JP2016509203A - 表面の清浄度を判定するためのシステム及び方法 - Google Patents

Abstract

表面の清浄度を判定するためのシステム及び方法。本開示の本表面マーキングシステムは、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含むことができる。本開示のアプリケータは、表面マーキングシステム及びディスペンサを含む容器を具備することができる。本開示の方法は、表面上の少なくとも１つの不連続部位に対して、表面マーキングシステムを塗布すること、クリーニング後、表面上の少なくとも１つの不連続部位を可視光で照射することと、少なくとも１つの不連続部位の照射に応じて、表面のクリーニングの有効性を判定するために、表面上の少なくとも１つの不連続部位から放射された再帰反射を検出することとを含むことができる。

Description

本開示は、一般に、例えば、医療環境において、独自の表面マーキングシステムを用いて、表面の清浄度、特に、環境表面の清浄度を判定するためのシステム及び方法に関する。本開示は、また、表面マーキングシステム及びかかるマーキングシステムを対象の表面に塗布するアプリケータに関する。

医療機関において、微生物は、感染した人又は別の経路から表面（例えば固体表面、装置表面、保護布など）の上に放出され得る。表面がいったん微生物で汚染されると、その汚染された表面に接触することで、微生物が容易かつ直ちに別の場所（例えば別の表面、人間、装置、食物など）に移動し得る。加えて、かかる医療機関の患者の一部は、病原性病原菌に感染しており、その病原性病原菌をかかる医療機関内に持ち込むことになる。かかる医療機関にいる多くの人（例えば患者）は病気であり、免疫学的に弱っていることがあるため、そのような微生物汚染及び／又は移動が起こると特に問題となり得る。よってそのような人は、汚染病原体の感染により病気になるリスクが高くなる。

病院又は医療環境において汚染表面は、クロストリジウムジフィシル、バンコマイシン耐性腸球菌（ＶＲＥ）、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）、アシネトバクター・バウマニー及び緑膿菌（Psuedomonas aeruginosa）など、種々の微生物又は病原体の伝染病及び流行性伝播並びにノロウイルスの流行性伝播の一因となることが明らかにされてきた。かかる病原体は、医療関連感染（ＨＡＩ）と関連している。かかる保健医療の現場において、環境上の清掃及び消毒慣習が日常的になっているが、簡易で、構造的であり、かつ頑強な監視システム、環境の清浄度を監視する方法及び種々のクリーニング法及び／又は消毒法の効果を監視する方法が依然として必要である。

既存の監視システムでは、透明担体中に紫外線染料マーキングシステムを使用しているものもある。染料は、クリーニング処置中に、環境業務（ＥＶＳ）従事者からは見えないようになっており、紫外線染料からのグローは、適切なブラックライトを用いた場合のみ観察することができる。典型的に、ＥＶＳ管理者は、クリーニング前に、病室、手術室などにおいて、いくつかの表面にマーキングシステムを塗布することができる。マーキングされた表面は、ＥＶＳクリーニング従事者には知らされていない。クリーニング後、ＥＶＳ管理者（例えば、シフト管理者）は、マーキングされた表面を検査し、対象の表面からマーキングシステムが完全に除去されているか否かを判断するために、ブラックライトを備えた部屋に戻ることができる。

本発明者は、統合環境衛生監視ソリューションには、視覚性マーキングシステムの使用を含むものと定めた。本開示の表面マーキングシステムは、半定量的であってよく、表面が適切に物理的にクリーニングされているか否かを判定するために使用することができる。かかる表面としては、環境表面（例えば、壁、装置、家具など）又は皮膚表面（例えば、医療従事者の手の洗浄の監視における）を挙げることができる。このようにして、表面マーキングシステムは、最前線の環境業務（ＥＶＳ）従事者の種々のクリーニングプロトコルのコンプライアンスを測定するツールであり得る。目視検査を使用して、所与の環境の美的外観を監視することができる。さらに、環境の清浄度を測定するため及び／又はクリーニングプロトコルのコンプライアンスを測定するための有用かつ簡便な統合監視ソリューションは、ＥＶＳにとって、病院などの医療環境のクリーニングを適切に管理するために重要であり得る。

本開示の表面マーキングシステムは、環境土壌の代理として機能させることができる。これらは、人目につかないように設計することができる。本開示の表面マーキングシステムでは、紫外線染料よりも再帰反射性マイクロスフェアを使用し、このため、クリーニング結果を判定するための専用光源が不要である。

本開示の一部の態様は、表面の清浄度を判定するための方法を提供する。本方法としては、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含む表面マーキングシステムを提供する工程と、表面上の少なくとも１つの不連続部位に対して、表面マーキングシステムを塗布する工程と、クリーニング後、表面上の少なくとも１つの不連続部位を可視光で照射する工程と、表面のクリーニングの有効性を判定するために、少なくとも１つの不連続部位の照射に応じて、表面上の少なくとも１つの不連続部位から放射された再帰反射を検出する工程と、を含むことができる。

本開示の一部の態様は、表面マーキングシステムを塗布するためのアプリケータを提供する。本アプリケータは、リザーバを画定する容器と、リザーバ内に位置付けられ、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含む表面マーキングシステムと、リザーバから表面マーキングシステムを分配するために構成されたディスペンサと、を備えることができる。

本開示のその他の特徴及び態様は、発明を実施する形態及び添付図面を熟考することによって、明らかになるであろう。

様々な環境表面及びその表面に表面マーキングシステムを塗布することができる複数の不連続部位を備えた病室の図である。 図１の線２−２に沿って、本開示の一実施形態にしたがって、表面マーキングシステムによりマーキングされた図１の不連続部位の詳細な概要断面図である。 本開示の一実施形態にしたがって、表面の清浄度を判定する方法を説明するフローチャートである。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例によって、様々な表面上での様々な表面マーキングシステムの正規ピクセル周波数対ピクセル強度を示す図である。 実施例の項に記載されているように、実施例３の再帰反射性マイクロスフェアの顕微鏡写真である。 実施例の項に記載されているように、比較実施例Ｃ３の顕微鏡写真である。 本開示の一実施形態による、表面マーキングシステムのアプリケータの斜視図である。 本開示の別の実施形態による、表面マーキングシステムのアプリケータの斜視図である。 本開示の別の実施形態による、表面マーキングシステムのアプリケータの斜視図である。 本開示の別の実施形態による、表面マーキングシステムのアプリケータの斜視図である。

本開示の何らかの実施形態が詳細に説明される前に、本発明はその用途で、以下の説明に記載される又は以下の図面に示される構成の詳細及び構成要素の配置に限定されないことを理解すべきである。本発明は他の実施形態が可能であり、様々な方法で実施又は実行することが可能である。また、本明細書で使用する語法及び専門用語は、説明を目的としたものであり、発明を限定するものとして見なされるべきでない点が、理解されるべきである。「含む（including）」、「備える（comprising）」、又は「有する（having）」、及びこれらの変化形の使用は、その後に列記される要素及びそれらの均等物、並びに更なる要素を包むものである。他に指示又は制限がない限り、用語「結合された」及びその変形は、幅広く使用され、直接的及び間接的結合をいずれも包含する。その他の実施形態を利用することも可能であり、本開示の範囲から逸脱することなく構造的又は論理的な変更を行うことが可能である点は理解されるべきである。更に、「前方」、「後方」、「上」、「下」といった用語は、各要素の互いに対する関係を説明するためにのみ用いられるものであり、装置の特定の向きを説明すること、装置に必要とされる若しくは求められる向きを指示又は示唆すること、又は本明細書に記載される発明が、使用時にどのように使用、装着、表示、又は位置付けられるかを特定することを目的とするものでは決してない。

