JP2017071661A - Manufacturing method of functional polymer - Google Patents
Manufacturing method of functional polymer Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017071661A JP2017071661A JP2015197570A JP2015197570A JP2017071661A JP 2017071661 A JP2017071661 A JP 2017071661A JP 2015197570 A JP2015197570 A JP 2015197570A JP 2015197570 A JP2015197570 A JP 2015197570A JP 2017071661 A JP2017071661 A JP 2017071661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- restriction target
- polymer
- functional polymer
- raw material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y02P20/124—
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
本発明は、機能性ポリマーの製法に関する。 The present invention relates to a method for producing a functional polymer.
従来より、様々な機能性ポリマーが開発されている。例えば、非特許文献１に示される環状オレフィンコポリマーは、機能性ポリマーの一種であり、それまでのポリオレフィンを遙かに上回る耐熱性を有し、無色透明で、かつ優れた電気特性、耐水性、軽量性も兼ね備えた熱硬化性材料である。この材料は、スマートフォンやタブレットＰＣなどへの応用が期待されるものである。 Conventionally, various functional polymers have been developed. For example, the cyclic olefin copolymer shown in Non-Patent Document 1 is a kind of functional polymer, has heat resistance far superior to conventional polyolefin, is colorless and transparent, and has excellent electrical properties, water resistance, It is a thermosetting material that also has light weight. This material is expected to be applied to smartphones and tablet PCs.
こうした環状オレフィンコポリマーの製法としては、（１）原料ポリマーを加熱して溶融させキャスティングし、（２）それを型内で架橋するように加熱したあと冷却し離型する、という製法が考えられる（図７参照）。環状オレフィンコポリマーの透明度は、原料ポリマー同士の非結晶化で決まり、結晶化すると不透明になる。原料ポリマーの結晶化は、原料ポリマー同士のうち類似部分が近接して分子間結合することで起こりやすい。そのため、原料ポリマーの架橋が迅速に行われると結晶化を阻害することができ、透明度が高くなる。 As a method for producing such a cyclic olefin copolymer, there can be considered a production method in which (1) a raw material polymer is heated and melted and cast, and (2) it is heated so as to be crosslinked in a mold, and then cooled and released. (See FIG. 7). The transparency of the cyclic olefin copolymer is determined by non-crystallization of the raw material polymers, and becomes opaque when crystallized. Crystallization of the raw material polymer is likely to occur when similar portions of the raw material polymers come close to each other and are intermolecularly bonded. Therefore, when the raw material polymer is rapidly crosslinked, crystallization can be inhibited and the transparency is increased.
しかしながら、架橋するための加熱を熱風で行う場合、エネルギー効率が悪いという問題があった。また、架橋するための加熱を遠赤外線ヒーターで行う場合、遠赤外線波長が制限されずに出ているためアニール過程で透明度が落ちるという問題があり、近赤外線ヒーターで行う場合、温度が早く上がり過ぎて熱劣化するという問題があった。 However, when heating for crosslinking is performed with hot air, there is a problem that energy efficiency is poor. Also, when heating with a far-infrared heater is used for heating for crosslinking, the far-infrared wavelength is emitted without restriction, so there is a problem that the transparency is lowered during the annealing process. When using a near-infrared heater, the temperature rises too quickly. There was a problem of heat deterioration.
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、赤外線ヒーターを利用して機能性ポリマーをその機能を損なうことなく効率よく製造することを主目的とする。 The present invention has been made to solve such problems, and a main object of the present invention is to efficiently produce a functional polymer using an infrared heater without impairing its function.
本発明は、上述の主目的を達成するために以下の手段を採った。 The present invention adopts the following means in order to achieve the main object described above.
本発明の機能性ポリマーの製法は、
原料ポリマーを高温で溶融し成形した後、熱処理して機能性ポリマーを得る機能性ポリマーの製法であって、
前記熱処理は、赤外線ヒーターを用いて行い、
前記原料ポリマー又は該原料ポリマーを構成するモノマーの赤外線吸収スペクトルのピークの波長のうち、前記原料ポリマーから前記機能性ポリマーへの反応を阻害する波長を制限対象波長とし、前記赤外線ヒーターの前記制限対象波長の放射強度を制限する、
ものである。
The method for producing the functional polymer of the present invention includes:
A method for producing a functional polymer, which is obtained by melting and molding a raw material polymer at a high temperature and then heat-treating to obtain a functional polymer,
The heat treatment is performed using an infrared heater,
Among the wavelengths of the infrared absorption spectrum peak of the raw material polymer or the monomer constituting the raw material polymer, the wavelength that inhibits the reaction from the raw material polymer to the functional polymer is a restriction target wavelength, and the restriction target of the infrared heater Limit the radiation intensity of the wavelength,
Is.
この機能性ポリマーの製法では、原料ポリマーを高温で溶融し成形した後、赤外線ヒーターを用いて熱処理して機能性ポリマーを得る。そのため、熱風を用いて熱処理する場合に比べて、エネルギー効率が良い。また、熱処理の際、赤外線ヒーターの制限対象波長の放射強度を制限する。制限対象波長は、原料ポリマー又は原料ポリマーを構成するモノマーの赤外線吸収スペクトルのピークの波長のうち、原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応を阻害する波長である。こうした波長の放射強度を制限せずに赤外線ヒーターで熱処理すると、原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応が過度に進行したりする。これに対して、こうした波長の放射強度を制限して赤外線ヒーターで熱処理すると、原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応がスムーズに進行して、機能性ポリマーをその機能を損なうことなく得ることができる。 In this method for producing a functional polymer, a raw material polymer is melted and molded at a high temperature and then heat-treated using an infrared heater to obtain a functional polymer. Therefore, energy efficiency is better than when heat treatment is performed using hot air. In addition, during the heat treatment, the radiation intensity of the restriction target wavelength of the infrared heater is restricted. The restriction target wavelength is a wavelength that inhibits the reaction from the raw material polymer to the functional polymer among the wavelengths of the peak of the infrared absorption spectrum of the raw material polymer or the monomer constituting the raw material polymer. When heat treatment is performed with an infrared heater without limiting the radiation intensity at such a wavelength, the reaction from the raw material polymer to the functional polymer may proceed excessively. On the other hand, when the radiation intensity of such a wavelength is limited and heat treatment is performed with an infrared heater, the reaction from the raw material polymer to the functional polymer proceeds smoothly, and the functional polymer can be obtained without impairing its function. .
