JP2016195982A - Cleaning device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、フィルム基材に塵埃等の付着を嫌う電子部材、特に有機エレクトロルミネッセンス(EL)照明等に用いることが可能なフィルム基材を洗浄する洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning an electronic member that dislikes adhesion of dust or the like to a film substrate, particularly a film substrate that can be used for organic electroluminescence (EL) illumination or the like.
従来、プラスチック等のフィルム基材の表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等の金属酸化物の薄膜を形成したガスバリアフィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装用途に広く用いられている。また、包装用途以外にも液晶表示素子、太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス(EL)基板等で使用されている。特に有機EL素子などへの応用が進んでいる透明基材には、近年、軽量化、大型化という要求に加え、長期信頼性や形状のフレキシブル性が可能であること等の高度な要求が加わり、重くて割れやすく大面積化が困難なガラス基板に代わって透明プラスチック等のフィルム基材が採用され始めている。また、プラスチックフィルムは上記要求に応えるだけでなく、ロールツーロール方式が可能であることからガラスよりも生産性が良くコストダウンの点でも期待が持たれている。 Conventionally, a gas barrier film in which a thin film of a metal oxide such as aluminum oxide, magnesium oxide, silicon oxide or the like is formed on the surface of a film substrate such as plastic is used to wrap articles that require blocking of various gases such as water vapor and oxygen, Widely used in packaging applications to prevent the deterioration of food, industrial products and pharmaceuticals. In addition to packaging applications, it is used in liquid crystal display elements, solar cells, organic electroluminescence (EL) substrates, and the like. In particular, transparent substrates, which are being applied to organic EL devices, have recently added high demands such as long-term reliability and flexibility in shape in addition to demands for weight reduction and size increase. Instead of glass substrates that are heavy, fragile and difficult to increase in area, film base materials such as transparent plastics have begun to be used. In addition, the plastic film not only meets the above requirements, but is also expected to be more productive than glass and reduce costs because it can be rolled to roll.
また、有機ELはプラスチック等のフィルム基材を用いることにより、低消費電力、薄型、軽量、フレキシブル性による設計自由度が高い等の多くの利点から、次世代のフレキシブル照明としても注目されている。この有機ELの素子構成は、一般に透明基板上に陽極層、有機発光層、陰極層の積層により形成され、陽極層と陰極層との間に電圧を印加することにより有機発光層が励起することで発光する。 In addition, organic EL is attracting attention as a next-generation flexible lighting because of its many advantages such as low power consumption, thinness, light weight, and high design flexibility due to its flexibility by using a film substrate such as plastic. . This organic EL device structure is generally formed by laminating an anode layer, an organic light emitting layer and a cathode layer on a transparent substrate, and the organic light emitting layer is excited by applying a voltage between the anode layer and the cathode layer. Lights on.
しかしながら、プラスチックのフィルム基材はガスバリア性に乏しいという問題がある。ガスバリア性が十分でないフィルム基材を用いると、フィルム基材中に水蒸気や空気が浸透する。酸素や水分に弱いことが知られている有機EL素子は、大気中に放置すると、酸素や水蒸気が有機EL素子内へ進入し、劣化が引き起こされる。 However, there is a problem that a plastic film substrate has poor gas barrier properties. If a film base material with insufficient gas barrier properties is used, water vapor and air penetrate into the film base material. When an organic EL element that is known to be vulnerable to oxygen and moisture is left in the air, oxygen and water vapor enter the organic EL element and cause deterioration.
このように、プラスチックのフィルム基材は、単体では、水、酸素のバリア性に乏しく、有機EL素子の陰極層を保護するために必要な水蒸気バリア性を確保することは困難である。そのため、フィルム基材上に金属酸化物薄膜をバリア層として形成し、ガスバリア性を有したフィルム基材とすることが提案されている。このバリア層としては、主に透明性の高い珪素、アルミニウムなどの酸化物や窒化物があげられる。このバリア層は、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法などにより形成される。 As described above, the plastic film substrate alone has poor water and oxygen barrier properties, and it is difficult to ensure the water vapor barrier properties necessary for protecting the cathode layer of the organic EL element. For this reason, it has been proposed to form a metal oxide thin film as a barrier layer on a film substrate to provide a film substrate having gas barrier properties. Examples of the barrier layer include oxides and nitrides such as silicon and aluminum, which are highly transparent. This barrier layer is formed by sputtering, vacuum deposition, CVD, or the like.
