JP2016155072A - Halogen-based gas treatment agent and halogen-based gas treatment method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ハロゲン系ガスの処理剤及びハロゲン系ガスの処理方法に関する。 The present invention relates to a halogen-based gas treating agent and a halogen-based gas treating method.
例えば、半導体などを製造するに際して行うエッチング工程や、化学気相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）工程等においてハロゲン系ガスが排出される。 For example, the halogen-based gas is discharged in an etching process or a chemical vapor deposition (CVD) process performed when manufacturing a semiconductor or the like.
特許文献１には、ハロゲン系ガスの処理剤として、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２．０〜２．３のフォージャサイト型ゼオライトが記載されている。 Patent Document 1 describes a faujasite-type zeolite having a SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of 2.0 to 2.3 as a halogen-based gas treating agent.
ハロゲン系ガスの処理装置を軽量化したいという要望がある。 There is a desire to reduce the weight of halogen-based gas processing equipment.
本発明の主な目的は、ハロゲン系ガスの処理装置を軽量化し得るハロゲン系ガスの処理剤及びハロゲン系ガスの処理方法を提供することにある。 A main object of the present invention is to provide a halogen-based gas processing agent and a halogen-based gas processing method capable of reducing the weight of a halogen-based gas processing apparatus.
本発明に係るハロゲン系ガスの処理剤は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２．３より大きく、Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ及びＦｅからなる群から選ばれた少なくとも一種を含有するフォージャサイト型ゼオライトを含む。 The halogen-based gas treating agent according to the present invention has at least one SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio greater than 2.3 and is selected from the group consisting of Na, K, Rb, Mg, Ca, Sr and Fe. Containing faujasite-type zeolite.
本発明に係るハロゲン系ガスの処理方法は、本発明に係るハロゲン系ガスの処理剤を用いる。 The halogen-based gas processing method according to the present invention uses the halogen-based gas processing agent according to the present invention.
本発明によれば、ハロゲン系ガスの処理装置を軽量化し得るハロゲン系ガスの処理剤及びハロゲン系ガスの処理方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a halogen-based gas processing agent and a halogen-based gas processing method capable of reducing the weight of a halogen-based gas processing apparatus.
ハロゲン系ガスの処理剤は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２．３より大きく、Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ及びＦｅからなる群から選ばれた少なくとも一種を含有するフォージャサイト型ゼオライトを含む。処理剤に含まれるゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２．３より大きいため、ハロゲン系ガスの処理剤の比重が小さい。従って、このハロゲン系ガスの処理剤を用いることによって、ハロゲン系ガスの処理装置を軽量化し得る。換言すれば、このハロゲン系ガスの処理剤を用いたハロゲン系ガスの処理方法によれば、ハロゲン系ガスの処理装置を軽量化し得る。 The halogen-based gas treating agent has a SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio greater than 2.3 and contains at least one selected from the group consisting of Na, K, Rb, Mg, Ca, Sr and Fe. Includes jasite-type zeolite. Since the SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of zeolite contained in the treatment agent is larger than 2.3, the specific gravity of the treatment agent of the halogen-based gas is small. Therefore, by using this halogen-based gas processing agent, the halogen-based gas processing apparatus can be reduced in weight. In other words, according to the halogen-based gas processing method using the halogen-based gas processing agent, the halogen-based gas processing apparatus can be reduced in weight.
ハロゲン系ガスの処理剤の比重をより小さくする観点からは、処理剤に含まれるゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が２．３５以上であることが好ましい。処理剤に含まれるゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は、３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましい。処理剤に含まれるゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が大きすぎると、疎水性が高くなりすぎる場合がある。 From the viewpoint of further reducing the specific gravity of the halogen-based gas treatment agent, the SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of the zeolite contained in the treatment agent is preferably 2.35 or more. The SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of the zeolite contained in the treatment agent is preferably 3.0 or less, and more preferably 2.5 or less. If the SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio of the zeolite contained in the treatment agent is too large, the hydrophobicity may become too high.
また、ハロゲン系ガスの処理剤が、Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ及びＦｅからなる群から選ばれた少なくとも一種を含有する場合、表面の塩基性度が高まるためハロゲン成分に含まれるハロゲン化水素を十分に処理しうる可能性がある。 Further, when the halogen-based gas treatment agent contains at least one selected from the group consisting of Na, K, Rb, Mg, Ca, Sr and Fe, the basicity of the surface is increased, so that it is included in the halogen component. There is a possibility that the hydrogen halide can be sufficiently treated.
