JP2017017079A - Sample holder and sample processing device provided with the same - Google Patents

Sample holder and sample processing device provided with the same Download PDF

Info

Publication number
JP2017017079A
JP2017017079A JP2015129385A JP2015129385A JP2017017079A JP 2017017079 A JP2017017079 A JP 2017017079A JP 2015129385 A JP2015129385 A JP 2015129385A JP 2015129385 A JP2015129385 A JP 2015129385A JP 2017017079 A JP2017017079 A JP 2017017079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heater
ceramic substrate
metal member
sample
sample holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015129385A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6567895B2 (en
Inventor
泰広 中井
Yasuhiro Nakai
泰広 中井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2015129385A priority Critical patent/JP6567895B2/en
Publication of JP2017017079A publication Critical patent/JP2017017079A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6567895B2 publication Critical patent/JP6567895B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve thermal uniformity of a sample holding surface.SOLUTION: A sample holder comprises: a ceramic board formed by a laminated plate having a sample holding surface in one principal surface; a first heater provided between layers of the ceramic board; a metal member provided on the other principal surface of the ceramic board; and a second heater provided between layers different from the layers between which the first heater of the ceramic board is provided so that at least a part of the second heater is overlapped with the metal member when viewed in a plan view.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、半導体集積回路の製造工程または液晶表示装置の製造工程等において用いられる、半導体ウエハ等の試料を保持する際に用いられる試料保持具に関するものである。   The present invention relates to a sample holder used when holding a sample such as a semiconductor wafer used in a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit or a manufacturing process of a liquid crystal display device.

試料保持具として、例えば、特許文献1に記載の試料保持具が知られている。特許文献1に記載の試料保持具は、上面に試料保持面を有するセラミック基板とセラミック基板に平面状に引き回された設けられたヒータとを備えている。セラミック基板の下面には金属部材が取り付けられている。   As a sample holder, for example, a sample holder described in Patent Document 1 is known. The sample holder described in Patent Document 1 includes a ceramic substrate having a sample holding surface on the upper surface and a heater provided on the ceramic substrate in a planar shape. A metal member is attached to the lower surface of the ceramic substrate.

特開2000−219578号公報JP 2000-219578 A

近年、試料保持面における更なる均熱化が求められている。しかしながら、特許文献1に開示された試料保持具において、試料保持面の更なる均熱化を進めることが困難であった。具体的には、ヒータから発せられた熱が金属部材を介して外部に逃げてしまうことによって、試料保持面のうち金属部材の直上に位置する領域の温度が低下してしまうおそれがあった。   In recent years, further soaking on the sample holding surface has been demanded. However, in the sample holder disclosed in Patent Document 1, it has been difficult to further soak the sample holding surface. Specifically, the heat generated from the heater escapes to the outside through the metal member, so that the temperature of the region of the sample holding surface located immediately above the metal member may be lowered.

本発明の一態様の試料保持具は、一方の主面に試料保持面を有した積層板から成るセラミック基板と、該セラミック基板の層間に設けられた第1ヒータと、前記セラミック基板の他方の主面に設けられた金属部材と、平面視したときに前記金属部材に少なくとも一部が重なるように、前記セラミック基板の前記第1ヒータが設けられた層間とは異なる層間に設けられた第2ヒータとを備えている。   A sample holder according to one aspect of the present invention includes a ceramic substrate formed of a laminated plate having a sample holding surface on one main surface, a first heater provided between layers of the ceramic substrate, and the other of the ceramic substrates. A second metal member provided on an interlayer different from the layer provided with the first heater of the ceramic substrate so that at least a part of the metal member provided on the main surface overlaps the metal member when viewed in plan. And a heater.

本発明の一態様の試料処理装置は、上記の試料保持具と、貫通孔を有する筐体とを備えており、前記セラミック基板および前記金属部材が前記貫通孔を塞ぐように前記筐体に取り付けられている。   A sample processing apparatus of one embodiment of the present invention includes the sample holder and a casing having a through hole, and is attached to the casing so that the ceramic substrate and the metal member close the through hole. It has been.

