JP2009051152A - Printer - Google Patents

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JP2009051152A JP2007222098A JP2007222098A JP2009051152A JP 2009051152 A JP2009051152 A JP 2009051152A JP 2007222098 A JP2007222098 A JP 2007222098A JP 2007222098 A JP2007222098 A JP 2007222098A JP 2009051152 A JP2009051152 A JP 2009051152A
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Kenji Kobayashi
賢次 小林
Isao Ebisawa
功 海老沢
Yoshiyuki Matsuoka
吉幸 松岡
Yoshinori Uesugi
義典 上杉
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printer using an organic EL element (electroluminescent element) as a light source of a light emission unit part, wherein dispersion of a line or an expanse of a width of one line in a main scanning direction is eliminated by especially performing control such that an exposure spot from the EL element becomes uniform. <P>SOLUTION: A large number of the organic EL elements are disposed as 16 organic EL element groups, output of power source voltage (Vsource) and a selection signal (Vselect) is controlled in each the EL element group, supply of the power source voltage (Vsource) is stopped in set timing so as to adjust light emission of the organic EL element group selected by the selection signal (Vselect) to previous measured optimum light intensity in a non-selection period, and the dispersion of the light intensity between the organic EL elements disposed in each head unit is eliminated. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は電子写真方式の印刷プロセス(以下、電子写真プロセスで示す)を使用した印刷装置に係り、特に発光ユニットの光源としてEL素子(electro luminescence element)を使用した印刷装置に関する。   The present invention relates to a printing apparatus using an electrophotographic printing process (hereinafter referred to as an electrophotographic process), and more particularly to a printing apparatus using an EL element (electroluminescence element) as a light source of a light emitting unit.

電子写真プロセスを使用した印刷装置は、一様な電荷が帯電された感光面に対して、発光ユニットから印刷データに従った発光を行い、感光面に光強度に応じた潜像を形成し、トナーによる現像、転写、定着の一連のプロセスを経て、記録媒体に印刷を行うものである。そして、上記発光ユニットの光源としては、一般にレーザやLED(light emitting diode)が使用されるが、ディスプレイ等の発光画素用途として研究されている有機EL素子を光源とする場合、特にアクティブマトリックス駆動方式による方法では、駆動スイッチ回路をパネル上に内蔵し、低消費電力で駆動できる利点があり有効である。また、アクティブマトリックス方式を採用することによって、駆動ICを削減でき、更に各LED素子に接続しているワイヤーボンディングの本数を削減することもできる。   The printing apparatus using the electrophotographic process emits light according to the print data from the light emitting unit on the photosensitive surface charged with a uniform charge, and forms a latent image corresponding to the light intensity on the photosensitive surface. Printing is performed on a recording medium through a series of processes including development, transfer, and fixing with toner. As a light source of the light emitting unit, a laser or an LED (light emitting diode) is generally used. When an organic EL element studied as a light emitting pixel application such as a display is used as a light source, an active matrix driving method is used. This method is effective because it has an advantage that the drive switch circuit is built in the panel and can be driven with low power consumption. Further, by adopting the active matrix method, it is possible to reduce the number of driving ICs, and it is also possible to reduce the number of wire bondings connected to each LED element.

特許文献1は上記有機EL素子を使用した駆動回路の発明を開示している。この駆動回路の基本的構成は、図55に示す通りであり、有機EL素子E、3個のトランジスタT1〜T3、及びコンデンサCで構成されている。また、図56はこの回路に供給される信号、及びこの回路に流れる電流の駆動を示すタイムチャートであり、図55の端子Aから入力する選択信号(Vselect)、同図の端子Bから入力する電源電圧(Vsource)、電流源Fに流し込む電流(Idata)、トランジスタT3に流れる電流(IT3)、及び有機EL素子Eに流れる電流(IE)を説明するタイムチャートである。   Patent Document 1 discloses an invention of a drive circuit using the organic EL element. The basic configuration of this drive circuit is as shown in FIG. 55, and includes an organic EL element E, three transistors T1 to T3, and a capacitor C. FIG. 56 is a time chart showing a signal supplied to this circuit and driving of a current flowing through this circuit. A selection signal (Vselect) inputted from terminal A in FIG. 55 and a signal inputted from terminal B in FIG. 5 is a time chart for explaining a power supply voltage (Vsource), a current (Idata) flowing into a current source F, a current (IT3) flowing through a transistor T3, and a current (IE) flowing through an organic EL element E.

先ず、図56の選択期間(Tse)において、上記選択信号(Vselect)を図55に示す回路に供給し、電源電圧(Vsource)の供給を停止する。この処理によって、トランジスタT1、T2がオンし、更にトランジスタT1のオンによって、トランジスタT3のゲートG及びコンデンサCに電圧が印加され、トランジスタT3がオンする。この時、発光量に従った電流(Idata、(電流(IT))が電流源Fに流れ込み、コンデンサCに電荷がチャージされる。   First, in the selection period (Tse) of FIG. 56, the selection signal (Vselect) is supplied to the circuit shown in FIG. 55, and the supply of the power supply voltage (Vsource) is stopped. By this processing, the transistors T1 and T2 are turned on. Further, when the transistor T1 is turned on, a voltage is applied to the gate G and the capacitor C of the transistor T3, and the transistor T3 is turned on. At this time, a current (Idata, (current (IT)) according to the light emission amount flows into the current source F, and the capacitor C is charged.

この電荷は、次の非選択期間(Tnse)において、トランジスタT3に同じ電流(Idata)を流すことが可能な電荷量であり、選択信号(Vselect)の供給を停止し、電源電圧(Vsource)の供給を開始した際(非選択期間)、トランジスタT2がオフ状態になると、有機EL素子Eには電流(IE)が流れる。この電流(IE)によって有機EL素子Eが発光する。
特開2003−195810号公報
This charge is an amount of charge that allows the same current (Idata) to flow through the transistor T3 in the next non-selection period (Tnse). The supply of the selection signal (Vselect) is stopped and the supply voltage (Vsource) When the supply is started (non-selection period), when the transistor T2 is turned off, a current (IE) flows through the organic EL element E. The organic EL element E emits light by this current (IE).
JP 2003-195810 A

しかしながら、上記EL素子の駆動回路を電子写真プロセスの印刷装置に使用した場合、非選択期間において、電流(IE)が流れ続けることになり、感光面上で露光する1ドットの露光サイズが副走査方向に伸びてしまう。図57(a)は理想的なビームスポットであるが、上記従来の処理では同図(b)に示すように副走査方向にビームスポットが移動し、露光ドットが副走査方向に広がる。また、EL素子自体の発光光量にもバラツキがあるため、主走査方向での1ラインの幅が広くなり、またラインの濃度も一様ではなくなる。   However, when the EL element drive circuit is used in an electrophotographic process printing apparatus, the current (IE) continues to flow during the non-selection period, and the exposure size of one dot exposed on the photosensitive surface is sub-scanned. It will stretch in the direction. FIG. 57A shows an ideal beam spot. However, in the conventional process, the beam spot moves in the sub-scanning direction and the exposure dots spread in the sub-scanning direction as shown in FIG. Further, since the amount of emitted light of the EL element itself also varies, the width of one line in the main scanning direction becomes wide, and the line density is not uniform.

そこで、本発明はEL素子からの露光スポットが一様になるように制御し、主走査方向での1ラインの幅の広がりやラインのバラツキを無くした印刷装置を提供するものである。   Therefore, the present invention provides a printing apparatus that controls the exposure spots from the EL elements to be uniform, and eliminates the width expansion of one line and the line variation in the main scanning direction.

上記課題は第1の発明によれば、複数のEL素子が主走査方向にアレイ状に配設されて成る有機ELヘッドから感光面に光照射を行い、感光面に形成された像を現像して記録媒体に印刷を行う印刷装置において、前記ELユニット毎に該ELユニットに選択信号を供給する選択信号供給手段と、該選択信号の出力後、前記ELヘッドユニット内のEL素子に発光電源を供給する、発光電源供給手段と、予め設定された前記ELヘッドユニット毎のEL素子の駆動期間の情報に基づいて前記発光電源の供給を停止する制御手段とを有する印刷装置を提供することによって達成できる。   According to the first aspect of the present invention, the photosensitive surface is irradiated with light from an organic EL head in which a plurality of EL elements are arranged in an array in the main scanning direction, and an image formed on the photosensitive surface is developed. In a printing apparatus that prints on a recording medium, a selection signal supply unit that supplies a selection signal to the EL unit for each EL unit, and a light emission power source for the EL elements in the EL head unit after the selection signal is output. This is achieved by providing a printing apparatus having a light emission power supply means to be supplied and a control means for stopping the supply of the light emission power based on information on a driving period of the EL element for each EL head unit that is set in advance. it can.

上記課題は第2の発明によれば、前記ヘッドユニット毎のELアレイの駆動期間の情報は、予めヘッドユニット毎に測定した結果に基づいて設定される印刷装置を提供することによって達成できる。   According to the second aspect of the present invention, information on the driving period of the EL array for each head unit can be achieved by providing a printing apparatus that is set based on a result measured in advance for each head unit.

上記課題は第3の発明によれば、前記選択信号の出力によって、駆動回路に形成された容量手段に電荷をチャージし、該チャージされた電荷によって切換手段を切り換え、前記発光電源を前記ELアレイに流して各有機ELアレイの発光を行う印刷装置を提供することによって達成できる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided, according to a third aspect of the present invention, that a charge is charged in a capacitor means formed in a drive circuit by the output of the selection signal, the switching means is switched by the charged charge, and the light emitting power source is connected to the EL array. This can be achieved by providing a printing apparatus that emits light from each organic EL array.

上記課題は第4の発明によれば、前記EL素子は有機EL素子であり、前記ELアレイには有機EL素子群が複数配設されている印刷装置を提供することによって達成できる。
上記課題は第5の発明によれば、複数のEL素子が形成されたELアレイ毎に該ELアレイに選択信号を供給する選択信号供給手段と、該選択信号の出力後、前記ELアレイ内のEL素子に発光電源を供給する、発光電源供給手段と、前記ELアレイを内蔵するヘッドユニット毎に設けられた記憶手段内に予め設定された前記ELヘッドユニット毎のEL素子の駆動期間の情報に基づいて前記発光電源の供給を停止する制御手段とを有するELユニットの駆動装置を提供することによって達成できる。
According to a fourth aspect of the present invention, the object can be achieved by providing a printing apparatus in which the EL element is an organic EL element, and a plurality of organic EL element groups are arranged in the EL array.
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a selection signal supply means for supplying a selection signal to the EL array for each EL array in which a plurality of EL elements are formed, and after the selection signal is output, Information on the driving period of the EL element for each EL head unit preset in the light emitting power supply means for supplying light emission power to the EL elements and the storage means provided for each head unit incorporating the EL array. This can be achieved by providing an EL unit driving device having control means for stopping the supply of the light emitting power source.

上記課題の解決手段によれば、非選択期間において電流がEL素子に流れ続けることがなく、各ヘッドユニットの特性に合わせて非選択期間の長さを調整でき、ヘッドユニット間の発光光量のバラツキを調整することができる。   According to the means for solving the above problems, current does not continue to flow through the EL element in the non-selection period, the length of the non-selection period can be adjusted according to the characteristics of each head unit, and the amount of emitted light varies between the head units. Can be adjusted.

したがって、主走査方向での1ラインの幅の広がりやラインのバラツキを無くし、印字品質の優れた印刷装置を提供することができる。   Accordingly, it is possible to provide a printing apparatus with excellent print quality by eliminating the width of one line in the main scanning direction and the line variation.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
(実施形態1)
図2は、本発明の実施形態を説明する印刷装置の要部を説明する図であり、感光体ドラム1の周面近傍には帯電ローラ2、有機ELヘッド3、現像器4、転写ローラ5、クリーニング部6、及びイレーサ7が配設されている。イレーサ7によって電荷が除去された感光体ドラム1の感光面には、帯電ローラ2によって一様な電荷が付与される。感光体ドラム1は矢印方向に回転し、一様な電荷が付与された感光面には有機ELヘッド3から印刷データに従った露光が行われ、静電潜像が形成される。このようにして感光面に形成された静電潜像は、現像器4によってトナー像となり、転写ローラ5において用紙(記録媒体)8に転写される。さらに、用紙8は不図示の搬送機構によって矢印方向に搬送され、用紙8に転写されたトナー像は、定着ローラ9によって熱定着され、機外に排出される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 2 is a diagram illustrating a main part of a printing apparatus illustrating an embodiment of the present invention. In the vicinity of the peripheral surface of the photosensitive drum 1, a charging roller 2, an organic EL head 3, a developing device 4, and a transfer roller 5 are illustrated. A cleaning unit 6 and an eraser 7 are provided. A uniform charge is applied by the charging roller 2 to the photosensitive surface of the photosensitive drum 1 from which the charge has been removed by the eraser 7. The photosensitive drum 1 rotates in the direction of the arrow, and the photosensitive surface to which a uniform charge is applied is exposed according to the print data from the organic EL head 3 to form an electrostatic latent image. The electrostatic latent image formed on the photosensitive surface in this manner is converted into a toner image by the developing device 4 and is transferred to the paper (recording medium) 8 by the transfer roller 5. Further, the paper 8 is transported in the direction of the arrow by a transport mechanism (not shown), and the toner image transferred to the paper 8 is thermally fixed by the fixing roller 9 and discharged outside the apparatus.

上記構成において、図3は感光体ドラム1と有機ELヘッド3の配設構成を示す図である。有機ELヘッド3は有機ELアレイ10とSLA(セルフォックレンズアレイ)11で構成され、有機ELアレイ10には主走査方向に多数の有機EL素子がアレイ状に配設されている。   In the above configuration, FIG. 3 is a diagram showing the arrangement of the photosensitive drum 1 and the organic EL head 3. The organic EL head 3 includes an organic EL array 10 and an SLA (selfoc lens array) 11, and the organic EL array 10 has a large number of organic EL elements arranged in an array in the main scanning direction.

図1は、上記構成の有機ELアレイ10の回路構成を示す図である。同図において、有機ELアレイ10は、主走査方向に多数の有機EL素子を配設し、例えば1200dpi、40ppm、用紙間距離50mm、A4横サイズの有機ELアレイ10を使用すると、必要な画素数は、A4横=297mm以上として例えば320mm、1dataDrvの出力数=960とすると、(320mm/(25.4mm/1200dpi))/960=15.75/mmである。また、主走査方向の1ラインの形成に許容される時間1LineTimeは、((25.4mm/1200dpi)/(210mmX40枚+50mmX40枚))/60≒122μsecである。   FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of the organic EL array 10 having the above configuration. In the figure, the organic EL array 10 is provided with a large number of organic EL elements in the main scanning direction. For example, when the organic EL array 10 having 1200 dpi, 40 ppm, a distance between sheets of 50 mm, and an A4 horizontal size is used, the required number of pixels. Assuming that A4 width = 297 mm or more, for example, 320 mm and 1 dataDrv output number = 960, (320 mm / (25.4 mm / 1200 dpi)) / 960 = 15.75 / mm. The time 1LineTime allowed for forming one line in the main scanning direction is ((25.4 mm / 1200 dpi) / (210 mm × 40 sheets + 50 mm × 40 sheets)) / 60≈122 μsec.

選択期間(Tse)は、電流ドライバ1dataDrv1へのデータ転送を含んでおり、転送終了と共に各画素への電流供給となるが、選択期間をこの1LineTimeに何回入れられるかによって、必要とされる1dastaDrv1の数量が決定される。上記算出結果の15.75より、1LineTimeに16回選択期間を設定できれば、1dataDrvの必要数は1個である。   The selection period (Tse) includes the data transfer to the current driver 1dataDrv1, and the current is supplied to each pixel at the end of the transfer. The required 1dastaDrv1 depends on how many times the selection period is put in this 1LineTime. The quantity is determined. If the selection period can be set 16 times for 1 LineTime from 15.75 of the above calculation result, the required number of 1 dataDrv is 1.

すなわち、122μsec/16=7.625μsec以内にデータ転送とコンデンサCへの電荷チャージが完了できれば、図1に示すような構成が可能となる。本例では、1個の1dataDrv1の出力が960出力おきに16分配され、画素への配線が行われている。   That is, if data transfer and charge charging to the capacitor C can be completed within 122 μsec / 16 = 7.625 μsec, a configuration as shown in FIG. 1 is possible. In this example, one output of 1 dataDrv1 is distributed 16 times every 960 outputs, and wiring to pixels is performed.

ここで、16分配された有機ELを群形式で示すと、有機EL群「1」〜「16」が有機ELアレイ10を構成し、有機EL群「1」〜「16」が列状に配設されている。また、各有機EL群「1」〜「16」には、前述のように960個の有機EL素子が形成され、各有機EL素子は図4に示す駆動回路によって駆動される。   Here, when the 16 distributed organic ELs are shown in a group format, the organic EL groups “1” to “16” constitute the organic EL array 10, and the organic EL groups “1” to “16” are arranged in a line. It is installed. Further, as described above, 960 organic EL elements are formed in each of the organic EL groups “1” to “16”, and each organic EL element is driven by the drive circuit shown in FIG.

