JP2016145948A - Optical film and image display device - Google Patents

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JP2016145948A JP2015055223A JP2015055223A JP2016145948A JP 2016145948 A JP2016145948 A JP 2016145948A JP 2015055223 A JP2015055223 A JP 2015055223A JP 2015055223 A JP2015055223 A JP 2015055223A JP 2016145948 A JP2016145948 A JP 2016145948A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film that can be more easily made by a simpler configuration compared to the prior art, relating to an optical film applicable to an electronic pen input system where various types of information are input by detecting input coordinates by use of a dot pattern.SOLUTION: An optical film (5) is provided, which is transparent in a visible light range and diffuses and reflects near infrared rays, and includes: a substrate 10 comprising a light-transmitting film material having a rough surface M on at least one surface thereof; a diffusion reflection layer 9 comprising a cholesteric liquid crystal, formed on the rough surface M of the substrate 10; and a reflection layer 11 comprising a cholesteric liquid crystal formed on a surface on the opposite side to the rough surface M of the substrate 10.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムに適用可能であって、ディスプレイ装置の画面に直接手書きする構成の電子ペン入力システムに適用可能な光学フィルムに関する。   The present invention is applicable to an electronic pen input system that detects input coordinates using a dot pattern and inputs various types of information, and is applicable to an electronic pen input system configured to directly handwritten on the screen of a display device. About.

従来、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムが提供されており、その代表的なものとしてスウェーデンのAnoto社が開発したアノトペン(Anoto(登録商標) pen)による電子ペン入力システムが知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic pen input system that detects input coordinates using a dot pattern and inputs various types of information has been provided. As a typical example, an annot pen (Anoto (registered trademark) pen) developed by Anoto in Sweden has been provided. Electronic pen input systems are known.

このような電子ペン入力システムに関して、特許文献1には、可視光を透過すると共に、近赤外線又は紫外線を拡散反射するフィルム上に、近赤外線又は紫外線を吸収する層をパターン印刷することにより、ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプの電子ペン入力システムに適用可能な光学フィルムが提案されている。   With regard to such an electronic pen input system, Patent Document 1 discloses a display by pattern-printing a layer that absorbs near infrared rays or ultraviolet rays on a film that transmits visible light and diffusely reflects near infrared rays or ultraviolet rays. There has been proposed an optical film applicable to an electronic pen input system of a type in which handwriting is directly performed on the screen of the apparatus.

また特許文献2には、コレステリック液晶のらせん軸方向を各領域で異ならせることにより、適宜、白色光を反射表示することが可能な反射板の構成が開示されている。また特許文献3には、コレステリック液晶層を波型のような状態にして拡散反射層を作成する構成が開示されている。   Patent Document 2 discloses a configuration of a reflector that can appropriately reflect and display white light by changing the spiral axis direction of the cholesteric liquid crystal in each region. Patent Document 3 discloses a configuration in which a diffuse reflection layer is formed with a cholesteric liquid crystal layer in a wave-like state.

ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプの入力システムにあっては、今後、更に普及すると考えられる。これによりこのような入力システムに適用可能な光学フィルムにあっては、従来に比して一段と簡易な構成により簡易に作成可能であることが望まれる。   In the case of an input system in which handwriting is directly performed on the screen of the display device, it is considered that it will become more popular in the future. Accordingly, it is desired that an optical film applicable to such an input system can be easily created with a simpler configuration than in the past.

特開2008−209598号公報JP 2008-209598 A 特開2003−215342号公報JP 2003-215342 A 特開2005−107296号公報JP 2005-107296 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムに適用可能な光学フィルムに関して、従来に比して一段と簡易な構成により簡易に作成可能な光学フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an optical film applicable to an electronic pen input system that detects input coordinates by a dot pattern and inputs various types of information is much simpler than conventional ones. An object of the present invention is to provide an optical film that can be easily produced with a simple structure.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、透光性フィルム材の少なくとも一方の面を粗面とし、この粗面の上に、直接、コレステリック液晶層を作成して拡散反射層とし、さらに他方の面にも、コレステリック液晶層による反射層を作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied to solve the above problems, and at least one surface of the translucent film material is made a rough surface, and a cholesteric liquid crystal layer is directly formed on the rough surface to perform diffuse reflection. The idea of producing a reflective layer made of a cholesteric liquid crystal layer on the other surface was completed, and the present invention was completed.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。   Specifically, the present invention provides the following.

(1) 可視光域では透明であって、近赤外線を拡散反射する光学フィルムであって、
少なくとも一方の面が粗面である透光性フィルム材による基材と、
前記基材の粗面に作製されたコレステリック液晶による拡散反射層と、
前記基材の粗面とは逆側の面に作成されたコレステリック液晶による反射層とを備えた
光学フィルム。
(1) An optical film that is transparent in the visible light region and diffusely reflects near infrared rays,
A substrate made of a translucent film material having at least one surface is a rough surface;
A diffuse reflection layer made of cholesteric liquid crystal produced on the rough surface of the substrate;
An optical film comprising: a reflective layer made of cholesteric liquid crystal formed on a surface opposite to the rough surface of the substrate.

(1)によれば、近赤外線を選択的に反射するコレステリック液晶の特徴を有効に利用して、このコレステリック液晶による液晶層を粗面に直接作製するだけの簡易な構成、工程により近赤外線を拡散反射し、可視光を透過する光学フィルムを提供することができる。またさらにコレステリック液晶による拡散反射層では、右円偏光又は左円偏光のみを反射し、これとは逆向きの左円偏光又は右円偏光を透過してしまうものの、この透過した左円偏光又は右円偏光は、逆側の面に作成された反射層により反射して拡散反射層に入射することができる。これにより一段と効率良く近赤外線を拡散反射することができる。   According to (1), by effectively utilizing the characteristics of cholesteric liquid crystals that selectively reflect near-infrared rays, the near-infrared rays can be obtained by a simple configuration and process that directly produces a liquid crystal layer of cholesteric liquid crystals on a rough surface. An optical film that diffusely reflects and transmits visible light can be provided. Further, the diffuse reflection layer made of cholesteric liquid crystal reflects only the right circularly polarized light or the left circularly polarized light, and transmits the left circularly polarized light or the right circularly polarized light in the opposite direction. Circularly polarized light can be reflected by the reflection layer formed on the opposite surface and incident on the diffuse reflection layer. This makes it possible to diffusely reflect near infrared rays more efficiently.

(2) (1)において、
前記基材の粗面とは逆側の面が、粗面であり、
当該逆側の面に形成された反射層が、近赤外線を拡散反射する反射層である光学フィルム。
(2) In (1),
The surface opposite to the rough surface of the substrate is a rough surface,
An optical film in which the reflective layer formed on the opposite surface is a reflective layer that diffusely reflects near infrared rays.

(2)によれば、反射層が、近赤外線を拡散反射する反射層であることにより、可視光の透過を何ら損なうことなく、一段と効率良く近赤外線を拡散反射することができる。またこの反射層の下地が粗面であることにより、この近赤外線を拡散反射する反射層についても、コレステリック液晶による液晶層を粗面に直接作製するだけの簡易な構成、工程により作製することができる。   According to (2), since the reflective layer is a reflective layer that diffusely reflects near-infrared rays, the near-infrared rays can be diffusely reflected more efficiently without impairing the transmission of visible light. In addition, since the base of the reflective layer is a rough surface, the reflective layer that diffusely reflects near-infrared light can be manufactured by a simple configuration and process that directly forms a liquid crystal layer of cholesteric liquid crystal on the rough surface. it can.

(3) (1)又は(2)において、前記拡散反射層に係る粗面は、算術平均粗さRaが0.01μm以上1μm以下である光学フィルム。   (3) In (1) or (2), the rough surface according to the diffuse reflection layer has an arithmetic average roughness Ra of 0.01 μm or more and 1 μm or less.

(3)によれば、より具体的構成により、近赤外線を拡散反射し、可視光を透過する光学フィルムを提供することができる。   According to (3), an optical film that diffusely reflects near infrared rays and transmits visible light can be provided with a more specific configuration.

(4) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、
さらに近赤外線を吸収するドットによるドットパターンが作製された光学フィルム。
(4) In any one of (1), (2) and (3),
An optical film with a dot pattern made of dots that absorb near infrared rays.

(5) (1)、(2)、(3)の何れかにおいて、
近赤外線を吸収するドットによるドットパターンが作製されたドットパターンフィルムと積層された光学フィルム。
(5) In any one of (1), (2) and (3),
An optical film laminated with a dot pattern film in which a dot pattern with dots that absorb near infrared rays is produced.

(4)又は(5)によれば、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムに適用可能であって、例えばディスプレイ装置の画面に直接手書きする構成の電子ペン入力システムに適用可能な光学フィルムを提供することができる。   According to (4) or (5), the present invention can be applied to an electronic pen input system that detects input coordinates using a dot pattern and inputs various information, and for example, an electronic pen configured to be handwritten directly on the screen of a display device An optical film applicable to the input system can be provided.

(6) (4)又は(5)に記載の光学フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。   (6) An image display device in which the optical film according to (4) or (5) is disposed on a panel surface of an image display panel.

(6)によれば、簡易な構成、工程による光学フィルムを使用して、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムであって、画面に直接手書きする構成の電子ペン入力システムに係る画像表示装置を提供することができる。   According to (6), it is an electronic pen input system that uses an optical film with a simple configuration and process, detects input coordinates by a dot pattern, and inputs various information, and has a configuration in which handwriting is directly performed on the screen. An image display apparatus according to an electronic pen input system can be provided.

本発明によれば、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムに適用可能な光学フィルムに関して、従来に比して一段と簡易な構成により簡易に作成可能な光学フィルムを提供することができる。   The present invention relates to an optical film that can be applied to an electronic pen input system that inputs various information by detecting input coordinates using a dot pattern, and can be easily created with a simpler configuration than in the past. Can be provided.

本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す図である。It is a figure which shows the image display apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1の画像表示装置に係る光学フィルムを示す図である。It is a figure which shows the optical film which concerns on the image display apparatus of FIG. 本発明に係る拡散反射フィルムの比較例1の光学特性の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the optical characteristic of the comparative example 1 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 図3の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG. 図4の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 4 in detail. 本発明に係る拡散反射フィルムの比較例2の光学特性の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the optical characteristic of the comparative example 2 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 図6の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 6 in detail. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例1−1の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 1-1 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例1−2の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 1-2 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例2の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 2 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 図10の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG. 図11の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 11 in detail. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例3の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 3 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 比較例3の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the comparative example 3. 図14の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG. 図15の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 15 in detail. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例4の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 4 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 図17の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 17 in detail. 比較例4の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the comparative example 4. 図19の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG. 図20の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 20 in detail. 本発明に係る拡散反射フィルムの実施例5の光学特性を示す図である。It is a figure which shows the optical characteristic of Example 5 of the diffuse reflection film which concerns on this invention. 図22の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 22 in detail. 比較例5の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the comparative example 5. 図24の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG. 図25の計測結果を詳細に示す図である。It is a figure which shows the measurement result of FIG. 25 in detail. 比較例6の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the comparative example 6. 図27の計測結果における拡散反射による反射率を示す図である。It is a figure which shows the reflectance by diffuse reflection in the measurement result of FIG.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置1は、画像表示パネル2のパネル面(視聴者側面)に、電子ペン入力システムに係る光学フィルム3が配置されて、対応する電子ペン等とにより電子ペン入力システムが構成される。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing an image display apparatus according to the first embodiment of the present invention. In this image display device 1, an optical film 3 related to an electronic pen input system is arranged on a panel surface (viewer side surface) of an image display panel 2, and an electronic pen input system is configured with a corresponding electronic pen or the like. .

