JP2016509966A - 液晶レンズ用配向フィルム及びこれを形成するための金型 - Google Patents

液晶レンズ用配向フィルム及びこれを形成するための金型 Download PDF

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Abstract

本発明は、液晶レンズ用配向フィルム、これを形成するための金型及びその製造方法に関するもので、内部に液晶がよく配向されている液晶レンズを効果的に製造することができる配向フィルムまたはこれを形成するための金型を提供することができる。特に、本発明によれば、レンズの形状を具現するために曲面のような非平面上の空間に充填された液晶が効果的に配向されて液晶レンズが形成されることができる。また、複合微細パターンを簡単な工程で製作することが可能であり、ロールツーロール工程のような連続工程にも適用が可能である。【選択図】図1

Description

本発明は、液晶レンズ用配向フィルム、これを形成するための金型及びその製造方法に関する。
液晶レンズは、多様な用途で使用することができ、例えば、3Dディスプレイ装置に使用することができる。液晶技術が持続的に発展することによって、液晶材料は多様な分野に幅広く応用されている。
例えば、伝統的な光学ズームレンズグループは、少なくとも二つ以上のレンズが互いに結合して移動するとズーム効果に到逹することができる。実在応用過程で、このような光学ズームレンズグループは、比較的厚くて重いだけではなく、体積が大きくて使用が非常に不便である。
LC Lens(Liquid Crystal Lens、液晶レンズ)は、液晶分子の複屈折特性及び電場の分布変化によって配列される特性を利用して光線(light beam)を集束(focusing)するかまたは発散させる光学アセンブリーである。LC Lensは、動作電圧(operating voltage)を変化させて液晶分子の配列方向を変えることで、焦点距離を調節する効果を実現する。以外にも、特定方向に固定配向された液晶レンズと別途の電圧駆動方式の液晶セルを組み合わせる場合、液晶セルの駆動によって一つのディスプレイで2Dと3Dをスイッチングすることができるディスプレイの具現が容易である。一方、LC Lensの軽くて薄い特性は大きい長所として、狭い空間内で効果的な光学ズーム効果に到逹することができる。
本発明は、液晶レンズ用配向フィルム、これを形成するための金型及びその製造方法を提供することを目的とする。具体的に、本発明は、非平面、曲面または3次元形状の基材表面に微細パターンを簡単な工程を通じて手軽に形成することができる液晶レンズ用配向フィルム及びこれを形成するための金型を提供する。
以下、添付図面を参照して本発明の具現例をより具体的に説明する。なお、本発明の説明において、関連された公知の汎用的な機能または構成に対する詳細な説明は省略する。添付される図面は、本発明の理解を助けるための概略的なもので、本発明をより明確に説明するために説明と関係ない部分は省略した。
本発明は、液晶レンズ用配向フィルム及びこれを形成するための金型に関する。本明細書で用語「液晶レンズ用配向フィルムを形成するための金型」は、液晶レンズ用配向フィルム200として注入された液晶がレンズ形態を維持するように形成されている一つ以上の非平面201;及び前記非平面201上に存在し、液晶配向能を示すことができる寸法の突起部202を含む液晶レンズ用配向フィルム200を形成するようになっている金型100を意味する。前記突起部202は、前記レンズ形態で維持された液晶を配向させることができるように液晶配向能を有する形態で形成されている。
このような液晶配向フィルム形成用金型は、例えば、一つ以上の非平面101(nonplanar surface or curved surface)上に形成されており、液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部102(bump)を含む転写パターンを有することができる。前記非平面101は、液晶レンズの形成のために曲面形状であることができ、レンズ形状に形成されもよい。前記非平面101の形態の具体的な態様は、特別に限定されず、形成しようとするレンズの形態を考慮して選択することができる。例えば、前記非平面101は、レンチキュラーレンズ形状であることができる。レンチキュラーレンズ(lenticular lens)は、反円筒状のレンズアレイを一つ以上配列して立てたもので、微細に異なる角度とイメージから表示される像を拡大するためのレンズ配列を意味する。したがって、本発明による前記非平面101は、レンズ形状が一方向に延長される形態を有することができる。図1は、前記金型100の例示的な形態として、一つ以上の非平面101とその表面に形成されている突起部102を含む転写パターン形態を示す。また、図2は、前記配向フィルム200の例示的な形態として、前記金型100の非平面101が転写された形態を有する一つ以上の非平面201を示し、また、前記金型100の突起部102を含む転写パターンが転写されることで形成される液晶配向能を示すことができる寸法の突起部202を含む液晶配向パターン形態を示す。したがって、前記配向フィルム200の突起部202は、前記金型100での各突起部102の間の溝103と対応される。
