JP2017027705A - Connector terminal and manufacturing method therefor - Google Patents

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幹朗 佐藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connector terminal capable of suppressing exposure of a metal base material caused by plating crack at a bend.SOLUTION: A connector terminal 1 has a bend 11 formed by bending. The connector terminal 1 has a metal base material 101 composed of a Cu-Fe-based alloy, a base plating layer 102 formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material 101, and a surface plating layer 103 formed on the surface of the base plating layer 102.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、コネクタ用端子およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a connector terminal and a manufacturing method thereof.

従来、自動車等の車両の分野では、PCB(Print Circuit Board)等に適用される基板コネクタや中継コネクタなどのコネクタにコネクタ用端子が使用されている(特許文献1参照)。コネクタ用端子は、一般に、曲げ加工により形成された曲げ部を有している。この種のコネクタ用端子としては、例えば、黄銅等の銅合金よりなる金属母材と、金属母材の表面に形成されたSnめっき層よりなる表面めっき層とを有するものが知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of vehicles such as automobiles, connector terminals are used for connectors such as board connectors and relay connectors applied to PCBs (Print Circuit Boards) (see Patent Document 1). The connector terminal generally has a bent portion formed by bending. As this type of connector terminal, for example, one having a metal base material made of a copper alloy such as brass and a surface plating layer made of an Sn plating layer formed on the surface of the metal base material is known.

特開2004−319338号公報JP 2004-319338 A

近年、コネクタ全体の軽量化、小型化および低コスト化等のために、より高い剛性を有するとともに、材料コストを低減できるコネクタ用端子が望まれている。そこで、材料強度が高く、材料コストの低い銅合金として、CuにFeを添加したCu−Fe系合金をコネクタ用端子の金属母材として用いることが考えられる。   In recent years, there has been a demand for a connector terminal that has higher rigidity and can reduce material costs in order to reduce the weight, size, and cost of the entire connector. Therefore, it is conceivable to use a Cu—Fe alloy in which Fe is added to Cu as a metal base material of a connector terminal as a copper alloy having high material strength and low material cost.

しかしながら、Cu−Fe系合金よりなる金属母材は、表面めっき層を形成する際に、めっき液との接触により金属母材に含まれるFeが溶出するという問題がある。これを防止するため、表面めっき層を形成する前に、下地めっき層としてNiめっき層を形成することが考えられる。   However, a metal base material made of a Cu—Fe-based alloy has a problem that Fe contained in the metal base material is eluted by contact with the plating solution when the surface plating layer is formed. In order to prevent this, it is conceivable to form a Ni plating layer as a base plating layer before forming the surface plating layer.

ところが、Niめっきは、Snめっき等に比べ、硬いめっきである。そのため、Niめっき処理後、金属母材に曲げ加工が施されて曲げ部が形成されると、曲げ部にめっき割れが発生し、金属母材が露出する。曲げ部のめっき割れがそのまま放置されると、金属母材にFeが含まれているため、腐食雰囲気下等で錆が発生しやすくなる。錆は、コネクタ用端子の端子強度の低下や接触電気抵抗の上昇を招くため、好ましくない。   However, Ni plating is harder than Sn plating or the like. Therefore, after the Ni plating process, when the metal base material is bent and a bent portion is formed, plating cracks occur in the bent portion and the metal base material is exposed. If the plating crack in the bent portion is left as it is, rust is likely to occur in a corrosive atmosphere or the like because Fe is contained in the metal base material. Rust is not preferable because it causes a decrease in terminal strength of the connector terminal and an increase in contact electrical resistance.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、曲げ部におけるめっき割れに起因する金属母材の露出を抑制可能なコネクタ用端子を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of the above background, and an object of the present invention is to provide a connector terminal capable of suppressing exposure of a metal base material due to plating cracks in a bent portion.

本発明の一態様は、曲げ加工により形成された曲げ部を有するコネクタ用端子であって、
Cu−Fe系合金よりなる金属母材と、
該金属母材の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる下地めっき層と、
該下地めっき層の表面に形成された表面めっき層と、
を有するコネクタ用端子にある。
One aspect of the present invention is a connector terminal having a bent portion formed by bending,
A metal base material made of a Cu-Fe alloy;
A base plating layer formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material;
A surface plating layer formed on the surface of the base plating layer;
It is in the terminal for connectors having.