ゼオライトにおけるＡｌ２Ｏ３の含有量が３４質量％以下であることが好ましい。ゼオライトにおけるＡｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、ゼオライトの重量が大きくなる場合がある。ゼオライトにおけるＡｌ２Ｏ３の含有量は、より好ましくは、３３質量％以下である。ゼオライトにおけるＡｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは、２５質量％以上であり、より好ましくは、３０質量％以上である。ゼオライトにおけるＡｌ２Ｏ３の含有量が少なすぎると、相対的にＳｉＯ２の含有量が多くなってしまいゼオライトがもろくなる場合がある。 The content of Al 2 O 3 in the zeolite is preferably 34% by mass or less. When the content of Al 2 O 3 in the zeolite is too large, there are cases where the weight of the zeolite increases. The content of Al 2 O 3 in the zeolite is more preferably 33% by mass or less. The content of Al 2 O 3 in the zeolite is preferably 25% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more. When the content of Al 2 O 3 in the zeolite is too small, the content of SiO 2 is relatively increased, and the zeolite may be fragile.
ゼオライトにおけるＳｉＯ２の含有量が４３質量％以上であることが好ましい。ゼオライトにおけるＳｉＯ２の含有量は、より好ましくは、４４質量％以上である。ゼオライトにおけるＳｉＯ２の含有量は、好ましくは、４６質量％以下である。ゼオライトにおけるＳｉＯ２の含有量が多すぎると、ゼオライトがもろくなってしまう場合がある。 It is preferable that the content of SiO 2 in the zeolite is 43% by mass or more. The content of SiO 2 in the zeolite is more preferably 44% by mass or more. The content of SiO 2 in the zeolite is preferably 46% by mass or less. If the content of SiO 2 in the zeolite is too large, the zeolite may become brittle.
ゼオライトにおけるアルカリ金属酸化物の含有量は、好ましくは、２１質量％以下であり、より好ましくは、２０質量％以下であり、さらに好ましくは、１９質量％以下である。ゼオライトにおけるアルカリ金属酸化物の含有量が多すぎると、表面で金属酸化物の凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるアルカリ金属酸化物の含有量は、好ましくは、１７質量％以上であり、より好ましくは、１８質量％以上である。ゼオライトにおけるアルカリ金属酸化物の含有量が少なすぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of the alkali metal oxide in the zeolite is preferably 21% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and still more preferably 19% by mass or less. If there is too much alkali metal oxide content in the zeolite, there is a possibility that the specific surface area of the zeolite surface will be reduced due to aggregation of the metal oxide on the surface, or the zeolite will close the fine holes. . The content of the alkali metal oxide in the zeolite is preferably 17% by mass or more, and more preferably 18% by mass or more. If the content of the alkali metal oxide in the zeolite is too small, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＮａ２Ｏの含有量は、好ましくは、１９質量％以下であり、より好ましくは、１８．５質量％以下である。ゼオライトにおけるＮａ２Ｏの含有量が多すぎると、表面でＮａ２Ｏの凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＮａ２Ｏの含有量は、好ましくは、８質量％以上であり、より好ましくは、１８質量％以上である。ゼオライトにおけるＮａ２Ｏの含有量が少なすぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of Na 2 O in the zeolite is preferably 19% by mass or less, and more preferably 18.5% by mass or less. If the content of Na 2 O in the zeolite is too large, there is a possibility that Na 2 O agglomerates on the surface and the specific surface area of the zeolite surface becomes small, or that the fine holes of the zeolite are blocked. The content of Na 2 O in the zeolite is preferably 8% by mass or more, and more preferably 18% by mass or more. If the content of Na 2 O in the zeolite is too small, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＫ２Ｏの含有量は、好ましくは、２質量％以下であり、より好ましくは、１質量％以下であり、さらに好ましくは、０．５質量％以下である。ゼオライトにおけるＫ２Ｏの含有量が多すぎると、Ｋ２Ｏの凝集が起こり、ゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＫ２Ｏの含有量は、好ましくは、０．１質量％以上であり、より好ましくは、０．３質量％以上である。ゼオライトにおけるＫ２Ｏの含有量が少なすぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of K 2 O in the zeolite is preferably 2% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, and still more preferably 0.5% by mass or less. When the content of K 2 O in the zeolite is too large, there is a possibility that K 2 O agglomerates and the specific surface area of the zeolite surface becomes small or the fine holes of the zeolite are blocked. The content of K 2 O in the zeolite is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.3% by mass or more. If the content of K 2 O in the zeolite is too small, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＲｂ２Ｏの含有量は、好ましくは、０．