JP2017001899A - Manufacturing method of float glass, and manufacturing apparatus of float glass - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置に関する。 The present invention relates to a float glass manufacturing method and a float glass manufacturing apparatus.
フロート法によるガラス板の製造において、ガラス溶融窯からフロートバスと呼ばれる溶融錫浴槽へ溶融ガラス素地を供給し、溶融錫浴上でガラスリボンを成形後、リフトアウトロールと呼ばれる搬送ロールにてガラスリボンを搬送し、徐冷炉に移送する。通常、ガラスリボンの下面にはドロス(錫、及び錫酸化物)と呼ばれる欠陥が付着している。
液晶用などのフラットパネルディスプレイ用途で使用される1.1mm未満の薄板ガラスにおいては、顧客の要求ニーズに応じてガラス板面に付着するドロス(錫、及び錫酸化物)の大きさが10μm程度のものでも欠陥となるため、一般建築用では許されるサイズのドロス欠陥であっても除去する必要がある。
In the production of glass plates by the float process, a glass ribbon is supplied from a glass melting kiln to a molten tin bath called a float bath, a glass ribbon is formed on the molten tin bath, and then a glass ribbon is formed by a transport roll called a lift-out roll. Is transferred to a slow cooling furnace. Usually, defects called dross (tin and tin oxide) are attached to the lower surface of the glass ribbon.
In a thin glass plate of less than 1.1 mm used for flat panel display applications such as liquid crystal, the size of dross (tin and tin oxide) adhering to the glass plate surface is about 10 μm according to the needs of customers. Therefore, it is necessary to remove even dross defects of the size allowed for general construction.
特許文献1では、リフトアウトロールの下部にカーボンシールと呼ばれるカーボンからなる板状のカーボン製の除去部材を当接させて、リフトアウトロールに付着する錫または錫酸化物を削り、除去するようにしている。
In
フロート法で製造した液晶用の薄板ガラスにおいては、顧客が要求する平坦度を満たすようガラス板の下面を研磨するため、同時にドロスが除去される。近年、溶解、成形工程における平坦度改良施策により、研磨工程におけるガラス板の研磨量が低減され、研磨工程の生産性向上が図られている。 In the thin glass sheet for liquid crystal manufactured by the float process, dross is removed at the same time because the lower surface of the glass plate is polished to satisfy the flatness required by the customer. In recent years, the amount of polishing of the glass plate in the polishing process has been reduced by the measure for improving the flatness in the melting and forming processes, and the productivity of the polishing process has been improved.
しかし、ガラス板の研磨量が低減されるにつれ、ガラス板面に付着するドロスが除去しきれない問題が発生しているため、研磨工程の前段階でドロスを除去する必要がある。特許文献1に記載の除去部材を改良するだけでは、ドロスを除去しきれないことがある。
特許文献2では、フロートガラスを酸溶液と接触させ、次いで水洗して付着錫を除去洗浄する方法が提案されているが、工程を増やすことになり、全体としての生産性は下がり、コストアップとなる。
However, as the polishing amount of the glass plate is reduced, there is a problem that the dross attached to the glass plate surface cannot be removed. Therefore, it is necessary to remove the dross at the previous stage of the polishing process. There are cases where dross cannot be completely removed by simply improving the removal member described in
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、工程を増やさずに研磨工程におけるガラス板の研磨量低減を可能とするフロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a float glass manufacturing method and a float glass manufacturing apparatus that can reduce the polishing amount of a glass plate in a polishing process without increasing the number of processes. And
上記課題を解決するため、本発明は、ガラス原料を溶解する溶解工程と、溶解したガラスを清澄する清澄工程と、清澄した溶融ガラスをフロートバスの溶融金属上に連続的に供給し、前記溶融金属上でガラスリボンを成形する成形工程と、リフトアウトロールによって前記ガラスリボンを前記フロートバスから引き出し、レヤーロールによって前記ガラスリボンを搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷工程と、を有し、前記徐冷工程は、レヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを用い、前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とするフロートガラス製造方法を提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a melting step for melting a glass raw material, a clarification step for clarifying the molten glass, and continuously supplying the clarified molten glass onto the molten metal of the float bath, A forming step of forming a glass ribbon on a metal, a slow cooling step of drawing out the glass ribbon from the float bath by a lift-out roll, and gradually cooling the glass ribbon to a temperature below the strain point of the glass while transporting the glass ribbon by a layer roll; The slow cooling step is performed between the layer rolls and using an injector installed below the glass ribbon, and supplying a gas containing a halogen element to the bottom surface of the glass ribbon. Provided is a float glass manufacturing method including a foreign matter removing step of removing foreign matter attached to a surface.
