JP2017037830A - Laminate having transparent conductive film and production method of laminate - Google Patents

Laminate having transparent conductive film and production method of laminate Download PDF

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光人 伊藤
Mitsuhito Ito
光人 伊藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film having hard coat property, transparency and enough adhesiveness to endure severe irradiation with active energy rays in the production of a transparent conductive film.SOLUTION: A laminate is provided, which has a resin layer formed by curing an active energy ray-curable composition comprising a compound (A) having a fluorene structure and two or more (meth)acryloyl groups and a metal oxide containing a titanium and/or zirconium atom on a substrate that is a polyester film, and further has a transparent conductive film.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、基材と、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる樹脂層と、透明導電膜とを有する積層体およびそれを形成する製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate having a substrate, a resin layer obtained by curing an active energy ray-curable composition, and a transparent conductive film, and a production method for forming the laminate.

従来、タッチパネル用途等にポリエステル等の基材上に透明導電膜を設けた透明導電性の積層体が用いられている。透明導電膜としては酸化インジウム錫(ITO)等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、基材上にスパッタリング法や真空蒸着によって積層されている。
タッチパネルの動作方式として、抵抗膜式が主流であるが、近年、静電容量式が急速に拡大している。抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電性を有する積層体は、一般的にパターン化されていない透明導電膜で構成されている。一方、静電容量式タッチパネルには、通常、パターン化された透明導電膜が積層された透明導電性の積層体が用いられている。
Conventionally, a transparent conductive laminate in which a transparent conductive film is provided on a substrate such as polyester has been used for touch panel applications and the like. As the transparent conductive film, a thin film of metal oxide such as indium tin oxide (ITO) is generally used, and is laminated on the base material by sputtering or vacuum deposition.
As an operation method of the touch panel, a resistance film type is mainstream, but in recent years, a capacitance type has been rapidly expanded. A laminate having transparent conductivity used for a resistive film type touch panel is generally composed of a transparent conductive film that is not patterned. On the other hand, a transparent conductive laminate in which patterned transparent conductive films are laminated is generally used for the capacitive touch panel.

静電容量式タッチパネルに用いられている透明導電性を有する積層体は、通常、フォトリソエッチング等によって、透明導電膜がパターン化されており、平面視上透明導電膜のパターン部と非パターン部が存在する。
このような透明導電膜のパターン化された透明導電性を有する積層体を用いた静電容量式タッチパネルは、透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」という原料が問題となっており、表示装置としての品質を低下させる。
例えば特許文献1、2などに透明導電膜パターンの骨見えを抑制することが提案されている。
The transparent conductive laminate used for the capacitive touch panel is usually patterned with a transparent conductive film by photolithography etching or the like, and the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive film are planarly viewed. Exists.
A capacitive touch panel using such a transparent conductive layered laminate having a transparent conductive film has a problem with a so-called “bone-viewing” raw material in which the pattern portion of the transparent conductive film is visible. This degrades the quality of the display device.
For example, Patent Documents 1 and 2 propose to suppress the appearance of a transparent conductive film pattern.

特開2011−84075号JP 2011-84075 A 特許第5110226号Patent No. 5110226

近年では積層体の用途によって基材の片面あるいは両面に多層化され、それら各層の形成時や透明導電膜のパターン化の際に多量の活性エネルギー線が照射される。特許文献1や特許文献2の技術では、透明導電膜パターンの骨見え抑制の効果がみられるものの、樹脂層が多量の活性エネルギー線を受けた場合には基材との密着性が低下してしまうといった課題があった。また、基材と樹脂層の密着性を確保するために、活性エネルギー線の積算光量が多量にならないように層構成を設計しようとすると、積層体の層構成が限定されてしまうという問題が生じていた。
そこで、本発明は、透明導電性を有する積層体を製造するにあたり透明性および多量の活性エネルギー線照射にも耐えうる密着性と、透明導電性を有する積層体を提供することを目的とする。
In recent years, depending on the use of the laminate, it is multilayered on one or both sides of the substrate, and a large amount of active energy rays are irradiated when these layers are formed or when the transparent conductive film is patterned. In the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 2, although the effect of suppressing the bone appearance of the transparent conductive film pattern is seen, when the resin layer receives a large amount of active energy rays, the adhesion with the base material decreases. There was a problem such as. In addition, in order to ensure the adhesion between the base material and the resin layer, there is a problem that the layer configuration of the laminate is limited when trying to design the layer configuration so that the accumulated amount of active energy rays does not become large. It was.
Therefore, an object of the present invention is to provide a laminate having transparency and adhesiveness that can withstand irradiation of a large amount of active energy rays and a transparent conductivity in producing a laminate having transparent conductivity.

本発明は、ポリエステルフィルムである基材上に、フルオレン構造および/またはビフェニル構造、ならびに2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる樹脂層を有し、さらに透明導電膜を有する積層体に関する。   The present invention cures an active energy ray-curable composition containing a compound (A) having a fluorene structure and / or a biphenyl structure and two or more (meth) acryloyl groups on a substrate that is a polyester film. The present invention relates to a laminate having a resin layer and a transparent conductive film.

また、本発明は、前記樹脂層が、さらに3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(ただし、化合物(A)である場合を除く)を含む組成物を硬化してなる層である、前記積層体に関する。 Further, in the present invention, the resin layer is a layer obtained by curing a composition containing a compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups (excluding the case where it is a compound (A)). It is related with the said laminated body.

また、本発明は、フルオレン構造および/またはビフェニル構造、ならびに2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)と、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(ただし、化合物(A)である場合を除く)の固形分の合計100重量%中、化合物(A)の含有量が10〜90重量%である、前記積層体に関する。 The present invention also relates to a compound (A) having a fluorene structure and / or a biphenyl structure, and two or more (meth) acryloyl groups, and a compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups (wherein It is related with the said laminated body whose content of a compound (A) is 10 to 90 weight% in the total of 100 weight% of solid content of the compound (A) except the case.

また、本発明は、前記化合物(A)が、下記一般式(1)で表される化合物(A1)である前記積層体に関する。
一般式(1):
Moreover, this invention relates to the said laminated body whose said compound (A) is a compound (A1) represented by following General formula (1).
General formula (1):




(一般式(1)中、R1およびRのうち少なくとも一つは下記に示す4価または1価の有機残基であり、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。)






(In General Formula (1), at least one of R 1 and R 3 is a tetravalent or monovalent organic residue shown below,
R 2 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group. )



また、本発明は、前記化合物(A)が、下記一般式(2)で表される化合物(A2)である前記積層体に関する。
一般式(2):
−O−R−O−R

(一般式(2)中、Rは下記に示す2価の有機残基であり、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。)
Moreover, this invention relates to the said laminated body whose said compound (A) is a compound (A2) represented by following General formula (2).
General formula (2):
R 5 —O—R 4 —O—R 5

(In the general formula (2), R 4 is a divalent organic residue shown below,
R 5 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group. )




また、本発明は、積算光量2000mJ/cm以上の活性エネルギー線を照射した場合の、JIS K5600−5−6による付着性クロスカット法によって測定される前記基材と前記樹脂層との密着性が、単位面積当たりの剥離面積が5%未満である、前記積層体に関する。 Moreover, this invention is the adhesiveness of the said base material measured by the adhesive crosscut method by JISK5600-5-6 at the time of irradiating the active energy ray more than 2000 mJ / cm < 2 > of integrated light quantity. However, it is related with the said laminated body whose peeling area per unit area is less than 5%.

また、本発明は、前記組成物は、さらに金属酸化物を含む前記積層体に関する。
また、本発明は、前記金属酸化物は、チタニウムおよび/またはジルコニウム原子を含んでいることを特徴とする前記積層体に関する。
Moreover, this invention relates to the said laminated body in which the said composition contains a metal oxide further.
In addition, the present invention relates to the laminate, wherein the metal oxide includes titanium and / or zirconium atoms.

ポリエステルフィルムである基材上に、フルオレン構造および/またはビフェニル構造、ならびに2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化性組成物を塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化させ樹脂層を形成する工程と、
透明導電膜を形成する工程を含む、積層体の製造方法に関する。
An active energy ray-curable composition containing a compound (A) having a fluorene structure and / or a biphenyl structure and two or more (meth) acryloyl groups is applied onto a substrate that is a polyester film, and an active energy ray Irradiating and curing to form a resin layer;
It is related with the manufacturing method of a laminated body including the process of forming a transparent conductive film.

本発明により、透明性および多量の活性エネルギー線照射にも耐えうる密着性と透明導電性を有する積層体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a laminate having transparency and adhesiveness capable of withstanding a large amount of active energy ray irradiation and transparent conductivity.

本発明の積層体は、基材フィルム上の片面もしくは両面に、活性エネルギー線硬化膜である樹脂層と、透明導電膜の順に設けられている。   The laminated body of this invention is provided in order of the resin layer which is an active energy ray cured film, and a transparent conductive film on the one surface or both surfaces on a base film.

以下、本発明のポリエステルフィルムである基材と、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる樹脂層と、透明導電膜とを有する積層体を構成するそれぞれの構成要素について、詳細に説明する。   Hereinafter, each component which comprises the laminated body which has the base material which is the polyester film of this invention, the resin layer formed by hardening | curing an active energy ray curable composition, and a transparent conductive film is demonstrated in detail. .

<ポリエステルフィルム>
本発明のポリエステルフィルムはその屈折率が1.61から1.70であり、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく用いられる。
ポリエステルフィルムの屈折率は1.62から1.69の範囲が好ましく、1.63から1.68の範囲がさらに好ましく、1.64から1.67の範囲が特に好ましい。
<Polyester film>
The polyester film of the present invention has a refractive index of 1.61 to 1.70, and a polyethylene terephthalate film is particularly preferably used.
The refractive index of the polyester film is preferably in the range of 1.62 to 1.69, more preferably in the range of 1.63 to 1.68, and particularly preferably in the range of 1.64 to 1.67.

ポリエステルフィルムの厚みは、20μmから300μmの範囲が適当であり、50μmから250μmの範囲が好ましく、50μmから200μmの範囲がより好ましい。   The thickness of the polyester film is suitably in the range of 20 μm to 300 μm, preferably in the range of 50 μm to 250 μm, and more preferably in the range of 50 μm to 200 μm.

本発明のポリエステルフィルムはその表面に有機物または無機物からなる層をさらに有していてもよく、その具体例としては他の層との接着性を上げるための易接着層が挙げられる。   The polyester film of the present invention may further have a layer made of an organic or inorganic substance on its surface, and specific examples thereof include an easy-adhesion layer for increasing the adhesion to other layers.

易接着層を設けたポリエステルフィルムの市販品としては、
東レ社製:ルミラーシリーズ、東洋紡社製:コスモシャインシリーズなどが挙げられる。特に、透明性が高く光学用途に用いられる東レ社製:ルミラーUH13、U48シリーズが好ましい。
As a commercially available polyester film with an easy-adhesion layer,
Toray Industries, Inc .: Lumirror series, Toyobo Co., Ltd .: Cosmo Shine series. Particularly, Toray's UML13 and U48 series, which are highly transparent and used for optical applications, are preferable.

<樹脂層>
本発明の樹脂層は、フルオレン構造および/またはビフェニル構造、ならびに2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる層である。
<Resin layer>
The resin layer of the present invention is a layer formed by curing an active energy ray-curable composition containing a compound (A) having a fluorene structure and / or a biphenyl structure and two or more (meth) acryloyl groups.

