JP2017062361A - Lighting control film and method for manufacturing the lighting control film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する。 The present invention relates to a light control film that can be used for, for example, an electronic blind that is attached to a window to control the transmission of extraneous light.
従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている(特許文献1、2)。このような調光フィルムの1つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムでは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。 Conventionally, for example, various devices relating to a light control film that is attached to a window to control the transmission of external light have been proposed (Patent Documents 1 and 2). One such light control film uses liquid crystal. The light control film using the liquid crystal is produced by sandwiching a liquid crystal material with a transparent film material on which a transparent electrode is produced, and producing the liquid crystal cell with a linear polarizing plate. As a result, in this light control film, the orientation of the liquid crystal is changed by changing the electric field applied to the liquid crystal, thereby blocking or transmitting the extraneous light, and further changing the amount of transmitted light. To control.
また画像表示パネルの1つのである液晶表示パネルは、透明電極、配向層を作製してなる1対のガラス板材により液晶を挟持して液晶セルが構成され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して構成される。液晶表示パネルは、この透明電極のパターンニングにより、画素単位で、液晶に印加する電界を可変して所望の画像を表示する。 In addition, a liquid crystal display panel, which is one of the image display panels, includes a liquid crystal cell sandwiched between a pair of glass plates made of transparent electrodes and alignment layers, and the liquid crystal cell is sandwiched between linear polarizing plates. Configured. The liquid crystal display panel displays a desired image by changing the electric field applied to the liquid crystal in units of pixels by patterning the transparent electrode.
ところで液晶表示パネルは、生産設備、生産材が種々に提供されている。これにより例えばガラス基板等の製造用基板に透明フィルム材を保持して透明電極等を作製することにより、液晶表示パネルの設備、生産材を有効に利用して効率良く調光フィルムを生産できると考えられる。因みに、この種の透明フィルム材は、耐熱温度が120℃程度であるものの、このようにガラス基板に保持すれば、製造工程の温度管理により透明電極等を作製することができると考えられる。 By the way, the liquid crystal display panel is provided with various production facilities and production materials. With this, for example, by producing a transparent electrode by holding a transparent film material on a production substrate such as a glass substrate, it is possible to efficiently produce a light control film by effectively using equipment and production materials of a liquid crystal display panel Conceivable. Incidentally, although this type of transparent film material has a heat-resistant temperature of about 120 ° C., it is considered that a transparent electrode or the like can be produced by temperature control in the manufacturing process if it is held on the glass substrate in this way.
しかしながらこのようにガラス基板等の製造用基板に透明フィルム材を保持して透明電極等を作製する場合には、作製時における熱膨張により、製造用基板に保持した透明フィルム材が製造用基板から浮き上がって、透明フィルム材が反ったり、透明フィルム材にシワが発生したりし、これにより精度良く安定に生産できない問題がある。 However, in the case of producing a transparent electrode or the like by holding a transparent film material on a production substrate such as a glass substrate in this way, the transparent film material held on the production substrate is removed from the production substrate by thermal expansion during production. There is a problem that the transparent film material is warped or wrinkles are generated in the transparent film material due to floating, and this makes it impossible to produce accurately and stably.
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、調光フィルムに関して、精度良く安定に生産できるようにすることを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a condition, and it aims at enabling it to produce accurately and stably regarding a light control film.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、ガラス基板等の製造用基板に塗工液を塗工して保持層を作製し、この保持層に透明電極等を作製した後、製造用基板を剥離する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。 The present inventor conducted extensive research to solve the above problems, and after applying a coating liquid to a production substrate such as a glass substrate to produce a holding layer, and producing a transparent electrode and the like on this holding layer The idea of peeling off the production substrate has led to the completion of the present invention.
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。 Specifically, the present invention provides the following.
(1) 少なくとも配向層を備えてなる第1及び第2の積層体により液晶層を挟持し、前記第1及び又は第2の積層体に設けられた透明電極の駆動により前記液晶層に係る液晶の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第1及び又は第2の積層体は、
基材に、塗工膜による保持層が接着剤層により設けられ、
前記保持層を介して前記配向層が前記基材に保持された調光フィルム。
(1) A liquid crystal layer is sandwiched between first and second stacked bodies each including at least an alignment layer, and the liquid crystal according to the liquid crystal layer is driven by a transparent electrode provided in the first and / or second stacked body. In the light control film that controls the transmitted light by controlling the orientation of
The first and / or second laminate is
On the base material, a holding layer by a coating film is provided by an adhesive layer,
The light control film by which the said alignment layer was hold | maintained at the said base material through the said holding layer.
(1)によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層して第1及び又は第2の積層体を作製した後、液晶層と積層し、その後、製造用基板を剥離する等により作製することができることにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第1及び又は第2の積層体を精度良く作成することができる。これらにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。 According to (1), after the alignment layer is laminated on the holding layer produced by forming the coating film on the production substrate to produce the first and second laminated bodies, the liquid crystal layer is laminated, Then, by being able to produce by peeling off the production substrate, for example, effectively avoiding warpage and wrinkling as in the case of producing a transparent electrode or the like by holding the transparent film material on the production substrate. This makes it possible to produce stably. Further, in this case, the holding layer is accurately positioned and held on the manufacturing substrate, so that the first and / or second laminate can be formed with high accuracy. Thus, the light control film can be produced stably with high accuracy.
