JP2016201499A - 安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【課題】高エネルギー不可視光が発生すると、これを可視光に転換して危険を知らせる警告信号とすることで、ユーザの安全を確保するための高エネルギー不可視光発光ダイオードの安全指示構成を提供する。
【解決手段】高エネルギー不可視光発光構成10は、順方向のバイアス電圧を受けて不可視光40を発光する高エネルギー不可視光発光層11と、高エネルギー不可視光発光層11の両側に設置するP型半導体層12とN型半導体層13とを有し、二つの電位印加層20、21は、それぞれP型半導体層12及びN型半導体層13とに接触し、安全指示構成30は、不可視光40を吸収して可視光50を発光するフォトルミネセンス発光層31を高エネルギー不可視光発光構成10の発光面上に設置しており、これにより、高エネルギー不可視光発光構成10が不可視光40を発光した場合、安全指示構成30のフォトルミネセンス発光層は可視光50を発光して危険を知らせる。
【選択図】図4
【解決手段】高エネルギー不可視光発光構成10は、順方向のバイアス電圧を受けて不可視光40を発光する高エネルギー不可視光発光層11と、高エネルギー不可視光発光層11の両側に設置するP型半導体層12とN型半導体層13とを有し、二つの電位印加層20、21は、それぞれP型半導体層12及びN型半導体層13とに接触し、安全指示構成30は、不可視光40を吸収して可視光50を発光するフォトルミネセンス発光層31を高エネルギー不可視光発光構成10の発光面上に設置しており、これにより、高エネルギー不可視光発光構成10が不可視光40を発光した場合、安全指示構成30のフォトルミネセンス発光層は可視光50を発光して危険を知らせる。
【選択図】図4
Description
本発明は、高エネルギー不可視光の発光構成であって、特に高エネルギー不可視光の安全指示構成に関するものである。
図1を参照すると、サンドイッチ構造を構成する第一型半導体層1A、活性層2A及び第二型半導体層3Aを包含する周知の垂直型発光ダイオードが示されており、前記第二型半導体層3Aの下方には基板4Aと第二型電極5Aとが順次形成され、前記第一型半導体層1Aの表面は第一型電極6Aを設けるために用いられ、そのうち前記第一型半導体層1Aと前記第二型半導体層3AはP型半導体及びN型半導体のいずれかによって構成されている。
これにより、前記第一型電極6A及び前記第二型電極5Aの間に順方向のバイアス電圧を印加すると、前記第一型半導体層1A及び前記第二型半導体層3Aは電子及び電子孔をそれぞれ提供し、前記電子及び前記電子孔は前記活性層2A内において結合することができ、エネルギー準位間の電子移動によって波長が固定しているレーザ光を発生している。
図2を参照すると、同じように、サンドイッチ構造を構成する第一型半導体層1B、活性層2B及び第二型半導体層3Bを包含する周知の水平型発光ダイオードが示されており、前記第一型半導体層1Bは、基板4B上に形成され、且つ第二型電極5B及び第一型電極6Bが前記第二型半導体層3Bと前記第一型半導体層1Bとの同じ側面にそれぞれ設置されており、これにより、前記第一型電極6B及び前記第二型電極5Bの間に電圧を印加すると、電子と電子孔は前記活性層2B内において結合してレーザ光を発生することができる。
また、図3を参照すると、特許文献1であって、窒化物発光ダイオード9を包含し、前記窒化物発光ダイオード9上に、真性半導体層9A、窒化物フォトルミネセンス活性層9B、真性半導体層9Aを順次堆積する光子再利用発光ダイオードが示されており、そのうち、前記窒化物発光ダイオード9によって発生するエレクトロルミネセンス9Cは、前記窒化物フォトルミネセンス活性層9Bに入射し、もう一つの波長であるフォトルミネセンス9Dを発生しており、つまり、前記窒化物フォトルミネセンス活性層9Bは、もう一つの波長であるフォトルミネセンス9Dを発生するためにあり、その目的は、様々な色の光を混合することで、演色性が好ましい白色光を発生することにある。
従って、垂直型発光ダイオード、水平型発光ダイオード或いはその他の型式の発光ダイオードであったとしても、需要に応じて適切な材料を活性層2A、2Bとすれば、様々な色の可視光及び紫外線等の高エネルギー不可視光を含む各種波長の光を放出することができる。
そのうち、紫外線等の高エネルギー不可視光は、病原性ウィルスや細菌を有効的に駆除したり、その活性化を低減したりすることで、大規模な感染の発生を防ぐため、公共の場において幅広く応用されている。
また、高エネルギー不可視光は、人の目では見えないため、知らず知らずに人体を高エネルギー不可視光に晒してしまい易く、人体に影響を及ぼす値に達すると、皮膚や目に病変が発生し、ユーザの安全と健康に害を及ぼしてしまう。
このことから、本発明の目的は、高エネルギー不可視光が発生すると、これを可視光に転換して危険を知らせる警告信号とすることで、ユーザの安全を確保するための高エネルギー不可視光発光ダイオードの安全指示構成を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明は、高エネルギー不可視光発光構成、二つの電位印加層及び安全指示構成を包括する安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオードを提供し、そのうち、前記高エネルギー不可視光発光構成は、順方向のバイアス電圧を受けて不可視光を発光する高エネルギー不可視光発光層と、前記高エネルギー不可視光発光層の両側に設置するP型半導体層とN型半導体層とを有し、前記二つの電位印加層は、それぞれ前記P型半導体層及び前記N型半導体層とに接触し、前記安全指示構成は、前記不可視光を吸収して可視光を発光するフォトルミネセンス発光層を有し、前記高エネルギー不可視光発光構成の発光面上に設置し、且つ前記発光面上において局部を露出するように立体構成を形成している。
