JP2016173524A - Optical integrated device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical integrated device capable of improving efficiency of optical coupling to an external optical component such as an optical fiber.SOLUTION: An optical integrated device includes: an optical waveguide 2 formed on a semiconductor substrate; a mirror 3 that is provided on one end face of the optical waveguide 2, and that reflects light from the optical waveguide 2 in a direction of a surface of the semiconductor substrate or reflects light from the surface of the semiconductor substrate to be made incident on the optical waveguide 2; a lens 4 that is formed on the surface of the semiconductor substrate over the mirror 3, and that emits to an outside the light reflected by the mirror 3 in the direction of the surface of the semiconductor substrate or makes the light from the outside incident on the mirror; and a heater electrode 5 formed on the surface of the semiconductor substrate around the lens 4.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光導波路などの受動素子とレンズとを同一のチップ上に集積した光集積素子、または半導体レーザやフォトダイオードなどの能動素子とレンズとを同一のチップ上に集積した光集積素子に関するものである。   The present invention relates to an optical integrated device in which a passive element such as an optical waveguide and a lens are integrated on the same chip, or an optical integrated device in which an active element such as a semiconductor laser and a photodiode and a lens are integrated on the same chip. Is.

近年のブロードバンドネットワークの普及に伴い、コアネットワークや光アクセスなどでは高速、大容量化が必要とされている。それに伴い、光アクセスよりも比較的距離が短いネットワークシステム、例えばデータセンタ内などの光通信システムにおいては、光デバイスの小型化及び低コスト化が求められている。   With the spread of broadband networks in recent years, high speed and large capacity are required for core networks and optical access. Accordingly, in a network system having a relatively short distance than optical access, for example, in an optical communication system such as in a data center, miniaturization and cost reduction of optical devices are required.

これまでに、光源となるLD(laser diode)と変調器(例えば、EA(electro absorption)変調器)とを同一のチップ上に集積することで小型化、低コスト化を実現する技術が検討された。さらに、光送信モジュールの低コスト化及び小型化を目指して、半導体レーザの出力光を光ファイバと結合するためのレンズを、半導体レーザと同一のチップ上に集積したものなどが検討されている(非特許文献1)。   Up to now, a technology for realizing miniaturization and cost reduction by integrating an LD (laser diode) as a light source and a modulator (for example, an EA (electro absorption) modulator) on the same chip has been studied. It was. Furthermore, in order to reduce the cost and size of the optical transmission module, a lens for coupling the output light of the semiconductor laser with an optical fiber integrated on the same chip as the semiconductor laser has been studied ( Non-patent document 1).

篠田他、“レンズ集積技術を用いた1.3μm帯面型レーザおよびフォトダイオードの高効率ファイバ結合”,信学技報LQE2009−152,2009Shinoda et al., “High-efficiency fiber coupling of 1.3 μm band-plane laser and photodiode using lens integration technology,” IEICE Technical Report LQE 2009-152, 2009

しかし、半導体レーザを作製する過程においては、加工精度の限界や作製誤差などの影響で、完成した半導体レーザはその特性にある程度のばらつきが生じる。この特性のばらつきにより、半導体レーザから出射した光ビームを同一のチップ上のレンズを通して外部に出射させたときに、レンズ出射後のビーム品質などにばらつきが生じてしまう可能性がある。その結果、レンズから出射した光を外部の光ファイバなどに入射させる際に所望のビーム形状とならなかったり、位置ずれが生じたりしてしまい、光ファイバとの光結合効率にばらつきが発生する可能性があった。   However, in the process of manufacturing a semiconductor laser, the characteristics of the completed semiconductor laser vary to some extent due to the effects of processing accuracy limits and manufacturing errors. Due to this variation in characteristics, when the light beam emitted from the semiconductor laser is emitted to the outside through the lens on the same chip, there is a possibility that the beam quality after the lens emission will vary. As a result, when the light emitted from the lens is incident on an external optical fiber or the like, a desired beam shape may not be obtained or a positional shift may occur, resulting in variations in optical coupling efficiency with the optical fiber. There was sex.

なお、以上のような問題は、半導体レーザとレンズとを同一のチップ上に集積した光集積素子に限らない。例えばフォトダイオードとレンズとを同一のチップ上に集積して、外部の光ファイバからの光をレンズを通してフォトダイオードに入射させる光集積素子、光導波路とレンズとを同一のチップ上に集積して、光導波路からの光をレンズを通して外部の光ファイバに入射させる光集積素子、あるいは光導波路とレンズとを同一のチップ上に集積して、外部の光ファイバからの光をレンズを通して光導波路に入射させる光集積素子においても、フォトダイオード、光導波路の加工精度の限界や作製誤差などの影響により同様の問題が発生する可能性があった。   The above problems are not limited to the optical integrated device in which the semiconductor laser and the lens are integrated on the same chip. For example, a photodiode and a lens are integrated on the same chip, an optical integrated element that makes light from an external optical fiber enter the photodiode through the lens, an optical waveguide and a lens are integrated on the same chip, An optical integrated device that allows light from an optical waveguide to enter an external optical fiber through a lens, or an optical waveguide and a lens are integrated on the same chip, and light from the external optical fiber is incident on the optical waveguide through the lens. In the optical integrated device, the same problem may occur due to the influence of the processing accuracy limit of the photodiode and the optical waveguide and the manufacturing error.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、光ファイバなどの外部の光部品との光結合効率を向上させることができる光集積素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide an optical integrated device capable of improving the optical coupling efficiency with an external optical component such as an optical fiber.