本開示は、全体的には、可視光を利用した表面マーキングシステム、かかる表面マーキングシステムを環境表面に塗布するためのアプリケータ、並びに、例えば、かかる表面マーキングシステムを用いることによって、表面の清浄度を判定する方法及び／又はクリーニングプロトコルのコンプライアンスを判定する方法に関する。

本開示の方法は、再帰反射性マイクロスフェアを含むかかる表面マーキングシステムを提供する工程と、表面マーキングシステムを所望の表面の不連続部位に塗布し、クリーニング手法を実施することを可能にする工程と、クリーニング後、同じ不連続部位を可視光で照射する工程と、照射に応じて、同じ不連続部位から放射された再帰反射量を検出する工程と、を含むことができ、表面上の不連続部位に残存している表面マーキングシステムから産生される再帰反射量に基づいて、クリーニング工程の有効性を判定する。検出は、目視及び／又は、例えば、可視光を放射することができ、かつ、輝度、再帰反射、強度、後に適切なソフトウエア等を用いて解析することができる画像などの再帰反射データを取得することができるデバイスによって、自動的に行うことができる。

再帰反射性物品では、入射光を光源に対して反射させる。本開示の再帰反射性は、光源が入射される媒体の屈折率の２倍である屈折率を有する複数個の透明な微小ビーズ又はマイクロスフェアによって、付与される。これらの条件下で、球体表面は、再帰反射に必要な湾曲を備える凹面球状の鏡として動作する。しかしながら、反射率は、再帰反射を達成するために、周囲媒体の２倍とする必要はない。ビーズは、ある一定の球面収差を有するため、ビーズの反射率が周囲の少なくとも１．５倍であるときに、再帰反射光を発生させる球体の後面にて、入射光の一部が集中するビーズの中心線から相称となる。

本開示において、再帰反射性は、アルミニウム塗装層など、反射剤と連携する複数個の微小ビーズ又はマイクロスフェア（例えば、ガラス製）によって付与され得る。かかるコーティングは、ビーズの外面での部分的なコーティングとなることができる。ビーズの露出部分に入る入射光（例えば、コーティングされていない部分）は、ビーズによって反射剤上に集中させる。反射剤は、ビーズを介して入射光を反射させ、その光は、ビーズの露出部分を通って、入射方向と反対方向に放出される。

本開示のマイクロスフェア（又は「ビーズ」）は、均一かつ効率的な再帰反射を提供するために、実質的に球状の形状である。例えば、本開示のマイクロスフェアは、一般に、溶融球状化工程などの球状化工程にさらされることによって形成される。また、マイクロスフェア（すなわち、非コーティング部分）は、好ましくは、透明度が高く、光の吸収が最小限に抑えられ、入射光の大部分が再帰反射される。マイクロスフェアは、多くの場合、実質的に無色であるが、いくつかの他の方法で色味付け又は着色されてもよい。マイクロスフェアは、ガラス、非ガラス状のセラミック組成物、又は合成樹脂で形成することができる。一般に、ガラスマイクロスフェア及びセラミックマイクロスフェアは、合成樹脂から作製されたマイクロスフェアよりも、硬く、耐久性が高い傾向があり、更に好適な屈折指数を有する傾向にあるために、好ましい。本発明において有用であると考えられるマイクロスフェアの例としては、次の米国特許にて開示されている。第１，１７５，２２４号、第２，４６１，０１１号、第２，７２６，１６１号、第２，８４２，４４６号、第２，８５３，３９３号、第２，８７０，０３０号、第２，９３９，７９７号、第２，９６５，９２１号、第２，９９２，１２２号、第３，４６８，６８１号、第３，９４６，１３０号、第４，１９２，５７６号、第４，３６７，９１９号、第４，５６４，５５６号、第４，７５８，４６９号、第４，７７２，５１１号及び第４，９３１，４１４号。これらの特許の開示は、参照によって本明細書に援用される。

いくつかの実施形態において、マイクロスフェアは、約３０〜２００マイクロメートル、いくつかの実施形態において、約５０〜１５０マイクロメートル、及びいくつかの実施形態において、約１０〜１００マイクロメートルの平均粒径を有し得る。上記範囲よりも小さいマイクロスフェアは、低いレベルでの再帰反射を提供する傾向にあり、この範囲を超える大きいマイクロスフェアは、好ましくない粗い構造が表面マーキングシステムに付与され得る。本開示で使用されるマイクロスフェアは、約１．５〜３．０、いくつかの実施形態では約１．６〜２．２、及びいくつかの実施形態では約１．７〜２．０の屈折率を有し得る。

いくつかの実施形態において、マイクロスフェアは、反射を増強させるために鏡面反射材をコーティングすることができる。様々な金属を使用して、鏡面反射性金属層を付与することもできる。これらの金属としては、元素形態でのアルミニウム、銀、クロム、ニッケル、マグネシウム、金、スズ、ニッケル、タングステンなどが挙げられる。

アルミニウム及び銀は、良好な再帰反射性輝度を提供する傾向があるため、反射層において使用するために好ましい金属である。アルミニウムの場合、金属のうちのいくつかは、金属酸化物及び／又は水酸化物の形態であり得る。

用語「表面」又は「環境表面」は、一般に、所定の環境において存在する任意の表面を指す。医療施設（例えば、病院、医師の居室、ナーシングホームなど）に存在し得るかかる表面の例としては、壁（ドアを含む）、床、天井、下水管、ダクト（例えば、通風路）、通気孔、トイレの便座、ハンドル、ドアノブ、手すり、（例えば、病院での）ベッドの手すり、カウンター天板、テーブル面、食事用表面（例えば、トレイ、皿など）、作業表面、装置表面、衣類など及びこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。また、表面の例としては、手の表面などの皮膚表面が挙げられる。

上述のように、可視光を使用して、本開示の表面マーキングシステムを検出することができる。例えば、表面マーキングシステムは、カメラからフラッシュを使用して作用し得る（また、これらを使用して、クリーニング前後の画像を取得する）。かかる検出システムは、表面が適切にクリーニングされている場合、フラッシュ撮影を用いて、ビーズから反射された光の量を測定することができるため、結果を数量化する上で簡便であり得、かつこのように制定することができる。表面マーキングシステムは、接触堆積様式で、又は例えば、液体堆積法、吹付け法、及びドライ転写法のうちの少なくとも１つを用いる非接触堆積様式で、所望の表面上に再帰反射性マイクロスフェアを分配するために、再帰反射性マイクロスフェアをその中に分散させるか、又はその上に分配させる担体を更に含むことができる。

特殊なブラックライト源とは対照的に、可視光源を用いる１つの潜在的利点としては、かかる設定において存在し得るさらに簡便なデバイスを検出のために使用することができることであり、この設定において通常存在しえない検出プロセス専用の特殊な光源を必要とする場合とは対照的である。さらに、可視光源がカメラのフラッシュ又は他のフラッシュ撮影が可能なデバイスである場合、フラッシュ及びカメラの開口部／シャッターは、物理的にほぼ同一平面内に配置され、空間的に非常に短い距離で分離されるため、ビーズベースのマーキングシステムからの再帰反射光が最大限となり、かつ、測定された強度のばらつきを最小限に抑える固有の最適形状がある。これは、物理的に別個の、ユーザーが手に持つブラックライト光源を用いる場合と対照的であり、それ自体は、検出システム（一般に、ヒト観察者）に対して異なる場所及び角度で保持することができ、紫外線ベースマーキングシステムから放射された可視可能光の量のばらつきを生じさせ得る。

