JP5842220B2 - Resin film heating method - Google Patents

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Description

本発明は、赤外線ヒータを用いた樹脂フィルムの加熱方法に関するものであり、更に詳細には、リチウムイオン電池のセパレータ等に使用されるポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等を効率よく加熱する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for heating a resin film using an infrared heater, and more particularly to a method for efficiently heating a polyethylene film or a polypropylene film used for a separator of a lithium ion battery. .

成形された樹脂フィルムに対してアニーリング等の熱処理を施すために、加熱を要する場合がある。そのためには例えば特許文献1に示すように、樹脂フィルムをロールトゥロール方式により炉内を走行させながら、熱風吹き付けと赤外線照射によって加熱する方法が一般的である。その赤外線ヒータとしては、ガラス製の保護管の内部にフィラメントを収納した構造のもの(例えば特許文献2)が広く使用されている。   Heating may be required to perform heat treatment such as annealing on the molded resin film. For this purpose, for example, as shown in Patent Document 1, a method of heating a resin film by hot air blowing and infrared irradiation while running in a furnace by a roll-to-roll method is common. As the infrared heater, one having a structure in which a filament is housed inside a glass protective tube (for example, Patent Document 2) is widely used.

加熱工程の生産性を高めるためには、赤外線ヒータから多くの熱量を樹脂フィルムに放射することが必要である。そこで従来は、赤外線ヒータのフィラメント温度を高め、放射エネルギーを増加させる方法を取るのが普通であった。フィラメント温度が高まると放射スペクトルのピークが短波長側に移行することが知られており、特にフィラメント温度を700℃以上とすると、図1に示すように放射スペクトルの主波長が近赤外線領域である3.5μm以下となる。このような近赤外線はポリエチレンフィルムやポリプロピレンフィルムの分子構造中の共有結合に作用し、効率よく加熱を進行させることができる。 In order to increase the productivity of the heating process, it is necessary to radiate a large amount of heat from the infrared heater to the resin film. Therefore, conventionally, it has been common to increase the radiant energy by increasing the filament temperature of the infrared heater. It is known that when the filament temperature increases, the peak of the emission spectrum shifts to the short wavelength side. Especially when the filament temperature is set to 700 ° C. or higher, the main wavelength of the emission spectrum is in the near infrared region as shown in FIG. 3.5 μm or less. Such near infrared rays act on the covalent bond in the molecular structure of a polyethylene film or a polypropylene film, and can advance heating efficiently.

ところが、赤外線ヒータのフィラメント温度を高めると、次第にその周囲を取り巻く保護管の温度も上昇し、保護管自体が放射体となって赤外線を放射することとなる。例えば保護管の温度が300℃となると、図1に示すように主波長が5μmの赤外線が炉内に放射されることで、樹脂フィルムとともに炉壁が加熱される。但しその条件ではねらいとする3.5μm以下の近赤外線領域の輻射エネルギーは微々たる量であるため、加熱効率が不十分である。   However, when the filament temperature of the infrared heater is raised, the temperature of the protective tube surrounding the periphery gradually increases, and the protective tube itself becomes a radiator and emits infrared rays. For example, when the temperature of the protective tube reaches 300 ° C., the furnace wall is heated together with the resin film by radiating infrared rays having a dominant wavelength of 5 μm into the furnace as shown in FIG. However, since the radiation energy in the near-infrared region of 3.5 μm or less, which is the target under such conditions, is a slight amount, the heating efficiency is insufficient.

そこで当該3.5μm以下の輻射エネルギーを増大させようとすると、遠赤外領域の輻射エネルギーも更に増大し、樹脂フィルム及び炉壁を過熱してしまう。このようにして炉内温度が上昇し過ぎて樹脂フィルムの軟化点を超えると、アニーリング等の熱処理を適切に施すことができなくなる。このため従来は、フィルム温度や炉内温度の上昇を抑制しながら、樹脂フィルムを効率的に加熱することはできなかった。   Therefore, if an attempt is made to increase the radiant energy of 3.5 μm or less, the radiant energy in the far infrared region also increases, and the resin film and the furnace wall are overheated. Thus, when the furnace temperature rises too much and exceeds the softening point of the resin film, heat treatment such as annealing cannot be appropriately performed. For this reason, conventionally, the resin film could not be efficiently heated while suppressing an increase in film temperature and furnace temperature.