化合物(A)は、その構造中に1つ以上のフルオレン構造および/またはビフェニル構
造と、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有すればよく、この化合物(A)がポリエステルフィルムとの密着性に優れる。
The compound (A) only needs to have one or more fluorene structures and / or biphenyl structures and two or more (meth) acryloyl groups in the structure, and the compound (A) has adhesion to the polyester film. Excellent.

化合物(A)の好ましい具体例としては、下記一般式(1)で表される化合物(A1)も挙げることができる。化合物(A1)はハードコート性に優れるため好適に使用することができる。 Preferable specific examples of compound (A) also include compound (A1) represented by the following general formula (1). Since compound (A1) is excellent in hard coat properties, it can be suitably used.

一般式(1):



一般式(1)中、R1およびRのうち少なくとも一つはフルオレン構造またはビフェニ
ル構造を有する4価または1価の有機残基であり、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。
General formula (1):



In general formula (1), at least one of R 1 and R 3 is a tetravalent or monovalent organic residue having a fluorene structure or a biphenyl structure,
R 2 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group.

一般式(1)中、R1としては、フルオレン構造またはビフェニル構造を有するものであ
れば特に限定されないが、好適な具体例として下記に示す4価の有機残基が挙げられる。好ましくは、ビフェニル構造を有する残基である。
In the general formula (1), R 1 is not particularly limited as long as it has a fluorene structure or a biphenyl structure, and preferred specific examples include the following tetravalent organic residues. Preferably, it is a residue having a biphenyl structure.



一般式(1)中、R3がフルオレン構造またはビフェニル構造を有する場合は、R1はフルオレン構造またはビフェニル構造を有していなくてもよい。このようなものとしては特に限定されないが、好適な具体例として下記に示す4価の有機残基が挙げられる。好ましくは芳香環を有する残基である。


In the general formula (1), when R 3 has a fluorene structure or a biphenyl structure, R 1 may not have a fluorene structure or a biphenyl structure. Although it does not specifically limit as such, The tetravalent organic residue shown below is mentioned as a suitable specific example. A residue having an aromatic ring is preferred.


一般式(1)中、R3としては、フルオレン構造またはビフェニル構造を有するものであ
れば特に限定されないが、好適な具体例として下記に示す1価の有機残基が挙げられる。


In the general formula (1), R 3 is not particularly limited as long as it has a fluorene structure or a biphenyl structure, but preferred specific examples include the following monovalent organic residues.


一般式(1)中、R1がフルオレン構造またはビフェニル構造を有する場合は、R3はフルオレン構造またはビフェニル構造を有していなくてもよい。このようなものとしては特に限定されないが、水素原子、または下記に示す1価の有機残基が挙げられる。

In the general formula (1), when R 1 has a fluorene structure or a biphenyl structure, R 3 may not have a fluorene structure or a biphenyl structure. Although it does not specifically limit as such, A hydrogen atom or the monovalent organic residue shown below is mentioned.

一般式(1)中、R2としては、(メタ)アクリロイル基を有するものであれば特に限定
されないが、好適な具体例として下記に示す1価の有機残基が挙げられる。

In the general formula (1), R 2 is not particularly limited as long as it has a (meth) acryloyl group, but preferred specific examples include the following monovalent organic residues.

一般式(1)で表される化合物(A1)は、フルオレン構造および/またはビフェニル構造を2個以上有すると、基材との密着性に優れるため好ましく、さらに、R1およびR
の両方にフルオレン構造またはビフェニル構造を有することが好ましい。
It is preferable that the compound (A1) represented by the general formula (1) has two or more fluorene structures and / or biphenyl structures because of excellent adhesion to the substrate, and further R 1 and R 3
It is preferable that both have a fluorene structure or a biphenyl structure.

化合物(A)の(メタ)アクリロイル基は2個以上であることが必要である。2個以下である場合、得られる活性エネルギー線硬化膜とポリエステルフィルムである基材との密着性が低下する。さらに、樹脂層のハードコート性に優れるため、(メタ)アクリロイル基の個数は3個以上であることが好ましく、6個以上であることがさらに好ましい。 The number of (meth) acryloyl groups in compound (A) needs to be two or more. When it is 2 or less, the adhesiveness between the obtained active energy ray cured film and the base material which is a polyester film is lowered. Furthermore, since the hard coat property of the resin layer is excellent, the number of (meth) acryloyl groups is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.

一般式(1)で表される化合物(A1)のうち、Rが水素原子の化合物(A1−1)は、例えば、R1で示される構造を有するテトラカルボン酸の二無水物(b1)と、2-ヒドロキシエチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートから選ばれる少なくとも1種の化合物(b2)とを反応
させることにより得ることができる
が水素原子以外の化合物(A1−2)は、例えば、上記反応で得られた化合物に含まれるカルボキシル基と、ビフェニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、および4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエポキシ基含有化合物(b3)を反応させることにより得ることができる。
Among the compounds (A1) represented by the general formula (1), R 3 is a hydrogen atom compound (A1-1), for example, a tetracarboxylic dianhydride (b1) having a structure represented by R 1 R 3 which can be obtained by reacting at least one compound (b2) selected from 2-hydroxyethyl acrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (A1- 2) is, for example, at least one epoxy group-containing compound selected from the group consisting of a carboxyl group contained in the compound obtained by the above reaction and biphenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether ( It can be obtained by reacting b3) .

テトラカルボン酸二無水物(b1)としては、フルオレン構造またはビフェニル構造を有するものであれば特に限定されないが、好適な具体例としては、ビフェニル骨格を有する3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、フルオレン骨格を有する9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物等が挙げられ、好ましくはビフェニル構造を有するものである。エポキシ基含有化合物(b3)がフルオレン構造またはビフェニル構造を有する場合は、テトラカルボン酸二無水物(b1)はフルオレン構造またはビフェニル構造を有していなくてもよい。このようなものとしては特に限定されないが、好適な具体例として1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、好ましくは芳香環を有するものである。   The tetracarboxylic dianhydride (b1) is not particularly limited as long as it has a fluorene structure or a biphenyl structure, and preferred examples include 3,3 ′, 4,4′-biphenyl having a biphenyl skeleton. Examples thereof include tetracarboxylic dianhydride and 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene dianhydride having a fluorene skeleton, and preferably have a biphenyl structure. When the epoxy group-containing compound (b3) has a fluorene structure or a biphenyl structure, the tetracarboxylic dianhydride (b1) may not have a fluorene structure or a biphenyl structure. Although it does not specifically limit as such, As a suitable specific example, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride are mentioned. Preferably, it has an aromatic ring.

これらテトラカルボン酸二無水物のうち、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、硬化膜のハードコート性と金属酸化物の良好な分散性を併せ持つことができるため、特に好ましい。   Among these tetracarboxylic dianhydrides, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride can have both hard coat properties of the cured film and good dispersibility of the metal oxide. Is particularly preferred.

上記化合物(b2)は、光硬化性とハードコート性の観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートであることが好ましい。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの具体的な市販品としては、ビスコート#300(大阪有機化学工業(株)製)、KAYARAD PET30(日本化薬(株)製)、PETIA(ダイセルUCB(株)製)、アロニックスM305(東亞合成(株)製)、NKエステルA−TMM−3LMN(新中村化学工業(株)製)、ライトアクリレートPE−3A(共栄社化学(株)製)、SR−444(サートマー(株)製)、ライトアクリレートDPE−6A(共栄社化学(株)製)、KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製)、アロニックスM402(東亞合成(株)製)等が挙げられる。
The compound (b2) is preferably pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate from the viewpoints of photocurability and hard coat properties.
Specific commercial products of pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate include Biscoat # 300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), KAYARAD PET30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and PETIA (Daicel UCB ( Co., Ltd.), Aronix M305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A-TMM-3LMN (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light acrylate PE-3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), SR- 444 (manufactured by Sartomer), light acrylate DPE-6A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M402 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.

これらの市販品は、それぞれ副成分としてヒドロキシル基を2個有するペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレートを5〜15重量%程度含有する。そのため、テトラカルボン酸二無水物(b1)とペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの反応においては、一般式(1)で表される化合物(A1)の他、副成分由来の反応物、更に高分子量化した樹脂も同時に生成する。   These commercial products contain about 5 to 15% by weight of pentaerythritol diacrylate and dipentaerythritol tetraacrylate each having two hydroxyl groups as subcomponents. Therefore, in the reaction of tetracarboxylic dianhydride (b1) with pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, in addition to the compound (A1) represented by the general formula (1), a reaction product derived from subcomponents Further, a resin having a higher molecular weight is also generated.

上記テトラカルボン酸二無水物(b1)と、化合物(b2)との反応は、テトラカルボン酸二無水物の有する2つのカルボン酸無水物基と、化合物(b2)が有するヒドロキシル基との反応であり、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、テトラカルボン酸二無水物(b1)と、化合物(b2)とを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンのような触媒の存在下、50〜120℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メチルハイドロキノン(2−METHYLHYDROQUINONE)のような重合禁止剤を添加することができる。   The reaction between the tetracarboxylic dianhydride (b1) and the compound (b2) is a reaction of two carboxylic anhydride groups possessed by the tetracarboxylic dianhydride and a hydroxyl group possessed by the compound (b2). Yes, it can be performed by a conventionally known method. For example, the presence of a catalyst such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene in an organic solvent such as cyclohexanone and tetracarboxylic dianhydride (b1) and compound (b2). The reaction can be carried out at a temperature of 50 to 120 ° C. In this case, a polymerization inhibitor such as methylhydroquinone (2-METHYLHYDROQUINONE) can be added to the reaction system.

上記反応で得られた、Rが水素原子である化合物(A1−1)を含む反応物を精製することなく、さらに化合物(b3)を反応させることができる。 The compound (b3) can be further reacted without purifying the reaction product containing the compound (A1-1) in which R 3 is a hydrogen atom obtained by the above reaction.

化合物(A1−1)と化合物(b3)との反応は、化合物(A1−1)の有するカルボキシル基と化合物(b3)の有するエポキシ基との反応であり、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、50〜120℃の温度で行なうことができる。   The reaction between the compound (A1-1) and the compound (b3) is a reaction between the carboxyl group of the compound (A1-1) and the epoxy group of the compound (b3), and can be performed by a conventionally known method. . For example, this reaction can be performed at a temperature of 50 to 120 ° C. in the presence of an amine catalyst such as dimethylbenzylamine.

これらの反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性な溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、n−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒;アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、2種類以上を併用しても差し支えない。   These reactions may be carried out without solvent or in a solvent inert to the reaction. Examples of such solvents include hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene and toluene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; diethyl ether, tetrahydrofuran or Ether solvents such as dioxane; Halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, or parkrene; acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylimidazo Examples include polar solvents such as lysinone. Two or more of these solvents may be used in combination.

溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行なうことが好ましい。溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。具体的には例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−2−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、2種類以上を併用しても差し支えない。   When adding a solvent, it is preferable to perform a curing treatment after volatilizing the solvent. The solvent is not particularly limited, and various known organic solvents can be used. Specifically, for example, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, acetylacetone, toluene, xylene, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, n-propanol, isopropanol, ethanol, methanol, 3-methoxy-1-butanol , 3-methoxy-2-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, 2-ethoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol, diacetone alcohol, ethyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene Glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 2-ethoxyethyl acetate, butyl acetate , Isoamyl acetate, dimethyl adipate, dimethyl succinate, dimethyl glutarate, tetrahydrofuran, and methyl pyrrolidone. These organic solvents may be used in combination of two or more.

