JP2016143726A - Printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

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俊輔 酒井
Shunsuke Sakai
俊輔 酒井
俊樹 古谷
Toshiki Furuya
俊樹 古谷
航 中村
Wataru Nakamura
航 中村
武馬 足立
Takema Adachi
武馬 足立
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent cracks from extending into a product area and a product from being failed when cut to a multiple piece printed wiring board from a panel which manufactures a plurality of printed wiring boards in bulk.SOLUTION: A multiple piece printed wiring board 100 includes: a product area 20 composed of a plurality of printed wiring boards; and a dummy area 10 formed around one or two or more product areas 20. On an outer peripheral end edge side of the dummy area 10, a dummy pattern 11 is formed, and a dummy post or a dummy wall 12 is formed while connected only to a part of the dummy pattern 11.SELECTED DRAWING: Figure 1B

Description

本発明はプリント配線板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a manufacturing method thereof.

特許文献1には、パッケージ領域(製品領域)の周囲のダミー領域に種々の形状の銅パターンを形成することが開示されている。すなわち、図7に示されるように、製品領域90に平行な配線91と、製品領域90に垂直な配線92で形成されるダミー配線が形成されている。   Patent Document 1 discloses forming copper patterns of various shapes in a dummy region around a package region (product region). That is, as shown in FIG. 7, a dummy wiring formed by a wiring 91 parallel to the product region 90 and a wiring 92 perpendicular to the product region 90 is formed.

特開2007−19496号公報JP 2007-19496 A

しかし、樹脂絶縁層の一面にダミー配線91が形成されていても、樹脂絶縁層を切断する場合には、樹脂絶縁層の厚さの全体に衝撃が加わる。そのため、表面のみならず、樹脂絶縁層の厚さの中間部からクラックが入り、そのクラックが水平方向および上下方向に延びる可能性がある。そのため、表面にダミー配線層が形成されていても、クラックが製品エリアに達して、製品が不良になってしまうことがある。   However, even if the dummy wiring 91 is formed on one surface of the resin insulating layer, when the resin insulating layer is cut, an impact is applied to the entire thickness of the resin insulating layer. Therefore, a crack may enter from not only the surface but also from the middle part of the thickness of the resin insulating layer, and the crack may extend in the horizontal direction and the vertical direction. Therefore, even if the dummy wiring layer is formed on the surface, the crack may reach the product area and the product may be defective.

本発明の多数個取りプリント配線板は、複数のプリント配線板からなる製品エリア、および1または2以上の前記製品エリアの周囲に形成されるダミーエリアを有している。そして、本発明の多数個取りプリント配線板は、第1面と該第1面の反対面である第2面を有する樹脂絶縁層を有している。さらに前記製品エリアの各プリント配線板は、前記樹脂絶縁層の第1面側に一面のみが露出するように埋め込まれる第1導体層と、前記第1導体層と接続され、前記樹脂絶縁層を貫通して前記第2面側に端部が露出する導体ポストとを有し、前記ダミーエリアは、前記樹脂絶縁層の第1面に形成されるダミーパターンと、前記樹脂絶縁層を貫通し、前記第2面側に端部が露出するように前記ダミーパターンと接続されるダミーポストまたはダミー壁とを有し、前記ダミーパターンの一部のパターンのみに前記ダミーポストまたはダミー壁が接続されている。   The multi-cavity printed wiring board of the present invention has a product area composed of a plurality of printed wiring boards and a dummy area formed around one or more of the product areas. The multi-cavity printed wiring board of the present invention includes a resin insulating layer having a first surface and a second surface that is the opposite surface of the first surface. Furthermore, each printed wiring board in the product area is connected to the first conductor layer, the first conductor layer embedded so that only one surface is exposed on the first surface side of the resin insulation layer, and the resin insulation layer A conductor post that penetrates and has an end exposed on the second surface side, and the dummy area penetrates the dummy pattern formed on the first surface of the resin insulation layer and the resin insulation layer; A dummy post or a dummy wall connected to the dummy pattern so that an end portion is exposed on the second surface side, and the dummy post or the dummy wall is connected to only a part of the dummy pattern. Yes.

本発明の多数個取りのプリント配線板の製造方法は、複数のプリント配線板を含む製品エリア、および1または2以上の前記製品エリアの周囲に形成されるダミーエリアを有する多数個取りのプリント配線板の製造方法である。本発明の多数個取りのプリント配線板の製造方法は、金属膜を準備することと、前記金属膜上に、複数個の多数個取りプリント配線板用の前記第1導体層の配線パターンおよびダミーパターンを形成することと、前記第1導体層の一部のパターンおよび前記ダミーパターンの一部のパターン上に導体ポストおよびダミーポストもしくはダミー壁をそれぞれ形成することと、前記第1導体層の露出面ならびに前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の側面を被覆するように樹脂絶縁層を形成することと、前記樹脂絶縁層の第2面側を研磨することにより、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の端部を露出させることと、前記支持板と前記金属膜を除去すること、および1または2以上の製品エリアを含む多数個取りプリント配線板に切断分離することを、いずれかを先に行う順番で行うことと、を含んでいる。そして、前記ダミーポストまたはダミー壁は、前記ダミーパターンの一部のパターンのみに接続して、前記樹脂絶縁層を貫通して端部が前記樹脂絶縁層の前記第2面側に露出するように形成される。 A method for manufacturing a multi-piece printed wiring board according to the present invention includes a product area including a plurality of printed wiring boards, and a multi-piece printed wiring having a dummy area formed around one or more of the product areas. It is a manufacturing method of a board. A method for manufacturing a multi-piece printed wiring board according to the present invention includes preparing a metal film, and wiring patterns and dummy of the first conductor layer for a plurality of multi-piece printed wiring boards on the metal film. Forming a pattern, forming a conductor post and a dummy post or a dummy wall on the partial pattern of the first conductive layer and the partial pattern of the dummy pattern, respectively, and exposing the first conductive layer Forming the resin insulating layer so as to cover the surface and the side surface of the conductor post and the dummy post or the dummy wall; and polishing the second surface side of the resin insulating layer to thereby form the conductor post and the dummy post. Alternatively, the end of the dummy wall is exposed, the support plate and the metal film are removed, and one or more product areas are included. That is cut and separated into several up printed wiring board, and includes a be performed in the order of performing either first, a. The dummy post or the dummy wall is connected to only a part of the dummy pattern, and penetrates through the resin insulating layer so that an end thereof is exposed to the second surface side of the resin insulating layer. It is formed.

