JP2016519596A - 胞子の急速殺菌又は不活性化の方法及び溶液 - Google Patents

Abstract

胞子を殺菌又は不活性化する方法及びシステムの実施例は、胞子を含む表面に流体を塗ることを含み；そして直接あるいは間接プラズマをしばらくの時間処置すること、を含む。いくつかの実施形態では、前記流体は水を含む。いくつかの実施形態では、前記胞子はクロストリジウム・ディフィシル（Clostridium difficile）であり、いくつかの実施形態では、バチルスアントラシス（Bacillus Anthracis）である。いくつかの実施形態では、流体は、蒸気、霧、ミストあるいはエアゾールであって、流体を塗る前にあるいはその後で活性化されるものもある。胞子を殺菌又は不活性化する他の実施形態には、方法の処理中に胞子を直接あるいは間接プラズマでしばらくの時間流体中で処置し、胞子に抗菌剤を塗ることも含まれる。いくつかの実施形態では、抗菌剤はアルコールであり、漂白剤であり、あるいは、アルコールベースの消毒薬である。

Description

関連出願

本出願は２０１３年３月１５日に出願された米国特許出願第１３／８４３，１８９号、発明の名称：殺菌又は不活性化の方法及び溶液、の優先権とその利益を主張する。これらの出願の内容は本出願に全文が組み込まれたものとする。

本発明は、概して、胞子の急速殺菌又は不活性化方法及び溶液に関する。

胞子の形成は極めて複雑なメカニズムであり、あるグラム陽性菌は外部からのストレスや栄養の遮断の条件下で、脱水され濃縮されたゲノムのＤＮＡを包むマルチレイヤーの保護カプセルに包まれて生き残る。このような菌胞子が好適な環境下に出会ったときには、萌芽が起こり得て、細菌が再生され病原性種の場合には、疾病の元となる。菌胞子は、休眠中の菌に有毒になり得る大部分の分子は高度に浸透できないコート膜構造を有する。したがって、胞子は、熱、放射線及び多くの通常用いられる抗菌剤に耐性があり、一般に、いくつかのシビアな、過酸化水素、二酸化塩素やオゾンのような酸化蒸気を含む化学的手順によってのみ破壊可能である。

メディカルケアを受ける人々は、ＨＡＩｓ（healthcare-associated infections、医療関連感染）と呼ばれる重大な感染を被ることがある。大部分のＨＡＩsは減少しているが、−クロストリジウム・ディフィシル（Clostridium difficile）“C.ディフィシル“菌が原因の−ものは、今でも歴史的に見てハイレベルに止まっている。C.ディフィシルは、毎年１４，０００人の米国人の死因である。これらの危険の大部分は、特に老人の、抗生物質を投与され、長期間の医療を受けている人々にもある。

C.ディフィシルは、嫌気性の、グラム陽性菌である。通常は、植物状態を選好しているが、環境コンディションがもはや継続した成長をサポートしないときには、胞子形成可能である。胞子を形成する能力は、組織体を環境（例えば、土中や乾燥表面上）で長期間持続可能とする。

現在、C.ディフィシルを殺菌し、不活性化する方法は、漂白剤、過酸化水素、及び他の殺生物剤化合物を含む溶液を塗ること、及び／又は、紫外線の3分以上のC.ディフィシルへの（ＵＶ）照射を含む。

アントラシス、バチルスアントラシス（Ｂ．アントラシス）は、炭疽(たんそ)病の病原体である。アントラシスは、このバクテリアが致死量の毒素を生産可能なためしばしば致命的な疾病となる。Ｂ．アントラシスも胞子を形成する。アントラシス胞子の吸入は、特に症状が発現する前に処置が開始されない場合には、頻繁に致命的になる。

アントラシス胞子は、中でも殺菌又は不活性化の困難な胞子でもある。現在のアントラシス胞子の殺菌又は不活性化方法は、高温の高圧蒸気の使用であり、高濃度の苛性次亜塩素酸ソーダ（sodium hypochlorite）溶液又は消毒泡製品での外用処置である。

乾燥胞子の殺菌又は不活性化の困難である理由の一つは、それらが集合しマルチレイヤーを形成する習性による。加えて、乾燥胞子が表面や皮膚に非常に強く付着し、それらを物理的に除去することが困難にしていることがある。

胞子の殺菌又は不活性化の方法及びシステムの実施形態は胞子を含む表面に流体を塗ること；及びその表面にしばらくの間直接プラズマ適用することを含む。

胞子の殺菌又は不活性化の方法及びシステムの追加の実施形態は、胞子を含む表面に流体を塗ること；及び間接的にプラズマ適用することを含む。

いくつかの実施形態では、流体は水を含む。いくつかの実施形態では、胞子はクロストリジウム・ディフィシルであり及びバチルスアントラシスである。いくつかの実施形態では、流体は、例えば、エアゾール、霧状、ミスト又はスプレー及び蒸気の形態のような液滴の形態である。いくつかの実施形態では、方法の中でペルオキシナイトライト（peroxynitrite、過酸化亜硝酸）が流体で生成される。いくつかの実施形態では、ペルオキシナイトライトは及びいくつかの他の過酸化窒素誘導体が方法中に流体に生成される。

胞子の殺菌又は不活性化の他の実施例は、しばらくの間、直接又は間接の胞子へのプラズマ処置であり、胞子へ抗菌剤を塗ることを含む。いくつかの実施形態では、抗菌剤は、アルコール、漂白剤又はアルコールベースの消毒剤である。

胞子の殺菌又は不活性化の他の実施例は、一又は複数のガス及び液滴の混合物が非熱プラズマをパススルーしガス／液滴混合物を活性化しその活性化されたガス／液滴混合物をしばらくの間胞子を含む表面に塗ることを含む。

胞子の殺菌又は不活性化の他の実施例は、一又は複数のガス及び液滴の混合物が非熱プラズマをパススルーし、容器内のその活性化された液滴を濃縮して活性化された液体を生成してその活性化された液体をしばらくの間胞子を含む表面に塗ることを含む。

胞子の殺菌又は不活性化の他の実施例は、一又は複数のガス及び液滴の混合物が非熱プラズマをパススルーしその活性化されたガス／液滴混合物をしばらくの間一又は複数の胞子を含む表面に塗ることを含む。加えて、非熱プラズマと前記表面の間の距離は、ガス／液滴の混合物が非熱プラズマが表面に、ガス／液滴の混合物がプラズマ内をパススルーするときに生成される再活性化した短命の胞子の半減期の約3倍以内であるようにされている。

