JP2016519915A - 反作用補償チルトプラットフォーム - Google Patents

Abstract

反作用補償チルトプラットフォームアセンブリはサポートベースと、このサポートベースに対して回動可能に結合され反作用質量とを含む。ミラーとして機能することがあるいはミラーを支持することができるチルトプラットフォームはサポートベースに対して回動可能に結合することができる。少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリは反作用質量によって支持できる。少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリはチルトプラットフォームによって支持することができ、かつ、二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置することができる。リニアアクチュエータ磁石アセンブリは磁石アセンブリの中心付近の大直径から磁石アセンブリの端部付近の小直径へと先細になる。リニアアクチュエータ磁石の作動によって反作用質量に対するチルトプラットフォームの回動が生じる。

Description

本発明は、概して、光学通信システムの分野に関する。特に本発明は自由空間光学通信システムにおいて使用するための反作用補償ステアリングミラーに関する。

さまざまな従来型ビームステアリングミラーおよび高速ステアリングミラーが、光学通信システムにおける認識された必要性に対処するために長年にわたって開発されている。これらの試みのいくつかは反作用トルク補償ステアリングミラーを採用するが、これらの従来技術デバイスは、一般に、非常に限られた角度作動量しか提供しない。また、こうした従来技術デバイスは、通常、そのサポート撓みおよびリニアアクチュエータによって制限される。

より大きな角度作動量を提供する、いくつかの二軸走査またはステアリングミラーが開発されたが、これらの従来技術の解決策は、低い精度、低いサーボ帯域幅、高いジッター／ノイズをもたらし、多くの場合、反作用トルク補償を実現しない。

本発明の一態様によれば、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリが提供されるが、これは、サポートベースと、このサポートベースに対して回動可能に結合された反作用質量とを含む。ミラーとして機能することが、あるいはミラーを支持することができるチルトプラットフォームは、サポートベースに対して回動可能に結合することができる。少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリは、反作用質量およびチルトプラットフォームの一方によって支持できる。少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリは、反作用質量およびチルトプラットフォームの他方によって支持することができ、かつ、二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置することができ、リニアアクチュエータ磁石アセンブリは、磁石アセンブリの中心付近の大直径から磁石アセンブリの端部付近の小直径へと先細になる。リニアアクチュエータ磁石の作動によって、反作用質量に対するチルトプラットフォームの回動が生じる。

本発明の別な態様によれば、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリが提供されるが、これは、サポートベースと、このサポートベースに対して回動可能に結合された反作用質量とを含む。チルトプラットフォームはサポートベースに対して回動可能に結合できる。少なくとも一つの電子撓みリボンがサポートベースおよび反作用質量に対して結合でき、少なくとも一つの電子撓みリボンは反作用質量を通って延在し、かつ、反作用質量に入るときには第１の形態で配向されかつ反作用質量を出るときには第２の形態で配向され、第２の形態は第１の形態に対して直交する。

本発明の別な態様によれば、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリが提供され、これは、サポートベースと、このサポートベースに対して回動可能に結合された反作用質量とを含む。チルトプラットフォームはサポートベースに対して回動可能に結合できる。ロッキングピンは、少なくともチルトプラットフォームおよび/または反作用質量と係合できる。単一運動度のロッキングピンの作動は、二自由度のベースに対するチルトプラットフォームの動作を制限し、かつ、二自由度のベースに対する反作用質量の動作を制限する。

本発明のさらなる特徴および利点は、実例として本発明の特徴を一緒に説明する図面と共に、以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。

図面は本発明を実施するための例示的実施形態を示す。同じ参照数字は、図面において、本発明の異なる視点でのまたは本発明の異なる実施形態における同じ部分を指し示す。

本発明の一実施形態に係る反作用補償チルトプラットフォームアセンブリの斜視断面図である。 本発明の一実施形態に係るチルトプラットフォームアセンブリおよび一対の磁石アクチュエータアセンブリの断面図であり、チルトプラットフォームアセンブリはサポートベースに対して傾斜した状態で示されている。 図１のアセンブリの斜視図である。 図１のアセンブリの一部断面斜視図である。 本発明の別な態様に係る図１のアセンブリの断面図である。 図１のアセンブリの詳細断面図である。

