JP2017061120A - Prepreg and manufacturing method therefor, printed circuit board using the same and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a prepreg maintaining high modulus, having low thermal expansion coefficient and high credibility even with thin thickness.SOLUTION: A prepreg 130 includes a nonwoven fabric having thickness in a range of 10 to 100 nm and consisting of a hollow nanofiber obtained by an electrical spinning method using an aramid organic materials, nylon, silica-based inorganic materials and titania-based inorganic materials as a core layer 110, an upper insulation layer 120a and a lower insulation layer 120b formed on an upper surface and a lower surface facing each other of the core layer 110 respectively. A printed circuit board 100 is obtained by laminating a copper foil 140a on an outer surface of the insulation layer of the prepreg.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プリプレグ及びその製造方法、及びこれを用いた印刷回路基板及びその製造方法に関し、より詳細には、薄い厚さでも信頼性を有するプリプレグ及びその製造方法、及びこれを用いた印刷回路基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a prepreg and a manufacturing method thereof, a printed circuit board using the prepreg, and a manufacturing method thereof, and more specifically, a prepreg having a thin thickness and a reliability thereof, a manufacturing method thereof, and a printed circuit using the same. The present invention relates to a substrate and a manufacturing method thereof.

電子機器の製造技術が発達するに伴って、電子機器に必須に内蔵される印刷回路基板(Printed Circuit Board:PCB)に対しても低重量化、薄板化及び小型化が要求されている。印刷回路基板は、回路接続のための配線層と、配線層間の絶縁の役割をする絶縁層とが交互に積層されており、配線層は、主に銅(Cu)などの金属材質で形成され、絶縁層は、エポキシ(epoxy)などの高分子樹脂で形成される。   With the development of electronic device manufacturing technology, printed circuit boards (PCBs) that are essentially built into electronic devices are also required to be reduced in weight, thickness, and size. In the printed circuit board, wiring layers for circuit connection and insulating layers serving as insulation between the wiring layers are alternately laminated, and the wiring layers are mainly formed of a metal material such as copper (Cu). The insulating layer is formed of a polymer resin such as epoxy.

この際、印刷回路基板は、薄型化のために絶縁層の厚さを薄く維持する必要があるが、絶縁層の厚さが薄くなるほど歪み(warpage)に対する特性の調節が難しいという問題点があった。すなわち、金属材質の配線層と絶縁層とは、熱膨脹係数(Coefficient of Thermal Expansion:CTE)、ガラス転移温度(glass transition emperature;Tg)、モジュラス(modulus)等の様々な物性値において互いに異なる値を有するので、印刷回路基板の特性を調節することが難しい。このため、電気的、熱的及び機械的特性が低下する。   In this case, the printed circuit board needs to keep the thickness of the insulating layer thin in order to reduce the thickness. However, the thinner the insulating layer is, the more difficult it is to adjust the characteristics against warpage. It was. That is, the wiring layer and the insulating layer made of metal have different values in various physical properties such as a coefficient of thermal expansion (CTE), a glass transition temperature (Tg), and a modulus. Therefore, it is difficult to adjust the characteristics of the printed circuit board. For this reason, electrical, thermal and mechanical properties are reduced.

これにより、印刷回路基板が薄型化されるほど、印刷回路基板の品質が不安定になり、誘電定数、誘電損失などが低下して高周波領域での信号伝送不良が発生することがあり、電子部品を実装する際に、歪み(warpage)により接続不良が生じることがある。   As a result, the thinner the printed circuit board, the more unstable the quality of the printed circuit board, and the lower the dielectric constant, dielectric loss, etc., and signal transmission defects in the high frequency region may occur. In mounting, a connection failure may occur due to warpage.

このような問題点を解決するために、印刷回路基板は、中央部のコア(core)層のガラス転移温度、モジュラス及び剛性(stiffness)を高めるために、ファブリッククロス(febric cloth)またはガラスクロス(glass cloth)の心材が備えられた厚い銅張積層板(Copper Clad Laminate:CCL)が適用され、樹脂材によるビルドアップ(build−up)層が形成されて、歪みが防止され、そして寸法安定性が付与される。   In order to solve such a problem, the printed circuit board is made of a fabric cloth or a glass cloth (glass cloth) in order to increase the glass transition temperature, modulus and stiffness of the core core layer. A thick copper clad laminate (CCL) with a glass cross core is applied to form a build-up layer of resin material to prevent distortion and dimensional stability Is granted.

この際、物理的特性をさらに向上させるために、多量の無機フィラー(inorganic filler)を樹脂材に含浸させるが、この場合、配線層を形成する銅との密着力が低下して、配線層の安定性や信頼性が低下する。   At this time, in order to further improve the physical characteristics, a resin material is impregnated with a large amount of an inorganic filler. In this case, the adhesion with copper forming the wiring layer is reduced, and the wiring layer Stability and reliability are reduced.