さらに、本開示の表面マーキングシステムは、本質的に微粒子である。微粒子又は微粒子ベースの表面マーキングシステムを用いる１つの利点としては、表面マーキングシステムの効率的な除去が物理的手段のみで達成できる点であり得る。これは、除去には簡単な溶解で十分であり得る紫外線染料ベースシステムとは対照的である。汚濁物の物理的除去が消毒プロセスには重要であり得るため、本開示の表面マーキングシステム及び方法により、クリーニングプロセスに関して更に頑強なチャレンジがもたらされる。紫外線染料ベースシステムの微粒子ベース表面マーキングシステムを用いる別の潜在的利点としては、微粒子ベースシステムから放射された光は点状であって、紫外線染料ベースシステムにおけるように均一な輝きでないことであり、これにより、検出中、出力された光を測定するときに、さらに高いＳＮ比を効果的に提供することができる。さらに、放射された光の点状性は、清浄度の測定値として、マーキングされた表面上の不連続物体の存在の列挙又はカウントに基づき、それ自体、解析に適している。これは、例えば、細菌を培養皿の表面上に列挙させる細菌を培養皿の表面上に列挙させる微生物培養物を用いる方法に類似している。

上記のとおり、再帰反射性マイクロスフェアは、担体中に懸濁されている、担体中に分散されている及び／又は担体上に分配されていることが可能である。担体が溶媒である実施形態では、速乾性担体は、一部有用であり得る。再帰反射性マイクロスフェアが担体に上に分配される実施形態では、担体は、また、クリーニング工程中に物理的除去が必要となる接着剤の薄層であってもよい。一般に、担体は、２つの主要な特性を有する。第１の特性は、担体は、クリーニング工程を大幅に妨害することがない。すなわち、担体により、マーキングされた部屋のクリーニング前に、待機が必要となる時間が大幅に長くなることはない（例えば、担体が液体である場合、速乾性）。第２の特性は、担体は、一般に、典型的な環境（又は身体部分）の環境土壌（又は皮膚表層部）を模倣する、除去におけるチャレンジを提供するために設計される。

図１は、ベッドの手すり１４を有するベッド１２、トレイ１６、１つ以上の壁１８、流し台２０、カウンター天板２２、戸棚２４、ペーパータオルディスペンサー２６、及びひじ掛け３０を有する椅子２８を備える代表的病室１０を示す。病室１０に示される上記の品目は、病院のクリーニングプロトコルで、クリーニングされる表面を有する種々の品目を説明するためのみに一例として示される。これらの品目の表面は、本開示の表面マーキングシステムを使用して、マーキングさせることができ、所与の環境に適切なクリーニングプロトコルによりクリーニングさせ、本開示の方法を使用して監視させることができる。様々な不連続のマーキング部位５０は図１に示され、本開示の表面マーキングシステムを使用して、マーキングさせ、かつ、本開示の方法を用いて、監視させることができる。例えば、不連続部位５０は、ベッドの手すり１４、壁１８、カウンター天板２２、戸棚２４、ペーパータオルディスペンサー２６及び椅子２８のひじ掛け３０上に示される。不連続部位５０が病室の表面に示されると、いくつかの実施形態では、表面マーキングシステム６０を使用して、手の衛生を監視することができ、また、皮膚にも使用することができることを理解されたい。

図２は、本開示の一実施形態による表面マーキングシステム６０を示す。本表面マーキングシステム６０は、担体６２中に分散されているか、又は担体６２上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェア６４を含む。

示すとおり、再帰反射性マイクロスフェア６４は、上記の材料又はその組み合わせのいずれかで形成される基材６６及び上記のとおり、コーティング６８を含むことができる。コーティング６８は、各マイクロスフェア６４の基材６６にわたる部分コーティングとして示される。マイクロスフェア６４は、最後には、担体６２中又は担体６２上、最終的には、対象の表面上に無作為に配向され、分布され得る。このような場合、入射光がマイクロスフェア６４の露出部分に入ることができるように、少なくとも十分なマイクロスフェア６４が最終的に配向され、マイクロスフェア後面の反射性コーティング６８に反射され、図２の矢印Ｌによって示すように、光源に対して戻る。

担体６２は、様々な形態であってよく、かつ、種々の材料を含有し得る。例えば、マイクロスフェア６４が液体容積担体６２中に分配される実施形態では、担体６２としては、室温、例えば、２５℃で、少なくとも水と同じ揮発性である（及び、いくつかの実施形態では、室温で水よりも高い揮発性である）１つ以上の溶媒、１つ以上の界面活性剤、１つ以上の噴霧剤（例えば、クロロフルオロカーボン（ＣＦＣ）、ハイドロフルオロアルカン（ＨＦＡ）、など）、１つ以上の高分子結合剤、又はこれらの組み合わせが挙げられるが、これに限定されない。

いくつかの実施形態では、担体６２は、急速に蒸発する非固体相（例えば、室温で少なくとも水と同じ揮発性であり、かつ、いくつかの実施形態では、室温で水よりも揮発性が高い）を含むことができ、任意の固形成分が担体６２に存在する場合、固体成分は水溶性である。かかる担体６２を使用する表面マーキングシステムは、比較的急速に乾燥するが、表面マーキングシステムがクリーニング方法を大幅に妨げることがないように、標準的なクリーニング（例えば、水を利用した）方法及び製品により容易に除去され得るか、又は一旦対象の表面上で乾燥させると、無益なクリーニング問題を示すことになる。

室温で少なくとも水と同じ揮発性である溶媒の例としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコールなど）、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、室温で少なくとも水と同じ揮発性である他の好適な溶媒、又はそれらの組み合わせを挙げることができるが、これらに限定されない。

好適な界面活性剤の例としては、陰イオン性界面活性剤（例えば、ジオクチルナトリウムスルホスクシネート、パーフルオロオクタンスルホネート（ＰＦＯＳ）、パーフルオロブタンスルホネート、直鎖アルキルベンゼンスルホネート）；陽イオン性界面活性剤（セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）、（セチルトリメチルアンモニウムクロリド（ＣＴＡＣ）、セチルピリジニウムクロリド（ＣＰＣ）、ベンザルコニウムクロリド（ＢＡＣ）、ベンゼトニウムクロリド（ＢＺＴ）、５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−ジオキサン、ジメチルジオクタデシルアンモニウムクロリド、ジオクタデシルジメチルアンモニウムブロミド（ＤＯＤＡＢ）など）；非イオン性界面活性剤（例えば、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、オクタエチレングリコールモノドデシルエーテル、ペンタエチレングリコールモノドデシルエーテル、ポリオキシプロピレングリコールアルキルエーテル、グルコシドアルキルエーテル、デシルグルコシド、ラウリルグルコシド、オクチルグルコシド、ポリオキシエチレングリコールオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルフェノールエーテル、グリセロールアルキルエステル、ポリオキシエチレングリコールソルビタンアルキルエステル：ポリソルベート、ソルビタンアルキルエステル、コカミドＭＥＡ、コカミドＤＥＡ、ドデシルジメチルアミンオキシド、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールのブロックコポリマー、など）；又はこれらの組み合わせを挙げることができるが、これらに限定されない。