本発明の光集積素子は、半導体基板上に形成された光導波路と、この光導波路の一方の端面に設けられ、前記光導波路からの光を前記半導体基板の一方の面方向に反射するか、もしくは前記半導体基板の一方の面からの光を反射して前記光導波路に入射させるミラーと、このミラーの上方または下方の前記半導体基板の一方の面に形成され、前記ミラーによって前記半導体基板の一方の面方向に反射した光を外部に出射するか、もしくは外部からの光を前記ミラーに入射させるレンズと、このレンズの周囲の半導体基板の一方の面に形成されたヒータ電極とを有することを特徴とするものである。
また、本発明の光集積素子の1構成例は、さらに、前記光導波路のミラーを有する出力側の端面と反対の入力側の端面に光を入射させる発光素子を、前記半導体基板上に有することを特徴とするものである。
また、本発明の光集積素子の1構成例において、前記発光素子は、光変調器として機能する半導体レーザである。
また、本発明の光集積素子の1構成例において、前記発光素子は、波長可変半導体レーザである。
An optical integrated device of the present invention is provided on an optical waveguide formed on a semiconductor substrate and one end face of the optical waveguide, and reflects light from the optical waveguide in one surface direction of the semiconductor substrate, Alternatively, a mirror that reflects light from one surface of the semiconductor substrate to be incident on the optical waveguide and one surface of the semiconductor substrate that is above or below the mirror is formed on one surface of the semiconductor substrate. A lens that emits light reflected in the surface direction to the outside or makes light from the outside enter the mirror, and a heater electrode formed on one surface of the semiconductor substrate around the lens. It is a feature.
Further, in one configuration example of the optical integrated device of the present invention, the semiconductor substrate further includes a light emitting device that makes light incident on an input side end surface opposite to an output side end surface having a mirror of the optical waveguide. It is characterized by.
In one configuration example of the optical integrated device of the present invention, the light emitting device is a semiconductor laser that functions as an optical modulator.
In one configuration example of the optical integrated device of the present invention, the light emitting device is a wavelength tunable semiconductor laser.

また、本発明の光集積素子の1構成例は、さらに、前記光導波路のミラーを有する入力側と反対の出力側で前記光導波路を伝搬する光を受光して電流に変換する受光素子を、前記半導体基板上に有することを特徴とするものである。
また、本発明の光集積素子の1構成例は、さらに、前記光導波路を伝搬する光を増幅する光増幅器を、前記半導体基板上に有することを特徴とするものである。
また、本発明の光集積素子の1構成例は、前記レンズの周囲に単一の前記ヒータ電極を有することを特徴とするものである。
また、本発明の光集積素子の1構成例は、前記レンズの周囲に複数の前記ヒータ電極を有することを特徴とするものである。
In addition, one configuration example of the optical integrated device of the present invention further includes a light receiving element that receives light propagating through the optical waveguide on the output side opposite to the input side having the mirror of the optical waveguide and converts the light into current. It has on the said semiconductor substrate, It is characterized by the above-mentioned.
Further, one configuration example of the optical integrated device of the present invention is characterized in that an optical amplifier for amplifying light propagating through the optical waveguide is further provided on the semiconductor substrate.
Also, one configuration example of the optical integrated device of the present invention is characterized in that a single heater electrode is provided around the lens.
One structural example of the optical integrated device of the present invention is characterized in that a plurality of the heater electrodes are provided around the lens.

本発明によれば、光導波路とミラーとレンズとを同一の半導体基板上に集積した光集積素子において、レンズの周囲の半導体基板の一方の面にヒータ電極を形成することにより、このヒータ電極でレンズの温度を変化させることでレンズの屈折率を制御することができ、レンズへ入出射する光ビームの特性や伝搬方向を制御することができるので、光ファイバなどの外部の光部品との光結合効率を向上させることができる。その結果、本発明では、光集積素子の加工精度の限界や作製誤差などの影響を削減することができる。   According to the present invention, in an optical integrated device in which an optical waveguide, a mirror, and a lens are integrated on the same semiconductor substrate, a heater electrode is formed on one surface of the semiconductor substrate around the lens. By changing the temperature of the lens, the refractive index of the lens can be controlled, and the characteristics and propagation direction of the light beam entering and exiting the lens can be controlled, so light from external optical components such as optical fibers can be controlled. Coupling efficiency can be improved. As a result, according to the present invention, it is possible to reduce the influence of the processing accuracy limit of the optical integrated device and the manufacturing error.

