル〜数モル(好ましくは0.05〜4.0モル程度)とすればよい。   As such an imidizing agent, a known imidizing agent can be appropriately used. For example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride, pyridine, collidine, lutidine, triethylamine, N -Tertiary amines such as methylpiperidine can be mentioned. Moreover, it is preferable that the reaction temperature in the case of imidation in the case of imidating by adding an imidizing agent is 0-180 degreeC, and it is more preferable that it is 30-150 degreeC. The reaction time is preferably 0.1 to 48 hours. If the reaction temperature or time is less than the lower limit, it tends to be difficult to sufficiently imidize. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the mixing probability of a substance (such as oxygen) that degrades the polymer increases, and the molecular weight increases. It tends to decrease. The amount of the imidizing agent used is not particularly limited, and is the total of the repeating unit represented by the general formula (4) and the repeating unit represented by the general formula (5) in the polyamic acid. What is necessary is just to make it several millimoles-several mol (preferably about 0.05-4.0 mol) with respect to 1 mol.

また、このようなイミド化剤を用いた化学イミド化に際しては、前記イミド化剤として、縮合剤(カルボン酸無水物、カルボジイミド、酸アジド、活性エステル化剤等)と反応促進剤(三級アミン等)とを組み合わせたもの(併用したもの)を用いることが好ましい。このように、縮合剤(カルボン酸無水物、カルボジイミド、酸アジド、活性エステル化剤等のいわゆる脱水縮合剤)と反応促進剤(三級アミン等)とを組み合わせて用いることで、低温の条件下(より好ましくは100℃以下程度の温度条件下)で、ポリアミド酸をより効率よく脱水閉環してイミド化することが可能となる。   In the case of chemical imidization using such an imidizing agent, as the imidizing agent, a condensing agent (carboxylic anhydride, carbodiimide, acid azide, active esterifying agent, etc.) and a reaction accelerator (tertiary amine) are used. Etc.) is preferably used (a combination thereof). In this way, a combination of a condensing agent (a so-called dehydrating condensing agent such as carboxylic acid anhydride, carbodiimide, acid azide, and active esterifying agent) and a reaction accelerator (tertiary amine, etc.) can be used under low temperature conditions. (More preferably, under a temperature condition of about 100 ° C. or less), the polyamic acid can be more efficiently dehydrated and closed and imidized.

このような縮合剤としては、特に制限されないが、例えば、無水酢酸や無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などのカルボン酸無水物、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)などのカルボジイミド、ジフェニルリン酸アジド(DPPA)などの酸アジド、カストロ試薬などの活性エステル化剤、2−クロロ−4,6−ジメトキシトリアジン(CDMT)などの脱水縮合剤を挙げることができる。このような縮合剤の中でも、反応性、入手性、実用性の観点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸が好ましく、無水酢酸、無水プロピオン酸がより好ましく、無水酢酸が更に好ましい。このような縮合剤は1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Such a condensing agent is not particularly limited, and examples thereof include carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride, carbodiimides such as N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), and diphenyl phosphoric acid. Examples thereof include acid azides such as azide (DPPA), active esterifying agents such as Castro reagent, and dehydrating condensation agents such as 2-chloro-4,6-dimethoxytriazine (CDMT). Among such condensing agents, acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride are preferable, acetic anhydride and propionic anhydride are more preferable, and acetic anhydride is still more preferable from the viewpoint of reactivity, availability, and practicality. Such condensing agents may be used alone or in combination of two or more.

また、前記反応促進剤としては、前記ポリアミド酸を縮合させてポリイミドとする際に利用することが可能なものであればよく、公知の化合物を適宜利用することができる。このような反応促進剤は、反応中に副生する酸を補足する酸補足剤としても機能し得る。そのため、このような反応促進剤を用いることで、反応の加速と副生する酸による逆反応が抑制され、より効率よく反応を進行せしめることが可能となる。このような反応促進剤としては、特に制限されないが、酸補足剤としての機能も兼ねるものがより好ましく、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジン、コリジン、ルチジン、2−ヒドロキシピリジン、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO),ジアザビシクロノネン(DBN)、ジアザビシクロウンデセン(DBU)などの三級アミン等を挙げることができる。このような反応促進剤の中でも、反応性、入手性、実用性の観点から、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジンが好ましく、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジンがより好ましく、トリエチルアミン、N−メチルピペリジンが更に好ましい。このような反応促進剤は1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The reaction accelerator is not particularly limited as long as it can be used when the polyamic acid is condensed to form a polyimide, and a known compound can be appropriately used. Such a reaction accelerator can also function as an acid scavenger that supplements the acid by-produced during the reaction. Therefore, by using such a reaction accelerator, acceleration of the reaction and a reverse reaction due to by-product acid are suppressed, and the reaction can proceed more efficiently. Such a reaction accelerator is not particularly limited, but more preferably also serves as an acid scavenger, such as triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, pyridine, collidine, lutidine, 2-hydroxypyridine, Tertiary amines such as 4-dimethylaminopyridine (DMAP), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), diazabicyclononene (DBN), diazabicycloundecene (DBU), etc. be able to. Among such reaction accelerators, triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, and pyridine are preferable from the viewpoint of reactivity, availability, and practicality, triethylamine, pyridine, and N-methylpiperidine are more preferable, and triethylamine, N -More preferred is methylpiperidine. Such reaction accelerators may be used alone or in combination of two or more.

また、このようなイミド化剤を用いた化学イミド化に際しては、例えば、触媒量の反応促進剤(DMAPなど)と共沸脱水剤(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)を添加して、ポリアミド酸がイミドになる際に生じる水を共沸脱水により除去して、化学イミド化してもよい。このように、化学イミド化(イミド化剤を用いたイミド化)に際しては、前記反応促進剤とともに、共沸脱水剤を適宜利用してもよい。このような共沸脱水剤としては特に制限されず、反応に用いる材料の種類等に応じて、公知の共沸脱水剤の中から適宜選択して利用すればよい。   In the case of chemical imidization using such an imidizing agent, for example, a catalytic amount of a reaction accelerator (DMAP, etc.) and an azeotropic dehydrating agent (benzene, toluene, xylene, etc.) are added to form a polyamic acid. The water generated when the imide is formed may be removed by azeotropic dehydration to perform chemical imidization. Thus, in chemical imidization (imidation using an imidizing agent), an azeotropic dehydrating agent may be appropriately used together with the reaction accelerator. Such an azeotropic dehydrating agent is not particularly limited, and may be appropriately selected from known azeotropic dehydrating agents according to the type of material used in the reaction.

