JP2016188966A - 光走査装置のビーム調整方法及び光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】マルチビーム型の光源と、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子とが用いられた光走査装置において、各種のビーム調整を的確に行う。【解決手段】光走査装置１１のハウジングは、第１当接部３１及び第２当接部３２を備える。マルチビーム光を発する光源ユニットを保持するホルダ２１Ｈの一部が第１当接部３１に当接する状態で、また、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子２２の周縁の一部が第２当接部３２に当接する状態で、主走査方向及び副走査方向の光軸調整及びピント位置調整を行う。さらに、第１当接部３１にホルダ２１Ｈを当接させた状態で、ホルダ２１Ｈは光軸回りに回転させることによって、マルチビーム光のビームピッチの調整を行う。【選択図】図１４

Description

本発明は、マルチビーム型の光源で被走査面を走査する光走査装置、及びそのビーム調整方法に関する。

レーザープリンターや複写機等の画像形成装置は、感光体ドラムの周面（被走査面）を走査して静電潜像を形成する光走査装置を備える。光走査装置は、ビーム光を発する光源と、前記ビーム光を偏向する偏向器と、前記ビーム光を前記偏向器の反射面に入射させる入射光学系と、偏向された前記ビーム光（走査光）を被走査面上に結像させる結像光学系とを含む。前記入射光学系は、光学素子として、発散するビーム光を平行光に変換するコリメーターレンズと、前記平行光を線状光に変換して前記偏向器の反射面に結像させるシリンドリカルレンズとを含む。

上記光源として、複数のビーム光を発するマルチビーム型の光源が用いられる場合がある。また、前記入射光学系の光学素子として、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた機能一体光学素子が用いられる場合がある。この機能一体光学素子が用いられた場合、光走査装置の組立時における光学調整において、主走査方向のビーム径及び副走査方向のビーム径を各々独立して調整することができない。このため特許文献１〜３では、光源と機能一体光学素子との位置関係を確定させた状態で、両者を一体的に光軸方向へ移動させることによって、ビーム径を調整する手法が開示されている。

特開平３−１０７８１１号公報 特開２００６−１５４７４８号公報 特開２００９−２９８６号公報

特許文献１〜３の手法によれば、ビーム径の調整並びにピント位置の調整（光軸の調整）を行うことは可能である。しかしながら、従来の技術では、マルチビーム型の光源が用いられた場合に、ビーム径及び光軸の調整に加え、ビーム光間の副走査方向ピッチを調整することができない。

本発明の目的は、マルチビーム型の光源と、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた機能一体光学素子とが用いられた光走査装置において、各種のビーム調整を的確に行うことができる方法、及び該方法が適用可能な光走査装置を提供することにある。

本発明の一の局面に係る光走査装置のビーム調整方法は、光軸方向に順次配置される、マルチビーム光を発する光源、前記光源を保持するホルダ、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子、アパーチャー、偏向器及び結像光学系と、これら部材を収容するハウジングとを備え、前記ハウジングが、光軸方向に所定幅を有し主走査走向において前記ホルダの一部が当接する第１当接部と、光軸方向に所定幅を有し副走査方向において前記光学素子の周縁の一部が当接する第２当接部と、を有する光走査装置のビーム調整方法であって、副走査方向及び光軸方向に移動可能であり、且つ光軸回りに回転可能な第１調整治具で前記ホルダを保持させると共に、主走査方向及び光軸方向に移動可能な第２調整治具で前記光学素子を保持させる工程と、前記アパーチャー、偏向器及び結像光学系を、前記ハウジングの予め定められた各々の設計位置に据え付け、第１調整治具で保持された前記ホルダの一部が前記第１当接部に当接する状態で前記ホルダを予め定められた設計位置に配置し、且つ、第２調整治具で保持された前記光学素子の周縁の一部が前記第２当接部に当接する状態で前記光学素子を予め定められた設計位置に配置する工程と、前記ホルダの前記当接を維持しつつ、前記第１調整治具を副走査方向へ移動させることで副走査方向の光軸調整を行うと共に、前記光学素子の前記当接を維持しつつ、前記第２調整治具を主走査方向へ移動させることで主走査方向の光軸調整を行う工程と、前記光学素子の前記当接を維持しつつ前記第２調整治具を光軸方向へ移動させることで、前記アパーチャーを通過したビーム光が平行光となるように主走査方向のピント位置調整を行う工程と、前記ホルダの前記当接及び記光学素子の前記当接を維持しつつ、前記第１調整治具と前記第２調整治具との位置関係を保持しながら両者を一体的に光軸方向へ移動させることで、ビーム光が前記偏向器の偏向面若しくは被走査面に結像するように副走査方向のピント位置調整を行う工程と、前記ホルダの前記当接を維持しつつ前記ホルダを光軸回りに回転させることで、ビームピッチを調整する工程と、前記第１当接部に前記ホルダの一部を、前記第２当接部に前記光学素子の周縁の一部を、それぞれ固着する工程と、を備える。

このビーム調整方法によれば、前記ホルダの一部が前記第１当接部に当接する状態で、また、前記光学素子の周縁の一部が前記第２当接部に当接する状態で、主走査方向及び副走査方向の光軸調整及びピント位置調整が行われるので、これらの調整を確実に行うことができる。さらに、第１調整治具で保持された前記ホルダは光軸回りに回転可能であるため、マルチビーム光のビームピッチの調整も行うことができる。

上記のビーム調整方法において、ビーム光を撮像可能な撮像センサを用い、前記撮像センサは、前記副走査方向の光軸調整及び前記主走査方向の光軸調整を行う工程においては、光軸上において前記結像光学系と前記被走査面との間に配置され、前記主走査方向のピント位置調整を行う工程においては、光軸上において前記アパーチャーと前記偏向器との間に配置され、前記副走査方向のピント位置調整を行う工程及び前記ビームピッチを調整する工程においては、前記被走査面に配置されることが望ましい。

このビーム調整方法によれば、撮像センサが各々の調整工程においてビームの評価を的確に行い得る位置に配置される。従って、各々の調整工程を効率良く消化し、精度の高い調整作業を実行することが可能となる。

上記のビーム調整方法において、前記第１調整治具として、副走査方向及び光軸方向に移動可能な第１基板と、前記ホルダを保持し、前記光源の光軸と回転軸とが一致した状態で、前記第１基板に対して回転可能に保持される第２基板と、を含む治具が用いられることが望ましい。