胞子の殺菌又は不活性化の他の実施例は、一又は複数のガス及び流体の液滴の混合物を非熱プラズマをパススルーしてガス／液滴混合物を活性化し、一又は複数の胞子を含む表面に活性化されたガス／液滴混合物をほぼ１分以内の時間塗ることを含む。

これら及び他の本発明の特徴と利点は、以下の記述、そこに添付されている図面についてよりよく理解されるであろう、すなわち：

図１は、直接プラズマを使用して活性化された水を生成する従来技術の一実施例を描く。；

図２は、間接プラズマを使用して活性化された水を生成する従来技術の一実施例を描く。；

図３は、図２の実施形態に使用されるメッシュフィルターの実施例である。

図４及び４Ａは、胞子の殺菌又は不活性化のシステム及び方法の実施例を描く。；

図５及び５Ａは、胞子の殺菌又は不活性化のシステム及び方法の実施例を描く。；

図６は胞子の殺菌又は不活性化のためのメソドロジーの他の実施例を描く。；

図７は胞子の殺菌又は不活性化のための活性化されたガス／液滴混合物の生成用の装置の実施例を描く。；そして、

図８は胞子の殺菌又は不活性化用の活性化された液体を生成する装置の実施例を描く。；

プラズマ、又はイオン化ガス、は、原子又は分子には結合されていない一又は複数の自由電子を持つ。プラズマは多様なガス、空気、窒素、希ガス（Ｈｅ，Ａｒ，Ｘｅ，Ｋｒ，等）、酸素、二酸化炭素及びこれらの混合が電磁場に置かれ生成される。加えて、非熱プラズマは、高エネルギー集中の化学的活性種を提供する。それらは、熱力学平衡から遠く離れて運用され、プラズマ中の自由電子の温度は中性原子、イオン及び分子よりもずっと高い。このようなプラズマは活性種が高く集中してもなお、ほぼ室温に止まるのである。自由電子からのエネルギーは追加のプラズマコンポーネントに転送され次のイオン化、励起及び／又は解離プロセスを開始させる。プラズマと接触する流体は、“活性化”状態になり、ここでは、プラズマ活性化流体と呼ばれ、いくつかの実施形態では、 プラズマ活性化流体は、プラズマ活性化水である。

いくつかの実施形態では、プラズマは、スーパーオキシドアニオン（superoxide anions）[O2^・-]、H⁺と酸性媒体中で反応しヒドロペルオキシルラジカル（hydroperoxyl radical）を形成する。 HOO^・: [O₂ ^・-] + [H⁺] → [HOO^・]．他のラジカル種はOH^・及びNO^・を、水相又は空気又はガスの存在下で、含んでもよい。水をプラズマで処置する結果、一又は複数のオゾン、H₂O₂、硝酸塩、亜硝酸塩、ラジカル及び他の活性種の濃縮も含むプラズマ活性水となる可能性がある。

プラズマで水を活性化するとプラズマ活性化水が得られ、これは、同時係属中の２０１３年３月１４日出願の米国特許出願第．１３／８２９，８７７号、発明の名称「プラズマ活性化水衛生ステーション」、に記述され、これは２０１３年４月６日出願の米国特許仮出願第．６１／６２１０７８、同じく発明の名称「プラズマ活性化水衛生ステーション」及び、同時係属中の２０１３年３月１５日出願の米国特許出願第．１３／８４２，５７４号、発明の名称「胞子、微生物、バクテリア及び真菌類の殺菌又は不活性化」及び２０１２年１０月５日出願の米国特許仮出願第．６１／７１０，２６３号、同じ発明の名称「胞子、微生物、バクテリア及び真菌類の殺菌又は不活性化」の優先権を主張している。これらすべての出願の内容は本出願に全文が参照され組み込まれたものとする。他のいくつかの特許及び出願：２００２年１月２５日PCT出願WO02/059046 , 発明の名称「化学的に純水でポータブルな水の活性化方法」；２００６年１０月２５日出願のWO 2007/048806, 発明の名称「殺生物剤活性化水の調合方法」；２０１１年８月３日出願のWO 2012/018891, 発明の名称「非熱プラズマによって生成される消毒用剤」；２００１年１２月２０日出願の米国特許７，２９１，３１４号、発明の名称「活性水装置及び方法」、これらの活性流体に関する開示の全文はここに参照され組み込まれたものとする。

水や他の流体をプラズマで処置すると“活性化”されることが知られている。 水や他の流体を活性化する一つの方法は図１に描かれ、それは従来技術である誘電体バリア放電（“ＤＢＤ、dielectric barrier discharge”）プラズマ生成システム１００である。従来技術プラズマ生成システム１００は高電圧源１０２、コンダクター１０４、匡体１０８、高圧電極１０６、誘電体バリア１１０を含む。放電は、誘電体バリア１１０があろうがなかろうが起こることには言及しておきたい。プラズマ生成システム１００は、容器１２０も含み、これは接地線１２２で接地されている。動作中、高電圧電源１０２は電源が入れられ、プラズマ１３０は誘電体バリア１１０の下方に形成する。高電圧電源１０２は直流パワーソース、高周波数ＡＣパワーソース、ＲＦパワーソース、パルスＤＣパワーソース、パルスＡＣパワーソース、マイクロウェーブパワーソースの類でよい。パワーサプライは、０−１００％のデューティサイクルパルスでいくつかの実施形態では、パルス間隔は１ナノ秒から最大１０マイクロ秒である。

プラズマは水又は流体１２６に接触し、水又は流体１２６は活性化する。流体１２６はプラズマに直接接触し活性化され、ここでは“直接プラズマ活性化流体”と呼ぶ。

図２は、間接プラズマを用いて流体を活性化する従来技術システム２００を描く。システム２００は高電圧電源２０２を含む。高電圧電源２０２はＤＣパワーソース、高周波数ＡＣパワーソース、ＲＦパワーソース、マイクロウェーブパワーソース、パルスＤＣパワーソース、パルスＡＣパワーソースの類でよい。パワーサプライは０−１００％のデューティサイクルパルスでいくつかの実施形態では、パルス間隔は１ナノ秒から最大１０マイクロ秒である。