また、このような金属張積層板の製造方法において、加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用する場合には、重合溶媒(有機溶媒)中で、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物類と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとを反応させ、生成したポリアミド酸をイミド化する前に単離することなく、得られた反応液(前記ポリアミド酸を含む反応液)をそのまま用い、前記反応液を金属箔上に塗布した後、乾燥処理を施して溶媒を除去し、前記加熱処理を施すことによりイミド化する方法を採用してもよい。このような方法における乾燥処理の温度条件としては0〜180℃であることが好ましく、30〜150℃であることがより好ましい。このような乾燥処理における温度条件が前記下限未満では溶媒を十分に蒸発させて除去することが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると溶媒が沸騰し気泡やボイドを含むフィルムになる傾向にある。なお、前記反応液の塗布方法としては特に制限されず、公知の方法(キャスト法など)を適宜採用することができる。また、前記反応液から前記ポリアミド酸を単離して利用してもよく、その場合、ポリアミド酸の単離方法としては特に制限されず、ポリアミド酸を単離することが可能な公知の方法を適宜採用することができ、例えば、再沈殿物として単離する方法などを採用してもよい。   Moreover, in the manufacturing method of such a metal clad laminated board, when employ | adopting the method of imidating by performing heat processing, it represents with the said General formula (3) in a polymerization solvent (organic solvent). It can be obtained without reacting tetracarboxylic dianhydrides with the aromatic diamine having a carboxyl group and the aromatic diamine having no carboxyl group and isolating the resulting polyamic acid before imidization. The reaction solution (the reaction solution containing the polyamic acid) is used as it is, and after the reaction solution is applied onto a metal foil, the solvent is removed by drying treatment and imidization is performed by performing the heat treatment. It may be adopted. The temperature condition for the drying treatment in such a method is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 30 to 150 ° C. If the temperature condition in such a drying process is less than the lower limit, it tends to be difficult to sufficiently evaporate and remove the solvent. On the other hand, if the temperature exceeds the upper limit, the solvent boils and becomes a film containing bubbles and voids. There is a tendency. In addition, it does not restrict | limit especially as a coating method of the said reaction liquid, A well-known method (cast method etc.) can be employ | adopted suitably. In addition, the polyamic acid may be isolated from the reaction solution and used. In that case, the polyamic acid isolation method is not particularly limited, and a known method capable of isolating the polyamic acid is appropriately used. For example, a method of isolating as a reprecipitate may be employed.

一方、「イミド化剤」を利用してイミド化する方法を採用する場合には、「イミド化剤」を利用してイミド化する方法がそもそも溶媒(より好ましくは前記重合溶媒)中でイミド化することが好ましい方法であることから、例えば、有機溶媒(重合溶媒)中で、上記一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物類と前記カルボキシル基を有する芳香族ジアミン及び前記カルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとを反応させ、生成したポリアミド酸をイミド化する前に単離することなく、得られた反応液(前記ポリアミド酸を含む反応液)をそのまま用い、前記反応液にイミド化剤を添加した後、金属箔上に塗布してイミド化する方法を好適に採用することができる。   On the other hand, when a method of imidizing using an “imidating agent” is adopted, the method of imidizing using an “imidizing agent” is originally imidized in a solvent (more preferably, the polymerization solvent). Therefore, for example, in an organic solvent (polymerization solvent), the tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (3), the aromatic diamine having the carboxyl group, and the carboxyl The reaction solution (the reaction solution containing the polyamic acid) is used as it is without reacting with an aromatic diamine not having a group and isolating the produced polyamic acid before imidization. A method of applying an imidizing agent to the metal foil and then imidizing it by coating on a metal foil can be suitably employed.

また、「イミド化剤(好ましくは縮合剤及び反応促進剤を組み合わせたもの)」を利用してイミド化する方法を採用する場合に用いる溶媒としては、上述のような観点(前記反応液をそのまま用いるといった観点)から、前記重合溶媒が好ましく、中でも、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシドなどであることが好ましく、N,N−ジメチルアセトアミドであることがより好ましい。このような重合溶媒は、1種を単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。   Moreover, as a solvent used when adopting a method for imidizing using an “imidating agent (preferably a combination of a condensing agent and a reaction accelerator)”, the above-mentioned viewpoint (the reaction solution as it is) is used. From the viewpoint of use, the polymerization solvent is preferable, and among them, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide And N, N-dimethylacetamide is more preferable. Such polymerization solvents may be used alone or in combination of two or more.

また、前記反応液(前記ポリアミド酸を含む反応液)をそのまま用いて、前記反応液にイミド化剤を添加してイミド化する場合においては、有機溶媒(重合溶媒)は、沸点が20℃以上のものであることが好ましく、50〜250℃のものであることが好ましい。このような沸点が前記下限未満では大気圧下、常温での重合が困難となり、加圧下や低温下という特殊な条件下で実施しなくてはならない傾向にあり、他方、前記上限を超えると粉体状のポリイミドを得た場合に、その洗浄後、乾燥する工程において、かかる有機溶媒(溶剤)を除去することが困難となり、得られるポリイミド中に溶剤が残存してしまう傾向にある。   In the case where the reaction solution (the reaction solution containing the polyamic acid) is used as it is and imidized by adding an imidizing agent to the reaction solution, the organic solvent (polymerization solvent) has a boiling point of 20 ° C. or higher. It is preferable that it is a thing of 50-250 degreeC. If the boiling point is less than the above lower limit, polymerization at atmospheric pressure and room temperature becomes difficult, and there is a tendency to be carried out under special conditions such as under pressure and low temperature. When a body-like polyimide is obtained, it is difficult to remove the organic solvent (solvent) in the step of drying after washing, and the solvent tends to remain in the resulting polyimide.

