JP2017017319A - Substrate for semiconductor and mounting method for semiconductor substrate - Google Patents

Substrate for semiconductor and mounting method for semiconductor substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2017017319A
JP2017017319A JP2016128551A JP2016128551A JP2017017319A JP 2017017319 A JP2017017319 A JP 2017017319A JP 2016128551 A JP2016128551 A JP 2016128551A JP 2016128551 A JP2016128551 A JP 2016128551A JP 2017017319 A JP2017017319 A JP 2017017319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
led chip
semiconductor substrate
electrode pad
electrode pads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016128551A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
登美男 井上
Tomio Inoue
登美男 井上
宮原 隆和
Takakazu Miyahara
隆和 宮原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Elm Co Ltd
Original Assignee
Elm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elm Co Ltd filed Critical Elm Co Ltd
Publication of JP2017017319A publication Critical patent/JP2017017319A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a semiconductor substrate having excellent heat radiation with high productivity for a substrate on which an LED chip or LED device in which large current flows is mounted.SOLUTION: Two main surfaces of an electrode pad 4 of copper are exposed, and the gap between two vertically adjacent electrode pads 4 is insulated by thermosetting white resin 8 on the same plane as the two main surfaces as shown in (a). Therefore, when the interval between the two electrode pads 4 is set to a distance at which the p, n electrodes of a flip chip type LED chip C1 can be mounted, the LED chip C1 can be mounted. When the LED chip C1 is sealed with transparent resin and diced and separated by a dotted line D, an LED device having an electrode terminal of a copper substrate is obtained. Even in a case of a wire bonding type LED chip, one electrode pad may be set as a die bonding pad and the other electrode pad may be set as a wire bonding pad. Furthermore, as shown in (b), since the lateral direction is conducted by a connection metal portion 5 thinner than the electrode pad, for example, an LED device having a protection element Z can be formed by using four electrode pads 4.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、LED照明に用いられるLEDチップやLEDデバイス等の半導体チップ、およびその基板への半導体チップの実装方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor chip such as an LED chip or an LED device used for LED lighting, and a method for mounting the semiconductor chip on the substrate.

近年、大電流を流すLEDチップや、それを用いたLEDデバイスや、それらを用いた照明装置が実用化され、白熱電球や蛍光灯をはじめ、水銀灯やハロゲン灯をも置き換えつつある。そして、このような用途の広がりに伴い、LEDチップやLEDデバイスを実装するための放熱性の良い半導体用基板が、ますます重要になってきている。   In recent years, LED chips that carry a large current, LED devices using the same, and lighting devices using them have been put into practical use, and incandescent bulbs and fluorescent lamps as well as mercury lamps and halogen lamps are being replaced. With such widespread applications, semiconductor substrates with good heat dissipation for mounting LED chips and LED devices are becoming increasingly important.

大電流を流すLEDチップを実装して、LEDデバイスにするための半導体用基板としては、熱伝導率の良いセラミック基板がよく用いられている。セラミックの材料としては、アルミナ(Al23)が一般的であるが、熱伝導率が21W/mK程度で、板厚を0.3mm程度に薄くしても、3W級のLEDチップの放熱を行うためには不充分である。これを補うために、銅のビアホールやインレイを付加することもできるがコストが高くなる。 A ceramic substrate with good thermal conductivity is often used as a semiconductor substrate for mounting an LED chip through which a large current flows to form an LED device. Alumina (Al 2 O 3 ) is generally used as the ceramic material, but the heat conductivity of a 3W class LED chip is about 21 W / mK and the plate thickness is reduced to about 0.3 mm. It is not enough to carry out. To compensate for this, copper via holes and inlays can be added, but the cost increases.

また、更に熱伝導率が高い、たとえば170W/mKの窒化アルミを用いたものは、充分な放熱性を確保できるが、これもコストが高く、また色が黒ずんでいて、発光素子のLEDには適さないといった欠点がある。   In addition, aluminum nitride having a higher thermal conductivity, for example, 170 W / mK, can ensure sufficient heat dissipation, but this is also costly and dark in color. There is a disadvantage that it is not suitable.

これを解消する基板として、特許文献1に示すように、銅板とエポキシ樹脂とで集合基板を形成する例がある。これを図14に示す。この特許文献1に記述されているように、銅板をエッチング等の加工手段によって不要な部分を削除して複数の導電部材60aを形成し、各導電部材60aの隙間にエポキシ樹脂等によって成る絶縁部材60bを充填して一体化した集合基板60を形成する。そして、その集合基板60の上面に、LEDチップが導電部材上に直接ダイスボンドされるような切り抜き孔31cを持つ回路基板を多数個形成した集合回路基板61を、位置決めして熱圧着し、一体化する。   As a substrate for solving this problem, as shown in Patent Document 1, there is an example in which a collective substrate is formed of a copper plate and an epoxy resin. This is shown in FIG. As described in Patent Document 1, an unnecessary part is removed from a copper plate by a processing means such as etching to form a plurality of conductive members 60a, and an insulating member made of epoxy resin or the like in the gaps between the conductive members 60a The integrated substrate 60 filled with 60b is formed. Then, on the upper surface of the collective substrate 60, the collective circuit substrate 61 in which a large number of circuit boards having cutout holes 31c on which the LED chips are directly die-bonded on the conductive member is formed, positioned, thermocompression bonded, and integrated Turn into.

この集合基板60と集合回路基板61との一体化基板は、ワイヤーボンディングタイプのLEDチップ用の基板で、銅の導電部材は放熱用のダイスボンドパッドとなるが、pとnの電極パッドは集合回路基板上に配置されている。この一体化基板では、LEDチップは、銅の導電部材にAgペーストを介して直接ダイスボンドされるので、放熱性は極めて良くなるし、コストも安くなるが、フリップチップタイプのLEDチップには使えない。   The integrated substrate of the collective substrate 60 and the collective circuit substrate 61 is a substrate for a wire bonding type LED chip, and the copper conductive member is a die bond pad for heat dissipation, but the p and n electrode pads are collective. Arranged on the circuit board. In this integrated substrate, the LED chip is directly die-bonded to the copper conductive member via the Ag paste, so that the heat dissipation is extremely improved and the cost is reduced, but it can be used for the flip chip type LED chip. Absent.

一方、大電流を流すLEDデバイスを実装する半導体用(配線)基板としては、照明装置に用いられる放熱性が中程度に良いメタルベース基板が広く用いられている。メタルとしては、熱伝導率の良い銅やアルミが一般的であるが、コストの面で鉄を用いたものもある。熱伝導率とコストの面で、アルミが最も多く使用されている。   On the other hand, as a semiconductor (wiring) substrate on which an LED device that conducts a large current is mounted, a metal base substrate having a moderate heat dissipation property used in a lighting device is widely used. As the metal, copper or aluminum having good thermal conductivity is generally used, but there is also one using iron in terms of cost. Aluminum is most often used in terms of thermal conductivity and cost.

アルミベース基板の構造は、厚さ約1.5mmのアルミ板上に、厚さ約0.1mmの絶縁層を形成し、その上に、厚さ30〜80μmの銅で配線パターンを形成したもので、絶縁層の熱伝導率と厚さ、および銅の配線パターンの厚さで、放熱性の良さが決まる。コストも考慮して、絶縁層の厚さは80μmで、熱伝導率は5W/mK、銅の配線パターンの厚さは35μmのものが、一般的に使用されている。   The aluminum base substrate has a structure in which an insulating layer having a thickness of approximately 0.1 mm is formed on an aluminum plate having a thickness of approximately 1.5 mm, and a wiring pattern is formed on the copper having a thickness of 30 to 80 μm. Therefore, good heat dissipation is determined by the thermal conductivity and thickness of the insulating layer and the thickness of the copper wiring pattern. In consideration of cost, an insulating layer having a thickness of 80 μm, a thermal conductivity of 5 W / mK, and a copper wiring pattern having a thickness of 35 μm is generally used.

しかし、この従来技術では、アルミベース基板の銅の配線パターンで形成される一対の電極パッドに実装されるLEDデバイスで発生する熱は、電極パッドから絶縁層を通ってアルミ板に伝わるので、熱伝導率の悪い絶縁層がネックとなっている。   However, in this prior art, the heat generated in the LED device mounted on the pair of electrode pads formed by the copper wiring pattern of the aluminum base substrate is transferred from the electrode pad to the aluminum plate through the insulating layer. An insulating layer with poor conductivity is a bottleneck.

特開2004−146411号公報JP 2004-146411 A

大電流を流すLEDチップを実装して、LEDデバイスにするための半導体用基板として、上述の特許文献1の一体化基板は、銅の導電部材にAgペーストを介して直接ダイスボンドされるので、放熱性は(銅とAgペーストの熱伝導率は391W/mKと95W/mK)極めて良くなるし、コストも安くなるが、フリップチップタイプのLEDチップには使えないといった問題がある。   As a semiconductor substrate for mounting an LED chip that allows a large current to flow into an LED device, the integrated substrate of Patent Document 1 described above is directly die-bonded to a copper conductive member via an Ag paste. The heat dissipation (the thermal conductivity of copper and Ag paste is 391 W / mK and 95 W / mK) is extremely good and the cost is low, but there is a problem that it cannot be used for a flip chip type LED chip.

また、大電流を流すLEDデバイスを実装する半導体用(配線)基板として使用されている上述のアルミベース基板は、絶縁層の熱伝導率(5W/mK)がネックとなり、アルミの極めて良い熱伝導率が充分に生かされていないといった問題がある。   In addition, the above-mentioned aluminum base substrate used as a semiconductor (wiring) substrate for mounting an LED device through which a large current flows is a bottleneck due to the thermal conductivity (5 W / mK) of the insulating layer, and the aluminum has a very good thermal conductivity. There is a problem that the rate is not fully utilized.