また、本発明は、溶融金属上でガラスリボンを成形するフロートバスと、前記フロートバスに隣接して前記ガラスリボンを引き上げるリフトアウトロールを備えたド口スボックスと、前記ド口スボックスに隣接し、前記ガラスリボンをレヤーロールにより搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷する徐冷炉と、を備え、前記徐冷炉はレヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを備え、前記インジェクタは前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去することを特徴とするフロートガラス製造装置を提供する。 In addition, the present invention provides a float bath for forming a glass ribbon on a molten metal, a lift box that includes a lift-out roll that pulls up the glass ribbon adjacent to the float bath, and adjacent to the dock box. And a slow cooling furnace that gradually cools the glass ribbon to a temperature below the strain point of the glass while being conveyed by a layer roll, and the slow cooling furnace is provided between the layer rolls and includes an injector installed below the glass ribbon, The injector provides a float glass manufacturing apparatus that removes foreign matter adhering to the bottom surface by supplying a gas containing a halogen element to the bottom surface of the glass ribbon.
本発明のフロートガラス製造方法、及びフロートガラス製造装置によれば、工程を増やさずに研磨工程におけるガラス板の研磨量低減が可能になる。 According to the float glass manufacturing method and the float glass manufacturing apparatus of the present invention, it is possible to reduce the polishing amount of the glass plate in the polishing step without increasing the number of steps.
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are not departed from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
本実施形態では、本発明のフロートガラス製造方法の構成例について説明する。 In the present embodiment, a configuration example of the float glass manufacturing method of the present invention will be described.
図1は、フロートガラスの製造工程の説明図である。溶融ガラスが、フロートバス2の溶融金属9上に連続的に供給され、溶融金属9上でガラスリボン5が成形される(成形工程)。なお、図示しないが、溶融ガラスは、図1の上流側の溶解工程においてガラス原料を溶解し、更に清澄工程において清澄処理を施したものである。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a manufacturing process of float glass. Molten glass is continuously supplied onto the molten metal 9 of the
次いでフロートバス2の溶融金属9から複数のリフトアウトロール7によってガラスリボン5を引き出し、フロートバス2の出口でガラスリボン5を持ち上げて搬送する。このリフトアウト口一ル7が存在する場所をド口スボックス3という。
Next, the
フロートバス2から引き出されたガラスリボン5は、急激な収縮による割れや平坦度の低下を防止するため、徐冷炉4内の複数のレヤーロール8で搬送されながら、ガラスの歪点温度以下まで徐々に冷却される(徐冷工程)。徐冷後のガラスリボン5は、所望のサイズに切断される(切断工程)。
The
以下、ガラスリボン5の厚み方向に対向する一対の面のうち、リフトアウトロール7またはレヤーロール8によって支持される面をボトム面5aとし、他方の面をトップ面5bとして表す。
Hereinafter, of the pair of surfaces facing the thickness direction of the
切断されたフロートガラスの用途が液晶ディスプレイ用ガラス基板の場合、ガラス基板の平坦度を良化させるため、更にガラス基板を研磨する研磨工程を有する。研磨工程は、主として、ガラス基板の錫接触面を機械研磨または化学機械研磨する。生産性向上の観点から、研磨量は3μm以下が好ましく、より好ましくは2μm以下、さらに好ましくは1.5μm以下、特に好ましくは1.0μm以下である。 When the use of the cut float glass is a glass substrate for a liquid crystal display, in order to improve the flatness of the glass substrate, there is further a polishing step for polishing the glass substrate. In the polishing step, the tin contact surface of the glass substrate is mainly subjected to mechanical polishing or chemical mechanical polishing. From the viewpoint of improving productivity, the polishing amount is preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less, still more preferably 1.5 μm or less, and particularly preferably 1.0 μm or less.