すなわち、トランジスタT11、T12のゲート(G)には端子Aを介して選択信号(Vselect)が供給され、この選択信号(Vselect)は、図1に示す選択信号ドライバ20から各駆動回路の端子Aに供給される。また、電源電圧(Vsource)は端子Bを介してトランジスタT13のドレイン(D)に供給され、この電源電圧(Vsource)は、図1に示す電源電圧ドライバ21から各駆動回路の端子Bに供給される。また、電流源Fを有するドライバ22は、各駆動回路に接続され、各駆動回路から出力される電流(Idata)は、ドライバ22に入力する。   That is, the selection signal (Vselect) is supplied to the gates (G) of the transistors T11 and T12 via the terminal A. The selection signal (Vselect) is supplied from the selection signal driver 20 shown in FIG. To be supplied. Further, the power supply voltage (Vsource) is supplied to the drain (D) of the transistor T13 via the terminal B, and this power supply voltage (Vsource) is supplied to the terminal B of each drive circuit from the power supply voltage driver 21 shown in FIG. The The driver 22 having the current source F is connected to each drive circuit, and the current (Idata) output from each drive circuit is input to the driver 22.

また、トランジスタT11のソース(S)は、トランジスタT13のゲート(G)に接続され、トランジスタT11をオンすることによって、トランジスタT13を駆動し(オンし)、電流(IT13)を流す。また、トランジスタT13のゲート(G)とソース(S)間にはコンデンサC1が接続され、電流源Fに電流(Idata)を流し込み、電荷をチャージする。尚、電流(IE1)は有機EL素子E1に流れる電流であり、有機EL素子E1を発光し、前述の感光体ドラム1の感光面に静電潜像を形成する。   The source (S) of the transistor T11 is connected to the gate (G) of the transistor T13. By turning on the transistor T11, the transistor T13 is driven (turned on), and a current (IT13) flows. A capacitor C1 is connected between the gate (G) and the source (S) of the transistor T13, and a current (Idata) is supplied to the current source F to charge the electric charge. The current (IE1) is a current flowing through the organic EL element E1, emits light from the organic EL element E1, and forms an electrostatic latent image on the photosensitive surface of the photosensitive drum 1 described above.

有機EL素子E1の場合、平面状のベース基材にパターンニングにより画素サイズの発光素子を形成して製造されるので同じヘッドユニット内での各素子間のバラツキは、例えばLED素子を用いたヘッドと比較して非常に小さい。したがって、有機ELヘッド3に有機EL素子を使用した場合、均一な光量特性を得るためには、各素子間バラツキを補正するより、有機ELヘッドユニット毎に発生するバラツキを補正することが望ましい。以下、具体的に説明する。   In the case of the organic EL element E1, since it is manufactured by forming a light emitting element of a pixel size by patterning on a planar base substrate, the variation between elements in the same head unit is, for example, a head using LED elements. Very small compared to. Therefore, when an organic EL element is used for the organic EL head 3, in order to obtain a uniform light quantity characteristic, it is desirable to correct the variation generated for each organic EL head unit rather than correcting the variation between elements. This will be specifically described below.

図5は本例の処理を説明するタイムチャートである。前述のように、1lineTime=122μsecであるが、これはある任意の960画素単位の選択期間から次の選択期間までの時間となる。有機EL素子は960画素単位で16個、有機EL群「1」〜「16」として配設されており、960画素単位(1群単位)の選択期間に選択信号(Vselect1)をハイレベルに制御し、電源電圧(Vsource)をローレベルに制御して、各画素に対する必要電流値に従った電荷のチャージを行う(図5に示すタイミングa)。その後、選択信号(Vselect1)をローレベルに制御し、電源電圧(Vsource1)をハイレベルに制御して、非選択期間へと移行する(図5に示すタイミングb)。   FIG. 5 is a time chart for explaining the processing of this example. As described above, 1 lineTime = 122 μsec, which is the time from a selection period of an arbitrary 960 pixel unit to the next selection period. Sixteen organic EL elements are arranged as 960 pixel units as organic EL groups “1” to “16”, and the selection signal (Vselect1) is controlled to a high level during the selection period of 960 pixel units (one group unit). Then, the power supply voltage (Vsource) is controlled to a low level, and charges are charged according to the required current value for each pixel (timing a shown in FIG. 5). Thereafter, the selection signal (Vselect1) is controlled to a low level, the power supply voltage (Vsource1) is controlled to a high level, and a transition to a non-selection period is made (timing b shown in FIG. 5).

この時、同時に当該群「1」の隣の960画素(群2)に供給する選択信号(Vselect2)をハイレベルに制御し、電源電圧(Vsource2)をローレベルに制御して、当該群「2」内のコンデンサCに電荷チャージを行う(図5に示すタイミングc)。以下、同様に、有機EL群「1」〜「16」全てについて順次処理を行う。   At this time, the selection signal (Vselect2) supplied to the 960 pixels (group 2) adjacent to the group “1” is controlled to a high level and the power supply voltage (Vsource2) is controlled to a low level. Is charged (timing c shown in FIG. 5). Hereinafter, similarly, the organic EL groups “1” to “16” are sequentially processed.

この場合、非選択期間において電源電圧(Vsource)がハイレベルとなるが、本例ではこの非選択期間を制御して任意の時間でローレベルに制御することで、有機EL素子E1への電流供給を止め、有機EL素子群毎の光量制御を行う。   In this case, the power supply voltage (Vsource) is at a high level during the non-selection period. In this example, the current supply to the organic EL element E1 is controlled by controlling the non-selection period and controlling it to a low level at an arbitrary time. The light quantity control for each organic EL element group is performed.

そこで、先ずヘッドユニット全体での光量測定を予め行い、一定の値を基準にして全ての電源電圧(Vsource)の供給期間を同じ長さで制御する。すなわち、感光面で受ける露光面積によって光量エネルギーを制御し、ヘッドユニット全体での発光を一様に変化させる。   Therefore, first, the light amount of the entire head unit is measured in advance, and the supply period of all the power supply voltages (Vsource) is controlled with the same length based on a certain value. That is, the amount of light energy is controlled by the exposure area received on the photosensitive surface, and the light emission in the entire head unit is uniformly changed.

先ず、1LineTimeでの発光デューティをある任意値で1ライン幅が必要以上広くならないよう、例えば50%に設定し、有機EL素子E1を発光させて光量を測定する。そして、この測定値を基準値として、補正すべきヘッドユニットを基準デューティ値で発光して光量を測定し、基準値との差を検出し、基準値に一致するように各ヘッドユニットでの発光時間を決定する。この時間を対応するヘッドユニットの非選択期間として設定し、対応するヘッドユニットの各固有値として、メモリに記憶させる。   First, the light emission duty at 1 LineTime is set to, for example, 50% so that one line width is not increased more than necessary at a certain arbitrary value, and the light quantity is measured by causing the organic EL element E1 to emit light. Then, using this measurement value as a reference value, the head unit to be corrected emits light at the reference duty value and measures the amount of light, detects the difference from the reference value, and emits light at each head unit to match the reference value. Determine the time. This time is set as the non-selection period of the corresponding head unit, and is stored in the memory as each eigenvalue of the corresponding head unit.

図6は上記固定値を記憶する非選択期間メモリ31、当該ヘッドユニットの選択期間を計数するカウンタ32、及びシフトレジスタ33である。また、図7は上記構成の回路動作を説明するタイムチャートである。   FIG. 6 shows a non-selection period memory 31 that stores the fixed value, a counter 32 that counts the selection period of the head unit, and a shift register 33. FIG. 7 is a time chart for explaining the circuit operation of the above configuration.

水平同期信号(HSYNC)は1ラインの書き込み指示を行う信号であり、水平同期信号(HSYNC)が出力され(図7に示すタイミングa)、選択信号(Vselect1)が出力され、先ず有機EL群「1」が選択期間となる。その後、有機EL群「1」への選択信号(Vselect1)の出力が停止され、電源電圧(Vsource1)が有機EL群「1」の各有機EL素子E1に供給される(図7に示すタイミングb)。   The horizontal synchronization signal (HSYNC) is a signal for instructing writing of one line, the horizontal synchronization signal (HSYNC) is output (timing a shown in FIG. 7), the selection signal (Vselect1) is output, and the organic EL group “ “1” is the selection period. Thereafter, the output of the selection signal (Vselect1) to the organic EL group “1” is stopped, and the power supply voltage (Vsource1) is supplied to each organic EL element E1 of the organic EL group “1” (timing b shown in FIG. 7). ).

次に、カウンタ32は上記非選択期間メモリ31から予め記憶された固定値を読み出し、クロック信号(CLK)の入力に同期して計数処理を行う。この計数処理は同図に示す固定値に対応するNまで行われる。この間、次の有機EL群「2」に選択信号(Vselect2)が供給され、有機EL群「2」が選択された後、電源電圧(Vsource2)が供給され非選択期間となり、有機EL群「2」に配設された有機EL素子E1を印刷データに従って発光する(図7に示すタイミングc)。この場合にも、カウンタ32は上記非選択期間メモリ31から予め記憶された対応する固定値を読み出し、クロック信号(CLK)の入力に同期して計数処理を行う。この計数処理も固定値に対応する不図示のMまで行われる。   Next, the counter 32 reads a fixed value stored in advance from the non-selection period memory 31 and performs a counting process in synchronization with the input of the clock signal (CLK). This counting process is performed up to N corresponding to the fixed value shown in FIG. During this time, the selection signal (Vselect2) is supplied to the next organic EL group “2”, and after the organic EL group “2” is selected, the power supply voltage (Vsource2) is supplied to enter the non-selection period. The organic EL element E1 arranged in “” emits light according to the print data (timing c shown in FIG. 7). Also in this case, the counter 32 reads the corresponding fixed value stored in advance from the non-selection period memory 31, and performs the counting process in synchronization with the input of the clock signal (CLK). This counting process is also performed up to M (not shown) corresponding to the fixed value.

以下、同様にして有機EL群「3」→「4」→「5」→・・・→「16」まで実行され、当該ヘッドユニットの固定値に従った発光が非選択期間において行われる。したがって、上記のように各ヘッドユニットの特性に合わせて非選択期間の長さを調整し、ヘッドユニット間の発光光量のバラツキを抑えることができる。   Thereafter, the organic EL groups “3” → “4” → “5” →... → “16” are similarly executed, and light emission according to the fixed value of the head unit is performed in the non-selection period. Therefore, as described above, the length of the non-selection period can be adjusted according to the characteristics of each head unit, and variations in the amount of light emitted between the head units can be suppressed.

以上から、本実施形態によれば、各ヘッドユニットにおける発光期間である、非選択期間を調整することができ、ヘッドユニット間のバラツキを抑え、主走査方向での1ラインの幅の広がりを無くし、一様なライン濃度の印刷処理を行うことができる。   As described above, according to the present embodiment, the non-selection period, which is the light emission period in each head unit, can be adjusted, variation between head units can be suppressed, and the width of one line in the main scanning direction can be eliminated. Thus, a printing process with a uniform line density can be performed.

尚、本実施形態の説明では、16個の有機EL群で構成された有機ELヘッド3の例で説明したが本例に限定されるものではない。また、各有機EL群に配設する有機EL素子の数も960個に限定されるものではない。   In the description of the present embodiment, the example of the organic EL head 3 composed of 16 organic EL groups has been described, but the present embodiment is not limited to this example. Further, the number of organic EL elements disposed in each organic EL group is not limited to 960.

(実施形態2)
次に、本発明の実施形態2について説明する。
前述の実施形態では、有機ELヘッド3からSLA(セルフォックレンズアレイ)11を介して感光体ドラム1の感光面に静電潜像を形成する際、有機EL素子の発光に大きなエネルギーが必要になるが、本実施形態は上記問題が発生することのない印刷装置を提供するものである。以下、具体的に説明する。
(Embodiment 2)
Next, Embodiment 2 of the present invention will be described.
In the above-described embodiment, when an electrostatic latent image is formed on the photosensitive surface of the photosensitive drum 1 from the organic EL head 3 via the SLA (selfoc lens array) 11, a large amount of energy is required for light emission of the organic EL element. However, the present embodiment provides a printing apparatus in which the above-described problem does not occur. This will be specifically described below.

前述の図2に示すように、感光体ドラム1の近傍には有機ELヘッド3が配設され、図3に示すように有機ELヘッド3を構成する有機ELアレイ10からSLA(セルフォックレンズアレイ)11を介して感光面に光照射が行われている。   As shown in FIG. 2, the organic EL head 3 is disposed in the vicinity of the photosensitive drum 1, and the organic EL array 10 constituting the organic EL head 3 as shown in FIG. ) 11 is irradiated with light on the photosensitive surface.

この構成において、有機ELアレイ10(有機EL素子)の構造は図8に示す構成である。すなわち、ガラス基板41上にアノード電極(陽極)42、正孔注入層(HTL)43、発光層(EL)44、電子注入層(ETL)45、及びカソード電極(陰極)46を順次形成して構成されている。そして、アノード電極(陽極)42とカソード電極(陰極)46間に電圧を印加することにより、発光層(EL)44から発せられる発光をガラス基板41方向に完全拡散放射する。   In this configuration, the structure of the organic EL array 10 (organic EL element) is the configuration shown in FIG. That is, an anode electrode (anode) 42, a hole injection layer (HTL) 43, a light emitting layer (EL) 44, an electron injection layer (ETL) 45, and a cathode electrode (cathode) 46 are sequentially formed on a glass substrate 41. It is configured. Then, by applying a voltage between the anode electrode (anode) 42 and the cathode electrode (cathode) 46, the light emitted from the light emitting layer (EL) 44 is completely diffused and emitted toward the glass substrate 41.

ここで、有機ELヘッド3が前述の1200dpiの場合、各有機EL素子の間隔が約21μmとなり、ガラス基板41内で完全拡散すると、お互いの光が干渉しあってガラス表面で結像しない。この点、本実施形態では、ガラス基板41内に個々の有機EL素子毎にファイバー機能を持たせ、ガラス基板41表面に擬似発光体を形成する。このファイバー機能は公知の技術であり、例えばコア部に当たる部分以外に空気孔を結晶のように整然と並べることで、同一の材質でありながら、中心部と周辺部の屈折率を変える方法や、ガラス基板41内部にファイバーを直接形成する方法などを使用する。   Here, when the organic EL head 3 has the above-described 1200 dpi, the interval between the organic EL elements is about 21 μm, and when the organic EL head 3 is completely diffused in the glass substrate 41, the light beams interfere with each other and do not form an image on the glass surface. In this regard, in the present embodiment, the glass substrate 41 is provided with a fiber function for each organic EL element, and a pseudo-luminous body is formed on the surface of the glass substrate 41. This fiber function is a well-known technique, for example, by arranging air holes in an orderly manner like crystals other than the part that hits the core part, while changing the refractive index of the central part and the peripheral part while using the same material, glass A method of directly forming a fiber inside the substrate 41 is used.

例えば、図9に示すように、面状に発光する面発光部アレイパネル47と、面発光部アレイパネル47の光出射部である面発光部48にそれぞれ対向した導光部49を備え、面発光部48からの光が導光部49にて反射集光され、単位面積あたりの強度を強めて照射することができる露光ヘッドが考えられる。   For example, as shown in FIG. 9, a surface light emitting unit array panel 47 that emits light in a planar shape and a light guide unit 49 that faces the surface light emitting unit 48 that is a light emitting unit of the surface light emitting unit array panel 47 are provided. An exposure head is conceivable in which light from the light emitting section 48 is reflected and collected by the light guide section 49 and can be irradiated with an increased intensity per unit area.

この露光ヘッドはファイバー形状、或いは導波路形状であるため、ある程度の指向性を有しているが、ミリオーダの距離を隔てた感光面に小径の光スポットを形成し、各ドット同士を解像することができる光ビーム(例えば、1200dpiの場合、約21μmピッチ)を作ることは困難である。   Since this exposure head is in the form of a fiber or a waveguide, it has a certain degree of directivity, but a small-diameter light spot is formed on the photosensitive surface separated by a distance on the order of millimeters, and each dot is resolved. It is difficult to produce a light beam that can be used (eg, about 21 μm pitch for 1200 dpi).

そこで、本例では前述の図2に示す感光体ドラム1とSLA(セルフォックレンズアレイ)11を組み合わせることにより、上記光スポットを実現する。具体的には、SLA(セルフォックレンズアレイ)11は、中心から周辺にかけて放物線状の屈折率分布を有するセルフォックレンズを1列乃至2列に規則正しく精密に配列し、2枚のフレーム板にはさみこんだ構造になっている。また、SLAの品種は各光学パラメータ(作動距離Io、入射角θo、共役長TC等)により各種存在するが、通常のSLAはレンズ径0、5〜1mm、入射角約20°、作動距離2〜5mm程度である。ここで、代表的光学パラメータである上記値のSLA(セルフォックレンズアレイ)11を使用し、シミュレーションを行った。   Therefore, in this example, the light spot is realized by combining the photosensitive drum 1 and the SLA (selfoc lens array) 11 shown in FIG. Specifically, the SLA (Selfoc Lens Array) 11 has a self-aligned lens having a parabolic refractive index distribution from the center to the periphery, and is regularly and precisely arranged in one or two rows, and is sandwiched between two frame plates. It has a dented structure. There are various types of SLA depending on each optical parameter (working distance Io, incident angle θo, conjugate length TC, etc.), but a normal SLA has a lens diameter of 0, 5 to 1 mm, an incident angle of about 20 °, and a working distance of 2 About 5 mm. Here, a simulation was performed using the SLA (Selfoc Lens Array) 11 having the above values, which is a representative optical parameter.

