JP2017032554A - ひずみゲージ - Google Patents

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Abstract

【課題】
350℃から1050℃の高温を含む高応力環境に耐えることができるひずみゲージを提供する。
【解決手段】
本明細書は、ひずみゲージ(20)及びひずみゲージ(10、20)を製造する方法を開示する。ひずみゲージ(20)は、第1の端部(26)、第2の端部(28)、及び該第1の端部(26)と該第2の端部(28)との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメント(24)を含む。測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置される。測定用長さ部は、第1の断面積を有する。第1の端部(26)及び第2の端部(28)の各々は、第1の断面積よりも大きな断面積を有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ひずみゲージに関し、より具体的には高応力環境にさらされるひずみゲージに関する。
一般に、ひずみゲージは、蛇行パターンに配置された薄箔又はワイヤ等の導体を含む。パターンは、導体が長さ部及びその折り返し部に沿って延在する。これが繰り返されて複数の平行な長さ部を形成するようになっている。
導体は、試験される構成要素の上に位置決めされる。ひずみゲージは、構成要素が導電性の場合、ひずみゲージを構成要素から絶縁する非導電性接着剤で構成要素に取り付けられる。実施形態において、ひずみゲージは、試験される構成要素に取り付けられる非導電性バッキング層を含むことができる。バッキング層は、導電性構成要素をひずみゲージの導電性フィラメントから絶縁する。バッキング層は随意的である。実施形態において、ひずみゲージは、絶縁用接着剤を構成要素の表面に施工し、次にひずみゲージを取り付けることで、構成要素に取り付けることができる。一般に、ひずみゲージは、接着剤又は他の固着手段を用いて試験構成要素に付着されるが、このようなバッキング層は随意的である。
試験構成要素のひずみを特定するために導体の抵抗値を測定する。導体の抵抗値は、圧縮又は引張を受けているか否かに基づいて変化する。圧縮状態の場合、導体の長さが短くなりその厚さが増えるので、抵抗測定値が小さくなる。逆に、引張状態の場合、導体の長さが長くなるその厚さが減るので、抵抗測定値が大きくなる。
ひずみを受けている間の長さ及び厚さの変化は、導体の長さ部の各々に沿って生じる。そのため、抵抗値の変化は、蛇行パターンの長さ部の数によって増加する。従って、パターンは、抵抗測定値の変化を増幅するので、ひずみゲージが非常に敏感になる。
2つのひずみゲージを使用して、全面2Dひずみ場を得ることができる。これを実現するために、2つのひずみゲージは、互いに直交して配置される。この方法の精度を高めるために、他の2つのひずみゲージに対して45度の角度の第3のひずみゲージを含むことができる。これは、各ひずみゲージの間の何らかの位置合わせ不良に対処するものである。
ひずみゲージは、可変抵抗器として機能するので、ホイートストンブリッジの能動アーム(active arm)を形成するために用いられる。この構成により、より高感度かつ正確な測定が可能になる。
一般に、ひずみゲージは、試験構成要素の表面全域でゆっくりと変化するひずみを測定するために用いられ、表面応力は、構成要素の材料の内部に認められるはずの応力を合理的に表す。
高温、高振動、腐食性大気環境、例えばガス又は蒸気タービン環境において、ひずみゲージは頻繁に故障する。1つの故障モードは、ひずみゲージのフィラメント(又はグリッドワイヤ)と接続ワイヤ(又はリードワイヤ)との間の溶着である。
ひずみゲージは、構成要素、例えば、ガス及び/又は蒸気タービン等のターボ機械のバケットのひずみを測定するために使用される。このような構成要素は、高度の振動、高温、及び腐食性大気に曝される。このような構成要素に取り付けられたひずみゲージは、ストレスの多い環境に曝された後で故障する可能性がある。故障モードのタイプは様々であるが、このような条件下でのひずみゲージの故障発生を少なくすることが望ましいであろう。
米国特許第3305816号明細書
本発明の実施形態は、第1の端部、第2の端部、及び該第1の端部と該第2の端部との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメントを含むひずみゲージを備える。測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置される。測定用長さ部は、第1の断面積を有する。第1の端部及び第2の端部の各々は、第1の断面積よりも大きな断面積を有する。
本発明の実施形態は、ひずみゲージを製造する方法を含む。本方法は、導電性フィラメントを準備する段階を含む。導電性フィラメントが、第1の断面積を有する測定用長さ部と、各々が第1の断面積よりも大きな断面積を有する第1の端部及び第2の端部とを有するように、導電性フィラメントを引き抜くか又は延伸させる。測定用長さ部は平面グリッドパターンに形成される。