ここでこの電子ペン入力システムは、ドットパターンにより入力座標を検出して各種の情報を入力する電子ペン入力システムであり、ディスプレイ装置の画面に直接手書きする構成の電子ペン入力システムである。この実施形態において、この電子ペン入力システムは、対応する電子ペンから照明用の近赤外線を送出すると共に、この近赤外線の反射光による撮像結果を当該電子ペンで取得して処理することにより、光学フィルム3に設けられたドットパターンを検出して入力座標を検出し、これにより画像表示パネル2による表示画像の視聴を何ら損なくことなく、手書きによりデータ入力できるように構成される。なおここで近赤外線は、波長が約0.7μm〜2.5μmの電磁波である。   Here, the electronic pen input system is an electronic pen input system that detects input coordinates using a dot pattern and inputs various kinds of information, and is an electronic pen input system configured to directly handwritten on the screen of a display device. In this embodiment, the electronic pen input system transmits a near infrared ray for illumination from a corresponding electronic pen, and obtains and processes an imaging result of the reflected light of the near infrared ray with the electronic pen. A dot pattern provided on the film 3 is detected to detect input coordinates, thereby allowing data input by handwriting without any loss of viewing of the display image on the image display panel 2. Here, near infrared rays are electromagnetic waves having a wavelength of about 0.7 μm to 2.5 μm.

ここで画像表示パネル2は、液晶表示パネル、有機ELによる画像表示パネル等、種々の構成を広く適用することができる。また電子ペンは、近赤外線を送出してペン先が接触している部位を照明する光源、この接触している部位の撮像結果を取得する撮像手段、撮像手段で取得した撮像結果を処理して、この撮像結果で検出されるドットパターンによりペン先の入力座標を検出するデータ処理回路等が設けられる。   Here, the image display panel 2 can widely apply various configurations such as a liquid crystal display panel and an organic EL image display panel. In addition, the electronic pen transmits a near infrared ray to illuminate a part that is in contact with the pen tip, an imaging unit that acquires an imaging result of the part that is in contact, and processes an imaging result acquired by the imaging unit A data processing circuit or the like for detecting the input coordinates of the pen tip from the dot pattern detected from the imaging result is provided.

〔光学フィルム〕
光学フィルム3は、図2に示すように、紫外線硬化性樹脂等の透明の接着剤によりドットパターンフィルム4と、拡散反射フィルム5とを積層して作製され、拡散反射フィルム5側が画像表示パネル2のパネル面側となるようにして、感圧接着剤、紫外線硬化性樹脂による接着剤等により画像表示パネル2のパネル面に配置される。
[Optical film]
As shown in FIG. 2, the optical film 3 is produced by laminating a dot pattern film 4 and a diffuse reflection film 5 with a transparent adhesive such as an ultraviolet curable resin, and the diffuse reflection film 5 side is the image display panel 2. Is arranged on the panel surface of the image display panel 2 with a pressure sensitive adhesive, an adhesive made of an ultraviolet curable resin, or the like.

ここでドットパターンフィルム4は、可視光域では透明であって、近赤外線を選択的に吸収するドットパターンが形成されたフィルムである。また拡散反射フィルム5は、可視光域では透明であって、近赤外線を拡散反射するフィルムである。これにより光学フィルム3は、ドットパターンフィルム4を透過した電子ペンからの照明用の近赤外線を拡散反射フィルム5により拡散反射すると共に、この拡散反射した近赤外線をドットパターンフィルム4のドットパターンにより選択的に吸収する。その結果、光学フィルム3は、拡散反射フィルム5で拡散反射した近赤外線による明るい背景に、ドットパターンフィルム4によるドットパターンを撮影できるように構成され、確実にドットパターンを検出して入力座標を検出できるように構成される。また可視光域では透明であることにより、画像表示パネル2による画像表示には、何ら障害を与えることなく、確実に入力座標を検出できるように構成される。   Here, the dot pattern film 4 is a film in which a dot pattern that is transparent in the visible light range and selectively absorbs near infrared rays is formed. The diffuse reflection film 5 is a film that is transparent in the visible light range and diffusely reflects near infrared rays. As a result, the optical film 3 diffuses and reflects the near-infrared light for illumination from the electronic pen transmitted through the dot pattern film 4 by the diffuse reflection film 5 and selects the diffusely reflected near-infrared light by the dot pattern of the dot pattern film 4. Absorb. As a result, the optical film 3 is configured so that the dot pattern formed by the dot pattern film 4 can be photographed on a bright background of near infrared light diffusely reflected by the diffuse reflection film 5, and the input coordinates are detected by reliably detecting the dot pattern. Configured to be able to. Further, since it is transparent in the visible light range, it is configured so that the input coordinates can be reliably detected without causing any obstacle to the image display by the image display panel 2.

〔ドットパターンフィルム〕
ここでドットパターンフィルム4は、可視光域では比較的透明であって、近赤外線を選択的に吸収するドット7を、透明フィルム材による基材8に印刷して形成され、これにより画像表示パネル2による画像表示には、何ら障害を与えることなく、電子ペンからの照明用の近赤外線をこのドットパターンにより吸収するように形成される。
[Dot pattern film]
Here, the dot pattern film 4 is formed by printing the dots 7 which are relatively transparent in the visible light range and selectively absorb near infrared rays on the base material 8 made of a transparent film material. The image display by 2 is formed so as to absorb the near-infrared light for illumination from the electronic pen by this dot pattern without causing any obstacle.

ここでこの基材8に係る透明フィルム材は、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム材、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム材、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム材等、画像表示パネル2のパネル面に配置される各種光学フィルムに適用される透明フィルム材を広く適用することができる。また近赤外線吸収剤は、可視光域で比較的透明であり、効率良く近赤外線を吸収することが可能な、かつ透明フィルム材に印刷可能な各種の材料を広く適用することができ、例えば、ジインモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、等の化合物を利用することができる。またドット7の印刷方法は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、フレキソ印刷法、グラビア印刷法、孔版印刷法、インキジェット印刷法等を適用することができる。なおドットパターンフィルム4は、必要に応じて最表面にハードコート層等の保護層が作製される。   Here, the transparent film material according to the substrate 8 is disposed on the panel surface of the image display panel 2 such as a TAC (triacetyl cellulose) film material, a COP (cycloolefin polymer) film material, or a PET (polyethylene terephthalate) film material. The transparent film material applied to various optical films can be widely applied. The near-infrared absorber is relatively transparent in the visible light range, can absorb various near-infrared rays efficiently, and can be widely applied to various materials that can be printed on a transparent film material. Diimonium-based, phthalocyanine-based, cyanine-based compounds and the like can be used. Moreover, the printing method of the dot 7 is not specifically limited, A well-known method can be used, For example, a flexographic printing method, a gravure printing method, a stencil printing method, an ink jet printing method etc. can be applied. In addition, as for the dot pattern film 4, protective layers, such as a hard-coat layer, are produced in the outermost surface as needed.

なお転写法、印刷等により、直接、拡散反射フィルム5の表面にドットパターンを作製することにより、基材8を省略するようにしてもよい。ここで転写法とは、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材(被転写基材)上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。   In addition, you may make it abbreviate | omit the base material 8 by producing a dot pattern on the surface of the diffuse reflection film 5 directly by the transfer method, printing, etc. Here, the transfer method means that, for example, when a desired layer is formed on a base material, the layer is not directly formed on the base material, but can be peeled once on a releasable support. After producing the transfer body by laminating the layers, according to the process, demand, etc., the layer formed on the support is finally placed on the substrate (transferred substrate) on which the layer is to be laminated. In this method, a desired layer is formed on the substrate by peeling and removing the support.

〔拡散反射フィルム〕
拡散反射フィルム5は、基材10の一方の面であるドットパターンフィルム4側の面に拡散反射層9が設けられ、基材10の他方の面に反射層11が設けられる。ここで拡散反射層9は、可視光域では透明であって、近赤外線を選択的に拡散反射する反射層である。これに対して反射層11は、可視光域では透明であって、近赤外線を選択的に反射する反射層である。拡散反射フィルム5は、基材10の一方の面が粗面Mにより形成され、この粗面Mに、直接、塗工液を塗工して乾燥、硬化してコレステリック液晶による液晶層が形成され、これにより拡散反射層9が作製される。また基材10の他方の面に、直接、拡散反射層9と同様の塗工液を塗工して乾燥、硬化してコレステリック液晶による液晶層が形成され、これにより反射層11が作製される。
[Diffusion reflection film]
In the diffuse reflection film 5, the diffuse reflection layer 9 is provided on the surface on the dot pattern film 4 side, which is one surface of the substrate 10, and the reflection layer 11 is provided on the other surface of the substrate 10. The diffuse reflection layer 9 is a reflection layer that is transparent in the visible light range and selectively diffusely reflects near infrared rays. On the other hand, the reflective layer 11 is transparent in the visible light region and is a reflective layer that selectively reflects near infrared rays. In the diffuse reflection film 5, one surface of the substrate 10 is formed by a rough surface M, and a coating liquid is directly applied to the rough surface M, followed by drying and curing, thereby forming a liquid crystal layer of cholesteric liquid crystal. Thereby, the diffuse reflection layer 9 is produced. Further, a coating liquid similar to that of the diffuse reflection layer 9 is directly applied to the other surface of the substrate 10 and dried and cured to form a liquid crystal layer of cholesteric liquid crystal, whereby the reflection layer 11 is produced. .

ここでコレステリック液晶による液晶層は、液晶材料がらせん構造(コレステリック構造)を有し、可視光域では透明であり、近赤外線を選択的に反射することが周知である。このような液晶材料による液晶層は、例えば特開2003−215342号公報に開示のように、配向層の配向規制力により液晶材料を配向させるようにして、この配向層を凹凸面上に作製することにより、液晶材料のらせん構造に係る中心軸方向(らせん軸方向)を種々に異ならせて近赤外線の拡散反射を図ることができる。しかしながらこのようにして拡散反射層を作製する場合には、配向層の構成が必要となり、構成、工程が複雑になるばかりでなく、らせん軸方向を極端に変動させると可視光領域で白濁して見えるようになることによりディスプレイ等への応用には難があることが分かった。   Here, it is well known that the liquid crystal layer made of cholesteric liquid crystal has a helical structure (cholesteric structure), is transparent in the visible light range, and selectively reflects near infrared rays. A liquid crystal layer made of such a liquid crystal material is produced on an uneven surface by aligning the liquid crystal material by the alignment regulating force of the alignment layer, as disclosed in, for example, JP-A-2003-215342. Accordingly, the near-infrared diffuse reflection can be achieved by variously changing the central axis direction (helical axis direction) related to the helical structure of the liquid crystal material. However, in the case of producing a diffuse reflection layer in this way, the configuration of the alignment layer is required, which not only complicates the configuration and process, but also causes the cloudiness in the visible light region if the spiral axis direction is extremely varied. It became clear that there was difficulty in application to a display etc. by becoming visible.

そこでこの実施形態において、拡散反射フィルム5は、基材10の表面を粗面Mとし、この粗面Mに直接コレステリック液晶の塗工液を塗工し、乾燥、硬化させて拡散反射層9が作製される。ここでこのように基材10に直接コレステリック液晶の塗工液を塗工して液晶層を作製する場合にあって、塗工面が平坦な面である場合、液晶層に係る液晶材料のらせん軸方向は、ほぼ法線方向を向いていることになる。   Therefore, in this embodiment, the diffuse reflection film 5 has the surface of the substrate 10 as a rough surface M, and a coating liquid of cholesteric liquid crystal is directly applied to the rough surface M, followed by drying and curing. Produced. Here, when the liquid crystal layer is prepared by directly applying the cholesteric liquid crystal coating liquid onto the substrate 10 in this way, and the coated surface is a flat surface, the helical axis of the liquid crystal material related to the liquid crystal layer The direction is almost in the normal direction.

しかしながら塗工面が粗面Mである場合、近赤外線に対して拡散反射性を示すことが判った。これは液晶材料のらせん軸方向が、粗面Mに応じた揺らぎを生じることによるもの、及び、粗面Mからの反射の影響と考えられる。これにより拡散反射フィルム5では、粗面を備えた基材10に、塗工液を塗工して液晶材料による液晶層を作製するだけの簡易な構成、工程により可視領域では透明で近赤外線を選択的に拡散反射できるように構成される。   However, when the coated surface is a rough surface M, it has been found that it exhibits diffuse reflectivity with respect to near infrared rays. This is considered to be due to the fact that the spiral axis direction of the liquid crystal material causes fluctuations according to the rough surface M and the influence of reflection from the rough surface M. As a result, the diffuse reflection film 5 is transparent in the visible region and emits near-infrared light by simply applying a coating liquid to the base material 10 having a rough surface to produce a liquid crystal layer made of a liquid crystal material. It is configured so that it can be selectively diffusely reflected.