以下、図面に示される例示的な実施形態について説明するが、本明細書では特定の言葉が同じものを説明するために使用される。にもかかわらず、本発明の範囲を限定することはこれによって意図されないことを理解されたい。本明細書で説明される本発明の特徴の交換およびさらなる変更、ならびに（関連技術に熟練しかつ本開示についての知識を有する当業者が思い付くであろう）本明細書で説明するような本発明の原理のさらなる応用は、本発明の範囲に包含されると見なすべきである。

定義
本明細書で使用するとき、文脈がそうでないことを明示していない限り、単数形の「一つ」および「その」は複数の対象を含むことができる。したがって、例えば、「ボイスコイルアクチュエータ」への言及は、一つ以上のそのようなアクチュエータを含むことができる。

本明細書で使用するとき、「取り付けられた」、「結合された」、「固定された」等の用語は、二つ以上のコンポーネントが、それらが意図したとおりに機能するように互いに結合された状態を説明するために使用できる。すなわち、コンポーネントを分離するのに必要な力は、そのためにそれらが設計された使用の間、コンポーネントが互いに取り付けられたままであるように十分に大きなものである。本発明のある実施形態では、さまざまなコンポーネントは互いに「永久的」に結合されてもよい。この場合、コンポーネントが互いに分離させられる場合にコンポーネントの一方または両方のあるいはコンポーネントを結合するために使用されるファスナーの変形が生じるようにコンポーネントは互いに結合される。そうした結合の一例は、二つ以上のコンポーネントが互いに接合またはその他の方法で接着されるときに生じ得る。

その他の態様では、さまざまなコンポーネントは、コンポーネントの、あるいはコンポーネントを結合するために使用されるファスナーの永久的な変形を引き起こすことなく、それらを分離することができるように取り外し可能に互いに結合できる。そうした結合の一例は、二つ以上のコンポーネントが互いにボルト結合されるときに生じ得る（この場合、ボルトに結合されたナットの除去は、ナットまたはボルトを損傷させることなく、コンポーネントの分離を生じ得る）。

本明細書で使用するとき、「リボン」との用語は、その厚みよりもかなり大きな幅を有する電子撓み部またはコネクターの形状を意味すると理解すべきである。ある実施形態では、電子撓みリボンは、厚みの少なくとも約５倍の幅を有する。

「垂直」、「水平」、「上側」、「下側」などの方向を示す用語は、本明細書では、さまざまなコンポーネントの相対的位置を記述するために使用される。このような使用は、本発明の特徴を最も明確に記述するための、そして妥当な場合にはそれを権利主張するための成果であり、文脈がそうでないことを明示しない限り限定ではないことを理解されたい。このような方向を示す用語は、本開示の知識を有する当業者によって容易に理解されるように使用される。

本明細書で使用するとき、「実質的に」との用語は、作用、特性、性質、状態、構造、アイテムまたは結果の完全なまたはほぼ完全な範囲または程度を意味する。任意の例として、「実質的に」取り囲まれている対象物とは、対象物が完全に取り囲まれるか、またはほぼ完全に取り囲まれていることを意味する。絶対的完全性からの偏差の正確な許容度は、ある場合には特定の文脈に依存してもよい。しかしながら、概して、完了の近似は、絶対的かつ全体的完了が得られたかのように同じ全体的な結果を持つようになる。作用、特性、性質、状態、構造、アイテムまたは結果の完全なあるいはほぼ完全な欠如を示すために否定的な意味合いで使用される場合、「実質的に」の使用は同様に適用可能である。別の任意の例として、ある成分または要素が「実質的に」存在しない組成物は、その測定可能な効果が存在しない限り、そうしたアイテムを依然として実際に含んでいてもよい。

本明細書で使用するとき、「約」との用語は、所与の値が「少し大きな」または「少し小さな」エンドポイントであってもよいことを規定することによって、数値範囲のエンドポイントに柔軟性を付与するために使用される。

本明細書で使用するとき、複数のアイテム、構造要素、組成要素および／または材料は、便宜上、共通リスト内に提示されてもよい。しかしながら、これらのリストは、リストの各メンバーが別個のかつ独自のメンバーとして特定されるかのように解釈されるべきである。したがって、そのようなリストの別個のメンバーは、反対の指摘を伴わずに、専ら共通グループにおけるその提示に基づく同じリストのその他のメンバーの事実上の等価物として解釈すべきではない。