一方の主面に試料保持面を有した積層板から成るセラミック基板と、該セラミック基板の層間に設けられた第1ヒータと、セラミック基板の他方の主面に設けられた金属部材と、平面視したときに金属部材に少なくとも一部が重なるように、セラミック基板の第1ヒータが設けられた層間とは異なる層間に設けられた第2ヒータとを備えているため、金属部材の直上において、部分的に発熱密度を高くすることが可能となる。その結果、試料保持面の均熱性を向上できる。   A ceramic substrate made of a laminate having a sample holding surface on one main surface, a first heater provided between layers of the ceramic substrate, a metal member provided on the other main surface of the ceramic substrate, and a plan view And a second heater provided in a different layer from the layer in which the first heater of the ceramic substrate is provided so that at least a part of the metal member overlaps with the metal member. In particular, the heat generation density can be increased. As a result, the soaking property of the sample holding surface can be improved.

本発明の試料保持具およびこれを備えた試料処理装置の実施の形態の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of embodiment of the sample holder of this invention, and a sample processing apparatus provided with the same. 図1に示す試料保持具の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the sample holder shown in FIG. 図2に示す試料保持具のうち第1ヒータの設けられている領域およびパターンの形状を示す横断面図である。It is a cross-sectional view which shows the area | region in which the 1st heater is provided among the sample holders shown in FIG. 2, and the shape of a pattern. 図2に示す試料保持具のうち第2ヒータの設けられている領域およびパターンの形状を示す横断面図である。FIG. 3 is a transverse cross-sectional view illustrating a region where a second heater is provided and a shape of a pattern in the sample holder illustrated in FIG. 2. 本発明の試料保持具の変形例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the modification of the sample holder of this invention.

本発明の一実施形態の試料保持具10およびこれを備えた試料処理装置100について詳細に説明する。   A sample holder 10 and a sample processing apparatus 100 including the sample holder 10 according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

図1に示すように、試料処理装置100は、筐体5と筐体5の内部に設けられた試料保持具10とを備えている。試料処理装置100は、例えば、半導体製造装置として用いられる。この場合には、筐体5はいわゆるチャンバーとして用いられ、試料保持具10には、例えば、シリコンウエハ等が保持される。   As shown in FIG. 1, the sample processing apparatus 100 includes a housing 5 and a sample holder 10 provided inside the housing 5. The sample processing apparatus 100 is used as a semiconductor manufacturing apparatus, for example. In this case, the housing 5 is used as a so-called chamber, and the sample holder 10 holds, for example, a silicon wafer.

筐体5は、下側に開口する貫通孔50を有しており、この貫通孔50を塞ぐように試料保持具10が取り付けられている。具体的には、試料保持具10のうち金属部材4が筐体5の貫通孔50を囲んでいるとともに、金属部材4とセラミック基板1とによって貫通孔50を塞いでいる。金属部材4は、筐体5に接合されるとともに、セラミック基板1の試料保持面11が露出する筐体5内の空間を筐体5およびセラミック基板1と共に封止している。   The housing 5 has a through hole 50 that opens to the lower side, and the sample holder 10 is attached so as to close the through hole 50. Specifically, the metal member 4 of the sample holder 10 surrounds the through hole 50 of the housing 5, and the through hole 50 is closed by the metal member 4 and the ceramic substrate 1. The metal member 4 is bonded to the housing 5 and seals the space in the housing 5 where the sample holding surface 11 of the ceramic substrate 1 is exposed together with the housing 5 and the ceramic substrate 1.

図2に示すように、試料保持具10は、一方の主面に試料保持面11を有した積層板から成るセラミック基板1と、セラミック基板1の層間に設けられた第1ヒータ2と、セラミック基板1の他方の主面に設けられた金属部材4と、平面透視したときに金属部材4に少なくとも一部が重なるように、セラミック基板1の第1ヒータ2が設けられた層間とは異なる層間に設けられた第2ヒータ3とを備えている。   As shown in FIG. 2, the sample holder 10 includes a ceramic substrate 1 made of a laminated plate having a sample holding surface 11 on one main surface, a first heater 2 provided between layers of the ceramic substrate 1, and a ceramic. The metal member 4 provided on the other main surface of the substrate 1 and an interlayer different from the layer provided with the first heater 2 of the ceramic substrate 1 so that at least a part of the metal member 4 overlaps the metal member 4 when seen in a plan view. The second heater 3 is provided.