本発明の第1の実施の形態に係る光集積素子の平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the optical integrated element which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係る光集積素子の平面図である。It is a top view of the optical integrated element which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態に係る光集積素子の平面図である。It is a top view of the optical integrated element which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態に係る光集積素子の平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the optical integrated element which concerns on the 4th Embodiment of this invention.

以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は本発明の1例であり、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiment described below is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment.

[第1の実施の形態]
図1(A)は本発明の第1の実施の形態に係る光集積素子の平面図、図1(B)は図1(A)の光集積素子のI−I線断面図である。本実施の形態の光集積素子は、発光素子である半導体レーザ1と、光導波路2と、ミラー3と、レンズ4とを同一のチップ上に集積したものであり、レンズ4の周囲にヒータ電極5を配置したものである。
[First Embodiment]
FIG. 1A is a plan view of the optical integrated device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line II of the optical integrated device of FIG. The optical integrated device according to the present embodiment is a light emitting device in which a semiconductor laser 1, an optical waveguide 2, a mirror 3 and a lens 4 are integrated on the same chip. 5 is arranged.

半導体レーザ1は、下部クラッド層10(半導体基板)と、下部クラッド層10の上に形成された、光利得を有する活性導波路層(以下、活性層)11と、活性層11の上に形成された上部クラッド層12と、上部クラッド層12の上に形成された電極13とから構成される。下部クラッド層10の材料としては例えばn型InPなどの半導体材料がある。活性層11の材料としては例えばInGaAsPなどの半導体材料がある。上部クラッド層12の材料としては例えばp型InPなどの半導体材料がある。   The semiconductor laser 1 is formed on a lower clad layer 10 (semiconductor substrate), an active waveguide layer (hereinafter referred to as an active layer) 11 having an optical gain, formed on the lower clad layer 10, and an active layer 11. The upper clad layer 12 is formed, and an electrode 13 formed on the upper clad layer 12. Examples of the material of the lower cladding layer 10 include semiconductor materials such as n-type InP. Examples of the material of the active layer 11 include a semiconductor material such as InGaAsP. Examples of the material of the upper cladding layer 12 include semiconductor materials such as p-type InP.

光導波路2は、下部クラッド層10と、下部クラッド層10の上に、活性層11と接続するように形成されたコアとなる非活性導波路層(以下、非活性層)14と、非活性層14の上に形成された上部クラッド層12とから構成される。   The optical waveguide 2 includes a lower clad layer 10, an inactive waveguide layer 14 (hereinafter referred to as an inactive layer) 14 serving as a core formed on the lower clad layer 10 so as to be connected to the active layer 11, and an inactive state. The upper clad layer 12 is formed on the layer 14.

半導体レーザ1の活性層上部の電極13から活性層11に電流を注入することで、活性層11内で光利得が生じ、レーザ発振を得ることができる。そして、半導体レーザ1から出力されたレーザ光は光導波路2を伝搬する。光導波路2の出力側(図1(A)、図1(B)右側)の端面は、ある一定の角度に加工されていて、半導体レーザ1からのレーザ光を基板上面に出力するためのミラー3として機能する。一般に、半導体材料は大気に比べ屈折率が高いため、斜めに加工された光導波路2の端面は大気中で使用されることで十分にミラー3として機能する。もしくは、斜めに加工された光導波路2の端面に金属膜を成膜し、ミラー3としてもよい。   By injecting a current from the electrode 13 on the active layer of the semiconductor laser 1 into the active layer 11, an optical gain is generated in the active layer 11, and laser oscillation can be obtained. The laser light output from the semiconductor laser 1 propagates through the optical waveguide 2. The end face on the output side (right side of FIGS. 1A and 1B) of the optical waveguide 2 is processed at a certain angle, and is a mirror for outputting laser light from the semiconductor laser 1 to the upper surface of the substrate. Functions as 3. In general, since a semiconductor material has a higher refractive index than the atmosphere, the end face of the optical waveguide 2 processed obliquely functions as the mirror 3 sufficiently when used in the atmosphere. Alternatively, the mirror 3 may be formed by forming a metal film on the end face of the optical waveguide 2 processed obliquely.

上部クラッド層12の表面には、ミラー3によって反射されたレーザ光を集光もしくは平行光にするためのレンズ4が形成されている。このレンズ4は、例えば上部クラッド層12を加工することによって作製される。ただし、半導体レーザは作製過程における加工精度の限界や作製誤差などの影響で、全ての半導体レーザで完璧に同じ特性を実現することは不可能に等しい。そのため、図1(A)、図1(B)のように半導体レーザ1とレンズ4とを同一のチップ上に集積した光集積素子では、レンズ4からの出射光が所望のビーム特性を満たすことができない可能性がある。   On the surface of the upper clad layer 12, a lens 4 for condensing or collimating the laser beam reflected by the mirror 3 is formed. This lens 4 is produced by processing the upper clad layer 12, for example. However, it is impossible to completely achieve the same characteristics for all semiconductor lasers due to the effects of processing accuracy limits and manufacturing errors in the manufacturing process. Therefore, in the optical integrated device in which the semiconductor laser 1 and the lens 4 are integrated on the same chip as shown in FIGS. 1A and 1B, the light emitted from the lens 4 satisfies the desired beam characteristics. May not be possible.