本発明の一実施形態の多数個取りプリント配線板のパネルの平面説明図。Plane explanatory drawing of the panel of the multi-cavity printed wiring board of one embodiment of the present invention. 図1Aの多数個取りプリント配線板の製造工程における1B−1Bの断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of 1B-1B in the manufacturing process of the multi-cavity printed wiring board of FIG. 1A. 図1Aのパネルから多数個取りプリント配線板への切断工程を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the cutting process from the panel of FIG. 1A to a multi-piece printed wiring board. 図1Aのパネルから多数個取りプリント配線板への切断工程を示す断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing which shows the cutting process from the panel of FIG. 1A to a multi-piece printed wiring board. 図1Aに示されるダミーパターンおよびダミーポストの一例の拡大説明図。FIG. 1B is an enlarged explanatory view of an example of a dummy pattern and a dummy post shown in FIG. 1A. 図1Aに示されるダミーパターンおよびダミーポストの他の例の拡大説明図。FIG. 1B is an enlarged explanatory view of another example of a dummy pattern and a dummy post shown in FIG. 1A. 図1Aに示されるダミーパターンおよびダミー壁の一例の拡大説明図。FIG. 1B is an enlarged explanatory view of an example of a dummy pattern and a dummy wall shown in FIG. 1A. 図1Aに示されるダミーパターンならびにダミーポストおよびダミー壁の一例の拡大説明図。The enlarged explanatory view of an example of the dummy pattern shown in Drawing 1A, a dummy post, and a dummy wall. 図1Aに示される個々のプリント配線板の第2面のパターンの一例の説明図。Explanatory drawing of an example of the pattern of the 2nd surface of each printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示される個々のプリント配線板の第1面のパターンの一例の説明図。Explanatory drawing of an example of the pattern of the 1st surface of each printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 図1Aに示されるプリント配線板の製造方法の一例の各工程の説明図。Explanatory drawing of each process of an example of the manufacturing method of the printed wiring board shown by FIG. 1A. 表面保護膜が形成されている第1導体層および導体ポストの断面図。Sectional drawing of the 1st conductor layer and conductor post in which the surface protective film is formed. 導体ポストの端部にハンダが塗布されている部分の断面図。Sectional drawing of the part by which the solder | pewter is apply | coated to the edge part of a conductor post. 本発明の他の実施形態の多数個取りプリント配線板のパネルの断面図。Sectional drawing of the panel of the multi-cavity printed wiring board of other embodiment of this invention. 従来のダミー領域にダミーパターンが形成された例を示す図。The figure which shows the example in which the dummy pattern was formed in the conventional dummy area | region.

つぎに、本発明の一実施形態の多数個取りプリント配線板が図面を参照しながら説明される。図1Aに多数個取りプリント配線板を複数個有するパネル200の平面説明図が示されており、その切断線D−Dで切断分離されることにより、短冊状の一実施形態の多数個取りプリント配線板100が複数個得られる。また、図1Bは製造途中工程の断面説明図である。なお、図1Bでは多数個取りプリント配線板の支持板80の両側の面に同じ回路パターンが形成されるプリント配線板の例が説明されているが、このような例に限定されるわけではなく、支持板80の両側に異なる回路パターンを有する配線板が形成されることも、また、一方の面だけに配線板が形成されることも可能である。また、図1Bは、図1Aの1B−1B断面の製造工程途中の説明図であって、後述されるように支持板80および金属膜81が除去される工程を経る前の状態を示している。そのため、支持板80の両面に金属膜81を介して多数個取りプリント配線板100が形成されている状態が示されており、多数個取りプリント配線板100の第1面SF1側が、中心側、すなわち、支持板80側に位置している。   Next, a multi-piece printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A shows an explanatory plan view of a panel 200 having a plurality of multi-piece printed wiring boards. When the panel 200 is cut and separated along a cutting line DD, the multi-piece print of one embodiment of a strip shape is shown. A plurality of wiring boards 100 are obtained. Moreover, FIG. 1B is sectional explanatory drawing of a manufacturing middle process. In FIG. 1B, an example of a printed wiring board in which the same circuit pattern is formed on both sides of the support board 80 of the multi-cavity printed wiring board is described, but it is not limited to such an example. The wiring board having different circuit patterns can be formed on both sides of the support plate 80, or the wiring board can be formed only on one surface. Moreover, FIG. 1B is explanatory drawing in the middle of the manufacturing process of the 1B-1B cross section of FIG. 1A, Comprising: The state before passing through the process of removing the support plate 80 and the metal film 81 so that it may mention later is shown. . Therefore, a state in which the multi-cavity printed wiring board 100 is formed on both surfaces of the support plate 80 via the metal film 81 is shown, and the first surface SF1 side of the multi-cavity printed wiring board 100 is the center side, That is, it is located on the support plate 80 side.

本実施形態の多数個取りプリント配線板100は、図1Aに示されるように、複数のプリント配線板1a、1b、1c・・・からなる製品エリア20、および1または2以上の製品エリア20の周囲にダミーエリア(ストリップエリア)10が形成されている中判の複合配線板であり、図1Bに示されるように、第1面SF1と第1面の反対面である第2面SF2とを有する樹脂絶縁層30を有している。製品エリア20には、樹脂絶縁層30の第1面SF1側に一面のみが露出するように埋め込まれて第1導体層21が形成され、その第1導体層21と接続されている導体ポスト25が、樹脂絶縁層30を貫通して第2面SF2側にその端部が露出するように形成されている(図4G参照)。そして、ダミーエリア10には、樹脂絶縁層30の第1面SF1側に、ダミーパターン11が製品エリア20を周回するように形成され、かつ、ダミーパターン11と接続して形成されるダミーポストまたはダミー壁12(以下、ダミーポストまたはダミー壁は、「ダミーポストなど」とも称される)が、樹脂絶縁層30を貫通し、第2面SF2側に端部が互いに独立してドット状に、または連結されたドットパターンもしくは線状パターンで露出するように形成されている。そして、ダミーポストまたはダミー壁12がダミーパターン11の一部のパターンのみに接続されている。   As shown in FIG. 1A, the multi-cavity printed wiring board 100 of this embodiment includes a product area 20 composed of a plurality of printed wiring boards 1a, 1b, 1c,... And one or more product areas 20. A medium-sized composite wiring board having a dummy area (strip area) 10 formed around it. As shown in FIG. 1B, a first surface SF1 and a second surface SF2 opposite to the first surface are formed. The resin insulating layer 30 is provided. In the product area 20, a first conductor layer 21 is formed so that only one surface is exposed on the first surface SF 1 side of the resin insulating layer 30, and the conductor post 25 connected to the first conductor layer 21. However, it is formed so as to penetrate the resin insulating layer 30 and to expose its end on the second surface SF2 side (see FIG. 4G). In the dummy area 10, the dummy pattern 11 is formed on the first surface SF1 side of the resin insulating layer 30 so as to go around the product area 20 and connected to the dummy pattern 11, or A dummy wall 12 (hereinafter, a dummy post or a dummy wall is also referred to as a “dummy post or the like”) penetrates the resin insulating layer 30, and ends thereof on the second surface SF2 side are formed in a dot shape independently of each other. Alternatively, it is formed so as to be exposed in a connected dot pattern or linear pattern. The dummy post or the dummy wall 12 is connected to only a part of the dummy pattern 11.