実施例のシステム２００は、ケーブル２０４によって高電圧電源２０２に接続されたＤＢＤプラズマジェネレーター２０８を含む。ＤＢＤプラズマジェネレーター２０８は高電圧電極２０６及び高電圧電極２０６と活性化される流体２２６の間に位置される誘電体バリア２１０を含む。フィルタ２５０も含まれる。フィルタ２５０は接地コンダクター２２２で接地される導電メッシュである。

システム２００の動作中、高電圧電極２０６が通電されると、プラズマ２３０は誘電体バリア２１０の下方に形成し、フィルタ２５０（もしもフィルタ２５０が導電材料から成って接地されていれば）はチャージされたイオンや電子がパススルーして活性化される流体２２６に接触するのを防止する。したがって、中性種のみがパススルーし流体２２６を活性化する。これは、典型的には“アフターグロー（afterglow）”プラズマあるいは“間接”プラズマと呼ばれている。いくつかの実施形態では、流体は水である。流体２２６は、パススルーするアフターグローによって活性化され、あるいはフィルタ―を通って生成されるアフターグローによって活性化され、これはここでは“間接プラズマ活性化流体”と呼ばれる。

銅メッシュをフィルタとして利用した、間接プラズマによって生成された実験データを以下に提供した。図３は、フィルタ２５０として使用された銅メッシュ３００の実施例を描く。銅メッシュは１６ｘ１６メッシュを有する金網で０．０１１“ワイヤ径で０．０５２”開口サイズ（６７％の開口率）のものである。異なる導電体のメッシュ材料、ワイヤ径及び開口サイズが用いられてもよい。

ここで開示された実施例では、流体は水でもよい。いくつかの実施形態では、流体の特性はプラズマ又は間接プラズマによる活性化前に変えられてもよく、種の集合度、ラジカル及びその類が増加又は減少される。例えば水のｐＨは酸又は塩基に調整されてよい。ｐＨは、例えば、酸を水に活性化前に加えて調整されてもよい。ｐＨレベルは活性化プロセスを通して低くなるかもしれない。一実施形態では、活性化水のｐＨレベルは、約２．０、他の場合にはｐＨは約２．０と３．５の間であり、さらに、約２．７の場合もある。ここで、なおｐＨは約３．０以下であり、他の実施形態では約２．０以下である。一実施形態では、ｐＨは約２．０である。

加えて、活性化された流体では、活性化プロセス自体を電極でイオン化されるガスを変更することによって調整されてもよい。例えば、イオン化されるガスは、普通の空気、N₂, O₂, He, Ar, Xe, Kr、気化された液体（水、エタノールやその他）でもよく、これらの多様な割合のコンビネーションあるいはその類でもよい。いくつかの実施形態では、一又は複数の不活性ガスがプラズマ生成プロセスで使用され、そして、いくつかの実施形態では、希ガスや気化された液体がプラズマ生成プロセスで使用される。

さらに、添加剤が流体が活性化される前後に加えられてもよく、生成溶液の効率又は安定性を増加させる。他の添加剤は、所望の結果により使用されることもあり、例えば、以下の、アルコール、銀塩、e.g.，硝酸銀、塩化銀、コロイド銀、亜鉛塩、e.g.，塩化亜鉛、乳酸亜鉛、酸化亜鉛；懸濁剤、金属ナノ粒子；クロルヘキシジン（chlorhexidine）；陰イオン性、陽イオン性、中性、及び／又は、両性の界面活性剤；乳化剤；ヒドロトロープ剤（hydrotrope）；グリセリン；キレート剤；アルコール；四級アンモニウム化合物；酸（有機あるいは無機）；基剤；表面張力低下剤を含む。いくつかの実施形態では、エタノール、酸性アルコール（acidified ethanol）、ｎ−プロパノールあるいはイソプロパノールが効能を上げるための添加剤として使用されてもよい。加えて、これらのエタノール添加剤は、胞子の殺菌又は不活性化を助けるラジカル種の半減期を増加させる場合もある。

いくつかの実施形態では、添加剤は、例えば、アルコールのような揮発性の添加剤も含み、表面処理された後で残余を残さないものもある。

流体２２６は、水源あるいは水に添加剤を加えたものもある。一実施形態では、流体は水道水であり、しかし、水は蒸留水でもよく、脱イオン水、水道水、濾過水、塩分のある水、酸性を持つ水、水の基本特性を持つもの、あるいは、例えば、アルコールのような添加剤と混合されるものでもよい。加えて、他の添加剤が反応種の生成最適化あるいは性能の向上のために使用され 及び／又は、安定性を向上するために使用されてもよい。これらの添加剤は、例えば、金属の劣化を減ずるキレート剤；溶液の浸透を促進する界面活性剤；を含んでもよく；有機負荷を減じ、及び／又は、ｐＨを調整するのに使用される緩衝剤（buffers、バッファ剤）を含んでよい。加えて、いくつかの実施形態では、防食剤が添加されてもよく、例えば、無機硫酸、無機リン酸のようなものである。いくつかの実施形態では、ゼオライト緩衝システムが用いられてもよい。いくつかの実施形態では、一又は複数のこれらの添加剤が水の活性化前に添加される。

図４は、表面４６２上にある胞子４６８の殺菌又は不活性化システム４００の実施例を描く。胞子は、例えば、クロストリジウム・ディフィシル（Clostridium difficile）“C.ディフィシル“、バチルスアントラシス”炭疸菌“あるいは他の胞子である。胞子は乾燥胞子であり、いくつかのケースでは、乾燥胞子の複層である。表面はどのような表面でもよく、例えば、病院の表面あるいはナースホームのステンレス鋼、ガラス、セラミクス、リネン、カーテン、ゴム、織物、プラスチックの類でよい。いくつかの実施形態では、表面は皮膚または組織の場合もある。

システム４００は、電極４０６にケーブル４０４によって接続されている高電圧電源４０２、誘電体バリア４１０、匡体４０８を含む。システム４００は、胞子４６８の殺菌又は不活性化に使用され、液滴あるいは蒸気４６６で濡らされている。オペレーションのメソドロジー（methodology、方法の体系）は、図４Ａについて以下に記述されている。