本発明の実施形態は、第1の端部、第2の端部、及び該第1の端部と該第2の端部との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメントを含むひずみゲージを備える。導電性フィラメントは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された材料で構成される。測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置される。測定用長さ部は、第1の断面積を有する。第1の端部及び第2の端部の各々は、第1の断面積よりも大きな断面積を有する。
上記及び他の特徴要素は、以下の詳細な説明によって例証される。
本発明のこれら及び他の特徴は、本発明の様々な実施形態を示す添付図面を参照して、本発明の種々の態様についての以下の詳細な説明からより容易に理解されるであろう。
従来のひずみゲージの図。 本明細書の種々の実施形態によるひずみゲージの図。 本明細書に記載の実施形態によるひずみゲージを構成するために用いるワイヤの図。
本明細書は、350℃から1050℃の高温を含む高応力環境に耐えることができるひずみゲージを開示する。
図1は、従来のひずみゲージ10を示す。ひずみゲージ10は、グリッドパターンで設けられた導電性ワイヤ14又はフィラメントを含む。実施形態において、グリッドパターンは、導電性ワイヤ14を蛇行パターン(グリッドパターン)でもってポスト12の周りに案内して、テープ(図示せず)を用いてワイヤを所定位置に固定することで形成される。導電性ワイヤ14は、グリッドパターンの端部で16において第1のコネクタ17に溶着される。導電性ワイヤ14は、グリッドパターンの他の端部で16において第2のコネクタ18に溶着される。ひずみゲージは、ポストがひずみゲージの部品ではないので製作後にポスト12から取り外す。溶着部16は、高応力環境で機能しなくなり、ひずみゲージが動作不能になる可能性がある。
図2は、本発明の種々の実施形態によるひずみゲージ20を示す。ひずみゲージ20は、グリッドパターンに設けられた単一の導電性フィラメント24又はワイヤを含む。実施形態において、グリッドパターンは、導電性フィラメント24又は導電性ワイヤを平面蛇行パターン(グリッドパターン)でもってポスト12の周りに案内して、テープ(図示せず)を用いてフィラメントを所定位置に固定することで形成される。導電性フィラメント24は、第1の端部26及び第2の端部28を有する。導電性フィラメント24の測定用長さ部は、点Aを起点とし、ポストの周りで蛇行パターンを辿り、点Bで終わる。蛇行パターンでは、測定用長さ部の複数の平行な長さ部が設けられる。図1の従来技術に示すようなフィラメント又はワイヤをコネクタに溶着する代わりに、図2に示すひずみゲージ20は、単一のワイヤから作られており、端部26及び28は、測定用長さ部(フィラメント24の点Aから点B)の断面積よりも大きな断面積を有する。実施形態において、フィラメント24の断面領域は円形であり、この場合、端部26及び28の直径は測定用長さ部の直径よりも大きい。導電性フィラメント24の端部26及び28よりも断面積が小さな測定長さ部を有する導電性フィラメント24は、ワイヤを引き抜くか又は延伸させることで形成される。
円形断面領域を有する実施形態において、単一導電性フィラメントの測定用長さ部の直径は、約12.7ミクロンから約22.86ミクロン(0.0005から約0.0009インチ)である。実施形態において、第1の端部26の直径は、約25.4ミクロンから約254ミクロン(0.001から約0.01インチ)である。実施形態において、第2の端部28の直径は、約25.4ミクロンから約254ミクロン(0.001から約0.01インチ)である。導電性フィラメント24は、プレス又は圧延して断面を円形からより平らな形状に変えることができる。
ひずみゲージのグリッドパターン又は測定用領域は、図2に示すように幅W及び長さLで規定される。実施形態において、グリッドパターンの幅Wは、約2032ミクロンから約38100ミクロン(0.08インチから約1.5インチ)であり、長さLは、約2032ミクロンから約38100ミクロン(0.08インチから約1.5インチ)である。
実施形態において、ひずみゲージは、随意的にグリッドパターンに取り付けられた絶縁フイルム(図示せず)を含むことができ、又は測定領域の上に高温(350℃から1050℃)テープを配置することができる。測定される構成要素は、構成要素の表面に非導電性接着剤を施工し、次にひずみゲージを接着剤に取り付けることで準備することができる。
高温環境において、フィラメントは、酸化、腐食、軟化、又は破損を進展させることになる何らかの他のプロセスに耐性を示すことができる。高温環境に適した導電性フィラメントは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金等の合金又は金属材料とすることができる。ニッケル/クロム合金は、商標NICHROME(登録商標)、CHROMEL(登録商標)、及びMOLECULOY(登録商標)の下で販売されている。クロム/アルミニウム合金は、商標名HOSKINS(登録商標)で販売されており、Hyndaman Industrial Produsts社から入手できる。
本明細書に記載のひずみゲージを製造するために、フィラメント又はワイヤは、延伸/引き抜き、又は他の類似の方法によって、フィラメントの一部を縮小することで準備することができ、容積は変わらず、長さが長くなるので直径が小さくなる。フィラメントの縮径セクションは測定用長さ部である。ワイヤの両端は、引き抜き加工を受けない。