本実施形態のフロートガラス製造方法は、上記の徐冷工程において、ガラスリボン5下のレヤーロール8間に設置されたインジェクタ20、30を用いて、ガラスリボン5のボトム面5aにハロゲン元素を含有する気体を供給し、ボトム面5aに付着したドロス等の異物を除去する異物除去工程を有する。
The float glass manufacturing method of the present embodiment contains halogen elements in the
また、図1には示されていないが、上記の徐冷工程において、ガラスリボン5下のレヤーロール8間に設置された保護層形成装置を用いて、ガラスリボン5のボトム面5aにSO2ガスを供給し、ボトム面5aに硫酸塩の疵防止用保護層を形成する保護層形成工程を有する。保護層形成工程は、異物除去工程の前に設けてもよいし、異物除去工程の後に設けてもよい。また、保護層形成工程では、SO2ガスと空気の混合気体を供給してもよい。
Although not shown in FIG. 1, in the above slow cooling step, SO 2 gas is applied to the
次に、図2、図3を用いて異物除去工程を具体的に説明する。 Next, the foreign matter removing step will be specifically described with reference to FIGS.
図2は、本発明の実施形態に係る両流しタイプのインジェクタ20を模式的に示す図である。図3は、本発明の実施形態に係る片流しタイプのインジェクタ30を模式的に示す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a double-
インジェクタ20、30は、いずれの態様で用いてもよくガラスリボン5の移動方向に直列に2個以上並べて、ガラスリボン表面を処理してもよい。両流しインジェクタ20とは、図2に示す通り、供給口21から排気口25へのガスの流れがガラスリボン5の移動方向に対して、順方向と逆方向に均等に分かれるインジェクタである。
The
片流しインジェクタ30とは、供給口31から排気口35へのガスの流れがガラスリボン5の移動方向に対して順方向もしくは逆方向のいずれかに固定されるインジェクタである。図3の実施形態は、供給口31から排気口35へのガスの流れがガラスリボン5の移動方向に対して順方向である。
The single-
インジェクタ20、30の供給口21、31からガラスリボン5のボトム面5aに吹き付けられた気体は、ガラスリボン5の移動方向に対して順方向または逆方向の流路24、34を移動し、排気口25、35へ流出する。
The gas blown from the
インジェクタ20、30の供給口21、31とガラスリボン5のボトム面5aとの距離Dは、好ましくは3〜50mmである。距離Dは、より好ましくは5mm以上であり、さらに好ましくは8mm以上である。また、距離Dは、より好ましくは40mm以下、さらに好ましくは30mm以下である。距離Dを50mm以下とすることにより、気体が大気中に拡散するのを抑制し、所望するガス量に対して、ガラスリボン5のボトム面5aに充分な量のガスを到達させることができる。また、距離Dを3mm以上とすることにより、レヤーロール8間のガラスリボン5が撓んでも、ガラスリボン5のボトム面5aとインジェクタ20、30との接触を回避できる。
The distance D between the
インジェクタ20、30のガラスリボン5の移動方向の距離Lは、好ましくは50〜500mmである。距離Lは、より好ましくは100mm以上、さらに好ましくは200mm以上である。また、距離Lは、より好ましくは400mm以下である。距離Lを500mm以下とすることにより、レヤーロール8間の距離を短くできるため、ガラスリボン5の撓みが抑制され、ドロスを均一に除去できる。また、距離Lを50mm以上とすることにより、供給口21、31と排気口25、35を設けることができる。インジェクタ20の距離Lは100mm以上、インジェクタ30の距離Lは50mm以上であることが好ましい。
The distance L in the moving direction of the
インジェクタ20、30のガラスリボン5の移動方向に対して水平に直交する方向の距離は、ガラスリボン5の該方向の製品領域以上の距離を有することが好ましい。好ましくは3000mm以上、より好ましくは4000mm以上である。
The distance in the direction perpendicular to the moving direction of the
また、ハロゲン元素を含有する気体を供給する供給口21、31と、排気口25、35とが、ガラスリボン5のボトム面5aに対向することが好ましい。
Further, it is preferable that the