セラミック基板1は、試料を保持するための部材である。セラミック基板1は積層体から成る。セラミック基板1は、例えば、円板状の部材である。セラミック基板1は一方の主面に試料保持面11を有する。   The ceramic substrate 1 is a member for holding a sample. The ceramic substrate 1 is formed of a laminate. The ceramic substrate 1 is a disk-shaped member, for example. The ceramic substrate 1 has a sample holding surface 11 on one main surface.

セラミック基板1は、例えば、窒化アルミニウム等のセラミック材料から成る。セラミック基板1は、例えば、複数のグリーンシートを積層して、これを窒素雰囲気中で焼成することによって得ることができる。セラミック基板1の内部には第1ヒータ2および第2ヒータ3が設けられている。また、必要に応じて、セラミック基板1の内部に、静電吸着用電極6が設けられていてもよい。このような構成にするためには、上述した焼成前の複数のグリーンシートのうち所望のグリーンシートにスクリーン印刷法等を用いて、焼成後に第1ヒータ2、第2ヒータ3または静電吸着用電極6と成るパターンを印刷しておけばよい。セラミック基板1の寸法は、例えば、主面の直径を30〜500mm程度に、厚みを5〜25mm程度に設定できる。   The ceramic substrate 1 is made of a ceramic material such as aluminum nitride, for example. The ceramic substrate 1 can be obtained, for example, by laminating a plurality of green sheets and firing them in a nitrogen atmosphere. A first heater 2 and a second heater 3 are provided inside the ceramic substrate 1. Further, if necessary, an electrostatic adsorption electrode 6 may be provided inside the ceramic substrate 1. In order to obtain such a configuration, the first heater 2, the second heater 3 or the electrostatic adsorption is used after baking by using a screen printing method or the like on a desired green sheet among the plurality of green sheets before baking described above. What is necessary is just to print the pattern used as the electrode 6. FIG. The dimensions of the ceramic substrate 1 can be set, for example, such that the diameter of the main surface is about 30 to 500 mm and the thickness is about 5 to 25 mm.

金属部材4は、セラミック基板1を保持するための部材である。図2に示すように、金属部材4は、セラミック基板1の他方の主面に設けられた鍔部41および鍔部41からセラミック基板1から離れるように伸びる筒部42を有する。鍔部41はセラミック基板1の他方の主面に接合されている。鍔部41および筒部42は一体的に形成することができる。鍔部41および筒部42は、例えば、Fe−Ni−Co等の耐熱性および生産性に優れた金属材料から成る。   The metal member 4 is a member for holding the ceramic substrate 1. As shown in FIG. 2, the metal member 4 has a flange portion 41 provided on the other main surface of the ceramic substrate 1 and a cylindrical portion 42 that extends away from the ceramic substrate 1 from the flange portion 41. The flange 41 is joined to the other main surface of the ceramic substrate 1. The collar part 41 and the cylinder part 42 can be integrally formed. The collar part 41 and the cylinder part 42 are made of a metal material having excellent heat resistance and productivity, such as Fe—Ni—Co.