本発明の目的は、メタルの極めて良好な熱伝導率を有効に生かし、フリップチップタイプのLEDチップ、ワイヤーボンディングタイプのLEDチップ、及びLEDデバイス、更にはLEDに限らず半導体チップや半導体デバイスなど、すべての半導体部品に発生する熱を、有効に放熱できる半導体用基板および半導体基板へのチップの実装方法を提供することである。   The object of the present invention is to effectively utilize the extremely good thermal conductivity of metal, such as a flip chip type LED chip, a wire bonding type LED chip, and an LED device. A semiconductor substrate capable of effectively dissipating heat generated in all semiconductor components and a method for mounting a chip on the semiconductor substrate are provided.

本発明の半導体用基板は、半導体チップまたは半導体デバイスを実装するための電極パッドが、複数個形成された電極パッド領域と、該電極パッド領域を取り囲む枠領域とから成る厚さtの板状メタルフレームであって、前記電極パッド領域内の一方向に隣接する電極パッド間、および前記電極パッド領域と枠領域の間は、厚さtより薄い連結メタル部で連結されており、前記電極パッドの2つの主面を露出して、前記電極パッド領域の空間部に熱硬化性樹脂が充填され、該熱硬化性樹脂は、前記一方向と直交する直交方向に隣接する電極パッド間を連結するとともに、前記電極パッドの2つの主面とほぼ面一になるように、前記電極パッド領域内の空間部を略満たすように形成されていることを特徴とする。   The semiconductor substrate according to the present invention is a plate-shaped metal having a thickness t, which includes an electrode pad region in which a plurality of electrode pads for mounting a semiconductor chip or a semiconductor device are formed, and a frame region surrounding the electrode pad region. A frame is connected between electrode pads adjacent to each other in one direction in the electrode pad region, and between the electrode pad region and the frame region by a connecting metal portion having a thickness less than t, Two main surfaces are exposed, and the space of the electrode pad region is filled with a thermosetting resin, and the thermosetting resin connects electrode pads adjacent to each other in an orthogonal direction orthogonal to the one direction. The electrode pad region is formed so as to be substantially flush with the two principal surfaces of the electrode pad so as to substantially fill the space.

上記の構成によれば、厚さtのメタル(例えば銅)フレームで電極パッドを形成し、電極パッドの2つの主面は露出され、前記直交方向の2つの電極パッド間は、前記2つの主面と面一の熱硬化性樹脂で絶縁されているので、この2つの電極パッド間を、たとえばフリップチップタイプのLEDチップのp電極およびn電極が、実装可能な距離に設定すれば、該フリップチップタイプのLEDチップが実装可能になる。勿論、ワイヤーボンディングタイプのLEDチップであっても、一方の電極パッドをダイスボンドパッドに、他方の電極パッドをワイヤーボンディングパッドにすればよい。ただし、銅フレームの表面には、実装方法に適したメッキが施されている必要がある。そして露出された電極パッドの2つの主面のうち、一方の主面にLEDチップを実装すれば、他方の主面を外部基板への電極端子面とすることにより、LEDチップで発生する熱は、熱伝導率の極めて良好な銅を介して、効率良く外部基板に放熱することができるようになる。   According to the above configuration, the electrode pad is formed by a metal (for example, copper) frame having a thickness t, the two main surfaces of the electrode pad are exposed, and the two main pads are disposed between the two electrode pads in the orthogonal direction. Since it is insulated with a thermosetting resin that is flush with the surface, if the distance between the two electrode pads is set such that the p-electrode and n-electrode of the flip-chip type LED chip can be mounted, the flip A chip-type LED chip can be mounted. Of course, even in the case of a wire bonding type LED chip, one electrode pad may be a die bond pad and the other electrode pad may be a wire bonding pad. However, the copper frame surface needs to be plated suitable for the mounting method. Then, if the LED chip is mounted on one of the two main surfaces of the exposed electrode pad, the heat generated in the LED chip can be obtained by using the other main surface as the electrode terminal surface to the external substrate. Then, heat can be efficiently radiated to the external substrate through copper having extremely good thermal conductivity.

さらに、隣接する電極パッドは、前記一方向は厚さtより薄い、たとえば矩形状の銅の連結メタル部で連結され、前記直交方向は熱硬化性樹脂で連結されているため、前記2つの電極パッドが一つのLEDデバイスになる場合、その分離、個別化は、ダイシングにより効率良く行うことができる。その理由は、銅の連結メタル部は、tより薄い矩形状であるため、連結メタル部の周囲は、熱硬化性樹脂で囲まれている。そのため、銅単独ではダイシングによる切断が困難であっても、熱硬化性樹脂によるドレッシング効果があるため、銅の切断が容易にできるようになるのである。   Furthermore, the adjacent electrode pads are connected in one direction with a thickness less than the thickness t, for example, a rectangular copper connecting metal portion, and the orthogonal direction is connected with a thermosetting resin. When the pad becomes one LED device, the separation and individualization can be efficiently performed by dicing. The reason is that the copper connection metal portion has a rectangular shape thinner than t, and therefore the periphery of the connection metal portion is surrounded by a thermosetting resin. Therefore, even if it is difficult to cut by dicing with copper alone, there is a dressing effect with a thermosetting resin, so that copper can be cut easily.

また、LEDデバイスを実装する半導体用(配線)基板の場合、複数の電極パッドと、電極パッドを前記一方向に連結する連結メタル部と、電極パッドを前記直交方向に連結する熱硬化性樹脂とで、配線パターンを形成することにより、銅の極めて良好な熱伝導率を有効に生かした放熱性の良い配線基板ができる。   Further, in the case of a semiconductor (wiring) substrate on which an LED device is mounted, a plurality of electrode pads, a connecting metal portion that connects the electrode pads in the one direction, and a thermosetting resin that connects the electrode pads in the orthogonal direction; Thus, by forming the wiring pattern, it is possible to obtain a wiring board with good heat dissipation that effectively utilizes the extremely good thermal conductivity of copper.

そして、本発明の半導体用基板では、前記電極パッド領域の前記直交方向に隣接する電極パッド間も、部分的に、厚みtより薄い連結メタル部で連結されていることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the electrode pads adjacent to each other in the orthogonal direction of the electrode pad region are also partially connected by a connecting metal portion thinner than the thickness t.

上記の構成によれば、エッチング等の方法により、前記電極パッド領域と前記枠領域とが形成された、厚さtの前記板状メタルフレームにおいて、複数個形成される前記電極パッドは、前記一方向のみ、厚さtより薄い矩形状の連結メタル部でしか、連結されていないので、前記熱硬化性樹脂を充填するまでの間は、直交方向に歪みやすい形状となっている。そこで、部分的に、前記直交方向にも連結メタル部で連結することにより、それを補強することができる。ただし、前記直交方向に連結メタル部で連結すると、連結された電極パッド間は導通するので、それを考慮した設計にするか、枠領域の一部とみなす必要がある。   According to the above configuration, in the plate-shaped metal frame having the thickness t in which the electrode pad region and the frame region are formed by a method such as etching, a plurality of the electrode pads formed are Since only the rectangular connecting metal portions thinner than the thickness t in the direction are connected, the shape tends to be distorted in the orthogonal direction until the thermosetting resin is filled. Therefore, it can be reinforced by partially connecting with the connecting metal portion also in the orthogonal direction. However, when the connecting metal portions are connected in the orthogonal direction, the connected electrode pads are electrically connected, and therefore, it is necessary to design in consideration thereof or to be regarded as a part of the frame region.

前記一方向、および部分的に形成する前記直交方向の連結メタル部の厚みを、tより薄くする理由は、後述する半導体用基板の製造方法から来る理由と、ドレッシング効果が有効に働き、銅をダイサーで分離できる構造にするために、重要なテクニックである。   The reason why the thickness of the connecting metal portion in the one-direction and partially formed in the orthogonal direction is made thinner than t is that the reason comes from the method for manufacturing a semiconductor substrate, which will be described later, and the dressing effect works effectively. This is an important technique for creating a structure that can be separated by a dicer.

また、本発明の半導体用基板では、前記半導体チップは、一対のp電極およびn電極を、略面一な面に持つフリップチップタイプのLEDチップで、前記電極パッド領域では、前記熱硬化性樹脂である熱硬化性白樹脂で連結された該LEDチップの一対のp電極パッドおよびn電極パッドが、行列状に複数個形成され、前記p電極パッドおよびn電極パッドの2つの主面のうち、一方の主面が前記LEDチップを実装する際の実装面となり、他方の主面が外部基板に実装する際の電極端子面となることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the semiconductor chip is a flip-chip type LED chip having a pair of p-electrode and n-electrode on substantially the same surface, and the thermosetting resin in the electrode pad region. A plurality of pairs of p-electrode pads and n-electrode pads of the LED chip connected by a thermosetting white resin, which is a matrix, are formed in a matrix, and of the two main surfaces of the p-electrode pads and the n-electrode pads, One main surface is a mounting surface for mounting the LED chip, and the other main surface is an electrode terminal surface for mounting on an external substrate.

上記の構成によれば、前記電極パッド領域の電極パッドが、フリップチップタイプのLEDチップの一対の電極と対応しているので、フリップチップタイプのLEDチップが実装可能となり、また、一対の電極パッドが行列状に複数個、熱硬化性白樹脂と連結メタル部で連結されているので、ダイサーで容易に分離可能で、メタル(たとえば銅)の極めて良好な熱伝導率の電極パッドを持つLEDデバイスが、複数個、容易に作成できる。   According to the above configuration, since the electrode pad in the electrode pad region corresponds to the pair of electrodes of the flip chip type LED chip, the flip chip type LED chip can be mounted, and the pair of electrode pads Is connected to the thermosetting white resin with a connecting metal part in a matrix, so that it can be easily separated with a dicer and has an electrode pad with extremely good thermal conductivity of metal (for example, copper) However, a plurality of them can be easily created.