本実施形態においては、ハロゲン元素を含有する気体を搬送中のガラスリボン5のボトム面5aに供給してボトム面5aを処理する際のガラスリボン5の温度は、400〜900℃であることが好ましく、500〜800℃であることがより好ましい。ハロゲン元素を含有する気体による錫欠点除去作用は、高温で実施するほど効果が高い。
In the present embodiment, the temperature of the
本実施形態の異物除去工程において、ハロゲン元素を含有する気体が塩化水素(HCl)ガスの場合を例にとると、ガラスリボン5のボトム面5aに付着したドロス(錫、及び錫酸化物)を以下の反応機構により除去する。
SnO2+2HCl → SnCl2 + H2O +1/2O2 (1)
錫酸化物を除去するには、上記式(1)のように、錫酸化物(SnO2)と塩化水素(HCl)を反応させて塩化錫(SnCl2)を生成させるのが好ましい。
また、塩化水素(HCl)ガスに水素(H2)ガスを加え、
SnO2+2H2 → Sn+2H2O (2)
Sn+2HCI → SnCl2+H2 (3)
とすることで、より効率的に錫酸化物を除去することができる。
In the foreign matter removing process of the present embodiment, when the gas containing a halogen element is hydrogen chloride (HCl) gas, for example, dross (tin and tin oxide) adhering to the
SnO 2 + 2HCl → SnCl 2 + H 2 O + 1 / 2O 2 (1)
In order to remove tin oxide, it is preferable to produce tin chloride (SnCl 2 ) by reacting tin oxide (SnO 2 ) and hydrogen chloride (HCl) as in the above formula (1).
In addition, hydrogen (H 2 ) gas is added to hydrogen chloride (HCl) gas,
SnO 2 + 2H 2 → Sn + 2H 2 O (2)
Sn + 2HCI → SnCl 2 + H 2 (3)
By doing so, tin oxide can be more efficiently removed.
上記式(2)の水素(H2)の代わりに、一酸化炭素(CO)、メタン(CH4)、エタン(C2H6)、プロパン(C3H8)、ブタン(C4H10)、エチレン(C2H4)、プロペン(C3H6)、アセチレン(C2H2)、プロピン(C3H4)、硫化水素(H2S)、二酸化硫黄(SO2)、一酸化窒素(NO)、またはアンモニア(NH3)を用いてもよい。 Instead of hydrogen (H 2 ) in the above formula (2), carbon monoxide (CO), methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8 ), butane (C 4 H 10) ), Ethylene (C 2 H 4 ), propene (C 3 H 6 ), acetylene (C 2 H 2 ), propyne (C 3 H 4 ), hydrogen sulfide (H 2 S), sulfur dioxide (SO 2 ), one Nitrogen oxide (NO) or ammonia (NH 3 ) may be used.
上記式(1)、(3)の反応温度は630℃以上であることが好ましい。上記式(1)、(3)で生成する塩化錫(SnCl2)の沸点は623℃であり、ガラスリボン5のボトム面5aから生成する塩化錫(SnCl2)を揮発させるためである。
The reaction temperature of the above formulas (1) and (3) is preferably 630 ° C. or higher. This is because the boiling point of tin chloride (SnCl 2 ) generated by the above formulas (1) and (3) is 623 ° C., and tin chloride (SnCl 2 ) generated from the
なお、塩素を含有する気体が塩化水素(HCl)ガス以外の場合も上記と同様の反応機構で錫欠点が除去される。 Even when the chlorine-containing gas is other than hydrogen chloride (HCl) gas, tin defects are removed by the same reaction mechanism as described above.