具体的には、例示的な液晶配向フィルム形成用金型は、上述のように、一つ以上の非平面101上に形成されており、液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部102を含む転写パターンを有することができる。本発明の具体例では、前記金型を使用して、前記非平面101及び非平面101上の突起部102の形態が転写されて対応される液晶レンズ用配向フィルム200を製造することができる。前記配向フィルムは、上述のように、注入された液晶がレンズ形態を維持するように作って、注入された液晶を配向させることができる。前記のような金型を使用して、曲面及び3次元形状の基材表面に微細パターンを簡単な工程を通じて手軽に形成することができる。このように、非平面上に液晶配向能を示すことができる寸法の突起部を形成する際に、液晶分子が分子間相互作用が大きくても分子自体のサイズを考慮する時、液晶分子の配向方向に物理的影響を効果的に誘導するためには、突起部のサイズが小さいほど液晶分子の配向に及ぶ拘束力が大きくなるので、優秀な配向能を得るために有利である。これによって、突起部のサイズは、数十〜数百ナノメートルのサイズで制御することが好ましいが、このような非平面上に超微細線幅及び周期を有するパターンを具現することは、既存の高価の半導体工程基盤のリソグラフィ技術または電子ビームリソグラフィ技術を通じて具現することが難しいだけではなく、このような工程を利用してディスプレイで応用が要求される大面積化は技術的に非常に難しいと言える。
前記金型100の非平面101または前記配向フィルム200の非平面201により形成されるレンズの形状は、一方向に延長される形態を有するレンチキュラーレンズアレイ形態を有することができ、前記アレイでレンズの形状は、特別に限定されない。例えば、凸レンズ形状、凹レンズ形状またはフレネルレンズ形状で構成されたレンチキュラーレンズアレイなどのような公知の形状を有することができる。添付された図6は、前記配向フィルムの非平面201により形成されることができる凸レンズ基盤のレンチキュラーレンズアレイの断面形状を示し、図7は、前記配向フィルムの非平面により形成されることができるフレネルレンズ基盤のレンチキュラーレンズアレイの断面形態を例示的に示す。液晶レンズを一般GRIN(Grade Refractive Index、一般の凸レンズ)レンズタイプではないフレネルレンズ形態で具現すれば、相対的に薄い液晶層で希望する焦点距離の具現が可能であるだけではなく、低い駆動電圧で速い応答速度及び低い色数値を具現することができる。
前記金型の突起部102のサイズ、例えば、図1に示した突起部102の幅(W)、高さ(H)またはピッチ(P)の範囲は、特別に限定されず、前記金型の突起部102が液晶配能を示すことができるパターンを転写することができる範囲であれば、特別に限定されなし。例えば、前記金型の突起部102の幅は、0.05μm〜10μm、0.1μm〜8μm、0.15μm〜6μm、0.2μm〜4μm、0.25μm〜2μmまたは0.3μm〜1μmであることができ、金型の突起部102のピッチは、0.05μm〜20μm、0.2μm〜16μm、0.3μm〜12μm、0.4μm〜8μm、0.5μm〜4μmまたは0.4μm〜2μmであることができる。また、前記金型の突起部102の高さまたは深さは、0.01μm〜5μm、0.05μm〜4.8μm、0.1μm〜4.5μm、0.15μm〜4.3μm、0.2μm〜4μm、0.3μm〜4μmまたは0.5μm〜4μmであることができる。前記範囲内にサイズを調節して形成された突起部が上述の配向フィルムに転写されることによって、前記配向フィルムは適切な液晶配向能を示すことができる。
一つの例示で、前記金型の非平面101は、図4に示したように、一方向に延長されるレンズ形状を有することができる。また、前記金型の突起部102は、図4に示したように、前記レンズ形状の延長方向と0度〜90度の範囲内でいずれか一つの角度を成す線形状で形成されることができる。これによって、前記配向フィルムの非平面201も一方向に延長されるレンズ形状を有することができる。また、前記配向フィルムの突起部202は、前記レンズ形状の延長方向と0度〜90度の範囲内でいずれか一つの角度を成す線形状で形成されることができる。