また、イミド化剤として、縮合剤及び反応促進剤を組み合わせたものを利用する場合においては、化学イミド化の際の温度条件は、−40℃〜200℃とすることが好ましく、−20℃〜150℃とすることがより好ましく、0〜150℃とすることが更に好ましく、50〜100℃とすることが特に好ましい。このような温度が前記上限を超えると望ましくない副反応が進行しポリイミドが得られない傾向にあり、他方、前記下限未満では化学イミド化の反応速度が低下したり、反応自体が進行しなくなりポリイミドが得られない傾向にある。このように、縮合剤及び反応促進剤を組み合わせて利用する場合には、−40℃〜200℃といった比較的低温の温度域でイミド化することが可能であるため、環境負荷をより少ないものとすることが可能であり、製造プロセス上も有利な方法とすることが可能である。   Moreover, when using what combined the condensing agent and the reaction accelerator as an imidating agent, it is preferable that the temperature conditions in the case of chemical imidation shall be -40 degreeC-200 degreeC, and -20 degreeC- It is more preferable to set it as 150 degreeC, It is more preferable to set it as 0-150 degreeC, It is especially preferable to set it as 50-100 degreeC. If such a temperature exceeds the upper limit, an undesirable side reaction tends to proceed and polyimide cannot be obtained. On the other hand, if the temperature is lower than the lower limit, the reaction rate of chemical imidation decreases or the reaction itself does not proceed. Tend not to be obtained. As described above, when a condensing agent and a reaction accelerator are used in combination, imidization can be performed in a relatively low temperature range such as −40 ° C. to 200 ° C., so that the environmental load is less. It is possible to make it an advantageous method in the manufacturing process.

また、イミド化剤として、縮合剤及び反応促進剤を組み合わせたものを利用する場合、縮合剤の使用量としては、特に制限されないが、ポリアミド酸中の繰り返し単位1モルに対して0.05〜10.0モルとすることが好ましく、1〜5モルとすることが更に好ましい。このような縮合剤(イミド化剤)の使用量が前記下限未満では化学イミド化の反応速度が低下したり、反応自体が十分に進行しなくなりポリイミドが十分に得られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると望ましくない副反応が進行するなどして、効率よくポリイミドが得られなくなる傾向にある。   Further, when using a combination of a condensing agent and a reaction accelerator as an imidizing agent, the amount of the condensing agent is not particularly limited, but is 0.05 to 1 mol per 1 mol of the repeating unit in the polyamic acid. It is preferable to set it as 10.0 mol, and it is still more preferable to set it as 1-5 mol. If the amount of such a condensing agent (imidizing agent) is less than the lower limit, the reaction rate of chemical imidization tends to decrease, or the reaction itself does not proceed sufficiently and polyimide cannot be obtained sufficiently, When the upper limit is exceeded, an undesirable side reaction proceeds, and thus polyimide cannot be obtained efficiently.

また、イミド化剤として、縮合剤及び反応促進剤を組み合わせたものを利用する場合、前記反応促進剤の使用量としては、特に制限されないが、ポリアミド酸中の繰り返し単位1モルに対して0.05〜4.0モルとすることが好ましく、0.5〜2モルとすることが更に好ましい。このような反応促進剤の使用量が前記下限未満では化学イミド化の反応速度が低下したり、反応自体が十分に進行しなくなりポリイミドが十分に得られなくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると望ましくない副反応が進行するなどして、効率よくポリイミドが得られなくなる傾向にある。   Moreover, when using what combined the condensing agent and the reaction accelerator as an imidation agent, the usage-amount of the said reaction accelerator is although it does not restrict | limit in particular, It is 0.00 with respect to 1 mol of repeating units in a polyamic acid. It is preferable to set it as 05-4.0 mol, and it is still more preferable to set it as 0.5-2 mol. If the amount of the reaction accelerator used is less than the lower limit, the reaction rate of chemical imidization decreases, or the reaction itself does not proceed sufficiently and polyimide cannot be obtained sufficiently. On the other hand, it exceeds the upper limit. As a result, an undesirable side reaction proceeds, and thus polyimide cannot be obtained efficiently.

また、このような化学イミド化を行う際の雰囲気条件としては、空気中の酸素による着色や、空気中の水蒸気による分子量低下を防止するとの観点から、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気や真空下とすることが好ましい。また、このような化学イミド化を行う際の圧力条件としては特に制限されるものではないが、0.01hPa〜1MPaであることが好ましく、0.1hPa〜0.3MPaであることがより好ましい。このような圧力が前記下限未満では、溶剤、縮合剤、反応促進剤が気体化して化学量論性が崩れ、反応に悪影響を与えて、十分に反応を進行させることが困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、望ましくない副反応が進行したり、ポリアミド酸の溶解性が低下してイミド化する前に析出してしまう傾向にある。   In addition, as atmospheric conditions for performing such chemical imidization, from the viewpoint of preventing coloring due to oxygen in the air and molecular weight reduction due to water vapor in the air, an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or under vacuum It is preferable that Moreover, it does not restrict | limit especially as pressure conditions at the time of performing such chemical imidation, However, It is preferable that it is 0.01 hPa-1 MPa, and it is more preferable that it is 0.1 hPa-0.3 MPa. If such pressure is less than the lower limit, the solvent, the condensing agent, and the reaction accelerator are gasified, the stoichiometry is lost, the reaction is adversely affected, and the reaction tends to be difficult to proceed sufficiently. On the other hand, when the above upper limit is exceeded, undesirable side reactions proceed or the solubility of the polyamic acid is lowered and tends to precipitate before imidization.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

先ず、各実施例、各比較例において用いた芳香族ジアミンの化学式とその化合物の略称を以下に示す。   First, chemical formulas of aromatic diamines used in each Example and each Comparative Example and abbreviations of the compounds are shown below.

なお、上記芳香族ジアミンとしてはいずれも市販品(3,5−DABA:日本純良薬品株式会社製、NJM05:日本純良薬品株式会社製、NJM06:日本純良薬品株式会社製、NJM1410:日本純良薬品株式会社製、NJM10:日本純良薬品株式会社製、MBAA:和歌山精化工業株式会社製、BAPP:和歌山精化工業株式会社製)を利用した。   In addition, as said aromatic diamine, all are commercial items (3,5-DABA: Nippon Pure Chemicals Co., Ltd., NJM05: Nippon Pure Chemicals Co., Ltd., NJM06: Nihon Pure Chemicals Co., Ltd., NJM1410: Nippon Pure Chemicals Co., Ltd. NJM10 manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd., MBAA manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd., BAPP manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) were used.

次いで、各実施例、各比較例において得られた銅張積層板等の特性の評価方法について説明する。   Next, a method for evaluating the characteristics of the copper clad laminates obtained in each example and each comparative example will be described.

<分子構造の同定>
各実施例及び各比較例で得られたポリイミドの分子構造の同定は、各実施例及び各比較例で作製したポリイミドフィルムを用い、測定装置としてIR測定機(日本分光株式会社製、商品名:FT/IR−4100)を用いて、IR測定することにより行った。
<Identification of molecular structure>
Identification of the molecular structure of the polyimide obtained in each example and each comparative example uses the polyimide film prepared in each example and each comparative example, and as a measuring device an IR measuring machine (trade name: manufactured by JASCO Corporation). (FT / IR-4100) was used for IR measurement.