このビーム調整方法によれば、前記第２基板を前記第１基板に相対的に回転させることで、ビームピッチの調整が可能となる。すなわち、前記第１基板を副走査方向と光軸方向とに移動させて光源及び光学素子の位置関係を確定させた上で、前記第２基板を回転させることで、ビームピッチの調整を容易に行わせることができる。

本発明の他の局面に係る光走査装置は、マルチビーム光を発し、ホルダで保持された光源ユニットと、前記マルチビーム光が入射され、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子と、前記光学素子を通過したビーム光を規制するアパーチャーと、前記アパーチャーを通過したビーム光を反射して、被走査面を主走査方向に走査させる偏向器と、前記偏向器と前記被走査面との間に配置され、ビーム光を前記被走査面上に結像させる結像光学系と、前記光源ユニット、前記光学素子、前記アパーチャー、前記偏向器及び前記結像光学系を、この順で光軸方向に並んだ状態で収容するハウジングと、を備え、前記ハウジングは、光軸方向に所定幅を有し主走査走向において前記ホルダの一部が当接する第１当接部と、光軸方向に所定幅を有し副走査方向において前記光学素子の周縁の一部が当接する第２当接部と、前記第１当接部に前記ホルダの一部を固着する第１固着部と、前記第２当接部に前記光学素子の周縁の一部を固着する第２固着部と、を備え、前記ホルダは、前記第１当接部との当接によって主走査方向の位置決めが為され、前記光学素子は、前記第２当接部との当接によって副走査方向の位置決めが為されている。

この光走査装置によれば、前記ホルダの一部が前記第１当接部に当接する状態で、前記ホルダが前記第１固着部にて前記第１当接部へ固定され、また、前記光学素子の周縁の一部が前記第２当接部に当接する状態で、前記光学素子が前記第２固着部にて前記第２当接部へ固定される。そして、前記ホルダは主走査方向以外には規制されず、前記光学素子は、副走査方向以外は規制されない。従って、前記ホルダ及び前記光学素子の前記当接を維持させた状態での光軸調整及びピント位置調整を確実に行わせることができる。さらに、前記当接を維持した状態で前記ホルダを光軸回りに回転させることで、マルチビーム光のビームピッチの調整も行わせることができる。

本発明によれば、マルチビーム型の光源と、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた機能一体光学素子とが用いられた光走査装置において、各種のビーム調整、特にマルチビーム光のビームピッチの調整を的確に行うことができる。従って、高画質の画像形成に貢献する静電潜像を描画させ得る光走査装置を提供することができる。

本発明に係る光走査装置が適用される画像形成装置の概略構成を示す断面図である。 本発明の実施形態に係る光走査装置の主走査断面の構成を示す光路図である。 マルチビーム光の結像状態を示す主走査断面図である。 マルチビーム光の結像状態を示す副走査断面図である。 前記光走査装置が備える光学部品の、ハウジング上における配置を模式的に示す図である。 図５に示す、光学部品が搭載されたハウジングの主走査断面図である。 図５に示す、光学部品が搭載されたハウジングの副走査断面図である。 ホルダで保持された光源ユニットを、光軸方向から見た平面図である。 前記ホルダを保持する第１調整治具の正面図である。 前記第１調整治具の側面図である。 光学素子を保持する第２調整治具の正面図である。 前記第２調整治具の側面図である。 マルチビーム光のビーム調整の流れを示すフローチャートである。 前記ビーム調整において、ビーム光を確認する撮像センサの配置位置を示す模式的な図である。 前記撮像センサの撮像エリアとターゲット領域とを示す図である。 主走査方向の光軸調整の実施態様を説明するための図である。 副走査方向の光軸調整の実施態様を説明するための図である。 光軸調整が完了した状態における、撮像センサの画像を示す図である。 主走査方向のピント調整を説明するための、主走査断面図である。 主走査方向のピント調整の実施態様を説明するための図である。 副走査方向のピント調整を説明するための、副走査断面図である。 副走査方向のピント調整の実施態様を説明するための図である。 ビームピッチ調整の実施態様を説明するための図である。 ４ビーム型の光源ユニットの斜視図である。 図２４の光源ユニットによる走査状況を示す模式的な斜視図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。図１は、本発明に係る光走査装置１１を含む画像形成装置１の構成を概略的に示した断面図である。画像形成装置１は、光走査装置１１、現像器１２、帯電器１３、感光体ドラム１４、転写ローラー１５、定着器１６及び給紙カセット１７を備えている。

感光体ドラム１４は、円筒状の部材であり、その周面に静電潜像及びトナー像が形成される。感光体ドラム１４は、図略のモーターからの駆動力を受けて、図１における時計回りの方向に回転される。帯電器１３は、感光体ドラム１４の表面を略一様に帯電する。

光走査装置１１は、帯電器１３によって略一様に帯電された感光体ドラム１４の周面（被走査面）に対して、画像データに応じたレーザー光線を照射して、画像データの静電潜像を形成する。光走査装置１１は、マルチビーム光を発する光源と、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた機能一体光学素子とを含む。この光走査装置１１については、後記で詳述する。

現像器１２は、静電潜像が形成された感光体ドラム１４の周面にトナーを供給してトナー像を形成する。現像器１２は、トナーを担持する現像ローラー、及びトナーを攪拌しつつ搬送するスクリューを含む。感光体ドラム１４に形成されたトナー像は、給紙カセット１７から繰り出され搬送路Ｐを搬送される記録紙に転写される。この現像器１２には、図略のトナーコンテナからトナーが補給される。

感光体ドラム１４の下方には転写ローラー１５が対向して配設され、両者によって転写ニップ部が形成されている。転写ローラー１５は、導電性を有するゴム材料等で構成されると共に転写バイアスが与えられ、感光体ドラム１４に形成されたトナー像を前記記録紙に転写させる。

定着器１６は、ヒーターを内蔵する定着ローラー１６０と、該定着ローラー１６０と定着ニップ部を形成する加圧ローラー１６１とを備える。前記定着ニップ部を、トナー像が形成された記録紙が通過することにより、トナー像が記録紙に定着される。