いくつかの実施形態において、再帰反射性マイクロスフェア６４は、担体６２中又は担体６２上に無作為に分布させることができる。さらに、いくつかの実施形態において、担体６２は、水溶性であり得、表面マーキングシステム６０を所与の環境又は体表面などの通常の又は典型的なクリーニング手順により、一時的に除去可能にすることができる。さらに、いくつかの実施形態において、表面マーキングシステム６０は、非毒性であり、このような再帰反射性マイクロスフェア６４及び担体６２は、危険性を示さない非毒性材料で形成される。

マイクロスフェア６４は、液体容積担体中に分散されるとき、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｍＬ当たり少なくとも約１０００（１×１０^３）個の濃度で、いくつかの実施形態においては、少なくとも約１０，０００（１×１０^４）個の濃度で、及びいくつかの実施形態においては、少なくとも約５０，０００（５×１０^４）個の濃度で、担体６２中に分散され得る。いくつかの実施形態において、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｍＬ当たりマイクロスフェア６４約１，０００，０００（１×１０^６）個以下の濃度で、いくつかの実施形態では、約５００，０００（５×１０^５）個以下の濃度で、及びいくつかの実施形態では、約１００，０００（１×１０^５）個以下の濃度で、担体６２中に分散され得る。いくつかの実施形態では、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｍＬ当たりマイクロスフェア６４１，０００から１，０００，０００個の範囲の濃度で、担体６２中に分散され得る。

いくつかの実施形態では、担体６２は、接着剤又は接着剤層を含むことができ、かつ、マイクロスフェア６４は、接着剤の表面上に分配させることができ、接着剤は、担体は、一般に、所与の環境（又は身体部分）において環境土壌（又は皮膚表層部）を模倣するのに好適である。かかる接着剤としては、例えば、両面接着剤が挙げられ、マイクロスフェア６４を十分にかつ確実に表面に付着させ、表面上の適切な位置に保持することができる。いくつかの実施形態では、一例としてのみ示すが、かかる接着剤担体は、接着剤から剥離ライナ−を分離させ、また、接着剤上に再帰反射性マイクロスフェアを分配させつつ接着剤を表面上に塗布する、テープディスペンサから分配させることができる。粘着性担体としては、ポリアクリレート、天然ゴム、合成ゴム、スプレー接着剤、再配置可能な接着剤及びこれらの組み合わせをベースにしたものを含む感圧接着剤が挙げられるが、これらに限定されない。

担体６２として、接着面を用いる実施形態では、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｃｍ^２当たりマイクロスフェア６４は少なくとも約１００（１×１０^２）個の濃度で、いくつかの実施形態において、少なくとも約１，０００（１×１０^３）個の濃度で、及びいくつかの実施形態において、少なくとも約５，０００（５×１０^３）個の濃度で、担体６２中に分配され得る。いくつかの実施形態において、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｃｍ^２当たりマイクロスフェア６４約１００，０００（１×１０^５）個以下の濃度で、いくつかの実施形態では、約５０，０００（５×１０^４）個以下の濃度で、及びいくつかの実施形態では、約１０，０００（１×１０^４）個以下の濃度で、担体６２中に分配され得る。いくつかの実施形態では、マイクロスフェア６４は、担体６２の１ｃｍ^２当たりマイクロスフェア６４を１００から１００，０００個の範囲の濃度で、担体６２中に分配され得る。

本開示の方法にて用いられる表面マーキングシステムの１つの潜在的利点は、本開示の表面マーキングシステムの輝度及び顕著性が、その他の既存のマーキングシステムより優れている点である。以下の実施例セクションでは、本開示の表面マーキングシステムの実施例と、比較としての微小粒子システム及び既存の紫外線染料ベースのマーキングシステムとを比較する。

いくつかの実施形態では、表面マーキングシステムの強度又は顕著性を数量化し、かつ特徴づけるために、表面マーキングシステムの品質係数Ｑ及び「利得比」を求めることができる。次の実施例の項に記載されるように、所与の表面マーキングシステムに関しては、例えば、Ｙ軸としてピクセル周波数、Ｘ軸としてピクセル強度をプロットして、強度ヒストグラムを作成することができる。強度は、また、非線形に圧縮されたＣＩＥ ＸＹＺ色空間座標に基づき、明度として次元Ｌ、並びに反対色次元として、「ａ」及び「ｂ」を用いるＬａｂ色空間に存在する「明度」値Ｌを示すため、近似することができる。したがって、ピクセル周波数（又は量）は、所与のピクセル強度を有するピクセル数となる。かかるピクセル強度ヒストグラムは、曲線フィッティング（例えば、実施例にて記載されるように）を行うことができ、また、３つのパラメータ：Ｌ_ＭＡＸ、Ｌ_ＦＷＨＭ、及びｆ_Ａｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸを抽出することができる。Ｌ_ＭＡＸは、曲線フィッティング関数の最大正規ピクセル周波数でのピクセル強度又は「明度」である。ｆ_Ａｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸは、Ｌ_ＭＡＸに対応する正規ピクセル周波数値である。Ｌ_ＦＷＨＭは、ｆ_Ａｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸの正確な半値である、正規ピクセル周波数値でのピクセル強度全幅である。

これらのパラメータから、非照射状態のシステム（Ｑ_Ｏｆｆ）並びに照射状態のシステム（Ｑ_Ｏｎ）の品質係数Ｑ＝Ｌ_ＭＡＸ／Ｌ_ＦＷＨＭを計算することができる。Ｑ係数は、表面マーク全体にわたるピクセル強度の分布を示す。高Ｑ係数は、表面マークを示すものであり、大多数のピクセルが比較的高い中心強度（Ｌ_ＭＡＸが大きい）周囲の非常に狭い分布内にある（Ｌ_ＦＷＨＭが小さい）。低Ｑ係数は、反対の条件を示し、ピクセルの大部分が比較的小さいピクセル強度（Ｌ_ＭＡＸが小さい）を中心とした幅広い分布（Ｌ_ＦＷＨＭが大きい）にわたって広がるピクセル強度を有する表面マークである。さらに、（Ｑ_Ｏｎ）対（Ｑ_Ｏｆｆ）の比率（「利得比」）を計算することによって、非照射状態から照射状態へ移行するときに、システムのピクセル強度利得を示す量を求めることができる。この利得比は、照明源を点灯したとき、観察者にとって、表面マークが明らかになる規模を示す。

いくつかの実施形態では、表面マーキングシステム６０はＥＶＳクリーニング従事者の実質的に目に見えない又は少なくとも注意を引かない（すなわち、人目につかない）ことができ、また、いくつかの実施形態では、ＥＶＳクリーニング従事者が表面マーキングシステム６０を目で見ることができる。

いくつかの実施形態では、表面マーキングシステムの視認性又は人目のつかなさを数量化し、かつ特徴づけるために、表面マーキングシステムの透明度を求めることができる。上記のＱ係数を用いて、非マーキング表面及び非照射表面（Ｑ_{Ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ}）に関して求めたＱ_Ｏｆｆ対Ｑ定数の比率は、所与の表面上の表面マークの透明度を示す。この「透明度」は、所与の観察者にとって、マーキングされた表面がいかに「人目につかないか」を示す。透明度が１．０に近いほど、本システムの人目のつかなさが最大となる。