図5に示したように、前記金型100は、ロール501形状であることができる。すなわち、図5のように、前記金型100は、非平面101が外部に存在する状態のロール501形状で形成することができる。この場合、一つ以上の凸部が線形状でロール501に形成される。曲面または3次元形状のパターニング技術は、非常に複雑な工程として製作が難しいが、本発明による金型100を使用することで、複合微細な形状を容易な工程で製作することが可能であり、ロールツーロール工程500のような連続工程に適用することができる。これによって、工程難易度が低くなって適用が容易になることができる。
本発明の具体例による液晶レンズ用配向フィルム200は、一例で、図2に示したように、一つ以上の非平面201上に液晶配向能を示すことができる寸法の突起部202を含む液晶配向パターンが形成されている。一つの例示で、前記配向フィルム200の非平面201は、一方向に延長される凹部の形状を有することができる。
前記配向フィルムにおける非平面201及び/または突起部202の形態、サイズなどは、特別に限定されず、前記配向フィルムの非平面201は、上述の金型の非平面101が転写された形態であることができ、同様に配向フィルムの突起部202は、上述の金型の突起部102及び溝103により転写された形態であることができる。
前記配向フィルムの突起部202の幅(W)、高さ(H)またはピッチ(P)の範囲は、特別に限定されず、前記配向フィルムの突起部202が液晶配向能を示すことができる範囲であれば、特別に限定されない。例えば、配向フィルムの突起部202の幅は、0.5μm〜10μmであり、配向フィルムの突起部202のピッチは、0.05μm〜20μmである。また、配向フィルムの突起部202の高さまたは深さは、0.01μm〜5μmである。前記範囲内にサイズを調節して形成された突起部は適切な液晶配向能を示すことができる。
本発明の金型及び配向フィルムにより上述のように液晶レンズ形状の液晶フィルムを製造することができ、前記液晶フィルムは、裸眼の立体映像装置を具現するために使用することができる。
また、本発明は、前記配向フィルムまたは金型の製造方法に関する。一つの例示で、前記配向フィルムは、上述の金型の転写パターンを被写体上に転写させて液晶配向パターンを形成することで製造することができる。一つの例示で、前記配向フィルムの製造は、図5のように、ロール形状を形成する金型を通じてロールツーロール工程で製造することができる。
また他の具体例で、図3は、前記液晶配向フィルムの例示的な製造方法を示す。図3のように前記製造方法は、平面上の被転写層302に液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部202を含むパターンを形成し、前記パターンが形成されている被転写層302の表面を非平面201で形成する工程を含む。前記配向フィルムの非平面201は、レンズ形状を形成する非平面201であることができる。また、前記被転写層302の表面を非平面201で形成する工程は、前記非平面201の表面に前記突起部202の形態が維持されるように実行することができる。前記のような製造方法によって配向フィルムを形成する場合、高い曲率半径を有する曲面及び複雑な3次元形状において信頼性が高い微細パターンを形成することができる。前記突起部202及び/または非平面201は、当業界の公知の方法で形成することができ、例えば、ホットエンボシング(hot embossing)またはナノインプリント(nanoimprint)工程を通じて形成するができるが、これに限定されるものではない。
本明細書で用語「ホットエンボシング」は、被転写層上に希望する形状が刻印されたモールドを利用して一定量の圧力と温度を加えて形状を複製し出す工程を意味する。一つの例示で、前記被転写層は、熱可塑性プラスチックであることができ、前記熱可塑性プラスチックは、温度が高くなることによって粘性を有する流体の流れ挙動を示すが、この時、陰刻または陽刻の特定形状が刻印されたモールドを利用して圧着すれば、形状の空の空間をプラスチック流体が満たすようになり、以後、モールドを除去して形状を複製することができる。
前記平面上の被転写層302を構成する素材は、例えば、ホットエンボシング(hot embossing)工程により形態を形成することができる素材であれば、特別に限定されない。前記被転写層302の素材は、ホットエンボシング段階を通じて液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部202を形成することにおいて、信頼性が高い超微細凹凸構造形状の刻印が容易であり、ホットエンボシング工程のうち熱分解が行われなくて、その他熱成型工程で希望しない副反応が介入しない優秀な熱成型性を有する高分子素材であれば、特別に限定されない。また、後述する支持層303の形成において支持層素材の溶液コーティング工程で溶解度のない素材が好ましい。一つの例示で、前記平面上の被転写層302は、熱可塑性ポリマーを含むことができる。例えば、前記被転写層302は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、エチレン酢酸ビニル(EVA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリアミド(PA)、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)、ポリアセタール(POM)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリフェニルスルホン(PPSU)、ポリアミドイミド(PAI)及びポリプロピレン(PP)からなる群より選択された一つ以上を含むことができる。