この場合、SLA(セルフォックレンズアレイ)11が取り込める光は、図10及び図11に示すように、約3.5個のセルフォックレンズで集光することになる。すなわち、発光体が円形の指向性(縦横方向同じ指向性)を持つ場合、レンズ列に対してY方向(副走査方向)にレンズ入射角の範囲外となるエリアが発生する。従って、上記有効エリアを効率良く利用するには、発光体の指向性をX方向(主走査方向)の楕円とすれば、SLA(セルフォックレンズアレイ)11にとって光取り込み効率が向上し、結果として発光体の負荷を低減することができる。   In this case, the light that can be captured by the SLA (Selfoc lens array) 11 is collected by about 3.5 Selfoc lenses as shown in FIGS. That is, when the light emitter has a circular directivity (the same directivity in the vertical and horizontal directions), an area outside the range of the lens incident angle occurs in the Y direction (sub-scanning direction) with respect to the lens array. Therefore, in order to efficiently use the effective area, if the directivity of the light emitter is an ellipse in the X direction (main scanning direction), the light capturing efficiency is improved for the SLA (selfoc lens array) 11, and as a result. The load on the light emitter can be reduced.

以下、発光体がX方向楕円形の指向性を有するための露光装置の構造を示す。すなわち、本例の有機ELヘッドに図12に示すリフレクタ50を照射面に付加することにより、図13の端面照射型EL素子となり、X方向楕円形の指向性を持たせることができる。ここで、シミュレーションソフトにより、有機EL素子の出射端面を10×10μmとし、リフレクタ無しの場合と有りの場合の受光面プロファイルと指向性を示す。   Hereinafter, the structure of an exposure apparatus for allowing the light emitter to have an X-direction ellipse directivity will be described. That is, by adding the reflector 50 shown in FIG. 12 to the irradiation surface of the organic EL head of this example, the end face irradiation type EL element of FIG. 13 is obtained, and the directivity of the X-direction ellipse can be provided. Here, the emission end face of the organic EL element is set to 10 × 10 μm by simulation software, and the light receiving surface profile and directivity with and without the reflector are shown.

図14はこの例であり、受光面プロファイルは、リフレクタの先端より、2500μm隔てた受光面(レンズ面)に光を照射し、光強度分布及びピーク点のXY断面をグラフ化したものである。リフレクタなしの場合、ほぼXY比の等しい分布を示す。   FIG. 14 shows this example, and the light receiving surface profile is a graph in which the light receiving surface (lens surface) separated by 2500 μm from the tip of the reflector is irradiated with light, and the light intensity distribution and the XY cross section of the peak point are graphed. In the case of no reflector, a distribution with almost the same XY ratio is shown.

一方、リフレクタ50を先端に付加すると、Y方向の光強度分布が狭められ、狭指向性となることが解る。このときのSLA3.5個相当の面(1800×900μm)に照射される光量は、相対値でリフレクタ有りがリフレクタ無しに比べて約2倍となる。   On the other hand, when the reflector 50 is added to the tip, it can be seen that the light intensity distribution in the Y direction is narrowed, resulting in narrow directivity. At this time, the amount of light applied to the surface corresponding to 3.5 SLA (1800 × 900 μm) is about twice as large as the relative value when the reflector is present and without the reflector.

ここで、リフレクタ50のX方向形状も先喘拡張型とした方が狭指向性となるが、感光体面のMTF(Modulation Transfer Function)を確保するため、X方向開口幅は解像ピッチの50%程度にする必要がある。このように、リフレクタはY方向拡張にし、X方向はほぼ直角にすることで、SLA(セルフォックレンズアレイ)11を介して照射される光が、感光面での解像度、MTFを損なわず、照射効率を上げることができる。   Here, the X direction shape of the reflector 50 is narrower in directivity, but the X direction aperture width is 50% of the resolution pitch in order to secure MTF (Modulation Transfer Function) on the surface of the photoreceptor. It needs to be about. In this way, the reflector is expanded in the Y direction and the X direction is substantially perpendicular so that the light irradiated through the SLA (Selfoc Lens Array) 11 can be irradiated without impairing the resolution and MTF on the photosensitive surface. Efficiency can be increased.

以上のように本例によれば、完全拡散又は広い指向性をもつ有機EL光源をリフレクタ50により、主走査方向に楕円指向性を与えて集光させることによって、SLA(セルフォックレンズアレイ)11を介した感光面への光量伝達率が高くなり、有機EL素子に供給する電流を少なくでき、有機ELヘッド3の寿命を長くすることができる。   As described above, according to this example, the organic EL light source having complete diffusion or wide directivity is condensed by the reflector 50 while giving the elliptical directivity in the main scanning direction, and thereby the SLA (Selfoc Lens Array) 11. As a result, the transmission rate of the light amount to the photosensitive surface is increased, the current supplied to the organic EL element can be reduced, and the life of the organic EL head 3 can be extended.

(実施形態3)
次に、本発明の実施形態3について説明する。
本実施形態もEL素子の劣化を防止し、有機EL素子を長寿命化する印刷装置の発明である。以下、具体的に説明する。
(Embodiment 3)
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
This embodiment is also an invention of a printing apparatus that prevents deterioration of the EL element and extends the life of the organic EL element. This will be specifically described below.

図15は本例で使用する印刷装置の全体構成図である。感光体ベルト52の近傍には帯電ローラ51、有機ELヘッド53、現像器54、転写ローラ55、クリーニング部56、及びイレーサ光源57が配設されている。イレーサ光源57によって電荷が除去された感光体ベルト52の感光面には、帯電ローラ51によって一様な電荷が付与される。そして、感光体ベルト52は矢印方向に回転し、一様な電荷が付与された感光面には有機ELヘッド53から印刷データに従った発光が照射され、静電潜像が形成される。このようにして感光面に形成された静電潜像は、現像器54によってトナー像となり、転写ローラ55において用紙(記録媒体)58に転写される。さらに、用紙58は搬送機構59によって矢印方向に搬送され、用紙8に転写されたトナー像は、不図示の定着ローラによって熱定着され、機外に排出される。   FIG. 15 is an overall configuration diagram of a printing apparatus used in this example. In the vicinity of the photosensitive belt 52, a charging roller 51, an organic EL head 53, a developing device 54, a transfer roller 55, a cleaning unit 56, and an eraser light source 57 are disposed. A uniform charge is applied by the charging roller 51 to the photosensitive surface of the photosensitive belt 52 from which the charge has been removed by the eraser light source 57. Then, the photosensitive belt 52 rotates in the direction of the arrow, and light emission according to the print data is irradiated from the organic EL head 53 to the photosensitive surface to which a uniform charge is applied, and an electrostatic latent image is formed. The electrostatic latent image formed on the photosensitive surface in this manner is converted into a toner image by the developing device 54 and is transferred to the paper (recording medium) 58 by the transfer roller 55. Further, the sheet 58 is conveyed in the direction of the arrow by the conveyance mechanism 59, and the toner image transferred to the sheet 8 is thermally fixed by a fixing roller (not shown) and discharged outside the apparatus.

尚、上記感光体ベルト52は、シームレストベルト状透光性基体と、透光性導電層、電荷発生層、電荷移動層、及び表面保護層とから成る感光体である。
また、図16は有機ELアレイ10(有機EL素子E1)の構造を示す図であり、前述の図8と同様、ガラス基板41上にアノード電極(陽極)42、正孔注入層(HTL)43、発光層(EL)44、電子注入層(ETL)45、及びカソード電極(陰極)46を順次形成して構成されている。
The photoreceptor belt 52 is a photoreceptor comprising a seamless belt-like translucent substrate, a translucent conductive layer, a charge generation layer, a charge transfer layer, and a surface protective layer.
FIG. 16 is a diagram showing the structure of the organic EL array 10 (organic EL element E1). Similar to FIG. 8, the anode electrode (anode) 42 and the hole injection layer (HTL) 43 are formed on the glass substrate 41. A light emitting layer (EL) 44, an electron injection layer (ETL) 45, and a cathode electrode (cathode) 46 are sequentially formed.

また、図17は感光体ベルト52と有機ELヘッド53の配設構成を示す図である。感光体ベルト52は有機ELヘッド53の発光部に対して一定距離に配置されており、温度等により感光体ベルト52が伸びた状態でも、ベルトテンションローラ60によって、有機ELヘッド53を上方向に移動させることにより、有機ELヘッド53と感光体ベルト52の位置関係は一定に保たれている。   FIG. 17 is a view showing the arrangement configuration of the photosensitive belt 52 and the organic EL head 53. The photosensitive belt 52 is disposed at a certain distance from the light emitting portion of the organic EL head 53, and the organic EL head 53 is moved upward by the belt tension roller 60 even when the photosensitive belt 52 is extended due to temperature or the like. By moving, the positional relationship between the organic EL head 53 and the photosensitive belt 52 is kept constant.

本例は、図18に示すパラボラ型リフレクタ61を有機EL発光端面に形成する(図19参照)。パラボラ型リフレクタ61は公知のように、点光源よりパラボラ口径の平行光を放射する機能を有しており、理想的な点光源であれば反射ロスや減衰を無視すれば、出射口径の光ビームが照射方向においてどの距離でも同じとなる。しかし、現実には点光源は不可能であり、マイクロオーダであっても面発光となる。   In this example, the parabolic reflector 61 shown in FIG. 18 is formed on the organic EL light emitting end face (see FIG. 19). As is well known, the parabolic reflector 61 has a function of radiating parallel light with a parabolic aperture from a point light source. If an ideal point light source, the reflection loss and attenuation are ignored, a light beam with an output aperture is provided. Is the same at any distance in the irradiation direction. However, in reality, a point light source is impossible, and even in the micro order, surface light emission occurs.

図20はシミュレーションソフト(光線追跡)により、有機EL素子の出射端面を3×3μmとし、パラボラ型リフレクタ61を介して、600dpiピッチの1ドット間隔点灯で、リフレクタ先端より100μm隔てた受光面(感光面相当)に光スポットを照射し、受光プロファイル及びピーク点のXY断面をグラフ化したものである。このとき、グラフから得られた値より計算すると、受光面におけるMTFは約70%となり、良好な解像度が得られた。   FIG. 20 shows a light receiving surface (photosensitive) separated by 100 μm from the tip of the reflector when the emission end face of the organic EL element is set to 3 × 3 μm by the simulation software (light ray tracing), and the parabolic reflector 61 is turned on at intervals of 1 dot at a pitch of 600 dpi. A light spot is irradiated onto the surface), and the light reception profile and the XY cross section of the peak point are graphed. At this time, when calculated from the value obtained from the graph, the MTF on the light receiving surface was about 70%, and a good resolution was obtained.

しかしながら、受光面距離を150μmとすると、MTFは約60%に低下する。それに対して、図21に示すようにリフレクタの中心部に凸型反射板を追加することにより、ピーク光量は減少するものの、MTFを改善することができる。   However, when the light receiving surface distance is 150 μm, the MTF is reduced to about 60%. On the other hand, by adding a convex reflector at the center of the reflector as shown in FIG. 21, the MTF can be improved although the peak light quantity is reduced.

前述したパラボラ型リフレクタ61のシミュレーションと同様の条件で、この反射板を追加した場合の図を図22に示す。この場合、MTFは受光面距離100μm、及び150μmにおいて、それぞれ約80%、及び70%となり、反射板を追加することにより改善されたことが解る。   FIG. 22 shows a diagram in which this reflector is added under the same conditions as the simulation of the parabolic reflector 61 described above. In this case, the MTF is about 80% and 70% at the light receiving surface distances of 100 μm and 150 μm, respectively, and it can be seen that the MTF was improved by adding a reflector.

ここで、パラボラ型リフレクタ61、反射板付きパラボラ型リフレクタの形状による出射光の特徴を下記に示す(図23参照)。尚、光源面積が小さい程(光量密度が高い)出射ピーク光量は大となり、距離によるビーム径は安定し、形状は円形が理想だが縦横比が同程度なら同等性能である。 ’
・光源位置:パラボラ型リフレクタ61の焦点位置、若しくは両端方向が望ましい。
・リフレクタ径:アレイピッチに準じて、所望照射経に設定する。
・リフレクタ長:基本的には長い程、配光分布は狭域化する。
・凸型反射板径:径が小さい程、ピーク光景は大となるが、ビーム径は大きくなる。
・凸型反射板曲率:曲率半径は小さい方が出射光量は高い。
Here, the characteristic of the emitted light by the shape of the parabolic reflector 61 and the parabolic reflector with a reflector is shown below (see FIG. 23). Note that the smaller the light source area (the higher the light density), the larger the output peak light quantity, the more stable the beam diameter depending on the distance, and the ideal shape if the shape is circular but the aspect ratio is similar. '
-Light source position: The focal position of the parabolic reflector 61 or the direction of both ends is desirable.
Reflector diameter: Set to a desired irradiation length according to the array pitch.
-Reflector length: Basically, the longer the light distribution, the narrower the light distribution.
Convex reflector diameter: The smaller the diameter, the larger the peak scene, but the larger the beam diameter.
-Convex reflector curvature: The smaller the radius of curvature, the higher the amount of emitted light.

凸型反射板位置:曲率端面がリフレクタ端の内側に位置する。
ここで、リフレクタ61に付加した凸型反射板の効果としては、図23に示すように面光源よりの角度で発せられた光Iは、受光面の希望照射範囲外に到達する。これに対し、反射板があると、反射した光IIは再度リフレクタ61を経由して照射範囲内に照射される。
Convex reflector position: the curvature end face is located inside the reflector end.
Here, as an effect of the convex reflector added to the reflector 61, as shown in FIG. 23, the light I emitted at an angle from the surface light source reaches outside the desired irradiation range of the light receiving surface. On the other hand, if there is a reflecting plate, the reflected light II is irradiated again within the irradiation range via the reflector 61.

以上のように、本例によれば、完全拡散光である有機EL光源をパラボラ型リフレクタにより集光させることにより、感光面への光量伝達率が高くなり、有機EL素子の電流供給を少なくできるため、有機EL素子の寿命を長くすることができる。   As described above, according to this example, by condensing the organic EL light source, which is completely diffused light, by the parabolic reflector, the light amount transmission rate to the photosensitive surface is increased, and the current supply of the organic EL element can be reduced. Therefore, the lifetime of the organic EL element can be extended.

また、パラボラ型リフレクタを反射板で光を再度リフレクタに反射させることにより、集光効率を向上させることができる。
尚、図24は感光体ベルト52の構造を示し、シームレストベルト状透光性基体上52a上に順次、透光性導電層52b、電荷発生層(CGL)52c、電荷移動層(CTL)52d、及び表面保護層(OCL)52eをこの順に形成して構成されている。そして、本例においてベルト状の感光体を採用した理由は、表面がガラス基板で形成されている有機ELヘッドに接触させるためであり、つなぎ目のないシームレストベルトの感光体ベルト52を採用する。
In addition, the light collecting efficiency can be improved by reflecting light again to the reflector by the reflector of the parabolic reflector.
FIG. 24 shows the structure of the photoreceptor belt 52. A light-transmitting conductive layer 52b, a charge generation layer (CGL) 52c, a charge transfer layer (CTL) 52d, And a surface protective layer (OCL) 52e are formed in this order. The reason why the belt-shaped photoconductor is employed in this example is to contact the organic EL head whose surface is formed of a glass substrate, and a seamless belt of the seamless belt 52 is employed.

また、感光体ベルト52はポリカーボネイト、ポリエチレン・テレフタレート、ポリイミド等の透光樹脂の基材に、透光導電性材料である酸化インジウム・スズ膜(ITO)、デッピング法で何れも結着剤樹脂を含有するCGL、CTL、OCLを順次塗布して形成構成されている。このCTLはヒドラゾン(CTM)とポリカーボネート樹脂から成り、CGLはトリスアゾ顔料とポリビニルプチラール樹脂、そしてOCLはポリステル樹脂で構成され、導電層および感光層を形成したベルトである。
(実施形態4)
次に、本発明の実施形態4について説明する。
The photosensitive belt 52 is made of a transparent resin base material such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyimide, a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide film (ITO), and a binder resin is formed by a dipping method. CGL, CTL, and OCL contained are sequentially applied and formed. This CTL is composed of hydrazone (CTM) and a polycarbonate resin, CGL is a belt composed of a trisazo pigment and a polyvinyl propylal resin, and OCL is composed of a polyester resin, and forms a conductive layer and a photosensitive layer.
(Embodiment 4)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.

図25、図26は本実施形態における導波路型トップエミッション有機ELアレイ露光ヘッド(以下、単に有機ELアレイ露光ヘッドで示す)の全体構成図であり、図25はその上面図を示し、図26はその側面国を示す。   25 and 26 are overall configuration diagrams of a waveguide type top emission organic EL array exposure head (hereinafter simply referred to as an organic EL array exposure head) in the present embodiment. FIG. 25 is a top view thereof, and FIG. Indicates that country.

