JP2017019906A - Thermosetting resin composition, and prepreg, laminate and printed wiring board using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition, and prepreg, laminate and printed wiring board using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2017019906A
JP2017019906A JP2015137250A JP2015137250A JP2017019906A JP 2017019906 A JP2017019906 A JP 2017019906A JP 2015137250 A JP2015137250 A JP 2015137250A JP 2015137250 A JP2015137250 A JP 2015137250A JP 2017019906 A JP2017019906 A JP 2017019906A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular weight
compound
resin composition
thermosetting resin
average molecular
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015137250A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6578773B2 (en
Inventor
浩彰 吉野
Hiroaki Yoshino
浩彰 吉野
真 柳田
Makoto Yanagida
真 柳田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2015137250A priority Critical patent/JP6578773B2/en
Publication of JP2017019906A publication Critical patent/JP2017019906A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6578773B2 publication Critical patent/JP6578773B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition excellent in dielectric property as well as excellent in metal foil adhesion and heat resistance, a prepreg, a laminate and a printed wring board using the same.SOLUTION: A thermosetting resin composition contains: a polyimide curing agent (A) which is a polyimide compound obtained by reacting a maleimide compound (a) having at least 2 N-substituted maleimide compounds in a molecule, an aniline compound (b) having 2 aromatic amino groups in a molecule and an aminophenol compound (c) having an aromatic amino group and at least an aromatic hydroxyl group in a molecule, making the component (a) excess over the components (b) and (c), and has specific weight average molecular weight defined by a concept as binding degree; an epoxy resin (B); and a styrene-maleic acid copolymer (C). The binding degree satisfies the following relationship of binding degree=weight average molecular weight/preparing average molecular weight.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は誘電特性に優れ、なおかつ金属箔接着性及び耐熱性に優れた、熱硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたプリプレグ、積層板、プリント配線板に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition having excellent dielectric properties and excellent metal foil adhesion and heat resistance, and a prepreg, a laminate and a printed wiring board using the same.

熱硬化性樹脂は、その特有な架橋構造が高い耐熱性や寸法安定性を発現するため、電子部品などの高い信頼性を要求される分野において広く使われている。特に、銅張積層板や層間絶縁材料においては、近年の高密度化への要求から、微細配線形成のための高い銅箔接着性や、ドリル又は打ち抜きにより穴あけ等の加工をする際の加工性も必要とされる。また近年、鉛フリーはんだによる電子部品の搭載により、従来のものよりも高い耐熱性が必要になってきている。   Thermosetting resins are widely used in fields that require high reliability, such as electronic parts, because their unique cross-linked structure exhibits high heat resistance and dimensional stability. In particular, in copper-clad laminates and interlayer insulation materials, due to the recent demand for higher density, high copper foil adhesion for fine wiring formation and workability when drilling or punching is performed. Is also needed. In recent years, the mounting of electronic components by lead-free solder has required higher heat resistance than conventional ones.

また携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー及びルーター等のネットワーク関連電子機器、並びに大型コンピュータ等では、低損失かつ高速で、大容量の情報を伝送し、処理することが要求されている。大容量の情報を伝送し、処理する場合、電気信号が高周波数の方が高速に伝送し、処理することができる。ところが、電気信号は、基本的に高周波になればなるほど減衰しやすくなる。すなわちより短い伝送距離で出力が弱くなりやすく、損失が大きくなりやすい性質を有する。したがって、上述の低損失かつ高速との要求を満たすためには、機器に搭載された、伝送し処理を行うプリント配線板自体の特性において、誘電特性(比誘電率、誘電正接)、特に高周波帯域での誘電特性の向上が求められている。   In addition, mobile communication devices such as mobile phones, their base station devices, network-related electronic devices such as servers and routers, and large computers, etc. transmit and process large amounts of information with low loss and high speed. Is required. When transmitting and processing large volumes of information, electrical signals can be transmitted and processed faster at higher frequencies. However, the electrical signal basically becomes easier to attenuate as the frequency becomes higher. In other words, the output tends to be weak at a shorter transmission distance, and the loss tends to increase. Therefore, in order to satisfy the above-described requirements for low loss and high speed, the dielectric characteristics (relative permittivity, dielectric loss tangent), particularly the high frequency band, in the characteristics of the printed wiring board itself that transmits and processes are installed in equipment. There is a need for improved dielectric properties.

低伝送損失のプリント配線板を得るために、従来、比誘電率及び誘電正接の低いフッ素系樹脂を使用した基板材料が使用されてきた。しかしながら、フッ素系樹脂は一般に溶融温度及び溶融粘度が高く、その流動性が比較的低いため、プレス成形時に高温高圧条件を設定する必要があるという問題点がある。しかも、上記の通信機器、ネットワーク関連電子機器及び大型コンピュータ等に使用される高多層のプリント配線板用途として使用するには、加工性、寸法安定性及び金属めっきとの接着性が不充分であるという問題点がある。   In order to obtain a printed wiring board with low transmission loss, conventionally, a substrate material using a fluorine-based resin having a low relative dielectric constant and a low dielectric loss tangent has been used. However, since the fluorine-based resin generally has a high melting temperature and melt viscosity and relatively low fluidity, there is a problem that it is necessary to set high-temperature and high-pressure conditions during press molding. In addition, the processability, dimensional stability, and adhesion to metal plating are insufficient for use as a high-layer printed wiring board used in the above-mentioned communication equipment, network-related electronic equipment, large computers, and the like. There is a problem.

そこで、フッ素系樹脂に替わる、高周波用途に対応するためのプリント配線板用樹脂材料に関する数々の研究がなされている。その中でも耐熱性が高く誘電特性が比較的優れるマレイミド基を含有する樹脂を使用した特許が数多く報告されている。分子内にマレイミド基を二つ含有するビスマレイミドは熱を加えることにより、分子同士で自己重合することで高い耐熱性を有した樹脂を形成することが知られている。   Therefore, many studies have been made on resin materials for printed wiring boards that can be used for high-frequency applications instead of fluororesins. Among them, many patents using a resin containing a maleimide group having high heat resistance and relatively excellent dielectric properties have been reported. It is known that a bismaleimide containing two maleimide groups in a molecule forms a resin having high heat resistance by self-polymerization between molecules by applying heat.

ビスマレイミド化合物は、誘電特性、難燃性、耐熱性に優れる熱硬化性樹脂用の硬化剤であるが、公知のビスマレイミド化合物はエポキシ樹脂との硬化反応性を有さないため、エポキシ硬化系の熱硬化性樹脂にそのまま使用した場合、耐熱性が不足する問題があった。すなわち、有機溶媒を使用せずに加熱混練によりビスマレイミド化合物とアミノフェノールの付加物を製造し、使用するという熱硬化性樹脂に関する事例(例えば、特許文献1、特許文献2参照)が開示されているが、ビスマレイミド化合物とアミノフェノールの付加物の収率が低く、これらを銅張積層板又は層間絶縁材料として使用すると、耐熱性、加工性等が不足する。   Bismaleimide compounds are curing agents for thermosetting resins that have excellent dielectric properties, flame retardancy, and heat resistance, but since known bismaleimide compounds do not have curing reactivity with epoxy resins, epoxy curing systems When used as it is in the thermosetting resin, there is a problem that the heat resistance is insufficient. That is, a case relating to a thermosetting resin in which an adduct of a bismaleimide compound and an aminophenol is produced and used by heat kneading without using an organic solvent (for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2) is disclosed. However, the yield of an adduct of a bismaleimide compound and aminophenol is low, and when these are used as a copper clad laminate or an interlayer insulating material, heat resistance, workability, etc. are insufficient.

また、特許文献3、特許文献4等にシアネート樹脂とアラルキル変性エポキシ樹脂を必須成分として含有する熱硬化性樹脂に関する事例が開示されているが、必須成分であるシアネート樹脂は靭性や硬化反応性に劣る樹脂であるため、この熱硬化性樹脂の硬化反応性や強靭性の改良が依然不足しており、これらを銅張積層板や層間絶縁材料として使用した場合も、耐熱性や信頼性、加工性等が不足する。   Moreover, although the example regarding the thermosetting resin which contains cyanate resin and an aralkyl modified epoxy resin as an essential component is disclosed by patent document 3, patent document 4, etc., cyanate resin which is an essential component is toughness and hardening reactivity. Because it is an inferior resin, the improvement in curing reactivity and toughness of this thermosetting resin is still insufficient, and even when these are used as copper clad laminates or interlayer insulation materials, heat resistance, reliability, processing Sexuality is insufficient.

また、特許文献5に有機溶媒を使用せずに製造されるビスマレイミド化合物とアミノ安息香酸の付加物、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド縮合物等を使用する熱硬化性樹脂に関する事例が開示されているが、熱分解温度が低く、近年要求される鉛フリーはんだへの耐熱性、銅付き耐熱性が不足する。   Further, Patent Document 5 discloses a case relating to a thermosetting resin using an adduct of a bismaleimide compound and an aminobenzoic acid produced without using an organic solvent, a benzoguanamine formaldehyde condensate, and the like. The temperature is low, and the heat resistance to lead-free solder and the heat resistance with copper are insufficient in recent years.

また、特許文献6にビスマレイミド化合物と酸性置換基を有するアミノ化合物との反応物、及びジシアンジアミドとスチレン−無水マレイン酸共重合体を使用する樹脂組成物に関する事例が開示されているが、ジシアンジアミドの有機溶媒に対する溶解性が悪く、樹脂組成物内で析出物が発生するリスクが大きい。また誘電特性及び銅箔接着性も、咋今の情報通信分野において、求められる特性を満足してはいない。   Patent Document 6 discloses an example of a reaction product of a bismaleimide compound and an amino compound having an acidic substituent, and a resin composition using a dicyandiamide and a styrene-maleic anhydride copolymer. The solubility with respect to an organic solvent is bad, and there is a large risk that precipitates are generated in the resin composition. In addition, dielectric properties and copper foil adhesion do not satisfy the required properties in the current information and communication field.