一つの例示で、本発明の配向フィルム200の製造方法は、前記被転写層302の表面を非平面201で形成する前に、パターン上に支持層303を形成する工程を含むことができる。すなわち、先に配向フィルムの突起部202を形成し、更に非平面201をエンボシングにより形成することにおいて、場合によっては、前記非平面201を形成する過程で加わる熱などにより既に形成されている突起部202の形態が維持されないことがある。このような点を防止するために、前記エンボシング、すなわち非平面201を形成する前に既に形成されているパターン上に支持層303を形成することができる。
前記支持層303は、エンボシング過程で突起部202を含むパターンの形態を維持するように形成される限り、具体的な形成方式や素材は、特別に限定されない。例えば、前記支持層303は、高分子溶液、ナノ粒子分散液または金属酸化物誘導体を利用した溶液コーティング工程方式で形成するか、スパッタリングや蒸着方式(CVD、PVD)などのような乾式蒸着方式で形成することができる。また、前記支持層の素材は、エンボシング過程では突起部202を含むパターンの形態を維持することができ、追後に必要な時に選択的に除去できる素材であれば、いずれも使用が可能である。一つの例示で、前記支持層は、ポリビニルアルコール(Poly vinyl alcohol:PVA)、ポリビニルピロリドン(Poly vinyl pyrollidone:PVP)、ポリエチレンオキシド(Polyethylene oxide:PEO)、ポリアクリルアミド(Poly acrylamide:PAAM)、ポリアクリル酸(Polyacrylic acid)、ポリスチレンスルホン酸(Poly styrenesulfonic acid:PSSA)、ポリケイ酸(Polysilicic acid:PSiA)、ポリリン酸(Poly phosphoric acid:PPA)、ポリエチレンスルホン酸(Polyethylene sulfonic acid:PESA)、ポリエチレンイミン(Polyethyleneimine:PEI)、ポリアミドアミン(Polyamideamine:PAMAM)、及びポリアミン(Polyamine)からなる群より選択された一つ以上を含むことができる。前記のような水溶性高分子溶液または高分子ナノ粒子溶液のコーティングにより形成することができ、場合によっては、溶液工程が可能な加水分解または縮合反応基盤のゾル−ゲル型金属酸化物の前駆体と金属酸化物ナノ粒子溶液またはこれらの混合物を通じてコーティングすることができる。例えば、前記支持層は、チタンアルコキシド、ジルコ二ウムアルコキシド、タングステンアルコキシド、スズアルコキシド、亜鉛アルコキシド、アルミニウムアルコキシド、セシウムアルコキシド、イリジウムアルコキシド及びシリコンアルコキシドからなる群より選択された一つ以上を含むことができる。
例えば、前記支持層303は、湿式コーティングまたは乾式蒸着方式により形成することができるが、これに限定されるものではない。
具体的に、前記支持層303を形成する段階は、スピンコーティング(spin coating)、ロールコーティング(roll coating)、ディープコーティング(deep coating)、噴霧コーティング(spray coating)、ディップコーティング(dip coating)、フローコーティング(flow coating)、バーコーティング(bar coating)、ドクターブレード(doctor blade)、ディスフェンシング(dispensing)または薄膜ラミネーティング(thin film laminating)からなる群より選択された一つ以上の方法で実行することができる。
一つの例示で、前記乾式蒸着方法は、化学気相蒸着法(Chemical Vapor Deposition)、プラズマスパッタリング(Plasma Sputtering)、蒸発蒸着法(Evaporation)及び原子層蒸着法(Atomic Layer Deposition)からなる群より選択した方法で実行することができる。