この有機ELアレイ露光ヘッド65は、大きく分けて以下の3つのパートにより構成されている。すなわち、発光体を形成している発光体透明基板部66、導波路形成基板部67、レンズ透明基板部68で構成されている。   The organic EL array exposure head 65 is roughly composed of the following three parts. That is, the light-emitting body includes a light-emitting transparent substrate portion 66, a waveguide forming substrate portion 67, and a lens transparent substrate portion 68 that form a light-emitting body.

発光体透明基板部66は、有機EL発光体の点灯制御を実施するための点灯制御回路及び有機EL発光体の各層を主走査方向にアレイ状に形成している。また、本例の場合、有機EL発光体の下部電極は、光反射板としての機能も兼用しており、同図に示すように有機EL発光体形成部以外にもパターニングされている。   The light emitter transparent substrate portion 66 includes a lighting control circuit for controlling the lighting of the organic EL light emitter and each layer of the organic EL light emitter in an array in the main scanning direction. In the case of this example, the lower electrode of the organic EL light emitter also functions as a light reflecting plate, and is patterned other than the organic EL light emitter forming portion as shown in FIG.

また、発光体透明基板部66には光反射集光部70も形成されている。光反射集光部70は、発光体透明基板66の厚さ方向に光が透過できるように反射加工を除去し、又は反射加工を施していない部分である。   Further, a light reflection condensing part 70 is also formed on the light emitter transparent substrate part 66. The light reflection condensing unit 70 is a part where the reflection process is removed or the reflection process is not performed so that light can be transmitted in the thickness direction of the light emitter transparent substrate 66.

導波路形成基板部67には、同図に示すような楔形構造をした導波路67aが形成されている。この楔形の構造のため有機EL発光層63より発生した光は、導波路壁面を反射するごとに光の進行方向を楔形の広がり方向に進行する。導波路67aの壁面は、Ag(銀)やAl(アルミニュウム)等の金属箔膜を蒸着することにより、高い反射率を形成した壁面を有する構造を有している。尚、導波路67aの内部は空気層でもよい。   In the waveguide forming substrate portion 67, a waveguide 67a having a wedge-shaped structure as shown in the figure is formed. Due to this wedge-shaped structure, the light generated from the organic EL light-emitting layer 63 travels in the direction of spreading of the light every time it reflects off the waveguide wall surface. The wall surface of the waveguide 67a has a structure having a wall surface formed with a high reflectivity by depositing a metal foil film such as Ag (silver) or Al (aluminum). The inside of the waveguide 67a may be an air layer.

正立等倍結像を実現するレンズ透明基板68は、レンズ透明基板68の対向する両面に平板レンズを同一光軸上に構成している2枚レンズによる正立等倍結像のレンズ光学系をレンズ透明基板68の両面に少なくとも1次元アレイ状に複数個配置している構造を有している。   The lens transparent substrate 68 for realizing erecting equal-magnification imaging is a lens optical system for erecting equal-magnification imaging with two lenses in which flat lenses are formed on the same optical axis on both opposing surfaces of the lens transparent substrate 68. Are arranged in at least a one-dimensional array on both surfaces of the lens transparent substrate 68.

平板レンズは、ガラス基板等にイオン交換技術により屈折率分布型のレンズを形成したものである。ガラス基板上に蒸着された金属膜(イオンの拡散を妨げる金属マスク)に、フォトリソグラフィー技術によって開口を形成し、本例の場合、両面にマスク開口を形成して、これを拡散すべきイオンを含む溶融塩に浸して、溶融塩中のイオンをマスク開口部分に拡散させ、略半球状の屈折率分布領域を作成したものである。   The flat lens is obtained by forming a refractive index distribution type lens on a glass substrate or the like by ion exchange technology. Openings are formed in the metal film (metal mask that prevents the diffusion of ions) deposited on the glass substrate by photolithography, and in this example, mask openings are formed on both sides, and ions to be diffused are formed. A substantially hemispherical refractive index distribution region is created by immersing ions in the molten salt and diffusing ions in the molten salt into the mask opening.

したがって、レンズ透明基板68の厚さ、開口サイズ、溶融塩浸漬時間により、レンズパラメータを調整できる正立等倍結像機能を有している。本レンズ基板における正立等倍結像の発光体側の作動距離は発光体透明基板66の厚さに合わせてあり、光反射集光部70でフォーカスする構成としている。   Therefore, it has an erecting equal-magnification imaging function capable of adjusting lens parameters according to the thickness of the lens transparent substrate 68, the opening size, and the molten salt immersion time. The working distance on the illuminant side for erecting equal-magnification imaging on this lens substrate is matched to the thickness of the illuminator transparent substrate 66 and is configured to focus on the light reflecting / condensing unit 70.

上記、3つのパートである発光体透明基板部66、導波路形成基板部67、レンズ透明基板部68を同図に示す通り積層することにより、発光体透明基板部66の発光体より発生した光は導波路67a内を反射伝搬して方向変換ミラー部71で反射することにより、光反射集光部70に集まり発光体透明基板66の厚み方向に伝搬していく。   The light emitted from the light emitter of the light emitter transparent substrate portion 66 is formed by stacking the light emitter transparent substrate portion 66, the waveguide forming substrate portion 67, and the lens transparent substrate portion 68, which are the three parts, as shown in FIG. The light is reflected and propagated in the waveguide 67 a and reflected by the direction changing mirror unit 71, thereby gathering in the light reflecting and condensing unit 70 and propagating in the thickness direction of the light emitter transparent substrate 66.

このとき正立等倍結像機能を有するレンズ透明基板68により光反射集光部70の像を像担持体側に正立等倍に結像することにより、電子写真方式における潜像を形成することが可能となる。   At this time, a latent image in the electrophotographic system is formed by forming the image of the light reflection condensing unit 70 on the image carrier side at the erecting equal magnification by the lens transparent substrate 68 having the erecting equal magnification imaging function. Is possible.

上記両面屈折率分布型レンズ64による正立等倍結像のクロストークを改善するため、レンズ透明基板68の有効レンズ領或以外に光吸収層69を配置している。光遮蔽機能を有する光吸収層69は、外部からの不要な光を遮断し、また基材の内部での余計な光の反射を阻止するためのものであり、金属の蒸着膜に酸化物の簿膜を重ねて反射率を数%程度に抑えた無反射コーティング、または黒色塗料の塗布又は印刷などによって形成されている。   In order to improve the crosstalk of erecting equal magnification imaging by the double-sided gradient index lens 64, a light absorption layer 69 is disposed in addition to the effective lens area of the lens transparent substrate 68. The light absorbing layer 69 having a light shielding function is for blocking unnecessary light from the outside and preventing reflection of extra light inside the base material. It is formed by non-reflective coating in which the reflectance is reduced to several percent by stacking a book film, or by applying or printing a black paint.

上記発光体透明基板66に導波路形成基板67とレンズ透明基板68を積層することにより、点灯制御された発光体の発光を集光して感光面に露光結像することができる。
次に、本実施形態の変形例を説明する。図27、図28は本実施形態の変形例を説明する有機ELアレイ露光ヘッドの全体構成例を示す図であり、図27はその上面図を示し、図28はその側面国を示す。
By laminating the waveguide forming substrate 67 and the lens transparent substrate 68 on the light emitter transparent substrate 66, the light emission of the light emitter whose lighting is controlled can be condensed to form an exposure image on the photosensitive surface.
Next, a modification of this embodiment will be described. 27 and 28 are diagrams showing an example of the entire configuration of an organic EL array exposure head for explaining a modification of the present embodiment. FIG. 27 shows a top view thereof, and FIG. 28 shows a side country thereof.

この有機ELアレイ露光ヘッド75は、大きく分けて以下の3つのパートにより構成されている。すなわち、導波路及び発光体を形成している発光体/導波路形成透明基板部76、カバーガラス77、レンズ透明基板部78で構成されている。発光体/導波路形成透明基板76には、同図に示すような楔形構造をした導波路76aが形成されている。この楔形構造のため有機EL発光層79より発生した光は、導波路壁面を反射するごとに光の進行方向を楔形の広がり方向に進行する。導波路76aの壁面は、前述のように、Ag(銀)やAl(アルミニュウム)等の金属箔膜を蒸着することにより、高い反射率を形成した壁面を有する構造を有している。尚、導波路の内部は空気層でもよい。   The organic EL array exposure head 75 is roughly composed of the following three parts. That is, it is composed of a light emitter / waveguide forming transparent substrate portion 76 forming a waveguide and a light emitter, a cover glass 77, and a lens transparent substrate portion 78. The light emitter / waveguide forming transparent substrate 76 is formed with a waveguide 76a having a wedge-shaped structure as shown in FIG. Because of this wedge-shaped structure, the light generated from the organic EL light-emitting layer 79 travels in the wedge-shaped spreading direction every time it reflects off the waveguide wall surface. As described above, the wall surface of the waveguide 76a has a structure having a wall surface formed with a high reflectance by depositing a metal foil film such as Ag (silver) or Al (aluminum). The inside of the waveguide may be an air layer.

導波路76aを形成した発光体/導波路形成透明基板76は、絶縁層により平坦化処理を施した後、有機EL制御回路及び導波路上部にボトムエミッション型有機EL発光層を形成させる。尚、有機EL発光体の点灯制御を実施する定めの点灯制御回路及び有機EL発光体の各層は、主走査方向にアレイ状に形成している。尚、本例の場合、有機EL発光体の下部電極は、光の反射板としての機能も兼用しており、同図に示すように有機EL発光体形成部以外にもパターンニングされている。   The light emitter / waveguide forming transparent substrate 76 in which the waveguide 76a is formed is flattened by an insulating layer, and then a bottom emission type organic EL light emitting layer is formed on the organic EL control circuit and the waveguide. The predetermined lighting control circuit for controlling the lighting of the organic EL light emitter and each layer of the organic EL light emitter are formed in an array in the main scanning direction. In the case of this example, the lower electrode of the organic EL light emitter also functions as a light reflector, and is patterned other than the organic EL light emitter forming portion as shown in FIG.

また、発光体/導波路形成透明基板部76には光反射集光部も形成されている。この光反射集光部には、導波路内を伝搬した光が方向変換ミラー80で反射され、カバーガラス77の厚さ方向に光が透過できるように反射加工を除去し、又は反射加工を施していない部分である。   The light emitter / waveguide forming transparent substrate portion 76 is also formed with a light reflecting / condensing portion. In this light reflection condensing part, the light propagated in the waveguide is reflected by the direction changing mirror 80, and the reflection processing is removed or the reflection processing is performed so that the light can be transmitted in the thickness direction of the cover glass 77. This is not the part.

カバーガラス77は、発光体を形成した上部を完全に封止すると共に、導波路76aを伝搬して方向変換ミラー80により反射され、集光された光をカバーガラス77の厚さ方向に透過させてレンズ透明基板部78に入射させる伝搬媒質でもある。   The cover glass 77 completely seals the upper part where the light emitter is formed, and propagates through the waveguide 76 a and is reflected by the direction changing mirror 80, and transmits the collected light in the thickness direction of the cover glass 77. It is also a propagation medium that enters the lens transparent substrate portion 78.

正立等倍結像を実現するレンズ透明基板78は、該レンズ透明基板78の対向する両面に平板レンズを同一光紬上に構成している2枚レンズによる正立等倍結像のレンズ光学系をレンズ透明基板78の両面に少なくとも1次元アレイ状に複数個配置している構造を有して。本平板レンズはガラス基板等にイオン交換技術により屈折率分布型のレンズを形成したものである。   The lens transparent substrate 78 that realizes erecting equal-magnification imaging is a lens optical for erecting equal-magnification imaging using two lenses in which flat lenses are formed on the same light beam on both opposing surfaces of the lens transparent substrate 78. It has a structure in which a plurality of systems are arranged in at least a one-dimensional array on both surfaces of the lens transparent substrate 78. This flat lens is obtained by forming a refractive index distribution type lens on a glass substrate or the like by ion exchange technology.

このように構成することによっても、発光体透明基板に導波路形成基板とレンズ透明基板を積層することにより、点灯制御された発光体の光を集光して感光面に集光結像できる構造を有する有機ELアレイ露光ヘッドを実現できる。   With such a configuration, a structure in which the light of the light-emitting body whose lighting is controlled can be condensed and focused on the photosensitive surface by laminating the waveguide forming substrate and the lens transparent substrate on the light-emitting body transparent substrate. An organic EL array exposure head having can be realized.

以上のように、本実施形態によれば、導波路反射方式を利用することにより発光面積を大きくとることができ、発光輝度及び寿命を延ばすことができる。
(実施形態5)
次に、本発明の実施形態5について説明する。
As described above, according to the present embodiment, the light emission area can be increased by using the waveguide reflection method, and the light emission luminance and the life can be extended.
(Embodiment 5)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.

図29は本実施形態の有機ELヘッドの構成例を示す図である。本例の有機ELヘッドは発光体透明基板81に有機EL発光体アレイ82を少なくとも1列形成してあり、発光体透明基板81側へ光を照射するボトムエミッション発光構造であり、発光体87からの出射光を集光し、感光面に結像を結ぶために屈折率分布型レンズをレンズ透明基板83の両面に同一光軸上に設け、正立等倍結像機能を持つレンズ透明基板83を発光体透明基板81の下方に積層した構造である。   FIG. 29 is a diagram illustrating a configuration example of the organic EL head according to the present embodiment. The organic EL head of this example has a bottom emission light emitting structure in which at least one row of organic EL light emitter arrays 82 is formed on a light emitter transparent substrate 81 and irradiates light to the light emitter transparent substrate 81 side. The lens transparent substrate 83 having an erecting equal-magnification imaging function is provided on both surfaces of the lens transparent substrate 83 on the same optical axis in order to collect the emitted light and to form an image on the photosensitive surface. Is laminated below the light emitter transparent substrate 81.

図30は、本例の有機EL素子1つの側面断面図である。本例は、発光体透明基板81上にボトムエミッション型のシングルヘテロ構造の高分子有機EL発光体を形成した例を示す。具体的には、発光体透明基板81上にITO等の透明電極により陽極84をパターンニングし、陰極(例えば、Ca,Ba,Ag等)85との間に、正孔輸送層86と積層発光層87aの2層を形成し、積層発光層87aの上部は封止材88により密閉されている。   FIG. 30 is a side cross-sectional view of one organic EL element of this example. This example shows an example in which a bottom emission type single organic polymer organic EL light emitter is formed on a light emitter transparent substrate 81. Specifically, the anode 84 is patterned on the light emitter transparent substrate 81 with a transparent electrode such as ITO, and the hole transport layer 86 and the laminated light emission are disposed between the cathode 85 (for example, Ca, Ba, Ag, etc.). Two layers 87 a are formed, and the upper part of the laminated light emitting layer 87 a is sealed with a sealing material 88.

上記発光体87周辺の光吸収層89は、外部からの不要な光を遮断し、また基材の内部での反射を防止するための構成であり、金属の蒸着膜に酸化物の薄膜を重ねて反射率を数%程度に抑えた無反射コーティング、又は黒色塗料の塗布又は印刷などによって形成されている。   The light-absorbing layer 89 around the light-emitting body 87 is configured to block unnecessary light from the outside and prevent reflection inside the base material, and an oxide thin film is stacked on a metal vapor-deposited film. Thus, it is formed by non-reflective coating with a reflectance of about several percent, or by applying or printing a black paint.

前述の図29で示した正立等倍結像を実現するレンズ透明基板83は、レンズ透明基板83の対向する両面に平板レンズを同一光軸上に構成している2枚レンズによる正立等倍結像のレンズ光学系をレンズ透明基板83の両面に少なくとも1次元アレイ状に複数個配置している構造を有している。   The lens transparent substrate 83 that realizes the erecting equal-magnification imaging shown in FIG. 29 described above is an erecting or the like by two lenses in which flat lenses are formed on the same optical axis on both opposing surfaces of the lens transparent substrate 83. It has a structure in which a plurality of lens optical systems for double imaging are arranged in at least a one-dimensional array on both surfaces of the lens transparent substrate 83.

この平板レンズは、ガラス基板等にイオン交換技術により屈折率分布型レンズ83aを形成したものである。ガラス基板上に蒸着された金属膜(イオンの拡散を妨げる金属マスク)に、フォトリソグラフィー技術によって開口を形成し、本例の場合、両面にマスク開口を形成して、これを拡散すベきイオンを含む溶融塩に浸して、溶融塩中のイオンをマスク開口部から拡散させ、略半球状の屈折率分布領域を形成したものである。したがって、レンズ透明基板83の厚さ、開口サイズ、溶融塩浸漬時間により、レンズパラメータを調整することができ、正立等倍結像の機能を有する。   This flat lens is obtained by forming a gradient index lens 83a on a glass substrate or the like by ion exchange technology. Openings are formed in the metal film (metal mask that prevents the diffusion of ions) deposited on the glass substrate by photolithography, and in this case, mask openings are formed on both sides, and ions that should diffuse In this case, the ions in the molten salt are diffused from the mask opening to form a substantially hemispherical refractive index distribution region. Therefore, the lens parameter can be adjusted by the thickness of the lens transparent substrate 83, the opening size, and the molten salt immersion time, and has a function of erecting equal magnification imaging.