本発明の機能性ポリマーの製法において、前記制限対象波長は、前記原料ポリマー又は該原料ポリマーを構成するモノマーの４μｍ以上の所定の波長領域（例えば４μｍ以上とか４〜１６μｍとか４〜１０μｍとか４〜８μｍ）における赤外線吸収スペクトルのうち最も吸収率の高いピークの波長としてもよい。こうした波長は、原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応を阻害することが多いからである。この場合、所定の波長領域に存在するピークの波長のうち制限対象波長以外の波長については、赤外線ヒーターからの放射強度を制限しないようにしてもよい。 In the method for producing a functional polymer of the present invention, the wavelength to be restricted is a predetermined wavelength region of 4 μm or more (for example, 4 μm or more, 4 to 16 μm, 4 to 10 μm, 4 to 4 μm) of the raw material polymer or a monomer constituting the raw material polymer. It is good also as a peak wavelength with the highest absorptance in the infrared absorption spectrum in 8 micrometers). This is because such a wavelength often inhibits the reaction from the raw polymer to the functional polymer. In this case, the radiation intensity from the infrared heater may not be restricted for wavelengths other than the restriction target wavelength among the peak wavelengths existing in the predetermined wavelength region.
本発明の機能性ポリマーの製法において、前記制限対象波長の放射強度を制限するにあたり、前記制限対象波長を含む制限対象領域を設定し、該制限対象領域の放射強度を制限してもよい。例えば、制限対象波長のピークがＸ（μｍ）だったとき、制限対象領域をＸ±ｘ（μｍ）（ｘは定数で、例えば０．１とか０．２とか０．３）としてもよい。こうすれば、制限対象波長の放射強度をより確実に制限することができる。 In the method for producing the functional polymer of the present invention, when limiting the radiation intensity of the restriction target wavelength, a restriction target region including the restriction target wavelength may be set to restrict the radiation intensity of the restriction target region. For example, when the peak of the restriction target wavelength is X (μm), the restriction target region may be X ± x (μm) (x is a constant, for example, 0.1, 0.2, or 0.3). If it carries out like this, the radiation intensity of a wavelength for restriction can be restricted more certainly.
この場合、前記制限対象領域の幅は、前記制限対象波長のピークの半値幅が大きいほど、大きくなる傾向となるように設定してもよい。例えば、制限対象波長のピークがＸ（μｍ）、そのピークの半値幅がＨ（μｍ）だったとき、制限対象領域をＸ±ｋＨ（μｍ）（ｋは定数、例えば０＜ｋ≦０．５）としてもよいし、Ｈが大きくなるにつれて制限対象領域をステップ関数的に大きくなるようにしてもよい。こうすれば、制限対象波長のピークの幅に応じて、赤外線ヒーターの放射強度を制限する制限対象領域を適切に設定することができる。 In this case, the width of the restriction target region may be set so as to increase as the half-value width of the peak of the restriction target wavelength increases. For example, when the peak of the restriction target wavelength is X (μm) and the half width of the peak is H (μm), the restriction target region is X ± kH (μm) (k is a constant, for example, 0 <k ≦ 0.5 Or the restriction target area may be increased in a step function as H increases. If it carries out like this, the restriction | limiting object area | region which restrict | limits the radiation intensity of an infrared heater can be appropriately set according to the width | variety of the peak of restriction | limiting object wavelength.
本発明の機能性ポリマーの製法において、前記放射強度を制限するにあたり、前記赤外線ヒーターの発する赤外光の最大放射強度の１０％以下（好ましくは５％以下）に制限してもよい。こうすれば、放射強度を適切に制限することができる。 In the method for producing the functional polymer of the present invention, the radiation intensity may be limited to 10% or less (preferably 5% or less) of the maximum radiation intensity of the infrared light emitted from the infrared heater. In this way, the radiation intensity can be appropriately limited.
本発明の機能性ポリマーの製法において、前記熱処理は、前記赤外線ヒーターと熱風を併用して行ってもよい。この場合も、熱処理を熱風のみを用いて行う場合に比べて、エネルギー効率が良くなる。 In the method for producing a functional polymer of the present invention, the heat treatment may be performed using both the infrared heater and hot air. Also in this case, energy efficiency is improved as compared with the case where the heat treatment is performed using only hot air.
本発明の機能性ポリマーの製法において、前記機能性ポリマーは、環状ポリオレフィン又はポリエステルであることが好ましい。前者の場合は、Ｃ−Ｃ面内変角振動のピーク波長を制限対象波長とするのが好ましく、後者の場合は、Ｃ＝Ｏ伸縮振動のピーク波長を制限波長とするのが好ましい。 In the method for producing a functional polymer of the present invention, the functional polymer is preferably a cyclic polyolefin or a polyester. In the former case, it is preferable to set the peak wavelength of CC in-plane bending vibration as the restriction target wavelength, and in the latter case, the peak wavelength of C = O stretching vibration is preferably set as the restriction wavelength.
次に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図１は、複数の赤外線ヒーター１０を備えた赤外線処理装置１００の縦断面図である。図２は、赤外線ヒーター１０の拡大断面図である。図３は、発熱部２０の下面図である。なお、本実施形態において、上下方向，左右方向及び前後方向は、図１〜３に示した通りとする。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an infrared processing apparatus 100 including a plurality of infrared heaters 10. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the infrared heater 10. FIG. 3 is a bottom view of the heat generating portion 20. In the present embodiment, the vertical direction, the horizontal direction, and the front-back direction are as shown in FIGS.
赤外線処理装置１００は、被処理物９０に赤外線を放射して熱処理を行う乾燥炉として構成されている。被処理物９０は、原料ポリマーを溶融しキャスティングしたものである。この赤外線処理装置１００は、処理空間８１を形成する炉体８０と、搬送経路８５と、複数の赤外線ヒーター１０と、を備えている。炉体８０は、略直方体に形成された断熱構造体であり、内部に処理空間８１を形成している。炉体８０の天井部分には、複数の赤外線ヒーター１０（図１では６個）が取り付けられており、この赤外線ヒーター１０からの赤外線が処理空間８１内に放射される。搬送経路８５は、炉体８０の左右端を貫通し、左から右に向かって被処理物９０を搬送するための経路である。 The infrared processing apparatus 100 is configured as a drying furnace that radiates infrared rays to the workpiece 90 and performs heat treatment. The workpiece 90 is obtained by melting and casting a raw material polymer. The infrared processing apparatus 100 includes a furnace body 80 that forms a processing space 81, a conveyance path 85, and a plurality of infrared heaters 10. The furnace body 80 is a heat insulating structure formed in a substantially rectangular parallelepiped, and forms a processing space 81 therein. A plurality of infrared heaters 10 (six in FIG. 1) are attached to the ceiling portion of the furnace body 80, and infrared rays from the infrared heaters 10 are radiated into the processing space 81. The conveyance path 85 is a path for penetrating the left and right ends of the furnace body 80 and conveying the workpiece 90 from left to right.