そこで、本実施の形態では、レンズ4の周囲にヒータ電極5を配置し、ヒータ電極5の発熱によってレンズ4の温度を変化させることでレンズ4の屈折率を制御し、レンズ4から出射されるビームが所望の特性となるように制御することが可能となる。
ヒータ電極5の材料としては、例えば窒化チタン、タングステン、モリブデン、白金などがある。ヒータ電極5に電流を流すと、抵抗加熱で発熱する。この場合、ヒータ電極5に流す電流量を調整することで、ヒータ電極5の温度を制御することができ、レンズ4の温度を制御することができる。
Therefore, in the present embodiment, the heater electrode 5 is disposed around the lens 4, and the refractive index of the lens 4 is controlled by changing the temperature of the lens 4 by the heat generated by the heater electrode 5, and the lens 4 emits light. It is possible to control the beam to have a desired characteristic.
Examples of the material of the heater electrode 5 include titanium nitride, tungsten, molybdenum, and platinum. When a current is passed through the heater electrode 5, heat is generated by resistance heating. In this case, the temperature of the heater electrode 5 can be controlled and the temperature of the lens 4 can be controlled by adjusting the amount of current flowing through the heater electrode 5.

以上のように、本実施の形態では、レンズ4の周囲に設置したヒータ電極5でレンズ4の温度を制御することで、半導体レーザ1の作製誤差などによるレンズ4からの出射光のばらつきを補正することができ、レンズ4からの出射光を受光する光ファイバとの光結合効率を改善することが可能となる。
なお、電極13から活性層11に注入する電流を変調すれば、レーザ光の強度を直接的に変調する直接変調レーザ(光変調器)として半導体レーザ1を機能させることができる。
As described above, in this embodiment, the temperature of the lens 4 is controlled by the heater electrode 5 installed around the lens 4, thereby correcting variations in the light emitted from the lens 4 due to manufacturing errors of the semiconductor laser 1. Therefore, it is possible to improve the optical coupling efficiency with the optical fiber that receives the light emitted from the lens 4.
If the current injected from the electrode 13 into the active layer 11 is modulated, the semiconductor laser 1 can function as a direct modulation laser (light modulator) that directly modulates the intensity of the laser light.

[第2の実施の形態]
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。図2は本発明の第2の実施の形態に係る光集積素子の平面図であり、図1と同一の構成には同一の符号を付してある。
第1の実施の形態では、例えばレンズ4からの出射光を外部の光ファイバ(不図示)などに入射させる場合、光導波路2の端面のミラー3やレンズ4の作製誤差の影響で、出射光が所望の方向に出射されず、光ファイバの端面における位置ずれが生じ、光結合効率を低減させる要因となってしまう可能性がある。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 is a plan view of an optical integrated device according to the second embodiment of the present invention. The same components as those in FIG.
In the first embodiment, for example, when the outgoing light from the lens 4 is incident on an external optical fiber (not shown), the outgoing light is affected by the manufacturing error of the mirror 3 and the lens 4 on the end face of the optical waveguide 2. May not be emitted in the desired direction, causing a positional shift at the end face of the optical fiber, which may cause a reduction in optical coupling efficiency.

そこで、本実施の形態では、図2に示すようにレンズ4の周囲に複数のヒータ電極5−1〜5−4を配置する。各ヒータ電極5−1〜5−4に流す電流量を個別に調整し、各ヒータ電極5−1〜5−4の温度を個別に制御して、レンズ4内部における屈折率分布を変化させることで、レンズ4の出射光の方向を制御することが可能となる。   Therefore, in the present embodiment, a plurality of heater electrodes 5-1 to 5-4 are arranged around the lens 4 as shown in FIG. The amount of current flowing through each heater electrode 5-1 to 5-4 is individually adjusted, and the temperature of each heater electrode 5-1 to 5-4 is individually controlled to change the refractive index distribution inside the lens 4. Thus, the direction of the light emitted from the lens 4 can be controlled.

例えば、レンズ4の材料としてInP系の半導体材料を用いた場合、レンズ4の温度が25℃から100℃まで変化すると、屈折率は約0.5%上昇する。レンズ4の屈折率を0.5%変化させることで、レンズ4を出射してから100μm伝搬後の地点でのビーム位置を約1μm動かすことができる。   For example, when an InP-based semiconductor material is used as the material of the lens 4, the refractive index increases by about 0.5% when the temperature of the lens 4 changes from 25 ° C. to 100 ° C. By changing the refractive index of the lens 4 by 0.5%, it is possible to move the beam position at a point after propagation of 100 μm from the lens 4 by about 1 μm.

その他の構成は第1の実施の形態で説明したとおりである。こうして、本実施の形態では、第1の実施の形態と比較して、光ファイバとの光結合効率をより適切に改善することが可能となる。   Other configurations are the same as those described in the first embodiment. Thus, in the present embodiment, it is possible to more appropriately improve the optical coupling efficiency with the optical fiber as compared with the first embodiment.