尚、図31は変形例を説明する図であり、変形例の有機ELヘッドの構成を示す。この有機ELヘッドは発光体透明基板91に有機EL発光体アレイを少なくとも1列形成してあり、発光体情報の封止材93側へ光を照射するトップエミッション発光構造であり、その発光部90からの出射光を集光して感光面に結像を結ぶために屈折率分布型レンズ94をレンズ透明基板95の両面の同一光紬上に設けた構造である。   FIG. 31 is a diagram for explaining a modification, and shows a configuration of an organic EL head of the modification. This organic EL head has a top emission light-emitting structure in which at least one organic EL light-emitting array is formed on a light-emitting transparent substrate 91 and irradiates light toward the sealing material 93 side of the light-emitting body information. In this structure, a gradient index lens 94 is provided on the same light beam on both surfaces of the lens transparent substrate 95 in order to condense light emitted from the lens and form an image on the photosensitive surface.

図32は、上記変形例の有機EL素子1つの側面断面図である。本例では、発光体透明基板91上に、トップエミッション型のシングルヘテロ構造の高分子有機EL発光体を形成した例を示す。発光体透明基板91上に陰極(Ca、Ba等)96をパターンニングし、光吸収層98を形成し、陰極96と陽極97間に正孔輸送層99と積層発光体90aの2層を積層した構造を有しており、積層発光体90aの上部は封止材93により密閉されている。   FIG. 32 is a side cross-sectional view of one organic EL element according to the modification. In this example, an example in which a polymer organic EL light emitter having a top emission type single hetero structure is formed on the light emitter transparent substrate 91 is shown. A cathode (Ca, Ba, etc.) 96 is patterned on the light emitter transparent substrate 91 to form a light absorption layer 98, and two layers of a hole transport layer 99 and a laminated light emitter 90a are laminated between the cathode 96 and the anode 97. The upper part of the laminated light emitting body 90 a is sealed with a sealing material 93.

このように構成することにより、レンズ透明基板95の厚さ、開口サイズ、溶融塩浸漬時間によりレンズパラメータを調整することができ、正立等倍結像の機能を実現することができる。
(実施形態6)
次に、本発明の実施形態6について説明する。
With this configuration, the lens parameters can be adjusted by the thickness of the lens transparent substrate 95, the aperture size, and the molten salt immersion time, and an erecting equal-magnification imaging function can be realized.
(Embodiment 6)
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described.

本例は前述の実施形態1及び2等で使用した電子写真プロセス方式の印刷装置に関するものであり、図33にその基本構成を示す。
感光体ドラム1の周面近傍には帯電ローラ2、有機ELヘッド3、現像器4、転写ローラ5、クリーニング部6、及びイレーサ7が配設されている。イレーサ7によって電荷が除去された感光体ドラム1の感光面には、帯電ローラ2によって一様な電荷が付与される。感光体ドラム1は矢印方向に回転し、一様な電荷が付与された感光面には有機ELヘッド3から印刷データに従った発光が照射され、静電潜像が形成される。このようにして感光面に形成された静電潜像は、現像器4によってトナー像となり、転写ローラ5において用紙(記録媒体)8に転写される。さらに、用紙8は不図示の搬送機構によって矢印方向に搬送され、用紙8に転写されたトナー像は、定着ローラ9によって熱定着され、機外に排出される。
This example relates to the electrophotographic process type printing apparatus used in the first and second embodiments, and FIG. 33 shows the basic configuration thereof.
A charging roller 2, an organic EL head 3, a developing device 4, a transfer roller 5, a cleaning unit 6, and an eraser 7 are disposed in the vicinity of the peripheral surface of the photosensitive drum 1. A uniform charge is applied by the charging roller 2 to the photosensitive surface of the photosensitive drum 1 from which the charge has been removed by the eraser 7. The photosensitive drum 1 rotates in the direction of the arrow, and light emission according to print data is emitted from the organic EL head 3 to the photosensitive surface to which a uniform charge is applied, and an electrostatic latent image is formed. The electrostatic latent image formed on the photosensitive surface in this manner is converted into a toner image by the developing device 4 and is transferred to the paper (recording medium) 8 by the transfer roller 5. Further, the paper 8 is transported in the direction of the arrow by a transport mechanism (not shown), and the toner image transferred to the paper 8 is thermally fixed by the fixing roller 9 and discharged outside the apparatus.

図34は本実施形態に係わる有機ELヘッドの回路ブロック図である。また、図35及び図36は上記図34のシステムコントローラを具体的に説明する図である。また、図37は本例の処理を説明するタイムチャートである。   FIG. 34 is a circuit block diagram of an organic EL head according to this embodiment. FIGS. 35 and 36 are diagrams for specifically explaining the system controller of FIG. FIG. 37 is a time chart for explaining the processing of this example.

図34に示す有機ELヘッドにおいて、通常の画像データに合わせた露光工程は、先ずシステムコントローラ101が、不図示のラスターイメージプロセッサ部より印刷データと用紙サイズの情報と搬送速度に合わせた水平同期信号(HSYNC)及び垂直同期信号(VSYNC)を受信し、それら制御信号に合わせて各画素のオン、オフ、及び階調に基づきデータドライバ102やスキャンドライバ103を駆動する。   In the organic EL head shown in FIG. 34, in the exposure process in accordance with normal image data, first, the system controller 101 receives a horizontal synchronization signal in accordance with print data, paper size information, and conveyance speed from a raster image processor (not shown). (HSYNC) and the vertical synchronization signal (VSYNC) are received, and the data driver 102 and the scan driver 103 are driven based on the on / off and gradation of each pixel in accordance with these control signals.

水平同期信号(HSYNC)及び垂直同期信号(VSYNC)は、主走査方向の同期信号であり、アクティブ〜アクティブ期間が1ラインに許されるドット形成処理時間を設定する。データドライバ102は、一例として1本のVdataで8個の画素を駆動する。   The horizontal synchronization signal (HSYNC) and the vertical synchronization signal (VSYNC) are synchronization signals in the main scanning direction, and set a dot formation processing time during which an active to active period is allowed for one line. For example, the data driver 102 drives eight pixels with one Vdata.

尚、本例では有機ELパネル104への供給ラインは、階調信号電圧Vdatal〜Vdata6としているが、この限りではない。同様にスキャンドライバ103から有機ELパネル104への供給走査ラインもVscan1〜Vscan8とし、Vdatal〜Vdata6に接続される画素群a〜hに共通に接続されている。したがって、有機ELパネル104は水平方向に各画素が一列に、6×8=48(個)の画素形成が行われている。   In this example, the supply line to the organic EL panel 104 is set to the gradation signal voltages Vdatal to Vdata6, but this is not restrictive. Similarly, the scan lines supplied from the scan driver 103 to the organic EL panel 104 are Vscan1 to Vscan8, and are connected in common to the pixel groups a to h connected to Vdata1 to Vdata6. Therefore, in the organic EL panel 104, 6 × 8 = 48 (pixels) pixels are formed in a row in the horizontal direction.

データドライバ102は、図37、図38に示すように、水平同期信号(HSYNC)がアクティブである期間、各画素のデータラインに対応する階調信号電圧Vdataを生成して印加する。このとき図示しないが、電源線に電源が供給されるよう制御を行う。次いで、Vdataを供給すると同時に、Vdatal〜Vscan8をH(ハイ)レベルとし、順次処理を行い、図38に示す各画素の選択トランジスタ105を動作させることにより、発光駆動トランジスタ106のゲート(G)に各データラインに印加された階調電圧(階調信号)Vdataに基づくゲート電圧が印加され、当該ゲート電圧に応じた導通状態でオン動作を行う。   As shown in FIGS. 37 and 38, the data driver 102 generates and applies the grayscale signal voltage Vdata corresponding to the data line of each pixel while the horizontal synchronization signal (HSYNC) is active. At this time, although not shown, control is performed so that power is supplied to the power supply line. Next, at the same time when Vdata is supplied, Vdata1 to Vscan8 are set to H (high) level, processing is performed sequentially, and the selection transistor 105 of each pixel shown in FIG. A gate voltage based on the gradation voltage (gradation signal) Vdata applied to each data line is applied, and an ON operation is performed in a conductive state corresponding to the gate voltage.

この処理により、電源線を介して画素群a〜hの中のVscanが供給されている画素群の発光駆動トランジスタ106及び有機EL素子E1に、Vdataに基づく電流値を有する発光駆動電流を流し、有機EL素子E1が所定の発光輝度で発光する。   By this processing, a light emission drive current having a current value based on Vdata is supplied to the light emission drive transistor 106 and the organic EL element E1 of the pixel group to which Vscan in the pixel groups a to h is supplied via the power line. The organic EL element E1 emits light with a predetermined light emission luminance.

この時、Vdataは選択トランジスタ105を介して、保持キャパシタ107に供給される。このため、各保持キャパシタ107は、Vdataのレベルに応じた値の電荷量に充電される。次に、上述の選択期間を経過して走査信号VscanはL(ロー)レベルとなり、選択トランジスタ105がオフしても、保持キャパシタ107にはVdataに応じた電荷量が保持される。   At this time, Vdata is supplied to the holding capacitor 107 via the selection transistor 105. Therefore, each holding capacitor 107 is charged with a charge amount having a value corresponding to the level of Vdata. Next, the scanning signal Vscan becomes L (low) level after the selection period described above, and even if the selection transistor 105 is turned off, the storage capacitor 107 holds the charge amount corresponding to Vdata.

すなわち、Vdataに応じた電荷量が保持されると、発光駆動トランジスタ106はその電荷量に応じた導通状態となり、発光動作を縦続する(非選択期間)。以下、ライン数分のアクティブ期間、発光を行う。   That is, when the amount of charge corresponding to Vdata is held, the light emission drive transistor 106 becomes conductive according to the amount of charge, and the light emission operation is continued (non-selection period). Thereafter, light emission is performed during the active period corresponding to the number of lines.

次に、Vdataを有機ELパネル104の劣化状態に応じて調整する処理について説明する。図35は前述のように、図34のシステムコントローラ101の詳細ブロック図であり、図36は図35のパネル出力比較器108の詳細ブロック図である。   Next, a process for adjusting Vdata according to the deterioration state of the organic EL panel 104 will be described. FIG. 35 is a detailed block diagram of the system controller 101 of FIG. 34 as described above, and FIG. 36 is a detailed block diagram of the panel output comparator 108 of FIG.

図39、図40は、本例の有機ELパネル104の断面構造を説明する図であり、図39はボトムエミッション形式であり、図40はトップエミッション形式であり、共にガラスを使用する基板部に焦電性をもつ基板を使用する。図39に示すボトムエミッション形式では焦電基板110及び基板透明電極111、112は透明である必要があり、例えば分極処理を施したニオブ酸リチウムなどが適している。また、図40に示すトップエミッション形式では透明である必要は無く、チタン酸鉛、チタン酸ジルコン酸鉛、メタニオブ酸鉛などが適している。また、有機EL素子の製造工程での加熱処理が必要な場合、いずれも焦電材のキューリ点に注意し、これを超えることの無いようにする必要がある。   39 and 40 are diagrams for explaining the cross-sectional structure of the organic EL panel 104 of this example. FIG. 39 shows the bottom emission type, and FIG. 40 shows the top emission type. Use a pyroelectric substrate. In the bottom emission type shown in FIG. 39, the pyroelectric substrate 110 and the substrate transparent electrodes 111 and 112 must be transparent, and for example, lithium niobate subjected to polarization treatment is suitable. Further, the top emission format shown in FIG. 40 does not need to be transparent, and lead titanate, lead zirconate titanate, lead metaniobate, and the like are suitable. Moreover, when the heat processing in the manufacturing process of an organic EL element are required, it is necessary to pay attention to the curie point of the pyroelectric material so as not to exceed this.

尚、図39に示す発光部100はTFT101a上に、透明電極101b及び絶縁層101cを形成し、透明電極101b上に発光層101dを形成し、発光層101d上に陰極101eが形成され、発光層101dからの発光を下方に導いている。一方、図40に示す発光部100はTFT101f上に、透明陰極101g及び絶縁層101hを形成し、絶縁層101h上に陽極101jを形成し、陽極101j上に発光層101kを形成し、発光層101kからの発光を上方に導いている。   39 includes a transparent electrode 101b and an insulating layer 101c formed on a TFT 101a, a light-emitting layer 101d formed on the transparent electrode 101b, and a cathode 101e formed on the light-emitting layer 101d. The light emitted from 101d is guided downward. On the other hand, in the light emitting unit 100 shown in FIG. 40, the transparent cathode 101g and the insulating layer 101h are formed on the TFT 101f, the anode 101j is formed on the insulating layer 101h, the light emitting layer 101k is formed on the anode 101j, and the light emitting layer 101k is formed. The light emission from is guided upward.

先ず、印刷装置の電源を入れた際、任意の有機EL素子を一定値のVdata値で発光させる。例えば、図37に示すタイムチャートにおいて、VscanlとVdatalである。図41は、その時の焦電基板110、113の自発分極変化を示す。この焦電基板110、113の自発分極により、焦電基板表面には電荷が現れているが、定常状態ではこの電荷は反対符号のイオンや電子と結合して電気的な中和を保っている。しかし、有機ELパネル104の任意素子の発光に伴う発熱の熱エネルギーを吸収して、図41に示すように内部の自発分極が大きく変化する。その変化量に比例して表面に電荷が励起され、この電荷を基板透明電極111及112と、基板電極114及び115間に接続された負荷Rを通して出力電圧として取り出す。   First, when the printing apparatus is turned on, an arbitrary organic EL element is caused to emit light with a constant Vdata value. For example, in the time chart shown in FIG. 37, they are Vscanl and Vdatal. FIG. 41 shows the spontaneous polarization change of the pyroelectric substrates 110 and 113 at that time. Due to the spontaneous polarization of the pyroelectric substrates 110 and 113, a charge appears on the surface of the pyroelectric substrate. However, in a steady state, the charge is combined with ions and electrons of opposite signs to maintain electrical neutralization. . However, it absorbs the heat energy generated by the light emission of any element of the organic EL panel 104, and the internal spontaneous polarization changes greatly as shown in FIG. A charge is excited on the surface in proportion to the amount of change, and this charge is taken out as an output voltage through the substrate transparent electrodes 111 and 112 and the load R connected between the substrate electrodes 114 and 115.

図35に示すように、システムコントローラ101には、この温度変化量に対する焦電基板110、113の出力電圧を入力するパネル出力比較器108、Vdata値を補正するための補正値テーブル117、Vdata信号を制御するVdata信号制御部118、Vscan信号制御部119、及びこれらの制御部120が設けられている。補正値テーブル117は、経時劣化によって輝度が下がる分、Vdata値を上昇させるよう、発光による基板部温度変化量による出力電圧値のシステム初期値と経時後の値の差分とそれに対応するVdata補正値が予め格納されている。   As shown in FIG. 35, the system controller 101 has a panel output comparator 108 for inputting the output voltage of the pyroelectric substrates 110 and 113 with respect to the temperature change amount, a correction value table 117 for correcting the Vdata value, and the Vdata signal. A Vdata signal control unit 118, a Vscan signal control unit 119, and these control units 120 are provided. The correction value table 117 shows the difference between the system initial value of the output voltage value and the value after time and the corresponding Vdata correction value so as to increase the Vdata value as the luminance decreases due to deterioration with time. Are stored in advance.

図42は、この処理を説明するフローチャートである。先ず、電源をオンし(ステップ(以下、Sで示す)1)、初めてのシステム起動時における発光に伴う温度変化による出力電圧を初期値aとし(S2がY(イエス)、S3)、この初期値aをアナログデジタル変換し、初期値メモリ120に記録する(S4)。尚、初期値メモリ120は、不揮発性メモリであり、通常印刷を行い、電源をオフした後もこの状態を保持している(S5、S6)。   FIG. 42 is a flowchart for explaining this process. First, the power is turned on (step (hereinafter referred to as S) 1), and the output voltage due to the temperature change accompanying the light emission at the first system startup is set to the initial value a (S2 is Y (yes), S3). The value a is converted from analog to digital and recorded in the initial value memory 120 (S4). The initial value memory 120 is a non-volatile memory, and retains this state even after normal printing is performed and the power is turned off (S5, S6).

次に、電源投入時において、システムを起動するたびに、実際の印刷を行う前に、上述と同様にして、焦電基板110、113による出力電圧を計測し(例えば、測定値b)(S7)、アナログデジタル変換後、計測した測定値bと前述の初期値aを比較器121によって比較する(S8)。この結果、例えばb=aであれば発熱量の変化は無く、経時劣化による輝度低下はないとしてVdataの補正は行わない(S8がY、S9、S10)。   Next, each time the system is started up when the power is turned on, the output voltage from the pyroelectric substrates 110 and 113 is measured in the same manner as described above before actual printing is performed (for example, measured value b) (S7). ) After analog-digital conversion, the measured value b and the above-mentioned initial value a are compared by the comparator 121 (S8). As a result, for example, if b = a, there is no change in the amount of heat generation, and no correction of Vdata is performed because there is no decrease in luminance due to deterioration with time (S8 is Y, S9, S10).