００５質量％以下であり、より好ましくは、０．００４質量％以下であり、さらに好ましくは、０．００３質量％以下である。ゼオライトにおけるＲｂ２Ｏの含有量が多すぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＲｂ２Ｏの含有量は、好ましくは、０．００２質量％以上である。ゼオライトにおけるＲｂ２Ｏの含有量が少なすぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of Rb 2 O in the zeolite is preferably 0.005% by mass or less, more preferably 0.004% by mass or less, and further preferably 0.003% by mass or less. When the content of Rb 2 O in the zeolite is too large, there is a possibility that aggregation occurs and the specific surface area of the zeolite surface is reduced, or that the fine holes of the zeolite are blocked. The content of Rb 2 O in the zeolite is preferably 0.002% by mass or more. If the content of Rb 2 O in the zeolite is too small, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるアルカリ土類金属酸化物の含有量は、好ましくは、０．５質量％以上であり、より好ましくは、１．０質量％以上であり、さらに好ましくは、１．５質量％以上であり、なお好ましくは、２．０質量％以上である。ゼオライトにおけるアルカリ土類金属酸化物の含有量が少なすぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるアルカリ土類金属酸化物の含有量は、好ましくは、４．０質量％以下であり、より好ましくは、３．５質量％以下であり、さらに好ましくは、３．０質量％以下である。ゼオライトにおけるアルカリ土類金属酸化物の含有量が多すぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of the alkaline earth metal oxide in the zeolite is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1.0% by mass or more, and further preferably 1.5% by mass or more. In addition, Preferably, it is 2.0 mass% or more. If the content of the alkaline earth metal oxide in the zeolite is too small, there is a possibility that the agglomeration occurs and the specific surface area of the zeolite surface becomes small, or the fine holes of the zeolite are blocked. The content of the alkaline earth metal oxide in the zeolite is preferably 4.0% by mass or less, more preferably 3.5% by mass or less, and further preferably 3.0% by mass or less. . If the content of the alkaline earth metal oxide in the zeolite is too large, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＭｇＯの含有量は、好ましくは、０．５質量％以上であり、より好ましくは、１．０質量％以上であり、さらに好ましくは、１．５質量％以上である。ゼオライトにおけるＭｇＯの含有量が少なすぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＭｇＯの含有量は、好ましくは、４．０質量％以下であり、より好ましくは、３．５質量％以下であり、さらに好ましくは、３．０質量％以下である。ゼオライトにおけるＭｇＯの含有量が多すぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of MgO in the zeolite is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1.0% by mass or more, and further preferably 1.5% by mass or more. If the content of MgO in the zeolite is too small, there may be a probability that aggregation occurs and the specific surface area of the zeolite surface becomes small, or the fine holes of the zeolite are blocked. The content of MgO in the zeolite is preferably 4.0% by mass or less, more preferably 3.5% by mass or less, and still more preferably 3.0% by mass or less. If the content of MgO in the zeolite is too large, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＣａＯの含有量は、好ましくは、０．２質量％以上であり、より好ましくは、０．３質量％以上であり、さらに好ましくは、０．４質量％以上である。ゼオライトにおけるＣａＯの含有量が少なすぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＣａＯの含有量は、好ましくは、１．０質量％以下であり、より好ましくは、０．８質量％以下であり、さらに好ましくは、０．５質量％以下である。ゼオライトにおけるＣａＯの含有量が多すぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of CaO in the zeolite is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.3% by mass or more, and still more preferably 0.4% by mass or more. When the content of CaO in the zeolite is too small, there is a possibility that aggregation occurs and the specific surface area of the zeolite surface is reduced, or the fine holes of the zeolite are blocked. The content of CaO in the zeolite is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.8% by mass or less, and still more preferably 0.5% by mass or less. When there is too much content of CaO in a zeolite, the acidity of a zeolite will become high and an apparatus inner wall may be corroded.