韓国公開特許第2013−0119643号公報Korean Published Patent No. 2013-0119643

本発明が解決しようとする課題は、高いモジュラスを維持し、そして低い熱膨脹係数を有するプリプレグを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a prepreg that maintains a high modulus and has a low coefficient of thermal expansion.

本発明が解決しようとする他の課題は、高いモジュラスを維持し、そして低い熱膨脹係数を有するプリプレグの製造方法を提供することにある。   Another problem to be solved by the present invention is to provide a method for producing a prepreg that maintains a high modulus and has a low coefficient of thermal expansion.

本発明が解決しようとするまた他の課題は、高いモジュラスを維持し、そして低い熱膨脹係数を有するプリプレグを含む印刷回路基板を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a printed circuit board including a prepreg that maintains a high modulus and has a low coefficient of thermal expansion.

本発明が解決しようとするまた他の課題は、高いモジュラスを維持し、そして低い熱膨脹係数を有するプリプレグを含む印刷回路基板の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board including a prepreg that maintains a high modulus and has a low coefficient of thermal expansion.

本発明が解決しようとする課題は、以上で言及した課題に限定されず、言及されていないまた他の課題は、以下の記載から当業者に明確に理解されることができる。   Problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

上記課題を達成するために、本発明はプリプレグを提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a prepreg.

このプリプレグは、10〜100nm範囲の厚さを有するナノ繊維で構成された心材と、心材の互いに対向する上部面及び下部面にそれぞれ備えられた上部絶縁層及び下部絶縁層と、を含むことができる。   The prepreg may include a core material made of nanofibers having a thickness in the range of 10 to 100 nm, and an upper insulating layer and a lower insulating layer respectively provided on an upper surface and a lower surface of the core material facing each other. it can.

心材は、アラミド系の有機材料、ナイロン、シリカ系無機材料またはチタニア系無機材料を含むことができる。   The core material can include an aramid organic material, nylon, silica-based inorganic material, or titania-based inorganic material.

上部絶縁層または下部絶縁層の一部が心材に含浸されてもよい。   A part of the upper insulating layer or the lower insulating layer may be impregnated in the core material.

ナノ繊維は、中空繊維であってもよい。上部絶縁層または下部絶縁層の一部が中空繊維の空洞に含浸されてもよい。   The nanofiber may be a hollow fiber. A part of the upper insulating layer or the lower insulating layer may be impregnated in the hollow of the hollow fiber.

上部絶縁層及び下部絶縁層は互いに異なる厚さを有することができる。   The upper insulating layer and the lower insulating layer may have different thicknesses.

また、上記の他の課題を達成するために本発明は、プリプレグの製造方法を提供する。この製造方法は、下部面に銅箔層が備えられた下部絶縁層を準備するステップと、下部面と対向する下部絶縁層の上部面上に電気紡糸(electrospinning)方式により紡糸されたナノ繊維で構成された心材を形成するステップと、心材上に上部絶縁層を形成するステップと、を含むことができる。   In order to achieve the above-mentioned other problems, the present invention provides a method for producing a prepreg. The manufacturing method includes a step of preparing a lower insulating layer having a copper foil layer on a lower surface, and nanofibers spun by an electrospinning method on an upper surface of the lower insulating layer facing the lower surface. Forming the constructed core material and forming an upper insulating layer on the core material can be included.

ナノ繊維は、10〜100nm範囲の厚さを有するように形成されることができる。   Nanofibers can be formed to have a thickness in the range of 10-100 nm.

心材は、アラミド系の有機材料、ナイロン、シリカ系無機材料またはチタニア系無機材料を含むことができる。   The core material can include an aramid organic material, nylon, silica-based inorganic material, or titania-based inorganic material.

心材上に上部絶縁層を形成し、上部絶縁層の一部が心材に含浸されてもよい。   An upper insulating layer may be formed on the core material, and a part of the upper insulating layer may be impregnated in the core material.

ナノ繊維は、中空繊維であってもよい。   The nanofiber may be a hollow fiber.

心材上に上部絶縁層を形成することにより上部絶縁層の一部が中空繊維の空洞に含浸されてもよい。   By forming the upper insulating layer on the core material, a part of the upper insulating layer may be impregnated in the hollow of the hollow fiber.

上部絶縁層は、下部絶縁層と異なる厚さを有するように形成されてもよい。   The upper insulating layer may be formed to have a thickness different from that of the lower insulating layer.

これに加えて、上記のまた他の課題を達成するために、本発明は印刷回路基板を提供する。この印刷回路基板は、上述したプリプレグと、上部絶縁層及び下部絶縁層のうちの少なくとも一つの上に備えられた基材と、を含むことができる。   In addition, in order to achieve the above and other problems, the present invention provides a printed circuit board. The printed circuit board may include the above-described prepreg and a base material provided on at least one of the upper insulating layer and the lower insulating layer.