(2) (1)において、
前記第1及び第2の積層体の前記液晶層とは逆側面に、直線偏光板の光学的機能層を備える調光フィルム。
(2) In (1),
A light control film comprising an optical functional layer of a linearly polarizing plate on a side surface opposite to the liquid crystal layer of the first and second laminates.
(2)によれば、液晶層による偏光面の制御により調光を図る構成に適用することができる。 According to (2), the present invention can be applied to a configuration in which light control is performed by controlling the polarization plane by the liquid crystal layer.
(3) (1)において、
前記液晶層が、ゲストホスト液晶による液晶層である調光フィルム。
(3) In (1),
The light control film whose said liquid crystal layer is a liquid crystal layer by a guest host liquid crystal.
(3)によれば、ゲストホスト液晶による液晶層を使用して調光を図る構成に適用することができる。 According to (3), the present invention can be applied to a configuration in which light control is performed using a liquid crystal layer made of guest-host liquid crystal.
(4) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、
前記保持層は、
熱膨張係数が70ppm/℃以下である調光フィルム。
(4) In any one of (1), (2) and (3),
The holding layer is
A light control film having a thermal expansion coefficient of 70 ppm / ° C. or less.
(4)によれば、配向層作製時等の熱処理による伸縮を小さくすることができることにより、一段と精度を向上することができる。 According to (4), since the expansion and contraction due to the heat treatment during the preparation of the alignment layer can be reduced, the accuracy can be further improved.
(5) (1)、(2)、(3)、(4)の何れかにおいて、
前記保持層は、
ポリイミド樹脂又はポリカーボネート樹脂により形成された調光フィルム。
(5) In any one of (1), (2), (3) and (4),
The holding layer is
A light control film formed of a polyimide resin or a polycarbonate resin.
(5)によれば、より具体的構成により、高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。 According to (5), the light control film can be stably produced with high accuracy by a more specific configuration.
(6) (1)、(2)、(3)、(4)、(5)の何れかにおいて、
前記保持層は、
厚みが20μm以下であり、透過率が80%以上である調光フィルム。
(6) In any one of (1), (2), (3), (4), (5),
The holding layer is
A light control film having a thickness of 20 μm or less and a transmittance of 80% or more.
(6)によれば、保持層による透過光量の低下を充分に抑圧することができる。 According to (6), a decrease in the amount of transmitted light due to the holding layer can be sufficiently suppressed.
(7) (1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)の何れかにおいて、
前記保持層は、
面内位相差R0が10nm以下であり、
厚み方向位相差Rthが30nm以下である調光フィルム。
(7) In any of (1), (2), (3), (4), (5), (6),
The holding layer is
In-plane retardation R0 is 10 nm or less,
A light control film having a thickness direction retardation Rth of 30 nm or less.
(7)によれば、保持層を設けることによる光学異方性の発現を充分に抑圧し、さらに視野角方向における特性の劣化を充分に抑圧することができる。 According to (7), the occurrence of optical anisotropy due to the provision of the holding layer can be sufficiently suppressed, and further the deterioration of characteristics in the viewing angle direction can be sufficiently suppressed.
(8) 製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第1の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第1の積層体と、対応する第2の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程と、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から、前記製造用基板を剥離する剥離工程とを備え、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した積層体から調光フィルムを作製する調光フィルムの製造工程。
(8) A holding layer preparation step of applying a coating liquid to a manufacturing substrate to prepare a holding layer made of a coating film;
An alignment layer preparation step of preparing an alignment layer in the holding layer and preparing a first laminate including the manufacturing substrate, the holding layer, and the alignment layer;
A step of laminating a liquid crystal layer to produce a laminate with the liquid crystal layer sandwiched between the first laminate and the corresponding second laminate to integrate the liquid crystal layer; and
A peeling step of peeling the substrate for production from the laminate with the liquid crystal layer sandwiched therebetween,
The manufacturing process of the light control film which produces a light control film from the laminated body which peeled the said board | substrate for manufacture at the said peeling process.
(8)によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層した後、対応する第2の積層体とにより液晶層と積層し、その後、製造用基板を剥離して作製することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第1の積層体を精度良く作成することができる。これにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。 According to (8), an orientation layer is laminated on a holding layer produced by forming a coating film on a production substrate, and then laminated with a liquid crystal layer with a corresponding second laminate, and thereafter for production. By peeling off the substrate, it is possible to effectively avoid the occurrence of warpage and wrinkles, for example, when a transparent electrode material is produced by holding a transparent film material on a substrate for production, and thus stable. Can be produced. Further, in this case, the holding layer is accurately positioned and held on the manufacturing substrate, so that the first laminate can be formed with high accuracy. Thereby, a light control film can be produced stably with high accuracy.
(9) 製造用基板に、塗工液を塗工して塗工膜による保持層を作製する保持層作製工程と、
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第1の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第1の積層体から前記製造用基板を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した前記第1の積層体と、対応する第2の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程とを備え、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から調光フィルムを作製する調光フィルムの製造工程。
(9) A holding layer manufacturing step of applying a coating liquid to a manufacturing substrate to prepare a holding layer made of a coating film;
An alignment layer preparation step of preparing an alignment layer in the holding layer and preparing a first laminate including the manufacturing substrate, the holding layer, and the alignment layer;
A peeling step of peeling the manufacturing substrate from the first laminate;
A liquid crystal layer is sandwiched and integrated by the first laminated body from which the manufacturing substrate has been peeled in the peeling step and the corresponding second laminated body, and a laminated body with the liquid crystal layer sandwiched therebetween is produced. A liquid crystal layer stacking step to be prepared,
A process for producing a light control film, wherein a light control film is produced from a laminate having the liquid crystal layer interposed therebetween.