画像形成装置１の画像形成動作について簡単に説明する。先ず、帯電器１３により感光体ドラム１４の表面が略均一に帯電される。帯電された感光体ドラム１４の周面が、光走査装置１１により露光され、記録紙に形成する画像の静電潜像が感光体ドラム１４の周面に形成される。この静電潜像が、現像器１２から感光体ドラム１４の周面にトナーが供給されることにより、トナー像として顕在化される。一方、給紙カセット１７からは記録紙が搬送路１７０に繰り出される。前記トナー像は、前記転写ニップ部を記録紙が通過することにより、当該記録紙に転写される。この転写動作が行われた後、記録紙は定着器１６（前記定着ニップ部）に搬送され、記録紙にトナー像が固着される。

続いて、光走査装置１１について詳述する。図２は、光走査装置１１の主走査断面の構成を示す平面図である。光走査装置１１は、光軸方向に順次配置された光源ユニット２１（光源）、光学素子２２、アパーチャー２３、ポリゴンミラー２４（偏向器）及び走査レンズ２５（結像光学系）を備える。ここでは、走査レンズが１枚のレンズのみで構成された走査光学系を示しているが、走査レンズを２枚又はそれ以上具備させても良い。また、偏向器は、ＭＥＭＳミラーであっても良い。

光源ユニット２１は、所定の波長（例えば、７８０ｎｍ）のレーザー光線（ビーム光）を複数発するマルチビーム型の光源である。光源ユニット２１は、各々がビーム光を発する複数（例えば２〜４個）のレーザーダイオードを有し、被走査面となる感光体ドラム１４の周面１４Ｓを走査するためのマルチビーム光を発する。例えば、モノリシック型の２ビームレーザーユニットは、光源ユニット２１の好ましい一例である。

光学素子２２は、前記マルチビーム光が入射され、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を発揮する素子である。すなわち、光学素子２２は、光源ユニット２１から発せられ拡散するビーム光を平行光に変換するコリメーターレンズ機能と、前記平行なビーム光を、主走査方向に長い線状光に変換してポリゴンミラー２４の反射面に結像させるシリンドリカルレンズ機能とを有する。これらの機能を発揮するよう、光学素子２２の入射面が屈折面とされ、出射面が回折面とされている。なお、屈折面が出射面側に、回折面が入射面側に配置された光学素子２２としても良い。

アパーチャー２３は、光学素子２２を通過したビーム光を規制する。アパーチャー２３は、ビーム光を通過させる開口を備えた板部材であり、被走査面に向かうビーム光のビーム幅を規制し、被走査面（焦点位置）におけるビームスポット径を安定させる。

ポリゴンミラー２４は、アパーチャー２３を通過したビーム光を偏向（反射）すると共に、偏向したビーム光によって、感光体ドラム１４の周面１４Ｓ（被走査面）を主走査方向に走査させる。ポリゴンミラー２４は、正多角形の各辺に沿って反射面が形成された多面鏡であり、ポリゴンモーター２４Ｍ（図７）によって回転軸回りに回転駆動される。

走査レンズ２５は、光軸上においてポリゴンミラー２４と周面１４Ｓとの間に配置され、ポリゴンミラー２４によって偏向されたビーム光を集光し、周面１４Ｓに結像させる。走査レンズ２５は、ｆθ特性を有するレンズであって、主走査方向に長尺のレンズである。走査レンズ２５としては、例えば透光性樹脂材料を用いた金型モールド成形にて製造されたものを好適に用いることができる。走査レンズ２５は、ポリゴンミラー２４と対向しビーム光が入射される入射面Ｒ１と、入射面Ｒ１と反対側の面であってビーム光が出射される出射面Ｒ２とを備える。

光源ユニット２１から発せられたビーム光は、光学素子２２及びアパーチャー２３を経て、ポリゴンミラー２４に入射する。その後、ビーム光は、軸回りに揺動するポリゴンミラー２４で偏向され、走査レンズ２５を通過してドラム周面１４Ｓに向かう。ポリゴンミラー２４の回転に伴い、ビーム光はドラム周面１４Ｓ上を走査する。

図３は、マルチビーム光の結像状態を示す主走査断面図、図４はその副走査断面図である。ここでは、光源ユニット２１が第１ビーム光Ｌ１と第２ビーム光Ｌ２との２つのビーム光を発する例を示している。また、図３及び図４では、光軸ＡＸを直線で示し、光源ユニット２１、光学素子２２、アパーチャー２３、ポリゴンミラー２４及び走査レンズ２５が、この光軸ＡＸ上に直線状に配列されるように模式的に描いている。

図３の主走査断面において、第１ビーム光Ｌ１は、光学素子２２を通過することで、拡散光から平行光に変換される。この平行光がアパーチャー２３を通過することで、第１ビーム光Ｌ１の主走査方向における幅が規制される。その後、平行光からなる第１ビーム光Ｌ１は、ポリゴンミラー２４で反射され、走査レンズ２５に入射する。走査レンズ２５を通過することによって第１ビーム光Ｌ１は、周面１４Ｓに結像される。第２ビーム光Ｌ２についても全く同様である。

次に、図４の副走査断面でみると、第１ビーム光Ｌ１は、光学素子２２を通過することで、拡散光から収束光に変換される。この収束光がアパーチャー２３を通過することで、第１ビーム光Ｌ１の副走査方向における幅が規制される。その後、第１ビーム光Ｌ１は、ポリゴンミラー２４の反射面に結像され、その後に拡散光となって走査レンズ２５に入射する。走査レンズ２５を通過することによって第１ビーム光Ｌ１は、副走査方向にも結像された状態で周面１４Ｓに至る。第２ビーム光Ｌ２についても全く同様である。

図５は、光走査装置１１が備える光学部品の、ハウジング上における配置を模式的に示す図である。光走査装置１１は、光源ユニット２１、光学素子２２、アパーチャー２３、ポリゴンミラー２４及び走査レンズ２５を収容するハウジング３０を備える。ハウジング３０は、底板３０Ｂと、この底板３０Ｂの上に立設された第１当接部３１及び第２当接部３２とを備えている。光源ユニット２１、光学素子２２、アパーチャー２３、ポリゴンミラー２４及び走査レンズ２５は、この順で光軸ＡＸに沿って、底板３０Ｂの上に配置されている。

図６は、図５に示すハウジング３０における、光源ユニット２１〜ポリゴンミラー２４間の主走査断面図、図７は、その副走査断面図である。光源ユニット２１は、ホルダ２１Ｈにより保持されている。図８は、ホルダ２１Ｈで保持された光源ユニット２１を、光軸ＡＸ方向から見た平面図である。