本発明の一具現例による前記製造方法は、前記非平面201で形成した後、支持層303を除去する工程をさらに実行することができる。前記支持層303を除去する段階は、支持層に対してはエッチング性があり被転写層302に対してはエッチング性がない物質を使用して実行することができる。例えば、上述のPVAやPVPのような水溶性高分子の場合、水やアルコール溶液、例えば、イソプロピルアルコール(Isopropyl alcohol:IPA)を利用して選択的な除去が容易である。一方、上述のゾル−ゲル型金属酸化物の場合、希釈された酸性水溶液で除去することができ、具体的には、1%のHCl水溶液で選択的に除去することができるが、これに限定されるものではない。前記支持層303は、上述したように、ホットエンボシング時に突起部202を含むパターンを維持させる役目をすることができ、前記非平面201を形成した後には、除去されて突起部202が非平面201上に形成されるようにすることができる。
また、本発明は、液晶レンズ用配向フィルム200を形成するための金型100の製造方法に関する。一つの例示で、金型100は、上述の方法で製造された配向フィルムの形態のように形成することができる。前記金型の製造方法は、平面上の被転写層に液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部を含むパターンを形成し、前記パターンが形成されている被転写層の表面を非平面で形成した後、前記非平面の形態を被転写体に転写させる工程を含むことができる。前記金型100は、レンズ形状を形成することができる一つ以上の非平面101及び、前記非平面101の表面に形成されており、液晶配向能を有する溝103を形成することができる一つ以上の突起部102を含む金型100であることができる。
また、本発明は、上述の配向フィルムを通じて液晶フィルムを製造する方法に関する。例示的な、液晶フィルムの製造方法は、上述の配向フィルムの非平面上に液晶物質を注入して液晶層を形成する工程を含むことができる。また、前記製造方法は、液晶層上に液晶物質を密封するように配向膜を形成する工程を含むことができる。一方、前記配向膜は、当業界の公知の素材を使用して製造することができ、例えば、微細線形凹凸パターンの配向工程、光配向工程またはラビング(rubbing)配向工程で形成することができる。また、前記配向膜は、液晶配向能を示すことができるものであれば、特別に限定されず、公知の配向膜を適用することができる。一つの例示で、前記配向膜は、液晶配向能を示す配向方向が、下部の液晶層の突起部の整列方向と対応するように形成されることができる。前記液晶層の突起部とは、上述の配向フィルムに液晶物質を注入することで、配向フィルムの突起部または凹部により液晶物質で形成された突起部を意味することができる。また、注入された液晶物質は、硬化工程を経て最終的に液晶層を形成することができる。前記硬化工程は、公知の方法で進行することができ、例えば、紫外線の照射または熱硬化工程を実施することができる。一つの例示で、前記配向膜は、液晶層の突起部が形成された面の反対面に積層されて液晶を配向することができる。すなわち、厚い液晶層において、突起部が形成された面と近い領域は液晶配向がよく形成されるが、その反対面は配向がよく形成されないので、反対面に形成された液晶分子を配向する役目をすることができる。これを通じて液晶が充填されたレンズ領域の全体にも均一な液晶配向を誘導することができる。
本発明は、内部に液晶がよく配向されている液晶レンズを効果的に製造することができる配向フィルムまたはこれを形成するための金型を提供することができる。特に、本発明によれば、レンズの形状を具現するために曲面のような非平面上の空間に充填された液晶が効果的に配向されて液晶レンズが形成されることができる。
図1は、本発明の一つの例示による金型の断面図である。 図2は、本発明の一つの例示による配向フィルムの断面図である。 3は、本発明の一つの例示による配向フィルムの製造工程を示した断面図である。 図4は、本発明の一つの例示による金型の斜視図である。 図5は、本発明の一つの例示によるロールツーロール工程を示した斜視図である。 図6は、本発明の一つの例示による凸レンズ基盤のレンチキュラーレンズアレイの断面図である。 図7は、本発明の一つの例示によるフレネルレンズ基盤のレンチキュラーレンズアレイの断面図である。 図8は、実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図9は本発明の実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図10は本発明の実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図11は本発明の実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図12は本発明の実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図13は本発明の実施例及び比較例による配向フィルムのSEMイメージである。 図14は、本発明の実施例による金型の写真である。 図15は、本発明の実施例及び比較例による配向フィルムにより製造された液晶フィルムの写真である。