一方、b=aで無い場合(S8がN(ノー))、b−aの値を算出し、印刷時には補正値テーブル117よりb−a値に相当するVdata補正量を読み出し(S11)、Vdata信号制御部118へと送り、データドライバ102から有機ELパネル104へのVdataに補正を加える(S12、S13)。   On the other hand, if b = a is not satisfied (S8 is N (no)), the value of ba is calculated, and the Vdata correction amount corresponding to the ba value is read from the correction value table 117 during printing (S11). The signal is sent to the signal control unit 118, and correction is made to Vdata from the data driver 102 to the organic EL panel 104 (S12, S13).

以上のように、本例によれば、初期値aとシステム起動毎の計測値bの値が異なったときのみ、補正値を印刷時に適用させる。このように構成することにより、電源起動時、印刷処理とは別に発光させることによって、有機EL素子の温度変化量を捉えて有機EL素子の構成材料である焦電基板110、113による発電を行い、補正制御を行うことによって、輝度低下を低減させることができる。
(実施形態7)
次に、本発明の実施形態7について説明する。
As described above, according to this example, the correction value is applied at the time of printing only when the initial value a is different from the measured value b every time the system is started. With this configuration, when the power is turned on, light is emitted separately from the printing process, so that the temperature change amount of the organic EL element is captured and power is generated by the pyroelectric substrates 110 and 113 which are constituent materials of the organic EL element. By performing correction control, it is possible to reduce a decrease in luminance.
(Embodiment 7)
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described.

本例は有機ELヘッドとして端面発光型の有機ELアレイ発光装置を使用する印刷装置の発明である。以下、具体的に説明する。
図43は有機ELアレイ発光装置130の構成を説明する図であり、同図(a)は有機ELアレイ発光装置130の上面図であり、同図(b)はそのA−A断面図であり、同図(c)はそのB−B断面図である。
This example is an invention of a printing apparatus that uses an edge-emitting organic EL array light-emitting device as an organic EL head. This will be specifically described below.
43 is a diagram for explaining the configuration of the organic EL array light-emitting device 130. FIG. 43A is a top view of the organic EL array light-emitting device 130, and FIG. (C) is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

有機ELアレイ発光装置130は、有機EL発光体形成層131と導波路形成層132を積層した構造であり、有機EL発光体形成層131は発光体基板133、下部電極134、クラッド層の役割を兼ねた絶縁層135、有機発光層136、及び透明な導電材料で形成された上部透明電極137を順に積層して構成されている。   The organic EL array light emitting device 130 has a structure in which an organic EL light emitter forming layer 131 and a waveguide forming layer 132 are stacked. The organic EL light emitter forming layer 131 functions as a light emitter substrate 133, a lower electrode 134, and a cladding layer. The insulating layer 135 that also serves as the organic light emitting layer 136, and the upper transparent electrode 137 formed of a transparent conductive material are sequentially laminated.

有機EL発光部138は、同図(a)に示すように、長尺形状の発光部をアレイ状に複数形成している。この有機EL発光部138を個別点灯制御するため、下部電極134もフォトレジストにより長尺形状にパターンニング形成され、絶縁層135に開口をパターニングすることにより、有機EL発光部138を長尺に形成している。   The organic EL light emitting unit 138 has a plurality of long light emitting units formed in an array as shown in FIG. In order to control individual lighting of the organic EL light emitting unit 138, the lower electrode 134 is also patterned in a long shape with a photoresist, and the organic EL light emitting unit 138 is formed in a long shape by patterning an opening in the insulating layer 135. is doing.

下部電極134は、有機発光層136から発光した光を導波路側へ戻すため、高い光反射率を有する金属膜で形成されている。
一方、導波路形成層132は、クラッド層の役割と導波路を形成するための導波路基板139と、コア層140により形成されている。光が伝搬されるコア層140は、互いに屈折率の異なる第1の層140aと第2の層140bからなり、第1のコア層140aと第2のコア層140bとの境界領域に回折格子141と光アイソレートフォトニツク結晶142を形成成している。
The lower electrode 134 is formed of a metal film having a high light reflectance in order to return the light emitted from the organic light emitting layer 136 to the waveguide side.
On the other hand, the waveguide forming layer 132 is formed by the role of the cladding layer, the waveguide substrate 139 for forming the waveguide, and the core layer 140. The core layer 140 through which light is propagated includes a first layer 140a and a second layer 140b having different refractive indexes, and a diffraction grating 141 is formed in a boundary region between the first core layer 140a and the second core layer 140b. And an optically isolated photonic crystal 142 are formed.

コア層140に形成される回折格子141と光アイソレートフォトニック結晶142は、同図(b)に示すように配設されている。すなわち、長尺な有機EL発光部138において発生した光を端面に向けて伝搬する方向には位相が一致して帰還するブラッグ条件の回析格子を有する光導波回折格子143を有機EL発光部138の直上部に発光体とペアになるような位置に配置している。   The diffraction grating 141 and the optically isolated photonic crystal 142 formed on the core layer 140 are arranged as shown in FIG. In other words, the optical waveguide diffraction grating 143 having a diffraction grating with a Bragg condition in which the phase of the light generated in the long organic EL light emitting unit 138 propagates toward the end face is matched and returned is changed to the organic EL light emitting unit 138. It is arranged at a position directly above the top so that it can be paired with a light emitter.

フォトニツク結晶は、隣り合う有機EL発光部138間のスペース直上に光アイソレートフォトニツク結晶142を配置している。光アイソレートフォトニツク結晶142は、2次元三格子構造で形成されており、各格子は円柱状に形成され、各格子間ピッチは波長より短く、λ/2程度である。   In the photonic crystal, an optically isolated photonic crystal 142 is disposed immediately above the space between adjacent organic EL light emitting portions 138. The optically isolated photonic crystal 142 is formed in a two-dimensional three-lattice structure, each lattice is formed in a cylindrical shape, and each interstitial pitch is shorter than the wavelength and is about λ / 2.

光導波回折格子143は、分布帰還型の回折格子であり、ブラッグ条件の分布帰還型の回折格子を形成することにより、光を光導波路内で共振させ、波長選択性および指向性に優れ、発光スペクトル幅の狭い光を得ることができる。さらに、光導波回折格子143は、不図示のλ/4位相シフト構造、又は利得結合型構造を有している。   The optical waveguide diffraction grating 143 is a distributed feedback diffraction grating. By forming a distributed feedback diffraction grating under Bragg conditions, light is resonated in the optical waveguide, and is excellent in wavelength selectivity and directivity. Light with a narrow spectral width can be obtained. Furthermore, the optical waveguide diffraction grating 143 has a λ / 4 phase shift structure (not shown) or a gain coupling structure.

このようにλ/4位相シフト構造、又は利得結合型構造を有することにより、出射光をより単一モード化することができる。導波路形成層132の回折格子構造は、コア層140の第1の層140aを形成するための薄層樹脂、例えばポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、その他光学特性の優れた樹脂材料を、例えばガラス材料の導波路基板139に薄層コーティングした基材に対して、熱式ナノインプリント法により、前述の回折格子形状、及びフォトニツク結晶を転写形成することで作成することができる。   Thus, by having a λ / 4 phase shift structure or a gain coupling type structure, the emitted light can be made into a single mode. The diffraction grating structure of the waveguide forming layer 132 is a thin layer resin for forming the first layer 140a of the core layer 140, such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyimide (PI), and other optical components. Created by transferring and forming the above-mentioned diffraction grating shape and photonic crystal by thermal nanoimprint method on a base material that is coated with a thin layer on a waveguide substrate 139 made of glass material, for example, with excellent characteristics can do.

このように、第1の層140aに形成された回折格子形状とフォトニツク結晶形状の上に屈折率の異なる第2の層140bを塗布し、平坦化することにより導波路形成層132を生成することができる。   In this manner, the waveguide forming layer 132 is generated by applying the second layer 140b having a different refractive index on the diffraction grating shape and the photonic crystal shape formed on the first layer 140a and flattening them. be able to.

上記導波路形成層132は、ガラス基板にコーティングした薄膜樹脂層に対して形状を形成するため、樹脂部の熱収縮等による歪や寸法変動を低く抑えることができる。
有機EL発光体形成層131の発光体基板133も導波路基板139と同様な材料を選定することによって寸法精度、熱膨張が同レベルとなり、接合が容易となり、特に詳細ピッチのアレイを形成する場合の歩留が向上する。
Since the waveguide forming layer 132 forms a shape with respect to the thin film resin layer coated on the glass substrate, distortion and dimensional variation due to thermal contraction of the resin portion can be suppressed to a low level.
When the light emitting substrate 133 of the organic EL light emitting layer 131 is selected from the same material as that of the waveguide substrate 139, the dimensional accuracy and the thermal expansion become the same level, the bonding becomes easy, and particularly when an array having a detailed pitch is formed. The yield is improved.

また、有機EL発光体形成層131の有機発光層136は、一般に水分等の吸湿により著しく寿命を低下させるため、有機EL発光部138は基板端面に対してガスバリア可能な十分な内側位置に配置することが可能であり、ガラス材料の導波路基板139の導波路形成層132を積層させることにより有機ELを封止でき、光を光導波回折格子143により、基板端面に導くことができる。   In addition, since the organic light emitting layer 136 of the organic EL light emitter forming layer 131 generally has a significantly reduced lifetime due to moisture absorption such as moisture, the organic EL light emitting unit 138 is disposed at a sufficient inner position capable of gas barrier with respect to the end face of the substrate. The organic EL can be sealed by laminating the waveguide forming layer 132 of the waveguide substrate 139 made of a glass material, and light can be guided to the end face of the substrate by the optical waveguide diffraction grating 143.

このように構成することにより、発光波長のスペクトル幅が従来の有機EL発光素子に比べて格投に狭く、波長選択性に優れ、かつ指向性を持って光を出射できる構造をアレイ状に形成できることを特徴としており、印刷装置や表示体だけでなく、光通信等にも適用可能である。   By configuring in this way, the spectral width of the emission wavelength is narrower than that of conventional organic EL light emitting devices, and a structure that emits light with excellent wavelength selectivity and directivity is formed in an array. It can be applied, and is applicable not only to printing apparatuses and display bodies but also to optical communications and the like.

次に、本実施形態の変形例について説明する。
図44は有機ELアレイ発光装置130の変形例の構成を説明する図であり、同図(a)は有機ELアレイ発光装置130の上面図であり、同図(b)はそのA−A断面図であり、同図(c)はそのB−B断面図である。また、有機ELアレイ発光装置130は、有機EL発光体形成層131と導波路形成層132を積層した構造であり、有機EL発光体形成層131は発光体基板133、下部電極134、クラッド層の役割を兼ねた絶縁層135、有機発光層136、及び透明な導電材料で形成された上部透明電極137を順に積層して構成されている。
Next, a modification of this embodiment will be described.
FIG. 44 is a view for explaining a configuration of a modified example of the organic EL array light emitting device 130. FIG. 44A is a top view of the organic EL array light emitting device 130, and FIG. FIG. 4C is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. The organic EL array light emitting device 130 has a structure in which an organic EL light emitter forming layer 131 and a waveguide forming layer 132 are stacked. The organic EL light emitter forming layer 131 includes a light emitter substrate 133, a lower electrode 134, and a cladding layer. An insulating layer 135 that also serves as a role, an organic light emitting layer 136, and an upper transparent electrode 137 formed of a transparent conductive material are sequentially stacked.

この変形例と上記実施形態との相違は、導波路形成層132を構成しているクラッド層の役割と導波路を形成するための導波路基板139と、コア層140の間に反射ミラー145を形成していることである。この反射ミラー145は、例えばAl(アルミニュウム)、又は銀(Ag)等を蒸着によって導波路基板137上に成膜して光反射率の反射面を形成している。   The difference between this modified example and the above embodiment is that the role of the cladding layer constituting the waveguide forming layer 132 and the reflection mirror 145 between the waveguide layer 139 for forming the waveguide and the core layer 140 are provided. It is forming. For example, Al (aluminum), silver (Ag), or the like is deposited on the waveguide substrate 137 by vapor deposition to form a reflective surface having a light reflectance.

このように構成することにより、下部電極134と反射ミラー145により有機EL発光部138より発した光の閉じ込め率を向上させることができる。したがって、光閉じ込め率を向上することにより、より効率の高い有機ELアレイ発光装置を提供することができる。
(実施形態8)
次に、本発明の実施形態8について説明する。
With such a configuration, the confinement ratio of light emitted from the organic EL light emitting unit 138 can be improved by the lower electrode 134 and the reflection mirror 145. Therefore, by improving the light confinement rate, a more efficient organic EL array light-emitting device can be provided.
(Embodiment 8)
Next, an eighth embodiment of the present invention will be described.

本実施形態は、有機ELヘッドのベース基材とガラス基板の中に、光導波路を形成し、感光面への集光効果を向上させるものである。このため、本実施形態では光導波路を形成するため、光誘起屈折率変化現象を利用する。以下、具体的に説明する。   In the present embodiment, an optical waveguide is formed in a base substrate and a glass substrate of an organic EL head, and the light collecting effect on the photosensitive surface is improved. For this reason, in this embodiment, in order to form an optical waveguide, a light-induced refractive index change phenomenon is used. This will be specifically described below.

図45は本実施形態の光導波路形成の概念図を示す。同図に示すように、フェムト秒レーザ光150をガラス基材151の内部に集中照射することにより、集光部分152の屈折率が永久的に増加する。このことによって、連続走査によって任意の位置に、任意の形状の光導波路を形成することができる。   FIG. 45 is a conceptual diagram of optical waveguide formation according to the present embodiment. As shown in the figure, the refractive index of the condensing portion 152 is permanently increased by irradiating the femtosecond laser light 150 into the glass substrate 151 in a concentrated manner. As a result, an optical waveguide having an arbitrary shape can be formed at an arbitrary position by continuous scanning.

具体的には、ピーク強度105w/cm以上、繰返し周波数10kHz以上のパルスレーザ光をガラス基材151に連続的に集中照射し、ガラス基材151の内部に光導波路を形成するものである。   Specifically, a pulsed laser beam having a peak intensity of 105 w / cm or more and a repetition frequency of 10 kHz or more is continuously focused on the glass substrate 151 to form an optical waveguide inside the glass substrate 151.

図46は本例の構造の概略図を示すものであるし、同図(a)はその斜視図を示し、同図(b)はその断面図を示す。すなわち、バックエミッション構造のELヘッドアレイのべースとなるガラス基材151の中に光導波路153を形成する。この時、光導波路153の側面をテーパ型にした集光部154と放物面又は楕円体面とした放射部155を設ける。これは、レーザの強度を走査に合わせて制御することにより実現可能である。   FIG. 46 shows a schematic view of the structure of this example. FIG. 46A shows a perspective view thereof, and FIG. 46B shows a sectional view thereof. That is, the optical waveguide 153 is formed in the glass base material 151 which becomes the base of the EL head array having the back emission structure. At this time, a condensing part 154 having a tapered side surface of the optical waveguide 153 and a radiating part 155 having a parabolic surface or an ellipsoidal surface are provided. This can be realized by controlling the intensity of the laser in accordance with the scanning.

上記処理によって、有機ELからの光を集光部152において1点に集光し、この1点から放射部に光を入射させる。すなわち、回転放物面の焦点に置いた点光源より光を放射することにより、外部に平行光、回転楕円体面の焦点に置いた点光源より光を放射することができ、外部に集束光を得ることができる。   By the above processing, light from the organic EL is condensed at one point in the condensing unit 152, and light is incident on the radiating unit from this one point. That is, by emitting light from a point light source placed at the focal point of the paraboloid of revolution, light can be emitted from a parallel light source and from a point light source placed at the focal point of the spheroid surface. Obtainable.

本例では、放射部155への光の入射は、焦点位置ではないため、光の平行化や集束化の効果は若干低下するものの、有機ELからの広がりを持つ光を点光源化しない場合に比べると効果は大きい。図47に方物面若しくは楕円面などの凹面形状反射鏡の点光源位置と前面照射面への光照射強度の関係を示す。   In this example, since the incident light to the radiation unit 155 is not the focal position, the effect of collimating and converging the light is slightly reduced, but light having a spread from the organic EL is not used as a point light source. Compared with the effect. FIG. 47 shows the relationship between the point light source position of the concave reflecting mirror such as a rectangular plane or an ellipsoid and the light irradiation intensity on the front irradiation surface.

このように構成することにより、面積を持つ有機ELより発せられた光を点光源にすることができ、発光を平行化、集束化することができる。
(実施形態9)
次に、本発明の実施形態9について説明する。
By comprising in this way, the light emitted from the organic EL which has an area can be made into a point light source, and light emission can be collimated and focused.
(Embodiment 9)
Next, a ninth embodiment of the present invention will be described.

