JP2016207522A - Phototherapy apparatus - Google Patents

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一樹 加藤
Kazuki Kato
一樹 加藤
和央 吉田
Kazuo Yoshida
和央 吉田
敦 今村
Atsushi Imamura
敦 今村
貴之 飯島
Takayuki Iijima
貴之 飯島
峻 濱口
Shun Hamaguchi
峻 濱口
大谷 博史
Hiroshi Otani
博史 大谷
範幾 立花
Noriki Tachibana
範幾 立花
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phototherapy apparatus including organic electroluminescent element, which is excellent in durability of an electrode against folding, is suppressed in heat generation during emission and prevents a skin burn during therapy.SOLUTION: A phototherapy apparatus of the present invention includes, as a surface emitting light source, an organic electroluminescent element including a flexible base material and having an emission wavelength in a wavelength region of 400-2,000 nm. A transparent electrode constituting the organic electroluminescent element contains a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は光治療用装置に関し、更に詳しくは、低発熱で、フレキシブル性を有し、折り曲げ耐性が向上した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置に関する。   The present invention relates to a phototherapy device, and more particularly to a phototherapy device including an organic electroluminescence element having low heat generation, flexibility, and improved bending resistance.

従来、特定の疾病に対し、光照射による治療、いわゆる光治療が有効であることが知られている。例えば、肩こりや腰痛などの疼痛緩和や薄毛治療には赤色光や赤外線の照射による治療が行われている。この赤外線、例えば、近赤外線光の照射で血管を拡張させることにより、組織内の血流を増加させたり、交感神経系の興奮を抑制したり、細胞組織を活性化して創傷治癒を促進したり、炎症性サイトカインや発痛物質に働きかけて抗炎症作用や鎮痛作用をもたらしたりすることはよく知られている。特に、水、ヘモグロビン、メラニンに対する吸収が少ない波長800〜900nm近傍の近赤外線領域は生体透過度に優れ、温熱効果とは異なる作用機序によって炎症抑制や疼痛緩和されることが明らかになってきた。一方、アトピー性皮膚炎の治療には青色光や紫外線の照射による治療が有効であると言われている。   Conventionally, it is known that treatment with light irradiation, so-called phototherapy, is effective for a specific disease. For example, treatment for pain relief such as stiff shoulders and low back pain and thin hair treatment is performed by irradiation with red light or infrared light. By expanding blood vessels with this infrared ray, for example, near-infrared light, the blood flow in the tissue is increased, the excitation of the sympathetic nervous system is suppressed, the cellular tissue is activated, and wound healing is promoted. It is well known that it acts on inflammatory cytokines and analgesics to produce anti-inflammatory and analgesic effects. In particular, it has been clarified that the near-infrared region in the vicinity of a wavelength of 800 to 900 nm with little absorption to water, hemoglobin, and melanin is excellent in living body permeability and suppresses inflammation and pain by an action mechanism different from the thermal effect. . On the other hand, it is said that treatment by irradiation with blue light or ultraviolet light is effective for the treatment of atopic dermatitis.

このように様々な疾患に対する治療に対し光が用いられており、治療に対し単独で光照射を用いる方法を光線療法といい、光の照射と共に、光化学療法剤を併用する治療法を光線力学的療法(PDT:Photo Dynamic Therapy)という。このPDTにおいては、光化学療法剤として知られる感光性治療剤が、身体の被処置領域に外部から又は内部から供給される。これらの療法を用いてさまざまな皮膚疾患および内部疾患の治療が可能となる。   Light is used for the treatment of various diseases in this way, and the method of using light irradiation alone for treatment is called phototherapy, and the treatment method that uses photochemotherapeutic agents together with light irradiation is photodynamic. It is called a therapy (PDT: Photo Dynamic Therapy). In this PDT, a photosensitive therapeutic agent known as a photochemotherapeutic agent is supplied to the treated area of the body from the outside or the inside. These therapies can be used to treat various skin and internal diseases.

以上のような光治療に用いられる光治療用装置としては、平面上に無機発光ダイオード(Light Emitting Diode、以下、LEDと略記する。)を配列した複数の発光手段と、当該発光手段のそれぞれについて発光量や発光時間を制御する制御手段とを備え、近赤外線光により炎症性疼痛の緩解などの治療を行うための光治療用装置が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1で開示されている光治療用装置によれば、治療光の照射面における光強度分布や温度分布が均一化され、治療部位となる照射面全体に均一に治療光を照射して治療効果を高めることができるとされている。   As a phototherapy device used for the above-described phototherapy, a plurality of light emitting means in which inorganic light emitting diodes (hereinafter abbreviated as LEDs) are arranged on a plane, and each of the light emitting means There has been proposed a phototherapy device that includes a control means for controlling the light emission amount and the light emission time, and performs treatment such as amelioration of inflammatory pain with near-infrared light (see, for example, Patent Document 1). According to the phototherapy device disclosed in Patent Document 1, the light intensity distribution and the temperature distribution on the treatment light irradiation surface are made uniform, and the treatment light is uniformly irradiated to the entire irradiation surface serving as a treatment site. It is said that the effect can be enhanced.

しかしながら、光源として使用しているLEDは、リジッドな拡散板等を有しており、フレキシブル性に乏しい発光素子であるため、例えば、治療対象である患部の曲面構造に対し、均一に光照射させようとする場合には、多くのLEDを配置する必要があり、多数のLEDの発光制御が複雑となり、かつLED自身が発する熱等による影響も問題となっている。   However, an LED used as a light source has a rigid diffuser plate and the like, and is a light-emitting element with poor flexibility. For example, the curved surface structure of an affected area to be treated is irradiated with light uniformly. When trying to do so, it is necessary to arrange a large number of LEDs, the light emission control of a large number of LEDs becomes complicated, and the influence of heat generated by the LEDs themselves is also a problem.

上記の問題に対し、光源として有機発光ダイオード(以下、有機エレクトロルミネッセンス素子、OLED又は有機EL素子という。)を用いた光治療用装置が提案されている。例えば、治療上又は美容上の処置で用いる移動式機器で、治療すべき領域に有機発光半導体として有機発光ダイオードを用いた光照射により治療する光治療用装置が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、適用している電極材料がフレキシブル性に乏しいという問題がある。   In response to the above problems, a phototherapy device using an organic light-emitting diode (hereinafter referred to as an organic electroluminescence element, an OLED, or an organic EL element) as a light source has been proposed. For example, a device for phototherapy is disclosed in which a mobile device used for therapeutic or cosmetic treatment is treated by light irradiation using an organic light-emitting diode as an organic light-emitting semiconductor in an area to be treated (for example, Patent Documents). 2). However, there is a problem that the applied electrode material is poor in flexibility.

また、治療用波長を発する有機エレクトロルミネッセンス素子と、当該有機エレクトロルミネッセンス素子の発光条件を制御する制御モジュールを有する光線治療器が開示されている(例えば、特許文献3参照。)。ここで開示されている方法によれば、複数のOLEDを選択、又は制御モジュールで発光を制御することにより、光照射システムとして、所望の波長を有する照射光に制御することができるとされている。   Further, a phototherapy device having an organic electroluminescence element that emits a therapeutic wavelength and a control module that controls light emission conditions of the organic electroluminescence element is disclosed (for example, see Patent Document 3). According to the method disclosed here, by selecting a plurality of OLEDs or controlling light emission with a control module, the light irradiation system can be controlled to irradiate light having a desired wavelength. .

しかしながら、これら提案されているOLEDでは、基材としてはフレキシブル性を有する材料を用いているが、構成している電極、例えば、陽極や陰極はフレキシブル性に乏しく、OLEDを患部形状に対応するための折り曲げを繰り返して行った際に、電極、特に光取出し側に位置している透明電極の破損・断線・短絡を起こしやすく、耐久性として不十分である。また、複数のOLEDから構成されている光治療用装置の光源部が、発光に伴い熱を発し、患部等へ熱による影響があるため、安全な治療また長時間の治療をする妨げとなっている。   However, in these proposed OLEDs, a flexible material is used as the base material, but the electrodes, for example, the anode and the cathode, which are configured, are poor in flexibility, and the OLED corresponds to the shape of the affected part. When bending is repeated, the electrode, particularly the transparent electrode located on the light extraction side, is likely to be damaged, disconnected, or short-circuited, and the durability is insufficient. Moreover, since the light source part of the phototherapy device composed of a plurality of OLEDs emits heat with light emission and has an influence on the affected part due to heat, it is an obstacle to safe treatment and long-term treatment. Yes.

また、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光治療器具で、フレキシブル性基材を用い、フレキシブルな共形の医療用光源と、血液性状(例えば、CO、酸素、又はビリルビンのレベル)のモニタリングを目的とする関連診断デバイスと、乾癬及び幾つかの形態の癌などの動物の治療用光線療法デバイスが開示されている(例えば、特許文献4参照。)。   It is also a phototherapy device using organic electroluminescence elements, using a flexible base material, for the purpose of monitoring a flexible conformal medical light source and blood properties (for example, the level of CO, oxygen, or bilirubin) Related diagnostic devices and phototherapy devices for the treatment of animals such as psoriasis and some forms of cancer have been disclosed (see, for example, US Pat.

特許文献4には、構成する電極材料は、導電性ポリマーとして、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)や、酸化インジウム・スズ(ITO)を適用する記載があるが、ITOの結晶構造としては不明である。また、電極材料として、導電性ポリマーであるPEDOT/PSSを用いた場合には、OLEDとして大面積化することが難しいことや、発光面の中心部を強く光らせようとすると発熱を生じる問題がある。また、結晶性の高い構造のITOを用いた場合には、電極の破損・断線・短絡を起こしやすい。また、PEDOT/PSSのような有機材料は、一般的に熱伝導率が低いため、熱を貯めやすく、発熱しやすいという問題を抱えている。   Patent Document 4 describes that the constituent electrode material is poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or indium tin oxide (ITO) as a conductive polymer. However, the crystal structure of ITO is unknown. In addition, when PEDOT / PSS, which is a conductive polymer, is used as the electrode material, it is difficult to increase the area as an OLED, and there is a problem that heat is generated when the central portion of the light emitting surface is shined strongly. . In addition, when ITO having a highly crystalline structure is used, the electrode is easily damaged, disconnected or short-circuited. In addition, organic materials such as PEDOT / PSS generally have low heat conductivity, and thus have a problem that heat is easily stored and heat is easily generated.

特開2009−055969号公報JP 2009-055969 A 特表2005−520583号公報JP 2005-520583 A 特表2012−514498号公報Special table 2012-514498 gazette 特表2007−518467号公報JP-T 2007-518467

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、折り曲げに対する電極の耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and a solution to the problem is to provide an organic electroluminescence device that is excellent in durability of electrodes against bending, suppresses heat generation during light emission, and prevents burns during treatment. An optical therapy device is provided.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、フレキシブル基材を有し、構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した光治療用装置により、折り曲げに対する電極の耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を得ることができることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has developed an organic electroluminescence device having a flexible base material, and the transparent electrode to be configured contains a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure. It has been found that the phototherapy device provided can provide a phototherapy device including an organic electroluminescence element that has excellent durability of electrodes against bending, suppresses heat generation during light emission, and prevents burns during treatment. The present invention has been reached.

すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。   That is, the said subject of this invention is solved by the following means.

1.フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、
前記面発光光源の発光波長が400〜2000nmの波長域にあり、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする光治療用装置。
1. A phototherapy device comprising an organic electroluminescence element as a surface light source on a flexible substrate,
The emission wavelength of the surface-emitting light source is in a wavelength range of 400 to 2000 nm,
The transparent electrode which comprises the said organic electroluminescent element contains the metal oxide material which has a metal material or an amorphous structure, and has flexibility, The phototherapy apparatus characterized by the above-mentioned.

2.前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であることを特徴とする第1項に記載の光治療用装置。   2. 2. The phototherapy device according to claim 1, wherein the metal oxide material is an amorphous indium oxide compound, an amorphous zinc oxide compound, or an amorphous tin oxide compound.

3.前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム・スズ、アモルファス酸化インジウム・亜鉛、又はアモルファス酸化亜鉛であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の光治療用装置。   3. 3. The phototherapy device according to item 1 or 2, wherein the metal oxide material is amorphous indium tin oxide, amorphous indium zinc oxide, or amorphous zinc oxide.

4.前記金属材料が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする第1項に記載の光治療用装置。   4). 2. The phototherapy device according to item 1, wherein the metal material is silver or aluminum.

5.前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、銀を主成分とする金属電極層と、当該金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を有する構成であることを特徴とする第1項又は第4項に記載の光治療用装置。   5. The transparent electrode constituting the organic electroluminescence element has a metal electrode layer mainly composed of silver and a base layer containing a substance having an interaction with silver at a position adjacent to the metal electrode layer. Item 5. The phototherapy device according to Item 1 or 4, wherein the device is for phototherapy.

6.前記有機エレクトロルミネッセンス素子と共に、光化学療法剤を用いることを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光治療用装置。   6). The phototherapy device according to any one of items 1 to 5, wherein a photochemotherapeutic agent is used together with the organic electroluminescence element.

本発明の上記手段により、折り曲げに対する電極耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を提供することができる。   By the above means of the present invention, it is possible to provide a phototherapy device comprising an organic electroluminescence element which has excellent electrode durability against bending, suppresses heat generation during light emission, and prevents burns during treatment.

本発明で規定する構成により、上記問題を解決することができたのは、以下の理由によるものと推測している。   It is presumed that the above problem can be solved by the configuration defined in the present invention for the following reason.

一般に、熱伝導と電子伝導には相関があり、電流が流れやすいほど、熱も流れやすくなる。よって、電子起因の熱の流れやすさ、言い換えると放熱のしやすさの序列としては、金属材料>アモルファス金属酸化物>>>導電性ポリマーの順となる。   Generally, there is a correlation between heat conduction and electron conduction, and the easier the current flows, the easier the heat flows. Therefore, the order of the ease of heat flow due to electrons, in other words, the ease of heat dissipation, is in the order of metal material> amorphous metal oxide >> conductive polymer.

したがって、導電性ポリマー単独で透明電極を形成した場合には、熱伝導率が低いため、熱が籠りやすくなり、光治療時の有機エレクトロルミネッセンス素子が高温になる。これに対し、自由電子の多い金属材料やアモルファス金属酸化物では、光発光により生じた熱が拡散しやすくなり、光治療時に低温環境を維持することができる。   Therefore, when a transparent electrode is formed of a conductive polymer alone, the heat conductivity is low, so that heat is easily generated, and the organic electroluminescence element at the time of phototherapy becomes high temperature. In contrast, in a metal material or amorphous metal oxide with many free electrons, heat generated by light emission is easily diffused, and a low temperature environment can be maintained during phototherapy.

また、フレキブル性が要求される電子機器に使用される材料として、金属材料やアモルファス金属酸化物材料、高分子系材料が用いられている。   In addition, metal materials, amorphous metal oxide materials, and polymer materials are used as materials used in electronic devices that require flexibility.

上記二つの事項から、透明電極に金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することで、発熱によるやけどを抑え、かつ破損・断線・短絡を防止することができる。   From the above two items, by containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure in the transparent electrode, it is possible to suppress burns due to heat generation and to prevent breakage, disconnection, or short circuit.

これらのことから、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することで、形状対応性(フレキシビリティー)を有し、折り曲げ耐性に優れ、かつ発光時に発熱量が少なく高輝度の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した光治療用装置を実現することができた。   From these things, the transparent electrode which comprises an organic electroluminescent element contains a metal oxide material which has a metal material or an amorphous structure, has shape compatibility (flexibility), is excellent in bending resistance, In addition, it was possible to realize a phototherapeutic device including an organic electroluminescence element having a high luminance with a small calorific value when emitting light.

フレキシブルな有機EL素子を具備した光治療用装置を用いた光治療方法の一例を示す概略図Schematic which shows an example of the phototherapy method using the apparatus for phototherapy provided with the flexible organic EL element 1つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の全体構成の一例(実施態様1)を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example (embodiment 1) of the overall configuration of an organic EL element having one organic functional layer unit 実施態様1の有機EL素子の発光ユニットの具体的な構成の一例を示す概略断面図Schematic sectional drawing which shows an example of the specific structure of the light emission unit of the organic EL element of Embodiment 1. 1つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の他の一例(実施態様2)を示す概略断面図Schematic sectional view showing another example (embodiment 2) of the configuration of the organic EL element having one organic functional layer unit 2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の一例(実施態様3)を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example (embodiment 3) of a configuration of an organic EL element having two organic functional layer units 2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の他の構成の一例(実施態様4)を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example (embodiment 4) of another configuration of an organic EL element having two organic functional layer units 2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の他の構成の一例(実施態様5)を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example (embodiment 5) of another configuration of an organic EL element having two organic functional layer units 3つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の一例(実施態様6)を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example (embodiment 6) of a configuration of an organic EL element having three organic functional layer units

本発明の光治療用装置は、フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、前記面発光光源の発光波長が400〜2000nmの波長域にあり、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とし、折り曲げに対する電極耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を実現することができる。この特徴は、請求項1から請求項6までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The phototherapy device of the present invention is a phototherapy device comprising an organic electroluminescence element as a surface light source on a flexible substrate, and the light emission wavelength of the surface light source is in a wavelength range of 400 to 2000 nm. The transparent electrode constituting the organic electroluminescence element contains a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, has flexibility, has excellent electrode durability against bending, and generates heat during light emission. It is possible to realize a phototherapy device including an organic electroluminescence element that suppresses and prevents burns during treatment. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 6.

本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、透明電極を構成するアモルファス構造を有する金属酸化物材料として、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であること、更に具体的には、アモルファス酸化インジウム・スズ(以下、a−ITOともいう。)、アモルファス酸化インジウム・亜鉛(以下、a−IZOともいう。)、又はアモルファス酸化亜鉛(以下、a−ZnOともいう。)であることが、電極として優れた導電性を得ることができるとともに、フレキシブル性の高い電極を形成することができ、より優れた折り曲げ耐性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができ、患部の形状に対応し、安定な光治療効果を得ることができる。   As an embodiment of the present invention, an amorphous indium oxide-based compound, an amorphous zinc oxide-based compound, or a metal oxide material having an amorphous structure that constitutes a transparent electrode, from the viewpoint of more manifesting the intended effect of the present invention. More specifically, it is an amorphous tin oxide compound, more specifically, amorphous indium tin oxide (hereinafter also referred to as a-ITO), amorphous indium oxide / zinc (hereinafter also referred to as a-IZO), or amorphous oxidation. Zinc (hereinafter also referred to as a-ZnO) can provide excellent conductivity as an electrode, can form a highly flexible electrode, and has higher bending resistance. A luminescence element can be obtained, corresponding to the shape of the affected area, and stable phototherapy Effect can be obtained.

また、透明電極を構成する金属材料としては、銀又はアルミニウムであることが、同じく、優れた電極特性とフレキシブル性を具備した電極を形成することができ、折り曲げ耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができ、患部の形状に対応した安定な光治療効果を得ることができる。   Moreover, as a metal material which comprises a transparent electrode, it is silver or aluminum, and can form the electrode which comprised the same excellent electrode characteristic and flexibility, and the organic electroluminescent element excellent in bending resistance It is possible to obtain a stable phototherapy effect corresponding to the shape of the affected area.

また、透明電極として、銀を主成分とする金属電極層と、金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を形成する構成とすることにより、下地層上に銀薄膜電極層を形成する際に、銀原子の海島状の凝集体(モトル)の形成を防止することができ、その結果、高い光透過性及び均一性に優れた銀薄膜電極を形成することができる。   In addition, the transparent electrode has a structure in which a metal electrode layer mainly composed of silver and a base layer containing a substance that interacts with silver are formed at positions adjacent to the metal electrode layer. When forming a silver thin film electrode layer, it is possible to prevent the formation of sea-island aggregates (motors) of silver atoms, resulting in the formation of a silver thin film electrode with high light transmission and excellent uniformity. be able to.

また、本発明の光治療用装置においては、有機エレクトロルミネッセンス素子による光治療と共に、光化学療法剤を用いることが、光治療効果をより高めることができる観点から好ましい。   In the phototherapy device of the present invention, it is preferable to use a photochemotherapeutic agent together with phototherapy using an organic electroluminescence element from the viewpoint of further enhancing the phototherapy effect.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, "-" shown in this invention is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

《光治療用装置》
本発明の光治療用装置は、フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備し、前記面発光光源の発光波長が400〜2000nmの波長域にあり、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする。
《Phototherapy device》
The phototherapy device of the present invention comprises an organic electroluminescent element as a surface-emitting light source on a flexible substrate, the emission wavelength of the surface-emitting light source is in a wavelength range of 400 to 2000 nm, and the organic electroluminescent element is The transparent electrode to be formed contains a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and has flexibility.

本発明でいう透明電極とは、発光層により発光された光線の透過率が、50%以上であることをいい、好ましくは70%以上であり、特に好ましくは85%以上である。具体的には、透明電極とは、少なくとも光取出し側に配置されている電極であり、陽極側より光取出しを行う場合には、陽極や中間電極が、本発明でいう透明電極に相当する。多くの場合、光取出し側から最も離れた位置にある電極、例えば、陰極は、光不透過性の反射電極で構成されている場合が多い。   The transparent electrode as used in the field of this invention means that the transmittance | permeability of the light light-emitted by the light emitting layer is 50% or more, Preferably it is 70% or more, Most preferably, it is 85% or more. Specifically, the transparent electrode is an electrode arranged at least on the light extraction side, and when light extraction is performed from the anode side, the anode and the intermediate electrode correspond to the transparent electrode in the present invention. In many cases, an electrode located farthest from the light extraction side, for example, a cathode, is often composed of a light-impermeable reflective electrode.

図1は、フレキシブル性を有する有機EL素子を具備した光治療用装置を、曲面の患部に当てた状態の一例を示す概略図である。   FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a state where a phototherapy device including an organic EL element having flexibility is applied to an affected area of a curved surface.

図1においては、本発明に係る有機EL素子(OLED)は、フレキシブル基材(1)上に、一対の電極で挟持された発光ユニット(12)と、その上部に封止用接着層(13)及びフレキシブル封止基材(14)により構成されており、発光層ユニットは、発光量や発光時間を制御するための発光制御手段(不図示)に接続されている。   In FIG. 1, the organic EL element (OLED) according to the present invention includes a light emitting unit (12) sandwiched between a pair of electrodes on a flexible substrate (1), and a sealing adhesive layer (13) on the light emitting unit (12). ) And a flexible sealing substrate (14), and the light emitting layer unit is connected to a light emission control means (not shown) for controlling the light emission amount and the light emission time.

本発明に係る有機EL素子(OLED)は、図1に示すようにフレキシブルな部材より構成されているため、発光面の形状を自由に設定することができ、曲面を有する患部(2)に対し、安定して、光治療用の発光光(L)を照射することができ、安定した光治療を可能とする。   Since the organic EL element (OLED) according to the present invention is composed of a flexible member as shown in FIG. 1, the shape of the light emitting surface can be freely set, and the affected part (2) having a curved surface It is possible to stably emit light (L) for phototherapy, which enables stable phototherapy.

以下の説明において、少なくともフレキシブル基材上に、一対の電極で挟持された発光層を含む有機機能層ユニット及びフレキシブル封止部材を設けた構成を「有機EL素子(OLED)」と称し、陽極、発光層、有機機能層群、及び陰極によりなる構成を、「発光ユニット(12)」、発光層及び有機機能層群により構成されるものを「有機機能層ユニット(4)」と称す。   In the following description, a configuration in which an organic functional layer unit including a light emitting layer sandwiched between a pair of electrodes and a flexible sealing member is provided on at least a flexible substrate is referred to as an “organic EL element (OLED)”, an anode, The structure composed of the light emitting layer, the organic functional layer group, and the cathode is referred to as “light emitting unit (12)”, and the structure composed of the light emitting layer and the organic functional layer group is referred to as “organic functional layer unit (4)”.

《有機EL素子》
[1.有機EL素子の基本構成:実施態様1〕
図2は、1つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の全体構成の一例(実施態様1)を示す概略断面図である。
<< Organic EL element >>
[1. Basic Configuration of Organic EL Element: Embodiment 1]
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example (embodiment 1) of the entire configuration of an organic EL element having one organic functional layer unit.

図2において、本発明に係る有機EL素子(OLED)は、フレキシブル基材(1)上に、一対の電極を構成する第1電極(3、陽極)と、その上に、有機機能層群1(22)、発光層(23)及び有機機能層群2(24)で構成される有機機能層ユニット(4)を有している。図2では、便宜上、1つの有機機能層ユニット(4)のみ記載しているが、必要に応じて、2つ以上の有機機能層ユニット(4)を積層した構造であってもよい。この有機機能層ユニット(4)上には第2電極(6、陰極)が形成されて、第1電極(3)〜第2電極(6)までで、発光ユニット(12)を構成している。第2電極(6)の上部には、少なくとも有機機能層ユニット(4)を被覆する形態で、封止用接着層(13)及びフレキシブル封止基材(14)が設けられて、有機EL素子(OLED)を形成している。   In FIG. 2, the organic EL element (OLED) according to the present invention includes a first electrode (3, anode) constituting a pair of electrodes on the flexible substrate (1), and an organic functional layer group 1 thereon. (22) It has the organic functional layer unit (4) comprised by the light emitting layer (23) and the organic functional layer group 2 (24). In FIG. 2, only one organic functional layer unit (4) is shown for convenience, but a structure in which two or more organic functional layer units (4) are stacked may be used as necessary. A second electrode (6, cathode) is formed on the organic functional layer unit (4), and the first electrode (3) to the second electrode (6) constitute a light emitting unit (12). . An upper part of the second electrode (6) is provided with a sealing adhesive layer (13) and a flexible sealing substrate (14) so as to cover at least the organic functional layer unit (4). (OLED) is formed.

図2に記載の有機EL素子(OLED)においては、第1電極(3)である陽極を透明電極により構成することで、発光層(23)の発光点(h)で発光した発光光(L)は、透明電極である第1電極(3)側より外部に取り出される。この時、第2電極(6)である陰極は、図で示すように、光不透過性の反射電極となる。   In the organic EL element (OLED) shown in FIG. 2, the anode that is the first electrode (3) is formed of a transparent electrode, so that the emitted light (L) emitted from the light emitting point (h) of the light emitting layer (23). ) Is taken out from the first electrode (3) side which is a transparent electrode. At this time, the cathode as the second electrode (6) becomes a light-impermeable reflective electrode as shown in the figure.

本発明の光治療用装置に適用する有機EL素子(OLED)は、発光波長が400〜2000nmの範囲内にあることを特徴とする。このような幅広い発光波長域を具備することにより、光治療に適した波長の光を随時選択することができる。このような発光波長のコントロールは、有機EL素子が構成する発光層で使用する発光性化合物の種類や2種以上の発光性化合物の組み合わせ、あるいは複数の発光層の形成により実現することができる。   The organic EL element (OLED) applied to the phototherapy device of the present invention is characterized in that the emission wavelength is in the range of 400 to 2000 nm. By having such a wide light emission wavelength range, light having a wavelength suitable for phototherapy can be selected as needed. Such control of the emission wavelength can be realized by the type of the luminescent compound used in the luminescent layer of the organic EL element, the combination of two or more luminescent compounds, or the formation of a plurality of luminescent layers.

また、本発明に係る有機EL素子が、2つ以上の有機機能層ユニットを積層する構成である場合、それぞれの有機機能層ユニットを、異なる発光極大波長(以下、発光ピーク波長ともいう。)を有する構成とすることが、治療対象に応じて、適切な波長の光を選択して照射することができ好ましい。また、2つ以上の有機機能層ユニットが、それぞれ同一の発光ピーク波長を有する構成とすることにより、発熱を伴うことなく高輝度の光を、治療対象である患部に、効率よく照射することができ好ましい。   Moreover, when the organic EL element which concerns on this invention is the structure which laminates | stacks two or more organic functional layer units, each organic functional layer unit sets a different light emission maximum wavelength (henceforth light emission peak wavelength). It is preferable to have a configuration that can select and irradiate light having an appropriate wavelength depending on the treatment target. In addition, by having two or more organic functional layer units each having the same emission peak wavelength, it is possible to efficiently irradiate the affected area as a treatment target with high-intensity light without generating heat. This is preferable.

図3は、図2で説明した実施態様1の有機EL素子(OLED)の具体的な構成の一例を示す概略断面図である。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a specific configuration of the organic EL element (OLED) according to Embodiment 1 described in FIG.

図3に示す構成の有機EL素子(OLED)では、フレキシブル基材(1)上に、透明電極として陽極(3)を配置し、その上に、正孔注入層(HIL)及び正孔輸送層(HTL)を積層して、第1の有機機能層群(22)が形成されている。第1の有機機能層群(22)上には、発光層(23)を有している。この発光層(23)上に、電子輸送層(ETL)及び電子注入層(EIL)を積層した第2の有機機能層群(24)が形成され、最上層に反射電極として陰極(6)が設けられて、発光ユニット(12)を構成している。最終的な有機EL素子を構成する場合には、図2で示すように、有機EL素子を封止部材で封止する構造をとるが、図3ではその記載は省略している。   In the organic EL element (OLED) having the configuration shown in FIG. 3, an anode (3) is disposed as a transparent electrode on a flexible substrate (1), and a hole injection layer (HIL) and a hole transport layer are formed thereon. The first organic functional layer group (22) is formed by stacking (HTL). A light emitting layer (23) is provided on the first organic functional layer group (22). On this light emitting layer (23), the 2nd organic functional layer group (24) which laminated | stacked the electron carrying layer (ETL) and the electron injection layer (EIL) is formed, and the cathode (6) is used as a reflective electrode in the uppermost layer. It is provided and constitutes the light emitting unit (12). When the final organic EL element is configured, as shown in FIG. 2, a structure in which the organic EL element is sealed with a sealing member is employed, but the description thereof is omitted in FIG.

図3に記載の構成では、透明な陽極(3)と陰極(6)の間に、電圧(V1)を印加することにより、発光層あるいは発光層界面で発光し、透明電極である陽極(3)側から発光光(L)が放射される。この時、第2電極(6)である陰極は、図2で示すように、入射してくる発光光(L)を、光不透過性の反射電極である陰極表面で反射し、透明電極である陽極(3)側に放射する。   In the configuration shown in FIG. 3, by applying a voltage (V1) between the transparent anode (3) and the cathode (6), light is emitted at the light emitting layer or the light emitting layer interface, and the anode (3 The emitted light (L) is emitted from the) side. At this time, as shown in FIG. 2, the cathode as the second electrode (6) reflects the incident emitted light (L) on the surface of the cathode, which is a light-impermeable reflection electrode, and passes through the transparent electrode. Radiates to a certain anode (3) side.

一般に、有機EL素子の発光層は、詳細は後述する発光ドーパント(例えば、燐光発光性化合物や蛍光発光性化合物)とホスト化合物により形成されている。   In general, the light emitting layer of the organic EL element is formed of a light emitting dopant (for example, a phosphorescent compound or a fluorescent compound) described later in detail and a host compound.

[2.有機EL素子の代表的な構成]
本発明に係る有機EL素子(OLED)は、図2及び図3で説明したように、下から、フレキシブル基材(1)上に、第1電極である陽極(3)、次いで、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成される有機機能層群1(22)、発光層(23)、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成される有機機能層群2(24)が積層されて、発光領域を構成する有機機能層ユニット(4)を有している。そして、上部には第2電極である陰極(6)、封止用接着層(13)及び封止基材(14)が設けられている。
[2. Typical configuration of organic EL element]
As described with reference to FIGS. 2 and 3, the organic EL element (OLED) according to the present invention, from below, on the flexible substrate (1), the anode (3) as the first electrode, and then, for example, the positive electrode Organic functional layer group 1 (22) composed of a hole injection layer, a hole transport layer, and the like, and light emitting layer (23), for example, organic functional layer group 2 (24) composed of an electron transport layer, an electron injection layer, and the like Are stacked to have an organic functional layer unit (4) constituting a light emitting region. And the cathode (6) which is a 2nd electrode, the contact bonding layer (13), and the sealing base material (14) are provided in the upper part.

本発明の光治療用装置に適用可能な有機EL素子の構成例については、本発明で規定する条件を満たせば、特に制限はなく、以下に示す構成(1)〜(6)を代表例として挙げることができる。ただし、本発明においては、これら例示する構成により限定されない。   The configuration example of the organic EL element applicable to the phototherapy device of the present invention is not particularly limited as long as the conditions specified in the present invention are satisfied, and configurations (1) to (6) shown below are representative examples. Can be mentioned. However, the present invention is not limited to these exemplified configurations.

以下に、本発明に適用可能な有機EL素子の構成の代表例を示す。   Below, the typical example of a structure of the organic EL element applicable to this invention is shown.

(1)フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット〔有機機能層群1/発光層/有機機能層群2〕/陰極/封止部材(実施態様1、図2及び図3参照)
(2)フレキシブル基材/下地層/陽極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット〔有機機能層群1/発光層/有機機能層群2〕/陰極/封止部材(実施態様2、図4参照)
(3)フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/中間電極/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材(実施態様3、図5参照)
(4)フレキシブル基材/下地層/陽極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/中間電極/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材(実施態様4、図6参照)
(5)フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/下地層/中間電極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材(実施態様5、図7参照)
(6)フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/下地層1/中間電極1(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/下地層2/中間電極2(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット3〔有機機能層群1C/発光層C/有機機能層群2C〕/陰極/封止部材(実施態様6、図8参照)
更に、複数の発光層を構成する場合には、発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。中間層は、電荷発生層であってもよく、マルチフォトンユニット構成であってもよい。
(1) Flexible substrate / anode / organic functional layer unit [organic functional layer group 1 / light emitting layer / organic functional layer group 2] / cathode / sealing member (see embodiment 1, FIG. 2 and FIG. 3)
(2) Flexible substrate / underlayer / anode (for example, silver thin film electrode) / organic functional layer unit [organic functional layer group 1 / light emitting layer / organic functional layer group 2] / cathode / sealing member (Embodiment 2, (See Figure 4)
(3) Flexible substrate / anode / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / intermediate electrode / organic functional layer unit 2 [organic functional layer group 1B / light emitting layer B / Organic functional layer group 2B] / cathode / sealing member (embodiment 3, see FIG. 5)
(4) Flexible substrate / underlayer / anode (for example, silver thin film electrode) / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / intermediate electrode / organic functional layer unit 2 [Organic functional layer group 1B / light emitting layer B / organic functional layer group 2B] / cathode / sealing member (see embodiment 4, FIG. 6)
(5) Flexible substrate / Anode / Organic functional layer unit 1 [Organic functional layer group 1A / Light emitting layer A / Organic functional layer group 2A] / Underlayer / Intermediate electrode (for example, silver thin film electrode) / Organic functional layer unit 2 [Organic Functional Layer Group 1B / Light-Emitting Layer B / Organic Functional Layer Group 2B] / Cathode / Sealing Member (Embodiment 5, see FIG. 7)
(6) Flexible substrate / anode / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / underlayer 1 / intermediate electrode 1 (for example, silver thin film electrode) / organic functional layer Unit 2 [organic functional layer group 1B / light emitting layer B / organic functional layer group 2B] / underlayer 2 / intermediate electrode 2 (for example, silver thin film electrode) / organic functional layer unit 3 [organic functional layer group 1C / light emitting layer C / Organic functional layer group 2C] / Cathode / Sealing member (Embodiment 6, see FIG. 8)
Further, in the case of forming a plurality of light emitting layers, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers. The intermediate layer may be a charge generation layer or a multi-photon unit configuration.

上記記載の(1)〜(6)の構成において、陽極側から光取出しを行う場合には、陽極や中間電極が本発明に係る透明電極に該当し、陰極が反射電極となる。   In the configurations (1) to (6) described above, when light extraction is performed from the anode side, the anode and the intermediate electrode correspond to the transparent electrode according to the present invention, and the cathode serves as the reflective electrode.

本発明に適用可能な有機EL素子の概要については、例えば、特開2013−157634号公報、特開2013−168552号公報、特開2013−177361号公報、特開2013−187211号公報、特開2013−191644号公報、特開2013−191804号公報、特開2013−225678号公報、特開2013−235994号公報、特開2013−243234号公報、特開2013−243236号公報、特開2013−242366号公報、特開2013−243371号公報、特開2013−245179号公報、特開2014−003249号公報、特開2014−003299号公報、特開2014−013910号公報、特開2014−017493号公報、特開2014−017494号公報等に記載されている構成を挙げることができる。   Regarding the outline of the organic EL element applicable to the present invention, for example, JP2013-157634A, JP2013-168552A, JP2013-177361A, JP2013-187221A, JP JP 2013-191644 A, JP 2013-191804 A, JP 2013-225678 A, JP 2013-235994 A, JP 2013-243234 A, JP 2013-243236 A, JP 2013-2013 A. JP 242366, JP 2013-243371, JP 2013-245179, JP 2014-003249, JP 2014-003299, JP 2014-013910, JP 2014-014933 Gazette, JP, 2014-017494, A It can be mentioned configurations described in.

また、有機機能層ユニットを2つ以上積層した有機EL素子の具体例としては、例えば、米国特許第6337492号明細書、米国特許第7420203号明細書、米国特許第7473923号明細書、米国特許第6872472号明細書、米国特許第6107734号明細書、米国特許第6337492号明細書、特開2006−228712号公報、特開2006−24791号公報、特開2006−49393号公報、特開2006−49394号公報、特開2006−49396号公報、特開2011−96679号公報、特開2005−340187号公報、特許第4711424号公報、特許第3496681号公報、特許第3884564号公報、特許第4213169号公報、特開2010−192719号公報、特開2009−076929号公報、特開2008−078414号公報、特開2007−059848号公報、特開2003−272860号公報、特開2003−045676号公報、国際公開第2005/009087号、国際公開第2005/094130号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the organic EL element in which two or more organic functional layer units are laminated include, for example, US Pat. No. 6,337,492, US Pat. No. 7,420,203, US Pat. No. 7,473,923, US Pat. No. 6,872,472, US Pat. No. 6,107,734, US Pat. No. 6,337,492, JP-A 2006-228712, JP-A 2006-24791, JP-A 2006-49393, JP-A 2006-49394. Publication, JP 2006-49396, JP 2011-96679, JP 2005-340187, JP 47114424, JP 34966681, JP 3884564, JP 431169 JP, 2010-192719, JP, 20 No. 9-076929, JP 2008-078414 A, JP 2007-059848 A, JP 2003-272860 A, JP 2003-045676 A, International Publication No. 2005/009087, International Publication No. 2005. / 094130 etc., the element structure, a constituent material, etc. are mentioned, However, This invention is not limited to these.

[3.有機EL素子の構成要素]
〔3.1:電極構成〕
はじめに、本発明の構成上の特徴点である電極材料の詳細について説明する。
[3. Components of organic EL element]
[3.1: Electrode configuration]
First, the details of the electrode material, which is a structural feature of the present invention, will be described.

本発明に係る有機EL素子においては、有機EL素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することを特徴とし、光治療時に患部の形態に対応して、折り曲げ等を行っても、高いフレキシブル性により電極の破壊・断線及び短絡の発生を抑制することができる。   In the organic EL device according to the present invention, the transparent electrode constituting the organic EL device contains a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and corresponds to the form of the affected area during phototherapy, Even when bending or the like is performed, it is possible to suppress the occurrence of electrode breakage, disconnection, and short circuit due to high flexibility.

本発明でいう透明電極の「透明」とは、発光層により発光された光線の透過率が、50%以上であることをいい、好ましくは70%以上であり、特に好ましくは85%以上である。   The “transparent” of the transparent electrode in the present invention means that the transmittance of light emitted from the light emitting layer is 50% or more, preferably 70% or more, particularly preferably 85% or more. .

例えば、陽極側から発光光を取り出す場合には、本発明に係る透明電極は、陽極及び中間電極が該当し、非発光面側に位置する陰極は、反射電極として機能し、本発明でいう透明電極には該当しない。例えば、陰極として、アルミニウムにより厚さ100nm以上の電極を形成した場合、光不透過性の反射電極となる。   For example, in the case where emitted light is extracted from the anode side, the transparent electrode according to the present invention corresponds to the anode and the intermediate electrode, and the cathode located on the non-light emitting surface side functions as a reflective electrode. Not applicable to electrodes. For example, when an electrode having a thickness of 100 nm or more is formed of aluminum as the cathode, it becomes a light-impermeable reflective electrode.

(電極の概要)
〈陽極〉
本発明に係る陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属又は金属を主成分とする合金、アモルファス構造を有する金属酸化物材料を主成分として構成する。
(Outline of electrode)
<anode>
As the anode according to the present invention, a metal having a large work function (4 eV or more) or an alloy containing a metal as a main component or a metal oxide material having an amorphous structure is used as a main component.

また、陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状パターンを形成してもよく、又はパターン精度をあまり必要としない場合(100μm以上程度)は、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。また、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料と共に、有機導電性化合物のような塗布可能な物質を併用する場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。陽極より発光を取り出す場合には、陽極として発光光の透過率を50%より大きくすることが必要であり、好ましくは70%以上である。また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常は、10〜500nmの範囲であり、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。   In addition, the anode may be formed by forming a thin film from these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering, and a desired shape pattern may be formed by a photolithography method, or the pattern accuracy is not required so much (about 100 μm or more) ) May form a pattern through a mask having a desired shape during vapor deposition or sputtering of the electrode material. In addition, in the case of using a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure together with an applicable substance such as an organic conductive compound, a wet film formation method such as a printing method or a coating method can be used. In the case of extracting light emission from the anode, it is necessary to make the transmittance of the emitted light larger than 50% as the anode, and preferably 70% or more. The sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually in the range of 10 to 500 nm, preferably in the range of 10 to 200 nm.

〈中間電極〉
本発明に係る有機EL素子においては、陽極と陰極との間に、有機機能層群と発光層から構成される有機機能層ユニットを二つ以上積層した構造を有することできるが、二つ以上の有機機能層ユニット間を、電気的接続を得るため、独立した接続端子を有する中間電極で分離した構造をとることが好ましい。
<Intermediate electrode>
The organic EL device according to the present invention may have a structure in which two or more organic functional layer units each composed of an organic functional layer group and a light emitting layer are laminated between an anode and a cathode. In order to obtain electrical connection between the organic functional layer units, it is preferable to take a structure in which the organic functional layer units are separated by an intermediate electrode having independent connection terminals.

中間電極についても、上記説明した陽極の形成材料を同様に用いることができる。   For the intermediate electrode, the above-described anode forming material can be used in the same manner.

〈陰極〉
本発明に係る陰極は、有機機能層群や発光層に正孔を供給するために機能する電極膜であり、主には、アルミニウム等の金属材料で、膜厚は通常100nm〜5μm、好ましくは100〜200nmの範囲で選ばれるため、光透過性を具備していない場合が多い。
<cathode>
The cathode according to the present invention is an electrode film that functions to supply holes to the organic functional layer group and the light emitting layer, and is mainly a metal material such as aluminum, and the film thickness is usually 100 nm to 5 μm, preferably Since it is selected in the range of 100 to 200 nm, it often does not have optical transparency.

陰極は電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。なお、陰極にアルミニウム等の金属を1〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極に適用可能な導電性透明材料をその上に形成することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する有機EL素子を作製することができる。   The cathode can be produced by forming a thin film of electrode material by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance as a cathode is preferably several hundred Ω / □ or less. A transparent or semi-transparent cathode can be produced by forming a metal such as aluminum with a film thickness of 1 to 20 nm on the cathode and then forming a conductive transparent material applicable to the anode thereon. By applying this, an organic EL element in which both the anode and the cathode are transparent can be produced.

次いで、各電極に適用する金属材料、アモルファス構造を有する金属酸化物材料について説明する。   Next, a metal material applied to each electrode and a metal oxide material having an amorphous structure will be described.

(3.1.1:金属材料)
電極の形成に適用する電極材料としては、本発明の目的効果であるフレキシブル性を付与する観点から、優れた導電性を得ることができるとともに、延性及び展性に優れ、フレキシブル性の高い薄膜を形成することができる金属材料が好ましい。
(3.1.1: Metal material)
As an electrode material applied to the formation of an electrode, from the viewpoint of imparting flexibility, which is an object effect of the present invention, an excellent conductivity can be obtained, and a thin film having excellent ductility and malleability and high flexibility can be obtained. Metal materials that can be formed are preferred.

金属材料としては、金属単体であっても、合金であってもよい。このような金属材料としては、金属としては、例えば、銀、金、アルミニウム等の金属を挙げることができる。また、金属を主成分とする合金としては、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム−銅混合物、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−アルミニウム混合物、マグネシウム−インジウム混合物、銀−銅(Ag−Cu)、銀−パラジウム(Ag−Pd)、銀−パラジウム−銅(Ag−Pd−Cu)、銀−インジウム(Ag−In)などが挙げられる。   The metal material may be a single metal or an alloy. Examples of such metal materials include metals such as silver, gold, and aluminum. Examples of the metal-based alloy include sodium-potassium alloy, magnesium-copper mixture, magnesium-silver mixture, magnesium-aluminum mixture, magnesium-indium mixture, silver-copper (Ag-Cu), silver-palladium ( Ag-Pd), silver-palladium-copper (Ag-Pd-Cu), silver-indium (Ag-In), and the like.

本発明においては、金属材料が、銀又はアルミニウムであることが好ましく、さらに好ましくは銀である。   In the present invention, the metal material is preferably silver or aluminum, and more preferably silver.

金属材料より構成される透明電極の厚さとしては、2〜40nmの範囲内にあることが好ましいが、更に好ましくは厚さが4〜20nmの範囲内である。厚さが20nm以下であれば、透明陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。金属材料より構成される電極の厚さが40nmを超えると、光透過率が低下し、陰極側に適用する反射電極となる。   The thickness of the transparent electrode made of a metal material is preferably in the range of 2 to 40 nm, more preferably in the range of 4 to 20 nm. A thickness of 20 nm or less is preferable because the absorption component and reflection component of the transparent anode can be kept low and high light transmittance can be maintained. When the thickness of the electrode made of a metal material exceeds 40 nm, the light transmittance is lowered, and a reflective electrode applied to the cathode side is obtained.

〈銀電極〉
本発明においては、特に、透明性が要求される陽極を構成する構成材料の中でも、本発明に係る有機EL素子を構成する陽極としては、銀を主成分として構成し、厚さが2〜40nmの範囲内にある透明陽極であることが好ましいが、更に好ましくは厚さが4〜20nmの範囲内である。厚さが40nm以下であれば、透明陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。
<Silver electrode>
In the present invention, in particular, among the constituent materials constituting the anode that requires transparency, the anode constituting the organic EL element according to the present invention is composed mainly of silver and has a thickness of 2 to 40 nm. The transparent anode is preferably in the range of 5 to 20 nm, more preferably in the range of 4 to 20 nm. A thickness of 40 nm or less is preferable because the absorption component and reflection component of the transparent anode can be kept low and high light transmittance can be maintained.

本発明でいう銀を主成分として構成されている層とは、透明陽極中の銀の含有量が60質量%以上であることをいい、好ましくは銀の含有量が80質量%以上であり、より好ましくは銀の含有量が90質量%以上であり、特に好ましくは銀の含有量が98質量%以上である。また、本発明に係る透明陽極でいう「透明」とは、発光層により発光された光線の透過率が、50%以上であることをいう。   In the present invention, the layer composed mainly of silver means that the silver content in the transparent anode is 60% by mass or more, preferably the silver content is 80% by mass or more, More preferably, the silver content is 90% by mass or more, and particularly preferably the silver content is 98% by mass or more. Further, “transparent” in the transparent anode according to the present invention means that the transmittance of light emitted from the light emitting layer is 50% or more.

透明陽極においては、銀を主成分として構成されている層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。   The transparent anode may have a configuration in which a layer composed mainly of silver is divided into a plurality of layers as necessary.

〈下地層〉
また、本発明においては、電極を、銀を主成分として構成する場合には、形成する銀電極の均一性を高める観点から、その下部に、下地層を設けることが好ましい。下地層としては、特に制限はないが、窒素原子又は硫黄原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましく、当該下地層上に、透明な銀電極を形成する方法が好ましい態様である。
<Underlayer>
In the present invention, in the case where the electrode is composed mainly of silver, it is preferable to provide a base layer below the silver electrode from the viewpoint of improving the uniformity of the silver electrode to be formed. Although there is no restriction | limiting in particular as a base layer, It is preferable that it is a layer containing the organic compound which has a nitrogen atom or a sulfur atom, and the method of forming a transparent silver electrode on the said base layer is a preferable aspect.

下地層としては、銀と相互作用する化合物を含有した層であれば良く、当該化合物としては、ルイス塩基、すなわち非共有電子対を持っている原子を含む化合物を用いて構成されていることが好ましい。このようなルイス塩基を有する化合物として、窒素含有化合物または硫黄含有化合物が例示される。窒素含有化合物は、窒素原子(N)を含んだ化合物であれば良いが、特に非共有電子対を有する窒素原子を含む有機化合物であり、次のような化合物であることが好ましい。すなわち、下地層を構成する窒素含有化合物は、化合物に含有される窒素原子のうち、特に金属電極層11を構成する主材料である銀と安定的に結合する窒素原子の非共有電子対を[有効非共有電子対]とした場合、この[有効非共有電子対]の含有率が所定範囲であることが好ましい。   The underlayer may be a layer containing a compound that interacts with silver, and the compound may be composed of a Lewis base, that is, a compound containing an atom having an unshared electron pair. preferable. Examples of such a compound having a Lewis base include nitrogen-containing compounds and sulfur-containing compounds. The nitrogen-containing compound may be a compound containing a nitrogen atom (N), but is particularly an organic compound containing a nitrogen atom having an unshared electron pair, and is preferably the following compound. That is, the nitrogen-containing compound constituting the underlayer is a non-shared electron pair of nitrogen atoms that are stably bonded to silver, which is the main material constituting the metal electrode layer 11, among nitrogen atoms contained in the compound [ In the case of [effective unshared electron pair], the content ratio of the [effective unshared electron pair] is preferably within a predetermined range.

ここで[有効非共有電子対]とは、化合物に含有される窒素原子が有する非共有電子対のうち、芳香族性に関与せずかつ金属に配位していない非共有電子対であることとする。ここでの芳香族性とは、π電子を持つ原子が環状に並んだ不飽和環状構造を言い、いわゆる「ヒュッケル則」に従う芳香族性であって、環上のπ電子系に含まれる電子の数が「4n+2」(n=0、または自然数)個であることを条件としている。   Here, “effective unshared electron pair” means an unshared electron pair that is not involved in aromaticity and is not coordinated to a metal among the unshared electron pairs of the nitrogen atom contained in the compound. And The aromaticity here refers to an unsaturated cyclic structure in which atoms having π electrons are arranged in a ring, and is aromatic according to the so-called “Hückel's rule”. The condition is that the number is “4n + 2” (n = 0 or a natural number).

本発明に係る下地層の詳細については、例えば、特開2015−046364号公報、特開2015−060728号公報等に記載の内容を参照することができる。   For details of the foundation layer according to the present invention, for example, the contents described in JP-A-2015-046364, JP-A-2015-060728, and the like can be referred to.

本発明に係る透明電極の構成材料としては、特に、上記説明した下地層上に薄膜銀層を形成した構成であることが好ましく、さらには、光取出し側の陽極に上記の下地層を有する銀薄膜電極を適用することが好ましい構成である。   The constituent material of the transparent electrode according to the present invention is particularly preferably a structure in which a thin film silver layer is formed on the above-described underlayer, and further, silver having the above-mentioned underlayer on the anode on the light extraction side. It is a preferable configuration to apply a thin film electrode.

〈グリッド電極〉
本発明に係る金属材料により形成する電極として、均一の薄膜電極の他に、細線により形成するグリッド電極の形態で適用することもできる。
<Grid electrode>
As an electrode formed of the metal material according to the present invention, in addition to a uniform thin film electrode, it can be applied in the form of a grid electrode formed of fine wires.

グリッド電極は、導電性の金属細線から構成されている。グリッド電極の形状は、格子状に限らず、ストライプ状、ハニカム構造状、網目状等の様々な形状のグリッドを使用できる。位置によらず均一な導電性を得る観点からは、有機EL素子の全面に位置する周期的な形状のグリッドが好ましい。   The grid electrode is composed of conductive fine metal wires. The shape of the grid electrode is not limited to a lattice shape, and various shapes of grids such as a stripe shape, a honeycomb structure shape, and a mesh shape can be used. From the viewpoint of obtaining uniform conductivity regardless of the position, a grid having a periodic shape located on the entire surface of the organic EL element is preferable.

グリッド電極を構成する金属細線の線幅は、10〜200μmの範囲内であることが好ましく、細線の高さは、0.1〜10.0μmの範囲内にあることが好ましい。   The line width of the fine metal wire constituting the grid electrode is preferably in the range of 10 to 200 μm, and the height of the fine wire is preferably in the range of 0.1 to 10.0 μm.

グリッド電極の開口率は、透明性を高める観点から、80%以上であることが好ましい。開口率とは、有機EL素子の発光面積のうち、グリッド電極を形成する金属細線が配置されていない領域が占める面積の割合である。例えば、線幅が100μm、線間隔が1mmの金属細線が、ストライプ状又は格子状に形成されたグリッド電極の開口率は、約90%である。   The aperture ratio of the grid electrode is preferably 80% or more from the viewpoint of improving transparency. The aperture ratio is the ratio of the area occupied by the region where the fine metal wires forming the grid electrode are not arranged in the light emitting area of the organic EL element. For example, the aperture ratio of a grid electrode in which fine metal wires having a line width of 100 μm and a line interval of 1 mm are formed in a stripe shape or a lattice shape is about 90%.

グリッド電極を構成する金属細線に使用できる導電性の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、これらの合金等が挙げられる。低抵抗という観点からは、銀又は銅が好ましく、より好ましくは銀である。   Examples of the conductive metal material that can be used for the fine metal wires constituting the grid electrode include gold, silver, copper, iron, cobalt, nickel, chromium, and alloys thereof. From the viewpoint of low resistance, silver or copper is preferable, and silver is more preferable.

グリッド電極は、金属材料を用いた金属ナノ粒子、金属錯体等を含有する塗布液を、凸版印刷法、凹版印刷法、孔版印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット法、インクジェット平行線描画法等により所望の形状に塗布することにより、形成することができる。インクジェット平行線描画法は、塗布液を線状に塗布したときに線の中央部から端部へと塗布液が流動して端部の固形化がすすむコーヒーステイン現象を利用して、1本の線から2本の平行線を形成する方法である。   For grid electrodes, a coating solution containing metal nanoparticles using metal materials, metal complexes, etc. is desired by letterpress printing, intaglio printing, stencil printing, screen printing, ink jet, ink jet parallel line drawing, etc. It can form by apply | coating to the shape of. The ink jet parallel line drawing method uses a coffee stain phenomenon in which when the coating liquid is applied in a line shape, the coating liquid flows from the center to the end of the line and solidification of the end proceeds. This is a method of forming two parallel lines from a line.

上記グリッド電極を形成した後、その上部には、本発明の目的効果を損なわない範囲で、導電性ポリマー層を形成することができる。導電性ポリマーとしては、ポリアニオンを含有するπ共役系導電性高分子を用いることができる。   After the grid electrode is formed, a conductive polymer layer can be formed on the upper portion of the grid electrode as long as the object effects of the present invention are not impaired. As the conductive polymer, a π-conjugated conductive polymer containing a polyanion can be used.

使用できるπ共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等が挙げられる。なかでも、導電性、透明性、安定性等を高める観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。   Examples of π-conjugated conductive polymers that can be used include polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylene vinylenes, polyazulenes, polyparaphenylenes. , Polyparaphenylene sulfides, polyisothianaphthenes, polythiazyl compounds and the like. Of these, polythiophenes or polyanilines are preferable and polyethylenedioxythiophene is more preferable from the viewpoint of improving conductivity, transparency, stability, and the like.

また、グリッド電極表面に、メッキ処理を施すこともできる。   Also, the grid electrode surface can be plated.

〈金属ナノ材料含有電極〉
金属ナノ材料含有電極の形成に用いることができる金属ナノ材料としては、サイズがナノスケールの金属材料であり、形状によってナノチューブ、ナノワイヤー、ナノファイバー等とも呼ばれる。金属の種類としては、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、金(Au)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、これらの合金等が挙げられる。なかでも、銀は低抵抗で導電性が高く、所望の形状に加工しやすいことから、好ましい。
<Metal nanomaterial-containing electrode>
The metal nanomaterial that can be used to form the metal nanomaterial-containing electrode is a metal material having a nanoscale size, and is also called a nanotube, nanowire, nanofiber, or the like depending on the shape. Examples of the metal include silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), gold (Au), tungsten (W), molybdenum (Mo), and alloys thereof. Among these, silver is preferable because it has low resistance, high conductivity, and can be easily processed into a desired shape.

金属ナノ材料含有電極は、金属ナノ材料を含有する塗布液を調製して塗布することにより、形成することができる。金属ナノ材料含有電極の形成用塗布液には、金属ナノ材料を保持するためのバインダーとして、例えば、ポリビニルピロリドン等を用いることができる。   The metal nanomaterial-containing electrode can be formed by preparing and applying a coating solution containing the metal nanomaterial. In the coating solution for forming the metal nanomaterial-containing electrode, for example, polyvinylpyrrolidone or the like can be used as a binder for holding the metal nanomaterial.

また、金属ナノ材料含有電極を形成した後、その上部には、本発明の目的効果を損なわない範囲で、導電性ポリマー層を形成することができる。導電性ポリマーとしては、ポリアニオンを含有するπ共役系導電性高分子を用いることができる。   In addition, after the metal nanomaterial-containing electrode is formed, a conductive polymer layer can be formed on the upper portion within a range that does not impair the object effect of the present invention. As the conductive polymer, a π-conjugated conductive polymer containing a polyanion can be used.

使用できるπ共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等が挙げられる。なかでも、導電性、透明性、安定性等を高める観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。   Examples of π-conjugated conductive polymers that can be used include polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylene vinylenes, polyazulenes, polyparaphenylenes. , Polyparaphenylene sulfides, polyisothianaphthenes, polythiazyl compounds and the like. Of these, polythiophenes or polyanilines are preferable and polyethylenedioxythiophene is more preferable from the viewpoint of improving conductivity, transparency, stability, and the like.

(3.1.2:アモルファス構造を有する金属酸化物材料)
本発明に係る透明電極の形成において、アモルファス構造を有する金属酸化物材料を用いることを特徴の一つとする。
(3.1.2: Metal oxide material having an amorphous structure)
In forming the transparent electrode according to the present invention, one of the features is that a metal oxide material having an amorphous structure is used.

本発明に係る各電極の形成に、結晶系材料ではなく、非晶系のアモルファス構造を有する金属酸化物材料を用いることにより、電極にフレキシブル性を付与することができ、光治療時に患部の形態に合わせて折り曲げ操作を行っても、電極の破壊・断線及び短絡の発生を抑制することができる。   By using a metal oxide material having an amorphous amorphous structure instead of a crystalline material for forming each electrode according to the present invention, flexibility can be imparted to the electrode, and the form of the affected part during phototherapy Even if the bending operation is performed in accordance with the above, it is possible to suppress the destruction / disconnection of the electrode and the occurrence of a short circuit.

本発明に係るアモルファス構造を有する金属酸化物材料としては、アモルファス性を有する金属酸化物であれば特に制限はないが、好ましくは、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であり、さらに好ましくは、アモルファス酸化インジウム・スズ(a−ITO)、アモルファス酸化インジウム・亜鉛(a−IZO)、又はアモルファス酸化亜鉛(a−ZnO)である。   The metal oxide material having an amorphous structure according to the present invention is not particularly limited as long as it is an amorphous metal oxide, but is preferably an amorphous indium oxide compound, an amorphous zinc oxide compound, or amorphous tin oxide. It is a system compound, More preferably, it is amorphous indium oxide tin (a-ITO), amorphous indium oxide zinc (a-IZO), or amorphous zinc oxide (a-ZnO).

本発明でいうアモルファスとは、形成した薄膜のXRD解析(X線回折法)を行った際に、固体を構成する原子や分子等として三次元的な規則性が少なく、測定されたX線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の物質であると定義する。   The term “amorphous” as used in the present invention refers to measured X-ray diffraction with little three-dimensional regularity as atoms or molecules constituting a solid when XRD analysis (X-ray diffraction method) of the formed thin film is performed. In the spectrum, only a halo pattern is observed, and it is defined as a substance that does not show a specific diffraction line peak indicating crystallinity.

上記測定で用いることのできるXRD測定装置としては、例えば、島津製作所社製のX線回折装置 XRD−7000、XRD−6100、リガク社製X線回折装置(XRD測定装置 RINT2200、RINT−TTR2、SWRD等)等を挙げることができる。   Examples of the XRD measurement apparatus that can be used in the above measurement include X-ray diffractometers XRD-7000 and XRD-6100 manufactured by Shimadzu Corporation, X-ray diffractometers manufactured by Rigaku Corporation (XRD measurement apparatuses RINT2200, RINT-TTR2, and SWRD). Etc.).

本発明に係る電極の形成に好適に用いることができるアモルファス構造を有する金属酸化物としては、例えば、アモルファス酸化インジウム・スズ(a−ITO)、アモルファス酸化インジウム・亜鉛(a−IZO)、アモルファス酸化インジウム・ガリウム・亜鉛(a−IGZO)、アモルファス酸化亜鉛(a−ZnO)等を挙げることができる。また、アモルファス酸化亜鉛・スズ(a−ZSnO)も用いることができる。   Examples of the metal oxide having an amorphous structure that can be suitably used for forming the electrode according to the present invention include amorphous indium tin oxide (a-ITO), amorphous indium oxide zinc (a-IZO), and amorphous oxide. Examples thereof include indium / gallium / zinc (a-IGZO) and amorphous zinc oxide (a-ZnO). Amorphous zinc oxide / tin (a-ZSnO) can also be used.

本発明に係るアモルファス構造を有する金属酸化物材料により構成する電極においては、アモルファス性(非晶性)を維持できる範囲内において、その他の金属酸化物として誘電性材料又は酸化物半導体材料を用いることができる。   In an electrode composed of a metal oxide material having an amorphous structure according to the present invention, a dielectric material or an oxide semiconductor material is used as the other metal oxide within a range in which amorphousness (amorphous) can be maintained. Can do.

アモルファス層(5A)は、蒸着法又はスパッタ法により形成することができる。本発明に適用可能な蒸着法としては、抵抗加熱蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法等が含まれる。蒸着装置としては、例えば、シンクロン社製のBMC−800T蒸着機等を用いることができる。   The amorphous layer (5A) can be formed by vapor deposition or sputtering. Deposition methods applicable to the present invention include resistance heating vapor deposition, electron beam vapor deposition, ion plating, and ion beam vapor deposition. As the vapor deposition apparatus, for example, a BMC-800T vapor deposition machine manufactured by SYNCHRON, Inc. can be used.

本発明に係るスパッタ法には、2極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、DCスパッタ法、DCパルススパッタ法、RF(高周波)スパッタ法、デュアルマグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法、及び対向ターゲットスパッタ法などの、公知のスパッタ法を適宜用いることができる。また、有機導電性化合物のように塗布可能な物質、例えば、前述の導電性ポリマー等を併用する場合には、印刷方式、コーティング方式等の湿式成膜法を用いることもできる。   The sputtering method according to the present invention includes bipolar sputtering method, magnetron sputtering method, DC sputtering method, DC pulse sputtering method, RF (radio frequency) sputtering method, dual magnetron sputtering method, reactive sputtering method, ion beam sputtering method, bias A known sputtering method such as a sputtering method or a counter target sputtering method can be used as appropriate. In addition, when a substance that can be applied such as an organic conductive compound, for example, the above-described conductive polymer is used in combination, a wet film formation method such as a printing method or a coating method can be used.

(3.1.3:電極形成材料種による発光時の発熱性、放熱性)
一般に、熱伝導と電子伝導には相関があり、電流が流れやすいほど、熱も流れやすくなる。よって、電子起因の熱の流れやすさ(放熱のしやすさ)の序列としては、金属材料>アモルファス金属酸化物>>>導電性ポリマーとなる。導電性ポリマー単独で電極を形成した場合には、熱伝導率が低いため、熱が籠りやすくなり、光治療時に高温になる。これに対し、自由電子の多い金属材料やアモルファス金属酸化物では、光発光により生じた熱が飛散しやすくなり、光治療時に低温環境を維持することができる。
(3.1.3: Heat generation and heat dissipation during light emission by electrode forming material type)
Generally, there is a correlation between heat conduction and electron conduction, and the easier the current flows, the easier the heat flows. Therefore, the order of the ease of heat flow due to electrons (ease of heat dissipation) is metal material> amorphous metal oxide >> conductive polymer. When an electrode is formed of a conductive polymer alone, the heat conductivity is low, so that heat is easily generated and the temperature becomes high during phototherapy. On the other hand, in a metal material or amorphous metal oxide with many free electrons, heat generated by light emission is easily scattered, and a low temperature environment can be maintained during phototherapy.

次いで、上記説明した各電極を除く有機EL素子の各構成材料について、その詳細を説明する。   Next, details of each constituent material of the organic EL element excluding the above-described electrodes will be described.

〔3.2:フレキシブル基材〕
有機EL素子(OLED)に適用可能なフレキシブル基材(1)としては、特に制限はなく、例えば、ガラス、プラスチック等の種類を挙げることができる。本発明でいうフレキシブルとは、直径5mmのABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエンースチレン共重合体樹脂)製の棒に10回巻きつけと開放を繰り返した後、目視確認で基材に割れや欠け等の損傷がない特性をいう。
[3.2: Flexible base material]
There is no restriction | limiting in particular as a flexible base material (1) applicable to an organic EL element (OLED), For example, types, such as glass and a plastic, can be mentioned. The term “flexible” as used in the present invention means that the substrate is cracked or chipped by visual inspection after being repeatedly wound and released 10 times around a rod made of ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin) having a diameter of 5 mm. A characteristic that is not damaged.

本発明において、光放射面側(光取出し面)に配置されるフレキシブル基材(1)は、有機EL素子により照射される光を、治療する患部に照射するため、400〜2000nmの波長域で光透過性を有していることが必要である。本発明でいう光透過性とは、フレキシブル基材(1)としては、400〜2000nmの波長域における透過率が50%以上であることをいい、好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。   In the present invention, the flexible base material (1) arranged on the light emitting surface side (light extraction surface) irradiates the affected area to be treated with the light irradiated by the organic EL element, and therefore, in the wavelength range of 400 to 2000 nm. It is necessary to have optical transparency. The light transmittance in the present invention means that the flexible substrate (1) has a transmittance in the wavelength region of 400 to 2000 nm of 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more. Particularly preferably, it is 90% or more.

すなわち、本発明においては、各図で示すように、フレキシブル基材(1)側から光(L)を取り出す構成では、フレキシブル基材(1)は透明材料であることが必要となり、好ましく用いられる透明なフレキシブル基材(1)としては、ガラス、石英、樹脂基材を挙げることができる。更に好ましくは、有機EL素子にフレキシブル性を付与することができ、かつ安全性の観点から樹脂基材である。   That is, in this invention, as shown in each figure, in the structure which takes out light (L) from the flexible base material (1) side, a flexible base material (1) needs to be a transparent material, and is used preferably. Examples of the transparent flexible substrate (1) include glass, quartz and resin substrates. More preferably, it is a resin base material from the viewpoint of safety, which can impart flexibility to the organic EL element.

本発明に適用可能な樹脂基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(略称:PET)、ポリエチレンナフタレート(略称:PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(略称:TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(略称:CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート(略称:PC)、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(略称:PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン(商品名、JSR社製)及びアペル(商品名、三井化学社製)等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。   Examples of the resin base material applicable to the present invention include polyesters such as polyethylene terephthalate (abbreviation: PET) and polyethylene naphthalate (abbreviation: PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, and cellulose triacetate (abbreviation: TAC). ), Cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose esters such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate and their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene , Polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone ( Name: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyether imide, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethyl methacrylate, acrylic and polyarylates, Arton (trade name, manufactured by JSR) and Appel (product) Name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and the like.

これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート(略称:PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(略称:PEN)、ポリカーボネート(略称:PC)等のフィルムが可撓性の樹脂基材として好ましく用いられる。   Among these resin substrates, films such as polyethylene terephthalate (abbreviation: PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (abbreviation: PEN), polycarbonate (abbreviation: PC) are flexible in terms of cost and availability. It is preferably used as a resin base material.

また、フレキシブル基材は、必要に応じて、表面活性化処理が施されていてもよいし、下地層、ガスバリアー層、ハードコート層等の各機能層が設けられていてもよい。   In addition, the flexible substrate may be subjected to a surface activation treatment as necessary, or may be provided with each functional layer such as a base layer, a gas barrier layer, and a hard coat layer.

表面活性化処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等が挙げられる。   Examples of the surface activation treatment include corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, and laser treatment.

また、ガスバリアー層としては、従来公知の方法により形成することができる。例えば、繰り返し構造中にケイ素と酸素(Si−O)、ケイ素と窒素(Si−N)等の結合を有するケイ素含有ポリマーの膜を改質処理することによって形成する方法や、ハーヒドロポリシラザン等を用い、プラズマCVD法等により形成する方法を挙げることができる。   The gas barrier layer can be formed by a conventionally known method. For example, a method of forming by modifying a film of a silicon-containing polymer having a bond of silicon and oxygen (Si-O), silicon and nitrogen (Si-N), etc. in a repetitive structure, herhydropolysilazane, etc. And a method of forming by a plasma CVD method or the like.

下地層及びハードコート層の材料としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等が挙げられ、なかでも紫外線硬化型樹脂を好ましく使用できる。下地層は単層でもよいが、多層構造であると密着性がより向上する。   Examples of the material for the underlayer and the hard coat layer include polyester, polyamide, polyurethane, vinyl copolymer, butadiene copolymer, acrylic copolymer, vinylidene copolymer, epoxy copolymer, and the like. Of these, ultraviolet curable resins can be preferably used. The underlayer may be a single layer, but the adhesiveness is further improved when it has a multilayer structure.

樹脂基材の厚さとしては、10〜500μmの範囲内にある薄膜の樹脂基材であることが好ましいが、より好ましくは30〜400μmの範囲内であり、特に好ましくは、50〜300μmの範囲内である。厚さが10μmであれば、有機EL素子を安定して保持することができ、厚さが500μm以下であれば、光治療時に発生する熱エネルギーを効率的に拡散させることができ、また、患者が衣服を着用したままでも肌に密着させることができる。   The thickness of the resin substrate is preferably a thin resin substrate in the range of 10 to 500 μm, more preferably in the range of 30 to 400 μm, and particularly preferably in the range of 50 to 300 μm. Is within. If the thickness is 10 μm, the organic EL element can be stably held, and if the thickness is 500 μm or less, the thermal energy generated during phototherapy can be efficiently diffused, and the patient Can adhere to the skin even while wearing clothes.

また、本発明に係るフレキシブル基材(1)として適用可能な薄板フレキシブルガラスは、湾曲できるほど薄くしたガラス板である。薄板フレキシブルガラスの厚さは、薄板フレキシブルガラスがフレキシブル性を示す範囲で適宜設定できる。   Moreover, the thin plate flexible glass applicable as the flexible base material (1) according to the present invention is a glass plate that is thin enough to be bent. The thickness of the thin flexible glass can be appropriately set within the range where the thin flexible glass exhibits flexibility.

薄板フレキシブルガラスとしては、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。薄板フレキシブルガラスの厚さとしては、例えば、10〜500μmの範囲であり、好ましくは50〜300μmの範囲である。   Examples of the thin flexible glass include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. As thickness of thin plate flexible glass, it is the range of 10-500 micrometers, for example, Preferably it is the range of 50-300 micrometers.

〔3.3:発光層〕
有機EL素子(OLED)を構成する発光層(23)は、発光材料としてリン光発光化合物、あるいは蛍光性化合物を用いることができるが、本発明においては、特に、発光材料としてリン光発光化合物が含有されている構成が好ましい。
[3.3: Light-emitting layer]
In the light emitting layer (23) constituting the organic EL element (OLED), a phosphorescent light emitting compound or a fluorescent compound can be used as the light emitting material. In the present invention, in particular, a phosphorescent light emitting compound is used as the light emitting material. The contained structure is preferable.

この発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接する層との界面であってもよい。   This light emitting layer is a layer that emits light by recombination of electrons injected from the electrode or the electron transport layer and holes injected from the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. Alternatively, it may be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.

このような発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。   Such a light emitting layer is not particularly limited in its configuration as long as the contained light emitting material satisfies the light emission requirements. Moreover, there may be a plurality of layers having the same emission spectrum and emission maximum wavelength. In this case, it is preferable to have a non-light emitting intermediate layer between the light emitting layers.

発光層の厚さの総和は、1〜100nmの範囲内にあることが好ましく、より低い駆動電圧を得ることができることから1〜30nmの範囲内がさらに好ましい。なお、発光層の厚さの総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む厚さである。   The total thickness of the light emitting layers is preferably in the range of 1 to 100 nm, and more preferably in the range of 1 to 30 nm because a lower driving voltage can be obtained. In addition, the sum total of the thickness of a light emitting layer is the thickness also including the said intermediate | middle layer, when a nonluminous intermediate | middle layer exists between light emitting layers.

以上のような発光層は、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(ラングミュア・ブロジェット、Langmuir Blodgett法)及びインクジェット法等の公知の方法により形成することができる。   For the light emitting layer as described above, a light emitting material and a host compound to be described later may be used by publicly known methods such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method (Langmuir-Blodget, Langmuir Broadgett method), and an ink jet method. Can be formed.

また、発光層は、複数の発光材料を混合してもよく、リン光発光材料と蛍光発光材料(蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう)とを同一発光層中に混合して用いてもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物(発光ホスト等ともいう)及び発光材料(発光ドーパント化合物ともいう。)を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。   The light-emitting layer may be a mixture of a plurality of light-emitting materials, or a phosphorescent light-emitting material and a fluorescent light-emitting material (also referred to as a fluorescent dopant or a fluorescent compound) may be mixed and used in the same light-emitting layer. The structure of the light-emitting layer preferably includes a host compound (also referred to as a light-emitting host) and a light-emitting material (also referred to as a light-emitting dopant compound), and emits light from the light-emitting material.

(3.3.1:ホスト化合物)
発光層に含有されるホスト化合物としては、室温(25℃)におけるリン光発光のリン光量子収率が0.1未満の化合物が好ましい。さらにリン光量子収率が0.01未満であることが好ましい。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が50%以上であることが好ましい。
(3.3.1: Host compound)
As the host compound contained in the light emitting layer, a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of less than 0.1 is preferable. Further, the phosphorescence quantum yield is preferably less than 0.01. Moreover, it is preferable that the volume ratio in the layer is 50% or more among the compounds contained in a light emitting layer.

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、あるいは、複数種のホスト化合物を用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機電界発光素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。   As the host compound, a known host compound may be used alone, or a plurality of types of host compounds may be used. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the efficiency of the organic electroluminescent device can be improved. In addition, by using a plurality of kinds of light emitting materials described later, it is possible to mix different light emission, thereby obtaining an arbitrary light emission color.

発光層に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。   The host compound used in the light emitting layer may be a conventionally known low molecular compound or a high molecular compound having a repeating unit, and a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host). )

本発明に適用可能なホスト化合物としては、例えば、特開2001−257076号公報、同2001−357977号公報、同2002−8860号公報、同2002−43056号公報、同2002−105445号公報、同2002−352957号公報、同2002−231453号公報、同2002−234888号公報、同2002−260861号公報、同2002−305083号公報、米国特許出願公開第2005/0112407号明細書、米国特許出願公開第2009/0030202号明細書、国際公開第2001/039234号、国際公開第2008/056746号、国際公開第2005/089025号、国際公開第2007/063754号、国際公開第2005/030900号、国際公開第2009/086028号、国際公開第2012/023947号、特開2007−254297号公報、欧州特許第2034538号明細書等に記載されている化合物を挙げることができる。   Examples of the host compound applicable to the present invention include, for example, JP-A Nos. 2001-257076, 2001-357777, 2002-8860, 2002-43056, 2002-105445, 2002-352957, 2002-231453, 2002-234888, 2002-260861, 2002-305083, US Patent Application Publication No. 2005/0112407, US Patent Application Publication No. 2009/0030202, International Publication No. 2001/039234, International Publication No. 2008/056746, International Publication No. 2005/089025, International Publication No. 2007/063754, International Publication No. 2005/030900, International Publication 2009 No. 086028, WO 2012/023947, can be mentioned JP 2007-254297, JP-European compounds described in Japanese Patent No. 2034538 Pat like.

(3.3.2:発光材料)
本発明で用いることのできる発光材料としては、リン光発光性化合物(リン光性化合物、リン光発光材料又はリン光発光ドーパントともいう。)及び蛍光発光性化合物(蛍光性化合物又は蛍光発光材料ともいう。)が挙げられるが、特に、リン光発光性化合物を用いることが、高い発光効率を得ることができる観点から好ましい。
(3.3.2: Luminescent material)
As the light-emitting material that can be used in the present invention, a phosphorescent compound (also referred to as a phosphorescent compound, a phosphorescent material, or a phosphorescent dopant) and a fluorescent compound (both a fluorescent compound or a fluorescent material) are used. In particular, it is preferable to use a phosphorescent compound from the viewpoint of obtaining high luminous efficiency.

〈リン光発光性化合物〉
リン光発光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。
<Phosphorescent compound>
A phosphorescent compound is a compound in which light emission from an excited triplet is observed. Specifically, it is a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.), and the phosphorescence quantum yield is 0 at 25 ° C. A preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more, although it is defined as 0.01 or more compounds.

上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光性化合物を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として0.01以上が達成されればよい。   The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of Experimental Chemistry Course 4 of the 4th edition. The phosphorescence quantum yield in the solution can be measured using various solvents, but when using a phosphorescent compound in the present invention, the phosphorescence quantum yield is 0.01 or more in any solvent. Should be achieved.

リン光発光性化合物は、一般的な有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物(白金錯体系化合物)又は希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent compound can be appropriately selected from known compounds used for the light emitting layer of a general organic EL device, but preferably contains a group 8-10 metal in the periodic table of elements. More preferred are iridium compounds, more preferred are iridium compounds, osmium compounds, platinum compounds (platinum complex compounds) or rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.

本発明においては、少なくとも一つの発光層が、二種以上のリン光発光性化合物が含有されていてもよく、発光層におけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層の厚さ方向で変化している態様であってもよい。   In the present invention, at least one light emitting layer may contain two or more phosphorescent compounds, and the concentration ratio of the phosphorescent compound in the light emitting layer varies in the thickness direction of the light emitting layer. It may be an embodiment.

本発明に使用できる公知のリン光発光性化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。   Specific examples of known phosphorescent compounds that can be used in the present invention include compounds described in the following documents.

Nature 395,151(1998)、Appl.Phys.Lett.78, 1622(2001)、Adv.Mater.19,739(2007)、Chem.Mater.17,3532(2005)、Adv.Mater.17,1059(2005)、国際公開第2009/100991号、国際公開第2008/101842号、国際公開第2003/040257号、米国特許出願公開第2006/835469号明細書、米国特許出願公開第2006/0202194号明細書、米国特許出願公開第2007/0087321号明細書、米国特許出願公開第2005/0244673号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。   Nature 395, 151 (1998), Appl. Phys. Lett. 78, 1622 (2001), Adv. Mater. 19, 739 (2007), Chem. Mater. 17, 3532 (2005), Adv. Mater. 17, 1059 (2005), International Publication No. 2009/100991, International Publication No. 2008/101842, International Publication No. 2003/040257, US Patent Application Publication No. 2006/835469, US Patent Application Publication No. 2006 /. Examples thereof include compounds described in US Patent No. 0202194, US Patent Application Publication No. 2007/0087321, US Patent Application Publication No. 2005/0244673, and the like.

また、Inorg.Chem.40,1704(2001)、Chem.Mater.16,2480(2004)、Adv.Mater.16,2003(2004)、Angew.Chem.lnt.Ed.2006,45,7800、Appl.Phys.Lett.86,153505(2005)、Chem.Lett.34,592(2005)、Chem.Commun.2906(2005)、Inorg.Chem.42,1248(2003)、国際公開第2009/050290号、国際公開第2009/000673号、米国特許第7332232号明細書、米国特許出願公開第2009/0039776号、米国特許第6687266号明細書、米国特許出願公開第2006/0008670号明細書、米国特許出願公開第2008/0015355号明細書、米国特許第7396598号明細書、米国特許出願公開第2003/0138657号明細書、米国特許第7090928号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。   Inorg. Chem. 40, 1704 (2001), Chem. Mater. 16, 2480 (2004), Adv. Mater. 16, 2003 (2004), Angew. Chem. lnt. Ed. 2006, 45, 7800, Appl. Phys. Lett. 86, 153505 (2005), Chem. Lett. 34, 592 (2005), Chem. Commun. 2906 (2005), Inorg. Chem. 42, 1248 (2003), International Publication No. 2009/050290, International Publication No. 2009/000673, US Pat. No. 7,332,232, US Patent Application Publication No. 2009/0039776, US Pat. No. 6,687,266, US Patent Application Publication No. 2006/0008670, US Patent Application Publication No. 2008/0015355, US Pat. No. 7,396,598, US Patent Application Publication No. 2003/0138667, US Pat. No. 7090928 And the like.

また、Angew.Chem.lnt.Ed.47,1(2008)、Chem.Mater.18,5119(2006)、Inorg.Chem.46,4308(2007)、Organometallics 23,3745(2004)、Appl.Phys.Lett.74,1361(1999)、国際公開第2006/056418号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2005/123873号、国際公開第2006/082742号、米国特許出願公開第2005/0260441号明細書、米国特許第7534505号明細書、米国特許出願公開第2007/0190359号明細書、米国特許第7338722号明細書、米国特許第7279704号明細書、米国特許出願公開第2006/103874号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。   Also, Angew. Chem. lnt. Ed. 47, 1 (2008), Chem. Mater. 18, 5119 (2006), Inorg. Chem. 46, 4308 (2007), Organometallics 23, 3745 (2004), Appl. Phys. Lett. 74, 1361 (1999), International Publication No. 2006/056418, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2005/123873, International Publication No. 2006/082742, US Patent Application Publication No. 2005/0260441. U.S. Pat. No. 7,534,505, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0190359, U.S. Pat. No. 7,338,722, U.S. Pat. No. 7,279,704, U.S. Patent Application Publication No. 2006/103874, etc. Mention may also be made of the compounds described.

さらには、国際公開第2005/076380号、国際公開第2008/140115号、国際公開第2011/134013号、国際公開第2010/086089号、国際公開第2012/020327号、国際公開第2011/051404号、国際公開第2011/073149号、特開2009−114086号公報、特開2003−81988号公報、特開2002−363552号公報等に記載の化合物も挙げることができる。   Furthermore, International Publication No. 2005/076380, International Publication No. 2008/140115, International Publication No. 2011/134013, International Publication No. 2010/086089, International Publication No. 2012/020327, International Publication No. 2011/051404. Further, compounds described in International Publication No. 2011/073149, JP2009-114086, JP2003-81988, JP2002-363552, and the like can also be mentioned.

本発明においては、好ましいリン光発光性化合物としてはIrを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも1つの配位様式を含む錯体が好ましい。   In the present invention, preferred phosphorescent compounds include organometallic complexes having Ir as a central metal. More preferably, a complex containing at least one coordination mode of a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond, or a metal-sulfur bond is preferable.

上記説明したリン光発光性化合物(リン光発光性金属錯体ともいう)は、例えば、Organic Letter誌、vol3、No.16、2579〜2581頁(2001)、Inorganic Chemistry,第30巻、第8号、1685〜1687頁(1991年)、J.Am.Chem.Soc.,123巻、4304頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第40巻、第7号、1704〜1711頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第41巻、第12号、3055〜3066頁(2002年)、New Journal of Chemistry.,第26巻、1171頁(2002年)、European Journal of Organic Chemistry,第4巻、695〜709頁(2004年)、さらにこれらの文献中に記載されている参考文献等に開示されている方法を適用することにより合成することができる。   The phosphorescent compound described above (also referred to as a phosphorescent metal complex) is described in, for example, Organic Letter, vol. 16, 2579-2581 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 30, No. 8, 1685-1687 (1991), J. Am. Am. Chem. Soc. , 123, 4304 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 40, No. 7, 1704-1711 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 41, No. 12, 3055-3066 (2002) , New Journal of Chemistry. 26, 1171 (2002), European Journal of Organic Chemistry, 4, 695-709 (2004), and methods disclosed in the references described in these documents. Can be synthesized.

〈蛍光発光性化合物〉
蛍光発光性化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
<Fluorescent compound>
Fluorescent compounds include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes, stilbene dyes. And dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.

〔3.4:有機機能層〕
次いで、有機機能層ユニットを構成する各層について、電荷注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び阻止層の順に説明する。
[3.4: Organic functional layer]
Next, each layer constituting the organic functional layer unit will be described in the order of a charge injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and a blocking layer.

(3.4.1:電荷注入層)
電荷注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)にその詳細が記載されており、正孔注入層(HIL)と電子注入層(EIL)とがある。
(3.4.1: Charge injection layer)
The charge injection layer is a layer provided between the electrode and the light emitting layer in order to lower the driving voltage and improve the light emission luminance. “The organic EL element and its industrialization front line (November 30, 1998, NT. The details are described in Chapter 2, “Electrode Material” (pages 123 to 166) of the second edition of “S. Co., Ltd.”, and there are a hole injection layer (HIL) and an electron injection layer (EIL).

電荷注入層としては、一般には、正孔注入層であれば、陽極と発光層又は正孔輸送層との間、電子注入層であれば陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させることができるが、本発明においては、透明電極に隣接して電荷注入層を配置させることを特徴とする。また、中間電極で用いられる場合は、隣接する電子注入層及び正孔注入層の少なくとも一方が、本発明の要件を満たしていれば良い。   In general, the charge injection layer is present between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer in the case of a hole injection layer, and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer in the case of an electron injection layer. However, the present invention is characterized in that the charge injection layer is disposed adjacent to the transparent electrode. When used in an intermediate electrode, it is sufficient that at least one of the adjacent electron injection layer and hole injection layer satisfies the requirements of the present invention.

正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、透明電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されている。   The hole injection layer is a layer disposed adjacent to the anode, which is a transparent electrode, in order to lower the driving voltage and improve the luminance of light emission. “The organic EL element and its industrialization front line (November 30, 1998 (Issued by TS Co., Ltd.) ”, Chapter 2“ Electrode Materials ”(pages 123 to 166) in the second volume.

正孔注入層は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、それらの化合物を正孔注入層に用いることができる。   The details of the hole injection layer are described in JP-A-9-45479, 9-260062, 8-28869, etc., and these compounds can be used for the hole injection layer. it can.

また、特表2003−519432号公報や特開2006−135145号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。   In addition, hexaazatriphenylene derivatives such as those described in JP-A-2003-519432 and JP-A-2006-135145 can also be used as a hole transport material.

電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る透明電極で構成されている場合には、当該透明電極に隣接して設けられ、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されている。   The electron injection layer is a layer provided between the cathode and the light emitting layer for lowering the driving voltage and improving the light emission luminance. When the cathode is composed of the transparent electrode according to the present invention, Chapter 2 “Electrode materials” (pages 123-166) of the second edition of “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (published on November 30, 1998 by NTT) ) Is described in detail.

電子注入層は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、これらに記載されている材料を、電子注入層に好ましく用いることができる。電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は1nm〜10μmの範囲が好ましい。   The details of the electron injection layer are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. It can be preferably used. The electron injection layer is desirably a very thin film, and although depending on the constituent material, the layer thickness is preferably in the range of 1 nm to 10 μm.

(3.4.2:正孔輸送層)
正孔輸送層(HTL)とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
(3.4.2: Hole transport layer)
The hole transport layer (HTL) is made of a hole transport material having a function of transporting holes. In a broad sense, the hole injection layer and the electron blocking layer also have a function of a hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。   The hole transport material has any of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic.

正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。   As the hole transport material, those described above can be used, but porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds can be used, and in particular, aromatic tertiary amine compounds can be used. preferable.

正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びLB法(ラングミュア・ブロジェット、Langmuir Blodgett法)等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmの範囲である。この正孔輸送層は、上記材料の一種又は二種以上からなる一層構造であってもよい。   For the hole transport layer, known methods such as vacuum deposition, spin coating, casting, printing including ink jet, and LB (Langmuir Brodget, Langmuir Broadgett) are used as the hole transport material. Thus, it can be formed by thinning. Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of a positive hole transport layer, Usually, about 5 nm-5 micrometers, Preferably it is the range of 5-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、p性を高くすることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報及びJ.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   Moreover, p property can also be made high by doping the material of a positive hole transport layer with an impurity. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175 and J.P. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

このように、正孔輸送層のp性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。   Thus, it is preferable to increase the p property of the hole transport layer because an element with lower power consumption can be manufactured.

(3.4.3:電子輸送層)
電子輸送層(ETL)は、電子を輸送する機能を有する材料から構成され、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
(3.4.3: Electron transport layer)
The electron transport layer (ETL) is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer structure or a stacked structure of a plurality of layers.

単層構造の電子輸送層及び積層構造の電子輸送層において、発光層に隣接する層部分を構成する電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、カソードより注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれば良い。このような材料としては、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層の材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した高分子材料又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。   In the electron transport layer having a single-layer structure and the electron transport layer having a multilayer structure, an electron transport material (also serving as a hole blocking material) constituting a layer portion adjacent to the light emitting layer is used as an electron transporting material. What is necessary is just to have the function to transmit. As such a material, any one of conventionally known compounds can be selected and used. Examples include nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane, anthrone derivatives, and oxadiazole derivatives. Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron-withdrawing group can also be used as a material for the electron transport layer. it can. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain, or a polymer material having these materials as a polymer main chain can also be used.

また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(略称:Znq)等及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送層の材料として用いることができる。 In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8- Quinolinol) aluminum, tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (abbreviation: Znq), etc. and the central metal of these metal complexes A metal complex replaced with In, Mg, Cu, Ca, Sn, Ga, or Pb can also be used as a material for the electron transport layer.

電子輸送層は、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びLB法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができる。電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmの範囲内である。電子輸送層は上記材料の一種又は二種以上からなる単一構造であってもよい。   The electron transport layer can be formed by thinning the above material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an inkjet method, and an LB method. Although there is no restriction | limiting in particular about the layer thickness of an electron carrying layer, Usually, about 5 nm-5 micrometers, Preferably it exists in the range of 5-200 nm. The electron transport layer may have a single structure composed of one or more of the above materials.

(3.4.4:阻止層)
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明した有機機能層ユニット3の各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層等を挙げることができる。
(3.4.4: blocking layer)
The blocking layer includes a hole blocking layer and an electron blocking layer, and is a layer provided as necessary in addition to the constituent layers of the organic functional layer unit 3 described above. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). Hole blocking (hole block) layer and the like.

正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。   The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense. The hole blocking layer is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons but has a very small ability to transport holes, and recombines electrons and holes by blocking holes while transporting electrons. Probability can be improved. Moreover, the structure of an electron carrying layer can be used as a hole-blocking layer as needed. The hole blocking layer is preferably provided adjacent to the light emitting layer.

一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは3〜100nmの範囲であり、さらに好ましくは5〜30nmの範囲である。   On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense. The electron blocking layer is made of a material that has the ability to transport holes and has a very small ability to transport electrons. By blocking holes while transporting holes, the probability of recombination of electrons and holes is improved. Can be made. Moreover, the structure of a positive hole transport layer can be used as an electron blocking layer as needed. The layer thickness of the hole blocking layer applied to the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, more preferably in the range of 5 to 30 nm.

〔3.5:封止部材〕
有機EL素子を封止するのに用いられる封止手段としては、例えば、フレキシブル封止部材と、陰極及び透明基材とを封止用接着剤で接着する方法を挙げることができる。
[3.5: Sealing member]
Examples of the sealing means used for sealing the organic EL element include a method in which a flexible sealing member, a cathode, and a transparent base material are bonded with a sealing adhesive.

封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また透明性及び電気絶縁性は特に限定されない。   As a sealing member, it should just be arrange | positioned so that the display area | region of an organic EL element may be covered, and it may be concave plate shape or flat plate shape. Further, transparency and electrical insulation are not particularly limited.

具体的には、フレキシブル性を備えた薄膜ガラス板、ポリマー板、フィルム、金属フィルム(金属箔)等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属フィルムとしては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属又は合金が挙げられる。   Specifically, a thin film glass plate, a polymer plate, a film, a metal film (metal foil) having flexibility, and the like can be given. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal film include one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.

本発明においては、封止部材としては、有機EL素子を薄膜化することできる観点から、ポリマーフィルム及び金属フィルムを好ましく使用することができる。さらに、ポリマーフィルムは、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された温度25±0.5℃、相対湿度90±2%RHにおける水蒸気透過度が、1×10−3g/m・24h以下であることが好ましく、さらには、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、1×10−3ml/m・24h・atm(1atmは、1.01325×10Paである)以下であって、温度25±0.5℃、相対湿度90±2%RHにおける水蒸気透過度が、1×10−3g/m・24h以下であることが好ましい。 In the present invention, as the sealing member, a polymer film and a metal film can be preferably used from the viewpoint that the organic EL element can be thinned. Further, the polymer film has a water vapor transmission rate of 1 × 10 −3 g / m 2 .multidot.m at a temperature of 25 ± 0.5 ° C. and a relative humidity of 90 ± 2% RH measured by a method according to JIS K 7129-1992. The oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1987 is preferably 1 × 10 −3 ml / m 2 · 24 h · atm (1 atm is 1.01325 × 10 5 a Pa) equal to or lower than a temperature of 25 ± 0.5 ° C., water vapor permeability at a relative humidity of 90 ± 2% RH is preferably not more than 1 × 10 -3 g / m 2 · 24h.

封止部材と有機EL素子の表示領域(発光領域)との間隙には、気相及び液相では窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することもできる。また、封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙を真空とすることや、間隙に吸湿性化合物を封入することもできる。   In the gap between the sealing member and the display area (light emitting area) of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorocarbon or silicon oil is injected in the gas phase and liquid phase. You can also Further, the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element can be evacuated, or a hygroscopic compound can be sealed in the gap.

また、有機EL素子における発光機能層ユニットを完全に覆い、かつ有機EL素子における第1電極である陽極(3)と、第2電極である陰極(6)の端子部分を露出させる状態で、透明基材上に封止膜を設けることもできる。   Further, the organic EL element is transparent in a state that completely covers the light emitting functional layer unit and exposes the terminal portions of the anode (3) as the first electrode and the cathode (6) as the second electrode in the organic EL element. A sealing film can also be provided on the substrate.

以上のような封止材は、有機EL素子における第1電極である陽極(3)と、第2電極である陰極(6)の端子部分を露出させると共に、少なくとも発光機能層を覆う状態で設けられている。   The sealing material as described above is provided in a state in which the terminal portions of the anode (3) as the first electrode and the cathode (6) as the second electrode in the organic EL element are exposed and at least the light emitting functional layer is covered. It has been.

[4.有機EL素子の構成例]
次いで、本発明に係る有機EL素子の構成例について、先に図2及び図3を用いて説明した実施態様1を除く構成について、図を交えて説明する。
[4. Configuration example of organic EL element]
Next, regarding the configuration example of the organic EL element according to the present invention, the configuration excluding Embodiment 1 described above with reference to FIGS. 2 and 3 will be described with reference to the drawings.

〔4.1:有機EL素子の構成例2(実施態様2)〕
図4は、1つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の他の一例(実施態様2)を示す概略断面図で、前記「2.有機EL素子の代表的な構成」に記載の構成(2)として例示した、フレキシブル基材/下地層/陽極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット〔有機機能層群1/発光層/有機機能層群2〕/陰極/封止部材の構成を示してある。
[4.1 Configuration Example 2 of Organic EL Element (Embodiment 2)]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example (embodiment 2) of the configuration of the organic EL element having one organic functional layer unit, and the configuration described in “2. Typical configuration of organic EL element”. (2), flexible substrate / underlayer / anode (eg, silver thin film electrode) / organic functional layer unit [organic functional layer group 1 / light emitting layer / organic functional layer group 2] / cathode / sealing member The configuration is shown.

図4で示す有機EL素子(OLED)では、前記図2で説明した構成に対し、透明電極である陽極(3)を銀薄膜電極で形成し、その下部に、銀原子を均一に配置するための下地層(7)を設けた構成である。   In the organic EL element (OLED) shown in FIG. 4, the anode (3), which is a transparent electrode, is formed of a silver thin film electrode, and silver atoms are uniformly arranged below the anode described in FIG. The underlayer (7) is provided.

このような構成においては、透明電極である陽極(3)が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であり、陰極は光不透過性の材料で構成されている。すなわち、光取出し側である陽極(3)が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。   In such a configuration, the anode (3) which is a transparent electrode has a configuration containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and the cathode is made of a light-impermeable material. That is, when the anode (3) on the light extraction side is a transparent electrode having a structure containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, high light transmittance and excellent flexibility of the electrode can be obtained. From the viewpoint of being able to.

〔4.2:有機EL素子の構成例3(実施態様3)〕
図5は、2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の一例(実施態様3)を示す概略断面図で、前記「2.有機EL素子の代表的な構成」で記載の構成(3)として例示した、フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/中間電極/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材の構成を示してある。
[4.2: Configuration Example 3 of Organic EL Element (Embodiment 3)]
FIG. 5 is a schematic sectional view showing an example (embodiment 3) of a configuration of an organic EL element having two organic functional layer units, and the configuration described in “2. Typical configuration of organic EL element” (3 ), Flexible substrate / anode / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / intermediate electrode / organic functional layer unit 2 [organic functional layer group 1B / light emitting Layer B / Organic Functional Layer Group 2B] / Cathode / Sealing Member Configuration.

図5においては、有機EL素子(OLED)は、フレキシブル基板(1)上に、対向する位置で第1電極(3)と第2電極(6)が配置されている。図5に記載の構成では、第1電極(3)が透明電極である陽極であり、第2電極(6)が陰極のケースを示してある。   In FIG. 5, the organic EL element (OLED) has the first electrode (3) and the second electrode (6) arranged on the flexible substrate (1) at positions facing each other. In the configuration shown in FIG. 5, the first electrode (3) is an anode that is a transparent electrode, and the second electrode (6) is a cathode.

第1電極(3、陽極)と、第2電極(6、陰極)との間には、発光層を含む有機機能層から構成される第1の有機機能層ユニット(4−A)と第2の有機機能層ユニット(4−B)とが挟持され、各有機機能層ユニット間に、独立した接続端子(不図示)を有している中間電極(5)が配置されている。   Between the 1st electrode (3, anode) and the 2nd electrode (6, cathode), the 1st organic functional layer unit (4-A) comprised from the organic functional layer containing a luminescent layer and the 2nd The organic functional layer unit (4-B) is sandwiched, and an intermediate electrode (5) having an independent connection terminal (not shown) is disposed between the organic functional layer units.

それぞれ、陽極(3)と中間電極(5)間は、リード線(11−A)で配線され、それぞれの接続端子に駆動電圧V1として2〜40V程度を印加することにより、第1の有機機能層ユニット(4−A)が発光する。同様に、中間電極(5)と陰極(6)間も、リード線(11−B)で配線され、それぞれの接続端子に駆動電圧V2として2〜40V程度を印加することにより、有機機能層ユニット(4−B)が発光する。   Each of the anode (3) and the intermediate electrode (5) is wired with a lead wire (11-A), and by applying about 2 to 40 V as a drive voltage V1 to each connection terminal, the first organic function The layer unit (4-A) emits light. Similarly, between the intermediate electrode (5) and the cathode (6) is wired with a lead wire (11-B), and an organic functional layer unit is applied by applying about 2 to 40 V as a driving voltage V2 to each connection terminal. (4-B) emits light.

具体的には、有機EL素子(OLED)の駆動に際し、陽極(3)と中間電極(5)間に印加する駆動電圧V1、中間電極(5)と陰極(6)間に印加する駆動電圧V2は、直流電圧を印加する場合には、陽極(3)を+の極性とし、陰極(6)を−の極性として、電圧2〜40Vの範囲内で印加し、さらに中間電極(5)に対しては陽極と陰極との中間電圧を印加する。   Specifically, when driving the organic EL element (OLED), a driving voltage V1 applied between the anode (3) and the intermediate electrode (5), and a driving voltage V2 applied between the intermediate electrode (5) and the cathode (6). When a DC voltage is applied, the anode (3) is applied with a positive polarity, the cathode (6) is applied with a negative polarity, and is applied within a voltage range of 2 to 40 V, and further to the intermediate electrode (5). In this case, an intermediate voltage between the anode and the cathode is applied.

それぞれの有機機能層ユニットの発光点(h)で発光した発光光(L)は、透明電極である陽極(3)側より、外部に取り出される。また、陰極(6)側に発光した光は、反射電極である陰極(6)面で反射し、同様に陽極(3)側より取り出される構成である。   The emitted light (L) emitted from the light emitting point (h) of each organic functional layer unit is taken out from the anode (3) side which is a transparent electrode. The light emitted to the cathode (6) side is reflected by the surface of the cathode (6), which is a reflective electrode, and is similarly extracted from the anode (3) side.

このような構成においては、陽極(3)又は中間電極(5)が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、全ての電極が上記材料で構成されている構成が好ましい。すなわち、光取出し側である陽極(3)と中間電極(5)が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成である透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。   In such a configuration, the anode (3) or the intermediate electrode (5) is a transparent electrode having a configuration containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and all the electrodes are made of the above materials. The configuration is preferable. That is, the anode (3) and the intermediate electrode (5) on the light extraction side are transparent electrodes having a structure containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure. From the viewpoint of obtaining high flexibility.

このような図5に記載の発光層を含む有機機能層ユニットが2つ積層された積層構成を有し、高い発光効率の有機EL素子を、本発明の有機EL治療装置に適用することにより、フレキシブル基材(1)面の発光面側から、400〜2000nmの範囲内で選択される特定の波長域の光(L)が放出される。この結果、広い範囲の治療部位に対して、光照射による発熱の影響が少なく、均一で、治療効果の高い特定の狭帯域波長の発光光(L)を照射することが可能であるため、広範囲の治療部位に対して高い治療効果の達成を期待することができる。   By having such a laminated structure in which two organic functional layer units including the light emitting layer shown in FIG. 5 are laminated, and applying an organic EL element with high luminous efficiency to the organic EL treatment apparatus of the present invention, Light (L) in a specific wavelength range selected within a range of 400 to 2000 nm is emitted from the light emitting surface side of the flexible substrate (1) surface. As a result, it is possible to irradiate a specific narrowband wavelength of emitted light (L) that is uniform and has a high therapeutic effect to a wide range of treatment sites with little influence of heat generation. It can be expected to achieve a high therapeutic effect on the treatment site.

〔4.3:有機EL素子の構成例4(実施態様4)〕
図6は、2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の他の一例(実施態様4)を示す概略断面図で、前記「2.有機EL素子の代表的な構成」で記載の構成(4)で例示した、フレキシブル基材/下地層/陽極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/中間電極/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材の構成を示してある。
[4.3: Configuration Example 4 of Organic EL Element (Embodiment 4)]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing another example (embodiment 4) of an organic EL element having two organic functional layer units, and the structure described in “2. Representative structure of organic EL element”. Flexible substrate / underlayer / anode (for example, silver thin film electrode) / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / intermediate electrode / organic exemplified in (4) The structure of functional layer unit 2 [organic functional layer group 1B / light emitting layer B / organic functional layer group 2B] / cathode / sealing member is shown.

図7に示す構成は、前記図5に対し、フレキシブル基材(1)と陽極(3)との間に、下地層(7)を形成した構成である。このような構成においては、陽極(3)は、薄銀薄膜により形成されている。   The configuration shown in FIG. 7 is a configuration in which an underlayer (7) is formed between the flexible substrate (1) and the anode (3) with respect to FIG. In such a configuration, the anode (3) is formed of a thin silver thin film.

このような構成においては、陽極(3)及び中間電極(5)の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、陽極(3)及び中間電極(5)の全ての電極が上記材料で構成されていていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極(3)と中間電極(5)が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。   In such a configuration, at least one of the anode (3) and the intermediate electrode (5) is a transparent electrode having a configuration containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and the anode (3) and the intermediate electrode. It is preferable that all the electrodes of (5) are comprised with the said material. In other words, the anode (3) and the intermediate electrode (5) on the light extraction side are transparent electrodes having a structure containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure. It is preferable from the viewpoint of obtaining flexibility.

〔有機EL素子の構成例5:実施態様5〕
図7は、2つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の他の一例(実施態様5)を示す概略断面図で、前記「2.有機EL素子の代表的な構成」で記載の構成(5)で例示した、フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/下地層/中間電極(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/陰極/封止部材の構成を示してある。
[Configuration Example 5 of Organic EL Element: Embodiment 5]
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another example (embodiment 5) of the configuration of the organic EL element having two organic functional layer units, and the configuration described in “2. Typical configuration of organic EL element”. Flexible substrate / anode / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / underlayer / intermediate electrode (for example, silver thin film electrode) / organic exemplified in (5) The structure of functional layer unit 2 [organic functional layer group 1B / light emitting layer B / organic functional layer group 2B] / cathode / sealing member is shown.

図7に示す構成は、前記図5に対し、中間電極(5)と下部に下地層(7)を形成した構成である。このような構成においては、少なくとも中間電極(5)は、薄銀薄膜により形成されている。   The configuration shown in FIG. 7 is a configuration in which an intermediate electrode (5) and a base layer (7) are formed in the lower part of FIG. In such a configuration, at least the intermediate electrode (5) is formed of a thin silver thin film.

このような構成においては、陽極(3)及び中間電極(5)の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、陽極(3)及び中間電極(5)の全ての電極が上記材料で構成されていていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極(3)と中間電極(5)が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。   In such a configuration, at least one of the anode (3) and the intermediate electrode (5) is a transparent electrode having a configuration containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and the anode (3) and the intermediate electrode. It is preferable that all the electrodes of (5) are comprised with the said material. In other words, the anode (3) and the intermediate electrode (5) on the light extraction side are transparent electrodes having a structure containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure. It is preferable from the viewpoint of obtaining flexibility.

〔有機EL素子の構成例6:実施態様6〕
図8は、3つの有機機能層ユニットを有する有機EL素子の構成の一例(実施態様6)を示す概略断面図で、前記「2.有機EL素子の代表的な構成」で記載の構成(6)で例示した、フレキシブル基材/陽極/有機機能層ユニット1〔有機機能層群1A/発光層A/有機機能層群2A〕/下地層1/中間電極1(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット2〔有機機能層群1B/発光層B/有機機能層群2B〕/下地層2/中間電極2(例えば、銀薄膜電極)/有機機能層ユニット3〔有機機能層群1C/発光層C/有機機能層群2C〕/陰極の構成を示してある。
[Configuration Example 6 of Organic EL Element: Embodiment 6]
FIG. 8 is a schematic sectional view showing an example (embodiment 6) of a configuration of an organic EL element having three organic functional layer units. The configuration described in “2. Typical configuration of organic EL element” (6 ), Flexible substrate / anode / organic functional layer unit 1 [organic functional layer group 1A / light emitting layer A / organic functional layer group 2A] / underlayer 1 / intermediate electrode 1 (for example, silver thin film electrode) / organic Functional layer unit 2 [Organic functional layer group 1B / Light emitting layer B / Organic functional layer group 2B] / Underlayer 2 / Intermediate electrode 2 (for example, silver thin film electrode) / Organic functional layer unit 3 [Organic functional layer group 1C / Light emission The structure of layer C / organic functional layer group 2C] / cathode is shown.

図8に示す構成は、前記図7に対し、3つの有機機能層ユニットを積層した構成であり、それぞれの中間電極(5−1、5−2)と下部に、下地層(7−1、7−2)を形成した構成である。このような構成においては、少なくとも中間電極(5)は、薄銀薄膜により形成されている。   The configuration shown in FIG. 8 is a configuration in which three organic functional layer units are stacked with respect to FIG. 7, and an intermediate layer (5-1, 5-2) and a lower layer (7-1, 7-2). In such a configuration, at least the intermediate electrode (5) is formed of a thin silver thin film.

このような構成においては、陽極(3)及び中間電極(5−1、5−2)の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であり、陽極(3)及び中間電極(5−1、5−2)の全ての電極が上記材料で構成されていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極(3)と中間電極(5−1、5−2)が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。   In such a configuration, at least one of the anode (3) and the intermediate electrode (5-1, 5-2) includes a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, and the anode (3) And it is preferable that all the electrodes of the intermediate electrode (5-1, 5-2) are made of the above-mentioned material. That is, the anode (3) on the light extraction side and the intermediate electrode (5-1, 5-2) have a structure containing a metal material or a metal oxide material having an amorphous structure, so that high light transmittance and an electrode can be obtained. It is preferable from the viewpoint of obtaining excellent flexibility.

《光治療法》
〔光治療法の概要〕
次いで、本発明の光治療用装置を用いる光治療法(以下、本発明に係る光治療法ともいう。)の概要について説明する。
《Light therapy》
[Outline of phototherapy]
Next, an outline of a phototherapy method (hereinafter also referred to as a phototherapy method according to the present invention) using the phototherapy device of the present invention will be described.

本発明でいう光治療法、あるいは光線療法とは、前述のとおり、特定の疾病に対し、光照射による治療、いわゆる光治療を行う方法であり、本発明の光治療用装置とは、上記説明した本発明に係る有機EL素子を装備した光治療に有効な光線を照射する装置である。   As described above, the phototherapy method or phototherapy in the present invention is a method for performing treatment by light irradiation, that is, so-called phototherapy for a specific disease, and the phototherapy device of the present invention is described above. It is the apparatus which irradiates the light ray effective for the phototherapy equipped with the organic EL element which concerns on this invention.

例えば、肩こりや腰痛などの疼痛緩和や薄毛治療には、赤色光や赤外線の照射による治療が行われている。この赤外線による治療は、例えば、患部に近赤外線光の照射を行うことにより、血管を拡張させることにより組織血流を増加させ、交感神経系の興奮を抑制したり、細胞組織を活性化して創傷治癒を促進したり、炎症性サイトカインや発痛物質に働きかけて抗炎症作用や鎮痛作用をもたらしたりする。特に、水、ヘモグロビン、メラニンに対する吸収が少ない波長800〜900nm近傍の近赤外線領域は生体透過度に優れ、温熱効果とは異なる作用機序によって炎症抑制や疼痛緩和されることができ、また、アトピー性皮膚炎の治療には青色や紫外線の照射による治療が行われている。   For example, for relief of pain such as stiff shoulders and back pain and treatment of thinning hair, treatment by irradiation with red light or infrared light is performed. This infrared treatment is performed by, for example, irradiating the affected area with near-infrared light to increase blood flow by expanding blood vessels, suppressing excitement of the sympathetic nervous system, or activating cellular tissue to activate wounds. It promotes healing and acts on inflammatory cytokines and analgesics to bring about anti-inflammatory and analgesic effects. In particular, the near-infrared region in the vicinity of a wavelength of 800 to 900 nm that absorbs less water, hemoglobin, and melanin has excellent biological permeability, and can suppress inflammation and relieve pain by an action mechanism different from the thermal effect. Treatment of atopic dermatitis by blue or ultraviolet irradiation.

このように、様々な疾患の治療に対し、光を用いる方法を光線療法といい、光の照射と共に、光化学療法剤を併用する治療法を光線力学的療法(PDT)という。このPDTにおいては、光化学療法剤として知られる感光性治療剤が、身体の被処置領域に外部から又は内部から供給される。   Thus, for the treatment of various diseases, a method using light is referred to as phototherapy, and a treatment using a photochemotherapeutic agent together with light irradiation is referred to as photodynamic therapy (PDT). In this PDT, a photosensitive therapeutic agent known as a photochemotherapeutic agent is supplied to the treated area of the body from the outside or the inside.

本発明に係る光治療法は、任意の病気、症候群、疾患、症状、又は光治療に反応する様々な病気の治療や美容的症状に適用することができる。   The phototherapy method according to the present invention can be applied to the treatment of any illness, syndrome, disease, symptom, or various illnesses that respond to phototherapy or cosmetic symptoms.

光治療法を適用することが可能な治療的疾患及び美容的症状としては、例えば、皮膚疾患、並びに、皮膚の老化及びセルライトを含む皮膚に関連する症状、肥大した毛穴、油性肌、毛嚢炎、前癌状態の日光性角化症、皮膚損傷、老化、皺の多い皮膚及び太陽で傷んだ皮膚、目じりの皺、皮膚潰瘍(糖尿病性、褥瘡、静脈うっ滞)、酒さ性座瘡、セルライト;脂腺及び周辺組織の光調整、皺とり、ニキビの痕及びニキビの細菌、炎症、痛み、外傷、精神的及び神経系に関連する疾患及び症状、面皰、浮腫、パジェット病、原発腫瘍及び転移性腫瘍、結合組織病、コラーゲン処置、線維芽細胞、及び哺乳類の組織における線維芽細胞由来の細胞レベル、網膜照射、腫瘍性疾患、新生血管疾患及び肥大性疾患、炎症反応及びアレルギー反応、汗、エクリン汗腺(汗腺)又はアポクリン腺からの汗かき及び過剰な発汗(hyper−hydrosis)、黄疸、白斑、眼球新生血管疾患、神経性大食症、疱疹、季節性情動障害、憂うつ、睡眠障害、皮膚癌、クリーグラー・ナジャー病、アトピー性皮膚炎、糖尿病性皮膚潰瘍、褥瘡、膀胱感染症、筋肉痛の軽減、痛み、関節のこわばり、細菌の低減、歯肉炎、歯のホワイトニング、歯及び口中の組織の治療、創傷治癒が含まれる。   Therapeutic diseases and cosmetic conditions to which phototherapy can be applied include, for example, skin diseases and skin-related symptoms including skin aging and cellulite, enlarged pores, oily skin, folliculitis, Precancerous actinic keratosis, skin damage, aging, bruised and sun-damaged skin, eyelids, skin ulcers (diabetic, pressure ulcer, venous stasis), rosacea acne, cellulite Light adjustment of sebaceous glands and surrounding tissues, scoring, acne scars and acne bacteria, inflammation, pain, trauma, mental and nervous system related diseases and symptoms, comedones, edema, Paget's disease, primary tumor and metastasis Sex tumors, connective tissue diseases, collagen treatment, fibroblasts, and fibroblast-derived cell levels in mammalian tissues, retinal irradiation, neoplastic diseases, neovascular diseases and hypertrophic diseases, inflammatory and allergic reactions, sweat, D Phosphorus sweat gland (sweat gland) or sweat from the apocrine gland and hyper-hydrosis, jaundice, vitiligo, ocular neovascular disease, bulimia nervosa, herpes zoster, seasonal affective disorder, depression, sleep disorder, skin Cancer, Kriegler-Nager disease, atopic dermatitis, diabetic skin ulcer, pressure ulcer, bladder infection, muscle pain relief, pain, joint stiffness, bacterial reduction, gingivitis, tooth whitening, teeth and mouth tissue Treatment, wound healing.

美容的症状としては、ニキビ、肌の若返り並びに皮膚の皺、セルライト、及び、白斑、乾癬(軽度、軽度から重度、及び、重度)から選択される。   The cosmetic symptoms are selected from acne, skin rejuvenation and skin wrinkles, cellulite and vitiligo, and psoriasis (mild, mild to severe, and severe).

〔光治療法に適用する波長〕
本発明の光治療用装置においては、有機EL素子の発光波長が400〜2000nmの波長域にあることを特徴とする。
[Wavelength applied to phototherapy]
The phototherapy device of the present invention is characterized in that the emission wavelength of the organic EL element is in the wavelength range of 400 to 2000 nm.

更に、有機EL素子の発光波長としては、好ましくは400〜1000nm、より好ましくは400〜950nm、特に好ましくは400〜900nmの範囲である。   Furthermore, the emission wavelength of the organic EL element is preferably in the range of 400 to 1000 nm, more preferably 400 to 950 nm, and particularly preferably 400 to 900 nm.

光治療法の主たる効果の一つは、皮膚面に対し様々な波長の光を照射することにより、例えば、コリや痛みを緩和することができることが知られている。すなわち、ミトコンドリアにおける代謝の刺激である。光治療法を施した後、細胞は代謝が増大して伝達がより向上し、よいストレス等に対する耐性が向上する。   One of the main effects of phototherapy is known to be able to alleviate, for example, stiffness and pain by irradiating the skin surface with light of various wavelengths. That is, stimulation of metabolism in mitochondria. After the phototherapy, the cells increase in metabolism, improve transmission, and improve resistance to good stress and the like.

本発明に係る有機EL素子は、細胞刺激のために使用することができる。細胞刺激のための好ましい波長又は波長の範囲は600〜900nmであり、より好ましくは620〜880nmであり、特に好ましくは650〜870nmである。細胞刺激のための特に好ましい波長の例は、683.7nm、667.5nm、772.3nm、750.7nm、846nm、及び812.5nmである。   The organic EL device according to the present invention can be used for cell stimulation. A preferred wavelength or wavelength range for cell stimulation is 600 to 900 nm, more preferably 620 to 880 nm, and particularly preferably 650 to 870 nm. Examples of particularly preferred wavelengths for cell stimulation are 683.7 nm, 667.5 nm, 772.3 nm, 750.7 nm, 846 nm, and 812.5 nm.

また、スキンケア及び皮膚修復のために適用される波長又は波長の範囲としては400〜800nmの範囲が好ましく、より好ましくは450〜750nmの範囲であり、更に好ましくは500〜700nmの範囲であり、特に好ましくは580〜640nmの範囲である。   The wavelength or wavelength range applied for skin care and skin repair is preferably in the range of 400 to 800 nm, more preferably in the range of 450 to 750 nm, still more preferably in the range of 500 to 700 nm. Preferably it is the range of 580-640 nm.

また、ニキビの治療に用いられる有機EL素子としては、赤色光と青色光の組み合わせが特に好ましい。上記赤色光は、好ましくは590〜750nm、より好ましくは600〜720nm、更に好ましくは620〜700nmの範囲内から選択される。ニキビの治療に好ましい2つの更なる波長は、633nm及び660nmである。   Moreover, as an organic EL element used for acne treatment, a combination of red light and blue light is particularly preferable. The red light is preferably selected from the range of 590 to 750 nm, more preferably 600 to 720 nm, and still more preferably 620 to 700 nm. Two additional wavelengths preferred for the treatment of acne are 633 nm and 660 nm.

又、面皰の場合には、500nmの波長、又は500〜700nmの範囲の波長を有する光を放射する有機EL素子を適用することが特に好ましい。   In the case of a comedone, it is particularly preferable to apply an organic EL element that emits light having a wavelength of 500 nm or a wavelength in the range of 500 to 700 nm.

また、セルライト(皮下脂肪)の治療又は予防のための波長は、400〜1000nmの範囲であり、好ましくは400〜900nmの範囲であり、より好ましくは450〜900nmであり、特に好ましくは500〜850nmである。   The wavelength for treatment or prevention of cellulite (subcutaneous fat) is in the range of 400 to 1000 nm, preferably in the range of 400 to 900 nm, more preferably in the range of 450 to 900 nm, and particularly preferably in the range of 500 to 850 nm. It is.

また、皮膚の老化の治療や防止や、しわの形成を減少あるいは予防するための波長としては、400〜950nmの範囲である。この波長は、好ましくは550〜900nmの範囲であり、より好ましくは550〜860nmの範囲である。   In addition, the wavelength for treatment or prevention of skin aging and the reduction or prevention of wrinkle formation is in the range of 400 to 950 nm. This wavelength is preferably in the range of 550 to 900 nm, more preferably in the range of 550 to 860 nm.

また、皮膚の若返りに対して適用する有機EL素子は、700〜1000nmの範囲、好ましくは750〜900nmの範囲、より好ましくは750〜860nmの範囲、特に好ましくは800〜850nmの範囲の光を放出する有機EL素子である。   Moreover, the organic EL element applied to skin rejuvenation emits light in the range of 700 to 1000 nm, preferably in the range of 750 to 900 nm, more preferably in the range of 750 to 860 nm, and particularly preferably in the range of 800 to 850 nm. It is an organic EL element.

また、皮膚の赤みの治療や予防のための波長は、460〜660nmの範囲である。波長は、好ましくは500〜620nmの範囲であり、より好ましくは540〜580nmの範囲である。この目的のための1つの特に好ましい波長は、560nmである。   The wavelength for treatment and prevention of skin redness is in the range of 460 to 660 nm. The wavelength is preferably in the range of 500 to 620 nm, more preferably in the range of 540 to 580 nm. One particularly preferred wavelength for this purpose is 560 nm.

また、皮膚炎の治療や予防のための波長は、470〜670nmの範囲である。波長は、好ましくは490〜650nmの範囲であり、より好ましくは530〜610nmの範囲である。この目的のための2つの特に好ましい波長は、550nmと590nmである。   The wavelength for treatment and prevention of dermatitis is in the range of 470 to 670 nm. The wavelength is preferably in the range of 490 to 650 nm, more preferably in the range of 530 to 610 nm. Two particularly preferred wavelengths for this purpose are 550 nm and 590 nm.

また、アトピー性湿疹の治療や予防のための波長は、470〜670nmの範囲である。波長は、好ましくは490〜650nmの範囲であり、より好ましくは530〜610nmの範囲である。   Moreover, the wavelength for the treatment and prevention of atopic eczema is in the range of 470 to 670 nm. The wavelength is preferably in the range of 490 to 650 nm, more preferably in the range of 530 to 610 nm.

また、浮腫の治療に使用される波長としては、好ましくは、760〜940nmの範囲、より好ましくは780〜920nmの範囲、更に好ましくは800〜900nmの範囲、特に好ましくは820〜880nmの範囲である。   The wavelength used for the treatment of edema is preferably in the range of 760 to 940 nm, more preferably in the range of 780 to 920 nm, still more preferably in the range of 800 to 900 nm, and particularly preferably in the range of 820 to 880 nm. .

また、本発明の光治療用装置は、創傷を治療するための使用することができる。光線療法による創傷の治療に好ましい波長は、600〜950nmの範囲であり、より好ましくは650〜900nmの範囲であい、特に好ましい波長は、660、720、880nmである。   Moreover, the phototherapy device of the present invention can be used to treat a wound. Preferred wavelengths for the treatment of wounds by phototherapy are in the range of 600-950 nm, more preferably in the range of 650-900 nm, particularly preferred wavelengths are 660, 720, 880 nm.

また、特表2002−51916号公報に記載されているように、1917nmの赤外線を照射することにより、免疫システムに刺激を与えることにより、正常な細胞に害を及ぼすことなしに、細胞レベルでの治療を行うことができる。   In addition, as described in JP-T-2002-51916, by irradiating 1917 nm infrared rays, the immune system is stimulated, so that no harm is caused to normal cells. Can be treated.

また、神経系及び精神的疾患、症状の治療及び予防のための波長は、350〜600nmの範囲である。波長は、好ましくは400〜550nmの範囲であり、より好ましくは440〜500nmの範囲である。この目的のための好ましい2つの波長は460nmと480nmである。   Moreover, the wavelength for the treatment and prevention of nervous system and mental diseases and symptoms is in the range of 350 to 600 nm. The wavelength is preferably in the range of 400 to 550 nm, more preferably in the range of 440 to 500 nm. Two preferred wavelengths for this purpose are 460 nm and 480 nm.

〔光線力学的療法(PDT)〕
本発明の光治療用装置を用いる光治療法においては、有機EL素子による光照射と共に、光化学療法剤を併用する光線力学的療法(PDT)を適用することが好ましい態様である。
[Photodynamic therapy (PDT)]
In the phototherapy method using the phototherapy device of the present invention, it is preferable to apply photodynamic therapy (PDT) using a photochemotherapeutic agent together with light irradiation by an organic EL element.

PDTは、治療されるべき体の領域に、光化学療法剤(photopharmaceutical)として公知の感光性の療法用剤を外用または内用として与える。次に、その領域に、本発明の光治療用装置により適切な波長及び強度の光に放射して、光化学療法剤を活性化させる方法である。例えば、光化学療法剤として光増感性の物質を腫瘍細胞に取り込ませ、光を照射することにより、細胞を死滅させる腫瘍の治療方法である。より具体的には、腫瘍細胞又は腫瘍組織内の新生血管の内皮細胞内に、光増感性蛍光タンパク質等を導入し、適当な光を照射することにより、活性酸素を発生させる。この活性酸素により、腫瘍細胞又は腫瘍組織が傷害され、腫瘍が消失する方法である。   PDT provides a topical or internal use of a photosensitive therapeutic agent known as a photopharmacological agent to the region of the body to be treated. Next, in this region, the photochemotherapy agent is activated by radiating light having an appropriate wavelength and intensity with the phototherapy device of the present invention. For example, a method of treating a tumor in which a photosensitizing substance as a photochemotherapeutic agent is taken into tumor cells and irradiated with light to kill the cells. More specifically, reactive oxygen is generated by introducing photosensitized fluorescent protein or the like into tumor cells or endothelial cells of new blood vessels in tumor tissue and irradiating with appropriate light. This active oxygen is a method in which tumor cells or tumor tissue are damaged and the tumor disappears.

上記光線力学的療法(PDT)に適用される光化学療法剤(光増感性化合物ともいう。)としては、光活性化する光線の照射を受けて、細胞毒性の形態に変換されるか、細胞毒性種を生じさせる光増感性の物質を含有する製剤をいう。   As a photochemotherapeutic agent (also referred to as a photosensitizing compound) applied to the photodynamic therapy (PDT), it is converted into a cytotoxic form upon irradiation with a photoactivating light beam, or is cytotoxic. A formulation containing a photosensitizing substance that gives rise to seeds.

光化学療法剤は、全身投与または局所投与(例:腸管、頬、舌下、歯肉、口蓋、鼻、肺、膣、直腸あるいは眼球への送達による)いずれにも用いることができる。また、光力学療法製剤を、経口または非経口投与に適した剤形で提供することもできる。このうち局所投与する場合の光線力学療法製剤として、ゲル剤、クリーム剤、軟膏剤、スプレー剤、ローション剤、ロウ膏剤、スティック剤、石鹸剤、散剤、錠剤、フィルム剤、膣座薬、エアゾル剤、滴剤、溶液剤および当業界での従来型医薬品形態のいずれかで製剤される。局所投与または経口投与の場合、必要に応じて潤滑剤、保湿剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、甘味剤、香味剤、表面浸透助剤などといった吸収促進剤をさらに含んでいてもよい。   Photochemotherapeutic agents can be used for either systemic or local administration (eg, by delivery to the intestine, buccal, sublingual, gingival, palate, nasal, lung, vagina, rectum or eyeball). Photodynamic therapy formulations can also be provided in dosage forms suitable for oral or parenteral administration. Among these, photodynamic therapy preparations for topical administration include gels, creams, ointments, sprays, lotions, waxes, sticks, soaps, powders, tablets, films, vaginal suppositories, aerosols Formulated in any of drops, solutions, and conventional pharmaceutical forms in the art. In the case of topical administration or oral administration, absorption enhancers such as lubricants, moisturizers, emulsifiers, suspending agents, preservatives, sweeteners, flavoring agents, surface penetration aids and the like may be further included as necessary. .

光化学療法剤としては、例えば、5−アミノレブリン酸塩酸塩(クロフォード・ファーマスーティカルズ(Crawford Pharmaceuticals))、メチルアミノレブリン酸(メトフィックス(登録商標)(Metfix(登録商標))、フォトキュア(Photocure))等の局所用剤がある。また、たとえばフォトフィン(登録商標)(Photofin(登録商標))(アクスカン(Axcan)から)およびフォスカン(登録商標)(Foscan(登録商標))(バイオリテック・リミテッド(Biolitech Ltd)から)など、内部の悪性疾患に対して主に用いられる注射用薬剤がある。薬剤は、不活性な形態で適用されることが多く、この薬剤は、感光性の光化学療法剤へと代謝される。   Examples of the photochemotherapeutic agent include 5-aminolevulinic acid hydrochloride (Crawford Pharmaceuticals), methylaminolevulinic acid (Metfix (registered trademark)), and Photocure (Photocure). ) And other topical agents. Also, for example, Photofin® (Photofin®) (from Axcan) and Foscan® (Fosscan®) (from Biolittech Ltd) There are injection drugs mainly used for malignant diseases. The drug is often applied in an inactive form, which is metabolized to a photosensitive photochemotherapeutic agent.

〔光治療用装置のその他の機能〕
本発明の光治療用装置には、上記説明した有機EL素子と共に、必要に応じ様々な機能を付与させることができる。
[Other functions of phototherapy device]
Various functions can be imparted to the phototherapy device of the present invention as needed together with the organic EL element described above.

例えば、
1)過度の光照射を防止するための「やりすぎ防止タイマー」を設置し、有機EL素子の発熱あるいは過熱時に自動的に装置をオフにする機能を付与する方法、
2)有機EL素子の患部と対面する側に粘着層を設け、患部への貼り付け機能の付与や、粘着層に、治療剤、シップ薬であるメントール、発熱を利用するアロマ、お灸剤等を含有させる方法、
3)患部のムレ等を防止するため、患部に接する面側に、細かな穴を有するシートを、有機EL素子とやや間隔をあけて設置るする方法。この際、形成した穴部にの光照射効果を付与するためには、光取出しフィルムや内部散乱層を有する構成であることが好ましい、
4)光治療の完了を通知するため、設定時間になったら有機EL素子の発光色を変化させる調色機能を有していること、
5)放射光の色調を変えずに、光照射強度の切り替えができる機能、
6)水を使用する環境でも安全に使用することができる防水機能の付与、
7)有機EL素子として、広い発光面積を有し、かつ発光均一性が高いこと(この機能に対しては、グリッド電極を適用することが有効)、
等を挙げることができる。
For example,
1) A method of providing a function of automatically turning off the device when an organic EL element generates heat or overheats by installing an “overdoing prevention timer” for preventing excessive light irradiation,
2) An adhesive layer is provided on the side of the organic EL element that faces the affected area, and a function of attaching to the affected area is provided, and a therapeutic agent, menthol as a shipping agent, aroma using fever, acupuncture, etc. are applied to the adhesive layer. A method of containing,
3) A method in which a sheet having a fine hole is placed on the surface side in contact with the affected part with a slight gap from the organic EL element in order to prevent the affected part from being swollen. At this time, in order to impart a light irradiation effect to the formed hole portion, it is preferable that the configuration has a light extraction film and an internal scattering layer.
4) To have a toning function for changing the emission color of the organic EL element at the set time in order to notify the completion of phototherapy;
5) A function that can switch the light irradiation intensity without changing the color tone of the emitted light,
6) The provision of a waterproof function that can be used safely even in an environment where water is used,
7) As an organic EL element, it has a wide emission area and high emission uniformity (for this function, it is effective to apply a grid electrode)
Etc.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass%" is represented.

実施例1
《有機EL素子の作製》
〔有機EL素子1の作製〕
下記の方法に従って、図2及び図3に記載の構成の有機EL素子1を作製した。
Example 1
<< Production of organic EL element >>
[Production of Organic EL Element 1]
According to the following method, the organic EL element 1 having the configuration shown in FIGS. 2 and 3 was produced.

(ガスバリアー層付フレキシブル基材の準備)
フレキシブル性基材として、ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン社製フィルム、以下、PENと略記する)を用い、第1電極(透明電極、陽極)を形成する側の全面に、特開2004−68143号公報に記載の構成よりなる大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、連続してフレキシブル性基材(PEN)上に、SiOxより構成される無機ガスバリアー層を、厚さ500nmとなるように形成し、ガスバリアー層付フレキシブル基材を作製した。
(Preparation of flexible base material with gas barrier layer)
As a flexible substrate, a polyethylene naphthalate film (a film made by Teijin DuPont Co., Ltd., hereinafter abbreviated as PEN) is used, and the entire surface on the side where the first electrode (transparent electrode, anode) is formed is disclosed in JP-A-2004-68143. An inorganic gas barrier layer composed of SiO x is continuously formed on a flexible substrate (PEN) so as to have a thickness of 500 nm using an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus having a configuration described in the publication. And the flexible base material with a gas barrier layer was produced.

(陽極1の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のL−430S−FHSスパッタ装置に装着し、Ar 20sccm、O 2sccm、スパッタ圧0.25Pa、基材温度150℃、形成速度5nm/秒で、層厚が150nmとなるようITO(酸化インジウム・スズ)をDCパルススパッタし、ITOより構成される透明電極である陽極1を作製した。ターゲット−基板間距離は、86mmであった。
(Formation of anode 1)
A flexible base material on which a gas barrier layer was formed was attached to an L-430S-FHS sputtering apparatus manufactured by Anelva, Ar 20 sccm, O 2 2 sccm, sputtering pressure 0.25 Pa, base material temperature 150 ° C., formation rate 5 nm / second, ITO (indium tin oxide) was DC pulse sputtered to have a layer thickness of 150 nm to produce an anode 1 as a transparent electrode made of ITO. The target-substrate distance was 86 mm.

上記形成したITOより構成される陽極1を、島津製作所社製のX線回折装置 XRD−7000を用い、XRD解析(X線回折法)を行った結果、結晶性を示す特定の回折線ピークが認められ、結晶性ITO膜であることを確認した。   As a result of performing XRD analysis (X-ray diffraction method) on the anode 1 composed of the ITO formed above using an X-ray diffractometer XRD-7000 manufactured by Shimadzu Corporation, a specific diffraction line peak indicating crystallinity is obtained. It was recognized and confirmed to be a crystalline ITO film.

(有機機能層ユニットの形成)
上記作製したフレキシブル基材の陽極1上に、下記に示す手順に従って、有機機能層ユニットを形成した。なお、フレキシブル基材は、露点−80℃以下、酸素濃度1ppm以下のグローブボックスにおいて乾燥させた後、グローブボックスから大気にさらすことなく有機機能層ユニットを形成する真空蒸着装置内に設置した。
(Formation of organic functional layer unit)
An organic functional layer unit was formed on the anode 1 of the produced flexible substrate according to the procedure shown below. The flexible substrate was dried in a glove box having a dew point of −80 ° C. or less and an oxygen concentration of 1 ppm or less, and then installed in a vacuum evaporation apparatus for forming an organic functional layer unit without exposing it to the atmosphere from the glove box.

真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を、各々素子作製に最適の量を充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。   Each of the vapor deposition crucibles in the vacuum vapor deposition apparatus was filled with the constituent material of each layer in an amount optimal for device fabrication. The evaporation crucible used was made of a resistance heating material made of molybdenum or tungsten.

真空度1×10−4Paまで減圧した後、化合物M−2の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒でフレキシブル基材の透明電極である陽極上に蒸着し、厚さ40nmの正孔注入輸送層を形成した。 After depressurizing to a vacuum of 1 × 10 −4 Pa, the deposition crucible containing compound M-2 was energized and heated, and deposited on the anode as the transparent electrode of the flexible substrate at a deposition rate of 0.1 nm / second. Then, a hole injection transport layer having a thickness of 40 nm was formed.

次いで、化合物BD−1及び化合物H−1を、化合物BD−1が体積比で5%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ15nmの青色発光を呈する蛍光発光層を形成した。   Next, the compound BD-1 and the compound H-1 are co-evaporated at a deposition rate of 0.1 nm / second so that the concentration of the compound BD-1 is 5% by volume, and fluorescence that emits blue light with a thickness of 15 nm. A light emitting layer was formed.

次いで、化合物GD−1、RD−1及び化合物H−2を、化合物GD−1が体積比で17%、RD−1が体積比で0.8%の濃度になるように蒸着速度0.1nm/秒で共蒸着し、厚さ15nmの黄色を呈するリン光発光層を形成した。   Next, the compound GD-1, RD-1 and compound H-2 were deposited at a deposition rate of 0.1 nm so that the compound GD-1 had a concentration of 17% by volume and RD-1 had a concentration of 0.8% by volume. The phosphorescent light emitting layer having a thickness of 15 nm and having a yellow color was formed.

その後、化合物E−1を蒸着速度0.1nm/秒で蒸着し、厚さ30nmの電子輸送層を形成した。   Thereafter, Compound E-1 was deposited at a deposition rate of 0.1 nm / second to form an electron transport layer having a thickness of 30 nm.

さらに、LiFを厚さ1.5nmにて形成した後に、アルミニウムを厚さ110nmで蒸着して陰極(反射電極、光不透過性)を形成した。   Further, LiF was formed to a thickness of 1.5 nm, and then aluminum was deposited to a thickness of 110 nm to form a cathode (reflecting electrode, light impermeability).

上記化合物M−2、BD−1、H−1、GD−1、RD−1及びH−2は、下記構造を有する化合物である。   The compounds M-2, BD-1, H-1, GD-1, RD-1 and H-2 are compounds having the following structures.

Figure 2016207522
Figure 2016207522

(封止構造の作製)
形成した陽極から陰極までを被覆するように封止フィルムを貼り合わせて封止し、有機EL素子301を製造した。
(Production of sealing structure)
An organic EL element 301 was manufactured by pasting and sealing a sealing film so as to cover the formed anode to cathode.

厚さ0.7mmの無アルカリガラス基板に接着剤を塗布して、120℃で2分間乾燥し、厚さ20μmの接着層を形成した。この接着層に、厚さ100μmのアルミニウム箔を貼り合わせた、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートを貼り合わせて、封止フィルムとした。この封止フィルムを、窒素雰囲気下に24時間以上放置した後、剥離シートを除去し、80℃に加熱した真空ラミネーターにより、導電性フィルムの導電層を被覆するように貼り合わせた。さらに、120℃で30分間加熱して封止して、有機EL素子1を作製した。   An adhesive was applied to a non-alkali glass substrate having a thickness of 0.7 mm and dried at 120 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. A 50 μm-thick polyethylene terephthalate obtained by bonding a 100 μm-thick aluminum foil to this adhesive layer was used as a sealing film. After leaving this sealing film in a nitrogen atmosphere for 24 hours or more, the release sheet was removed, and the conductive film of the conductive film was bonded to cover the conductive layer with a vacuum laminator heated to 80 ° C. Furthermore, it heated and sealed for 30 minutes at 120 degreeC, and the organic EL element 1 was produced.

〔有機EL素子2の作製〕
上記有機EL素子1の作製において、陽極1に代えて、下記の方法で形成した陽極2を用いた以外は同様にして、有機EL素子2を作製した。
[Production of Organic EL Element 2]
In the production of the organic EL element 1, an organic EL element 2 was produced in the same manner except that the anode 2 formed by the following method was used instead of the anode 1.

(陽極2の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、下記組成の陽極2形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ100nmの導電性ポリマーから構成される陽極2を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を5分間行った。
(Formation of anode 2)
On the flexible base material on which the gas barrier layer is formed, a coating liquid for forming an anode 2 having the following composition is applied by a die coater and then dried to form an anode 2 composed of a conductive polymer having a thickness of 100 nm. did. During the drying process, radiant heat transfer drying using an infrared heater was performed for 5 minutes.

〈陽極2形成用塗布液の調製〉
Clevios PH1000(へレウス社製のPEDOT/PSS、固形分濃度1.2%) 70質量部
エチレングリコール 15質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル 8質量部
純水 7質量部
〔有機EL素子3の作製〕
上記有機EL素子1の作製において、陽極1に代えて、下記の方法で形成した陽極3を用いた以外は同様にして、有機EL素子3を作製した。
<Preparation of coating solution for forming anode 2>
Clevios PH1000 (PEDOT / PSS made by Heraeus, solid content concentration 1.2%) 70 parts by mass Ethylene glycol 15 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether 8 parts by mass Pure water 7 parts by mass [Preparation of organic EL element 3]
In the production of the organic EL element 1, an organic EL element 3 was produced in the same manner except that the anode 3 formed by the following method was used instead of the anode 1.

(陽極3の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材を真空槽の装着し、4×10-4Paまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で膜厚7nmの銀からなる陽極3を形成した。
(Formation of anode 3)
The flexible base material on which the gas barrier layer was formed was attached to a vacuum tank, and after reducing the pressure to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing silver was energized and heated. Thereby, the anode 3 made of silver having a film thickness of 7 nm was formed at a deposition rate of 0.1 nm / second to 0.2 nm / second.

〔有機EL素子4の作製〕
上記有機EL素子3の作製において、フレキシブル基材のガスバリアー層と陽極3との間に、下記の下地層1を形成した以外は同様にして、有機EL素子4を作製した。
[Production of Organic EL Element 4]
In the production of the organic EL element 3, an organic EL element 4 was produced in the same manner except that the following underlayer 1 was formed between the gas barrier layer of the flexible substrate and the anode 3.

(下地層1の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材を真空槽の装着し、4×10-4Paまで減圧した後、窒素含有化合物である下記化合物1の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で膜厚が3nmの下地層を形成した。
(Formation of underlayer 1)
The flexible base material on which the gas barrier layer was formed was attached to a vacuum tank, and after reducing the pressure to 4 × 10 −4 Pa, a heating boat containing the following compound 1 which is a nitrogen-containing compound was energized and heated. As a result, an underlayer having a film thickness of 3 nm was formed at a deposition rate of 0.1 nm / second to 0.2 nm / second.

Figure 2016207522
Figure 2016207522

〔有機EL素子5の作製〕
上記有機EL素子3の作製において、陽極形成用の金属化合物として、銀に代えて、厚さ7nmのアルミニウムを用いて、陽極5を形成した以外は同様にして有機EL素子5を作製した。
[Production of Organic EL Element 5]
In the production of the organic EL element 3, the organic EL element 5 was produced in the same manner except that the anode 5 was formed using aluminum having a thickness of 7 nm instead of silver as the metal compound for forming the anode.

〔有機EL素子6の作製〕
上記有機EL素子1の作製において、陽極1(結晶性ITO)に代えて、下記の方法でアモルファスITO(a−ITO)により形成した陽極6を用いた以外は同様にして、有機EL素子6を作製した。
[Production of Organic EL Element 6]
In the production of the organic EL element 1, the organic EL element 6 was formed in the same manner except that the anode 6 formed of amorphous ITO (a-ITO) by the following method was used instead of the anode 1 (crystalline ITO). Produced.

(陽極6の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のL−430S−FHSスパッタ装置に装着し、Ar 20sccm、O 2sccm、スパッタ圧0.25Pa、室温(25℃)下、形成速度5nm/秒で、層厚が150nmとなるようITO(酸化インジウム・スズ)をDCパルススパッタし、アモルファスITO(a−ITO)より構成される透明電極である陽極6を作製した。ターゲット−基板間距離は、86mmであった。
(Formation of anode 6)
A flexible base material on which a gas barrier layer is formed is attached to an L-430S-FHS sputtering apparatus manufactured by Anelva, Inc. Ar 20 sccm, O 2 2 sccm, sputtering pressure 0.25 Pa, room temperature (25 ° C.) at a forming rate of 5 nm / second. Then, ITO (indium tin oxide) was DC pulse sputtered to have a layer thickness of 150 nm, and an anode 6 that was a transparent electrode made of amorphous ITO (a-ITO) was produced. The target-substrate distance was 86 mm.

上記形成したa−ITOより構成される陽極6を、島津製作所社製のX線回折装置 XRD−7000を用い、XRD解析(X線回折法)を行った結果、測定されたX線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造(アモルファス構造)であることを確認した。   As a result of XRD analysis (X-ray diffraction method) using the X-ray diffractometer XRD-7000 manufactured by Shimadzu Corporation, the anode 6 composed of the a-ITO formed as described above was measured. Only a halo pattern was observed, and it was confirmed that the amorphous structure (amorphous structure) was in a state where a specific diffraction line peak indicating crystallinity was not exhibited.

〔有機EL素子7の作製〕
上記有機EL素子6の作製において、陽極の形成を、アモルファスITO(a−ITO)に代えて、下記の方法で作製したアモルファスIZO(a−IZO)により形成した透明電極である陽極7を用いた以外は同様にして、有機EL素子7を作製した。
[Production of Organic EL Element 7]
In the production of the organic EL element 6, the anode 7 was replaced with amorphous ITO (a-ITO), and the anode 7 that was a transparent electrode formed by amorphous IZO (a-IZO) produced by the following method was used. Except for this, the organic EL element 7 was produced in the same manner.

(陽極7の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のL−430S−FHSスパッタ装置に装着し、Ar 20sccm、O 2sccm、スパッタ圧0.25Pa、室温(25℃)下、形成速度5nm/秒で、層厚が150nmとなるようIZO(酸化インジウム・亜鉛)をDCパルススパッタし、アモルファスIZO(a−IZO)より構成される透明電極である陽極7を作製した。ターゲット−基板間距離は、86mmであった。
(Formation of anode 7)
A flexible base material on which a gas barrier layer is formed is attached to an L-430S-FHS sputtering apparatus manufactured by Anelva, Inc. Ar 20 sccm, O 2 2 sccm, sputtering pressure 0.25 Pa, room temperature (25 ° C.) at a forming rate of 5 nm / second. Then, IZO (indium zinc oxide) was DC pulse sputtered to have a layer thickness of 150 nm to produce an anode 7 which was a transparent electrode made of amorphous IZO (a-IZO). The target-substrate distance was 86 mm.

上記形成したa−IZOより構成される陽極7を、島津製作所社製のX線回折装置 XRD−7000を用い、XRD解析(X線回折法)を行った結果、測定されたX線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造(アモルファス構造)であることを確認した。   As a result of XRD analysis (X-ray diffraction method) using the X-ray diffractometer XRD-7000 manufactured by Shimadzu Corporation, the anode 7 composed of the a-IZO formed as described above was measured. Only a halo pattern was observed, and it was confirmed that the amorphous structure (amorphous structure) was in a state where a specific diffraction line peak indicating crystallinity was not exhibited.

〔有機EL素子8の作製〕
上記有機EL素子6の作製において、陽極の形成を、アモルファスITO(a−ITO)に代えて、下記の方法で作製したアモルファスZnO(a−ZnO)により形成した透明電極である陽極8を用いた以外は同様にして、有機EL素子8を作製した。
[Production of Organic EL Element 8]
In the production of the organic EL element 6, the anode 8 was replaced with amorphous ITO (a-ITO), and the anode 8 that was a transparent electrode formed by amorphous ZnO (a-ZnO) produced by the following method was used. Except for the above, an organic EL element 8 was produced in the same manner.

(陽極8の形成)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のL−430S−FHSスパッタ装置に装着し、Ar 20sccm、O 2sccm、スパッタ圧0.25Pa、室温(25℃)下、形成速度5nm/秒で、層厚が150nmとなるようZnO(酸化亜鉛)をDCパルススパッタし、アモルファスZnO(a−ZnO)より構成される透明電極である陽極8を作製した。ターゲット−基板間距離は、86mmであった。
(Formation of anode 8)
A flexible base material on which a gas barrier layer is formed is attached to an L-430S-FHS sputtering apparatus manufactured by Anelva, Inc. Ar 20 sccm, O 2 2 sccm, sputtering pressure 0.25 Pa, room temperature (25 ° C.) at a forming rate of 5 nm / second. Then, ZnO (zinc oxide) was DC pulse sputtered to have a layer thickness of 150 nm to produce an anode 8 that was a transparent electrode made of amorphous ZnO (a-ZnO). The target-substrate distance was 86 mm.

上記形成したa−ZnOより構成される陽極8を、島津製作所社製のX線回折装置 XRD−7000を用い、XRD解析(X線回折法)を行った結果、測定されたX線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造(アモルファス構造)であることを確認した。   As a result of XRD analysis (X-ray diffractometry) using the X-ray diffractometer XRD-7000 manufactured by Shimadzu Corporation, the anode 8 composed of the a-ZnO formed as described above was measured. Only a halo pattern was observed, and it was confirmed that the amorphous structure (amorphous structure) was in a state where a specific diffraction line peak indicating crystallinity was not exhibited.

〔有機EL素子9の作製〕
上記有機EL素子1の作製において、陽極1に代えて、下記の方法で形成した陽極9を用いた以外は同様にして、有機EL素子9を作製した。
[Production of Organic EL Element 9]
In the production of the organic EL element 1, an organic EL element 9 was produced in the same manner except that the anode 9 formed by the following method was used instead of the anode 1.

(陽極9の形成:グリッド形状電極)
陽極9を形成するグリッドは、下記のインクジェット法により形成した。
(Formation of anode 9: grid-shaped electrode)
The grid for forming the anode 9 was formed by the following inkjet method.

銀ナノ粒子を含有する塗布液として、インクジェット用ナノペーストNPS−JL(ハリマ化成製)を用い、ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、線幅が50μm、間隔が1mmの金属細線をストライプ状に形成した。十分な高さが得られるように塗布液を重ねて塗布した。塗布には、コニカミノルタ社製のインクジェットヘッドKM512SHXを取り付けた卓上型ロボット SHOTMASTER300(武蔵エンジニアリング社製)を用い、これをインクジェット評価装置EB150(コニカミノルタ社製)により制御した。   As a coating solution containing silver nanoparticles, a nanopaste for inkjet NPS-JL (manufactured by Harima Chemicals) is used, and a thin metal wire having a line width of 50 μm and an interval of 1 mm is striped on a flexible substrate on which a gas barrier layer is formed. Formed into a shape. The coating liquid was applied in layers so that a sufficient height was obtained. For coating, a desktop robot SHOTMASTER300 (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.) equipped with an ink jet head KM512SHX manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was used, and this was controlled by an ink jet evaluation apparatus EB150 (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.).

Nova Centrix社製のPulse Forge 1300を用いてキセノン光を照射して焼成を行い、グリッドを形成した。キセノン光は、500μs周期で、250μsのパルス発光により照射し、付与するエネルギーが1500mJ/cmとなるように照射量を調整した。 Using a Pulse Forge 1300 manufactured by Nova Centrix, firing was performed by irradiating with xenon light to form a grid. Xenon light was irradiated by pulse light emission of 250 μs at a cycle of 500 μs, and the irradiation amount was adjusted so that the applied energy was 1500 mJ / cm 2 .

形成したグリッドの金属細線のサイズを、高輝度非接触3次元表面形状粗さ計WYKO NT9100(日本ビーコ社製)で位置を変えて複数回測定したところ、線幅の平均値は50μm、高さの平均値は1.0μmであった。   The size of the fine metal wires of the formed grid was measured several times by changing the position with a high-intensity non-contact three-dimensional surface shape roughness meter WYKO NT9100 (manufactured by Nihon Beco). The average value of the line width was 50 μm and the height The average value of was 1.0 μm.

次いで、形成したグリッド上に、下記組成の導電性ポリマー層形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ100nmの導電性ポリマー層を被覆して陽極9を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を5分間行った。   Next, a coating solution for forming a conductive polymer layer having the following composition was applied on the formed grid by a die coater, and then dried to coat the conductive polymer layer having a thickness of 100 nm to form an anode 9. . During the drying process, radiant heat transfer drying using an infrared heater was performed for 5 minutes.

〈導電性ポリマー層形成用塗布液の調製〉
Clevios PH1000(へレウス社製のPEDOT/PSS、固形分濃度1.2%) 70質量部
エチレングリコール 15質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル 8質量部
純水 7質量部
〔有機EL素子10の作製〕
上記有機EL素子9の陽極9の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子6の形成に用いたアモルファスITO層(a−ITO、電極6)に変更した以外は同様にして、有機EL素子10を作製した。
<Preparation of coating solution for forming conductive polymer layer>
Clevios PH1000 (PEDOT / PSS manufactured by Heraeus Co., Ltd., solid content concentration 1.2%) 70 parts by mass Ethylene glycol 15 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether 8 parts by mass Pure water 7 parts by mass [Preparation of organic EL element 10]
In the production of the anode 9 of the organic EL element 9, the conductive layer formed on the grid-shaped electrode is replaced with a conductive polymer layer, and an amorphous ITO layer (a-ITO, electrode used for forming the organic EL element 6) An organic EL device 10 was produced in the same manner except for changing to 6).

〔有機EL素子11の作製〕
上記有機EL素子9の陽極9の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子7の形成に用いたアモルファスIZO層(a−IZO、電極7)に変更した以外は同様にして、有機EL素子11を作製した。
[Production of Organic EL Element 11]
In the production of the anode 9 of the organic EL element 9, the conductive layer formed on the grid-shaped electrode is replaced with the conductive polymer layer, and the amorphous IZO layer (a-IZO, electrode) used for forming the organic EL element 7 is used. An organic EL element 11 was produced in the same manner except for changing to 7).

〔有機EL素子12の作製〕
上記有機EL素子9の陽極9の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子8の形成に用いたアモルファスZnO層(a−ZnO、電極8)に変更した以外は同様にして、有機EL素子12を作製した。
[Production of Organic EL Element 12]
In the preparation of the anode 9 of the organic EL element 9, the conductive layer formed on the grid-shaped electrode is replaced with a conductive polymer layer, and the amorphous ZnO layer (a-ZnO, electrode) used for forming the organic EL element 8 is used. An organic EL device 12 was produced in the same manner except for changing to 8).

〔有機EL素子13の作製〕
上記有機EL素子1の作製において、陽極1に代えて、下記の方法で形成した陽極13を用いた以外は同様にして、有機EL素子9を作製した。
[Production of Organic EL Element 13]
In the production of the organic EL element 1, an organic EL element 9 was produced in the same manner except that the anode 13 formed by the following method was used instead of the anode 1.

(陽極13の形成:銀ナノワイヤー電極)
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、銀ナノワイヤーの分散液を塗布して乾燥し、銀ナノワイヤー電極を形成した。塗布は、銀ナノワイヤーの分布が0.25g/mとなるように、ダイコーターを用いて行った。
(Formation of anode 13: silver nanowire electrode)
On the flexible base material in which the gas barrier layer was formed, a silver nanowire dispersion was applied and dried to form a silver nanowire electrode. The application was performed using a die coater so that the distribution of silver nanowires was 0.25 g / m 2 .

銀ナノワイヤーの分散液は、文献「Adv.Mater.,2002,14,833−837」に記載の方法を参考に調製した。還元剤としてエチレングリコール(関東化学社製)を使用し、形態制御剤及び保護コロイド剤としてポリビニルピロリドン(アルドリッチ社製、平均分子量130万)を使用して、銀の核形成と粒子形成の工程を分離して、銀ナノワイヤーを形成した。銀ナノワイヤーを形成した反応液に、分画分子量0.2μmの限外濾過膜を用いて脱塩水洗処理を施した後、溶媒をトルエンに置換して、銀ナノワイヤーのトルエン分散液を得た。   A dispersion of silver nanowires was prepared with reference to the method described in the document “Adv. Mater., 2002, 14, 833-837”. Using ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as the reducing agent and polyvinylpyrrolidone (manufactured by Aldrich, average molecular weight of 1.3 million) as the form control agent and protective colloid agent, the steps of silver nucleation and particle formation were carried out. Separated to form silver nanowires. The reaction solution in which the silver nanowires are formed is subjected to desalting water washing treatment using an ultrafiltration membrane having a molecular weight cut off of 0.2 μm, and then the solvent is replaced with toluene to obtain a toluene dispersion of silver nanowires. It was.

形成した銀ナノワイヤー電極上に、下記組成の導電性ポリマー層形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ100nmの導電性ポリマー層を被覆して銀ナノワイヤーを含む陽極13を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を5分間行った。   On the formed silver nanowire electrode, a coating solution for forming a conductive polymer layer having the following composition was applied by a die coater, followed by a drying treatment to coat the conductive polymer layer having a thickness of 100 nm to form a silver nanowire. A positive electrode 13 was formed. During the drying process, radiant heat transfer drying using an infrared heater was performed for 5 minutes.

〈導電性ポリマー層形成用塗布液の調製〉
Clevios PH1000(へレウス社製のPEDOT/PSS、固形分濃度1.2%) 70質量部
エチレングリコール 15質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル 8質量部
純水 7質量部
〔有機EL素子14の作製〕
上記有機EL素子13の陽極13の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子6の形成に用いたアモルファスITO層(a−ITO、電極6)に変更した以外は同様にして、有機EL素子14を作製した。
<Preparation of coating solution for forming conductive polymer layer>
Clevios PH1000 (PEDOT / PSS made by Heraeus, solid content concentration 1.2%) 70 parts by mass Ethylene glycol 15 parts by mass Ethylene glycol monobutyl ether 8 parts by mass Pure water 7 parts by mass [Preparation of organic EL element 14]
In the preparation of the anode 13 of the organic EL element 13, the amorphous ITO layer (a-ITO, used for forming the organic EL element 6 was used instead of the conductive polymer layer instead of the conductive polymer layer formed on the silver nanowire electrode. An organic EL device 14 was produced in the same manner except that the electrode 6) was changed.

〔有機EL素子15の作製〕
上記有機EL素子13の陽極13の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子7の形成に用いたアモルファスIZO層(a−IZO、電極7)に変更した以外は同様にして、有機EL素子15を作製した。
[Production of Organic EL Element 15]
In the preparation of the anode 13 of the organic EL element 13, the amorphous IZO layer (a-IZO, used for forming the organic EL element 7 was used instead of the conductive polymer layer instead of the conductive layer formed on the silver nanowire electrode. An organic EL element 15 was produced in the same manner except that the electrode 7) was changed.

〔有機EL素子16の作製〕
上記有機EL素子13の陽極13の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機EL素子8の形成に用いたアモルファスZnO層(a−ZnO、電極8)に変更した以外は同様にして、有機EL素子16を作製した。
[Production of Organic EL Element 16]
In the production of the anode 13 of the organic EL element 13, the conductive layer formed on the silver nanowire electrode is replaced with a conductive polymer layer, and an amorphous ZnO layer (a-ZnO, An organic EL element 16 was produced in the same manner except that the electrode 8) was changed.

《陽極及び有機EL素子の評価》
〔発熱抑制性の評価〕
上記作製した各有機EL素子に配線を施し、25℃、50%RHの環境下で、50A/mの定電流を連続30分間通電し、発光面の表面温度を非接触赤外線表面温度計(株式会社キーエンス製、超小型・小スポット赤外放射温度計IT2−50)で測定し、通電前の表面温度をT、30分通電後の表面温度をTとした時、温度上昇幅ΔT(T2−T1)を求め、下記の基準に従って発熱抑制性を評価した。
<< Evaluation of anode and organic EL element >>
[Evaluation of heat generation inhibition]
Wiring was applied to each of the organic EL devices produced above, and a constant current of 50 A / m 2 was applied for 30 minutes continuously in an environment of 25 ° C. and 50% RH, and the surface temperature of the light emitting surface was measured with a non-contact infrared surface thermometer ( Measured by Keyence Co., Ltd., ultra-small / small spot infrared thermometer IT2-50), the surface temperature before energization is T 1 , and the surface temperature after energization for 30 minutes is T 2. (T2-T1) was determined and the heat generation inhibition property was evaluated according to the following criteria.

◎:温度上昇幅ΔTが、10℃未満である
○:温度上昇幅ΔTが、10℃以上、20℃未満である
△:温度上昇幅ΔTが、20℃以上、30℃未満である
×:温度上昇幅ΔTが、30℃以上である
〔断線耐性の評価〕
上記作製した各有機EL素子に配線を施した後、下記の折り曲げ試験を行った。
A: Temperature increase width ΔT is less than 10 ° C. O: Temperature increase width ΔT is 10 ° C. or more and less than 20 ° C. Δ: Temperature increase width ΔT is 20 ° C. or more and less than 30 ° C. ×: Temperature Increase width ΔT is 30 ° C. or more [Evaluation of disconnection resistance]
After wiring was performed on each of the produced organic EL elements, the following bending test was performed.

〈折り曲げ試験〉
・試験環境 25℃、50%RH
・曲げ角度 R=10mm
・曲げ回数 100回
・曲げ方向 光発光面側が外側及び内側になる2条件を、曲げ回数1とした
・曲げ速度 60回/分
〈断線の確認〉
25℃、50%RHの環境下で、50A/mの定電流を通電し、折り曲げ試験前の電圧Vと、折り曲げ試験後の電圧Vを測定し、電圧差ΔV(V−V)を求め、下記の基準に従って断熱耐性を評価した。
<Bending test>
・ Test environment 25 ℃, 50% RH
・ Bending angle R = 10mm
・ Number of bendings: 100 times ・ Bending direction Two conditions where the light-emitting surface side is outside and inside are set to bend number of times ・ Bending speed: 60 times / minute <Confirmation of disconnection>
In an environment of 25 ° C. and 50% RH, a constant current of 50 A / m 2 was applied, voltage V 1 before the bending test and voltage V 2 after the bending test were measured, and a voltage difference ΔV (V 2 −V 1 ) was obtained, and the heat insulation resistance was evaluated according to the following criteria.

◎:電圧差ΔVが、0.5V未満である
○:電圧差ΔVが、0.5V以上、1.0V未満である
△:電圧差ΔVが、1.0V以上、2.0V未満である
×:電圧差ΔVが2.0V以上、又は断線している
〔導電性の評価〕
上記各有機EL素子の作製において、陽極まで形成した試料の陽極表面のシート抵抗値(Ω/□)を、抵抗率計(三菱化学アナリテック社製 MCP−T610)を用い、JIS−K7194に準拠して4端子4探針法定電流印加方式で測定し、下記の基準に従って導電性を評価した。
◎: Voltage difference ΔV is less than 0.5V ○: Voltage difference ΔV is 0.5V or more and less than 1.0V Δ: Voltage difference ΔV is 1.0V or more and less than 2.0V × : Voltage difference ΔV is 2.0 V or more or disconnection [Evaluation of conductivity]
In the production of each organic EL element, the sheet resistance value (Ω / □) of the anode surface of the sample formed up to the anode is compliant with JIS-K7194 using a resistivity meter (MCP-T610 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.). Then, the measurement was performed by a 4-terminal 4-probe method constant current application method, and the conductivity was evaluated according to the following criteria.

◎:シート抵抗値が、30Ω/□未満である
○:シート抵抗値が、30Ω/□以上、100Ω/□未満である
△:シート抵抗値が、100Ω/□以上、200Ω/□未満である
×:シート抵抗値が、200Ω/□以上である
以上により得られた結果を、表1に示す。
◎: Sheet resistance value is less than 30Ω / □ ○: Sheet resistance value is 30Ω / □ or more and less than 100Ω / □ △: Sheet resistance value is 100Ω / □ or more and less than 200Ω / □ × : The sheet resistance value is 200Ω / □ or more. Table 1 shows the results obtained as described above.

Figure 2016207522
Figure 2016207522

表1に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する条件を満たす透明電極を具備した有機EL素子は、比較例に対し、光発光時の放射表面の温度上昇幅小さく、折り曲げ等に対し、電圧上昇や断線がなく、かつ優れた導電性を有し、光治療用装置用の面発光光源として有効であることが分かる。   As is clear from the results shown in Table 1, the organic EL device having a transparent electrode that satisfies the conditions specified in the present invention is smaller in the temperature rise width of the radiation surface during light emission than the comparative example, and is not bent. On the other hand, it can be seen that there is no voltage rise or disconnection, it has excellent conductivity, and is effective as a surface-emitting light source for a phototherapy device.

上記作製した各有機EL素子を治療用の面発光光源として具備した光治療用装置を用いて、患者の頭部、首、肩、手首、腕、腹部、太もも、ひざ、足首、足の甲等、様々な形状を有する患部に対する光治療効果を検証した結果、本発明の光治療用装置は、その優れたフレキシブル性により、形状の患部の形状に正確にフィットさせることができ、高い光治療効果を得ることができると共に、光治療時の発熱が少なく、やけど等の心配のない安全で、かつ安定して高い治療効果を得ることができる光治療用装置であることを確認することができた。   Using a phototherapy device equipped with each of the organic EL elements produced as a surface emitting light source for treatment, the patient's head, neck, shoulder, wrist, arm, abdomen, thigh, knee, ankle, instep, etc. As a result of verifying the phototherapy effect on the affected part having various shapes, the phototherapy device of the present invention can be accurately fitted to the shape of the affected part due to its excellent flexibility, and has a high phototherapy effect We were able to confirm that this is a device for phototherapy that has low fever during phototherapy, is safe and free of worry about burns, etc., and can stably obtain high therapeutic effects. .

実施例2
実施例1における有機EL素子の構成において、図2及び図3で示す構成を、図5及び図6に示す2つの有機機能層ユニットを、中間電極を介した構成に変更した以外は同様にして、各有機EL素子21〜36を作製した。
Example 2
In the configuration of the organic EL element in Example 1, the configuration shown in FIGS. 2 and 3 is the same except that the two organic functional layer units shown in FIGS. 5 and 6 are changed to a configuration through an intermediate electrode. Each organic EL element 21-36 was produced.

実施例1に記載の有機EL素子1〜3、5〜16については、図5に記載の構成とし、陽極(3)と中間電極(5)をそれぞれ実施例1に記載の電極で構成して、有機EL素子21〜23、25〜36を作製した。   The organic EL elements 1 to 3 and 5 to 16 described in Example 1 are configured as illustrated in FIG. 5, and the anode (3) and the intermediate electrode (5) are configured by the electrodes described in Example 1, respectively. Organic EL elements 21 to 23 and 25 to 36 were produced.

また、実施例1に記載の有機EL素子4については、図6に記載の構成とし、中間電極(5)を銀薄膜電極で形成した。有機機能層ユニット4−A及び4−Bは、実施例1に記載の有機機能層ユニットを、2つ中間電極を挟んで積層して、有機EL素子24を作製した。   Moreover, about the organic EL element 4 of Example 1, it was set as the structure of FIG. 6, and the intermediate electrode (5) was formed with the silver thin film electrode. Organic functional layer units 4-A and 4-B were prepared by laminating two organic functional layer units described in Example 1 with an intermediate electrode interposed therebetween to produce an organic EL element 24.

上記作製した有機EL素子21〜36について、実施例1に記載の方法と評価を行った結果、本発明で規定する条件を満たす有機EL素子は、実施例1に対し、より高い光照射効果を得ることができ、かつ、実施例1と同様に、発熱抑制性及び断線耐性に優れ、高い導電性を有し、これを光治療用装置に具備することにより、その優れたフレキシブル性により、形状の患部の形状に正確にフィットさせることができ、高い光治療効果を得ることができると共に、光治療時の発熱が少なく、やけど等の心配のない安全で、かつ安定して高い治療効果を得ることができる光治療用装置であることを確認することができた。   As a result of performing the evaluation and the method described in Example 1 for the organic EL elements 21 to 36 produced as described above, the organic EL element that satisfies the conditions defined in the present invention has a higher light irradiation effect than Example 1. As in Example 1, it can be obtained and has excellent heat generation suppression and disconnection resistance, has high conductivity, and is provided in a phototherapy device, so that it has excellent flexibility and shape. It is possible to accurately fit the shape of the affected area of the skin, and to obtain a high light treatment effect, and to produce a safe and stable high treatment effect with less fever during phototherapy, without worrying about burns, etc. We were able to confirm that this is a phototherapy device that can be used.

1 フレキシブル基材
2 患部
3 陽極(第1電極)
4、4−A、4−B 有機機能層ユニット
5、5−1、5−2 中間電極
6 陰極(第2電極)
7、7−1、7−2 下地層
11、11−A、11−B、11−C リード線
12 発光ユニット
13 封止用接着層
14 フレキシブル封止基材
22 有機機能層群1
23 発光層
24 有機機能層群2
OLED 有機EL素子
EIL 電子注入層
ETL 電子輸送層
HIL 正孔注入層
HTL 正孔輸送層
h 発光点
L 発光光
V1、V2、V3 電圧
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible base material 2 Affected part 3 Anode (1st electrode)
4, 4-A, 4-B Organic functional layer unit 5, 5-1, 5-2 Intermediate electrode 6 Cathode (second electrode)
7, 7-1, 7-2 Underlayer 11, 11-A, 11-B, 11-C Lead wire 12 Light emitting unit 13 Adhesive layer for sealing 14 Flexible sealing substrate 22 Organic functional layer group 1
23 Light emitting layer 24 Organic functional layer group 2
OLED organic EL element EIL electron injection layer ETL electron transport layer HIL hole injection layer HTL hole transport layer h emission point L emission light V1, V2, V3 voltage

Claims (6)

フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、
前記面発光光源の発光波長が400〜2000nmの波長域にあり、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする光治療用装置。
A phototherapy device comprising an organic electroluminescence element as a surface light source on a flexible substrate,
The emission wavelength of the surface-emitting light source is in a wavelength range of 400 to 2000 nm,
The transparent electrode which comprises the said organic electroluminescent element contains the metal oxide material which has a metal material or an amorphous structure, and has flexibility, The phototherapy apparatus characterized by the above-mentioned.
前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であることを特徴とする請求項1に記載の光治療用装置。   2. The phototherapy device according to claim 1, wherein the metal oxide material is an amorphous indium oxide compound, an amorphous zinc oxide compound, or an amorphous tin oxide compound. 前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム・スズ、アモルファス酸化インジウム・亜鉛、又はアモルファス酸化亜鉛であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光治療用装置。   The phototherapy device according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide material is amorphous indium tin oxide, amorphous indium zinc oxide, or amorphous zinc oxide. 前記金属材料が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする請求項1に記載の光治療用装置。   The phototherapy device according to claim 1, wherein the metal material is silver or aluminum. 前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、銀を主成分とする金属電極層と、当該金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を有する構成であることを特徴とする請求項1又は請求項4に記載の光治療用装置。   The transparent electrode constituting the organic electroluminescence element has a metal electrode layer mainly composed of silver and a base layer containing a substance having an interaction with silver at a position adjacent to the metal electrode layer. The device for phototherapy according to claim 1 or 4, wherein 前記有機エレクトロルミネッセンス素子と共に、光化学療法剤を用いることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光治療用装置。   The phototherapy device according to any one of claims 1 to 5, wherein a photochemotherapeutic agent is used together with the organic electroluminescence element.
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