本発明の他の態様は、上記コネクタ用端子の製造方法であって、
上記Cu−Fe系合金よりなる線材の表面、または、上記Cu−Fe系合金よりなる板材の打ち抜き体の表面に上記Ni系めっき層を形成する第1めっき工程と、
上記Ni系めっき層を熱処理することにより、上記下地めっき層を形成する熱処理工程と、
上記下地めっき層の表面に上記表面めっき層を形成する第2めっき工程と、
得られた端子材料に曲げ加工を施し、上記曲げ部を形成する曲げ工程と、
を有するコネクタ用端子の製造方法にある。
Another aspect of the present invention is a method of manufacturing the connector terminal,
A first plating step of forming the Ni-based plating layer on the surface of the wire material made of the Cu-Fe-based alloy or the surface of the punched body of the plate material made of the Cu-Fe-based alloy;
A heat treatment step of forming the base plating layer by heat-treating the Ni-based plating layer;
A second plating step for forming the surface plating layer on the surface of the base plating layer;
Bending process to bend the obtained terminal material to form the bent portion,
In the manufacturing method of the connector terminal which has.

上記コネクタ用端子は、金属母材の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる下地めっき層を有している。この下地めっき層は、熱処理されていない電析状態のままのNiめっき層よりなる下地めっき層に比べ、伸び性に優れる。これは、熱処理により、電析組織からNi系めっき粒子が粒成長し、伸び性の向上(軟質化)が認められる金属組織に変化しているためであると考えられる。そのため、上記コネクタ用端子は、曲げ加工によって曲げ部が形成された際に、下地めっき層にめっき割れが生じ難い。それ故、上記コネクタ用端子は、曲げ部におけるめっき割れに起因する金属母材の露出を抑制することができる。その結果、上記コネクタ用端子は、腐食雰囲気下等で錆が発生し難く、錆による端子強度の低下や接触電気抵抗の上昇を抑制することができる。   The connector terminal has a base plating layer formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material. This base plating layer is excellent in extensibility compared with the base plating layer which consists of the Ni plating layer with the electrodeposition state which is not heat-processed. This is considered to be because Ni-plated particles grow from the electrodeposited structure by heat treatment and change to a metal structure in which improvement in elongation (softening) is observed. Therefore, when the bent portion is formed by bending, the connector terminal is less likely to cause plating cracks in the base plating layer. Therefore, the connector terminal can suppress exposure of the metal base material due to plating cracks in the bent portion. As a result, the connector terminal is less likely to rust in a corrosive atmosphere or the like, and can suppress a decrease in terminal strength and an increase in contact electrical resistance due to rust.

上記コネクタ用端子の製造方法は、上記各工程を有している。そのため、曲げ部におけるめっき割れに起因する金属母材の露出を抑制可能な上記コネクタ用端子を好適に製造することができる。   The manufacturing method of the connector terminal includes the steps described above. Therefore, it is possible to suitably manufacture the connector terminal that can suppress the exposure of the metal base material caused by the plating crack in the bent portion.

実施例1のコネクタ用端子の模式的な外観図である。1 is a schematic external view of a connector terminal of Example 1. FIG. 実施例1のコネクタ用端子の断面の一部を模式的に示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a part of a cross section of the connector terminal according to the first embodiment. 実験例における、試験片1Sの走査型電子顕微鏡写真である。It is a scanning electron micrograph of test piece 1S in an experimental example. 実験例における、試験片2Sの走査型電子顕微鏡写真である。It is a scanning electron micrograph of the test piece 2S in an experiment example.

上記コネクタ用端子について説明する。上記コネクタ用端子は、例えば、PCBに適用される基板コネクタ用端子として用いることができる。   The connector terminal will be described. The connector terminal can be used, for example, as a board connector terminal applied to a PCB.