上記のように金属酸化物薄膜からなるバリアフィルムは、分布なく適切な成膜が施されている状態においては、ガスバリア性に問題なく所望の性能を確保できる。しかし、フィルム基材上に塵埃が存在した場合は、薄膜形成時の成膜不具合、または薄膜形成後の塵埃脱落によるピンホール等により、ガスバリア性の著しい低下が発生する。そのため、薄膜形成前にフィルム基材から塵埃を除去(すなわち、除塵)する必要がある。 As described above, a barrier film made of a metal oxide thin film can ensure desired performance without any problem in gas barrier properties in a state where appropriate film formation is performed without distribution. However, when dust is present on the film substrate, the gas barrier property is significantly lowered due to a film formation failure when forming the thin film or a pinhole due to dust falling off after forming the thin film. Therefore, it is necessary to remove (that is, remove dust) from the film substrate before forming the thin film.
フィルム基材に対する除塵方法としてはいくつか検討がなされており、工程が比較的簡便な乾式洗浄が特に注目されてきた。主に、粘着性を持ったゴムロール等をフィルム基材表面に接触させてフィルム基材表面に付着した塵埃を粘着ゴム等に転写させる方法や、フィルム基材表面に高圧エアや超音波で振動させたエアを吹き付けてフィルム基材表面の塵埃を剥離させ、その剥離した塵埃を含む空気を吸引して除去する非接触の除塵方法、などが知られている。 Several studies have been made as methods for removing dust from a film substrate, and dry cleaning with a relatively simple process has attracted particular attention. Mainly, sticking a rubber roll with adhesive to the surface of the film base to transfer the dust adhering to the surface of the film base to the adhesive rubber, etc., or vibrating the film base with high-pressure air or ultrasonic waves. There is known a non-contact dust removing method in which dust on the surface of the film substrate is peeled off by blowing air and the air containing the peeled dust is removed by suction.
しかしながら、上記のような粘着ゴムロールによってフィルム基材表面の塵埃を除去する方法は、除塵能力は大きいが、同時に大きな剥離帯電が発生し、除塵後のフィルム基材に、この帯電(静電気)によって周辺の塵挨が吸着されてしまう問題がある。一方、非接触の高圧エア吹出し・吸引または超音波振動エア吹出し・吸引による除塵方法は、粘着ゴムロール接触式の除塵方法と比較すると除塵能力が劣り、バリア性能を十分に確保するための除塵性能が得られないという問題がある。そこで、洗浄後にフィルム基材の乾燥処理が必要となるものの、ガラス基材の除塵に採用され除塵能力に優れる湿式洗浄が検討されている。 However, the method of removing dust on the surface of the film substrate with the adhesive rubber roll as described above has a large dust removal capability, but at the same time, a large peeling charge is generated, and the film substrate after dust removal is surrounded by this charge (static electricity). There is a problem that the dust is adsorbed. On the other hand, the dust removal method by non-contact high-pressure air blowing / suction or ultrasonic vibration air blowing / suction is inferior to the adhesive rubber roll contact type dust removing method, and the dust removing performance to ensure sufficient barrier performance. There is a problem that it cannot be obtained. Then, although the drying process of a film base material is needed after washing | cleaning, the wet washing | cleaning which is employ | adopted for dust removal of a glass base material and is excellent in the dust removal capability is examined.