ここに製品エリアとは、製品となるプリント配線板が複数個並べられているエリアを意味し、また、ダミーエリアとは、製品となるプリント配線板が形成されない、1または2以上の製品エリアの周囲の領域であって、ストリップエリアとも称される、ダミーパターンが形成される部分である。   Here, the product area means an area where a plurality of printed wiring boards as products are arranged, and the dummy area means one or more product areas in which the printed wiring boards as products are not formed. It is a surrounding area and is a portion where a dummy pattern, also called a strip area, is formed.

すなわち、半導体装置のパッケージなどに用いられるプリント配線板では、1個当たりが1cm角程度であり、製造段階では複数個のプリント配線板がまとめて大判のパネルとして形成され、そのパネルから中判で短冊状の多数個取りプリント配線板にされて、半導体素子などが搭載された後に、個々のプリント配線板に個片化される。このパネルから短冊状の多数個取りプリント配線板に切断するには、ルーターや金型などで切断されるが、その切断の際に、樹脂絶縁層にクラックが走り、複数個のプリント配線板がまとめて不良になることがある。   That is, a printed wiring board used for a package of a semiconductor device has a size of about 1 cm square, and a plurality of printed wiring boards are formed as a large panel at the manufacturing stage. It is made into a strip-like multi-piece printed wiring board, and after semiconductor elements are mounted, it is separated into individual printed wiring boards. To cut from this panel into strip-shaped printed wiring boards, it is cut with a router or a mold, but at that time, a crack runs on the resin insulation layer, and multiple printed wiring boards are formed. It may become defective collectively.

本発明の一実施形態の目的は、複数のプリント配線板をまとめて製造する大判のパネルから中判の短冊状の多数個取りプリント配線板に切断する際に、クラックが入ってそのクラックが製品エリア内に延び、製品が不良になることが防止することである。   An object of an embodiment of the present invention is that when a large-sized panel that collectively manufactures a plurality of printed wiring boards is cut into a medium-sized strip-shaped printed wiring board, the cracks are generated. It extends in the area and prevents the product from becoming defective.

また、他の目的は、特に、プリント配線板の樹脂絶縁層が、ガラス繊維などの芯材を含まない樹脂で形成され、また、樹脂絶縁層の一面のみに配線パターンが形成され、他面側には配線パターンが形成されない場合でも、切断時のクラックに伴う不良が防止されることである。さらに他の目的は、ダミーエリア内のクラックの進行を防ぐダミーポストなどが、製品エリアの導体ポストと共に電気めっき膜により形成される場合に、導体ポストとダミーポストなどの高さがほぼ均一に形成され、より製造が容易に為され得る構造の多数個取りプリント配線板およびその製造方法を提供することである。   Another object is that the resin insulation layer of the printed wiring board is formed of a resin that does not include a core material such as glass fiber, and the wiring pattern is formed only on one surface of the resin insulation layer. In this case, even when a wiring pattern is not formed, it is possible to prevent defects associated with cracks during cutting. Yet another purpose is to form a uniform post, such as a dummy post, that prevents the progress of cracks in the dummy area when it is formed with an electroplated film together with a conductor post in the product area. It is an object of the present invention to provide a multi-piece printed wiring board having a structure that can be manufactured more easily and a manufacturing method thereof.

ダミーパターン11は、たとえば図2A(a)に示されるように、樹脂絶縁層30(図1B参照)のダミーエリア10の第1面SF1上に、独立してもしくは配線などにより連結したドットパターン状に、または線状に形成されている。図2Aには、平面形状が六角形のダミーパターン11が示されているが、ダミーパターンの形状はこれに限定されるものではなく、三角形でも、矩形もしくは菱形でも、それ以上の多角形でも、十字形でも、また、円形または楕円形でも構わない。また、図2Aでは、全てのダミーパターン11が入り組んだ形に配置される例が示されている。すなわち、図2Aに示されるように、ダミーパターンが、隣接する2つのパターンの列でそれぞれ1/2ピッチずれたいわゆる千鳥状に配列されたり、また、パターン同士が相互に食い込むように配列されたりすることが好ましい。これは、このような配列により、ダミーパターン11の間隙部を通る直線が、どのような方向に向かおうとも、いずれかのダミーパターン11に突き当たり、ダミーエリア10を通過して製品エリア20に延びないからである。その結果、大判のパネル200から中判の短冊状の多数個取りプリント配線板100に切断する際に、その切断部でクラックが発生しても、端縁10a(図1A参照)に入ったクラックが、第1面SF1上をこの直線方向に沿って延びてダミーエリア10を通過して、製品エリア20(図1A参照)に入り込む可能性が阻止され得ると考えられる。しかしダミーパターン11はこのような構造には限定されない。たとえば、ダミーパターン11は、不規則な配置でも、マトリックス状の規則的な配置でも構わない。   For example, as shown in FIG. 2A (a), the dummy pattern 11 has a dot pattern shape that is connected independently or by wiring or the like on the first surface SF1 of the dummy area 10 of the resin insulating layer 30 (see FIG. 1B). Or in a linear form. FIG. 2A shows a dummy pattern 11 having a hexagonal planar shape, but the shape of the dummy pattern is not limited to this, and it may be a triangle, a rectangle or a rhombus, a polygon more than that, It may be a cross shape or a circle or an ellipse. FIG. 2A shows an example in which all dummy patterns 11 are arranged in an intricate manner. That is, as shown in FIG. 2A, the dummy patterns are arranged in a so-called zigzag pattern in which two adjacent patterns are shifted by 1/2 pitch, or the patterns are arranged so as to bite each other. It is preferable to do. This is because, by such an arrangement, the straight line passing through the gap portion of the dummy pattern 11 hits any dummy pattern 11 and does not extend to the product area 20 through the dummy area 10 regardless of the direction. Because. As a result, when a large-sized panel 200 is cut into a medium-sized strip-shaped printed circuit board 100, even if a crack is generated at the cut portion, the crack enters the edge 10a (see FIG. 1A). However, it is considered that the possibility of entering the product area 20 (see FIG. 1A) by extending along the linear direction on the first surface SF1 and passing through the dummy area 10 can be prevented. However, the dummy pattern 11 is not limited to such a structure. For example, the dummy patterns 11 may be irregularly arranged or regularly arranged in a matrix.