以下、 本発明による実施例及び本発明によらない比較例を通じて本発明をより詳しく説明するが、本発明の範囲は、下記提示された実施例により限定されるものではない。
実施例1
フォトリソグラフィ工程と乾式蝕刻工程を利用して、ピッチ8μm、幅2μm及び高さ3.5μmの線型格子石英基材を形成し、2mTorr、C = 30sccm、ICP:RF = 1000:50Wの条件で、乾式蝕刻工程を通じて、ピッチ8μm、幅2μm及び高さ2.5μmのパターンマスターモールドを各々製作した。以後、石英基材に1重量%で希釈されたフッ素化シラン(Fluorinated silane)(OPTOOLTM、Daikin Industires、LTD.) 溶液をスピンコーティングを通じて塗布し、120°Cで30分間乾燥させて離型処理を進行し、紫外線硬化用PUV(Poly urethane acrylate)(SRMO4、MINUTA Technology co., LTD.)をパターン面にスピンコーティング方法で(500rpm、30秒)塗布した後、180μm厚さのPET記載をラミネートして紫外線の照射(100W/cm−2、120秒)を通じて硬化及び離型を実施してパターンを複製することでモールドを製造した。
前記モールドを使用して、液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部202を含むパターンを形成した。すなわち、図3に示した方式に準して液晶配向フィルムを製造した。まず、厚さが約180μm程度であるPMMAフィルムを使用して被転写層302を形成し、その後、ホットエンボシング工程で前記被転写層302上に、上述のモールド(ピッチが約8μm程度、高さが約2.5μm程度、幅が約2μm程度)を通じて突起部202を含むパターンを形成した。その後、前記パターン上に支持層303を形成した。支持層は、公知のゾル−ゲル反応性チタンアルコキシドを使用したスピンコーティング方式で二酸化チタン(TiO)層をパターン上に形成し製造した。
前記TiOゾル−ゲルの前駆体溶液は、窒素が充填されたグローブボックスで、溶媒であるイソプロピルアルコール(isopropyl alcohol)50mLに、二酸化チタンの前駆体であるチタンイソプロポキシド(Ti−isoproppoxide)125mLと触媒である塩酸2mLを混合し、約10分間撹拌してゾル−ゲルコーティング溶液を製造した。
次に、空気中の水分と反応を通じて加水分解及び縮合反応によりチタン酸化物(二酸化チタン、TiO)が形成されるように、常温及び65%の相対湿度の条件下で放置してゲル化させた。
その後、前記支持層303が形成されたPMMAフィルムにレンチキュラーレンズ形状のモールド(機械加工)を通じて2次ホットエンボシング工程を進行した。その後、塩酸(HCl)水溶液(塩酸濃度:1重量%)で支持層(TiO)をエッチングさせて液晶配向フィルムを製造した。図8の(a)は、前記ゾル−ゲルTiO前駆体突起部202に選択的に充填されて支持層303が形成された状態のSEMイメージであり、(b)は、TiOが選択的に除去された後のSEMイメージであり、(c)及び(d)は、レンズ形状の急激な屈曲にも微細パターンがよく形成されていることを示すSEMイメージである。
実施例2
実施例1の2次ホットエンボシング工程で、凸レンズ基盤のレンチキュラーレンズ形状の代わりに、フレネルレンズ形状のモールド(機械加工)でホットエンボシング工程を進行したこと以外は、実施例1と同一な方法で配向フィルムを製造した。
図9及び図10は、前記実施例2によって製造した配向フィルムのSEMイメージである。前記イメージを通じて複雑な形状のフレネルレンズを構成する急激な傾斜を有する屈曲にも微細なパターンがよく形成されていることを確認することができる。
具体的には、図9は、線形状のフレネルレンズ形状が一方向に延長される延長方向と突起部の線形状の延長方向が0度である場合、レンズ軸と微細線形パターンが平行に整列されたことを示す。また、図10は、線形状のフレネルレンズ形状が一方向に延長される延長方向と突起部の線形状の延長方向が90度である場合、すなわち、レンズ軸と微細線形パターンが垂直に整列された構造を示したSEMイメージである。
これは、本発明の金型及び/または配向フィルムによって形成されるレンズの配列及び液晶の配向方向が自由に制御されることができることを示す。
一方、図8〜図10を参照すれば、ゾル−ゲル反応を通じて突起部に選択的に充填された金属酸化物(TiO)が互いに連結されないで切れている。これは、2次エンボシング工程、すなわち、レンズ形状の熱成型過程で被転写層の表面成形及び表面積の増加によって、モールドの境界領域で被転写層高分子のせん断流れ(Shear flow)が被転写層の全面で起きることに比べて、金属酸化物は、被転写層の熱成型温度により何らの形状の変化がないことを意味する。