(9)によれば、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層に配向層を積層した後、製造用基板を剥離し、対応する第2の積層体とにより液晶層を挟持することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、第1の積層体を精度良く作成することができる。これにより高い精度により安定に調光フィルムを生産することができる。 According to (9), after the alignment layer is laminated on the holding layer produced by forming the coating film on the production substrate, the production substrate is peeled off, and the liquid crystal layer is formed with the corresponding second laminate. By pinching, for example, when a transparent film material is held on a manufacturing substrate and a transparent electrode or the like is produced, warpage and generation of wrinkles can be effectively avoided, and thus stable production can be achieved. it can. Further, in this case, the holding layer is accurately positioned and held on the manufacturing substrate, so that the first laminate can be formed with high accuracy. Thereby, a light control film can be produced stably with high accuracy.
(10) (8)又は(9)において、
前記剥離工程は、
前記保持層の前記製造用基板側面に集光したレーザー光の走査により前記製造用基板から前記保持層を剥離する調光フィルムの製造工程。
(10) In (8) or (9),
The peeling step includes
A manufacturing process of a light control film in which the holding layer is peeled from the manufacturing substrate by scanning laser light condensed on the manufacturing substrate side surface of the holding layer.
(10)によれば、レーザー光の照射による熱膨張により局所的に製造用基板から保持層を剥離するようにして、このレーザー光を走査させることにより、製造用基板から保持層を広い面積で剥離させることができ、これにより製造用基板から保持層を簡易かつ確実に剥離することができる。 According to (10), the holding layer is locally peeled from the manufacturing substrate by thermal expansion caused by laser light irradiation, and the laser light is scanned to scan the holding layer from the manufacturing substrate in a wide area. The holding layer can be easily and reliably peeled off from the production substrate.
本発明によれば、調光フィルムに関して、精度良く安定に生産することができる。 According to the present invention, a light control film can be produced with high accuracy and stability.
〔第1実施形態〕
〔調光フィルム〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム1は、建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等の調光を図る部位に、粘着剤層等により貼り付けて使用され、印加電圧の可変により透過光の光量を制御する。
[First Embodiment]
[Light control film]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a light control film according to the first embodiment of the present invention. This light control film 1 is used by being attached to an area for light control such as a window glass of a building, a showcase, an indoor transparent partition, etc. with an adhesive layer or the like, and the amount of transmitted light can be reduced by changing the applied voltage. Control.
この調光フィルム1は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム材あり、直線偏光板2、3により調光フィルム用の液晶セル4を挟持して構成される。ここで直線偏光板2、3は、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素等を含浸させた後、延伸して直線偏光板としての光学的機能を果たす光学機能層が形成され、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルム材による基材により光学機能層を挟持して作製される。直線偏光板2、3は、クロスニコル配置により、粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層2A、3Aにより液晶セル4に配置される。
This light control film 1 is a film material that controls transmitted light using liquid crystal, and is configured by sandwiching a liquid crystal cell 4 for light control film between linear
液晶セル4は、後述する透明電極への印加電圧により透過光の偏光面を制御する。これにより調光フィルム1は、透過光を制御して種々に調光を図ることができるように構成される。 The liquid crystal cell 4 controls the polarization plane of transmitted light by an applied voltage to a transparent electrode described later. Thereby, the light control film 1 is comprised so that transmitted light can be controlled and various light control can be aimed at.
液晶セル4は、フィルム形状による第1及び第2の積層体である上側積層体8及び下側積層体9により液晶層10を挟持して構成される。下側積層体9は、基材6、保持層12、透明電極13、スペーサ14、配向層15を積層して形成される。上側積層体8は、基材5、保持層17、透明電極18、配向層19を積層して形成される。ここで基材5、6は、この種のフィルム材に適用可能な種々の透明フィルム材を適用することができ、例えばポリカーボネートフィルム、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム、TACフィルム等、光学異方性の小さなフィルム材を適用することができる。基材5、6は、粘着剤層や紫外線硬化性樹脂等による接着剤層12A、17Aにより保持層12、17と積層されて配置される。なお基材5を省略して、直接、直線偏光板2に保持層17、透明電極18、配向層19を積層してもよい。また同様に、基材6を省略して、直接、直線偏光板3に保持層12、透明電極13、スペーサ14、配向層15を積層してもよい。
The liquid crystal cell 4 is configured by sandwiching a