上記コネクタ用端子は、曲げ加工により形成された曲げ部を有している。曲げ部は、具体的には、90°曲げ加工されて形成された90°曲げ部とすることができる。熱処理されていない電析状態のままのNiめっき層よりなる下地めっき層を有する場合、90°曲げ加工されると、曲げ部にて下地めっき層の割れが発生しやすい。これに対し、上記コネクタ用端子は、Ni系めっき層が熱処理されてなる下地めっき層を有しているので、90°曲げ加工された場合でも、曲げ部における下地めっき層の割れを抑制しやすい。そのため、この構成によれば、90°曲げ加工が施される基板コネクタ用端子としての有用性が高まる。上記コネクタ用端子は、例えば、「L字状」の端子形状を呈することができる。また、上記コネクタ用端子は、例えば、ピン形状を呈することができる。   The connector terminal has a bent portion formed by bending. Specifically, the bent portion can be a 90 ° bent portion formed by 90 ° bending. In the case of having a base plating layer made of an Ni plating layer that has not been heat-treated, if it is bent by 90 °, cracking of the base plating layer tends to occur at the bent portion. On the other hand, since the connector terminal has a base plating layer formed by heat-treating the Ni-based plating layer, it is easy to suppress cracking of the base plating layer in the bent portion even when it is bent by 90 °. . Therefore, according to this structure, the usefulness as a board | substrate connector terminal in which a 90 degree bending process is given increases. The connector terminal can have, for example, an “L-shaped” terminal shape. Moreover, the said connector terminal can exhibit pin shape, for example.

上記コネクタ用端子において、金属母材は、Cu−Fe系合金からなる。具体的には、Cu−Fe系合金は、10〜70質量%のFeを含有することができる。より具体的には、Cu−Fe系合金は、10〜70質量%のFeを含有し、残部がCuおよび不可避不純物からなる構成とすることができる。   In the connector terminal, the metal base material is made of a Cu-Fe alloy. Specifically, the Cu—Fe-based alloy can contain 10 to 70% by mass of Fe. More specifically, the Cu—Fe-based alloy can contain 10 to 70% by mass of Fe, with the balance being Cu and inevitable impurities.

Cu−Fe系合金は、Fe含有量が多くなるほど強度が高くなる傾向がある。そのため、Fe含有量を10質量%以上とすることにより、コネクタ用端子に要求される強度を十分に満足することができる。また、Fe含有量を10質量%以上とすることにより、従来のコネクタ用端子に使用されている銅合金よりも材料コストを低減しやすくなる。それ故、端子強度をより高くし、材料コストをより低減する観点から、Fe含有量は、好ましくは、10質量%以上、より好ましくは15質量%以上、さらに好ましくは、20質量%以上とすることができる。   Cu-Fe-based alloys tend to have higher strength as the Fe content increases. Therefore, the intensity | strength requested | required of the connector terminal can fully be satisfied by making Fe content into 10 mass% or more. Moreover, it becomes easier to reduce material cost than the copper alloy currently used for the terminal for connectors by making Fe content into 10 mass% or more. Therefore, from the viewpoint of increasing the terminal strength and further reducing the material cost, the Fe content is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and further preferably 20% by mass or more. be able to.

一方、Feは、Cuに比べて導電率が低い。そのため、Fe含有量が過度に多くなると、コネクタ用端子の導電性が悪くなるおそれがある。また、Fe含有量が過度に多くなると、曲げ加工性が悪化するため、曲げ加工に伴って金属母材に割れが生じるおそれが高くなる。これらの観点から、Fe含有量は、好ましくは70質量%以下、より好ましくは65質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下とすることができる。   On the other hand, Fe has a lower conductivity than Cu. Therefore, when the Fe content is excessively large, the conductivity of the connector terminal may be deteriorated. Further, when the Fe content is excessively increased, the bending workability is deteriorated, so that there is a high possibility that the metal base material is cracked along with the bending process. From these viewpoints, the Fe content is preferably 70% by mass or less, more preferably 65% by mass or less, and still more preferably 60% by mass or less.

上記コネクタ用端子において、下地めっき層は、金属母材の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる。ここで、Ni系めっき層は、具体的には、Niめっき層、および/または、Ni合金めっき層より構成することができる。   In the connector terminal, the base plating layer is formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material. Here, specifically, the Ni-based plating layer can be composed of a Ni plating layer and / or a Ni alloy plating layer.