図１，図２に示すように、赤外線ヒーター１０は、発熱部２０と、発熱部２０の下方に取り付けられたフィルタ部５０と、を備えている。発熱部２０は、赤外線ヒーター１０の上側を覆うケース２２と、加熱されると赤外線を放射する発熱体４０と、ケース２２内で発熱体４０を支持する支持板３０と、を備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the infrared heater 10 includes a heat generating part 20 and a filter part 50 attached below the heat generating part 20. The heating unit 20 includes a case 22 that covers the upper side of the infrared heater 10, a heating element 40 that emits infrared rays when heated, and a support plate 30 that supports the heating element 40 within the case 22.
ケース２２は、発熱体４０等を収納する部材であり、下方に向けて開口した略直方体の箱状の部材である。ケース２２は、内部に配置された支持板３０を固定する図示しない固定具を備えている。また、ケース２２は、赤外線ヒーター１０を図示しない他の部材に取り付けて固定するための図示しない取付具を備えている。 The case 22 is a member that houses the heating element 40 and the like, and is a substantially rectangular parallelepiped box-shaped member that opens downward. The case 22 includes a fixture (not shown) that fixes the support plate 30 disposed therein. In addition, the case 22 includes a fixture (not shown) for attaching and fixing the infrared heater 10 to another member (not shown).
支持板３０は、発熱体４０が巻き付けられることで発熱体４０を支持する平板状の部材であり、例えばマイカやアルミナセラミックスなどの絶縁体からなる。支持板３０は、図３に示すように、前側に複数（本実施形態では６箇所）形成された前側凸部３１と、後側に複数（本実施形態では５箇所）形成された後側凸部３２と、を備えている。前側凸部３１及び後側凸部３２は、下面視で台形状をしており、左右方向に平行な面を有する頂上部分と、頂上部分の左右両側に配設され左右方向から傾斜した（例えば４５°）斜面と、を有している。複数の前側凸部３１及び複数の後側凸部３２は、それぞれ左右方向に定ピッチで配設されており、これにより支持板３０の前側及び後側は凹凸状になっている。また、前側凸部３１と後側凸部３２とは、互いに左右方向に１／２ピッチずれて配設されている。 The support plate 30 is a flat plate-like member that supports the heating element 40 when the heating element 40 is wound, and is made of an insulator such as mica or alumina ceramic. As shown in FIG. 3, the support plate 30 has a plurality of front convex portions 31 formed on the front side (six locations in the present embodiment) and a plurality of rear projections formed on the rear side (five locations in the present embodiment). Part 32. The front convex portion 31 and the rear convex portion 32 have a trapezoidal shape in a bottom view, and are arranged on the top portion having a plane parallel to the left and right direction and the left and right sides of the top portion and inclined from the left and right direction (for example, 45 °) slope. The plurality of front protrusions 31 and the plurality of rear protrusions 32 are respectively arranged at a constant pitch in the left-right direction, whereby the front side and the rear side of the support plate 30 are uneven. Further, the front convex portion 31 and the rear convex portion 32 are arranged with a ½ pitch shift in the left-right direction.
発熱体４０は、リボン状の発熱体であり、いわゆる面状発熱体として構成されている。発熱体４０は、例えばＮｉ−Ｃｒ合金などの金属からなる。 The heating element 40 is a ribbon-like heating element, and is configured as a so-called planar heating element. The heating element 40 is made of a metal such as a Ni—Cr alloy.
図３に示すように、発熱体４０は、左後方の折り返し端部４１から右後方の折り返し端部４１までに亘って、支持板３０の下面側を前後方向に複数回（本実施形態では１２回）通過するように、支持板３０に巻き付けられている。より具体的には、発熱体４０は、左後方の折り返し端部４１から支持板３０の下面側で前側凸部３１に向かって引き回され、前側凸部３１の左側の斜面に沿って折り返されて前側凸部３１の上面側を通過している（図３右上の拡大部分参照）。そして、前側凸部３１の上面側を通過した発熱体４０は、前側凸部３１の右側の斜面に沿って折り返されて支持板３０の下面側で後側凸部３２に向かって引き回され、後側凸部３２の斜面に沿って折り返され後側凸部３２の上面側を通過して、支持板３０の下面側で前側凸部３１に向かって引き回される。このようにして、発熱体４０は支持板３０の下面側を前後方向に通過しながら前側凸部３１と後側凸部３２とに交互に巻き付けられ、右後方の折り返し端部４１まで引き回されている。なお、詳細な図示は省略するが、発熱体４０は、折り返し端部４１，４１の部分で支持板３０の上面側に折り返されてさらに引き回されており、発熱体４０の両端がケース２２に取り付けられた図示しない一対の入力端子にそれぞれ接続されている。この一対の入力端子を介して、発熱体４０に外部から電力を供給可能である。発熱体４０の下面は、透過層５１の上面と対向しており、いずれの面も水平方向（前後左右方向）と略平行になるように配設されている。 As shown in FIG. 3, the heating element 40 extends the lower surface side of the support plate 30 a plurality of times in the front-rear direction from the left rear folded end 41 to the right rear folded end 41 (12 in this embodiment). It is wound around the support plate 30 so as to pass. More specifically, the heating element 40 is drawn from the left rear folded end 41 toward the front convex portion 31 on the lower surface side of the support plate 30, and folded along the left slope of the front convex portion 31. And passes through the upper surface side of the front convex portion 31 (see the enlarged portion in the upper right of FIG. 3). Then, the heating element 40 that has passed through the upper surface side of the front convex portion 31 is folded along the right slope of the front convex portion 31 and is routed toward the rear convex portion 32 on the lower surface side of the support plate 30, It is folded along the slope of the rear convex portion 32, passes through the upper surface side of the rear convex portion 32, and is drawn toward the front convex portion 31 on the lower surface side of the support plate 30. In this manner, the heating element 40 is alternately wound around the front convex portion 31 and the rear convex portion 32 while passing through the lower surface side of the support plate 30 in the front-rear direction, and is routed to the right rearward folding end portion 41. ing. Although not shown in detail, the heating element 40 is folded back to the upper surface side of the support plate 30 at the folded end portions 41 and 41, and both ends of the heating element 40 are connected to the case 22. Each is connected to a pair of input terminals (not shown) attached. Electric power can be supplied to the heating element 40 from the outside via the pair of input terminals. The lower surface of the heating element 40 is opposed to the upper surface of the transmissive layer 51, and both surfaces are disposed so as to be substantially parallel to the horizontal direction (front / rear / left / right direction).