金属部材4において、鍔部41は、セラミック基板1の他方の主面に接合される部位である。鍔部41は、環状の部位であって、セラミック基板1の他方の主面に設けられている。より詳しくは、鍔部41は円環状の部位である。鍔部41の寸法は、例えば、内径を
20〜450mm程度に、円環の幅を2〜20mm程度に設定できる。鍔部41と筒部42の厚みは、例えば、0.2〜2mmに設定できる。なお、鍔部41の内径は、セラミック基板1の他方の主面に配置される各種の端子(図示せず)の配置および試料処理装置100の内部にガスを導入するためにセラミック基板1に設けられるガス供給孔(図示せず)等の配置等を踏まえて設定される。また、鍔部41の円環の幅は、セラミック基板1と金属部材4との接合強度を十分に確保できるように設定される。
In the metal member 4, the flange portion 41 is a portion joined to the other main surface of the ceramic substrate 1. The flange portion 41 is an annular portion and is provided on the other main surface of the ceramic substrate 1. More specifically, the collar portion 41 is an annular portion. The dimension of the collar part 41 can set an internal diameter to about 20-450 mm and the width | variety of a ring to about 2-20 mm, for example. The thickness of the collar part 41 and the cylinder part 42 can be set to 0.2-2 mm, for example. The inner diameter of the flange 41 is provided in the ceramic substrate 1 in order to introduce various terminals (not shown) arranged on the other main surface of the ceramic substrate 1 and to introduce gas into the sample processing apparatus 100. It is set based on the arrangement of gas supply holes (not shown) and the like. In addition, the width of the ring of the collar portion 41 is set so that the bonding strength between the ceramic substrate 1 and the metal member 4 can be sufficiently secured.

鍔部41とセラミック基板1とはろう材によって接合されている。ろう材としては、例えば、銀ろう、または、銀銅ろうを用いることができる。鍔部41とセラミック基板1との接合をより良好に行なうために、セラミック基板1の他方の主面にはメタライズ層(図示せず)が設けられている。メタライズ層は、鍔部41の形状に対応して設けられている。具体的には、円環状の鍔部41に対応するように、メタライズ層も縁環状である。メタライズ層としては、例えば、Ag−Cu−Ti系具金等を用いることができる。   The flange 41 and the ceramic substrate 1 are joined by a brazing material. As the brazing material, for example, silver brazing or silver copper brazing can be used. A metallized layer (not shown) is provided on the other main surface of the ceramic substrate 1 in order to better bond the flange portion 41 and the ceramic substrate 1. The metallized layer is provided corresponding to the shape of the collar portion 41. Specifically, the metallized layer is also in an annular shape so as to correspond to the annular flange 41. As the metallized layer, for example, an Ag—Cu—Ti-based tool or the like can be used.

第1ヒータ2は、セラミック基板1の試料保持面11に保持された試料を第2ヒータ3と共に加熱するための部材である。第1ヒータ2は、セラミック基板11の層間に設けられている。第1ヒータ2に電圧を印加することによって、第1ヒータ2を発熱させることができる。第1ヒータ2で発せられた熱は、セラミック基板1の内部を伝わって、セラミック基板1の上面における試料保持面11に到達する。これにより、試料保持面11に保持された試料を加熱することができる。第1ヒータ2は、複数の折り返し部を有する線状のパターンであって、セラミック基板1の層間のほぼ全面に形成されている。具体的には、図3に示すように同心円状に配列された複数の折り返し部を有する線状パターンがセラミック基板1の1つの層間のほぼ全体に形成されている。なお、図3においては、断面図ではあるが図面の見やすさを優先してハッチングを省略している。また、第1ヒータ2が設けられている領域を塗りつぶして表示するとともに、その一部を部分的に拡大することで第1ヒータ2の配線パターンを示している。第1ヒータ2は、発熱密度が一定となるように形成されている。これにより、試料保持具10の上面において熱分布にばらつきが生じることを抑制できる。   The first heater 2 is a member for heating the sample held on the sample holding surface 11 of the ceramic substrate 1 together with the second heater 3. The first heater 2 is provided between the layers of the ceramic substrate 11. By applying a voltage to the first heater 2, the first heater 2 can generate heat. The heat generated by the first heater 2 is transmitted through the inside of the ceramic substrate 1 and reaches the sample holding surface 11 on the upper surface of the ceramic substrate 1. Thereby, the sample held on the sample holding surface 11 can be heated. The first heater 2 is a linear pattern having a plurality of folded portions, and is formed on almost the entire surface between layers of the ceramic substrate 1. Specifically, as shown in FIG. 3, a linear pattern having a plurality of folded portions arranged concentrically is formed almost entirely between one layer of the ceramic substrate 1. In FIG. 3, although it is a cross-sectional view, hatching is omitted for the sake of easy viewing. Further, the wiring pattern of the first heater 2 is shown by partially displaying a region where the first heater 2 is provided and partially expanding the region. The first heater 2 is formed so that the heat generation density is constant. Thereby, it can suppress that dispersion | variation arises in heat distribution in the upper surface of the sample holder 10. FIG.