化合物(A)の好ましい具体例としては、下記一般式(2)で表される化合物(A2)も挙げることができる。
一般式(2):
−O−R−O−R
Preferable specific examples of compound (A) also include compound (A2) represented by the following general formula (2).
General formula (2):
R 5 —O—R 4 —O—R 5

一般式(2)中、Rはフルオレン構造またはビフェニル構造を有する2価の有機残基であり、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。
In the general formula (2), R 4 is a divalent organic residue having a fluorene structure or a biphenyl structure,
R 5 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group.

一般式(2)中、R4としては、フルオレン構造またはビフェニル構造を有するものであ
れば特に限定されないが、好適な具体例として下記に示す2価の有機残基が挙げられる。好ましくは、フルオレン構造を有する残基である。
In the general formula (2), R 4 is not particularly limited as long as it has a fluorene structure or a biphenyl structure, but preferred specific examples include divalent organic residues shown below. Preferably, it is a residue having a fluorene structure.



一般式(2)中、R5としては、(メタ)アクリロイル基を有するものであれば特に限定
されないが、好適な具体例として下記に示す1価の有機残基が挙げられる。

In the general formula (2), R 5 is not particularly limited as long as it has a (meth) acryloyl group, but preferred specific examples include the following monovalent organic residues.

化合物(A2)としては、例えば9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等が挙げられる。また、市販品としては、新中村化学工業社製NKエステルA−BPEF、大阪ガスケミカル社製オグソールEAシリーズ等を用いることができる。 Examples of the compound (A2) include 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene. Moreover, as a commercial item, NK ester A-BPEF by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Ogsol EA series by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., etc. can be used.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、光重合開始剤を含むことができる。
光重合開始剤としては、光励起によって活性エネルギー線硬化膜を形成するための(メタ)アクリロイル基のビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
The active energy ray-curable composition can further contain a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has a function capable of initiating vinyl polymerization of a (meth) acryloyl group for forming an active energy ray cured film by photoexcitation. For example, a monocarbonyl compound or a dicarbonyl compound An acetophenone compound, a benzoin ether compound, an acylphosphine oxide compound, an aminocarbonyl compound, or the like can be used.

具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4−メチル−ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチル−o−ベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、4−(4−メチルフェニルチオ)フェニル−エタノン、3,3´−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−(1,3−アクリロイル−1,3,3´−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−(1,3−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシエチル)メタアンモニウムシュウ酸塩、2−/4−イソ−プロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ヒドロキ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9Hチオキサントン−2−イロキシ−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−3−メチルナフト(1,2−d)チアゾリン等が挙げられる。   Specifically, as the monocarbonyl compound, benzophenone, 4-methyl-benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4- (4-methylphenylthio) phenyl -Ethanone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4- (1,3-acryloyl-1,4) , 7,10,13-pentaoxotridecyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4-benzoyl-N, N, N-trimethyl-1-propanamine Hydrochloride, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N-2- (1-oxo-2-propenyloxy) Til) metaammonium oxalate, 2- / 4-iso-propylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2-hydroxy-3- (3 4-dimethyl-9-oxo-9H thioxanthone-2-yloxy-N, N, N-trimethyl-1-propanamine hydrochloride, benzoylmethylene-3-methylnaphtho (1,2-d) thiazoline, and the like.

ジカルボニル化合物としては、1,2,2−トリメチル−ビシクロ[2.1.1]ヘプタン−2,3−ジオン、ベンザイル、2−エチルアントラキノン、9,10−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、4−フェニルベンザイル等が挙げられる。
アセトフェノン化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−ジ-2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−スチリルプロパン−1−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,2−ジエトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノ−プロパノニル)−9−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
Examples of dicarbonyl compounds include 1,2,2-trimethyl-bicyclo [2.1.1] heptane-2,3-dione, benzyl, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, and methyl-α-oxobenzene. Examples include acetate and 4-phenylbenzyl.
Examples of acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-di-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-styrylpropan-1-one Polymer, diethoxyacetophenone, dibutoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,2-diethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1 -[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethyla Mino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 3,6-bis (2-methyl-2-morpholino -Propanonyl) -9-butylcarbazole and the like.

ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルホスフィンオキシド化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−n−プロピルフェニル−ジ(2,6−ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
Examples of the benzoin ether compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin normal butyl ether.
Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-n-propylphenyl-di (2,6-dichlorobenzoyl) phosphine oxide, and the like.

アミノカルボニル化合物としては、メチル−4−(ジメトキシアミノ)ベンゾエート、エチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル−4−(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4’−ビス−4−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビス−4−ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5’−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。
光重合開始剤の市販品としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア184、651、500、907、127、369、784、2959、BASF社製ルシリンTPO、日本シイベルヘグナー(株)製エサキュアワン等があげられる。
Examples of aminocarbonyl compounds include methyl-4- (dimethoxyamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-n-butoxyethyl-4- (dimethylamino) benzoate, and isoamyl-4- (dimethylamino) benzoate. 2- (dimethylamino) ethyl benzoate, 4,4′-bis-4-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-bis-4-diethylaminobenzophenone, 2,5′-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopenta Non etc. are mentioned.
Commercially available photopolymerization initiators include Irgacure 184, 651, 500, 907, 127, 369, 784, 2959, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Lucilin TPO manufactured by BASF, Esacure One manufactured by Nippon Sibel Hegner, Inc. can give.

光重合開始剤は、上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類で用いられるほか、二種類以上を混合して用いてもよい。
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化性化合物の全量(化合物(A)以外の光硬化性化合物を含む場合は、化合物(A)と化合物(A)以外の光硬化性化合物の合計量)100重量部に対して1〜20重量部の範囲内で使用することが好ましい。
増感剤として、公知の有機アミン等を加えることもできる。
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤を併用することもできる。
The photopolymerization initiator is not limited to the above compound, and any photopolymerization initiator may be used as long as it has the ability to initiate polymerization by ultraviolet rays. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the photopolymerization initiator used is not particularly limited, but the total amount of the active energy ray-curable compound including the compound (A) (in the case where a photocurable compound other than the compound (A) is included, the compound (A) And the total amount of photocurable compounds other than the compound (A)) are preferably used within a range of 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight.
A known organic amine or the like can be added as a sensitizer.
Furthermore, in addition to the radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator may be used in combination.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(但し、化合物(A)である場合を除く)を含有することができる。化合物(X)により、樹脂層のハードコート性をさらに向上できる。
化合物(X)は、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート、ポリエポキシポリ(メタ)アクリレート等のポリ(メタ)アクリレート類、多官能のアクリレート類を好適に使用することができる。
ポリエポキシポリ(メタ)アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を(メタ)アクリル酸でエステル化して、官能基を(メタ)アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールA型エポキシ樹脂への(メタ)アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への(メタ)アクリル酸付加物等がある。
The active energy ray-curable composition can further contain a compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups (except when it is a compound (A)). Compound (X) can further improve the hard coat property of the resin layer.
As the compound (X), poly (meth) acrylates such as polyurethane poly (meth) acrylate and polyepoxypoly (meth) acrylate, and polyfunctional acrylates are preferably used from the viewpoint of coating strength and scratch resistance. be able to.
Polyepoxy poly (meth) acrylate is obtained by esterifying an epoxy group of an epoxy resin with (meth) acrylic acid and converting the functional group to a (meth) acryloyl group, and (meth) acrylic to a bisphenol A type epoxy resin. There are acid addition products, (meth) acrylic acid addition products to novolac type epoxy resins, and the like.

ポリウレタンポリ(メタ)アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する(メタ)アクリレート類とを反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類と反応させて得ることもできる。   Polyurethane poly (meth) acrylate is, for example, one obtained by reacting diisocyanate with (meth) acrylate having a hydroxyl group, or isocyanate group-containing urethane obtained by reacting polyol and polyisocyanate under the condition of excess isocyanate group. Some are obtained by reacting a prepolymer with (meth) acrylates having a hydroxyl group. Alternatively, a hydroxyl group-containing urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate under hydroxyl-excess conditions can be obtained by reacting with a (meth) acrylate having an isocyanate group.

ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。   Examples of polyols include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, butylene glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentane glycol, neopentyl glycol, hexanetriol, trimellilol propane, polytetra Examples include methylene glycol and a condensation polymer of adipic acid and ethylene glycol.

ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基を有する(メタ)アクリレート類としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート,2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類としては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the polyisocyanate include tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate.
Examples of (meth) acrylates having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and the like.
Examples of the (meth) acrylates having an isocyanate group include 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate and (meth) acryloyl isocyanate.

光硬化性化合物の市販品としては、以下のものが例示できる。
東亜合成(株)製:アロニックスM−400、アロニックスM−402、アロニックスM−408、アロニックスM−450、アロニックスM−7100、アロニックスM−8030、アロニックスM−8060、
大阪有機化学工業(株)製:ビスコート♯400、
化薬サートマー(株)製:SR−295、
ダイセルUCB(株)製:DPHA、Ebecryl 220、Ebecryl 1290K、Ebecryl 5129、Ebecryl 2220、Ebecryl 6602、
新中村化学工業(株)製:NKエステルA−TMMT、NKオリゴEA−1020、NKオリゴEMA−1020、NKオリゴEA−6310、NKオリゴEA−6320、NKオリゴEA−6340、NKオリゴMA−6、NKオリゴU−4HA、NKオリゴU−6HA、NKオリゴU−324A、
BASF社製:LaromerEA81、
サンノプコ(株)製:フォトマー3016、
荒川化学工業(株)製:ビームセット371、ビームセット575、ビームセット577、ビームセット700、ビームセット710;
根上工業(株)製:アートレジンUN−3320HA、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−3320HC、アートレジンUN−3320HS、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−901T、アートレジンHDP、アートレジンHDP−3、アートレジン H61、
日本合成化学工業(株)製:紫光UV−7600B、紫光UV−7610B、紫光UV−7620EA、紫光UV−7630B、紫光UV−1400B、紫光UV−1700B、紫光UV−6300B、
共栄社化学(株)製:ライトアクリレートPE−4A、ライトアクリレートDPE−6A、UA−306H、UA−306T、UA−306I、
日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA、KAYARAD DPHA2C、KAYARAD DPHA−40H、KAYARAD D−310、KAYARAD D−330。
The following can be illustrated as a commercial item of a photocurable compound.
Toa Gosei Co., Ltd .: Aronix M-400, Aronix M-402, Aronix M-408, Aronix M-450, Aronix M-7100, Aronix M-8030, Aronix M-8060,
Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .: Biscote # 400
Kayaku Sartomer Co., Ltd .: SR-295,
Daicel UCB Co., Ltd .: DPHA, Ebecryl 220, Ebecryl 1290K, Ebecryl 5129, Ebecryl 2220, Ebecryl 6602,
Shin Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Ester A-TMMT, NK Oligo EA-1020, NK Oligo EMA-1020, NK Oligo EA-6310, NK Oligo EA-6320, NK Oligo EA-6340, NK Oligo MA-6 , NK oligo U-4HA, NK oligo U-6HA, NK oligo U-324A,
Manufactured by BASF: LaromerEA81,
Sannopco: Photomer 3016,
Arakawa Chemical Industries, Ltd .: beam set 371, beam set 575, beam set 577, beam set 700, beam set 710;
Manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd .: Art Resin UN-3320HA, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-3320HC, Art Resin UN-3320HS, Art Resin UN-9000H, Art Resin UN-901T, Art Resin HDP, Art Resin HDP -3, Art resin H61,
Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd .: Violet UV-7600B, Violet UV-7610B, Violet UV-7620EA, Violet UV-7630B, Violet UV-1400B, Violet UV-1700B, Violet UV-6300B,
Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light acrylate PE-4A, Light acrylate DPE-6A, UA-306H, UA-306T, UA-306I,
Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA, KAYARAD DPHA2C, KAYARAD DPHA-40H, KAYARAD D-310, KAYARAD D-330.