なお、発熱部２０とフィルタ部５０とは、図示しない接続部材により接続されて、互いの位置関係が固定されている。これにより、発熱体４０とフィルタ部５０（透過層５１）とは空間４７を介して離間している。また、図２に示すようにケース２２は固定板７１と上下に離間しており、空間４７はケース２２と固定板７１との上下の隙間を介して外部空間（炉体８０の外部の空間）に開放されている。発熱体４０と透過層５１は、空間４７に露出している。なお、本実施形態では、外部空間は大気雰囲気とした。 In addition, the heat generating part 20 and the filter part 50 are connected by a connecting member (not shown), and the mutual positional relationship is fixed. Thus, the heating element 40 and the filter unit 50 (transmission layer 51) are separated from each other through the space 47. Further, as shown in FIG. 2, the case 22 is vertically separated from the fixed plate 71, and the space 47 is an external space (a space outside the furnace body 80) via a vertical gap between the case 22 and the fixed plate 71. It is open to. The heating element 40 and the transmissive layer 51 are exposed in the space 47. In the present embodiment, the external space is an atmospheric atmosphere.
フィルタ部５０は、発熱体４０からの赤外線の少なくとも一部を透過する透過層５１と、透過層５１を載置して固定する矩形の枠状部材である固定板７１と、を備えている。固定板７１は、炉体８０の上部に取り付けられている。 The filter unit 50 includes a transmission layer 51 that transmits at least a part of infrared rays from the heating element 40, and a fixing plate 71 that is a rectangular frame member on which the transmission layer 51 is placed and fixed. The fixed plate 71 is attached to the upper part of the furnace body 80.
透過層５１は、下面視で四角形状をした板状の部材である。本実施形態では、透過層５１は干渉フィルタ（光学フィルタ）として構成され、図２に示すように基板５１ａと、基板５１ａの上面を覆う上側コート層５１ｂと、基板５１ａの下面を覆う下側コート層５１ｃと、を備えているものとした。上側コート層５１ｂは、バンドパス層として機能する層であり、透過層５１の上方から入射された光のうち所望の波長領域の赤外線を下方に透過させる。下側コート層５１ｃは、反射防止膜として機能する層であり、基板５１ａの下面で赤外線が上方に反射するのを抑制する。基板５１ａの材質としては、シリコンが挙げられる。上側コート層５１ｂの材質としては、セレン化亜鉛，ゲルマニウム，硫化亜鉛などが挙げられる。下側コート層５１ｃの材質としては、ゲルマニウム，一酸化ケイ素，硫化亜鉛などが挙げられる。なお、上側コート層５１ｂ及び下側コート層５１ｃの少なくとも一方が、複数種類の材料を積層した多層構造であってもよい。 The transmissive layer 51 is a plate-like member having a quadrangular shape when viewed from the bottom. In the present embodiment, the transmission layer 51 is configured as an interference filter (optical filter). As shown in FIG. 2, the substrate 51a, an upper coat layer 51b that covers the upper surface of the substrate 51a, and a lower coat that covers the lower surface of the substrate 51a. Layer 51c. The upper coat layer 51b is a layer functioning as a bandpass layer, and transmits infrared rays in a desired wavelength region of light incident from above the transmission layer 51 downward. The lower coat layer 51c is a layer that functions as an antireflection film, and suppresses infrared rays from being reflected upward on the lower surface of the substrate 51a. An example of the material of the substrate 51a is silicon. Examples of the material of the upper coat layer 51b include zinc selenide, germanium, and zinc sulfide. Examples of the material of the lower coat layer 51c include germanium, silicon monoxide, and zinc sulfide. Note that at least one of the upper coat layer 51b and the lower coat layer 51c may have a multilayer structure in which a plurality of types of materials are stacked.
透過層５１は、上述したように所望の波長領域の赤外線を透過するフィルタ特性を持つものである。例えば、上側コート層５１ｂとして硫化亜鉛とゲルマニウムとを交互に複数層積層したものを用い、下側コート層５１ｃとして硫化亜鉛とゲルマニウムとを交互に複数層積層したものを用い、基板５１ａ，上側コート層５１ｂ，下側コート層５１ｃの厚さを適宜調整することで、所望のフィルタ特性が得られる。 The transmission layer 51 has a filter characteristic that transmits infrared rays in a desired wavelength region as described above. For example, the upper coat layer 51b is formed by alternately laminating a plurality of zinc sulfides and germanium, and the lower coat layer 51c is formed by alternately laminating a plurality of zinc sulfides and germanium, Desired filter characteristics can be obtained by appropriately adjusting the thicknesses of the layer 51b and the lower coat layer 51c.
なお、炉体８０の上面（天井部分）には、赤外線ヒーター１０と同じ数の複数の開口が形成されており、複数の赤外線ヒーター１０はこの開口を塞ぐように炉体８０の上部に取り付けられている。そのため、透過層５１の下面は、処理空間８１に露出している。処理空間８１と空間４７とは、透過層５１及び固定板７１で仕切られており、直接には連通していない。ただし、処理空間８１，空間４７はいずれも赤外線処理装置１００の外部空間には連通しているため、外部空間を介してこれらは互いに連通している。また、赤外線ヒーター１０は、炉体８０の天井よりも上方に飛び出すように配置されている。そのため、発熱体４０，空間４７は炉体８０の外に位置している。 The upper surface (ceiling portion) of the furnace body 80 has a plurality of openings as many as the infrared heaters 10, and the plurality of infrared heaters 10 are attached to the upper part of the furnace body 80 so as to close the openings. ing. Therefore, the lower surface of the transmissive layer 51 is exposed to the processing space 81. The processing space 81 and the space 47 are partitioned by the transmission layer 51 and the fixed plate 71 and do not communicate directly. However, since both the processing space 81 and the space 47 communicate with the external space of the infrared processing apparatus 100, they communicate with each other via the external space. Further, the infrared heater 10 is arranged so as to protrude above the ceiling of the furnace body 80. Therefore, the heating element 40 and the space 47 are located outside the furnace body 80.