数値データは、本明細書中で、範囲形式で表現あるいは提示されてもよい。そのような範囲形式は単に便宜および簡潔さのために使用され、したがって、範囲の限界値として明記された数値だけでなく、各数値および部分範囲が明記されているかのように全ての個々の数値またはその範囲に包含される部分範囲を含むものとして柔軟に解釈されるべきであることを理解されたい。例として、「約１ないし約５」の数値範囲は約１ないし約５の明示的に言及された値だけでなく、言及された範囲内の個々の値および部分範囲を含むものと解釈すべきである。したがって、この数値範囲に含まれるのは、個々の１，２，３，４および５だけでなく、２，３および４などの個々の値ならびに１〜３、２〜４、そして３〜５等の部分範囲である。

これと同じ原理は最小値または最大値として、ただ一つの数値を述べる範囲に適用される。さらに、このような解釈は、範囲の広がりあるいは特性が記述されているか否かにかかわらず適用されるべきである。

発明
本技術は、ポインティングアセンブリに同時に多くの利点を提供するために、クロスブレード撓み、ボイスコイルアクチュエータ、差動ギャップセンサー、ロッキングピン、およびフレックス回路の新規な配置を利用することができる。システムの一つの例示的な使用は高速動作ステアリングミラー（「ＦＳＭ」）である。

本技術は、ロックが解除されたときに必要な角度移動を許容しながら、ロッキングピンがチルトプラットフォームおよび反作用質量の両方と係合しかつロックすることを可能とするよう構成することができる二軸ピボット撓みアセンブリを利用することができる。ボイスコイルアクチュエータは、コイルと磁石アセンブリとの間のリニアストロークだけでなく、大きな角度動作を可能とするように構成できる。アクチュエータの磁極片は、性能を維持しながら角度移動量を増大させるために先細化することができる。ピボット撓みアセンブリに対するそれらの位置は、移動量を最大化し、同時にチルトプラットフォームおよび反作用質量のバランスをとるために最適化することができる。アクチュエータコイルは移動する反作用質量に搭載することができるので、電流は低ヒステリシスな信頼性の高い方法でそれらに供給することができるが、これは、ロッキングピンと干渉しないように反作用質量用のピボット撓みアセンブリに組み込まれるカスタムフレックス回路を用いて実現することができる。

ここで図面を参照すると、反作用補償ステアリングミラーアセンブリ１０の詳しい例示的特徴が示されている。当該アセンブリは、概して、サポートベース１２と、（図３により明確に示す）反作用質量１４とを含むことができる。反作用質量は、ピボットカプラー１６によってサポートベースに回動可能に結合することができる（図３）。チルトプラットフォーム１８は、例えばピボットカップリングアセンブリ２０によって、サポートベースに対して回動可能に結合することができる。少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリは反作用質量によって支持できる。少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリはチルトプラットフォームによって支持できる。磁石アセンブリは少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置可能であってもよい。稼働時、リニアアクチュエータ磁石の作動によって、反作用質量に対するチルトプラットフォームの回動が生じる。したがって、チルトプラットフォームはサポートベースに対して回動可能に結合されるが、アクチュエータコイルアセンブリ内の磁石アセンブリの作動によって、チルトプラットフォームは反作用質量に対して動作させられる（例えば、反作用質量に対して「プッシュ」させられる）。

本発明は、したがって、広いサーボ帯域幅、高精度および反力およびトルク低減を伴う高精度ポインティング機能を提供するための機構を提供することができる。本技術は、二つの軸線と非常に低いジッターにおいて数度の角度移動量を提供することができ、そして一体的な単一自由度チルトロックを伴うことができる。本技術は、視線走査および安定化またはその他の高精密ポインティング用途のためのミラーを支持するためのプラットフォームとして特に有効であることが見出された。これらの特徴の全ては、コンパクトで、非常に効率的なメカニズム内に提供される。

図２に最も明確に示されるように、本発明の一態様では、リニアアクチュエータ磁石アセンブリ２４は、磁石アセンブリの中心すなわち中間セクション「Ｃ」付近の大直径から、磁石アセンブリの端部「Ｅ」付近の小直径へと次第に細くなっていてもよい。したがって、磁石アセンブリの磁石部分は概ね連続した円柱形の断面を含むことができるが、端部はより小さな直径へと次第に細くなることができる。テーパーを磁石に対して付与することができる様式は変更可能であるが、ある態様では、アクチュエータ磁石アセンブリ２４は磁石部分にテーパーを付与するためにテーパー状端部キャップ２８を含むことができる。