上記した3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)は、単独もしくは複数混合して使用しても良い。
また、一般に、化合物(b2)として使用できるペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの製品中には水酸基を有しないペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが存在する。そのため、化合物(b2)にペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートを使用した場合、これらに含まれるペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが化合物(X)としてハードコート性の向上に寄与する。
The above compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups may be used alone or in combination.
Further, in general, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate that can be used as the compound (b2) include pentaerythritol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate having no hydroxyl group. Therefore, when pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate are used for the compound (b2), pentaerythritol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate contained in these contribute to the improvement of the hard coat property as the compound (X). .

フルオレン構造および/またはビフェニル構造、ならびに2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)と、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(ただし、化合物(A)である場合を除く)の固形分の合計100重量%中、化合物(A)の含有量は、10〜90重量%であることが好ましく、20〜80重量%であることが更に好ましい。上記範囲内であると、ポリエステル基材と樹脂層との密着性、およびハードコート性に優れるためである。   Compound (A) having a fluorene structure and / or biphenyl structure, and two or more (meth) acryloyl groups, and compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups (provided that the compound (A)) The content of the compound (A) is preferably from 10 to 90% by weight, more preferably from 20 to 80% by weight, in a total of 100% by weight of the solid content of (except the case). It is because it is excellent in the adhesiveness of a polyester base material and a resin layer, and hard-coat property as it is in the said range.

活性エネルギー線硬化性組成物は、硬化膜である樹脂層の屈折率を調整するため金属酸化物を含んでも良い。
金属酸化物は、D50粒子径が0.005〜0.200μmであることが好ましい。金属酸化物のD50粒子径は、例えば、動的光散乱法を利用した日機装(株)製「ナノトラックUPA」などを用いて測定できる。
D50粒子径が0.005μm未満の金属酸化物組成物の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから、透明性の高い一次粒子レベルの分散性が低下する傾向である。一方、D50粒子径が0.200μmを超える場合、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く、硬化膜にて濁りが生じる傾向である。
The active energy ray-curable composition may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the resin layer that is a cured film.
The metal oxide preferably has a D50 particle size of 0.005 to 0.200 μm. The D50 particle size of the metal oxide can be measured using, for example, “Nanotrack UPA” manufactured by Nikkiso Co., Ltd. using a dynamic light scattering method.
In the case of a metal oxide composition having a D50 particle size of less than 0.005 μm, the cohesive force between the fine particles is very large, and therefore, the dispersibility at the primary particle level with high transparency tends to decrease. On the other hand, when the D50 particle diameter exceeds 0.200 μm, since the particle diameter is large, scattering tends to occur with respect to light such as visible light, and turbidity tends to occur in the cured film.

金属酸化物としては、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、珪素、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の原子を含有するものが好ましい。特に、チタニウムおよび/またはジルコニウムのいずれか一種の原子を含有する金属酸化物が、より好ましい。
具体的には、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。これらの金属酸化物は表面を有機物もしくは無機物で処理しても差し支えない。またこれらの金属酸化物は、2種類以上を併用しても差し支えない。
The metal oxide preferably contains at least one atom selected from the group consisting of titanium, zinc, zirconium, silicon, and aluminum. In particular, a metal oxide containing any one atom of titanium and / or zirconium is more preferable.
Specific examples include titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and barium titanate. These metal oxides may be treated with organic or inorganic materials on the surface. These metal oxides may be used in combination of two or more.

金属酸化物を含む場合、その含有量は、硬化性組成物の固形分中10〜80重量%であることが好ましく、より好ましくは30〜60重量%である。
金属酸化物は、あらかじめ前記化合物(A)を含む分散体として調整したものを使用することがきる。好ましくは、化合物(A1)を用いた分散体である。
When a metal oxide is included, the content thereof is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 30 to 60% by weight, based on the solid content of the curable composition.
As the metal oxide, one prepared in advance as a dispersion containing the compound (A) can be used. A dispersion using the compound (A1) is preferable.

次に、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる樹脂層の製造方法に関して説明する。
樹脂層の製造方法は、たとえば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をポリエステルフィルムである基材に塗布すること、および活性エネルギー線を照射して、基材上の活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させること、を含む。
より具体的には、この樹脂物組成物をポリエステルフィルムである基材に、乾燥後の膜厚が好ましくは0.02〜30μm、より好ましくは0.02〜20μmになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。
Next, the manufacturing method of the resin layer formed by hardening | curing an active energy ray curable composition is demonstrated.
The method for producing the resin layer includes, for example, applying the active energy ray-curable resin composition to a substrate that is a polyester film, and irradiating the active energy ray to form the active energy ray-curable composition on the substrate. Curing.
More specifically, after applying the resin composition to a base material that is a polyester film, the film thickness after drying is preferably 0.02 to 30 μm, more preferably 0.02 to 20 μm, It can be formed by curing treatment.

塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロットまたはワイヤーバーなどを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットまたはスピンなどの各種コーティング方法を用いることができる。
硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長400〜500nmの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行なうことができる。紫外線および波長400〜500nmの可視光線の線源(光源)には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。
As a coating method, a known method can be used. For example, a method using a lot or a wire bar, or various coating methods such as microgravure, gravure, die, curtain, lip, slot or spin can be used. it can.
The curing treatment can be performed by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, visible rays having a wavelength of 400 to 500 nm, using a known technique. For example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a gallium lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used as a source (light source) of ultraviolet rays and visible light having a wavelength of 400 to 500 nm. As the electron beam source, a thermionic emission gun, an electrolytic emission gun, or the like can be used.

照射する活性エネルギー線量は、工程上管理しやすい点から、50〜1000mJ/cmの範囲内であることが好ましい。
これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
The active energy dose to be irradiated is preferably in the range of 50 to 1000 mJ / cm 2 from the viewpoint of easy management in the process.
These active energy rays can be used in combination with heat treatment by infrared rays, far infrared rays, hot air, high frequency heating or the like.

硬化膜は、基材に活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なって形成しても良いし、塗工し硬化処理を行なったあとに自然または強制乾燥させても良いが、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
硬化処理のタイミングは、塗工と同時でもよいし、塗工後でもよい。
The cured film may be formed by applying an active energy ray-curable composition to a substrate and naturally or forcibly drying it, followed by curing treatment, or after coating and curing treatment. Alternatively, forced drying may be performed, but it is more preferable to perform the curing treatment after natural or forced drying.
In particular, in the case of curing with an electron beam, it is more preferable to carry out the curing treatment after natural or forced drying in order to prevent the inhibition of curing by water or the decrease in strength of the coating film due to the remaining organic solvent.
The timing of the curing treatment may be simultaneous with coating or after coating.

得られる硬化膜は、透明性、密着性に優れるため、光学材料として好適に利用することが出来る。
硬化膜の厚みは、0.02〜30μmであることが好ましい。
さらに、硬化膜の屈折率は、1.4〜2.0の範囲であることが好ましく、1.5〜1.9の範囲であることがより好ましい。
Since the obtained cured film is excellent in transparency and adhesion, it can be suitably used as an optical material.
The thickness of the cured film is preferably 0.02 to 30 μm.
Furthermore, the refractive index of the cured film is preferably in the range of 1.4 to 2.0, and more preferably in the range of 1.5 to 1.9.

本発明の活性エネルギー線硬化膜を得るための組成物は、さらに様々な添加剤を、本発明の目的や効果を損なわない範囲において含むことができる。具体的には、化合物(A)や化合物(X)以外の光硬化性化合物、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料などが挙げられる。 The composition for obtaining the active energy ray cured film of the present invention can further contain various additives within a range not impairing the object and effects of the present invention. Specifically, photocurable compounds other than compound (A) and compound (X), polymerization inhibitors, photosensitizers, leveling agents, surfactants, antibacterial agents, antiblocking agents, plasticizers, UV absorbers , Infrared absorbers, antioxidants, silane coupling agents, conductive polymers, conductive surfactants, inorganic fillers, pigments, dyes and the like.

<透明導電膜>
透明導電膜の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもITOが好ましく用いられる。
<Transparent conductive film>
As a material of the transparent conductive film, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), and ATO (antimony tin oxide). Among these, ITO is preferably used.

透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値が10Ω/□以下の良好な導電性を確保するという観点から、10nm以上が好ましく、15nm以上がより好ましく、20nm以上が特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると透明性が低下するという不具合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、40nm以下が特に好ましい。 The thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and particularly preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring good conductivity with a surface resistance value of 10 3 Ω / □ or less, for example. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film becomes too large, there may be a problem that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less. preferable.

透明導電膜の屈折率は1.81以上である。さらに透明導電膜の屈折率は1.85以上が好ましく、1.90以上がより好ましい。上限は、2.20以下が好ましく、2.10以下がより好ましい。   The refractive index of the transparent conductive film is 1.81 or more. Further, the refractive index of the transparent conductive film is preferably 1.85 or more, more preferably 1.90 or more. The upper limit is preferably 2.20 or less, and more preferably 2.10 or less.

透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などのドライプロセスを用いることができる。   It does not specifically limit as a formation method of a transparent conductive film, A conventionally well-known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used.

本発明の透明導電膜はパターン化されている。例えば、上記のようにして製膜した透明導電膜をパターン化する。パターン化は、透明導電膜フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状などが挙げられる。   The transparent conductive film of the present invention is patterned. For example, the transparent conductive film formed as described above is patterned. Patterning can form various patterns according to the use to which a transparent conductive film is applied. Note that the pattern portion and the non-pattern portion are formed by patterning the transparent conductive film. Examples of the shape of the pattern portion include a stripe shape and a lattice shape.

透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチング処理することにより、透明導電膜がパターン化される。   The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, a transparent conductive film is patterned by forming a patterned etching resist film on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method and then performing an etching process.

エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。   A conventionally well-known thing is used as an etching liquid. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.

本発明の積層体は、ポリエステルフィルムである基材と、活性エネルギー線硬化膜である樹脂層と、透明導電膜とを有し、基材と樹脂層が隣接していればよい。それ以外の層構成は任意であり、必要に応じて、基材または樹脂層の片面に屈折率の異なる膜または粘着層などを設けることができる。 The laminated body of this invention has a base material which is a polyester film, a resin layer which is an active energy ray cured film, and a transparent conductive film, and the base material and the resin layer should just be adjacent. The other layer configuration is arbitrary, and a film or an adhesive layer having a different refractive index can be provided on one side of the base material or the resin layer as necessary.

本発明の積層体の好ましい構成例をいくつかを以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜である。透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
(I) 基材/樹脂層/透明導電膜
(II) 基材/樹脂層/(M)/透明導電膜
(III) (M)/基材/樹脂層/透明導電膜
(IV) (M)/基材/樹脂層/(M)/透明導電膜
(V) (M)/樹脂層/基材/樹脂層/透明導電膜
(VI)樹脂層//基材/樹脂層/透明導電膜
ただし、(M)は屈折率の異なる膜または粘着層のいずれか1層を含む。
Some preferred structural examples of the laminate of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto. In the following configuration example, the transparent conductive film is a patterned transparent conductive film. Other layers other than the transparent conductive film are not patterned.
(I) Base material / resin layer / transparent conductive film
(II) substrate / resin layer / (M) / transparent conductive film (III) (M) / substrate / resin layer / transparent conductive film (IV) (M) / substrate / resin layer / (M) / transparent Conductive film (V) (M) / resin layer / base material / resin layer / transparent conductive film (VI) resin layer // base material / resin layer / transparent conductive film where (M) is a film or adhesive having a different refractive index Any one of the layers is included.