特にこの実施形態では、基材10の他方の面にも、コレステリック液晶による反射層11が設けられていることにより、拡散反射フィルム5は、単純に、拡散反射層9のみを設ける場合に比して、可視光の透過を害することなく、より高い反射率により効率良く近赤外線を拡散反射することができる。   Particularly in this embodiment, since the cholesteric liquid crystal reflective layer 11 is also provided on the other surface of the base material 10, the diffuse reflective film 5 is simply compared with the case where only the diffuse reflective layer 9 is provided. Thus, it is possible to efficiently diffuse and reflect near infrared rays with a higher reflectance without impairing the transmission of visible light.

すなわちコレステリック液晶は、λ=n・p(λは波長、nは屈折率、pはらせん構造の繰り返しピッチ)で表される特定の波長領域λの右円偏光又は左円偏光を反射し、この反射に供する円偏光とは逆向きの左円偏光又は右円偏光を透過する光学的な性質を有している。従って、仮に、ドットパターンフィルム4側の拡散反射層9が特定の波長領域の右円偏光を反射する場合、左円偏光の入射光はこの拡散反射層9を透過することになる。しかしながら拡散反射フィルム5では、この透過した円偏光が反射層11により反射され、粗面M及び拡散反射層9で拡散することになり、これにより一段と近赤外線を拡散反射することができる。   That is, the cholesteric liquid crystal reflects right circularly polarized light or left circularly polarized light in a specific wavelength region λ represented by λ = n · p (λ is a wavelength, n is a refractive index, and p is a repeating pitch of a helical structure). It has the optical property of transmitting left circularly polarized light or right circularly polarized light that is opposite to the circularly polarized light that is used for reflection. Accordingly, if the diffuse reflection layer 9 on the dot pattern film 4 side reflects the right circularly polarized light in a specific wavelength region, the incident light of the left circularly polarized light is transmitted through the diffuse reflective layer 9. However, in the diffuse reflection film 5, the transmitted circularly polarized light is reflected by the reflective layer 11 and diffused by the rough surface M and the diffuse reflective layer 9, thereby further diffusely reflecting near infrared rays.

ここで拡散反射層9を透過して反射層11に入射する光は、基材10のリタデーションの値により偏光が変化する。従ってこの変化した偏光による入射光を効率良く反射するように、反射層11を構成することが望ましい。   Here, the light transmitted through the diffuse reflection layer 9 and incident on the reflection layer 11 is changed in polarization according to the retardation value of the substrate 10. Therefore, it is desirable to configure the reflective layer 11 so as to efficiently reflect the incident light due to the changed polarization.

具体的に、基材10のリタデーションの値が、値0又は特定波長λの整数倍近傍である場合に(nλ(nは0又は整数)の場合であり、例えば特定波長λが900nmの場合に、リタデーションの値が0nm近傍、900nm近傍、1800nm近傍、2700nm近傍、3600nm近傍、…の場合である)、拡散反射層9がこの特定の波長領域の右円偏光を反射する場合、反射層11は、この特定の波長領域の左円偏光を反射する光学的性質を有するものが好ましい。なおここで言う近傍とは、波長λの1/2以下の範囲であり、例えば波長λが900nmの場合は、900nm±450nmの範囲である。   Specifically, when the value of retardation of the substrate 10 is near 0 or an integer multiple of the specific wavelength λ (nλ (n is 0 or an integer)), for example, when the specific wavelength λ is 900 nm. When the diffuse reflection layer 9 reflects the right circularly polarized light in this specific wavelength region, the reflection layer 11 has a retardation value of around 0 nm, around 900 nm, around 1800 nm, around 2700 nm, around 3600 nm,. Those having the optical property of reflecting the left circularly polarized light in this specific wavelength region are preferable. Note that the vicinity here refers to a range of ½ or less of the wavelength λ. For example, when the wavelength λ is 900 nm, the range is 900 nm ± 450 nm.

また基材10のリタデーションの値が、λ/2+nλ(nは0又は整数)である場合に(例えば特定波長λが900nmの場合に、リタデーションの値が450nm近傍、1350nm近傍、2250nm近傍、……の場合である)、拡散反射層9がこの特定の波長領域の右円偏光を反射する場合、同様に、反射層11は、この特定の波長領域の右円偏光を反射する光学的性質を有するものが好ましい。   When the retardation value of the substrate 10 is λ / 2 + nλ (n is 0 or an integer) (for example, when the specific wavelength λ is 900 nm, the retardation value is around 450 nm, around 1350 nm, around 2250 nm,... In the case where the diffuse reflection layer 9 reflects the right circularly polarized light in this specific wavelength region, the reflective layer 11 similarly has an optical property of reflecting the right circularly polarized light in this specific wavelength region. Those are preferred.

またこのように反射層11に入射する拡散反射層9の透過光は、既に拡散反射層9、基材10の粗面Mにより拡散して入射することになり、これによっても反射層11の反射光は、拡散反射フィルム5の入射光に対して充分に拡散していることなり、これによっても拡散反射フィルム5は、効率良く近赤外線を拡散反射することができる。   Further, the transmitted light of the diffuse reflection layer 9 incident on the reflection layer 11 is already diffused and incident by the rough surface M of the diffuse reflection layer 9 and the base material 10, and this also reflects the reflection of the reflection layer 11. The light is sufficiently diffused with respect to the incident light of the diffuse reflection film 5, and the diffuse reflection film 5 can also efficiently diffuse and reflect near infrared rays.

さらにこの実施形態において、拡散反射フィルム5は、基材10の反射層11側である基材10の他方の面にあっても、拡散反射層9側面と同様の粗面Mにより形成され、これにより反射層11が、近赤外線を拡散反射する拡散反射層として機能するように構成される。このように他方の面側の反射層を拡散反射層として機能させることにより、拡散反射フィルム5は、一段と効率良く近赤外線を拡散反射することができる。   Furthermore, in this embodiment, the diffuse reflection film 5 is formed by the same rough surface M as the side surface of the diffuse reflection layer 9 even on the other surface of the base material 10 on the reflective layer 11 side of the base material 10. Thus, the reflection layer 11 is configured to function as a diffuse reflection layer that diffusely reflects near infrared rays. Thus, by making the reflective layer on the other surface side function as a diffuse reflective layer, the diffuse reflective film 5 can diffuse and reflect near infrared rays more efficiently.

なおこれにより実用上充分に拡散反射光量を確保できる場合には、基材10の他方の面を平滑面とし、反射層11を拡散反射層として機能させないようにしてもよい。   In this case, when a sufficient amount of diffusely reflected light can be secured in practice, the other surface of the substrate 10 may be a smooth surface and the reflective layer 11 may not function as a diffusely reflective layer.

ここで粗面Mは、粗さが荒すぎると、画像表示パネル2の表示画面が、にじんだように見て取られて、これにより表示画面の鮮明度が低下して画質が劣化する。これとは逆に、粗面Mに十分な粗さが確保されていない場合、近赤外領域での拡散反射の効率が低下することになり、この実施形態に係る電子ペン入力システムでは、撮像結果におけるドットパターンと背景とで十分な輝度比を確保できなくなり、入力座標の位置検出精度が低下することになる。   Here, when the roughness of the rough surface M is too rough, the display screen of the image display panel 2 is seen as blurred, thereby reducing the sharpness of the display screen and degrading the image quality. On the other hand, if the rough surface M does not have a sufficient roughness, the efficiency of diffuse reflection in the near-infrared region is reduced. In the electronic pen input system according to this embodiment, imaging is performed. As a result, a sufficient luminance ratio cannot be secured between the dot pattern and the background, and the position detection accuracy of the input coordinates is lowered.

これにより粗面Mの粗さは、算術平均粗さRaが0.01μm以上1μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.5μm以下であることが望ましい。またこの粗さは、十点平均粗さRzが0.05μm以上3μm以下、より好ましくは、0.1μm以上1.5μm以下であることが望ましい。なおこれら算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzは、JIS B 0601(1994)による。また粗面Mは、拡散反射層9側と反射層11側とで粗さを異ならせるようにしてもよい。   Accordingly, the roughness of the rough surface M is desirably an arithmetic average roughness Ra of 0.01 μm or more and 1 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.5 μm or less. The ten-point average roughness Rz is 0.05 μm or more and 3 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 1.5 μm or less. The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz are based on JIS B 0601 (1994). Further, the roughness of the rough surface M may be different between the diffuse reflection layer 9 side and the reflection layer 11 side.

ところで光学フィルム3は、この種の画像表示パネルに配置するフィルム材に要求されるヘイズ値を満足することも必要である。しかしながら拡散反射の効率を充分に確保する観点からは、粗面Mの粗さを充分に確保することが必要であり、その結果、光学フィルム3は、ヘイズ値が増大することになる。しかしながら粗面Mに塗工液を塗工して拡散反射層9、反射層11を作製する場合、基材10単体で計測した場合に比して粗面Mによるヘイズ値が低下することになる。これにより基材10は、ヘイズ値が80以下5以上により、好ましくは40以下5以上により、より好ましくは、20以下5以上により作製される。粗面Mに塗工液を塗工した後のヘイズ値は20以下1以上となるが、画像をより鮮明にしたい場合は、10以下0.5以上とした方がより好ましい。またこれにより拡散反射フィルム5は、可視光域(波長400nm以上750nm以下の範囲)において、直進光及び拡散光による透過率が80%以上に作成される。また法線に対して5度の角度で入射し、法線に対して60度の角度で受光した際の近赤外線の反射率が0.2%以上であるように作成される。   By the way, the optical film 3 also needs to satisfy the haze value required for the film material disposed in this kind of image display panel. However, from the viewpoint of sufficiently ensuring the efficiency of diffuse reflection, it is necessary to sufficiently secure the roughness of the rough surface M. As a result, the optical film 3 has an increased haze value. However, when the diffuse reflection layer 9 and the reflection layer 11 are produced by applying a coating solution to the rough surface M, the haze value due to the rough surface M is lower than when the base material 10 is measured alone. . Thereby, the base material 10 has a haze value of 80 or less and 5 or more, preferably 40 or less and 5 or more, and more preferably 20 or less and 5 or more. The haze value after coating the coating liquid on the rough surface M is 20 or less and 1 or more, but when it is desired to make the image clearer, it is more preferably 10 or less and 0.5 or more. Thereby, the diffuse reflection film 5 is made to have a transmittance of 80% or more due to straight light and diffused light in the visible light region (wavelength range of 400 nm to 750 nm). In addition, the reflectance is 0.2% or more when incident at an angle of 5 degrees with respect to the normal and received at an angle of 60 degrees with respect to the normal.

なおこのように塗工面を粗面とすることにより、拡散反射層9、反射層11に係る塗工液を塗工する際の、塗工液のハジキも低減することができる。   In addition, by making a coating surface into a rough surface in this way, the repellency of the coating liquid at the time of coating the coating liquid which concerns on the diffuse reflection layer 9 and the reflection layer 11 can also be reduced.

〔基材〕
ここでこの基材10に係る透光性フィルム材は、TAC(トリアセチルセルロース)フィルム材、COP(シクロオレフィンポリマー)フィルム材、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム材等、画像表示パネル2のパネル面に配置される各種光学フィルムに適用される透光性フィルム材を広く適用することができる。
〔Base material〕
Here, the translucent film material according to the substrate 10 is a TAC (triacetyl cellulose) film material, a COP (cycloolefin polymer) film material, a PET (polyethylene terephthalate) film material, or the like on the panel surface of the image display panel 2. The translucent film material applied to the various optical films to be disposed can be widely applied.

基材10に係る粗面Mにあっては、サンドブラストによる粗面化処理による場合、表面に粗面Mに対応する微細凹凸形状を作製してなる平板、ロール版等に基材を加熱押圧して粗面を作製する場合、エッチングによる場合等、種々の粗面化処理を広く適用することができる。なおエッチングによる粗面化処理は、例えばPETフィルムをアルカリ溶液によりエッチング処理する場合(いわゆるケミカルエッチングである)に代表される。また基材10を構成する樹脂に、フィラーを混入することにより粗面Mを作製するようにしてもよい。   In the rough surface M according to the base material 10, in the case of roughening treatment by sandblasting, the base material is heated and pressed on a flat plate, a roll plate, or the like formed on the surface with a fine uneven shape corresponding to the rough surface M. In the case of producing a rough surface, various roughening treatments can be widely applied, for example, by etching. The roughening treatment by etching is represented by, for example, the case of etching a PET film with an alkaline solution (so-called chemical etching). Moreover, you may make it produce the rough surface M by mixing a filler in resin which comprises the base material 10. FIG.