このようにして、磁石アセンブリ２４は、コイルアセンブリ２２内で、より大きな直線移動をすることが可能である。本発明の一実施形態において、チルトプラットフォーム１８は、約０度の角度から少なくとも約６度の角度までサポートベース１２（図３には示されていない）に対して傾斜させることができる。

図示の例では、リニアアクチュエータ磁石アセンブリ２４は、チルトプラットフォーム１８に対して直接結合される。このようにして、チルトプラットフォームに対して結合された（あるいはチルトプラットフォームと一体的にあるいはチルトプラットフォームとして形成された）ミラーに引き起こされるＷＦＥ（波面誤差）を著しく最小化することができる。

必須ではないが、本発明の一実施形態では、一つ以上の電子撓みリボン（あるいはフレックスリボン）３０ａ，３０ｂがアセンブリ１０のさまざまなコンポーネントに対して電子信号を提供するために使用できる。ある態様では、フレックスリボン３０ａ，３０ｂは、サポートベース１２に対して、そしてまた反作用質量１４あるいはチルトプラットフォーム１８の一方に対して結合することができる。電子撓みリボンは、反作用質量１４を通って延びることができ、そして、反作用質量に入るとき第１の形態で配向されることが可能でありかつ反作用質量を出るとき第２の形態で配向されることが可能である。第２の形態は第１の形態と直交してもよい。

本発明のこの態様は図４に最も良く示されており、この例では、フレックスリボン３０ａは、図４の右下部分においてサポートベース１２（図４には示していない）に対して結合されるように構成されて示されている。フレックスリボンは、続いて、サポートベースから外側に、そして反作用質量の周囲で上向きに、そしてその中へと延びている。参照数字４０で示されるように、フレックスリボンはそれ自体に形成された９０度屈曲部を含むことができ、これは、反作用質量１４への結合位置へとそれが近づくときにフレックスリボンが直交するように転向されることを可能とする。したがって、リボンは、参照数字４２で第１の形態においてサポートベースに対してクランプされるかその他の方法で結合されることが可能であり、そして第１の形態と直交する第２の形態４３において反作用質量に対してクランプされるかその他の方法で結合されることが可能である。

このようにして、フレックスリボンは、このフレックスリボンにほとんど損傷を与えない曲げ荷重を受けることができる。例えば、図５に示されたターン４４ａ，４４ｂは、図示の構成にとって自然な荷重ストレスに対応する平行軸線４６ａ，４６ｂを中心とする曲げを受けることができる。他方、軸線４８は軸線４６ａ，４６ｂと直交し、そして屈曲部４４ａ，４４ｂ付近での軸線４８を中心とするリボンンの屈曲はフレックスリボンの早期の損傷を引き起こすであろう。だが、フレックスリボンはアセンブリ内で９０度「転向」されているので、ターン４４ａ，４４ｂ付近の曲げ力は主として軸線４６ａ，４６ｂを中心とし、一方、ターン５０付近の曲げ力は主として軸線４８を中心とする。このようにして、フレックスリボンにおける面外ストレスは著しく最小化され、リボンによるより優れた性能ならびにリボンのより長い寿命を実現する。

複数のフレックスリボン３０ａ，３０ｂが使用される場合、それらは、反作用質量の中心の周りで対照的に反作用質量に結合することができる。これは、フレックスリボンの寿命をさらに増大させることができ、そして全体アセンブリの中心周りのバランスのとれた動作を実現するのを助けることができる。

フレックスリボンが反作用質量に対して結合された図示の例に加えて、フレックスリボンは、代替的に、チルトプラットフォームに対して結合することができる。この場合、チルトプラットフォームは、反作用質量に加えて、あるいはそれと同様に、給電を受けることができる。この実施形態では、フレックスリボンは、チルトプラットフォームの中心の周りで対称的にチルトプラットフォームに対して結合することができる。