屈折率の異なる膜は、本発明の樹脂層が有する機能以外の機能を持つものである。その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロット、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く、必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、色調補正などの機能の1種類以上を積層体に付与することができる任意の材料を用いることができる。   Films having different refractive indexes have functions other than the functions of the resin layer of the present invention. The formation method is not particularly limited, and it is formed by a known method. For example, dry coating methods such as vapor deposition and sputtering, methods using lots and wire bars, and wet coating methods such as microgravure, gravure, die, curtain, lip, slot, and spin can be used. There is no limitation on the material to be used, and if necessary, one or more kinds of functions such as an information recording function, an antiglare function, a Newton ring prevention function, an adhesive function, a specific wavelength blocking function, and a color tone correction function can be imparted to the laminate. Any material that can be used can be used.

本発明の積層体は、その製造時に樹脂層や任意の層の硬化時や、透明導電膜のパターン化の際に活性エネルギー線が照射される。この製造過程において樹脂層に照射される活性エネルギー線の合計が積算光量2000mJ/cm以上であっても、ポリエステルであ
る基材と活性エネルギー線硬化膜である樹脂層の密着性に優れる。なお、前記積算光量とは、活性エネルギー線硬化膜である樹脂層を形成するための初期硬化時の積算光量も含まれる。
The laminated body of the present invention is irradiated with active energy rays when the resin layer or an arbitrary layer is cured during production or when the transparent conductive film is patterned. Even if the total amount of active energy rays irradiated to the resin layer in this production process is 2000 mJ / cm 2 or more, the adhesion between the base material made of polyester and the resin layer made of the active energy ray cured film is excellent. The integrated light amount includes the integrated light amount at the time of initial curing for forming a resin layer that is an active energy ray cured film.

[密着性]
本発明のポリエステルフィルムである基材と、活性エネルギー線硬化膜である樹脂層と、透明導電膜とを有する積層体の密着性はJIS K5600−5−6による付着性クロスカット法により評価される密着性が、単位面積当たりの隔離面積が5%未満であり非常に優れている。好ましくは2%未満である。
詳細には、実施例の評価において説明する。
[Adhesion]
Adhesiveness of a laminate having a substrate which is a polyester film of the present invention, a resin layer which is an active energy ray cured film, and a transparent conductive film is evaluated by an adhesive crosscut method according to JIS K5600-5-6. The adhesion is very excellent with an isolated area per unit area of less than 5%. Preferably it is less than 2%.
Details will be described in the evaluation of examples.

以下、製造例、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。製造例、実施例中、部および%は、重量部および重量%をそれぞれ表す。
使用した薬品は、以下のとおりである。<テトラカルボン酸二無水物(b1)>
3,3’、4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(三菱化学(株)製、商品名BPDA)
9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二酸無水物(JFEケミカル(株)製、商品名:BPAF)
1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物(新日本理化(株)製、商品名:リカシッド BT−100)
1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物((株)ダイセル製 商品名:ピロメリット酸二無水物、PMDA)
無水フタル酸(和光純薬工業(株)製)
<化合物(b2)>
ペンタエリスリトールトリアクリレート(1)(日本化薬(株)製、商品名:KAYARAD PET−30、副生成物としてペンタエリスリトールテトラアクリレートも含む)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(2)(新中村化学工業(株)製、商品名:A−TMM−3LM−N、副生成物としてペンタエリスリトールテトラアクリレートも含む)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名:A-9570W、副生成物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートも含む)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(日本触媒(株)製、HEA)
<重合禁止剤>
メチルヒドロキノン(和光純薬工業(株)製)
<触媒>
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(東京化成工業(株)製)
ジメチルベンジルアミン(和光純薬工業(株)製)
<エポキシ基含化合物(b3)>
グリシジルメタクリレート(ダウ・ケミカル日本(株)製、GMA)
4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル(日本化成(株)製、商品名:4ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル)
ビフェニルグリシジルエーテル(三光(株)製、商品名:OPP−G)
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on production examples and examples. In Production Examples and Examples, parts and% represent parts by weight and% by weight, respectively.
The chemicals used are as follows. <Tetracarboxylic dianhydride (b1)>
3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name BPDA)
9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorenedioic anhydride (manufactured by JFE Chemical Co., Ltd., trade name: BPAF)
1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: Ricacid BT-100)
1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride (trade name: pyromellitic dianhydride, PMDA, manufactured by Daicel Corporation)
Phthalic anhydride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
<Compound (b2)>
Pentaerythritol triacrylate (1) (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD PET-30, including pentaerythritol tetraacrylate as a by-product)
Pentaerythritol triacrylate (2) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: A-TMM-3LM-N, including by-product pentaerythritol tetraacrylate) dipentaerythritol pentaacrylate (Shin-Nakamura Chemical Industry ( Co., Ltd., trade name: A-9570W, including dipentaerythritol hexaacrylate as a by-product)
2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., HEA)
<Polymerization inhibitor>
Methylhydroquinone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
<Catalyst>
1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Dimethylbenzylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
<Epoxy group-containing compound (b3)>
Glycidyl methacrylate (manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd., GMA)
4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd., trade name: 4 hydroxybutyl acrylate glycidyl ether)
Biphenyl glycidyl ether (manufactured by Sanko Co., Ltd., trade name: OPP-G)

<酸価の測定方法>
JIS K 0070の電位差滴定法に準拠し、測定した酸価(mgKOH/g)を固形分換算した。
<Method for measuring acid value>
Based on the potentiometric titration method of JIS K 0070, the measured acid value (mgKOH / g) was converted to solid content.

<化合物(A1)の合成例>
(合成例1)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3’、4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価122mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(1)250.0部、メチルヒドロキノン0.24部、シクロヘキサノン217.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.65部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、94mgKOH/gであった。続いて、この溶液中にビフェニルグリシジルエーテル140.0部、シクロヘキサノン91.0部を加え、次いで触媒としてジメチルベンジルアミン2.65部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応させた。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、また最終的な酸価は3.0mgKOH/gであることから、得られた樹脂ワニスの固形分中の、化合物(A)を含む反応物の割合は79%である。
尚、化合物(A)を含む反応物とは、化合物(A)の他、化合物(b2)において水酸基を複数含む副生成物に由来する高分子量反応物を表す。化合物(A)を含む反応物の割合は、樹脂ワニスの最終酸価より算出した。残りは、反応に用いた化合物(b2)において水酸基を有しない化合物や未反応原料を表す。以下の合成2〜11においても同様である。
<Synthesis Example of Compound (A1)>
(Synthesis Example 1)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pentavalent hydroxyl group 122 mgKOH / g penta 250.0 parts of erythritol triacrylate (1), 0.24 parts of methylhydroquinone and 217.8 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.65 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 94 mgKOH / g. Subsequently, 140.0 parts of biphenyl glycidyl ether and 91.0 parts of cyclohexanone were added to this solution, and then 2.65 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours to be reacted. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. The obtained resin varnish is light yellow and transparent, has a solid content of 60%, and the final acid value is 3.0 mgKOH / g. Therefore, it contains the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The percentage of reactant is 79%.
The reactant containing the compound (A) represents a high molecular weight reactant derived from a byproduct containing a plurality of hydroxyl groups in the compound (b2) in addition to the compound (A). The ratio of the reaction product containing the compound (A) was calculated from the final acid value of the resin varnish. The remainder represents a compound having no hydroxyl group or an unreacted raw material in the compound (b2) used for the reaction. The same applies to the following synthesis 2 to 11.

(合成例2)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価113mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(2)402.0部、メチルヒドロキノン0.33部、シクロヘキサノン318.0部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン2.41部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、95mgKOH/gであった。
続いて、この溶液中に、ビフェニルグリシジルエーテル182.9部、シクロヘキサノン118.0部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.88部を加え、100℃で6時間撹拌した。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニス固形分中の化合物(A)を含む反応物は73%である。
(Synthesis Example 2)
A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, pentaerythritol tris with 80.0 parts 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and hydroxyl value 113 mgKOH / g Acrylate (2) 402.0 parts, methylhydroquinone 0.33 part, cyclohexanone 318.0 parts were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 2.41 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 95 mgKOH / g.
Subsequently, 182.9 parts of biphenyl glycidyl ether and 118.0 parts of cyclohexanone were added to this solution, and then 3.88 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, followed by stirring at 100 ° C. for 6 hours. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction product containing the compound (A) in the obtained resin varnish solid content Is 73%.

(合成例3)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価113mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(2)364.9部、メチルヒドロキノン0.31部、シクロヘキサノン294.1部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン2.22部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、93mgKOH/gであった。
続いて、この溶液中に、ビフェニルグリシジルエーテル166.0部、シクロヘキサノン107.1部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.58部を加え、100℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニス固形分中の化合物(A)を含む反応物は74%である。
(Synthesis Example 3)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, and thermometer, 80.0 parts of 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride and pentaerythritol tris having a hydroxyl value of 113 mgKOH / g Acrylic (2) 364.9 parts, methylhydroquinone 0.31 part, cyclohexanone 294.1 parts were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 2.22 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. When the acid value of the reaction product was measured at this time, it was 93 mgKOH / g.
Subsequently, 166.0 parts of biphenyl glycidyl ether and 107.1 parts of cyclohexanone were added to this solution, and then 3.58 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, stirred at 100 ° C. for 6 hours, and cooled to room temperature. The reaction was terminated. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction product containing the compound (A) in the obtained resin varnish solid content Is 74%.

(合成例4)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3‘、4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価85mgKOH/gのジペンタエリスリトールペンタアクリレート359.0部、メチルヒドロキノン0.29部、シクロヘキサノン290.1部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン2.19部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、74mgKOH/gであった。
その後、ビフェニルグリシジルエーテル123.1部、シクロヘキサノン78.5部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.53部を加え、100℃で6時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は83%である。
(Synthesis Example 4)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a hydroxyl value of 85 mgKOH / g The mixture was charged with 359.0 parts of pentaerythritol pentaacrylate, 0.29 parts of methylhydroquinone and 290.1 parts of cyclohexanone and heated to 60 ° C. Next, 2.19 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured and found to be 74 mgKOH / g.
Thereafter, 123.1 parts of biphenyl glycidyl ether and 78.5 parts of cyclohexanone were added, then 3.53 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, stirred at 100 ° C. for 6 hours, and cooled to room temperature to complete the reaction. While the reaction was continued, the acid value of the reaction product was measured periodically. When the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. The obtained resin varnish was light yellow and transparent, had a solid content of 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g. The reaction product containing the compound (A) in the solid content of the resin varnish obtained Is 83%.

(合成例5)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二酸無水物80.0部、水酸基価122mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(1)160.2部、メチルヒドロキノン0.16部、シクロヘキサノン158.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.20部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、82mgKOH/gであった。
その後、ビフェニルグリシジルエーテル79.0部、シクロヘキサノン50.7部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.93部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は79%である。
(Synthesis Example 5)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dry air introduction tube, and a thermometer, 90.0 parts of 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene dianhydride, a hydroxyl value of 122 mgKOH / g 160.2 parts of pentaerythritol triacrylate (1), 0.16 parts of methylhydroquinone, and 158.8 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.20 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured and found to be 82 mgKOH / g.
Thereafter, 79.0 parts of biphenyl glycidyl ether and 50.7 parts of cyclohexanone were added, and then 1.93 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 79%.