特公昭63−34899号公報Japanese Patent Publication No. 63-34899 特開平6−32969号公報JP-A-6-32969 特開2002−309085号公報JP 2002-309085 A 特開2002−348469号公報JP 2002-348469 A 特公平6−8342号公報Japanese Patent Publication No. 6-8342 特開2008−111096号公報JP 2008-111096 A

本発明の目的は、こうした現状に鑑み、金属箔接着性、耐熱性、難燃性、誘電特性に優れた熱硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板を提供することである。   In view of the current situation, an object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition excellent in metal foil adhesion, heat resistance, flame retardancy, and dielectric properties, and a prepreg, a laminate and a printed wiring board using the same. It is to be.

本発明は以下ものに関する。
[1] 下記一般式(I)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(a)と、下記一般式(II)に示す1分子中に2個の芳香族アミノ基を有するアニリン化合物(b)と、下記一般式(III)に示す1分子中に1個の芳香族性アミノ基と少なくとも1個の芳香族ヒドロキシル基を有するアミノフェノール化合物(c)とを用い、(a):(b):(c)=4.0:0.1〜1.0:0.1〜1.0モルの割合で反応させて得られるポリイミド化合物であるポリイミド硬化剤(A)、エポキシ樹脂(B)及びスチレン−マレイン酸共重合体(C)を含有する、熱硬化性樹脂組成物であって、前記ポリイミド化合物は、下記式で表される結合度が7.0を超えないように反応させて得られたポリイミド化合物である、熱硬化性樹脂組成物。
[数1]
結合度=重量平均分子量/仕込み平均分子量
(式中、重量平均分子量は、ポリイミド化合物の重量平均分子量の測定値であり、仕込み平均分子量は、仕込み時の原料各成分(a)、(b)及び(c)の分子量にそれぞれの成分のモル比をかけて足し合わせ、仕込み量1モル当たりの分子量に換算したときの値である)
The present invention relates to the following.
[1] A maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the following general formula (I), and two aromatic compounds in one molecule represented by the following general formula (II) An aniline compound (b) having an amino group, and an aminophenol compound (c) having one aromatic amino group and at least one aromatic hydroxyl group in one molecule represented by the following general formula (III) Used, (a) :( b) :( c) = 4.0: 0.1-1.0: A polyimide curing agent (polyimide curing agent obtained by reacting at a ratio of 0.1 to 1.0 mol ( A), a thermosetting resin composition containing an epoxy resin (B) and a styrene-maleic acid copolymer (C), wherein the polyimide compound has a degree of bond represented by the following formula of 7.0. Polyimide compound obtained by reacting so as not to exceed In it, a thermosetting resin composition.
[Equation 1]
Degree of bond = weight average molecular weight / charge average molecular weight (wherein, the weight average molecular weight is a measured value of the weight average molecular weight of the polyimide compound, and the charge average molecular weight is determined based on the components (a), (b) and (It is a value when the molecular weight of (c) is multiplied by the molar ratio of each component and added, and converted to a molecular weight per mole of charge)

Figure 2017019906
(式中Arは一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基である)
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 1 is a residue represented by the general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4)).

Figure 2017019906
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 2017019906
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and p is an integer of 0 to 4)

Figure 2017019906
(式中、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、Aは炭素数1〜5のアルキレン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。
Figure 2017019906
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by 1-5 alkylene groups, ether groups, or sulfonyl groups.

Figure 2017019906
(式中、nは1〜10の整数である。)
Figure 2017019906
(In the formula, n is an integer of 1 to 10.)

Figure 2017019906
Figure 2017019906

Figure 2017019906
(式中、Arは一般式(II−1)、(II−2)に示す残基である。)
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 2 is a residue represented by the general formulas (II-1) and (II-2).)

Figure 2017019906
(式中、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017019906
Wherein R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4 .)

Figure 2017019906
(式中、R、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、u、v、wは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017019906
(Wherein R 6 , R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and u, v and w each independently represent It is an integer from 0 to 4.)

Figure 2017019906
(式中、Arは一般式(III−1)で示される残基である。)
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 3 is a residue represented by the general formula (III-1).)

Figure 2017019906
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、xは0〜4の整数である)
Figure 2017019906
(Wherein R 9 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and x is an integer of 0 to 4)

[2] 結合度が3.8〜6.9となるように反応させて得られたポリイミド化合物である上記[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[3] 前記マレイミド化合物(a)と、アニリン化合物(b)と、アミノフェノール化合物(c)とを、(a):(b):(c)=4.0:0.4〜1.0:0.2〜0.6の割合として反応させてポリイミド化合物を得る上記[1]又は[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4] 得られたポリイミド化合物の重量平均分子量が1,000〜2,500である上記[1]〜[3]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[5] (C)成分のスチレン−マレイン酸共重合体の重量平均分子量が1,000〜50,000であり、一般式(V)で表されるモノマー単位数n2に対する一般式(IV)で表されるモノマー単位数n1の比、n1/n2が1.0〜6.0である上記[1]〜[4]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[2] The thermosetting resin composition according to the above [1], which is a polyimide compound obtained by reacting so that the degree of bond is 3.8 to 6.9.
[3] The maleimide compound (a), the aniline compound (b), and the aminophenol compound (c) are converted into (a) :( b) :( c) = 4.0: 0.4 to 1.0. : The thermosetting resin composition according to the above [1] or [2], wherein a polyimide compound is obtained by reacting at a ratio of 0.2 to 0.6.
[4] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the obtained polyimide compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 2,500.
[5] The styrene-maleic acid copolymer of component (C) has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, and is represented by the general formula (IV) with respect to the number of monomer units n2 represented by the general formula (V). The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the ratio of the number of monomer units n1 and n1 / n2 is 1.0 to 6.0.

Figure 2017019906
(式中、R10、R11はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、フェニル基、又は置換フェニル基を示す。ただし、R10、R11のうち少なくとも1個はフェニル基又は置換フェニル基である。)
Figure 2017019906
(Wherein R 10 and R 11 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group. However, at least one of R 10 and R 11 is It is a phenyl group or a substituted phenyl group.)

Figure 2017019906
Figure 2017019906

[6] さらに、硬化促進剤(F)を含有する上記[1]〜[5]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。 [6] The thermosetting resin composition according to any one of [1] to [5], further including a curing accelerator (F).

[7] 上記[1]〜[6]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を用いたプリプレグ。
[8] 上記[7]に記載のプリプレグを用いて積層成形した積層板。
[9] 上記[8]に記載の積層板を用いて製造されたプリント配線板。
[7] A prepreg using the thermosetting resin composition according to any one of [1] to [6].
[8] A laminate obtained by lamination using the prepreg according to [7].
[9] A printed wiring board manufactured using the laminated board according to [8].

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、金属箔接着性、耐熱性及び誘電特性に優れ、また毒性が低く安全性、作業環境性に優れる。従って、該熱硬化性樹脂組成物、あるいはこの熱硬化性樹脂組成物により調製したプリプレグを用いて積層成形して得られた積層板は、プリント配線板として、電子部品等に好適に使用することができる。   The thermosetting resin composition of the present invention is excellent in metal foil adhesion, heat resistance, and dielectric properties, has low toxicity, and is excellent in safety and work environment. Therefore, the laminated board obtained by laminate molding using the thermosetting resin composition or a prepreg prepared from the thermosetting resin composition should be suitably used as an electronic component as a printed wiring board. Can do.

次に本発明について詳細に説明する。   Next, the present invention will be described in detail.

本発明は、特定の方法により反応させて得られたポリイミド化合物を硬化剤として用い、このポリイミド硬化剤(A)と、エポキシ樹脂(B)と、スチレン−マレイン酸共重合体(C)とを含有する熱硬化性樹脂組成物である。   This invention uses the polyimide compound obtained by making it react by a specific method as a hardening | curing agent, this polyimide hardening | curing agent (A), an epoxy resin (B), and a styrene-maleic acid copolymer (C). It is a thermosetting resin composition to contain.

まず、熱硬化性樹脂組成物を構成する(A)成分の特定の方法により反応させて得られたポリイミド化合物のポリイミド硬化剤について説明する。
ポリイミド硬化剤であるポリイミド化合物は、1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(a)と、1分子中に2個の芳香族アミノ基を有するアニリン化合物(b)と、1分子中に1個の芳香族アミノ基と少なくとも1個のヒドロキシル基を有するアミノフェノール化合物(c)との各成分を、特定の割合となるように仕込み、そして、後述するように「結合度」により特定する重量平均分子量となるように反応させることにより製造したものである。
First, the polyimide curing agent of the polyimide compound obtained by making it react with the specific method of (A) component which comprises a thermosetting resin composition is demonstrated.
The polyimide compound which is a polyimide curing agent includes a maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule, an aniline compound (b) having two aromatic amino groups in one molecule, and Each component of the aminophenol compound (c) having one aromatic amino group and at least one hydroxyl group in one molecule is charged in a specific ratio, and “bond” as described later. It is produced by reacting to a weight average molecular weight specified by “degree”.

ポリイミド化合物を合成するために用いる(a)成分のマレイミド化合物は、一般式(I)で表される化合物である。

Figure 2017019906
式中のArは、以下の一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基である。 The maleimide compound of component (a) used for synthesizing the polyimide compound is a compound represented by the general formula (I).
Figure 2017019906
Ar 1 in the formula is a residue represented by the following general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4).

Figure 2017019906
式中のRは水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、pは0〜4の整数であり、Rとしては水素原子もしくは炭素数1〜2の脂肪族炭化水素基で、pは0〜1であることが好ましく、Rは水素原子であることがさらに好ましい。
Figure 2017019906
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, p is an integer of 0 to 4, and R 1 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon having 1 to 2 carbon atoms. In the group, p is preferably 0 to 1 , and R 1 is more preferably a hydrogen atom.

Figure 2017019906
式中のR及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、Aは炭素数1〜5のアルキレン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基であり、これらのうちでも、R、Rとしては水素原子であることが好ましい。また、Aとしては、アルキレン基であることが好ましく、炭素数が1のメチレンであることがさらに好ましい。
Figure 2017019906
In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, q and r are each independently an integer of 0 to 4, and A 1 has 1 carbon atom. 5 alkylene group, a residue represented by an ether group, or a sulfonyl group, among them, it is preferred as R 2, R 3 is a hydrogen atom. A 1 is preferably an alkylene group, and more preferably methylene having 1 carbon.