また、本発明の半導体用基板では、前記半導体デバイスは、一対のp電極端子およびn電極端子を持つLEDデバイスで、前記電極パッド領域は、複数の前記電極パッドと、前記一方向の連結メタル部と、前記直交方向の前記熱硬化性樹脂である熱硬化性白樹脂とで、配線パターンが形成されていることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the semiconductor device is an LED device having a pair of p-electrode terminals and an n-electrode terminal, and the electrode pad region includes a plurality of the electrode pads and the one-way connection metal portion. And a wiring pattern is formed with the thermosetting white resin which is the thermosetting resin in the orthogonal direction.

上記の構成によれば、前記直交方向に隣接する電極パッド間は、絶縁性の熱硬化性白樹脂で連結されているので、絶縁が保たれているため、LEDデバイスの直列接続ができ、前記一方向に隣接する電極パッド間は、前記連結メタル部を切らなければ導通状態で、LEDデバイスの並列接続が可能で、切れば絶縁状態となる。従って、前記連結メタル部を選択的に切ることによって、効率の良い配線パターンを実現することができる。さらに、銅の極めて良好な熱伝導率を有効に生かした放熱性の良い配線基板ができる。   According to the above configuration, the electrode pads adjacent to each other in the orthogonal direction are connected by an insulating thermosetting white resin, so that insulation is maintained, so that LED devices can be connected in series, The electrode pads adjacent in one direction are in a conductive state unless the connection metal portion is cut, and the LED devices can be connected in parallel. Therefore, an efficient wiring pattern can be realized by selectively cutting the connecting metal portion. Furthermore, it is possible to obtain a wiring board with good heat dissipation that effectively utilizes the extremely good thermal conductivity of copper.

また、本発明の半導体用基板では、前記一対の電極パッドの断面形状は凸状で、前記実装面の面積は、前記フリップチップタイプのLEDチップの電極面と略同じ広さで、前記電極端子面の面積より狭く、前記実装面の周囲は前記熱硬化性白樹脂で被覆されていることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the pair of electrode pads have a convex cross-sectional shape, and the area of the mounting surface is substantially the same as the electrode surface of the flip chip type LED chip, and the electrode terminals It is narrower than the area of the surface, and the periphery of the mounting surface is covered with the thermosetting white resin.

上記の構成によれば、前記フリップチップタイプのLEDチップを半田で実装する場合、前記実装面の面積が広いと、半田溶融時にLEDチップが動き、良好な電気的接続ができないといった問題が発生し易い。したがって、前記実装面をLEDチップの電極面とほぼ同じ広さにし、周囲は溶融半田が広がりにくい前記熱硬化性白樹脂で被覆されている方が好ましい。また、前記電極パッドの表面は、半田がなじみ易いAuやAgやSnメッキがなされているが、酸化チタン粉末を混合した熱硬化性白樹脂で被覆した方が、安定的で反射率の良好な面となる。   According to the above configuration, when the flip chip type LED chip is mounted with solder, there is a problem that if the mounting surface has a large area, the LED chip moves when the solder is melted and good electrical connection cannot be made. easy. Therefore, it is preferable that the mounting surface is approximately the same as the electrode surface of the LED chip, and the periphery is covered with the thermosetting white resin in which molten solder is difficult to spread. Further, the surface of the electrode pad is plated with Au, Ag, or Sn, which is easy to adapt to the solder, but it is more stable and has better reflectivity when coated with a thermosetting white resin mixed with titanium oxide powder. It becomes a surface.

また、本発明の半導体用基板では、前記板状メタルフレームの材質は、銅またはアルミからなり、厚さtは、0.1mm以上、1.5mm以下であることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the plate-shaped metal frame is made of copper or aluminum, and the thickness t is 0.1 mm or more and 1.5 mm or less.

上記の構成によれば、メタルとして熱伝導率が良好で、コストが安い材料としては、銅とアルミが適している。銅の熱伝導率は、391W/mK、アルミは、222W/mKで、銅が最適である。厚さは、電極パッド間の間隔により制限され、ファインパターンはフォトリソのエッチング法で形成されるが、板状銅フレームの余分な部分を除いて、前記電極パッド領域および前記枠領域を形成する場合、電極パッド間の最小間隔は板厚tと同程度である。従って、板厚が0.1mmの場合、電極パッド間の最小間隔は、0.1mmである。これを考慮すると、3W級のLEDチップ用の前記銅フレームの厚さは、0.2mm程度が最適で、3W級のLEDデバイス用に前記銅フレームの厚さは、0.5mm〜1.5mm程度である。また、連結メタル部を、板厚tより薄くしつつ、形状を保つためには、板厚tは、0.1mm以上が好ましい。   According to said structure, copper and aluminum are suitable as a material with favorable heat conductivity as a metal and cheap. The thermal conductivity of copper is 391 W / mK, the aluminum is 222 W / mK, and copper is optimal. The thickness is limited by the distance between the electrode pads, and the fine pattern is formed by a photolithographic etching method, but the electrode pad region and the frame region are formed except for an excess portion of the plate-like copper frame. The minimum distance between the electrode pads is about the same as the thickness t. Therefore, when the plate thickness is 0.1 mm, the minimum distance between the electrode pads is 0.1 mm. Considering this, the thickness of the copper frame for a 3W class LED chip is optimally about 0.2 mm, and the thickness of the copper frame for a 3W class LED device is 0.5 mm to 1.5 mm. Degree. In order to maintain the shape while making the connecting metal portion thinner than the plate thickness t, the plate thickness t is preferably 0.1 mm or more.

また、本発明の半導体用基板では、前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂またはシリコン樹脂に、酸化チタン粉末を混合した熱硬化性白樹脂であることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, the thermosetting resin is a thermosetting white resin in which a titanium oxide powder is mixed with an epoxy resin or a silicon resin.

上記の構成によれば、熱による変色が少なく、電極パッドを保持する硬さおよび密着性を持ち、そりが発生しない。また、青色LEDの光で発生する光触媒の性質をコーティングやシロキサン処理で抑えた、反射率が良い酸化チタン粉末を、エポキシ樹脂やシリコン樹脂に混合し、熱硬化性白樹脂にすることにより、反射率も良くなる。   According to said structure, there is little discoloration by a heat | fever, it has the hardness and adhesiveness which hold | maintain an electrode pad, and a curvature does not generate | occur | produce. In addition, by reflecting the photocatalytic properties generated by the blue LED light by coating or siloxane treatment, titanium oxide powder with good reflectivity is mixed with epoxy resin or silicon resin to produce a thermosetting white resin. The rate will also improve.

また、本発明の半導体用基板では、前記枠領域に、位置合わせ用のA孔が2か所以上形成されていることを特徴とする。   In the semiconductor substrate of the present invention, two or more A holes for alignment are formed in the frame region.

上記の構成によれば、前記位置合わせ用のA孔に嵌合するピンを、2か所以上立てた位置合わせ板等の治具を用いて、前記半導体用基板上へのLEDチップの実装や、LEDデバイスを製造するときの位置合わせに活用できる。   According to the above configuration, the mounting of the LED chip on the semiconductor substrate can be performed using a jig such as an alignment plate in which two or more pins that fit into the alignment A hole are erected. , It can be used for alignment when manufacturing LED devices.

好ましくは、前記の半導体用基板の製造方法であって、前記板状メタルフレームの2つの主面うち、一方の主面上に前記電極パッド領域と通気するための通気孔の形成された耐熱性プラスチックシートを、他方の主面上に前記通気孔のない耐熱性プラスチックシートを貼り付けるA1工程と、前記通気孔の経路で、前記板状メタルフレームの前記電極パッド領域の空間部分から空気を抜き取るA2工程と、前記通気孔の経路で、前記板状メタルフレームの前記電極パッド領域の空間部分に、大気圧を利用して熱硬化性樹脂を充填するA3工程と、充填した熱硬化性樹脂を熱で硬化させ、耐熱性プラスチックシートを剥がすA4工程と、から成ることを特徴とする。   Preferably, in the method for manufacturing a semiconductor substrate, heat resistance in which a vent hole for venting the electrode pad region is formed on one main surface of the two main surfaces of the plate-like metal frame. Air is extracted from the space of the electrode pad region of the plate-shaped metal frame by the A1 step of attaching the plastic sheet and the heat-resistant plastic sheet without the vent on the other main surface, and the path of the vent. A2 step, A3 step of filling the space portion of the electrode pad region of the plate-like metal frame with the thermosetting resin using atmospheric pressure in the path of the vent hole, and filling the thermosetting resin And A4 step of curing with heat and peeling off the heat-resistant plastic sheet.