第1ヒータ2は、導体成分およびセラミック成分を含んでいる。導体成分としては、例えばタングステン又は炭化タングステンからなる金属材料を含んでいる。セラミック成分としては、窒化アルミニウム等セラミック基板1と同じ成分からなる粉末を含んでいる。   The first heater 2 includes a conductor component and a ceramic component. As a conductor component, the metal material which consists of tungsten or tungsten carbide, for example is included. As a ceramic component, the powder which consists of the same component as the ceramic substrate 1, such as aluminum nitride, is included.

第2ヒータ3は、セラミック基板1の試料保持面11に保持された試料を第1ヒータ2と共に加熱するための部材である。第2ヒータ3は、線状パターンであって、第1ヒータ2と異なる層間に設けられている。図4に示すように、第2ヒータ3は、例えば、円環状に配置された金属部材4の鍔部41に対応するよう円環状に形成されている。第2ヒータ3は、第1ヒータ2と同様の材料から成る。なお、図4においては、断面図ではあるが図面の見やすさを優先してハッチングを省略している。また、第2ヒータ3が設けられている領域を塗りつぶして表示するとともに、その一部を部分的に拡大することで第2ヒータ3の配線パターンを示している。   The second heater 3 is a member for heating the sample held on the sample holding surface 11 of the ceramic substrate 1 together with the first heater 2. The second heater 3 has a linear pattern and is provided between different layers from the first heater 2. As shown in FIG. 4, the 2nd heater 3 is formed in the annular | circular shape so that it may correspond to the collar part 41 of the metal member 4 arrange | positioned in an annular | circular shape, for example. The second heater 3 is made of the same material as the first heater 2. In FIG. 4, although it is a cross-sectional view, hatching is omitted for the sake of easy viewing. The wiring pattern of the second heater 3 is shown by partially displaying a region where the second heater 3 is provided and partially expanding the region.

本実施形態の試料保持具10においては、第2ヒータ3は、平面透視したときに金属部材4に少なくとも一部が重なるように設けられている。これにより、金属部材4の直上において、部分的に発熱密度を高くすることが可能となる。その結果、試料保持面11の均熱性を向上できる。なお、本実施形態においては、第1ヒータ2と試料保持面11との間に第2ヒータ3が設けられているが、これに限られない。具体的には、金属部材4と第1ヒータ2との間に第2ヒータ3が設けられていてもよい。   In the sample holder 10 of the present embodiment, the second heater 3 is provided so as to at least partially overlap the metal member 4 when seen through in plan. Thereby, it is possible to partially increase the heat generation density directly above the metal member 4. As a result, the thermal uniformity of the sample holding surface 11 can be improved. In the present embodiment, the second heater 3 is provided between the first heater 2 and the sample holding surface 11, but the present invention is not limited to this. Specifically, the second heater 3 may be provided between the metal member 4 and the first heater 2.

さらに、第1ヒータ2は、平面視した時に金属部材4に少なくとも一部が重なっている
ことが好ましい。これにより、金属部材4の直上において、第1ヒータ2および第2ヒータ3が重なる部分を形成できるので、金属部材4の直上において発熱密度を高くすることができる。
Furthermore, it is preferable that the first heater 2 at least partially overlaps the metal member 4 when viewed in plan. As a result, a portion where the first heater 2 and the second heater 3 overlap can be formed immediately above the metal member 4, so that the heat generation density can be increased immediately above the metal member 4.