前述のように、パネル200から短冊状の中判の多数個取りプリント配線板100に切断する際にクラックが生じることがあるため、このようなダミーパターン11が表面に設けられると、クラックの製品エリア20側への侵入をそのダミーパターンで阻止しやすくなるので好ましい。しかし、樹脂絶縁層30の厚さ方向の中間部または第2面SF2側に入るクラックに対しては、必ずしも完全には製品エリア20へのクラックの侵入を阻止することができない可能性がある。そのため、本実施形態では、樹脂絶縁層30の第1面SF1上にダミーパターン11が形成されるだけでなく、ダミーパターン11と接続して形成されるダミーポストまたはダミー壁12が、樹脂絶縁層30を貫通するように形成される。ダミーポストまたはダミー壁12は、ダミーパターン11の形状には左右されずに、独立して任意の形状に形成されてよい。ダミーポストまたはダミー壁12が樹脂絶縁層30を貫通して形成されることにより、クラックが樹脂絶縁層の厚さ方向のどの部分に入っても、クラックの侵入を阻止しやすくなると考えられる。したがって、クラックの製品エリア20側への侵入阻止効果がさらに向上され得る。   As described above, cracks may occur when the panel 200 is cut into the strip-shaped, medium-sized printed circuit board 100. When such a dummy pattern 11 is provided on the surface, the crack product It is preferable because the dummy pattern easily prevents entry into the area 20 side. However, there is a possibility that cracks entering the intermediate portion in the thickness direction of the resin insulating layer 30 or the second surface SF2 side cannot be completely prevented from entering the product area 20. Therefore, in the present embodiment, not only the dummy pattern 11 is formed on the first surface SF1 of the resin insulating layer 30, but also the dummy post or the dummy wall 12 formed so as to be connected to the dummy pattern 11 includes the resin insulating layer. 30 is formed so as to penetrate through 30. The dummy post or the dummy wall 12 may be independently formed in an arbitrary shape without being influenced by the shape of the dummy pattern 11. By forming the dummy post or the dummy wall 12 so as to penetrate the resin insulating layer 30, it is considered that the crack can easily be prevented from entering any part of the resin insulating layer in the thickness direction. Therefore, the effect of preventing cracks from entering the product area 20 can be further improved.

この観点からは、ダミーエリア10の樹脂絶縁層30を貫通するダミーポストまたはダミー壁12は、ダミーパターン11の径(幅)とほぼ同じ径(幅)で、できるだけ多く形成されることにより、多数個取りプリント配線板100の機械的強度が向上すると共に、クラックの侵入を阻止できると考えられる。一方、製品エリアでも、導体ポスト25が形成され、これらはともに同時に電気めっきで形成され得る。ダミーポストまたはダミー壁12の数が増加し、その合計の断面積が大きくなりすぎると、導体ポスト25の部分に比べて電気めっき時の電流密度が低下する。電流密度が低くなるとめっき膜の形成速度が遅くなるため、ダミーポストまたはダミー壁12の高さと導体ポスト25の高さにバラツキが生じると考えられる。従って、ダミーエリア10の面積に対するダミーポストまたはダミー壁12の全断面積の割合(残銅率)と製品エリア20の面積に対する全導体ポスト25の全断面積の割合(残銅率)とがほぼ等しいことが好ましい。なお「残銅率」とは、その部分の全体の面積に対する導体ポストまたはダミーポストなどの断面積の総計の割合を意味するものであり、導体ポストまたはダミーポストなどの材料が銅でない場合も含む。 From this point of view, a large number of dummy posts or dummy walls 12 penetrating the resin insulating layer 30 in the dummy area 10 are formed as many as possible with the same diameter (width) as the diameter (width) of the dummy pattern 11. It is considered that the mechanical strength of the individual printed wiring board 100 is improved and the penetration of cracks can be prevented. On the other hand, conductor posts 25 are also formed in the product area, and both of them can be formed by electroplating at the same time. If the number of dummy posts or dummy walls 12 increases and the total cross-sectional area thereof becomes too large, the current density during electroplating will be lower than that of the conductor posts 25. When the current density is lowered, the plating film formation speed is reduced, and therefore it is considered that the height of the dummy post or dummy wall 12 and the height of the conductor post 25 are varied. Accordingly, the ratio of the total cross-sectional area of the dummy post or the dummy wall 12 to the area of the dummy area 10 (remaining copper ratio) and the ratio of the total cross-sectional area of the entire conductor post 25 to the area of the product area 20 (remaining copper ratio) are approximately. Preferably equal. The “remaining copper ratio” means the ratio of the total cross-sectional area of the conductor post or dummy post to the total area of the portion, including the case where the material of the conductor post or dummy post is not copper. .

導体ポスト25の端部は、外部との接続のために、樹脂絶縁層30の第2面SF2側に露出する必要がある。また、ダミーポストまたはダミー壁12も、樹脂絶縁層30の厚さ方向のいずれの部分で生じたクラックの進行も阻止するという点で、樹脂絶縁層30を貫通して端部が第2面SF2側に露出しているのが好ましい。従って、めっき厚のバラツキにより、ポストの高さが異なりすぎると、短いポストの高さに合わせてポストの高さが高い導体ポストを研磨する必要が生じる。この場合、全ての導体ポスト25およびダミーポストまたはダミー壁12の端面と樹脂絶縁層30の第2面SF2とを均一に揃えるための研磨工程は、両者の高さの違いが大きいほど長くなり、これにより、研磨工程のあいだの製品の損傷の可能性も高まる可能性がある。したがって、できるだけ、電気めっきの厚さ、すなわち、導体ポスト25とダミーポストまたはダミー壁12との高さが一定になるようにすることが必要となる。そのため、製品エリア20の第2面SF2側の残銅率と、ダミーエリア10の第2面SF2側の残銅率との差は小さいほど好ましく、10%以下であることがより好ましいと考えられる。その観点から、このダミーポストまたはダミー壁12の数が決定されるのが好ましいと考えられる。   The end portion of the conductor post 25 needs to be exposed to the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 for connection to the outside. Further, the dummy post or the dummy wall 12 also penetrates the resin insulating layer 30 and has an end portion on the second surface SF2 in that the progress of a crack generated in any part in the thickness direction of the resin insulating layer 30 is also prevented. It is preferable to be exposed to the side. Therefore, if the post height is too different due to variations in plating thickness, it is necessary to polish a conductor post having a high post height in accordance with the short post height. In this case, the polishing step for uniformly aligning all the conductor posts 25 and the end surfaces of the dummy posts or the dummy walls 12 and the second surface SF2 of the resin insulating layer 30 becomes longer as the difference in height between the two is larger, This can also increase the possibility of product damage during the polishing process. Therefore, it is necessary to make the electroplating thickness, that is, the height of the conductor post 25 and the dummy post or the dummy wall 12 as constant as possible. Therefore, the difference between the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the product area 20 and the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the dummy area 10 is preferably as small as possible and more preferably 10% or less. . From this point of view, it is considered preferable that the number of dummy posts or dummy walls 12 is determined.

