JP2017003259A - 太陽熱吸収エレメント - Google Patents

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Abstract

【課題】既存の自動製造ラインにより、大量生産にて製造することを可能にするTPS封止された後方絶縁部を有する太陽熱吸収エレメントを提供する。【解決手段】カバーガラス(110)、ダイレクトフロー吸収器(120)、前記カバーガラスと前記吸収器とを距離(h1)の間隔を介して相互に接続するための前方熱可塑性シーリング(130)、並びに前記カバーガラス、前記吸収器、及び前記前方シーリングによって形成された前方シール空間(134)を有し、第1の低熱伝導ガスで満たされている。前記エレメントは、後方絶縁部(160)、前記絶縁部と前記吸収器とを距離(h2)の間隔を介して相互に接続するための後方熱可塑性シーリング(170)、並びに前記絶縁部、前記吸収器、及び前記後方シーリングによって形成された後方シール空間を更に有し、第2の低熱伝導ガスで満たされている。【選択図】図1a

Description

本出願は、一般的に太陽熱吸収エレメントに関する。
空気の流れによって太陽熱吸収装置の構造内を侵襲する、砂、塩、及び昆虫は、該吸収装置の寿命及び効率を損なうダメージの原因となる。
これらのダメージを除去するため、熱可塑性スペーサ―(TPS)によってシールされた吸収装置モジュールが開発されている。該モジュールでは、TPSによってカバーガラスが吸収装置に封止されている。
TPS封止モジュールは、吸収エレメントの内部を望ましくない砂、塩、及び昆虫が侵襲することから吸収装置を保護する。
しかし、吸熱モジュールがTPS封止モジュールであったとしても、連続生産の製造工程は絶縁材を付加するときに多くの手作業を含み、モジュールは吸収器フレームに手作業で装着されるため、吸収器の製造コストは高い。
本発明の目的の1つは、上述の欠点を除去し、TPS封止された後方絶縁部を有する太陽熱吸収エレメントを提供することである。このTPS封止された後方絶縁部は、TPS絶縁ガラス製造のために使用される既存の自動製造ラインにより、エレメントを大量生産にて製造することを可能にするものである。
本発明の目的の1つは、請求項1の太陽熱吸収用エレメント、請求項6の太陽熱吸収装置、及び請求7の方法の提供を行うことである。
本発明のある実施態様は、カバーガラス、ダイレクトフロー吸収器、カバーガラスと吸収器とを間隔を介して相互に接続するための前方熱可塑性シーリング、並びにカバーガラス、吸収器、及び前方シーリングによって形成された前方シール空間を有する太陽熱吸収エレメントである。前方空間は第1の低熱伝導性ガスによって満たされている。このエレメントは、後方絶縁部、上記絶縁部と上記吸収器とを間隔を介して相互に接続するための後方熱可塑性シーリング、並びに絶縁部、吸収器、及び後方シーリングによって形成された後方シール空間を更に有する。上記後方空間は第2の低熱伝導性ガスによって満たされている。
上記ダイレクトフロー吸収器とは、該吸収器の構造の内部を熱輸送流体、例えば水、空気、又は不凍液、が循環する吸収器のことである。
上記熱可塑性シーリングとは、熱可塑性スペーサ―(TPS)技術によって製造されたシーリング(スペーサ―)のことである。
上記低熱伝導性ガスとは、熱伝導性の低いガス、例えば希ガス、のことである。この希ガスは、例えば、アルゴン、クリプトン、又はキセノンであってよい。
ロール圧接吸収器とは、少なくとも1つのチューブを有し、ロール圧接(ロールボンド)技術によって得られる吸熱器のことである。
高選択的真空コーティングとは、例えば、真空中で堆積して、赤外線輻射による熱の放射が低く96%以上の太陽熱を吸収する選択的吸収コーティングを形成するコーティングのことである。
本発明のある実施態様は、吸収エレメントを有する太陽熱吸収装置である。このエレメントは、カバーガラス、ダイレクトフロー吸収器、カバーガラスと吸収器とを間隔を介して相互に接続するための前方熱可塑性シーリング、カバーガラス、吸収器、及び前方シーリングによって形成された前方シール空間を有する。前方空間は第1の低熱伝導性ガスによって満たされている。このエレメントは、後方絶縁部、上記絶縁部と上記吸収器とを間隔を介して相互に接続するための後方熱可塑性シーリング、並びに絶縁部、吸収器、及び後方シーリングによって形成された後方シール空間を更に有する。上記後方空間は第2の低熱伝導性ガスによって満たされている。
