JP2017046017A

JP2017046017A - 液処理装置、液処理方法および記憶媒体

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Publication number: JP2017046017A
Application number: JP2016238704A
Authority: JP
Inventors: 溝賢治中; Kenji Nakamizo; 田聡守; Satoshi Morita
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2016-12-08
Filing date: 2016-12-08
Publication date: 2017-03-02
Anticipated expiration: 2033-05-31
Also published as: JP6328738B2

Abstract

【課題】バルブから処理液がリークしていることを確実に検出することが可能な液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、処理液タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃに接続された循環流路３２ａ、３２ｂ、３２ｃおよび配管６８と、処理液をウエハＷに供給する処理液供給ノズル４５と、開状態の時に配管６８に対して処理液を供給し、閉状態の時に配管６８に対する処理液の供給を遮断する多連バルブ３０と、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計３４とを備えている。制御部８０は、ウエハＷに処理液を供給する際、流量計３４が測定した流量の値を第１の応答時間に基づいて判断し、多連バルブ３０のリークを検知する際、流量計３４が測定した流量の値を第２の応答時間に基づいて判断する。
第２の応答時間は、第１の応答時間よりも長くなっている。
【選択図】図２

Description

本発明は、被処理体に処理液を供給することにより被処理体を処理する液処理装置、液処理装置を用いて被処理体を処理する液処理方法、および液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。

半導体装置の製造のための一連の処理には、半導体ウエハ等の被処理体に処理液（例えば薬液）を供給することにより行われる液処理（例えば洗浄処理）が含まれる。処理液を供給する液処理の後には、処理液を除去するために被処理体にリンス液を供給するリンス処理が施され、その後、被処理体に乾燥処理が施される。

このような液処理装置としては、半導体ウエハ等の被処理体をスピンチャックに保持し、被処理体を回転させた状態でウエハの表面または表裏面に処理液を供給して処理を行う枚葉式の複数の処理ユニットと、これら処理ユニットへの搬入出を行う搬送装置とを備えたものが用いられている（特許文献１）。

特開２００８−３４４９０号公報

ところで、このような液処理装置においては、処理液を供給するための供給系路上にバルブと、流量計と、流量調整部とが設けられている。そして液処理時に被処理体に対して処理液を供給する場合、流量計が供給系路を流れる処理液の瞬間流量を所定の間隔で出力し、この流量計から出力された流量信号を元に、流量調整部で処理液の流量を調整することが行われている。

しかしながら、バルブに故障等が生じることによりバルブにリークが生じ、バルブが閉鎖されているにもかかわらず、微量の処理液がバルブを通過するという問題が存在する。
この場合、バルブを通過した微量の処理液が、本来当該処理液が流れるべきではないタイミングで（例えば乾燥時に）、ノズルから被処理体側に流れてくる可能性がある。このような場合、例えば乾燥時に処理液が被処理体に供給されたり、あるいは複数の処理液同士が配管内で混ざり合ったりするため、被処理体の処理に影響を及ぼすおそれがある。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、バルブから処理液がリークしていることを確実に検出することが可能な、液処理装置、液処理方法および記憶媒体を提供する。

本発明の一実施の形態による被処理体に処理液を供給することにより前記被処理体を処理する液処理装置において、処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計と、前記流量計に接続され、前記流量計の応答時間が送信される制御部とを備え、前記制御部は、前記被処理体に前記処理液を供給する際、前記流量の値を第１の応答時間に基づいて判断し、前記制御部は、前記バルブのリークを検知する際、前記流量の値を第２の応答時間に基づいて判断し、前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする。

本発明の一実施の形態による液処理方法は、液処理装置を用いて被処理体を処理する液処理方法において、前記液処理装置は、処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計とを備え、前記液処理方法は、前記バルブを開状態にするとともに、前記被処理体に前記処理液を供給する供給工程であって、前記流量の値が第１の応答時間に基づいて判断される、供給工程と、前記バルブを閉状態にするとともに、前記バルブのリークを検知する検知工程であって、前記流量の値が第２の応答時間に基づいて判断される、検知工程とを備え、前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする。