Figure 2017019906
式中のnは1〜10の整数であり、1〜2であることが好ましい。
Figure 2017019906
N in a formula is an integer of 1-10, and it is preferable that it is 1-2.

Figure 2017019906
Figure 2017019906

上記の一般式(I)で表される1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(a)としては、例えば、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミド、具体的なものとしては大和化成工業株式会社製BMI−2000、BMI−2300(商品名)等が挙げられる。   Examples of the maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the above general formula (I) include 4,4′-diphenylmethane bismaleimide and m-phenylene bismaleimide. Bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, polyphenylmethane maleimide, specific Examples of such products include BMI-2000 and BMI-2300 (trade name) manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.

これらの中で反応性が高く、高耐熱化が期待できる4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ポリフェニルメタンマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミドが好ましく、溶剤への溶解性という観点からはポリフェニルメタンマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミドが好ましく、安価である点からは4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミドが好ましい。   Among these, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, polyphenylmethane maleimide, and bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, which are highly reactive and can be expected to have high heat resistance, are preferable. From the viewpoint of solubility in a solvent, polyphenylmethane maleimide Bisphenol A diphenyl ether bismaleimide is preferred, and 4,4′-diphenylmethane bismaleimide is preferred because it is inexpensive.

(b)成分のアニリン化合物は、一般式(II)で表される化合物である。

Figure 2017019906
式中のArは、一般式(II−1)、(II−2)に示す残基である。 The aniline compound as the component (b) is a compound represented by the general formula (II).
Figure 2017019906
Ar 2 in the formula is a residue represented by the general formulas (II-1) and (II-2).

Figure 2017019906
式中のR及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数であり、R、Rとしては、水素原子もしくは炭素数1〜2の脂肪族炭化水素基であり、s、tは共に0〜1であることが好ましく、R及びRは、水素原子であることがさらに好ましい。
Figure 2017019906
R 4 and R 5 in the formula each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4. R 4 and R 5 are each a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms, s and t are preferably 0 to 1, and R 4 and R 5 are each a hydrogen atom. More preferably.

Figure 2017019906
式中のR、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、u、v、wは各々独立に0〜4の整数であり、R、R、Rとしては、水素原子であることが好ましい。
Figure 2017019906
R 6 , R 7 and R 8 in the formula each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and u, v and w are each independently 0 It is an integer of -4, and it is preferable that it is a hydrogen atom as R < 6 >, R < 7 >, R < 8 >.

一般式(II)で示されるアニリン化合物(b)としては、例えば、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン等が挙げられ、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼンが硬化物の誘電正接が小さい点から好ましい。   Examples of the aniline compound (b) represented by the general formula (II) include 3,3′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, 1 , 4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene, and the like, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis [1- (4-aminophenyl) -1- Methylethyl] benzene is preferred because the cured product has a low dielectric loss tangent.

(c)成分のアミノフェノール化合物は、一般式(III)で表される化合物である。

Figure 2017019906
式中のArは、一般式(III−1)で示される残基が挙げられる。 The (c) component aminophenol compound is a compound represented by the general formula (III).
Figure 2017019906
Ar 3 in the formula includes a residue represented by the general formula (III-1).

Figure 2017019906
式中のRは、水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、xは0〜4の整数であり、Rとしては、水素原子もしくは炭素数1〜2の脂肪族炭化水素基で、xは0〜1であることが好ましく、Rは水素原子であることがさらに好ましい。
Figure 2017019906
R 9 in the formula represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, x is an integer of 0 to 4, and R 9 is a hydrogen atom or an aliphatic group having 1 to 2 carbon atoms. In the hydrocarbon group, x is preferably 0 to 1, and R 9 is more preferably a hydrogen atom.

一般式(III)で表されるアミノフェノール化合物(c)としては、例えばp−アミノフェノール、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、4−アミノ−3−メチルフェノール、4−アミノ−2,3−ジメチルフェノール等が挙げられる。これらの中で、反応性が高く、安価である点からp−アミノフェノールが好ましい。   Examples of the aminophenol compound (c) represented by the general formula (III) include p-aminophenol, o-aminophenol, m-aminophenol, 4-amino-3-methylphenol, 4-amino-2,3. -Dimethylphenol etc. are mentioned. Of these, p-aminophenol is preferred because of its high reactivity and low cost.

本発明で用いるポリイミド化合物は、上記の(a)から(c)の各成分を反応させることにより、マレイミド基にアミノ基が付加した反応生成物を得るものである。この反応を行う際に、本発明では、マレイミド化合物(a)成分の比率を多くし、ある程度、出発原料のマレイミド化合物(a)を残した状態のまま、多少反応した状態で反応を止めること、要するに、あまり反応させずにポリイミド化合物の結合度が大きくならない状態の反応生成物が得られるように反応させることが必要である。
これにより、得られるポリイミド化合物は高い耐熱性を有する自己重合基(マレイミド基の不飽和結合)を残したまま、ポリイミド化合物をエポキシ基の硬化剤として使用することができ、その結果、このポリイミド化合物を硬化剤として用いた熱硬化性樹脂組成物の耐熱性やガラス転移温度及び誘電特性を向上させることができる。
The polyimide compound used in the present invention obtains a reaction product in which an amino group is added to a maleimide group by reacting the components (a) to (c). In carrying out this reaction, in the present invention, the ratio of the maleimide compound (a) component is increased, and the reaction is stopped in a somewhat reacted state while leaving the starting maleimide compound (a) to some extent, In short, it is necessary to carry out the reaction so as to obtain a reaction product in a state in which the degree of bonding of the polyimide compound does not increase without causing much reaction.
As a result, the polyimide compound obtained can be used as a curing agent for the epoxy group while leaving the self-polymerized group (unsaturated bond of maleimide group) having high heat resistance, and as a result, this polyimide compound The heat resistance, glass transition temperature, and dielectric properties of the thermosetting resin composition using as a curing agent can be improved.

このようなポリイミド化合物を製造する際の反応の程度は、具体的には、次式で規定される「結合度」により特定することができ、この結合度が7.0を超えないように反応させて、ポリイミド化合物を得ることが好ましく、6.9以下とすることがより好ましく、5.7以下とすることがさらに好ましい。なお、下限値としては、1より大きいものであるが、3.0以上とすることが好ましく、3.5以上とすることがより好ましく、3.8以上とすることがさらに好ましい。
[数2]
結合度=重量平均分子量/仕込み平均分子量

ここで、式中、分子の「重量平均分子量」は、後述するように、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた測定したポリイミド化合物の重量平均分子量である。
また、分母の「仕込み平均分子量」は、仕込み時の原料各成分(a)、(b)及び(c)の分子量にそれぞれの成分のモル比をかけて足し合わせ、仕込み量1モル当たりの分子量に換算したときの分子量の値である。
仕込み平均分子量は、具体的には、次のようにして算出される。
(a)、(b)及び(c)の各化合物の分子量を、それぞれMW、MW及びMWとし、反応に際しての仕込み量を、それぞれ、m、m及びmモルとすると、
仕込み平均分子量=(MW×m+MW×m+MW×m)/(ma++m
と計算される値である。
なお、仕込みを分割して行う場合であっても、一連の合成反応における各成分の総量により求めることができる。また、各成分において、2種類以上の化合物を用いた場合には、個々の化合物について、それぞれ同様に計算することにより算出することになる。
Specifically, the degree of reaction in producing such a polyimide compound can be specified by the “bonding degree” defined by the following formula, and the reaction is performed so that the bonding degree does not exceed 7.0. It is preferable to obtain a polyimide compound, more preferably 6.9 or less, and still more preferably 5.7 or less. The lower limit is greater than 1, but is preferably 3.0 or more, more preferably 3.5 or more, and even more preferably 3.8 or more.
[Equation 2]
Degree of binding = weight average molecular weight / prepared average molecular weight

Here, in the formula, the “weight average molecular weight” of the molecule is the weight average molecular weight of the polyimide compound measured using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) as described later.
In addition, the “preparation average molecular weight” of the denominator is obtained by adding the molecular weight of each component (a), (b) and (c) of the raw material at the time of preparation and adding the molar ratio of each component, and adding the molecular weight per mole of the charge. It is the value of molecular weight when converted to.
Specifically, the charged average molecular weight is calculated as follows.
When the molecular weight of each compound of (a), (b) and (c) is MW a , MW b and MW c , respectively, and the charged amounts in the reaction are m a , mb and mc mol, respectively,
Charged average molecular weight = (MW a × m a + MW b × m b + MW c × m c ) / (m a + m b + m c )
Is the calculated value.
Even when the preparation is performed in a divided manner, it can be obtained from the total amount of each component in a series of synthesis reactions. In addition, when two or more kinds of compounds are used in each component, each compound is calculated by calculating in the same manner.

このようにして算出された仕込み平均分子量に対して、反応させて得られるポリイミド化合物の重量平均分子量をGPCにより経時的にモニターし、結合度が7.0を超えない範囲で、反応を終了させて、ポリイミド化合物を得る。反応時間としては、反応スケール、反応条件などにより一概にはいえないが、実施例、比較例のような実験条件では、2〜6時間程度が好ましいものであった。   The weight average molecular weight of the polyimide compound obtained by the reaction with respect to the charged average molecular weight calculated in this way is monitored over time by GPC, and the reaction is terminated within a range where the degree of binding does not exceed 7.0. To obtain a polyimide compound. The reaction time cannot be generally specified depending on the reaction scale, reaction conditions, and the like, but in the experimental conditions such as Examples and Comparative Examples, about 2 to 6 hours was preferable.