本発明のある実施態様は、太陽熱吸収エレメントの製造方法である。このエレメントは、カバーガラス、ダイレクトフロー吸収器、前方及び後方熱可塑性シーリング、前方シール空間、並びに後方絶縁部を有する。上記方法は、カバーガラス、吸収器、及び前方シーリングが前方空間を形成するように、前方シーリングによってカバーガラスと吸収器とを間隔を介して相互に接続すること、並びに前方空間を第1の低熱伝導ガスで充填することを含む。この方法は、絶縁部、吸収器、及び後方シーリングが後方空間を形成するように、後方シーリングによって絶縁部と吸収器とを間隔を介して相互に接続すること、並びに後方空間を第2の低熱伝導ガスで充填することを更に含む。
本発明の更なる実施態様は、従属項に定義されている。
従属項に記載された要件は、明示の特記がない限り、相互に任意に結合可能である。
請求項又は発明の詳細な説明中のその他の部分に異なる定義が与えられていない限り、以下の動詞及び技術用語の定義が適用されるべきである。
本明細書中、「有する(comprise)」という動詞は、記載されていない要件を除外せず、その存在を要求もしない非限定的なものとして用いられる。「含む(include)」及び「持つ(have/has)」は、有する(comprise)と同様に定義される。
本明細書中の「ある」及び「少なくとも1つの」の用語は1つ又は1つを超えるものとして定義され、「複数の」の用語は2つ又は2つを超えるものとして定義される。
本明細書中の「その他の」の用語は、少なくとも第2又はそれを超えるものとして定義される。
「又は」の用語は、文脈において明確に他の意味規定されていない限り、一般的に「及び/又は」を包含する意味で使用される。
本発明の実施態様について添付の図面を参照しつつ説明する。
図1aは、太陽熱吸収エレメントの断面図を示す。 図1bは、太陽熱吸収装置の断面図を示す。
図1aは、太陽熱吸収エレメント(モジュール)100の断面図を示す。
エレメント100は、カバーグラス110及びダイレクトフロー吸収器120を有する。
ガラス110は、機械的損傷、昆虫、及び埃から吸収器120を保護する。
ガラス110は、例えば、太陽の放射を吸収器120に通過させ、吸収器120からの熱損失を減少する、高透明非反射性の安全ガラスであってよい。
吸収器120は、太陽放射を吸収するように構成される。
吸収器120は、入口127a及び出口127bを有し、連続する熱輸送チャネルを形成する少なくとも1つの輸送チューブ126を有する。このチャネルは、吸収器120の内部に熱輸送流体、例えば水、空気、又は不凍液、を循環するように構成される。
入口127a及び出口127bは、外部デバイス、例えば、太陽熱吸収装置190の配管又はそのアダプタ手段、に接続されることが可能である。
堅固な構造を有する吸収器120は、熱損失を最小とするために、ガラス110と吸収器120との間の第1の距離hを一定に維持する。すなわち、吸収器120がガラス110の方向に撓むことを防止する。熱損失は、距離hが10mmのときに最小となる。吸収器120が、距離hが10mm未満となるようにガラス110の方向に撓むと、熱損失は劇的に増大する。
吸収器120は、例えば2枚のアルミニウム板からロール圧接技術によって形成されたロール圧接吸収器であってよい。
チューブ126のパターン及びサイズは、1枚のプレートの内表面上に、特別のシルクスクリーン及びインキにより印刷される。これらのプレートは、ロールプロセスにより、接着されたプレートの内表面間に印刷されたパターンを残すようにして相互に接着される。チューブ126は、印刷されたパターンを通して圧縮空気を充満することにより、プレート間に形成される。
或いは、吸収器120は、例えば2枚のスチール、ステンレススチール、又は銅プレートから形成されたダイレクトフロー吸収器であってよい。
チューブ126は、接着がプレート同士の溶接によって得られる他は、ロール圧接吸収器120と同様にして形成される。
チューブ126のデザインとしては、熱輸送流体の流動抵抗を減少するように構成された、例えば、片撚りチューブ126及び/又は多分岐チューブ126であってよい。