またこのような基材表面の直接の粗面化処理に代えて、粗面を備えた粗面層を設けるようにしてもよい。ここでこのような粗面層は、賦型樹脂層を使用した賦型処理により作製することができる。またこのような粗面層は、反射防止フィルムに適用される各種の反射防止層を適用することができる。より具体的に、このような粗面を備えた反射防止層としては、エンボス加工による場合、透光性の微粒子の混入により表面を粗面とする場合、塗工液中の固体成分の凝集により表面を凹凸形状とする場合(いわゆるケミカルマット面である)、微細な凹部を多数設けた板状またはロール状金型に紫外線硬化型樹脂を塗布した基材を押し付けて凹部形状を凸部形状として転写する方法(いわゆる賦形)等、各種の手法を広く適用することができる。   Moreover, it may replace with such a direct roughening process of the base-material surface, and you may make it provide the rough surface layer provided with the rough surface. Here, such a rough surface layer can be produced by a shaping process using a shaping resin layer. In addition, various types of antireflection layers applied to the antireflection film can be applied to such a rough surface layer. More specifically, as an antireflection layer having such a rough surface, in the case of embossing, when the surface is roughened by mixing light-transmitting fine particles, the solid component in the coating liquid is agglomerated. When making the surface uneven (so-called chemical matte surface), press the substrate coated with UV curable resin on a plate-shaped or roll-shaped mold with a lot of fine recesses to make the recess shape convex Various methods such as a transfer method (so-called shaping) can be widely applied.

〔拡散反射層〕
拡散反射層9は、対応する塗工液を塗工、乾燥、硬化して作製される。ここで拡散反射層9は、厚みが薄い場合には、粗面Mに係る微細凹凸形状がその表面に現れ易くなり、その結果、画像表示パネル2の表示画面が、にじんだように見て取られて、これにより表示画面の鮮明度が低下して画質が劣化する。これとは逆に、厚みが厚すぎる場合には、拡散反射の効率が低下することになり、この実施形態に係る電子ペン入力システムでは、入力座標の位置検出精度が低下することになる。そこで拡散反射層9は、厚み0.5μm以上20μm以下により、より好ましくは1μm以上10μm以下、更に好ましくは1μm以上5μm以下により作製される。
(Diffuse reflection layer)
The diffuse reflection layer 9 is produced by coating, drying and curing a corresponding coating solution. Here, when the diffuse reflection layer 9 is thin, the fine uneven shape related to the rough surface M is likely to appear on the surface, and as a result, the display screen of the image display panel 2 is seen as blurred. As a result, the sharpness of the display screen decreases and the image quality deteriorates. On the other hand, if the thickness is too thick, the efficiency of diffuse reflection will decrease, and the position detection accuracy of the input coordinates will decrease in the electronic pen input system according to this embodiment. Therefore, the diffuse reflection layer 9 is formed with a thickness of 0.5 μm to 20 μm, more preferably 1 μm to 10 μm, and still more preferably 1 μm to 5 μm.

拡散反射層9は、近赤外線波長域の電磁波を反射する組成物からなり、この組成物は、ネマチック規則性を有するネマチック液晶と、このネマチック液晶に対して旋回性を有するカイラル剤とを含有する。またこの組成物は、レベリング剤、重合開始剤、添加剤等を含有してもよい。   The diffuse reflection layer 9 is made of a composition that reflects electromagnetic waves in the near-infrared wavelength region, and this composition contains a nematic liquid crystal having nematic regularity and a chiral agent having a turning property with respect to the nematic liquid crystal. . Further, the composition may contain a leveling agent, a polymerization initiator, an additive and the like.

(ネマチック液晶)
ネマチック液晶は、ネマチック液晶構造を形成し得る液晶材料であれば特に限定されるものではないが、硬化後に光学的に安定した拡散反射層を得られる点で、分子の片末端又は両末端に重合性の官能基を有する液晶材料が好ましい。両末端に重合性の官能基を有する液晶材料は加熱時の信頼性が良好になる点で優れているが、コーティングして溶媒を蒸発させて硬化(架橋)させる前の液晶相の温度範囲を広げられる点で、片末端に重合性の官能基を有する液晶材料と両末端に重合性の官能基を有する液晶材料の混合材料とすることが量産性を考慮すると好ましい。
(Nematic liquid crystal)
The nematic liquid crystal is not particularly limited as long as it is a liquid crystal material capable of forming a nematic liquid crystal structure, but it is polymerized at one or both ends of the molecule in that an optically stable diffuse reflection layer can be obtained after curing. A liquid crystal material having a functional group is preferable. A liquid crystal material having a polymerizable functional group at both ends is excellent in that the reliability upon heating is good, but the temperature range of the liquid crystal phase before coating and evaporating the solvent to cure (crosslink) In view of mass productivity, it is preferable to use a mixed material of a liquid crystal material having a polymerizable functional group at one end and a liquid crystal material having a polymerizable functional group at both ends.

このような液晶材料として、例えば、下記の一般式(1)で表わされる化合物のほか、下記の式(2−i)〜(2−xii)で表される化合物を挙げることができる。また、これらの化合物を単独で、もしくは混合して用いることができる。

Figure 2016145948

Figure 2016145948
Examples of such a liquid crystal material include compounds represented by the following formulas (2-i) to (2-xii) in addition to the compounds represented by the following general formula (1). These compounds can be used alone or in combination.
Figure 2016145948

Figure 2016145948

上記一般式(1)において、R1及びR2はそれぞれ水素又はメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからR1及びR2はともに水素であることが好ましい。Xは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜4のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、ニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素又はメチル基であることが好ましい。また、上記一般式(1)において、分子鎖両端の(メタ)アクリロイロキシ基と芳香環とのスペーサーであるアルキレン基の鎖長を示すa及びbは、それぞれ個別に2〜12の範囲で任意の整数をとり得るが、4〜10の範囲であることが好ましく、6〜9の範囲であることがさらに好ましい。a=b=0である場合、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。また、a又はbのいずれかが13以上である場合、アイソトロピック転移温度(TI)が低いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。   In the general formula (1), R1 and R2 each represent hydrogen or a methyl group, but it is preferable that both R1 and R2 are hydrogen because of the wide temperature range showing the liquid crystal phase. X may be hydrogen, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methoxy group, a cyano group, or a nitro group, but is preferably a chlorine or methyl group. Moreover, in the said General formula (1), a and b which show the chain length of the alkylene group which is a spacer of the (meth) acryloyloxy group and aromatic ring of both ends of a molecular chain are arbitrary in the range of 2-12, respectively. Although it can take an integer, it is preferably in the range of 4 to 10, and more preferably in the range of 6 to 9. If a = b = 0, the stability is poor, the compound is easily hydrolyzed, and the compound itself has high crystallinity, which is not preferable because the temperature range showing the liquid crystal phase is narrow. Further, when either a or b is 13 or more, the isotropic transition temperature (TI) is low, which is not preferable in that the temperature range showing the liquid crystal phase is narrow.

(カイラル剤)
カイラル剤は、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、主として分子量1500以下の化合物である。カイラル剤は主として、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が発現する正の一軸ネマチック規則性にらせん構造を誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間で溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望のらせん構造を誘起できるものであれば、カイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されない。
(Chiral agent)
A chiral agent is a low molecular compound having an optically active site, and is mainly a compound having a molecular weight of 1500 or less. The chiral agent is mainly used for the purpose of inducing a helical structure in the positive uniaxial nematic regularity exhibited by the polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity. As long as this purpose is achieved, it is compatible with a polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity in a solution state or a molten state, without impairing the liquid crystal property of the polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity, The kind of the low molecular compound as the chiral agent is not particularly limited as long as it can induce a desired helical structure.

なお、このようにして液晶にらせん構造を誘起させるために用いられるカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティーを有していることが必要である。従って、ここで用いられるカイラル剤としては、例えば1つあるいは2つ以上の不斉炭素を有する化合物、キラルなアミンやキラルなスルフォキシド等のようにヘテロ原子上に不斉点がある化合物、あるいはクムレンやビナフトール等の軸不斉を持つ光学活性な部位を有する化合物が挙げられる。   Note that the chiral agent used for inducing the helical structure in the liquid crystal in this way needs to have at least some chirality in the molecule. Accordingly, the chiral agent used herein includes, for example, a compound having one or more asymmetric carbons, a compound having an asymmetric point on a heteroatom such as a chiral amine or a chiral sulfoxide, or cumulene. And compounds having an optically active site having axial asymmetry such as binaphthol.

しかしながら、選択されたカイラル剤の性質によっては、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が形成するネマチック規則性の破壊、配向性の低下、あるいはカイラル剤が非重合性の場合には、液晶材料の硬化性の低下や、硬化後のフィルムの信頼性の低下を招くおそれがある。さらに、光学活性な部位を有するカイラル剤の多量な使用は、液晶材料のコストアップを招く。従って、短いらせんピッチ長のコレステリック規則性を有する選択反射層を形成する場合には、液晶材料に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤としては、らせん構造を誘起させる効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には下記の一般式(3)、(4)、(5)、(6)、(7)又は(8)で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。

Figure 2016145948
Figure 2016145948
However, depending on the nature of the selected chiral agent, the nematic regularity formed by the polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity, the degradation of orientation, or the liquid crystal material when the chiral agent is non-polymerizable There is a risk of lowering the curability of the film and lowering the reliability of the cured film. Further, the use of a large amount of a chiral agent having an optically active site causes an increase in the cost of the liquid crystal material. Therefore, when forming a selective reflection layer having a cholesteric regularity with a short helical pitch length, a chiral agent having a large effect of inducing a helical structure is selected as a chiral agent having an optically active site to be contained in the liquid crystal material. Specifically, axial asymmetry is represented in the molecule as represented by the following general formula (3), (4), (5), (6), (7) or (8). It is preferable to use a low molecular weight compound.
Figure 2016145948
Figure 2016145948

上記一般式(3)又は(4)において、R4は水素又はメチル基を示す。Yは下記に示す式(i)〜(xxiv)の任意の一つであるが、中でも、式(i)、(ii)、(iii)、(v)及び(vii)のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すc及びdは、それぞれ個別に2〜12の範囲で任意の整数をとり得るが、4〜10の範囲であることが好ましく、6〜9の範囲であることがさらに好ましい。c又はdの値が0又は1である場合、安定性に欠け、加水分解を受けやすく、結晶性も高いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。一方、c又はdの値が13以上である場合、融点(Tm)が低いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。

Figure 2016145948
Figure 2016145948
In the general formula (3) or (4), R4 represents hydrogen or a methyl group. Y is any one of formulas (i) to (xxiv) shown below, and among them, any one of formulas (i), (ii), (iii), (v) and (vii) Preferably there is. Moreover, although c and d which show the chain length of an alkylene group can each take arbitrary integers in the range of 2-12, it is preferable that it is the range of 4-10, and is the range of 6-9. Is more preferable. When the value of c or d is 0 or 1, since it lacks stability, is susceptible to hydrolysis, and has high crystallinity, compatibility with a polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity decreases, Depending on the concentration, phase separation is not preferable. On the other hand, when the value of c or d is 13 or more, the melting point (Tm) is low, so the compatibility with the polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity is lowered, and phase separation may occur depending on the concentration. This is not preferable.
Figure 2016145948
Figure 2016145948

このようなカイラル剤は、特に重合性を有する必要はない。しかしながら、カイラル剤が重合性を有している場合、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料と重合され、コレステリック規則性が安定的に固定化されるので、熱安定性等の点で好ましい。特に、分子の両末端に重合性の官能基があることが、耐熱性の良好な選択反射層を得る上で好ましい。   Such a chiral agent is not particularly required to have polymerizability. However, when the chiral agent has polymerizability, it is polymerized with a polymerizable liquid crystal material exhibiting nematic regularity, and the cholesteric regularity is stably fixed, which is preferable in terms of thermal stability and the like. In particular, it is preferable to have a polymerizable functional group at both ends of the molecule in order to obtain a selective reflection layer having good heat resistance.