ダミーポストまたはダミー壁12が表面に形成されるダミーパターン11は、ダミーエリア10内のクラックの進行阻止という目的からはダミーエリア10の全面に形成されるのが好ましい。加えて、ダミーパターン11は、プリント配線板の反りや撓みが生じ難くなる点で、所謂ベタパターンなどではなく複数のドット状または線状の導体パターンとして形成されるのが好ましいことがある。そのため、たとえば、前述の図2A(a)に示されるようなダミーパターン11がダミーエリア10の全面に数多く形成される。一方、導体ポスト25は、プリント配線板内の電気回路に応じて必要数しか設けられない。そこで、本実施形態では、ダミーパターン11を密集させて広範囲に形成しながら、樹脂絶縁層30の第2面SF2側の製品エリア20とダミーエリア10との残銅率の差を少なくするため、ダミーパターン11の一部のパターンのみにダミーポストまたはダミー壁12が接続されて形成される。なお、ダミーエリア10自体の樹脂絶縁層30の第2面SF2側の残銅率は、5〜30%であることが好ましいと考えられる。   The dummy pattern 11 on which the dummy posts or the dummy walls 12 are formed is preferably formed on the entire surface of the dummy area 10 for the purpose of preventing the progress of cracks in the dummy area 10. In addition, the dummy pattern 11 may be preferably formed as a plurality of dot-like or linear conductor patterns rather than a so-called solid pattern in that the printed wiring board is less likely to warp or bend. Therefore, for example, many dummy patterns 11 as shown in FIG. 2A (a) are formed on the entire surface of the dummy area 10. On the other hand, the necessary number of conductor posts 25 is provided according to the electric circuit in the printed wiring board. Therefore, in the present embodiment, the dummy pattern 11 is densely formed in a wide range, and the difference in the remaining copper ratio between the product area 20 on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 and the dummy area 10 is reduced. A dummy post or a dummy wall 12 is connected to only a part of the dummy pattern 11. It is considered that the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 in the dummy area 10 itself is preferably 5 to 30%.

図2Aに示される実施形態の例のプリント配線板では、樹脂絶縁層30の第1面SF1(図1B参照)上に独立して形成されているダミーパターン11と、樹脂絶縁層30の第2面SF2側(図1B参照)が図2A(b)に示されるように、端部が互いに独立してドット状に露出するようにダミーパターン11と接続して形成されるダミーポスト121とを有している。そして、ダミーパターン11の一部のパターン11g上のみにダミーポスト121が形成されている。なお、図2A(b)には、第1面SF1側からの透過で第2面SF2側が示されている。すなわち、ダミーポスト121は、ダミーパターン11に対して間引かれている。このことにより、ダミーエリア10の残銅率が低下して、製品エリア20の残銅率に近いものとなる。それにより、ダミーポスト121による、多数個取りのプリント配線板の製品エリア20側へのクラックの侵入の阻止およびプリント配線板の強度強化の効果を有しながら、略均一な高さの導体ポスト25およびダミーポスト121が電気めっきにより形成される。その結果、製造工程での樹脂絶縁層の研磨工程を短時間で済ませることができる。   In the printed wiring board of the example of the embodiment shown in FIG. 2A, the dummy pattern 11 independently formed on the first surface SF <b> 1 (see FIG. 1B) of the resin insulating layer 30 and the second of the resin insulating layer 30. As shown in FIG. 2A (b), the surface SF2 side (see FIG. 1B) has dummy posts 121 formed so as to be connected to the dummy pattern 11 so that the ends are exposed in a dot shape independently of each other. doing. A dummy post 121 is formed only on a part of the pattern 11 g of the dummy pattern 11. In FIG. 2A (b), the second surface SF2 side is shown by transmission from the first surface SF1 side. That is, the dummy post 121 is thinned out with respect to the dummy pattern 11. As a result, the remaining copper ratio of the dummy area 10 is reduced and becomes close to the remaining copper ratio of the product area 20. Thereby, the dummy post 121 has the effect of preventing cracks from entering the product area 20 side of the multi-piece printed wiring board and enhancing the strength of the printed wiring board, while having a substantially uniform height of the conductor post 25. And the dummy post 121 is formed by electroplating. As a result, the polishing process of the resin insulating layer in the manufacturing process can be completed in a short time.

ダミーポスト121が接続されるダミーパターン11は、ダミーエリア10の樹脂絶縁層30の第2面SF2側が所望の残銅率となり、かつ製品エリア20側へのクラックの侵入ができるだけ多く阻止され得る程度にダミーポスト121がダミーエリア10内に分散して形成されるように選択されるのが好ましい。ダミーポスト121は、列状に1列だけ形成されても、或いは、2列以上の複数列にわたって設けられてもよく、たとえば、隣接する2列で互いにずらしてダミーパターン11に対して一つおきに間引かれた千鳥状など、規則的に設けられてよい。或いは、図2A(b)のように不規則に、たとえば、プリント配線板の構造上クラックの進行の可能性が低いと推定される部分で他の部分より多く間引かれてもよい。   The dummy pattern 11 to which the dummy posts 121 are connected has a desired residual copper ratio on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 in the dummy area 10 and can prevent as much crack penetration as possible from the product area 20 side. The dummy posts 121 are preferably selected so as to be distributed in the dummy area 10. The dummy posts 121 may be formed in a single row, or may be provided over a plurality of rows of two or more. For example, the dummy posts 121 are shifted with respect to the dummy pattern 11 by being shifted from each other in two adjacent rows. It may be provided regularly such as a zigzag pattern thinned out. Alternatively, as shown in FIG. 2A (b), irregularities may be thinned out more than other portions, for example, at a portion where the possibility of progress of cracks is low due to the structure of the printed wiring board.

図2Aは、ダミーパターン11が六角形状のドットパターンで、このダミーパターン11(具体的にはパターン11g)に接続して形成されるダミーポスト121の平面形状が、ダミーポスト121の端部12bが図2A(b)に示されるように円形の例である。このように、ダミーポスト121の平面形状は、ダミーパターン11の形状に関わらず、円形、矩形もしくはその他の多角形、楕円、菱形など、種々の形状に形成され得る。またこの場合、独立したドット状に形成されても、後述のようにダミー壁122で相互に連結されたパターンに形成されてもよい。   In FIG. 2A, the dummy pattern 11 is a hexagonal dot pattern, and the dummy post 121 formed in connection with the dummy pattern 11 (specifically, the pattern 11g) has a planar shape such that the end 12b of the dummy post 121 is It is an example of a circle as shown in FIG. 2A (b). As described above, the planar shape of the dummy post 121 can be formed in various shapes such as a circle, a rectangle or other polygons, an ellipse, and a rhombus regardless of the shape of the dummy pattern 11. In this case, it may be formed in an independent dot shape, or may be formed in a pattern connected to each other by a dummy wall 122 as will be described later.