本発明の一実施の形態による記憶媒体は、液処理装置を用いて被処理体を処理する、液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、前記液処理装置は、処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計とを備え、前記液処理方法は、前記バルブを開状態にするとともに、前記被処理体に前記処理液を供給する供給工程であって、前記流量の値が第１の応答時間に基づいて判断される、供給工程と、前記バルブを閉状態にするとともに、前記バルブのリークを検知する検知工程であって、前記流量の値が第２の応答時間に基づいて判断される、検知工程とを備え、前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする。

本発明によれば、バルブから処理液がリークしていることを確実に検出することができる。

図１は、液処理装置の全体構成を示す平面図。図２は、本発明の一実施の形態による液処理装置を示す概略構成図。図３は、本発明の一実施の形態による液処理方法を示すフロー図。

以下、図１〜図３を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。

図１は本発明の一実施の形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図である。

図１に示すように、液処理装置１０は、複数のウエハＷ（被処理体である基板）を収容するウエハキャリアＣを載置し、ウエハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１６と、ウエハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）１８とを備えており、これらは互いに隣接して設けられている。

このうち搬入出ステーション１６は、複数のウエハＷを水平状態で収容するウエハキャリアＣを載置するキャリア載置部１１と、ウエハＷの搬送を行う搬送部１２と、ウエハＷの受け渡しを行う受け渡し部１３と、搬送部１２および受け渡し部１３が収容される筐体１４とを有している。

キャリア載置部１１には４個のウエハキャリアＣが載置可能であり、載置されたウエハキャリアＣは筐体１４の垂直壁部に密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウエハＷが搬送部１２に搬入可能となっている。

搬送部１２は搬送機構１５を有しており、搬送機構１５は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム１５ａを有している。さらに、搬送機構１５は、このウエハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構、ウエハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７に沿って移動させる機構、垂直方向に移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウエハキャリアＣと受け渡し部１３との間でウエハＷが搬送される。

受け渡し部１３は、その内部に設けられ、ウエハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０を有しており、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション１８との間でウエハＷの受け渡しが行われるようになっている。

処理ステーション１８は直方体状をなす筐体２１を有し、筐体２１内には、その中央上部にウエハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の基板処理ユニット２２が水平に配列されている。

搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム２４ａを有しており、このウエハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５（図１参照）に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に沿って移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各基板処理ユニット２２に対するウエハＷの搬入出を行う。

次に、図２を参照して基板処理ユニット２２の構成について説明する。

図２に示すように、基板処理ユニット２２は、ベースプレート４１と、ウエハＷを回転可能に保持するウエハ保持部４２と、このウエハ保持部４２を回転させる回転モータ４３と、ウエハ保持部４２に保持されたウエハＷを囲繞するように設けられたカップ４４と、ウエハＷの表面に処理液を供給する処理液供給ノズル４５と、カップ４４の周縁部に設けられた排気・排液部４７とを有している。また、排気・排液部４７の周囲およびウエハＷの上方を覆うようにケーシング４８が設けられている。ケーシング４８の上部には気流を導入する気流導入部４９が設けられており、ウエハ保持部４２に保持されたウエハＷに清浄空気のダウンフローが供給される。

ウエハ保持部４２は、水平に設けられ円板状をなす回転プレート５１と、回転プレート５１に連結され、下方鉛直に延びる円筒状の回転軸５２とを有している。そして、昇降部材５３が回転軸５２内を昇降可能に設けられている。また回転プレート５１には、ウエハＷの外縁を保持する３つ（１つのみ図示）の保持部材５４が設けられている。

回転軸５２は、軸受け部材５５を介してベースプレート４１に回転可能に支持されている。回転軸５２と回転モータ４３の軸に嵌め込まれたプーリー５８とには、ベルト５７が巻き掛けられており、回転モータ４３の回転駆動が回転軸５２に伝達される。

また、昇降部材５３の下端には接続部材６６を介してシリンダ機構６７が接続されており、このシリンダ機構６７によって昇降部材５３を昇降させることにより、ウエハＷを昇降させてウエハＷのローディングおよびアンローディングが行われる。

カップ４４は、ウエハＷから飛散した処理液がウエハＷに戻ることを抑制し、処理液は下方に導かれる。また、排気・排液部４７は、主に回転プレート５１とカップ４４に囲繞された空間から排出される気体および液体を回収するためのものであり、カップ４４から排出された処理液を受ける環状をなす排液カップ９１と、排液カップ９１の外側に、排液カップ９１を囲繞するように設けられた環状をなす排気カップ９２とを備えている。また、排液カップ９１の底部の最外側部分には排液管９４が接続されている。さらに排気カップ９２の下部には排気管９５が接続されており、回転プレート５１の下方側に流れ込んだ気流は、この排気管９５を介して例えば図示しない除害設備へ向けて排出される。