図３は、本開示の一実施形態による方法１００を示す。示すように、方法１００は、表面マーキングシステムを対象の表面上の１つ以上の不連続部位（例えば、図１の不連続部位５０）に塗布することを含む第一の工程１０２を含むことができる。塗布方法は、適用する表面マーキングシステムの種類に依存し得る。例えば、液体担体及び液体担体中に分配された再帰反射性マイクロスフェアを用いる実施形態では、液体堆積（例えば、ローラーボールを用いて）、吹付け、発泡など、又はこれらの組み合わせ、のうちの少なくとも１つを用いることができる。吹付け及び発泡は、非接触塗布様式の一例となり、液体堆積は、接触塗布様式の一例となり得る。いくつかの実施形態では、アプリケータを再利用することができる非接触塗布様式が好ましくなり得る。接触塗布方法を用いるアプリケータは、一回使用した後、再滅菌するか、又は廃棄する必要があり得る。

示すように、方法１００は、更に、表面をクリーニングする第二の工程１０４を含む。クリーニング工程は、方法１００の残りの工程を実施する事業体とは異なる事業体によって実施されてもよいことから、第二の工程１０４は、必ずしも本開示方法の一部を構成しなくてもよい。例えば、上記のとおり、いくつかの実施形態では、管理は、方法１００のほとんどの工程で実施することができ、ＥＶＳクリーニング従事者が、クリーニング工程１０４を実施してもよい。クリーニング工程１０４が、残りの工程とは異なる事業体によって実施されるいくつかの実施形態では、表面マーキングシステムを人目につかないようにすることができ、表面マーキングシステムでマークされた不連続部位は、クリーニング事業体（例えば、ＥＶＳ従事者）には、不明にすることができ、かつ／又は本開示の監視方法は、クリーニング事業体に不明であってもよい。

方法１００は、第一の工程１０２でマーキングされた不連続部位を可視光で照射することを含む、第三の工程１０６を更に含む。上述のように、これらに限定されないが、懐中電灯、ランプ、提灯、カメラ、スマートフォン、スマートフォンのカメラ、タブレット型コンピューター、タブレット型コンピューターのカメラ、組込み式フラッシュ付きカメラを具備した他の携帯型デバイス、他の好適な可視光線源、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つが挙げられる様々な光源を使用して、不連続部位に可視光を照射することができる。

方法１００は、不連続部位の照射に応じて、不連続部位から放射された再帰反射を検出することを含む、第四の工程１０８を更に含むことができる。各不連続部位から放射された再帰反射量に基づいて、表面の清浄度を測定することができ、かつ／又はクリーニングプロトコルへの準拠を確認することができる。上述のように、目視により、又は検出デバイスを用いて、検出することができる。本開示の方法で用いることができる様々な検出デバイスは、カメラ（例えば、フラッシュ撮影が可能な任意のカメラ；外部フラッシュ又は別途に懐中電灯などと連動して用いるカメラ）、その他の好適な検出デバイス、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つが挙げられるが、これらに限定されない。

図２１〜２３は、本開示の代表的アプリケータを示す。図２１は、表面マーキングシステムを環境表面に塗布する手段として、スポッティングする、軽くたたく、塗装する、発泡させることなどを行うために使用することができるアプリケータ１５０Ａを示す。アプリケータ１５０Ａは、担体６２Ａ（例えば、液体容積担体）中に分散させた再帰反射性マイクロスフェア６４Ａを含む表面マーキングシステム６０Ａを収容するように構成されたリザーバ１５４Ａを具備するか、又は画成する容器１５２Ａを備える。上述した液体担体及び再帰反射性マイクロスフェアのいずれかを用いることができる。アプリケータ１５０Ａは、表面マーキングシステム６０Ａをリザーバ１５４Ａ（例えば、ディスペンサ１５６Ａを介して）から分配するために構成されたディスペンサ又は１５６Ａを分配するための手段を更に含む。ディスペンサ１５６Ａは、表面マーキングシステム６０Ａをディスペンサ１５６Ａを通過させて、表面マーキングシステム６０Ａを表面に塗布することができるように、容器１５２Ａに連結させることができ、容器１５２Ａのリザーバ１５４Ａに流体連通させて位置付けすることができる。例えば、いくつかの実施形態では、容器１５２Ａの側面を圧搾して、ディスペンサ１５６Ａを介して表面マーキングシステム６０Ａを押し進めることができる。上述のように、ディスペンサ１５６Ａは、スポッティングする、軽くたたく、塗装する、発泡させることなどを行う又はこれらを組み合わせて行うために構成され、表面マーキングシステム６０Ａを表面に塗布する。このようにして、いくつかの実施形態では、ディスペンサ１５６Ａは、それを介して、担体６２Ａ及び再帰反射性マイクロスフェア６４Ａを通過させるための大きさとすることができる多孔質基材を含むことができる。例えば、ディスペンサ１５６Ａとしては、スポンジ、発泡体、スワブ、ブラシ、打ち刷毛、フィルター膜、スクリーンなど、又はこれらを組み合わせたものを挙げることができる。

図２２は、表面マーキングシステムを環境表面に塗布する手段として、吹付け、噴出、発泡及び／又は噴霧を行うために使用することができるアプリケータ１５０Ｂを示す。アプリケータ１５０Ｂは、担体６２Ｂ（例えば、液体容積担体）上に分散させた再帰反射性マイクロスフェア６４Ｂ含有表面マーキングシステム６０Ｂを収容するために構成されたリザーバ１５４Ｂを具備するか、又は画成し、容器１５２Ｂを備える。上述した液体担体及び再帰反射性マイクロスフェアのいずれかを用いることができる。アプリケータ１５０Ｂは、表面マーキングシステム６０Ｂをリザーバ１５４Ｂから分配するために構成されたディスペンサ又は１５６Ｂを分配するための手段を更に含む。例えば、いくつかの実施形態では、ディスペンサ１５６Ｂは、リザーバ１５４Ｂと流体連通しているノズル１５８を具備することができる。一例としてのみ、ノズル１５８はポンプスプレーノズルを具備するように示されているが、その代わりに様々なノズル（例えば、エアソールなど）を適用することができることは理解するべきである。

図２３は、表面マーキングシステムを環境表面に塗布するために使用することができるアプリケータ１５０Ｃを示す。アプリケータ１５０Ｃは、担体６２Ｃ（例えば、接着剤層）中に分配された再帰反射性マイクロスフェア６４Ｃを含む表面マーキングシステム６０Ｃを収容するように構成されたリザーバ１５４Ｃを具備するか、又は画成する容器１５２Ｃを備える。上述した接着剤又は二次元担体及び再帰反射性マイクロスフェアのいずれかを用いることができる。アプリケータ１５０Ｃは、表面マーキングシステム６０Ｃをリザーバ１５４Ｃから分配するために構成されたディスペンサ又は１５６Ｃを分配するための手段を更に含む。例えば、一例としてのみ示すが、テープディスペンサであり、かつ剥離ライナ−（又は裏地）１６５Ｃを粘着性担体６２Ｃから分離するための手段であるものとして、アプリケータ１５０Ｃにより粘着性担体６２Ｃを所望の表面に配置させるように、かかる粘着性担体６２Ｃをアプリケータ１５０Ｃから分配され得る。再帰反射性マイクロスフェア６４Ｃは、同時に粘着性担体６２Ｃに分配することができるか、又はマイクロスフェア６４Ｃは、アプリケータ１５０Ｃに充填される前に粘着性担体６２Ｃに分配することができる。

