JP2017034454A - Electronic component and manufacturing method of electronic component - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress a secular change of a frequency in an electronic component encapsulating a crystal oscillator in which an excitation electrode containing silver as a main material is provided in a crystal piece via a contact layer and of which the frequency is adjusted by shaving the excitation electrode, in a container in an airtight manner.SOLUTION: A crystal oscillator is configured by laminating a contact layer 4, a base layer consisting of Bi and a main electrode layer 300 on a crystal piece 10 in this order. When fixing the crystal oscillator to a container, a conductive adhesive is heated and hardened, and Bi in the base layer is dispersed within the main electrode layer 300. By then shaving surfaces of excitation electrodes 31 and 32, frequency adjustment is performed, the container is heated and sealed thereafter, and a nearby layer enriched in Bi is segregated on a surface of the main electrode layer 300. Therefore, a state where a layer 51 of Bi is formed on the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32 is obtained after the frequency adjustment.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本発明は、銀電極を備えた圧電振動子を容器に気密に封止した電子部品に関する。   The present invention relates to an electronic component in which a piezoelectric vibrator having a silver electrode is hermetically sealed in a container.

圧電振動子、例えばATカット水晶振動子をセラミックパッケージに搭載した振動子パッケージは、小型、高精度、高安定であることから、移動体通信端末をはじめとする様々な周波数制御デバイスとして広範に使用されている。表面実装型水晶振動子(SMD水晶振動子)は、以下のようにセラミックパッケージに水晶振動子が気密封止された構造を有する。即ち水晶振動子は、短冊状に切り出された水晶片の両主面の対向する位置に、励振電極とこの励振電極から水晶片端部に向かって延伸された引出電極とが形成され、該水晶振動子の引出電極とセラミックパッケージ(ベース)内の引き回し配線端子が導電性接着剤等を用いて導通固定され、該セラミックパッケージ(ベース)と、セラミックや金属製のリッドを低融点ガラスあるいは金属シール材料により気密に封止されている。封止に用いる低融点ガラスや金属シール材料の種類によるが、気密封止工程においては、水晶振動子や振動子パッケージが300〜400℃の高温状態に置かれる。   Piezoelectric resonators, such as AT-cut crystal resonators mounted on ceramic packages, are widely used as various frequency control devices, including mobile communication terminals, because they are small, highly accurate, and highly stable. Has been. A surface-mount crystal unit (SMD crystal unit) has a structure in which a crystal unit is hermetically sealed in a ceramic package as follows. That is, the quartz resonator is formed with an excitation electrode and an extraction electrode extending from the excitation electrode toward the end of the quartz piece at opposite positions of both main surfaces of the quartz piece cut into a strip shape. The lead electrode of the child and the routing wiring terminal in the ceramic package (base) are conductively fixed using a conductive adhesive or the like, and the ceramic package (base) and the ceramic or metal lid are connected to the low melting glass or metal sealing material. Is hermetically sealed. Depending on the type of low-melting glass or metal sealing material used for sealing, in the hermetic sealing process, the crystal resonator and the resonator package are placed at a high temperature of 300 to 400 ° C.

電極材料としては、蒸着法やスパッタ法により形成した金(Au)や銀(Ag)が使用されている。Au電極の水晶振動子は高い長期周波数安定性を有するものの材料コストが高いという問題がある。一方で、Ag電極の水晶振動子では、Au電極に比べ安価ではあるものの、長期周波数安定性(エージング特性)が劣っているという問題がある。
純Ag電極の水晶振動子における周波数の経時変化は、気密封止工程時の熱によりAgが凝集することが原因と考えられる。即ち、パッケージ内壁や接着剤、封止雰囲気からのガスの吸着や酸化による励振電極の質量変化が知られているが、凝集によりAg電極の表面積が増加し、ガスの吸着や表面酸化量が増えたことが周波数変動の原因であると推定される。
As the electrode material, gold (Au) or silver (Ag) formed by vapor deposition or sputtering is used. Although the crystal resonator of the Au electrode has high long-term frequency stability, there is a problem that the material cost is high. On the other hand, the crystal resonator of the Ag electrode has a problem that it is inferior in long-term frequency stability (aging characteristic) although it is cheaper than the Au electrode.
It is considered that the change with time in the frequency of the pure Ag electrode crystal resonator is caused by Ag aggregation due to heat in the hermetic sealing process. That is, the mass change of the excitation electrode due to gas adsorption or oxidation from the package inner wall, adhesive, or sealing atmosphere is known, but the surface area of the Ag electrode increases due to aggregation, and the amount of gas adsorption and surface oxidation increases. This is presumed to be the cause of frequency fluctuations.

純Ag薄膜における凝集を抑えるためには、微量金属の添加が有効であることが知られている。例えば特許文献1では、ビスマス(Bi)及び、またはアンチモン(Sb)を合計で0.005〜0.40%(原子%:構成原子数を100%としたときの当該原子の数の%)含有するAg基合金が開示されている。また一方特許文献2では、インジウム(In)を0.1〜1.8原子%含有し、残部がAg及び不可避不純物からなる成分組成のAg−In合金が開示されている。いずれもAgの凝集による光の反射率劣化を抑えることを目的とした特許であるが、添加した金属(Bi、SbあるいはIn)を薄膜表面上に偏析層として析出させ、該表面偏析層が大気中の酸素に曝されることによって安定した酸化膜が形成されることで凝集が抑制され、反射率劣化が防止できるというものである。   In order to suppress aggregation in a pure Ag thin film, it is known that addition of trace metals is effective. For example, in Patent Document 1, bismuth (Bi) and / or antimony (Sb) are contained in a total amount of 0.005 to 0.40% (atomic%:% of the number of atoms when the number of constituent atoms is 100%). An Ag-based alloy is disclosed. On the other hand, Patent Document 2 discloses an Ag—In alloy having a component composition containing 0.1 to 1.8 atomic% of indium (In), the balance being Ag and inevitable impurities. Both are patents aimed at suppressing light reflectance deterioration due to Ag aggregation, but the added metal (Bi, Sb or In) is deposited as a segregation layer on the surface of the thin film, and the surface segregation layer is in the atmosphere. When a stable oxide film is formed by exposure to oxygen therein, agglomeration is suppressed and reflectance deterioration can be prevented.