<固有粘度[η]の測定>
各実施例及び各比較例において中間体として得られたポリアミド酸の固有粘度[η]の値(単位:dL/g)は、離合社製の自動粘度測定装置(商品名「VMC−252」)を用い、N,N−ジメチルアセトアミドを溶媒とした濃度0.5g/dLの測定試料を用いて30℃の温度条件下において測定した。
<Measurement of intrinsic viscosity [η]>
The value (unit: dL / g) of the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid obtained as an intermediate in each example and each comparative example is an automatic viscosity measuring device (trade name “VMC-252”) manufactured by Koiso Co., Ltd. Was measured at a temperature of 30 ° C. using a measurement sample having a concentration of 0.5 g / dL using N, N-dimethylacetamide as a solvent.

<線膨張係数の測定>
各実施例及び各比較例で得られたポリイミド層の線膨張係数の値(単位:ppm/℃)は、各実施例及び各比較例で作製したポリイミドフィルムに対して真空乾燥(120℃で1時間)を行った後、窒素雰囲気下、200℃で1時間熱処理して得られた乾燥フィルムを測定用試料として用い、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8310」)を利用して、窒素雰囲気下、引張りモード(49mN)、昇温速度5℃/分の条件を採用して、50℃〜200℃における前記試料の長さの変化を測定して、50℃〜200℃の温度範囲における1℃あたりの長さの変化の平均値を求めることにより測定した。
<Measurement of linear expansion coefficient>
The value of the linear expansion coefficient (unit: ppm / ° C.) of the polyimide layer obtained in each example and each comparative example was vacuum-dried (1 at 120 ° C.) with respect to the polyimide film prepared in each example and each comparative example Time), a dry film obtained by heat treatment at 200 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere was used as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8310” manufactured by Rigaku) was used as the measurement device. Utilizing a tension mode (49 mN) under a nitrogen atmosphere and a temperature rising rate of 5 ° C./min, the change in length of the sample at 50 ° C. to 200 ° C. is measured, and 50 ° C. to 200 ° C. It measured by calculating | requiring the average value of the change of the length per 1 degreeC in the temperature range of degreeC.

<軟化点の測定>
各実施例及び各比較例で得られたポリイミドの軟化温度(軟化点)の値(単位:℃)は、各実施例及び各比較例で作製したポリイミドフィルムを窒素雰囲気下、150℃の条件で乾燥した後、縦5mm、横5mm、厚み13μmの大きさに裁断したフィルムを測定用試料として用い、測定装置として熱機械的分析装置(リガク製の商品名「TMA8311」)を使用して、窒素雰囲気下、昇温速度5℃/分、30℃〜550℃の温度範囲(走査温度)の条件で、測定用試料に透明石英製ピン(先端の直径:0.5mm)を500mN圧で針入れすることにより測定した(いわゆるペネトレーション(針入れ)法による測定)。このような測定に際しては、上記測定用試料を利用する以外は、JIS K7196(1991年)に記載の方法に準拠して、測定データに基づいて軟化温度を計算した。
<Measurement of softening point>
The value (unit: ° C) of the softening temperature (softening point) of the polyimide obtained in each example and each comparative example is the same as that of the polyimide film prepared in each example and each comparative example at 150 ° C in a nitrogen atmosphere. After drying, the film was cut into a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 13 μm in thickness as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name “TMA8311” manufactured by Rigaku) was used as the measurement device, and nitrogen was used. A transparent quartz pin (tip diameter: 0.5 mm) is needled into the measurement sample at a pressure of 500 mN under conditions of a temperature rise rate of 5 ° C./min and a temperature range of 30 ° C. to 550 ° C. (scanning temperature). (Measurement by a so-called penetration method). In such measurement, the softening temperature was calculated based on the measurement data in accordance with the method described in JIS K7196 (1991) except that the measurement sample was used.

<5%重量減少温度(Td5%)の測定>
各実施例及び各比較例で得られたポリイミドの5%重量減少温度(Td5%)の値(単位:℃)は、各実施例及び各比較例で作製したポリイミドフィルムを窒素雰囲気下、150℃の条件で乾燥した後、縦5mm、横5mm、厚み13μmの大きさに裁断したフィルムを測定用試料として用い、測定装置として熱重量分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の「TG/DTA220」)を使用して、走査温度を30℃〜550℃に設定して、窒素雰囲気下、窒素ガスを流しながら10℃/min.の条件で加熱して、用いた試料の重量が5%減少する温度を測定することにより求めた。
<Measurement of 5% weight loss temperature (Td 5%)>
The value (unit: ° C.) of 5% weight loss temperature (Td 5%) of the polyimide obtained in each example and each comparative example is 150 ° C. under the nitrogen atmosphere of the polyimide film prepared in each example and each comparative example. After drying under the above conditions, a film cut into a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 13 μm in thickness is used as a measurement sample, and a thermogravimetric analyzer (“TG / DTA220” manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd.) is used as the measurement device. )), The scanning temperature was set to 30 ° C. to 550 ° C., and nitrogen gas was allowed to flow at 10 ° C./min. The temperature was determined by measuring the temperature at which the weight of the sample used was reduced by 5%.

<全光線透過率、ヘイズ(濁度)及び黄色度(YI)の測定>
各実施例及び各比較例で得られたポリイミド層の全光線透過率の値(単位:%)、ヘイズ(濁度:HAZE)及び黄色度(YI)は、各実施例及び各比較例で作製したポリイミドフィルムを用い、測定装置として日本電色工業株式会社製の商品名「ヘーズメーターNDH−5000」を用いて、JIS K7361−1(1997年発行)に準拠した測定を行うことにより求めた。
<Measurement of total light transmittance, haze (turbidity) and yellowness (YI)>
The values of the total light transmittance (unit:%), haze (turbidity: HAZE) and yellowness (YI) of the polyimide layers obtained in each example and each comparative example were prepared in each example and each comparative example. The obtained polyimide film was used, and the product name “Haze Meter NDH-5000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used as a measuring device to perform measurement in accordance with JIS K7361-1 (issued in 1997).