特開2004−299216号公報JP 2004-299216 A 特開2006−294337号公報JP 2006-294337 A

従って本発明の目的は上記した従来の問題点を解決し、炉内温度やフィルム温度の上昇を抑制しながら、共有結合に作用する近赤外線を集中的に放射し、樹脂フィルムを効率よく加熱することができる樹脂フィルムの加熱方法を提供することである。   Therefore, the object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, while radiating near infrared rays acting on the covalent bond intensively while suppressing the rise in the furnace temperature and the film temperature, and efficiently heating the resin film It is to provide a method for heating a resin film.

上記の課題を解決するためになされた本発明の樹脂フィルムの加熱方法は、分子構造中に共有結合を有し、波長が3.5μm以下の電磁波の吸収スペクトルを持つ樹脂フィルムを炉体の内部で走行させながら、フィラメントの外周が3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する内側の管と、3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する外側の管とによって2重によって覆われ、これらの2重の管の間にヒータ表面温度の上昇を抑制する冷却用空気の流路を形成した構造の赤外線ヒータで加熱し、赤外線ヒータのフィラメント温度を700〜1200℃として前記共有結合に作用するのに適した主波長が3.5μm以下の赤外線を照射しつつ、冷却用空気により赤外線ヒータの表面温度を200℃以下に抑制し、炉内温度の上昇を抑制しつつ樹脂フィルムを加熱することを特徴とするものである。 The method for heating a resin film of the present invention made to solve the above-mentioned problem is to provide a resin film having a covalent bond in the molecular structure and having an absorption spectrum of electromagnetic waves having a wavelength of 3.5 μm or less inside the furnace body. in while traveling, covered with inner tube outer periphery of the filament absorbs infrared radiation having a wavelength greater than 3.5 [mu] m, the double by an outer tube that absorbs infrared radiation having a wavelength greater than 3.5 [mu] m, these It is heated by an infrared heater having a structure in which a cooling air flow path that suppresses the rise in the heater surface temperature is formed between the two tubes, and the filament temperature of the infrared heater is set to 700 to 1200 ° C. and acts on the covalent bond . while irradiating infrared rays dominant wavelength below 3.5μm suitable for the surface temperature of the infrared heater is suppressed to 200 ° C. or less by the cooling air, to suppress an increase in the furnace temperature And it is characterized in heating the One resin film.

好ましい実施形態においては、樹脂フィルムはリチウムイオン電池の電極隔壁として使用されるセパレータである。また樹脂フィルムはポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムである。これらの樹脂フィルムを、ロールトゥロール方式により炉内を走行させることが好ましい。   In a preferred embodiment, the resin film is a separator used as an electrode partition of a lithium ion battery. The resin film is a polyethylene film or a polypropylene film. It is preferable to run these resin films in the furnace by a roll-to-roll method.

本発明の樹脂フィルムの加熱方法においては、樹脂フィルムの加熱手段として、フィラメントの外周が3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する複数の管によって覆われ、これらの複数の管の間に赤外線ヒータの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路を形成した構造を有する赤外線ヒータを用いる。この赤外線ヒータはフィラメントを700〜1200℃の高温にして、分子中の共有結合に作用する3.5μm以下の短波長の赤外線を選択的に放射し、搬送手段によって炉内を走行する樹脂フィルムを効率的に加熱することができる。しかも冷却用流体により赤外線ヒータの表面温度の上昇を抑制するため、波長が3.5μm以上の長波長の赤外線による炉内温度の上昇を抑制することができ、エネルギーの無駄をなくすことができるとともに、乾燥対象物である樹脂フィルムや炉内温度の上昇を抑制することができる。 In the resin film heating method of the present invention, as the resin film heating means, the outer periphery of the filament is covered with a plurality of tubes that absorb infrared rays having a wavelength exceeding 3.5 μm, and infrared rays are interposed between the plurality of tubes. An infrared heater having a structure in which a flow path of a cooling fluid that suppresses an increase in the surface temperature of the heater is formed is used. This infrared heater raises the filament to a high temperature of 700 to 1200 ° C., selectively radiates infrared rays having a short wavelength of 3.5 μm or less, which acts on the covalent bond in the molecule, and moves the resin film running in the furnace by the conveying means. It can be heated efficiently. Moreover, because the cooling fluid suppresses the increase in the surface temperature of the infrared heater, the increase in the furnace temperature due to the long wavelength infrared light having a wavelength of 3.5 μm or more can be suppressed, and waste of energy can be eliminated. And the rise of the resin film which is a drying target object, or the temperature in a furnace can be suppressed.