光源ユニット２１は、複数のレーザーダイオードを含む発光モジュール部と、この発光モジュール部の周囲を覆う円筒型のパッケージ部と、該パッケージ部から延出されたリードとを備えている。ホルダ２１Ｈは、前記パッケージ部の光軸方向の厚さに相当する厚みを有する円板部材からなり、その円中心付近には光軸方向に貫通する保持孔を備えている。光源ユニット２１は、前記保持孔に密に嵌入されており、ホルダ２１Ｈと一体化されている。従って、ホルダ２１Ｈを光軸回りに回転させると、光源ユニット２１も光軸回りに回転する。

ハウジング３０が備える第１当接部３１は、光軸と平行であって光軸方向に所定幅を有する第１当接面３１Ｓを備える。第１当接面３１Ｓは、主走査方向と直交するが、副走査方向とは平行な面である。第２当接部３２は、光軸と平行であって光軸方向に所定幅を有する第２当接面３２Ｓを備える。第２当接面３２Ｓは、主走査方向と平行であるが、副走査方向とは直交する面である。

第１当接面３１Ｓには、主走査走向においてホルダ２１Ｈの外周面の一部（ホルダの一部）が当接している。すなわち、ホルダ２１Ｈの外周面は円周面であり、この円周面の一部が第１当接面３１Ｓに線接触している。第２当接面３２Ｓには、副走査方向において光学素子２２の周縁の一部が当接している。光学素子２２は、光軸方向に所定の厚みを有する円柱形の部材（図１１参照）であり、その円周面の一部が第２当接面３２Ｓに線接触している。ホルダ２１Ｈの前記外周面の一部は、接着剤３１Ａ（第１固着部）によって第１当接面３１Ｓに固着されている。光学素子２２の前記周縁の一部は、接着剤３２Ａ（第２固着部）によって第２当接面３２Ｓに固着されている。

変形実施形態では、ホルダ２１Ｈを用いることなく、光源ユニット２１の前記パッケージ部をホルダに代替する部分と扱い、前記パッケージ部の外周面を第１当接面３１Ｓに固着することができる。パッケージ部が十分な強度を有している場合は、前記変形実施形態の構成とすることで、ホルダ２１Ｈの使用を省くことができる。他の変形実施形態では、光学素子２２の外周縁を円環状の保護部材で一体的に覆い、該保護部材の外周面を第２当接面３２Ｓに固着する。この変形実施形態によれば、光学素子２２を直接第２当接面３２Ｓに固着する場合に比べ、光学素子２２の保護が図れると共に、前記保護部材の材質を選ぶことで第２当接面３２Ｓに対する固着性を向上させることができる。

ホルダ２１Ｈは、第１当接部３１による主走査方向の位置決め以外の他の位置決め部材を実質的に持っていない。すなわち、接着剤３１Ａによる固着の前、ホルダ２１Ｈは、第１当接部３１への当接によって主走査方向の移動が規制される（位置決めが為される）が、副走査方向、光軸方向及び光軸回りの回転方向について移動を規制する部材は、ハウジング３０には存在していない。また、光学素子２２は、第２当接部３２による副走査方向の位置決め以外の他の位置決め部材を実質的に持っていない。接着剤３２Ａによる固着の前、光学素子２２は、第２当接部３２への当接によって副走査方向の移動が規制される（位置決めが為される）が、主走査方向及び光軸方向について移動を規制する部材は、ハウジング３０には存在していない。

ポリゴンミラー２４に対する入射光学系を構成する光源ユニット２１及び光学素子２２は、被走査面に的確なビームスポットを形成するため、主走査、副走査及び光軸方向に高精度な位置決め調整を行った上でハウジング３０に組み付けなければならない。また、感光体ドラム１４において形成する画像の解像度に合わせて、マルチビーム光のビームピッチを調整しなければならない。

このため本実施形態では、図５に模式的に示しているように、第１調整治具４０及び第２調整治具５０を用いて前記調整を行う。第１調整治具４０は、光源ユニット２１が一体的に組み付けられたホルダ２１Ｈを保持し、該ホルダ２１Ｈを副走査方向及び光軸方向に移動させることが可能であり、且つ、ホルダ２１Ｈを光軸回りに回転させることが可能な治具である。第２調整治具５０は、光学素子２２を保持し、該光学素子２２を主走査方向及び光軸方向に移動させることが可能な治具である。

図９は、第１調整治具４０の正面図、図１０は、第１調整治具４０の側面図である。第１調整治具４０は、第１基板４１、第２基板４２、第１調整部材４３及び第２調整部材４４を含む。第１基板４１は、図略の固定基板に対して副走査方向に移動可能に取り付けられる移動基板である。第２基板４２は、円板型の基板であり、その円心部に回転軸が設けられている。第１基板４１は、第２基板４２を前記回転軸の軸回りに回転可能な状態で保持している。第２基板４２は、光源ユニット２１の光軸と前記回転軸とが一致した状態で、ホルダ２１Ｈを保持している。この保持のために、第２基板４２には一対のチャック４２１が搭載されている。なお、第１基板４１が取り付けられた前記固定基板は、図略のガイド部材に沿って、光軸方向に移動可能である。

第１調整部材４３及び第２調整部材４４は、マイクロメーター型の移動子４３１、４４１を備えている。移動子４３１、４４１は、マイクロメーターオーダーで進退移動が可能である。第１調整部材４３の移動子４３１は、第１基板４１に連結されている。第２調整部材４４は、第１基板４１上にマウントされている。第２調整部材４４の移動子４４１は、第２基板４２の外周縁から径方向外側に突設された押圧片４２２に連結されている。

第１調整部材４３の移動子４３１が進退移動することで、第１基板４１は副走査方向に進退移動する。もちろん、第１基板４１の移動に伴って、第２基板４２及びこれに保持されたホルダ２１Ｈも副走査方向に進退移動する。第２調整部材４４の移動子４４１が進退移動することで、第２基板４２は第１基板４１に対して相対的に前記回転軸の軸回りに回転する。もちろん、第２基板４２の回転に伴って、ホルダ２１Ｈも回転する。