上記の構成によれば、簡単な設備で容易に、本発明の半導体用基板を製造することができる。つまり、前記板状メタルフレームの枠領域と、該板状メタルフレームの2つの主面上に貼られた耐熱プラスチックシートで、前記通気孔を除いて、前記電極パッド領域が密封される(A1工程)。そして、前記通気孔から前記熱硬化性樹脂が通る経路で、ロータリーポンプを用いて、密封された前記電極パッド領域内の空間部分から空気を抜いていく(A2工程)。この状態で約10〜20分間程度空気を抜く。その後、ロータリーポンプ側のバルブを閉め、大気圧に徐々に戻していく。この過程で、大気圧で、前記熱硬化性樹脂が前記電極パッド領域の空間部分に充填されていく(A3工程)。次に、たとえば150℃、1時間の条件で、充填された熱硬化性樹脂を硬化させ、最後に、耐熱性プラスチックシートを剥がして半導体用基板を完成させる(A4工程)。   According to said structure, the board | substrate for semiconductors of this invention can be manufactured easily with simple equipment. That is, the electrode pad region is sealed except for the vent hole by a frame region of the plate-like metal frame and a heat-resistant plastic sheet pasted on two main surfaces of the plate-like metal frame (step A1). ). Then, air is extracted from a space portion in the sealed electrode pad region using a rotary pump in a path through which the thermosetting resin passes from the vent hole (step A2). In this state, air is evacuated for about 10 to 20 minutes. Thereafter, the valve on the rotary pump side is closed and gradually returned to atmospheric pressure. In this process, the space of the electrode pad region is filled with the thermosetting resin at atmospheric pressure (step A3). Next, for example, the filled thermosetting resin is cured under conditions of 150 ° C. for 1 hour, and finally, the heat-resistant plastic sheet is peeled off to complete a semiconductor substrate (step A4).

また好ましくは、前記A4工程の後に、前記電極パッド領域の、前記一方向に隣接する電極パッド間を連結する前記連結メタル部を、選択的にダイサーにより切断し、配線パターンを形成するC1工程を加えることを特徴とする。   Preferably, after the step A4, a step C1 of selectively cutting the connecting metal portion connecting the electrode pads adjacent in the one direction in the electrode pad region with a dicer to form a wiring pattern. It is characterized by adding.

上記の構成によれば、前記電極パッド領域の前記一方向に隣接する電極パッドを連結している連結メタル部を、選択的にダイサーで切ることにより、複数の前記電極パッドと、切断されない前記一方向の連結メタル部と、前記電極パッドを前記直交方向に連結する前記熱硬化性樹脂とで、効率の良い配線パターンを形成することができる。   According to said structure, the connection metal part which has connected the electrode pad adjacent to the said one direction of the said electrode pad area | region is selectively cut | disconnected with a dicer, and the said one electrode which is not cut | disconnected with the said several electrode pad. An efficient wiring pattern can be formed by the connecting metal portion in the direction and the thermosetting resin that connects the electrode pads in the orthogonal direction.

また、本発明の半導体用基板上へのLEDチップの実装方法は、前記の半導体用基板にLEDチップを実装する方法であって、前記電極パッド領域に、一対のp電極パッドおよびn電極パッドが行列状に複数個形成され、前記枠領域に、位置合わせ用のA孔が、2か所以上形成されている前記半導体用基板を用いて、前記一対のp電極パッドおよびn電極パッド上に、半田ペーストを塗布するB1工程と、前記LEDチップとして四角錐台状LEDチップを用いて、該四角錐台状LEDチップの上面より大きく、底面より小さい矩形状孔が、前記一対のp電極パッドおよびn電極パッドと同じピッチで、行列状に複数個形成された矩形状孔と、前記半導体用基板の位置合わせ用のA孔とほぼ同じ位置に、ほぼ同じサイズで、2か所以上のB孔とが、形成されたメタルマスクを用い、前記四角錐台状LEDチップを、上面から該メタルマスクの矩形状孔に挿入し、そのLEDチップの上面を粘着テープで仮固定し、行列状に整列させるB2工程と、前記位置合わせ用のA孔およびB孔に嵌合するピンを、2か所以上立てた位置合わせ治具を用いて、前記半導体用基板の半田ペーストを塗布した前記一対のp電極パッドおよびn電極パッドのパッド面と、前記メタルマスクに整列された前記四角錐台状LEDチップのp電極面およびn電極面とが、それぞれ対峙するように、前記ピンに、前記位置合わせ用のA孔およびB孔を通して重ねるB3工程と、前記粘着テープを剥がして、前記半導体用基板の半田ペーストを塗布した複数の電極パッド面上に、複数の前記四角錐台状LEDチップを一括して置くB4工程と、熱を加え、前記半田ペーストを溶かすことにより、前記半導体用基板に置かれた前記四角錐すい台状LEDチップを、電気的に接続するB5工程と、から成ることを特徴とする。   The LED chip mounting method on the semiconductor substrate according to the present invention is a method for mounting the LED chip on the semiconductor substrate, wherein a pair of p-electrode pad and n-electrode pad is provided in the electrode pad region. Using the semiconductor substrate in which a plurality of A holes for alignment are formed in the frame region and two or more A holes for alignment are formed on the pair of p electrode pads and n electrode pads, B1 process of applying solder paste, and using a square frustum-shaped LED chip as the LED chip, a rectangular hole that is larger than the top surface of the square frustum-shaped LED chip and smaller than the bottom surface has the pair of p electrode pads and A plurality of rectangular holes formed in a matrix at the same pitch as the n-electrode pad and two or more B holes at substantially the same size as the A holes for alignment of the semiconductor substrate. However, using the formed metal mask, the square pyramid shaped LED chip is inserted into the rectangular hole of the metal mask from the upper surface, and the upper surface of the LED chip is temporarily fixed with an adhesive tape, and aligned in a matrix. Step B2 and the pair of p-electrodes coated with the semiconductor substrate solder paste using an alignment jig in which two or more pins are fitted to the alignment A hole and B hole. The alignment pins are placed on the pins so that the pad surfaces of the pads and the n-electrode pad and the p-electrode surface and the n-electrode surface of the square pyramid-shaped LED chip aligned with the metal mask face each other. A plurality of the square pyramid-shaped LED chips are formed on the plurality of electrode pad surfaces on which the adhesive tape is peeled off and the solder paste of the semiconductor substrate is applied. And B5 step of electrically connecting the square pyramid-shaped LED chips placed on the semiconductor substrate by applying heat and melting the solder paste. It is characterized by that.

上記の構成によれば、LEDチップの四角錐台の形状を利用して、簡単な治工具、すなわち、A孔およびB孔に嵌合するピンを2か所以上立てた位置合わせ治具と、前記矩形状孔と前記B孔を持つメタルマスクとを用いて、ファインパターンの電極を持つLEDチップを一括して前記半導体基板に実装することができる。   According to said structure, using the shape of the truncated pyramid of the LED chip, a simple jig tool, that is, an alignment jig in which two or more pins that fit into the A hole and the B hole are erected, Using the rectangular hole and the metal mask having the B hole, LED chips having fine pattern electrodes can be collectively mounted on the semiconductor substrate.

本発明の半導体用基板および半導体基板へのチップの実装方法は、以上のように、メタルの極めて良好な熱伝導率を有効に生かし、フリップチップタイプのLEDチップやワイヤーボンディングタイプのLEDチップ、更にはLEDに限らずダイオードなどの半導体チップなどを実装し、半導体デバイスを製造するときの放熱性の良い基板となる。その際、ダイサーにより半導体デバイスを効率良く製造することができる。   As described above, the semiconductor substrate and the method for mounting the chip on the semiconductor substrate of the present invention effectively utilize the extremely good thermal conductivity of the metal, and the flip chip type LED chip, the wire bonding type LED chip, Is a substrate with good heat dissipation when a semiconductor device is manufactured by mounting a semiconductor chip such as a diode as well as an LED. In that case, a semiconductor device can be efficiently manufactured by a dicer.

また、本発明の半導体用基板は、半導体デバイス(特にLEDデバイス)を実装するための、放熱性の良好な配線基板とすることができる。その際、ダイサーにより効率の良い配線パターンを形成できる。    In addition, the semiconductor substrate of the present invention can be a wiring board with good heat dissipation for mounting a semiconductor device (particularly an LED device). At that time, an efficient wiring pattern can be formed by a dicer.

本発明の半導体用基板に用いる板状メタルフレームの全体図の(a)平面図と(b)V−Vの断面図である。It is (a) top view and (b) sectional drawing of VV of the whole figure of the plate-shaped metal frame used for the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板の部分図である。It is a fragmentary view of the substrate for semiconductors of the present invention. 本発明の半導体用基板に半導体チップを実装した部分図である。It is the fragmentary view which mounted the semiconductor chip on the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板に用いる板状メタルフレームの部分図の(a)平面図と(b)W−Wの断面図である。It is the (a) top view and (b) WW sectional drawing of the fragmentary figure of the plate-shaped metal frame used for the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板の部分図である。It is a fragmentary view of the substrate for semiconductors of the present invention. 本発明の半導体用基板にLEDチップを実装した部分図である。It is the fragmentary view which mounted the LED chip on the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板の部分図の(a)平面図と(b)X−Xの断面図である。It is the (a) top view and (b) sectional drawing of XX of the fragmentary figure of the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板に用いる板状メタルフレームの全体図である。1 is an overall view of a plate-shaped metal frame used for a semiconductor substrate of the present invention. 本発明の半導体用基板に用いる板状メタルフレームの部分図である。It is a fragmentary figure of the plate-shaped metal frame used for the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板の部分図で、(a)ダイシング前の平面図と(b)ダイシング後の平面図である。It is the fragmentary figure of the board | substrate for semiconductors of this invention, (a) The top view before dicing and (b) The top view after dicing. 本発明の半導体用基板にLEDデバイスを実装した(a)平面図と(b)回路図である。It is the (a) top view and (b) circuit diagram which mounted the LED device on the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the board | substrate for semiconductors of this invention. 本発明の半導体用基板にLEDチップを実装する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of mounting an LED chip on the board | substrate for semiconductors of this invention. 従来の半導体用基板の斜視図である。It is a perspective view of the conventional semiconductor substrate.