図3に示すように、ワイヤの引き抜き又は延伸加工は、端部が中間部よりも大きな直径を有するワイヤ24をもたらす。引き抜き加工を受ける導電性フィラメント24の部分は、測定用長さ部MLである。端部26及び28は、最初の直径又は断面積のままである。端部26及び28は、電気メッキプロセス又は類似の方法により、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金等の導電性合金及び金属でメッキを施して、抵抗値を下げることができる。
図3に示すようにフィラメント又はワイヤを引き抜いた後、フィラメント又はワイヤの端部26及び28は、より大きな断面積を有する。図3において、フィラメント24の端部26、28及び測定用長さ部(ML)は正確な縮尺ではない。フィラメントは、図2に示すように、ワイヤをポスト12(図2)の周りまで延ばし、次に反対側の端部のポストまで折り返すことで平らなグリッドパターンに形成される。このプロセスは、フィラメント24の全長の長さがグリッドパターン(測定用長さ部)の長さに一致するように管理され、端部26及び28は、グリッドパターンから離れて延在することができる。グリッドパターンは、所定位置に保持するためにテープ留めされ、ポストから取り外される。次に、ひずみゲージ20を保持するための絶縁表面又はプレートを付加する等のさらなるステップを実施することができる(図2)。
本明細書では様々な実施形態について説明してきたが、これらの実施形態における要素の様々な組合せ、変形又は改良を当業者が行なうことができ、これらもまた本発明の技術的範囲内にあることは、本明細書から理解されるであろう。加えて、本発明の本質的な範囲から逸脱することなく、特定の状況又は物的事項を本発明の教示に適合するように多くの修正を行うことができる。従って、本発明は、本発明を実施するために企図される最良の形態として開示した特定の実施形態に限定されるものではなく、また本発明は、添付の特許請求の範囲の技術的範囲内に属する全ての実施形態を包含することを意図している。
本明細書は、開示される主題の実施例を用いて、あらゆる当業者があらゆるデバイス又はシステムを実施及び利用すること及びあらゆる包含の方法を実施することを含む本発明を実施することを可能にする。本発明の特許保護される範囲は、請求項によって定義され、当業者であれば想起される他の実施例を含むことができる。このような他の実施例は、請求項の文言と差違のない構造要素を有する場合、或いは、請求項の文言と僅かな差違を有する均等な構造要素を含む場合には、本発明の範囲内にあるものとする。
最後に、代表的な実施態様を以下に示す。
[実施態様1]
第1の端部、第2の端部、及び該第1の端部と該第2の端部との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメントを備える、ひずみゲージであって、
上記測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置され、上記測定用長さ部は、第1の断面積を有し、
上記第1の端部及び上記第2の端部の各々は、上記第1の断面積よりも大きな断面積を有する、
ひずみゲージ。
[実施態様2]
上記測定用長さ部は、約12.7ミクロンから約22.86ミクロンの直径を有する、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様3]
上記第1の端部は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様4]
上記第2の端部は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様5]
上記平面蛇行パターンに取り付けられた絶縁フイルムをさらに備える、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様6]
上記平面蛇行パターンに取り付けられたテープをさらに備え、上記テープは、350℃から1050℃の温度に耐えることができる、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様7]
上記蛇行パターンは、約2032ミクロンから約38100ミクロンの幅W、及び約2032ミクロンから約38100ミクロンの長さLを有する測定用領域を形成する、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様8]
上記単一導電性フィラメントは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択される材料で構成される、実施態様1に記載のひずみゲージ。
[実施態様9]
ひずみゲージを製造する方法であって、
導電性フィラメントを準備する段階と、
上記導電性フィラメントが、第1の断面積を有する測定用長さ部と、各々が上記第1の断面積よりも大きな断面積を有する第1の端部及び第2の端部とを有するように、上記導電性フィラメントを引き抜くか又は延伸させる段階と、
上記測定用長さ部を平面グリッドパターンに形成する段階と、
を含む方法。
[実施態様10]
上記平面グリッドパターンを絶縁層又は絶縁テープに取り付ける段階をさらに含む、実施態様9に記載の方法。
[実施態様11]