図１１は、光学素子２２を保持する第２調整治具５０の正面図、図１２は、第２調整治具５０の側面図である。第２調整治具５０は、移動ステージ５１、支持アーム５２、第３調整部材５３及び第４調整部材５４を含む。移動ステージ５１は、図略の移動支持基板で光軸方向に移動可能に保持されている。さらに、前記移動支持基板は、図略の固定支持基板によって、主走査方向に移動可能に保持されている。支持アーム５２は、移動ステージ５１に一体的に取り付けられており、光学素子２２の外周面を保持する一対のチャック爪５２１を備えている。

第３調整部材５３及び第４調整部材５４は、マイクロメーター型の移動子５３１、５４１を備えている。移動子５３１、５４１は、マイクロメーターオーダーで進退移動が可能である。第３調整部材５３の移動子５３１は、移動ステージ５１に連結されている。第４調整部材５４の移動子５４１は、前記移動支持基板に連結されている。第３調整部材５３の移動子５３１が進退移動することで、移動ステージ５１は主走査方向に進退移動する。もちろん、移動ステージ５１の移動に伴って、支持アーム５２及びこれに保持された光学素子２２も主走査方向に進退移動する。第４調整部材５４の移動子５４１が進退移動することで、移動ステージ５１は光軸方向に進退移動し、これに伴い光学素子２２も光軸方向に進退移動する。

続いて、光走査装置１１におけるマルチビーム光のビーム調整方法について説明する。図１３は、前記ビーム調整方法において実行される工程を順に列挙したフローチャートである。前記ビーム調整方法は、次のステップＳ１〜Ｓ８の工程を含む。
［ステップＳ１］調整治具の取付工程；光源ユニット２１を保持するホルダ２１Ｈを第１調整治具４０に、光学素子２２を第２調整治具５０に、各々取り付ける工程。
［ステップＳ２］設計位置への配置工程；光走査装置１１が備える各種光学部品を、ハウジング３０の予め定められた各々の設計位置に配置する工程。
［ステップＳ３］主走査方向の光軸調整工程；第２調整治具５０（光学素子２２）を主走査方向へ移動させることで、主走査方向の光軸調整を行う工程。
［ステップＳ４］副走査方向の光軸調整工程；第１調整治具４０（光源ユニット２１）を副走査方向へ移動させることで、副走査方向の光軸調整を行う工程。このステップＳ４は、ステップＳ３と実行順を入れ替えても良い。
［ステップＳ５］主走査方向のピント調整工程；第２調整治具５０（光学素子２２）を光軸方向へ移動させることで、主走査方向のピント位置調整を行う工程。
［ステップＳ６］副走査方向のピント調整工程；第１調整治具４０と第２調整治具５０との位置関係を保持しながら両者を一体的に光軸方向へ移動させることで、副走査方向のピント位置調整を行う工程。
［ステップＳ７］ビームピッチの調整工程；第１調整治具４０によってホルダ２１Ｈを光軸回りに回転させることで、ビームピッチを調整する工程。
［ステップＳ８］固着工程；ホルダ２１Ｈ及び光学素子２２を、ハウジング３０に固着する工程。
以下、上記各工程について詳述する。

＜ステップＳ１；調整治具の取付工程＞
先に図９及び図１０に示した通り、光源ユニット２１を一体的に保持しているホルダ２１Ｈを、第１調整治具４０の一対のチャック４２１で強固に挟持させる。これにより光源ユニット２１は、第１調整部材４３の動作によって副走査方向に移動可能となり、第２調整部材４４の動作により光軸回りに回転可能となる。また、図１１及び図１２に示した通り、光学素子２２を、第２調整治具５０のチャック爪５２１で強固に挟持させる。これにより光学素子２２は、第３調整部材５３の動作により主走査方向に、第４調整部材５４の動作により光軸方向に移動可能となる。なお、第４調整部材５４の動作の際に、第１調整治具４０と第２調整治具５０とを連結させることで、光源ユニット２１も光学素子２２と一体的に光軸方向に移動可能となる。

＜ステップＳ２；設計位置への配置工程＞
当該工程は、主走査及び副走査方向のピント位置の粗調整の工程である。図１４を参照して、アパーチャー２３、ポリゴンミラー２４及び走査レンズ２５を、ハウジング３０の底板３０Ｂ上の予め定められた各々の設計位置に据え付ける。ホルダ２１Ｈは、図６に基づき説明した通り、第１調整治具４０で保持されたホルダ２１Ｈの一部がハウジング３０の第１当接部３１に当接する状態で、予め定められた設計位置に配置する。また、光学素子２２は、図７に基づき説明した通り、第２調整治具５０で保持された光学素子２２の周縁の一部が第２当接部３２に当接する状態で、予め定められた設計位置に配置する。

以下に説明する光軸調整、ピント位置調整及びビームピッチ調整では、その調整度合の確認のために、ビーム光を撮像可能な撮像センサ６が用いられる。撮像センサ６は、二次元画像を取得可能なＣＣＤ素子等のエリアセンサである。図１４には、各々の調整工程において、撮像センサ６が配置される位置を示している。撮像センサ６は、ステップＳ３及びＳ４の主走査及び副走査方向の光軸調整を行う工程においては、光軸ＡＸ上において走査レンズ２５と被走査面（感光体ドラム１４の周面１４Ｓ）に対応する位置との間の位置Ｐ１に配置される。ステップＳ５の主走査方向のピント位置調整工程においては、撮像センサ６は、光軸ＡＸ上においてアパーチャー２３とポリゴンミラー２４との間の位置Ｐ２に配置される。さらに、ステップＳ６の副走査方向のピント位置調整工程及びステップＳ７のビームピッチ調整工程においては、撮像センサ６は、周面１４Ｓに対応する位置Ｐ３に配置される。撮像センサ６は、上記の位置Ｐ１〜Ｐ３への据え付け及び移動が容易に行えるよう、治具で保持させることが望ましい。撮像センサ６を、各々の調整工程においてビーム光の評価を的確に行い得る位置に配置することで、各々の調整工程を効率良く消化し、精度の高い調整作業を実行することが可能となる。

＜ステップＳ３；主走査方向の光軸調整工程＞
図１５は、撮像センサ６の撮像エリア６１と、ビーム光の光軸を合わせるためのターゲット領域６２とを示す図である。撮像センサ６が位置Ｐ１に配置された状態で、ビーム光のスポットがターゲット領域６２に収まることをもって、光軸調整が完了すると扱う。図１６（Ａ）は、ステップＳ２の粗調整の後に光源ユニット２１を点灯させた場合に、位置Ｐ１の撮像センサ６が検出したビーム光のスポット６３の一例を示す図である。スポット６３は、ターゲット領域６２に対して主走査方向及び副走査方向の双方において位置ずれが認められる。