本実施形態の異物除去工程では、塩素を含有する気体として、塩化水素(HCl)、塩素(Cl2)、四塩化珪素(SiCl4)、二塩化硫黄(SCl2)、二塩化二硫黄(S2Cl2)、三塩化リン(PCl3)、五塩化リン(PCl5)、三塩化ヨウ素(I2Cl6)、三塩化窒素(NCl3)、一塩化ヨウ素(ICl)、一塩化臭素(BrCl)、または三フッ化塩素(ClF3)を用いることができる。
In the foreign matter removing process of the present embodiment, hydrogen chloride (HCl), chlorine (Cl 2 ), silicon tetrachloride (SiCl 4 ), sulfur dichloride (SCl 2 ), disulfur dichloride (S) are used as the gas containing chlorine. 2 Cl 2), phosphorus trichloride (PCl 3), phosphorus pentachloride (PCl 5),
これらの中でも、塩化水素(HCl)ガスがコスト面、取扱い方法が周知等の理由から好ましい。 Among these, hydrogen chloride (HCl) gas is preferable for reasons such as cost and a well-known handling method.
また、ハロゲン元素を含有する気体として、塩素を含有する気体の他に、フッ素(F2)、臭素(Br2)、フッ化水素(HF)、臭化水素(HBr)、またはヨウ化水素(HI)を用いることができる。 Further, as a gas containing a halogen element, in addition to a gas containing chlorine, fluorine (F 2 ), bromine (Br 2 ), hydrogen fluoride (HF), hydrogen bromide (HBr), or hydrogen iodide ( HI) can be used.
本実施形態の異物除去工程において、ハロゲン元素を含有する気体は、単独のガスとして、ガラスリボン5のボトム面5aに噴霧してもよいが、これらガスの噴霧に使用する供給口21、31等の設備の腐食防止の観点から、窒素や希ガスといった不活性ガスをキャリアガスとして使用し、これらキャリアガスとの混合ガスとして噴霧することが好ましい。
In the foreign matter removing step of the present embodiment, the gas containing a halogen element may be sprayed on the
また、ハロゲン元素を含有する気体に水素(H2)などの還元性ガスを加える場合、別々の供給口(不図示)からハロゲン元素を含有する気体と還元性ガスとをそれぞれ噴霧してもよいし、両気体を予め混合し、混合ガスとして同一の供給口21、31から噴霧してもよい。
When a reducing gas such as hydrogen (H 2 ) is added to a gas containing a halogen element, the gas containing the halogen element and the reducing gas may be sprayed from separate supply ports (not shown). Alternatively, both gases may be mixed in advance and sprayed from the
また、両気体を別々の供給口から噴霧する場合、ガラスリボン5の移動方向において、還元性ガスを、ハロゲン元素を含有する気体よりも上流側で噴霧してもよいし、両気体を同一の位置で噴霧してもよい。
When both gases are sprayed from separate supply ports, the reducing gas may be sprayed upstream of the gas containing the halogen element in the moving direction of the
本発明のフロートガラスの組成は特に限定されず、ソーダライムガラスのようなアルカリ金属成分を含有するガラス組成であってもよいし、アルカリ金属成分を実質的に含まない無アルカリガラス組成であってもよい。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板として広く使用される無アルカリガラス組成のフロートガラスの製造に好適である。 The composition of the float glass of the present invention is not particularly limited, and may be a glass composition containing an alkali metal component such as soda lime glass, or a non-alkali glass composition substantially free of an alkali metal component. Also good. In particular, it is suitable for the production of float glass having a non-alkali glass composition widely used as a glass substrate for liquid crystal displays.
次に、本発明のフロートガラス製造装置の構成例について説明する。 Next, the structural example of the float glass manufacturing apparatus of this invention is demonstrated.