以下、本発明の半導体用基板の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。    Hereinafter, embodiments of a semiconductor substrate of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same members are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

(実施例1)
まず、本発明の半導体用基板に使用する板状メタルフレームの概略図を図1に示す。
Example 1
First, a schematic view of a plate-shaped metal frame used for a semiconductor substrate of the present invention is shown in FIG.

(a)が平面図で、(b)がV−Vの断面図である。  (A) is a top view, (b) is sectional drawing of VV.

この板状メタルフレームは、JIS規格 H3100 C1100Pの銅板材の板厚tが0.2mmのものを使用した銅フレーム1である。フォトリソとエッチングにより、パターンが形成されている。電極パッド4が行列状に複数個形成されている電極パッド領域2と、この電極パッド領域2を取り囲む枠領域3とから成り、電極パッド4と枠領域3の厚さは板厚と同じ0.2mmである。横方向に隣接する電極パッド4間は、厚さが0.1mmの矩形状の連結メタル部5で連結されている。枠領域3には、位置合わせのためのA孔6が、2か所あけられている。孔の直径は3mm程度である。一方のA孔を長穴にしてもよい。電極パッド領域2と枠領域3との間も、横方向に連結メタル部5で連結されている。   This plate-shaped metal frame is a copper frame 1 using a JIS standard H3100 C1100P copper plate material having a thickness t of 0.2 mm. A pattern is formed by photolithography and etching. The electrode pad region 2 includes a plurality of electrode pads 4 formed in a matrix, and a frame region 3 surrounding the electrode pad region 2. The thicknesses of the electrode pad 4 and the frame region 3 are the same as the plate thickness. 2 mm. The electrode pads 4 adjacent in the horizontal direction are connected by a rectangular connection metal portion 5 having a thickness of 0.1 mm. The frame region 3 has two A holes 6 for alignment. The diameter of the hole is about 3 mm. One hole A may be a long hole. The electrode pad region 2 and the frame region 3 are also connected by a connecting metal portion 5 in the horizontal direction.

この銅フレーム1の前記電極パッド領域2の空間部分に、熱硬化性白樹脂8を充填する。その製造方法を、図12の(a)〜(f)に記載の図に従って説明する。   A space portion of the electrode pad region 2 of the copper frame 1 is filled with a thermosetting white resin 8. The manufacturing method will be described with reference to the drawings shown in FIGS.

まず、図12(a)は、フォトリソとエッチングにより、余分な部分を除いてパターンを形成した図1に示す銅フレーム1を準備する。   First, FIG. 12A prepares the copper frame 1 shown in FIG. 1 in which a pattern is formed by removing a surplus portion by photolithography and etching.

次に、図12(b)は、銅フレーム1の2つの主面の上面に、前記電極パッド領域2に通じる通気孔71を持つ耐熱性プラスチックシート72aを、孔位置が前記電極パッド領域2と通気できる位置に貼り付ける。図8の切欠き53のように、枠領域3に、専用口を形成していてもよい。さらに、2つの主面の底面に、通気孔のない耐熱性プラスチックシート72bを貼り付ける。これにより、前記電極パッド領域2の空間部分は、通気孔71を除いて、密封された状態になる。   Next, FIG. 12B shows a heat-resistant plastic sheet 72 a having a vent hole 71 communicating with the electrode pad region 2 on the upper surfaces of the two main surfaces of the copper frame 1. Affix it where it can ventilate. A dedicated port may be formed in the frame region 3 as in the notch 53 of FIG. Further, a heat-resistant plastic sheet 72b having no air holes is attached to the bottom surfaces of the two main surfaces. As a result, the space portion of the electrode pad region 2 is sealed except for the air holes 71.

次に、図12(c)のように、耐熱性プラスチックシート72a上の通気孔71上に、前記通気孔71とほぼ同じサイズの孔をあけた両面テープを、孔位置を合わせて貼り付け、その上に、ほぼ同じサイズの孔を底面にあけ、上面が全面開放の透明筒状容器73を、孔位置を合わせて貼り付けセットする。次に、前記透明筒状容器73に、脱泡した前記熱硬化性白樹脂8を5g程度入れ、樹脂充填ワーク70を準備する。ここで使用する熱硬化性白樹脂は、シリコン樹脂中に、酸化チタン粉末が重量比で全体量の20%の量が混合されている。   Next, as shown in FIG. 12 (c), a double-sided tape having a hole of almost the same size as the vent hole 71 is pasted on the vent hole 71 on the heat-resistant plastic sheet 72a in accordance with the hole position, On top of that, a hole having substantially the same size is formed on the bottom surface, and a transparent cylindrical container 73 having an open top surface is attached and set with the hole positions aligned. Next, about 5 g of the defoamed thermosetting white resin 8 is placed in the transparent cylindrical container 73 to prepare a resin-filled workpiece 70. As for the thermosetting white resin used here, titanium oxide powder is mixed with silicon resin in an amount of 20% of the total amount by weight ratio.

次に、図12(d)のように、該樹脂充填ワーク70を真空チャンバー75内に入れ、バルブV1を開け、V2を閉じて、ロータリーポンプ(図には、記述していない)によって、真空チャンバー75内の空気を抜いていく。これで、密封された前記電極パッド領域2内の空間部分の空気が、前記通気孔71から前記熱硬化性白樹脂8中を通って抜けていく。この状態で約15分間程度空気を抜く。   Next, as shown in FIG. 12 (d), the resin-filled workpiece 70 is placed in the vacuum chamber 75, the valve V1 is opened, V2 is closed, and the rotary pump (not shown in the figure) is used for vacuuming. The air in the chamber 75 is evacuated. As a result, the air in the space within the sealed electrode pad region 2 passes through the vent hole 71 and through the thermosetting white resin 8. In this state, air is removed for about 15 minutes.

次に、図12(e)のように、ロータリーポンプ側のバルブV1を閉め、V2をゆっくり開けて大気圧に徐々に戻していく。この過程で、大気圧で、前記熱硬化性白樹脂8が前記電極パッド領域2の空間部分に充填されていく。   Next, as shown in FIG. 12E, the valve V1 on the rotary pump side is closed, and V2 is slowly opened to gradually return to the atmospheric pressure. In this process, the thermosetting white resin 8 is filled in the space of the electrode pad region 2 at atmospheric pressure.

次に、図12(f)のように、透明筒状容器73を外して、前記ワーク70を150℃、1時間の条件で、充填された熱硬化性白樹脂8を硬化させ、最後に、耐熱性プラスチックシート72a,72bを剥がして半導体用基板を完成させる。   Next, as shown in FIG. 12 (f), the transparent cylindrical container 73 is removed, and the filled thermosetting white resin 8 is cured at 150 ° C. for 1 hour under the condition of the workpiece 70. The heat-resistant plastic sheets 72a and 72b are peeled off to complete the semiconductor substrate.

上記方法で、製造された半導体用基板10の部分図を図2に示す。前記電極パッド領域2の空間部分が、熱硬化性白樹脂8で満たされている。連結メタル部5は、厚さが薄いので、その上に熱硬化性白樹脂8が載り、電極パッド4と面一の高さになっている。   A partial view of the semiconductor substrate 10 manufactured by the above method is shown in FIG. A space portion of the electrode pad region 2 is filled with the thermosetting white resin 8. Since the connecting metal portion 5 is thin, the thermosetting white resin 8 is placed on the connecting metal portion 5 and is flush with the electrode pad 4.

また、この図には、一部の電極パッド4間で、縦方向に隣接するもの同士を連結する連結メタル部7も記載されている。これは、銅フレーム1に複数個形成される前記電極パッド4は、横方向のみ、厚さtより薄い矩形状の連結メタル部5でしか連結されていないので、前記熱硬化性白樹脂8を充填するまでの間は、縦方向に歪み易い形状となっているためである。部分的に、縦方向にも連結メタル部7で連結することにより、それを補強することができる。ただし、縦方向に連結メタル部7で連結すると、連結された電極パッド4間は導通するので、デバイスには使用できなくなる。   This figure also shows a connecting metal portion 7 that connects the adjacent ones of the electrode pads 4 in the vertical direction. This is because a plurality of the electrode pads 4 formed on the copper frame 1 are connected only in the lateral direction by a rectangular connection metal portion 5 thinner than the thickness t. This is because the shape tends to be distorted in the vertical direction until filling. It can be reinforced by partially connecting with the connecting metal part 7 also in the vertical direction. However, if the connecting metal portions 7 are connected in the vertical direction, the connected electrode pads 4 are electrically connected, and thus cannot be used for the device.

また、連結メタル部5や7を、板厚tより薄くする理由は、前記図12の(b)で、密封された電極パッド領域2の空間部分を、1つの空間領域にするために重要な要素で、空間が分離されないので、熱硬化性白樹脂8が隅々まで充填されるのである。   The reason why the connecting metal portions 5 and 7 are made thinner than the plate thickness t is important for making the space portion of the sealed electrode pad region 2 into one space region in FIG. Since the element does not separate the space, the thermosetting white resin 8 is filled to every corner.

次に、この半導体用基板10に、半導体チップ、特にLEDチップを実装する形態について、図3に従って説明する。   Next, a mode in which a semiconductor chip, particularly an LED chip is mounted on the semiconductor substrate 10 will be described with reference to FIG.