この種の赤外線処理装置１００の詳細については、例えば特許第５７２１８９７号公報に記載されている。 Details of this type of infrared processing apparatus 100 are described in, for example, Japanese Patent No. 5721897.
こうして構成され赤外線処理装置１００の使用例を以下に説明する。本実施形態では、被処理物９０として、図７に示した原料ポリマーを溶融しキャスティングしたものを用いる場合を取り上げる。原料ポリマーは、ノルボルネン誘導体とエチレンとの共重合体である。原料ポリマーのＩＲ吸収スペクトル（波長領域２．５−１６μｍ）には、Ｃ−Ｈ伸縮振動によるピークが３．３μｍに現れ、Ｃ−Ｃ面内変角振動によるピークが６．９μｍに現れ、その他にいくつかのピークが７−１６μｍに現れる。このうち、３．３μｍと６．９μｍの２つのピークの一方が最も吸収率の高い第１ピーク、もう一方が２番目に吸収率の高い第２ピークである。このうち、波長６．９μｍが、図７の原料ポリマーから機能性ポリマーへの架橋反応を阻害する波長に該当する。そのため、６．９μｍを制限対象波長に設定する。この場合、フィルタ部５０の透過層５１は、例えば図４のフィルタ特性を持つようにする。具体的には、上側コート層５１ｂと下側コート層５１ｃの材質や積層数を調整することにより、透過層５１が図４のフィルタ特性を持つようにする。なお、６．９μｍのピークは、原料ポリマーの４〜１６μｍの波長領域（４μｍ以上の所定の波長領域）におけるＩＲ吸収スペクトルのうち最も吸収率の高いピークでもある。 A usage example of the infrared processing apparatus 100 configured as described above will be described below. In this embodiment, the case where the material 90 shown in FIG. 7 is melted and cast is used as the object 90 to be processed. The raw material polymer is a copolymer of a norbornene derivative and ethylene. In the IR absorption spectrum of the raw material polymer (wavelength region 2.5-16 μm), a peak due to C—H stretching vibration appears at 3.3 μm, a peak due to CC in-plane bending vibration appears at 6.9 μm, and others Several peaks appear at 7-16 μm. Of these, one of the two peaks of 3.3 μm and 6.9 μm is the first peak with the highest absorption rate, and the other is the second peak with the second highest absorption rate. Among these, a wavelength of 6.9 μm corresponds to a wavelength that inhibits the crosslinking reaction from the raw material polymer to the functional polymer in FIG. Therefore, 6.9 μm is set as the restriction target wavelength. In this case, the transmission layer 51 of the filter unit 50 has, for example, the filter characteristics shown in FIG. Specifically, the transmission layer 51 has the filter characteristics shown in FIG. 4 by adjusting the material and the number of layers of the upper coat layer 51b and the lower coat layer 51c. The peak at 6.9 μm is also the peak with the highest absorption rate in the IR absorption spectrum in the wavelength region of 4 to 16 μm (predetermined wavelength region of 4 μm or more) of the raw material polymer.
まず、赤外線処理装置１００の図示しない電源を赤外線ヒーター１０の入力端子に接続し、発熱体４０の温度が予め設定された温度（例えば４００℃とか５００℃とか６００℃とか７００℃）になるように発熱体４０に電力を供給する。通電された発熱体４０は加熱により赤外線を放射する。そして、被処理物９０を、搬送経路８５の入口から出口に向かって搬送する。これにより、被処理物９０は、処理空間８１を通過する間に赤外線ヒーター１０からの赤外線によって熱処理される。ここで、赤外線ヒーター１０から処理空間８１に放射される赤外光は、フィルタ部５０を通過するため、図５に示すように６．９μｍ以下の赤外線波長は制限される。図５の点線は、発熱部２０から放射されフィルタ部５０を通過する前の赤外光のスペクトルを示し、実線はフィルタ部５０を通過した後の赤外光のスペクトルを示す。制限対象波長である６．９μｍの放射強度は、赤外線ヒーター１０の発する赤外光の最大放射強度の１０％以下（図５では実質ゼロ）に制限される。したがって、被処理物９０は、熱処理されて図７の架橋反応がスムーズに進行して機能性ポリマーになる。 First, a power source (not shown) of the infrared processing apparatus 100 is connected to the input terminal of the infrared heater 10 so that the temperature of the heating element 40 becomes a preset temperature (for example, 400 ° C., 500 ° C., 600 ° C., or 700 ° C.). Electric power is supplied to the heating element 40. The energized heating element 40 emits infrared rays by heating. Then, the workpiece 90 is transported from the entrance to the exit of the transport path 85. Thereby, the workpiece 90 is heat-treated by infrared rays from the infrared heater 10 while passing through the treatment space 81. Here, since the infrared light radiated from the infrared heater 10 to the processing space 81 passes through the filter unit 50, the infrared wavelength of 6.9 μm or less is limited as shown in FIG. The dotted line in FIG. 5 indicates the spectrum of infrared light emitted from the heat generating unit 20 and before passing through the filter unit 50, and the solid line indicates the spectrum of infrared light after passing through the filter unit 50. The radiation intensity of 6.9 μm, which is the wavelength to be restricted, is limited to 10% or less (substantially zero in FIG. 5) of the maximum radiation intensity of the infrared light emitted from the infrared heater 10. Therefore, the workpiece 90 is heat-treated and the crosslinking reaction of FIG. 7 proceeds smoothly to become a functional polymer.