特許文献1ないし2のAg基合金を水晶振動子の電極に用いた場合、以下のような問題がある。即ち水晶振動子の製造に際しては、電極膜をイオンビームやレーザーによって削ることによって、振動子の共振周波数を調整する工程があるために特許文献1や特許文献2のようなAg合金を水晶振動子電極として用いると、凝集抑制として形成されている表面偏析層が周波数調整時に削り取られてしまい、凝集抑制の効果が大きく低下してしまい、経時変化による周波数変動が小さくならない。   When the Ag-based alloys of Patent Documents 1 and 2 are used for the electrodes of a crystal resonator, there are the following problems. That is, when manufacturing a crystal resonator, there is a step of adjusting the resonance frequency of the resonator by scraping the electrode film with an ion beam or a laser. When used as an electrode, the surface segregation layer formed as aggregation suppression is scraped off during frequency adjustment, the effect of aggregation suppression is greatly reduced, and frequency fluctuations due to changes over time are not reduced.

特開2004−139712号JP 2004-139712 A 特開2014−19932号JP 2014-19922

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、圧電片に密着層と銀を材料とする主電極層とがこの順で積層された励振電極が設けられ、当該励振電極を削ることにより周波数調整がされた圧電振動子を容器に気密に封止した電子部品において、周波数の経時変化を抑制する技術を提供することにある。   The present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is to provide an excitation electrode in which an adhesion layer and a main electrode layer made of silver are laminated in this order on a piezoelectric piece. An object of the present invention is to provide a technique for suppressing a change in frequency over time in an electronic component in which a piezoelectric vibrator whose frequency is adjusted by cutting an electrode is hermetically sealed in a container.

本発明の電子部品は、圧電片に密着層と、銀を主材料とする主電極層と、をこの順で積層した励振電極が設けられ、当該励振電極を削ることにより周波数調整がされた圧電振動子を容器に気密に封止して構成された電子部品において、
予め前記主電極層と前記密着層との間に設けられ、銀に対して共晶を形成する金属からなる下地層の少なくとも一部が主電極層に拡散され、前記周波数調整後に主電極層の表面に前記金属が偏析した状態となっていることを特徴とする。
The electronic component of the present invention is provided with an excitation electrode in which an adhesion layer and a main electrode layer mainly composed of silver are laminated in this order on a piezoelectric piece, and the frequency is adjusted by cutting the excitation electrode. In an electronic component configured by hermetically sealing a vibrator in a container,
Preliminarily provided between the main electrode layer and the adhesion layer, and at least part of the base layer made of a metal that forms a eutectic with respect to silver is diffused into the main electrode layer, and after the frequency adjustment, The surface of the metal is segregated on the surface.

また本発明の電子部品は、前記銀に対して共晶を形成する金属は、イットリウム、セリウム、銅、シリコン、ゲルマニウム、鉛及びビスマスから選ばれる金属であることを特徴としてもよい。   In the electronic component of the present invention, the metal that forms a eutectic with respect to silver may be a metal selected from yttrium, cerium, copper, silicon, germanium, lead, and bismuth.

本発明の電子部品の製造方法は、銀を主材料とする励振電極が圧電片に設けられた圧電振動子を容器に気密に封止して構成された電子部品の製造方法において、
圧電片に密着層と、銀に対して共晶を形成する金属からなる下地層と、銀を主材料とする主電極層と、をこの順で積層する積層工程と、
その後主電極層の表面を削って圧電振動子の周波数調整を行う工程と、
次に圧電振動子を加熱して、前記金属が主電極層の表面に偏析した状態になった励振電極を得る工程と、を含むことを特徴とする。
The method of manufacturing an electronic component of the present invention is a method of manufacturing an electronic component configured by hermetically sealing a piezoelectric vibrator in which an excitation electrode mainly composed of silver is provided on a piezoelectric piece in a container.
A laminating step of laminating an adhesion layer on the piezoelectric piece, a base layer made of a metal that forms a eutectic with silver, and a main electrode layer mainly composed of silver in this order;
Thereafter, the surface of the main electrode layer is shaved to adjust the frequency of the piezoelectric vibrator,
Next, the piezoelectric vibrator is heated to obtain an excitation electrode in which the metal is segregated on the surface of the main electrode layer.

また本発明の電子部品の製造方法は、前記積層工程の後、圧電振動子の周波数調整を行う工程の前に、圧電振動子を導電性接着剤により容器に固定し、導電性接着剤を加熱して硬化させる工程を含み、
前記導電性接着剤の加熱により、下地層の少なくとも一部が主電極層中に拡散し、当該主電極層に拡散した前記金属が、前記周波数調整後の圧電振動子の加熱により主電極層の表面に偏析してもよく、前記周波数調整後に圧電振動子を加熱する工程は、容器を気密に封止するために加熱する工程であることを特徴としてもよい。
In the electronic component manufacturing method of the present invention, the piezoelectric vibrator is fixed to the container with the conductive adhesive before the step of adjusting the frequency of the piezoelectric vibrator after the laminating step, and the conductive adhesive is heated. And curing it,
Due to the heating of the conductive adhesive, at least a part of the base layer diffuses into the main electrode layer, and the metal diffused into the main electrode layer is heated by the piezoelectric vibrator after the frequency adjustment. It may be segregated on the surface, and the step of heating the piezoelectric vibrator after the frequency adjustment may be a step of heating to hermetically seal the container.