実施例3
実施例2の配向フィルムの製造方法において、支持層303の素材としてTiOゾル−ゲルの前駆体の代わりにポリビニルピロリドン高分子を使用した。
実施例2の同様に、1次エンボシング工程を進行した後、ポリビニルピロリドン高分子溶液をスピンコーティングを通じて支持層303に充填させた。この時、ポリビニルピロリドン高分子溶液は、イソプロピルアルコールに10〜20重量%で溶解させて準備した。2次エンボシングはフレネルレンズ形状のモールドを利用してレンズ形状を転写し、水またはイソプロピルアルコールに1分程度担持して支持層であるポリピロルリドン高分子を選択的に除去して工程を完成した。
図11及び図12は、前記実施例3によって製造した配向フィルムのSEMイメージある。前記イメージを通じて複雑な形状のフレネルレンズの屈曲にも微細パターンがよく形成されていることを確認することができる。具体的には、図11は、線形状の微細凹部が一方向に延長される延長方向とフレネルレンズのレンズ軸が90度である場合、すなわち、レンズ軸と微細線形パターンが垂直に整列された構造を示したSEMイメージある。また、図12は、線形状の微細凹部が一方向に延長される延長方向とフレネルレンズのレンズ軸が0度である場合、レンズ軸と微細線形パターンが平行に整列されたことを示す。
また、実施例2ではTiO酸化物が互いに連結されていないで切れているが、ポリピロリドン高分子を支持層303で使用して微細パターンを維持及び支持層を除去して、突起部が切れなくて連続的な線形パターン構造を得ることができた。これは、ポリピロリドン高分子が、2次エンボシング工程で平面上のパターン表面でフレネルレンズ凹凸及び曲面で成形されることによって比表面積が広くなる過程で、微細パターンの空の空間を被転写層フィルムの熱的流動と同一な割合で均一に延伸して得られた結果である。
実施例4
実施例1と同一な方法でモールドを製造するが、超微細突起部を形成するため、ナノ線格子構造、すなわち、幅が約75nm程度、ピッチが約150nm程度及び高さが150nm程度のパターンをマスターモールドで使用して形状を複製して製造した。
超微細凹部を形成するため、ナノ線格子構造が刻印された前記モールドを使用して、実施例3と同一な方法で配向フィルムを製造した。
図13は、幅が約0.075μm程度、ピッチが約0.150μm程度及び高さが0.150μm程度であるナノ線形格子を利用して製造されたフレネルレンズ形状の配向フィルムのSEMイメージである。突起部の整列方向は、レンチキュラーレンズアレイのレンズ軸と45度方向を成すように製作された。ナノサイズの突起部がフレネルレンズ形状の上部曲面及び凹凸上部に均一に形成されていることを確認することができる。
実施例5
実施例4で製作した配向フィルム(110mm×110mm)の液晶配向用突起部が形成された面に、真空蒸着及びスパッタリング方法で、銅−コバルト(Cu−Co)を約0.015μmの厚さで蒸着し、電気メッキ(electro deposition)方法を通じて銅を約800μmの厚さでメッキした。最終的に、前記配向フィルムを除去して配向フィルムの微細形状が複製された電鋳金型を製作した。図14は、液晶配向用突起部が刻印されたフレネルレンズアレイ形状の金型のイメージを示す。
実施例6
<液晶配向テスト>
実施例4で製作した配向フィルム上部の凹の曲面の上部に液晶高分子を満たして液晶層を形成し、上部基材で前記液晶層を密封する形態で液晶シートを製作した。この時、上部基材にも下部のレンズ形状の液晶層に形成された配向パターンと同一な方向への配向膜を導入した。
詳しくは、前記配向膜は、光配向工程を利用して製造した。製作した光配向膜を有する上部フィルムと前記レンズ形状の液晶層を互いに対向するようにおいて、配向性を付与した方向が同一になるように合わせた後、レンチキュラーレンズの面に液晶組成物(BASF社のLC242)を硬化後の厚さがレンズの厚さになるように塗布した後に、その上部に前記配向処理された配向膜をラミネートし、紫外線を前記配向膜の基材面に照射(500mJ/cm)して液晶フィルムを形成した。
比較例1
フレネルレンズに液晶配向用突起部がないレンズフィルムを製作して実施例6と同一な工程で液晶配向テスト用サンプルを製作した。図15は、実施例6と比較例1を通じて製造した各々の液晶フィルムを光軸が互いに交差された二つの偏光板の間に置いて配向特性を確認した写真である。すなわち、液晶配向用突起部の有無による液晶配向程度を示すことで、フレネルレンズにナノサイズの突起部があるフィルムの場合、優秀な液晶配向特性を示す。
100:金型
101:非平面(レンズ形状)
102:金型の突起部
103:溝
200:配向フィルム
201:非平面(レンズ形状)
202:配向フィルムの突起部
301:保護フィルム
302:平面上の被転写層
303:支持層
304:液晶物質
500:ロールツーロール工程