波長６．９μｍの放射強度を制限せずに赤外線ヒーター１０で被処理物９０を熱処理すると、図７の原料ポリマーから機能性ポリマーへの架橋反応が阻害される。つまり、原料ポリマーが架橋しにくくなる。これは、架橋のアンカーとなる六角構造が過度に振動して架橋を抑制するためと考えられる。これに対して、波長６．９μｍの放射強度を制限した赤外光が被処理物９０に照射されると、原料ポリマーの架橋反応がスムーズに進行し、目的とする機能性ポリマーがその機能を損なうことなく得られる。 When the object to be processed 90 is heat-treated with the infrared heater 10 without restricting the radiation intensity with a wavelength of 6.9 μm, the crosslinking reaction from the raw material polymer to the functional polymer in FIG. 7 is inhibited. That is, the raw material polymer is difficult to crosslink. This is presumably because the hexagonal structure serving as the anchor for cross-linking vibrates excessively to suppress cross-linking. On the other hand, when the object 90 is irradiated with infrared light having a wavelength of 6.9 μm, the cross-linking reaction of the raw material polymer proceeds smoothly, and the target functional polymer has its function. It can be obtained without loss.
ちなみに、従来は、原料ポリマーのＩＲ吸収スペクトルのうち吸収率の大きなピークの波長の放射強度が高くなるように赤外光の波長を制御するのが好ましいと考えられていた。しかし、今回のように、原料ポリマーを高温で溶融し成形した後、赤外線ヒーターを用いて熱処理して機能性ポリマーを得る方法では、この従来の考えとは異なり、ＩＲ吸収スペクトルのうち吸収率の大きなピークの波長（原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応を阻害する波長）における放射強度を制限するのが好ましいことがわかった。 Incidentally, conventionally, it has been considered that it is preferable to control the wavelength of infrared light so that the radiant intensity at the wavelength of the peak having a large absorption rate in the IR absorption spectrum of the raw material polymer becomes high. However, unlike the conventional idea, the method of obtaining a functional polymer by melting and molding a raw material polymer at a high temperature and then heat-treating it with an infrared heater, as in this case, has an absorptivity in the IR absorption spectrum. It has been found preferable to limit the radiation intensity at a large peak wavelength (wavelength that inhibits the reaction from the raw polymer to the functional polymer).
以上説明した本実施形態の機能性ポリマーの製法によれば、被処理物９０を熱風を用いて熱処理する場合に比べて、赤外線ヒーター１０を用いて熱処理するため、エネルギー効率が良い。また、熱処理の際、赤外線ヒーター１０の制限対象波長の放射強度を制限するため、図７の原料ポリマーの架橋反応がスムーズに進行して機能性ポリマーがその機能（透明度、強度等）を損なうことなく得られる。 According to the functional polymer manufacturing method of the present embodiment described above, the heat treatment is performed using the infrared heater 10 as compared with the case where the object 90 is heat-treated using hot air, so that the energy efficiency is good. Further, during the heat treatment, in order to limit the radiation intensity of the restriction target wavelength of the infrared heater 10, the cross-linking reaction of the raw material polymer of FIG. 7 proceeds smoothly and the functional polymer impairs its function (transparency, strength, etc.). It is obtained without.
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that the present invention can be implemented in various modes as long as it belongs to the technical scope of the present invention.
例えば、上述した実施形態では、制限対象波長を６．９μｍとしたが、原料ポリマーから機能性ポリマーへの反応の種類によってその反応を阻害する波長は異なる。そのため、反応の種類によって制限対象波長は変わる。例えば、原料ポリマーのＩＲ吸収スペクトルにおいて３〜４μｍの範囲にピークがあり、そのピークの波長が反応を阻害する場合には、その波長を制限対象波長に設定すればよい。 For example, in the embodiment described above, the restriction target wavelength is 6.9 μm, but the wavelength that inhibits the reaction differs depending on the type of reaction from the raw material polymer to the functional polymer. Therefore, the wavelength to be restricted varies depending on the type of reaction. For example, when the IR absorption spectrum of the raw material polymer has a peak in the range of 3 to 4 μm, and the wavelength of the peak inhibits the reaction, the wavelength may be set as the restriction target wavelength.
上述した実施形態において、制限対象波長の放射強度を制限するにあたり、制限対象波長を含む（あるいは制限対象波長を中心とする）制限対象領域を設定し、該制限対象領域の放射強度を制限してもよい。例えば、制限対象波長が上述のように６．９μｍだったとき、制限対象領域を６．９±ｘ（μｍ）（ｘは定数、例えば０．１とか０．２とか０．３）とし、その制限対象領域の放射強度を制限すればよい。こうすれば、制限対象波長の放射強度を確実に制限することができる。 In the embodiment described above, in limiting the radiation intensity of the restriction target wavelength, a restriction target region including the restriction target wavelength (or centering on the restriction target wavelength) is set, and the radiation intensity of the restriction target region is restricted. Also good. For example, when the restriction target wavelength is 6.9 μm as described above, the restriction target region is set to 6.9 ± x (μm) (x is a constant, for example, 0.1, 0.2, or 0.3). What is necessary is just to restrict | limit the radiation intensity of a restriction | limiting object area | region. By so doing, it is possible to reliably limit the radiation intensity of the restriction target wavelength.
この場合、制限対象領域の幅は、原料ポリマーのＩＲ吸収スペクトルにおける制限対象波長のピークの半値幅が大きいほど、大きくなる傾向となるように設定してもよい。例えば、制限対象波長が６．９μｍ、そのピークの半値幅（ＦＷＨＭ）が０．８μｍだったとすると、制限対象領域を６．９±０．８＊ｋ（μｍ）（ｋは定数、例えば０＜ｋ≦０．５）としてもよい。あるいは、半値幅が大きくなるにつれて制限対象領域をステップ関数的に大きくしてもよい。例えば、半値幅が０．１以上０．５μｍ未満のときには制限対象領域を６．９±０．１（μｍ）とし、０．５以上１μｍのときには制限対象領域を６．９±０．５（μｍ））のようにしてもよい。こうすれば、制限対象波長のピークの幅に応じて、赤外線ヒーター１０の放射強度を制限する制限対象領域を適切に設定することができる。 In this case, the width of the restriction target region may be set so as to increase as the half-value width of the peak of the restriction target wavelength in the IR absorption spectrum of the raw polymer increases. For example, if the restriction target wavelength is 6.9 μm and the half width (FWHM) of the peak is 0.8 μm, the restriction target region is 6.9 ± 0.8 * k (μm) (k is a constant, for example, 0 < k ≦ 0.5). Or you may enlarge a restriction | limiting object area | region in a step function as a half value width becomes large. For example, when the full width at half maximum is 0.1 or more and less than 0.5 μm, the restriction target area is 6.9 ± 0.1 (μm), and when the half width is 0.5 or more and 1 μm, the restriction target area is 6.9 ± 0.5 ( μm)). If it carries out like this, the restriction | limiting object area | region which restrict | limits the radiation intensity of the infrared heater 10 can be set appropriately according to the width | variety of the peak of restriction | limiting object wavelength.