本発明は、圧電振動子を容器に気密に封止して構成された電子部品において、圧電片に密着層、銀と共晶となる金属からなる下地層及び銀からなる主電極層をこの順に積層し、主電極層の表面を削ることにより周波数調整した後、主電極層を加熱し、励振電極の表面に前記金属を偏析させて励振電極を構成している。そのため励振電極の表面の凹凸が少なくなり、ガスの吸着や酸化が抑制されるため、圧電振動子の周波数の経時変化を抑制することができる。   The present invention relates to an electronic component configured by hermetically sealing a piezoelectric vibrator in a container, and an adhesive layer, a base layer made of a metal eutectic with silver and a main electrode layer made of silver in this order on the piezoelectric piece. After laminating and adjusting the frequency by scraping the surface of the main electrode layer, the main electrode layer is heated, and the metal is segregated on the surface of the excitation electrode to constitute the excitation electrode. Therefore, the unevenness of the surface of the excitation electrode is reduced, and gas adsorption and oxidation are suppressed. Therefore, it is possible to suppress a change in the frequency of the piezoelectric vibrator over time.

本発明の実施の形態に係る電子部品を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the electronic component which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る水晶振動子を示す平面図である。1 is a plan view showing a crystal resonator according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係る水晶振動子を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a crystal resonator according to an embodiment of the present invention. 積層体を拡大した断面図である。It is sectional drawing to which the laminated body was expanded. AgとBiの関係を示す相図である。It is a phase diagram which shows the relationship between Ag and Bi. 成膜処理後の主電極層を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the main electrode layer after the film-forming process. 導電性接着剤の加熱後の主電極層を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the main electrode layer after the heating of a conductive adhesive. 電極表面のエッチング後の主電極層を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the main electrode layer after the etching of the electrode surface. 容器の気密封止後の主電極層を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the main electrode layer after the airtight sealing of a container. サンプル1に係るオージェ電子深さ方向分析スペクトルを示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing an Auger electron depth direction analysis spectrum according to Sample 1. サンプル2に係るオージェ電子深さ方向分析スペクトルを示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing an Auger electron depth direction analysis spectrum according to Sample 2. サンプル3に係るオージェ電子深さ方向分析スペクトルを示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing an Auger electron depth direction analysis spectrum according to Sample 3. 実施例2に係る水晶振動子の周波数の経時変化を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a change with time in the frequency of a crystal resonator according to Example 2. 比較例2に係る水晶振動子の周波数の経時変化を示す特性図である。6 is a characteristic diagram showing a change with time of a frequency of a crystal resonator according to Comparative Example 2.

本発明の実施の形態に係る電子部品である振動子パッケージについて説明する。図1に示すように振動子パッケージは、容器2と、水晶振動子1と、を備えている。容器2は、上方が開口し、概略箱形に形成されたセラミック製のベース体20と、ベース体20の開口を塞ぐセラミック製の蓋体21と、を備えている。ベース体20の内側底面には、ベース体20の底面下面側に設けられた図示しない電極パッドに電気的に接続された電極22が形成されている。   A vibrator package which is an electronic component according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, the vibrator package includes a container 2 and a crystal vibrator 1. The container 2 includes a ceramic base body 20 that is open at the top and is formed in a substantially box shape, and a ceramic lid body 21 that closes the opening of the base body 20. On the inner bottom surface of the base body 20, an electrode 22 electrically connected to an electrode pad (not shown) provided on the bottom bottom surface side of the base body 20 is formed.

水晶振動子1は、図2、図3に示すように短冊状に切り出されたATカットの水晶片10の一面側の主面及び他面側の主面に励振電極31、32が互いに対向するように設けられている。一面側の励振電極31の一部には、水晶片10の一方側の周縁に向かって引き出されるように引き出し電極33の一端が接続されており、引き出し電極33の他端は、水晶片10の一方側の側面を介して水晶片10の他面側の一方側周縁に引き回され、電極端35が形成されている。また他面側の励振電極32の一部にも一方側の周縁に向かって引き出されるように引き出し電極34の一端が接続され、引き出し電極34の他端側は、水晶片10の他面側の一方側周縁に引き回され、電極端36が形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the crystal resonator 1 has excitation electrodes 31 and 32 opposed to a main surface on one surface side and a main surface on the other surface side of an AT-cut crystal piece 10 cut into a strip shape. It is provided as follows. One end of the extraction electrode 33 is connected to a part of the excitation electrode 31 on one side so as to be extracted toward the peripheral edge on one side of the crystal piece 10, and the other end of the extraction electrode 33 is connected to the crystal piece 10. An electrode end 35 is formed by being routed around one side edge on the other surface side of the crystal piece 10 through one side surface. Further, one end of the extraction electrode 34 is connected to a part of the excitation electrode 32 on the other surface side so as to be extracted toward the peripheral edge on one side, and the other end side of the extraction electrode 34 is on the other surface side of the crystal piece 10. An electrode end 36 is formed by being drawn around one side periphery.