このステップＳ３では、第２調整治具５０（光学素子２２）を主走査方向へ移動させることで、スポット６３とターゲット領域６２との主走査方向における位置合わせを行う。この移動の際、光学素子２２の周縁の一部の第２当接部３２への当接が維持され、光学素子２２の副走査方向へのシフトが起こらないようにする。具体的な作業としては、図１６（Ｂ）に示すように、作業者が第３調整部材５３を操作（例えばマイクロメーターのダイヤルを回転させる）することで、移動ステージ５１を主走査方向に移動させる。これにより、光学素子２２も矢印Ａ１で示す主走査方向に移動する。すると、図１６（Ａ）に示すように、スポット６３も矢印Ａ１方向に移動する。これにより、スポット６３の主走査方向における位置をターゲット領域６２に一致させることができる。

＜ステップＳ４；副走査方向の光軸調整工程＞
図１７（Ａ）は、上記のステップＳ３が実行された後の、撮像エリア６１、ターゲット領域６２及びビーム光のスポット６３の関係を示す図である。ステップＳ３の実行によって、スポット６３のターゲット領域６２に対する主走査方向の位置ずれは解消されているが、副走査方向については位置ずれが残存している。

このステップＳ４では、第１調整治具４０（ホルダ２１Ｈ）を副走査方向へ移動させることで、スポット６３とターゲット領域６２との副走査方向における位置合わせを行う。この移動の際、ホルダ２１Ｈの側周縁の一部の第１当接部３１への当接が維持され、光源ユニット２１の主走査方向へのシフトが起こらないようにする。具体的な作業としては、図１７（Ｂ）に示すように、作業者が第１調整部材４３を操作することで、第１基板４１を副走査方向に移動させる。これにより、光源ユニット２１を保持しているホルダ２１Ｈも矢印Ａ２で示す副走査方向に移動する。すると、図１７（Ａ）に示すように、スポット６３も矢印Ａ２方向に移動する。従って、スポット６３の副走査方向における位置をターゲット領域６２に一致させることができる。

図１８は、上記のステップＳ３及びステップＳ４が実行された後の、撮像エリア６１、ターゲット領域６２及びビーム光のスポット６３の関係を示す図である。スポット６３はターゲット領域６２の範囲内に収まり、主走査方向及び副走査方向の位置ずれは解消されている。これにて、光軸調整は完了する。

＜ステップＳ５；主走査方向のピント調整工程＞
図１９は、主走査方向のピント調整が完了した状態を示す、主走査断面図である。このステップＳ５では、光学素子２２を通過したビーム光が平行光となることをもって、主走査方向のピント位置の調整が完了したものと扱う。撮像センサ６は、アパーチャー２３の後段の位置Ｐ２に配置される。ビーム光が平行光となれば、図１９に示す通り、主走査方向において撮像センサ６は、アパーチャー２３の開口径と同じサイズの光像を検出することになる。

図２０（Ａ）は、主走査方向のピント調整の実行状況を模式的に示す主走査断面図である。このステップＳ５では、第２調整治具５０（光学素子２２）を光軸方向へ移動させつつ、アパーチャー２３を通過したビーム光が平行光となる位置を探知する。この移動の際、光学素子２２の周縁の一部の第２当接部３２への当接が維持され、光学素子２２の副走査方向へのシフトが起こらないようにする。光学素子２２が光源ユニット２１に近すぎる位置２２Ｂに配置されると、そのビーム光ＬＢは収束光となる。一方、光学素子２２が光源ユニット２１に遠すぎる位置２２Ｆに配置されると、そのビーム光ＬＦは拡散光となる。光学素子２２が光源ユニット２１に対して適切な位置２２Ｍに配置されると、そのビーム光ＬＭは平行光となる。

具体的な作業としては、図２０（Ｂ）に示すように、作業者が第４調整部材５４を操作することで、移動ステージ５１を光軸方向に移動させる。これにより、図２０（Ａ）に示すように、光学素子２２も矢印Ａ３で示す光軸方向に移動する。この移動によって上述の位置２２Ｍを探知することが可能となり、光学素子２２を通過したビーム光を平行光とすることができる。

＜ステップＳ６；副主走査方向のピント調整工程＞
図２１は、副走査方向のピント調整が完了した状態を示す、副走査断面図である。このステップＳ６では、光学素子２２を通過したビーム光が、副走査方向においてポリゴンミラー２４の偏向面若しくは感光体ドラム１４の周面１４Ｓに結像することをもって、ピント位置の調整が完了したものと扱う。本実施形態では、撮像センサ６は周面１４Ｓに対応する位置Ｐ３に配置される。ビーム光が位置Ｐ３に結像すれば、図２１に示す通り、副走査方向において撮像センサ６は所定サイズのビームスポットの光像を検出することになる。

図２２（Ａ）は、副走査方向のピント調整の実行状況を模式的に示す副走査断面図である。このステップＳ６では、第１調整治具４０（光源ユニット２１）と第２調整治具５０（光学素子２２）との位置関係を保持しながら両者を一体的に光軸方向へ移動させつつ、アパーチャー２３を通過したビーム光が撮像センサ６の受光面で結像する位置を探知する。この移動の際、ホルダ２１Ｈの側周縁の一部の第１当接部３１への当接が維持され、光源ユニット２１の主走査方向へのシフトが起こらないようにする。また、光学素子２２の周縁の一部の第２当接部３２への当接が維持され、光学素子２２の副走査方向へのシフトが起こらないようにする。

光源ユニット２１、光学素子２２がアパーチャー２３から遠すぎる位置２１Ｂ、２２Ｂに配置されると、そのビーム光ＬＢは撮像センサ６よりも光軸上の手前で結像する。一方、光源ユニット２１、光学素子２２がアパーチャー２３に近すぎる位置２１Ｆ、２２Ｆに配置されると、そのビーム光ＬＦは撮像センサ６よりも光軸上の後方で結像する。光源ユニット２１、光学素子２２がアパーチャー２３に対して適切な位置２１Ｍ、２２Ｍに配置されると、そのビーム光ＬＭは撮像センサ６の受光面において結像する。