上述した実施形態では、透過層５１のフィルタ特性の一例として図４を示したが、図６に示すフィルタ特性を採用してもよい。図６のフィルタ特性では、波長４μｍ以上の赤外線を透過するが、制限対象波長である６．９μｍの前後（６．９±０．５μｍ）を透過しない。この場合も、赤外線ヒーター１０から発せられる赤外光のうち６．９μｍの波長の放射強度が低く制限されているため、図７の原料ポリマーの架橋反応がスムーズに進行して機能性ポリマーがその機能を損なうことなく得られる。ここでは、６．９±０．５μｍを制限対象領域として放射強度を低く制限したが、この制限対象領域が広すぎる（例えば６．９±１μｍ）と、原料ポリマーが架橋しにくくなる。これは、架橋のアンカーとなる六角構造の振動が低すぎて、架橋が進行しないと考えられる。 In the embodiment described above, FIG. 4 is shown as an example of the filter characteristics of the transmission layer 51, but the filter characteristics shown in FIG. 6 may be adopted. In the filter characteristics of FIG. 6, infrared rays having a wavelength of 4 μm or more are transmitted, but not before and after 6.9 μm (6.9 ± 0.5 μm), which is the restriction target wavelength. Also in this case, since the radiation intensity of the wavelength of 6.9 μm of the infrared light emitted from the infrared heater 10 is limited to a low level, the cross-linking reaction of the raw material polymer in FIG. It can be obtained without impairing the function. Here, 6.9 ± 0.5 μm is set as the restriction target region, and the radiation intensity is restricted low. However, if the restriction target region is too wide (for example, 6.9 ± 1 μm), the raw material polymer is difficult to be cross-linked. It is considered that this is because the vibration of the hexagonal structure serving as the anchor for the crosslinking is too low and the crosslinking does not proceed.
上述した実施形態では、赤外線ヒーター１０に冷却ケースを設けなかったが、透過層５１の下方に全赤外線波長を透過する透過層を配置し、両透過層の間に冷媒を供給・排出可能な冷却ケースを設けてもよい。こうすれば、フィルタ部５０は冷却ケースによって冷却されるため、処理空間８１，炉体８０などの温度を低温に保つこともできる。こうした冷却ケースは、例えば特許第５７２１８９７号公報に記載されている。 In the embodiment described above, the infrared heater 10 is not provided with a cooling case, but a cooling layer that transmits all infrared wavelengths is disposed below the transmission layer 51, and cooling that can supply and discharge refrigerant between both transmission layers. A case may be provided. By so doing, the filter unit 50 is cooled by the cooling case, so that the temperatures of the processing space 81, the furnace body 80, etc. can be kept low. Such a cooling case is described in, for example, Japanese Patent No. 5721897.
上述した実施形態では、被処理物９０の熱処理を赤外線ヒーター１０のみを用いて行ったが、赤外線ヒーター１０と熱風を併用して行ってもよい。この場合も、熱処理を熱風のみを用いて行う場合に比べて、エネルギー効率が良くなる。 In the embodiment described above, the heat treatment of the workpiece 90 is performed using only the infrared heater 10, but the infrared heater 10 and hot air may be used in combination. Also in this case, energy efficiency is improved as compared with the case where the heat treatment is performed using only hot air.
上述した実施形態では、図７の機能性ポリマーを製造する例を示したが、特にこれに限定されるものではなく、原料ポリマーを高温で溶融し成形した後、熱処理して機能性ポリマーを製造する方法であれば本発明を適用可能である。例えば、ポリエステルの機能性ポリマーを製造する方法に本発明を適用してもよい。その場合、Ｃ＝Ｏ伸縮振動のピーク波長を制限対象波長とするのが好ましい。また溶融後に成形を行う工程に限定されるものではなく、溶液法などで成形された製品の熱処理に本発明を適用してもよい。 In the above-described embodiment, the example of producing the functional polymer of FIG. 7 has been shown. However, the present invention is not particularly limited to this. The raw material polymer is melted and molded at a high temperature, and then heat treated to produce the functional polymer. The present invention is applicable to any method that does. For example, the present invention may be applied to a method for producing a functional polymer of polyester. In that case, it is preferable to set the peak wavelength of C = O stretching vibration as the restriction target wavelength. Further, the present invention is not limited to the step of forming after melting, and the present invention may be applied to heat treatment of a product formed by a solution method or the like.
１０ 赤外線ヒーター、２０ 発熱部、２２ ケース、３０ 支持板、３１ 前側凸部、３２ 後側凸部、４０ 発熱体、４１ 折り返し端部、４７ 空間、５０ フィルタ部、５１ 透過層、５１ａ 基板、５１ｂ 上側コート層、５１ｃ 下側コート層、７１ 固定板、８０ 炉体、８１ 処理空間、８５ 搬送経路、９０ 被処理物、１００ 赤外線処理装置。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Infrared heater, 20 Heat generating part, 22 Case, 30 Support plate, 31 Front convex part, 32 Rear convex part, 40 Heat generating body, 41 Folding end part, 47 Space, 50 Filter part, 51 Transmission layer, 51a Substrate, 51b Upper coat layer, 51c Lower coat layer, 71 fixing plate, 80 furnace body, 81 processing space, 85 transport path, 90 workpiece, 100 infrared processing apparatus.
Claims (8)
前記熱処理は、赤外線ヒーターを用いて行い、
前記原料ポリマー又は該原料ポリマーを構成するモノマーの赤外線吸収スペクトルのピークの波長のうち、前記原料ポリマーから前記機能性ポリマーへの反応を阻害する波長を制限対象波長とし、前記赤外線ヒーターの前記制限対象波長の放射強度を制限する、
機能性ポリマーの製法。 A method for producing a functional polymer, which is obtained by melting and molding a raw material polymer at a high temperature and then heat-treating to obtain a functional polymer,
The heat treatment is performed using an infrared heater,
Among the wavelengths of the infrared absorption spectrum peak of the raw material polymer or the monomer constituting the raw material polymer, the wavelength that inhibits the reaction from the raw material polymer to the functional polymer is a restriction target wavelength, and the restriction target of the infrared heater Limit the radiation intensity of the wavelength,
Production method of functional polymer.