図４Ａは、直接プラズマを使用する胞子の殺菌メソドロジー４９０の実施例を描く。メソドロジーは、ブロック４９２で開始する。ブロック４９４の流体は処置されて胞子を含む乾燥表面に配されるものである。いくつかの実施形態では、流体は霧状、ミストあるいはスプレーされた液滴の形態である。液滴サイズは変化可能であり、いくつかの実施形態では、１ナノメートルから１マイクロメーターの間の径である（霧）。いくつかの実施形態では、１マイクロメーターから１００マイクロメーターの間の径である（ミスト）。いくつかの実施形態では、１００マイクロメーターから１ミリメータの間の径である（スプレー）。いくつかの実施形態では、流体は蒸気である。実施例で特定される霧、ミスト及びスプレーの液滴サイズにも関わらず、用語は特定された液滴サイズに限定されるものと解されるべきではない。加えて、ここで用いられているように、霧、ミスト又はスプレーはエアゾールの形態でもある。いくつかの実施形態では、流体は水である。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーの流体は胞子の最上層を覆い、胞子上に薄い液膜を形成する。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーの流体は胞子を覆う個々の小さな液滴を形成する。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーは胞子の部分のみを覆う。いくつかの実施形態では、流体は一又は複数の上記で特定される添加剤が加えられた水である。いくつかの実施形態では、流体のｐＨは胞子上に流体が塗られる前に調整されている。いくつかの実施形態では、流体の液滴は電気的に帯電されている。流体への電気的な帯電は、液滴を互いに寄せ付けない。その結果流体は表面上に均等に配される。

表面はどのような表面でもよく、例えば、テーブル、ベッド等ポリマー、金属、ゴム、ガラス、シリコン、織物材の類である。表面は、硬いものでもあるいはソフトな表面、例えば、リネン、カーテンの類でもよい。加えて、表面は、組織あるいは皮膚でもよい。流体が霧、ミスト又はスプレーの形態で表面に塗られた後、表面はブロック４９６で直接プラズマ処置される。直接プラズマは、空気、窒素、不活性ガス、希ガスあるいは以上に記載されたこれらのどのようなコンビネーションでも生成されたものでよい。

表面の処置時間は表面によって変わる。いくつかの実施形態では、表面は約5分で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約5分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約３分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約１分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約３０秒かそれ以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約5分以上で処置される。表面が処置された後、メソドロジーはブロック４９８で終了する。

表面処置は流体（e.g.水）を活性化し、空気中の窒素や酸素の要素が非常に反応性に富むラジカル、ノンラジカル、帯電や中性種（e.g.活性窒素や活性酸素）となり、それらは胞子の殻を貫き胞子の殺菌又は不活性化する。いくつかの実施形態では、プラズマは胞子に液滴あるいは蒸気間で直接接触し、開口を生成し活性化された流体が胞子の殻を貫き胞子を殺菌又は不活性化する。

いくつかの実施形態では、メソドロジー４９０は過酸化亜硝酸を生成するが、その半減期は１秒内外である。流体表面のカバレッジは、塗られる液体と露出されている物質の表面エネルギーの表面張力に依存する。部分的な表面の濡れから、球形の液滴が互いに離れる構成をとるために、液滴の合体の結果から生じ得る水の薄膜の形成によって完全に濡れとなるまでの幅がある。液体の液滴は容器内にあるバルクの流体に比較して相対的に大きな表面域を占有し、体積に対するその大きな表面比は、プラズマが流体の液滴を活性化し、オゾン、過酸化水素、亜硝酸塩、硝酸塩のような活性酸素や活性窒素種が高く集積するように、胞子との接触を大容量の水を通して遷移するのではなく、過酸化亜硝酸の生成もされ、それは直ちに胞子の表面に接触する。したがって、過酸化亜硝酸は、変性する前に胞子に接触可能となる。

図５は、表面５６２上にある胞子５６８の殺菌又は不活性化システム５００の実施例を描く。胞子は乾燥胞子であり、いくつかのケースでは、乾燥胞子の複層である。胞子は、例えば、クロストリジウム・ディフィシル（Clostridium difficile）“C.ディフィシル“あるいは他の胞子である。システム５００は、電極５０６にケーブル５０４によって接続されている高電圧電源５０２、誘電体バリア５１０、匡体５０８、及びフィルタ５５０を含む。システム５００は、胞子の殺菌又は不活性化に使用され、液滴あるいは蒸気５６６で濡らされている。オペレーションのメソドロジー（methodology、方法の体系）は、図５Ａについて以下に記述されている。

図５Aは、間接プラズマの使用による胞子の殺菌メソドロジー実施例５９０を描く。メソドロジーはブロック５９２から開始する。ブロック５９４では、流体は胞子を含む処置対象の乾燥表面に配される。いくつかの実施形態では、流体は、霧、ミスト又はスプレーの形態である。液滴サイズは変化可能であり、いくつかの実施形態では、１ナノメートルから１マイクロメーターの間の径である（霧）。いくつかの実施形態では、１マイクロメーターから１００マイクロメーターの間の径である（ミスト）。いくつかの実施形態では、１００マイクロメーターから１ミリメータの間の径である（スプレー）。いくつかの実施形態では、流体は蒸気である。実施例で特定される霧、ミスト及びスプレーの液滴サイズにも関わらず、用語は特定された液滴サイズに限定されるものと解されるべきではない。加えて、ここで用いられているように、霧、ミスト又はスプレーはエアゾールの形態でもある。いくつかの実施形態では、流体は水である。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーの流体は胞子の最上層を覆い、胞子上に薄い液膜を形成する。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーの流体は胞子を覆う個々の小さな液滴を形成する。いくつかの実施形態では、霧、ミスト又はスプレーは胞子の部分のみを覆う。いくつかの実施形態では、流体は一又は複数の上記で特定される添加剤が加えられた水である。いくつかの実施形態では、流体のｐＨは胞子上に流体が塗られる前に調整されている。いくつかの実施形態では、流体の液滴は電気的に帯電されている。流体への電気的な帯電は、液滴を互いに寄せ付けない。その結果流体は表面上に均等に配される。

表面は図４及び図４Aについて記述されたようなどのような表面でもよい。流体が霧、ミスト又はスプレーの形態で表面に塗られた後、表面はブロック５９６で直接プラズマ処置される。直接プラズマは、空気、窒素、不活性ガス、希ガスあるいは以上に記載されたこれらのどのようなコンビネーションでも生成されたものでよい。

表面の処置時間は表面によって変わる。いくつかの実施形態では、表面は約5分で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約5分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約３分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約１分以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約３０秒以下で処置される。いくつかの実施形態では、表面は約5分以上で処置される。表面が処置された後、メソドロジーはブロック５９８で終了する。