ゼオライトにおけるＳｒＯの含有量は、好ましくは、０．００３質量％以下である。ゼオライトにおけるＳｒＯの含有量が多すぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。ゼオライトにおけるＳｒＯの含有量は、好ましくは、０．００２質量％以上であり、より好ましくは、０．００１質量％以上である。ゼオライトにおけるＳｒＯの含有量が少なすぎると、ゼオライトの酸性度が高くなり装置内壁が腐食される場合がある。 The content of SrO in the zeolite is preferably 0.003% by mass or less. If the content of SrO in the zeolite is too large, there is a possibility that aggregation occurs and the specific surface area of the zeolite surface becomes small, or the fine holes of the zeolite are blocked. The content of SrO in the zeolite is preferably 0.002% by mass or more, more preferably 0.001% by mass or more. If the content of SrO in the zeolite is too small, the acidity of the zeolite becomes high and the inner wall of the apparatus may be corroded.
ゼオライトにおけるＦｅ２Ｏ３の含有量は、好ましくは、０．５質量％以上であり、より好ましくは、１．０質量％以上である。ゼオライトにおけるＦｅ２Ｏ３の含有量が少なすぎると、塩素との反応により完全に消費されてしまう場合がある。ゼオライトにおけるＦｅ２Ｏ３の含有量は、好ましくは、３質量％以下であり、より好ましくは、２質量％以下である。ゼオライトにおけるＦｅ２Ｏ３の含有量が多すぎると、凝集が起こりゼオライト表面の比表面積が小さくなる、またはゼオライトが細穴が塞がれてしまうという蓋然性がある場合がある。 The content of Fe 2 O 3 in the zeolite is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more. If the content of Fe 2 O 3 in the zeolite is too small, it may be completely consumed by reaction with chlorine. The content of Fe 2 O 3 in the zeolite is preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less. If the content of Fe 2 O 3 in the zeolite is too large, there may be a probability that aggregation occurs and the specific surface area of the zeolite surface becomes small, or the fine holes of the zeolite are blocked.
ゼオライトは、上記成分の他に、例えば、Ｐ，Ｓ，Ｃｌ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｙ，Ｚｒ等をさらに含んでいてもよい。 In addition to the above components, the zeolite may further contain, for example, P, S, Cl, Ti, Cr, Mn, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, and the like.
ゼオライトにおけるＰ２Ｏ５の含有量は、好ましくは、０．０１質量％〜０．０３質量％であり、より好ましくは、０．０１５質量％〜０．０２５質量％である。 The content of P 2 O 5 in the zeolite is preferably 0.01% by mass to 0.03% by mass, and more preferably 0.015% by mass to 0.025% by mass.
ゼオライトにおけるＳＯ３の含有量は、好ましくは、０．０５質量％〜０．２５質量％であり、より好ましくは、０．１質量％〜０．２質量％である。 The content of SO 3 in the zeolite is preferably 0.05% by mass to 0.25% by mass, and more preferably 0.1% by mass to 0.2% by mass.
ゼオライトにおけるＣｌの含有量は、好ましくは、０．００５質量％〜０．０５質量％であり、より好ましくは、０．００８質量％〜０．０２質量％である。 The content of Cl in the zeolite is preferably 0.005% by mass to 0.05% by mass, and more preferably 0.008% by mass to 0.02% by mass.
ゼオライトにおけるＴｉＯ２の含有量は、好ましくは、０．０５質量％〜０．３０質量％であり、より好ましくは、０．１０質量％〜０．２５質量％である。 The content of TiO 2 in the zeolite is preferably 0.05% by mass to 0.30% by mass, and more preferably 0.10% by mass to 0.25% by mass.
ゼオライトにおけるＣｒ２Ｏ３の含有量は、好ましくは、０．０００１質量％〜０．０１質量％であり、より好ましくは、０．００５質量％〜０．００８質量％である。 The content of Cr 2 O 3 in the zeolite is preferably 0.0001% by mass to 0.01% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 0.008% by mass.