(合成例6)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二酸無水物80.0部、水酸基価122mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(1)160.2部、メチルヒドロキノン0.16部、シクロヘキサノン158.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.20部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、82mgKOH/gであった。その後、メタクリルグリシジルエーテル50.3部、シクロヘキサノン31.6部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.94部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は75%である。
(Synthesis Example 6)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dry air introduction tube, and a thermometer, 90.0 parts of 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene dianhydride, a hydroxyl value of 122 mgKOH / g 160.2 parts of pentaerythritol triacrylate (1), 0.16 parts of methylhydroquinone, and 158.8 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.20 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured and found to be 82 mgKOH / g. Thereafter, 50.3 parts of methacryl glycidyl ether and 31.6 parts of cyclohexanone were added, and then 1.94 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst and stirred at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 75%.

(合成例7)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3‘、4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価122mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(1)250.0部、メチルヒドロキノン0.24部、シクロヘキサノン217.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.65部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、94mgKOH/gであった。
その後、メタクリルグリシジルエーテル78.3部、シクロヘキサノン54.0部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン2.65部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は76%である。
(Synthesis Example 7)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pentavalent hydroxyl group 122 mgKOH / g penta 250.0 parts of erythritol triacrylate (1), 0.24 parts of methylhydroquinone and 217.8 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.65 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 94 mgKOH / g.
Thereafter, 78.3 parts of methacryl glycidyl ether and 54.0 parts of cyclohexanone were added, and then 2.65 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, followed by stirring at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 76%.

(合成例8)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3‘、4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価85mgKOH/gのジペンタエリスリトールペンタアクリレート359.0部、メチルヒドロキノン0.29部、シクロヘキサノン290.1部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン2.19部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、74mgKOH/gであった。
その後、メタクリルグリシジルエーテル78.3部、シクロヘキサノン48.7部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.53部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は69%である。
(Synthesis Example 8)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and a hydroxyl value of 85 mgKOH / g The mixture was charged with 359.0 parts of pentaerythritol pentaacrylate, 0.29 parts of methylhydroquinone and 290.1 parts of cyclohexanone and heated to 60 ° C. Next, 2.19 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured and found to be 74 mgKOH / g.
Thereafter, 78.3 parts of methacryl glycidyl ether and 48.7 parts of cyclohexanone were added, and then 3.53 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 69%.

(合成例9)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価483mgKOH/gの2−ヒドロキシエチルアクリレート63.1部、メチルヒドロキノン0.11部、シクロヘキサノン94.6部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.72部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、215mgKOH/gであった。
その後、ビフェニルグリシジルエーテル123.1部、シクロヘキサノン80.9部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.15部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は89%である。
(Synthesis Example 9)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2 of hydroxyl value 483 mgKOH / g -63.1 parts of hydroxyethyl acrylate, 0.11 part of methylhydroquinone and 94.6 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 0.72 part of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 215 mgKOH / g.
Thereafter, 123.1 parts of biphenyl glycidyl ether and 80.9 parts of cyclohexanone were added, and then 1.15 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 89%.

(合成例10)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価483mgKOH/gの2−ヒドロキシエチルアクリレート63.1部、メチルヒドロキノン0.11部、シクロヘキサノン94.6部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.72部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、215mgKOH/gであった。
その後、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル108.8部、シクロヘキサノン71.4部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン1.15部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は89%である。
(合成例11)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに3,3’、4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価122mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(1)250.0部、メチルヒドロキノン0.24部、シクロヘキサノン217.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.65部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、94mgKOH/gであった。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は94mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の化合物(A)を含む反応物は72%である。
(Synthesis Example 10)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2 of hydroxyl value 483 mgKOH / g -63.1 parts of hydroxyethyl acrylate, 0.11 part of methylhydroquinone and 94.6 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 0.72 part of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 215 mgKOH / g.
Thereafter, 108.8 parts of 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and 71.4 parts of cyclohexanone were added, and then 1.15 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst. The mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours, and the reaction was continued periodically. The acid value of the reaction product was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g, the reaction containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish. The thing is 89%.
(Synthesis Example 11)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, 80.0 parts of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pentavalent hydroxyl group 122 mgKOH / g penta 250.0 parts of erythritol triacrylate (1), 0.24 parts of methylhydroquinone and 217.8 parts of cyclohexanone were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.65 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 94 mgKOH / g. Since the obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 94 mg KOH / g, the reaction product containing the compound (A) in the solid content of the obtained resin varnish was 72%.

(合成例12)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価113mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(2)402.0部、メチルヒドロキノン0.34部、シクロヘキサノン203.8部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン1.75部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、95mgKOH/gであった。
その後、メタクリルグリシジルエーテル116.4部、シクロヘキサノン188.5部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.88部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の反応物は71%である。尚、反応物は化合物(A)を含まない。以下の合成例13、14においても同様である。
(Synthesis Example 12)
A 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, thermometer, pentaerythritol tris with 80.0 parts 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and hydroxyl value 113 mgKOH / g Acrylate (2) 402.0 parts, methylhydroquinone 0.34 parts, cyclohexanone 203.8 parts were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 1.75 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this time, the acid value of the reaction product was measured and found to be 95 mgKOH / g.
Thereafter, 116.4 parts of methacryl glycidyl ether and 188.5 parts of cyclohexanone were added, and then 3.88 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst and stirred at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. The obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g. Therefore, the reaction product in the solid content of the obtained resin varnish is 71%. . The reaction product does not contain the compound (A). The same applies to Synthesis Examples 13 and 14 below.

(合成例13)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価113mgKOH/gのペンタエリスリトールトリアクリレート(2)364.9部、メチルヒドロキノン0.31部、シクロヘキサノン293.9部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン2.22部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、93mgKOH/gであった。
その後、メタクリルグリシジルエーテル105.6部、シクロヘキサノン66.9部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン3.58部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の反応物は71%である。
(Synthesis Example 13)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube, and thermometer, 80.0 parts of 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride and pentaerythritol tris having a hydroxyl value of 113 mgKOH / g Acrylic (2) 364.9 parts, methylhydroquinone 0.31 part and cyclohexanone 293.9 parts were charged, and the temperature was raised to 60 ° C. Next, 2.22 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. When the acid value of the reaction product was measured at this time, it was 93 mgKOH / g.
Thereafter, 105.6 parts of methacryl glycidyl ether and 66.9 parts of cyclohexanone were added, and then 3.58 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, followed by stirring at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. The obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g. Therefore, the reaction product in the solid content of the obtained resin varnish is 71%. .

(合成例14)
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた4口フラスコに1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物80.0部、水酸基価85mgKOH/gのジペンタエリスリトールペンタアクリレート533.3部、メチルヒドロキノン0.37部、シクロヘキサノン405.5部を仕込み、60℃まで昇温した。次いで触媒として1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン3.07部を加え、90℃で8時間撹拌した。反応物のIR測定で酸無水物基のピーク、すなわち、1780cm-1および1850cm-1付近のピークが消滅していることを確認した後、冷却し、反応を停止させた。この時点で反応物の酸価を測定したところ、75mgKOH/gであった。
その後、メタクリルグリシジルエーテル116.4部、シクロヘキサノン72.6部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン4.93部を加え、100℃で6時間撹拌し、反応を継続しながら定期的に反応物の酸価を測定し、酸価が5.0mgKOH/g以下になったところで、室温まで冷却して反応を停止させた。得られた樹脂ワニスは淡黄色透明で、固形分60%、最終的な酸価は3.0mgKOH/gであったことから、得られた樹脂ワニスの固形分中の反応物は68%である。
(Synthesis Example 14)
Dipentaerythritol with 80.0 parts 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and hydroxyl value 85 mgKOH / g in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dry air inlet tube and thermometer The mixture was charged with 533.3 parts of pentaacrylate, 0.37 parts of methylhydroquinone and 405.5 parts of cyclohexanone and heated to 60 ° C. Next, 3.07 parts of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 8 hours. After confirming that the peaks of acid anhydride groups, that is, peaks near 1780 cm −1 and 1850 cm −1, disappeared by IR measurement of the reaction product, the reaction product was cooled to stop the reaction. At this point, the acid value of the reaction product was measured and found to be 75 mgKOH / g.
Thereafter, 116.4 parts of methacryl glycidyl ether and 72.6 parts of cyclohexanone were added, and then 4.93 parts of dimethylbenzylamine was added as a catalyst, followed by stirring at 100 ° C. for 6 hours. The acid value was measured, and when the acid value became 5.0 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by cooling to room temperature. The obtained resin varnish was light yellow and transparent, the solid content was 60%, and the final acid value was 3.0 mgKOH / g. Therefore, the reaction product in the solid content of the obtained resin varnish was 68%. .

表1に合成のまとめと、得られた反応物の概要を示す。表中に記載の略称は、化合物の製品名を示す。 Table 1 summarizes the synthesis and outlines the reactants obtained. Abbreviations in the table indicate product names of the compounds.

(金属酸化物組成物の作成)
上記合成例により作成した化合物(A)を含有する樹脂ワニスを用い、表2に示す配合(部)により金属酸化物の分散を行ない、金属酸化物を分散させた金属酸化物組成物を作成した。
なお、樹脂ワニスは上記合成例で作成したものを使用した。
分散方法は、前分散(ジルコニアビーズ(0.5mm)をメディアとして用い、ペイントシェイカーで1時間分散)と、本分散(ジルコニアビーズ(0.1mm)をメディアとして用い、寿工業(株)製分散機UAM−015で分散)の2段階で行なった。
(Creation of metal oxide composition)
Using the resin varnish containing the compound (A) prepared according to the above synthesis example, the metal oxide was dispersed by mixing (parts) shown in Table 2 to prepare a metal oxide composition in which the metal oxide was dispersed. .
In addition, what was created in the said synthesis example was used for the resin varnish.
Dispersion methods are pre-dispersion (using zirconia beads (0.5 mm) as a medium and dispersing for 1 hour with a paint shaker) and main dispersion (using zirconia beads (0.1 mm) as a medium). (Dispersion with machine UAM-015).

表2中の略称を下記に示す。
TiO:テイカ(株)製「MT−05」(平均一次粒子径:10nm)
ZrO:日本電工(株)製「PCS−60」(平均一次粒子径:20nm)
BaTiO3:堺化学工業(株)製「KZM-20」(平均一次粒子径:20nm)
ZnO:堺化学工業(株)製「FINEX−50」(平均一次粒子径:20nm)
SiO:日本アエロジル(株)製「AEROSIL50」(平均一次粒子径:50nm)
Al:日本アエロジル(株)製「Aluminium Oxide C」(平均一次粒子径:13nm)
MEK:メチルエチルケトン
メトブタ:3−メトキシ−1−ブタノール
Abbreviations in Table 2 are shown below.
TiO 2 : “MT-05” (average primary particle size: 10 nm) manufactured by Teika Co., Ltd.
ZrO 2 : “PCS-60” manufactured by Nippon Electric Works Co., Ltd. (average primary particle size: 20 nm)
BaTiO 3 : “KZM-20” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. (average primary particle size: 20 nm)
ZnO: “FINEX-50” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd. (average primary particle size: 20 nm)
SiO 2 : “AEROSIL50” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (average primary particle size: 50 nm)
Al 2 O 5 : “Aluminium Oxide C” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (average primary particle size: 13 nm)
MEK: methyl ethyl ketone methobuta: 3-methoxy-1-butanol

<D50粒子径>
得られた金属酸化物組成物のD50粒子径は、日機装(株)製「ナノトラックUPA」を用いて測定した。実用的には 200nm以下であることが必要である。
<D50 particle size>
The D50 particle size of the obtained metal oxide composition was measured using “Nanotrack UPA” manufactured by Nikkiso Co., Ltd. Practically, it must be 200 nm or less.