表面処置は流体を活性化し、胞子の殻を貫き胞子の殺菌又は不活性化する。いくつかの実施形態では、間接プラズマあるいはアフターグローは胞子に液滴あるいは蒸気間で直接接触し、開口を生成し活性化された流体が胞子の殻を貫き胞子を殺菌又は不活性化する。

いくつかの実施形態では、メソドロジー5９０は過酸化亜硝酸を生成するが、その半減期は１秒内外である。液体の液滴は容器内にあるバルクの流体に比較して相対的に大きな表面域を占有し、体積に対するその大きな表面比は、間接プラズマあるいはアフターグローが流体の液滴をすばやく、より効率的に活性化し、オゾン、過酸化水素、亜硝酸塩、硝酸塩のような活性酸素や活性窒素種が高く集積するように、胞子との接触を大容量の水を通して遷移するのではなく、過酸化亜硝酸の生成もされ、それは直ちに胞子の表面に接触する。したがって、過酸化亜硝酸は、変性する前に胞子に接触可能となる。

図６は、胞子の殺菌又は不活性化のためのメソドロジーの他の実施例を描く。メソドロジーはブロック６０２から開始する。ブロック６０４では、表面はプラズマに晒されている。表面は、間接プラズマあるいは直接プラズマに処置されてよい。処置時間は、約1分である。いくつかの実施形態では、いくつかの実施形態では、表面は約３０秒以下で処置される。処置時間は約1分から３分の間でもよい。いくつかの実施形態では、表面は約３分以下で処置される。いくつかの実施形態では、処置時間は約５分以下である。いくつかの実施形態では、表処置時間は約1分から３分の間であり、いくつかの実施形態では、処置時間は約5分以上である。

処置が終了後、抗菌剤が表面に塗られる。抗菌剤は、例えば、アルコールベースの衛生剤；アルコール；漂白剤；銀塩e.g.，硝酸銀、塩化銀、コロイド銀、亜鉛塩、e.g.，塩化亜鉛、乳酸亜鉛、酸化亜鉛；懸濁剤、金属ナノ粒子；クロルヘキシジン（chlorhexidine）；陰イオン性、陽イオン性、中性、及び／又は、両性の界面活性剤；乳化剤；ヒドロトロープ剤（hydrotrope）；グリセリン；キレート剤；アルコール；四級アンモニウム化合物；酸（有機あるいは無機）；基剤；表面張力低下剤；の類である。いくつかの実施形態では、抗菌剤は直接プラズマあるいは間接プラズマでの表面処置に先だって塗られる場合もある。メソドロジーはブロック６０８で終了する。

いくつかの実施形態では、オゾンをフィルタ除去するためにＣＡＲＵＬＩＴＥ（ＣＡＲＵＬＩＴＥ、登録商標5096523 、カロライト、カルス・コーポレーション、登録商標、CARULITE^R Carus Corporation社）を従来技術のフィルタ２５０に置換してもよい。他の物質、及び／又は、被膜を、ある種をプラズマ中流体にパススルーさせずブロックするために、用いてもよい。いくつかの実施形態では、複数のフィルタが利用され、したがって、銅フィルタが帯電粒子をフィルタ除去するために使用可能であってよく、第二のＣＡＲＵＬＩＴＥコートのメッシュがオゾンをフィルタ除去するために使用可能であってもよい。加えて、金網メッシュは電磁気シールドに使用されてよい。いくつかの実施形態では、フィルタは導電性であり、プラズマジェネレーターと導電フィルタの間の電気場は、フィルタを通過する活性種の密度、及び／又は、集合度を制御する。

図７は、胞子の急速殺菌又は不活性化のため活性化ガス／液滴を生成する装置７００の実施例を描く。液滴は、ミスト、スプレー、霧、エアゾール又はその類でよい。装置７００は匡体７０２を含む。匡体７０２の中に位置されるのは、高電圧電極７０４である。高電圧電極７０４は電源（図示しない）に接続されている。パワーサプライの実施例は、高電圧ＡＣ正弦波パワーサプライである。いくつかの実施形態では、パワーソースは高周波数ＡＣパワーソース、ＲＦパワーソース、パルスＤＣパワーソース、パルスＡＣパワーソース又はその類でもよい。誘電体バリア７０５が高電圧電極７０４の周囲を囲む。装置７００は接地電極７０８を含み、ガスと液体の液滴の混合物が流入可能である流体入口７１０、流体入口から伸びて電極７０４を過ぎ出口７０３に至る流路７０６を含む。高電圧電極７０４が通電されると、プラズマ７１２が流路７０６に生成される。ガスと液体の液滴の混合物がプラズマ７１２をパススルーし活性化されてガスと液体の液滴の混合物７１４は出口７０３から表面７１６へと流出する。

表面７１６はバクテリア胞子を含む、どのような表面でもよく、例えば、病院内の表面あるいはナースホームのステンレス鋼、ガラス、セラミクス、リネン、カーテン、ゴム、織物、プラスチックの類でよい。いくつかの実施形態では、表面は皮膚または組織の場合もある。胞子は、例えば、クロストリジウム・ディフィシル（Clostridium difficile）“C.ディフィシル“、バチルスアントラシス”炭疸菌“あるいは他の胞子のこともある。

表面７１６は、活性化されたガス／液滴混合物７１４に晒されている。露出時間は、約1分である。いくつかの実施形態では、露出時間は約１分以下で処置され、いくつかの実施形態では、約３０秒以下である。露出時間は約５秒から３０秒の間でもよい。いくつかの実施形態では、露出時間は約５秒である。それでも、いくつかの実施形態では、露出時間は約２秒以下であり、いくつかの実施形態では、露出時間は約１秒から２秒の間である

いくつかの実施形態では、ガス／液滴混合物７１４は、水滴と窒素と酸素を含む空気である。いくつかの実施形態では、ガス／液滴の入口への流れは、水と添加剤、例えば、エタノール及び窒素と酸素を含む空気である。

活性化されたガス／液滴混合物７１４は、重要性のある量半減期を持つ反応種を含むものと信じられており、例えば、窒素種、亜硝酸塩及び過酸化亜硝酸などである。半減期は短く約１秒である。いくつかの実施形態では、短命の活性種が胞子の急速殺菌又は不活性化を提供すると信じられている。