図５および図６は本発明の別な態様を示しており、この態様では、ロッキングピン６０は、少なくともサポートベース１２および反作用質量１４またはチルトプラットフォーム１８の一方または両方と係合可能であってもよい。この例では、（例えば図５および図６の方向６２に沿った）単一動作度のロッキングピンの作動は、二自由度の反作用質量あるいはベースに対するチルトプラットフォームの運動を制限することができる。図６に示す実施例では、ロッキングピン６０は、チルトプラットフォーム、反作用質量およびベースのそれぞれと係合可能である。この場合、単一運動度のロッキングピンの作動は、二自由度のベースに対するチルトプラットフォームおよび反作用質量のそれぞれの運動を制限する。

図５において、ピン６０は、破線によって係合あるいはロック位置で、そして実線によって解放またはロック解除位置で示されている。必須ではないが、ロッキングピンは、ロッキングピンが係合されたときに互いにコンポーネントをロックまたは固定するために必要な荷重を良好にバランスさせるために、全体アセンブリの幾何学的中心を通って配置することができる。

図６は、分かりやすさのために周囲構造体の多くを取り除いた状態で、ロッキングピンの動作を示している。ロッキングピンは、互いにコンポーネントを固定またはロックするために全体アセンブリのさまざまなコンポーネントと係合できる、さまざまな係合セクション６４，６６，８８，７０を含むことができる。ピンがロック解除位置（例えば図５に実線で示す位置）にあるとき、係合部はアセンブリのコンポーネントと係合しない。だが、ロック位置（例えば図５に破線で示す位置）に移動したとき、セクション６４および６６はチルトプラットフォーム１８の周囲部分と係合し、セクション６８は反作用質量１４の周囲部分と係合し、そしてセクション７０はベース１２の周囲部分と係合する（分かりやすくするために周囲の係合構造体は省略されていることに留意されたい）。

上記構成は本発明の原理の応用の例示であることを理解されたい。本発明をその例示的実施形態に関して図示説明したが、数多くの変更および代替構成が本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく考えられる。実施例において説明した本発明の原理および概念から逸脱することなく、数多くの変更をなし得ることは当業者には明白である。

１０ 反作用補償ステアリングミラーアセンブリ
１２ サポートベース
１４ 反作用質量
１６ ピボットカプラー
１８ チルトプラットフォーム
２０ ピボットカップリングアセンブリ
２２ コイルアセンブリ
２４ アクチュエータ磁石アセンブリ
２８ テーパー状端部キャップ
３０ａ フレックスリボン
３０ｂ フレックスリボン
４４ａ 屈曲部（ターン）
４４ｂ 屈曲部（ターン）
４６ａ 平行軸線
４６ｂ 平行軸線
４８ 軸線
５０ ターン
６０ ロッキングピン
６４ 係合セクション
６６ 係合セクション
６８ セクション
７０ 係合セクション
８８ 係合セクション

Claims (20)