ダミーパターン11およびダミーポストもしくはダミー壁の形状について、図2B〜2Dを参照してさらに詳細に説明される。なお、図2B〜2Dにおいては、図2Aと同様に、(a)に樹脂絶縁層30の第1面SF1の平面説明図が、そして、(b)には、各図の(a)に示される第1面SF1側からの透過で樹脂絶縁層30の第2面SF2側の説明図が示されている。図2B(a)には、図2A(a)と同様に、ダミーパターン11が、配線のように連続したパターンではなく、個々に独立したドット状パターン11aで形成される例が示されている。この場合、製造段階で加熱される際に樹脂などから発生するガスが、連続したパターンでダミーパターン11が形成される場合に比べて抜けやすいという利点がある。また、製造時におけるプリント配線板の反りや撓みの発生といった問題も回避されやすい。このような独立したドット状パターン11aには、前述の図2Aを参照して説明されたように種々の形状が採用されてよく、図2B(a)には、円形に形成される例が示されている。また、ドット状パターン11aは、図2Aに示されるダミーパターン11のように隣接するパターンが互いに食い込むようには配置されていないが、同様に千鳥状に配置され、比較的クラックが進行し難い配置にされている。   The shapes of the dummy pattern 11 and the dummy post or the dummy wall will be described in more detail with reference to FIGS. 2B to 2D, as in FIG. 2A, (a) is an explanatory plan view of the first surface SF1 of the resin insulating layer 30, and (b) is shown in (a) of each drawing. An explanatory view on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 is shown by transmission from the first surface SF1 side. FIG. 2B (a) shows an example in which the dummy pattern 11 is not formed as a continuous pattern like a wiring, but is formed as an independent dot pattern 11a as in FIG. 2A (a). . In this case, there is an advantage that the gas generated from the resin or the like when heated in the manufacturing stage is easily removed compared to the case where the dummy pattern 11 is formed in a continuous pattern. In addition, problems such as the occurrence of warping and bending of the printed wiring board during manufacture are easily avoided. As described above with reference to FIG. 2A, various shapes may be adopted for such an independent dot pattern 11a, and FIG. 2B (a) shows an example of a circular shape. Has been. In addition, the dot pattern 11a is not arranged so that adjacent patterns bite into each other like the dummy pattern 11 shown in FIG. 2A, but is similarly arranged in a staggered manner and is relatively difficult to crack. Has been.

そして、前述のように、ドット状パターン11aの一部のみに、すなわち、図2Bに示されるように、ダミーパターン11に対して間引かれてダミーポスト121が形成されている。図2Bに示される例では、ダミーポスト121は、ドット状パターン11aが千鳥状の配置で形成されているダミーパターン11に対して、図2B上、右上がりの傾斜列で一列置きに間引いて形成されている。それにより、樹脂絶縁層30の第2面SF2側のダミーエリア10の残銅率と製品エリア20の残銅率との差が小さくされており、好ましくはその差が10%以内になるように形成される。この結果、電気めっきにより導体ポスト25およびダミーポスト121の両方が同時に形成されても、その両方の高さが略同じに形成され、これらの端部が樹脂絶縁層30の第2面SF2に露出するように樹脂絶縁層30が研磨される量が少なくなることがある。   As described above, only the part of the dot pattern 11a, that is, the dummy post 121 is formed by being thinned out with respect to the dummy pattern 11 as shown in FIG. 2B. In the example shown in FIG. 2B, the dummy posts 121 are formed by thinning out every other row in an upwardly inclined row in FIG. 2B with respect to the dummy pattern 11 in which the dot patterns 11a are formed in a staggered arrangement. Has been. Thereby, the difference between the remaining copper ratio of the dummy area 10 on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 and the remaining copper ratio of the product area 20 is reduced, and preferably the difference is within 10%. It is formed. As a result, even if both the conductor post 25 and the dummy post 121 are formed simultaneously by electroplating, both of them are formed to have substantially the same height, and their end portions are exposed on the second surface SF2 of the resin insulating layer 30. As a result, the amount by which the resin insulating layer 30 is polished may be reduced.

図2Bに示される例では、ダミーポスト121は、ダミーパターン11に対して一列置きに間引かれているが、前述のように、ダミーポスト121は、任意の配置パターンで設けられてよい。また、ダミーパターン11について説明されたように、ダミーポスト121も、クラックが直線状に延びて容易に製品エリア20に達することを阻止できるように設けられるのが好ましい。たとえば、図2Bに示されるよりも大きな幅、もしくは狭い間隔でダミーポスト121が設けられ、多数個取りプリント配線板100の側面のいずれの方向からみても、ダミーポスト121同士が重なり合うように形成されるのが好ましい場合がある。   In the example shown in FIG. 2B, the dummy posts 121 are thinned out every other row with respect to the dummy pattern 11, but as described above, the dummy posts 121 may be provided in an arbitrary arrangement pattern. Further, as described for the dummy pattern 11, the dummy post 121 is also preferably provided so that cracks can be prevented from extending straight and reaching the product area 20 easily. For example, dummy posts 121 are provided with a larger width or narrower spacing than shown in FIG. 2B, and the dummy posts 121 are formed so as to overlap each other when viewed from any side of the multi-sided printed wiring board 100. It may be preferable.

図2C(a)には、線状のダミーパターンの例が示されている。すなわち、線状に延びる導体からなる線状パターン11bが複数個並列されている縞状パターンと、線状パターン11bと直交する線状パターン11cが複数個並列されている縞状パターンとが交差する状態で接続されて全体としてメッシュ状のダミーパターン11が形成されている。各線状パターン同士の間隔は、メッシュ状のダミーパターン11がマトリックス状の規則的なパターンとなるように等間隔であってよく、或いは、個々に異なっていてもよい。   FIG. 2C (a) shows an example of a linear dummy pattern. That is, a striped pattern in which a plurality of linear patterns 11b made of conductors extending in a line intersects with a striped pattern in which a plurality of linear patterns 11c orthogonal to the linear pattern 11b are aligned. A dummy mesh pattern 11 is formed as a whole connected in a state. The intervals between the linear patterns may be equal so that the mesh-like dummy pattern 11 becomes a regular matrix pattern, or may be different from each other.