なお、第1、第2の実施の形態では、半導体レーザ1と光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積した光集積素子について説明したが、半導体レーザ1は必須の構成要素ではない。すなわち、光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、光導波路2からの光をミラー3およびレンズ4を通して外部の光ファイバに入射させる光集積素子、あるいは光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、外部の光ファイバからの光をレンズ4およびミラー3を通して光導波路2に入射させる光集積素子に本発明を適用してもよい。   In the first and second embodiments, the optical integrated device in which the semiconductor laser 1, the optical waveguide 2, the mirror 3, and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate has been described. However, the semiconductor laser 1 is indispensable. It is not a component. That is, an optical integrated device or an optical waveguide in which the optical waveguide 2, the mirror 3 and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate, and light from the optical waveguide 2 is incident on an external optical fiber through the mirror 3 and the lens 4. 2, the mirror 3 and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate, and the present invention is applied to an optical integrated element in which light from an external optical fiber is incident on the optical waveguide 2 through the lens 4 and the mirror 3. Good.

[第3の実施の形態]
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。図3は本発明の第3の実施の形態に係る光集積素子の平面図であり、図1、図2と同一の構成には同一の符号を付してある。本実施の形態の光集積素子は、波長可変半導体レーザである半導体レーザアレイ1aと、半導体レーザアレイ1aから出力された光を導波する光導波路アレイ2aと、半導体レーザアレイ1aから出力された光を合波する合波器6と、合波器6から出力された光を導波する光導波路7と、光導波路7の途中に設けられた光増幅器8と、ミラーと、レンズ4とを同一のチップ上に集積したものであり、レンズ4の周囲にヒータ電極5−1〜5−4を配置したものである。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a plan view of an optical integrated device according to the third embodiment of the present invention. The same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals. The optical integrated device of the present embodiment includes a semiconductor laser array 1a that is a wavelength tunable semiconductor laser, an optical waveguide array 2a that guides light output from the semiconductor laser array 1a, and light output from the semiconductor laser array 1a. , The optical waveguide 7 that guides the light output from the multiplexer 6, the optical amplifier 8 provided in the middle of the optical waveguide 7, the mirror, and the lens 4. The heater electrodes 5-1 to 5-4 are arranged around the lens 4.

本実施の形態が第1、第2の実施の形態と異なる点は、複数の半導体レーザが並列に形成された半導体レーザアレイ1aを設けている点である。半導体レーザアレイ1a中の各半導体レーザは、それぞれ独立した活性層を有する導波路構造により構成されている。各半導体レーザの構造は、第1の実施の形態で説明した半導体レーザ1の構造と同様である。ただし、各半導体レーザは、それぞれ異なる波長でレーザ発振するように設計されている。   This embodiment differs from the first and second embodiments in that a semiconductor laser array 1a in which a plurality of semiconductor lasers are formed in parallel is provided. Each semiconductor laser in the semiconductor laser array 1a has a waveguide structure having an independent active layer. The structure of each semiconductor laser is the same as the structure of the semiconductor laser 1 described in the first embodiment. However, each semiconductor laser is designed to oscillate at different wavelengths.

各半導体レーザの活性層上の上部クラッド層12には、各半導体レーザの活性層ごとに電極13が形成されている。したがって、どの半導体レーザを光らせるかを任意に選択することができ、どの半導体レーザを光らせるかを選択することにより、発振波長を変えることが可能となる。
各半導体レーザから出力される光は光導波路アレイ2aによって導波される。光導波路アレイ2a中の各導波路の構造は、第1の実施の形態で説明した光導波路2の構造と同様である。
In the upper cladding layer 12 on the active layer of each semiconductor laser, an electrode 13 is formed for each active layer of each semiconductor laser. Therefore, it is possible to arbitrarily select which semiconductor laser is to emit light, and it is possible to change the oscillation wavelength by selecting which semiconductor laser is to emit light.
Light output from each semiconductor laser is guided by the optical waveguide array 2a. The structure of each waveguide in the optical waveguide array 2a is the same as the structure of the optical waveguide 2 described in the first embodiment.

合波器6は、半導体レーザアレイ1aから出力され光導波路アレイ2aによって導波された光を合波する。
光導波路7は、合波器6から出力された光を導波する。この光導波路7の途中には、光増幅器8が設けられている。光増幅器8は、半導体レーザ1と同様に、光利得を有する活性層が下部クラッド層10と上部クラッド層12で挟み込まれた構成となっている。上部クラッド層12の上には電極15が形成されている。光増幅器8の活性層上部の電極15から活性層に電流を注入することで、合波器6から出力された光を増幅する作用を得ることができる。
The multiplexer 6 multiplexes the light output from the semiconductor laser array 1a and guided by the optical waveguide array 2a.
The optical waveguide 7 guides the light output from the multiplexer 6. An optical amplifier 8 is provided in the middle of the optical waveguide 7. Similar to the semiconductor laser 1, the optical amplifier 8 has a configuration in which an active layer having optical gain is sandwiched between a lower cladding layer 10 and an upper cladding layer 12. An electrode 15 is formed on the upper cladding layer 12. By injecting a current from the electrode 15 above the active layer of the optical amplifier 8 into the active layer, an effect of amplifying the light output from the multiplexer 6 can be obtained.