下地めっき層は、少なくとも曲げ部を覆っておればよい。下地めっき層は、端子表面の全てを覆っていてもよいし、端子表面の全てを覆っていなくてもよい。   The base plating layer should just cover the bending part at least. The base plating layer may cover the entire surface of the terminal or may not cover the entire surface of the terminal.

下地めっき層の厚みは、具体的には、耐食性、コスト等の観点から、好ましくは0.5〜2μm、より好ましくは0.5〜1.5μm、さらに好ましくは0.5〜1.2μmとすることができる。   Specifically, the thickness of the base plating layer is preferably 0.5 to 2 μm, more preferably 0.5 to 1.5 μm, and further preferably 0.5 to 1.2 μm, from the viewpoint of corrosion resistance, cost, and the like. can do.

上記コネクタ用端子において、表面めっき層は、1層または2層以上から構成することができる。表面めっき層は、下地めっき層とは異なるめっき種より形成されている。表面めっき層は、例えば、Sn系めっき層とすることができる。Sn系めっき層は、具体的には、Snめっき層、および/または、Sn合金めっき層より構成することができる。Sn系めっき層は、表面に極薄い酸化膜が存在している。そのため、内部のSnの酸化が抑制される。また、コネクタ用端子が相手端子に嵌合された際に、極薄い酸化膜は破れるため、酸化膜の下のSn系めっきが相手端子の表面めっきと確実に接触することができる、それ故、Sn系めっき層は、接触電気抵抗を低く保つのに有利である。また、Sn系めっき層は、金属母材を腐食や錆から保護する効果もある。それ故、この構成によれば、接触電気抵抗の上昇抑制、腐食や錆等による端子強度の低下抑制の効果を確実なものとすることができる。なお、表面めっき層は、リフロー処理されていてもよい。   In the connector terminal, the surface plating layer may be composed of one layer or two or more layers. The surface plating layer is formed of a plating type different from that of the base plating layer. The surface plating layer can be, for example, a Sn-based plating layer. Specifically, the Sn-based plating layer can be composed of a Sn plating layer and / or a Sn alloy plating layer. The Sn-based plating layer has an extremely thin oxide film on the surface. Therefore, oxidation of internal Sn is suppressed. In addition, when the connector terminal is fitted to the mating terminal, the very thin oxide film is torn, so that the Sn-based plating under the oxide film can reliably contact the surface plating of the mating terminal. The Sn-based plating layer is advantageous for keeping the contact electric resistance low. The Sn-based plating layer also has an effect of protecting the metal base material from corrosion and rust. Therefore, according to this configuration, it is possible to ensure the effect of suppressing the increase in contact electrical resistance and suppressing the decrease in terminal strength due to corrosion, rust, or the like. The surface plating layer may be subjected to a reflow process.

上記コネクタ用端子の製造方法について説明する。上記コネクタ用端子の製造方法は、上述した第1めっき工程と、熱処理工程と、第2めっき工程と、曲げ工程とを有している。   A method for manufacturing the connector terminal will be described. The manufacturing method of the connector terminal includes the first plating step, the heat treatment step, the second plating step, and the bending step.

第1めっき工程において、線材、打ち抜き体は、具体的には、未だ曲げ加工による曲げ部が形成されていない。また、線材、打ち抜き体は、具体的には、例えば、曲げ加工後、所定の端子形状となる大きさに形成される。   In the first plating step, specifically, the wire and the punched body have not yet been formed with a bent portion by bending. Moreover, specifically, a wire and a punching body are formed in the magnitude | size used as a predetermined terminal shape, for example after a bending process.

熱処理工程における熱処理温度としては、例えば、750〜850℃等を例示することができる。また、熱処理時間としては、例えば、0.5〜3時間等を例示することができる。熱処理は、大気雰囲気、窒素雰囲気、水素還元雰囲気等にて実施することができ、Ni系めっきの酸化を抑制する観点から、好ましくは、水素還元雰囲気等の還元雰囲気にて実施することができる。なお、熱処理は、例えば、Ni系めっき層を形成するためのめっきラインと連続して設けられた熱処理ラインにより実施することができる。また、熱処理は、Ni系めっき層を形成した後、バッチ処理にて実施することもできる。   As heat processing temperature in a heat processing process, 750-850 degreeC etc. can be illustrated, for example. Moreover, as heat processing time, 0.5 to 3 hours etc. can be illustrated, for example. The heat treatment can be performed in an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, a hydrogen reducing atmosphere, or the like. From the viewpoint of suppressing oxidation of the Ni-based plating, it can be preferably performed in a reducing atmosphere such as a hydrogen reducing atmosphere. In addition, heat processing can be implemented by the heat processing line provided continuously with the plating line for forming Ni type plating layer, for example. Moreover, heat processing can also be implemented by batch processing, after forming a Ni-type plating layer.