また、図2D(a)には、図2B(a)と同様のドット状パターン11a、および、図2C(a)と同様の線状パターン11b、11cが接続されて全体が形成されるダミーパターン11が示されている。換言すると、平面形状が円形状の個別のドット状パターン11aがマトリックス状に複数個形成され、隣接するドット状パターン11aとの間を線状パターン11b、11cによって連結されてダミーパターン11が形成されている。図2C(a)および図2D(a)に例示されるダミーパターン11は、個別パターンだけが形成されている場合と違って、ダミーパターン11の間隙部を直線が通ってダミーエリア10を通過しないように切れ目なく形成されている。特に、線状パターン11b、11cにより、または、4個のドット状パターン11aと線状パターン11b、11cとにより閉ループが形成されている。このように、常に閉じたパターンが形成されることにより、ダミーエリア10のどの部分でクラックが生じても、その進行が、ドット状または線状パターン11a〜11cのいずれかにより遮断され、ダミーエリア10を通過することができなくなる。そのため、クラックの製品エリア20側への侵入が阻止されやすい。なお、図2C(a)および図2D(a)は、ダミーパターン11の好ましい例に過ぎず、ダミーパターン11に不連続な部分があってもよいが、クラックがダミーエリア10を通過しないように形成されるのが好ましい。   2D (a) is a dummy pattern in which the dot pattern 11a similar to FIG. 2B (a) and the linear patterns 11b and 11c similar to FIG. 2C (a) are connected to form the whole. 11 is shown. In other words, a plurality of individual dot patterns 11a having a circular planar shape are formed in a matrix, and the dummy patterns 11 are formed by connecting the adjacent dot patterns 11a with the linear patterns 11b and 11c. ing. Unlike the case where only individual patterns are formed, the dummy pattern 11 illustrated in FIGS. 2C (a) and 2D (a) does not pass through the dummy area 10 through a straight line through the gap portion of the dummy pattern 11. It is formed without any breaks. In particular, a closed loop is formed by the linear patterns 11b and 11c or by the four dot patterns 11a and the linear patterns 11b and 11c. In this way, by always forming a closed pattern, any portion of the dummy area 10 that is cracked is prevented from progressing by any of the dot-like or linear patterns 11a to 11c. 10 cannot be passed. Therefore, it is easy to prevent the crack from entering the product area 20 side. 2C (a) and 2D (a) are only preferable examples of the dummy pattern 11, and the dummy pattern 11 may have a discontinuous portion, but the crack does not pass through the dummy area 10. Preferably it is formed.

図2C(a)および図2D(a)に示される好ましい実施形態のダミーパターン11に対してダミーポストまたはダミー壁12(図1B参照)が間引いて設けられる。すなわち、ドット状パターン11aおよび/または線状パターン11b、11cの一部のみに接続してダミーポスト121またはダミー壁122が形成される(図2C(b)および図2D(b)参照)。   A dummy post or dummy wall 12 (see FIG. 1B) is provided by thinning out the dummy pattern 11 of the preferred embodiment shown in FIGS. 2C (a) and 2D (a). That is, the dummy post 121 or the dummy wall 122 is formed by connecting to only part of the dot pattern 11a and / or the linear patterns 11b and 11c (see FIG. 2C (b) and FIG. 2D (b)).

図2Cに示される例では、それぞれ並列して形成されている線状パターン11b、11cに接続して、かつ1本置きにダミー壁122が形成されている。ダミー壁122は、図2C上、線状パターン11b、11cと同様の形状に示されているが、図4Gなどにダミーポストまたはダミー壁12として示されているように、導体ポスト25と略同じ高さを有しており、ダミーパターン11上に隔壁状に立設されている。ダミー壁122は、線状パターン11b、11cに対して2本以上置きに間引かれてもよく、また、2本以上続けて間引かれてもよい。また、一定のピッチではなく、不規則な間隔で間引かれてもよい。このように、ダミーパターン11に対してダミー壁122が間引かれて形成されることにより、ダミーエリア10の残銅率が低下して、製品エリア20の残銅率に近付けられている。   In the example shown in FIG. 2C, dummy walls 122 are formed every other line connected to the linear patterns 11b and 11c formed in parallel. The dummy wall 122 is shown in the same shape as the linear patterns 11b and 11c in FIG. 2C, but is substantially the same as the conductor post 25 as shown as a dummy post or dummy wall 12 in FIG. 4G and the like. It has a height and is erected in a partition shape on the dummy pattern 11. Two or more dummy walls 122 may be thinned out with respect to the linear patterns 11b and 11c, or two or more dummy walls may be thinned out continuously. Moreover, it may be thinned out at irregular intervals instead of a constant pitch. As described above, the dummy wall 122 is thinned and formed with respect to the dummy pattern 11, so that the remaining copper ratio in the dummy area 10 is lowered and is approaching the remaining copper ratio in the product area 20.

図2Dに示される例では、ダミーパターン11を構成するドット状パターン11aおよび線状パターン11b、11cそれぞれに対して、ダミーポスト121およびダミー壁122が、図2Bおよび図2Cに示される例と同様に間引いて形成されている。しかしながら、図2Dに示される例では、図2Bおよび図2Cと異なり、ドット状パターン11aおよび線状パターン11b、11cは、1列置きや1本置きのような規則性はなく任意の位置で間引かれている。このように、線状パターン11b、11cが形成される場合も、その表面にダミー壁122が接続されるパターンは任意に選択され得る。すなわち、ダミーポスト121と同様に、ダミー壁122同士の間隔が均一である必要はない。たとえば、前述のように、ダミーエリア10内で場所によってクラックの生じ易さに違いがあるような場合は、その状況に応じた場所のダミーポスト121および/またはダミー壁122が適宜間引かれてよい。   In the example shown in FIG. 2D, the dummy posts 121 and the dummy walls 122 are the same as the examples shown in FIGS. 2B and 2C for the dot pattern 11a and the linear patterns 11b and 11c constituting the dummy pattern 11, respectively. It is formed by thinning out. However, in the example shown in FIG. 2D, unlike FIG. 2B and FIG. 2C, the dot pattern 11a and the linear patterns 11b and 11c have no regularity like every other row or every other line, and are not at regular positions. It is drawn. Thus, even when the linear patterns 11b and 11c are formed, a pattern in which the dummy wall 122 is connected to the surface thereof can be arbitrarily selected. That is, like the dummy posts 121, the intervals between the dummy walls 122 need not be uniform. For example, as described above, when there is a difference in the likelihood of cracks depending on the location in the dummy area 10, the dummy posts 121 and / or the dummy walls 122 corresponding to the situation are appropriately thinned out. Good.