励振電極31、32について振動子パッケージの製造方法に沿って説明する。引き出し電極33、34及び電極端35、36についても励振電極31、32と同様の工程により形成されるが、励振電極31、32を例にとって説明する。図4に示すように、水晶片10の表面及び裏面にクロム(Cr)からなる密着層4、Biからなる下地層5及びAgあるいはAgを主体とするAg基合金からなる主電極層30がこの順に積層された積層体が設けられる。密着層4の膜厚は特に限定されないが、0.5〜10nmの範囲内であれば十分な密着性が得られる。下地層5の膜厚は特に限定されないが、0.5〜50nmの範囲内であればよい。AgあるいはAgを主成分とするAg基合金で構成された主電極層30の膜厚は、水晶振動子1の特性を左右し、水晶振動子1のサイズや共振周波数などの振動子特性によって決定される。典型的には100〜数100nmである。密着層4、下地層5及びAgあるいはAgを主成分とするAg基合金の主電極層30は抵抗加熱式の蒸着法、電子ビーム式の蒸着法、スパッタ法などにより成膜される。密着層4は、例えばチタン(Ti)、ニッケル(Ni)、ニッケルタングステン(NiW)、アルミニウム(Al)などでもよい。この時主電極層30を構成するAgの層と、下地層5を構成するBiの層とが、接しているため図5に示すようにBiの原子50がAgあるいはAgを主成分とするAg基合金層の結晶粒界を通じて拡散する。   The excitation electrodes 31 and 32 will be described along a method for manufacturing a vibrator package. The extraction electrodes 33 and 34 and the electrode ends 35 and 36 are also formed by the same process as that of the excitation electrodes 31 and 32, and the excitation electrodes 31 and 32 will be described as an example. As shown in FIG. 4, an adhesion layer 4 made of chromium (Cr), a base layer 5 made of Bi, and a main electrode layer 30 made of Ag or an Ag-based alloy mainly composed of Ag are formed on the front and back surfaces of the crystal piece 10. A stacked body that is sequentially stacked is provided. The film thickness of the adhesion layer 4 is not particularly limited, but sufficient adhesion can be obtained if it is in the range of 0.5 to 10 nm. The thickness of the underlayer 5 is not particularly limited, but may be in the range of 0.5 to 50 nm. The film thickness of the main electrode layer 30 made of Ag or an Ag-based alloy containing Ag as a main component affects the characteristics of the crystal resonator 1 and is determined by the resonator characteristics such as the size and the resonance frequency of the crystal resonator 1. Is done. Typically, it is 100 to several hundred nm. The adhesion layer 4, the base layer 5, and the main electrode layer 30 made of Ag or an Ag-based alloy containing Ag as a main component are formed by resistance heating type vapor deposition, electron beam vapor deposition, sputtering, or the like. The adhesion layer 4 may be, for example, titanium (Ti), nickel (Ni), nickel tungsten (NiW), aluminum (Al), or the like. At this time, since the Ag layer constituting the main electrode layer 30 and the Bi layer constituting the underlayer 5 are in contact with each other, the Bi atom 50 is Ag or Ag containing Ag as a main component as shown in FIG. It diffuses through the grain boundaries of the base alloy layer.

続いて図1に示すようにベース体20側の電極22と、水晶振動子1の電極端35、36とを導電性接着剤6により電気的に接続する。その後例えば200℃で30分加熱することにより導電性接着剤6が硬化し、水晶振動子1がベース体20に固定される(導電性接着剤6を硬化する加熱工程)。   Subsequently, as shown in FIG. 1, the electrode 22 on the base body 20 side and the electrode ends 35 and 36 of the crystal resonator 1 are electrically connected by the conductive adhesive 6. Thereafter, for example, the conductive adhesive 6 is cured by heating at 200 ° C. for 30 minutes, and the crystal unit 1 is fixed to the base body 20 (heating step for curing the conductive adhesive 6).

ここで主電極層30の主成分であるAgと、下地層5の主成分であるBiと、は図6に示すように共晶となる相図を持っており、262.5℃以下においては、Ag、Bi共に略固体で存在している。そのため主電極層30に拡散したBiの原子50がAgあるいはAgを主成分とするAg基合金層の結晶粒内には拡散しにくく、AgとBiとは、分離しやすい性質がある。従って導電性接着剤6を硬化する加熱工程において、水晶振動子1が加熱されたとき図7に示すように、主電極層30中に下地層5の拡散がさらに進み、一部は、主電極層30の表面に偏析すると共に、表面のBiが偏析した層よりも深い層において、Biがリッチになった状態となっている。また下地層5は、ほぼ全て主電極層30中に拡散してしまい、消失してしまう。その後イオンビームあるいはレーザーにより、主電極層30の表面を削って、水晶振動子1の共振周波数が調整される。なお水晶片10の他面側の主電極層30の表面は水晶片10を透過したレーザー等により削られる。この時図8に示すように主電極層30においては、表層側に偏析したBiの原子50の一部も除去される。   Here, Ag, which is the main component of the main electrode layer 30, and Bi, which is the main component of the underlayer 5, have a phase diagram that becomes a eutectic as shown in FIG. , Ag, and Bi are both present in a substantially solid state. Therefore, Bi atoms 50 diffused in the main electrode layer 30 are difficult to diffuse into the crystal grains of Ag or an Ag-based alloy layer containing Ag as a main component, and Ag and Bi have a property of being easily separated. Accordingly, in the heating step of curing the conductive adhesive 6, when the crystal unit 1 is heated, as shown in FIG. 7, the diffusion of the underlayer 5 further proceeds into the main electrode layer 30, and a part of the main electrode In addition to segregation on the surface of the layer 30, Bi is rich in a layer deeper than the layer on which Bi is segregated. Further, almost all of the underlayer 5 diffuses into the main electrode layer 30 and disappears. Thereafter, the surface of the main electrode layer 30 is shaved by an ion beam or a laser, and the resonance frequency of the crystal unit 1 is adjusted. The surface of the main electrode layer 30 on the other surface side of the crystal piece 10 is scraped by a laser or the like transmitted through the crystal piece 10. At this time, as shown in FIG. 8, in the main electrode layer 30, a part of Bi atoms 50 segregated on the surface layer side is also removed.

続いて図1に示すように蓋体21の下面側の周縁に低融点ガラスあるいは金属シール材などの接着剤23を塗布し、窒素ガス雰囲気下において、当該蓋体21をベース体20の周壁上面に載置し、例えば360℃、30分の熱処理を行い、容器2を気密に封止する(容器2を気密封止する加熱工程)。この時の加熱処理により、主電極層30において、周波数調整前に表面のBiが偏析した層より深いところに形成されたBiのリッチな層が更に偏析する。この結果、図9に示すように水晶片10上に密着層4、表面にBiの層51が形成された主電極層300がこの順に形成され、励振電極31、32が形成されることになる。   Subsequently, as shown in FIG. 1, an adhesive 23 such as a low-melting glass or a metal sealing material is applied to the periphery on the lower surface side of the lid body 21, and the lid body 21 is placed on the upper surface of the peripheral wall of the base body 20 in a nitrogen gas atmosphere. For example, heat treatment at 360 ° C. for 30 minutes to hermetically seal the container 2 (heating process for hermetically sealing the container 2). By the heat treatment at this time, in the main electrode layer 30, the Bi rich layer formed deeper than the layer on which the surface Bi is segregated before the frequency adjustment is further segregated. As a result, as shown in FIG. 9, the main electrode layer 300 in which the adhesion layer 4 and the Bi layer 51 are formed on the crystal piece 10 is formed in this order, and the excitation electrodes 31 and 32 are formed. .