基材は、銅箔層であることができる。   The substrate can be a copper foil layer.

さらに、上記のまた他の課題を達成するために、本発明は、印刷回路基板の製造方法を提供する。この方法は、上述した方法によりプリプレグを製造するステップと、下部絶縁層及び上部絶縁層のうちの少なくとも一つの上に基材を形成するステップと、を含むことができる。   Furthermore, in order to achieve the above and other objects, the present invention provides a method for manufacturing a printed circuit board. The method may include manufacturing a prepreg by the method described above and forming a substrate on at least one of the lower insulating layer and the upper insulating layer.

基材は、銅箔層であることができる。   The substrate can be a copper foil layer.

本発明の一実施例に係る印刷回路基板を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the printed circuit board based on one Example of this invention. 本発明の一実施例に係る印刷回路基板の製造方法を説明するための一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process for demonstrating the manufacturing method of the printed circuit board which concerns on one Example of this invention. 図2の工程の次の工程を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a step subsequent to the step in FIG. 2. 図3の工程の次の工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step subsequent to the step of FIG. 3. 図4の工程の次の工程を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step subsequent to the step in FIG. 4. 本発明の一実施例に係る印刷回路基板に適用された心材のナノ繊維に対する平面投射電子顕微鏡写真である。It is a plane projection electron micrograph with respect to the nanofiber of the core material applied to the printed circuit board concerning one Example of this invention.

以下、添付された図面に基づいて本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付される図面と共に詳細に後述する実施例を参照するとより明確になるであろう。しかし、本発明は、ここで説明する実施例に限定されず、異なる形態に具体化されることもできる。ここで例示する実施例は、開示された内容が徹底かつ完全になるように、また当業者に本発明の思想が充分に伝達されるようにするために提供されるものであり、本発明は請求項の範疇によって定義されるべきである。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become more apparent with reference to the embodiments described in detail below in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described here, and may be embodied in different forms. The embodiments illustrated here are provided so that the disclosed contents will be thorough and complete, and to make the idea of the present invention sufficiently communicated to those skilled in the art. It should be defined by the scope of the claims.

明細書の全文にかけて同一の参照符号は同一の構成要素を意味する。よって、同一の参照符号または類似の参照符号は、当該図面で言及または説明されていなくても、他の図面を参照して説明されることができる。また、参照符号が表示されていなくても、他の図面を参照して説明されることができる。   Throughout the specification, the same reference numerals refer to the same components. Thus, identical or similar reference numerals may be described with reference to other drawings, even if not mentioned or described in the drawings. Further, even if the reference numerals are not displayed, they can be described with reference to other drawings.

本明細書で用いられる用語は、実施例を説明するためのものであって、本発明を限定するものではない。本明細書において、単数形は文章で特に言及しない限り複数形も含む。また、本明細書で用いられる「含む(comprise)」及び/または「含んでいる(comprising)」は、言及された構成要素、ステップ、動作及び/または素子が一つ以上の他の構成要素、ステップ、動作及び/または素子の存在または追加を排除する意味ではない。また、好ましい実施例によるものであるので、説明の順により提示される参照符号は、必ずしもその順に限定されることではない。これに加えて、本明細書において、ある膜が他の膜または基板上にあると言及された場合、それは、他の膜または基板上に直接形成されるか、あるいはそれらの間に第3の膜が介在されることもできることを意味する。   The terminology used herein is for describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, the singular includes the plural unless specifically stated otherwise. Also, as used herein, “comprise” and / or “comprising” refers to a component, step, operation, and / or other component that includes one or more of the components, It does not mean to exclude the presence or addition of steps, actions and / or elements. Moreover, since it is based on a preferable Example, the reference code shown by the order of description is not necessarily limited to the order. In addition to this, when a film is referred to herein as being on another film or substrate, it is formed directly on the other film or substrate, or a third between them. It means that a membrane can also be interposed.

一つの構成要素(element)が他の構成要素と「接続された(connected to)」または「結合した(coupled to)」との記載は、他の構成要素と直接的に接続された場合または結合した場合、あるいは中間に他の構成要素が介在された場合をすべて含む。   When an element is “connected to” or “coupled to” with another component, the description “directed” or “coupled to” refers to the case where the element is directly connected to another component All cases where other components are interposed in between.

一方、一つの構成要素が他の構成要素と「直接的に接続された(directly connected to)」または「直接的に結合した(directly coupled to)」との記載は、中間に他の構成要素が介在されていないことを意味する。「及び/または」とは、言及されたアイテム(item)のそれぞれ、及び一つ以上のすべての組み合わせを含む。   On the other hand, the description that one component is “directly connected to” or “directly coupled to” with another component is in the middle of other components It means not intervening. “And / or” includes each and every combination of one or more of the items mentioned.