これによりこの図1の液晶セル4は、液晶材料を挟持する1対の対向電極により液晶の配向を制御することになるものの、例えばIPS(In−plane Switching)方式により駆動してもよく、この場合には、上側積層体8又は下側積層体9の透明電極18又は13の何れか一方が省略され、他方の透明電極のパターンニングにより液晶材料に駆動用の電界を印加する。なおスペーサ14は、上側積層体8側に設けるようにしてもよく、上側積層体8及び下側積層体9の双方に設けるようにしてもよい。またスペーサ14は、配向層15の上に作製するようにしてもよい。またスペーサ14は、例えばビーズ形状によるスペーサを適用して上側積層体8及び下側積層体9の間に配置することにより、上側積層体8及び下側積層体9の双方から省略するようにしてもよい。
Accordingly, the liquid crystal cell 4 in FIG. 1 is driven by, for example, an IPS (In-plane Switching) method, although the alignment of the liquid crystal is controlled by a pair of counter electrodes sandwiching the liquid crystal material. In that case, either the
ここで下側積層体9の保持層12は、製造過程において、下側積層体9側に設けられる部材(透明電極13、スペーサ14、配向層15)を後述する製造用基板に保持する部材であり、さらにこれら下側積層体9側に設けられる部材を基材6に保持する部材である。また上側積層体8側の保持層17は、製造過程において、上側積層体8側に設けられる部材(透明電極18、配向層19)を後述する製造用基板に保持する部材であり、さらにこれら上側積層体8側に設けられる部材を基材5に保持する部材である。保持層12及び17は、製造用基板への塗工により作製される塗工膜であり、それぞれ接着剤層12A、17Aにより基材5、6に保持される。また保持層12及び17は、製造工程における熱処理に対して充分な耐熱性を備える塗膜により、より具体的にはガラス転位点温度Tgが170℃以上の材料により形成される。また保持層12及び17は、製造用基板の熱膨張係数に対して熱膨張係数が大きく異ならない材料により、より具体的には熱膨張係数が70ppm/℃以下の材料により形成される。
Here, the holding
これによりこの実施形態では、製造用基板に塗工膜を形成して作製された保持層12、17にそれぞれ透明電極13、スペーサ14、配向層15及び透明電極18、配向層19を作製して下側積層体9及び上側積層体8を作製した後、液晶層10と積層し、その後、製造用基板を剥離した後、基材5、6を配置して液晶セル4が作製される。また基材5、6を省略して直線偏光板2、3を直接配置する場合には、製造用基板を剥離した後、直線偏光板2、3が配置される。これにより調光フィルム1は、基材5、6又は直線偏光板2、3の基材に、塗工膜による保持層12、17が接着剤層12A、17Aにより配置され、この保持層12、17により配向層等がこれらの基材に掛る透明フィルム材に保持されることになる。
Thereby, in this embodiment, the
しかしてこのように製造用基板に塗工膜により保持層12、17を作製し、この保持層12、17上に透明電極13等を作製することにより、例えば透明フィルム材を製造用基板に保持して透明電極等を作製する場合のような、反り、シワの発生を有効に回避することができ、これにより安定に生産することができる。またこの場合、保持層12、17は、製造用基板に精度良く位置決め保持されていることにより、透明電極13、18のパターニング、スペーサ14等を精度良く作成することができる。これによりこの実施形態では、高い精度により安定に調光フィルム1を生産することができる。
Thus, the holding layers 12 and 17 are prepared on the production substrate by the coating film, and the
また保持層12、17が、熱膨張係数が70ppm/℃以下の材料により形成されることにより、配向層作製時等の熱処理による伸縮を小さくすることができ、一段と精度を向上することができる。 In addition, since the holding layers 12 and 17 are made of a material having a thermal expansion coefficient of 70 ppm / ° C. or less, the expansion and contraction due to the heat treatment during the preparation of the alignment layer can be reduced, and the accuracy can be further improved.
またさらに保持層12、17は、厚み20μm以下により、透過率が80%以上になるように作製され、これにより保持層を設けたことによる透過光量の低下を充分に抑圧する。また保持層12、17は、光学異方性の小さな材料により形成され、より具体的には、面内位相差R0が10nm以下、厚み方向位相差Rthが30nm以下により作製される。これにより保持層12、17は、液晶層10で設定された透過光の位相差に大きな変化を与えないようにし、また視野角方向における特性の劣化を防止する。
Furthermore, the holding layers 12 and 17 are produced so that the transmittance is 80% or more with a thickness of 20 μm or less, thereby sufficiently suppressing the decrease in the amount of transmitted light due to the provision of the holding layer. The holding layers 12 and 17 are made of a material having a small optical anisotropy, and more specifically, are made with an in-plane retardation R0 of 10 nm or less and a thickness direction retardation Rth of 30 nm or less. Thus, the holding layers 12 and 17 do not give a large change to the phase difference of transmitted light set in the
より具体的に、保持層12、17は、例えばポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂により形成される。なおここでポリイミド樹脂は熱膨張係数が10〜40ppm/℃であり、ポリカーボネート樹脂は熱膨張係数が60ppm/℃である。またポリイミド樹脂にあっては、光学異方性の小さな、面内位相差R0及び厚み方向位相差Rthが上述した範囲に収まるポリイミド樹脂材が適用される。なお位相差R0、Rthは、膜厚に比例することから、保持層12、17は、材料の選定に代えて、又は材料の選定に加えて、膜厚を必要に応じて薄くすることで、位相差R0、Rthを低く抑えるようにしてもよい。 More specifically, the holding layers 12 and 17 are formed of, for example, a polyimide resin or a polycarbonate resin. Here, the polyimide resin has a thermal expansion coefficient of 10 to 40 ppm / ° C., and the polycarbonate resin has a thermal expansion coefficient of 60 ppm / ° C. For the polyimide resin, a polyimide resin material having a small optical anisotropy and having an in-plane retardation R0 and a thickness direction retardation Rth within the above-described ranges is applied. In addition, since the phase differences R0 and Rth are proportional to the film thickness, the holding layers 12 and 17 can be formed by reducing the film thickness as necessary instead of selecting the material or in addition to selecting the material. The phase differences R0 and Rth may be kept low.