曲げ工程では、具体的には、例えば、コネクタのハウジングに圧入された端子材料を、プレスにて折り曲げ加工することにより、曲げ部を形成することができる。   In the bending step, specifically, for example, a bent portion can be formed by bending a terminal material press-fitted into the housing of the connector with a press.

なお、上述した各構成は、上述した各作用効果等を得るなどのために必要に応じて任意に組み合わせることができる。   In addition, each structure mentioned above can be arbitrarily combined as needed, in order to acquire each effect etc. which were mentioned above.

以下、実施例のコネクタ用端子およびその製造方法について、図面を用いて説明する。   Hereinafter, a connector terminal of an example and a manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings.

(実施例1)
実施例1のコネクタ用端子について、図1および図2を用いて説明する。図1および図2に示されるように、コネクタ用端子1は、曲げ加工により形成された曲げ部11を有している。本例では、コネクタ用端子1は、具体的には、「L字状」の端子形状を呈しており、PCBに適用される基板コネクタ用端子として用いられる。コネクタ用端子1は、より具体的には、曲げ部11を挟んで一方の端部が相手側端子と嵌合される嵌合部12とされ、他方の端部が基板コネクタのスルーホールと電気的に接続される接続部13とされる。なお、本例では、曲げ部11は、90°曲げ加工されて形成された90°曲げ部である。
Example 1
The connector terminal of Example 1 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. As shown in FIGS. 1 and 2, the connector terminal 1 has a bent portion 11 formed by bending. In this example, the connector terminal 1 specifically has an “L-shaped” terminal shape and is used as a board connector terminal applied to a PCB. More specifically, the connector terminal 1 has a fitting portion 12 in which one end portion is fitted to the mating terminal with the bent portion 11 interposed therebetween, and the other end portion is electrically connected to the through hole of the board connector. The connecting portion 13 is connected to the other. In this example, the bent portion 11 is a 90 ° bent portion formed by 90 ° bending.

コネクタ用端子1は、金属母材101と、下地めっき層102と、表面めっき層103とを有している。金属母材101は、Cu−Fe系合金よりなる。本例では、Cu−Fe系合金は、具体的には、Cuを90〜30質量%、Feを10〜70質量%含有している。下地めっき層102は、金属母材101の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる。本例では、Ni系めっき層は、Niめっき層である。また、下地めっき層102の厚みは、例えば、1μmとすることができる。表面めっき層103は、下地めっき層102の表面に形成されている。本例では、表面めっき層103は、Snめっき層である。Snめっき層は、リフロー処理されている。   The connector terminal 1 includes a metal base material 101, a base plating layer 102, and a surface plating layer 103. The metal base material 101 is made of a Cu—Fe based alloy. In this example, the Cu-Fe alloy specifically contains 90 to 30% by mass of Cu and 10 to 70% by mass of Fe. The base plating layer 102 is formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material 101. In this example, the Ni-based plating layer is a Ni plating layer. The thickness of the base plating layer 102 can be set to 1 μm, for example. The surface plating layer 103 is formed on the surface of the base plating layer 102. In this example, the surface plating layer 103 is a Sn plating layer. The Sn plating layer is subjected to a reflow process.

次に、本例のコネクタ用端子の作用効果について説明する。   Next, the effect of the connector terminal of this example will be described.