また、処理液供給ノズル４５はノズルアーム６２に保持されており、図示しない駆動機構によりノズルアーム６２を移動させる。これにより、処理液供給ノズル４５をウエハＷの上方の処理液供給位置と退避位置との間で移動し、処理液供給ノズル４５からウエハＷの表面に処理液が供給されるようになっている。処理液供給ノズル４５には配管６８が接続されており、この配管６８を介して処理液が処理液供給ノズル４５に供給される。

このような構成からなる液処理装置１０は、制御部８０に設けた記憶媒体８１に記録された各種のコンピュータプログラムに従って制御部８０により駆動制御され、これによりウエハＷに対する様々な処理が行われる。ここで、記憶媒体８１は、各種の設定データや後述する洗浄プログラム等の各種のプログラムを格納している。記憶媒体８１としては、コンピュータで読み取り可能なＲＯＭやＲＡＭなどのメモリーや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭやフレキシブルディスクなどのディスク状記憶媒体などの公知のものが使用され得る。

次に、処理液供給ノズル４５に処理液を供給するための構成について説明する。

図２に示すように、液処理装置１０は、それぞれ所定の処理液を貯留する複数（この場合は３つ）の処理液タンク（処理液供給源）３１ａ、３１ｂ、３１ｃと、処理液タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃにそれぞれ接続され、処理液を供給ないし循環させる循環流路３２ａ、３２ｂ、３２ｃと、循環流路３２ａ、３２ｂ、３２ｃに設けられ、それぞれ処理液を送液するためのポンプ３３ａ、３３ｂ、３３ｃとを有している。

なお、処理液タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃのうち処理液タンク３１ａには、例えばアンモニア水と過酸化水素を混合して形成されたアンモニア過水（ＳＣ１）が貯留され、処理液タンク３１ｂには、例えば希フッ酸（ＤＨＦ）が貯留され、処理液タンク３１ｂには、例えば純水（ＤＩＷ）が貯留されている。

また、循環流路３２ａ、３２ｂ、３２ｃには、３つの切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃを有する多連バルブ３０が接続されている。すなわち、切換バルブ３０ａは、処理液タンク３１ａからの処理液（ＳＣ１）の流路を開閉制御し、切換バルブ３０ｂは、処理液タンク３１ｂからの処理液（ＤＨＦ）の流路を開閉制御し、切換バルブ３０ｃは、処理液タンク３１ｃからの処理液（純水）の流路を開閉制御するようになっている。また多連バルブ３０は出力口３０ｄを有しており、この出力口３０ｄには配管６８が接続されている。
そして切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃから流出した処理液は、この出力口３０ｄを介して配管６８に供給される。

なお、多連バルブ３０は上述した制御部８０に接続されており、多連バルブ３０は、制御部８０によって制御される。すなわち、切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃは、制御部８０によって制御されて、それぞれ独立して開状態と閉状態とをとることができる。そして切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃは、開状態の時にはそれぞれ配管６８を介して処理液供給ノズル４５に対して対応する処理液を供給し、閉状態の時にはそれぞれ配管６８に対する当該処理液の供給を遮断するようになっている。

例えば、切換バルブ３０ａが開状態となり、他の切換バルブ３０ｂ、３０ｃが閉状態となった場合を想定する。このとき処理液タンク３１ａからの処理液（ＳＣ１）は、ポンプ３３ａによって送液され、循環流路３２ａを介して多連バルブ３０の切換バルブ３０ａに達し、多連バルブ３０の出力口３０ｄから流出する。さらに出力口３０ｄからの処理液（ＳＣ１）は、切換バルブ３０ａから配管６８、後述する流量計３４および流量調整部３５を介して処理液供給ノズル４５に対して供給される。なお、切換バルブ３０ｂを用いて希フッ酸（ＤＨＦ）を供給する場合、および切換バルブ３０ｃを用いて純水（ＤＩＷ）を供給する場合についても同様である。