図3(a)の場合には、電極パッド4の2つの主面は露出され、縦に隣接する2つの電極パッド4間は、前記2つの主面と面一の熱硬化性白樹脂8で絶縁されているので、フリップチップタイプのLEDチップC1のp電極およびn電極が実装可能な距離に、この2つの電極パッド4の間隔を設定すれば、該フリップチップタイプのLEDチップC1を実装できる。この図3(a)のように、LEDチップC1の中央で、p電極とn電極とに分かれたフリップチップタイプのLEDチップC1として、Genesis社のものが使用できる。透明樹脂で封止し、点線Dでダイシング分離すれば、銅基板の電極端子を持つLEDデバイスとなる。勿論、ワイヤーボンディングタイプのLEDチップであっても、一方の電極パッドをダイスボンドパッドに、他方の電極パッドをワイヤーボンディングパッドにすれば、実装可能となる。   In the case of FIG. 3A, the two main surfaces of the electrode pad 4 are exposed, and between the two vertically adjacent electrode pads 4 is a thermosetting white resin 8 flush with the two main surfaces. Since it is insulated, the flip chip type LED chip C1 can be mounted by setting the distance between the two electrode pads 4 to a distance that allows the p electrode and the n electrode of the flip chip type LED chip C1 to be mounted. . As shown in FIG. 3A, Genesis Corporation can be used as a flip chip type LED chip C1 divided into a p-electrode and an n-electrode at the center of the LED chip C1. If it seals with transparent resin and dicing isolation | separation by the dotted line D, it will become an LED device with the electrode terminal of a copper substrate. Of course, even a wire bonding type LED chip can be mounted if one electrode pad is a die bond pad and the other electrode pad is a wire bonding pad.

さらに、図3(b)で示すように、横方向は、連結メタル部5で導通されているので、4つの電極パッド4を用いて、たとえば保護素子のツエナーダイオードZを備えたLEDデバイスにもできる。   Further, as shown in FIG. 3 (b), the lateral direction is conducted by the connecting metal portion 5, and therefore, for example, an LED device including a Zener diode Z as a protective element is also used by using four electrode pads 4. it can.

(実施例2)
次の実施例として、フリップチップタイプの四角錐台状LEDチップを用いて、LEDデバイスを製造する場合に適した半導体用基板20について記述する。
(Example 2)
As a next embodiment, a semiconductor substrate 20 suitable for manufacturing an LED device using a flip chip type square pyramid shaped LED chip will be described.

図4は、これに用いる板状の銅フレーム30の部分図を示す。図4(a)は平面図で、図4(b)はW−Wの断面図である。この銅フレーム30の板厚tは、0.2mm程度である。   FIG. 4 shows a partial view of a plate-like copper frame 30 used for this. 4A is a plan view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line W-W. The thickness t of the copper frame 30 is about 0.2 mm.

この銅フレーム30の電極パッド領域2の電極パッド34は、LEDチップの一対の電極(p電極およびn電極)に対応するように形成された、一対の電極パッド(p電極パッドおよびn電極パッド)から成る。横方向は連結メタル部5で連結され、縦方向は、短絡するので、対を成す電極パッド間は連結されていないが、隣の電極パッドとの間は連結メタル部7で連結されているため、歪に強い構造である。   The electrode pad 34 in the electrode pad region 2 of the copper frame 30 is a pair of electrode pads (p electrode pad and n electrode pad) formed to correspond to a pair of electrodes (p electrode and n electrode) of the LED chip. Consists of. Since the horizontal direction is connected by the connection metal part 5 and the vertical direction is short-circuited, the electrode pads forming a pair are not connected, but the adjacent electrode pads are connected by the connection metal part 7. The structure is strong against distortion.

図5は、この銅フレーム30に、熱硬化性白樹脂8が充填された半導体用基板20である。図5には記載されていないが、枠領域3には、図1と同じように、位置合わせのためのA孔6が2か所あけられている。A孔6の直径は、3mm程度である。この位置合わせA孔6と、LEDチップの四角錐台状の形状を利用して、半導体用基板20上に、複数の該LEDチップを一括して実装することが可能である。その実装方法について、図13の(a)〜(f)に記載の概略図に従って説明する。   FIG. 5 shows a semiconductor substrate 20 in which the copper frame 30 is filled with the thermosetting white resin 8. Although not shown in FIG. 5, two A holes 6 for alignment are formed in the frame region 3 in the same manner as in FIG. 1. The diameter of the A hole 6 is about 3 mm. A plurality of LED chips can be collectively mounted on the semiconductor substrate 20 by using the alignment A hole 6 and the shape of the LED chip having a quadrangular pyramid shape. The mounting method will be described with reference to the schematic diagrams shown in FIGS.

まず、図13(a)のような、熱硬化性白樹脂8を充填した、図5に示す半導体用基板20を準備し、前記一対の電極パッド(p電極パッドおよびn電極パッド)34の実装面34a上に、半田ペースト81を塗布する。   First, the semiconductor substrate 20 shown in FIG. 5 filled with the thermosetting white resin 8 as shown in FIG. 13A is prepared, and the pair of electrode pads (p electrode pad and n electrode pad) 34 are mounted. A solder paste 81 is applied on the surface 34a.

次に、図13(b)のように、四角錐台状のLEDチップC2の、上面(光放射面)より大きく底面(電極面)より小さい矩形状孔83が、前記一対の電極パッド34と同じピッチで、行列状に複数個形成され、前記半導体用基板20の位置合わせ用のA孔6とほぼ同じ位置に、ほぼ同じサイズのB孔84が、2か所形成されたメタルマスク80により、前記四角錐台状のLEDチップC2を、上面から前記メタルマスク80の矩形状孔83に挿入し、該LEDチップC2の上面を粘着テープ85で仮固定し、行列状に整列させる。   Next, as shown in FIG. 13B, a rectangular hole 83 larger than the upper surface (light emitting surface) and smaller than the bottom surface (electrode surface) of the LED chip C2 having a truncated pyramid shape is formed with the pair of electrode pads 34. A plurality of metal masks 80 are formed in a matrix at the same pitch, and two B holes 84 having substantially the same size are formed at substantially the same positions as the A holes 6 for alignment of the semiconductor substrate 20. The square pyramid shaped LED chip C2 is inserted into the rectangular hole 83 of the metal mask 80 from the upper surface, and the upper surface of the LED chip C2 is temporarily fixed with an adhesive tape 85 and aligned in a matrix.

次に、図13(c)のように、A孔6およびB孔84に嵌合するピン86を、2か所立てた位置合わせ治具87を用いて、該治具87の抜き板87aの上に、前記半導体用基板20から、一対の電極パッド34上に塗布された半田ペースト81側と、前記メタルマスク80に整列された前記LEDチップC2の電極面(底面)側82aとが、p電極パッドとp電極、n電極パッドとn電極とのように、それぞれ対峙するように、前記ピン86に、位置合わせ用のA孔6とB孔84とを、通して重ねる。   Next, as shown in FIG. 13 (c), the pin 86 fitted into the A hole 6 and the B hole 84 is positioned using two positioning jigs 87 and the punching plate 87a of the jig 87 is removed. Further, the solder paste 81 side applied to the pair of electrode pads 34 from the semiconductor substrate 20 and the electrode surface (bottom surface) side 82a of the LED chip C2 aligned with the metal mask 80 are p. The A hole 6 and the B hole 84 for alignment are overlapped with the pin 86 so as to face each other like the electrode pad and the p electrode and the n electrode pad and the n electrode.

次に、図13(d)のように、前記粘着テープ85を剥がして、チップ押さえ治具88を上から重ねて置き、LEDチップC2を該治具88の自重で押さえる。   Next, as shown in FIG. 13D, the adhesive tape 85 is peeled off, and a chip pressing jig 88 is placed on top of each other, and the LED chip C2 is pressed by its own weight.

次に、図13(e)のように、チップ押さえ治具88で、LEDチップC2を押さえた状態で、前記メタルマスク80を少し持ち上げて、メタルマスク80をLEDチップC2から離し、さらに、メタルマスク80をチップ押さえ治具88と共に上にあげて、前記半導体用基板20の半田ペースト81が塗布された複数の電極パッドの実装面34a上に、複数の前記四角錐台状のLEDチップC2を一括して置く。   Next, as shown in FIG. 13E, the metal mask 80 is lifted up slightly while the LED chip C2 is pressed by the chip pressing jig 88, and the metal mask 80 is separated from the LED chip C2. The mask 80 is lifted together with the chip pressing jig 88, and the plurality of square pyramid shaped LED chips C2 are mounted on the mounting surfaces 34a of the plurality of electrode pads coated with the solder paste 81 of the semiconductor substrate 20. Put them all together.

次に、図13(f)で示すように、抜き板87aと一緒に、LEDチップC2が載った前記半導体用基板20を取出し、リフロー炉で熱を加え、前記半田ペースト81を溶かすことにより、前記半導体用基板20に置かれた前記四角錐台状のLEDチップC2を、電気的に接続する。   Next, as shown in FIG. 13 (f), together with the punching plate 87a, the semiconductor substrate 20 on which the LED chip C2 is mounted is taken out, heated in a reflow furnace, and the solder paste 81 is melted. The square frustum-shaped LED chip C2 placed on the semiconductor substrate 20 is electrically connected.

この実装方法が可能になる最大の理由は、フォトリソとエッチングとで高精度に製作された銅フレーム30の電極パッド34の配列ピッチが、熱硬化性白樹脂8の充填、硬化で、図5に示す半導体用基板20とした場合、その配列ピッチがほとんど変わらないことである。このためには、熱硬化性白樹脂8として、弾力性のあるシリコン樹脂を用いることが好ましい。反りの生じない品種のエポキシ樹脂でも使用可能である。   The biggest reason why this mounting method is possible is that the arrangement pitch of the electrode pads 34 of the copper frame 30 manufactured with high precision by photolithography and etching is filled and cured with the thermosetting white resin 8, as shown in FIG. In the case of the semiconductor substrate 20 shown, the arrangement pitch hardly changes. For this purpose, it is preferable to use an elastic silicon resin as the thermosetting white resin 8. Epoxy resins of a variety that do not warp can also be used.