空間的に相対的な用語である「下(below)」、「下方(beneath)」、「下部(lower)」、「上(above)」、「上部(upper)」などは、図面に示すように、一つの素子または構成要素と、他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用することができる。空間的に相対的な用語は、図面に示す方向に加えて使用時または動作時に、素子の互いに異なる方向を含む用語として理解しなければならない。例えば、図面に示されている素子を逆にする場合、他の素子の「下(below)」または下方(beneath)」と記述された素子は、他の素子の「上(above)」に置かれることになる。よって、例示的な用語である「下」は、下と上の方向をすべて含むことができる。素子は他の方向に配向可能であり、これにより空間的に相対的な用語は、配向により解釈されることができる。   The spatially relative terms “below”, “beneath”, “lower”, “above”, “upper” and the like are shown in the drawings. In addition, it can be used to easily describe the correlation between one element or component and another element or component. Spatial relative terms should be understood as terms that include different directions of the element in use or operation in addition to the directions shown in the drawings. For example, when reversing the elements shown in the drawing, an element described as “below” or “beneath” of another element is placed “above” the other element. Will be. Thus, the exemplary term “bottom” can include all directions of bottom and top. The elements can be oriented in other directions so that spatially relative terms can be interpreted by orientation.

また、本明細書で記述する実施例は、本発明の理想的な例示図である断面図及び/または平面図を参考にして説明する。図面において、膜及び領域の厚さは、技術的な内容を効果的に説明するために誇張されたものである。したがって、製造の技術及び/または許容誤差などにより例示図の形態は変形され得る。したがって、本発明の実施例は、図示された特定形態に限定されず、製造工程により生成される形態の変化も含む。例えば、直角に示されたエッチング領域は、ラウンドされたり(rounded)、所定の曲率を有する形態であり得る。したがって、図面に例示された領域は概略的な属性を有し、図面に例示された領域の形態は、素子の領域の特定形態を例示するためのものであり、発明の範囲を限定するものではない。   In addition, the embodiments described in this specification will be described with reference to cross-sectional views and / or plan views which are ideal illustrative views of the present invention. In the drawings, the thickness of films and regions are exaggerated for effective description of technical contents. Therefore, the form of the illustrative drawing can be modified depending on the manufacturing technique and / or tolerance. Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in form produced by the manufacturing process. For example, the etched areas shown at right angles may be rounded or have a predetermined curvature. Accordingly, the region illustrated in the drawing has a schematic attribute, and the form of the region illustrated in the drawing is for illustrating a specific form of the region of the element, and does not limit the scope of the invention. Absent.

図1は、本発明の一実施例に係る印刷回路基板を説明するための断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

図1を参照すると、本実施例に係る印刷回路基板100は、紡糸層からなる心材110と、心材110の両面に形成された絶縁層120a、120bと、絶縁層120a、120bのそれぞれの上に形成された基材140a、140bとを含む。   Referring to FIG. 1, a printed circuit board 100 according to this embodiment includes a core material 110 made of a spinning layer, insulating layers 120a and 120b formed on both surfaces of the core material 110, and insulating layers 120a and 120b. And formed base materials 140a and 140b.

心材110は、電気紡糸(electrospinning)によりナノ繊維(nano fiber)が紡糸され、ナノ繊維からなる紡糸層で構成されることができる。この際、紡糸層は、有機物または無機物が溶解された溶解液を用いて、電気紡糸方式により紡糸することにより形成されることができ、アラミド(aramid) 系の有機材料、ナイロン(nylon)、シリカ(silica)系の無機材料またはチタニア(titania)系の無機材料を使用することができる。   The core material 110 may be composed of a spinning layer made of nanofibers, in which nanofibers are spun by electrospinning. At this time, the spinning layer can be formed by spinning by an electrospinning method using a solution in which an organic substance or an inorganic substance is dissolved, and includes an aramid organic material, nylon, silica. (Silica) -based inorganic materials or titania-based inorganic materials can be used.

アラミド系の有機材料が使用される場合、本実施例に係る印刷回路基板100に高い剛性及び高いモジュラスを付与でき、歪みを低減することができる。ナイロンが使用される場合、中空繊維(hollow fiber)を容易に形成でき、空気により誘電率(Dk)及び損失率(Df)が低くなり得る。   When an aramid organic material is used, high rigidity and high modulus can be imparted to the printed circuit board 100 according to this embodiment, and distortion can be reduced. When nylon is used, hollow fibers can be easily formed, and the dielectric constant (Dk) and loss factor (Df) can be lowered by air.

シリカ系の無機材料またはチタニア系の無機材料が使用される場合、印刷回路基板100に低い熱膨脹係数及び高いモジュラスを付与でき、添加物により誘電率(Dk)及び損失率(Df)が低くなり得る。   When a silica-based inorganic material or a titania-based inorganic material is used, a low thermal expansion coefficient and a high modulus can be imparted to the printed circuit board 100, and the dielectric constant (Dk) and loss factor (Df) can be lowered by the additive. .