本発明で用いるポリイミド化合物を合成する上では、出発原料のマレイミド化合物(a)をある程度残した状態のままにしておくことが必要であることから、各成分の配合量も重要である。
ポリイミド化合物の合成において、1分子中に2個の芳香族アミノ基を有するアニリン化合物(b)の使用量は、マレイミド化合物(a)のモル数を1とすると、アニリン化合物(b)のモル数が、0.025〜0.25の範囲で使用されることが好ましく、0.1〜0.25の範囲で使用されることがさらに望ましい。モル数が0.025以下になるとポリイミド化合物の保存安定性が低下することがあり、0.25以上であると耐熱性、電気特性が低下することがある。
In synthesizing the polyimide compound used in the present invention, since it is necessary to leave the starting maleimide compound (a) to some extent, the blending amount of each component is also important.
In the synthesis of the polyimide compound, the amount of the aniline compound (b) having two aromatic amino groups in one molecule is the number of moles of the aniline compound (b) when the number of moles of the maleimide compound (a) is 1. Is preferably used in the range of 0.025 to 0.25, and more preferably in the range of 0.1 to 0.25. When the number of moles is 0.025 or less, the storage stability of the polyimide compound may be lowered, and when it is 0.25 or more, the heat resistance and electrical characteristics may be lowered.

また、この合成において、1分子中に1個の芳香族アミノ基と少なくとも1個の芳香族ヒドロキシ基を有するアミノフェノール化合物(c)の使用量はマレイミド化合物(a)のモル数を1とすると、アミノフェノール化合物(c)のモル数が0.025〜0.25の範囲で使用されることが好ましく、0.05〜0.15の範囲で使用されることがさらに望ましい。0.025以下になると、反応性が低下することがあり、0.25以上であると耐熱性、誘電特性が低下することがある。   In this synthesis, the amount of the aminophenol compound (c) having one aromatic amino group and at least one aromatic hydroxy group in one molecule is defined so that the number of moles of the maleimide compound (a) is 1. The aminophenol compound (c) is preferably used in the range of 0.025 to 0.25, more preferably in the range of 0.05 to 0.15. When it is 0.025 or less, the reactivity may be lowered, and when it is 0.25 or more, the heat resistance and dielectric properties may be lowered.

ポリイミド化合物の合成において、使用される有機溶媒は特に制限されないが、例えばエタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤、ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤、γ−ブチロラクトン等のエステル系溶剤などが挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。
使用される有機溶媒は、これらの中で溶解性の点からジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残溶剤として残り難いジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。
有機溶媒の使用量は(a)のマレイミド化合物と(b)のアニリン化合物及び(c)のアミノフェノール化合物の総和100質量部あたり、10〜1,000質量部にすることが好ましく、100〜300質量部にすることが特に好ましい。
In the synthesis of the polyimide compound, the organic solvent to be used is not particularly limited, but for example, alcohol solvents such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc. Ketone solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic solvents such as toluene, xylene and mesitylene, nitrogen atom containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone, sulfur atom containing solvents such as dimethyl sulfoxide, γ -Ester solvents, such as butyrolactone, etc. are mentioned, 1 type or 2 types or more can be mixed and used.
Among these solvents, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether, methyl cellosolve, butyl cellosolve, etc. are preferable from the viewpoint of solubility, and they are highly volatile and remain in the prepreg production. More preferred are dimethylacetamide and propylene glycol monomethyl ether, which hardly remain as solvents.
The amount of the organic solvent used is preferably 10 to 1,000 parts by mass per 100 parts by mass of the sum of the maleimide compound (a), the aniline compound (b), and the aminophenol compound (c). It is particularly preferable to use parts by mass.

反応温度は80〜130℃であることで反応が制御しやすく、反応時間の短縮に繋がる。反応時間としては、生産上のコスト及び反応の制御のしやすさの観点から1〜10hrであることが好ましい。
この反応には、必要により任意に反応触媒を使用することができる。反応触媒は特に制限されないが、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン類、メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン等のリン系触媒などが挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用できる。
When the reaction temperature is 80 to 130 ° C., the reaction can be easily controlled, and the reaction time can be shortened. The reaction time is preferably 1 to 10 hours from the viewpoint of production cost and ease of reaction control.
In this reaction, a reaction catalyst can be optionally used as necessary. The reaction catalyst is not particularly limited, and examples thereof include amines such as triethylamine, pyridine and tributylamine, imidazoles such as methylimidazole and phenylimidazole, and phosphorus-based catalysts such as triphenylphosphine. Can be used in combination.

本発明で用いるポリイミド化合物の重量平均分子量は、1,000〜2,500程度にすることが好ましい。重量平均分子量が1,000程度以上であると、溶媒への溶解性が不足するようなことがなく、2,500程度以下であると電気特性が悪化し、耐熱性も悪化するようなこともない。なお重量平均分子量は、溶離液として、テトラヒドロフランを用いたGPCにより測定し、標準ポリスチレン検量線により換算した値である。   The weight average molecular weight of the polyimide compound used in the present invention is preferably about 1,000 to 2,500. When the weight average molecular weight is about 1,000 or more, the solubility in the solvent is not insufficient, and when it is about 2,500 or less, the electrical characteristics are deteriorated and the heat resistance is also deteriorated. Absent. The weight average molecular weight is a value measured by GPC using tetrahydrofuran as an eluent and converted by a standard polystyrene calibration curve.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記のポリイミド化合物であるポリイミド硬化剤(A)と、エポキシ樹脂(B)及びスチレン−マレイン酸共重合体(C)とを含有する。
本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いられるエポキシ樹脂(B)としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であるものが耐熱性の点から好ましく、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、ビフェニル系、ノボラック系、多官能フェノール系、ナフタレン系、脂環式系及びアルコール系等のグリシジルエーテル、グリシジルアミン系並びにグリシジルエステル系エポキシ樹脂などが挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
これらの中で、誘電特性、耐熱性、耐湿性及び銅箔接着性の点からジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が好ましい。
The thermosetting resin composition of this invention contains the polyimide hardening | curing agent (A) which is said polyimide compound, an epoxy resin (B), and a styrene-maleic acid copolymer (C).
The epoxy resin (B) used in the thermosetting resin composition of the present invention is preferably an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule from the viewpoint of heat resistance, for example, bisphenol A type Bisphenol F type, biphenyl type, novolak type, polyfunctional phenol type, naphthalene type, alicyclic type and alcohol type glycidyl ether, glycidyl amine type and glycidyl ester type epoxy resin, etc. The above can be mixed and used.
Among these, dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin and the like from the viewpoint of dielectric properties, heat resistance, moisture resistance and copper foil adhesion A cresol novolac type epoxy resin or the like is preferable.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いられるスチレン−マレイン酸共重合体の(C)成分は、一般式(IV)で示すモノマー単位及び一般式(V)に示すモノマー単位を含む共重合体の樹脂である。   The component (C) of the styrene-maleic acid copolymer used in the thermosetting resin composition of the present invention includes a monomer unit represented by the general formula (IV) and a copolymer comprising the monomer unit represented by the general formula (V). Resin.

Figure 2017019906
式中、R10、R11はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、フェニル基、又は置換フェニル基を示す。ただし、R10、R11のいずれかは、フェニル基又は置換フェニル基である。また、このフェニル基に対する置換基としては、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン等が挙げられる。
Figure 2017019906
In the formula, R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group. However, either R 10 or R 11 is a phenyl group or a substituted phenyl group. Moreover, as a substituent with respect to this phenyl group, a C1-C5 alkyl group, a halogen, etc. are mentioned.

Figure 2017019906
Figure 2017019906

一般式(IV)に示すモノマー単位を構成するモノマーとしては例えば、スチレン、1−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン、クロルスチレン、ブロムスチレン等のスチレン化合物が挙げられる。また、一般式(V)で示されるモノマー単位は、無水マレイン酸から得られる。
一般式(IV)に示すモノマー単位数をn1、一般式(V)のモノマー単位数をn2とした場合、(C)成分の共重合体中のモノマー比率(n1/n2)は、誘電特性やガラス転移温度、耐湿耐熱性、接着性とのバランスを考慮すると、1.0〜6.0が好ましく、3.0〜5.0がさらに好ましい。また、(C)成分の共重合体の重量平均分子量は、耐熱性や機械強度と成型加工性とのバランスを考慮すると、1,000〜50,000であることが好ましく、9,000〜12,000であることがさらに好ましい。なお、重量平均分子量は、溶離液としてテトラヒドロフランを用いたGPCにより測定し、標準ポリスチレン検量線により換算した値である。
また、(C)成分のスチレン−マレイン酸共重合体には、上記のモノマーに加えて、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン等のビニル化合物のモノマーが共重合されていてもよい。
Examples of the monomer constituting the monomer unit represented by the general formula (IV) include styrene compounds such as styrene, 1-methylstyrene, vinyltoluene, dimethylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene. The monomer unit represented by the general formula (V) is obtained from maleic anhydride.
When the number of monomer units shown in the general formula (IV) is n1, and the number of monomer units in the general formula (V) is n2, the monomer ratio (n1 / n2) in the copolymer of the component (C) is a dielectric property or Considering the balance between the glass transition temperature, the moisture and heat resistance, and the adhesiveness, 1.0 to 6.0 is preferable, and 3.0 to 5.0 is more preferable. Further, the weight average molecular weight of the copolymer of component (C) is preferably 1,000 to 50,000, considering the balance between heat resistance and mechanical strength and moldability, and 9,000 to 12 More preferably, it is 1,000. The weight average molecular weight is a value measured by GPC using tetrahydrofuran as an eluent and converted by a standard polystyrene calibration curve.
Moreover, in addition to said monomer, the styrene-maleic acid copolymer of (C) component may be copolymerized with monomers of vinyl compounds such as ethylene, propylene and isobutylene.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、上記の(A)から(C)の成分に加え、無機充填剤(D)を含有させることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物で使用することができる無機充填剤(D)の例としては、シリカ、アルミナ、マイカ、タルク、ガラス短繊維又は微粉末及び中空ガラス、炭酸カルシウム、石英粉末等が挙げられるが、これらの中で、銅箔接着性、耐熱性、難燃性の点からシリカ、アルミナ、マイカ、タルク等が好ましく、高放熱性の点からシリカ、アルミナが特に好ましい。   In addition to the above components (A) to (C), the thermosetting resin composition of the present invention can contain an inorganic filler (D). Examples of the inorganic filler (D) that can be used in the thermosetting resin composition of the present invention include silica, alumina, mica, talc, short glass fiber or fine powder, hollow glass, calcium carbonate, quartz powder, and the like. Among these, silica, alumina, mica, talc and the like are preferable from the viewpoint of copper foil adhesion, heat resistance, and flame retardancy, and silica and alumina are particularly preferable from the viewpoint of high heat dissipation.