さらに、金属部材4は、セラミック基板1の他方の主面に接する部分が円環状であるとともに、第2ヒータ3が、金属部材4の他方の主面に接する部分に重なる円環状であるとよい。これにより、ヒータサイクル下においてセラミック基板1と金属部材4とが熱膨張または熱収縮したときに、金属部材4と同じ形状である第2ヒータ3がセラミック基板1の一部を金属部材4と共に挟み込むことによって、セラミック基板1に生じる変形を抑制できる。これにより、試料保持具10の長期信頼性を向上できる。なお、ここでいう「第2ヒータ3が円環状である」とは、第2ヒータ3自体が円環状である場合は勿論のこと、第2ヒータ3が細かな配線パターンであるとともにこの配線パターンが設けられた領域が円環状である場合も含んで意味している。   Further, the metal member 4 is preferably in an annular shape at a portion in contact with the other main surface of the ceramic substrate 1, and the second heater 3 is overlapped with a portion in contact with the other main surface of the metal member 4. . Thereby, when the ceramic substrate 1 and the metal member 4 are thermally expanded or contracted under the heater cycle, the second heater 3 having the same shape as the metal member 4 sandwiches a part of the ceramic substrate 1 together with the metal member 4. Thereby, the deformation | transformation which arises in the ceramic substrate 1 can be suppressed. Thereby, the long-term reliability of the sample holder 10 can be improved. Here, “the second heater 3 has an annular shape” means not only the case where the second heater 3 itself has an annular shape, but also the second heater 3 has a fine wiring pattern and this wiring pattern. This also includes the case where the region provided with is an annular shape.

さらに、図5に示すように、セラミック基板1が他方の主面に凸部12を有しているとともに、平面透視したときに第2ヒータ3の少なくとも一部が凸部12に重なっているとよい。凸部12は、例えば、金属部材4を試料保持具10に取り付けやすくする等のために設けられる。具体的には、凸部12の表面に金属部材4を設けることによって凸部が設けられていない部分に設けられる配線等と金属部材4とを離して配置できる。また、図5に示す構成とは異なる構成として、金属部材4の内周面を凸部に接触させるようにして、金属部材4を凸部にはめ込むこともできる。凸部12が設けられている部分は、表面積が大きくなることによって外部へ熱が逃げやすくなってしまうが、この凸部12に重なるように第2ヒータ3を設けることによって試料保持面11における均熱性の悪化を低減できる。   Furthermore, as shown in FIG. 5, when the ceramic substrate 1 has the convex portion 12 on the other main surface and at least a part of the second heater 3 overlaps with the convex portion 12 when seen through the plane. Good. The convex portion 12 is provided, for example, to make it easy to attach the metal member 4 to the sample holder 10. Specifically, by providing the metal member 4 on the surface of the convex portion 12, the metal member 4 and the wiring provided in a portion where the convex portion is not provided can be arranged separately. Further, as a configuration different from the configuration shown in FIG. 5, the metal member 4 can be fitted into the convex portion such that the inner peripheral surface of the metal member 4 is brought into contact with the convex portion. In the portion where the convex portion 12 is provided, heat easily escapes to the outside due to an increase in the surface area. However, by providing the second heater 3 so as to overlap the convex portion 12, the level on the sample holding surface 11 is increased. Thermal deterioration can be reduced.

さらに、第1ヒータ2と第2ヒータ3とが電気的に独立しているとよい。第1ヒータ2と第2ヒータ3とを互いに独立して制御することが可能になることによって、セラミック基板1の温度分布をより精密に制御できる。これにより、試料保持面11の均熱性をさらに向上できる。   Furthermore, it is preferable that the first heater 2 and the second heater 3 are electrically independent. Since the first heater 2 and the second heater 3 can be controlled independently of each other, the temperature distribution of the ceramic substrate 1 can be controlled more precisely. Thereby, the soaking | uniform-heating property of the sample holding surface 11 can further be improved.