本発明のフロートガラスは、図1に示すようなフロートガラス製造装置1を用いて製造される。図1においては既述のように、溶融金属9上に溶融ガラスが連続的に供給され、溶融金属9上でガラスリボン5を成形するフロートバス2を備えている。なお、図示しないが、溶融ガラスは、図1の上流側の溶解炉においてガラス原料を溶解し、更に清澄処理を施したものである。そして、フロートバス2に隣接してガラスリボン5を引き上げるリフトアウトロール7を備えたド口スボックス3が配置されている。さらにド口スボックス3に隣接して徐冷炉4が配置され、徐冷炉4は、ガラスリボン5をレヤーロール8により搬送しながらガラスの歪点温度以下まで徐冷することができる。図1には示されていないが、徐冷後のガラスリボン5は、切断装置によって所望のサイズに切断される。
The float glass of this invention is manufactured using the float
図1には示されていないが、切断されたフロートガラスの用途が液晶ディスプレイ用ガラス基板の場合、フロートガラス製造装置は、ガラス基板の平坦度を良化させるため、更にガラス基板を研磨する研磨装置を有する。研磨装置は、主として、ガラス基板の錫接触面を機械研磨または化学機械研磨する。生産性向上の観点から、研磨量は3μm以下が好ましく、より好ましくは2μm以下、さらに好ましくは1.5μm以下、特に好ましくは1.0μm以下である。 Although not shown in FIG. 1, when the use of the cut float glass is a glass substrate for a liquid crystal display, the float glass manufacturing apparatus further polishes the glass substrate in order to improve the flatness of the glass substrate. Have the device. The polishing apparatus mainly performs mechanical polishing or chemical mechanical polishing on the tin contact surface of the glass substrate. From the viewpoint of improving productivity, the polishing amount is preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less, still more preferably 1.5 μm or less, and particularly preferably 1.0 μm or less.
本実施形態のフロートガラス製造装置1は、徐冷炉4において、ガラスリボン5下のレヤーロール8間に設置されたインジェクタ20、30を有する。インジェクタ20、30は、ガラスリボン5のボトム面5aにハロゲン元素を含有する気体を供給し、ボトム面5aに付着したドロス等の異物を除去する。
The float
また、図1には示されていないが、フロートガラス製造装置1は、徐冷炉4において、ガラスリボン5下のレヤーロール8間に設置された保護層形成装置を有する。保護層形成装置は、ガラスリボン5のボトム面5aにSO2ガスを供給し、ボトム面5aに硫酸塩の疵防止用保護層を形成する。保護層形成装置は、ガラスリボン5の移動方向で、インジェクタ20、30の上流に設けても良いし、下流に設けても良い。また、保護層形成装置は、SO2ガスと空気の混合気体を供給しても良い。
Although not shown in FIG. 1, the float
インジェクタ20、30の構成や、インジェクタ20、30に用いる気体の種類等については、フロートガラス製造方法の場合と同様に構成できるため、説明を省略する。
The configuration of the
(実験例1)
(例1〜11)
図4は、実験例1の評価に用いた試験装置を説明するための概略図である。板厚0.5mmになるようにフロートガラス(旭硝子社製:AN100)を作製し、10mm角に切断して、1枚のガラス板40につき、錫接触面に1点のドロスが存在するガラス板40を10枚得た。
(Experimental example 1)
(Examples 1 to 11)
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the test apparatus used for the evaluation of Experimental Example 1. Float glass (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: AN100) is prepared so as to have a plate thickness of 0.5 mm, cut into 10 mm squares, and a glass plate having one dross on the tin contact surface for each
例1では、図4に示すように、ガラス板40を、ガス導入ノズル43を挿入するための開口部を有する、体積25mLのカーボンボックス41に錫接触面を上にして入れ、カーボンボックス41を体積4Lの石英管42に入れた後、石英管42を電気ヒーターで2分間加熱し、ガラス板40の温度を600℃まで昇温させた。昇温させたガラス板40を600℃で1分間保温しながら、内径6mmのガス導入ノズル43の導入口をカーボンボックス40の壁面に向け、窒素(N2)ガスをキャリアガスとして、5.0vol%の塩化水素(HCl)ガスを流量2.5L/minで3秒間導入することによって、線速40cm/secのガスをガラス板40に吹きつけるガス処理を行った。その後、ガス導入ノズル43を用いて、窒素(N2)ガスを流量2.5L/minで導入しながら、ガラス板40を30分間かけて室温まで降温させた。
In Example 1, as shown in FIG. 4, the
次に、ガス処理されたガラス板40の錫接触面を、研磨量が平均0.8μmになるように、発泡ポリウレタン製の研磨パッド(D硬度30度)と、研磨剤として酸化セリウムを使用し、4B片面研磨機を用いて所定の研磨荷重(50g/cm2)で化学機械研磨した。ここで、4Bとは、研磨機に入れるキャリアのサイズが4inchであることを表す。10枚のガラス板40のドロスは、全て除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、0%であった。
Next, a polishing pad made of polyurethane foam (D hardness of 30 degrees) and cerium oxide as a polishing agent are used so that the polishing amount of the tin contact surface of the gas-treated
例2〜10では、例1と同様の評価方法で、塩化水素(HCl)ガス濃度、ガラス板温度、または水素(H2)ガス濃度の条件を、表1に示すとおり変更した。 In Examples 2 to 10, the conditions of hydrogen chloride (HCl) gas concentration, glass plate temperature, or hydrogen (H 2 ) gas concentration were changed as shown in Table 1 by the same evaluation method as in Example 1.