<ピール強度の測定>
各実施例及び各比較例で得られた銅張積層板における銅箔とポリイミド層とのピール強度の値(単位:kg/cm)は、各実施例及び各比較例で製造した銅張積層板を、縦:約100mm、横:約25mmの大きさに裁断した測定用試料を用い、測定装置としてテンシロン型万能試験機(株式会社エー・アンド・ディ製の「UCT−10T」)を用いて、JIS C 6481に準拠して、90度剥離試験法により、引張速度50mm/minの条件で測定した。
<Measurement of peel strength>
The value (unit: kg / cm) of the peel strength between the copper foil and the polyimide layer in the copper clad laminate obtained in each example and each comparative example is the copper clad laminate produced in each example and each comparative example. Using a measurement sample cut into a size of about 100 mm in length: about 25 mm in width, using a Tensilon type universal testing machine (“UCT-10T” manufactured by A & D Co., Ltd.) as a measuring device. In accordance with JIS C 6481, measurement was performed by a 90-degree peel test method at a tensile speed of 50 mm / min.

(合成例1)
<テトラカルボン酸二無水物の合成工程>
先ず、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物(12.3g、75.0mmol)、1,4−ジヨードベンゼン(12.4g、37.5mmol)、酢酸パラジウム(168mg、0.750mmol)及び2−(ジシクロヘキシルホスフィノ)−2’−ジメチルアミノビフェニル(590mg、1.50mmol)を500mLの三口フラスコの内部に導入した後、フラスコ内部の雰囲気ガスを窒素に置換した。次に、前記三口フラスコの内部に、N,N−ジメチルホルムアミド(180mL)、トリエチルアミン(14.6mL、105mmol)及びギ酸(3.96mL、105mmol)を更に添加して、混合液を得た。次いで、前記混合液を80℃の温度条件で6時間撹拌して反応液を得た。なお、得られた反応液中においては、前記酢酸パラジウム(パラジウム触媒)に由来した黒色のパラジウム(Pd(0))の粉末(パラジウム黒)が析出した。
(Synthesis Example 1)
<Synthesis process of tetracarboxylic dianhydride>
First, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride (12.3 g, 75.0 mmol), 1,4-diiodobenzene (12.4 g, 37.5 mmol), palladium acetate (168 mg, 0.750 mmol) And 2- (dicyclohexylphosphino) -2′-dimethylaminobiphenyl (590 mg, 1.50 mmol) were introduced into a 500 mL three-necked flask, and the atmosphere gas inside the flask was replaced with nitrogen. Next, N, N-dimethylformamide (180 mL), triethylamine (14.6 mL, 105 mmol) and formic acid (3.96 mL, 105 mmol) were further added to the inside of the three-necked flask to obtain a mixed solution. Subsequently, the mixed solution was stirred for 6 hours under a temperature condition of 80 ° C. to obtain a reaction solution. In the resulting reaction solution, black palladium (Pd (0)) powder (palladium black) derived from the palladium acetate (palladium catalyst) was deposited.

次に、前記反応液から濾過によりパラジウム黒の粉末を除き、濾液を得た。次いで、前記濾液を60℃で加熱しながら、減圧下で固体(固形分)が析出するまで濃縮して、固体(固形分)が析出した濃縮液を得た。その後、前記濃縮液にメタノール(250mL)を加え、前記固形分をメタノール中に分散させて、25℃の温度条件で3時間撹拌して分散液を得た。次に、前記分散液中に分散した固体を濾過により分離して、得られた固体を真空条件下、80℃の温度条件で3時間静置し、前記固体に付着している溶媒(N,N−ジメチルホルムアミドやメタノール等)を除去して、生成物(3.08g、収率:20.2%)を得た。   Next, palladium black powder was removed from the reaction solution by filtration to obtain a filtrate. Next, while heating the filtrate at 60 ° C., the filtrate was concentrated under reduced pressure until a solid (solid content) was precipitated, thereby obtaining a concentrated liquid in which a solid (solid content) was precipitated. Thereafter, methanol (250 mL) was added to the concentrated solution, and the solid content was dispersed in methanol, followed by stirring at 25 ° C. for 3 hours to obtain a dispersion. Next, the solid dispersed in the dispersion is separated by filtration, and the obtained solid is allowed to stand at 80 ° C. for 3 hours under vacuum conditions, and the solvent (N, N-dimethylformamide, methanol, etc.) were removed to obtain the product (3.08 g, yield: 20.2%).

このようにして得られた生成物(化合物)の構造確認のために、IR測定、NMR測定及びFD−MS測定を行った。その結果、得られた化合物は下記一般式(13):   In order to confirm the structure of the product (compound) thus obtained, IR measurement, NMR measurement and FD-MS measurement were performed. As a result, the obtained compound has the following general formula (13):

で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。なお、このような化合物を得るための反応の概略を反応式(A)に示す。 It was confirmed that it is tetracarboxylic dianhydride represented by. The outline of the reaction for obtaining such a compound is shown in the reaction formula (A).

(実施例1)
<ポリアミド酸の調製工程>
先ず、50mlのスクリュー管をヒートガンで加熱して十分に乾燥させた。次に、十分に乾燥させた前記スクリュー管内の雰囲気ガスを窒素で置換し、前記スクリュー管内を窒素雰囲気とした。次いで、前記スクリュー管に、カルボキシル基を有する芳香族ジアミンとして3,5−ジアミノ安息香酸0.300mmol(0.0456g:3,5−DABA)とカルボキシル基を有さない芳香族ジアミンとして2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン5.70mmol(2.34g:BAPP)と上記一般式(13)で表されるテトラカルボン酸二無水物6.00mmol(2.44g)を導入した後、更に、N,N−ジメチルアセトアミドを19.30g添加して、前記N,N−ジメチルアセトアミド中に前記2種類の芳香族ジアミン(3,5−DABAとBAPPの混合物(3,5−DABAとBAPPのモル比([3,5−DABA]:[BAPP])が5:95))と上記一般式(13)で表されるテトラカルボン酸二無水物を含有する混合液を得た。
Example 1
<Preparation process of polyamic acid>
First, a 50 ml screw tube was heated with a heat gun and sufficiently dried. Next, the atmosphere gas in the screw tube sufficiently dried was replaced with nitrogen, and the inside of the screw tube was set to a nitrogen atmosphere. Subsequently, 0.35-mmol (0.0456 g: 3,5-DABA) of 3,5-diaminobenzoic acid as an aromatic diamine having a carboxyl group and 2,2 as an aromatic diamine having no carboxyl group are added to the screw tube. -Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane 5.70 mmol (2.34 g: BAPP) and tetracarboxylic dianhydride 6.00 mmol (2.44 g) represented by the above general formula (13) After the introduction, 19.30 g of N, N-dimethylacetamide was further added, and the two kinds of aromatic diamines (a mixture of 3,5-DABA and BAPP (3,5 -The molar ratio of DABA to BAPP ([3,5-DABA]: [BAPP]) is 5:95)) and the above general formula (13) To obtain a mixture containing the tetracarboxylic acid dianhydride.