また、本発明の熱硬化性樹脂組成物に、難燃性を向上させることを目的に、難燃剤(E)を含有させることもできる。適切な難燃剤を併用することにより、耐熱性や銅箔接着性、高弾性率、低熱膨張率性等の諸特性の低下が少なく、高難燃性を付与することができる。
難燃剤としては熱分解温度が300℃未満の水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、1,3−フェニレンビス(ジ−2,6−キシレニルホスフェート)、リン酸エステル系化合物、ホスファゼン、赤リン等のリン系難燃剤、三酸化アンチモン、モリブデン酸亜鉛等の無機難燃助剤などが挙げられる。臭素や塩素を含有する含ハロゲン系難燃剤は、近年の環境問題から本発明の目的にそぐわない。水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水和物及びトリフェニルホスフィートや1,3−フェニレンビス(ジ−2,6−キシレニルホスフェート)が高いガラス転移温度や誘電特性を発現することができ、望ましい。
Moreover, a flame retardant (E) can also be contained in the thermosetting resin composition of the present invention for the purpose of improving flame retardancy. By using an appropriate flame retardant in combination, it is possible to impart high flame retardancy with little reduction in various properties such as heat resistance, copper foil adhesion, high elastic modulus, and low thermal expansion.
Examples of the flame retardant include metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide having a thermal decomposition temperature of less than 300 ° C., triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, 1,3-phenylenebis (di-2,6-xylate). Nyl phosphate), phosphoric acid ester compounds, phosphazenes, phosphorous flame retardants such as red phosphorus, and inorganic flame retardant aids such as antimony trioxide and zinc molybdate. Halogen-containing flame retardants containing bromine and chlorine are not suitable for the purpose of the present invention due to recent environmental problems. Metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and triphenyl phosphate and 1,3-phenylenebis (di-2,6-xylenyl phosphate) can exhibit high glass transition temperature and dielectric properties. Possible and desirable.

さらに、本発明の熱硬化性樹脂組成物には、硬化促進剤(F)を含有させることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物に用いられる硬化促進剤(F)としては、イミダゾール類及びその誘導体、第三級アミン類及び第四級アンモニウム塩等が挙げられる。その中でもイミダゾール類及びその誘導体が耐熱性や難燃性、銅箔接着性等の点から好ましい。   Furthermore, the thermosetting resin composition of the present invention can contain a curing accelerator (F). Examples of the curing accelerator (F) used in the thermosetting resin composition of the present invention include imidazoles and derivatives thereof, tertiary amines, and quaternary ammonium salts. Among them, imidazoles and derivatives thereof are preferable from the viewpoints of heat resistance, flame retardancy, copper foil adhesion, and the like.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、以上の(A)〜(C)の成分及び必要に応じて(D)〜(F)の各成分を、公知の手段により混合することにより調製できる。混合するに際して、溶剤を用いて希釈混合することもできる。また、調製に際して、上記の成分以外の成分として、熱可塑性樹脂、エラストマー、有機充填材、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの各種添加剤を添加することもできる。
なお、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、プリプレグなどを調製する際には、固形分濃度40〜90質量%程度のワニスの形態で使用することが扱いやすく好ましい。
The thermosetting resin composition of the present invention can be prepared by mixing the above components (A) to (C) and, if necessary, the components (D) to (F) by known means. When mixing, it can also be diluted and mixed using a solvent. In preparation, various additives such as thermoplastic resins, elastomers, organic fillers, ultraviolet absorbers, and antioxidants can be added as components other than the above components.
In addition, when preparing the prepreg etc., it is easy to handle and use the thermosetting resin composition of this invention in the form of a varnish with a solid content density | concentration of about 40-90 mass%.

本発明のプリプレグは、本発明の熱硬化性樹脂組成物を、シート状補強基材に含浸又は塗工し、Bステージ化して得られるものである。このプリプレグは、上記の熱硬化性樹脂組成物を、シート状補強基材に含浸又は塗工し、加熱等により半硬化(Bステージ化)して製造することができる。プリプレグのシート状補強基材として、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質としては、Eガラス、Dガラス、Sガラス及びQガラス等の無機物繊維、ポリイミド、ポリエステル及びテトラフルオロエチレン等の有機繊維、並びにそれらの混合物などが挙げられる。これらの基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット及びサーフェシングマット等の形状を有するが、材質及び形状は、目的とする成形物の用途や性能により選択され、必要により、単独又は2種類以上の材質及び形状を組み合わせることができる。
シート状補強基材の厚さは、特に制限されず、例えば、約0.03〜0.5mmを使用することができ、シランカップリング剤等で表面処理したもの又は機械的に開繊処理を施したものが、耐熱性や耐湿性、加工性の面から好適である。該基材に対する樹脂組成物の付着量が、乾燥後のプリプレグの樹脂含有率で、20〜90質量%となるように、基材に含浸又は塗工した後、通常、100〜200℃の温度で1〜30分加熱乾燥し、半硬化(Bステージ化)させて、本発明のプリプレグを得ることができる。
The prepreg of the present invention is obtained by impregnating or coating the thermosetting resin composition of the present invention on a sheet-like reinforcing base material and forming a B-stage. This prepreg can be produced by impregnating or coating the above-mentioned thermosetting resin composition on a sheet-like reinforcing substrate and semi-curing (B-stage) by heating or the like. The well-known thing used for the laminated board for various electrical insulation materials can be used as a sheet-like reinforcement base material of a prepreg. Examples of the material include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass, and Q glass, organic fibers such as polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene, and mixtures thereof. These base materials have, for example, shapes such as woven fabric, non-woven fabric, robink, chopped strand mat, and surfacing mat, but the material and shape are selected depending on the intended use and performance of the molded product, and if necessary, A single material or two or more materials and shapes can be combined.
The thickness of the sheet-like reinforcing base material is not particularly limited, and for example, about 0.03 to 0.5 mm can be used, and the surface treatment with a silane coupling agent or the like or mechanical fiber opening treatment is performed. What was given is suitable from the surface of heat resistance, moisture resistance, and workability. After impregnating or coating the base material so that the amount of the resin composition attached to the base material is 20 to 90% by mass in terms of the resin content of the prepreg after drying, the temperature is usually 100 to 200 ° C. Can be heated and dried for 1 to 30 minutes and semi-cured (B-stage) to obtain the prepreg of the present invention.

本発明の積層板は、前述の熱硬化性樹脂組成物又はプリプレグを用いて積層成形して得られたものである。例えば、プリプレグを1〜20枚重ね、その片面又は両面に銅及びアルミニウム等の金属箔を配置した構成で積層成形することにより製造することができる。
金属箔は、電気絶縁材料用途で用いるものであれば特に制限されない。成形条件は、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力0.2〜10MPa、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。
また、本発明のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、多層板を製造することもできる。
The laminate of the present invention is obtained by laminate molding using the aforementioned thermosetting resin composition or prepreg. For example, it can be manufactured by stacking 1 to 20 prepregs and laminate-molding them with a configuration in which a metal foil such as copper and aluminum is disposed on one or both sides thereof.
The metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating material applications. The molding conditions can be applied to a laminate for an electrical insulating material and a multilayer board, for example, using a multistage press, a multistage vacuum press, continuous molding, an autoclave molding machine, etc. It can be molded in a range of 10 MPa and a heating time of 0.1 to 5 hours.
Further, the prepreg of the present invention and the inner layer wiring board can be combined and laminated to produce a multilayer board.

本発明のプリント配線板は、本発明の積層板を用いてなるものである。本発明の積層板における絶縁樹脂層の片面又は両面に配置された金属箔を回路加工して製造することができる。例えば、本発明の積層板の導体層を通常のエッチング法によって配線加工し、前述のプリプレグを介して配線加工した積層板を複数積層し、加熱プレス加工することによって一括して多層化した後、ドリル加工又はレーザ加工によるスルーホール又はブラインドビアホールの形成と、メッキ又は導電性ペーストによる層間配線の形成を経て多層プリント配線板も製造することができる。   The printed wiring board of the present invention uses the laminated board of the present invention. The metal foil arrange | positioned on the single side | surface or both surfaces of the insulating resin layer in the laminated board of this invention can be manufactured by circuit-processing. For example, the conductor layer of the laminate of the present invention is subjected to wiring processing by a normal etching method, a plurality of laminates processed by wiring through the above-described prepreg are laminated, and then multilayered by heating press processing, A multilayer printed wiring board can also be manufactured through formation of a through hole or blind via hole by drilling or laser processing and formation of an interlayer wiring by plating or conductive paste.

次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの記載に限定されるものではない。なお、各実施例及び比較例で得られた銅張積層板は、以下の方法により性能を測定、評価した。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these description. In addition, the copper clad laminated board obtained by each Example and the comparative example measured and evaluated the performance with the following method.