上記方法で、LEDチップC2が実装された半導体用基板20の部分図を図6に示す。p,nの一対の電極パッド34間は、熱硬化性白樹脂8で絶縁されている。このようなフリップチップタイプの四角錐台状のLEDチップC2としては、たとえばCree社のものが使用できる。透明樹脂で封止し、点線Dでダイシング分離すれば、銅基板の電極端子を持つLEDデバイスとなる。   FIG. 6 shows a partial view of the semiconductor substrate 20 on which the LED chip C2 is mounted by the above method. A pair of p and n electrode pads 34 are insulated by a thermosetting white resin 8. As such a flip chip type LED chip C2 having a truncated pyramid shape, for example, one manufactured by Cree can be used. If it seals with transparent resin and dicing isolation | separation by the dotted line D, it will become an LED device with the electrode terminal of a copper substrate.

また、LEDチップC2を実装して、リフローするときに、半田ペーストが適切でないと、溶融した半田の表面張力によりLEDチップC2が移動し(ズレて)、実装不良を起こすことがある。それを防ぐために、図7で示すように、一対の電極パッド44の断面形状を凸状にして、電極端子面44bの面積より、LEDチップの実装面44aの面積を狭くし、LEDチップC2の電極面の面積とほぼ同じか、わずかに広くし、その周囲は熱硬化性白樹脂8で被覆するとよい。また、この構造は、熱硬化性白樹脂8に反射率の良い酸化チタンを混合した白樹脂を用いれば、LEDデバイスにした場合、輝度を向上することができ、好適である。   Further, when the LED chip C2 is mounted and reflowed, if the solder paste is not appropriate, the LED chip C2 may move (displace) due to the surface tension of the melted solder, resulting in a mounting failure. In order to prevent this, as shown in FIG. 7, the cross-sectional shape of the pair of electrode pads 44 is convex, the area of the LED chip mounting surface 44a is narrower than the area of the electrode terminal surface 44b, and the LED chip C2 The area of the electrode surface may be approximately the same or slightly wider, and the periphery thereof may be covered with the thermosetting white resin 8. In addition, in this structure, if a white resin in which a titanium oxide having a good reflectance is mixed with the thermosetting white resin 8 is used, the luminance can be improved when an LED device is used.

(実施例3)
次の実施例として、LEDデバイスを実装する配線基板に適した、半導体用基板52について記述する。
(Example 3)
As a next embodiment, a semiconductor substrate 52 suitable for a wiring board on which an LED device is mounted will be described.

図8は、これに用いる板状の銅フレーム50の全体を示す概略図で、部分領域51は、図9の部分図で詳細に記述されている。部分領域51は、単位銅フレーム51と記する。つまり、1つのLED照明用(LEDランプなど)に使用される単位の銅フレームである。   FIG. 8 is a schematic view showing the entire plate-like copper frame 50 used for this, and the partial region 51 is described in detail in the partial view of FIG. The partial area 51 is referred to as a unit copper frame 51. That is, it is a unit copper frame used for one LED illumination (LED lamp or the like).

板状の銅フレーム50の板厚tは、0.3mm〜0.5mmのものを使用する。放熱的には厚めの方が良好であるが、LEDデバイスのサイズにより制限される。   The plate-like copper frame 50 has a thickness t of 0.3 mm to 0.5 mm. Although thicker is better for heat dissipation, it is limited by the size of the LED device.

図8に示すように、前記電極パッド領域2に、単位銅フレーム51が行列状に複数個形成されている。前記電極パッド領域2を縦に分割する分割メタル部57も、縦の連結メタル部7の一種で、板厚tより薄い矩形状である。   As shown in FIG. 8, a plurality of unit copper frames 51 are formed in a matrix in the electrode pad region 2. The divided metal portion 57 that vertically divides the electrode pad region 2 is also a kind of the vertical connecting metal portion 7 and has a rectangular shape that is thinner than the plate thickness t.

図9に示すように、単位銅フレーム51は、サイズの異なる複数の電極パッド54から成る。横の連結メタル部55もサイズの異なるものがあり、幅広の連結メタル部55aは、配線パターンを構成する要素の1つとなる。   As shown in FIG. 9, the unit copper frame 51 includes a plurality of electrode pads 54 having different sizes. The horizontal connecting metal portion 55 also has a different size, and the wide connecting metal portion 55a is one of the elements constituting the wiring pattern.

図10の(a)は、単位銅フレーム51に、熱硬化性白樹脂8が充填された、配線基板52である。前記1つのLED照明用に部分領域51を切離すと、細い横の連結メタル部55は、すべて(図には63個が示されている)ダイサーにより切断され、幅広の連結メタル部55aは(図には8個が示されている)連結されたままとなる。ダイサーで選択的に切断し易いように、これらの連結メタル部55,55aは、配置されている。図10(b)は、ダイシングにより、細い連結メタル部55を切断した後の配線基板52で、該配線基板52の周囲は、横の連結メタル部55と熱硬化性白樹脂8ともども、ダイサーでフルカットしているが、該配線基板52の中にある横の連結メタル部55は、これは図示されていないが、図面の裏側からダイサーでハーフカットすることにより、連結メタル部55を切断している。   FIG. 10A shows a wiring board 52 in which the unit copper frame 51 is filled with the thermosetting white resin 8. When the partial region 51 is separated for the one LED illumination, all of the thin horizontal connecting metal portions 55 are cut by a dicer (63 pieces are shown in the drawing), and the wide connecting metal portion 55a is ( The figure remains 8) (eight are shown). These connecting metal portions 55 and 55a are arranged so as to facilitate selective cutting with a dicer. FIG. 10B shows the wiring substrate 52 after the thin connecting metal portion 55 is cut by dicing, and the periphery of the wiring substrate 52 is returned to the horizontal connecting metal portion 55 and the thermosetting white resin 8 with a dicer. Although it is fully cut, the horizontal connecting metal portion 55 in the wiring board 52 is not shown, but the connecting metal portion 55 is cut by half-cutting with a dicer from the back side of the drawing. ing.

図11の(a)は、前記の配線基板52に、LEDデバイスLを20個実装したものである。この図11の(a)の配線パターンから、図11(b)に示すように、10個のLEDデバイスLが、直列に接続された回路が、2回路入った回路になっている。この配線基板52は、0.3〜0.5mmの厚さの銅の前記電極パッドと、それらを電気的に絶縁しつつ、機械的に連結する熱硬化性白樹脂8と、前記電極パッドを導通的に連結する連結メタル部とで構成されている。そのため、LEDデバイスLで発生した熱は、熱伝導の優れた銅の電極パッドに伝わり、下方に流れ易い構造になっているので、この配線基板52の下に放熱板を配置すれば、LEDデバイスLを中央に集中して配置でき、多重影のできない点光源のLEDランプに最適である。   FIG. 11A shows a structure in which 20 LED devices L are mounted on the wiring board 52. From the wiring pattern of FIG. 11A, as shown in FIG. 11B, a circuit in which ten LED devices L are connected in series is a circuit including two circuits. The wiring board 52 includes a copper electrode pad having a thickness of 0.3 to 0.5 mm, a thermosetting white resin 8 that is mechanically connected while electrically insulating them, and the electrode pad. It is comprised with the connection metal part connected electrically. Therefore, the heat generated in the LED device L is transferred to the copper electrode pad having excellent heat conduction and easily flows downward. Therefore, if a heat sink is arranged under the wiring board 52, the LED device L can be concentrated in the center, and is optimal for LED lamps of point light sources that do not allow multiple shadows.

1,30,50 板状の銅(メタル)フレーム
10,20,40 半導体用基板
2 電極パッド領域
3 枠領域
34,44 一対の電極パッド
34a 実装面
4,54 電極パッド
5,55 連結メタル部
51 単位銅フレーム
52 配線基板
53 切欠き
57 分割メタル部
6 A孔
7 縦の連結メタル部
70 樹脂充填ワーク
71 通気孔
72a,72b 耐熱性プラスチックシート
73 透明筒状容器
75 真空チャンバー
8 熱硬化性白樹脂
80 メタルマスク
81 半田ペースト
82a 電極面
83 矩形状孔
84 B孔
85 粘着テープ
86 ピン
87 位置合わせ治具
87a 抜き板
88 チップ押さえ治具
C1,C2 LEDチップ
D ダイシングライン
Z ツエナーダイオード
L LEDデバイス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,30,50 Plate-shaped copper (metal) frame 10,20,40 Semiconductor substrate 2 Electrode pad area | region 3 Frame area | region 34,44 A pair of electrode pad 34a Mounting surface 4,54 Electrode pad 5,55 Connection metal part 51 Unit copper frame 52 Wiring board 53 Notch 57 Divided metal part 6 A hole 7 Vertical connecting metal part 70 Resin-filled work 71 Ventilation holes 72a, 72b Heat-resistant plastic sheet 73 Transparent cylindrical container 75 Vacuum chamber 8 Thermosetting white resin 80 Metal Mask 81 Solder Paste 82a Electrode Surface 83 Rectangular Hole 84 B Hole 85 Adhesive Tape 86 Pin 87 Positioning Jig 87a Die Plate 88 Chip Holding Jig C1, C2 LED Chip D Dicing Line Z Zener Diode L LED Device

Claims (7)