(レベリング剤)
レベリング剤は、液晶材料のコレステリック構造の形成を促すために用いられる。レベリング剤は、拡散反射層において液晶材料のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物等を挙げることができる。レベリング剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン社製のBYK−361N、AGCセイケミカル社製のS−241等を用いることができる。なお、レベリング剤は、1種類であってもよいし、2種類以上であってもよい。
(Leveling agent)
The leveling agent is used to promote the formation of a cholesteric structure of the liquid crystal material. The leveling agent is not particularly limited as long as it can promote the cholesteric alignment of the liquid crystal material in the diffuse reflection layer, and examples thereof include a silicon compound, a fluorine compound, and an acrylic compound. As a commercially available leveling agent, BYK-361N manufactured by Big Chemie Japan, S-241 manufactured by AGC Seikagaku Co., etc. can be used. The leveling agent may be one kind or two or more kinds.

レベリング剤の含有量は、液晶材料のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、組成物100質量部に対して0.01質量部以上5.0質量部以下であることが好ましく、0.03質量部以上1.0質量部以下であることがより好ましい。0.01質量部未満であると、コレステリック構造を所望の規則性で得られないため、好ましくない。5.0質量部を超えると、コレステリック構造が所望の規則性で得られないために、好ましくない。   The content of the leveling agent is not particularly limited as long as it is within a range in which the cholesteric structure of the liquid crystal material can be formed with a desired regularity, but 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the composition. The content is preferably 0 part by mass or less, and more preferably 0.03 part by mass or more and 1.0 part by mass or less. If it is less than 0.01 parts by mass, the cholesteric structure cannot be obtained with the desired regularity, which is not preferable. If it exceeds 5.0 parts by mass, the cholesteric structure cannot be obtained with the desired regularity, which is not preferable.

(重合開始剤)
重合開始剤は、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするために用いられる。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択すればよい。重合開始剤として、光重合開始剤及び熱重合開始剤等を挙げることができる。また重合開始剤を含有させる場合、重合開始剤の量は、所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is used to crosslink a liquid crystal material in which a cholesteric structure is formed by the action of a chiral agent and a leveling agent while maintaining the cholesteric structure so that the cholesteric structure is hardly disturbed. The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can accelerate the polymerization reaction of the liquid crystal material, and may be appropriately selected according to the type of energy to be irradiated. Examples of the polymerization initiator include a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator. Moreover, when a polymerization initiator is contained, the amount of the polymerization initiator is not particularly limited as long as a desired polymerization reaction occurs, and may be appropriately determined.

(溶媒)
また、液晶材料、カイラル剤、レベリング剤、重合開始剤を分散させるため、通常、組成物は溶媒に分散されている。溶媒は、上記の成分を分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノン等を挙げることができるが、乾燥速度を向上させるためにトルエン、MEK、MIBK等の溶媒を適宜混合させても良い。
(solvent)
Further, in order to disperse the liquid crystal material, the chiral agent, the leveling agent, and the polymerization initiator, the composition is usually dispersed in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can disperse the above-mentioned components, and examples thereof include cyclohexanone. In order to improve the drying speed, a solvent such as toluene, MEK, MIBK or the like is appropriately mixed. You may let them.

〔反射層〕
反射層11は、この実施形態に係る拡散反射フィルム5においては、拡散反射層として機能させることにより、拡散反射層9と同一に、直接、基材10の粗面Mに塗工液を塗工した後、乾燥、硬化して作製される。なおこれにより拡散反射層9と同一の塗工液により作製することにより工程管理を簡略化することができるものの、拡散反射フィルム5においては、拡散反射層9を作製した後、反射層11を作製することになることにより、又はこれとは逆に反射層11を作製した後、拡散反射層9を作製することになることにより、作製工程に応じて種々に塗工液を調整して、製造過程における拡散反射層9、反射層11の傷つき等を低減することができる。また上述した拡散反射層11の透過光を効率良く反射する観点より、拡散反射層11と異なる材料により作製してもよい。
(Reflective layer)
In the diffuse reflection film 5 according to this embodiment, the reflective layer 11 functions as a diffuse reflective layer, so that the coating liquid is directly applied to the rough surface M of the substrate 10 in the same manner as the diffuse reflective layer 9. And then dried and cured. In addition, although process control can be simplified by producing with the same coating liquid as the diffuse reflection layer 9 by this, in the diffuse reflection film 5, after producing the diffuse reflection layer 9, the reflection layer 11 is produced. By manufacturing the reflective layer 11 or, on the contrary, by manufacturing the diffusive reflective layer 9, the coating liquid can be variously adjusted according to the manufacturing process, and manufactured. The damage of the diffuse reflection layer 9 and the reflection layer 11 in the process can be reduced. Moreover, you may produce with the material different from the diffuse reflection layer 11 from a viewpoint of reflecting the transmitted light of the diffuse reflection layer 11 mentioned above efficiently.

なお基材10の他方の面を平滑面により作成して、反射層11に拡散反射機能を付与しない場合でも、反射率を増大させる上で、反射層11は、好ましくは厚み0.5μm以上20μm以下により、より好ましくは1μm以上10μm以下により、更に好ましくは1μm以上5μm以下により作製される。   Even when the other surface of the substrate 10 is made of a smooth surface and the reflective layer 11 is not given a diffuse reflection function, the reflective layer 11 preferably has a thickness of 0.5 μm or more and 20 μm in order to increase the reflectance. It is produced by the following, more preferably from 1 μm to 10 μm, and still more preferably from 1 μm to 5 μm.

〔製造工程〕
光学フィルム3は、次の工程を経て製造される。
〔Manufacturing process〕
The optical film 3 is manufactured through the following steps.

〔ドットパターンフィルムの製造工程〕
(ドットパターン印刷工程)
この製造工程は、ロールにより提供される長尺フィルム形状による基材10をロールより引き出して搬送しながら、例えば、フレキソ印刷法、グラビア印刷法、孔版印刷法、インキジェット印刷法等により、ドットパターンを印刷する。また必要に応じてハードコート層等の保護層を作製した後、ロールに巻き取って次工程に搬送する。
[Manufacturing process of dot pattern film]
(Dot pattern printing process)
This manufacturing process is performed by, for example, using a flexographic printing method, a gravure printing method, a stencil printing method, an ink jet printing method, etc. To print. Moreover, after producing protective layers, such as a hard-coat layer, as needed, it winds up on a roll and conveys to the following process.

〔拡散反射フィルムの製造工程〕
(粗面作製工程)
この製造工程は、ロールにより提供される長尺フィルム形状による基材10をロールより引き出して搬送しながら、例えばサンドブラスト処理により基材10の両面を粗面化する。なお表面に粗面Mに対応する微細凹凸形状を作製してなる平板、ロール版等に基材を加熱押圧して粗面を作製する場合、エッチングによる場合等にあっては、サンドブラスト処理に代えて、これらの処理が施される。また粗面層を作製する場合には、上述した各種の構成に対応する材料による塗工液を塗工、乾燥、硬化する工程が、サンドブラスト処理に代えて実行される。またこれら粗面化手法に応じて、製造工程は、同時に両面を粗面化処理し、また粗面化処理に応じて片面ずつ粗面化処理し、又は拡散反射層9又は反射層11を作製した後、基材10の残りの面を粗面化処理する。また反射層11を拡散反射層として機能させない場合、製造工程は、基材10の一方の面のみ、粗面化処理する。
[Manufacturing process of diffuse reflection film]
(Rough surface production process)
This manufacturing process roughens both surfaces of the base material 10 by, for example, sandblasting, while the base material 10 having a long film shape provided by the roll is pulled out from the roll and conveyed. In addition, in the case of producing a rough surface by heating and pressing a substrate on a flat plate, a roll plate or the like formed with a fine uneven shape corresponding to the rough surface M on the surface, in the case of etching, etc., it is replaced with a sand blast treatment. Thus, these processes are performed. Moreover, when producing a rough surface layer, the process of coating, drying, and hardening the coating liquid by the material corresponding to the various structure mentioned above is performed instead of a sandblasting process. Further, according to these roughening methods, the manufacturing process simultaneously roughens both surfaces, and roughens one surface at a time according to the roughening treatment, or produces the diffuse reflection layer 9 or the reflective layer 11. Then, the remaining surface of the substrate 10 is roughened. Moreover, when not making the reflective layer 11 function as a diffuse reflection layer, a manufacturing process roughens only one surface of the base material 10. FIG.

(液晶層作製工程(拡散反射層作製工程))
続いて光学フィルム3の製造工程は、拡散反射層9に係る塗工液を塗工した後、乾燥硬化して拡散反射層9を作製する。ここで塗工液の塗工には、種々の塗工方法を広く適用することができ、例えば、スロットダイコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。
(Liquid crystal layer production process (diffuse reflection layer production process))
Then, the manufacturing process of the optical film 3 applies the coating liquid which concerns on the diffuse reflection layer 9, Then, it dries and hardens and the diffuse reflection layer 9 is produced. Here, various coating methods can be widely applied to the coating liquid coating, for example, slot die coating method, roll coating method, bar coating method, spin coating method, blade coating method and the like. it can.

ここで塗工後の乾燥は、塗工液に含まれる溶媒を除去するために行われるが、乾燥の温度によって、分光曲線が変化する。乾燥温度が低温であれば溶媒の蒸発が十分でなくなるばかりでなく液晶配向状態が不完全な状態となる。一方、乾燥温度が高温であるとコレステリック相が等方相に移行してしまう。従って目的とする特性を確保する観点より、乾燥温度は、65℃を超えて120℃未満であることが好ましく、70℃を超えて100℃未満であることがより好ましい。   Here, drying after coating is performed in order to remove the solvent contained in the coating liquid, but the spectral curve changes depending on the drying temperature. If the drying temperature is low, not only the solvent is not sufficiently evaporated, but the liquid crystal alignment state is incomplete. On the other hand, when the drying temperature is high, the cholesteric phase shifts to an isotropic phase. Therefore, the drying temperature is preferably more than 65 ° C. and less than 120 ° C., more preferably more than 70 ° C. and less than 100 ° C. from the viewpoint of securing the intended characteristics.

乾燥後の硬化は、電磁波の照射により実行され、より具体的には紫外線の照射により実行され、この照射によるカイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。   Curing after drying is performed by irradiation with electromagnetic waves, more specifically by irradiation with ultraviolet rays. A liquid crystal material that has formed a cholesteric structure by the action of a chiral agent and a leveling agent by this irradiation maintains the cholesteric structure. This is because the cholesteric structure is hardly disturbed by crosslinking as it is.

電磁波は、波長200〜450nmの波長域の光が好ましく、波長300〜450nmの波長域の光がより好ましい。この光を供給する光源は、特に限定されるものではなく、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、炭素アーク灯、水銀蒸気アーク、蛍光ランプ、アルゴングローランプ、ハロゲンランプ、白熱ランプ、低圧水銀灯、フラッシュUVランプ、ディープUVランプ、キセノンランプ、タングステンフィラメントランプ、太陽光等が挙げられる。これらの光源を用い、積算光量が25mJ/cm2〜800mJ/cm2、好ましくは25mJ/cm2〜400mJ/cm2、より好ましくは50mJ/cm2〜200mJ/cm2の範囲となるように光を照射することにより、拡散反射層9を硬化させることができる。積算光量が25mJ/cm2未満であると、液晶材料の重合が不十分になり、結果として液晶材料のコレステリック構造が乱され得るため、好ましくない。800mJ/cm2を超えると、レベリング剤が拡散反射層の表面に表れる可能性があるため、好ましくない。   The electromagnetic wave is preferably light having a wavelength range of 200 to 450 nm, and more preferably light having a wavelength range of 300 to 450 nm. The light source for supplying this light is not particularly limited. For example, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a mercury vapor arc, a fluorescent lamp, an argon glow lamp, a halogen lamp, an incandescent lamp, a low pressure mercury lamp, a flash Examples thereof include a UV lamp, a deep UV lamp, a xenon lamp, a tungsten filament lamp, and sunlight. By using these light sources and irradiating light so that the integrated light amount is in the range of 25 mJ / cm2 to 800 mJ / cm2, preferably 25 mJ / cm2 to 400 mJ / cm2, more preferably 50 mJ / cm2 to 200 mJ / cm2, The diffuse reflection layer 9 can be cured. If the integrated light amount is less than 25 mJ / cm 2, the polymerization of the liquid crystal material becomes insufficient, and as a result, the cholesteric structure of the liquid crystal material can be disturbed, which is not preferable. If it exceeds 800 mJ / cm 2, the leveling agent may appear on the surface of the diffuse reflection layer, which is not preferable.