赤外線ヒータの放射スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the radiation spectrum of an infrared heater. 本発明の実施形態の乾燥炉を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the drying furnace of embodiment of this invention. 本発明に用いられる赤外線ヒータの断面図である。It is sectional drawing of the infrared heater used for this invention. 本発明に用いられる赤外線ヒータの放射スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the radiation spectrum of the infrared heater used for this invention.

以下に図面を参照しつつ、本発明の実施形態を説明する。
図2は本発明に使用される乾燥炉を示す模式的な断面図であり、1はトンネル状の炉体、2はこの炉体1の入口側に設けられた払い出しロール、3は出口側に設けられた巻き取りロールである。樹脂フィルムFはいわゆるロールトゥロール方式により炉内を右方向に走行する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a drying furnace used in the present invention, where 1 is a tunnel-like furnace body, 2 is a discharge roll provided on the inlet side of the furnace body 1, and 3 is on the outlet side. It is the winding roll provided. The resin film F travels rightward in the furnace by a so-called roll-to-roll method.

樹脂フィルムFは例えばリチウムイオン電池のセパレータ等に使用されるポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムであり、何れも分子構造中に共有結合を有し、波長が3.5μm以下の電磁波の吸収スペクトルを持つ。具体的には、ポリエチレンは2.7〜3.5μmに吸収域を持ち、ポリプロピレンは2.5〜3.3μmに吸収域を持つ。 The resin film F is, for example, a polyethylene film or a polypropylene film used for a separator of a lithium ion battery, and both have a covalent bond in the molecular structure and have an electromagnetic wave absorption spectrum with a wavelength of 3.5 μm or less. Specifically, polyethylene has an absorption region at 2.7 to 3.5 μm, and polypropylene has an absorption region at 2.5 to 3.3 μm.

炉体1の天井部には多数の赤外線ヒータ4が配置され、走行する樹脂フィルムFに赤外線を照射する。これらの赤外線ヒータ4は、図3に示すようにフィラメント5の外周が3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する複数の管6、7によって覆われた構造を持つ。内側の管6はフィラメント5の保護管であり、石英ガラス等の赤外線透過性のガラス管である。また外側の管7は3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する石英ガラスやホウケイ酸クラウンガラスなどからなり、ローパスフィルタとして機能するものである。 A large number of infrared heaters 4 are arranged on the ceiling of the furnace body 1 to irradiate the traveling resin film F with infrared rays. As shown in FIG. 3, these infrared heaters 4 have a structure in which the outer periphery of the filament 5 is covered with a plurality of tubes 6 and 7 that absorb infrared rays having a wavelength exceeding 3.5 μm. The inner tube 6 is a protective tube for the filament 5 and is an infrared ray transmitting glass tube such as quartz glass. The outer tube 7 is made of quartz glass or borosilicate crown glass that absorbs infrared rays having a wavelength exceeding 3.5 μm, and functions as a low-pass filter.