本例は有機ELヘッドとして、トップエミツション構造の有機ELヘッドを使用する印刷装置の発明である。以下、具体的に説明する。
図48は本例の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、同図(a)はその平面図を示し、同図(b)はその断面図を示す。同図(a)、(b)に示すように、有機ELヘッド160は、長尺な基板161上に主走査方向に1列に配列されたトップエミツション構造の有機EL素子面状発光体162をアレイ状に形成し、面状発光体162の上方には発光体毎に面状発光体162に対向して導波路163が形成され、この導波路163は発光素子から照射された光線を反射しながら導波路端面の出射面165へ伝搬する構造である。
This example is an invention of a printing apparatus using a top emission structure organic EL head as the organic EL head. This will be specifically described below.
48A and 48B are diagrams for explaining the configuration of the organic EL head of this example. FIG. 48A shows a plan view thereof, and FIG. 48B shows a sectional view thereof. As shown in FIGS. 4A and 4B, the organic EL head 160 is a planar light emitting body having a top emission structure arranged in a line in the main scanning direction on a long substrate 161. 162 is formed in an array, and a waveguide 163 is formed above the planar light emitter 162 so as to face the planar light emitter 162 for each light emitter. The waveguide 163 emits light emitted from the light emitting element. It is a structure that propagates to the exit surface 165 of the waveguide end face while reflecting.

上記有機EL面状発光体162は、発光体下部電極166、正孔輸送層167、及び発光層168を面状発光体毎に絶縁膜169により分離形成されている。導波路端面165の出射面近傍の基板上には導波路内を伝搬した光を検出する光センサ部170が配設されて、導波路内を伝搬した光の強度を出射面近傍にて検出する構成である。   In the organic EL planar light emitter 162, the light emitter lower electrode 166, the hole transport layer 167, and the light emitting layer 168 are separated and formed for each planar light emitter by an insulating film 169. An optical sensor unit 170 for detecting light propagated in the waveguide is disposed on the substrate near the exit surface of the waveguide end face 165, and detects the intensity of the light propagated in the waveguide near the exit surface. It is a configuration.

また、導波路163の出射面近傍に光センサ170が配置されているため、有機EL発光体162の駆動、発光体及び発光体を含む導波路バラツキによる光バラツキを含めた結果としての光強度を測定することが可能であり、導波路出射面165より出射される光強度に近い値を測定することができる。   In addition, since the optical sensor 170 is disposed in the vicinity of the exit surface of the waveguide 163, the light intensity as a result of driving the organic EL light emitter 162 and including the light variation due to the waveguide variation including the light emitter and the light emitter is obtained. It is possible to measure, and a value close to the light intensity emitted from the waveguide exit surface 165 can be measured.

尚、上記実施形態では、導波路群全体を長尺な一つの光センサで検出する構造で説明しているが、一つの導波路につき1つの光センサで検出する構造や、いくつかの導波路単位で光センサを形成してもよい。但し、光センサを共通化して光センサの数が少ないことは光センサヘの同路配線、制御ロジックを簡素化することができることを示している。   In the above embodiment, the entire waveguide group is described as being detected by one long optical sensor. However, a structure in which one optical sensor is detected per waveguide, and several waveguides are used. You may form an optical sensor in a unit. However, the common use of photosensors and the small number of photosensors indicate that the same-path wiring to the photosensors and the control logic can be simplified.

図49は上記光センサ170の基本構造であり、光を受けることにより発電する機能を説明する図である。尚、本構造は発光体の基本構造と同一である。
また、図50は本例の有機EL発光体162の駆動制御を行う回路ブロック図を示す。本例の場合、複数の発光体に対して1つの光センサを配置する構造であるため、発光体一つずつを点灯させながら光センサのフィードバック信号を取得する方式である。すなわち、ヘッド制御回路172からの出力信号により、発光走査制御回路173を動作させ、任意の発光体を基準又は補正値電流で点灯する。
FIG. 49 is a diagram illustrating a basic structure of the optical sensor 170 and a function of generating power by receiving light. This structure is the same as the basic structure of the light emitter.
FIG. 50 is a circuit block diagram for controlling the driving of the organic EL light emitter 162 of this example. In the case of this example, since one light sensor is arranged for a plurality of light emitters, a feedback signal of the light sensor is acquired while lighting each light emitter. That is, the light emission scanning control circuit 173 is operated by an output signal from the head control circuit 172, and an arbitrary light emitter is turned on with a reference or correction value current.

発生した光は導波路163内を伝播し、出射面へ進行し、出射面近傍の光センサ170に入射することにより、光センサの端子電圧が発生し、発生した電圧は必要に応じてオペアンプ等で増幅され、ヘッド制御回路172のA/D変換部174によリデジタル信号に変換され、光センサ読取値として取得される。   The generated light propagates in the waveguide 163, travels to the exit surface, and enters the optical sensor 170 in the vicinity of the exit surface, thereby generating a terminal voltage of the photosensor. And is converted into a re-digital signal by the A / D conversion unit 174 of the head control circuit 172, and obtained as an optical sensor reading value.

例えば、有機EL露光ユニットとして、結像光学系を通り、最終的な結像位置に光ビームの輝度を外部のセンサ装置で測定し、その値が均一になるように各発光体の駆動流を決定する。この値を初期電流補正値Aとする。この電流補正値Aは有機EL露光ユニット初期における有機EL、導波路、結像光学系、場合によってはTFT回路等の全ての輝度バラツキ要因に対して輝度を均一にすることができる値である。   For example, as an organic EL exposure unit, the brightness of the light beam is measured by an external sensor device at the final imaging position through the imaging optical system, and the driving flow of each light emitter is adjusted so that the value becomes uniform. decide. This value is defined as an initial current correction value A. This current correction value A is a value that can make the luminance uniform with respect to all luminance variation factors such as the organic EL, the waveguide, the imaging optical system, and in some cases the TFT circuit in the initial stage of the organic EL exposure unit.

また、この初期電流補正値Aで各発光体を駆動した時のユニット内の光センサ読取値を初期輝度データBとすると、この初期輝度データBは最終的な結像点における均一輝度との相関値となる。したがって、この初期輝度データBと光センサからの読取値に差が発生した時に駆動電流にフィードバックをかけて光センサ読取値を初期輝度データBになるように制御することにより、最終的な結像位置での輝度均一性と不変性を維持することができる。   Further, when the light sensor reading value in the unit when each light emitter is driven with the initial current correction value A is the initial luminance data B, the initial luminance data B is correlated with the uniform luminance at the final imaging point. Value. Therefore, when the difference between the initial luminance data B and the reading value from the optical sensor occurs, feedback is applied to the driving current to control the optical sensor reading value to be the initial luminance data B, thereby obtaining the final image formation. The brightness uniformity and invariance at the position can be maintained.

また、初期は初期電流補正値Aと同じ値を格納している電流補正値Cを設け、輝度に差が発生した時にフィードバック制御により更新された駆動電流を電流補正値Cに格納すうように制御することにより寿命の推定が可能となる。   In addition, initially, a current correction value C storing the same value as the initial current correction value A is provided, and control is performed so that the drive current updated by feedback control is stored in the current correction value C when a difference in luminance occurs. By doing so, the life can be estimated.

例えば、図50に示したIの経路は、ヘッド制御回路172内に前述のフィードバック制御機能を盛り込んだ構成のルートである。検出した光センサ読取値と予め設定されている初期所望の輝度の参照値(初期輝度データB)とを比較し、差が発生した場合、駆動電流を変化させて光センサ読取値を初期輝度データBと一致するような駆動電流を見つけ、当該値を電流補正データCとして更新する。   For example, the route I shown in FIG. 50 is a route having the above-described feedback control function incorporated in the head control circuit 172. The detected optical sensor reading value is compared with a preset reference value of initial desired luminance (initial luminance data B), and if a difference occurs, the driving current is changed to change the optical sensor reading value to the initial luminance data. A drive current that matches B is found, and the value is updated as current correction data C.

また、経路IIでは、印刷装置側のコントローラ等、上位のコントローラのコマンド指定等によりフィードバックデータを提供する構成である。前述のフィードバック制御を上位コントローラで実施することにより、ヘッド制御回路172の補正制御構造を単純化、又は省略することもでき、装置のコストダウンを図ることができる。   The path II is configured to provide feedback data by command designation of a higher-level controller such as a controller on the printing apparatus side. By implementing the above feedback control by the host controller, the correction control structure of the head control circuit 172 can be simplified or omitted, and the cost of the apparatus can be reduced.

図51は、有機EL発光体162を定電圧駆動、定電流駆動、定輝度駆動した場合の寿命特性を示す図である。尚、同図(a)は定電圧駆動の場合であり、同図(b)は定電流駆動の場合であり、同図(c)は定輝度駆動の場合である。   FIG. 51 is a diagram showing lifetime characteristics when the organic EL light-emitting body 162 is driven at a constant voltage, a constant current, and a constant luminance. 2A shows the case of constant voltage driving, FIG. 2B shows the case of constant current driving, and FIG. 2C shows the case of constant luminance driving.

同図(a)〜(c)に示すように、定電圧駆動/定電流駆動/定輝度駆動の順で寿命を伸ばすことが可能であり、定輝度駆動場合、素子が破壊するか、駆動系の電流/電圧の限界まで輝度均一で使用することができる。よって、有機EL素子における大きな課題である寿命の問題が大きく改善される。   As shown in FIGS. 4A to 4C, the lifetime can be extended in the order of constant voltage driving / constant current driving / constant luminance driving. Can be used with uniform brightness up to the current / voltage limit. Therefore, the problem of the lifetime which is a big problem in the organic EL element is greatly improved.

また、印刷装置を長期間使用することにより発生する各発光体の使用頻度差の発生による輝度低下、輝度ムラを防止することが可能となり、寿命に至るまで印字品質を高品位に保つことができる。   In addition, it is possible to prevent luminance reduction and luminance unevenness due to the difference in usage frequency of each light emitter generated by using the printing apparatus for a long period of time, and it is possible to maintain high quality printing until the end of its life. .

次に、本実施形態の変形例について説明する。
図52は本実施形態の変形例を説明する図であり、同図(a)はその平面図を示し、同図(b)はその断面図を示す。また、前述の実施形態と同様、有機ELヘッド160は、長尺な基板161上に主走査方向に1列に配列されたトップエミッション構造の有機EL素子面状発光体162をアレイ状に形成し、面状発光体162の上方には発光体毎に面状発光体162に対向して導波路163が形成されている。
Next, a modification of this embodiment will be described.
FIG. 52 is a view for explaining a modification of the present embodiment. FIG. 52 (a) shows a plan view thereof, and FIG. 52 (b) shows a sectional view thereof. Further, as in the above-described embodiment, the organic EL head 160 forms the organic EL element planar light emitters 162 having a top emission structure arranged in a line in the main scanning direction on an elongated substrate 161 in an array. A waveguide 163 is formed above the planar light emitter 162 so as to face the planar light emitter 162 for each light emitter.

この変形例が上記実施形態と異なる構成は、光センサ部170の配置を導波路163の出射面側177の端面とは反対側の端面近傍に配置していることである。このように構成することにより、発生する光の伝搬に与える影響を最小限に抑えることができる。したがって、導波路出射面より放射する光強度、光プロファイルを理想的なものにすることができる。
(実施形態10)
次に、本発明の実施形態10について説明する。
The configuration in which this modification is different from that of the above embodiment is that the arrangement of the optical sensor unit 170 is arranged in the vicinity of the end surface of the waveguide 163 opposite to the end surface on the emission surface side 177. With this configuration, the influence on the propagation of the generated light can be minimized. Therefore, the light intensity and light profile emitted from the waveguide exit surface can be made ideal.
(Embodiment 10)
Next, a tenth embodiment of the present invention will be described.

本例も前述の実施形態9と同様、トップエミッション構造の有機ELヘッドを使用する印刷装置の発明である。図53は本例の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、同図(a)はその平面図を示し、同図(b)はその断面図を示す。尚、同図(a)、(b)は基本的に前述の図48と同じ構成であり、図48と相違する構成についてのみ説明する。   This example is also an invention of a printing apparatus using an organic EL head having a top emission structure, as in the ninth embodiment. FIGS. 53A and 53B are diagrams for explaining the configuration of the organic EL head of this example. FIG. 53A shows a plan view and FIG. 53B shows a cross-sectional view thereof. FIGS. 4A and 4B are basically the same as those in FIG. 48 described above, and only the configuration different from that in FIG. 48 will be described.

本例の場合、長尺な基板161上に、主走査方向に1列に配列されたTFT駆動アクティフマトリクス型トップエミッション構造の有機EL素子面状発光体180をアレイ状に形成し、面状発光体上方には発光体ごとに面状発光体に対向して導波路181を形成し、本導波路は発光素子分ら照射された光線を反射しながら導波路端面の出射面165に伝搬する構成である。   In the case of this example, on a long substrate 161, organic EL element planar light emitters 180 having TFT drive active matrix type top emission structure arranged in a line in the main scanning direction are formed in an array. A waveguide 181 is formed on the upper side of the light emitter so as to face the planar light emitter for each light emitter, and this waveguide propagates to the emission surface 165 at the end face of the waveguide while reflecting the light emitted from the light emitting element. It is.

TFT回路190は、アモルファスシリコン等の半導体で面状発光体毎に点灯回路を形成しており、面状発光体の下部に配置され、平坦化膜184により平坦化処理されている。有機EL面状発光体180は上記平坦化膜184の上部に形成されており、発光体下部電極186、正孔輸送層187、及び発光層188を面状発光体毎に絶縁膜188により分離形成している。   The TFT circuit 190 is made of a semiconductor such as amorphous silicon and forms a lighting circuit for each planar light emitter. The TFT circuit 190 is disposed under the planar light emitter and is planarized by a planarization film 184. The organic EL planar light emitter 180 is formed on the flattening film 184, and the light emitter lower electrode 186, the hole transport layer 187, and the light emitting layer 188 are separated and formed for each planar light emitter by the insulating film 188. is doing.

また、導波路側面の出射面近傍の基板上に導波路内を伝搬してきた光を検出できる光センサ部189を配置しており、導波路内を伝搬した光の強度を出射面近傍にて検出する構成である。   In addition, an optical sensor unit 189 that can detect light propagating in the waveguide is disposed on the substrate near the exit surface on the side surface of the waveguide, and the intensity of the light propagated in the waveguide is detected in the vicinity of the exit surface. It is the structure to do.

したがって、本実施形態によれば有機EL発光体180毎に駆動制御でき、TFT形成プロセスと同時に同一プロセスによって光センサを形成できるため、光センサを形成するための新規なプロセスを必要としない。   Therefore, according to the present embodiment, the drive control can be performed for each organic EL light emitter 180, and the optical sensor can be formed by the same process simultaneously with the TFT formation process, so that a new process for forming the optical sensor is not required.

次に、本実施形態の変形例について説明する。
図54は変形例を説明する感光体ベルトの構成図であり、同図(a)はその平面図を示し、同図(b)はその断面図を示す。この変形例は前述の図52と同様であり、光センサ部189の配置を導波路の出射面側177の端面とは反対側の端面近傍に配置していることである。このように構成することにより、発生する光の伝搬に与える影響を最小限に抑えることができる。したがって、導波路出射面より放射する光強度、光プロファイルを理想的なものにすることができる。
Next, a modification of this embodiment will be described.
FIGS. 54A and 54B are configuration diagrams of a photosensitive belt for explaining a modified example. FIG. 54A shows a plan view thereof, and FIG. 54B shows a sectional view thereof. This modification is the same as that of FIG. 52 described above, and is that the optical sensor unit 189 is disposed in the vicinity of the end surface on the opposite side to the end surface on the exit surface side 177 of the waveguide. With this configuration, the influence on the propagation of the generated light can be minimized. Therefore, the light intensity and light profile emitted from the waveguide exit surface can be made ideal.