(1)重量平均分子量の測定
ポリイミド化合物の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。保持時間5〜11分のピークを利用した。検量線は、標準ポリスチレンキット(PStQuick Kit−L[東ソー株式会社製、商品名])を用いて3次式で近似した。GPCの条件は、以下のとおりである。
測定条件
装置:HLC−8320GPC(東ソー株式会社製、商品名)
カラム:TSKgel SuperHZ2000 + TSKgel SuperHZ
3000(計2本)(東ソー株式会社製、商品名)
カラムサイズ:4.6mmI.D×150mm
ガードカラム:TSKguardcolumn SuperHZ−L
ガードカラムサイズ:4.6mmI.D×20mm
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:10mg/1.3mL
<ポンプ>
サンプル側ポンプ上限圧力:70MPa
サンプル側ポンプ下限圧力:0.1MPa
サンプル側流量:0.35mL/min
リファレンス側ポンプ上限圧力:70MPa
リファレンス側ポンプ下限圧力:0.1MPa
リファレンス側流量比率:等倍
<サンプラ>
チューブボリューム:112μL
注入量:10μL
プレサクションボリューム:150μL
サンプリング速度:5μL/sec
エアーボリューム:1μL
ループボリューム:100μL
<オーブン>
カラムオーブン制御温度:40℃
カラムオーブンガスセンサレベル:300mV
ポンプオーブン制御温度:40℃
ポンプオーブンガスセンサレベル:300mV
<示差屈折検出器>
バランス値:0.00mV
レスポンス:0.50sec
温調温度:40℃
ポラリティ:+
レンジ:256μRIU/FS
(1) Measurement of weight average molecular weight The weight average molecular weight of the polyimide compound was converted from a calibration curve using standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). A peak with a retention time of 5-11 minutes was utilized. The calibration curve was approximated by a cubic equation using a standard polystyrene kit (PStQuick Kit-L [trade name] manufactured by Tosoh Corporation). The conditions for GPC are as follows.
Measuring condition apparatus: HLC-8320GPC (trade name, manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel SuperHZ2000 + TSKgel SuperHZ
3000 (two in total) (trade name, manufactured by Tosoh Corporation)
Column size: 4.6 mm I.D. D x 150mm
Guard column: TSK guard column Super HZ-L
Guard column size: 4.6 mm I.D. D x 20mm
Eluent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 10 mg / 1.3 mL
<Pump>
Sample-side pump upper limit pressure: 70 MPa
Sample side pump lower limit pressure: 0.1 MPa
Sample side flow rate: 0.35 mL / min
Reference side pump upper limit pressure: 70MPa
Reference side pump lower limit pressure: 0.1 MPa
Reference flow rate ratio: 1x <sampler>
Tube volume: 112 μL
Injection volume: 10 μL
Pre-suction volume: 150μL
Sampling rate: 5 μL / sec
Air volume: 1μL
Loop volume: 100 μL
<Oven>
Column oven control temperature: 40 ° C
Column oven gas sensor level: 300mV
Pump oven control temperature: 40 ° C
Pump oven gas sensor level: 300mV
<Differential refraction detector>
Balance value: 0.00mV
Response: 0.50sec
Temperature control temperature: 40 ° C
Polarity: +
Range: 256μRIU / FS

(2)銅箔密着性(銅箔ピール強度)
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬させることにより、5mm幅の銅箔を形成して評価基板を作製し、引張り試験機を用いて、銅箔密着性(銅箔ピール強度(90°))を測定した。
(2) Copper foil adhesion (copper foil peel strength)
By immersing the copper-clad laminate in a copper etching solution, a copper foil having a width of 5 mm is formed to produce an evaluation substrate, and using a tensile tester, copper foil adhesion (copper foil peel strength (90 °)) Was measured.

(3)はんだ耐熱性
25mm角に切断した銅張積層板を288℃のはんだ浴に浮かべ、基板が膨れるまでの時間を測定した(最大30分で、表中、30分を「30:00」と時間表示した)。
(3) Solder heat resistance A copper clad laminate cut to a 25 mm square was floated on a solder bath at 288 ° C., and the time until the substrate expanded was measured (maximum 30 minutes, 30 minutes in the table being “30:00” And time display).

(4)誘電特性(比誘電率Dk、誘電正接Df)
後述するようにして作製した樹脂板より、2mm×85mmの評価基板を作製した。その基板をAglient Technologies社製のネットワークアナライザE8364Bを用い、空洞共振器摂動法により、1GHzでの基板の比誘電率Dk、誘電正接Dfを測定した。
(4) Dielectric characteristics (dielectric constant Dk, dielectric loss tangent Df)
A 2 mm × 85 mm evaluation substrate was prepared from a resin plate prepared as described below. The substrate was measured for relative dielectric constant Dk and dielectric loss tangent Df at 1 GHz by a cavity resonator perturbation method using a network analyzer E8364B manufactured by Agilent Technologies.

(製造例1〜8)
製造例1:ポリイミド化合物(A−1)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:36.7g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら2時間反応させてポリイミド化合物(A−1)の溶液を得た。重量平均分子量は1180であった。
(Production Examples 1-8)
Production Example 1: Production of polyimide compound (A-1) In a reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume of 2 liters, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 4 , 4′-diaminodiphenyl ether: 36.7 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added and reacted for 2 hours while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-1). It was. The weight average molecular weight was 1180.

製造例2:ポリイミド化合物(A−2)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:36.7g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら4時間反応させてポリイミド化合物(A−2)の溶液を得た。重量平均分子量は1770であった。
Production Example 2: Production of polyimide compound (A-2) 4,4'-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 4 mL in a reaction vessel having a volume of 2 liters that can be heated and cooled with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser. , 4′-diaminodiphenyl ether: 36.7 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added and reacted for 4 hours while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-2). It was. The weight average molecular weight was 1770.

製造例3:ポリイミド化合物(A−3)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:36.7g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら6時間反応させてポリイミド化合物(A−3)の溶液を得た。重量平均分子量は2150であった。
Production Example 3: Production of polyimide compound (A-3) 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 4 mL in a reaction vessel having a volume of 2 liters that can be heated and cooled with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser. , 4′-diaminodiphenyl ether: 36.7 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added and reacted for 6 hours while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-3). It was. The weight average molecular weight was 2150.

製造例4:ポリイミド化合物(A−4)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:63.2g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら2時間反応させてポリイミド化合物(A−4)の溶液を得た。重量平均分子量は1270であった。
Production Example 4: Production of polyimide compound (A-4) In a reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume of 2 liters, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 1 , 4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 63.2 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g, and refluxed for 2 hours It was made to react and the solution of the polyimide compound (A-4) was obtained. The weight average molecular weight was 1270.

製造例5:ポリイミド化合物(A−5)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:63.2g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら4時間反応させてポリイミド化合物(A−5)の溶液を得た。重量平均分子量は1910であった。
Production Example 5 Production of Polyimide Compound (A-5) In a reaction vessel having a volume of 2 liters that can be heated and cooled with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 1 , 4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 63.2 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g, and refluxed for 4 hours. It was made to react and the solution of the polyimide compound (A-5) was obtained. The weight average molecular weight was 1910.

製造例6:ポリイミド化合物(A−6)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:63.2g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら6時間反応させてポリイミド化合物(A−6)の溶液を得た。重量平均分子量は2290であった。
Production Example 6 Production of Polyimide Compound (A-6) In a reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume of 2 liters, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 1 , 4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 63.2 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g, and refluxed for 6 hours It was made to react and the solution of the polyimide compound (A-6) was obtained. The weight average molecular weight was 2290.

製造例7:ポリイミド化合物(A−7)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、BMI−2300(大和化成工業株式会社製、商品名、一般式(I−3)で表されるマレイミド化合物であって、n=1〜3のもの、平均分子量、424):350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:18.6g、p−アミノフェノール:11.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:98.0gを入れ、還流させながら4時間反応させてポリイミド化合物(A−7)の溶液を得た。重量平均分子量は1850であった。
Production Example 7: Production of polyimide compound (A-7) BMI-2300 (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., commercial product) in a 2 liter reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume Name, maleimide compound represented by formula (I-3), n = 1-3, average molecular weight, 424): 350 g, 4,4′-diaminodiphenyl ether: 18.6 g, p-amino Phenol: 11.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 98.0 g were added and reacted for 4 hours while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-7). The weight average molecular weight was 1850.

製造例8:ポリイミド化合物(A−8)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、BMI−2300(大和化成工業株式会社製、商品名):350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:32.0g、p−アミノフェノール:11.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:98.0gを入れ、還流させながら4時間反応させてポリイミド化合物(A−8)の溶液を得た。重量平均分子量は2230であった。
Production Example 8: Production of polyimide compound (A-8) BMI-2300 (manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. Name): 350 g, 1,4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 32.0 g, p-aminophenol: 11.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 98.0 g The solution was reacted for 4 hours while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-8). The weight average molecular weight was 2230.

(比較製造例1〜6)
比較製造例1:ポリイミド化合物(A−9)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:22.0g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら1時間反応させてポリイミド化合物(A−9)の溶液を得た。重量平均分子量は650であった。室温に冷却後、ポリイミド化合物(A−9)に析出物が発生した。
(Comparative Production Examples 1-6)
Comparative production example 1: Production of polyimide compound (A-9) In a reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume of 2 liters, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 4,4′-Diaminodiphenyl ether: 22.0 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added and reacted for 1 hour while refluxing to obtain a solution of the polyimide compound (A-9). Obtained. The weight average molecular weight was 650. After cooling to room temperature, a precipitate was generated in the polyimide compound (A-9).

比較製造例2:ポリイミド化合物(A−10)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:37.9g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら1時間反応させてポリイミド化合物(A−10)の溶液を得た。重量平均分子量は850であった。室温に冷却後、ポリイミド化合物(A−10)に析出物が発生した。
Comparative production example 2: Production of polyimide compound (A-10) In a reaction vessel with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a heatable and coolable volume of 2 liters, 4,4'-diphenylmethane bismaleimide: 350 g, 1,4-Bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 37.9 g, p-aminophenol: 13.3 g, and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added while refluxing. It was made to react for time and the solution of the polyimide compound (A-10) was obtained. The weight average molecular weight was 850. After cooling to room temperature, a precipitate was generated in the polyimide compound (A-10).

比較製造例3:ポリイミド化合物(A−11)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド:350g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル:61.78g、p−アミノフェノール:11.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4gを入れ、還流させながら6時間反応させてポリイミド化合物(A−11)の溶液を得た。重量平均分子量は2620であった。
Comparative Production Example 3 Production of Polyimide Compound (A-11) 4,4′-diphenylmethanebis was placed in a reaction vessel with a volume of 2 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Maleimide: 350 g, 4,4′-diaminodiphenyl ether: 61.78 g, p-aminophenol: 11.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 g were added and reacted for 6 hours while refluxing to obtain a polyimide compound (A-11 ) Was obtained. The weight average molecular weight was 2620.