心材110は、約10nmから100nm範囲の厚さを有するナノ繊維で構成されるが、ナノ繊維が物理的に絡み合っている状態の多孔性ナノ繊維構造体で構成されるので、心材110の薄型化が可能であり、印刷回路基板100のモジュラスを向上しながらも、低い熱膨脹係数を維持することができる。   The core material 110 is composed of nanofibers having a thickness in the range of about 10 nm to 100 nm, but is composed of a porous nanofiber structure in a state where the nanofibers are physically intertwined. It is possible to maintain a low coefficient of thermal expansion while improving the modulus of the printed circuit board 100.

ここで、ナノ繊維の厚さが10nm未満であると、心材110に要求されるモジュラスを得るのに十分な網構造のネットワーク(network)を形成できず、ナノ繊維の厚さが100nmを超えると、ナノ繊維の厚さにより、心材110と絶縁層120a,120bとの間の密着性が低下することになる。このため、心材110を構成するナノ繊維は、10nm〜100nm範囲内の厚さを有するように電気紡糸を行うことが好ましい。   Here, when the thickness of the nanofiber is less than 10 nm, it is not possible to form a network having a sufficient network structure to obtain the modulus required for the core material 110, and when the thickness of the nanofiber exceeds 100 nm. Depending on the thickness of the nanofiber, the adhesion between the core material 110 and the insulating layers 120a and 120b is lowered. For this reason, it is preferable to perform electrospinning so that the nanofibers constituting the core material 110 have a thickness in the range of 10 nm to 100 nm.

心材110の電気紡糸は、5〜25kVの高電圧にて行われ、電気紡糸後の熱処理は、10〜30℃から300〜400℃まで、分当たり2〜6℃の速度で昇温させながらイミド化(imidization)を行うことができる。   The electrospinning of the core material 110 is performed at a high voltage of 5 to 25 kV, and the heat treatment after the electrospinning is performed while increasing the temperature from 10 to 30 ° C. to 300 to 400 ° C. at a rate of 2 to 6 ° C. per minute. Can be performed.

心材110の上部面及び下部面には、それぞれ絶縁層120a、120bが積層され、絶縁層120a、120bの積層によりプリプレグ130(PrePreG:PPG)が形成される。絶縁層120a、120bは、心材110の上部面及び下部面にエポキシなどの絶縁樹脂が積層され硬化されることにより形成される。ここで、絶縁層120a、120bは、ガラスクロス(glass cloth)またはファブリッククロス(febric cloth)に絶縁樹脂が含浸され形成できるが、この場合、本実施例に係る印刷回路基板100のモジュラスがさらに向上することができる。   Insulating layers 120a and 120b are stacked on the upper surface and the lower surface of the core material 110, respectively, and a prepreg 130 (PrePreG: PPG) is formed by stacking the insulating layers 120a and 120b. The insulating layers 120a and 120b are formed by laminating and curing an insulating resin such as epoxy on the upper surface and the lower surface of the core material 110. Here, the insulating layers 120a and 120b can be formed by impregnating a glass cloth or a fabric cloth with an insulating resin. In this case, the modulus of the printed circuit board 100 according to the present embodiment is further improved. can do.

このように構成されたプリプレグ130は、機械的、熱的及び電気的特性を維持しながらも心材110の厚さを薄板化することができる。   The prepreg 130 configured in this way can reduce the thickness of the core material 110 while maintaining mechanical, thermal, and electrical characteristics.

絶縁層120a、120b上には、基材を積層することができる。基材140a、140bは、本実施例に係る印刷回路基板100の種類に応じて、銅箔(Cu foil)で形成されてもよく、絶縁層120a、120bと同じ材質または異なる材質の絶縁樹脂で構成されてもよい。   A base material can be laminated on the insulating layers 120a and 120b. The base materials 140a and 140b may be formed of copper foil (Cu foil) according to the type of the printed circuit board 100 according to the present embodiment, and may be made of an insulating resin made of the same material as or different from the insulating layers 120a and 120b. It may be configured.

また、絶縁層120a、120bは、互いに異なる厚さを有するように形成されてもよい。すなわち、プリプレグ130に形成される絶縁層間の厚さの比が互いに異なってもよい。これは、本実施例に係る印刷回路基板100の歪みを制御するためでもある。   In addition, the insulating layers 120a and 120b may be formed to have different thicknesses. That is, the thickness ratio between the insulating layers formed in the prepreg 130 may be different from each other. This is also for controlling the distortion of the printed circuit board 100 according to the present embodiment.