また、配管６８には、多連バルブ３０側から、流量計３４と、流量調整部３５とが設けられている。なお、本実施の形態において、配管６８と、循環流路３２ａ、３２ｂ、３２ｃとによって供給経路が構成されている。

流量計３４は、例えば超音波流量計からなっていても良く、予め決められた応答時間で断続的に配管６８を流れる処理液の流量の値を出力する機能を有している。この流量計３４は、平均化処理、すなわち平均化手法の一として知られる、各測定データのばらつきを抑えるフィルタ処理を行うことができる。このような演算で平均化処理を行う期間、すなわち流量計３４を流れる処理液の瞬時流量の平均値を算出する期間である応答時間を設定し、設定された期間の平均化を行うことで測定信号を安定化させる。これにより、変化を緩やかに平滑化して測定の安定化を図ることができる。例えば応答時間が１秒である場合、流量計３４は、配管６８を流れる処理液の瞬時流量の１秒間の平均値を算出し、これを１秒間おきに出力する。なお、流量計３４の応答時間は、例えば０．１秒〜１０秒の間で調節することができる。

この流量計３４は制御部８０に接続されており、流量計３４の応答時間は、制御部８０によって制御されて変更されうる。具体的には、後述するように流量計３４の応答時間は、処理液供給ノズル４５からウエハＷに処理液を供給する際、第１の応答時間に設定され、バルブのリークを検知する際、第１の応答時間より長い第２の応答時間に設定される。

また、流量調整部３５は、流量計３４の下流側に設けられており、配管６８を流れる処理液の流量を調整する役割を果たす。この流量調整部３５は、制御部８０に接続されている。そして配管６８を流れる処理液の流量は、例えば流量計３４で計測された処理液の流量値に基づいて、制御部８０によってフィードバック制御されて変更されうる。

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。以下において、液処理装置１０は、制御部８０の記憶媒体８１に記録された洗浄プログラムに従って駆動制御される。

まず、通常の液処理時、具体的には液処理装置１０の基板処理ユニット２２を用いてウエハＷに対して処理液を供給する際（供給工程）の作用について述べる。

この場合、基板処理ユニット２２においては、保持部材５４によりウエハＷを保持し、回転モータ４３によりウエハ保持部４２をカップ４４およびウエハＷとともに回転させながら、ウエハＷに対して処理液供給ノズル４５から処理液を供給し、ウエハＷの面を洗浄する。

このときの処理液としては、洗浄薬液、例えば、処理液タンク３１ａに貯留されたＳＣ１、処理液タンク３１ｂに貯留されたＤＨＦのいずれかまたは両方を用いる。後者の場合、ＳＣ１を用いてウエハＷの面を洗浄した後、ＤＨＦを用いてウエハＷの面を洗浄しても良く、あるいは、ＤＨＦを用いてウエハＷの面を洗浄した後、ＳＣ１を用いてウエハＷの面を洗浄しても良い。

ＳＣ１で洗浄する際には、処理液タンク３１ａから循環流路３２ａを経て処理液タンク３１ａに戻るようにポンプ３３ａを用いてＳＣ１を循環させつつ、配管６８を介して処理液供給ノズル４５からウエハＷに対してＳＣ１を供給する。

この場合、多連バルブ３０の切換バルブ３０ａを開状態にする。このとき、処理液タンク３１ａからのＳＣ１は、多連バルブ３０の切換バルブ３０ａを介して出力口３０ｄから流出し、配管６８、流量計３４および流量調整部３５を介して、処理液供給ノズル４５から吐出される。

この間、流量計３４の応答時間は、バルブのリークを検知する際の応答時間（第２の応答時間）よりも短い第１の応答時間（例えば０．１秒）に設定されている。流量計３４の応答時間を短くすることにより、流量計３４を流れる処理液の流量の細かな変化を把握することが容易になる。

同様に、ＤＨＦでウエハＷを洗浄する際には、多連バルブ３０の切換バルブ３０ｂを開状態にする。このとき、処理液タンク３１ｂからのＤＨＦは、多連バルブ３０の切換バルブ３０ｂを介して出力口３０ｄから流出し、配管６８、流量計３４および流量調整部３５を介して、処理液供給ノズル４５から吐出される。この場合も、流量計３４の応答時間は、第１の応答時間に設定されている。