1. 反作用補償チルトプラットフォームアセンブリであって、
   サポートベースと、
   前記サポートベースに対して回動可能に結合され反作用質量と、
   前記サポートベースに対して回動可能に結合されたチルトプラットフォームと、
   前記反作用質量および前記チルトプラットフォームの一方によって支持された少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリと、
   前記反作用質量および前記チルトプラットフォームの他方によって支持されかつ前記二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置可能な少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリであって、このリニアアクチュエータ磁石アセンブリは、前記磁石アセンブリの中心付近の大直径から前記磁石アセンブリの端部付近の小直径へと先細になる、少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリと、を具備し、
   前記リニアアクチュエータ磁石の作動によって前記反作用質量に対する前記チルトプラットフォームの回動が生じる、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリ。
2. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリは、実質的に連続した円柱状中間セクションを含む、請求項１に記載のアセンブリ。
3. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリはテーパー状端部キャップを含む、請求項１に記載のアセンブリ。
4. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリの磁石部分は、実質的に連続した円柱状断面を含む、請求項３に記載のアセンブリ。
5. 前記チルトプラットフォームは、約０度の角度から少なくとも約６度の角度まで前記サポートベースに対して傾けることができる、請求項１に記載のアセンブリ。
6. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリは、前記チルトプラットフォームまたは前記反作用質量の一方に対して直接結合される、請求項１に記載のアセンブリ。
7. 反作用補償チルトプラットフォームアセンブリであって、
   サポートベースと、
   前記サポートベースに対して回動可能に結合された反作用質量と、
   前記サポートベースに対して回動可能に結合されたチルトプラットフォームと、
   ｉ）前記サポートベースに対して、かつ、ｉｉ）前記反作用質量あるいは前記チルトプラットフォームの一方に対して結合された少なくとも一つの電子撓みリボンと、を具備し、
   前記少なくとも一つの電子撓みリボンは前記反作用質量を通って延在し、かつ、前記反作用質量に入るときには第１の形態で配向され、かつ、前記反作用質量を出るときには第２の形態で配向され、前記第２の形態は前記第１の形態に対して直交する、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリ。
8. 前記サポートベースに対して結合された第２の電子撓みリボンをさらに具備し、かつ、ｉ）反作用質量あるいはｉｉ）前記第２の電子撓みリボンの一方は、前記反作用質量を通って延在し、かつ、前記反作用質量に入るときには第１の形態で配向され、かつ、前記反作用質量を出るときには第２の形態で配向され、前記第２の形態は前記第１の形態に対して直交する、請求項７に記載のアセンブリ。
9. 第１および第２の電子撓みリボンは、前記反作用質量の中心周りに対称的に前記反作用質量に結合される、請求項８に記載のアセンブリ。
10. 前記少なくとも一つの電子撓みリボンは、それ自体に形成された直交曲げ部を含み、前記直交曲げ部は約９０度の角度で前記電子撓みリボンの導体を転向させる、請求項７に記載のアセンブリ。
11. 反作用補償チルトプラットフォームアセンブリであって、
    サポートベースと、
    前記サポートベースに対して回動可能に結合された反作用質量と、
    前記サポートベースに対して回動可能に結合されたチルトプラットフォームと、
    少なくとも前記チルトプラットフォームと係合可能なロッキングピンと、を具備し、
    単一運動度の前記ロッキングピンの作動は、二自由度の前記ベースに対する前記チルトプラットフォームの動作を制限する、反作用補償チルトプラットフォームアセンブリ。
12. 前記ロッキングピンは前記反作用質量と係合可能であり、かつ、単一運動度の前記ロッキングピンの作動は、二自由度の前記ベースに対する前記チルトプラットフォームおよび前記反作用質量の両方の動作を制限する、請求項１１に記載のアセンブリ。
13. 前記ロッキッグピンは、前記ステアリングミラーアセンブリの幾何学的中心を通って配置される、請求項１１に記載のアセンブリ。
14. 前記反作用質量によって支持された少なくとも二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリと、
    前記チルトプラットフォームによって支持されかつ前記二つのリニアアクチュエータコイルアセンブリ内に配置可能な少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリであって、このリニアアクチュエータ磁石アセンブリは、前記磁石アセンブリの中心付近の大直径から前記磁石アセンブリの端部付近の小直径へと先細になる、少なくとも二つのリニアアクチュエータ磁石アセンブリと、をさらに具備し、
    前記リニアアクチュエータ磁石の作動によって前記反作用質量に対する前記チルトプラットフォームの回動が生じる、請求項１１に記載のアセンブリ。
15. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリは、実質的に連続した円柱状中間セクションを含む、請求項１４に記載のアセンブリ。
16. 前記リニアアクチュエータ磁石アセンブリはテーパー状端部キャップを含む、請求項１４に記載のアセンブリ。
17. 前記サポートベースおよび前記反作用質量に対して結合された少なくとも一つの電子撓みリボンをさらに具備し、前記少なくとも一つの電子撓みリボンは前記反作用質量を通って延在し、かつ、前記反作用質量に入るときには第１の形態で配向され、かつ、前記反作用質量を出るときには第２の形態で配向され、前記第２の形態は前記第１の形態に対して直交する、請求項１４に記載のアセンブリ。
18. 前記サポートベースおよび前記反作用質量に対して結合された第２の電子撓みリボンをさらに具備し、前記第２の電子撓みリボンは前記反作用質量を通って延在し、かつ、前記反作用質量に入るときには第１の形態で配向され、かつ、前記反作用質量を出るときには第２の形態で配向され、前記第２の形態は前記第１の形態に対して直交する、請求項１７に記載のアセンブリ。
19. 第１および第２の電子撓みリボンは、前記反作用質量の中心周りで対称的に前記反作用質量に結合される、請求項１８に記載のアセンブリ。
20. 前記少なくとも一つの電子撓みリボンは、それ自体に形成された直交曲げ部を含み、前記直交曲げ部は約９０度の角度で前記電子撓みリボンの導体を転向させる、請求項１７に記載のアセンブリ。

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