図２４は、表面マーキングシステムを環境表面に塗布するために使用することができるアプリケータ１５０Ｄを示す。アプリケータ１５０Ｄは、担体６２Ｄ（例えば、液体容積担体）中に分散させた再帰反射性マイクロスフェア６４Ｄ含有表面マーキングシステム６０Ｄを収容するために構成されたリザーバ１５４Ｄを具備するか、又は画成し、容器１５２Ｄを備える。上述した液体担体及び再帰反射性マイクロスフェアのいずれかを用いることができる。アプリケータ１５０Ｄは、表面マーキングシステム６０Ｄをリザーバ１５４Ｄから対象となる表面に移動するために構成されたディスペンサ又は１５６Ｄを分配するための手段を更に含む。例えば、いくつかの実施形態では、容器１５２Ｄは、底部１５５Ｄに取り外し可能なように連結させた蓋又はカバー１５３Ｄを具備することができ、蓋１５３Ｄを底部１５５Ｄから取り外したとき、蓋１５３Ｄをハンドルのように把持することができるように、ディスペンサ１５６Ｄは、蓋１５３Ｄに連結させることができ、かつ、表面マーキングシステム６０Ｄは、ディスペンサ１５６Ｄを用いて、対象となる表面に塗布することができる。アプリケータ１５０Ｄ、特に容器１５２Ｄの他の構成及び変形形態は、本開示の範囲内である。一例としてのみ挙げるが、いくつかの実施形態では、ディスペンサ１５６Ｄは、ブラシ１７０を具備するように示されるが、ディスペンサ１５６Ｄは、スポンジ、発泡体、スワブ、打ち刷毛など、又はこれらの組み合わせを具備することができると理解すべきである。いくつかの実施形態では、ディスペンサ１５６Ｄは、多孔質基材を含むことができる。

図２１から２４に示す各実施形態は、本開示のアプリケータの様々な特徴を明確に示すための別の実施形態として示す。しかしながら、図に示され、本明細書で述べる実施形態のうちの任意のものについての要素及び特徴の任意の組合せは、本開示のアプリケータにおいて使用することができる。

以下の実施形態は、本開示を例示するものであって限定するものではないことが意図される。

実施形態
実施形態１は、表面の清浄度を判定する方法であって、
担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含む表面マーキングシステムを提供する工程と、
表面上の少なくとも１つの不連続部位に対して、表面マーキングシステムを塗布する工程と、
クリーニング後、表面上の少なくとも１つの不連続部位を可視光で照射する工程と、
表面のクリーニングの有効性を判定するために、少なくとも１つの不連続部位の照射に応じて、表面上の少なくとも１つの不連続部位から放射された再帰反射を検出する工程と、を含む方法。

実施形態２は、検出する工程が、目視により検出する工程を含む、実施形態１に記載の方法である。

実施形態３は、表面は、環境表面である、実施形態１又は２の方法である。

実施形態４は、表面上の少なくとも１つの不連続部位が環境業務従事者には不明である、実施形態１〜３のいずれか１つの方法である。

実施形態５は、表面マーキングシステムは、人目につかない実施形態１〜４のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態６は、複数個の再帰反射性ビーズが担体中又は担体上に無作為に分布されている実施形態１〜５のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態７は、表面マーキングシステムが非毒性材料から構成される、実施形態１〜６のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態８は、担体が水溶性である、実施形態１〜７のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態９は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、非接触塗布を含む、実施形態１〜８のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１０は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、吹付けを含む、実施形態１〜９のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１１は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、発泡を含む、実施形態１〜１０のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１２は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、ドライ転写を含む、実施形態１〜１１のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１３は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、接触塗布を含む、実施形態１〜１２のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１４は、表面マーキングシステムを塗布する工程が、液相堆積を含む、実施形態１〜１３のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１５は、複数個の再帰反射性マイクロスフェアのそれぞれは、再帰反射性コーティングで少なくとも部分的にコーティングされている、実施形態１〜１４のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１６は、複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、担体１ｍＬ当たりマイクロスフェア約１×１０^６個以下の濃度で、担体中に分散されている、実施形態１〜１５のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１７は、複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、担体１ｃｍ^２当たりマイクロスフェア約１×１０^５個以下の濃度で、担体上に分配されている、実施形態１〜１６のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１８は、複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、１０〜１００マイクロメートルの平均直径を有する実施形態１〜１７のいずれか１つに記載の方法である。

実施形態１９は、担体が、界面活性剤、高分子結合剤、接着剤層、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、実施形態１〜１８のいずれか１つに記載の方法である。

以下の実施例は、本発明の説明を目的としたものであって限定的なものではない。

実施形態２０は、表面マーキングシステムを塗布するためのアプリケータであって、
リザーバを画定する容器と、
リザーバ内に位置付けられ、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含む表面マーキングシステムと、
リザーバから表面マーキングシステムを分配するために構成されたディスペンサと、を備える。

実施形態２１は、ディスペンサが、多孔質基材を含む、実施形態２０のアプリケータである。

実施形態２２は、ディスペンサが、スポンジ、発泡体、スワブ、ブラシ、打ち刷毛、又はこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、実施形態２０又は２１のアプリケータである。

実施形態２３は、ディスペンサがノズルを備える、実施形態２０〜２２のアプリケータである。

実施形態２４は、担体が接着剤を含み、容器がテープディスペンサを含む、実施形態２０〜２３のいずれかに記載のアプリケータである。

実施形態２５は、担体は、室温で少なくとも水と同じ揮発性を有する溶媒を含む、実施形態２０〜２４のいずれか１つに記載のアプリケータである。

実施形態２６は、担体は、アルコールを含む、実施形態２０〜２５のいずれか１つに記載のアプリケータである。

環境マーカー
可視光ベースシステム及び再帰反射性マイクロスフェアを用いた本開示の表面マーキングシステムの３つの実施例（実施例１〜３）、ＵＶ（蛍光性）ベースマーキングシステムを用いた２つの比較実施例（Ｃ１及びＣ２）及び可視光ベースシステム及びマイクロスフェア（すなわち、マイクロスフェアを形成していない）を用いた１つの比較実施例（Ｃ３）。

実施例１は、再帰反射性マイクロスフェアにより作製し、ビーズ「Ｗ」とし、４９ミクロン未満の粒径を有する典型的なガラス再利用（未処理）マイクロスフェアを形成した。

実施例２は、再帰反射性マイクロスフェアにより作製し、ビーズ「Ｙ」とし、以下の粒度分布を有するクロム処理済みマイクロスフェアで仕上げた。

実施例３は、再帰反射性マイクロスフェアにより作製し、ビーズ「Ｚ」とし、表２に詳細に記載の粒度分布を有するクロム処理済みマイクロスフェアで仕上げた。

図１９は、デジタルカラーカメラ顕微鏡Ｌｅｉｃａ ＤＦＣ３６０ ＦＸ １１５４７００２（Ｌｅｉｃａ Ｍｉｃｒｏｓｙｓｔｅｍｓ ＣＭＳ ＧｍｂＨ ｏｆ Ｗｅｔｚｌａｒ，Ｇｅｒｍａｎｙより入手可能）により２０倍にて撮影したビーズＺの顕微鏡写真である。

比較実施例Ｃ１は、２オンス（３０ミリリットル）ボトルに入った生成物ＭＩＮＩ ＧＥＬである、商標名ＧＬＯ ＧＥＲＭ（Ｇｌｏ Ｇｅｒｍ Ｃｏｍｐａｎｙ ｏｆ Ｍｏａｂ，Ｕｔａｈより入手可能）であり、白色エマルション（ＭＧ２Ｏ）とした。