<硬化性樹脂組成物と積層体の作製およびその評価:実施例1〜33、比較例1〜7>
(実施例1)
フルオレン構造および2個のアクリロイル基を有する化合物(A)として、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(商品名:「NKエステルA−BPEF」、新中村化学社製)と3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)として、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(商品名:「アロニックスM450」東亜合成社製)とを、(A):(X)=30部:70部となるよう混合し、さらに光重合開始剤としてイルガキュア184(チバスペシャリティーケミカルズ製)5部、プロピレングリコールモノメチルエーテルを混合して固形分40%となるよう調整した硬化性樹脂組成物(コーティング用組成物または塗液ともいう。)を得た。
この組成物を、125μm厚の易接着処理PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーUH13」)に、バーコーターで、乾燥後の膜厚が1.5μmになるように塗工した後、高圧水銀ランプで400mJ/cmの紫外線を照射し、樹脂層を形成した。その後、高圧水銀ランプで2000mJ/cmの紫外線を1回から3回照射した。
得られた活性エネルギー線硬化膜である樹脂層の上に、透明導電膜としてITO膜の厚みが30nmとなるようにスパッタリング法で積層後、透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、積層体を得た。
<Production and Evaluation of Curable Resin Composition and Laminate: Examples 1-33, Comparative Examples 1-7>
Example 1
As a compound (A) having a fluorene structure and two acryloyl groups, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene (trade name: “NK Ester A-BPEF”, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. As a compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups, and pentaerythritol tetraacrylate (trade name: “Aronix M450” manufactured by Toagosei Co., Ltd.), (A): (X) = 30 parts : Curable resin composition (mixed to 70 parts, and further mixed with 5 parts Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator and 40% solid content by mixing with propylene glycol monomethyl ether ( Also referred to as a coating composition or coating solution).
This composition was coated on a 125 μm thick easy-adhesive PET film (“Lumirror UH13” manufactured by Toray Industries, Inc.) with a bar coater so that the film thickness after drying was 1.5 μm, and then high-pressure mercury. The resin layer was formed by irradiating ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 with a lamp. Thereafter, ultraviolet rays of 2000 mJ / cm 2 were irradiated once to three times with a high-pressure mercury lamp.
On the obtained resin layer, which is a cured active energy ray film, a transparent conductive film is laminated by sputtering so that the thickness of the ITO film is 30 nm, and then only the transparent conductive film is patterned into a stripe pattern (etching process). Thus, a laminate was obtained.

(実施例2)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を(A):(X)=50:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 2)
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of NK ester A-BPEF (A) to pentaerythritol tetraacrylate (X) was changed to (A) :( X) = 50: 50.

(実施例3)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を(A):(X)=70:30に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 3)
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of NK ester A-BPEF (A) to pentaerythritol tetraacrylate (X) was changed to (A) :( X) = 70: 30.

(実施例4)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を(A):(X)=0:100に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
Example 4
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of NK ester A-BPEF (A) to pentaerythritol tetraacrylate (X) was changed to (A) :( X) = 0: 100.

(実施例5)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を(A):(X):金属酸化物の粒子分=10:40:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 5)
In addition to NK ester A-BPEF (A) and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Corporation ) Was changed to (A) :( X): metal oxide particle content = 10: 40: 50 to obtain a laminate in the same manner as in Example 1.

(実施例6)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を(A):(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 6)
In addition to NK ester A-BPEF (A) and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Corporation ) Was changed to (A) :( X): metal oxide particle content = 25: 25: 50 to obtain a laminate in the same manner as in Example 1.

(実施例7)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を(A):(X):金属酸化物の粒子分=35:15:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 7)
In addition to NK ester A-BPEF (A) and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Corporation ) Was changed to (A) :( X): metal oxide particle content = 35: 15: 50 to obtain a laminate in the same manner as in Example 1.

(実施例8)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を(A):(X):金属酸化物の粒子分=0:50:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Example 8)
In addition to NK ester A-BPEF (A) and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Corporation ) Was changed to (A) :( X): metal oxide particle content = 0: 50: 50 to obtain a laminate in the same manner as in Example 1.

(実施例9)
ビフェニル構造および2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)として、合成例1と3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)として、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(商品名:「アロニックスM450」東亜合成社製)とを、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X)=30:70となるよう混合し、さらに光重合開始剤としてイルガキュア184(チバスペシャリティーケミカルズ製)5部、プロピレングリコールモノメチルエーテルを混合して固形分40%となるよう調整した硬化性組成物(コーティング用組成物または塗液ともいう。)を得た。
この組成物を、125μm厚の易接着処理PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーUH13」)に、バーコーターで、乾燥後の膜厚が1.5μmになるように塗工した後、高圧水銀ランプで400mJ/cmの紫外線を照射し、樹脂層を形成した。その後、高圧水銀ランプで2000mJ/cmの紫外線を1度から3度照射した。
得られた活性エネルギー線硬化膜である樹脂層の上に、透明導電膜としてITO膜の厚みが30nmとなるようにスパッタリング法で積層後、透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、積層体を得た。
Example 9
As compound (A) having a biphenyl structure and two or more (meth) acryloyl groups, pentaerythritol tetraacrylate (trade name: “Product”: Compound 1 and compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups Aronix M450 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and a reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1: (X) = 30: 70, and Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator. (Product) 5 parts of propylene glycol monomethyl ether were mixed to obtain a curable composition (also referred to as a coating composition or a coating solution) adjusted to a solid content of 40%.
This composition was coated on a 125 μm thick easy-adhesive PET film (“Lumirror UH13” manufactured by Toray Industries, Inc.) with a bar coater so that the film thickness after drying was 1.5 μm, and then high-pressure mercury. The resin layer was formed by irradiating ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 with a lamp. Thereafter, ultraviolet rays of 2000 mJ / cm 2 were irradiated 1 to 3 times with a high-pressure mercury lamp.
On the obtained resin layer, which is a cured active energy ray film, a transparent conductive film is laminated by sputtering so that the thickness of the ITO film is 30 nm, and then only the transparent conductive film is patterned into a stripe pattern (etching process). Thus, a laminate was obtained.

(実施例10)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を、合成例2の化合物(A)を含む反応物:(X)=50:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 10)
Except that the ratio of the reactant containing the compound (A) of Synthesis Example 1 and the pentaerythritol tetraacrylate (X) is changed to the reactant containing the compound (A) of Synthesis Example 2: (X) = 50: 50 In the same manner as in Example 9, a laminate was obtained.

(実施例11)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X)=70:30に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 11)
Except that the ratio of the reactant containing the compound (A) of Synthesis Example 1 and the pentaerythritol tetraacrylate (X) was changed to the reactant containing the compound (A) of Synthesis Example 1: (X) = 70: 30 In the same manner as in Example 9, a laminate was obtained.

(実施例12)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=10:40:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 12)
In addition to the reaction product containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle size of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) in Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 10: 40: 50. Got the body.

(実施例13)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 13)
In addition to the reaction product containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle size of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例14)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=35:15:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 14)
In addition to the reaction product containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle size of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) in Synthesis Example 1 was changed to (X): metal oxide particle content = 35: 15: 50. Got the body.

(実施例15)
合成例2の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 15)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 2 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”) Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例16)
合成例3の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 16)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 3 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例17)
合成例4の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 17)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 4 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例18)
合成例5の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 18)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 5 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例19)
合成例6の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 19)
In addition to the reactant containing the compound (A) of Synthesis Example 6 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例20)
合成例7の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 20)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 7 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30 wt% and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例21)
合成例8の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 21)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 8 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30 wt% and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例22)
合成例9の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 22)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 9 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例23)
合成例10の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 23)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 10 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例24)
合成例11の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 24)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 11 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”) having a particle concentration of 30 wt% and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide. Laminated by the same method as in Example 9 except that the reaction product containing the compound (A) of Synthesis Example 1 is changed to (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50. Got the body.

(実施例25)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(1)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例9と同様にして積層体を得た。
(Example 25)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (1) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 A reaction product containing (A): (X): A layered product was obtained in the same manner as in Example 9 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例26)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(2)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 26)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (2) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例27)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(3)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 27)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (3) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例28)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(4)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 28)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (4) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例29)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(5)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 29)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (5) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例30)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(6)を、合成例1の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 30)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), the metal oxide composition (6) containing Synthesis Example (1) as a metal oxide is converted to the compound of Synthesis Example 1 Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例31)
合成例1の化合物(A)を含む反応物とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として合成例(6)を含む金属酸化物組成物(7)を、合成例6の化合物(A)を含む反応物:(X):金属酸化物の粒子分=40:11:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 31)
In addition to the reactant containing compound (A) of Synthesis Example 1 and pentaerythritol tetraacrylate (X), a metal oxide composition (7) containing Synthesis Example (6) as a metal oxide was converted to a compound of Synthesis Example 6. Reactant containing (A): (X): Laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 40:11:49.

(実施例32)
NKエステルA−BPEFおよび金属酸化物として合成例(1)を含む金属酸化物組成物(1)中の化合物(A)を含む反応物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)を、(A):(X):金属酸化物の粒子分=47:4:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 32)
A reactant containing pentaerythritol tetraacrylate (X), NK ester A-BPEF and compound (A) in metal oxide composition (1) containing synthesis example (1) as a metal oxide, (A) :( X): A laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 47: 4: 49.

(実施例33)
NKエステルA−BPEFおよび金属酸化物として合成例(6)を含む金属酸化物組成物(7)中の化合物(A)を含む反応物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)を、(A):(X):金属酸化物の粒子分=46:5:49に変更した以外は、実施例25と同様にして積層体を得た。
(Example 33)
A reaction product containing compound (A) in metal oxide composition (7) containing synthesis example (6) as NK ester A-BPEF and metal oxide, pentaerythritol tetraacrylate (X), (A) :( X): A laminate was obtained in the same manner as in Example 25 except that the metal oxide particle content was changed to 46: 5: 49.

(比較例1)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)との比率を(A):(X)=100:0に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 1)
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of NK ester A-BPEF (A) to pentaerythritol tetraacrylate (X) was changed to (A) :( X) = 100: 0.

(比較例2)
NKエステルA−BPEF(A)とペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を(A):(X):金属酸化物の粒子分=50:0:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 2)
In addition to NK ester A-BPEF (A) and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Corporation ) Was changed to (A) :( X): metal oxide particle content = 50: 0: 50 to obtain a laminate in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
(メタ)アクリロイル基を有さない9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンとペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 3)
In addition to 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene and pentaerythritol tetraacrylate (X) having no (meth) acryloyl group, a particle concentration of 30% by weight as a metal oxide, particle size A 15-nm zirconia dispersion (trade name: “ZR-010”, manufactured by Solar Co., Ltd.), 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene: (X): metal oxide particle content = A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio was changed to 25:25:50.

(比較例4)
(メタ)アクリロイル基を1個有するエトキシ化o-フェニルフェノールアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、エトキシ化o-フェニルフェノールアクリレート:(X):金属酸化物の粒子分=25:25:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 4)
In addition to ethoxylated o-phenylphenol acrylate having one (meth) acryloyl group and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide (trade name: “ ZR-010 "(manufactured by Solar Corporation) was changed to ethoxylated o-phenylphenol acrylate: (X): metal oxide particle content = 25: 25: 50 in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate. Got.

(比較例5)
フルオレン構造および/またはビフェニル構造を有さない合成例(12)を含む反応物およびペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、(X):金属酸化物の粒子分=50:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 5)
In addition to the reactant containing the synthesis example (12) having no fluorene structure and / or biphenyl structure and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30 wt% and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide ( A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the product name: “ZR-010” (manufactured by Solar Co., Ltd.) was changed to (X): metal oxide particle content = 50: 50.