表1は、例1〜11の評価結果を表し、例1〜例10が実施例、例11が比較例である。0.1vol%以上の塩化水素(HCl)ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。 Table 1 shows the evaluation results of Examples 1 to 11. Examples 1 to 10 are Examples, and Example 11 is a Comparative Example. It was confirmed that the dross residual rate was lowered when hydrogen chloride (HCl) gas of 0.1 vol% or more was used.
(例21〜28)
例21では、研磨量が平均0.5μmになるように、化学機械研磨した。その他は例1と同様の手順で、ガス処理、化学機械研磨を実施したところ、10枚のガラス板40のドロスは、全て除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、0%であった。
例22〜28では、例21と同様の評価方法で、塩化水素(HCl)ガス濃度、または水素(H2)ガス濃度の条件を、表2に示すとおり変更した。
(Examples 21 to 28)
In Example 21, chemical mechanical polishing was performed so that the average polishing amount was 0.5 μm. Otherwise, gas treatment and chemical mechanical polishing were carried out in the same manner as in Example 1, and all the dross of the ten
In Examples 22 to 28, the conditions for hydrogen chloride (HCl) gas concentration or hydrogen (H 2 ) gas concentration were changed as shown in Table 2 by the same evaluation method as in Example 21.
表2は、例21〜28の評価結果を表し、例21〜例27が実施例、例28が比較例である。0.1vol%以上の塩化水素(HCl)ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。 Table 2 shows the evaluation results of Examples 21 to 28. Examples 21 to 27 are examples, and example 28 is a comparative example. It was confirmed that the dross residual rate was lowered when hydrogen chloride (HCl) gas of 0.1 vol% or more was used.
(実験例2)
(例31〜36)
例31では、図1、図2に示すように、徐冷炉4内のレヤーロール8間で、板厚0.7mmのガラスリボン5が660℃の位置に、両流しタイプのインジェクタ20を挿入した。インジェクタ20の供給口21とガラスリボン5のボトム面5aとの距離Dは10mmとした。また、インジェクタ20のガラスリボン5の移動方向の距離Lは300mmとした。インジェクタ20を用いて、窒素(N2)ガスをキャリアガスとして、10vol%の水素(H2)ガスを添加した20vol%の塩化水素(HCl)ガスを、線速100cm/secでガラスリボン5のボトム面5aに吹きつけた。
(Experimental example 2)
(Examples 31-36)
In Example 31, as shown in FIGS. 1 and 2, a double-
ガラスリボン5を徐冷し、切断して作製したフロートガラス(旭硝子社製:AN100)を50mm角に切断し、1枚のガラス板につき、錫接触面に1点のドロスが存在するガラス板を5枚得た。
Float glass (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: AN100) produced by slowly cooling and cutting the
次に、ガス処理された面を、研磨量が平均0.3μmになるように、発泡ポリウレタン製の研磨パッド(D硬度30度)と、研磨剤として酸化セリウムを使用し、4B片面研磨機を用いて所定の研磨荷重(50g/cm2)で化学機械研磨した。5枚中4枚のガラス板のドロスが除去された。化学機械研磨後のガラス板のドロス残存率は、20%であった。 Next, on the gas-treated surface, a 4B single-side polishing machine using a polyurethane polyurethane polishing pad (D hardness of 30 degrees) and cerium oxide as an abrasive so that the average polishing amount is 0.3 μm. Chemical mechanical polishing was performed at a predetermined polishing load (50 g / cm 2). Dross of 4 out of 5 glass plates was removed. The dross remaining rate of the glass plate after chemical mechanical polishing was 20%.