光導波路7の出力側(図3右側)の端面は、第1の実施の形態と同様に、ある一定の角度に加工されていて、光導波路7からのレーザ光を基板上面に出力するためのミラーとして機能する。第1の実施の形態と同様に、斜めに加工された光導波路7の端面に金属膜を成膜し、ミラーとしてもよい。
ミラーによって反射されたレーザ光を集光もしくは平行光にするためのレンズ4については、第1の実施の形態で説明したとおりである。
The end face on the output side (right side in FIG. 3) of the optical waveguide 7 is processed at a certain angle, as in the first embodiment, to output the laser light from the optical waveguide 7 to the upper surface of the substrate. Acts as a mirror. Similarly to the first embodiment, a metal film may be formed on the end face of the optical waveguide 7 processed obliquely to form a mirror.
The lens 4 for condensing or collimating the laser light reflected by the mirror is as described in the first embodiment.

本実施の形態では、半導体レーザアレイ1a中の各半導体レーザの発振波長が違うことで、レンズ4からの出射光が所望のビーム特性を満たすことができない可能性がある。例えば、レンズ4からの出射光を外部の光ファイバ(不図示)などに入射させる場合、半導体レーザの発振波長が変化することで、出射光が所望の方向に出射されず、光ファイバの端面における位置ずれが生じ、光結合効率を低減させる要因となってしまう可能性がある。   In the present embodiment, the emission light from the lens 4 may not be able to satisfy the desired beam characteristics because the oscillation wavelengths of the semiconductor lasers in the semiconductor laser array 1a are different. For example, when the light emitted from the lens 4 is incident on an external optical fiber (not shown) or the like, the emitted light is not emitted in a desired direction due to a change in the oscillation wavelength of the semiconductor laser. There is a possibility that misalignment occurs, which becomes a factor of reducing the optical coupling efficiency.

そこで、本実施の形態では、第2の実施の形態と同様に、レンズ4の周囲に複数のヒータ電極5−1〜5−4を配置する。各ヒータ電極5−1〜5−4に流す電流量を個別に調整し、各ヒータ電極5−1〜5−4の温度を個別に制御して、レンズ4内部における屈折率分布を変化させることで、レンズ4の出射光の方向を制御することが可能となる。   Therefore, in the present embodiment, a plurality of heater electrodes 5-1 to 5-4 are arranged around the lens 4 as in the second embodiment. The amount of current flowing through each heater electrode 5-1 to 5-4 is individually adjusted, and the temperature of each heater electrode 5-1 to 5-4 is individually controlled to change the refractive index distribution inside the lens 4. Thus, the direction of the light emitted from the lens 4 can be controlled.

例えば、レンズ4の材料としてInP系の半導体材料を用いた場合、レーザの発振波長が0.1%変動すると、レンズ4からの出射光の角度は0.08度変化する。それに対し、レンズ4の温度を25℃から100℃まで変化させると、屈折率は約0.5%上昇し、レンズ4から出射するビームの角度を約0.1度変化させることができる。したがって、本実施の形態によれば、レーザの波長変化による、レンズ4からの出射角の変動を十分に抑制することができる。   For example, when an InP-based semiconductor material is used as the material of the lens 4, the angle of light emitted from the lens 4 changes by 0.08 degrees when the laser oscillation wavelength varies by 0.1%. On the other hand, when the temperature of the lens 4 is changed from 25 ° C. to 100 ° C., the refractive index increases by about 0.5%, and the angle of the beam emitted from the lens 4 can be changed by about 0.1 degree. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to sufficiently suppress fluctuations in the emission angle from the lens 4 due to changes in the laser wavelength.

以上のように、本実施の形態では、レンズ4の周囲に設置したヒータ電極5−1〜5−4でレンズ4の温度を制御することで、波長可変半導体レーザの発振波長の違いによるレンズ4からの出射光のばらつきを補正することができ、レンズ4からの出射光を受光する光ファイバとの光結合効率を改善することが可能となる。   As described above, in the present embodiment, the temperature of the lens 4 is controlled by the heater electrodes 5-1 to 5-4 installed around the lens 4, whereby the lens 4 due to the difference in the oscillation wavelength of the wavelength tunable semiconductor laser. It is possible to correct the variation in the light emitted from the lens 4 and to improve the optical coupling efficiency with the optical fiber that receives the light emitted from the lens 4.