そして、このような洗浄処理の後、処理液タンク３１ｃから各基板処理ユニット２２に純水を供給して純水リンスを行う。具体的には、多連バルブ３０の切換バルブ３０ｃを開状態にすることにより、処理液タンク３１ｃからの純水が、多連バルブ３０の出力口３０ｄから流出し、配管６８、流量計３４および流量調整部３５を介して、処理液供給ノズル４５から吐出される。この場合も、流量計３４の応答時間は、第１の応答時間に設定されている。その後、乾燥を行って洗浄処理を終了する。このように、供給工程においては、ウエハＷに処理液を供給する間、制御部８０は流量計３４が測定した流量の値を第１の応答時間に基づいて判断する。

次に、リーク検知時、すなわち多連バルブ３０のいずれかの切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃからリークが生じているか否かを検知する際（検知工程）の作用について述べる。このとき、流量調整部３５を制御することにより、処理液（例えば純水）を配管６８に流し、配管６８内を処理液で満たす。

続いて、多連バルブ３０の切換バルブ３０ａ、３０ｂ、３０ｃを全て閉状態にする（図３のステップＳ１）。次に、流量計３４の応答時間を、ウエハＷに処理液を供給する際の応答時間（第１の応答時間、例えば０．１秒）よりも長い第２の応答時間（例えば２秒）に設定する（図３のステップＳ２）。続いて、流量計３４が第２の応答時間で多連バルブ３０でリークした処理液の流量を測定し、この流量の値（流量信号）を制御部８０に対して送信する（図３のステップＳ３）。すなわち、検知工程においては、制御部８０は流量計３４が測定した流量の値を第２の応答時間に基づいて判断する。

なお、仮に多連バルブ３０にリークが生じていたとしても、流量計３４を流れる処理液の流量はごくわずかであり、ウエハＷに処理液を供給する際に流量計３４を流れる処理液の流量より十分に小さい。したがって、流量計３４の応答時間（第２の応答時間）をウエハＷに処理液を供給する際の応答時間（第１の応答時間）より長くすることにより、流量計３４から出力された流量信号の変動が平滑化される。これにより、多連バルブ３０における処理液のリークを正確に検出することが可能となる。これに対して、仮にリーク検知時における流量計３４の応答時間が第１の応答時間のまま維持されていると、流量計３４から出力された流量信号の変動（ふらつき）が大きくなってしまい、流量信号のわずかなノイズ等を検出してリークが生じていると誤って判断してしまうおそれがある。

なお、流量計３４は、処理液の流量を第２の応答時間より長い時間監視し、この流量の値を複数回制御部８０に送信しても良い。例えば、第２の応答時間を２秒とし、リーク監視時間を４秒とした場合、流量計３４は処理液の流量の値を２回分制御部８０に送信する。

次に、制御部８０は、流量計３４から出力された流量の値を用いて多連バルブ３０のリークを検知する（１回目のリーク検知）。すなわち、制御部８０は、流量計３４から第２の応答時間で出力された流量の値を、予め定められた所定の閾値と比較する（図３のステップＳ４）。仮に、流量の値が当該閾値を下回った場合、制御部８０は、多連バルブ３０にリークが生じていないと判断する（図３のステップＳ５）。この場合、制御部８０は、流量計３４の応答時間を第１の応答時間に戻し、流量計３４が測定した流量の値を第１の応答時間に基づいて判断する状態となる（図３のステップＳ６）。なお、流量計３４が処理液の流量を複数回測定する場合、全ての流量の値が閾値を下回った場合に、多連バルブ３０にリークが生じていないと判断する。

一方、制御部８０は、少なくとも１つの流量の値が上記閾値を上回った場合、多連バルブ３０にリークが生じていると判断する。この場合、制御部８０は、再度多連バルブ３０のリーク検知（２回目のリーク検知）を行う。これにより、ノイズや流量計３４の誤動作により多連バルブ３０にリークが生じていると誤検知してしまうリスクを低減することができる。

この間、まず上記と同様にして、流量計３４が第２の応答時間で処理液の流量を再度測定し、この流量の値（流量信号）を制御部８０に送信する（図３のステップＳ７）。なお、このとき流量計３４による処理液の流量の監視時間を１回目のリーク検知時における監視時間より長くしても良い。例えば、１回目のリーク検知時における監視時間が４秒である場合、２回目のリーク検知時における監視時間を１０秒としても良い。