さらに、セラミック基板1の表面に入力端子および出力端子がさらに設けられており、第1ヒータ2および第2ヒータ3が入力端子および出力端子に電気的に接続されていてもよい。このように、第1ヒータ2と第2ヒータ3とを1つの入出力端子に接続することによって、入出力端子の数を減らすことができる。これにより、不要な熱引きが生じてしまうおそれを低減できる。   Furthermore, an input terminal and an output terminal may be further provided on the surface of the ceramic substrate 1, and the first heater 2 and the second heater 3 may be electrically connected to the input terminal and the output terminal. Thus, the number of input / output terminals can be reduced by connecting the first heater 2 and the second heater 3 to one input / output terminal. This can reduce the possibility of unnecessary heat pulling.

上記の実施の形態では、第1ヒータ2は、セラミック基板1の1つの層間のほぼ全体に形成される例を示したが、これに限られない。第1ヒータ2は、セラミック基板1の1つの層間の中央部に形成されると共に、第2ヒータ3がセラミック基板1の異なる層間の外周部に形成されており、円環状に形成された金属部材4の付近で、第1ヒータ2と第2ヒータ3とが重なるように配置されていてもよい。また、試料保持具10は、第1ヒータ2および第2ヒータ3に限らず、さらに、平面透視で金属部材4に重なる第3ヒータ等を有していてもよい。   In the above-described embodiment, the example in which the first heater 2 is formed almost entirely between one layer of the ceramic substrate 1 is shown, but the present invention is not limited to this. The first heater 2 is formed at the center between one layer of the ceramic substrate 1, and the second heater 3 is formed at the outer periphery between different layers of the ceramic substrate 1. 4, the first heater 2 and the second heater 3 may be arranged so as to overlap each other. The sample holder 10 is not limited to the first heater 2 and the second heater 3, and may further include a third heater that overlaps the metal member 4 in a plan view.

1:セラミック基板
11:試料保持面
12:凸部
2:第1ヒータ
3:第2ヒータ
4:金属部材
41:鍔部
42:筒部
5:筐体
6:静電吸着用電極
50:貫通孔
10:試料保持具
100:試料処理装置
1: Ceramic substrate 11: Sample holding surface 12: Convex part 2: First heater 3: Second heater 4: Metal member 41: Gutter part 42: Tube part 5: Case 6: Electrode for electrostatic attraction 50: Through hole 10: Sample holder 100: Sample processing apparatus

Claims (7)

一方の主面に試料保持面を有した積層板から成るセラミック基板と、該セラミック基板の層間に設けられた第1ヒータと、前記セラミック基板の他方の主面に設けられた金属部材と、平面透視したときに前記金属部材に少なくとも一部が重なるように、前記セラミック基板の前記第1ヒータが設けられた層間とは異なる層間に設けられた第2ヒータとを備えたことを特徴とする試料保持具。   A ceramic substrate formed of a laminate having a sample holding surface on one main surface; a first heater provided between layers of the ceramic substrate; a metal member provided on the other main surface of the ceramic substrate; A sample comprising: a second heater provided in a different layer from the layer in which the first heater of the ceramic substrate is provided so that at least part of the metal member overlaps when viewed through Retaining tool. 前記第1ヒータは、平面透視した時に前記金属部材に少なくとも一部が重なっていることを特徴とする請求項1に記載の試料保持具。   2. The sample holder according to claim 1, wherein the first heater is at least partially overlapped with the metal member when viewed through a plane. 前記金属部材は、前記セラミック基板の前記他方の主面に接する部分が環状であるとともに、前記第2ヒータが、前記金属部材の前記他方の主面に接する部分に重なる環状であることを特徴とする請求項1に記載の試料保持具。   The metal member has an annular shape in contact with the other main surface of the ceramic substrate, and the second heater has an annular shape overlapping with a portion in contact with the other main surface of the metal member. The sample holder according to claim 1. 前記セラミック基板が前記他方の主面に凸部を有しているとともに、平面透視したときに前記第2ヒータの少なくとも一部が前記凸部に重なっていることを特徴とする請求項1に記載の試料保持具。   The ceramic substrate has a convex portion on the other main surface, and at least a part of the second heater overlaps the convex portion when seen through a plane. Sample holder. 前記第1ヒータと前記第2ヒータとが電気的に独立していることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の試料保持具。   The sample holder according to any one of claims 1 to 4, wherein the first heater and the second heater are electrically independent. 前記セラミック基板の表面に入力端子および出力端子がさらに設けられており、前記第1ヒータおよび前記第2ヒータが前記入力端子および前記出力端子に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の試料保持具。   The input terminal and the output terminal are further provided on the surface of the ceramic substrate, and the first heater and the second heater are electrically connected to the input terminal and the output terminal. The sample holder according to any one of claims 1 to 4. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の試料保持具と、貫通孔を有する筐体とを備えており、前記セラミック基板および前記金属部材が前記貫通孔を塞ぐように前記筐体に取り付けられていることを特徴とする試料処理装置。   A sample holder according to any one of claims 1 to 6 and a casing having a through hole, and the ceramic substrate and the metal member are attached to the casing so as to block the through hole. A sample processing apparatus.
JP2015129385A 2015-06-29 2015-06-29 Sample holder and sample processing apparatus equipped with the same Active JP6567895B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015129385A JP6567895B2 (en) 2015-06-29 2015-06-29 Sample holder and sample processing apparatus equipped with the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015129385A JP6567895B2 (en) 2015-06-29 2015-06-29 Sample holder and sample processing apparatus equipped with the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017017079A true JP2017017079A (en) 2017-01-19
JP6567895B2 JP6567895B2 (en) 2019-08-28