(反射層作製工程)
続いて製造工程は、基材10の他方の面に、拡散反射層9と同様にして、反射層11に係る塗工液を直接塗工した後、乾燥硬化して反射層11を作製する。なおこのとき、上述したように、製造工程は、必要に応じて事前に粗面化処理を実行する。
(Reflection layer production process)
Subsequently, in the manufacturing process, the coating liquid related to the reflective layer 11 is directly applied to the other surface of the substrate 10 in the same manner as the diffuse reflective layer 9, and then dried and cured to produce the reflective layer 11. At this time, as described above, in the manufacturing process, a roughening process is performed in advance as necessary.

なおこのように拡散反射層9を作製した後、反射層11を作製する構成に代えて、これとは逆に反射層11を作製した後、拡散反射層9を作製するようにしてもよい。   In addition, after manufacturing the diffuse reflection layer 9 in this way, instead of the configuration in which the reflective layer 11 is manufactured, the reflective layer 11 may be manufactured and then the diffuse reflection layer 9 may be manufactured.

(積層工程)
ドットパターンフィルムの製造工程で作製されたドットパターンフィルムと、拡散反射フィルムの製造工程で作製された拡散反射フィルムとを搬送しながら一方のフィルム材に紫外線硬化性樹脂の塗工液を塗工して乾燥した後、積層し、紫外線の照射により一体化する。その後、画像表示パネル2への配置に供する接着剤層を作製した後、セパレータフィルムを配置し、所望の大きさに切断して光学フィルム3を作製する。
(Lamination process)
While transporting the dot pattern film produced in the manufacturing process of the dot pattern film and the diffuse reflection film produced in the manufacturing process of the diffuse reflection film, the coating liquid of the ultraviolet curable resin is applied to one film material. After drying, they are laminated and integrated by irradiation with ultraviolet rays. Then, after producing the adhesive bond layer used for arrangement | positioning to the image display panel 2, a separator film is arrange | positioned, it cuts to a desired magnitude | size, and the optical film 3 is produced.

これらにより光学フィルム3においては、単に粗面を作製した透光性フィルム材に、コレステリック液晶による液晶層を作製するだけで、近赤外線のみを選択的に拡散反射する透明の拡散反射フィルムを作製することができ、これにより従来に比して簡易な構成、工程により、ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用可能な光学フィルムを提供することができる。   As a result, in the optical film 3, a transparent diffuse reflection film that selectively diffuses and reflects only near infrared rays is produced simply by producing a liquid crystal layer of cholesteric liquid crystal on a transparent film material having a rough surface. Accordingly, it is possible to provide an optical film applicable to a data input system of a type in which handwriting is directly performed on the screen of the display device with a simpler configuration and process than in the past.

以下に、光学フィルム3を構成する拡散反射フィルム5の実施例及び比較例を詳述するものの、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   Although the Example and comparative example of the diffuse reflection film 5 which comprise the optical film 3 are explained in full detail below, this invention is not limited to a following example.

〔比較例1〕
この比較例1は、基材10に拡散反射層9のみを作製し、反射層11を作製していない構成であり、拡散反射層9による拡散反射の確認に供するために作成した。
[Comparative Example 1]
The comparative example 1 is a configuration in which only the diffuse reflection layer 9 is prepared on the base material 10 and the reflection layer 11 is not prepared, and was prepared for confirmation of diffuse reflection by the diffuse reflection layer 9.

[塗工液の調製]
両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンとアクリレートとの間にスペーサーを有する液晶材料95.3質量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有する右旋回性のカイラル剤(商品名:CNL-715,ADEKA社製)4.03質量部とをシクロヘキサノン溶液500質量部に溶解させて、拡散反射層の作製に供する塗工液を作製した。このとき、シクロヘキサノン溶液は、液晶性モノマー分子及びカイラル剤の合計100質量部に対して5.0質量部の光重合開始剤(商品名:イルガキュア184,BASF社製)と、液晶性モノマー分子及びカイラル剤の合計100質量部に対して0.03質量部のレベリング剤(商品名:BYK−361N,固形分:30質量%,ビックケミー・ジャパン社製)とを含んでいた。
[Preparation of coating solution]
95.3 parts by mass of a liquid crystal material having a polymerizable acrylate at both ends and a spacer between the mesogen and acrylate at the center, and a right-turning chiral agent having a polymerizable acrylate at both ends ( (Product name: CNL-715, manufactured by ADEKA) 4.03 parts by mass was dissolved in 500 parts by mass of the cyclohexanone solution to prepare a coating solution for use in preparing the diffuse reflection layer. At this time, the cyclohexanone solution contains 5.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF), 100 parts by mass of the liquid crystal monomer molecules and the chiral agent, and the liquid crystal monomer molecules and It contained 0.03 parts by mass of a leveling agent (trade name: BYK-361N, solid content: 30% by mass, manufactured by Big Chemie Japan) with respect to 100 parts by mass of the chiral agent in total.

なお塗工液の塗工に供した液晶材料は、下記の構造式により表される化合物を使用した。

Figure 2016145948
In addition, the compound represented by the following structural formula was used for the liquid-crystal material used for coating of the coating liquid.
Figure 2016145948

またカイラル剤は、下記の構造式により表される化合物である。

Figure 2016145948
The chiral agent is a compound represented by the following structural formula.
Figure 2016145948

[拡散反射層の形成]
続いて、バーコーターを用いて、片面が粗面であるPETフィルムによる基材(算術平均粗さRa0.43μm、十点平均粗さRz4.1μm、ヘイズ値77.1、厚み50μm)上に、硬化後の膜厚が4μmとなるように上記の塗工液を塗布した。なおこの粗面はサンドブラスト処理によるものである。次いで、この塗工液に含まれるシクロヘキサノンを80℃、2分間の条件で蒸発させて乾燥した後、紫外線照射装置「Hバルブ」(フュージョン社製)を用いて積算光量が50mJ/cm2になるように紫外線を照射することで、液晶材料とカイラル剤とを3次元架橋してポリマー化し、拡散反射層を形成した。なお、積算光量の測定は、紫外線光量計「UV−351」(オーク製作所社製)を用いてJIS R1709法にしたがって測定した。なお拡散反射層の作製によりコーティング面の算術平均粗さRaは0.032μmまで低下しており、ヘイズ値も18.3まで低下していた。なおヘイズ値は、ISO 14782 (JIS K7136)の規定により計測した。
[Formation of diffuse reflection layer]
Subsequently, using a bar coater, on a base material (arithmetic average roughness Ra 0.43 μm, ten-point average roughness Rz 4.1 μm, haze value 77.1, thickness 50 μm) with a PET film having a rough surface on one side, The coating solution was applied so that the film thickness after curing was 4 μm. This rough surface is due to sandblasting. Next, after cyclohexanone contained in this coating solution is evaporated at 80 ° C. for 2 minutes and dried, the integrated light quantity is adjusted to 50 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device “H bulb” (manufactured by Fusion). By irradiating with UV rays, the liquid crystal material and the chiral agent were three-dimensionally cross-linked and polymerized to form a diffuse reflection layer. In addition, the measurement of the integrated light quantity was measured according to JIS R1709 method using the ultraviolet light quantity meter "UV-351" (made by Oak Manufacturing Co., Ltd.). Note that the arithmetic average roughness Ra of the coating surface was reduced to 0.032 μm and the haze value was also reduced to 18.3 due to the production of the diffuse reflection layer. The haze value was measured in accordance with ISO 14782 (JIS K7136).

<反射率の測定>
図3は、拡散反射フィルム5の計測結果を示す図である。符号LTは全透過光(直進光及び拡散透過光)による透過率であり、符号LRは、全反射光(正反射光及び拡散反射光)による反射率であり、この計測結果から拡散反射フィルム5が可視光域では透明であり、近赤外線で選択的に反射率が増大することが判る。正反射を含む拡散反射率LRは、紫外可視分光光度計「V−670」(日本分光株式会社)に積分球ユニット「ISN−723」(日本分光株式会社製)を装着して測定した。
<Measurement of reflectance>
FIG. 3 is a diagram showing a measurement result of the diffuse reflection film 5. The symbol LT is the transmittance by the total transmitted light (straight-ahead light and diffuse transmitted light), and the symbol LR is the reflectance by the total reflected light (regular reflected light and diffuse reflected light). From this measurement result, the diffuse reflection film 5 However, it is transparent in the visible light region, and it can be seen that the reflectance selectively increases in the near infrared. The diffuse reflectance LR including regular reflection was measured by attaching an integrating sphere unit “ISN-723” (manufactured by JASCO Corporation) to an ultraviolet-visible spectrophotometer “V-670” (JASCO Corporation).

各受光角度における反射率は、拡散反射層を成膜したフィルムの法線方向に対して5度の角度から光線を入射して、紫外可視近分光光度計「V−670」(日本分光株式会社製)に自動絶対反射率測定ユニット「ARMN−735」(日本分光株式会社製)を装着して測定した。符号LR5〜LR60(LR5、LR10、LR15、LR20、LR25、LR30、LR35、LR40、LR45、LR50、LR55、LR60)は、それぞれ反射角5度、10度、15度、20度、25度、30度、35度、40度、45度、50度、55度、60度で計測された反射光の受光光量による反射率である。反射角10度〜60度の反射特性LR10〜LR60により、近赤外線における拡散反射の状況を見て取ることができる。   The reflectivity at each light receiving angle is determined by applying a light ray at an angle of 5 degrees with respect to the normal direction of the film on which the diffuse reflection layer is formed, and the ultraviolet-visible near-spectrophotometer “V-670” (JASCO Corporation). The automatic absolute reflectance measurement unit “ARMN-735” (manufactured by JASCO Corporation) was attached to the measurement. Reference signs LR5 to LR60 (LR5, LR10, LR15, LR20, LR25, LR30, LR35, LR40, LR45, LR50, LR55, LR60) have reflection angles of 5 degrees, 10 degrees, 15 degrees, 20 degrees, 25 degrees, and 30 degrees, respectively. It is the reflectance by the received light quantity of the reflected light measured at degrees, 35 degrees, 40 degrees, 45 degrees, 50 degrees, 55 degrees, and 60 degrees. With the reflection characteristics LR10 to LR60 having a reflection angle of 10 degrees to 60 degrees, the situation of diffuse reflection in the near infrared can be seen.

図4は、拡散反射層9の拡散反射による反射率を示す図である。この図4の計測結果は、図3の計測結果を部分的に拡大したものであり、計測に係る入射角及び反射角は、図3と同一であることにより対応する符号を付して示す。なおこの図4における符号LR5の反射率は、反射角が入射角と等しい5度であることにより、拡散反射層9とは逆側面の基材10の空気との界面反射の反射光量を含むものであり、正しい拡散反射の反射率を示すものでは無い。   FIG. 4 is a diagram showing the reflectivity of the diffuse reflection layer 9 due to diffuse reflection. The measurement result in FIG. 4 is a partial enlargement of the measurement result in FIG. 3, and the incident angle and the reflection angle related to the measurement are the same as those in FIG. Note that the reflectance of the symbol LR5 in FIG. 4 includes the amount of reflected light of interface reflection with the air of the base material 10 on the side surface opposite to the diffuse reflection layer 9 because the reflection angle is 5 degrees equal to the incident angle. It does not show the correct diffuse reflectance.

この図4の計測結果によれば、入射角5度に対応する反射角5度より反射角が大きくなるに従って徐々に反射率が低下していることが判り、拡散反射層9による拡散反射の状況を見て取ることができる。また反射角10度〜60度の反射特性LR10〜LR60により、近赤外線における拡散反射の状況をより詳細に見て取ることができる。   According to the measurement result of FIG. 4, it can be seen that the reflectance gradually decreases as the reflection angle becomes larger than the reflection angle of 5 degrees corresponding to the incident angle of 5 degrees. Can take a look. Moreover, the state of diffuse reflection in the near infrared can be seen in more detail by the reflection characteristics LR10 to LR60 having a reflection angle of 10 degrees to 60 degrees.