上記第1の端部及び上記第2の端部に、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された導電性材料をメッキする段階をさらに含む、実施態様9に記載の方法。
[実施態様12]
上記導電性フィラメントは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された材料で構成される、実施態様10に記載の方法。
[実施態様13]
上記測定用長さ部は、約12.7ミクロンから約22.86ミクロンで直径を有する、実施態様10に記載の方法。
[実施態様14]
第1の端部、第2の端部、及び第1の端部と第2の端部との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメントであって、上記導電性フィラメントが、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された材料で構成される単一導電性フィラメントを備える、ひずみゲージであって、
上記測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置され、上記測定用長さ部は、第1の断面積を有し、
上記第1の端部及び上記第2の端部の各々は、上記第1の断面積よりも大きな断面積を有する、
ひずみゲージ。
[実施態様15]
上記第1の端部は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、実施態様14に記載のひずみゲージ
[実施態様16]
上記第2の端部は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、実施態様14に記載のひずみゲージ。
[実施態様17]
上記蛇行パターンは、約2032ミクロンから約38100ミクロンの幅W、及び約2032ミクロンから約38100ミクロンの長さLを有する測定用領域を形成する、実施態様14に記載のひずみゲージ。
[実施態様18]
上記平面蛇行パターンに取り付けられたテープをさらに備え、上記テープは、350℃から1050℃の温度に耐えることができる、実施態様14に記載のひずみゲージ。
[実施態様19]
上記第1の端部及び上記第2の端部上に電気メッキコーティングをさらに備える、実施態様14に記載のひずみゲージ。
[実施態様20]
上記電気メッキコーティングは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択される、実施態様19に記載のひずみゲージ。
10 ひずみゲージ
12 ポスト
14 導電性ワイヤ
16 溶着
17 第1のコネクタ
18 第2のコネクタ
20 ひずみゲージ
24 導電性フィラメント
26 第1の端部
28 第2の端部

Claims (10)

  1. 第1の端部(26)、第2の端部(28)、及び該第1の端部(26)と該第2の端部(28)との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメント(24)を備える、ひずみゲージ(20)(20)であって、
    前記測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置され、前記測定用長さ部は、第1の断面積を有し、
    前記第1の端部(26)及び前記第2の端部(28)の各々は、前記第1の断面積よりも大きな断面積を有する、
    ひずみゲージ(20)。
  2. 前記測定用長さ部は、約12.7ミクロンから約22.86ミクロンの直径を有する、請求項1に記載のひずみゲージ(20)。
  3. 前記第1の端部(26)は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、請求項1に記載のひずみゲージ(20)。
  4. 前記第2の端部(28)は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、請求項
    前記平面蛇行パターンに取り付けられたテープをさらに備え、前記テープは、350℃から1050℃の温度に耐えることができる、請求項1に記載のひずみゲージ(20)。
  5. 前記単一導電性フィラメント(24)は、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択される材料で構成される、請求項1に記載のひずみゲージ(20)。
  6. ひずみゲージ(20)を製造する方法であって、
    導電性フィラメント(24)を準備する段階と、
    前記導電性フィラメント(24)が、第1の断面積を有する測定用長さ部と、各々が前記第1の断面積よりも大きな断面積を有する第1の端部(26)及び第2の端部(28)とを有するように、前記導電性フィラメント(24)を引き抜くか又は延伸させる段階と、
    前記測定用長さ部を平面グリッドパターンに形成する段階と、
    を含む方法。
  7. 前記第1の端部(26)及び前記第2の端部(28)に、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された導電性材料をメッキする段階をさらに含む、請求項6に記載の方法。