Family

ID=57828264

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015129385A Active JP6567895B2 (en) 2015-06-29 2015-06-29 Sample holder and sample processing apparatus equipped with the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6567895B2 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001102157A (en) * 1999-10-01 2001-04-13 Ngk Insulators Ltd Ceramic heater
JP2002170655A (en) * 2000-11-30 2002-06-14 Ngk Insulators Ltd Heating device
JP2004056084A (en) * 2002-03-13 2004-02-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Holder for semiconductor manufacturing system
JP2009187948A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 Ngk Insulators Ltd Base board heating device
JP2015012093A (en) * 2013-06-27 2015-01-19 住友電気工業株式会社 Optical semiconductor element

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001102157A (en) * 1999-10-01 2001-04-13 Ngk Insulators Ltd Ceramic heater
JP2002170655A (en) * 2000-11-30 2002-06-14 Ngk Insulators Ltd Heating device
JP2004056084A (en) * 2002-03-13 2004-02-19 Sumitomo Electric Ind Ltd Holder for semiconductor manufacturing system
JP2009187948A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 Ngk Insulators Ltd Base board heating device
JP2015012093A (en) * 2013-06-27 2015-01-19 住友電気工業株式会社 Optical semiconductor element

Also Published As

Publication number Publication date
JP6567895B2 (en) 2019-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6463938B2 (en) Electrostatic chuck
JP6001402B2 (en) Electrostatic chuck
JP6530333B2 (en) Heating member and electrostatic chuck
JP6690918B2 (en) Heating member, electrostatic chuck, and ceramic heater
JP6513938B2 (en) Method of manufacturing electrostatic chuck
KR101929278B1 (en) Electrostatic chuck
JP6382979B2 (en) Mounting member
JP2016189425A (en) Ceramic heater and control method therefor, electrostatic chuck and control method therefor
JP2018123348A (en) Wafer susceptor
TWI816949B (en) Mounting table and method of making the mounting table
JP2012089694A (en) Wafer holder of 2 layer rf structure
KR102276102B1 (en) Wafer heating device
JP6342769B2 (en) Electrostatic chuck
JP2018005999A (en) Ceramic heater
JP2018045920A (en) Ceramic heater and method of manufacturing the same
JP2018056331A (en) Heating apparatus
JP6567895B2 (en) Sample holder and sample processing apparatus equipped with the same
JP6392612B2 (en) Electrostatic chuck
JP6591922B2 (en) Sample holder
JP3157070U (en) Ceramic heater
JP2018185972A (en) Sample holder
JP2018006269A (en) Ceramic heater
JP6525791B2 (en) Sample holder and sample processing apparatus provided with the same
JP6871277B2 (en) Sample holder
JP6525849B2 (en) Sample holder

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180323

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181211

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190702

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190801

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6567895

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150