比較製造例4:ポリイミド化合物(A−12)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、BMI−2300(大和化成工業株式会社製、商品名):350g、1,4−ビス[1−(4−アミノフェニル)−1−メチルエチル]ベンゼン:105.28g、p−アミノフェノール:11.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:171.4を入れ、還流させながら6時間反応させてポリイミド化合物(A−12)の溶液を得た。重量平均分子量は3140であった。
Comparative Production Example 4: Production of Polyimide Compound (A-12) BMI-2300 (Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to a reaction vessel with a volume of 2 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Product name): 350 g, 1,4-bis [1- (4-aminophenyl) -1-methylethyl] benzene: 105.28 g, p-aminophenol: 11.3 g and ethylene glycol monomethyl ether: 171.4 was added and reacted for 6 hours while refluxing to obtain a polyimide compound (A-12) solution. The weight average molecular weight was 3140.

比較製造例5:ポリイミド化合物(A−13)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、BMI−2300(大和化成工業株式会社製、商品名):350g、ジェファーミン D−230(HUNTSMAN社製、商品名、ポリオキシプロピレン系のジアミン、平均分子量、230):42.2g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:173.8gを入れ、還流させながら30分間反応させてポリイミド化合物(A−13)の溶液を得た。重量平均分子量は1980であった。
Comparative Production Example 5: Production of polyimide compound (A-13) BMI-2300 (Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to a reaction vessel with a volume of 2 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Product name: 350 g, Jeffamine D-230 (manufactured by HUNTSMAN, product name, polyoxypropylene-based diamine, average molecular weight, 230): 42.2 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene Glycol monomethyl ether: 173.8 g was added and reacted for 30 minutes while refluxing to obtain a solution of polyimide compound (A-13). The weight average molecular weight was 1980.

比較製造例6:ポリイミド化合物(A−14)の製造
温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、BMI−2300(大和化成工業株式会社製、商品名):350g、ジェファーミン D−400(HUNTSMAN社製、商品名、ポリオキシプロピレン系のジアミン、平均分子量、400):73.3g、p−アミノフェノール:13.3g及びエチレングリコールモノメチルエーテル:173.8gを入れ、還流させながら30分間反応させてポリイミド化合物(A−14)の溶液を得た。重量平均分子量は2290であった。
Comparative Production Example 6: Production of polyimide compound (A-14) BMI-2300 (Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added to a reaction vessel with a volume of 2 liters that can be heated and cooled, equipped with a thermometer, a stirrer, and a moisture meter with a reflux condenser. Co., Ltd., trade name): 350 g, Jeffamine D-400 (manufactured by HUNTSMAN, trade name, polyoxypropylene diamine, average molecular weight, 400): 73.3 g, p-aminophenol: 13.3 g and ethylene Glycol monomethyl ether: 173.8 g was added and reacted for 30 minutes while refluxing to obtain a solution of polyimide compound (A-14). The weight average molecular weight was 2290.

上記のポリイミド化合物の製造について、本発明で規定する「結合度」とともに、表1にまとめて示した。

Figure 2017019906
The production of the polyimide compound is shown in Table 1 together with the “degree of bonding” defined in the present invention.
Figure 2017019906

(実施例1〜8、比較例3〜6)
合成したポリイミド化合物(A)、エポキシ樹脂(B)、スチレン−マレイン酸共重合体(C)、硬化促進剤(F)、また希釈溶剤にメチルエチルケトンを使用して表2、3に示す配合割合(質量部)で混合して樹脂分60質量%の均一なワニスを得た。次に、上記ワニスを厚さ0.1mmのEガラスクロスに含浸塗工し、140℃で3〜4分加熱乾燥して樹脂含有量54±2質量%のプリプレグを製造した。さらに、これらのプリプレグを3枚重ね、18μmの電解銅箔を上下に配置し、圧力1.5MPa、温度230℃で60分間プレスを行って銅張積層板を製造した。また製造したプリプレグをビニール袋中で揉み解し、樹脂粉を採取した。その樹脂粉の両面に18μm厚の電解銅箔を配し、圧力1.5MPa、温度230℃で60分間プレスを行い、電解銅箔に挟まれた樹脂板を作製した。次いで、電解銅箔に挟まれた樹脂板から表面の電解銅箔を剥がし、厚さ1mmの樹脂板を得た。
このようにして得られた銅張積層板あるいは樹脂板を用い、前述のようにして銅箔接着性(銅箔ピール強度(90°))、はんだ耐熱性、及び誘電特性〔比誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)〕を評価した。結果を表2、3に示す。
なお、比較製造例1、2で製造したポリイミド化合物(A−9)及び(A−10)では、ポリイミド化合物が室温において析出したため、このポリイミド化合物を用いてワニスを作製することができないことから、熱硬化性樹脂組成物としての評価(比較例1、2)は行わなかった。
ただし、上記比較製造例は、溶剤としてエチレングリコールモノメチルエーテルを用いた場合であるが、他の溶剤を用いることにより、析出を抑えることもでき、ワニスを作製することができることから、ポリイミド化合物が析出するという点から、結合度が2.6以上に特定されるものではない。
(Examples 1-8, Comparative Examples 3-6)
Composition ratios shown in Tables 2 and 3 using the synthesized polyimide compound (A), epoxy resin (B), styrene-maleic acid copolymer (C), curing accelerator (F), and methyl ethyl ketone as a diluent solvent ( To obtain a uniform varnish having a resin content of 60% by mass. Next, the varnish was impregnated and coated on an E glass cloth having a thickness of 0.1 mm and dried by heating at 140 ° C. for 3 to 4 minutes to produce a prepreg having a resin content of 54 ± 2% by mass. Further, three of these prepregs were stacked, 18 μm electrolytic copper foils were placed one above the other, and pressed at a pressure of 1.5 MPa and a temperature of 230 ° C. for 60 minutes to produce a copper clad laminate. Further, the produced prepreg was crushed in a plastic bag, and resin powder was collected. An electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was disposed on both surfaces of the resin powder, and pressing was performed at a pressure of 1.5 MPa and a temperature of 230 ° C. for 60 minutes to prepare a resin plate sandwiched between the electrolytic copper foils. Next, the electrolytic copper foil on the surface was peeled off from the resin plate sandwiched between the electrolytic copper foils to obtain a resin plate having a thickness of 1 mm.
Using the copper-clad laminate or resin plate thus obtained, copper foil adhesion (copper foil peel strength (90 °)), solder heat resistance, and dielectric properties [relative permittivity (Dk ) And dielectric loss tangent (Df)]. The results are shown in Tables 2 and 3.
In addition, in the polyimide compounds (A-9) and (A-10) produced in Comparative Production Examples 1 and 2, since the polyimide compound was precipitated at room temperature, the varnish cannot be produced using this polyimide compound. Evaluation (comparative examples 1 and 2) as a thermosetting resin composition was not performed.
However, although the above comparative production example is a case where ethylene glycol monomethyl ether is used as a solvent, by using other solvents, precipitation can also be suppressed and a varnish can be produced, so that a polyimide compound is precipitated. Therefore, the degree of coupling is not specified to be 2.6 or more.

Figure 2017019906
Figure 2017019906

Figure 2017019906
Figure 2017019906

上記の表2、3に示してある材料は以下の通りである。
エポキシ樹脂(B)
・ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂:HP−7200H(DIC株式会社製、商品名)
スチレン−マレイン酸共重合体(C)
・SMA−EF40(エルフ・アトケム株式会社製、商品名、スチレン/無水マレイン酸比=4/1、平均分子量11,000)
硬化促進剤(F)
・イミダゾール類:P200−H50(三菱化学株式会社製、商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂に対する2−フェニルイミダゾールの付加反応体溶液)
The materials shown in Tables 2 and 3 are as follows.
Epoxy resin (B)
Dicyclopentadiene type epoxy resin: HP-7200H (manufactured by DIC Corporation, trade name)
Styrene-maleic acid copolymer (C)
SMA-EF40 (manufactured by Elf Atchem, trade name, styrene / maleic anhydride ratio = 4/1, average molecular weight 11,000)
Curing accelerator (F)
-Imidazoles: P200-H50 (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name, 2-phenylimidazole addition reactant solution to bisphenol A type epoxy resin)

表2、3から明らかなように本発明の実施例では、誘電特性に優れ、なおかつ銅箔密着性、耐熱性にも優れている積層板及び樹脂板が得られている。これに対して、比較例においては、ポリイミド化合物が析出したり、はんだ耐熱性及び誘電特性で実施例よりも劣るものであった。   As is apparent from Tables 2 and 3, in the examples of the present invention, a laminated board and a resin board having excellent dielectric characteristics and excellent copper foil adhesion and heat resistance are obtained. On the other hand, in the comparative example, the polyimide compound was precipitated, and the solder heat resistance and dielectric properties were inferior to those of the examples.

本発明によれば、誘電特性に優れ、なおかつ銅箔密着性、耐熱性がバランスよく優れる熱硬化性樹脂組成物が得られる。この熱硬化性樹脂組成物を用いて、プリプレグ及び積層板を提供することができ、多層プリント配線板として電子機器などに好適に使用される。   According to the present invention, a thermosetting resin composition having excellent dielectric properties and excellent balance of copper foil adhesion and heat resistance can be obtained. Using this thermosetting resin composition, a prepreg and a laminated board can be provided, and it is suitably used for an electronic device or the like as a multilayer printed wiring board.