吸収器120は、更に、光を吸収するように構成されたコーティング150を有していてもよい。
このコーティング150は、ガラス110と対向する、吸収器120の前方表面122上にあってよい。
コーティング150は、真空中、物理蒸着(PVD)プロセス及び/又はプラズマ加速化学蒸着(PECVD)プロセスによって、一度で、吸収器120の全体上に完全に堆積されてよい。
コーティング150は、例えば、3層の堆積層152、154、156を有する高選択的真空多層コーティングであってよい。
前方表面122上の第1層152は、光を吸収し、且つ吸収器120の性能を減少させるエレメントからの吸収材料の拡散を防止するように構成される。
層152の組成は、チタン、アルミニウム、窒素、及び以下の元素のうちの1つを含有してよい:ケイ素、イットリウム、セリウム、及びクロム。
この組成は、例えば、(TiAlSi)Nであってよい。或いは、Y、Ce、及びCrのうちの少なくとも1種を、追加的に又はSiの代わりに使用してよい。
係数x、y、z、a、及びbは、層152、154、156の化学量論的又は非化学両論的な組成を示す。
層152のx、y、z、及びaの値は、それぞれ例えば、0.4;0.5;0.1;及び1.0であってよい。典型的な値は、それぞれ、0.3〜0.5;0.3〜0.6;0.03〜0.2;及び0.9〜1.1である。
層152は、例えば10〜600nmの層厚を有していてよい。
層152上の第2層である中間層154は、光を吸収して選択された波長の干渉を増大するように構成される。
層154の組成は、Ti、Al、N、酸素、及び以下の元素のうちの1つを含有してよい:Si、Y、Ce、及びCr。
この組成は、例えば、(TiAlSi)Nであってよい。或いは、Y、Ce、及びCrのうちの少なくとも1種を、追加的に又はSiの代わりに使用してよい。
層154のx、y、z、a、及びbの値は、それぞれ例えば、0.4;0.5;0.1;0.8;及び0.3であってよい。典型的な値は、それぞれ、0.3〜0.5;0.3〜0.6;0.03〜0.2;0.2〜0.8;及び0.2〜0.8である。
層154は、例えば10〜150nmの層厚を有していてよい。
層154上の第3層である最上層156は、反射防止層として機能し、そしてコーティング150を周囲のガス136から隔離するように構成される。
層156の組成は、Ti、Al、Si、N、及びOを含有してよい。
この組成は、例えば、(TiAlSi)Nであってよい。
典型的には、層156のx、y、z、a、及びbの値は、それぞれ例えば、0〜0.2;0〜0.2;0〜1;0〜2;及び0〜2である。
層156は、例えば50〜250nmの層厚を有していてよい。
コーティング150は、選択的吸収コーティングであってよい。例えば、層152がTiAlAiN層であり、層154がTiAlSiON層であり、そして層156がSiO層である、いわゆるMEMO多層コーティングである。
エレメント100は、ガラス110と吸収器120との間に、一定の距離h、例えば、10、15、又は20mm、を介してガラス110及び吸収器120を相互に付着させる前方熱可塑性スペーサ―(TPS)シーリング130を更に有する。
このアタッチメントは、自動生産ライン中でTPS技術によって製造される。シーリング130は、所望のシール圧及び距離hを達成するためにガラス110上に導入される。ガラス110は、シーリング130及び吸収器120とともに、空間134を取り囲むガラス110、吸収器120、及びシーリング130によって前方シール空間134が形成されるように、一緒にプレスされる。
シーリング130は、空間134を密閉シールする気密シーリングである。
シーリング130は、高温シール材料、例えばブチルシーリング、であってよい。
ガラス110及び吸収器120が一緒にプレスされているとき、低熱伝導性ガス136、例えばアルゴンガス、が、該ガス136によって空間が充填されるように空間134に注入される。
ガラス110、吸収器120、及びシーリング130は、空間134中にガス136を保持し、ガス136がエレメント100の外部に流れ出ることを防止する。
ガス136は、対流による熱損失を減少させる。
エレメント100は、ガラス110と吸収器120との間に、シーリング130に付着する前方第2シーリング140を更に有する。