そして絶縁層120a、120bは、各絶縁層が熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂で構成されることができる。ここで、各絶縁層120a、120bのうちの一つの絶縁層は、熱硬化性樹脂で構成され、他の絶縁層は光硬化性樹脂で構成されることができる。   Each of the insulating layers 120a and 120b can be made of a thermosetting resin or a photocurable resin. Here, one of the insulating layers 120a and 120b may be made of a thermosetting resin, and the other insulating layer may be made of a photocurable resin.

基材140a、140bが銅箔で構成される場合は、プリプレグ130の両表面に銅箔層の形成された銅張積層板で構成され、銅張積層板の銅箔層は、後に配線層として形成されることが可能である。また、基材140a、140bが絶縁樹脂で構成される場合は、多層印刷回路基板のビルドアップ層として形成されることができる。   When the base materials 140a and 140b are made of copper foil, the prepreg 130 is made of a copper clad laminate in which copper foil layers are formed on both surfaces, and the copper foil layer of the copper clad laminate is later used as a wiring layer. Can be formed. In addition, when the base materials 140a and 140b are made of an insulating resin, they can be formed as a build-up layer of a multilayer printed circuit board.

一方、心材110を構成するナノ繊維は、中空繊維形態に構成されることができる。ナノ繊維が中空繊維形態に構成される場合、中空繊維の内部空洞に空気が入り込むので、心材110の誘電率が低くなり得る。これにより、本実施例に係る印刷回路基板100は、高周波及び高速伝送に有利である。   Meanwhile, the nanofibers constituting the core material 110 can be configured in the form of hollow fibers. When the nanofiber is configured in the form of a hollow fiber, air enters the internal cavity of the hollow fiber, so that the dielectric constant of the core material 110 can be lowered. Accordingly, the printed circuit board 100 according to the present embodiment is advantageous for high frequency and high speed transmission.

図2から図5は、本発明の一実施例に係る印刷回路基板の製造方法を説明するための工程断面図であり、図6は、本発明の一実施例に係る印刷回路基板に適用された心材のナノ繊維に対する平面投射電子顕微鏡写真である。   2 to 5 are process cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is applied to the printed circuit board according to an embodiment of the present invention. It is a plane projection electron micrograph with respect to the nanofiber of the core material.

図2を参照すると、下部絶縁層120aが積層された下部基材140aを準備する。下部基材140aは、銅箔または絶縁樹脂が硬化された絶縁板で構成できる。下部絶縁層120aは、基材140a上に数μmの厚さで積層されることができる。   Referring to FIG. 2, a lower base material 140a on which a lower insulating layer 120a is stacked is prepared. The lower substrate 140a can be formed of a copper foil or an insulating plate obtained by curing an insulating resin. The lower insulating layer 120a may be stacked on the base material 140a with a thickness of several μm.

図3を参照すると、下部絶縁層120a上には、ナノ繊維で構成された心材110が形成されることができる。心材110は、電気紡糸方式により紡糸されたナノ繊維が絡み合った状態で積層された紡糸層で構成できる。   Referring to FIG. 3, a core material 110 made of nanofibers may be formed on the lower insulating layer 120a. The core material 110 can be composed of a spinning layer in which nanofibers spun by an electrospinning method are stacked in an intertwined state.

電気紡糸方式は、電場を用いて最小nm規模(scale)の直径を有する連続状のナノ繊維を実現することができる。ナノ繊維がノズルを介して一定の速度に吐出され紡糸されることにより、図6に示すように、ナノ繊維が無作為に配列された心材110を得ることができる。   The electrospinning method can realize continuous nanofibers having a diameter of a minimum nm scale using an electric field. As shown in FIG. 6, the core material 110 in which nanofibers are randomly arranged can be obtained by discharging and spinning nanofibers through a nozzle at a constant speed.

このような電気紡糸により得られるナノ繊維は、約10nmから100nmの厚さに形成されることができる。これにより、心材110は、単位体積当たりに高い比表面積を有することができ、硬化度の高い絶縁層で構成されることができる。   Nanofibers obtained by such electrospinning can be formed to a thickness of about 10 nm to 100 nm. Thereby, the core material 110 can have a high specific surface area per unit volume, and can be comprised by the insulating layer with a high hardening degree.

また、心材110は、電気紡糸によりナノ繊維が積層されるとき、空隙を調節することができるが、たとえば、ナノ繊維を形成するための電気紡糸装置に注入される高分子溶液に、異なる溶解度を有する高分子を混合してナノ繊維を無作為に配列した後、選択的に一つの成分を溶かして除去することにより、心材110の空隙の大きさや空隙率を調節することができる。   In addition, the core material 110 can adjust the gap when the nanofibers are laminated by electrospinning. For example, the core material 110 has different solubility in the polymer solution injected into the electrospinning apparatus for forming the nanofibers. After the nano-fibers are randomly arranged by mixing the polymers having them, the size and the porosity of the core material 110 can be adjusted by selectively dissolving and removing one component.