具体的な作業としては、図２０（Ｂ）に示すように、先ず作業者が連結具５５を用いて第１調整治具４０と第２調整治具５０とを連結する。これは、先のステップＳ５で調整した主走査方向のピント位置がずれないよう、光源ユニット２１と光学素子２２との位置関係を固定するためである。連結具５５は、第１調整治具４０の第１基板４１に一端が、第２調整治具５０の移動ステージ５１に他端が接続される、Ｌ字型の部材である。前記連結によって、光源ユニット２１と光学素子２２とは一体的に光軸方向に移動可能となる。

次に作業者は、第４調整部材５４を操作することで、移動ステージ５１を矢印Ａ４で示す光軸方向に移動させる。移動ステージ５１の移動に伴い、連結具５５にて連結された第１基板４１も光軸方向に移動する。これにより、図２２（Ａ）に示すように、光源ユニット２１及び光学素子２２も矢印Ａ４で示す光軸方向に移動する。この移動によって上述の位置２１Ｍ、２２Ｍを探知することが可能となり、光学素子２２及びアパーチャー２３を通過したビーム光を周面１４Ｓ上で結像させることができる。

＜ステップＳ７；ビームピッチの調整工程＞
図２３は、ビームピッチの調整工程の実施態様を説明するための図である。このステップＳ７では、光源ユニット２１の発するマルチビームの副走査方向のビーム間隔が、仕様の解像度に応じた間隔となることをもって、ビームピッチの調整が完了したものと扱う。撮像センサ６は、周面１４Ｓに対応する位置Ｐ３に配置される。ここでは、ホルダ２１Ｈを矢印Ａ５で示す光軸回りに回転させることで、ビームピッチが調整される。この回転の際、ホルダ２１Ｈの側周縁の一部の第１当接部３１への当接が維持される。

図２４は、４ビーム型の光源ユニット２１の斜視図、図２５は、図２４の光源ユニット２１による走査状況を示す模式的な斜視図である。ここに示す光源ユニット２１は、円柱状のパッケージ部を備え、その先端面Ｆに一定間隔で１列に配列された４個のレーザーダイオードＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４が配置されてなる、モノリシックマルチレーザーダイオードである。４個のＬＤ１〜ＬＤ４は、主走査方向及び副走査方向のそれぞれに対して傾斜角度を有するライン上に配列されている。

図２５に示すように、レーザーダイオードＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４から４本のレーザービーム光ＬＢ−１、ＬＢ−２、ＬＢ−３、ＬＢ−４が、ポリゴンミラー２４に向けて出射される。なお、図２５では、結像光学系の記載を省いている。ポリゴンミラー２４の回転に伴い、４本のビーム光ＬＢ−１〜ＬＢ−４は、感光体ドラム１４の周面１４Ｓを主走査方向Ｄ２に沿って走査する。これにより、感光体ドラム１４の周面には、４本の走査ラインＳＬ１、ＳＬ２、ＳＬ３、ＳＬ４が描画される。ビーム光ＬＢ−１〜ＬＢ−４は、画像データに応じて変調されているので、画像データに応じた静電潜像が１４Ｓの周面に形成されることになる。

ここで、４本のレーザービーム光ＬＢ−１〜ＬＢ−４は、副走査方向Ｄ１（感光体ドラム１４の回転方向）にビーム光ＬＢ−１、ＬＢ−２、ＬＢ−３、ＬＢ−４の順番で並べられた状態で、主走査方向Ｄ２に４本の走査ラインＳＬを描画する。これは、図２４に示す通り、４個のＬＤ１〜ＬＤ４が一定間隔をおいて直線状に配列されているからである。従って、ビーム光ＬＢ−１〜ＬＢ−４の副走査方向のビームピッチ、つまり描画する画像の解像度（ｄｐｉ）は、４個のＬＤ１〜ＬＤ４の配列ピッチに依存することになる。

上記ビームピッチは、光源ユニット２１を光軸ＡＸ回りに回転させることで調整することができる。詳しくは、光源ユニット２１の先端面Ｆの中心Ｏを通る法線Ｇを回転軸として、図中の矢印Ａ５の方向に光源ユニット２１を回転させることで、４個のＬＤ１〜ＬＤ４の配列ピッチを見かけ上変更することができる。すなわち、法線Ｇの軸回りに時計方向に発光部３０Ａを回転させると、副走査方向のビームピッチが小さくなり、逆に、反時計方向に回転させると、副走査方向のビームピッチが大きくなる。なお法線Ｇは、光軸ＡＸに一致させる。従って、画像の設定解像度に応じたビームピッチは、光源ユニット２１の回転調整によって得ることができる。

このステップＳ７における作業者の具体的作業は、第２調整部材４４を操作することによって、第２基板４２を回転させることである。第２基板４２は、光軸ＡＸと光源ユニット２１の法線Ｇとを一致させた状態で、ホルダ２１Ｈを保持している。第２調整部材４４が押圧片４２２を押圧若しくは牽引することで、ホルダ２１Ｈは矢印Ａ５で示す光軸回りに回転する。作業者は、撮像センサ６が取得する画像をモニターしながら、所定の解像度が得られる光源ユニット２１の回転位置を探知することができる。

＜ステップＳ８；固着工程＞
固着工程は、ステップＳ３〜Ｓ７の調整が完了した状態で、ホルダ２１Ｈ及び光学素子２２を、ハウジング３０に固着する工程である。具体的には作業者は、図６に示す通り、第１当接部３１の第１当接面３１Ｓにホルダ２１Ｈの外周縁の一部を、接着剤３１Ａを用いて固着する。さらに作業者は、図７に示す通り、第２当接部３２の第２当接面３２Ｓに光学素子２２の外周縁の一部を、接着剤３２Ａを用いて固着する。ステップＳ３〜Ｓ７の間、ホルダ２１Ｈの外周縁の一部は第１当接面３１Ｓに、光学素子２２の外周縁の一部は第２当接面３２Ｓに各々当接した状態が維持されているので、このステップＳ８では、先のステップＳ７の終了時点での当接部分において各々の前記一部が接着されることとなる。なお、ホルダ２１Ｈ及び光学素子２２を、ハウジング３０に固着する手段は、接着剤に限られず、ビス等であってもよい。

以上説明したビーム調整方法によれば、ホルダ２１Ｈの一部が第１当接部３１に当接する状態で、また、光学素子２２の周縁の一部が第２当接部３２に当接する状態で、主走査方向及び副走査方向の光軸調整及びピント位置調整が行われるので、これらの調整を確実に行うことができる。さらに、第１調整治具４０の第２基板４２で保持されたホルダ２１Ｈは光軸回りに回転可能であるため、マルチビーム光のビームピッチの調整も行うことができる。