実施形態1の有機ELヘッドの回路構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a circuit configuration of the organic EL head according to the first embodiment. 実施形態1の印刷装置の要部を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a main part of the printing apparatus according to the first embodiment. 感光体ドラムと有機ELヘッドの配設構成を示す図である。It is a figure which shows the arrangement configuration of a photosensitive drum and an organic EL head. 各有機EL素子の駆動回路の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the drive circuit of each organic EL element. 実施形態1の処理を説明するタイムチャートである。3 is a time chart for explaining processing of the first embodiment. 固定値を記憶する非選択期間メモリ、カウンタ、シフトレジスタで構成される制御回路を説明する回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a control circuit including a non-selection period memory that stores a fixed value, a counter, and a shift register. 制御回路の動作を説明するタイムチャートである。It is a time chart explaining operation | movement of a control circuit. 実施形態2の有機ELアレイの構造を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent array of Embodiment 2. FIG. 実施形態2の原理を説明する面発光部アレイパネルの外観図である。It is an external view of the surface emitting part array panel explaining the principle of Embodiment 2. セルフォックレンズの集光を説明する図である。It is a figure explaining the condensing of a Selfoc lens. セルフォックレンズの集光を説明する図である。It is a figure explaining the condensing of a Selfoc lens. リフレクタの斜視図を示す図である。It is a figure which shows the perspective view of a reflector. 端面照射型EL素子&リフレクタの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an end surface irradiation type EL element & reflector. リフレクタ有りの場合と、リフレクタ無しの場合の受光面プロファイル、及び指向性を示す図である。It is a figure which shows the light-receiving surface profile in the case with a reflector, and a case without a reflector, and directivity. 実施形態3において使用する印刷装置の全体構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an overall configuration of a printing apparatus used in a third embodiment. 有機ELアレイの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of an organic electroluminescent array. 感光体ベルトと有機ELヘッドの配設構成を示す図である。It is a figure which shows the arrangement configuration of a photoreceptor belt and an organic EL head. パラボラ型リフレクタを有機EL発光端面に形成する例を示す図である。It is a figure which shows the example which forms a parabolic reflector in organic electroluminescent light emission end surface. パラボラ型リフレクタを有機EL発光端面に形成する例を示す図である。It is a figure which shows the example which forms a parabolic reflector in organic electroluminescent light emission end surface. (a)、(b)は受光面距離に対応したパラボラ型リフレクタの受光面プロファイルを説明する図である。(A), (b) is a figure explaining the light-receiving surface profile of the parabolic reflector corresponding to light-receiving surface distance. リフレクタの中心部に凸型反射板を追加する例を示す図である。It is a figure which shows the example which adds a convex-shaped reflecting plate to the center part of a reflector. (a)、(b)は受光面距離に対応したパラボラ型リフレクタの受光面プロファイルを説明する図である。(A), (b) is a figure explaining the light-receiving surface profile of the parabolic reflector corresponding to light-receiving surface distance. 反射板付きパラボラ型リフレクタの形状による出射光の特徴を説明する図である。It is a figure explaining the characteristic of the emitted light by the shape of a parabolic reflector with a reflecting plate. 感光体ベルト及び有機ELヘッドの構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of a photoreceptor belt and an organic EL head. 実施形態4の有機ELヘッドの上面図を示す図である。FIG. 6 is a top view of an organic EL head according to a fourth embodiment. 実施形態4の有機ELヘッドの側面図を示す図である。6 is a side view of an organic EL head according to Embodiment 4. FIG. 実施形態4の変形例の有機ELヘッドの上面図を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a top view of an organic EL head according to a modification of the fourth embodiment. 実施形態4の変形例の有機ELヘッドの側面図を示す図である。FIG. 10 is a side view of an organic EL head according to a modification of the fourth embodiment. 実施形態5の有機ELヘッドの上面図を示す図である。FIG. 6 is a top view of an organic EL head according to Embodiment 5. 実施形態5の有機ELヘッドの側面断面図である。6 is a side sectional view of an organic EL head according to Embodiment 5. FIG. 実施形態5の変形例の説明する有機ELヘッドの上面図を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a top view of an organic EL head described as a modification of the fifth embodiment. 実施形態5の変形例の説明する有機ELヘッドの側面断面図を示す図である。It is a figure which shows the side sectional drawing of the organic electroluminescent head which the modification of Embodiment 5 demonstrates. 実施形態6において使用する印刷装置の全体構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an overall configuration of a printing apparatus used in a sixth embodiment. 実施形態6に使用する有機ELヘッドの回路構成を示す図である。10 is a diagram showing a circuit configuration of an organic EL head used in Embodiment 6. FIG. システムコントローラを具体的に説明する図である。It is a figure explaining a system controller concretely. パネル出力比較器の構成を具体的に説明する図である。It is a figure explaining the structure of a panel output comparator concretely. 実施形態6の処理を説明するタイムチャートである。10 is a time chart for explaining the processing of the sixth embodiment. データドライバの構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of a data driver. 有機ELパネルの断面構造を説明する図である。It is a figure explaining the cross-section of an organic electroluminescent panel. 有機ELパネルの断面構造を説明する図である。It is a figure explaining the cross-section of an organic electroluminescent panel. 焦電基板の自発分極変化を説明する図である。It is a figure explaining the spontaneous polarization change of a pyroelectric board. 実施形態6の処理を説明するフローチャートである。14 is a flowchart for explaining processing of the sixth embodiment. 実施形態7において使用する有機ELアレイ発光装置の構成を説明する図であり、(a)は有機ELアレイ発光装置の上面図であり、(b)はそのA−A断面図であり、(c)はそのB−B断面図である。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent array light-emitting device used in Embodiment 7, (a) is a top view of an organic electroluminescent array light-emitting device, (b) is the AA sectional drawing, (c ) Is a cross-sectional view taken along the line B-B. 変形例を示す有機ELアレイ発光装置の構成を説明する図であり、(a)は有機ELアレイ発光装置の上面図であり、(b)はそのA−A断面図であり、(c)はそのB−B断面図である。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent array light-emitting device which shows a modification, (a) is a top view of an organic electroluminescent array light-emitting device, (b) is the AA sectional drawing, (c) is It is the BB sectional drawing. 光導波路形成の概念図を示す図である。It is a figure which shows the conceptual diagram of optical waveguide formation. (a)は、光導波路形成の斜視図を示し、(b)は、光導波路形成の断面図を示す。(A) shows the perspective view of optical waveguide formation, (b) shows sectional drawing of optical waveguide formation. 方物面若しくは楕円面などの凹面形状反射鏡の点光源位置と前面照射面への光照射強度の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the point light source position of concave shape reflective mirrors, such as a rectangular parallelepiped surface or an elliptical surface, and the light irradiation intensity | strength to a front irradiation surface. 実施形態9の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、(a)はその平面図を示し、(b)はその断面図を示す。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent head of Embodiment 9, (a) shows the top view, (b) shows the sectional drawing. 光センサの基本構造を説明する図である。It is a figure explaining the basic structure of an optical sensor. 有機EL発光体の駆動制御を行う回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which performs drive control of an organic electroluminescent light-emitting body. 有機EL発光体を定電圧駆動、定電流駆動、定輝度駆動した場合の寿命特性を示す図であり、(a)は定電圧駆動の場合であり、(b)は定電流駆動の場合であり、(c)は定輝度駆動の場合である。It is a figure which shows the lifetime characteristic at the time of driving an organic electroluminescent light-emitting body by constant voltage drive, constant current drive, and constant brightness, (a) is a case of constant voltage drive, (b) is a case of constant current drive. , (C) shows the case of constant luminance driving. 変形例の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、(a)はその平面図を示し、(b)はその断面図を示す。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent head of a modification, (a) shows the top view, (b) shows the sectional drawing. 実施形態10の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、(a)はその平面図を示し、(b)はその断面図を示す。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent head of Embodiment 10, (a) shows the top view, (b) shows the sectional drawing. 変形例の有機ELヘッドの構成を説明する図であり、(a)はその平面図を示し、(b)はその断面図を示す。It is a figure explaining the structure of the organic electroluminescent head of a modification, (a) shows the top view, (b) shows the sectional drawing. 有機EL素子の駆動回路を説明する図である。It is a figure explaining the drive circuit of an organic EL element. 従来例の有機EL素子の駆動処理を説明するタイムチャートである。It is a time chart explaining the drive process of the organic EL element of a prior art example. (a)は、理想的なビームスポットの例を示す図であり、(b)は、副走査方向にビームスポットが移動し、露光ドットが副走査方向に広がった状態を示す図である。(A) is a figure which shows the example of an ideal beam spot, (b) is a figure which shows the state which the beam spot moved to the subscanning direction, and the exposure dot spread in the subscanning direction.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・感光体ドラム
2・・・帯電ローラ
3・・・有機ELヘッド
4・・・現像器
5・・・転写ローラ
6・・・クリーニング部
7・・・イレーサ
8・・・用紙
9・・・定着ローラ
10・・有機ELアレイ
11・・SLA(セルフォックレンズアレイ)
20・・選択信号ドライバ
21・・電源電圧ドライバ
22・・ドライバ
31・・非選択期間メモリ
32・・カウンタ
41・・ガラス基板
42・・アノード電極(陽極)
43・・正孔注入層(HTL)
44・・発光層(EL)
45・・電子注入層(ETL)
46・・カソード電極(陰極)
47・・面発光部アレイパネル
48・・面発光部
49・・導光部
50・・リフレクタ
51・・帯電ローラ
52・・感光体ベルト
52a・・シームレストベルト状透光性基体
52b・・透光性導電層
52c・・電荷発生層(CGL)
52d・・電荷移動層(CTL)
52e・・表面保護層(OCL)
53・・有機ELヘッド
54・・現像器
55・・転写ローラ
56・・クリーニング部
57・・イレーサ光源
58・・用紙
59・・搬送機構
60・・ベルトテンションローラ
61・・パラボラ型リフレクタ
65・・有機ELアレイ露光ヘッド
66・・発光体透明基板部
67・・導波路形成基板部
68・・レンズ透明基板部
75・・有機ELアレイ露光ヘッド
76・・発光体/導波路形成透明基板部
77・・カバーガラス
78・・レンズ透明基板部
80・・方向変換ミラー
81・・発光体透明基板
82・・有機EL発光体アレイ
83・・レンズ透明基板
84・・陽極
85・・陰極
86・・正孔輸送層
87・・積層発光層
88・・封止材
89・・光吸収層
90・・有機ELアレイ露光ヘッド
91・・発光体透明基板
93・・封止材
94・・屈折率分布型レンズ
95・・レンズ透明基板
96・・陰極
100・・発光部
101・・システムコントローラ
102・・データドライバ
103・・スキャンドライバ
104・・有機ELパネル
105・・選択トランジスタ
106・・発光駆動トランジスタ
107・・保持キャパシタ
108・・出力比較器
110、113・・焦電基板
111、112・・基板透明電極
117・・補正値テーブル
118・・Vdata信号制御部
119・・Vscan信号制御部
120・・初期値メモリ
121・・比較器
123・・制御部
130・・有機ELアレイ発光装置
131・・有機EL発光体形成層
133・・発光体基板
134・・下部電極
135・・絶縁層
136・・有機発光層
137・・上部透明電極
138・・有機EL発光部
140・・コア層
140a・・第1の層
140b・・第2の層
141・・回折格子
142・・光アイソレートフォトニツク結晶
143・・有機EL発光部
150・・フェムト秒レーザ光
151・・ガラス基材
152・・集光部分
153・・光導波路
154・・集光部
155・・放射部
160・・有機ELヘッド
161・・基板
162・・有機EL素子面状発光体
163・・導波路
165・・出射面
166・・発光体下部電極
167・・正孔輸送層
168・・発光層
169・・絶縁膜
170・・光センサ部
172・・ヘッド制御回路
173・・発光走査制御回路
174・・A/D変換部
180・・有機EL素子面状発光体
181・・導波路
184・・平坦化膜
186・・発光体下部電極
187・・正孔輸送層
188・・発光層
189・・光センサ部
190・・TFT回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Photosensitive drum 2 ... Charging roller 3 ... Organic EL head 4 ... Developing device 5 ... Transfer roller 6 ... Cleaning part 7 ... Eraser 8 ... Paper 9 ..Fixing roller 10 ..Organic EL array 11 ..SLA (Selfoc lens array)
20. .. selection signal driver 21 .. power supply voltage driver 22 .. driver 31 .. non-selection period memory 32 .. counter 41 .. glass substrate 42 .. anode electrode (anode)
43..Hole injection layer (HTL)
44 .. Light emitting layer (EL)
45 .. Electron injection layer (ETL)
46 .. Cathode electrode (cathode)
47..Surface emitting unit array panel 48.Surface emitting unit 49..Light guide unit 50..Reflector 51..Charging roller 52..Photosensitive belt 52a..Seamless belt-like translucent substrate 52b. Conductive layer 52c .. Charge generation layer (CGL)
52d .. Charge transfer layer (CTL)
52e .. Surface protective layer (OCL)
53..Organic EL head 54.Developer 55.Transfer roller 56.Cleaning unit 57.Eraser light source 58. Paper 59.Conveying mechanism 60. Belt tension roller 61. Parabolic reflector 65. Organic EL array exposure head 66... Light emitter transparent substrate part 67.. Waveguide forming substrate part 68.. Lens transparent substrate part 75.. Organic EL array exposure head 76. · Cover glass 78 · · Lens transparent substrate portion 80 · · Directional change mirror 81 · · Light emitter transparent substrate 82 · · Organic EL light emitter array 83 · · Lens transparent substrate 84 · · Anode 85 · · Cathode 86 · · Hole Transport layer 87 .. Laminated light emitting layer 88.. Sealing material 89... Light absorption layer 90.. Organic EL array exposure head 91. Type lens 95, lens transparent substrate 96, cathode 100, light emitting unit 101, system controller 102, data driver 103, scan driver 104, organic EL panel 105, selection transistor 106, light emission drive transistor 107 ··· Holding capacitor 108 ··· Output comparators 110 and 113 · · Pyroelectric substrates 111 and 112 · · Substrate transparent electrode 117 · · Correction value table 118 · · Vdata signal controller 119 · · Vscan signal controller 120 · · Initial Value memory 121 ..Comparator 123..Control unit 130.Organic EL array light emitting device 131.Organic EL emitter forming layer 133.Light emitter substrate 134.Lower electrode 135.Insulating layer 136.Organic light emission Layer 137 .. Upper transparent electrode 138 .. Organic EL light emitting unit 140 .. Core layer 140 a... First layer 14 b. Second layer 141 Diffraction grating 142 Optical isolated photonic crystal 143 Organic EL light emitting unit 150 Femtosecond laser light 151 Glass substrate 152 Condensing portion 153 Optical waveguide 154... Condensing part 155... Radiation part 160.. Organic EL head 161... Substrate 162 .. Organic EL element planar light emitter 163. 167..Hole transport layer 168..Light emitting layer 169..Insulating film 170..Optical sensor unit 172..Head control circuit 173..Light emission scanning control circuit 174..A / D converter 180..Organic EL element Planar light emitter 181... Waveguide 184.. Flattened film 186.. Light emitter lower electrode 187... Hole transport layer 188.

Claims (5)

複数のEL素子を主走査方向にアレイ状に配設されて成るELアレイから感光面に光照射を行い、感光面に形成された潜像を現像して記録媒体に印刷を行う印刷装置において、
前記ELアレイに選択信号を供給する選択信号供給手段と、
該選択信号の出力後、前記ELアレイ内のEL素子に発光電源を供給する、発光電源供給手段と、
前記ELアレイを内蔵するヘッドユニット毎に設けられた記憶手段内に予め設定された前記ELアレイの駆動期間の情報に基づいて前記発光電源の供給を停止する制御手段と、
を有することを特徴とする印刷装置。
In a printing apparatus that irradiates a photosensitive surface with light from an EL array in which a plurality of EL elements are arranged in an array in the main scanning direction, develops a latent image formed on the photosensitive surface, and prints on a recording medium.
Selection signal supply means for supplying a selection signal to the EL array;
A light emission power supply means for supplying light emission power to the EL elements in the EL array after outputting the selection signal;
Control means for stopping the supply of the light emission power based on information of the driving period of the EL array set in advance in the storage means provided for each head unit incorporating the EL array;
A printing apparatus comprising:
前記ELアレイの駆動期間の情報は、予めELヘッドユニット毎に測定した結果に基づいて設定されることを特徴とする請求項1記載の印刷装置。   The printing apparatus according to claim 1, wherein the information on the driving period of the EL array is set based on a result measured in advance for each EL head unit. 前記選択信号の出力によって、駆動回路に形成された容量手段に電荷をチャージし、該チャージされた電荷によって切換手段を切り換え、前記発光電源を前記ELアレイに流して各ELアレイの発光を行うことを特徴とする請求項1、又は2記載の印刷装置。   In response to the output of the selection signal, the capacitor means formed in the drive circuit is charged with electric charge, the switching means is switched by the charged electric charge, and the light emitting power is supplied to the EL array to emit light from each EL array. The printing apparatus according to claim 1 or 2. 前記EL素子は有機EL素子であり、前記ELアレイには有機EL素子群が複数配設されていることを特徴とする請求項1、2、又は3記載の印刷装置。   The printing apparatus according to claim 1, wherein the EL element is an organic EL element, and a plurality of organic EL element groups are arranged in the EL array. 複数のEL素子が形成されたELアレイ毎に該ELアレイに選択信号を供給する選択信号供給手段と、
該選択信号の出力後、前記ELアレイ内のEL素子に発光電源を供給する、発光電源供給手段と、
前記ELアレイを内蔵するヘッドユニット毎に設けられた記憶手段内に予め設定された前記ELヘッドユニット毎のEL素子の駆動期間の情報に基づいて前記発光電源の供給を停止する制御手段と、
を有することを特徴とするELヘッドユニットの駆動装置。
Selection signal supply means for supplying a selection signal to each EL array in which a plurality of EL elements are formed;
A light emission power supply means for supplying light emission power to the EL elements in the EL array after outputting the selection signal;
Control means for stopping the supply of the light emission power based on information on the driving period of the EL element for each EL head unit preset in a storage means provided for each head unit incorporating the EL array;
A drive device for an EL head unit, comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011183721A (en) * 2010-03-10 2011-09-22 Casio Computer Co Ltd Exposure apparatus, drive controlling method therefor, and image forming apparatus
JP2013083894A (en) * 2011-10-12 2013-05-09 Fujitsu Component Ltd Optical connector and signal processor
JP2014004752A (en) * 2012-06-25 2014-01-16 Ricoh Opt Ind Co Ltd Light source device and image forming device

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