Agは、水晶に対して密着性が低く、水晶片10上に直接AgあるいはAgを主成分とするAg基合金からなる主電極層30を設けたときに主電極層30が剥離しやすくなる。そのため密着層4を設けることにより、下地層5が主電極層30中に拡散し、徐々に薄い層となったとき、あるいは下地層5がすべて主電極層30中に拡散したときに主電極層30が水晶片10上に密着層4を介して形成されるため、主電極層30の剥離を抑制することができる。   Ag has low adhesion to quartz, and the main electrode layer 30 is easily peeled off when the main electrode layer 30 made of Ag or an Ag-based alloy containing Ag as a main component is provided directly on the crystal piece 10. Therefore, by providing the adhesion layer 4, when the underlayer 5 diffuses into the main electrode layer 30 and gradually becomes a thin layer, or when all of the underlayer 5 diffuses into the main electrode layer 30, the main electrode layer Since 30 is formed on the crystal piece 10 via the adhesion layer 4, peeling of the main electrode layer 30 can be suppressed.

背景技術に述べたようにAgは、加熱により凝集する性質がある。そのため、容器2を気密に封止するために加熱をしたときに、Agの凝集により励振電極31、32の表面の凹凸が大きくなり表面積が大きくなる。この結果、励振電極31、32の表面にガスが吸着しやすくなり、表面の酸化量が多くなり、水晶振動子1の周波数が変化しやすくなる。
一方Biは、酸化しやすい性質があるため励振電極31、32表面に偏析したBiの層51の最表面は、Bi酸化物で覆われる。この表面酸化膜の存在により、表面にBiの層51が形成された励振電極31、32は、容器2を気密に封止するために加熱をしたときに、表面の凹凸が小さくなり、表面積が小さくなる。従って励振電極31、32の表面のガスの吸着が抑制され、表面の酸化量が少なくなり、水晶振動子1の周波数の経時変化が抑制される。
As described in the background art, Ag has a property of being aggregated by heating. Therefore, when heating is performed to hermetically seal the container 2, the surface irregularities of the excitation electrodes 31 and 32 become larger due to Ag aggregation, and the surface area becomes larger. As a result, the gas is easily adsorbed on the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32, the amount of surface oxidation increases, and the frequency of the crystal unit 1 is likely to change.
On the other hand, since Bi has the property of being easily oxidized, the outermost surface of the Bi layer 51 segregated on the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32 is covered with Bi oxide. Due to the presence of the surface oxide film, the excitation electrodes 31 and 32 having the Bi layer 51 formed on the surface thereof have less surface irregularities when heated in order to hermetically seal the container 2, and the surface area is reduced. Get smaller. Therefore, the adsorption of gas on the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32 is suppressed, the amount of oxidation on the surface is reduced, and the change with time of the frequency of the crystal unit 1 is suppressed.

上述の実施の形態は、水晶振動子1を容器2に気密に封止して構成された振動子パッケージにおいて、水晶片10に密着層4、Biからなる下地層5及び主電極層30をこの順に積層して水晶振動子1を構成し、水晶振動子1を容器2に固定するにあたって導電性接着剤6を加熱硬化させ、下地層5中のBiを主電極層30中に拡散させている。その後、主電極層30の表面を削ることにより周波数調整を行った後、容器2を加熱封止し、主電極層30の表面にBiを偏析させている。従って周波数調整後に主電極層30の表面にBiの層51が形成された励振電極31、32が得られる。そのため励振電極31、32の表面の凹凸が少なくなり、ガスの吸着や酸化が抑制されるため、水晶振動子1の周波数の経時変化を抑制することができる。   In the embodiment described above, in the resonator package configured by sealing the crystal resonator 1 in the container 2, the adhesion layer 4, the base layer 5 made of Bi, and the main electrode layer 30 are formed on the crystal piece 10. In order to fix the crystal resonator 1 to the container 2, the conductive adhesive 6 is heated and cured to diffuse Bi in the underlayer 5 into the main electrode layer 30. . Then, after adjusting the frequency by scraping the surface of the main electrode layer 30, the container 2 is heat-sealed, and Bi is segregated on the surface of the main electrode layer 30. Therefore, the excitation electrodes 31 and 32 in which the Bi layer 51 is formed on the surface of the main electrode layer 30 after the frequency adjustment are obtained. Therefore, the unevenness of the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32 is reduced, and gas adsorption and oxidation are suppressed, so that a change with time in the frequency of the crystal unit 1 can be suppressed.

また上述の実施の形態においては、下地層5となるBiのほぼすべてが主電極層30に拡散するものとして説明したが、一部のBiが拡散せずに主電極層300の下層に残っていたとしても同様の効果を得ることができる。   Further, in the above-described embodiment, it has been described that almost all Bi as the base layer 5 diffuses into the main electrode layer 30, but a part of Bi is not diffused and remains in the lower layer of the main electrode layer 300. Even if it is, the same effect can be acquired.