図5は、図4の計測結果をさらに拡大して示す図である。この図5によれば、より詳細に拡散反射層9による拡散反射の状況を見て取ることができる。これらにより拡散反射層9の機能を確認することができる。   FIG. 5 is an enlarged view showing the measurement result of FIG. According to FIG. 5, the state of diffuse reflection by the diffuse reflection layer 9 can be seen in more detail. By these, the function of the diffuse reflection layer 9 can be confirmed.

〔比較例2〕
図6及び図7は、図3及び図4との対比により、何ら粗面化処理していないPETフィルム基材(算術平均粗さRa0.004μm、十点平均粗さRz0.025μm、ヘイズ値1.0、厚み50μm)の片面に、コレステリック液晶による液晶層を作製した場合の計測結果を示す図であり、図3及び図4と同一の符号により各計測結果を示す。なおこの図6及び図7の計測に使用したサンプルは、粗面を作製していない点を除いて、図3〜図5の計測に供した拡散反射フィルムと同一に作製した。
[Comparative Example 2]
6 and FIG. 7 show a PET film substrate that has not been subjected to any roughening treatment (arithmetic average roughness Ra 0.004 μm, ten-point average roughness Rz 0.025 μm, haze value 1 by comparison with FIGS. 3 and 4. 0.0 and a thickness of 50 μm) is a diagram showing measurement results when a liquid crystal layer made of cholesteric liquid crystal is produced on one side, and each measurement result is shown by the same reference numerals as in FIGS. The samples used for the measurement in FIGS. 6 and 7 were produced in the same manner as the diffuse reflection film subjected to the measurements in FIGS. 3 to 5 except that the rough surface was not produced.

図6及び図7によれば、近赤外線における選択的な反射特性を見てとることができる。なお符号LR5による反射角5度における拡散反射光の反射率の近赤外線以外での増減(脈動)は、液晶層を作製していない側の基材表面(空気との界面)からの反射光との干渉によるものと考えられる。しかしながら拡散反射成分については、殆んど検出できていないことが判る。   According to FIGS. 6 and 7, selective reflection characteristics in the near infrared can be seen. In addition, the increase / decrease (pulsation) other than the near infrared of the reflectance of the diffuse reflected light at a reflection angle of 5 degrees by the symbol LR5 is the reflected light from the substrate surface (interface with air) on the side where the liquid crystal layer is not formed. This is considered to be due to interference. However, it can be seen that the diffuse reflection component is hardly detected.

〔実施例1−1〕
図8は、図3及び図6との対比により、実施例1−1の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この拡散反射フィルムは、比較例1と同一の粗さによる粗面が両面に作成されている基材を使用し、拡散反射層9と、拡散反射面として機能する反射層11とを作製した構成である。なお拡散反射層9及び反射層11は、比較例1における拡散反射層と同一に作製した。なお基材は、算術平均粗さRa0.43μm、十点平均粗さRz4.1μm、ヘイズ値77.1、厚み50μmであった。
[Example 1-1]
FIG. 8 is a diagram showing the measurement results of the diffuse reflection film of Example 1-1 in comparison with FIGS. 3 and 6. This diffuse reflection film has a structure in which a diffused reflection layer 9 and a reflective layer 11 functioning as a diffuse reflection surface are produced using a base material having rough surfaces on both sides having the same roughness as in Comparative Example 1. It is. The diffuse reflection layer 9 and the reflection layer 11 were made the same as the diffuse reflection layer in Comparative Example 1. The base material had an arithmetic average roughness Ra of 0.43 μm, a ten-point average roughness Rz of 4.1 μm, a haze value of 77.1, and a thickness of 50 μm.

この図8においては、透過率のみを表しているものの、この透過率が近赤外線で低下しており、この近赤外線における透過率の低下が比較例1より大きいことにより、拡散反射層として機能する反射層を設けた分、近赤外線における拡散反射の効率の増大を見て取ることができる。また可視光域では透過率が80%以上であることにより、可視光の透過を何ら損なうことが無いことが確認される。   In FIG. 8, although only the transmittance is shown, this transmittance is reduced in the near-infrared ray, and the reduction in the transmittance in the near-infrared ray is larger than that of Comparative Example 1, thereby functioning as a diffuse reflection layer. As the reflection layer is provided, an increase in the efficiency of diffuse reflection in the near infrared can be seen. Further, it is confirmed that the transmittance of visible light is not impaired by the transmittance of 80% or more in the visible light region.

〔実施例1−2〕
図9は、図3及び図6との対比により、実施例1−2の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この拡散反射フィルムは、比較例1と同一(片面が粗面)の基材を使用し、拡散反射層9と反射層11とを作製した構成である。なお拡散反射層9及び反射層11は、比較例1における拡散反射層と同一に作製した。
[Example 1-2]
FIG. 9 is a diagram showing the measurement results of the diffuse reflection film of Example 1-2 in comparison with FIGS. 3 and 6. This diffuse reflection film has a configuration in which a diffuse reflection layer 9 and a reflection layer 11 are produced using the same base material as in Comparative Example 1 (one side is rough). The diffuse reflection layer 9 and the reflection layer 11 were made the same as the diffuse reflection layer in Comparative Example 1.

この実施例1−2によれば、より一段と詳細に、反射層11を設けたことにより、可視光の透過を何ら損なうことなく、拡散反射効率の増大を確認することができる。   According to Example 1-2, by providing the reflection layer 11 in more detail, it is possible to confirm an increase in diffuse reflection efficiency without any loss of visible light transmission.

〔実施例2〕
図10〜図12は、図3〜図5との対比により、実施例2の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この実施例2の拡散反射フィルムは、PETフィルムの両面を、いわゆるケミカルエッチングして粗面とした点を除いて、実施例1−1の拡散反射フィルムと同一に構成される。この透明フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.399μm、十点平均粗さRz1.618μmであり、全体としてヘイズ値は85.5、厚みは50μmである。なお拡散反射層をコーティング後の、コーティング面の算術平均粗さRaは0.034μmまで低下しており、ヘイズ値も6.2まで低下していた。
[Example 2]
10-12 is a figure which shows the measurement result of the diffuse reflection film of Example 2 by contrast with FIGS. 3-5. The diffuse reflection film of Example 2 is configured the same as the diffuse reflection film of Example 1-1 except that both surfaces of the PET film are so-called chemical etched to be roughened. This transparent film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.399 μm, a ten-point average roughness Rz of 1.618 μm, and a haze value of 85.5 and a thickness of 50 μm as a whole. In addition, the arithmetic mean roughness Ra of the coating surface after coating the diffuse reflection layer was reduced to 0.034 μm, and the haze value was also reduced to 6.2.

この図10〜図12の計測結果によれば、実施例1−1.1−2の場合と同様に、近赤外線における拡散反射を確認することができ、また可視光域での透明性を確認することができ、これによりケミカルエッチングによる粗面の場合でも、近赤外線を選択的に拡散反射できることが判る。   According to the measurement results of FIGS. 10 to 12, as in the case of Example 1-1.1-2, the diffuse reflection in the near infrared can be confirmed, and the transparency in the visible light region can be confirmed. Thus, it can be seen that even in the case of a rough surface by chemical etching, near infrared rays can be selectively diffusely reflected.

〔実施例3〕
図13は、図8、図9との対比により、実施例3の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この実施例3の拡散反射フィルムは、一方の面がいわゆるケミカルマット面による粗面であり、他方の面が平滑面である透光性フィルム材を基材に適用した点を除いて、実施例1の拡散反射フィルムと同一に構成される。なおこれによりこの実施例3の透光性フィルム材は、透光性フィルム材による基材の一方の面に、ケミカルマット面を構成する粗面層が積層された構成であり、基材にケミカルマット面に係る塗工液を塗工、乾燥、硬化して作製される。この透光性フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.273μm、十点平均粗さRz0.98μmであり、全体としてヘイズ値は16.4、厚みは128μmである。なお拡散反射層をコーティング後の、コーティング面の算術平均粗さRaは0.011μmまで低下しており、ヘイズ値も2.0まで低下していた。
Example 3
FIG. 13 is a diagram showing the measurement results of the diffuse reflection film of Example 3 in comparison with FIGS. 8 and 9. The diffuse reflection film of Example 3 is an example except that a translucent film material in which one surface is a rough surface by a so-called chemical mat surface and the other surface is a smooth surface is applied to a substrate. 1 is the same as the diffuse reflection film. In addition, the translucent film material of this Example 3 is the structure by which the rough surface layer which comprises a chemical mat | matte surface was laminated | stacked on one side of the base material by a translucent film material by this, It is produced by coating, drying and curing a coating liquid relating to the mat surface. The light-transmitting film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.273 μm and a ten-point average roughness Rz of 0.98 μm, and has a haze value of 16.4 and a thickness of 128 μm as a whole. In addition, the arithmetic mean roughness Ra of the coating surface after coating the diffuse reflection layer was reduced to 0.011 μm, and the haze value was also reduced to 2.0.

〔比較例3〕
図14〜図16は、図3〜図5との対比により、比較例3の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この比較例3の拡散反射フィルムは、片面のみいわゆるケミカルマット面による粗面を設け、この粗面に設けた側にのみ塗工液を塗工して拡散反射層を作製し、他面には何ら反射層を設けていない点を除いて、実施例3の拡散反射フィルムと同一に構成される。この透光性フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.273μm、十点平均粗さRz0.98μmであり、全体としてヘイズ値は16.4、厚みは128μmである。なお拡散反射層をコーティング後の、コーティング面の算術平均粗さRaは0.011μmまで低下しており、ヘイズ値も2.0まで低下していた。
[Comparative Example 3]
14-16 is a figure which shows the measurement result of the diffuse reflection film of the comparative example 3 by contrast with FIGS. 3-5. In the diffuse reflection film of Comparative Example 3, a rough surface with a so-called chemical mat surface is provided only on one side, a coating liquid is applied only on the side provided on the rough surface, and a diffuse reflection layer is produced. Except for the point that no reflective layer is provided, the configuration is the same as the diffuse reflective film of Example 3. The light-transmitting film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.273 μm and a ten-point average roughness Rz of 0.98 μm, and has a haze value of 16.4 and a thickness of 128 μm as a whole. In addition, the arithmetic mean roughness Ra of the coating surface after coating the diffuse reflection layer was reduced to 0.011 μm, and the haze value was also reduced to 2.0.

この図13の計測結果と図14〜図16の計測結果とによれば、上述の実施例の場合と同様に、近赤外線における拡散反射を確認することができ、また可視光域での透明性を確認することができ、これによりケミカルマット面による粗面の場合でも、近赤外線を選択的にかつ効率良く拡散反射できることが判る。   According to the measurement results of FIG. 13 and the measurement results of FIGS. 14 to 16, the diffuse reflection in the near infrared can be confirmed and the transparency in the visible light region can be confirmed as in the case of the above-described embodiment. Thus, it can be seen that even in the case of a rough surface with a chemical mat surface, near infrared rays can be selectively diffusely reflected.

〔実施例4〕
図17及び図18は、図8との対比により、実施例4の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この実施例4の拡散反射フィルムは、いわゆるフィラーを含有するPETからなり、そのフィラーの一部が一方の面の表面に出て粗面が形成され、他方の面が平滑面である透光性フィルム材を基材に適用した点を除いて、実施例1−1の拡散反射フィルムと同一に構成される。この透光性フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.024μm、十点平均粗さRz0.163μmであり、全体としてヘイズ値は7.1、厚みは50μmである。
Example 4
17 and 18 are diagrams showing the measurement results of the diffuse reflection film of Example 4 in comparison with FIG. The diffuse reflection film of Example 4 is made of PET containing a so-called filler, a part of the filler comes out on the surface of one surface to form a rough surface, and the other surface is a smooth surface. Except the point which applied the film material to the base material, it is comprised the same as the diffuse reflection film of Example 1-1. The light-transmitting film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.024 μm and a ten-point average roughness Rz of 0.163 μm. The haze value as a whole is 7.1 and the thickness is 50 μm.