半導体チップまたは半導体デバイスを実装するための電極パッドが、複数個形成された電極パッド領域と、該電極パッド領域を取り囲む枠領域とから成る厚さtの板状メタルフレームであって、前記電極パッド領域内の一方向に隣接する電極パッド間、および前記電極パッド領域と枠領域の間は、厚さtより薄い連結メタル部で連結されており、
前記電極パッドの2つの主面を露出して、前記電極パッド領域の空間部に熱硬化性樹脂が充填され、該熱硬化性樹脂は、前記一方向と直交する直交方向に隣接する電極パッド間を連結するとともに、前記電極パッドの2つの主面とほぼ面一になるように、前記電極パッド領域内の空間部を略満たすように形成されていることを特徴とする半導体用基板。
An electrode pad for mounting a semiconductor chip or a semiconductor device is a plate-shaped metal frame having a thickness t composed of a plurality of formed electrode pad regions and a frame region surrounding the electrode pad region. The electrode pads adjacent to each other in one direction in the region, and the electrode pad region and the frame region are connected by a connecting metal portion thinner than the thickness t,
The two main surfaces of the electrode pad are exposed, and the space of the electrode pad region is filled with a thermosetting resin, and the thermosetting resin is between the electrode pads adjacent to each other in the orthogonal direction perpendicular to the one direction. The semiconductor substrate is formed so as to substantially fill a space in the electrode pad region so as to be substantially flush with the two main surfaces of the electrode pad.
前記電極パッド領域の前記直交方向に隣接する電極パッド間も、部分的に、厚みtより薄い連結メタル部で連結されていることを特徴とする請求項1記載の半導体用基板。   2. The semiconductor substrate according to claim 1, wherein electrode pads adjacent to each other in the orthogonal direction of the electrode pad region are also partially connected by a connecting metal portion having a thickness less than t. 前記半導体チップは、一対のp電極およびn電極を、略面一な面に持つフリップチップタイプのLEDチップで、
前記電極パッド領域では、前記熱硬化性樹脂である熱硬化性白樹脂で連結された該LEDチップの一対のp電極パッドおよびn電極パッドが、行列状に複数個形成され、
前記p電極パッドおよびn電極パッドの2つの主面のうち、一方の主面が前記LEDチップを実装する際の実装面となり、他方の主面が外部基板に実装する際の電極端子面となることを特徴とする請求項1または2記載の半導体用基板。
The semiconductor chip is a flip chip type LED chip having a pair of p-electrode and n-electrode on a substantially flush surface,
In the electrode pad region, a plurality of pairs of p electrode pads and n electrode pads of the LED chip connected with the thermosetting white resin that is the thermosetting resin are formed in a matrix,
Of the two main surfaces of the p-electrode pad and the n-electrode pad, one main surface is a mounting surface when mounting the LED chip, and the other main surface is an electrode terminal surface when mounting on the external substrate. 3. The semiconductor substrate according to claim 1, wherein the substrate is a semiconductor substrate.
前記板状メタルフレームの材質は、銅またはアルミからなり、厚さtは、0.1mm以上、1.5mm以下であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体用基板。   3. The semiconductor substrate according to claim 1, wherein the plate-shaped metal frame is made of copper or aluminum and has a thickness t of 0.1 mm or more and 1.5 mm or less. 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂またはシリコン樹脂に、酸化チタン粉末を混合した熱硬化性白樹脂であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体用基板。   3. The semiconductor substrate according to claim 1, wherein the thermosetting resin is a thermosetting white resin in which a titanium oxide powder is mixed with an epoxy resin or a silicon resin. 前記枠領域に、位置合わせ用のA孔が2か所以上形成されていることを特徴とする請求項1、2または3記載の半導体用基板。   4. The semiconductor substrate according to claim 1, wherein two or more A holes for alignment are formed in the frame region. 前記請求項1〜6の何れか1項に記載の半導体用基板にLEDチップを実装する方法であって、
前記電極パッド領域に、一対のp電極パッドおよびn電極パッドが行列状に複数個形成され、前記枠領域に、位置合わせ用のA孔が、2か所以上形成されている前記半導体用基板を用いて、前記一対のp電極パッドおよびn電極パッド上に、半田ペーストを塗布するB1工程と、
前記LEDチップとして四角錐台状LEDチップを用いて、該四角錐台状LEDチップの上面より大きく、底面より小さい矩形状孔が、前記一対のp電極パッドおよびn電極パッドと同じピッチで、行列状に複数個形成された矩形状孔と、前記半導体用基板の位置合わせ用のA孔とほぼ同じ位置に、ほぼ同じサイズで、2か所以上のB孔とが、形成されたメタルマスクを用い、前記四角錐台状LEDチップを、上面から該メタルマスクの矩形状孔に挿入し、そのLEDチップの上面を粘着テープで仮固定し、行列状に整列させるB2工程と、
前記位置合わせ用のA孔およびB孔に嵌合するピンを、2か所以上立てた位置合わせ治具を用いて、前記半導体用基板の半田ペーストを塗布した前記一対のp電極パッドおよびn電極パッドのパッド面と、前記メタルマスクに整列された前記四角錐台状LEDチップのp電極面およびn電極面とが、それぞれ対峙するように、前記ピンに、前記位置合わせ用のA孔およびB孔を通して重ねるB3工程と、
前記粘着テープを剥がして、前記半導体用基板の半田ペーストを塗布した複数の電極パッド面上に、複数の前記四角錐台状LEDチップを一括して置くB4工程と、
熱を加え、前記半田ペーストを溶かすことにより、前記半導体用基板に置かれた前記四角錐すい台状LEDチップを、電気的に接続するB5工程と、から成ることを特徴とする半導体用基板上へのLEDチップの実装方法。
A method for mounting an LED chip on a semiconductor substrate according to any one of claims 1 to 6,
A plurality of pairs of p-electrode pads and n-electrode pads formed in a matrix in the electrode pad region, and the semiconductor substrate in which two or more A holes for alignment are formed in the frame region; B1 step of applying a solder paste on the pair of p electrode pads and n electrode pads,
A rectangular frustum-shaped LED chip is used as the LED chip, and rectangular holes larger than the top surface of the square frustum-shaped LED chip and smaller than the bottom surface are arranged at the same pitch as the pair of p-electrode pads and n-electrode pads. A metal mask in which a plurality of rectangular holes formed in a shape and two or more B holes having substantially the same size and the same positions as the A holes for alignment of the semiconductor substrate are formed. B2 step of using the square pyramid shaped LED chip from the upper surface into the rectangular hole of the metal mask, temporarily fixing the upper surface of the LED chip with an adhesive tape, and aligning in a matrix,
The pair of p-electrode pads and n-electrodes, to which the solder paste for the semiconductor substrate is applied, using an alignment jig in which two or more pins are fitted to the alignment A holes and B holes. The A hole and B for alignment are provided on the pin so that the pad surface of the pad and the p electrode surface and the n electrode surface of the square pyramid-shaped LED chip aligned with the metal mask face each other. B3 process to pile up through the hole,
B4 step of peeling the adhesive tape and placing the plurality of square frustum-shaped LED chips together on the plurality of electrode pad surfaces coated with the semiconductor substrate solder paste;
B5 step of electrically connecting the square pyramid-shaped LED chip placed on the semiconductor substrate by applying heat and melting the solder paste, on the semiconductor substrate LED chip mounting method.
JP2016128551A 2015-07-03 2016-06-29 Substrate for semiconductor and mounting method for semiconductor substrate Pending JP2017017319A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015134008 2015-07-03
JP2015134008 2015-07-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017017319A true JP2017017319A (en) 2017-01-19

Family

ID=57831310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016128551A Pending JP2017017319A (en) 2015-07-03 2016-06-29 Substrate for semiconductor and mounting method for semiconductor substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017017319A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111862839A (en) * 2020-02-18 2020-10-30 友达光电股份有限公司 Display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111862839A (en) * 2020-02-18 2020-10-30 友达光电股份有限公司 Display device
CN111862839B (en) * 2020-02-18 2022-01-11 友达光电股份有限公司 Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9318674B2 (en) Submount-free light emitting diode (LED) components and methods of fabricating same
US9660161B2 (en) Light emitting diode (LED) components including contact expansion frame
US9512968B2 (en) LED module
US8247833B2 (en) LED package and manufacturing method thereof
WO2010050067A1 (en) Substrate for light emitting element package, and light emitting element package
US9755121B2 (en) Method of detaching sealing member of light emitting device
JP2009117536A (en) Resin-sealed light emitter, and manufacturing method thereof
US9214607B1 (en) Wire bonded light emitting diode (LED) components including reflective layer
JP6131555B2 (en) Method for removing sealing member of light emitting device and light emitting device capable of removing sealing member
KR102513954B1 (en) Light emitting element package with thin film pad and manufacturing method thereof
JP2012124358A (en) Semiconductor light emitting device and manufacturing method of the same
JP2002009347A (en) Led light source and its manufacturing method
KR101135740B1 (en) Electroluminescent phosphor-converted light source and method for manufacturing the same
US8461614B2 (en) Packaging substrate device, method for making the packaging substrate device, and packaged light emitting device
JP2005123657A (en) Chip-type light emitting device and its manufacturing method
JP2012165016A (en) Light-emitting device
TW201639197A (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
US20150348948A1 (en) Multiple die light emitting diode (led) components and methods of fabricating same
JP2017017319A (en) Substrate for semiconductor and mounting method for semiconductor substrate
JP2006279080A (en) Fixing method for light emitting element wafer
JP2008263246A (en) Light-emitting device
JP2008159671A (en) Printed wiring board, and electronic apparatus
JP2017163130A (en) Substrate and method of manufacturing the same
JP5995579B2 (en) Semiconductor light emitting device and manufacturing method thereof
JP2007306035A (en) Method for manufacturing luminous element

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20160705

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20160705