(比較例6)
フルオレン構造および/またはビフェニル構造を有さない合成例(13)を含む反応物およびペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、(X):金属酸化物の粒子分=50:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 6)
In addition to the reactant including Synthesis Example (13) having no fluorene structure and / or biphenyl structure and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion having a particle concentration of 30% by weight and a particle diameter of 15 nm as a metal oxide ( A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the product name: “ZR-010” (manufactured by Solar Co., Ltd.) was changed to (X): metal oxide particle content = 50: 50.

(比較例7)
フルオレン構造および/またはビフェニル構造を有さない合成例(14)を含む反応物およびペンタエリスリトールテトラアクリレート(X)に加えて、金属酸化物として粒子濃度30重量%、粒子径15nmのジルコニア分散体(商品名:「ZR−010」、ソーラー社製)を、(X):金属酸化物の粒子分=50:50に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
(Comparative Example 7)
In addition to the reactant including the synthesis example (14) having no fluorene structure and / or biphenyl structure and pentaerythritol tetraacrylate (X), a zirconia dispersion (particle size: 30% by weight, particle size: 15 nm) A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the product name: “ZR-010” (manufactured by Solar Co., Ltd.) was changed to (X): metal oxide particle content = 50: 50.

(評価方法)
密着性は透明導電膜を積層前および積層後に評価を実施した。
透明性、耐擦傷性については、透明導電膜を積層する前に評価を実施した。評価結果を表3および表4に示す。
(Evaluation method)
The adhesion was evaluated before and after laminating the transparent conductive film.
The transparency and scratch resistance were evaluated before laminating the transparent conductive film. The evaluation results are shown in Table 3 and Table 4.

表3及び表4に中の略称を下記に示す。なお、表に記載の配合量の単位は部である。
光重合開始剤:チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア184」
溶剤:PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)

The abbreviations in Table 3 and Table 4 are shown below. In addition, the unit of the compounding quantity described in the table is part.
Photopolymerization initiator: “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals
Solvent: PGME (propylene glycol monomethyl ether)

(1)密着性 (透明導電膜積層前)
JIS K5600−5−6に準拠し、付着性クロスカット法により耐性を評価した。その結果を下記の0〜5に分類した。実用的には分類0もしくは分類1であることが必要である。
0:カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない
1:カットの交差点における積層体の小さなはがれ。単位面積当たり5%未満のはがれ
2:積層体がカットの縁に沿って、および/又は交差点においてはがれている。単位面積当たり5%以上15%未満のはがれ
3:積層体がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれが生じており、および/又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。単位面積当たり15%以上35%未満の剥がれ
4:積層体がカットの縁に沿って、部分的または全面的に大はがれが生じており、および/または数箇所の目が部分的または全面的にはがれている。単位面積当たりの35%未満の剥がれ
5:単位面積当たり35%以上の剥がれ。
(1) Adhesiveness (before transparent conductive film lamination)
In accordance with JIS K5600-5-6, resistance was evaluated by an adhesive cross-cut method. The result was classified into the following 0-5. Practically, it is necessary to be in class 0 or class 1.
0: The edge of the cut is completely smooth and there is no peeling of any lattice eye 1: Small peeling of the laminate at the intersection of the cut. Peel off less than 5% per unit area 2: The laminate is peeled along the edges of the cut and / or at the intersection. 5% or more and less than 15% peeling 3 per unit area 3: Laminate partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or various parts of the eyes partially or completely It is peeled off. Separation of 15% or more and less than 35% per unit area 4: The laminate is partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or some eyes are partially or completely removed It is peeling off. Less than 35% peeling per unit area 5: More than 35% peeling per unit area.

(2)密着性 (透明導電膜積層後)
JIS K5600−5−6に準拠し、付着性クロスカット法により耐性を評価した。
評価方法として試験結果を下記の0〜5に分類した。これによって評価される基材と樹脂層と透明導電膜の密着性は実用的には分類0もしくは分類1であることが必要である。ここで、積層体を目視確認または膜厚を測定することにより、基材と樹脂層との剥離であることが確認できる。
0:カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない
1:カットの交差点における積層体の小さなはがれ。単位面積当たり5%未満のはがれ
2:積層体がカットの縁に沿って、および/又は交差点においてはがれている。単位面積当たり5%以上15%未満のはがれ
3:積層体がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれが生じており、および/又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。単位面積当たり15%以上35%未満の剥がれ
4:積層体がカットの縁に沿って、部分的または全面的に大はがれが生じており、および/または数箇所の目が部分的または全面的にはがれている。単位面積当たりの35%未満の剥がれ
5:単位面積当たり35%以上の剥がれ。
(2) Adhesion (after transparent conductive film lamination)
In accordance with JIS K5600-5-6, resistance was evaluated by an adhesive cross-cut method.
As an evaluation method, the test results were classified into the following 0 to 5. Practically, the adhesion between the base material, the resin layer, and the transparent conductive film to be evaluated needs to be class 0 or class 1. Here, it can confirm that it is peeling with a base material and a resin layer by visually confirming a laminated body or measuring a film thickness.
0: The edge of the cut is completely smooth and there is no peeling of any lattice eye 1: Small peeling of the laminate at the intersection of the cut. Peel off less than 5% per unit area 2: The laminate is peeled along the edges of the cut and / or at the intersection. 5% or more and less than 15% peeling 3 per unit area 3: Laminate partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or various parts of the eyes partially or completely It is peeled off. Separation of 15% or more and less than 35% per unit area 4: The laminate is partially or completely peeled along the edge of the cut, and / or some eyes are partially or completely removed It is peeling off. Less than 35% peeling per unit area 5: More than 35% peeling per unit area.

(3)透明性(Haze値)
透明導電膜を積層する前の、基材と樹脂層とを有する積層体の濁度(Haze値)を、Hazeメーターを用いて測定した。実用的には、Haze値は1.5%以下であることが必要である。
(3) Transparency (Haze value)
The turbidity (Haze value) of the laminate having the base material and the resin layer before laminating the transparent conductive film was measured using a Haze meter. Practically, the Haze value needs to be 1.5% or less.

(4)耐擦傷性(ハードコート性)
透明導電膜を積層する前の、基材と樹脂層とを有する積層体を学振試験機にセットし、スチールウールのNo.0000を用いて、荷重250gで10回学振させた。取り出した積層体について、キズのつき具合を以下の5段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、積層体の耐擦傷性が良好であることを示す。
5:キズが全くない
4:僅かにキズが付いている
3:キズは付いているが、基材は見えていない
2:キズが付き、一部硬化膜が剥がれている
1:硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
(4) Scratch resistance (hard coat property)
The laminated body having the base material and the resin layer before laminating the transparent conductive film was set on a Gakushin tester, and was shook 10 times with a load of 250 g using steel wool No. 0000. About the taken-out laminated body, the degree of damage was judged according to the following five-step visual evaluation. It shows that the abrasion resistance of a laminated body is so favorable that a numerical value is large.
5: No scratches 4: Slightly scratches 3: Scratches are attached, but the substrate is not visible 2: Scratches are present, and part of the cured film is peeled off 1: The cured film is peeled off The base material is bare

表3及び表4の結果より、実施例1〜33積層体は、透明性と密着性がバランス良く優れていることが判明した。また金属酸化物を活性エネルギー線硬化膜である樹脂層に含んでも、透明性と密着性がバランス良く優れている。   From the results in Table 3 and Table 4, it was found that the Examples 1 to 33 laminates were excellent in balance between transparency and adhesion. Moreover, even if a metal oxide is contained in the resin layer which is an active energy ray cured film, the transparency and the adhesion are excellent in a good balance.

これに対し、化合物(A)を含有しない比較例(1)から比較例(7)は、ポリエステル基材と活性エネルギー線硬化膜である樹脂層との密着性および活性エネルギー線硬化膜である樹脂層と透明導電膜との密着性がいずれも不足していた。   On the other hand, Comparative Example (1) to Comparative Example (7) containing no compound (A) are the adhesiveness between the polyester substrate and the resin layer which is an active energy ray cured film and the resin which is an active energy ray cured film. The adhesion between the layer and the transparent conductive film was insufficient.

Claims (7)

ポリエステルフィルムである基材上に、フルオレン構造および2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)と、チタニウム、ジルコニウム、およびアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む金属酸化物とを含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化してなる樹脂層を有し、さらに透明導電膜を有する積層体。 A metal oxide containing a compound (A) having a fluorene structure and two or more (meth) acryloyl groups, and at least one atom selected from the group consisting of titanium, zirconium, and aluminum on a base material that is a polyester film The laminated body which has a resin layer formed by hardening | curing the active energy ray curable composition containing these, and also has a transparent conductive film. 前記樹脂層が、さらに3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(ただし、化合物(A)である場合を除く)を含む組成物を硬化してなる層である、請求項1に記載の積層体。 The said resin layer is a layer formed by hardening | curing the composition containing the compound (X) (However, the case where it is a compound (A)) which has a 3 or more (meth) acryloyl group further. The laminated body as described in. フルオレン構造および2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)と、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(X)(ただし、化合物(A)である場合を除く)の固形分の合計100重量%中、化合物(A)の含有量が10〜90重量%である、請求項2に記載の積層体。 Compound (A) having a fluorene structure and two or more (meth) acryloyl groups, and a compound (X) having three or more (meth) acryloyl groups (except in the case of compound (A)) The laminate according to claim 2, wherein the content of the compound (A) is 10 to 90% by weight in a total of 100% by weight. 前記化合物(A)が、下記一般式(1)で表される化合物(A1)である請求項1〜3いずれか1項に記載の積層体。
一般式(1):



(一般式(1)中、R1は下記に示す4価の有機残基であり、Rは水素原子または下記に示す1価の有機残基のいずれかを表し、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。)



The said compound (A) is a compound (A1) represented by following General formula (1), The laminated body of any one of Claims 1-3.
General formula (1):



(In General Formula (1), R 1 is a tetravalent organic residue shown below, R 3 represents either a hydrogen atom or a monovalent organic residue shown below,
R 2 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group. )



前記化合物(A)が、下記一般式(2)で表される化合物(A2)である請求項1〜3いずれか1項に記載の積層体。
一般式(2):
−O−R−O−R

(一般式(2)中、Rは下記に示す2価の有機残基であり、
は、(メタ)アクリロイル基を有する1価の有機残基を表す。)

The said compound (A) is a compound (A2) represented by following General formula (2), The laminated body of any one of Claims 1-3.
General formula (2):
R 5 —O—R 4 —O—R 5

(In the general formula (2), R 4 is a divalent organic residue shown below,
R 5 represents a monovalent organic residue having a (meth) acryloyl group. )

積算光量2000mJ/cm以上の活性エネルギー線を照射した場合の、JIS K5600−5−6による付着性クロスカット法によって測定される前記基材と前記樹脂層との密着性が、単位面積当たりの剥離面積が5%未満である、請求項1〜5いずれか一項に記載の積層体。 The adhesiveness between the base material and the resin layer measured by the adhesive cross-cut method according to JIS K5600-5-6 when irradiated with an active energy ray having an integrated light quantity of 2000 mJ / cm 2 or more is determined per unit area. The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the peeled area is less than 5%. ポリエステルフィルムである基材上に、フルオレン構造および2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化性組成物を塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化させ樹脂層を形成する工程と、
透明導電膜を形成する工程を含む、積層体の製造方法。
An active energy ray-curable composition containing a compound (A) having a fluorene structure and two or more (meth) acryloyl groups is applied onto a substrate that is a polyester film, and cured by irradiation with active energy rays. Forming a resin layer;
The manufacturing method of a laminated body including the process of forming a transparent conductive film.
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