シーリング140は、シーリング130を保護し、吸収器120の重量を支える。
シーリング140は、例えばシリコンシーリングであってよい。
エレメント100は、機械的損傷から吸収器120を保護し、吸収器120からの熱損失を減少させてエレメント100の熱的絶縁を支援する後方絶縁部160を更に有する。
絶縁部160は更に、機械的損傷、昆虫、及び埃から吸収器120を保護する。
絶縁部160は、腐食しない、例えば、ガラス、ポリウレタン(PUR)板、又はポリイソシアヌレート(PIR)板であってよい。
エレメント100は、絶縁部160と吸収器120とを、第2の距離h2、例えば、10、15、又は20mm、を介して相互に付着させる後方TPSシーリング170を更に有する。
このアタッチメントは、ガラス110及び吸収器120のアタッチメントと同様に、空間174を取り囲む絶縁部160、吸収器120、及びシーリング170によって後方シール空間174を形成するように、自動生産ライン中で製造される。
ガラス110及び絶縁部160のアタッチメントは、同時に又は連続的な生産工程中で製造されてよい。
シーリング170は、空間174を密閉シールする気密シーリングであり、例えばブチルシーリングであってよい。
空間174は、空間134と同様に、第2の低熱伝導性ガス176、例えばアルゴンガス、によって満たされる。
ガス136、176の添加は、TPS技術に従って、同時に又は連続する生産工程中で行われてよい。
絶縁部160、吸収器120、及びシーリング170は、ガス176を空間174中に保持し、ガス136がエレメント100の外部に流れ出ることを防止する。
ガス176は、対流による熱損失を減少させる。
エレメント100は、絶縁部160と吸収器120との間に、シーリング170に付着する後方第2シーリング180を更に有する。
例えばシリコンシーリングであってよいシーリング180は、シーリング170を保護し、吸収器の重量を支える。
シーリング140、180の形成は、TPS技術に従って、同時に又は連続する生産工程中で行われてよい。
機密シール空間134は、吸収器120の製品寿命中に埃又は昆虫に起因する効率変化がないように、該吸収器内に埃又は昆虫が入ることを防止する場合に該吸収器120の効率を維持する。
機密シール空間134は、更に、エレメント100が早朝からエネルギーの生産を開始できるよう、ガラス110上への水滴の凝集を防止する。
図1bは、図1aに示したエレメント100を有する太陽熱吸収装置190の断面図を示す。
吸収装置190は、例えば太陽熱冷房用途に用いられる、例えば高温用の平板状吸収装置である。
吸収装置190は、吸収装置190を機械的損傷、昆虫、及び埃から保護する吸収装置のフレーム192を更に有してよい。
フレーム192は、例えば、アルミニウム、複合プラスチック、又は木製であってよい。
フレーム192は、その内表面上に少なくとも1つの支持(絶縁)エレメント194を更に有する。
支持エレメント194は、エレメント100がフレーム190中に据え付けられたときにエレメント100を支持する。
支持エレメント194は、エレメント100を熱的に絶縁し、周辺環境の影響を最小化させる。
支持エレメント194は、例えば、ミネラルファイバーウール又はウッドファイバーウールであってよい。
エレメント100は、吸収装置190の内部に水が浸透することを防止する耐熱及び耐紫外線の接着剤190、及びスペーサーテープにより、ガラス110のエッジ部と絶縁部160とを接着することによって、フレーム192に装着される。
エレメント100は、支持エレメント194からのいかなる揮発成分の凝集もないため、支持エレメント194用に安価な材料を使用することができる。
或いは、吸収装置190が、図1aによる断面上に、フレーム192及び支持エレメント194を有さないものとしてもよい。
吸収装置190は、アダプタ手段及び配管手段を更に有するものとし、エレメント100のチューブ126を、入口127a、出口127b、アダプタ手段、及び配管手段に接続することが可能となるようしてよい。
エレメント100は、いくつかの吸収装置190を連結することにより、プロセス及び地域熱供給のための非常に効率的なモジュラー形式の大面積吸収装置の構築を可能とする。
本発明について、本発明について例示された上述の実施態様及び幾つかの利点を参照しながら上記に説明した。