例えば、特許文献1には、洗浄ノズルから吐出される洗浄液の水流によりフィルム基材表面に付着した塵埃を除去するフィルム洗浄装置の提案がなされている。
For example,
ところで、特にロールツーロールによる薄膜形成において懸念される点として、ロール状のフィルム基材の幅方向の端部(すなわち、フィルム基材端部)で、除去対象となる塵埃がより多く分布することが分かっている。これはフィルム基材の切断加工(スリット)時に発生するフィルム基材由来の塵埃や、フィルム基材をロール保管する際の降下塵等が、ロール端面へ付着すること原因であると考えられる。 By the way, especially as a point of concern in the formation of a thin film by roll-to-roll, there is a greater distribution of dust to be removed at the end in the width direction of the roll-shaped film base (that is, the end of the film base). I know. This is considered to be due to the fact that dust derived from the film base material generated during the cutting process (slit) of the film base material, dust falling when the film base material is stored in a roll, and the like adhere to the roll end surface.
このフィルム基材端部に付着した塵埃は、ロールツーロール等の工程内において、装置を介しフィルム基材の幅方向の中央部(すなわち、フィルム基材中央部)に転移することも少なくない。そのため、塵埃の付着を嫌う有機EL素子等においてはフィルム基材端部の除塵は不可欠といえ、フィルム基材洗浄の際にはフィルム基材中央部の洗浄だけでなく、フィルム基材端部の洗浄も重要となってくる。しかしながら、フィルム基材端部の洗浄を主とした洗浄装置の提案は稀有であることが現状である。
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、フィルム基材の洗浄工程において、フィルム基材端部から塵埃を容易且つ的確に除去することができる洗浄装置を提供することを目的とする。
The dust adhering to the end portion of the film base material is often transferred to the central portion in the width direction of the film base material (that is, the central portion of the film base material) through an apparatus in a roll-to-roll process or the like. Therefore, it can be said that dust removal at the edge of the film base is indispensable for organic EL elements that do not like the adhesion of dust. Cleaning is also important. However, the present condition is that the proposal of the washing | cleaning apparatus which mainly wash | cleaned the film base-material edge part is rare.
Then, this invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: In the washing | cleaning process of a film base material, the cleaning apparatus which can remove dust from a film base-material edge part easily and accurately is provided. With the goal.
本発明の一態様に係る洗浄装置は、フィルム基材を洗浄する洗浄装置であって、前記フィルム基材の端部の表面及び裏面の少なくとも一方と離間した状態で向かい合う振動素子と、前記振動素子と前記端部との間隙に洗浄液を供給する洗浄液供給口と、前記間隙から前記洗浄液を回収する洗浄液回収口と、を備え、前記振動素子は、前記洗浄液が前記間隙に入ることで形成される液膜に振動を加えることを特徴とする。 A cleaning device according to an aspect of the present invention is a cleaning device for cleaning a film base material, the vibration element facing the at least one of the front surface and the back surface of the end portion of the film base material, and the vibration element And a cleaning liquid supply port for supplying a cleaning liquid to a gap between the end portion and a cleaning liquid recovery port for recovering the cleaning liquid from the gap, and the vibration element is formed by the cleaning liquid entering the gap. It is characterized by applying vibration to the liquid film.
本発明の一態様によれば、フィルム基材の洗浄工程において、フィルム基材端部から塵埃を容易且つ的確に除去することができる洗浄装置を提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a cleaning device that can easily and accurately remove dust from an end portion of a film substrate in the step of cleaning the film substrate.
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、以下に説明する各図において、同一の構成を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
<構成>
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that, in each drawing described below, parts having the same configuration are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof is omitted.