いくつかの実施形態では、装置７００の出口７０３は胞子を含む表面とは距離をおいて配置されており、ガス／液滴混合物は短命の活性種の半減期の約３倍の時間内に表面に接触する。過酸化亜硝酸の場合、例えば、ガス／液滴混合物の出口７０３から表面への到達時間は３秒以下になろう。いくつかの実施形態では、距離は、活性化されたガス／液滴混合物が活性種の半減期内に到達する距離である。いくつかの実施形態では、その距離は約１５センチメートル以下である。

これらの実施形態では、活性化されたガス／液滴混合物７１４は少量のH₂O₂を含む。いくつかの実施形態では、H₂O₂の量は約３ｐｐｍから１０ｐｐｍの間である。いくつかの実施形態では、H₂O₂の量は５０ｐｐｍ以下である。

いくつかの実施形態では、空気はガス、例えば、希ガス又は気化された液に置換され又は混合される。

いくつかの実施形態では、活性化されたガス／液滴混合物７１４の液滴は電気的に帯電されている。電気的帯電を流体に課すことは、粒子を互いに離反されることとなる。その結果は、液滴は表面上に均等に分布されるということになる。加えて、電気的に帯電させることは、表面のエッジのまわりをラップする傾向になり、いくつかのケースでは、三次元の物体の表面のボトムのまわりをラップすることになる。このような適用は、望ましかろうというもので、、例えば、病院では、その結果活性化されたガス／液滴混合物７１４は、ベッドのレールあるいはアームレストのまわりを処置する結果となる。

いくつかの実施形態では、活性化された混合物７１４での液滴は表面を覆う個々の液滴を形成する。いくつかの実施形態では、活性化された液滴は表面を覆う液膜を形成する。いくつかの実施形態では、膜厚は約５００ミクロン以下である。

図８は、 胞子の急速殺菌又は不活性化のため活性化ガス／液滴を生成する装置８００の実施例を描く。装置８００はプラズマ８０４を生成するプラズマジェネレーター８０２を含む。装置８００は流体入口８０６も含む。上述されたように、プラズマ８０４中を流れる流体、e.g.ガス／液滴混合物は、活性化されたガス／液滴混合物８０５となる。活性化されたガス／液滴混合物８０５は容器８０８に流入し、そこで容器８１０内のアイスバス８１２に静止する。活性化されたガス／液滴混合物８０５内の液滴は、容器で濃縮され活性化された液体８１４になる。

（実験結果）

交番極性パルスパワーソースが実験でプラズマを生成するために使用された。パルス周波数は３．５ＫＨｚでありパルス幅は１０μ秒であった。パルス電圧の振福はピーク幅で２０ｋＶであり、立ちあがり時間は、５Ｖ／ｎｓであった。プラズマ生成システムと処置面とのギャップ距離は、約１〜２ｍｍであった。実験で使用された空気はプラズマ作用ガスとして１気圧、大気圧であった。

実験結果から、実施例のシステムとここに記述されたメソドロジーでC.ディフィシルの殺菌又は不活性化能力が示された。あるケースでは、不活性はプラズマに僅か３０秒の露出後に観察された。

C.ディフィシル胞子は、ステンレス鋼片と顕微鏡スライド表面につけられた。体積１０μｌのC.ディフィシル（〜１０⁸ＣＦＵ／ｍｌ）の無菌水が無菌の表面に加えられ３０分乾燥に置かれた。乾燥した胞子が視認可能な胞子域として、ステンレス鋼片、顕微鏡スライド表面上に各々、直径約３．５ｍｍ、約１０ｍｍで形成された。乾燥胞子は、異なる疎水性の故にステンレス鋼片、顕微鏡スライド上で異なる径を呈した。それから、汚染された表面は、以下に述べるようにプラズマに晒された。処置後、板片とスライドは、中和剤（９．９ｍｌ）で満たされたテストチューブに置かれた。テストチューブは、１分間超音波処理され、１５秒間ボルテックス（渦）操作され、表面から胞子が完全に除去された。中和剤溶液は胞子を含み、希釈され、０．１％タウロコール酸ナトリウム（Sodium Taurocholate 、BHIT）が加えられた脳‐心臓浸出物寒天培地（Brain Heart Infusion Agar）上にプレートされた。それから、３７℃で３６−４８時間嫌気的インキュベーション処理され、続けて、残存集落形成単位（colony forming units、CFU）が評価された。

一実験では、C.ディフィシルはステンレス鋼片と顕微鏡スライド表面に置かれ、約３０分間乾燥された。下表に示されるように第一のC.ディフィシル付のステンレス鋼片は間接プラズマで１分処置され、ミリリッター当たりの集落形成単位（ＣＦＵ／ｍｌ）は０．４３のＬｏｇ減少の結果が得られた。第二のC.ディフィシル付のステンレス鋼片は間接プラズマで５分処置され、０．６３ＣＦＵ／ｍｌのＬｏｇ減少の結果が得られた。次に、もう一つのC.ディフィシル付のステンレス鋼片は直接プラズマで１分処置され、０．４５ＣＦＵ／ｍｌのＬｏｇ減少の結果が得られた。加えて、第四のC.ディフィシル付のステンレス鋼片は直接プラズマで５分処置され、１．１１ＣＦＵ／ｍｌのＬｏｇ減少の結果が得られた。これらのテスト結果は、プラズマと間接プラズマは単独で幾分の胞子を殺菌又は不活性化するであろうが、プラズマと間接プラズマ単独では、ベストな結果は与えられないことがわかる。

次に、下表に示されるように、C.ディフィシル付のステンレス鋼片は水スプレーで濡らされ、３０秒間、１分ないし３分間、直接プラズマで処置され、各結果は各々、３．４３、４．４８及び４．４８ＣＦＵ／ｍｌのＬｏｇ減少の結果であった。胞子を覆った水の量は、５μｌ以下であった。これらの各値はテストに使用された上限値を表す。同様に、追加のC.ディフィシル付のステンレス鋼片は水スプレーで濡らされ、３分間間接プラズマで処置され、４．１８ＣＦＵ／ｍ１のＬｏｇ減少の結果、１分間では３．３３のＬｏｇ減少の結果、３分間では２．４８のＬｏｇ減少の結果であった。したがって、胞子を流体で濡らしそれからプラズマ又は間接プラズマで処置するとC.ディフィシル胞子の殺菌又は不活性化の重要な結果を与えることとなる。