また下地層5に用いる金属は、主電極層30として使用するAgに対して共晶を形成する金属であればよいが、更に主電極層30として用いる金属と、下地層5として用いる金属と、は、互いに単独で金属状態であった方が共晶が安定して形成されるためより好ましい。従ってAgを励振電極31、32の主材料として用いる場合に、下地層5として、Y(イットリウム)、セリウム(Ce)、銅(Cu)、シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、鉛(Pb)などを用いることができる。
また圧電片はATカットの水晶片10に限らず、DTカットなどの異なるカットの水晶片であってもよく、タンタル酸リチウムや、ニオブ酸リチウムなどで構成された圧電体を用いてもよい。
The metal used for the underlayer 5 may be any metal that forms a eutectic with respect to Ag used as the main electrode layer 30, but the metal used as the main electrode layer 30, the metal used as the underlayer 5, Are more preferably independent from each other because the eutectic is stably formed. Therefore, when Ag is used as the main material of the excitation electrodes 31 and 32, as the underlayer 5, Y (yttrium), cerium (Ce), copper (Cu), silicon (Si), germanium (Ge), lead (Pb) Etc. can be used.
The piezoelectric piece is not limited to the AT-cut crystal piece 10, and may be a crystal piece having a different cut such as a DT cut, or a piezoelectric body made of lithium tantalate, lithium niobate, or the like.

[実施例1]
水晶振動子1に励振電極31、32を形成し、一面側の励振電極31の深さ方向における原子の組成比について調べた。ATカットの水晶片10に密着層4となるCrを2nm、下地層5となるBiを10nm、Agで構成された主電極層30を250nmの順にスパッタ法により成膜した。その後、実施の形態に示した導電性接着剤6の加熱硬化する工程と同様に200℃で30分加熱を行い、続いて励振電極31、32の表面にイオンビームを照射し、表面をエッチングした。更にその後、実施の形態に示した容器2の気密封止の加熱工程と同様に360℃で30分加熱した。密着層4、下地層5及び主電極層30を積層した直後の積層体をサンプル1とし、200℃で30分加熱を行った直後で、積層体の表面をエッチングする前の励振電極31、32をサンプル2、360℃で30分加熱後の積層体をサンプル3とした。サンプル3は、本発明の実施の形態で得られる励振電極31、32に相当する。
[Example 1]
Excitation electrodes 31 and 32 were formed on the quartz resonator 1 and the composition ratio of atoms in the depth direction of the excitation electrode 31 on one side was examined. A main electrode layer 30 composed of 2 nm of Cr serving as the adhesion layer 4, 10 nm of Bi serving as the underlayer 5, and Ag of 250 nm was formed on the AT-cut crystal piece 10 in the order of 250 nm by sputtering. Thereafter, heating was performed at 200 ° C. for 30 minutes in the same manner as the step of heating and curing the conductive adhesive 6 described in the embodiment, and then the surfaces of the excitation electrodes 31 and 32 were irradiated with an ion beam to etch the surface. . Further, after that, the container 2 was heated at 360 ° C. for 30 minutes in the same manner as the heating process for hermetic sealing of the container 2 shown in the embodiment. The laminate immediately after laminating the adhesion layer 4, the underlayer 5, and the main electrode layer 30 is sample 1, and immediately after heating at 200 ° C. for 30 minutes, the excitation electrodes 31 and 32 before etching the surface of the laminate. Sample 3 was a laminate after heating at 360 ° C. for 30 minutes. Sample 3 corresponds to excitation electrodes 31 and 32 obtained in the embodiment of the present invention.

サンプル1〜3の夫々の深さ方向におけるオージェ電子分析を行い、Ag、Bi、O(酸素)、Siの各原子の比率を調べた。図10〜図12はこの結果を示し、夫々サンプル1〜3におけるエッチング時間(励振電極31、32の表面からの深さ)に対するAg、Bi、O、Siの各原子の構成比率を示す特性図である。なお励振電極31、32中にSiが拡散しているように見えるが、オージェ電子分析におけるSiのバックグラウンドレベルが組成にして10原子%程度ある。そのためSiの比率が10原子%以下であるということは、励振電極31、32中にSiが拡散していないことを示す。即ち水晶片10のSiは励振電極31、32中には拡散していないと言える。   Auger electron analysis in the depth direction of each of samples 1 to 3 was performed, and the ratio of each atom of Ag, Bi, O (oxygen), and Si was examined. 10 to 12 show the results, and are characteristic diagrams showing the composition ratios of Ag, Bi, O, and Si atoms with respect to the etching time (depth from the surface of the excitation electrodes 31 and 32) in Samples 1 to 3, respectively. It is. Although Si appears to diffuse in the excitation electrodes 31 and 32, the background level of Si in Auger electron analysis is about 10 atomic% in composition. Therefore, the Si ratio being 10 atomic% or less indicates that Si is not diffused in the excitation electrodes 31 and 32. That is, it can be said that the Si of the crystal piece 10 is not diffused into the excitation electrodes 31 and 32.

図10に示すようにサンプル1の成膜直後においては、既に下地層5が主電極層30中に拡散し始めている。図11に示すようにサンプル2の周波数調整前においては、Biの原子50の拡散がさらに進み、一部は主電極層30の電極表面に偏析すると共に、表面偏析層よりも深いところにおいてBiがリッチになった状態が実現している。また密着層4上に形成した下地層5は、ほぼすべてが主電極層30に拡散して、消失している。そして図12に示すサンプル3の気密封止後の状態においては、周波数調整前に表面偏析層の下にあったBiのリッチな層がなくなり、周波数調整後における主電極層30の表面に偏析している。周波数調整の際にサンプル2における表面偏析層と、Biがリッチな層の一部と、がエッチング除去されるが、Biがリッチな層の残った部分が360℃で30分加熱により、主電極層30の表面に偏析したと考えられる。   As shown in FIG. 10, the base layer 5 has already started to diffuse into the main electrode layer 30 immediately after the sample 1 is formed. As shown in FIG. 11, before the frequency adjustment of the sample 2, the diffusion of the Bi atoms 50 further proceeds, and partly segregates on the electrode surface of the main electrode layer 30, and Bi is deeper than the surface segregation layer. A rich state has been realized. Further, almost all of the underlayer 5 formed on the adhesion layer 4 is diffused into the main electrode layer 30 and disappears. Then, in the state after the hermetic sealing of the sample 3 shown in FIG. 12, the Bi-rich layer under the surface segregation layer before the frequency adjustment disappears, and segregates on the surface of the main electrode layer 30 after the frequency adjustment. ing. When the frequency is adjusted, the surface segregation layer in Sample 2 and a part of the layer rich in Bi are removed by etching, but the remaining part of the layer rich in Bi is heated at 360 ° C. for 30 minutes to obtain the main electrode. It is considered that segregated on the surface of the layer 30.