<Configuration>
図1(a)及び(b)は、本発明の実施形態に係るフィルム端部洗浄装置1の構成例を示す平面図と、フィルム2の搬送方向から見た正面図である。図1(a)及び(b)では、フィルム基材2がロールツーロールで搬送される工程において、このフィルム基材2の幅方向の端部(すなわち、フィルム基材端部)21をフィルム端部洗浄装置1が洗浄している状態を模式的に示している。
1A and 1B are a plan view showing a configuration example of a film
図1(a)に示すように、フィルム端部洗浄装置1は、フィルム基材端部21に設置されることでフィルム基材端部21に付着する塵埃を効果的に除去する装置である。図1(b)に示すように、フィルム端部洗浄装置1は、搬送されるフィルム基材2のフィルム基材端部21をその表面及び裏面の側から挟み込むようにして、設置される。
As shown in FIG. 1A, the film
図2は、図1(a)をA−A’線で切断した断面図である。図2に示すように、フィルム端部洗浄装置1は、フィルム端部洗浄ヘッド3を備える。フィルム端部洗浄ヘッド3は、フィルム基材端部21の表面及び裏面の少なくとも一方と離間した状態で向かい合う振動素子6と、この振動素子6とフィルム基材端部21との間隙に洗浄液を供給する洗浄液供給口4と、振動素子6の外周のうちのフィルム基材2と向かい合う位置に設けられ、間隙から洗浄液を回収する洗浄液回収口5と、を有する。振動素子6は、洗浄液が間隙に入ることで形成される液膜7に振動を加える素子である。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. As shown in FIG. 2, the film
例えば、フィルム端部洗浄ヘッド3は、フィルム基材端部21の表面(図2では、上側の面)及び裏面(図2では、下側の面)のそれぞれと対向するように配置される上部洗浄ヘッド3a及び下部洗浄ヘッド3bを備える。上部洗浄ヘッド3aはフィルム基材2の表面と間隙をもって配置され、下部洗浄ヘッド3bはフィルム基材2の裏面と間隙をもって配置される。また、フィルム端部洗浄ヘッド3は、これら両間隙に液膜7を形成するために洗浄液を供給する洗浄液供給口4を有する。洗浄液供給口4は、平面視でフィルム基材2の外側に設けられており、例えばフィルム基材2の幅方向の外側に設けられている。
For example, the film
上部洗浄ヘッド3aは、超音波振動を液膜7に印加するための振動素子6aを有する。
振動素子6aは、上部洗浄ヘッド3aのうち、フィルム基材端部21と対向する側の面に設けられている。また、上部洗浄ヘッド3aは、洗浄液の液膜7を回収するための洗浄液回収口5aを有する。この洗浄液回収口5aは、振動素子6aに対してフィルム基材2の幅方向の中央側に設けられている。
The
The
下部洗浄ヘッド3bは、超音波振動を液膜7に印加するための振動素子6bを有する。
振動素子6bは、下部洗浄ヘッド3bのうち、フィルム基材端部21と対向する側の面に設けられている。また、下部洗浄ヘッド3bは、洗浄液の液膜7を回収するための洗浄液回収口5bを有する。この洗浄液回収口5bは、振動素子6bに対してフィルム基材2の幅方向の中央側に設けられている。
The
The
図3は、図1(b)をB−B’線で切断した断面図である。図3に示すように、振動素子6aの平面視による形状が矩形の場合、洗浄液回収口5aは、振動素子6aの外周4辺のうちの洗浄液供給口4側以外の3辺を囲うように配置され、フィルム基材2側への洗浄液の浸入防ぐように構成される。なお、図3は上部洗浄ヘッド3aの断面を示すが、下部洗浄ヘッドにおける洗浄液回収口の配置も、上部洗浄ヘッド3aの場合と同様である。
<動作>
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. As shown in FIG. 3, when the shape of the
<Operation>
フィルム端部洗浄装置1は、一方向(図1、図3では、矢印で示す方向)に向けて移動しているフィルム基材2に向けて洗浄液供給口4から洗浄液を連続的に供給し、間隙7に液膜が形成される状態を維持することによって、フィルム基材端部21を連続的に洗浄する。
The film
例えば、フィルム端部洗浄装置1は、サニタリーポンプなどの排出機器を用いて洗浄液を洗浄液供給口4を介してフィルム基材2に絶えず供給し、且つエジェクタなどの吸引機器を用いて洗浄液を洗浄液回収口5を介して適量回収する。これにより、フィルム端部洗浄装置1は、フィルム基材端部21の表裏面と洗浄ヘッド3との間隙に形成される液膜7を、常に一定の膜厚で保持することができる。更に、上記液膜7に振動素子6による超音波振動を加えることで、フィルム基材2表裏面に付着する塵埃の洗浄を行うことができる。フィルム基材の洗浄工程において、フィルム基材2をロールツーロールで搬送するとともに、フィルム端部洗浄装置1を用いることによって、フィルム基材端部21の洗浄を連続的に行うことができる。