他の実験では、C.ディフィシル付の顕微鏡ガラスが水スプレーで濡らされ、３分間間接プラズマ処置され、４．００ＣＦＵ／ｍ１のＬｏｇ減少の結果となった。したがって、ガラス状の胞子を流体で濡らし、それからプラズマあるいは間接プラズマで処置するとC.ディフィシル胞子の殺菌又は不活性化の重要な結果を与えることとなる。

他の実験は、下表に示されるように、乾燥C.ディフィシル胞子付のステンレス鋼片は、１分間直接プラズマ処置され、それから４分間アルコールベースの消毒剤（それだけではC.ディフィシルを殺菌するには十分でないことが示されている）で処置され、すると、C.ディフィシル胞子は２．７１ＣＦＵ／ｍ１のＬｏｇ減少の結果であった。したがって、ここに示された胞子、プラズマでそれから胞子に抗菌剤が塗ると、胞子の殺菌又は不活性化に重大な結果を与えた。

追加の実験が、異なるタイプの胞子の殺菌又は不活性化効果を決定するために実施された。これらの実験は、約３μｌの純水（ＤＩ，de-ionized）がいくつかの異なるタイプの胞子、ステンレス鋼片上に接種されている胞子に塗られ、そして、直接プラズマを水膜に適用し、６Ｌｏｇ減少を達成したが、それはステンレス鋼片上の胞子の完全な破壊である。パワーサプライ設定は、３．５ｋＨｚ、１０μ秒のパルス幅で１００％デューティサイクル（duty cycle）だった。流体は、空気の存在で活性化され、したがって、流体を囲む空気も活性化された。結果は下表に示す。

結果は、完全な胞子の殺菌は、表面に水を塗り、その流体を活性化することによって効率的に迅速に殺菌が達成できることを示す。

加えて、実験は、異なる表面でのある種の添加剤の効能を決定するために添加剤を使用し実施された。豚の肌切片が人肌の代理として、手の洗浄に関する応用をターゲットとしてテストされた。これらの各実験では、流体が乾燥Ｃ.ディフィシル胞子を含む乾燥表面に塗られ、直接プラズマが空気、窒素と酸素を含む空気の下で処置された。実験で使用されたパワーサプライは、ＡＣ正弦波パワーサプライである。パワーサプライは、スケール１からスケール６０までの範囲での数値で設定され、これらは１ｋＶから３０ｋＶに相当する。追加の設定では、駆動周波数（ｆ）、デューティサイクルを含む。実験は、水を、あるいは添加剤とともに胞子上に水を置き、その水あるいは添加剤付水に向けて３０秒間プラズマを処置して実施された。

結果からわかるように、エタノール、酸性化エタノール、ｎ−プロパノール及びイソプロパノール添加剤はすべて胞子殺菌に効能がある。

ブタの皮膚に加えて、他の表面、皮、ビニル、ナイロン、ポリエステル及びマイクロファイバーが本方法を用いテストされ、すべての結果は、水膜が乾燥胞子へ塗られ、プラズマが３０秒処置された場合に、＞４のログ殺菌の結果を得た。

いくつかの追加の実験が有機質土壌負荷で遂行された。すべての実験は、水の薄膜が有機土壌負荷（ウシ胎児血清）で混合されたC.ディフィシル胞子を含む乾燥表面（ステンレス鋼片）に配され、それからプラズマが３０秒処置された。胞子に１％の有機土壌が混合されたものは、平均Log減少（ＣＦＵ／ｍｌ）は４．５３Ｌｏｇ減少であった。５％の有機負荷されたものは、平均Log減少（ＣＦＵ／ｍｌ）は４．６３以上であった。１０％の有機負荷されたものは、平均Log減少（ＣＦＵ／ｍｌ）は２．１４であった。

それでも、なお追加の実験では、ガスと液滴の混合物をプラズマに通過処置したものは、乾燥ステンレス鋼片上のＣ.ディフィシル胞子の５Ｌｏｇ減少（テスト検知限界）以上の殺菌又は不活性化を達成可能であり、僅か２秒の鋼片上の胞子の完全な殺菌又は不活性化を呈した。

これらの実験では、実験で用いられたパワーサプライは正弦波状ＡＣパワーサプライであった。パワーサプライは、スケール１からスケール６０までの範囲での数値で設定され、これらは１ｋＶから３０ｋＶに相当する。追加の設定では、駆動周波数（ｆ）、デューティサイクルを含む。流体は、空気及び液滴の混合物が、図７について上述されたようにプラズマを通過して活性化された。このケースでは、液滴は超音波加湿器で生成されているので液体はミストの形であり、１マイクロメーターから約１００マイクロメーターの間のサイズを有する。下の表は、実験結果を示す。第一の列はパワーサプライを識別する。第二の列は、空気の存在によって活性化された液体のタイプや形式を識別し、三番目の列は、活性化された空気／液滴混合物が乾燥胞子に処理された時間量を示す。第四の列は、活性化された液滴が流体がオフにされて後に残存可能な「保持時間」を識別する。第五列は、胞子のＬｏｇ減少の観察数値を示す。ここに示されているように、適切なパワーサプライ設定はステンレス鋼片上のＣ.ディフィシル胞子の完全な殺菌又は不活性化を得る能力がある。加えて、水、エタノール混合物は、パワーサプライ設定の広い範囲で効能が増加することが示された。

本発明の実施形態によって、非常に迅速完全な胞子の殺菌という結果が示された。これらの研究では、体積１０μｌのＣ.ディフィシル胞子（７．１８ｌｏｇ₁₀ＣＦＵ／ｍｌ）がステンレス鋼片上に置かれた。このように、５．１８ｌｏｇ減少は、小片上の全胞子の殺菌又は不活性化を表している。

加えて、いくつかの実施形態では、プラズマを生成する電極と表面との間のギャップは約１５ｍｍ程度の条件で実験は実施された。いくつかの実施形態では、そのギャップは約１０ｍｍ程度であった。いくつかの実施形態では、そのギャップは約５ｍｍ程度であった。より大きなギャップはいくつかの実施形態では、利用可能である。

それでも、他の実験では、図８について記述されたように、活性化されたミストは容器内でアイスバスに収集される。活性化された水は、乾燥Ｃ.ディフィシルの表面に１分間塗られ、その結果３．２７のｌｏｇ減少となった。活性化されたミストによって濃縮によって収集された活性化された水は、ある種の反応種の半減期は短く、それらの種は、濃縮され乾燥胞子に塗られるまでの時間内に弱まるから、ミストに比して胞子を殺菌又は不活性化するには効果的ではない。