これにより、前記高エネルギー不可視光発光構成、即ち前記高エネルギー不可視光発光層が不可視光を発光した場合、前記安全指示構成の前記フォトルミネセンス発光層は前記不可視光を吸収することによって前記可視光に転換し、且つ本発明に係る前記安全指示構成は前記発光面上において局部を露出するように立体構成を形成しているため、一部の不可視光を有効的に制御して可視光に転換しながら、大部分の不可視光を保持して使用することから、可視光を危険を知らせる警告信号とし、人体を高エネルギー不可視光に晒さないように防ぐことで、ユーザの安全を確保している。
これより、実施例を挙げて本発明の詳細な内容及びその技術的特徴を説明するが、これ等実施例はあくまでも説明をするための例示に過ぎず、本発明の実施を制限するものではない。
まず、図4及び図5を参照すると、本発明は、高エネルギー不可視光発光構成10、二つの電位印加層20、21及び安全指示構成30を包括する安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオードを提供し、そのうち、前記高エネルギー不可視光発光構成10は、順方向のバイアス電圧を受けて不可視光40を発光する高エネルギー不可視光発光層11と、前記高エネルギー不可視光発光層11の両側に設置するP型半導体層12とN型半導体層13とを有している。
前記二つの電位印加層20、21は、それぞれ前記P型半導体層12及び前記N型半導体層13とに接触し、前記安全指示構成30は、前記不可視光40を吸収して可視光50を発光するフォトルミネセンス発光層31を有し、前記高エネルギー不可視光発光構成10の発光面60上に設置し、且つ前記発光面60上において局部を露出するように立体構成を形成しており、その立体構成は、円柱状、六角形状、五角形状、四角形状或いは三角形状のいずれかであって、図5はその一例として三角形状が図示されている。
また、前記発光面60の設置位置は、実際の実施において、前記P型半導体層12表面或いは前記N型半導体層13表面のいずれかに設置することができ、本明細書においては、前記N型半導体層13表面に設置することを例として説明しており、且つ前記安全指示構成30は、前記N型半導体層13に接触する半導体層32をさらに包括し、前記フォトルミネセンス発光層31を前記半導体層32上に設置しており、前記半導体層32は、上述したことに対応してN型半導体或いは真性半導体のいずれかにすることができる。
次に図6を参照すると、本発明に係るその他の実施例において、前記フォトルミネセンス発光層31は、その上にもう一つの半導体層33をさらに設置し、前記半導体層33は、光屈折或いは広幅化の構成を設置することで、輝度を向上することができる。
さらに図7を併せて参照すると、前記高エネルギー不可視光発光構成10、即ち前記高エネルギー不可視光発光層11が前記不可視光40を発光した場合、前記安全指示構成30の前記フォトルミネセンス発光層31は前記不可視光40を吸収することによって前記可視光50に転換している。そのうち、前記高エネルギー不可視光発光層11の発光波長は、200〜380ナノメートル(不可視区間)とすることができ、前記フォトルミネセンス発光層31の発光波長は、410〜560ナノメートル(可視区間)とすることができる。
また、前記フォトルミネセンス発光層31の材質は、III-V族窒化物とすることができ、且つ発光機能の強化のため、無添加構成或いはマグネシウム(Mg)及びシリコン(Si)を添加する構成のいずれかとすることができる。また、前記フォトルミネセンス発光層31が前記不可視光40を過度に吸収させないため、好ましい前記フォトルミネセンス発光層31の厚さは、0.1〜2マイクロメートルに制限するか、或いは材質又は厚さのいずれかによって、前記フォトルミネセンス発光層31の高エネルギーから低エネルギーに転換する比率を30%より少なく制限する必要がある。
また、前記安全指示構成30は、前記発光面60上の全域に設置するか、或いは図8及び図9のように、前記安全指示構成30を、前記不可視光40の吸収量を低減し、且つ高エネルギー不可視光が使用可能な程度、前記発光面60上の一部だけに設置することができる。また、図10のように、前記安全指示構成30を前記発光面60の両側に設置することで、輝度を強化し、且つユーザに注意をさらに促している。
また、図11及び図12のように、前記安全指示構成30は、数字、文字或いは数字及び文字の両方によって表示するように、前記発光面60の一部だけに設置することもできる。文字は、例えば、その危険性を「UVB」というように、数字は、例えば、その高エネルギー波長を「285」というように、具体的に表示することで、警告の目的を達している。
以上のことから、本発明は、前記高エネルギー不可視光発光構成、即ち前記高エネルギー不可視光発光層が不可視光を発光した場合、前記安全指示構成の前記フォトルミネセンス発光層は前記不可視光を吸収することによって前記可視光に転換し、且つ本発明に係る前記安全指示構成は前記発光面上において局部を露出するように立体構成を形成しているため、一部の不可視光を有効的に制御して可視光に転換しながら、大部分の不可視光を保持して使用することから、可視光を危険を知らせる警告信号とし、人体を高エネルギー不可視光に晒さないように防ぐことで、ユーザの安全を確保している。