本例のコネクタ用端子1は、金属母材101の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる下地めっき層102を有している。この下地めっき層102は、熱処理されていない電析状態のままのNiめっき層よりなる下地めっき層に比べ、伸び性に優れる。これは、熱処理により、電析組織からNi系めっき粒子が粒成長し、伸び性の向上(軟質化)が認められる金属組織に変化しているためであると考えられる。そのため、本例のコネクタ用端子1は、曲げ加工によって曲げ部11が形成された際に、下地めっき層102にめっき割れが生じ難い。それ故、本例のコネクタ用端子1は、曲げ部11におけるめっき割れに起因する金属母材101の露出を抑制することができる。その結果、本例のコネクタ用端子1は、腐食雰囲気下等で錆が発生し難く、錆による端子強度の低下や接触電気抵抗の上昇を抑制することができる。   The connector terminal 1 of this example has a base plating layer 102 formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of a metal base material 101. This base plating layer 102 is excellent in extensibility compared with the base plating layer which consists of the Ni plating layer with the electrodeposition state which is not heat-processed. This is considered to be because Ni-plated particles grow from the electrodeposited structure by heat treatment and change to a metal structure in which improvement in elongation (softening) is observed. Therefore, in the connector terminal 1 of this example, when the bent portion 11 is formed by bending, plating cracks are unlikely to occur in the base plating layer 102. Therefore, the connector terminal 1 of this example can suppress the exposure of the metal base material 101 due to the plating crack in the bent portion 11. As a result, the connector terminal 1 of this example is less likely to rust in a corrosive atmosphere or the like, and can suppress a decrease in terminal strength and an increase in contact electrical resistance due to rust.

(実施例2)
実施例2のコネクタ用端子の製造方法について説明する。本例のコネクタ用端子の製造方法は、第1めっき工程と、熱処理工程と、第2めっき工程と、曲げ工程とを有している。なお、以下では、実施例1のコネクタ用端子1を製造する方法として説明を行う。
(Example 2)
A method for manufacturing the connector terminal according to the second embodiment will be described. The manufacturing method of the connector terminal of this example includes a first plating step, a heat treatment step, a second plating step, and a bending step. In addition, below, it demonstrates as a method of manufacturing the terminal 1 for connectors of Example 1. FIG.

第1めっき工程では、Cu−Fe系合金よりなる線材の表面、または、Cu−Fe系合金よりなる板材の打ち抜き体の表面にNi系めっき層が形成される。本例では、電解めっき法にてNi系めっき層が形成される。   In the first plating step, a Ni-based plating layer is formed on the surface of a wire made of a Cu-Fe-based alloy or a surface of a punched body of a plate material made of a Cu-Fe-based alloy. In this example, the Ni-based plating layer is formed by electrolytic plating.

熱処理工程では、Ni系めっき層が熱処理されることにより、下地めっき層102が形成される。本例では、熱処理温度は、例えば、750〜850℃とされる。熱処理時間は、例えば、0.5〜3時間とされる。なお、熱処理は、水素還元雰囲気にて実施される。   In the heat treatment step, the base plating layer 102 is formed by heat-treating the Ni-based plating layer. In this example, the heat treatment temperature is 750 to 850 ° C., for example. The heat treatment time is, for example, 0.5 to 3 hours. Note that the heat treatment is performed in a hydrogen reduction atmosphere.

第2めっき工程では、下地めっき層102の表面に表面めっき層103が形成される。本例では、表面めっき層103は、具体的には、Snめっき層である。Snめっき層は、電解めっき法により形成された後、リフロー処理が施される。   In the second plating step, the surface plating layer 103 is formed on the surface of the base plating layer 102. In this example, the surface plating layer 103 is specifically a Sn plating layer. The Sn plating layer is formed by an electrolytic plating method and then subjected to a reflow process.

曲げ工程では、得られた端子材料に曲げ加工が施され、曲げ部11が形成される。本例では、圧入等によりコネクタハウジングに保持された端子材料を、プレスにて折り曲げ加工することにより、90°曲げ部が形成される。   In the bending process, the obtained terminal material is subjected to a bending process to form the bent portion 11. In this example, the 90 ° bent portion is formed by bending the terminal material held in the connector housing by press fitting or the like with a press.

次に、本例のコネクタ用端子の製造方法の作用効果について説明する。   Next, the effect of the manufacturing method of the connector terminal of this example will be described.