次に、前記混合液を、窒素雰囲気下、80℃で3時間撹拌して反応液を得た。このようにして反応液中にポリアミド酸を形成した。   Next, the mixed solution was stirred at 80 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a reaction solution. In this way, polyamic acid was formed in the reaction solution.

なお、かかる反応液(ポリアミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド溶液:ポリアミド酸溶液)の一部を利用して、ポリアミド酸の濃度が0.5g/dLとなるN,N−ジメチルアセトアミド溶液を調製し、上述のようにして、反応中間体であるポリアミド酸の固有粘度[η]を測定した。その結果を表1に示す。   A part of the reaction solution (polyamide acid N, N-dimethylacetamide solution: polyamic acid solution) was used to prepare an N, N-dimethylacetamide solution with a polyamic acid concentration of 0.5 g / dL. Then, as described above, the intrinsic viscosity [η] of the polyamic acid as the reaction intermediate was measured. The results are shown in Table 1.

<銅張積層板の製造工程>
銅箔としてJX日鉱日石金属株式会社製の圧延銅箔(折り曲げ特性に優れたHA−V2箔(JX日鉱日石金属株式会社製)に窒素原子を含有するシランカップリング剤で表面処理を施した銅箔、縦100mm、横100mm、厚み12μm)を準備し、上述のようにして得られた反応液(ポリアミド酸溶液)を、前記銅箔の表面上に、加熱硬化後の塗膜の厚みが25μmとなるようにスピンコートして、前記銅箔上に塗膜を形成した。その後、前記塗膜の形成された銅箔を60℃のホットプレート上に載せて2時間静置して、前記塗膜から溶媒を蒸発させて除去した(溶媒除去処理)。
<Manufacturing process of copper clad laminate>
Rolled copper foil manufactured by JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd. as a copper foil (HA-V2 foil (manufactured by JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd.) excellent in bending properties) is surface treated with a silane coupling agent containing nitrogen atoms. Copper foil, 100 mm in length, 100 mm in width, 12 μm in thickness), and the reaction solution (polyamic acid solution) obtained as described above is coated on the surface of the copper foil with the thickness of the coating film after heat curing. Was spin-coated to a thickness of 25 μm to form a coating film on the copper foil. Thereafter, the copper foil on which the coating film was formed was placed on a hot plate at 60 ° C. and allowed to stand for 2 hours, and the solvent was evaporated and removed from the coating film (solvent removal treatment).

このような溶媒除去処理を施した後、前記塗膜の形成された銅箔を3L/分の流量で窒素が流れているイナートオーブンに投入し、イナートオーブン内で、窒素雰囲気下、25℃の温度条件で0.5時間静置した後、135℃の温度条件で0.5時間加熱し、更に300℃の温度条件(最終加熱温度)で1時間加熱して、前記塗膜を硬化せしめ、前記銅箔上にポリイミドからなる層が形成された銅張積層板を得た。   After performing such a solvent removal treatment, the copper foil on which the coating film has been formed is put into an inert oven in which nitrogen is flowing at a flow rate of 3 L / min. After standing at temperature conditions for 0.5 hours, heated at 135 ° C. for 0.5 hours, further heated at 300 ° C. for 1 hour (final heating temperature) to cure the coating film, A copper-clad laminate having a polyimide layer formed on the copper foil was obtained.

<ポリイミドフィルムの作製工程>
銅箔の代わりにガラス基板(松浪硝子工業株式会社製の大型スライドグラス「S9213」、縦76mm、横52mm、厚み1.3mm)を用いて、上記と同様にして、前記ガラス基板上にポリイミドからなる薄膜(ポリイミドフィルム)がコートされたポリイミドコートガラスを得た。なお、ポリイミドフィルムの作製条件を銅張積層板の製造条件に合致させるために、前記ポリイミドコートガラスは前記銅張積層板と同時に作製した。
<Polyimide film production process>
Using a glass substrate (large slide glass “S9213” manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd., length 76 mm, width 52 mm, thickness 1.3 mm) instead of copper foil, polyimide is applied onto the glass substrate in the same manner as described above. A polyimide-coated glass coated with a thin film (polyimide film) was obtained. The polyimide-coated glass was produced at the same time as the copper-clad laminate in order to match the production conditions of the polyimide film with the production conditions of the copper-clad laminate.

次に、このようにして得られたポリイミドコートガラスを、90℃のお湯の中に浸漬して、前記ガラス基板からポリイミドフィルムを剥離することにより、ポリイミドフィルム(縦76mm、横52mm、厚み13μmの大きさのフィルム)を得た。   Next, the polyimide-coated glass thus obtained is immersed in hot water at 90 ° C., and the polyimide film is peeled off from the glass substrate to obtain a polyimide film (length 76 mm, width 52 mm, thickness 13 μm). Size film).

このようにして得られたポリイミドフィルムのIRスペクトルを測定した。その結果を図1に示す。図1に示す結果からも明らかなように、得られたIRスペクトルにはイミドカルボニルのC=O伸縮振動を示す波数1706cm−1のピークが観察されたことから、得られたフィルムはポリイミドからなるものであることが確認された。 The IR spectrum of the polyimide film thus obtained was measured. The result is shown in FIG. As is clear from the results shown in FIG. 1, since the peak of wave number 1706 cm −1 indicating C═O stretching vibration of imide carbonyl was observed in the obtained IR spectrum, the obtained film was made of polyimide. It was confirmed to be a thing.

また、得られたポリイミドは、用いたモノマーの種類やその量比から、前記一般式(1)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位(カルボキシル基を有する繰り返し単位(A)に相当する繰り返し単位)と、前記一般式(2)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位(カルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)に相当する繰り返し単位)の含有比率は、モル比([繰り返し単位(A)に相当する繰り返し単位]:[繰り返し単位(B)に相当する繰り返し単位])で、5:95であった。さらに、得られた銅張積層板及びポリイミドフィルムに関し、特性の評価結果(上述の特性の評価方法により求めたピール強度等)を表1に示す。   Moreover, the obtained polyimide is a repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the general formula (1) (repeating unit corresponding to the repeating unit (A) having a carboxyl group) based on the type of monomer used and the amount ratio thereof. Unit) and a repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the general formula (2) (repeating unit corresponding to the repeating unit (B) having no carboxyl group) is a molar ratio ([repeating unit The repeating unit corresponding to (A)]: [the repeating unit corresponding to the repeating unit (B)]) was 5:95. Furthermore, regarding the obtained copper-clad laminate and polyimide film, the evaluation results of properties (peel strength and the like determined by the above-described property evaluation method) are shown in Table 1.