ゼオライトにおけるＭｎＯの含有量は、好ましくは、０．０１質量％〜０．０５質量％であり、より好ましくは、０．０２質量％〜０．０４質量％である。 The content of MnO in the zeolite is preferably 0.01% by mass to 0.05% by mass, and more preferably 0.02% by mass to 0.04% by mass.
ゼオライトにおけるＮｉＯの含有量は、好ましくは、０．００１質量％〜０．０１質量％であり、より好ましくは、０．００５質量％〜０．００８質量％である。 The content of NiO in the zeolite is preferably 0.001% by mass to 0.01% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 0.008% by mass.
ゼオライトにおけるＣｕＯの含有量は、好ましくは、０．００１質量％〜０．０１質量％であり、より好ましくは、０．００２質量％〜０．００５質量％である。 The content of CuO in the zeolite is preferably 0.001% by mass to 0.01% by mass, and more preferably 0.002% by mass to 0.005% by mass.
ゼオライトにおけるＺｎＯの含有量は、好ましくは、０．００１質量％〜０．０１質量％であり、より好ましくは、０．００３質量％〜０．００８質量％である。 The content of ZnO in the zeolite is preferably 0.001% by mass to 0.01% by mass, and more preferably 0.003% by mass to 0.008% by mass.
ゼオライトにおけるＹ２Ｏ３の含有量は、好ましくは、０．０００５質量％〜０．００２質量％であり、より好ましくは、０．０００８質量％〜０．００１５質量％である。 The content of Y 2 O 3 in the zeolite is preferably 0.0005% by mass to 0.002% by mass, and more preferably 0.0008% by mass to 0.0015% by mass.
ゼオライトにおけるＺｒＯ２の含有量は、好ましくは、０．００１質量％〜０．０２質量％であり、より好ましくは、０．００５質量％〜０．０１質量％である。 The ZrO 2 content in the zeolite is preferably 0.001% by mass to 0.02% by mass, and more preferably 0.005% by mass to 0.01% by mass.
ハロゲン系ガスの処理剤の形状寸法は、特に限定されない。ハロゲン系ガスの処理剤は、例えば、粒子状であってもよい。その場合、ハロゲン系ガスの処理剤の平均粒子径は、好ましくは、０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下であり、より好ましくは、１ｍｍ以上３ｍｍ以下である。 The shape dimension of the halogen-based gas treating agent is not particularly limited. The halogen-based gas treating agent may be in the form of particles, for example. In that case, the average particle diameter of the halogen-based gas treatment agent is preferably 0.1 mm or more and 5 mm or less, and more preferably 1 mm or more and 3 mm or less.
本実施形態のハロゲン系ガスの処理剤は、上記ゼオライトに加え、バインダー（カオリン、アタパルジャイト、モンモリロナイトなど）をさらに含んでいてもよい。 The halogen-based gas treating agent of this embodiment may further contain a binder (kaolin, attapulgite, montmorillonite, etc.) in addition to the zeolite.
本実施形態のハロゲン系ガスの処理剤は、例えば、ハロゲン（Ｆ２、Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２）ガス、ハロゲン化水素（ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ）ガス、ハロゲン化珪素（ＳｉＦ４、ＳｉＣｌ４、ＳｉＢｒ４）ガス、ハロゲン化ホウ素（ＢＣｌ３）ガス、ハロゲン化タングステン（ＷＦ６、ＷＣｌ６）ガス、ハロゲン化カルボニル（ＣＯＦ２、ＣＯＣｌ２）ガス、酸化ハロゲン（ＯＦ２）ガスなどの処理に好適に用いられる。本実施形態のハロゲン系ガスの処理剤は、塩素ガスの処理により好適に用いられる。 Examples of the halogen-based gas treating agent according to the present embodiment include halogen (F 2 , Cl 2 , Br 2 , I 2 ) gas, hydrogen halide (HF, HCl, HBr, HI) gas, and silicon halide (SiF 4). , SiCl 4 , SiBr 4 ) gas, boron halide (BCl 3 ) gas, tungsten halide (WF 6 , WCl 6 ) gas, carbonyl halide (COF 2 , COCl 2 ) gas, halogen oxide (OF 2 ) gas, etc. It is suitably used for the processing. The halogen-based gas treating agent of this embodiment is preferably used for the treatment of chlorine gas.