透明電極13、18は、この種のフィルム材に適用される各種の電極材料を適用することができ、この実施形態ではITO(Indium Tin Oxide)による透明電極材により形成される。スペーサ14は、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製され、透明電極13を作製してなる保持層12の上に、フォトレジストを塗工して露光、現像することにより作製される。
Various electrode materials applied to this type of film material can be applied to the
配向層15、19は、透明電極13、スペーサ14を作製してなる保持層12の上に、また透明電極18を作製してなる保持層17の上に、ポリイミド樹脂層を作製した後、ラビング処理して作製される。なお配向層15、19は、液晶層10に係る液晶材料に対して配向規制力を発現可能な各種の構成を適用することができ、いわゆる光配向層により作製してもよく、ラビング処理、研磨処理による微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して形成してもよい。スペーサ14は、配向層15の上に作製するようにしてもよい。
The alignment layers 15 and 19 are rubbed after a polyimide resin layer is formed on the
なお光配向層の材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、例えば、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光2量化型の材料を使用することができる。この光2量化型の材料については、「M.Schadt, K.Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov : Jpn. J. Appl.Phys., 31, 2155 (1992)」、「M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster : Nature, 381, 212(1996)」等に開示されている。 As the material for the photo-alignment layer, various materials to which a photo-alignment technique can be applied can be applied. For example, after the alignment, the alignment does not change due to ultraviolet irradiation. Material can be used. The light dimerization type material is described in “M. Schadt, K. Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov: Jpn. J. Appl. Phys., 31, 2155 (1992)”, “M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster: Nature, 381, 212 (1996).
液晶層10は、この種の調光フィルムに適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。
Various liquid crystal materials applicable to this type of light control film can be widely applied to the
なお液晶セル4は、液晶層10を形成する部位を囲む枠形状によりシール材が配置され、このシール材により液晶材料の漏出が防止され、さらには上側積層体8及び下側積層体9が貼り合わされて一体化される。ここでこのシール材は、液晶材料の漏出を防止すると共に、上側積層体8及び下側積層体9を一体に保持可能な種々の材料を適用することができるものの、この実施形態では、熱硬化性樹脂が適用され、より具体的には熱硬化性の紫外線硬化性樹脂剤、エポキシ樹脂剤等が適用される。
In the liquid crystal cell 4, a sealing material is disposed in a frame shape surrounding a portion where the
〔製造工程〕
図2〜図5は、調光フィルムの製造工程の説明に供する図であり、図6はこれら図2〜図5による製造工程を示すフローチャートである。この製造工程は、保持層作製工程SP1において、製造用基板20、21にそれぞれ保持層12、17の塗工液を塗工した後、乾燥、焼成し、これにより製造用基板20、21に塗工膜による保持層12、17を作製する(図2(a1)及び(a2))。ここで製造用基板20、21は、充分な平滑度を備え、かつ熱膨張係数の小さな材料により形成される。また製造過程において種々の光学検査を実行可能にするために、透明部材が適用される。これによりこの実施形態では、例えば無アルカリガラス等によるガラス基板が適用される。
〔Manufacturing process〕
2 to 5 are diagrams for explaining the manufacturing process of the light control film, and FIG. 6 is a flowchart showing the manufacturing process according to FIGS. In the manufacturing process SP1, the manufacturing process is performed by applying the coating liquids of the holding layers 12 and 17 to the
続いてこの製造工程は、透明電極作製工程SP3において、フォトリソグラフィーの手法を適用して、保持層12、17の上に透明電極13、18をそれぞれ作成する(図2(b1)及び(b2))。さらに続いてスペーサ作製工程SP4において、製造用基板20側にフォトレジスト膜を作製した後、露光、現像処理し、これによりスペーサ14を作製する(図3(c))。続いて製造工程は、配向層作製工程SP5において、スペーサ14を作製してなる保持層12の上に、また透明電極18を作製してなる保持層17の上に、ポリイミド樹脂層の塗工液を塗工した後、乾燥、加熱処理し、これによりポリイミド膜を作製する。またこのポリイミド膜をラビング処理し、これにより配向層15、19を作製する(図3(d1)及び(d2))。
Subsequently, in this manufacturing process,
また続いてこの製造工程は、液晶層の積層工程SP6において、配向層15を作製してなる保持層12に、ディスペンサーを使用して枠形状によりシール材を塗布した後、この枠形状により囲まれた所定位置に、ディスペンサーを使用して液晶層10に係る液晶材料を滴下する(図4(e))。その後、この製造工程は、配向層18を作製してなる保持層17を持ち来して積層した後、押圧して加熱し、これにより液晶層10を挟持するようにして、製造用基板20、21をシール材により貼り合せて一体化する(図5(f))。その後、この製造工程は、剥離工程SP7において、製造用基板20、21を剥離する(図5(g))。
Subsequently, in the manufacturing step SP6 of the liquid crystal layer, this manufacturing process is performed by applying a sealing material in a frame shape using a dispenser to the
ここでこの実施形態においては、保持層12の製造用基板20側面、保持層17の製造用基板21側面にそれぞれレーザー光を、製造用基板20、21を介して集光することにより、局所的に、製造用基板20及び21から保持層12、17をレーザー光によって熱膨張させて剥離させるようにして、このレーザー光を面内方向に走査させることにより、製造用基板20、21から保持層12、17を剥離する。これによりこの実施形態では、製造用基板20、21の損傷等を有効に回避して確実に製造用基板20、21から保持層12、17を剥離する。ここでレーザー光には、例えば保持層がポリイミド樹脂の場合、この保持層が効率良く光を吸収する波長308nmのエキシマレーザーを適用することができる。なおこのようなレーザー光の照射による剥離を促進する剥離促進層を、製造用基板20、21と保持層12、17との間に設けるようにしてもよい。なおこのような剥離促進層としては、例えば照射に供するレーザー光を選択的に吸収して熱膨張する樹脂材等を適用することができる。
Here, in this embodiment, the laser beam is focused on the side surface of the
この製造工程は、続く基材積層工程SP8において、紫外線硬化性樹脂層等の接着剤層により基材5、6を配置した後、続く直線偏光板積層工程SP9において、同様の紫外線硬化性樹脂層等の接着剤層により直線偏光板2、3が配置される(図1)。