Claims (9)

下記一般式(I)に示す1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(a)と、下記一般式(II)に示す1分子中に2個の芳香族アミノ基を有するアニリン化合物(b)と、下記一般式(III)に示す1分子中に1個の芳香族性アミノ基と少なくとも1個の芳香族ヒドロキシル基を有するアミノフェノール化合物(c)とを用い、(a):(b):(c)=4.0:0.1〜1.0:0.1〜1.0モルの割合で反応させて得られるポリイミド化合物であるポリイミド硬化剤(A)、エポキシ樹脂(B)及びスチレン−マレイン酸共重合体(C)を含有する、熱硬化性樹脂組成物であって、前記ポリイミド化合物は、下記式で表される結合度が7.0を超えないように反応させて得られたポリイミド化合物である、熱硬化性樹脂組成物。
[数1]
結合度=重量平均分子量/仕込み平均分子量
(式中、重量平均分子量は、ポリイミド化合物の重量平均分子量の測定値であり、仕込み平均分子量は、仕込み時の原料各成分(a)、(b)及び(c)の分子量にそれぞれの成分のモル比をかけて足し合わせ、仕込み量1モル当たりの分子量に換算したときの値である)
Figure 2017019906
(式中Arは一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−4)で表される残基である)
Figure 2017019906
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、pは0〜4の整数である)
Figure 2017019906
(式中、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、q、rは各々独立に0〜4の整数であり、Aは炭素数1〜5のアルキレン基、エーテル基、又はスルフォニル基で表される残基である。
Figure 2017019906
(式中、nは1〜10の整数である。)
Figure 2017019906
Figure 2017019906
(式中、Arは一般式(II−1)、(II−2)に示す残基である。)
Figure 2017019906
(式中、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、s、tは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017019906
(式中、R、R及びRは各々独立に水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基、メトキシ基、水酸基又はハロゲン原子を示し、u、v、wは各々独立に0〜4の整数である。)
Figure 2017019906
(式中、Arは一般式(III−1)で示される残基である。)
Figure 2017019906
(式中、Rは水素原子、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基を示し、xは0〜4の整数である)
A maleimide compound (a) having at least two N-substituted maleimide groups in one molecule represented by the following general formula (I), and two aromatic amino groups in one molecule represented by the following general formula (II) Using an aniline compound (b) having, and an aminophenol compound (c) having one aromatic amino group and at least one aromatic hydroxyl group in one molecule represented by the following general formula (III): a) :( b) :( c) = polyimide curing agent (A), which is a polyimide compound obtained by reacting at a ratio of 4.0: 0.1 to 1.0: 0.1 to 1.0 mol, A thermosetting resin composition containing an epoxy resin (B) and a styrene-maleic acid copolymer (C), wherein the polyimide compound has a degree of bond represented by the following formula of not more than 7.0. It is a polyimide compound obtained by reacting , A thermosetting resin composition.
[Equation 1]
Degree of bond = weight average molecular weight / charge average molecular weight (wherein, the weight average molecular weight is a measured value of the weight average molecular weight of the polyimide compound, and the charge average molecular weight is determined based on the components (a), (b) and (It is a value when the molecular weight of (c) is multiplied by the molar ratio of each component and added, and converted to a molecular weight per mole of charge)
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 1 is a residue represented by the general formula (I-1), (I-2), (I-3) or (I-4)).
Figure 2017019906
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and p is an integer of 0 to 4)
Figure 2017019906
(In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, q and r each independently represent an integer of 0 to 4, and A 1 represents the number of carbon atoms. It is a residue represented by 1-5 alkylene groups, ether groups, or sulfonyl groups.
Figure 2017019906
(In the formula, n is an integer of 1 to 10.)
Figure 2017019906
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 2 is a residue represented by the general formulas (II-1) and (II-2).)
Figure 2017019906
Wherein R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and s and t are each independently an integer of 0 to 4 .)
Figure 2017019906
(Wherein R 6 , R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a methoxy group, a hydroxyl group or a halogen atom, and u, v and w each independently represent It is an integer from 0 to 4.)
Figure 2017019906
(In the formula, Ar 3 is a residue represented by the general formula (III-1).)
Figure 2017019906
(Wherein R 9 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and x is an integer of 0 to 4)
結合度が3.8〜6.9となるように反応させて得られたポリイミド化合物である請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 1, which is a polyimide compound obtained by reacting so that the degree of bonding is 3.8 to 6.9. 前記マレイミド化合物(a)と、アニリン化合物(b)と、アミノフェノール化合物(c)とを、(a):(b):(c)=4.0:0.4〜1.0:0.2〜0.6の割合として反応させてポリイミド化合物を得る請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The maleimide compound (a), the aniline compound (b), and the aminophenol compound (c) are converted into (a) :( b) :( c) = 4.0: 0.4 to 1.0: 0. The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein a polyimide compound is obtained by reacting at a ratio of 2 to 0.6. 得られたポリイミド化合物の重量平均分子量が1,000〜2,500である請求項1〜3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the obtained polyimide compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 2,500. (C)成分のスチレン−マレイン酸共重合体の重量平均分子量が1,000〜50,000であり、一般式(V)で表されるモノマー単位数n2に対する一般式(IV)で表されるモノマー単位数n1の比、n1/n2が1.0〜6.0である請求項1〜4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure 2017019906
(式中、R10、R11はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、フェニル基、又は置換フェニル基を示す。ただし、R10、R11のうち少なくとも1個はフェニル基又は置換フェニル基である。)
Figure 2017019906
The weight average molecular weight of the component (C) styrene-maleic acid copolymer is 1,000 to 50,000, and is represented by the general formula (IV) with respect to the number of monomer units n2 represented by the general formula (V). The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the ratio of the number of monomer units n1 and n1 / n2 is 1.0 to 6.0.
Figure 2017019906
(Wherein R 10 and R 11 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group. However, at least one of R 10 and R 11 is It is a phenyl group or a substituted phenyl group.)
Figure 2017019906
さらに、硬化促進剤(F)を含有する請求項1〜5のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-5 containing a hardening accelerator (F). 請求項1〜6のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を用いたプリプレグ。   The prepreg using the thermosetting resin composition in any one of Claims 1-6. 請求項7に記載のプリプレグを用いて積層成形した積層板。   A laminate formed by using the prepreg according to claim 7. 請求項8に記載の積層板を用いて製造されたプリント配線板。   The printed wiring board manufactured using the laminated board of Claim 8.
JP2015137250A 2015-07-08 2015-07-08 Thermosetting resin composition and prepreg, laminate, and printed wiring board using the same Active JP6578773B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015137250A JP6578773B2 (en) 2015-07-08 2015-07-08 Thermosetting resin composition and prepreg, laminate, and printed wiring board using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015137250A JP6578773B2 (en) 2015-07-08 2015-07-08 Thermosetting resin composition and prepreg, laminate, and printed wiring board using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017019906A true JP2017019906A (en) 2017-01-26
JP6578773B2 JP6578773B2 (en) 2019-09-25

Family

ID=57887559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015137250A Active JP6578773B2 (en) 2015-07-08 2015-07-08 Thermosetting resin composition and prepreg, laminate, and printed wiring board using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6578773B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019225482A1 (en) * 2018-05-21 2019-11-28 日立化成株式会社 Resin varnish, prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor package

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008041453A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same
JP2008111096A (en) * 2006-10-03 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same
JP2012111930A (en) * 2010-11-01 2012-06-14 Hitachi Chemical Co Ltd Thermocurable resin composition, prepreg using the thermocurable resin composition, laminated plate, and printed wiring board
JP2016017091A (en) * 2014-07-04 2016-02-01 日立化成株式会社 Thermosetting insulation resin composition, and insulation film with support, prepreg, laminate sheet and multilayer printed circuit board each using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008041453A1 (en) * 2006-09-29 2008-04-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same
JP2008111096A (en) * 2006-10-03 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same
JP2012111930A (en) * 2010-11-01 2012-06-14 Hitachi Chemical Co Ltd Thermocurable resin composition, prepreg using the thermocurable resin composition, laminated plate, and printed wiring board
JP2016017091A (en) * 2014-07-04 2016-02-01 日立化成株式会社 Thermosetting insulation resin composition, and insulation film with support, prepreg, laminate sheet and multilayer printed circuit board each using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019225482A1 (en) * 2018-05-21 2019-11-28 日立化成株式会社 Resin varnish, prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor package
JPWO2019225482A1 (en) * 2018-05-21 2021-06-24 昭和電工マテリアルズ株式会社 Resin varnish, prepreg, laminated board, printed wiring board and semiconductor package
JP7452417B2 (en) 2018-05-21 2024-03-19 株式会社レゾナック Resin varnish, prepreg, laminate, printed wiring board and semiconductor package

Also Published As

Publication number Publication date
JP6578773B2 (en) 2019-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11359055B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg, laminate and multilayer printed wiring board
KR101398731B1 (en) Thermosetting resin composition and prepreg and laminate obtained with the same
JP5320699B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg and laminate using the same
JP2018139334A (en) Multilayered printed wiring board, and method for manufacturing multilayered printed wiring board
KR20100105839A (en) Thermosetting resin composition and prepreg and laminate both made with the same
JP5672788B2 (en) Bismaleimide derivative having polyazomethine and method for producing the same, thermosetting resin composition, prepreg and laminate
JP4968044B2 (en) Method for producing polyimide compound, thermosetting resin composition, and prepreg and laminate using the same
JP5499544B2 (en) Thermosetting insulating resin composition, and prepreg, film with resin, laminated board, and multilayer printed wiring board using the same
JP5381438B2 (en) Thermosetting insulating resin composition, and prepreg, film with resin, laminated board, and multilayer printed wiring board using the same
JP2011202171A (en) Thermosetting resin composition, and prepreg and laminate using the same
JP5540494B2 (en) Thermosetting resin composition, and prepreg, laminate and printed wiring board using the same
US11339251B2 (en) Resin composition, resin film, laminate, multilayer printed wiring board and method for producing multilayer printed wiring board
JP2016204639A (en) Resin composition, laminate and multilayer printed board
JP5772189B2 (en) Thermosetting resin composition and prepreg, laminate and wiring board using the same
JP5023877B2 (en) Flame retardant resin compound, thermosetting resin composition using the same, prepreg and laminate
JP2014034630A (en) Thermosetting resin composition, and prepreg and laminate employing the same
JP5266685B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg and laminate using the same
JP5736944B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg and laminate
JP6578773B2 (en) Thermosetting resin composition and prepreg, laminate, and printed wiring board using the same
JP6311922B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg using the same, laminate, and printed wiring board
JP5682664B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg and laminate using the same
JP4784116B2 (en) Cyano group-containing thermosetting benzoxazine resin, thermosetting resin composition and use thereof
JP2017002124A (en) Thermosetting resin composition, and prepreg, laminate and printed wiring board prepared therewith
JP2013237844A (en) Thermosetting resin composition, prepreg using the same, and laminate
JP2018012764A (en) Resin composition, resin layer-attached support, prepreg, laminate, multilayer printed board and printed wiring board for millimeter wave radar

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180523

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190319

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190812

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6578773

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350