  8. 第1の端部(26)、第2の端部(28)、及び第1の端部(26)と第2の端部(28)との間の測定用長さ部を有する単一導電性フィラメント(24)であって、前記導電性フィラメント(24)が、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択された材料で構成される単一導電性フィラメント(24)を備える、ひずみゲージ(20)であって、
    前記測定用長さ部は、平面蛇行パターンで配置され、前記測定用長さ部は、第1の断面積を有し、
    前記第1の端部(26)及び前記第2の端部(28)の各々は、前記第1の断面積よりも大きな断面積を有する、
    ひずみゲージ(20)。
  9. 前記第1の端部(26)及び前記第2の端部(28)は、約25.4ミクロンから約254ミクロンの直径を有する、請求項8に記載のひずみゲージ(20)
  10. 前記電気メッキコーティングは、ニッケル/クロム合金、プラチナ/ニッケル合金、プラチナ、及びクロム/アルミニウム合金から成るグループから選択される、請求項8に記載のひずみゲージ(20)。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018091705A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 公益財団法人電磁材料研究所 歪抵抗膜および高温用歪センサ、ならびにそれらの製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018075002A1 (en) * 2016-10-17 2018-04-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Filter mesh with incorporated strain gauge
US10989223B2 (en) 2017-02-06 2021-04-27 General Electric Company Coated flange bolt hole and methods of forming the same
JP2019090722A (ja) * 2017-11-15 2019-06-13 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019090723A (ja) * 2017-11-15 2019-06-13 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
US10770206B1 (en) 2019-04-08 2020-09-08 Government Of The United States As Represented By The Secretary Of The Air Force System and method for fabricating a strain sensing device directly on a structure

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB723370A (en) * 1952-07-02 1955-02-09 Horace Jones Improvements in strain gauges
US3105139A (en) * 1958-08-14 1963-09-24 Microdot Inc Strain gages and installation of the same
GB956216A (en) * 1962-10-26 1964-04-22 Dentronics Inc Improvements relating to strain gages and methods of manufacture thereof
US3305816A (en) * 1964-02-08 1967-02-21 Hitachi Ltd Ternary alloy strain gauge
US4050976A (en) * 1976-01-27 1977-09-27 Bofors America, Inc. Strain gage application
US4104605A (en) * 1976-09-15 1978-08-01 General Electric Company Thin film strain gauge and method of fabrication
FR2915494B1 (fr) * 2007-04-30 2009-07-24 Snecma Sa Procede pour realiser un depot d'alumine sur un substrat recouvert de sic
US9464948B2 (en) * 2012-02-29 2016-10-11 Wake Forest University Strain gauge and applications thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018091705A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 公益財団法人電磁材料研究所 歪抵抗膜および高温用歪センサ、ならびにそれらの製造方法

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