In this manufacturing process, after the
なお図6との対比により図7に示すように、製造用基板20、21を剥離する剥離工程SP61を液晶層の積層工程SP71の前に設けるようにしてもよい。また製造用基板20、21の一方の剥離工程を液晶層の積層工程の前に設けるようにし、残りの製造用基板の剥離工程を液晶層の積層工程の後に設けるようにしてもよい。
As shown in FIG. 7 in comparison with FIG. 6, a peeling step SP61 for peeling off the
またこのようにして製造用基板20、21の双方を剥離した後、基材5、6を積層する代わりに、又は直線偏光板2、3を積層する代わりに、製造用基板20、21の一方のみを剥離した状態で、この剥離した側に基材5又は6を積層した後、若しくは直線偏光板2又は3を積層した後、残りの製造用基板20又は21を剥離して残りの基材を配置するようにしてもよい。また基材、直線偏光板の積層にあっては、一方の側には透明フィルム材による基材を積層し、他方の側には直線偏光板を配置するようにしてもよい。
Moreover, after peeling off both the
この実施形態によれば、製造用基板への塗工により保持層を作製し、この保持層に透明電極等を作製した後、製造用基板を剥離して調光フィルムを作製することにより、透明フィルム材を製造用基板に保持して作製する場合のようなシワ、反りの発生を有効に回避して安定に調光フィルムを生産することができる。また製造用基板に高い精度により保持層を位置決め保持して透明電極等を作製できることにより、高い精度により調光フィルムを生産することができる。 According to this embodiment, a holding layer is produced by coating on a production substrate, a transparent electrode or the like is produced on the holding layer, and then the production substrate is peeled off to produce a light control film. It is possible to produce a light control film stably by effectively avoiding the generation of wrinkles and warping as in the case of producing a film material by holding it on a production substrate. In addition, since the transparent electrode or the like can be produced by positioning and holding the holding layer on the production substrate with high accuracy, a light control film can be produced with high accuracy.
〔第2実施形態〕
図8は、本発明の第2実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム31は、液晶セル4に代えて液晶セル34が適用される点を除いて、第1実施形態の調光フィルム1と同一に構成される。また液晶セル34は、上側積層体38と下側積層体9とにより液晶層10を挟持して形成される。なおこの図8の構成において、第1実施形態に係る調光フィルム1と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a light control film according to a second embodiment of the present invention. The
ここでこの調光フィルム31は、IPS方式により液晶層10を駆動するように構成され、これにより上側積層体38は、透明フィルム材による基材45に、配向層49を作製して形成される。これによりこの調光フィルム31は、液晶層10を挟持する1対の部材のうちの、一方の積層体39にのみ透明電極13を作製するようにして、この透明電極13を作製する下側積層体39のみ保持層12を適用して透明電極13、配向層15等を作製し、他方の積層体38については透明フィルム材による基材45に配向層49を作製する。
Here, the
またこのようにして他方の積層体38については透明フィルム材による基材45に配向層49を作製するようにして、製造用基板に粘着剤層により剥離可能な状態で基材45を保持して塗工等の処理を実行し、配向層49の作成時における熱処理時には、製造用基板から基材45を一時的に剥離して熱処理する。なおIPS方式以外の駆動方式を適用する場合には、この他方の積層体49側に透明電極を設けるようにしてもよい。なおこの場合、透明電極を作製する際の熱処理工程においても、基材45を製造用基板から一時的に剥離して熱処理してもよいし、透明電極が製膜されたフィルムを用いてもよい。
In this way, the other
この実施の形態のように、液晶層を挟持する1対の積層体のうちの一方の積層体にのみ保持層を設けて配向層等を作製するようにしても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。 Similar to the first embodiment, the alignment layer and the like may be formed by providing the holding layer only in one of the pair of stacked bodies sandwiching the liquid crystal layer as in this embodiment. An effect can be obtained.
〔第3実施形態〕
この実施形態では、第1実施形態又は第2実施形態の構成において、レーザー光の照射に代えて、機械的に製造用基板から保持層を引き剥がして剥離する。ここで製造用基板に対して保持層の密着強度が余りに大きいと、製造用基板から保持層を安定に剥離することが困難になる。しかしながら密着強度が余りに小さい場合には、製造工程で製造用基板から保持層が剥離し、生産に支障を来すことになる。これによりこの実施形態では、製造用基板に対する保持層の密着強度を15N以下/25mm、0.1以上/25mm幅に設定する。なおこの密着強度はJIS K6854−2に規定の180度剥離試験による剥離力である。なおこれによりこの実施形態では、製造用基板の表面に剥離力を低減するための例えばフッ素系樹脂による剥離層等を設けるようにしてもよい。
[Third Embodiment]
In this embodiment, in the configuration of the first embodiment or the second embodiment, instead of irradiating with laser light, the holding layer is mechanically peeled off from the manufacturing substrate. Here, if the adhesion strength of the holding layer is too large with respect to the manufacturing substrate, it is difficult to stably peel the holding layer from the manufacturing substrate. However, if the adhesion strength is too small, the holding layer is peeled off from the production substrate in the production process, which hinders production. Thereby, in this embodiment, the adhesion strength of the holding layer to the production substrate is set to 15 N or less / 25 mm and 0.1 to 25 mm width. In addition, this adhesion strength is the peeling force by the 180 degree | times peeling test prescribed | regulated to JISK6854-2. Note that, in this embodiment, for example, a release layer made of, for example, a fluororesin may be provided on the surface of the manufacturing substrate to reduce the peel force.