比較実施例Ｃ２は、商標名ＤＡＺＯ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ Ｍａｒｋｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ（Ｅｃｏｌａｂ ｏｆ Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮより入手可能）であった。

比較実施例Ｃ３は、微小粒子により作製し、４９マイクロメートル未満の粒径を有するガラス再利用（未処理、未形成）粒子を粉砕した。

図２０は、デジタルカラーカメラ顕微鏡Ｌｅｉｃａ ＤＦＣ３６０ ＦＸ １１５４７００２（Ｌｅｉｃａ Ｍｉｃｒｏｓｙｓｔｅｍｓ ＣＭＳ ＧｍｂＨ ｏｆ Ｗｅｔｚｌａｒ，Ｇｅｒｍａｎｙより入手可能）により２０倍にて撮影した比較実施例Ｃ３の微小粒子の顕微鏡写真である。

環境表面
４つの異なる表面の試験を行った。試験用表面＃１は、黒色に着色された非平坦プラスチックとした。試験用表面＃２は、ダークグレイに着色されたＦＯＲＭＩＣＡブランドの表面とした。試験用表面＃３は、ライトグレイに着色されたＦＯＲＭＩＣＡブランドの表面とした。試験用表面＃４は、加工（染色及びワニス）天然桜材表面とした。

サンプルの調製
ＵＶマーカー（比較実施例Ｃ１〜Ｃ２）は、製造者の指示（使用前に振盪）による「現状のまま」を使用した。

実施例１〜３の再帰反射性マイクロスフェア及び比較実施例Ｃ３の微小粒子は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中の懸濁液として、ＩＰＡ ２５ｍＬ当たりマイクロスフェア／粒子０．５グラムの濃度で調製した。

調製された実施例及び比較実施例は、すべて、約２．２ｃｍの円形（平らな）のスタンプ塗布（塗り刷毛）ヘッド部を有する空のＤＡＺＯマーキングシステム容器をクリーニングするために、移動させた。したがって、サンプルはすべて、同じ種類及び寸法のアプリケータにより試験用表面に塗布し、使用／塗布する前に振盪させた。

試験方法
実施例はすべて、上記の打ち刷毛アプリケータを用いて、黒色試験用表面＃１に塗布し、選択された実施例も他の試験用表面＃２、＃３及び＃４に塗布し、直径約２．５センチメートルの円形マーカーのおおよそのスポットを作った。ＡＰＰＬＥ ｉＰｈｏｎｅ４Ｓを用いて、平面でのカメラ自体の配向を、撮影した試験用表面の平面とほぼ平行に維持しつつ、異なる試験用表面上で、約５０ｃｍの等距離にて、異なるマーカーのデジタル写真を撮影した。反射性マイクロスフェア実施例１〜３及び比較実施例Ｃ３のマイクロスフェアは、フラッシュを「ＯＮ」に設定し、別途にフラッシュを「ＯＦＦ」に設定して、ｉＰｈｏｎｅ４Ｓにより撮影した。蛍光マーカー、比較実施例Ｃ１（ＧＬＯ ＧＥＲＭ）及び比較実施例Ｃ２（ＤＡＺＯ）は、フラッシュを「ＯＦＦ」に設定し、紫外線下及び紫外線なしで撮影した。さらに、試験用表面を作製する前に、表面をフラッシュ「ＯＦＦ」に設定して撮影し、「バックグラウンド」測定値とした。

サンプルのデータ処理
デジタル写真は、ｊｐｇファイルとしてＳｉｇｍａＳｃａｎ Ｖ５．０（Ｓｙｓｔａｔ Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｉｎｃ．から入手可能）に転送させ、解析される表面領域を選択して、ソフトウエアを使用して強度ヒストグラムを作製した。ヒストグラムは、Ｙ軸にピクセル周波数、Ｘ軸にピクセル強度とし、ピクセル強度は、相対数０〜２５６であるプロットとした。ゼロは、黒色又は最低明度を表し、２５６は、最大白色又は最大明度を表す。強度は、また、非線形に圧縮されたＣＩＥ ＸＹＺ色空間座標に基づき、明度として次元Ｌ、並びに反対色次元として、「ａ」及び「ｂ」を用いるＬａｂ色空間に存在する「明度」値Ｌを示すため、近似することができる。したがって、ピクセル周波数（又は量）は、所与のピクセル強度を有するピクセル数となる。ヒストグラムは、バックグラウンド基準、フラッシュ「ＯＮ」及びフラッシュ「ＯＦＦ」など、異なる写真データの適切なオーバレイを同一のヒストグラムに配置することができるように、各写真のピクセル周波数値を合計１．０に正規化することによって、更に処理した。紫外線ＯＮ紫外線ＯＦＦの写真に対して同じ処理を行った。正規化ヒストグラムは、異なる試験用表面の種々の実施例及び比較実施例の図４〜１６に示す。

曲線フィッティング解析
紫外線染料又は微小粒子をベースとした再帰反射性マイクロスフェアを用いる表面マーキングシステムの応答関数を比較し、対照させるため、図４〜１６に示すピクセル強度ヒストグラムは、最良のフィッティングピーク関数に対する各データセットをフィッティングすることによって、解析した。これは、ＴＡＢＬＥＣＵＲＶＥ ２Ｄの商標名にてＳｙｓｔａｔ Ｓｏｆｔｗａｒｅより入手可能なソフトウエアプログラムを用いて、自動的に行った。ソフトウエアの組込みライブラリから、最良のフィットピーク関数を求めるために、各データセットにソフトウエアプログラムを適用した。選択されたピーク関数ライブラリは、連続一次導関数を有するものと条件を付けた。各データセットの曲線フィット後、以下の３つの有用なパラメータ：Ｌ_ＭＡＸ、Ｌ_ＦＷＨＭ、及びｆ_Ａｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸを求めることができた。Ｌ_ＭＡＸは、０（黒色）から２５６（白色）の範囲内であり、曲線フィッティング関数の最大正規ピクセル周波数でのピクセル強度又は「明度」である。概念上、このＬ_ＭＡＸは、上記及び表４から１６に記述された最大周波数でのピクセル強度と同じ値である。しかしながら、曲線フィッティングのＬ_ＭＡＸは、適用された曲線関数に基づくものであり、必ずしも最大周波数でのピクセル強度に関する生データ値に等しいとは限らない。ｆＡｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸ値は、Ｌ_ＭＡＸに対応する正規ピクセル周波数値である。Ｌ_ＦＷＨＭは、０（黒色）から２５６（白色）の範囲内であり、正確にｆ_Ａｒｅａ＠Ｌ_ＭＡＸの半値である、正規ピクセル周波数値でのピクセル強度全幅である。

図１７及び図１８は、データセット及び得られた結果に適用される曲線フィッティングプロセスを図示したものである。図１７は、試験用表面＃１（黒色）での実施例３のフラッシュＯＮ及びフラッシュＯＦＦデータに関して、図７に示されたデータセットを使用した。図１８は、試験用表面＃１（黒色）上での比較実施例１のＵＶ線ＯＮ及びＵＶ線ＯＦＦに関して、図８に示されたデータセットを使用した。図１７及び図１８は、曲線フィット線並びにＬ_ＭＡＸとＬ_ＦＷＨＭとを区別する縦線を図示する。