製品物性に起因する上限温度が定められた加熱炉内において、共有結合を有する樹脂フィルムの加熱に効果的であると考えられる短波長(3.5μm以下)の赤外線ふく射が支配的になるように制御することは実際には容易ではない。その理由として、プランクの放射法則により、当該波長域を主体とする放射体の温度が最低でも700℃を超える高温になるという点が挙げられる。これにより炉内温度が上がると樹脂フィルムFが軟化し、目的とするアニーリングが行えなくなる。また仮に許容されたとしても、放射の理論面から以下のような問題点が推察される。   In the heating furnace where the upper limit temperature resulting from the product physical properties is defined, infrared radiation with a short wavelength (3.5 μm or less) considered to be effective for heating a resin film having a covalent bond becomes dominant. It is not really easy to control. The reason for this is that the temperature of a radiator mainly composed of the wavelength region becomes a high temperature exceeding 700 ° C. at least according to Planck's radiation law. As a result, when the furnace temperature rises, the resin film F softens and the intended annealing cannot be performed. Even if allowed, the following problems can be inferred from the theoretical aspect of radiation.

まず当該高温の放射体からは、たしかに短波長の放射が優先的に放射されるが、一方でステファン・ボルツマンの法則により、単位面積あたりの放射エネルギーも莫大なものになる。そうすると、最終的には炉内各部において必要以上の温度上昇を招き、特に省エネルギー性や、搬送停止時における製品の耐熱性の面から、大量生産目的の乾燥プロセスとして成立させることが不可能であった。   First, short wavelength radiation is preferentially radiated from the high temperature radiator, but the radiation energy per unit area is enormous due to Stefan-Boltzmann law. As a result, an unnecessarily high temperature rise is caused in each part of the furnace, and it is impossible to establish a drying process for mass production, particularly from the viewpoint of energy saving and heat resistance of the product when transport is stopped. It was.

これに対して図3に示した形状のヒータにおいては、放射体が細いフィラメント形状をなしているため放射面積および熱容量がともに小さく、ヒータ1本あたりで見た場合「短波長の赤外線を少量放射する」という放射源としての特徴を持つことを意味する。すなわち、当該フィラメント自身の温度上昇が容易で、当該フィラメントの温度を変更し、さらにはヒータ設置本数(ピッチ)の調整により、炉内単位体積中での放射面積(総エネルギー生成量)の制御も容易である。また、700℃〜1200℃で通電しているフィラメントは通電を停止すれば瞬時に温度が低下するため、搬送停止時における安全性もきわめて高い。当該特徴に加えさらに管の冷却機構を導入することにより、前述の各問題が解消され、幅広い用途を前提とした乾燥炉内のふく射の波長制御が可能になる。   On the other hand, in the heater having the shape shown in FIG. 3, since the radiator has a thin filament shape, both the radiation area and the heat capacity are small. When viewed from one heater, “a small amount of short wavelength infrared radiation is emitted. It means having the characteristics as a radiation source. That is, the temperature of the filament itself can be easily increased, the temperature of the filament can be changed, and the radiation area (total energy generation) in the unit volume in the furnace can be controlled by adjusting the number of heaters installed (pitch). Easy. In addition, since the temperature of the filament energized at 700 ° C. to 1200 ° C. is instantaneously reduced when the energization is stopped, the safety when the conveyance is stopped is extremely high. By introducing a tube cooling mechanism in addition to the above features, each of the above-mentioned problems can be solved, and the wavelength of radiation in the drying furnace can be controlled assuming a wide range of applications.

フィラメント5は700〜1200℃に通電加熱され、図4に示すように波長が3μm付近にピークを持つ赤外線を放射するが、石英ガラスやホウ珪酸クラウンガラスなどは、3.5μm以下の波長の赤外線を透過し、ハッチングで示した3.5μmを超える波長の赤外線を吸収するローパスフィルタとしての機能を有するため、管6および管7はフィラメント5から放射された電磁波のうち、波長が3.5μm以下の赤外線を選択的に透過して炉内に供給する。この波長領域の赤外線エネルギーは樹脂フィルムFの分子中の共有結合の振動数とも合致するため、樹脂フィルムFを効率よく加熱することができる。 The filament 5 is heated to 700 to 1200 ° C. and emits infrared light having a peak near 3 μm as shown in FIG. 4, but quartz glass, borosilicate crown glass, and the like have infrared wavelengths of 3.5 μm or less. Because the tube 6 and the tube 7 have a function as a low-pass filter that absorbs infrared rays having a wavelength exceeding 3.5 μm indicated by hatching, the tube 6 and the tube 7 have a wavelength of 3.5 μm or less among the electromagnetic waves radiated from the filament 5. supplied into the furnace through the infrared selectively. Since the infrared energy in this wavelength region matches the vibration frequency of the covalent bond in the molecule of the resin film F, the resin film F can be efficiently heated.