<対応関係>
For example, the film
<Correspondence>
この実施形態では、フィルム基材端部21が本発明の「フィルム基材の端部」に対応している。また、振動素子6aが本発明の「第1の振動素子」に対応し、振動素子6bが本発明の「第2の振動素子」に対応している。また、洗浄ヘッド3が本発明の「フィルム端部洗浄ヘッド」に対応し、フィルム端部洗浄装置1が本発明の「洗浄装置」に対応している。
<実施形態の効果>
In this embodiment, the
<Effect of embodiment>
本発明の実施形態によれば、ロールツーロールにおけるフィルム基材2の洗浄工程において、従来技術では十分に除去しきれなかったフィルム基材端部21に対する塵埃を容易且つ的確に除去することができる。例えば、フィルム基材2に塵埃等が付着することを嫌う電子部材、特に有機EL照明等に用いるバリアフィルムの基材に付着する塵埃を確実に除去することができる。これにより、バリア層の成膜不具合やピンホール等、ガスバリア性を損なう不具合がバリアフィルムに生じることを防ぐことができる。また、このような不具合のないバリアフィルムが得られることで、素子劣化を抑えた有機EL照明を得ることができる。
<変形例>
According to the embodiment of the present invention, in the cleaning process of the
<Modification>
上記の実施形態では、フィルム基材端部21として、ロールツーロールで搬送されるフィルム基材2の幅方向の一端部を示し、これを洗浄処理する場合について説明した。しかしながら、本発明では、フィルム基材2の幅方向の一端部だけでなく他端部も、一端部の場合と同様にフィルム端部洗浄装置1を用いて洗浄してもよい。これにより、フィルム基材2の幅方向の両端部を同時に、又は前後して洗浄処理ことが可能となる。更に、この一端部の洗浄処理又は両端部の洗浄処理の前後工程として、フィルム基材2の全面を洗浄処理してもよい。これにより、フィルム基材2全体に付着した塵埃を除去することが可能となる。
In said embodiment, the end part of the width direction of the
また、上記の実施形態では、ロールツーロールで搬送されるフィルム基材2に対して、フィルム端部洗浄装置1を固定した構成とする場合について説明した。しかしながら、本発明では、固定されたフィルム基材2に対し、フィルム端部洗浄装置1がフィルム基材端部21に沿って移動するような構成でもよい。すなわち、フィルム端部洗浄装置1はフィルム基材2に対して相対的に移動する構成でもよい。このような場合も、上記の実施形態の効果と同様の効果を奏する。
Moreover, said embodiment demonstrated the case where it was set as the structure which fixed the film edge part washing | cleaning
本発明の実施例として、図1〜図3に示したフィルム端部洗浄装置を用いて、フィルム基材端部に付着した塵埃を除去する場合について説明する。塵埃除去を行う洗浄液として純水を使用した。
フィルム基材にはPETフィルム150mm×150mm×0.15mm(縦×横×厚さ)を使用し、フィルム基材端部の30mm×30mm(縦×横)を洗浄範囲と定め、フィルム基材片面のみの塵埃除去を試みた。洗浄に使用する洗浄ヘッドは洗浄範囲と同様に30mm×30mmとし、洗浄ヘッドとフィルム基材との間隙は1mmとなるように配置した。洗浄液供給方法としてシリンジポンプを用い、洗浄液を洗浄ヘッドとフィルム基材の間隙に充満される適正量を吐出し、液膜を形成した。その後、形成された液膜に対し、振動素子6により超音波振動を出力50〜300W程度、振動数30〜100kHzで印加し、エジェクタを用いて洗浄液回収口5から洗浄液の回収を行った。
As an embodiment of the present invention, a case where dust adhering to an end portion of a film base material is removed using the film end portion cleaning apparatus shown in FIGS. Pure water was used as a cleaning liquid for removing dust.