続いて、制御部８０は、流量計３４から第２の応答時間で出力された流量の値を上記閾値と比較する（図３のステップＳ８）。制御部８０は、流量計３４から第２の応答時間で出力された流量の値が上記閾値を下回った場合、多連バルブ３０にリークが生じていないと判断する（図３のステップＳ５）。この場合、制御部８０は、流量計３４の応答時間を第１の応答時間に戻す（図３のステップＳ６）。なお、流量計３４が処理液の流量を複数回測定する場合、いずれかの流量の値が閾値を下回った場合に、多連バルブ３０にリークが生じていないと判断する。流量計３４が処理液の流量を複数回測定する場合、流量の値が閾値を下回った段階で多連バルブ３０にリークが生じていないと判断し、その後の測定を行わず、この時点でリーク検知工程を終了することが好ましい。これにより、リーク検知に要する時間を短縮することができる。

一方、制御部８０は、流量計３４から第２の応答時間で出力された流量の値が上記閾値を上回った場合、多連バルブ３０にリークが生じていると判断する（図３のステップＳ９）。この場合、制御部８０は、例えばアラームを発生させることにより多連バルブ３０にリークが生じていることを通知しても良い（図３のステップＳ１０）。なお、多連バルブ３０にリークが生じている場合、処理液は多連バルブ３０を略一定流量で絶えず流れ続ける。したがって、流量計３４が処理液の流量を複数回測定する場合、全ての流量の値が閾値を上回った場合に、多連バルブ３０にリークが生じていると判断する。

以上に説明したように、本実施の形態によれば、検知工程において流量計３４を閉状態にするとともに、流量計３４の応答時間を、ウエハＷに処理液を供給する際（供給工程）の応答時間（第１の応答時間）より長い第２の応答時間に設定することにより、流量計３４のリークを検知する。このことにより、流量計３４から出力された流量信号の変動が平滑化され、多連バルブ３０における処理液のリークを正確に検出することが可能となる。

なお、上記実施の形態では、制御部８０は、流量計３４から第２の応答時間で出力された流量の値を用いて多連バルブ３０のリークを検知し（１回目のリーク検知）、多連バルブ３０にリークが生じていると判断した場合、再度バルブのリークを検知するようになっている（２回目のリーク検知）。しかしながら、これに限らず、２回目のリーク検知を設けなくても多連バルブ３０のリーク検知を正確に行える場合には、２回目のリーク検知を設けなくても良い。

また、上記実施の形態において、供給工程の後であって検知工程の前に、流量調整部３５を制御することにより、処理液（例えば純水）を配管６８に流してもよい。この場合、処理液は、供給工程でウエハＷに処理液を供給する際の流量よりも多い流量で配管６８に流すことが好ましい。また処理液は、流量調整部３５に設定可能な最大流量で配管６８に流すことが更に好ましい。これにより、配管６８内の気泡を効果的に除去することができ、検知工程で多連バルブ３０の処理液のリークを検知する際の検知精度を向上させることができる。

また、上記実施の形態では、バルブとして多連バルブ３０を用いた場合を例にとって説明したが、これに限らず、バルブとしては、１つの切換バルブを有し単一の処理液を流すバルブを用いても良い。

また、上記実施の形態では、制御部８０は、ウエハＷに処理液を供給する際、多連バルブ３０を開状態にするとともに流量計３４の応答時間を第１の応答時間に設定し、多連バルブ３０のリークを検知する際、多連バルブ３０を閉状態にするとともに流量計３４の応答時間を第２の応答時間に設定している。しかしながら、これに限らず、制御部８０は、ウエハＷに処理液を供給する際、流量計３４が測定した流量の値を第１の応答時間に基づいて判断し、多連バルブ３０のリークを検知する際、流量計３４が測定した流量の値を第２の応答時間に基づいて判断するものであればよい。例えば、流量計３４の応答時間を常時第１の応答時間に設定しておき、制御部８０は、多連バルブ３０のリークを検知する際、流量計３４から送信された第１の応答時間に基づく流量の値を第２の応答時間に基づく値に換算し、この換算した値に基づいてリークの有無を判断してもよい。