しかし管6および管7は、3.5μmよりも長波長領域においては逆にふく射の吸収体となり、赤外線エネルギーを吸収することによりそれ自体が昇温する。前述の温度におけるフィラメント5からは3.5μmよりも長波長領域の赤外線も相当量放射されているため、そのままでは管温度が上昇する懸念が生ずる。またその結果、管自身も赤外線の放射体となり、主として3.5μmよりも長波長の赤外線を炉内に二次放射することは前述の通りである。このような長波長の赤外線は、3μm付近の赤外線に比較すると加熱効果への寄与低下が考えられるのみならず、炉内壁における当該赤外線の吸収による壁温度上昇を経由して炉内流体温度をも上昇させ、樹脂フィルムFの温度を過度に上昇させる恐れがある。   However, the tube 6 and the tube 7 become radiation absorbers in the wavelength region longer than 3.5 μm, and rise in temperature by absorbing infrared energy. Since a considerable amount of infrared rays having a wavelength longer than 3.5 μm is radiated from the filament 5 at the above-described temperature, there is a concern that the tube temperature will rise as it is. As a result, the tube itself also becomes an infrared radiator, and the infrared radiation having a wavelength longer than 3.5 μm is mainly emitted into the furnace as described above. Such long-wavelength infrared rays can be considered not only to reduce the contribution to the heating effect compared to infrared rays around 3 μm, but also to increase the fluid temperature in the furnace via the increase in wall temperature due to the absorption of the infrared rays on the inner wall of the furnace. The temperature of the resin film F may be excessively increased.

そこで本発明では管6と管7との間の空間を、赤外線ヒータの表面温度の上昇を抑制する冷却用流体の流路8とし、冷却用流体を流す。これにより管6および管7に一旦吸収された長波長領域の赤外線のエネルギーを、対流熱伝達の形で変換して冷却流体に伝達し系外に除去することが可能になる。その結果、最終的に炉内に供給される赤外線の波長を短波長域に限定するとともに、フィラメント5が高温で継続的に通電加熱されている状況においても、管6および管7、とりわけ外側の管7を200℃以下、より好ましくは150℃以下に維持することが可能になる。   Therefore, in the present invention, the space between the pipe 6 and the pipe 7 is used as a cooling fluid flow path 8 that suppresses an increase in the surface temperature of the infrared heater, and the cooling fluid is allowed to flow. As a result, the infrared energy in the long wavelength region once absorbed by the tubes 6 and 7 can be converted in the form of convection heat transfer, transmitted to the cooling fluid, and removed outside the system. As a result, the wavelength of the infrared rays finally supplied into the furnace is limited to a short wavelength region, and even in a situation where the filament 5 is continuously energized and heated at a high temperature, It becomes possible to maintain the tube 7 at 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.

冷却流体は例えば空気、不活性ガスなどであるが、本実施形態では流体供給口9から空気を吹き込み、加熱された空気を流体排出口10から取り出している。なお、流体排出口10から取り出された空気は100℃以上の熱風となる場合もあるから、炉内に供給する等の有効利用を図ることが好ましい。   The cooling fluid is, for example, air or an inert gas. In this embodiment, air is blown from the fluid supply port 9 and heated air is taken out from the fluid discharge port 10. In addition, since the air taken out from the fluid discharge port 10 may become hot air of 100 ° C. or higher, it is preferable to make effective use such as supplying into the furnace.