本発明が、その実施形態と合わせ描かれているが、実施形態はかなり詳細に記述されたが、出願人は、添付する特許請求の範囲をこのような詳細に限定・制限する意図はない。追加の利点及び改変は、当業者には明らかである。その上、一実施形態で記述されている要素は、他の実施形態での使用可能であることは明らかである。したがって、発明は、広い態様で、その特定の詳細、表示された装置及び/又は、示され記述された実施例に限定されない。したがって、このような詳細から離れることがあっても、出願人の一般発明概念のスコープあるいは精神と解離することはない。

Claims (44)

1. 胞子を殺菌又は不活性化する方法は、以下の：
   一又は複数の乾燥胞子がいる乾燥表面に流体に塗ること 及び
   しばらくの時間、前記表面に直接プラズマを処置する、
   を含む方法。
2. 前記流体は、水を含む請求項１に記載の方法。
3. 前記流体は、添加剤を含む請求項２に記載の方法。
4. 前記流体は、少なくとも蒸気、霧、ミスト、スプレー及びエアゾールの一つである請求項１に記載の方法。
5. 前記流体は、電気的に帯電された液滴である請求項１に記載の方法。
6. 前記流体は、個々の液滴を一又は複数の胞子上に生成する請求項１に記載の方法。
7. 前記流体は、一つの薄い液膜を一又は複数の胞子上に生成する請求項１に記載の方法。
8. 前記液膜の厚さは約５００ミクロン以下である請求項７に記載の方法。
9. 前記時間は、約３分以下である請求項１に記載の方法。
10. 前記時間は、約１分以下である請求項１に記載の方法。
11. 前記時間は、約３０秒以下である請求項１に記載の方法。
12. 前記流体でペルオキシナイトライト（peroxynitrite）の生成をさらに含む請求項１に記載の方法。
13. 胞子を殺菌又は不活性化する方法において、以下の：
    一又は複数の乾燥胞子を含む乾燥表面に流体を塗ること；そして、
    しばらくの時間前記表面に間接プラズマを処置すること、
    を含む方法。
14. 前記流体は、水を含む請求項１３に記載の方法。
15. 前記流体は、添加剤を含む請求項１４に記載の方法。
    
16. 前記流体は、蒸気、霧、ミスト、スプレー又はエアゾールの少なくとも一つから成る請求項１３に記載の方法。
17. 前記流体は、電気的に帯電された液滴である請求項１３に記載の方法。
18. 前記流体は、一又は複数の胞子上に被さる液滴を形成する請求項１３に記載の方法。
19. 前記流体は、一又は複数の胞子上に被さる液膜を形成する請求項１３に記載の方法。
20. 前記流体でペルオキシナイトライト（peroxynitrite）の生成をさらに含む請求項１３に記載の方法。
21. 胞子の殺菌又は不活性化の方法において、以下の：
    一又は複数の胞子を含む表面を直接プラズマあるいは間接プラズマでしばらくの時間処置すること；
    一又は複数の胞子を含む前記表面に抗菌剤を塗ることを、
    含む方法。
22. 前記抗菌剤はアルコールを含む請求項２１に記載の方法。
23. 前記抗菌剤は漂白剤ベースの消毒剤である請求項２１に記載の方法。
24. 前記抗菌剤は前記表面を処置後に塗られる請求項２１に記載の方法。
25. 胞子の殺菌又は不活性化の方法において、以下の：
    一又は複数のガス及び液滴の混合物を前記ガス／液滴混合物を活性化するために非熱プラズマ中をパススルーすること；
    前記活性化されたガス／液滴混合物を一又は複数の胞子を含む表面にしばらくの時間塗ること、
    を含み、前記非熱プラズマと前記表面の間の距離は、前記ガス／液滴混合物が前記非熱プラズマを通過して、前記ガス／液滴混合物が前記プラズマ中を通過するときに生成される短命の反応種の半減期の約３倍以内に、前記表面に到達する程度であることを特徴とする方法。
26. 前記時間は、所望の胞子を殺菌又は不活性化するのに必要な前記時間の関数である請求項２５に記載の方法。
27. 前記時間は、約１分以下である請求項２５に記載の方法。
28. 前記時間は、約３０秒以下である請求項２５に記載の方法。
29. 前記時間は、約１０秒以下である請求項２５に記載の方法。
30. 前記距離は、液滴が非熱プラズマを通過し前記表面が前記短命の反応種のほぼ半減期以内に表面に到達する程度のものである請求項２５に記載の方法。
31. 前記一又は複数のガスは空気を含む請求項２５に記載の方法。
32. 前記一又は複数のガスは少なくとも希ガスを含む請求項２５に記載の方法。
33. 前記液体は水を含む請求項２５に記載の方法。
34. 前記液体は添加剤を含む請求項２５に記載の方法。
35. 前記添加剤は、エタノール、酸性エタノール、ｎ−プロパノール及びイソプロパノールの一つを含む請求項３５に記載の方法。
36. 前記液体は、一又は複数の電気的に帯電された液滴であって前記液滴が一様な液滴の分布を形成する傾向がある請求項２５に記載の方法。
37. 胞子を殺菌又は不活性化する方法において、以下の：
    一又は複数のガス及び流体の液滴の混合物を前記ガス／液滴を活性化させるために非熱プラズマ中を通過させること；
    前記活性化されたガス/液滴混合物を一又は複数の胞子を含む表面に、１分以上の時間塗ることを、
    含む方法。
38. 前記時間は３０秒以内である請求項３８に記載の方法。
39. 前記時間は１０秒以内である請求項３８に記載の方法。
40. 前記時間は５秒以内である請求項３８に記載の方法。
41. 前記ガス/液滴混合物が前記非熱プラズマ中を通過後、前記ガス/液滴混合物が前記表面に約３秒以内接触する請求項３８に記載の方法。
42. 前記ガス/液滴混合物が前記非熱プラズマ中を通過後、前記ガス/液滴混合物が前記表面に約２秒以内接触する請求項３８に記載の方法。
43. 前記ガス/液滴混合物が前記非熱プラズマ中を通過後、前記ガス/液滴混合物が前記表面に約１秒以内接触する請求項３８に記載の方法。
    
44. 前記ガス/液滴混合物は一又は複数の電気的に帯電された液滴であって前記液滴は前記表面に消毒のために一様に形成する結果となる傾向を有する請求項３８に記載の方法。

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