上記コネクタ用端子の製造方法は、上述した各工程を有している。そのため、曲げ部11におけるめっき割れに起因する金属母材102の露出を抑制可能なコネクタ用端子1を好適に製造することができる。   The manufacturing method of the connector terminal includes the steps described above. Therefore, the connector terminal 1 that can suppress the exposure of the metal base material 102 due to the plating crack in the bent portion 11 can be preferably manufactured.

<実験例>
以下、実験例を用いてより具体的に説明する。
<Experimental example>
Hereinafter, it demonstrates more concretely using an experiment example.

<コネクタ用端子の作製>
後述する曲げ加工後、所定の端子形状となる大きさを有する線材(直径0.6mm)の表面に、電解めっき法を用いて、Niめっき層(厚み1μm)を形成した。線材は、Feを50質量%含有し、残部がCuおよび不可避不純物からなる。
<Production of connector terminals>
After bending, which will be described later, a Ni plating layer (thickness 1 μm) was formed on the surface of a wire (diameter 0.6 mm) having a predetermined terminal shape using an electrolytic plating method. The wire contains 50% by mass of Fe, with the balance being Cu and inevitable impurities.

次いで、上記Niめっき層を有する線材を、水素還元雰囲気下にて850°で2時間熱処理することにより、下地めっき層(厚み1μm)を形成した。   Next, the wire having the Ni plating layer was heat-treated at 850 ° for 2 hours in a hydrogen reduction atmosphere to form a base plating layer (thickness 1 μm).

次いで、上記下地めっき層の表面に、電解めっき法を用いて、Snめっきを施した後、リフロー処理することにより、Snめっき層(厚み1.2μm)を形成した。次いで、上記線材より長さ30mmの端子材料を切り出した。そして、かかる端子材料の一端部を基板コネクタのハウジングに圧入した。その後、ハウジングから露出する端子材料の途中部分を90°に折り曲げることにより、90°曲げ部を形成した。これにより、試料1のコネクタ用端子を得た。   Next, Sn plating was performed on the surface of the base plating layer using an electrolytic plating method, and then a reflow process was performed to form a Sn plating layer (thickness: 1.2 μm). Next, a terminal material having a length of 30 mm was cut out from the wire. Then, one end of the terminal material was press-fitted into the housing of the board connector. Thereafter, a 90 ° bent portion was formed by bending an intermediate portion of the terminal material exposed from the housing to 90 °. As a result, a connector terminal of Sample 1 was obtained.

試料1のコネクタ用端子の作製において、Niめっき層を熱処理することなく、電析状態のNiめっき層をそのまま下地めっき層とした点以外は同様にして、試料2のコネクタ用端子を得た。   In producing the connector terminal of Sample 1, the connector terminal of Sample 2 was obtained in the same manner except that the Ni plating layer in the electrodeposited state was used as the base plating layer as it was without heat-treating the Ni plating layer.

<曲げ部表面の走査型電子顕微鏡観察>
試料1のコネクタ用端子の作製において、Snめっき層を形成しなかった点以外は同様にしてSEM観察用の試験片1Sを作製した。また、試料2のコネクタ用端子の作製において、Snめっき層を形成しなかった点以外は同様にしてSEM観察用の試験片2Sを作製した。
<Scanning electron microscope observation of the bent surface>
A test piece 1S for SEM observation was produced in the same manner except that the Sn plating layer was not formed in the production of the connector terminal of Sample 1. In addition, a test piece 2S for SEM observation was prepared in the same manner except that the Sn plating layer was not formed in the production of the connector terminal of Sample 2.

次いで、各試験片の90°曲げ部の外側表面を走査型電子顕微鏡にて観察した。なお、試験片1Sによれば、90°曲げ部における、Niめっき層が熱処理されてなる下地めっき層を観察することができる。一方、試験片2Sによれば、90°曲げ部における、電析状態のNiめっき層からなる下地めっき層を観察することができる。   Next, the outer surface of the 90 ° bent portion of each test piece was observed with a scanning electron microscope. In addition, according to the test piece 1S, the base plating layer formed by heat-treating the Ni plating layer in the 90 ° bent portion can be observed. On the other hand, according to the test piece 2S, it is possible to observe a base plating layer made of an electrodeposited Ni plating layer in a 90 ° bent portion.