(実施例2〜6)
各実施例において、カルボキシル基を有する芳香族ジアミンの種類を表1に記載のものにそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様にして、銅張積層板及びポリイミドフィルムを作製した。なお、得られたフィルムのIRスペクトルを測定したところ、各実施例で得られたフィルムはポリイミドからなるものであることが確認された。各実施例で得られた銅張積層板及びポリイミドフィルムに関し、特性の評価結果(上述の特性の評価方法により求めたピール強度等)を表1に示す。
(Examples 2 to 6)
In each Example, a copper-clad laminate and a polyimide film were produced in the same manner as in Example 1 except that the type of aromatic diamine having a carboxyl group was changed to that shown in Table 1. In addition, when the IR spectrum of the obtained film was measured, it was confirmed that the film obtained in each Example was made of polyimide. With respect to the copper-clad laminate and polyimide film obtained in each example, the evaluation results of properties (peel strength and the like determined by the above-described property evaluation method) are shown in Table 1.

また、各実施例で得られたポリイミドについて、用いたモノマーの種類やその量比から、前記一般式(1)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位(カルボキシル基を有する繰り返し単位(A)に相当する繰り返し単位)と、前記一般式(2)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位(カルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)に相当する繰り返し単位)の含有比率〔モル比([繰り返し単位(A)に相当する繰り返し単位]:[繰り返し単位(B)に相当する繰り返し単位])〕を求めた。その結果を表1に示す。   Moreover, about the polyimide obtained in each Example, from the kind of monomer used, and its quantity ratio, the repeating unit (repeating unit (A) which has a carboxyl group) corresponded to the repeating unit represented by the said General formula (1). Content ratio of the repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the general formula (2) (repeating unit corresponding to the repeating unit (B) having no carboxyl group) [molar ratio ( [Repeating unit corresponding to repeating unit (A)]: [Repeating unit corresponding to repeating unit (B)])]. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
3,5−DABAを用いず、BAPPの量を6.00mmolに変更した以外は、実施例1と同様にして、銅張積層板及びポリイミドフィルムを作製した。なお、得られたフィルムのIRスペクトルを測定したところ、得られたフィルムはポリイミドからなるものであることが確認された。得られた銅張積層板及びポリイミドフィルムに関し、特性の評価結果(上述の特性の評価方法により求めたピール強度等)を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A copper-clad laminate and a polyimide film were produced in the same manner as in Example 1 except that 3,5-DABA was not used and the amount of BAPP was changed to 6.00 mmol. In addition, when the IR spectrum of the obtained film was measured, it was confirmed that the obtained film was made of polyimide. With respect to the obtained copper-clad laminate and polyimide film, the evaluation results of properties (peel strength and the like determined by the above-described property evaluation method) are shown in Table 1.

また、得られたポリイミドは、用いたモノマーの種類やその量比から、前記一般式(2)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位(カルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)に相当する繰り返し単位)の含有比率が100mol%のものであった。   In addition, the obtained polyimide is a repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the general formula (2) (corresponding to the repeating unit (B) having no carboxyl group) from the kind of monomer used and the amount ratio thereof. The content ratio of the repeating unit is 100 mol%.

表1に示した結果からも明らかなように、本発明の銅張積層板(実施例1〜6)はいずれも、ピール強度が0.60kg/cm以上であり、銅箔とポリイミド層との密着性に優れたものであることが確認された。また、本発明の銅張積層板(実施例1〜6)はいずれも、ポリイミドの軟化点が280℃以上であり、5%重量減少温度が450℃以上であり、高い耐熱性を有するものであることが確認された。このような結果から、各実施例で得られた銅張積層板(本発明の銅張積層板)は、銅箔とポリイミド層との密着性に優れ、高い耐熱性を有するものであることが分かった。   As is clear from the results shown in Table 1, the copper-clad laminates (Examples 1 to 6) of the present invention each have a peel strength of 0.60 kg / cm or more, and the copper foil and the polyimide layer. It was confirmed that the adhesive was excellent. Moreover, as for the copper clad laminated board (Examples 1-6) of this invention, the softening point of a polyimide is 280 degreeC or more, 5% weight reduction temperature is 450 degreeC or more, and has high heat resistance. It was confirmed that there was. From these results, the copper-clad laminate (copper-clad laminate of the present invention) obtained in each example is excellent in adhesion between the copper foil and the polyimide layer and has high heat resistance. I understood.

一方、比較例1で得られた銅張積層板は、ピール強度が0.53kg/cmであり、本発明の銅張積層板(実施例1〜6)と比較して、銅箔とポリイミド層との密着性が十分なものではなかった。   On the other hand, the copper clad laminate obtained in Comparative Example 1 has a peel strength of 0.53 kg / cm, and compared with the copper clad laminate (Examples 1 to 6) of the present invention, a copper foil and a polyimide layer. Adhesion with was not sufficient.

このような結果から、銅箔と、該銅箔上に積層されたポリイミド層とを備える銅張積層板において、前記ポリイミド層を構成するポリイミドの一部の繰り返し単位にカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を導入することによって、銅箔とポリイミド層との密着性に優れた銅張積層板が得られることが分かった。   From such a result, in a copper clad laminate comprising a copper foil and a polyimide layer laminated on the copper foil, an aromatic diamine having a carboxyl group in some repeating units of the polyimide constituting the polyimide layer It was found that a copper clad laminate having excellent adhesion between the copper foil and the polyimide layer can be obtained by introducing a group derived from the origin.

以上説明したように、本発明によれば、複数のプリント配線板を半田や異方性導電膜ACFなどで接合する際の位置ずれを抑制することができ、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性に優れた金属張積層板を得ることが可能となる。このような本発明の金属張積層板は、フレキシブルプリント回路基板(FPC)の材料(フレキシブル銅張積層板(FCCL))として有用である。また、金属箔(特に、銅箔)とポリイミド層との密着性に優れた金属張積層板においては、微細な配線パターンを形成することが可能であるため、本発明の金属張積層板は、高密度配線を有するプリント配線基板の材料としても有用である。   As described above, according to the present invention, it is possible to suppress misalignment when joining a plurality of printed wiring boards with solder, anisotropic conductive film ACF, or the like, and metal foil (particularly copper foil) and It is possible to obtain a metal-clad laminate having excellent adhesion to the polyimide layer. Such a metal-clad laminate of the present invention is useful as a flexible printed circuit board (FPC) material (flexible copper-clad laminate (FCCL)). In addition, in the metal-clad laminate excellent in adhesion between the metal foil (particularly copper foil) and the polyimide layer, it is possible to form a fine wiring pattern, so the metal-clad laminate of the present invention is It is also useful as a material for printed wiring boards having high density wiring.