このような構造の赤外線ヒータ4は、波長が3.5μm以下の赤外線を選択的に炉内に供給することができ、しかも赤外線ヒータ4の表面温度は低温に保たれているので、炉内温度の上昇を抑制することができる。このため樹脂フィルムFの過熱も防止される。また炉体1の内壁を赤外線放射率の小さい反射性材料により構成すれば、炉壁の昇温をより効果的に抑制することができる。そのような材料としては例えば、光沢のあるステンレス鋼板を使用することができる。 The infrared heater 4 having such a structure can selectively supply infrared rays having a wavelength of 3.5 μm or less into the furnace, and the surface temperature of the infrared heater 4 is kept at a low temperature. Can be suppressed. For this reason, overheating of the resin film F is also prevented. Further, if the inner wall of the furnace body 1 is made of a reflective material having a small infrared emissivity, the temperature rise of the furnace wall can be more effectively suppressed. As such a material, for example, a glossy stainless steel plate can be used.

上記した赤外線ヒータ4のほか、炉内底部には熱風を樹脂フィルムFに向かって吹き付けるための熱風噴出手段11を多数配置し、熱風による乾燥を併用することが好ましい。これらの熱風噴出手段11は炉内で樹脂フィルムFを支持する手段としても機能する。これらの熱風噴出手段は炉体1の天井面にも形成し、炉内を走行する樹脂フィルムFの上面及び下面から熱風を吹き付けるようにしておくことができる。しかしこの点は本発明の要部ではなく、適宜変更することが可能である。   In addition to the infrared heater 4 described above, it is preferable that a large number of hot air blowing means 11 for blowing hot air toward the resin film F are arranged at the bottom of the furnace, and drying with hot air is used in combination. These hot air blowing means 11 also function as means for supporting the resin film F in the furnace. These hot air blowing means can also be formed on the ceiling surface of the furnace body 1 so that hot air can be blown from the upper and lower surfaces of the resin film F running in the furnace. However, this point is not an essential part of the present invention and can be changed as appropriate.

セパレータ用ポリエチレンフィルムの加熱における代表的なヒータの設定例を表1に示す。ヒータ表面温度の設定温度としてはフィラメント温度ではなく外側の管7の温度を示す。放射赤外線の主体部分は中心のフィラメントから放射され、管7を透過して外部に出てくるものなので、管7の温度が低くとも加熱効果において全く問題ない。実際の運用時には、ヒータへの通電量(w)、気体流量により制御することも可能である。   Table 1 shows a typical heater setting example for heating the separator polyethylene film. The set temperature of the heater surface temperature is not the filament temperature but the temperature of the outer tube 7. Since the main part of the radiant infrared rays is emitted from the central filament and passes through the tube 7 and exits to the outside, there is no problem in the heating effect even if the temperature of the tube 7 is low. In actual operation, it is also possible to control by the energization amount (w) to the heater and the gas flow rate.

Figure 0005842220
Figure 0005842220

上記した実施形態では図2に示すように、炉体1を入口側から3ゾーンに区画し、異なる個数の赤外線ヒータ4を配置したが、このようなレイアウトは加熱対象物の性状に応じて適宜変更が可能であり、例えば炉内全体を単一ゾーンとしたり、同一ゾーン内においても赤外線ヒータ4のピッチを変えたりすることができる。また上記した実施形態では図2に示すように、樹脂フィルムFの下面を熱風噴出手段11からの熱風により支持させたが、ロールで支持させたりするなど適宜変更が可能である。   In the above-described embodiment, as shown in FIG. 2, the furnace body 1 is divided into three zones from the inlet side, and a different number of infrared heaters 4 are arranged. Such a layout is appropriately determined according to the properties of the heating object. For example, the entire furnace can be a single zone, or the pitch of the infrared heaters 4 can be changed within the same zone. In the above-described embodiment, as shown in FIG. 2, the lower surface of the resin film F is supported by hot air from the hot air jetting means 11, but can be appropriately changed such as being supported by a roll.

以上に説明したように、本発明によれば、炉内温度やワーク表面温度の上昇を抑制しながら、分子間の共有結合に作用する近赤外線を集中的に放射し、樹脂フィルムを効率よく乾燥することができる。   As described above, according to the present invention, near-infrared rays that act on covalent bonds between molecules are intensively radiated and the resin film is efficiently dried while suppressing an increase in furnace temperature and workpiece surface temperature. can do.