10 高エネルギー不可視光発光構成
11 高エネルギー不可視光発光層
12 P型半導体層
13 N型半導体層
20 電位印加層
21 電位印加層
30 安全指示構成
31 フォトルミネセンス発光層
32 半導体層
33 半導体層
40 不可視光
50 可視光
60 発光面
11 高エネルギー不可視光発光層
12 P型半導体層
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20 電位印加層
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30 安全指示構成
31 フォトルミネセンス発光層
32 半導体層
33 半導体層
40 不可視光
50 可視光
60 発光面
Claims (13)
- 順方向のバイアス電圧を受けて不可視光を発光する高エネルギー不可視光発光層と、前記高エネルギー不可視光発光層の両側に設置するP型半導体層とN型半導体層とを有する高エネルギー不可視光発光構成と、
それぞれ前記P型半導体層及び前記N型半導体層とに接触する二つの電位印加層と、
前記不可視光を吸収して可視光を発光するフォトルミネセンス発光層を有し、前記高エネルギー不可視光発光構成の発光面上に設置し、且つ前記発光面上において局部を露出するように立体構成を形成する安全指示構成と、を包括することを特徴とする、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。 - 前記高エネルギー不可視光発光層の発光波長は、200〜380ナノメートルであることを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記安全指示構成の立体構成は、円柱状、六角形状、五角形状、四角形状或いは三角形状のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層の発光波長は、410〜560ナノメートルであることを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層の材質は、III-V族窒化物であることを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層は、無添加構成或いはマグネシウム(Mg)及びシリコン(Si)を添加する構成のいずれかであることを特徴とする請求項5に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記安全指示構成は、前記発光面の一部だけに設置することを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記安全指示構成は、数字、文字或いは数字及び文字の両方のいずれかによって表示することを特徴とする請求項7に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記安全指示構成は、前記発光面上の全域に設置することを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層の厚さは、0.1〜2マイクロメートルであることを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層の高エネルギーから低エネルギーに転換する比率は、30%より少ないことを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記発光面は、前記N型半導体層表面に設置し、且つ前記安全指示構成は、前記N型半導体層に接触する半導体層をさらに包括し、前記フォトルミネセンス発光層を前記半導体層上に設置することを特徴とする請求項1に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
- 前記フォトルミネセンス発光層は、その上にもう一つの半導体層をさらに設置することを特徴とする請求項11に記載の、安全指示を具える高エネルギー不可視光発光ダイオード。
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JP2009123836A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Rohm Co Ltd | 窒化物半導体発光素子 |
JP2013012709A (ja) * | 2011-05-31 | 2013-01-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 窒化物系発光ダイオード素子および発光方法 |
JP2013042079A (ja) * | 2011-08-19 | 2013-02-28 | Sharp Corp | 半導体発光装置 |
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2015
- 2015-04-13 JP JP2015082072A patent/JP2016201499A/ja active Pending
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