また、本発明の金属張積層板は、視認性に優れており、複数のプリント配線板を接合する際の位置ずれを抑制することができるため、半田や異方性導電膜ACFなどで接合するプリント配線基板の材料としても有用である。   In addition, the metal-clad laminate of the present invention is excellent in visibility and can suppress misalignment when bonding a plurality of printed wiring boards, so that the metal-clad laminate is bonded with solder, anisotropic conductive film ACF, or the like. It is also useful as a material for printed wiring boards.

さらに、本発明の金属張積層板は、高い耐熱性を有しており、高温での加熱処理により、接着剤を使用せずに金属箔とポリイミド層とを接着することができるため、2層フレキシブル銅張積層板(2層FCCL)等の無接着剤タイプの銅張積層板として有用である。なお、タッチパネル、プリンテッドエレクトロニクス分野においても、金属張積層板は、有効である。   Furthermore, since the metal-clad laminate of the present invention has high heat resistance and can be bonded to a metal foil and a polyimide layer without using an adhesive by heat treatment at high temperature, two layers It is useful as a non-adhesive type copper clad laminate such as a flexible copper clad laminate (two-layer FCCL). The metal-clad laminate is also effective in the touch panel and printed electronics fields.

Claims (12)

金属箔と、該金属箔上に積層されたポリイミド層とを備え、かつ、
前記ポリイミド層が、下記一般式(1):
[式(1)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R10はカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、下記一般式(2):
[式(2)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R11はカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミドからなる層である金属張積層板。
Comprising a metal foil and a polyimide layer laminated on the metal foil, and
The polyimide layer has the following general formula (1):
[In the formula (1), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl group, an aromatic R 10 is a carboxyl group di- It shows the Min-derived group. ]
A repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the following general formula (2):
[In the formula (2), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl groups, aromatic R 11 is without a carboxyl group Indicating the amine-derived groups. ]
The metal-clad laminate which is a layer which consists of a polyimide containing the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by these.
上記一般式(1)及び(2)中のAが、置換基を有していてもよく、かつ芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基である請求項1に記載の金属張積層板。   A in the general formulas (1) and (2) is a divalent aromatic group which may have a substituent and has 6 to 30 carbon atoms to form an aromatic ring. Item 2. The metal-clad laminate according to Item 1. 前記R10が、下記一般式(101)〜(104):
[式(101)中、R12は、水素原子、メトキシ基及びエトキシ基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基の中から選択される1種の基である請求項1又は2に記載の金属張積層板。
R 10 represents the following general formulas (101) to (104):
[In the formula (101), R 12 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methoxy group, and an ethoxy group. ]
The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the metal-clad laminate is a group selected from the group represented by:
前記R11が、下記一般式(201):
で表される基である請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載の金属張積層板。
R 11 is represented by the following general formula (201):
The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the metal-clad laminate is a group represented by:
前記金属箔が、表面に、窒素原子を含有するシランカップリング剤からなる表面処理層を備えるものである請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal foil has a surface treatment layer made of a silane coupling agent containing a nitrogen atom on the surface. 前記金属箔が、銅箔である請求項1〜5のうちのいずれか一項に記載の金属張積層板。   The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal foil is a copper foil. 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の金属張積層板を備えるプリント配線基板。   A printed wiring board comprising the metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 6. 請求項7に記載のプリント配線基板を備える電子機器。   An electronic device comprising the printed wiring board according to claim 7. 下記一般式(1):
[式(1)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R10はカルボキシル基を有する芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有する繰り返し単位(A)と、下記一般式(2):
[式(2)中、Aは、単結合、鎖状構造を形成する炭素原子の数が1〜12である2価の脂肪族基、環状構造を形成する炭素原子の数が3〜12である2価の脂環族基、及び芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基よりなる群から選択される1種を示し、前記脂環族基及び前記芳香族基は置換基を有していてもよく、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、水酸基及びニトロ基よりなる群から選択される1種を示すか、又は、同一の炭素原子に結合している2つのRが一緒になってメチリデン基を形成していてもよく、R及びRはそれぞれ独立に水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基よりなる群から選択される1種を示し、R11はカルボキシル基を有さない芳香族ジアミン由来の基を示す。]
で表されるカルボキシル基を有さない繰り返し単位(B)とを含有するポリイミド。
The following general formula (1):
[In the formula (1), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl group, an aromatic R 10 is a carboxyl group di- It shows the Min-derived group. ]
A repeating unit (A) having a carboxyl group represented by the following general formula (2):
[In the formula (2), A represents a single bond, a divalent aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms forming a chain structure, or 3 to 12 carbon atoms forming a cyclic structure. 1 type selected from the group which consists of a certain bivalent alicyclic group and the bivalent aromatic group whose number of carbon atoms which form an aromatic ring is 6-30, shows the said alicyclic group and the said The aromatic group may have a substituent, and each of the plurality of R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and a nitro group. Or two R 1 bonded to the same carbon atom may be combined to form a methylidene group, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 10 represents one selected from the group consisting of alkyl groups, aromatic R 11 is without a carboxyl group Indicating the amine-derived groups. ]
The polyimide containing the repeating unit (B) which does not have a carboxyl group represented by these.
上記一般式(1)及び(2)中のAが、置換基を有していてもよく、かつ芳香環を形成する炭素原子の数が6〜30である2価の芳香族基である請求項9に記載のポリイミド。   A in the general formulas (1) and (2) is a divalent aromatic group which may have a substituent and has 6 to 30 carbon atoms to form an aromatic ring. Item 10. The polyimide according to Item 9. 前記R10が、下記一般式(101)〜(104):
[式(101)中、R12は、水素原子、メトキシ基及びエトキシ基よりなる群から選択される1種を示す。]
で表される基の中から選択される1種の基である請求項9又は10に記載のポリイミド。
R 10 represents the following general formulas (101) to (104):
[In the formula (101), R 12 represents one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a methoxy group, and an ethoxy group. ]
The polyimide according to claim 9 or 10, which is one kind of group selected from the group represented by:
前記R11が、下記一般式(201):
で表される基である請求項8〜11のうちのいずれか一項に記載のポリイミド。
R 11 is represented by the following general formula (201):
The polyimide as described in any one of Claims 8-11 which is group represented by these.
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