請求項１に記載の機能性ポリマーの製法。 The restriction target wavelength is the wavelength of the peak with the highest absorptance in the infrared absorption spectrum in a predetermined wavelength region of 4 μm or more of the raw polymer or the monomer constituting the raw polymer,
The manufacturing method of the functional polymer of Claim 1.
請求項２に記載の機能性ポリマーの製法。 In limiting the radiation intensity of the restriction target wavelength, the radiation intensity from the infrared heater is not restricted for wavelengths other than the restriction target wavelength among the peak wavelengths existing in the infrared absorption spectrum in the predetermined wavelength region. , Limiting the radiation intensity from the infrared heater for the restriction target wavelength,
The manufacturing method of the functional polymer of Claim 2.
請求項１〜３のいずれか１項に記載の機能性ポリマーの製法。 In limiting the radiation intensity of the restriction target wavelength, setting a restriction target region including the restriction target wavelength, and limiting the radiation intensity of the restriction target region,
The manufacturing method of the functional polymer of any one of Claims 1-3.
請求項４に記載の機能性ポリマーの製法。 The width of the restriction target region is set so as to increase as the full width at half maximum of the peak of the restriction target wavelength increases.
The manufacturing method of the functional polymer of Claim 4.
請求項１〜５のいずれか１項に記載の機能性ポリマーの製法。 In limiting the radiant intensity, it is limited to 10% or less of the maximum radiant intensity of infrared light emitted by the infrared heater,
The manufacturing method of the functional polymer of any one of Claims 1-5.
請求項１〜６のいずれか１項に記載の機能性ポリマーの製法。 The heat treatment is performed using the infrared heater and hot air in combination.
The manufacturing method of the functional polymer of any one of Claims 1-6.
請求項１〜７のいずれか１項に記載の機能性ポリマーの製法。 The functional polymer is a cyclic polyolefin or polyester.
The manufacturing method of the functional polymer of any one of Claims 1-7.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015197570A JP6619604B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Production method of functional polymer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015197570A JP6619604B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Production method of functional polymer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017071661A true JP2017071661A (en) | 2017-04-13 |
| JP6619604B2 JP6619604B2 (en) | 2019-12-11 |
Family
ID=58538138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015197570A Active JP6619604B2 (en) | 2015-10-05 | 2015-10-05 | Production method of functional polymer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6619604B2 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5413546A (en) * | 1977-07-01 | 1979-02-01 | Kuraray Plastics Co | Method of crosslinking rubber or synthetic resin moldings |
| JPH07323257A (en) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Kishimoto Akira | Short time heat treatment of organic coating |
| JPH09136055A (en) * | 1995-11-14 | 1997-05-27 | Omron Corp | Hardening method and hardening apparatus for sealing agent |
| JPH10128104A (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-19 | Hiroshige Yamada | Apparatus for controlling chemical reaction |
| JPH11512357A (en) * | 1995-09-20 | 1999-10-26 | ビルスボ・ブルックス・アクチボラゲット | Method for heating and / or cross-linking a polymer and apparatus therefor |
| JP5721897B1 (en) * | 2014-11-28 | 2015-05-20 | 日本碍子株式会社 | Infrared treatment device and infrared heater |
-
2015
- 2015-10-05 JP JP2015197570A patent/JP6619604B2/en active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5413546A (en) * | 1977-07-01 | 1979-02-01 | Kuraray Plastics Co | Method of crosslinking rubber or synthetic resin moldings |
| JPH07323257A (en) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Kishimoto Akira | Short time heat treatment of organic coating |
| JPH11512357A (en) * | 1995-09-20 | 1999-10-26 | ビルスボ・ブルックス・アクチボラゲット | Method for heating and / or cross-linking a polymer and apparatus therefor |
| JPH09136055A (en) * | 1995-11-14 | 1997-05-27 | Omron Corp | Hardening method and hardening apparatus for sealing agent |
| JPH10128104A (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-19 | Hiroshige Yamada | Apparatus for controlling chemical reaction |
| JP5721897B1 (en) * | 2014-11-28 | 2015-05-20 | 日本碍子株式会社 | Infrared treatment device and infrared heater |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6619604B2 (en) | 2019-12-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI545094B (en) | Microwave-based glass laminate fabrication | |
| US20160033199A1 (en) | Method and apparatus for manufacturing enameled wire | |
| JP2015198063A (en) | infrared heater | |
| CN101678507A (en) | The pyrometer that is used for laser annealing system of compatible with amorphous carbon optical absorbing layer | |
| KR102435770B1 (en) | Infrared heater and infrared processing device | |
| JP2011099567A (en) | Infrared heating device, infrared irradiating device, and infrared irradiating direction adjusting device | |
| JP6619604B2 (en) | Production method of functional polymer | |
| US6345149B1 (en) | UV oven for curing magnet wire coatings | |
| JP6692046B2 (en) | Infrared heater | |
| JP5721897B1 (en) | Infrared treatment device and infrared heater | |
| JP2022508499A (en) | Surface treatment method for electric matte tin-plated products | |
| KR100250636B1 (en) | Round type heating plate of heating chamber for fabricating semiconductor device | |
| US11814729B2 (en) | Method for manufacturing glass article and method for heating thin sheet glass | |
| JP2018008425A (en) | Radiation device, and processing unit using radiation device | |
| JP6435915B2 (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus for enameled wire | |
| KR102154419B1 (en) | Heating device | |
| JP5842220B2 (en) | Resin film heating method | |
| JP6442355B2 (en) | Infrared heater and infrared processing device | |
| JP6652831B2 (en) | Infrared treatment method and method for producing treated body | |
| KR101817794B1 (en) | Coating apparatus for optical fiber | |
| RU2803176C1 (en) | Device for selective laser melting of powder materials | |
| JP2007120930A (en) | Heating device | |
| KR101400134B1 (en) | electric heater | |
| JP6931286B2 (en) | Induction heating device and induction heating method | |
| FI124403B (en) | A method for performing infrared processing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180719 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190306 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190527 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191029 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191115 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6619604 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |