JP2016206498A - Lens formation method, photomask and light-emitting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily form a lens by significantly reducing lens formation steps.SOLUTION: A negative type lens formation material is formed on one surface of a substrate, an exposure device performs exposure via a photomask formed with a mask pattern for lens formation on a pattern formation region in a shape corresponding to a lens outer shape, a lens is formed on a light-emitting element with development, and a mask pattern 37 having a lens apex formation transmission part 37AX, a transmission part, a light shielding part 37B, and a lens outer shape formation transmission part 37AY with a prescribed width provided along a region edge is formed in the pattern formation region of the photomask. With this configuration, a columnar lens can be formed on the light-emitting element on the one surface of the substrate by preventing the interior of the lens from being inclined so as to separate from the lens apex portion by a lens outer shape part with the material formation step, exposure step and development step with one photolithography, and the lens can be easily formed by significantly reducing the lens formation steps.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明はレンズ形成方法、フォトマスク及び発光デバイスに関し、例えば、投射型表示装置に設けられるディスプレイモジュールの複数の発光素子上にそれぞれマイクロレンズを形成するレンズ形成方法、複数のマイクロレンズの形成に用いられるフォトマスク、及び複数の発光素子と当該発光素子上に形成するマイクロレンズとを有するマイクロディスプレイに適用して好適なものである。   The present invention relates to a lens forming method, a photomask, and a light emitting device, for example, a lens forming method for forming microlenses on a plurality of light emitting elements of a display module provided in a projection display device, and a method for forming a plurality of microlenses. And a photomask and a microdisplay having a plurality of light emitting elements and a microlens formed on the light emitting elements.

従来のディスプレイモジュールは、基板の一面にマトリクス状に配置された複数の発光素子上に、光利用効率を高めるための複数のマイクロレンズが形成されていた。実際に基板上に複数のマイクロレンズを形成する従来のレンズ形成手順では、まずフォトリソグラフィの手法により、第1レンズ形成工程において基板上にドライフィルムレジストを所定の厚みで形成し、第2レンズ形成工程においてドライフィルムレジストを露光し、第3レンズ形成工程においてドライフィルムレジストを現像して複数の発光素子上にそれぞれ第1レンズ支柱を形成する。次いでレンズ形成手順では、フォトリソグラフィの手法により、第4レンズ形成工程において基板上及び複数の第1レンズ支柱上にネガ型レジストを転写して所定の温度で熱処理を施すことで、複数の第1レンズ支柱をネガ型レジストで覆い、第5レンズ形成工程においてネガ型レジストを露光し、第6レンズ形成工程においてネガ型レジストを現像して複数の第1レンズ支柱上にそれぞれ上部が曲面状の第2レンズ支柱を形成する。続いてレンズ形成手順では、フォトリソグラフィの手法により、第7レンズ形成工程において基板上、複数の第1レンズ支柱上及び複数の第2レンズ支柱上にネガ型レジストを転写して所定の温度で熱処理を施すことで、複数の第1レンズ支柱及び複数の第2レンズ支柱をネガ型レジストで覆うようにして当該ネガ型レジストにおいて第2レンズ支柱の上側部分を曲面状に変形させ、第8レンズ形成工程においてネガ型レジストを露光し、第9レンズ形成工程においてネガ型レジストを現像して複数の発光素子の配置位置にそれぞれ第1レンズ支柱及び第2レンズ支柱を覆う柱状のマイクロレンズを形成していた(例えば、特許文献1参照)。   In the conventional display module, a plurality of microlenses for improving light utilization efficiency are formed on a plurality of light emitting elements arranged in a matrix on one surface of a substrate. In the conventional lens forming procedure for actually forming a plurality of microlenses on a substrate, first, a dry film resist is formed on the substrate with a predetermined thickness in a first lens forming step by a photolithography technique, and a second lens is formed. In the step, the dry film resist is exposed, and in the third lens forming step, the dry film resist is developed to form first lens columns on each of the plurality of light emitting elements. Next, in the lens formation procedure, the negative resist is transferred onto the substrate and the plurality of first lens columns in the fourth lens formation step by a photolithography technique, and heat treatment is performed at a predetermined temperature, whereby the plurality of first The lens support is covered with a negative resist, the negative resist is exposed in the fifth lens forming step, the negative resist is developed in the sixth lens forming step, and the upper portions of the plurality of first lens posts are curved. Two lens struts are formed. Subsequently, in the lens forming procedure, a negative resist is transferred onto the substrate, the plurality of first lens columns, and the plurality of second lens columns in the seventh lens forming process by a photolithography technique, and heat treatment is performed at a predetermined temperature. As a result, the first lens column and the plurality of second lens columns are covered with a negative resist so that the upper portion of the second lens column is deformed into a curved surface in the negative resist, thereby forming an eighth lens. In the step, the negative resist is exposed, and in the ninth lens forming step, the negative resist is developed to form columnar microlenses that respectively cover the first lens column and the second lens column at the positions where the plurality of light emitting elements are arranged. (For example, see Patent Document 1).

特開2013−11803公報(第9頁乃至第12頁、図1−1、図1−2)JP 2013-11803 A (page 9 to page 12, FIGS. 1-1 and 1-2)

ところが、従来のレンズ形成手順では、3回のフォトリソグラフィによる第1レンズ形成工程乃至第9レンズ形成工程により、基板上に第1レンズ支柱及び第2レンズ支柱を順次積層するように形成し、さらに第1レンズ支柱及び第2レンズ支柱を覆うようにマイクロレンズを形成しており、レンズ形成工程が多く、マイクロレンズを容易には形成し得ないという問題があった。   However, in the conventional lens forming procedure, the first lens column and the second lens column are sequentially stacked on the substrate through the first to ninth lens forming steps by photolithography three times, and further, Since the microlens is formed so as to cover the first lens support and the second lens support, there are many lens forming processes, and there is a problem that the microlens cannot be easily formed.

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、レンズ形成工程を格段的に低減してレンズを容易に形成し得るレンズ形成方法、フォトマスク及び発光デバイスを提案しようとするものである。   The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to propose a lens forming method, a photomask, and a light emitting device capable of easily forming a lens by dramatically reducing the lens forming process.

かかる課題を解決するため本発明においては、基板の一面に実装された発光素子上に柱状のレンズを形成するレンズ形成方法において、基板の一面に発光素子を覆うようにネガ型のレンズ形成用材料を形成し、露光装置を用いて、基板の一面上のレンズ形成用材料を、レンズ外形に応じた形状のパターン形成領域にレンズ形成用のマスクパターンが形成されたフォトマスクを介して露光し、基板の一面上で露光したレンズ形成用材料を現像して発光素子上にレンズを形成して、レンズ形成用材料の露光に、パターン形成領域に対し、所定位置に設けられたレンズ頂点形成用透過部と、当該レンズ頂点形成用透過部の周囲に設けられ透過部及び遮光部と、領域縁部に沿って設けられた所定の幅のレンズ外形形成用透過部とを有するマスクパターンが形成されたフォトマスクを用いるようにした。   In order to solve such a problem, in the present invention, in a lens forming method for forming a columnar lens on a light emitting element mounted on one surface of a substrate, a negative lens forming material so as to cover the light emitting element on one surface of the substrate. And using an exposure apparatus, the lens forming material on one surface of the substrate is exposed through a photomask in which a lens forming mask pattern is formed in a pattern forming region having a shape corresponding to the lens outer shape, The lens forming material exposed on one surface of the substrate is developed to form a lens on the light-emitting element, and the lens apex forming transmission provided at a predetermined position with respect to the pattern forming area is used for exposure of the lens forming material. A mask pattern that includes a transmission part and a light shielding part provided around the lens vertex forming transmission part, and a lens outer shape formation transmission part having a predetermined width provided along the edge of the region. There was to use a photomask formed.

従って本発明では、1回のフォトリソグラフィによる材料形成工程、露光工程及び現像工程により、基板の一面の発光素子上に、レンズ外形部分によってレンズ内部がレンズ頂点部分から離れるように傾くことを防止して柱状のレンズを形成することができる。   Therefore, in the present invention, the lens forming portion prevents the inside of the lens from being inclined away from the lens apex portion on the light emitting element on one surface of the substrate by a single photolithography material forming process, exposure process and developing process. Thus, a columnar lens can be formed.

本発明によれば、基板の一面に実装された発光素子上に柱状のレンズを形成するレンズ形成方法において、基板の一面に発光素子を覆うようにネガ型のレンズ形成用材料を形成し、露光装置を用いて、基板の一面上のレンズ形成用材料を、レンズ外形に応じた形状のパターン形成領域にレンズ形成用のマスクパターンが形成されたフォトマスクを介して露光し、基板の一面上で露光したレンズ形成用材料を現像して発光素子上にレンズを形成して、レンズ形成用材料の露光に、パターン形成領域に対し、所定位置に設けられたレンズ頂点形成用透過部と、当該レンズ頂点形成用透過部の周囲に設けられ透過部及び遮光部と、領域縁部に沿って設けられた所定の幅のレンズ外形形成用透過部とを有するマスクパターンが形成されたフォトマスクを用いることにより、1回のフォトリソグラフィによる材料形成工程、露光工程及び現像工程により、基板の一面の発光素子上に、レンズ外形部分によってレンズ内部がレンズ頂点部分から離れるように傾くことを防止して柱状のレンズを形成することができ、かくしてレンズ形成工程を格段的に低減してレンズを容易に形成し得るレンズ形成方法、フォトマスク及び発光デバイスを実現することができる。   According to the present invention, in a lens forming method for forming a columnar lens on a light emitting element mounted on one surface of a substrate, a negative lens forming material is formed on the one surface of the substrate so as to cover the light emitting element, and exposure is performed. Using the apparatus, the lens forming material on one surface of the substrate is exposed through a photomask in which a lens forming mask pattern is formed in a pattern forming region having a shape corresponding to the lens outer shape. The exposed lens forming material is developed to form a lens on the light-emitting element, and the lens apex forming transmission portion provided at a predetermined position with respect to the pattern forming region for exposure of the lens forming material, and the lens A photomask on which a mask pattern having a transmissive part and a light shielding part provided around a vertex forming transmissive part and a lens outer shape forming transmissive part having a predetermined width provided along a region edge is formed. By using it, the material formation process by one photolithography, the exposure process, and the development process can prevent the lens inside from being tilted away from the lens apex portion by the lens outer shape portion on the light emitting element on one surface of the substrate. A columnar lens can be formed, and thus a lens forming method, a photomask, and a light emitting device that can easily form a lens by dramatically reducing the lens forming step can be realized.

第1の実施の形態によるディスプレイモジュールの構成を示す略線的斜視図である。It is a rough-line perspective view which shows the structure of the display module by 1st Embodiment. ディスプレイモジュールの等価回路を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the equivalent circuit of a display module. LEDマイクロディスプレイの構成(1)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (1) of a LED micro display. LEDマイクロディスプレイの構成(2)を示す略線的断面図である。It is an approximate line sectional view showing composition (2) of a LED micro display. フォトマスクの構成を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure of a photomask. フォトマスクに形成されたレンズ単位マスクパターンの構成を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure of the lens unit mask pattern formed in the photomask. LED形成手順を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows a LED formation procedure. レンズ形成手順を示す略線的断面図である。It is an approximate line sectional view showing a lens formation procedure. 第2の実施の形態によるディスプレイモジュールの構成を示す略線的斜視図である。It is a rough-line perspective view which shows the structure of the display module by 2nd Embodiment. LEDマイクロディスプレイの構成(1)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (1) of a LED micro display. LEDマイクロディスプレイの構成(2)を示す略線的断面図である。It is an approximate line sectional view showing composition (2) of a LED micro display. フォトマスクに形成されたレンズ単位マスクパターンの構成を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure of the lens unit mask pattern formed in the photomask. レンズ形成手順によって基板の一面のLED上に形成されたマイクロレンズの説明に供する略線的断面図である。It is a rough sectional drawing used for description of the micro lens formed on LED of one surface of a board | substrate by the lens formation procedure. 他の実施の形態によるフォトマスクのレンズ単位マスクパターンの構成(1)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (1) of the lens unit mask pattern of the photomask by other embodiment. 他の実施の形態によるフォトマスクのレンズ単位マスクパターンの構成(2)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (2) of the lens unit mask pattern of the photomask by other embodiment. 他の実施の形態によるフォトマスクのレンズ単位マスクパターンの構成(3)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (3) of the lens unit mask pattern of the photomask by other embodiment. レンズ形成手順によって基板の一面のLED上に形成されたマイクロレンズの説明に供する略線的断面図である。It is a rough sectional drawing used for description of the micro lens formed on LED of one surface of a board | substrate by the lens formation procedure. 他の実施の形態によるフォトマスクのレンズ単位マスクパターンの構成(4)を示す略線的上面図である。It is a rough-line top view which shows the structure (4) of the lens unit mask pattern of the photomask by other embodiment. レンズ形成手順によって基板の一面のLED上に形成されたマイクロレンズの説明に供する略線的断面図である。It is a rough sectional drawing used for description of the micro lens formed on LED of one surface of a board | substrate by the lens formation procedure. 他の実施の形態によるレンズ形成手順を示す略線的断面図である。It is an approximate line sectional view showing the lens formation procedure by other embodiments.

以下図面を用いて、発明を実施するための最良の形態(以下、これを実施の形態とも呼ぶ)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
(1)第1の実施の形態
(2)第2の実施の形態
(3)他の実施の形態
The best mode for carrying out the invention (hereinafter, also referred to as an embodiment) will be described below with reference to the drawings. The description will be given in the following order.
(1) First embodiment (2) Second embodiment (3) Other embodiments

(1)第1の実施の形態
(1−1)ディスプレイモジュールの構成
図1において、1は全体として第1の実施の形態によるディスプレイモジュールを示す。ディスプレイモジュール1は、投射型表示装置(図示せず)に設けられ、自発光型の薄膜半導体発光素子である例えば、複数のLED(Light Emitting Diode)と、円柱状の複数のマイクロレンズとにより投射表示用の画像を形成するものである。因みにマイクロレンズは、例えば、レンズ径が数[μm]乃至数百[μm]程度の微小なレンズである。ディスプレイモジュール1は、基板2の一面2Aに、複数のLED及び複数のマイクロレンズからなるLEDマイクロディスプレイ3が形成されると共に、当該LEDマイクロディスプレイ3の複数のLEDを駆動するための駆動回路4が実装されている。またディスプレイモジュール1は、基板2の一面2Aに、フレキシブルフラットケーブルのようなケーブル5の一端部が固定されると共に、複数の電極を有する所定の配線パターン(図示せず)が形成されている。これによりディスプレイモジュール1は、基板2の一面2AにおいてLEDマイクロディスプレイ3の複数のLEDに駆動回路4が配線パターンを介して電気的に接続されると共に、当該駆動回路4にケーブル5の一端部が配線パターンを介して電気的に接続されている。そしてディスプレイモジュール1は、ケーブル5の他端部が、投射型表示装置の例えば、制御回路(図示せず)に電気的に接続されている。因みに基板2は、Si、GaAs、GaP、InP、GaN、ZnO等の半導体基板、AlN、Al等のセラミック基板、ガラス基板、ガラスエポキシ基板、Cu、Al等の金属基板、又はプラスチック基板である。なお基板2は、導電性材料で形成されている場合、一面2Aと配線パターンとの間、及び当該一面2Aと複数のLEDとの間に絶縁層が形成されている。また基板2は、他面2Bに例えば、絶縁性の放熱シート(図示せず)を介してヒートシンク(図示せず)や金属筐体(図示せず)が取り付けられ、LEDマイクロディスプレイ3や駆動回路4の発する熱を放熱している。
(1) First Embodiment (1-1) Configuration of Display Module In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a display module according to the first embodiment as a whole. The display module 1 is provided in a projection display device (not shown), and is a self-luminous thin film semiconductor light emitting element, for example, a plurality of LEDs (Light Emitting Diodes) and projection by a plurality of cylindrical microlenses. An image for display is formed. Incidentally, the microlens is, for example, a minute lens having a lens diameter of about several [μm] to several hundred [μm]. In the display module 1, an LED microdisplay 3 including a plurality of LEDs and a plurality of microlenses is formed on one surface 2A of the substrate 2, and a drive circuit 4 for driving the plurality of LEDs of the LED microdisplay 3 is provided. Has been implemented. In the display module 1, one end of a cable 5 such as a flexible flat cable is fixed to one surface 2 </ b> A of the substrate 2, and a predetermined wiring pattern (not shown) having a plurality of electrodes is formed. As a result, the display module 1 has the driving circuit 4 electrically connected to the plurality of LEDs of the LED micro display 3 on the one surface 2A of the substrate 2 through the wiring pattern, and one end of the cable 5 is connected to the driving circuit 4. It is electrically connected via a wiring pattern. In the display module 1, the other end of the cable 5 is electrically connected to, for example, a control circuit (not shown) of the projection display device. Incidentally, the substrate 2 is a semiconductor substrate such as Si, GaAs, GaP, InP, GaN, or ZnO, a ceramic substrate such as AlN or Al 2 O 3 , a glass substrate, a glass epoxy substrate, a metal substrate such as Cu or Al, or a plastic substrate. It is. In addition, when the board | substrate 2 is formed with the electroconductive material, the insulating layer is formed between 2 A of one surface and a wiring pattern, and between the said 2 A and the some LED. The substrate 2 has a heat sink (not shown) or a metal housing (not shown) attached to the other surface 2B via, for example, an insulating heat radiating sheet (not shown). The heat generated by 4 is dissipated.

次いで、図2を用いてディスプレイモジュール1の等価回路について説明する。LEDマイクロディスプレイ3は、パッシブ型m行k列LEDドットマトリックス型のディスプレイとして形成され、行方向にk本のアノード線10が並列に配置されると共に、当該k本のアノード線10と交差させて列方向にm本のカソード線11が並列に配置されている。そしてLEDマイクロディスプレイ3は、k本のアノード線10とm本のカソード線11との複数の交差箇所でそれぞれLED12が当該アノード線10及びカソード線11に接続されている。これによりLEDマイクロディスプレイ3では、複数(すなわちm×k個)のLED12がマトリクス状に配置されている。因みにLEDマイクロディスプレイ3の複数のLED12は、例えば、表示する画像の複数の画素に対応しており、図2において個々のLED12に付した添え字(m、k)は、当該画像内での個々の画素の座標に相当するLED12の配置位置を示している。一方、駆動回路4は、表示制御部15に、アノードドライバ16と、第1カソードドライバ17及び第2カソードドライバ18とが接続されて構成されている。アノードドライバ16には、LEDマイクロディスプレイ3のk本のアノード線10が接続されている。また第1カソードドライバ17には、m本のカソード線11のうち奇数番目のカソード線11がm/2本のカソード接続配線20を介して接続されている。さらに第2カソードドライバ18には、偶数番目のカソード線11がm/2本のカソード接続配線21を介して接続されている。さらにまた表示制御部15は、上述した配線パターン及びケーブル5を順次介して制御回路に接続されている。そして表示制御部15は、制御回路から与えられる画像データ等を解析して、当該画像データをLEDマイクロディスプレイ3において複数のLED12を個別に駆動制御して画像を表示させるためのマトリクスデータに変換する。すなわち表示制御部15は、画像データが、マトリクス状に配置された複数のLED12を個別に制御する画素単位のドットデータで構成される場合、当該ドットデータを、対応するLED12の配置位置と共に制御内容を示すアノード駆動信号及びカソード駆動信号に変換する。そして表示制御部15は、画像のフレーム単位でアノードドライバ16にアノード駆動信号を送出すると共に、第1カソードドライバ17及び第2カソードドライバ18にカソード駆動信号を送出する。このようにして表示制御部15は、LEDマイクロディスプレイ3の複数のLED12に対する画像表示用の駆動を当該画像のフレーム単位で行い、また駆動比(デューティ)制御も行う。   Next, an equivalent circuit of the display module 1 will be described with reference to FIG. The LED micro display 3 is formed as a passive-type m-row / k-column LED dot matrix-type display, and k anode lines 10 are arranged in parallel in the row direction, and intersect with the k anode lines 10. M cathode lines 11 are arranged in parallel in the column direction. In the LED micro display 3, the LEDs 12 are connected to the anode line 10 and the cathode line 11 at a plurality of intersections of the k anode lines 10 and the m cathode lines 11, respectively. Thereby, in the LED micro display 3, a plurality of (that is, m × k) LEDs 12 are arranged in a matrix. Incidentally, the plurality of LEDs 12 of the LED micro display 3 correspond to, for example, a plurality of pixels of the image to be displayed, and the subscripts (m, k) attached to the individual LEDs 12 in FIG. The arrangement position of the LED 12 corresponding to the coordinates of the pixel is shown. On the other hand, the drive circuit 4 is configured by connecting an anode driver 16, a first cathode driver 17, and a second cathode driver 18 to the display control unit 15. K anode lines 10 of the LED micro display 3 are connected to the anode driver 16. Further, odd-numbered cathode lines 11 among the m cathode lines 11 are connected to the first cathode driver 17 via m / 2 cathode connection wirings 20. Furthermore, the even-numbered cathode lines 11 are connected to the second cathode driver 18 via m / 2 cathode connection wires 21. Furthermore, the display control unit 15 is connected to the control circuit through the wiring pattern and the cable 5 described above. Then, the display control unit 15 analyzes the image data and the like given from the control circuit, and converts the image data into matrix data for displaying the image by individually controlling the plurality of LEDs 12 in the LED micro display 3. . That is, when the image data is composed of dot data in units of pixels that individually control the plurality of LEDs 12 arranged in a matrix, the display control unit 15 controls the dot data together with the arrangement positions of the corresponding LEDs 12. Are converted into an anode drive signal and a cathode drive signal. The display control unit 15 sends an anode drive signal to the anode driver 16 in units of image frames, and sends a cathode drive signal to the first cathode driver 17 and the second cathode driver 18. In this way, the display control unit 15 performs image display driving for the plurality of LEDs 12 of the LED micro display 3 in units of frames of the image, and also performs drive ratio (duty) control.

因みに表示制御部15は、例えば、所定の演算機能を有するプロセッサや複合論理回路と、当該プロセッサ等が制御回路とデータの授受を行うためのバッファと、制御回路から与えられたデータを記憶するための記憶回路と、制御回路へ所定のタイミング信号や表示タイミング信号を与え、また記憶回路等への読み出し及び書き込みのタイミング信号等を与えるタイミング信号発生回路(発振回路)と、記憶回路からのデータの読み出しや、当該データを加工することにより得られた表示データをアノード駆動信号やカソード駆動信号として出力する駆動信号出力回路と、制御回路から与えられる表示機能を示す情報や制御コマンド等を格納する各種レジスタ等とから構成されている。アノードドライバ16は、表示制御部15から与えられるアノード駆動信号(例えば、LED12を発光させる又は発光させないことを示す発光データ)に応じて、LEDマイクロディスプレイ3の複数のアノード線10に接続されているLED12の列に駆動電流を供給する機能を有している。例えば、アノードドライバ16は、シリアルのアノード駆動信号を入力して直並列変換したパラレル発光データを出力するシフトレジスタを有し、当該シフトレジスタの出力側にラッチ回路が接続されている。ラッチ回路は、シフトレジスタから出力されたパラレル発光データをラッチする回路である。そしてラッチ回路の出力側には、定電流回路が接続され、当該定電流回路の出力側に複数のアノード線10が接続されている。第1カソードドライバ17及び第2カソードドライバ18は、表示制御部15から与えられるカソード駆動信号に基づき、複数のカソード線11に接続されているLED12の行を走査する機能を有し、例えば、セレクタ回路等で構成されている。   Incidentally, the display control unit 15 stores, for example, a processor or composite logic circuit having a predetermined arithmetic function, a buffer for the processor or the like to exchange data with the control circuit, and data supplied from the control circuit. A timing signal generation circuit (oscillation circuit) for supplying a predetermined timing signal and a display timing signal to the storage circuit, a read timing and a write timing signal for the storage circuit, and the like. A drive signal output circuit for outputting display data obtained by reading or processing the data as an anode drive signal or a cathode drive signal, and various types of information for storing a display function or a control command given from the control circuit It consists of registers and so on. The anode driver 16 is connected to a plurality of anode lines 10 of the LED micro display 3 according to an anode drive signal (for example, light emission data indicating that the LED 12 emits light or does not emit light) given from the display control unit 15. It has a function of supplying a drive current to the row of LEDs 12. For example, the anode driver 16 has a shift register that inputs a serial anode drive signal and outputs parallel light-emission data that has been subjected to serial-parallel conversion, and a latch circuit is connected to the output side of the shift register. The latch circuit is a circuit that latches the parallel light emission data output from the shift register. A constant current circuit is connected to the output side of the latch circuit, and a plurality of anode lines 10 are connected to the output side of the constant current circuit. The first cathode driver 17 and the second cathode driver 18 have a function of scanning the rows of the LEDs 12 connected to the plurality of cathode lines 11 based on the cathode drive signal given from the display control unit 15. It is composed of a circuit or the like.

次いで、図3及び図4を用いて、LEDマイクロディスプレイ3の具体的な構成について説明する。因みにLEDマイクロディスプレイ3は、複数のLED12の配置された箇所が何れも同様に構成されている。よって図3には、LEDマイクロディスプレイ3において例えば、マトリクス状に4×4個のLED12が配置された箇所を部分的に示している。また図4には、LEDマイクロディスプレイ3において1個のLED12が配置された箇所を、図3に示すA1−A2切断線で切断した場合の断面として示している。図3及び図4に示すように、LEDマイクロディスプレイ3は、基板2の一面2Aに設けられた平滑化層24上に略四角形の複数のLED12が配置されると共に、当該複数のLED12上にそれぞれ光収束用の円柱状のマイクロレンズ25が位置決めされて形成されている。またLEDマイクロディスプレイ3は、基板2の一面2Aの平滑化層24上に、行方向(横方向)に長い帯状の複数のカソード線11が列方向に沿って所定の間隔で並列に形成されると共に、列方向(縦方向)に長い帯状の複数のアノード線10が層間絶縁膜26を介してカソード線11と絶縁されて形成されている。例えば、複数のLED12は、それぞれ平滑化層24に接合されたN型半導体層27の表面中央部に、活性層28とP型半導体層29とが順に積層されて形成され、当該P型半導体層29の表面が発光領域29Aになっている。そして複数のLED12は、それぞれN型半導体層27のNコンタクト部27Aに、カソード線11に突設されたNコンタクト電極11Aがオーミック接触している。また複数のLED12は、それぞれ発光領域29Aの周囲となるP型半導体層29の表面の縁部からN型半導体層27の表面の縁部に亘り絶縁層30が覆設されている。そして複数のLED12は、それぞれP型半導体層29の表面の所定の縁部に、アノード線10に突設されたPコンタクト電極10Aがオーミック接触している。一方、複数のマイクロレンズ25は、それぞれレンズ根元部25Aが円形で、かつレンズ先端部25Bの先端面が中心位置を頂点として突出する曲面状(すなわち略半球面状)に形成されている。そして複数のマイクロレンズ25は、それぞれレンズ先端部25Bの頂点からレンズ根元部25Aの中心を通る軸線が当該マイクロレンズ25の光軸となり、対応するLED12上に光軸を発光領域29Aのほぼ中央に対して垂直な仮想直線と一致させて配置されている。   Next, a specific configuration of the LED micro display 3 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Incidentally, the LED micro display 3 is configured in the same manner in each of the places where the plurality of LEDs 12 are arranged. Therefore, FIG. 3 partially shows, for example, a place where 4 × 4 LEDs 12 are arranged in a matrix in the LED micro display 3. Further, FIG. 4 shows a section where one LED 12 is arranged in the LED micro display 3 as a cross section taken along the cutting line A1-A2 shown in FIG. As shown in FIGS. 3 and 4, the LED micro display 3 includes a plurality of substantially square LEDs 12 disposed on the smoothing layer 24 provided on the one surface 2 </ b> A of the substrate 2. A cylindrical microlens 25 for light convergence is positioned and formed. In the LED micro display 3, a plurality of strip-like cathode lines 11 that are long in the row direction (lateral direction) are formed in parallel at predetermined intervals along the column direction on the smoothing layer 24 on one surface 2A of the substrate 2. In addition, a plurality of strip-like anode lines 10 that are long in the column direction (longitudinal direction) are formed so as to be insulated from the cathode lines 11 via the interlayer insulating film 26. For example, each of the plurality of LEDs 12 is formed by sequentially laminating an active layer 28 and a P-type semiconductor layer 29 at the center of the surface of an N-type semiconductor layer 27 bonded to the smoothing layer 24. The surface 29 is a light emitting region 29A. In each of the plurality of LEDs 12, the N contact electrode 11 </ b> A protruding from the cathode line 11 is in ohmic contact with the N contact portion 27 </ b> A of the N-type semiconductor layer 27. Each of the plurality of LEDs 12 is covered with an insulating layer 30 from the edge of the surface of the P-type semiconductor layer 29 around the light emitting region 29 </ b> A to the edge of the surface of the N-type semiconductor layer 27. In each of the plurality of LEDs 12, P contact electrodes 10 </ b> A protruding from the anode wires 10 are in ohmic contact with predetermined edges on the surface of the P-type semiconductor layer 29. On the other hand, each of the plurality of microlenses 25 is formed in a curved surface shape (that is, a substantially hemispherical shape) in which the lens base portion 25A is circular and the tip surface of the lens tip portion 25B protrudes with the center position as a vertex. In each of the plurality of microlenses 25, the axis passing from the apex of the lens tip 25B to the center of the lens root 25A becomes the optical axis of the microlens 25, and the optical axis on the corresponding LED 12 is approximately at the center of the light emitting region 29A. It is arranged so as to coincide with a virtual straight line perpendicular to it.

ディスプレイモジュール1は、係る構成のもと、制御回路から送出される画像データを駆動回路4の表示制御部15に取り込む。そして駆動回路4において表示制御部15は、画像データに応じた例えば、LEDマイクロディスプレイ3の第1行目の複数のLED12用の複数のアノード駆動信号(すなわち、発光データ)をシリアル信号としてアノードドライバ16に送出する。アノードドライバ16は、表示制御部15から複数のアノード駆動信号が与えられると、これらを内部のシフトレジスタに順次格納してパラレル発光データに変換した後、ラッチ回路でラッチする。そしてアノードドライバ16は、ラッチ回路の出力信号と出力イネーブル信号とにより定電流回路から、複数のLED12の発光の有無を示す所定の値の駆動電流をLEDマイクロディスプレイ3の複数のアノード線10に供給する。このとき表示制御部15は、第1カソードドライバ17及び第2カソードドライバ18にカソード駆動信号を送出している。そして第1カソードドライバ17及び第2カソードドライバ18は、それぞれカソード駆動信号に基づき、内部のセレクト回路をLEDマイクロディスプレイ3の第1行目のカソード線11と選択的に導通させる。これによりLEDマイクロディスプレイ3は、複数のアノード線10を介して第1行目の複数のLED12にそれぞれ駆動電流を供給し、当該複数のLED12をそれぞれ駆動電流に応じて適宜、発光させる。そしてLEDマイクロディスプレイ3は、複数のLED12から放射される光を、それぞれ対応するマイクロレンズ25で収束させるようにして外部へ出射する。またディスプレイモジュール1は、引き続き駆動回路4及びLEDマイクロディスプレイ3に対し、当該LEDマイクロディスプレイ3のカソード線11の数(すなわち、LED12の行数分)だけ同様の処理を順次実行させる。このようにしてディスプレイモジュール1は、LEDマイクロディスプレイ3において複数のLED12により画像データに基づく画像を投射画像光として生成すると共に、当該生成した投射画像光を複数のマイクロレンズ25を介して放射させることができる。   With this configuration, the display module 1 captures image data sent from the control circuit into the display control unit 15 of the drive circuit 4. Then, in the drive circuit 4, the display control unit 15 uses, for example, a plurality of anode drive signals (that is, light emission data) for the plurality of LEDs 12 in the first row of the LED micro display 3 as serial signals according to the image data. 16 to send. When a plurality of anode drive signals are given from the display control unit 15, the anode driver 16 sequentially stores them in an internal shift register, converts them into parallel light emission data, and then latches them with a latch circuit. The anode driver 16 supplies a drive current having a predetermined value indicating whether or not the plurality of LEDs 12 emit light to the plurality of anode lines 10 of the LED micro display 3 from the constant current circuit based on the output signal and the output enable signal of the latch circuit. To do. At this time, the display control unit 15 sends a cathode drive signal to the first cathode driver 17 and the second cathode driver 18. The first cathode driver 17 and the second cathode driver 18 selectively conduct the internal select circuit with the cathode line 11 in the first row of the LED micro display 3 based on the cathode drive signal. Thereby, the LED micro display 3 supplies a drive current to the plurality of LEDs 12 in the first row via the plurality of anode lines 10 and causes the plurality of LEDs 12 to appropriately emit light according to the drive current. Then, the LED micro display 3 emits the light emitted from the plurality of LEDs 12 to the outside so as to be converged by the corresponding micro lenses 25. In addition, the display module 1 causes the drive circuit 4 and the LED micro display 3 to sequentially execute the same processing as the number of the cathode lines 11 of the LED micro display 3 (that is, the number of rows of the LEDs 12). In this way, the display module 1 generates an image based on the image data as projection image light by the plurality of LEDs 12 in the LED micro display 3 and radiates the generated projection image light through the plurality of microlenses 25. Can do.

(1−2)LEDマイクロディスプレイの製造手順
次いで、LEDマイクロディスプレイ3の製造手順について説明する。LEDマイクロディスプレイ3の製造手順は、基板2の一面2Aに複数のLED12をアノード線10及びカソード線11等と共に形成するLED形成手順と、複数のLED12上にマイクロレンズ25を形成するレンズ形成手順とに大別することができる。そしてレンズ形成手順では、後述するように基板2の一面2Aに被膜状に形成したネガ型の透明な感光性レジスト材からなるレンズ形成用材料を、フォトマスクを用いてフォトリソグラフィの手法でパターンニングすることで、複数のLED12上にそれぞれマイクロレンズ25を配置している。ただし第1の実施の形態では、フォトマスクに、マイクロレンズ25毎に形成されるマスクパターン(以下、これをレンズ単位マスクパターンとも呼ぶ)の構成を適宜選定することで、マイクロレンズ25の形成工程を簡易化している。なおフォトマスクの複数のレンズ単位マスクパターンは、それぞれ1個のマイクロレンズ25の形成用にレンズ形成用材料を露光するためのものである。よって以下には、まずフォトマスクの構成について説明した後、LEDマイクロディスプレイ3の製造手順としてのLED形成手順とレンズ形成手順とを順に説明する。
(1-2) Manufacturing Procedure of LED Micro Display Next, a manufacturing procedure of the LED micro display 3 will be described. The manufacturing procedure of the LED micro display 3 includes an LED forming procedure for forming a plurality of LEDs 12 together with the anode lines 10 and the cathode lines 11 on the one surface 2A of the substrate 2, and a lens forming procedure for forming micro lenses 25 on the plurality of LEDs 12. Can be broadly classified. In the lens forming procedure, as will be described later, a lens forming material made of a negative transparent photosensitive resist material formed in a film shape on one surface 2A of the substrate 2 is patterned by a photolithography technique using a photomask. Thus, the microlens 25 is arranged on each of the plurality of LEDs 12. However, in the first embodiment, the process of forming the microlens 25 is selected by appropriately selecting the configuration of a mask pattern (hereinafter also referred to as a lens unit mask pattern) formed for each microlens 25 on the photomask. Is simplified. Note that the plurality of lens unit mask patterns of the photomask are for exposing a lens forming material for forming one microlens 25, respectively. Therefore, below, after explaining the structure of a photomask first, the LED formation procedure and lens formation procedure as a manufacturing procedure of LED micro display 3 are demonstrated in order.

図5に示すように、フォトマスク35は、例えば、透明なガラスや合成石英、また透明な高分子フィルムのような光透過基板36の一面に、同様構成の複数のレンズ単位マスクパターン37が、基板2上における複数のマイクロレンズ25の配置位置に対応させてマトリクス状に形成されている。またフォトマスク35は、光透過基板36の一面において複数のレンズ単位マスクパターン37の形成箇所以外にはクロムや黒化金属銀のような遮光材によって遮光膜38が形成されている。因みに図5に示すフォトマスク35においてハッチングの部分は、露光光を遮光する部分であり、ハッチングの無い部分は、露光光を透過させる部分である。この場合、図6に示すように、フォトマスク35は、光透過基板36の一面においてマイクロレンズ25のレンズ外形に応じた(すなわちレンズ根元部25Aの形状(この場合は円形)及び大きさ(この場合は直径)とほぼ等しい形状及び大きさの)レンズ単位パターン形成領域に、露光光を透過させる複数の透過部37Aと当該露光光を遮光する複数の遮光部37Bとを有するレンズ単位マスクパターン37が形成されている。因みに複数の遮光部37Bは、上述した遮光膜38と同様に形成されている。また図6には、複数の透過部37Aを黒枠で囲んで示しているが、その黒枠は遮光材によって形成されているものではなく、理解を容易にするために便宜上描いているものである。   As shown in FIG. 5, the photomask 35 has a plurality of lens unit mask patterns 37 having the same configuration on one surface of a light transmission substrate 36 such as transparent glass, synthetic quartz, or a transparent polymer film. The matrix 2 is formed in a matrix corresponding to the arrangement positions of the plurality of microlenses 25 on the substrate 2. The photomask 35 has a light-shielding film 38 formed of a light-shielding material such as chrome or blackened metal silver on the one surface of the light-transmitting substrate 36 other than where the plurality of lens unit mask patterns 37 are formed. Incidentally, in the photomask 35 shown in FIG. 5, the hatched portion is a portion that blocks the exposure light, and the non-hatched portion is a portion that transmits the exposure light. In this case, as shown in FIG. 6, the photomask 35 corresponds to the lens outer shape of the microlens 25 on one surface of the light transmitting substrate 36 (that is, the shape (in this case, the circle) and the size (the circular shape in this case) of the lens root portion 25A). In this case, a lens unit mask pattern 37 having a plurality of transmissive portions 37A for transmitting exposure light and a plurality of light-shielding portions 37B for shielding the exposure light in a lens unit pattern formation region having a shape and size substantially equal to the diameter). Is formed. Incidentally, the plurality of light shielding portions 37B are formed in the same manner as the light shielding film 38 described above. In FIG. 6, the plurality of transmission portions 37 </ b> A are surrounded by black frames, but the black frames are not formed of a light shielding material, but are drawn for convenience in order to facilitate understanding.

実際にフォトマスク35は、例えば、レンズ単位パターン形成領域の中央部にレンズ単位マスクパターン37として、レンズ形成用材料をマイクロレンズ25のレンズ先端部25Bの頂点部分及びレンズ根元部25Aの中心部分(以下、これらをまとめてレンズ頂点部分とも呼ぶ)の形成用に露光するための円形の透過部(以下、これを特にレンズ頂点形成用透過部とも呼ぶ)37AXが設けられている。またフォトマスク35は、レンズ単位パターン形成領域の領域縁部に沿ってレンズ単位マスクパターン37として、レンズ形成用材料をマイクロレンズ25のレンズ根元部25Aの外形部分(以下、これを特にレンズ外形部分とも呼ぶ)の形成用に露光するための環状の透過部(以下、これを特にレンズ外形形成用透過部とも呼ぶ)37AYが設けられている。さらにフォトマスク35は、レンズ単位パターン形成領域においてレンズ頂点形成用透過部37AXとレンズ外形形成用透過部37AYとの間にレンズ単位マスクパターン37として、レンズ形成用材料をマイクロレンズ25のレンズ頂点部分とレンズ外形部分との間の部分(以下、これをレンズ頂点周囲部分とも呼ぶ)の形成用に露光するための例えば、四角形状の複数の透過部37Aと、四角形状や略三角形状のような種々の形状の複数の遮光部37Bとが市松模様のような所定のパターンで設けられている。   Actually, the photomask 35 has, for example, a lens unit mask pattern 37 at the center of the lens unit pattern formation region, and the lens forming material is formed by using a lens forming material at the apex of the lens tip 25B and the center of the lens root 25A ( Hereinafter, a circular transmission portion (hereinafter also referred to as a lens vertex formation transmission portion) 37AX is provided for exposure for forming these together. Further, the photomask 35 is formed as a lens unit mask pattern 37 along the region edge of the lens unit pattern forming region, and the lens forming material is used as an outer portion of the lens root portion 25A of the microlens 25 (hereinafter, this is particularly referred to as a lens outer portion). An annular transmission portion (hereinafter also referred to as a lens outer shape formation transmission portion) 37AY is provided for exposure for forming a lens shape. Further, the photomask 35 is formed as a lens unit mask pattern 37 between the lens apex forming transmitting portion 37AX and the lens outer shape forming transmitting portion 37AY in the lens unit pattern forming region, and the lens forming material is used as the lens apex portion of the microlens 25. For example, a plurality of rectangular transmission parts 37A and a rectangular or substantially triangular shape for exposure for forming a portion between the lens and the outer portion of the lens (hereinafter also referred to as a lens apex peripheral portion). A plurality of light shielding portions 37B having various shapes are provided in a predetermined pattern such as a checkered pattern.

そしてレンズ頂点形成用透過部37AX及びレンズ外形形成用透過部37AYを含む複数の透過部37Aの大きさは、それぞれレンズ形成用材料の表面に照射される露光光のパターンとして露光装置の解像限界以上となる(すなわち露光装置により解像可能な)所定の大きさに適宜選定されている。因みに複数の透過部37Aのうち四角形状の透過部37Aの大きさは各辺のうち最も短い1辺の長さであり、レンズ頂点形成用透過部37AXの大きさは直径であり、レンズ外形形成用透過部37AYの大きさはレンズ単位マスクパターン37の径方向に沿った幅である。また複数の遮光部37Bの大きさは、それぞれレンズ形成用材料の表面に照射される露光光のパターンとして露光装置の解像限界以上で、かつレンズ形成用材料の解像度限界以下となる所定の大きさに適宜選定されている。因みに複数の遮光部37Bのうち四角形状の遮光部37Bの大きさは各辺のうち最も短い1辺の長さであり、略三角形等の他の形状の遮光部37Bの大きさも各辺のうち最も短い1辺の長さである。そのうえでレンズ頂点形成用透過部37AX及びレンズ外形形成用透過部37AYを含む複数の透過部37Aの中で当該レンズ頂点形成用透過部37AXの面積は、他の透過部37Aよりも露光光を透過させる割合が最も多くなるように適宜選定されている。   The sizes of the plurality of transmissive portions 37A including the lens vertex forming transmissive portion 37AX and the lens outer shape forming transmissive portion 37AY are each set as the exposure light pattern irradiated to the surface of the lens forming material. The predetermined size is selected as appropriate (that is, resolvable by the exposure apparatus). Incidentally, the size of the rectangular transmissive portion 37A among the plurality of transmissive portions 37A is the length of the shortest one of the sides, and the size of the lens apex-forming transmissive portion 37AX is the diameter, which forms the lens outer shape. The size of the transmission part 37 </ b> AY is a width along the radial direction of the lens unit mask pattern 37. The size of the plurality of light shielding portions 37B is a predetermined size that is not less than the resolution limit of the exposure apparatus and not more than the resolution limit of the lens forming material as the pattern of exposure light irradiated on the surface of the lens forming material. It is selected as appropriate. Incidentally, among the plurality of light shielding portions 37B, the size of the rectangular light shielding portion 37B is the length of the shortest side of each side, and the size of the light shielding portion 37B having another shape such as a substantially triangular shape is also included in each side. The length of the shortest side. In addition, among the plurality of transmission portions 37A including the lens vertex formation transmission portion 37AX and the lens outer shape formation transmission portion 37AY, the area of the lens vertex formation transmission portion 37AX transmits the exposure light more than the other transmission portions 37A. Appropriate selection is made to maximize the ratio.

またレンズ外形形成用透過部37AYの幅は、レンズ形成用材料において当該レンズ外形形成用透過部37AYに対応する箇所(すなわちレンズ外形形成用透過部37AYを通過した露光光の照射箇所)を、自立させずに傾かせてレンズ外形部分として(またレンズ形成用材料の表面側の一部をレンズ先端部25Bの縁部分として)光硬化させ得る所定の幅に選定されている。すなわちレンズ外形形成用透過部37AYの幅は、レンズ形成用材料をレンズ外形部分として、レンズ先端部25Bの曲面からは突出させず、かつレンズ根元部25Aを円形に形作るために十分に硬化させ得る程度の露光光を透過させる所定の幅に選定されている。なおレンズ単位マスクパターン37では、レンズ形成用材料の種類(すなわち露光光に対する感度等の特性)や露光量(露光強度)、また形成するマイクロレンズ25の大きさ等に応じてレンズ外形形成用透過部37AYの幅の最適な値は変わるが、例えば、マイクロレンズ25のレンズ径が50[μm]程度でレンズ高さも50[μm]程度の場合、レンズ外形形成用透過部37AYの幅は1[μm]程度であり、レンズ径及びレンズ高さがそれぞれ20乃至90[μm]程度の場合、レンズ外形形成用透過部37AYの幅は0.5乃至3[μm]程度である。これによりレンズ単位マスクパターン37は、フォトマスク35を介してレンズ形成用材料が露光された際、当該レンズ形成用材料においてレンズ頂点形成用透過部37AXに対応する箇所を、レンズ頂点部分として傾かせることなく自立させた状態に光硬化させることができる。またレンズ単位マスクパターン37は、レンズ形成用材料においてレンズ頂点形成用透過部37AXの周囲の複数の微細な透過部37Aに対応する箇所を、それぞれレンズ頂点部分に引き寄せられるように傾けさせてレンズ頂点周囲部分としてレンズ先端部25Bの曲面を形成させるように光硬化させることができる。さらにレンズ単位マスクパターン37は、レンズ形成用材料においてレンズ外形形成用透過部37AYに対応する箇所を、レンズ頂点部分に引き寄せられるように傾けさせつつ、レンズ外形部分として光硬化させることができる。このようにしてフォトマスク35は、複数のレンズ単位マスクパターン37が、それぞれレンズ形成用材料を円柱状のマイクロレンズ25の形成用に露光が可能なように形成されている。   In addition, the width of the lens outer shape forming transmission portion 37AY is such that the portion corresponding to the lens outer shape forming transmission portion 37AY in the lens forming material (that is, the irradiation position of the exposure light that has passed through the lens outer shape forming transmission portion 37AY) is self-supporting. It is selected to have a predetermined width that can be photocured as a lens outer shape portion (and a part on the surface side of the lens forming material as an edge portion of the lens tip portion 25B) without being inclined. That is, the width of the lens outer shape forming transmission portion 37AY can be sufficiently cured so that the lens forming material is used as a lens outer shape portion and does not protrude from the curved surface of the lens front end portion 25B, and the lens root portion 25A is formed into a circular shape. It is selected to have a predetermined width that transmits a certain amount of exposure light. In the lens unit mask pattern 37, lens outer shape transmission is performed according to the type of lens forming material (that is, characteristics such as sensitivity to exposure light), the exposure amount (exposure intensity), the size of the microlens 25 to be formed, and the like. The optimum value of the width of the portion 37AY changes. For example, when the lens diameter of the microlens 25 is about 50 [μm] and the lens height is about 50 [μm], the width of the lens outer shape forming transmission portion 37AY is 1 [ When the lens diameter and the lens height are about 20 to 90 [μm], the width of the lens outer shape forming transmission portion 37AY is about 0.5 to 3 [μm]. Thus, when the lens forming material is exposed through the photomask 35, the lens unit mask pattern 37 tilts the portion corresponding to the lens apex forming transmission portion 37AX in the lens forming material as the lens apex portion. It can be photocured in a self-supporting state without any problems. Further, the lens unit mask pattern 37 is formed by inclining the portions corresponding to the plurality of fine transmitting portions 37A around the lens apex forming transmitting portion 37AX in the lens forming material so as to be attracted to the lens apex portions. Photocuring can be performed so as to form a curved surface of the lens front end portion 25B as a peripheral portion. Further, the lens unit mask pattern 37 can be photocured as a lens outer shape portion while tilting a portion corresponding to the lens outer shape forming transmission portion 37AY in the lens forming material so as to be attracted to the lens apex portion. In this way, the photomask 35 is formed such that the plurality of lens unit mask patterns 37 can expose the lens forming material for forming the cylindrical microlens 25, respectively.

次いで、LEDマイクロディスプレイ3の製造手順としてのLED形成手順とレンズ形成手順とを順に説明する。まず図7に示すように、LED形成手順では、第1LED形成工程において、基板2の一面2Aに所定の手法で絶縁層である平滑化層24を形成した後、例えば、図示しない成長基板上に形成した複数のLED12を、当該成長基板から剥離して基板2の一面2Aの平滑化層24に接合する。次いでLED形成手順では、第2LED形成工程において、フォトリソグラフィの手法等により、基板2の一面2Aにアノード線10及びカソード線11(図7には特に図示していない)を形成して複数のLED12と電気的に接続する。このようにしてLED形成手順では、基板2の一面2Aに複数のLED12をマトリクス状に配置するようにして実装している。引き続き図8(A)に示すように、レンズ形成手順では、第1レンズ形成工程において基板2の一面2Aに、レンズ形成用材料40をスピンコート法によって塗布し、又はドライフィルム状にしてラミネートする等して、当該一面2Aに複数のLED12を覆うようにレンズ形成用材料40の被膜を形成する。因みにレンズ形成用材料40は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン、ポリイミド、ポリアミドイミド等を主な材料として用いて生成し得るが、より好ましくはLED12の発光波長に対して透過率の比較的高い材料、及び当該発光波長に対して劣化による透過率の低下が比較的低い材料を用いて生成すると良い。   Next, an LED forming procedure and a lens forming procedure as a manufacturing procedure of the LED micro display 3 will be described in order. First, as shown in FIG. 7, in the LED forming procedure, in the first LED forming step, after the smoothing layer 24 that is an insulating layer is formed on the one surface 2 </ b> A of the substrate 2 by a predetermined method, for example, on the growth substrate (not shown). The formed plurality of LEDs 12 are separated from the growth substrate and bonded to the smoothing layer 24 on the first surface 2A of the substrate 2. Next, in the LED formation procedure, in the second LED formation step, an anode line 10 and a cathode line 11 (not particularly shown in FIG. 7) are formed on one surface 2A of the substrate 2 by a photolithography technique or the like to form a plurality of LEDs 12. Connect electrically. In this way, in the LED formation procedure, the plurality of LEDs 12 are mounted in a matrix on one surface 2A of the substrate 2. Subsequently, as shown in FIG. 8A, in the lens forming procedure, the lens forming material 40 is applied to the one surface 2A of the substrate 2 by the spin coat method or laminated in the form of a dry film in the first lens forming step. For example, a film of the lens forming material 40 is formed on the one surface 2A so as to cover the plurality of LEDs 12. Incidentally, the lens forming material 40 can be produced by using epoxy resin, acrylic resin, silicone, polyimide, polyamideimide or the like as a main material, but more preferably a material having a relatively high transmittance with respect to the emission wavelength of the LED 12. , And a material with a relatively low decrease in transmittance due to deterioration with respect to the emission wavelength.

次いで図8(B)に示すように、レンズ形成手順では、第2レンズ形成工程において超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ又は遠紫外線ランプ等を露光用の光源とする所定の露光装置(図示せず)において露光台に、レンズ形成用材料40を形成した基板2を配置すると共に、上述したフォトマスク35をレンズ形成用材料40上に位置決めして対向配置する。そして第2レンズ形成工程では、露光装置により、適宜選定された露光条件のもと、光源が発射した露光光L1によってフォトマスク35を介して基板2上のレンズ形成用材料40を露光する。これにより第2レンズ形成工程では、基板2上のレンズ形成用材料40において、フォトマスク35の複数のレンズ単位マスクパターン37の透過部37Aに対応する部分を感光させて光硬化させる。因みに第2レンズ形成工程では、露光装置により例えば、基板2上のレンズ形成用材料40をデフォーカスの状態(すなわちレンズ形成用材料40の表面に対してフォーカスを合わせない状態)でフォトマスク35を介して1乃至複数回露光することで、ほぼマイクロレンズ25の形状に光硬化させることができる。また第2レンズ形成工程では、必要に応じて、露光後のレンズ形成用材料40に対してベーク処理を施すことで、当該レンズ形成用材料40において光硬化させた部分を、硬化反応を促進させて現像液に対して不溶化させることができる。   Next, as shown in FIG. 8B, in the lens forming procedure, in the second lens forming step, a predetermined exposure apparatus (extra high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, metal halide lamp, deep ultraviolet lamp or the like) is used as a light source for exposure. (Not shown), the substrate 2 on which the lens forming material 40 is formed is placed on an exposure table, and the above-described photomask 35 is positioned on the lens forming material 40 and is placed opposite to it. In the second lens formation step, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed through the photomask 35 with the exposure light L1 emitted from the light source by an exposure apparatus under appropriately selected exposure conditions. Thus, in the second lens forming step, the portion of the lens forming material 40 on the substrate 2 corresponding to the transmitting portions 37A of the plurality of lens unit mask patterns 37 of the photomask 35 is exposed and photocured. Incidentally, in the second lens forming step, for example, the photomask 35 is placed in a defocused state (that is, not focused on the surface of the lens forming material 40) by, for example, the exposure apparatus. Through one or more exposures, it can be photocured to substantially the shape of the microlens 25. In the second lens forming step, if necessary, the lens forming material 40 after exposure is baked to accelerate the curing reaction of the photocured portion of the lens forming material 40. Can be insolubilized in the developer.

続いて図8(C)に示すように、レンズ形成手順では、第3レンズ形成工程において基板2上のレンズ形成用材料40をアルカリ水溶液又は所定の溶剤を用いて現像することにより、基板2上からレンズ形成用材料40の未露光部分を溶出させるようにして除去して複数のLED12上にそれぞれマイクロレンズ25を形成する。そして第3レンズ形成工程では、基板2を回転させる等して現像後の複数のマイクロレンズ25を乾燥させた後、必要に応じて、複数のマイクロレンズ25に対してポストベーク処理を施すことで、当該複数のマイクロレンズ25を硬化させる。このようにしてレンズ形成手順では、基板2上のレンズ形成用材料40を、フォトマスク35を用いて少なくとも1回露光することで、当該基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれレンズ根元部25Aが円形で、かつレンズ先端部25Bが略半球状のマイクロレンズ25を形成することができる。   Subsequently, as shown in FIG. 8C, in the lens forming procedure, the lens forming material 40 on the substrate 2 is developed using an alkaline aqueous solution or a predetermined solvent in the third lens forming step. Then, the unexposed portions of the lens forming material 40 are removed so as to elute, and the microlenses 25 are respectively formed on the plurality of LEDs 12. In the third lens forming step, after the plurality of microlenses 25 after development are dried by rotating the substrate 2 or the like, a post-baking process is performed on the plurality of microlenses 25 as necessary. The plurality of microlenses 25 are cured. In this way, in the lens forming procedure, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed at least once using the photomask 35, so that the lens root portions are respectively formed on the plurality of LEDs 12 on the one surface 2A of the substrate 2. The microlens 25 having a circular shape 25A and a substantially hemispherical lens tip 25B can be formed.

(1−3)第1の実施の形態の動作及び効果
以上の構成において、ディスプレイモジュール1では、LEDマイクロディスプレイ3のレンズ形成手順においてレンズ形成用材料40の露光に、複数のレンズ単位パターン形成領域にそれぞれレンズ単位マスクパターン37が形成されたフォトマスク35を用いる。ただしレンズ形成手順では、フォトマスク35の複数のレンズ単位パターン形成領域において、中央部にレンズ単位マスクパターン37として、レンズ形成用材料をマイクロレンズ25のレンズ頂点部分の形成用に露光するためのレンズ頂点形成用透過部37AXを設けると共に、領域縁部に沿ってレンズ単位マスクパターン37として、レンズ外形部分の形成用に露光するための所定の幅の環状のレンズ外形形成用透過部37AYを設け、レンズ頂点形成用透過部37AXとレンズ外形形成用透過部37AYとの間にレンズ単位マスクパターン37として、レンズ形成用材料をレンズ頂点周囲部分の形成用に露光するための複数の透過部37Aと複数の遮光部37Bとを所定のパターンで設けるようにした。そしてレンズ形成手順では、第1レンズ形成工程において基板2の一面2Aにレンズ形成用材料40を形成し、次いで第2レンズ形成工程において露光装置により、光源が発射した露光光L1によってデフォーカスの状態で、フォトマスク35を介して基板2上のレンズ形成用材料40を1乃至複数回露光し、続いて第3レンズ形成工程において基板2上のレンズ形成用材料40を現像して当該基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれ円柱状のマイクロレンズ25を形成した。
(1-3) Operation and Effect of First Embodiment In the above configuration, in the display module 1, a plurality of lens unit pattern forming regions are used for exposure of the lens forming material 40 in the lens forming procedure of the LED micro display 3. A photomask 35 on which a lens unit mask pattern 37 is formed is used. However, in the lens formation procedure, a lens for exposing a lens forming material to form a lens apex portion of the microlens 25 as a lens unit mask pattern 37 at the center in a plurality of lens unit pattern formation regions of the photomask 35. In addition to providing the vertex forming transmission part 37AX, an annular lens outer shape forming transmission part 37AY having a predetermined width for exposure for forming the lens outer shape part is provided as the lens unit mask pattern 37 along the region edge, As a lens unit mask pattern 37 between the lens apex forming transmissive part 37AX and the lens outer shape forming transmissive part 37AY, a plurality of transmissive parts 37A and a plurality of transmissive parts 37A for exposing the lens forming material for forming the peripheral part of the lens apex are provided. The light shielding portion 37B is provided in a predetermined pattern. In the lens forming procedure, the lens forming material 40 is formed on the one surface 2A of the substrate 2 in the first lens forming step, and then in the second lens forming step, the exposure device defocuses with the exposure light L1 emitted by the light source. Then, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed one or more times through the photomask 35, and then the lens forming material 40 on the substrate 2 is developed in the third lens forming step to develop the substrate 2 A cylindrical microlens 25 was formed on each of the plurality of LEDs 12 on one surface 2A.

従ってレンズ形成手順では、基板2上のレンズ形成用材料40を露光した際、フォトマスク35のレンズ単位マスクパターン37のレンズ頂点形成用透過部37AXを透過した露光光L1によりレンズ形成用材料40においてマイクロレンズ25のレンズ頂点部分を自立した状態で光硬化させることできる。またレンズ形成手順では、レンズ単位マスクパターン37のレンズ外形形成用透過部37AYを透過した露光光L1によりレンズ形成用材料40においてマイクロレンズ25のレンズ外形部分を一周に亘って光硬化させることできる。よってレンズ形成手順では、レンズ単位マスクパターン37の複数の透過部37Aを透過した露光光L1によりレンズ形成用材料40においてマイクロレンズ25のレンズ頂点周囲部分として複数の箇所を光硬化させるものの、光硬化させたレンズ外形部分により、当該レンズ頂点周囲部分における複数の光硬化箇所を、レンズ頂点部分から離れるように倒れ込むことを防止して、レンズ頂点部分に寄らせるように傾けさせることができる。またレンズ形成手順では、レンズ形成用材料40においてマイクロレンズ25のレンズ外形部分の内側に十分に光硬化していない露光不足箇所が存在していても、当該レンズ形成用材料40の現像時、光硬化させたレンズ外形部分により、露光不足箇所が過剰に溶出することを防止することができる。その結果、レンズ形成手順では、マイクロレンズ25のレンズ根元部25Aが本来の太さよりも著しく細くなることを防止することができる。さらにレンズ形成手順では、レンズ単位マスクパターン37の複数の遮光部37Bによりレンズ形成用材料40においてレンズ頂点周囲部分の露光していない複数の否露光箇所に対し、現像後の乾燥において基板2を回転させた際に遠心力が作用しても、光硬化させていたレンズ外形部分により、マイクロレンズ25から当該複数の否露光箇所が剥離することを防止することができる。以上の構成によれば、LEDマイクロディスプレイ3のレンズ形成手順では、1回のフォトリソグラフィによる第1レンズ形成工程乃至第3レンズ形成工程により、基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれ円柱状のマイクロレンズ25を形成することができる。これによりLEDマイクロディスプレイ3のレンズ形成手順では、レンズ形成工程を格段的に低減してマイクロレンズ25を容易に形成することができる。   Therefore, in the lens forming procedure, when the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed, the exposure light L1 transmitted through the lens apex forming transmitting portion 37AX of the lens unit mask pattern 37 of the photomask 35 is used in the lens forming material 40. The lens apex portion of the microlens 25 can be photocured in a self-supporting state. Further, in the lens formation procedure, the lens outer shape portion of the microlens 25 can be photocured over the entire circumference of the lens forming material 40 by the exposure light L1 transmitted through the lens outer shape forming transmission portion 37AY of the lens unit mask pattern 37. Therefore, in the lens forming procedure, the exposure light L1 transmitted through the plurality of transmitting portions 37A of the lens unit mask pattern 37 is used to photocure a plurality of locations as the lens apex peripheral portion of the microlens 25 in the lens forming material 40. With the lens outer shape portion thus made, it is possible to prevent the plurality of photocuring portions in the peripheral portion of the lens apex from falling down away from the lens apex portion and to be inclined so as to approach the lens apex portion. Further, in the lens forming procedure, even if there is an underexposed portion that is not sufficiently photocured inside the lens outer shape portion of the microlens 25 in the lens forming material 40, the light during the development of the lens forming material 40 It is possible to prevent the underexposed portion from being excessively eluted by the cured lens outer shape portion. As a result, in the lens formation procedure, it is possible to prevent the lens root portion 25A of the microlens 25 from becoming significantly thinner than the original thickness. Further, in the lens formation procedure, the substrate 2 is rotated during drying after development with respect to a plurality of unexposed portions around the lens apex in the lens forming material 40 by the plurality of light shielding portions 37B of the lens unit mask pattern 37. Even if a centrifugal force is applied at this time, the plurality of non-exposed portions can be prevented from being peeled off from the microlens 25 by the lens outer shape portion that has been photocured. According to the above configuration, in the lens formation procedure of the LED micro display 3, each columnar shape is formed on the plurality of LEDs 12 on the one surface 2A of the substrate 2 by the first to third lens forming steps by one photolithography. The microlens 25 can be formed. Thereby, in the lens formation procedure of the LED micro display 3, the lens formation process can be remarkably reduced and the micro lens 25 can be easily formed.

ところで従来のレンズ形成手順では、第7レンズ形成工程において基板上に転写したネガ型レジストを熱処理することで、当該ネガ型レジストにおいて第2レンズ支柱の上側部分を、マイクロレンズの略半球状のレンズ先端部の元になる曲面状に変形させている。しかしながら従来のレンズ形成手順では、ネガ型レジストにおいて第2レンズ支柱の上側部分を所望の曲面状に変形させるための当該ネガ型レジストに対する熱処理温度や熱処理時間等の管理が難しく、ネガ型レジストが所望の曲面形状にならずにマイクロレンズを精度良く形成し得ない場合がある。これに対して第1の実施の形態によるレンズ形成手順では、レンズ形成用材料40に対して露光前に変形させるような熱処理を何ら行わず、当該レンズ形成用材料40を、フォトマスク35を介して露光するようにしてマイクロレンズ25を形作るため、当該マイクロレンズ25を精度良く形成することができる。   By the way, in the conventional lens forming procedure, the negative resist transferred onto the substrate in the seventh lens forming step is heat-treated, so that the upper portion of the second lens support in the negative resist is formed into a substantially hemispherical lens of a microlens. The tip is deformed into a curved surface. However, in the conventional lens forming procedure, it is difficult to manage the heat treatment temperature and heat treatment time for the negative resist for deforming the upper portion of the second lens column into a desired curved surface in the negative resist, and the negative resist is desired. In some cases, the microlens cannot be accurately formed without the curved shape. In contrast, in the lens forming procedure according to the first embodiment, the lens forming material 40 is not subjected to any heat treatment that causes deformation before exposure, and the lens forming material 40 is passed through the photomask 35. Since the microlens 25 is shaped so as to be exposed, the microlens 25 can be formed with high accuracy.

(2)第2の実施の形態
(2−1)ディスプレイモジュールの構成
次いで、図1との対応部分に同一符号を付した図9を用いて、第2の実施の形態によるディスプレイモジュール45の構成について説明する。ディスプレイモジュール45は、LEDマイクロディスプレイ46の一部構成を除いて、上述した第1の実施の形態によるディスプレイモジュール1と同様に構成されている。なお第2の実施の形態によるディスプレイモジュール45は、LEDマイクロディスプレイ46の一部構成が第1の実施の形態によるLEDマイクロディスプレイ3の構成とは異なるものの、等価回路については図2について上述した場合と同様であるため説明を省略する。よって以下には、図3との対応部分に同一符号を付した図10、及び図4との対応部分に同一符号を付した図11を用いて、LEDマイクロディスプレイ46において、第1の実施の形態によるLEDマイクロディスプレイ3とは構成の異なる点について説明する。因みに第2の実施の形態によるLEDマイクロディスプレイ46でも、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、基板2上に複数のLED12が配置されているが、図10には当該LEDマイクロディスプレイ46においてマトリクス状に4×4個のLED12が配置された箇所を部分的に示している。また図11には、LEDマイクロディスプレイ46において1個のLED12が配置された箇所を、図10に示すB1−B2切断線で切断した場合の断面として示している。
(2) Second Embodiment (2-1) Configuration of Display Module Next, the configuration of the display module 45 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. Will be described. The display module 45 is configured in the same manner as the display module 1 according to the first embodiment described above, except for a partial configuration of the LED micro display 46. In the display module 45 according to the second embodiment, the partial configuration of the LED micro display 46 is different from the configuration of the LED micro display 3 according to the first embodiment, but the equivalent circuit is described above with reference to FIG. Since it is the same as that, description is abbreviate | omitted. Therefore, in the following, in FIG. 10 in which the same reference numerals are assigned to the corresponding parts to FIG. 3 and FIG. 11 in which the same reference numerals are assigned to the corresponding parts to FIG. The difference in configuration from the LED micro display 3 according to the embodiment will be described. Incidentally, in the LED micro display 46 according to the second embodiment, a plurality of LEDs 12 are arranged on the substrate 2 as in the case of the first embodiment described above. FIG. 10 shows the LED micro display. In FIG. 46, a portion where 4 × 4 LEDs 12 are arranged in a matrix is partially shown. Further, FIG. 11 shows a section where one LED 12 is arranged in the LED micro display 46 as a cross section taken along the B1-B2 cutting line shown in FIG.

図10及び図11に示すように、LEDマイクロディスプレイ46は、基板2の一面2Aに設けられた平滑化層24上に、列方向(縦方向)に長い帯状の複数のアノード線47が層間絶縁膜26を介してカソード線11と絶縁されて形成されている。そしてLEDマイクロディスプレイ46は、LED12の発光領域の中央部に、アノード線47に突設されたPコンタクト電極47Aが当該発光領域を形状及び大きさのほぼ等しい2つの第1発光領域29AX及び第2発光領域29AYに分割するようにオーミック接触している。そしてLEDマイクロディスプレイ46は、複数のLED12上にそれぞれ光収束用の円柱状のマイクロレンズ48が位置決めされて形成されている。ここで複数のマイクロレンズ48は、それぞれレンズ根元部48Aが円形で、かつレンズ先端部48Bの先端面が中心位置から等距離の2点をそれぞれ頂点として突出する曲面として形成されている。すなわち複数のマイクロレンズ48は、それぞれレンズ先端部48B一方の頂点の位置を光軸位置する第1レンズ部48BXと、他方の頂点の位置を光軸位置とする第2レンズ部48BYとが一体に設けられている。そして複数のマイクロレンズ48は、対応するLED12上に、第1レンズ部48BXの光軸を第1発光領域29AXの中央にして垂直な第1仮想直線と一致させ、かつ第2レンズ部48BYの光軸を第2発光領域29AYの中央に対して垂直な第2仮想直線と一致させて配置されている。ディスプレイモジュール45は、係る構成のもと、駆動回路4が第1の実施の形態の場合と同様に動作することにより、複数のLED12の第1発光領域29AXから放射される光を、それぞれ対応するマイクロレンズ48の第1レンズ部48BXで収束させて外部へ出射させる共に、当該複数のLED12の第2発光領域29AYから放射される光を、それぞれ対応するマイクロレンズ48の第2レンズ部48BYで収束させて外部へ出射させることができる。   As shown in FIGS. 10 and 11, the LED micro display 46 has a plurality of strip-like anode lines 47 which are long in the column direction (vertical direction) on the smoothing layer 24 provided on the one surface 2 </ b> A of the substrate 2. It is formed insulated from the cathode line 11 through the film 26. In the LED micro display 46, a P contact electrode 47A projecting from the anode line 47 is formed at the center of the light emitting region of the LED 12, and the first light emitting region 29AX and the second light emitting region 29AX are substantially equal in shape and size. The ohmic contact is made so as to divide the light emitting region 29AY. The LED micro display 46 is formed by positioning a cylindrical microlens 48 for converging light on each of the plurality of LEDs 12. Here, each of the plurality of microlenses 48 is formed as a curved surface in which the lens base portion 48A is circular and the front end surface of the lens front end portion 48B protrudes from two points that are equidistant from the center position. That is, in each of the plurality of microlenses 48, the first lens portion 48BX in which the position of one apex of the lens tip 48B is located on the optical axis and the second lens portion 48BY in which the position of the other apex is located on the optical axis are integrated. Is provided. The plurality of microlenses 48 are arranged on the corresponding LEDs 12 so that the optical axis of the first lens portion 48BX is in the center of the first light emitting region 29AX and coincides with the first virtual straight line that is vertical, and the light of the second lens portion 48BY. The axis is arranged so as to coincide with the second imaginary straight line perpendicular to the center of the second light emitting region 29AY. The display module 45 respond | corresponds to the light radiated | emitted from 1st light emission area | region 29AX of several LED12 by operating the drive circuit 4 similarly to the case of 1st Embodiment based on the structure which concerns, respectively. The first lens portion 48BX of the microlens 48 is converged and emitted to the outside, and the light emitted from the second light emitting areas 29AY of the plurality of LEDs 12 is converged by the corresponding second lens portion 48BY of the microlens 48. And can be emitted to the outside.

(2−2)LEDマイクロディスプレイの製造手順
次いで、LEDマイクロディスプレイ46の製造手順について説明する。LEDマイクロディスプレイ46の製造手順は、上述した第1の実施の形態の場合と同様に、LED形成手順とレンズ形成手順とに大別することができる。そしてLED形成手順では、基本的には第1の実施の形態の場合と同様にして、基板2の一面2Aに複数のLED12をアノード線47及びカソード線11等と共に形成する。またレンズ形成手順では、レンズ形成用材料40の露光に用いるフォトマスクが、上述した第1の実施の形態によるフォトマスク35とは異なるだけで、処理手順自体は、上述した第1の実施の形態の場合と同様である。よって以下には、レンズ形成手順においてレンズ形成用材料40の露光に用いるフォトマスクについて説明する。係るフォトマスクは、図5について上述した第1の実施の形態によるフォトマスク35と同様に、光透過基板36の一面に、同様構成の複数のレンズ単位マスクパターンが、基板2上における複数のマイクロレンズ48の配置位置に対応させて形成されると共に、当該複数のレンズ単位マスクパターンの形成箇所以外に遮光膜38が形成されている。
(2-2) Manufacturing Procedure of LED Micro Display Next, a manufacturing procedure of the LED micro display 46 will be described. The manufacturing procedure of the LED micro display 46 can be roughly divided into an LED formation procedure and a lens formation procedure, as in the case of the first embodiment described above. In the LED formation procedure, a plurality of LEDs 12 are formed together with the anode line 47 and the cathode line 11 on the one surface 2A of the substrate 2 basically in the same manner as in the first embodiment. In the lens formation procedure, the photomask used for exposure of the lens forming material 40 is different from the photomask 35 according to the first embodiment described above, and the processing procedure itself is the same as that in the first embodiment described above. It is the same as the case of. Therefore, hereinafter, a photomask used for exposure of the lens forming material 40 in the lens forming procedure will be described. Similar to the photomask 35 according to the first embodiment described above with reference to FIG. 5, such a photomask has a plurality of lens unit mask patterns having the same configuration on one surface of the light transmission substrate 36, and a plurality of micromasks on the substrate 2. A light shielding film 38 is formed in addition to the positions where the plurality of lens unit mask patterns are formed, corresponding to the arrangement positions of the lenses 48.

ただし図12に示すように、フォトマスク49は、レンズ単位パターン形成領域の中心位置から等距離の2箇所のうち一方に、レンズ単位マスクパターン50として、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ48の第1レンズ部48BXの頂点部分及びレンズ根元部48Aの対応部分(以下、これらをまとめて第1レンズ頂点部分とも呼ぶ)の形成用に露光するための円形の第1レンズ頂点形成用透過部50AXが設けられている。またフォトマスク49は、レンズ単位パターン形成領域の中心位置から等距離の2箇所のうち他方に、レンズ単位マスクパターン50として、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ48の第2レンズ部48BYの頂点部分及びレンズ根元部48Aの対応部分(以下、これらをまとめて第2レンズ頂点部分とも呼ぶ)の形成用に露光するための円形の第2レンズ頂点形成用透過部50AYが設けられている。さらにフォトマスク49は、レンズ単位パターン形成領域の領域縁部に沿ってレンズ単位マスクパターン50として、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ48のレンズ外形部分の形成用に露光するための所定の幅の環状のレンズ外形形成用透過部50AZが設けられている。さらにまたフォトマスク49は、レンズ単位パターン形成領域において第1レンズ頂点形成用透過部50AXと第2レンズ頂点形成用透過部50AYとレンズ外形形成用透過部50AZとの間にレンズ単位マスクパターン50として、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ48の第1レンズ頂点部分と第2レンズ頂点部分とレンズ外形部分との間のレンズ頂点周囲部分の形成用に露光するための例えば、矩形状の複数の透過部50Aと、矩形状や略三角形状のような種々の形状の複数の遮光部50Bとが市松模様のような所定のパターンで設けられている。   However, as shown in FIG. 12, the photomask 49 has the lens forming material 40 as the lens unit mask pattern 50 in one of two locations equidistant from the center position of the lens unit pattern formation region. A circular first lens apex forming transmission portion 50AX for exposure for forming a vertex portion of one lens portion 48BX and a corresponding portion of the lens base portion 48A (hereinafter collectively referred to as a first lens apex portion) is provided. Is provided. In addition, the photomask 49 has the lens unit material 40 as the lens unit mask pattern 50 at the other of the two positions equidistant from the center position of the lens unit pattern formation region, and the apex portion of the second lens portion 48BY of the microlens 48. And a circular second lens apex forming transmission portion 50AY for exposure for forming a corresponding portion of the lens root portion 48A (hereinafter collectively referred to as a second lens apex portion). Furthermore, the photomask 49 has a predetermined width for exposing the lens forming material 40 for forming the lens outer shape portion of the microlens 48 as the lens unit mask pattern 50 along the region edge of the lens unit pattern forming region. An annular lens outer shape forming transmission portion 50AZ is provided. Furthermore, the photomask 49 is formed as a lens unit mask pattern 50 between the first lens apex forming transmission part 50AX, the second lens apex formation transmission part 50AY, and the lens outer shape formation transmission part 50AZ in the lens unit pattern formation region. For example, a plurality of rectangular transmissions for exposing the lens forming material 40 to form a lens apex peripheral portion between the first lens apex portion, the second lens apex portion, and the lens outer shape portion of the microlens 48. The part 50A and a plurality of light shielding parts 50B having various shapes such as a rectangular shape or a substantially triangular shape are provided in a predetermined pattern such as a checkered pattern.

そしてレンズ単位マスクパターン50は、第1レンズ頂点形成用透過部50AX、第2レンズ頂点形成用透過部50AY及びレンズ外形形成用透過部50AZを含む複数の透過部50Aの大きさや複数の遮光部50Bの大きさが、上述した第1の実施の形態によるフォトマスク35の場合と同様に適宜選定されている。このようにしてフォトマスク49は、複数のレンズ単位マスクパターン50が、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ48の形成用に露光が可能なように形成されている。よってレンズ形成手順では、第1レンズ形成工程において基板2の一面2Aにレンズ形成用材料40を形成した後、第2レンズ形成工程において露光装置により、光源が発射した露光光L1によってフォトマスク49を介して基板2上のレンズ形成用材料40を露光し、次いで第3レンズ形成工程において基板2上のレンズ形成用材料40を現像することで、図13に示すように、基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれレンズ根元部48Aが円形で、かつレンズ先端部48Bが第1レンズ部48BX及び第2レンズ部48BYを有するマイクロレンズ48を形成することができる。   The lens unit mask pattern 50 includes a size of a plurality of transmission parts 50A including a first lens vertex formation transmission part 50AX, a second lens vertex formation transmission part 50AY, and a lens outer shape formation transmission part 50AZ, and a plurality of light shielding parts 50B. Is appropriately selected as in the case of the photomask 35 according to the first embodiment described above. In this way, the photomask 49 is formed so that the plurality of lens unit mask patterns 50 can expose the lens forming material 40 for forming the microlenses 48. Therefore, in the lens forming procedure, after the lens forming material 40 is formed on the surface 2A of the substrate 2 in the first lens forming step, the photomask 49 is formed by the exposure light L1 emitted from the light source by the exposure device in the second lens forming step. Then, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed to light, and then the lens forming material 40 on the substrate 2 is developed in the third lens forming step, so that as shown in FIG. A microlens 48 having a lens root portion 48A and a lens tip portion 48B having a first lens portion 48BX and a second lens portion 48BY can be formed on the plurality of LEDs 12, respectively.

(2−3)第2の実施の形態の動作及び効果
以上の構成において、ディスプレイモジュール45では、LEDマイクロディスプレイ46のレンズ形成手順においてレンズ形成用材料40の露光に用いるフォトマスク49の複数のレンズ単位パターン形成領域にそれぞれ、第1レンズ頂点形成用透過部50AX及び第2レンズ頂点形成用透過部50AYを有するレンズ単位マスクパターン50を形成した。そしてレンズ形成手順では、第1レンズ形成工程において基板2の一面2Aにレンズ形成用材料40を形成し、次いで第2レンズ形成工程において露光装置により、光源が発射した露光光L1によってデフォーカスの状態で、フォトマスク49を介して基板2上のレンズ形成用材料40を1乃至複数回露光し、続いて第3レンズ形成工程において基板2上のレンズ形成用材料40を現像して当該基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれ円柱状のマイクロレンズ48を形成した。以上の構成によれば、LEDマイクロディスプレイ46のレンズ形成手順では、1回のフォトリソグラフィによる第1レンズ形成工程乃至第3レンズ形成工程により、基板2の一面2Aの複数のLED12上にそれぞれ第1レンズ部48BX及び第2レンズ部48BYを有する円柱状のマイクロレンズ48を形成することができる。これによりLEDマイクロディスプレイ46のレンズ形成手順においても、上述した第1の実施の形態によって得られる効果と同様の効果を得ることができる。
(2-3) Operation and Effect of Second Embodiment In the above configuration, in the display module 45, a plurality of lenses of the photomask 49 used for exposure of the lens forming material 40 in the lens forming procedure of the LED micro display 46 A lens unit mask pattern 50 having a first lens apex forming transmission portion 50AX and a second lens apex formation transmission portion 50AY was formed in each unit pattern formation region. In the lens forming procedure, the lens forming material 40 is formed on the one surface 2A of the substrate 2 in the first lens forming step, and then in the second lens forming step, the exposure device defocuses with the exposure light L1 emitted by the light source. Then, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed one or more times through the photomask 49, and then the lens forming material 40 on the substrate 2 is developed in the third lens forming step to develop the substrate 2 A cylindrical microlens 48 was formed on each of the plurality of LEDs 12 on one surface 2A. According to the above configuration, in the lens formation procedure of the LED micro display 46, the first lens formation process to the third lens formation process by one photolithography are respectively performed on the plurality of LEDs 12 on the one surface 2A of the substrate 2. A cylindrical microlens 48 having a lens portion 48BX and a second lens portion 48BY can be formed. Thereby, also in the lens formation procedure of the LED micro display 46, the effect similar to the effect acquired by 1st Embodiment mentioned above can be acquired.

(3)他の実施の形態
(3−1)他の実施の形態1
なお上述した第1の実施の形態においては、フォトマスク35においてレンズ単位マスクパターン37の縁部に沿って(すなわちレンズ単位パターン形成領域の領域縁部に沿って)環状のレンズ外形形成用透過部37AYを設けるようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、例えば、図14に示すように、フォトマスク55においてレンズ単位マスクパターン56の縁部に沿って複数の円弧状のレンズ外形形成用透過部56AYを順に設けるようにしても良い。そして本発明は、隣接するレンズ外形形成用透過部56AYの間隙を、露光装置の解像限界以上となる所定の間隙に選定すると共に、複数のレンズ外形形成用透過部56AYの長さを遮光部56Bの大きさ(すなわち、遮光部56Bの各辺のうち最も短い1辺)1個分よりも長い所定の等しい長さに選定する。本発明は、係る構成によっても、フォトマスク55を介してレンズ形成用材料40が露光された際、レンズ形成用材料40においてレンズ単位マスクパターン56の複数のレンズ外形形成用透過部56AYに対応する箇所をそれぞれレンズ頂点部分に引き寄せられるように傾けさせつつ、レンズ外形部分として光硬化させることができる。よって本発明は、係る構成によっても、複数のイED12上にそれぞれ円柱状のマイクロレンズを形成することができ、第1の実施の形成によって得られる効果と同様の効果を得ることができる。また本発明は、係る構成の場合、レンズ単位マスクパターン56の縁部に沿って長さの等しい複数の円弧状のレンズ外形形成用透過部56AYを設けることで、フォトマスク55を介してレンズ形成用材料40が露光された際、複数のレンズ外形形成用透過部56AYに対応する箇所をそれぞれレンズ頂点部分に引き寄せられるようにほぼ等しい傾斜角度で傾けさせることができる。その結果、本発明は、レンズ外形部分の一周に亘るレンズ頂点部分への傾き方に部分的なばらつきが生じて、マイクロレンズにおいてレンズ根元部とレンズ先端部との境界部分に歪みが生じることを防止することができる。
(3) Other embodiments (3-1) Other embodiments 1
In the first embodiment described above, an annular lens outer shape forming transmission portion is provided along the edge of the lens unit mask pattern 37 in the photomask 35 (that is, along the region edge of the lens unit pattern formation region). The case where 37AY is provided has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 14, a plurality of arc-shaped lens outer shape forming transmission portions 56 </ b> AY are sequentially provided along the edge of the lens unit mask pattern 56 in the photomask 55. Anyway. In the present invention, the gap between adjacent lens outline forming transmission portions 56AY is selected as a predetermined gap that is equal to or greater than the resolution limit of the exposure apparatus, and the length of the plurality of lens outline formation transmission portions 56AY is set to the light shielding portion. A predetermined equal length longer than one size of 56B (that is, the shortest one of the sides of the light shielding portion 56B) is selected. The present invention also corresponds to the plurality of lens outer shape forming transmission portions 56AY of the lens unit mask pattern 56 in the lens forming material 40 when the lens forming material 40 is exposed through the photomask 55 even with such a configuration. The part can be photocured as a lens outer shape part while being inclined so as to be attracted to the lens apex part. Therefore, according to the present invention, a cylindrical microlens can be formed on each of the plurality of EDs 12 even with such a configuration, and the same effect as that obtained by the first embodiment can be obtained. Further, according to the present invention, in the case of such a configuration, a plurality of arc-shaped lens outer shape forming transmission portions 56AY having the same length are provided along the edge portion of the lens unit mask pattern 56, thereby forming a lens through the photomask 55. When the material 40 is exposed, the portions corresponding to the plurality of lens outer shape forming transmission portions 56AY can be inclined at substantially the same inclination angle so as to be attracted to the lens apex portion. As a result, according to the present invention, there is a partial variation in the inclination to the lens apex portion over the circumference of the lens outer shape portion, and distortion occurs in the boundary portion between the lens root portion and the lens tip portion in the microlens. Can be prevented.

(3−2)他の実施の形態2
また上述した第1の実施の形態においては、フォトマスク35のレンズ単位マスクパターン37においてレンズ頂点形成用透過部37AXとレンズ外形形成用透過部37AYとの間に四角形状の複数の透過部37Aと、四角形状や略三角形状のような種々の形状の複数の遮光部37Bとを市松模様のような所定のパターンで設けるようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、例えば図15に示すように、フォトマスク60のレンズ単位マスクパターン61においてレンズ頂点形成用透過部61AXとレンズ外形形成用透過部61AYとの間に、レンズ形成用材料40をマイクロレンズ25のレンズ頂点周囲部分の形成用に露光するための例えば、それぞれ径が異なり、かつレンズ単位マスクパターン61の径方向に沿った幅が適宜選定された環状の1又は複数の透過部61AZと1又は複数の遮光部61Bとを同心円状に順次交互に設けるようにしても良い。本発明は、係る構成によれば、レンズ単位マスクパターン61が形成されたフォトマスク60を介してレンズ形成用材料40を露光した場合、当該レンズ形成用材料40において透過部61AZに対応する環状の箇所を、レンズ頂点部分に引き寄せられるように傾けさせてレンズ頂点周囲部分としてレンズ先端部25Bの曲面を形成するように光硬化させることができる。また本発明は、レンズ形成用材料40において遮光部61Bに対応する箇所が環状に繋がっているため、露光や露光後の現像でばらばらになってレンズ頂上部分から離れる方向へ傾くことを防止することができる。よって本発明は、係る構成のレンズ単位マスクパターン61が形成されたフォトマスク60を介してレンズ形成用材料40を露光しても、上述した第1の実施の形態の場合と同様に円柱状のマイクロレンズ25を形成することができる。また本発明は、係る構成の場合、フォトマスク60のレンズ単位マスクパターン61において1又は複数の透過部61AZ及び1又は複数の遮光部61Bをそれぞれ環状として同心円状に設けるため、当該フォトマスク60の設計を簡易化することができる。ところで本発明は、フォトマスク60のレンズ単位マスクパターン61に設ける1又は複数の透過部61AZや1又は複数の遮光部61Bを環状とはせずに、多角形状にしても良い。また本発明は、フォトマスク60のレンズ単位マスクパターン61に設ける1又は複数の透過部61AZや1又は複数の遮光部61Bを、これらの割合の調整やマイクロレンズ25に歪みが生じることを回避するために周方向に沿って適宜分割した円弧状や弓形状等にしても良い。また本発明は、これら種々の構成を、他の実施の形態1について上述したレンズ単位パターン形成領域の縁部に沿って複数の円弧状のレンズ外形形成用透過部56AYを順に設ける構成と組み合わせることもできる。
(3-2) Other Embodiment 2
In the first embodiment described above, a plurality of quadrangular transmission parts 37A are provided between the lens vertex formation transmission part 37AX and the lens outer shape formation transmission part 37AY in the lens unit mask pattern 37 of the photomask 35. A case has been described in which a plurality of light-shielding portions 37B having various shapes such as a quadrangular shape or a substantially triangular shape are provided in a predetermined pattern such as a checkered pattern. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 15, a lens is formed between the lens apex forming transmission part 61AX and the lens outer shape forming transmission part 61AY in the lens unit mask pattern 61 of the photomask 60. For example, for exposing the material 40 for forming the peripheral portion of the lens apex of the microlens 25, one or a plurality of annular shapes each having a different diameter and appropriately selected in the radial direction of the lens unit mask pattern 61 The transmissive portions 61AZ and the one or more light shielding portions 61B may be alternately provided in a concentric fashion. According to the present invention, when the lens forming material 40 is exposed through the photomask 60 on which the lens unit mask pattern 61 is formed, the annular shape corresponding to the transmission portion 61AZ in the lens forming material 40 is obtained. The portion can be tilted so as to be attracted to the lens apex portion, and can be photocured so as to form a curved surface of the lens front end portion 25B as a portion around the lens apex. Further, in the present invention, since the portions corresponding to the light shielding portion 61B in the lens forming material 40 are connected in a ring shape, the lens forming material 40 is prevented from being separated in the direction away from the top portion of the lens by being separated by exposure or development after exposure. Can do. Therefore, in the present invention, even if the lens forming material 40 is exposed through the photomask 60 in which the lens unit mask pattern 61 having the above structure is formed, the columnar shape is the same as in the case of the first embodiment described above. The microlens 25 can be formed. Further, according to the present invention, in the case of such a configuration, in the lens unit mask pattern 61 of the photomask 60, one or a plurality of transmission portions 61AZ and one or a plurality of light shielding portions 61B are provided in a concentric manner as an annular shape. Design can be simplified. By the way, in the present invention, one or a plurality of transmission portions 61AZ and one or a plurality of light shielding portions 61B provided in the lens unit mask pattern 61 of the photomask 60 may be polygonal without being annular. In addition, the present invention avoids the adjustment of the ratio of one or a plurality of transmission portions 61AZ and the one or a plurality of light-shielding portions 61B provided in the lens unit mask pattern 61 of the photomask 60 or distortion of the microlens 25. Therefore, an arc shape or a bow shape that is appropriately divided along the circumferential direction may be used. In the present invention, these various configurations are combined with a configuration in which a plurality of arc-shaped lens outer shape forming transmission portions 56AY are sequentially provided along the edge of the lens unit pattern formation region described above for the first embodiment. You can also.

(3−3)他の実施の形態3
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、フォトマスク35、49のレンズ単位マスクパターン37、50において中央部や、中心位置から等距離の2箇所に、レンズ頂点形成用透過部37AXや、第1レンズ頂点形成用透過部50AX及び第2レンズ頂点形成用透過部50AYを設けるようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、例えば、図16に示すように、フォトマスク65のレンズ単位マスクパターン66において中心位置とレンズ外形形成用透過部66AXとの間の所定位置に円形のレンズ頂点形成用透過部66AYを設けるようにしても良い。そして本発明は、レンズ単位マスクパターン66においてレンズ頂点形成用透過部66AYの大きさ(すなわち直径)を、フォトマスク65を介してレンズ形成用材料40が露光された際、当該レンズ形成用材料40においてレンズ頂点形成用透過部66AYに対応する箇所を、レンズ頂点部分として傾かせることなく自立させた状態に光硬化させ得る所定の大きさ(すなわち露光装置による解像限界以上の所定の大きさ)に選定する。本発明は、係る構成によれば、図17に示すように、レンズ形成用材料40を、フォトマスク65を介して露光した後、現像することで、基板2の一面2AのLED12上に円柱状のマイクロレンズ67を、レンズ先端部67Aの先端面を中心位置からずれた位置を頂点として突出させる曲面状にした偏心レンズとして形成することができる。また本発明は、例えば、図18に示すように、フォトマスク70のレンズ単位マスクパターン71において中央部にレンズ頂点形成用透過部71AXを設けると共に、当該レンズ頂点形成用透過部71AXとレンズ外形形成用透過部71AYとの間に、環状のレンズ頂点形成用透過部71AZを設けるようにしても良い。そして本発明は、レンズ単位マスクパターン71においてレンズ頂点形成用透過部71AZの大きさ(すなわちレンズ単位マスクパターン71の径方向に沿った幅)を、フォトマスク70を介してレンズ形成用材料40が露光された際、当該レンズ形成用材料40においてレンズ頂点形成用透過部71AZに対応する箇所を、環状のレンズ頂点部分として傾かせることなく自立させた状態に光硬化させ得る所定の大きさ(すなわち露光装置による解像限界以上の所定の大きさ)に選定する。本発明は、係る構成によれば、図19に示すように、レンズ形成用材料40を、フォトマスク70を介して露光した後、現像することで、基板2の一面2AのLED12上にレンズ先端部72Aの先端面を、中心位置を頂点として突出させると共に、当該頂点を中心とする円の位置を一周に亘り頂上として突出させる波紋のような曲面状にした円柱状のマイクロレンズ72を形成することができる。因みに本発明は、これら種々の構成を、他の実施の形態1で上述したレンズ単位パターン形成領域の縁部に沿って複数の円弧状のレンズ外形形成用透過部56AYを順に設ける構成と組み合わせることもできる。
(3-3) Other Embodiment 3
Further, in the first and second embodiments described above, the lens apex forming transmission portion 37AX is provided at the central portion of the lens unit mask patterns 37, 50 of the photomasks 35, 49, or at two locations equidistant from the central position. In addition, the case where the first lens apex forming transmitting portion 50AX and the second lens apex forming transmitting portion 50AY are provided has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 16, a circular lens apex is formed at a predetermined position between the center position and the lens outer shape forming transmission portion 66AX in the lens unit mask pattern 66 of the photomask 65. The forming transmission part 66AY may be provided. In the lens unit mask pattern 66, when the lens forming material 40 is exposed to the size (that is, the diameter) of the lens apex forming transmitting portion 66AY through the photomask 65, the lens forming material 40 is provided. A predetermined size that can be photocured in a self-supporting state without tilting the portion corresponding to the lens apex forming transmission portion 66AY as a lens apex portion (that is, a predetermined size that is greater than or equal to the resolution limit by the exposure apparatus) Select According to the present invention, as shown in FIG. 17, the lens forming material 40 is exposed to light through a photomask 65 and then developed to develop a cylindrical shape on the LED 12 on the first surface 2 </ b> A of the substrate 2. The microlens 67 can be formed as a decentered lens having a curved surface that protrudes with the position where the tip surface of the lens tip portion 67A deviates from the center position as a vertex. In the present invention, for example, as shown in FIG. 18, in the lens unit mask pattern 71 of the photomask 70, a lens apex forming transmission part 71AX is provided at the center, and the lens apex forming transmission part 71AX and the lens outer shape formation are provided. An annular lens apex forming transmission part 71AZ may be provided between the transmission part 71AY for use. In the present invention, the size of the lens apex forming transmission portion 71AZ in the lens unit mask pattern 71 (that is, the width along the radial direction of the lens unit mask pattern 71) is determined by the lens forming material 40 via the photomask 70. When exposed, the lens forming material 40 has a predetermined size that can be photocured in a self-supporting state without tilting the portion corresponding to the lens apex forming transmitting portion 71AZ as an annular lens apex portion (that is, Select a predetermined size that is equal to or greater than the resolution limit of the exposure apparatus). According to the present invention, as shown in FIG. 19, the lens forming material 40 is exposed through a photomask 70 and then developed, so that the front end of the lens is formed on the LED 12 on the first surface 2A of the substrate 2. A cylindrical microlens 72 having a curved surface such as a ripple that projects the tip surface of the portion 72A with the center position as a vertex and the position of a circle centering on the vertex as a top is formed. be able to. Incidentally, the present invention combines these various configurations with a configuration in which a plurality of arc-shaped lens outer shape forming transmission portions 56AY are sequentially provided along the edge of the lens unit pattern formation region described in the other embodiment 1. You can also.

(3−4)他の実施の形態4
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、基板2の一面2Aにおいて複数のLED12上にそれぞれマイクロレンズ25、48を形成するようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、基板2の一面2Aおいて複数のマイクロレンズ25、48の間に遮光部を設けるようにしても良い。例えば、図20(A)に示すように、レンズ形成手順では、フォトリソグラフィの手法により、基板2の一面2Aにおいて複数のLED12上に、ネガ型の透明な感光性レジスト材からなるレンズ形成用材料をもとにレンズ支柱75を形成する。次いで図20(B)に示すように、レンズ形成手順では、フォトリソグラフィの手法により、基板2の一面2Aにおいて複数のレンズ支柱75の間隙にスピンコート法やスクリーン印刷法、ディスペンサによって充填した黒色レジスト又は白色レジストをもとに、当該複数のレンズ支柱75の間隙に遮光部76を形成する。因みに黒色レジストは、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂のような所定の樹脂材に、カーボンブラックやチタンブラックのような所定の黒色着色剤を分散させて生成することができる。また白色レジストは、例えば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂、オレフィン樹脂のような所定の樹脂材に、ルチル型酸化チタンや酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、アスベスト、酸化亜鉛のような所定の白色着色剤を分散させて生成することができる。続いて図20(C)に示すように、レンズ形成手順では、フォトリソグラフィの手法により、基板2の一面2A上に複数のレンズ支柱75及び遮光部76を覆うようにレンズ形成用材料40をコーティングし、露光装置により当該基板2上のレンズ形成用材料40を例えば、図5及び図6について上述したフォトマスク35を介して露光した後、現像し、必要に応じて熱処理を施す。これにより図20(D)示すように、レンズ形成手順では、基板2の一面2Aにおいて複数のLED12上に、それぞれレンズ支柱75と一体化した円柱状のマイクロレンズ77を形成すると共に、複数のマイクロレンズ77の間隙に遮光部76を介在させることができる。
(3-4) Other Embodiment 4
Further, in the first and second embodiments described above, the case where the microlenses 25 and 48 are respectively formed on the plurality of LEDs 12 on the one surface 2A of the substrate 2 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a light shielding portion may be provided between the plurality of microlenses 25 and 48 on the surface 2A of the substrate 2. For example, as shown in FIG. 20A, in the lens forming procedure, a lens forming material made of a negative transparent photosensitive resist material on the plurality of LEDs 12 on one surface 2A of the substrate 2 by a photolithography technique. Then, the lens support 75 is formed. Next, as shown in FIG. 20B, in the lens formation procedure, a black resist in which the gap between the plurality of lens columns 75 is filled with a spin coating method, a screen printing method, or a dispenser on one surface 2A of the substrate 2 by a photolithography technique. Alternatively, the light shielding portion 76 is formed in the gap between the plurality of lens columns 75 based on the white resist. For example, the black resist can be generated by dispersing a predetermined black colorant such as carbon black or titanium black in a predetermined resin material such as an acrylic resin or an epoxy resin. In addition, the white resist is prepared by dispersing a predetermined white colorant such as rutile titanium oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, asbestos, or zinc oxide in a predetermined resin material such as an epoxy resin, an acrylic resin, or an olefin resin. Can be generated. Subsequently, as shown in FIG. 20C, in the lens forming procedure, the lens forming material 40 is coated on the one surface 2A of the substrate 2 so as to cover the plurality of lens columns 75 and the light shielding portion 76 by a photolithography technique. Then, the lens forming material 40 on the substrate 2 is exposed through, for example, the photomask 35 described above with reference to FIGS. 5 and 6 by the exposure apparatus, developed, and subjected to heat treatment as necessary. As a result, as shown in FIG. 20D, in the lens forming procedure, a cylindrical microlens 77 integrated with the lens support 75 is formed on the plurality of LEDs 12 on one surface 2A of the substrate 2, and a plurality of microlenses are formed. A light blocking portion 76 can be interposed in the gap between the lenses 77.

本発明は、係る構成によれば、遮光部76を黒色レジストから形成している場合、LED12が発光してマイクロレンズ77の側面方向へ放射される光を当該遮光部76で吸収することができる。その結果、本発明は、マイクロレンズ77の側面方向へ放射される光が、隣接するLED12等に対して迷光となることを抑制することができる。また本発明は、遮光部76を白色レジストから形成している場合、LED12が発光してマイクロレンズ77の側面方向へ放射される光を当該遮光部76によりマイクロレンズ77の内部(すなわちマイクロレンズ77の一部であるレンズ支柱75の内部)に反射させることができる。その結果、本発明は、この場合もマイクロレンズ77の側面方向へ放射される光が、隣接するLED12等に対して迷光となることを抑制することができるが、これに加えて遮光部76によりマイクロレンズ77の内部に反射した光を当該マイクロレンズ77のレンズ先端部から外部へ出射させることができる。さらに本発明は、複数のLED12上にレンズ支柱75を形成したうえで、当該レンズ支柱75と一体化したマイクロレンズ77を形成することで、アスペクト比の比較的高いマイクロレンズ77を得ることができる。   According to the present invention, when the light shielding part 76 is formed of a black resist, the light shielding part 76 can absorb the light emitted from the LED 12 and radiated in the side surface direction of the microlens 77. . As a result, the present invention can suppress the light radiated in the side surface direction of the microlens 77 from becoming stray light with respect to the adjacent LEDs 12 and the like. Further, according to the present invention, when the light shielding portion 76 is formed of a white resist, the light emitted from the LED 12 and emitted in the direction of the side surface of the microlens 77 is transmitted to the inside of the microlens 77 (that is, the microlens 77). Can be reflected on the inside of the lens column 75, which is a part of the lens column 75. As a result, in this case as well, the light emitted in the direction of the side surface of the microlens 77 can be suppressed from becoming stray light with respect to the adjacent LEDs 12 and the like. Light reflected inside the microlens 77 can be emitted from the lens tip of the microlens 77 to the outside. Furthermore, according to the present invention, the microlens 77 having a relatively high aspect ratio can be obtained by forming the lens column 75 on the plurality of LEDs 12 and then forming the microlens 77 integrated with the lens column 75. .

(3−5)他の実施の形態5
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、フォトマスク35、49のレンズ単位マスクパターン37、50に円形のレンズ頂点形成用透過部37AXや、第1レンズ頂点形成用透過部50AX及び第2レンズ頂点形成用透過部50AYを設けるようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、フォトマスク35、49のレンズ単位マスクパターン37、50に多角形のレンズ頂点形成用透過部37AXや、第1レンズ頂点形成用透過部50AX及び第2レンズ頂点形成用透過部50AYを設けるようにしても良い。本発明は、係る構成によっても、上述した第1及び第2の実施の形態によって得られる効果と同様の効果を得ることができる。なお本発明は、係る構成を他の実施の形態1乃至他の実施の形態4で上述した何れの構成とも組み合わせることができる。
(3-5) Other Embodiment 5
Furthermore, in the first and second embodiments described above, the lens unit mask patterns 37 and 50 of the photomasks 35 and 49 include a circular lens apex forming transmission part 37AX, a first lens apex formation transmission part 50AX, and The case where the second lens apex forming transmitting portion 50AY is provided has been described. However, the present invention is not limited to this, and the lens unit mask patterns 37 and 50 of the photomasks 35 and 49 include a polygonal lens apex forming transmission part 37AX, a first lens apex forming transmission part 50AX, and a second lens apex. The forming transmission part 50AY may be provided. The present invention can obtain the same effects as those obtained by the first and second embodiments described above even with such a configuration. Note that the present invention can be combined with any of the above-described configurations in the first to fourth embodiments.

(3−6)他の実施の形態6
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、本発明によるレンズ形成方法、フォトマスク及び発光デバイスを、図1及び図9について上述したディスプレイモジュール1、45のLEDマイクロディスプレイ3、46において複数のLED12上にマイクロレンズ25、48を形成するレンズ形成方法、当該マイクロレンズ25、48の形成に用いるフォトマスク35、49、及び複数のLED12と当該LED12上に形成されたマイクロレンズ25、48とを有するLEDマイクロディスプレイ3、46に適用するようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、電子写真式プリンタやMFP(Multi-Function Peripheral)、ファクシミリ等の画像形成装置に設けられる露光部において複数のLED上にマイクロレンズを形成するレンズ形成方法、当該マイクロレンズの形成に用いるフォトマスク、及びその露光部や、基板の一面に形成された有機EL(Electro Luminescence)素子や無機EL素子等の発光素子上にマイクロレンズを形成するレンズ形成方法、当該マイクロレンズの形成に用いるフォトマスク、及びその有機EL素子や無機EL素子等の1又は複数の発光素子と当該発光素子上に形成されたマイクロレンズとを有する発光デバイス等のように、この他種々のレンズ形成方法、フォトマスク及び発光デバイスに広く適用することができる。
(3-6) Other Embodiment 6
Furthermore, in the first and second embodiments described above, the lens forming method, photomask and light emitting device according to the present invention are applied to the LED microdisplays 3 and 46 of the display modules 1 and 45 described above with reference to FIGS. Lens forming method for forming microlenses 25 and 48 on the plurality of LEDs 12, photomasks 35 and 49 used for forming the microlenses 25 and 48, and microlenses 25 and 48 formed on the plurality of LEDs 12 and the LEDs 12. The case where the present invention is applied to the LED microdisplays 3 and 46 having the above is described. However, the present invention is not limited to this, and a lens forming method for forming microlenses on a plurality of LEDs in an exposure unit provided in an image forming apparatus such as an electrophotographic printer, an MFP (Multi-Function Peripheral), and a facsimile, A photomask used for forming a microlens, a lens forming method for forming a microlens on a light emitting element such as an organic EL (Electro Luminescence) element or an inorganic EL element formed on one surface of the photomask and its exposed portion, and the microlens Various other types such as a photomask used for forming a lens and a light emitting device having one or a plurality of light emitting elements such as an organic EL element or an inorganic EL element and a microlens formed on the light emitting element. The present invention can be widely applied to a lens forming method, a photomask, and a light emitting device.

(3−7)他の実施の形態7
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、基板の一面に実装された発光素子として、図1及び図9について上述した四角形の発光領域を有するLED12を適用するようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、有機EL素子や無機EL素子、楕円形や5角形以上の多角形、円形の発光領域を有する発光素子等のように、この他種々の構成の発光素子を広く適用することができる。
(3-7) Other Embodiment 7
Further, in the first and second embodiments described above, the case where the LED 12 having the rectangular light emitting region described above with reference to FIGS. 1 and 9 is applied as the light emitting element mounted on one surface of the substrate will be described. It was. However, the present invention is not limited to this, and other light-emitting elements having various configurations such as an organic EL element, an inorganic EL element, an elliptical shape, a pentagonal or more polygonal shape, and a light-emitting element having a circular light-emitting region can be used. Can be widely applied.

(3−8)他の実施の形態8
さらに上述した第1及び第2の実施の形態においては、基板の一面に実装された発光素子上に形成される柱状のレンズとして、図1及び図9について上述した円柱状のマイクロレンズ25、48、67、72、77を適用するようにした場合について述べた。しかしながら本発明は、これに限らず、角部が丸い多角形柱状のマクロレンズ、楕円柱状のマイクロレンズ等のように、この他種々の構成のレンズを広く適用することができる。
(3-8) Other Embodiment 8
Further, in the first and second embodiments described above, the columnar microlenses 25 and 48 described above with reference to FIGS. 1 and 9 are used as the columnar lenses formed on the light emitting elements mounted on one surface of the substrate. , 67, 72, 77 have been described. However, the present invention is not limited to this, and a wide variety of lenses having various configurations, such as a polygonal columnar macro lens with rounded corners and an elliptic columnar microlens, can be applied.

本発明は、LEDや有機EL素子、無機EL素子等の発光素子上にマイクロレンズを形成するレンズ形成方法、当該マイクロレンズの形成に用いるフォトマスク、及びLEDや有機EL素子、無機EL素子等の発光素子と当該発光素子上に形成されたマイクロレンズとを有する発光デバイスに利用することができる。   The present invention relates to a lens forming method for forming a microlens on a light emitting element such as an LED, an organic EL element, or an inorganic EL element, a photomask used for forming the microlens, and an LED, an organic EL element, an inorganic EL element, or the like. It can be used for a light emitting device having a light emitting element and a microlens formed on the light emitting element.

1、45……ディスプレイモジュール、2……基板、2A……一面、3、46……LEDマイクロディスプレイ、12……LED、25、48、67、72、77……マイクロレンズ、35、49、55、60、65、70……フォトマスク、37、50、56、61、66、71……レンズ単位マスクパターン、37A、50A、61AZ……透過部、37AX、61AX、66AY、71AX、71AZ……レンズ頂点形成用透過部、37AY、50AZ、56AY、61AY、66AX、71AY……レンズ外形形成用透過部、37B、50B、56B、61B、76……遮光部、40……レンズ形成用材料、50AX……第1レンズ頂点形成用透過部、50AY……第2レンズ頂点形成用透過部、75……レンズ支柱。   1, 45 ... Display module, 2 ... Substrate, 2A ... One side, 3, 46 ... LED micro display, 12 ... LED, 25, 48, 67, 72, 77 ... Micro lens, 35, 49, 55, 60, 65, 70 ... Photomask, 37, 50, 56, 61, 66, 71 ... Lens unit mask pattern, 37A, 50A, 61AZ ... Transmission part, 37AX, 61AX, 66AY, 71AX, 71AZ ... ... lens apex forming transmission part, 37AY, 50AZ, 56AY, 61AY, 66AX, 71AY ... lens outer shape forming transmission part, 37B, 50B, 56B, 61B, 76 ... light shielding part, 40 ... lens forming material, 50AX: first lens apex forming transmission part, 50AY: second lens apex forming transmission part, 75: lens support.

Claims (10)

基板の一面に実装された発光素子上に柱状のレンズを形成するレンズ形成方法であって、
前記基板の前記一面に前記発光素子を覆うようにネガ型のレンズ形成用材料を形成する材料形成工程と、
露光装置を用いて、前記基板の前記一面上の前記レンズ形成用材料を、レンズ外形に応じた形状のパターン形成領域にレンズ形成用のマスクパターンが形成されたフォトマスクを介して露光する露光工程と、
前記基板の前記一面上で露光された前記レンズ形成用材料を現像して前記発光素子上に前記レンズを形成する現像工程と
を具え、
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、所定位置に設けられたレンズ頂点形成用透過部と、当該レンズ頂点形成用透過部の周囲に設けられ透過部及び遮光部と、領域縁部に沿って設けられた所定の幅のレンズ外形形成用透過部とを有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
レンズ形成方法。
A lens forming method for forming a columnar lens on a light emitting element mounted on one surface of a substrate,
A material forming step of forming a negative lens forming material on the one surface of the substrate so as to cover the light emitting element;
An exposure process in which an exposure apparatus is used to expose the lens forming material on the one surface of the substrate through a photomask in which a lens forming mask pattern is formed in a pattern forming region having a shape corresponding to the lens outer shape. When,
Developing the lens forming material exposed on the one surface of the substrate to form the lens on the light emitting element, and
In the exposure step,
For the exposure of the lens forming material, a lens vertex forming transmission portion provided at a predetermined position with respect to the pattern formation region, a transmission portion and a light shielding portion provided around the lens vertex formation transmission portion, and a region A lens forming method using the photomask on which the mask pattern having a lens outer shape forming transmission portion having a predetermined width provided along an edge portion is formed.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記レンズ頂点形成用透過部、前記透過部及び前記レンズ外形形成用透過部の大きさが、前記露光装置の解像限界以上の大きさに選定されると共に、前記遮光部の大きさが前記露光装置の前記解像限界以上で、かつ前記レンズ形成用材料の解像度限界以下の大きさに選定された前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
請求項1に記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
For the exposure of the lens forming material, the size of the lens apex forming transmissive part, the transmissive part and the lens outer shape forming transmissive part is selected to be larger than the resolution limit of the exposure apparatus, 2. The photomask in which the mask pattern selected so that the size of the light-shielding portion is not less than the resolution limit of the exposure apparatus and not more than the resolution limit of the lens forming material is used. The lens formation method as described in.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、前記領域縁部に沿って一周に亘り設けられた前記レンズ外形形成用透過部を有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
請求項1又は請求項2に記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
For the exposure of the lens forming material, the photomask in which the mask pattern having the lens outer shape forming transmission portion provided over the entire periphery of the pattern forming region along the region edge is used. The lens forming method according to claim 1 or 2.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、前記領域縁部に沿って順に設けられた複数の前記レンズ外形形成用透過部を有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用い、
前記フォトマスクは、
複数の前記レンズ外形形成用透過部の長さが、前記遮光部の大きさ1個分以上の長さに選定され、隣接する前記レンズ外形形成用透過部の間隙が前記露光装置の解像限界以上の間隙に選定された
請求項1又は請求項2に記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
For exposure of the lens forming material, the photomask in which the mask pattern having a plurality of lens outer shape forming transmission portions provided in order along the region edge with respect to the pattern forming region is used. ,
The photomask is
The lengths of the plurality of lens outline forming transmission portions are selected to be at least one size of the light shielding portion, and a gap between adjacent lens outline formation transmission portions is a resolution limit of the exposure apparatus. The lens forming method according to claim 1 or 2, wherein the gap is selected as described above.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、領域中心位置に設けられた前記レンズ頂点形成用透過部を有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
請求項1乃至請求項4の何れかに記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
The photomask in which the mask pattern having the lens apex-forming transmissive portion provided at the center position of the pattern formation region is used for exposure of the lens forming material. 5. The lens forming method according to any one of 4 above.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、領域中心位置からずれた位置に設けられた前記レンズ頂点形成用透過部を有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
請求項1乃至請求項4の何れかに記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
The photomask in which the mask pattern having the lens apex-forming transmission portion provided at a position shifted from the center position of the region with respect to the pattern formation region is used for exposure of the lens forming material. The lens forming method according to claim 1.
前記露光工程では、
前記レンズ形成用材料の露光に、前記パターン形成領域に対し、前記レンズ頂点形成用透過部の周囲に順次交互に設けられ環状又は多角形状の前記透過部及び前記遮光部を有する前記マスクパターンが形成された前記フォトマスクを用いる
請求項1乃至請求項6の何れかに記載のレンズ形成方法。
In the exposure step,
For the exposure of the lens forming material, the mask pattern having the ring-shaped or polygonal transmissive portions and the light-shielding portions, which are alternately provided around the transmissive portion for forming the lens apex with respect to the pattern formation region, is formed. The lens forming method according to claim 1, wherein the photomask is used.
前記基板の前記一面の前記発光素子上にレンズ支柱を形成する支柱形成工程と、
前記基板の前記一面に、前記レンズ支柱に隣接させて遮光部を形成する遮光部形成工程と
を具え、
前記材料形成工程では、
前記基板の前記一面に、前記発光素子、前記レンズ支柱及び前記遮光部を覆うように前記レンズ形成用材料を形成し、
前記露光工程では、
前記露光装置を用いて、前記基板の前記一面上の前記レンズ形成用材料を、前記フォトマスクを介して露光し、
前記現像工程では、
前記基板の前記一面上で露光された前記レンズ形成用材料を現像して前記レンズ支柱上に前記レンズを形成する
請求項1乃至請求項7の何れかに記載のレンズ形成方法。
A column forming step of forming a lens column on the light emitting element on the one surface of the substrate;
A light shielding part forming step of forming a light shielding part adjacent to the lens column on the one surface of the substrate;
In the material forming step,
Forming the lens forming material on the one surface of the substrate so as to cover the light emitting element, the lens column, and the light shielding portion;
In the exposure step,
Using the exposure apparatus, the lens forming material on the one surface of the substrate is exposed through the photomask,
In the development step,
The lens forming method according to claim 1, wherein the lens forming material exposed on the one surface of the substrate is developed to form the lens on the lens column.
基板の一面に実装された発光素子上に柱状のレンズを形成する際の露光に用いられるフォトマスクであって、
レンズ外形に応じた形状のパターン形成領域に対し、所定位置に設けられたレンズ頂点形成用透過部と、当該レンズ頂点形成用透過部の周囲に設けられ透過部及び遮光部と、領域縁部に沿って設けられた所定の幅のレンズ外形形成用透過部とを有する前記マスクパターンが形成された
フォトマスク。
A photomask used for exposure when a columnar lens is formed on a light emitting element mounted on one surface of a substrate,
With respect to the pattern formation region having a shape corresponding to the lens outer shape, the lens vertex forming transmission portion provided at a predetermined position, the transmission portion and the light shielding portion provided around the lens vertex formation transmission portion, and the region edge A photomask on which the mask pattern having a lens outer shape forming transmission portion having a predetermined width is provided.
基板の一面に実装された発光素子と、
前記基板の前記一面に前記発光素子を覆うように形成されたネガ型のレンズ形成用材料を、レンズ外形に応じた形状のパターン形成領域に対し、所定位置に設けられたレンズ頂点形成用透過部と、当該レンズ頂点形成用透過部の周囲に設けられ透過部及び遮光部と、領域縁部に沿って設けられた所定の幅のレンズ外形形成用透過部とを有するマスクパターンが形成されたフォトマスクを介して露光した後、現像して前記発光素子上に形成された柱状のレンズと
を具える発光デバイス。
A light emitting device mounted on one side of the substrate;
A lens apex forming transmissive portion provided at a predetermined position with respect to a pattern forming region having a shape corresponding to the lens outer shape, with a negative lens forming material formed on the one surface of the substrate so as to cover the light emitting element. And a photomask formed with a mask pattern having a transmissive portion and a light shielding portion provided around the transmissive portion for forming the lens apex, and a transmissive portion for forming a lens outer shape having a predetermined width provided along the region edge. A light-emitting device comprising: a columnar lens formed on the light-emitting element after being exposed through a mask and developed.
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