[第4の実施の形態]
次に、本発明の第4の実施の形態について説明する。図4(A)は本発明の第4の実施の形態に係る光集積素子の平面図、図4(B)は図4(A)の光集積素子のI−I線断面図であり、図1〜図3と同一の構成には同一の符号を付してある。第1〜第3の実施の形態では、半導体基板の表面にレンズ4とヒータ電極5,5−1〜5−4とを形成する例を挙げて説明したが、図4(A)、図4(B)に示すように半導体基板の裏面(本実施の形態の例では下部クラッド層10の下面)にレンズ4とヒータ電極5とを形成するようにしてもよい。
[Fourth Embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. 4A is a plan view of an optical integrated device according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line II of the optical integrated device in FIG. The same code | symbol is attached | subjected to the structure same as 1-3. In the first to third embodiments, the example in which the lens 4 and the heater electrodes 5, 5-1 to 5-4 are formed on the surface of the semiconductor substrate has been described, but FIG. 4A and FIG. As shown in (B), the lens 4 and the heater electrode 5 may be formed on the back surface of the semiconductor substrate (the lower surface of the lower clad layer 10 in the example of the present embodiment).

この場合には、光導波路2の端面の角度を第1の実施の形態と異なる角度にすることで、半導体レーザ1からのレーザ光を基板裏面に出力するためのミラー3として機能させることができる。第1の実施の形態と同様に、斜めに加工された光導波路2の端面に金属膜を成膜し、ミラーとしてもよい。   In this case, by making the angle of the end face of the optical waveguide 2 different from that of the first embodiment, it can function as the mirror 3 for outputting the laser light from the semiconductor laser 1 to the back surface of the substrate. . Similarly to the first embodiment, a metal film may be formed on the end face of the optical waveguide 2 processed obliquely to form a mirror.

第1、第2の実施の形態で説明したとおり、半導体レーザ1は必須の構成要素ではなく、光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、光導波路2からの光をミラー3およびレンズ4を通して外部の光ファイバに入射させる光集積素子、あるいは光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、外部の光ファイバからの光をレンズ4およびミラー3を通して光導波路2に入射させる光集積素子に本実施の形態の構成を適用してもよい。
また、本実施の形態では、半導体基板の裏面にレンズ4とヒータ電極5とを形成する構成を第1の実施の形態に適用したが、第2、第3の実施の形態に適用してもよいことは言うまでもない。
As described in the first and second embodiments, the semiconductor laser 1 is not an essential component. The optical waveguide 2, the mirror 3, and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate. Of the optical integrated element that makes the light of the light incident on the external optical fiber through the mirror 3 and the lens 4 or the optical waveguide 2, the mirror 3 and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate, and the light from the external optical fiber is integrated. The configuration of the present embodiment may be applied to an optical integrated element that enters the optical waveguide 2 through the lens 4 and the mirror 3.
In the present embodiment, the configuration in which the lens 4 and the heater electrode 5 are formed on the back surface of the semiconductor substrate is applied to the first embodiment. However, the present invention can be applied to the second and third embodiments. Needless to say, it is good.

なお、第1〜第4の実施の形態では、光導波路2,7や合波器6などの受動素子とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積した光集積素子、半導体レーザ1、半導体レーザアレイ1a、光増幅器8などの能動素子とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積した光集積素子について説明したが、これに限るものではない。   In the first to fourth embodiments, an optical integrated element or semiconductor laser 1 in which passive elements such as the optical waveguides 2 and 7 and the multiplexer 6, the mirror 3, and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate. Although an optical integrated device in which active elements such as the semiconductor laser array 1a and the optical amplifier 8, the mirror 3 and the lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate has been described, the present invention is not limited to this.

例えば受光素子であるフォトダイオードと光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、外部の光ファイバからの光をレンズ4およびミラー3を通してフォトダイオードに入射させる光集積素子に本発明を適用してもよい。この場合には、図1、図4に示した半導体レーザ1の代わりにフォトダイオードを設けるようにすればよい。導波路型のフォトダイオードは、光吸収層のコアを下部クラッド層10と上部クラッド層12で挟んだ構造で実現できる。光ファイバからの光はレンズ4で集光され、ミラー3で反射されて光導波路2に入射する。この光導波路2を伝搬する光がフォトダイオードに入射することになる。   For example, a photodiode that is a light receiving element, an optical waveguide 2, a mirror 3, and a lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate, and light from an external optical fiber is incident on the photodiode through the lens 4 and the mirror 3. The present invention may be applied to an element. In this case, a photodiode may be provided instead of the semiconductor laser 1 shown in FIGS. The waveguide type photodiode can be realized by a structure in which the core of the light absorption layer is sandwiched between the lower cladding layer 10 and the upper cladding layer 12. Light from the optical fiber is collected by the lens 4, reflected by the mirror 3, and enters the optical waveguide 2. The light propagating through the optical waveguide 2 enters the photodiode.