一方、下部絶縁層120a上に塗布される心材110は、心材110を構成するナノ繊維が中空繊維形態に形成されて、塗布されることができる。中空繊維形態のナノ繊維は、電気紡糸装置に備えられたノズルを二重構造に形成することにより製作可能であり、中空繊維形態のナノ繊維の内部空洞により空気層が形成されることで、誘電率を改善することができる。   Meanwhile, the core material 110 applied on the lower insulating layer 120a may be applied by forming the nanofibers constituting the core material 110 in the form of hollow fibers. Nanofibers in the form of hollow fibers can be manufactured by forming a nozzle provided in the electrospinning apparatus in a double structure, and an air layer is formed by the internal cavities of the nanofibers in the form of hollow fibers. The rate can be improved.

図4を参照すると、下部絶縁層120a上に積層された心材110上には、上部絶縁層120bがさらに積層されて、中央部に心材110が備えられたプリプレグ130が製作される。プリプレグ130は、心材110の高いモジュラス及び低い熱膨脹係数により、主に印刷回路基板100のコアとして適用され、歪みの防止が主な目的である多層印刷回路基板のビルドアップ層にも適用されることができる。   Referring to FIG. 4, the upper insulating layer 120 b is further stacked on the core material 110 stacked on the lower insulating layer 120 a, and the prepreg 130 including the core material 110 at the center is manufactured. The prepreg 130 is mainly applied as a core of the printed circuit board 100 due to a high modulus and a low thermal expansion coefficient of the core material 110, and is also applied to a build-up layer of a multilayer printed circuit board whose main purpose is to prevent distortion. Can do.

図5を参照すると、上部絶縁層120b上に、図2に示された下部基材140aと同じ材質の上部基材140bが積層され、銅張積層板または両面印刷回路基板のビルドアップ層が形成されることができる。   Referring to FIG. 5, an upper base material 140b made of the same material as the lower base material 140a shown in FIG. 2 is laminated on the upper insulating layer 120b to form a copper-clad laminate or a double-sided printed circuit board build-up layer. Can be done.

このような構成と製造方法により製作される本実施例の印刷回路基板は、中央部を構成する心材110が電気紡糸により屈曲性の低下された比較的平坦な表面を有するようにすることができる。これにより、心材110の上部面及び下部面に積層される絶縁層120a、120bは、比較的平坦な表面を有することができる。これにより、絶縁層120a、120b上に、追加の絶縁層を積層するときや、絶縁層120a、120b上にメッキ層形成するときに、不良率を低減することができる。   In the printed circuit board of this embodiment manufactured by such a configuration and manufacturing method, the core material 110 constituting the central portion can have a relatively flat surface whose flexibility is reduced by electrospinning. . Accordingly, the insulating layers 120a and 120b stacked on the upper surface and the lower surface of the core material 110 can have a relatively flat surface. Thereby, when an additional insulating layer is laminated on the insulating layers 120a and 120b, or when a plating layer is formed on the insulating layers 120a and 120b, the defect rate can be reduced.

一方、心材110を形成するステップにおいて、無機物のナノ繊維が無作為に配列された心材110と絶縁層120a、120bとの間に有機物のナノ繊維層を追加的に形成することができる。これにより、心材110の上部面及び下部面に積層される絶縁層120a、120bとの接合性能が向上されることができる。すなわち、心材110に積層される絶縁層120a、120bは、有機物絶縁樹脂で構成されるので、心材110の両表面上に絶縁層120a、120bと同じ材質の有機物ナノ繊維層を形成することにより、同じ材質の接合親和力による接合性能の向上を図ることができる。   On the other hand, in the step of forming the core material 110, an organic nanofiber layer can be additionally formed between the core material 110 in which inorganic nanofibers are randomly arranged and the insulating layers 120a and 120b. Thereby, the joining performance with the insulating layers 120a and 120b laminated on the upper surface and the lower surface of the core material 110 can be improved. That is, since the insulating layers 120a and 120b laminated on the core material 110 are made of an organic insulating resin, by forming organic nanofiber layers of the same material as the insulating layers 120a and 120b on both surfaces of the core material 110, The joining performance can be improved by the joining affinity of the same material.

以上、添付された図面を参照して本発明の実施例を説明したが、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明を、その技術的思想や必須の特徴を変更することなく、他の具体的な形態に実施できることを理解できよう。したがって、以上で説明した実施例は、すべての面において例示的なものであって、限定的ではないことを理解しなければならない。   The embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but those skilled in the art to which the present invention pertains change the technical idea and essential features of the present invention. It will be understood that other specific forms can be implemented without. Accordingly, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all aspects and not limiting.