例32〜36では、例31と同様の評価方法で、塩化水素(HCl)ガス濃度、ガラス板温度、または水素(H2)ガス濃度の条件を、表3に示すとおり変更した。 In Examples 32-36, the conditions of hydrogen chloride (HCl) gas concentration, glass plate temperature, or hydrogen (H 2 ) gas concentration were changed as shown in Table 3 by the same evaluation method as in Example 31.
表3は、例31〜36の評価結果を表し、例31、32、34、35が実施例、例33、36が比較例である。0.5vol%以上の塩化水素(HCl)ガスを用いれば、ドロス残存率が低下することを確認できた。また、ガラス板温度を660℃から680℃に上げることで、ドロス残存率が低下することを確認できた。 Table 3 shows the evaluation results of Examples 31 to 36. Examples 31, 32, 34, and 35 are Examples, and Examples 33 and 36 are Comparative Examples. It was confirmed that when hydrogen chloride (HCl) gas of 0.5 vol% or more was used, the dross residual rate was lowered. Moreover, it was confirmed that the dross residual rate was lowered by raising the glass plate temperature from 660 ° C. to 680 ° C.
以上の通り、フロートガラス製造方法及びフロートガラス製造装置について、詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明は上記実施形態等に限定されず、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。 As described above, the float glass manufacturing method and the float glass manufacturing apparatus have been described in detail and with reference to specific embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments and the like, and departs from the spirit and scope of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without doing so.
1 フロートガラス製造装置
2 フロートバス
3 ドロスボックス
4 徐冷炉
5 ガラスリボン
5a ボトム面
5b トップ面
7 リフトアウトロール
8 レヤーロール
9 溶融金属
20、30 インジェクタ
21、31 供給口
24、34 流路
25、35 排気口
40 ガラス板
41 カーボンボックス
42 石英管
43 ガス導入ノズル
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記徐冷工程は、レヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを用い、前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去する異物除去工程を含むことを特徴とするフロートガラス製造方法。 A melting step of melting the glass raw material, a clarification step of clarifying the molten glass, a molding step of continuously supplying the clarified molten glass onto the molten metal of the float bath, and forming a glass ribbon on the molten metal; And a slow cooling step in which the glass ribbon is pulled out from the float bath by a lift-out roll and gradually cooled to below the strain point temperature of the glass while transporting the glass ribbon by a layer roll.
The slow cooling step is between layer rolls and is attached to the bottom surface by supplying a gas containing a halogen element to the bottom surface of the glass ribbon using an injector installed below the glass ribbon. A float glass manufacturing method comprising a foreign matter removing step of removing foreign matter.
前記徐冷炉はレヤーロール間であって、前記ガラスリボンの下方に設置されたインジェクタを備え、
前記インジェクタは前記ガラスリボンのボトム面にハロゲン元素を含有する気体を供給することによって、前記ボトム面に付着した異物を除去することを特徴とするフロートガラス製造装置。 A float bath for forming a glass ribbon on the molten metal, a mouth box having a lift-out roll for pulling up the glass ribbon adjacent to the float bath, a door box adjacent to the mouth box, and the glass ribbon A slow cooling furnace that gradually cools to a temperature below the strain point of the glass while being conveyed by a layer roll,
The slow cooling furnace is between layer rolls, and includes an injector installed below the glass ribbon,
The float glass manufacturing apparatus, wherein the injector removes foreign matter adhering to the bottom surface by supplying a gas containing a halogen element to the bottom surface of the glass ribbon.
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