[実施例2]
ATカット水晶片10上に、実施例2としてCrで構成された厚さ2nmの密着層4、Biで構成された厚さ10nmの下地層5、Agで構成された厚さ250nmの主電極層30を下層側からこの順で積層した27MHzの水晶振動子と、比較例2として、Crで構成された厚さ2nmの密着層と、Agのみで構成した主電極層とを、下層側からこの順で積層した27MHzの水晶振動子と、を形成した。実施例2及び比較例2となる水晶振動子をシリコーン系導電性接着剤によりセラミックの容器に搭載し、200℃で30分加熱して導電性接着剤を硬化させて水晶振動子を固定した。その後励振電極の表面をイオンビームによりエッチングを行い周波数の調整を行った後、窒素雰囲気下で低融点ガラスを用いて容器を360℃で30分の加熱処理により気密封止して振動子パッケージとした。
[Example 2]
On the AT-cut crystal piece 10, as Example 2, a 2 nm-thick adhesion layer 4 made of Cr, a 10 nm-thick base layer 5 made of Bi, and a 250-nm-thick main electrode layer made of Ag 30 MHz crystal resonators laminated in this order from the lower layer side, and as a comparative example 2, a 2 nm thick adhesion layer composed of Cr, and a main electrode layer composed only of Ag, A 27 MHz crystal resonator laminated in order was formed. The crystal resonators of Example 2 and Comparative Example 2 were mounted on a ceramic container with a silicone-based conductive adhesive, heated at 200 ° C. for 30 minutes to cure the conductive adhesive, and the crystal resonator was fixed. Thereafter, the surface of the excitation electrode is etched with an ion beam to adjust the frequency, and then the container is hermetically sealed by heat treatment at 360 ° C. for 30 minutes using a low-melting glass in a nitrogen atmosphere. did.

その後実施例2に係る振動子パッケージ及び比較例2に係る振動子パッケージを各々10個ずつ85℃の温度条件下にて保管し、実施例2に係る振動子パッケージについては、1日、2日、4日、8日、11日、21日及び31日経過後に発振周波数Faを測定した。また比較例2に係る振動子パッケージについては、1日、2日、5日、8日、11日、21日、31日及び41日経過後に発振周波数Faを測定した。実施例2及び比較例2の各々において、0日目の周波数Fに対する周波数差ΔF(=Fa−F)を求め、周波数変動量(ΔF/F)を求めた。なお高温環境保管下における水晶振動子の周波数変動は、エージング劣化と呼ばれる現象であるが、エージング劣化は保管温度が高い程、周波数変動量が大きくなる、いわゆる熱活性過程であり、85℃にて21日間保管後の周波数変動量は室温(25℃)にて1年間経過したときの周波数変動量に相当する。実施例2及び比較例2における水晶振動子の周波数変動量の経時変化について図示の便宜上各10個のデータの内、各3個を代表して周波数変動量の経時変化を図13(実施例2)及び図14(比較例2)に示す。   Thereafter, 10 vibrator packages according to Example 2 and 10 vibrator packages according to Comparative Example 2 were stored under a temperature condition of 85 ° C., and the vibrator package according to Example 2 was stored for 1 day, 2 days. The oscillation frequency Fa was measured after the elapse of 4, 8, 11, 21, and 31 days. For the resonator package according to Comparative Example 2, the oscillation frequency Fa was measured after the elapse of 1 day, 2 days, 5 days, 8 days, 11 days, 21 days, 31 days, and 41 days. In each of Example 2 and Comparative Example 2, a frequency difference ΔF (= Fa−F) with respect to the frequency F on the 0th day was obtained, and a frequency fluctuation amount (ΔF / F) was obtained. The frequency fluctuation of the crystal unit under high-temperature environment storage is a phenomenon called aging deterioration. Aging deterioration is a so-called thermal activation process in which the amount of frequency fluctuation increases as the storage temperature increases. The amount of frequency fluctuation after storage for 21 days corresponds to the amount of frequency fluctuation when one year has passed at room temperature (25 ° C.). With respect to the time-dependent change in the frequency fluctuation amount of the crystal resonator in Example 2 and Comparative Example 2, for the sake of illustration, the time-dependent change in the frequency fluctuation amount is shown in FIG. ) And FIG. 14 (Comparative Example 2).

実施例2における水晶振動子は、21日経過時点において、10個の振動子パッケージの平均周波数変動量は、−2.3ppmであり、各々の振動子パッケージ間の周波数変動量のばらつきは、±0.7ppmであった。一方比較例2における水晶振動子は、21日経過時点において、10個の振動子パッケージの平均周波数変動量は、−3ppmであり、各々の振動子パッケージ間の周波数変動量のばらつきは、±2.0ppmであった。更に実施例2においては21日目以降において、周波数変動量や周波数変動量のばらつきが変動していないが、比較例2においては、周波数変動量及び周波数変動量のばらつきは共に大きくなっていた。   In the crystal resonator of Example 2, the average frequency variation amount of the ten resonator packages is −2.3 ppm when 21 days have elapsed, and the variation in the frequency variation amount between the respective resonator packages is ± It was 0.7 ppm. On the other hand, in the crystal resonator of Comparative Example 2, the average frequency fluctuation amount of the ten vibrator packages is −3 ppm when 21 days have elapsed, and the variation in the frequency fluctuation amount between the vibrator packages is ± 2 0.0 ppm. Further, in Example 2, the frequency fluctuation amount and the variation in the frequency fluctuation amount have not changed after the 21st day, but in the comparative example 2, both the frequency fluctuation amount and the variation in the frequency fluctuation amount are large.