100 印刷回路基板
110 心材
120a、120b 絶縁層
130 プリプレグ
140a、140b 基材
100 printed circuit board 110 core material 120a, 120b insulating layer 130 prepreg 140a, 140b base material

Claims (17)

10〜100nm範囲の厚さを有するナノ繊維で構成された心材と、
前記心材の互いに対向する第1面及び第2面にそれぞれ備えられた第1絶縁層及び第2絶縁層と、
を含むプリプレグ。
A core material composed of nanofibers having a thickness in the range of 10 to 100 nm;
A first insulating layer and a second insulating layer respectively provided on the first surface and the second surface of the core material facing each other;
Including prepreg.
前記心材は、アラミド系の有機材料、ナイロン、シリカ系無機材料またはチタニア系無機材料を含む請求項1に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 1, wherein the core material includes an aramid organic material, nylon, silica-based inorganic material, or titania-based inorganic material. 前記第1絶縁層及び/または前記第2絶縁層の一部が、前記心材に含浸された請求項1又は請求項2に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 1 or 2, wherein a part of the first insulating layer and / or the second insulating layer is impregnated in the core material. 前記ナノ繊維は、中空繊維である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のプリプレグ。   The prepreg according to any one of claims 1 to 3, wherein the nanofiber is a hollow fiber. 前記第1絶縁層及び/または前記第2絶縁層の一部が、前記中空繊維の空洞に含浸された請求項4に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 4, wherein a part of the first insulating layer and / or the second insulating layer is impregnated in a cavity of the hollow fiber. 前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層は、互いに異なる厚さを有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプリプレグ。   The prepreg according to any one of claims 1 to 5, wherein the first insulating layer and the second insulating layer have different thicknesses. 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプリプレグと、
前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層のうちの少なくとも一つの上に備えられた基材と、
を含む印刷回路基板。
The prepreg according to any one of claims 1 to 6,
A substrate provided on at least one of the first insulating layer and the second insulating layer;
Including printed circuit board.
前記基材は、銅箔層である請求項7に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 7, wherein the base material is a copper foil layer. 第1面に銅箔層が備えられた第1絶縁層を準備するステップと、
前記第1面に対向する前記第1絶縁層の第2面上に電気紡糸方式により紡糸されたナノ繊維で構成された心材を形成するステップと、
前記心材上に第2絶縁層を形成するステップと、
を含むプリプレグの製造方法。
Providing a first insulating layer provided with a copper foil layer on a first surface;
Forming a core material composed of nanofibers spun by electrospinning on a second surface of the first insulating layer facing the first surface;
Forming a second insulating layer on the core material;
A method for producing a prepreg comprising:
前記ナノ繊維は、10〜100nm範囲の厚さを有するように形成される請求項9に記載のプリプレグの製造方法。   The method for producing a prepreg according to claim 9, wherein the nanofiber is formed to have a thickness in a range of 10 to 100 nm. 前記心材は、アラミド系の有機材料、ナイロン、シリカ系無機材料またはチタニア系無機材料を含む請求項9又は請求項10に記載のプリプレグの製造方法。   The prepreg manufacturing method according to claim 9 or 10, wherein the core material includes an aramid organic material, nylon, silica-based inorganic material, or titania-based inorganic material. 前記心材上に第2絶縁層を形成することにより前記第2絶縁層の一部が前記心材に含浸される請求項9から請求項11のいずれか1項に記載のプリプレグの製造方法。   The method for manufacturing a prepreg according to claim 9, wherein a part of the second insulating layer is impregnated in the core material by forming a second insulating layer on the core material. 前記ナノ繊維は、中空繊維である請求項9から請求項12のいずれか1項に記載のプリプレグの製造方法。   The method for producing a prepreg according to any one of claims 9 to 12, wherein the nanofiber is a hollow fiber. 前記心材上に第2絶縁層を形成することにより前記第2絶縁層の一部が前記中空繊維の空洞に含浸される請求項13に記載のプリプレグの製造方法。   The method for producing a prepreg according to claim 13, wherein a part of the second insulating layer is impregnated in a cavity of the hollow fiber by forming a second insulating layer on the core material. 前記第2絶縁層は、前記第1絶縁層と異なる厚さを有するように形成される請求項9から請求項14のいずれか1項に記載のプリプレグの製造方法。   The prepreg manufacturing method according to claim 9, wherein the second insulating layer is formed to have a thickness different from that of the first insulating layer. 請求項9から請求項15のいずれか1項に記載のプリプレグの製造方法によりプリプレグを製造するステップと、前記第1絶縁層及び前記第2絶縁層のうちの少なくとも一つの上に基材を形成するステップと、を含む印刷回路基板の製造方法。   A step of manufacturing a prepreg by the method for manufacturing a prepreg according to any one of claims 9 to 15, and forming a base material on at least one of the first insulating layer and the second insulating layer And a method of manufacturing a printed circuit board. 前記基材は、銅箔層である請求項16に記載の印刷回路基板の製造方法。   The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 16, wherein the base material is a copper foil layer.
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