図3に示されるように、試験片1Sでは、90°曲げ部における下地めっき層にめっき割れは見られなかった。これは、下地めっき層の伸び性が向上し、延性が増したため、90°の折り曲げ加工によって下地めっき層が割れなかったためである。これに対し、図4に示されるように、試験片2Sでは、90°曲げ部における下地めっき層にめっき割れが多数確認された。これは、Niめっき層に熱処理が施されていないため、下地めっき層の伸び性が乏しく、90°の折り曲げ加工に耐えられなかったためである。なお、図3に示される左右方向のスジは、金属母材の表面凹凸が下地めっき層の表面に表れたものであり、めっき割れではない。   As shown in FIG. 3, in the test piece 1 </ b> S, no plating crack was observed in the base plating layer in the 90 ° bent portion. This is because the extensibility of the base plating layer was improved and the ductility was increased, so that the base plating layer was not broken by the 90 ° bending process. On the other hand, as shown in FIG. 4, in the test piece 2S, many plating cracks were confirmed in the base plating layer in the 90 ° bent portion. This is because the Ni plating layer is not heat-treated, and therefore the base plating layer has poor stretchability and cannot withstand 90 ° bending. Note that the horizontal streaks shown in FIG. 3 are the surface irregularities of the metal base material appearing on the surface of the base plating layer and are not plating cracks.

上記結果によれば、曲げ部におけるめっき割れに起因する金属母材の露出を抑制可能できるコネクタ用端子が得られることが確認できた。   According to the above results, it was confirmed that a connector terminal capable of suppressing the exposure of the metal base material due to the plating crack in the bent portion was obtained.

以上、本発明の実施例について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲内で種々の変更が可能である。   As mentioned above, although the Example of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said Example, A various change is possible within the range which does not impair the meaning of this invention.

1 コネクタ用端子
11 曲げ部
101 金属母材
102 下地めっき層
103 表面めっき層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Connector terminal 11 Bending part 101 Metal base material 102 Base plating layer 103 Surface plating layer

Claims (4)

曲げ加工により形成された曲げ部を有するコネクタ用端子であって、
Cu−Fe系合金よりなる金属母材と、
該金属母材の表面に形成されたNi系めっき層が熱処理されてなる下地めっき層と、
該下地めっき層の表面に形成された表面めっき層と、
を有するコネクタ用端子。
A connector terminal having a bent portion formed by bending,
A metal base material made of a Cu-Fe alloy;
A base plating layer formed by heat-treating a Ni-based plating layer formed on the surface of the metal base material;
A surface plating layer formed on the surface of the base plating layer;
A connector terminal.
上記表面めっき層は、Sn系めっき層である請求項1に記載のコネクタ用端子。   The connector terminal according to claim 1, wherein the surface plating layer is a Sn-based plating layer. 上記曲げ部は、90°曲げ加工されて形成された90°曲げ部である請求項1または2に記載のコネクタ用端子。   The connector terminal according to claim 1, wherein the bent portion is a 90 ° bent portion formed by 90 ° bending. 請求項1〜3のいずれか1項に記載のコネクタ用端子の製造方法であって、
上記Cu−Fe系合金よりなる線材の表面、または、上記Cu−Fe系合金よりなる板材の打ち抜き体の表面に上記Ni系めっき層を形成する第1めっき工程と、
上記Ni系めっき層を熱処理することにより、上記下地めっき層を形成する熱処理工程と、
上記下地めっき層の表面に上記表面めっき層を形成する第2めっき工程と、
得られた端子材料に曲げ加工を施し、上記曲げ部を形成する曲げ工程と、
を有するコネクタ用端子の製造方法。
It is a manufacturing method of the terminal for connectors given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A first plating step of forming the Ni-based plating layer on the surface of the wire material made of the Cu-Fe-based alloy or the surface of the punched body of the plate material made of the Cu-Fe-based alloy;
A heat treatment step of forming the base plating layer by heat-treating the Ni-based plating layer;
A second plating step for forming the surface plating layer on the surface of the base plating layer;
Bending process to bend the obtained terminal material to form the bent portion,
The manufacturing method of the terminal for connectors which has.
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