PET film 150mm x 150mm x 0.15mm (length x width x thickness) is used as the film base, and 30mm x 30mm (length x width) at the end of the film base is defined as the cleaning range. Only dust removal was attempted. The cleaning head used for cleaning was 30 mm × 30 mm as in the cleaning range, and the clearance between the cleaning head and the film substrate was 1 mm. A syringe pump was used as a cleaning liquid supply method, and an appropriate amount of the cleaning liquid filled in the gap between the cleaning head and the film substrate was discharged to form a liquid film. Thereafter, ultrasonic vibration was applied to the formed liquid film by the
洗浄されたPETフィルム端部に付着する塵埃の有無を光学顕微鏡を用いて詳細に観察した結果、塵埃の数は洗浄前と比べ減少しており、塵埃除去が効果的に行われていることを確認した。また、洗浄液は純水に限定されるものではなく、塵埃の種類によってはアルカリ性の洗浄液や、アルコール系溶剤を含む洗浄液、フッ素系溶剤を含む洗浄液、又は、これらを1つ以上含む洗浄液を用いることが望ましい。 As a result of observing in detail the presence or absence of dust adhering to the edge of the cleaned PET film using an optical microscope, the number of dust is reduced compared to before cleaning, and it is confirmed that the dust removal is effectively performed. confirmed. The cleaning liquid is not limited to pure water, and depending on the type of dust, an alkaline cleaning liquid, a cleaning liquid containing an alcohol solvent, a cleaning liquid containing a fluorine solvent, or a cleaning liquid containing one or more of these may be used. Is desirable.
1 フィルム端部洗浄装置
2 フィルム基材
3 洗浄ヘッド
3a 上部洗浄ヘッド
3b 下部洗浄ヘッド
4、4a、4b 洗浄液供給口
5、5a、5b 洗浄液回収口
6、6a、6b 振動素子
7 液膜
21 フィルム基材端部
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記フィルム基材の端部の表面及び裏面の少なくとも一方と離間した状態で向かい合う振動素子と、
前記振動素子と前記端部との間隙に洗浄液を供給する洗浄液供給口と、
前記間隙から前記洗浄液を回収する洗浄液回収口と、を備え、
前記振動素子は、前記洗浄液が前記間隙に入ることで形成される液膜に振動を加えることを特徴とする洗浄装置。 A cleaning device for cleaning a film substrate,
A vibrating element facing in a state of being separated from at least one of a front surface and a back surface of an end portion of the film substrate;
A cleaning liquid supply port for supplying a cleaning liquid to a gap between the vibration element and the end;
A cleaning liquid recovery port for recovering the cleaning liquid from the gap,
The cleaning device according to claim 1, wherein the vibration element applies vibration to a liquid film formed by the cleaning liquid entering the gap.
前記端部の表面と離間した状態で向かい合う第1の振動素子と、
前記端部の裏面と離間した状態で向かい合う第2の振動素子と、を有することを特徴とする請求項1から請求項3の何れか一項に記載の洗浄装置。 The vibrating element is
A first vibration element facing the surface of the end portion in a separated state;
The cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a second vibration element facing the back surface of the end portion in a state of being separated.
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
KR102713110B1 (en) * | 2019-09-26 | 2024-10-04 | (주)이녹스첨단소재 | Edge cleaner system for sheet, Cleaning method of sheet using the same and Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device using the same |
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KR102713110B1 (en) * | 2019-09-26 | 2024-10-04 | (주)이녹스첨단소재 | Edge cleaner system for sheet, Cleaning method of sheet using the same and Manufacturing method of encapsulation member for organic electronic device using the same |
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