〔比較例4〕
図19〜図21は、図3〜図5との対比により、比較例4の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この比較例4の拡散反射フィルムは、いわゆるフィラーを含有するPETからなり、そのフィラーの一部が一方の面側にのみに出て、この1方の側の面のみ若干の粗面となっている透光性フィルム材を基材に適用して、この粗面にのみ塗工液を塗工して拡散反射層を作製し、他面には何ら反射層を設けていない点を除いて、実施例4の拡散反射フィルムと同一に構成される。この透光性フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.024μm、十点平均粗さRz0.163μmであり、全体としてヘイズ値は7.1、厚みは50μmである。
[Comparative Example 4]
19-21 is a figure which shows the measurement result of the diffuse reflection film of the comparative example 4 by contrast with FIGS. 3-5. The diffuse reflection film of Comparative Example 4 is made of PET containing a so-called filler. A part of the filler comes out only on one surface side, and only the surface on one side becomes a slightly rough surface. Applying the translucent film material to the base material, applying a coating liquid only to this rough surface to produce a diffuse reflection layer, except that no reflection layer is provided on the other surface, The same configuration as the diffuse reflection film of Example 4 is used. The light-transmitting film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.024 μm and a ten-point average roughness Rz of 0.163 μm. The haze value as a whole is 7.1 and the thickness is 50 μm.

この図17及び図18の計測結果と図19〜図21の計測結果とによれば、上述の実施例と同様に、近赤外線における拡散反射を確認することができ、また可視光域での透明性を確認することができ、これによりケミカルマット面による粗面の場合でも、近赤外線を選択的にかつ効率良く拡散反射できることが判る。   According to the measurement results of FIGS. 17 and 18 and the measurement results of FIGS. 19 to 21, the diffuse reflection in the near infrared can be confirmed and transparent in the visible light region as in the above-described embodiment. Thus, it can be seen that even in the case of a rough surface by a chemical mat surface, near infrared rays can be diffusely reflected selectively and efficiently.

〔実施例5〕
図22及び図23は、図8との対比により、実施例5の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この実施例5の拡散反射フィルムは、一方の面を賦形処理して粗面とし、他方の面を平滑面としたPETフィルム材による透光性フィルム材を基材に適用した点を除いて、実施例1の拡散反射フィルムと同一に構成される。なおこの賦型処理は、微細な凹部を多数設けたロール状金型に透明な紫外線硬化型樹脂を塗布したPETフィルムを押し付けて凹部形状を凸部形状として転写して実行した。この透光性フィルム材は、粗面が、算術平均粗さRa0.145μm、十点平均粗さRz0.741μmであり、全体としてヘイズ値は7.9、厚みは100μmである。なお拡散反射層をコーティング後の、コーティング面の算術平均粗さRaは0.012μmまで低下しており、ヘイズ値も1.7まで低下していた。
Example 5
22 and 23 are diagrams showing measurement results of the diffuse reflection film of Example 5 in comparison with FIG. The diffuse reflection film of Example 5 was formed by applying a translucent film material made of a PET film material having a rough surface by shaping one surface and a smooth surface on the other surface, to the substrate. The same configuration as that of the diffuse reflection film of Example 1 is adopted. This shaping process was performed by pressing a PET film coated with a transparent ultraviolet curable resin onto a roll-shaped mold provided with a large number of fine concave portions, and transferring the concave shape as a convex shape. The light-transmitting film material has a rough surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.145 μm and a ten-point average roughness Rz of 0.741 μm, and has a haze value of 7.9 and a thickness of 100 μm as a whole. In addition, the arithmetic mean roughness Ra of the coating surface after coating the diffuse reflection layer was reduced to 0.012 μm, and the haze value was also reduced to 1.7.

〔比較例5〕
図24〜図26は、図3〜図5との対比により、比較例5の拡散反射フィルムの計測結果を示す図である。この比較例5の拡散反射フィルムは、実施例5に適用した粗面化手法により基材の1方の側の面のみ粗面とし、この粗面にのみ塗工液を塗工して拡散反射層を作製し、他面には何ら反射層を設けていない点を除いて、実施例5の拡散反射フィルムと同一に構成される。
[Comparative Example 5]
24-26 is a figure which shows the measurement result of the diffuse reflection film of the comparative example 5 by contrast with FIGS. 3-5. In the diffuse reflection film of Comparative Example 5, only the surface on one side of the substrate was roughened by the roughening method applied to Example 5, and the coating liquid was applied only to this rough surface to diffuse reflection. A layer is prepared, and the same configuration as that of the diffuse reflection film of Example 5 is adopted except that no reflective layer is provided on the other surface.

この図22及び図23の計測結果と図24〜図26の計測結果とによれば、上述の実施例と同様に、近赤外線における拡散反射を確認することができ、また可視光域での透明性を確認することができ、これにより賦型処理による粗面の場合でも、近赤外線を選択的にかつ効率良く拡散反射できることが判る。   According to the measurement results of FIGS. 22 and 23 and the measurement results of FIGS. 24 to 26, the diffuse reflection in the near infrared can be confirmed as in the above embodiment, and the transparent in the visible light region can be confirmed. Thus, it can be seen that even in the case of a rough surface by a shaping process, near infrared rays can be selectively diffusely reflected.

〔比較例6〕
図27及び図28は、図3及び図4との対比により、比較例6の計測結果を示す図である。この図27及び図28は、コピー用紙の計測結果である。この図27及び図28の計測結果では、可視光域から近赤外線領域まで拡散反射している状況を見て取ることができる。実施例1〜5に係る近赤外線における選択的な拡散反射の特性と比較すると、1%弱の反射率が拡散反射層により得られれば、紙と同程度の拡散反射率を得ることができると考えられる。
[Comparative Example 6]
27 and 28 are diagrams showing the measurement results of Comparative Example 6 in comparison with FIGS. 3 and 4. 27 and 28 show the measurement results of the copy paper. In the measurement results of FIGS. 27 and 28, it can be seen that the light is diffusely reflected from the visible light region to the near infrared region. Compared with the characteristics of selective diffuse reflection in the near infrared rays according to Examples 1 to 5, if a reflectance of less than 1% is obtained by the diffuse reflection layer, a diffuse reflectance equivalent to that of paper can be obtained. Conceivable.

なおこれら図3〜図27の計測結果においては、波長850nmで急激な計測変化が発生しているものの、この変化は、波長による受光器の切替によるものであり、このことは白色のコピー用紙(図27及び図28)を使用して拡散反射率を計測することにより確認した。   In the measurement results of FIGS. 3 to 27, although a sudden measurement change occurs at a wavelength of 850 nm, this change is due to the switching of the photoreceiver depending on the wavelength, and this is due to white copy paper ( It confirmed by measuring a diffuse reflectance using FIG.27 and FIG.28).

〔実施例6〕
この実施例6は、近赤外線反射層の塗工液を以下のようにして作製した点を除いて、上述の実施例1〜5と同一に拡散反射フィルムを作製した。この実施例6では、(7−1)について上述した液晶材料に代えて、(7−1)の液晶材料と(9)の液晶材料とを質量比7:3により調整し、2官能液晶と単官能液晶との混合液晶により塗工液を作製した。このように、2官能液晶と単官能液晶の混合液晶とすることにより、液晶相の温度範囲が拡大し、塗工液の取り扱いが容易となる。

Figure 2016145948
Example 6
In Example 6, a diffuse reflection film was produced in the same manner as in Examples 1 to 5 except that the near-infrared reflective layer coating solution was produced as follows. In Example 6, instead of the liquid crystal material described in (7-1) above, the liquid crystal material in (7-1) and the liquid crystal material in (9) were adjusted at a mass ratio of 7: 3, A coating solution was prepared from a mixed liquid crystal with a monofunctional liquid crystal. Thus, by using a mixed liquid crystal of a bifunctional liquid crystal and a monofunctional liquid crystal, the temperature range of the liquid crystal phase is expanded, and handling of the coating liquid becomes easy.
Figure 2016145948

またカイラル剤には、(8−1)のカイラル剤に代えて、(10)のカイラル剤を適用した。なおこの(10)のカイラル剤は、(8−1)のカイラル剤に比して、低コストで合成し易い等の利点を備えている。なおカイラル剤の使用量は、実施例1−1、1−2の使用量の約8%増しであり、反射波長がほぼ実施例1と同一になるように、調整した。

Figure 2016145948
Further, the chiral agent (10) was applied to the chiral agent instead of the chiral agent (8-1). The chiral agent (10) has advantages such as low cost and easy synthesis compared with the chiral agent (8-1). In addition, the usage-amount of the chiral agent was increased about 8% of the usage-amount of Example 1-1, 1-2, and it adjusted so that a reflective wavelength might become substantially the same as Example 1. FIG.
Figure 2016145948

溶剤には、シクロヘキサノンに替えて、MEK(メチルエチルケトン)とMIBK(メチルイソブチルケトン)とを質量比6:4により混合して使用した。この混合溶剤によれば、シクロヘキサノンのみによる場合に比して、より塗工膜が乾燥し易すくなり、より大量生産に向いた塗工液とすることができる。   Instead of cyclohexanone, MEK (methyl ethyl ketone) and MIBK (methyl isobutyl ketone) were mixed at a mass ratio of 6: 4. According to this mixed solvent, compared with the case of using only cyclohexanone, the coating film is more easily dried, and a coating solution suitable for mass production can be obtained.

この実施例6によっても、上述の実施例1〜5と同様の効果を確認することができた。   Also in Example 6, the same effects as those of Examples 1 to 5 described above could be confirmed.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
As mentioned above, although the specific structure suitable for implementation of this invention was explained in full detail, this invention can change the structure of the above-mentioned embodiment variously in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

すなわち上述の実施例では、ネマチック液晶とカイラル剤によるコレステリック液晶を用いて光拡散層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、高分子又は中分子コレステリック液晶を用いて光拡散層を作製するようにしてもよい。   That is, in the above-described embodiment, the case where the light diffusion layer is formed using the nematic liquid crystal and the cholesteric liquid crystal based on the chiral agent has been described. You may make it produce a layer.

また上述の実施の形態では、本発明の光学フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置して電子ペン入力システムを構成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、印刷物等、種々の部材の表面に配置して電子ペン入力システムを構成する場合にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the electronic pen input system is configured by arranging the optical film of the present invention on the panel surface of the image display panel has been described. The present invention can also be widely applied when an electronic pen input system is configured by being arranged on the surface of a member.

1 画像表示装置
2 画像表示パネル
3 光学フィルム
4 ドットパターンフィルム
5 拡散反射フィルム
7 ドット
8 基材
9 拡散反射層
10 基材
11 反射層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image display apparatus 2 Image display panel 3 Optical film 4 Dot pattern film 5 Diffuse reflective film 7 Dot 8 Base material 9 Diffuse reflective layer 10 Base material 11 Reflective layer

Claims (6)

可視光域では透明であって、近赤外線を拡散反射する光学フィルムであって、
少なくとも一方の面が粗面である透光性フィルム材による基材と、
前記基材の粗面に作製されたコレステリック液晶による拡散反射層と、
前記基材の粗面とは逆側の面に作成されたコレステリック液晶による反射層とを備えた
光学フィルム。
An optical film that is transparent in the visible light region and diffusely reflects near infrared rays,
A substrate made of a translucent film material having at least one surface is a rough surface;
A diffuse reflection layer made of cholesteric liquid crystal produced on the rough surface of the substrate;
An optical film comprising: a reflective layer made of cholesteric liquid crystal formed on a surface opposite to the rough surface of the substrate.
前記基材の粗面とは逆側の面が、粗面であり、
当該逆側の面に形成された反射層が、近赤外線を拡散反射する反射層である
請求項1に記載の光学フィルム。
The surface opposite to the rough surface of the substrate is a rough surface,
The optical film according to claim 1, wherein the reflective layer formed on the opposite surface is a reflective layer that diffusely reflects near infrared rays.
前記拡散反射層に係る粗面は、算術平均粗さRaが0.01μm以上1μm以下である
請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 1, wherein the rough surface of the diffuse reflection layer has an arithmetic average roughness Ra of 0.01 μm to 1 μm.
さらに近赤外線を吸収するドットによるドットパターンが作製された
請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 1, further comprising a dot pattern made of dots that absorb near infrared rays.
近赤外線を吸収するドットによるドットパターンが作製されたドットパターンフィルムと積層された
請求項1、請求項2、請求項3の何れかに記載の光学フィルム。
The optical film according to claim 1, wherein the optical film is laminated with a dot pattern film in which a dot pattern is formed by dots that absorb near infrared rays.
請求項4又は請求項5に記載の光学フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した
画像表示装置。
An image display device in which the optical film according to claim 4 or 5 is disposed on a panel surface of an image display panel.
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