501:ロール

Claims (26)

  1. 一つ以上の非平面上に形成されており、液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部を含む転写パターンを有することを特徴とする液晶配向フィルム形成用金型。
  2. 非平面は、レンズ形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  3. 非平面は、レンズ形状が一方向に延長される形態を有することを特徴とする請求項2に記載の金型。
  4. レンズ形状は、凸レンズ形状、凹レンズ形状またはフレネルレンズ形状を示すことを特徴とする請求項2に記載の金型。
  5. 突起部の幅は、0.05μm〜10μmの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  6. 突起部のピッチは、0.05μm〜20μmの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  7. 突起部の高さは、0.01μm〜5μmの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  8. 非平面は、一方向に延長されるレンズ形状を有し、突起部は、前記レンズ形状の延長方向と0度〜90度の範囲内のいずれか一つの角度を成す線形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  9. 非平面が外部に存在する状態のロール形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の金型。
  10. 一つ以上の非平面上に液晶配向能を示すことができる寸法の突起部を含む液晶配向パターンが形成されていることを特徴とする液晶配向フィルム。
  11. 非平面は、レンズ形状に形成されていることを特徴とする請求項10に記載の液晶配向フィルム。
  12. 非平面は、レンズ形状が一方向に延長される形態を有することを特徴とする請求項11に記載の液晶配向フィルム。
  13. レンズ形状は、凸レンズ形状、凹レンズ形状またはフレネルレンズ形状を示すことを特徴とする請求項11に記載の液晶配向フィルム。
  14. 突起部の幅は、0.05μm〜10μmの範囲内にあることを特徴とする請求項10に記載の液晶配向フィルム。
  15. 突起部のピッチは、0.05μm〜20μmの範囲内にあることを特徴とする請求項10に記載の液晶配向フィルム。
  16. 突起部の高さは、0.01μm〜5μmの範囲内にあることを特徴とする請求項10に記載の液晶配向フィルム。
  17. 非平面は、一方向に延長されるレンズ形状を有し、突起部は、前記レンズ形状の延長方向と0度〜90度の範囲内のいずれか一つの角度を成す線形状に形成されていることを特徴とする請求項10に記載の液晶配向フィルム。
  18. 平面上の被転写層に液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部を含むパターンを形成し、前記パターンが形成されている被転写層の表面を非平面に形成する工程を含むことを特徴とする液晶配向フィルムの製造方法。
  19. 非平面で形成する前に、パターン上に支持層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の製造方法。
  20. 非平面で形成した後に支持層を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の製造方法。
  21. 請求項1に記載の金型の転写パターンを被転写体上に転写させる工程を含むことを特徴とする液晶配向フィルムの製造方法。
  22. 平面上の被転写層に液晶配向能を示すことができる寸法を有する突起部を含むパターンを形成し、前記パターンが形成されている被転写層の表面を非平面で形成した後に、前記非平面の形態を被転写体に転写させる工程を含むことを特徴とする金型の製造方法。
  23. 請求項10に記載の配向フィルムの非平面上に液晶物質を注入して液晶層を形成する工程を含むことを特徴とする液晶フィルムの製造方法。
  24. 液晶層上に配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項23に記載の液晶フィルムの製造方法。
  25. 配向膜は、微細線形パターン配向工程、光配向工程またはラビング配向工程で形成することを特徴とする請求項24に記載の液晶フィルムの製造方法。
  26. 配向膜は、液晶配向能を示すことができ、前記配向膜の配向方向が下部の液晶層の突起部の整列方向と対応するように形成されていることを特徴とする請求項24に記載の液晶フィルムの製造方法。
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