追加解析
曲線フィッティングソフトウエアプログラムを用いて、試験用表面＃１（黒色）の非照射実施例２の曲線関数を割り当てることは不可能であった。データセットには、明らかな曲線分布が見られないことは、図６から明らかである。こうしたフィッティングを行わずに、非照射実施例２のＬ_ＦＷＨＭ値を求めることは不可能であった。ソフトウエアプログラムを用いて、曲線関数を実施例２に割り当てることはできないが、以下の正当な推定値を適用した。図４〜図７によって、試験用表面＃１上で非照射であるとき、実施例２は、他の可視光、非ＵＶ線、粒子−又はビーズを用いたサンプル（実施例１、実施例３及び比較実施例３）に類似した方法で実施したことが目視により観察され、確認された。したがって、実施例２のＬ_ＦＷＨＭ値は、照射されていない実施例１、実施例３及び比較実施例３の平均Ｌ_ＦＷＨＭであると推定された。これにより、照射されていないとき、実施例２の推定Ｌ_ＦＷＨＭ値（（４７．３＋４４．０＋６５．９）／３）＝５２．４とした。

品質係数Ｑ：
これらのパラメータを求めて、相対的品質係数Ｑも計算した。Ｑ＝Ｌ_ＭＡＸ／Ｌ_ＦＷＨＭ。システムの非照射状態Ｑ_Ｏｆｆ及びシステムの照射状態Ｑ_Ｏｎの双方の品質係数を算出した。上記のように、Ｑ係数は、表面マーク全体にわたるピクセル強度の分布を示した。高Ｑ係数は、比較的高い中心強度（Ｌ_ＭＡＸが大きい）周囲の大多数のピクセルが非常に狭い分布内にある（Ｌ_ＦＷＨＭが小さい）表面マークを示し、非常に明るいために、肉眼で容易に見える表面マーキングシステムを示す。低Ｑ係数は、その反対の状態を示し、大多数のピクセルは比較的低いピクセル強度（Ｌ_ＭＡＸが小さい）のほぼ中心にあり、幅広い分布（Ｌ_ＦＷＨＭが大きい）全体に広がるピクセル強度を有する表面マークであり、明度が低いために、肉眼で容易に見ることができない表面マーキングシステムを示す。

試験用表面＃１（黒色）上で、比較実施例２（ＤＡＺＯ）に紫外線を照射したとき、ピクセル強度の分布は、明らかな二峰性（２つのピーク）形状を示した。図９を参照のこと。曲線フィットを１つのピーク（１４４．６にて）又は他のピーク（１８９．９にて）強制することがないように、以下の加算平均法を適用した。試験用表面＃１（黒色）上で紫外線によって照射された比較実施例２（ＤＡＺＯ）の品質係数は、各ピークの個々の品質係数の面積重み付き平均であった。品質係数＝（第一ピークの分画面積^＊第一ピークの品質係数）＋（第二ピークの分画面積^＊第二ピークの品質係数）＝（０．７^＊７．５）＋（０．３^＊４６．３）＝１９．２。

品質係数利得比（ＱＦＧＲ＝Ｑ_Ｏｎ／Ｑ_Ｏｆｆ）
試験用表面上のマーカーシステムの各データセットについて、Ｑ_Ｏｎ対Ｑ_Ｏｆｆの比率を算出した。比率Ｑ_Ｏｎ／Ｑ_Ｏｆｆは、品質係数利得比（ＱＦＧＲ）と称し、非照射状態から照射状態へ移行するときに、本システムのピクセル強度利得を示すために用いた。本利得は、照射源（可視光又はＵＶ）をマーキングシステム上に投射したときに、観察者にとって、表面マークが目視で明らかになる規模を示す。

透明度
Ｑ_Ｏｆｆ対Ｑ_{Ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ}の比率は、試験用表面において、マーカーシステムの各データセットに関して算出し、所与の表面上の表面マークの目視による透明性を示す。非マーキング及び非照射表面に関して求めたＱ係数は、Ｑ_{Ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ}である。Ｑ_Ｏｆｆ／Ｑ_{Ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ}の透明度は、ある観察者にとって、マーキングされた表面がいかに「人目につかないか」を示す。透明度が１．０に近いほど、本システムの人目のつかなさが最大となる。

上述され図面に示した実施形態は、あくまで一例として示したものであり、本開示の概念及び原理に対する限定を意図したものではない。したがって、各要素並びにその構成及び配置に対して、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な変更を行うことができることが、当業者に認識されるであろう。

本明細書で引用された全ての参照及び公開は、本明細書において、参照によりその全体において本開示の中に明確に組み込まれる。

本開示の様々な特徴及び態様が以下の特許請求の範囲において記載される。

Claims (26)

1. 表面の清浄度を判定する方法であって、
   担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性微粒子を含む表面マーキングシステムを提供する工程と、
   前記表面上の少なくとも１つの不連続部位に対して、前記表面マーキングシステムを塗布する工程と、
   クリーニング後、前記表面上の前記少なくとも１つの不連続部位を可視光で照射する工程と、
   前記表面の前記クリーニングの有効性を判定するために、前記少なくとも１つの不連続部位の照射に応じて、前記表面上の前記少なくとも１つの不連続部位から放射された再帰反射を検出する工程と、を含む方法。
2. 検出する工程が、目視により検出する工程を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記表面は、環境表面である、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記表面上の前記少なくとも１つの不連続部位が環境業務従事者には不明である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. 前記表面マーキングシステムは、人目につかない、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記複数個の再帰反射性ビーズが前記担体中又は前記担体上に無作為に分布されている請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記表面マーキングシステムが非毒性材料から構成される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記担体が水溶性である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、非接触塗布を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、吹付けを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
11. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、発泡を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、ドライ転写を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、接触塗布を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 前記表面マーキングシステムを塗布する工程が、液体堆積を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 前記複数個の再帰反射性マイクロスフェアのそれぞれは、再帰反射性コーティングで少なくとも部分的にコーティングされている、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 前記複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、前記担体１ｍＬ当たりマイクロスフェア約１×１０^６個以下の濃度で、前記担体中に分散されている、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、前記担体１ｃｍ^２当たりマイクロスフェア約１×１０^５個以下の濃度で、前記担体上に分配されている、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記複数個の再帰反射性マイクロスフェアは、１０〜１００マイクロメートルの平均直径を有する請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記担体が、界面活性剤、高分子結合剤、接着剤層、及びこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
20. 表面マーキングシステムを塗布するためのアプリケータであって、
    リザーバを画定する容器と、
    前記リザーバ内に位置付けられ、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含む前記表面マーキングシステムと、
    前記リザーバから前記表面マーキングシステムを分配するために構成されたディスペンサと、を備えるアプリケータ。
21. 前記ディスペンサは、多孔質基材を含む、請求項２０に記載のアプリケータ。
22. 前記ディスペンサは、スポンジ、発泡体、スワブ、ブラシ、打ち刷毛、又はこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つを含む、請求項２０又は２１に記載のアプリケータ。
23. 前記ディスペンサは、ノズルを備える、請求項２０〜２２のいずれか一項に記載のアプリケータ。
24. 前記担体は接着剤を含み、前記容器はテープディスペンサを含む、請求項２０〜２３のいずれか一項に記載のアプリケータ。
25. 前記担体は、室温で少なくとも水と同じ揮発性を有する溶媒を含む、請求項２０〜２４のいずれか一項に記載のアプリケータ。
26. 前記担体は、アルコールを含む、請求項２０〜２５のいずれか一項に記載のアプリケータ。

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