また、半導体レーザ1などの光源と能動素子である光変調器と光導波路2とミラー3とレンズ4とを同一の半導体基板上に集積して、光源からの光を光変調器で変調してレンズ4を通して外部の光ファイバに入射させる光集積素子に本発明を適用してもよい。この場合には、図1、図4に示した光導波路2の途中に光変調器を設けるようにすればよい。導波路型の光変調器としては、例えば電気光学効果を利用した光変調器や、マッハツェンダ変調器が知られている。   Further, a light source such as a semiconductor laser 1, an optical modulator as an active element, an optical waveguide 2, a mirror 3, and a lens 4 are integrated on the same semiconductor substrate, and light from the light source is modulated by the optical modulator. The present invention may be applied to an optical integrated element that is incident on an external optical fiber through the lens 4. In this case, an optical modulator may be provided in the middle of the optical waveguide 2 shown in FIGS. As a waveguide type optical modulator, for example, an optical modulator using an electro-optic effect and a Mach-Zehnder modulator are known.

また、第1〜第4の実施の形態の半導体レーザとして、活性層部分に回折格子を形成した分布帰還型(DFB)レーザを用いてもよい。   In addition, as the semiconductor lasers of the first to fourth embodiments, distributed feedback (DFB) lasers in which a diffraction grating is formed in the active layer portion may be used.

本発明は、能動素子や受動素子とレンズとを同一のチップ上に集積した光集積素子に適用することができる。   The present invention can be applied to an optical integrated element in which an active element or a passive element and a lens are integrated on the same chip.

1…半導体レーザ、1a…半導体レーザアレイ、2,7…光導波路、2a…光導波路アレイ、3…ミラー、4…レンズ、5,5−1〜5−4…ヒータ電極、6…合波器、8…光増幅器、10…下部クラッド層、11…活性層、12…上部クラッド層、13,15…電極、14…非活性層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor laser, 1a ... Semiconductor laser array, 2,7 ... Optical waveguide, 2a ... Optical waveguide array, 3 ... Mirror, 4 ... Lens, 5,5-1 to 5-4 ... Heater electrode, 6 ... Multiplexer 8 ... optical amplifier, 10 ... lower clad layer, 11 ... active layer, 12 ... upper clad layer, 13, 15 ... electrode, 14 ... inactive layer.

Claims (8)

半導体基板上に形成された光導波路と、
この光導波路の一方の端面に設けられ、前記光導波路からの光を前記半導体基板の一方の面方向に反射するか、もしくは前記半導体基板の一方の面からの光を反射して前記光導波路に入射させるミラーと、
このミラーの上方または下方の前記半導体基板の一方の面に形成され、前記ミラーによって前記半導体基板の一方の面方向に反射した光を外部に出射するか、もしくは外部からの光を前記ミラーに入射させるレンズと、
このレンズの周囲の半導体基板の一方の面に形成されたヒータ電極とを有することを特徴とする光集積素子。
An optical waveguide formed on a semiconductor substrate;
Provided on one end surface of the optical waveguide, and reflects light from the optical waveguide toward one surface of the semiconductor substrate or reflects light from one surface of the semiconductor substrate to the optical waveguide. An incident mirror;
Light that is formed on one surface of the semiconductor substrate above or below the mirror and reflected by the mirror toward one surface of the semiconductor substrate is emitted to the outside, or light from the outside is incident on the mirror A lens to be
An optical integrated device having a heater electrode formed on one surface of a semiconductor substrate around the lens.
請求項1記載の光集積素子において、
さらに、前記光導波路のミラーを有する出力側の端面と反対の入力側の端面に光を入射させる発光素子を、前記半導体基板上に有することを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to claim 1.
An optical integrated device, further comprising: a light emitting element on the semiconductor substrate for allowing light to enter an input side end surface opposite to an output side end surface having the mirror of the optical waveguide.
請求項2記載の光集積素子において、
前記発光素子は、光変調器として機能する半導体レーザであることを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to claim 2, wherein
An optical integrated device, wherein the light emitting device is a semiconductor laser functioning as an optical modulator.
請求項2記載の光集積素子において、
前記発光素子は、波長可変半導体レーザであることを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to claim 2, wherein
The optical integrated device, wherein the light emitting device is a wavelength tunable semiconductor laser.
請求項1記載の光集積素子において、
さらに、前記光導波路のミラーを有する入力側と反対の出力側で前記光導波路を伝搬する光を受光して電流に変換する受光素子を、前記半導体基板上に有することを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to claim 1.
An optical integrated device, further comprising: a light receiving element on the semiconductor substrate that receives light propagating through the optical waveguide on the output side opposite to the input side having the mirror of the optical waveguide and converts the light into current. .
請求項1記載の光集積素子において、
さらに、前記光導波路を伝搬する光を増幅する光増幅器を、前記半導体基板上に有することを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to claim 1.
And an optical amplifier for amplifying the light propagating through the optical waveguide on the semiconductor substrate.
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光集積素子において、
前記レンズの周囲に単一の前記ヒータ電極を有することを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to any one of claims 1 to 6,
An optical integrated device having a single heater electrode around the lens.
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光集積素子において、
前記レンズの周囲に複数の前記ヒータ電極を有することを特徴とする光集積素子。
The optical integrated device according to any one of claims 1 to 6,
An optical integrated device comprising a plurality of the heater electrodes around the lens.
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