なおこのような機械的な剥離を、上側積層体又は下側積層体の何れかにのみ適用するようにしても良い。具体的に、液晶層を上側積層体及び下側積層体により挟持した状態で製造用基板を剥離する場合には、始めに第1実施形態について上述したレーザー光の走査により一方の側で製造用基板を剥離した後、残りの側で製造用基板を機械的に引き剥がして剥離することにより、簡易かつ確実に製造用基板を剥離することができる。 Such mechanical peeling may be applied only to either the upper laminate or the lower laminate. Specifically, when the manufacturing substrate is peeled in a state where the liquid crystal layer is sandwiched between the upper layered body and the lower layered body, first, it is manufactured on one side by the laser beam scanning described above for the first embodiment. After peeling off the substrate, the manufacturing substrate can be peeled off mechanically on the remaining side to peel off the manufacturing substrate easily and reliably.
なおこのような機械的な剥離を促進する観点より、レーザー光の照射により剥離の開始する箇所を部分的に剥離させておくようにし、これにより機械的な剥離の処理を確実に実行できるようにしてもよい。 From the viewpoint of promoting such mechanical peeling, the part where peeling starts by laser light irradiation is partly peeled off, so that the mechanical peeling process can be executed reliably. May be.
〔第4実施形態〕
図9は、本発明の第4実施形態に係る調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム51は、ゲストホスト型液晶による液晶層60を上側積層体8及び下側積層体9により、又は上側積層体38及び下側積層体39により挟持して形成される。なおこの図9の構成において、上述した調光フィルム1、31と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
[Fourth Embodiment]
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a light control film according to a fourth embodiment of the present invention. The
このようにゲストホスト型液晶を使用して直線偏光板を省略して構成する場合でも、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。 Even when the guest-host type liquid crystal is used and the linear polarizing plate is omitted, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained.
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには変更することができる。
[Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above, but the present invention can be variously combined and modified in various ways within the scope of the present invention.
すなわち上述の実施形態では、保持層と透明フィルム材による基材とを積層する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、曲面形状によるガラス板等の透明基材と保持層とを積層する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、始めに平板形状による透明基材と積層した後、加熱した状態で金型により押圧して全体を曲面形状としても良く、曲面形状による透明基材に直接積層しても良く、さらには曲面形状による透明基材に積層した後、さらに形状を変化させても良い。 That is, in the above-described embodiment, the case where the holding layer and the substrate made of the transparent film material are laminated is described. However, the present invention is not limited to this, and the transparent substrate such as a glass plate having a curved shape and the holding layer are laminated. It can also be widely applied to. In this case, after laminating with a transparent substrate having a flat plate shape first, it may be pressed with a mold in a heated state to form a curved surface as a whole, or directly laminated on a transparent substrate having a curved surface shape, After laminating on a transparent substrate having a curved shape, the shape may be further changed.
また上述の実施形態では、保持層に保持した透明電極、配向層を保持層と一体に、透明フィルム材による透明基材に接着剤層により配置し、その後、直線偏光板と積層する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、上述したように、保持層に保持した透明電極、配向層を保持層と一体に直線偏光板に直接配置するようにして、直線偏光板を基材として使用して透明フィルム材による基材を省略してもよい。このようにすれば、全体の厚みを薄くし、工程を簡略化するようにしても良い。 In the above-described embodiment, the transparent electrode held in the holding layer and the alignment layer are integrated with the holding layer, arranged on the transparent base material made of a transparent film material by the adhesive layer, and then laminated with the linear polarizing plate. However, the present invention is not limited to this, and as described above, the transparent electrode and alignment layer held in the holding layer are arranged directly on the linear polarizing plate integrally with the holding layer, and the linear polarizing plate is used as the base material. You may use and omit the base material by a transparent film material. In this way, the overall thickness may be reduced and the process may be simplified.
1、31、51 調光フィルム
2、3 直線偏光板
2A、3A 接着剤層
4、34 液晶セル
5、6 基材
8、9、38、39 積層体
10 液晶層
12、17 保持層
13、18 透明電極
14 スペーサ
15、19 配向層
20、21 製造用基板
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記第1及び又は第2の積層体は、
基材に、塗工膜による保持層が接着剤層により設けられ、
前記保持層を介して前記配向層が前記基材に保持された
調光フィルム。 The liquid crystal layer is sandwiched between the first and second laminates including at least an alignment layer, and the alignment of the liquid crystal related to the liquid crystal layer is performed by driving the transparent electrode provided in the first and / or second laminate. In a light control film that controls transmitted light by controlling,
The first and / or second laminate is
On the base material, a holding layer by a coating film is provided by an adhesive layer,
The light control film by which the said orientation layer was hold | maintained at the said base material through the said holding layer.
請求項1に記載の調光フィルム。 The light control film according to claim 1, further comprising an optical functional layer of a linearly polarizing plate on a side surface opposite to the liquid crystal layer of the first and second laminates.
請求項1に記載の調光フィルム。 The light control film according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is a liquid crystal layer made of guest-host liquid crystal.