１０液処理装置
２２基板処理ユニット
３０多連バルブ
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ切換バルブ
３０ｄ出力口
３１ａ、３１ｂ、３１ｃ処理液タンク
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ循環流路
３３ａ、３３ｂ、３３ｃポンプ
３４流量計
３５流量調整部
４１ベースプレート
４２ウエハ保持部
４３回転モータ
４４カップ
４５処理液供給ノズル
４７排気・排液部
４８ケーシング
４９気流導入部
５１回転プレート
５２回転軸
５３昇降部材
５４保持部材
５５軸受け部材
５７ベルト
５８プーリー
６２ノズルアーム
６６接続部材
６７シリンダ機構
６８配管
８０制御部
８１記憶媒体
９１排液カップ
９２排気カップ
９４排液管
９５排気管

Claims

被処理体に処理液を供給することにより前記被処理体を処理する液処理装置において、処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、
前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、
前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計と、
前記流量計に接続され、前記流量計の応答時間が送信される制御部とを備え、
前記制御部は、前記被処理体に前記処理液を供給する際、前記流量の値を第１の応答時間に基づいて判断し、
前記制御部は、前記バルブのリークを検知する際、前記流量の値を第２の応答時間に基づいて判断し、
前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする液処理装置。
前記制御部は、前記第２の応答時間に基づく流量の値が所定の閾値を上回った場合に、前記バルブにリークが生じていると判断することを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
前記制御部は、前記第２の応答時間に基づく流量の値が所定の閾値を下回った場合に、前記バルブにリークが生じていないと判断し、その後前記流量の値を前記第１の応答時間に基づいて判断することを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
前記供給経路に、前記供給経路を流れる前記処理液の流量を調整する流量調整部が設けられ、
前記制御部は、前記バルブのリークを検知する前に、前記流量調整部を制御することにより、前記処理液を、前記被処理体に前記処理液を供給する際に前記供給経路を流れる流量よりも多い流量で前記供給経路に流すことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載の液処理装置。
前記制御部は、前記第２の応答時間に基づいて判断された流量の値が所定の閾値を上回った場合に、前記バルブにリークが生じていると判断し、再度前記バルブのリークを検知することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の液処理装置。
液処理装置を用いて被処理体を処理する液処理方法において、
前記液処理装置は、
処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、
前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、
前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計とを備え、
前記液処理方法は、
前記バルブを開状態にするとともに、前記被処理体に前記処理液を供給する供給工程であって、前記流量の値が第１の応答時間に基づいて判断される、供給工程と、
前記バルブを閉状態にするとともに、前記バルブのリークを検知する検知工程であって、前記流量の値が第２の応答時間に基づいて判断される、検知工程とを備え、
前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする液処理方法。
前記検知工程において、前記第２の応答時間に基づく流量の値が所定の閾値を上回った場合に、前記バルブにリークが生じていると判断することを特徴とする請求項６記載の液処理方法。
前記検知工程において、前記第２の応答時間に基づく流量の値が所定の閾値を下回った場合に、前記バルブにリークが生じていないと判断し、その後前記流量の値を前記第１の応答時間に基づいて判断することを特徴とする請求項６または７記載の液処理方法。
前記供給工程の後であって前記検知工程の前に、前記処理液を、前記被処理体に前記処理液を供給する際に前記供給経路を流れる流量よりも多い流量で前記供給経路に流す工程が設けられていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項記載の液処理方法。
前記検知工程において、前記第２の応答時間に基づく流量の値が所定の閾値を上回った場合に、再度前記バルブのリークを検知することを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項記載の液処理方法。
液処理装置を用いて被処理体を処理する、液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記液処理装置は、
処理液供給源に接続され、前記処理液供給源からの前記処理液を供給する供給経路と、前記供給経路に接続され、前記供給経路からの前記処理液を前記被処理体に供給するノズルと、
前記供給経路に設けられ、開状態の時に前記供給経路に対して前記処理液を供給し、閉状態の時に前記供給経路に対する前記処理液の供給を遮断するバルブと、
前記供給経路に設けられ、予め決められた応答時間で流量の値を出力する流量計とを備え、
前記液処理方法は、
前記バルブを開状態にするとともに、前記被処理体に前記処理液を供給する供給工程であって、前記流量の値が第１の応答時間に基づいて判断される、供給工程と、
前記バルブを閉状態にするとともに、前記バルブのリークを検知する検知工程であって、前記流量の値が第２の応答時間に基づいて判断される、検知工程とを備え、
前記第２の応答時間は、前記第１の応答時間よりも長いことを特徴とする記憶媒体。