この結果によれば、実施例2における水晶振動子は、比較例2における水晶振動子よりも、各々の振動子パッケージ間において、経時変化に伴う周波数変動量のばらつきが小さいことが分かる。これは、実施例2においては、励振電極の表面にBiが偏析しており、このBiの層により、ガスの吸着や酸化が抑制され経時変化が小さくなったと推察される。   According to this result, it can be seen that the crystal resonator in Example 2 has a smaller variation in the amount of frequency variation with time between each resonator package than the crystal resonator in Comparative Example 2. This is presumed that in Example 2, Bi was segregated on the surface of the excitation electrode, and this Bi layer suppressed gas adsorption and oxidation, and the change with time was small.

1 水晶振動子
2 容器
4 密着層
5 下地層
6 導電性接着剤
10 水晶片
30 主電極層
31、32 励振電極
50 Biの原子
51 Biの層
1 Crystal resonator 2 Container
4 Adhesive Layer 5 Underlayer 6 Conductive Adhesive 10 Crystal Piece 30 Main Electrode Layers 31, 32 Excitation Electrode 50 Bi Atom 51 Bi Layer

Claims (5)

圧電片に密着層と、銀を主材料とする主電極層と、をこの順で積層した励振電極が設けられ、当該励振電極を削ることにより周波数調整がされた圧電振動子を容器に気密に封止して構成された電子部品において、
予め前記主電極層と前記密着層との間に設けられ、銀に対して共晶を形成する金属からなる下地層の少なくとも一部が主電極層に拡散され、前記周波数調整後に主電極層の表面に前記金属が偏析した状態となっていることを特徴とする電子部品。
An excitation electrode in which an adhesion layer and a main electrode layer mainly composed of silver are laminated in this order is provided on the piezoelectric piece, and the piezoelectric vibrator whose frequency is adjusted by cutting the excitation electrode is hermetically sealed in the container. In an electronic component configured by sealing,
Preliminarily provided between the main electrode layer and the adhesion layer, and at least part of the base layer made of a metal that forms a eutectic with respect to silver is diffused into the main electrode layer, and after the frequency adjustment, An electronic component characterized in that the metal is segregated on the surface.
前記銀に対して共晶を形成する金属は、イットリウム、セリウム、銅、シリコン、ゲルマニウム、鉛及びビスマスから選ばれる金属であることを特徴とする請求項1記載の電子部品。   2. The electronic component according to claim 1, wherein the metal forming a eutectic with respect to silver is a metal selected from yttrium, cerium, copper, silicon, germanium, lead and bismuth. 銀を主材料とする励振電極が圧電片に設けられた圧電振動子を容器に気密に封止して構成された電子部品の製造方法において、
圧電片に密着層と、銀に対して共晶を形成する金属からなる下地層と、銀を主材料とする主電極層と、をこの順で積層する積層工程と、
その後主電極層の表面を削って圧電振動子の周波数調整を行う工程と、
次に圧電振動子を加熱して、前記金属が主電極層の表面に偏析した状態になった励振電極を得る工程と、を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
In a method of manufacturing an electronic component configured by hermetically sealing a piezoelectric vibrator in which a piezoelectric electrode having an excitation electrode mainly composed of silver provided on a piezoelectric piece is sealed in a container,
A laminating step of laminating an adhesion layer on the piezoelectric piece, a base layer made of a metal that forms a eutectic with silver, and a main electrode layer mainly composed of silver in this order;
Thereafter, the surface of the main electrode layer is shaved to adjust the frequency of the piezoelectric vibrator,
And a step of heating the piezoelectric vibrator to obtain an excitation electrode in which the metal is segregated on the surface of the main electrode layer.
前記積層工程の後、圧電振動子の周波数調整を行う工程の前に、圧電振動子を導電性接着剤により容器に固定し、導電性接着剤を加熱して硬化させる工程を含み、
前記導電性接着剤の加熱により、下地層の少なくとも一部が主電極層中に拡散し、当該主電極層に拡散した前記金属が、前記周波数調整後の圧電振動子の加熱により主電極層の表面に偏析することを特徴とする請求項3記載の電子部品の製造方法。
After the laminating step, before the step of adjusting the frequency of the piezoelectric vibrator, including fixing the piezoelectric vibrator to the container with a conductive adhesive and heating and curing the conductive adhesive,
Due to the heating of the conductive adhesive, at least a part of the base layer diffuses into the main electrode layer, and the metal diffused into the main electrode layer is heated by the piezoelectric vibrator after the frequency adjustment. 4. The method of manufacturing an electronic component according to claim 3, wherein segregation occurs on the surface.
前記周波数調整後に圧電振動子を加熱する工程は、容器を気密に封止するために加熱する工程であることを特徴とする請求項3または4に記載の電子部品の製造方法。   The method of manufacturing an electronic component according to claim 3 or 4, wherein the step of heating the piezoelectric vibrator after the frequency adjustment is a step of heating in order to hermetically seal the container.
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Cited By (1)

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WO2019054349A1 (en) * 2017-09-13 2019-03-21 株式会社村田製作所 Crystal oscillator element and method for producing same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019054349A1 (en) * 2017-09-13 2019-03-21 株式会社村田製作所 Crystal oscillator element and method for producing same
TWI676353B (en) * 2017-09-13 2019-11-01 日商村田製作所股份有限公司 Crystal vibration element and manufacturing method thereof
CN111052602A (en) * 2017-09-13 2020-04-21 株式会社村田制作所 Crystal oscillation element and method for manufacturing same
CN111052602B (en) * 2017-09-13 2023-09-29 株式会社村田制作所 Crystal vibration element and method for manufacturing same

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