従来型の赤外線ヒータと、本発明による赤外線ヒータを各々同一の加熱装置に設置してアニーリングの効果を比較した。フィルム表面のキープ温度を120℃、キープ時間を30秒、昇温時間を10秒、冷却時間を5秒となるように各ヒータ発熱条件を調整した状態で、フィルムを加熱装置内で搬送させてアニーリングさせた。アニーリング効果は、キープ時間を3分滞在させた状態を100、アニール前の状態を1として定量する。その結果は、従来型の赤外線ヒータで90のアニーリング効果であり、本発明による赤外線ヒータで97のアニーリング効果を示した。同一の温度履歴であっても本発明による赤外線ヒータの効果が確認された。   A conventional infrared heater and an infrared heater according to the present invention were installed in the same heating device, and the effects of annealing were compared. The film is transported in a heating device with the heating conditions of each heater adjusted so that the keep temperature on the film surface is 120 ° C., the keep time is 30 seconds, the temperature rise time is 10 seconds, and the cooling time is 5 seconds. Annealed. The annealing effect is quantified by assuming that the state where the keep time stays for 3 minutes is 100 and the state before annealing is 1. As a result, the conventional infrared heater showed an annealing effect of 90, and the infrared heater according to the present invention showed an annealing effect of 97. Even with the same temperature history, the effect of the infrared heater according to the present invention was confirmed.

1 炉体
2 払い出しロール
3 巻き取りロール
4 赤外線ヒータ
5 フィラメント
6 内側の管
7 外側の管
8 冷却用流体の流路
9 流体供給口
10 流体排出口
11 熱風噴出手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Furnace body 2 Discharge roll 3 Winding roll 4 Infrared heater 5 Filament 6 Inner pipe | tube 7 Outer pipe | tube 8 Flow path of cooling fluid 9 Fluid supply port 10 Fluid discharge port 11 Hot-air ejection means

Claims (4)

分子構造中に共有結合を有し、波長が3.5μm以下の電磁波の吸収スペクトルを持つ樹脂フィルムを炉体の内部で走行させながら、フィラメントの外周が3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する内側の管と、3.5μmを超える波長を持つ赤外線を吸収する外側の管とによって2重によって覆われ、これらの2重の管の間にヒータ表面温度の上昇を抑制する冷却用空気の流路を形成した構造の赤外線ヒータで加熱し、赤外線ヒータのフィラメント温度を700〜1200℃として前記共有結合に作用するのに適した主波長が3.5μm以下の赤外線を照射しつつ、冷却用空気により赤外線ヒータの表面温度を200℃以下に抑制し、炉内温度の上昇を抑制しつつ樹脂フィルムを加熱することを特徴とする樹脂フィルムの加熱方法。 Absorbs infrared rays having a wavelength of more than 3.5 μm on the outer periphery of the filament while running inside the furnace body with a resin film having a covalent bond in the molecular structure and an electromagnetic wave absorption spectrum with a wavelength of 3.5 μm or less Of the cooling air, which is covered by a double layer by an inner tube that absorbs infrared light having a wavelength exceeding 3.5 μm, and that suppresses the rise in the heater surface temperature between these double tubes. Heating with an infrared heater having a structure in which a flow path is formed, and cooling the infrared heater while irradiating infrared light having a main wavelength of 3.5 μm or less suitable for acting on the covalent bond with a filament temperature of 700 to 1200 ° C. A method for heating a resin film, characterized in that the surface temperature of an infrared heater is suppressed to 200 ° C. or less by air and the resin film is heated while suppressing an increase in furnace temperature. 樹脂フィルムが、電池の電極隔壁として使用されるセパレータであることを特徴とする請求項1に記載の樹脂フィルムの加熱方法。   The method for heating a resin film according to claim 1, wherein the resin film is a separator used as an electrode partition of a battery. 樹脂フィルムが、ポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムであることを特徴とする請求項2に記載の樹脂フィルムの加熱方法。   The method for heating a resin film according to claim 2, wherein the resin film is a polyethylene film or a polypropylene film. 樹脂フィルムを、ロールトゥロール方式により炉内を走行させることを特徴とする請求項1に記載の樹脂フィルムの加熱方法。   The method for heating a resin film according to claim 1, wherein the resin film is caused to travel in a furnace by a roll-to-roll method.
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