本発明は、これらの実施態様に限定されるだけではなく、本発明の思想の範囲及び後述の特許請求の範囲内にあるすべての可能な実施態様を包含することは明らかである。

Claims (7)

  1. カバーガラス(110)、
    ダイレクトフロー吸収器(120)、
    前記カバーガラスと前記吸収器とを、距離(h1)の間隔を介して相互に接続するための前方熱可塑性シーリング(130)、並びに
    前記カバーガラス、前記吸収器、及び前記前方シーリングによって形成され、第1の低熱伝導ガス(136)に満たされた前方シール空間(134)
    を有する太陽熱吸収エレメント(100)であって、
    該エレメントが、
    後方絶縁(insulation)部(160)、
    前記絶縁部と前記吸収器とを、距離(h2)の間隔を介して相互に接続するための後方熱可塑性シーリング(170)、並びに
    前記絶縁部、前記吸収器、及び前記後方シーリングによって形成され、第2の低熱伝導ガス(176)に満たされた後方シール空間
    を更に有することを特徴とする、前記太陽熱吸収エレメント。
  2. 前記後方シーリングに接続しており、且つ前記絶縁部と前記吸収器との間にある、後方第2シーリング(180)であって、前記後方シーリングを保護し、且つ前記吸収器の重量を支えるように構成された、前記後方第2シーリング(180)を更に有する、請求項1に記載のエレメント。
  3. 前記絶縁部がガラス、ポリウレタン板、又はポリイソシアヌレート板である、請求項1又は2に記載のエレメント。
  4. 前記吸収器が、高選択的真空コーティング(150)をその前方表面(122)上に有するロール圧接吸収器(120)であり、前記コーティングが光を吸収するように構成されている、請求項1〜3のいずれか一項に記載のエレメント。
  5. 前記第2の低熱伝導ガスがアルゴンガスである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のエレメント。
  6. カバーガラス(110)、
    ダイレクトフロー吸収器(120)、
    前記カバーガラスと前記吸収器とを、距離(h1)の間隔を介して相互に接続するための前方熱可塑性シーリング(130)、
    前記カバーガラス、前記吸収器、及び前記前方シーリングによって形成され、且つ第1の低熱伝導ガス(136)で満たされた前方シール空間(134)、
    後方絶縁部(160)、
    前記絶縁部と前記吸収器とを、距離(h2)の間隔を介して相互に接続するための後方熱可塑性シーリング(170)、並びに
    前記絶縁部、前記吸収器、及び前記後方シーリングによって形成され、且つ第2の低熱伝導ガス(176)で満たされた後方シール空間
    を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の太陽熱吸収エレメント(100)
    を有する、太陽熱吸収装置(190)。
  7. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の太陽熱吸収エレメント(100)の製造方法であって、
    該エレメントが、
    カバーガラス(110)、
    ダイレクトフロー吸収器(120)、
    前方及び後方熱可塑性シーリング(130、170)、
    前方シール空間(134)、並びに
    後方絶縁部(160)
    を有し、
    前記方法が、
    前記カバーガラス、前記吸収器、及び前記前方シーリングが前記前方空間を形成するように、前記前方シーリング(130)によって前記カバーガラスと前記吸収器とを距離(h1)の間隔を介して相互に接続すること、
    前記前方空間を第1の低熱伝導ガス(136)で充填すること、
    前記絶縁部、前記吸収器、及び前記後方シーリングが前記後方空間を形成するように、前記後方シーリング(170)によって前記絶縁部と前記吸収器とを距離(h2)の間隔を介して相互に接続すること、並びに
    前記後方空間を第2の低熱伝導ガス(176)で充填すること
    を含む、前記方法。
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