以下、本発明について、具体的な実験例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail on the basis of specific experimental examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and may be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the present invention. Is possible.
（実験例）
下記の表１に示す成分を含むゼオライトＡ及びゼオライトＢを用意した。ゼオライトＡ，Ｂをそれぞれ容器に充填した。その容器に塩素ガスを含むガスを導入し、容器からの排気ガス中に含まれる塩素ガス濃度を測定した。その結果、ゼオライトＡを用いた場合と、ゼオライトＢを用いた場合とで、排気ガス中の塩素ガス濃度が同等であることを確認した。
(Experimental example)
Zeolite A and zeolite B containing the components shown in Table 1 below were prepared. Zeolite A and B were filled in containers. A gas containing chlorine gas was introduced into the container, and the concentration of chlorine gas contained in the exhaust gas from the container was measured. As a result, it was confirmed that the concentration of chlorine gas in the exhaust gas was the same when using zeolite A and when using zeolite B.
なお、表１に示す含有量（質量％）は、ＸＲＦ分析（蛍光Ｘ線分析）により行った。また、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比は、試料を炭酸ナトリウムとホウ酸で溶解分解した後に、塩酸で加熱溶解し、ＩＣＰ−ＡＥＳにより定量分析することにより得た値である。 In addition, content (mass%) shown in Table 1 was performed by XRF analysis (fluorescence X-ray analysis). Further, the SiO 2 / Al 2 O 3 molar ratio is a value obtained by dissolving and decomposing a sample with sodium carbonate and boric acid, heating and dissolving with hydrochloric acid, and quantitative analysis by ICP-AES.
表１において、「Ｎ．Ａ．」とは、検出量が検出装置の検出限界以下であったことを示している。 In Table 1, “NA” indicates that the detection amount was below the detection limit of the detection device.
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|---|---|---|---|
| JP2015034245A Pending JP2016155072A (en) | 2015-02-24 | 2015-02-24 | Halogen-based gas treatment agent and halogen-based gas treatment method |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2016155072A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230125025A (en) | 2020-12-25 | 2023-08-28 | 가부시끼가이샤 레조낙 | Catalyst for decomposing chlorine gas, exhaust gas treatment device and method for decomposing chlorine gas |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008229610A (en) * | 2007-02-21 | 2008-10-02 | Tosoh Corp | Agent for rendering halogen-containing gas harmless, and method of rendering halogen-containing gas harmless using the same |
| JP2010005542A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Tosoh Corp | Perfluorocarbon adsorbent and perfluorocarbon detoxifying process using the same |
| JP2010137174A (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Tosoh Corp | Detoxifying agent for halogen gas and method for detoxifying halogen gas using the same |
| JP2011136955A (en) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Union Showa Kk | Method for producing high-purity fluorine-containing compound and high-purity fluorine-containing compound obtained by the method |
| US20110176992A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-07-21 | Chevron U.S.A., Inc. | Preparation of X Zeolite |
| JP2011235216A (en) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Kansai Univ | Method for decomposing and treating fluorine-based gas by means of zeolite |
-
2015
- 2015-02-24 JP JP2015034245A patent/JP2016155072A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008229610A (en) * | 2007-02-21 | 2008-10-02 | Tosoh Corp | Agent for rendering halogen-containing gas harmless, and method of rendering halogen-containing gas harmless using the same |
| JP2010005542A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Tosoh Corp | Perfluorocarbon adsorbent and perfluorocarbon detoxifying process using the same |
| JP2010137174A (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Tosoh Corp | Detoxifying agent for halogen gas and method for detoxifying halogen gas using the same |
| US20110176992A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-07-21 | Chevron U.S.A., Inc. | Preparation of X Zeolite |
| JP2011136955A (en) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Union Showa Kk | Method for producing high-purity fluorine-containing compound and high-purity fluorine-containing compound obtained by the method |
| JP2011235216A (en) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Kansai Univ | Method for decomposing and treating fluorine-based gas by means of zeolite |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 基本物性／モレキュラーシーブ／アルミナのユニオン昭和株式会社, JPN6018028477, ISSN: 0003981187 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230125025A (en) | 2020-12-25 | 2023-08-28 | 가부시끼가이샤 레조낙 | Catalyst for decomposing chlorine gas, exhaust gas treatment device and method for decomposing chlorine gas |
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