熱膨張係数が70ppm/℃以下である
請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の調光フィルム。 The holding layer is
The light control film in any one of Claim 1, Claim 2, and Claim 3 whose thermal expansion coefficient is 70 ppm / degrees C or less.
ポリイミド樹脂又はポリカーボネート樹脂により形成された
請求項1、請求項2、請求項3、請求項4の何れかに記載の調光フィルム。 The holding layer is
The light control film according to claim 1, formed of a polyimide resin or a polycarbonate resin.
厚みが20μm以下であり、透過率が80%以上である
請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5の何れかに記載の調光フィルム。 The holding layer is
The light control film according to claim 1, wherein the thickness is 20 μm or less and the transmittance is 80% or more.
面内位相差R0が10nm以下であり、
厚み方向位相差Rthが30nm以下である
請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6の何れかに記載の調光フィルム。 The holding layer is
In-plane retardation R0 is 10 nm or less,
Thickness direction phase difference Rth is 30 nm or less. The light control film in any one of Claim 1, Claim 2, Claim 3, Claim 4, Claim 5, and Claim 6.
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第1の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第1の積層体と、対応する第2の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程と、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から、前記製造用基板を剥離する剥離工程とを備え、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した積層体から調光フィルムを作製する
調光フィルムの製造工程。 A holding layer preparation step of applying a coating liquid to a manufacturing substrate to prepare a holding layer by a coating film;
An alignment layer preparation step of preparing an alignment layer in the holding layer and preparing a first laminate including the manufacturing substrate, the holding layer, and the alignment layer;
A step of laminating a liquid crystal layer to produce a laminate with the liquid crystal layer sandwiched between the first laminate and the corresponding second laminate to integrate the liquid crystal layer; and
A peeling step of peeling the substrate for production from the laminate with the liquid crystal layer sandwiched therebetween,
A process for producing a light control film, wherein a light control film is produced from the laminate obtained by separating the production substrate in the release process.
前記保持層に配向層を作製して、前記製造用基板、前記保持層、前記配向層を備えた第1の積層体を作製する配向層作製工程と、
前記第1の積層体から前記製造用基板を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程で前記製造用基板を剥離した前記第1の積層体と、対応する第2の積層体とにより液晶層を挟持して一体化し、前記液晶層を間に挟んだ積層体を作製する作製する液晶層の積層工程とを備え、
前記液晶層を間に挟んだ積層体から調光フィルムを作製する
調光フィルムの製造工程。 A holding layer preparation step of applying a coating liquid to a manufacturing substrate to prepare a holding layer by a coating film;
An alignment layer preparation step of preparing an alignment layer in the holding layer and preparing a first laminate including the manufacturing substrate, the holding layer, and the alignment layer;
A peeling step of peeling the manufacturing substrate from the first laminate;
A liquid crystal layer is sandwiched and integrated by the first laminated body from which the manufacturing substrate has been peeled in the peeling step and the corresponding second laminated body, and a laminated body with the liquid crystal layer sandwiched therebetween is produced. A liquid crystal layer stacking step to be prepared,
A process for producing a light control film, comprising producing a light control film from a laminate having the liquid crystal layer sandwiched therebetween.
前記保持層の前記製造用基板側面に集光したレーザー光の走査により前記製造用基板から前記保持層を剥離する
請求項8又は請求項9に記載の調光フィルムの製造工程。 The peeling step includes
The manufacturing process of the light control film of Claim 8 or Claim 9 which peels the said holding layer from the said board | substrate for manufacture by the scan of the laser beam condensed on the said board | substrate for manufacture of the said holding layer.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018180673A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 古河機械金属株式会社 | Method for manufacturing group iii-nitride semiconductor substrate, group iii-nitride semiconductor substrate, and bulk crystal |
JP2019070781A (en) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 大日本印刷株式会社 | Dimming film, dimming member, and vehicle |
JP2019070780A (en) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 大日本印刷株式会社 | Dimming film, dimming member and vehicle |
WO2020036322A1 (en) * | 2018-08-14 | 2020-02-20 | 주식회사 엘지화학 | Optical device |
JP2020030355A (en) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 大日本印刷株式会社 | Dimming device and manufacturing method of the same |
US10877345B2 (en) | 2018-11-05 | 2020-12-29 | Toyota Boshoku Kabushiki Kaisha | Light control film and vehicle body panel including the same |
-
2015
- 2015-09-25 JP JP2015187862A patent/JP2017062361A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018180673A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 古河機械金属株式会社 | Method for manufacturing group iii-nitride semiconductor substrate, group iii-nitride semiconductor substrate, and bulk crystal |
JP2019070781A (en) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 大日本印刷株式会社 | Dimming film, dimming member, and vehicle |
JP2019070780A (en) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 大日本印刷株式会社 | Dimming film, dimming member and vehicle |
WO2020036322A1 (en) * | 2018-08-14 | 2020-02-20 | 주식회사 엘지화학 | Optical device |
US11429005B2 (en) | 2018-08-14 | 2022-08-30 | Lg Chem, Ltd. | Optical device |
JP2020030355A (en) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 大日本印刷株式会社 | Dimming device and manufacturing method of the same |
JP7286928B2 (en) | 2018-08-23 | 2023-06-06 | 大日本印刷株式会社 | Dimming device and manufacturing method thereof |
US10877345B2 (en) | 2018-11-05 | 2020-12-29 | Toyota Boshoku Kabushiki Kaisha | Light control film and vehicle body panel including the same |
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