また、本実施形態に係る光走査装置１１によれば、ホルダ２１Ｈの一部が第１当接部３１に当接する状態で、ホルダ２１Ｈが接着剤３１Ａにて第１当接部３１へ固定され、また、光学素子２２の周縁の一部が第２当接部３２に当接する状態で、光学素子２２が接着剤３２Ａにて第２当接部３２へ固定される。そして、ホルダ２１Ｈは主走査方向以外には規制されず、光学素子２２は、副走査方向以外は規制されない。従って、ホルダ２１Ｈ及び光学素子２２の前記当接を維持させた状態での光軸調整及びピント位置調整を確実に行わせることができる。さらに、前記当接を維持した状態でホルダ２１Ｈを光軸回りに回転させることで、光源ユニット２１が発するマルチビーム光のビームピッチの調整も行わせることができる。このため、光軸ずれやピント位置ずれを起こすことなくビームピッチの調整を行い得る。

１ 画像形成装置
１１ 光走査装置
１４ 感光体ドラム
１４Ｓ 周面（被走査面）
２１ 光源ユニット（光源）
２１Ｈ ホルダ
２２ 光学素子
２３ アパーチャー
２４ ポリゴンミラー（偏向器）
２５ 走査レンズ（結像光学系）
３０ ハウジング
３１ 第１当接部
３１Ａ 接着剤（第１固着部）
３２ 第２当接部
３２Ａ 接着剤（第２固着部）
４０ 第１調整治具
４１ 第１基板
４２ 第２基板
５０ 第２調整治具
６ 撮像センサ

Claims (4)

1. 光軸方向に順次配置される、マルチビーム光を発する光源、前記光源を保持するホルダ、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子、アパーチャー、偏向器及び結像光学系と、これら部材を収容するハウジングとを備え、
   前記ハウジングが、光軸方向に所定幅を有し主走査走向において前記ホルダの一部が当接する第１当接部と、光軸方向に所定幅を有し副走査方向において前記光学素子の周縁の一部が当接する第２当接部と、を有する光走査装置のビーム調整方法であって、
   副走査方向及び光軸方向に移動可能であり、且つ光軸回りに回転可能な第１調整治具で前記ホルダを保持させると共に、主走査方向及び光軸方向に移動可能な第２調整治具で前記光学素子を保持させる工程と、
   前記アパーチャー、偏向器及び結像光学系を、前記ハウジングの予め定められた各々の設計位置に据え付け、第１調整治具で保持された前記ホルダの一部が前記第１当接部に当接する状態で前記ホルダを予め定められた設計位置に配置し、且つ、第２調整治具で保持された前記光学素子の周縁の一部が前記第２当接部に当接する状態で前記光学素子を予め定められた設計位置に配置する工程と、
   前記ホルダの前記当接を維持しつつ、前記第１調整治具を副走査方向へ移動させることで副走査方向の光軸調整を行うと共に、前記光学素子の前記当接を維持しつつ、前記第２調整治具を主走査方向へ移動させることで主走査方向の光軸調整を行う工程と、
   前記光学素子の前記当接を維持しつつ前記第２調整治具を光軸方向へ移動させることで、前記アパーチャーを通過したビーム光が平行光となるように主走査方向のピント位置調整を行う工程と、
   前記ホルダの前記当接及び記光学素子の前記当接を維持しつつ、前記第１調整治具と前記第２調整治具との位置関係を保持しながら両者を一体的に光軸方向へ移動させることで、ビーム光が前記偏向器の偏向面若しくは被走査面に結像するように副走査方向のピント位置調整を行う工程と、
   前記ホルダの前記当接を維持しつつ前記ホルダを光軸回りに回転させることで、ビームピッチを調整する工程と、
   前記第１当接部に前記ホルダの一部を、前記第２当接部に前記光学素子の周縁の一部を、それぞれ固着する工程と、を備える光走査装置のビーム調整方法。
2. 請求項１に記載のビーム調整方法において、
   ビーム光を撮像可能な撮像センサを用い、
   前記撮像センサは、
   前記副走査方向の光軸調整及び前記主走査方向の光軸調整を行う工程においては、光軸上において前記結像光学系と前記被走査面との間に配置され、
   前記主走査方向のピント位置調整を行う工程においては、光軸上において前記アパーチャーと前記偏向器との間に配置され、
   前記副走査方向のピント位置調整を行う工程及び前記ビームピッチを調整する工程においては、前記被走査面に配置される、光走査装置のビーム調整方法。
3. 請求項１又は２に記載のビーム調整方法において、
   前記第１調整治具として、
   副走査方向及び光軸方向に移動可能な第１基板と、
   前記ホルダを保持し、前記光源の光軸と回転軸とが一致した状態で、前記第１基板に対して回転可能に保持される第２基板と、を含む治具が用いられる、光走査装置のビーム調整方法。
4. 光走査装置であって、
   マルチビーム光を発し、ホルダで保持された光源ユニットと、
   前記マルチビーム光が入射され、コリメーターレンズ機能及びシリンドリカルレンズ機能の双方を備えた光学素子と、
   前記光学素子を通過したビーム光を規制するアパーチャーと、
   前記アパーチャーを通過したビーム光を反射して、被走査面を主走査方向に走査させる偏向器と、
   前記偏向器と前記被走査面との間に配置され、ビーム光を前記被走査面上に結像させる結像光学系と、
   前記光源ユニット、前記光学素子、前記アパーチャー、前記偏向器及び前記結像光学系を、この順で光軸方向に並んだ状態で収容するハウジングと、を備え、
   前記ハウジングは、
   光軸方向に所定幅を有し主走査走向において前記ホルダの一部が当接する第１当接部と、
   光軸方向に所定幅を有し副走査方向において前記光学素子の周縁の一部が当接する第２当接部と、
   前記第１当接部に前記ホルダの一部を固着する第１固着部と、
   前記第２当接部に前記光学素子の周縁の一部を固着する第２固着部と、を備え、
   前記ホルダは、前記第１当接部との当接によって主走査方向の位置決めが為され、前記光学素子は、前記第２当接部との当接によって副走査方向の位置決めが為されている、光走査装置。
   

Images