このように、ダミーパターン11は、ドット状パターン11a、線状パターン11b、11c、または、それらが組み合わされたものであってよく、ダミーパターン11それぞれに沿ってその上にダミーポスト121もしくはダミー壁122、または、その両方が形成される。たとえば、ダミーエリア10は、ダミーパターン11を構成するドット状パターン11a上のダミーポスト121、および、線状パターン11b、11c上のダミー壁122の両方をもち得る。しかしながら、実施形態の多数個取りのプリント配線板100では、ダミーポストまたはダミー壁12は、ダミーパターン11の全てではなく、その一部にのみ接続して形成される。それにより、端縁10a(図1A参照)で生じたクラックの製品エリア20への進行が効果的に阻止されると共に、導体ポスト25との高さの違いの少ないダミーポストおよび/またはダミー壁12が形成され、端部の研磨量が少なくなることにより多数個取りのプリント配線板100の製造が容易になり、その損傷の可能性も低くなることがある。   Thus, the dummy pattern 11 may be a dot pattern 11a, a linear pattern 11b, 11c, or a combination thereof, and a dummy post 121 or a dummy wall is formed on each dummy pattern 11 along the dummy pattern 11. 122 or both are formed. For example, the dummy area 10 can have both a dummy post 121 on the dot pattern 11a constituting the dummy pattern 11 and a dummy wall 122 on the linear patterns 11b and 11c. However, in the multi-piece printed wiring board 100 of the embodiment, the dummy post or the dummy wall 12 is formed to be connected to only a part of the dummy pattern 11 instead of the whole. Thereby, the progress of the crack generated at the edge 10a (see FIG. 1A) to the product area 20 is effectively prevented, and the dummy post and / or the dummy wall 12 having a small height difference from the conductor post 25 is obtained. As a result, the amount of polishing at the end is reduced, making it easier to manufacture a multi-piece printed wiring board 100 and reducing the possibility of damage.

プリント配線板の構造としては、種々の構造のものに適用できる。たとえば、図1Bに製造工程途中のパネル200の状態の図1Aの1B−1B断面説明図が示される構造に適用できる。この構造では、ダミーパターン11がダミーエリア10の樹脂絶縁層30の第1面SF1に、製品エリア20の各プリント配線板1a、1b、1cに形成される、図示しない半導体素子などが搭載される第2パターン21bや、導体ポスト25が形成される第1パターン21aなどを有する第1導体層21と同時に形成される。また、樹脂絶縁層30の第1面SF1と反対面である第2面SF2または第2面SF2上に積層される積層樹脂絶縁層31(図6参照)の最外層である最外層樹脂絶縁層の露出面には配線パターンが形成されないで、第1導体層21側の導体層と接続される導体ポスト25(図4G参照)の端部25aのみが露出している。そして、ダミーエリア10のダミーパターン11と接続して、ダミーポストまたはダミー壁12が形成されている。ダミーポストまたはダミー壁12は、前述の通り、ダミーパターン11の形状に関わらず、ドット状または線状の端部を第2面SF2側に露出している。理想的には、このダミーポストまたはダミー壁12が、その間隙部を直線が通過して製品エリアに抜けないように形成されていることが望ましいが、そうでなくても、発生する大部分のクラックを阻止することができれば、製品エリアのプリント配線板の不良品化を避けることができるため、大きな効果がある。ダミーポストまたはダミー壁12の数を多くすれば、阻止する確率は高くすることができるが、前述の残銅率が、製品エリア20の残銅率より大きくなりすぎると、ポストの高さがばらつくという問題が生じやすい。したがって、ダミーポストまたはダミー壁12はダミーパターン11の一部のパターン11gのみに形成され、その数は両者の兼ね合いで決定される。   The printed wiring board can be applied to various structures. For example, FIG. 1B can be applied to a structure in which the 1B-1B cross-sectional explanatory view of FIG. In this structure, the dummy pattern 11 is mounted on the first surface SF <b> 1 of the resin insulating layer 30 in the dummy area 10 on the printed circuit boards 1 a, 1 b, 1 c in the product area 20, and semiconductor elements (not shown) are mounted. It is formed simultaneously with the first conductor layer 21 having the second pattern 21b, the first pattern 21a on which the conductor posts 25 are formed, and the like. Further, the outermost resin insulating layer which is the outermost layer of the laminated resin insulating layer 31 (see FIG. 6) laminated on the second surface SF2 or the second surface SF2 opposite to the first surface SF1 of the resin insulating layer 30. A wiring pattern is not formed on the exposed surface, and only the end portion 25a of the conductor post 25 (see FIG. 4G) connected to the conductor layer on the first conductor layer 21 side is exposed. A dummy post or a dummy wall 12 is formed in connection with the dummy pattern 11 in the dummy area 10. As described above, the dummy post or the dummy wall 12 has a dot-shaped or linear end portion exposed to the second surface SF2 side regardless of the shape of the dummy pattern 11. Ideally, it is desirable that the dummy post or the dummy wall 12 is formed so that a straight line does not pass through the gap portion and does not come out into the product area. If the crack can be prevented, the printed wiring board in the product area can be prevented from being defective. If the number of dummy posts or dummy walls 12 is increased, the probability of blocking can be increased. However, if the above-described remaining copper ratio is too larger than the remaining copper ratio of the product area 20, the height of the posts varies. The problem is likely to occur. Therefore, the dummy posts or the dummy walls 12 are formed only on a part of the pattern 11g of the dummy pattern 11, and the number thereof is determined by the balance between the two.

すなわち、前述のように、樹脂絶縁層30の一面にのみ配線パターンが形成されて、他面側には導体ポスト25のみが露出する構造のプリント配線板の方が、端縁10aで入ったクラックが製品エリア20まで延びやすいので、その例が示されている。なお、このような樹脂絶縁層30の第2面SF2側は、マザーボードなどと導体ポスト25を介して接続される。しかし、前述のように、本実施形態のダミーポストまたはダミー壁12を有する構造が適用されるプリント配線板は、このような片面にのみ配線パターンが形成されるプリント配線板には限定されない。なお、このプリント配線板100の製造方法は後で詳述されるが、このパネル200から短冊状の多数個取りプリント配線板100に切断されるタイミングは、2通りの方法があるので、その説明がされる。   That is, as described above, the printed wiring board having a structure in which the wiring pattern is formed only on one surface of the resin insulating layer 30 and only the conductor post 25 is exposed on the other surface side is cracked at the edge 10a. Is easy to extend to the product area 20, an example of which is shown. Note that the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 is connected to a motherboard or the like via the conductor post 25. However, as described above, the printed wiring board to which the structure having the dummy post or the dummy wall 12 of the present embodiment is applied is not limited to such a printed wiring board in which a wiring pattern is formed only on one side. A method for manufacturing the printed wiring board 100 will be described in detail later, but there are two methods for cutting the panel 200 into the strip-shaped multi-piece printed wiring board 100. Is done.

まず、図1Bにほぼ製造の終盤工程の状態で、図1Aの1B−1B断面の説明図が示されている。すなわち、完全な断面図ではなく、一部省略された主要部のみの図であると共に、ダミーパターン11およびダミーポストまたはダミー壁12の部分は一列のみで示されている。前述のように、支持板80上に金属膜81を介して第1導体層21および樹脂絶縁層30が積層され、最終的に支持板80が除去されてプリント配線板が形成される。この支持板80は、たとえばダミー基板80a(図4A参照)に、たとえばキャリア銅箔80b付き金属膜81のキャリア銅箔80b側がダミー基板80aに貼り付けられている。そして、その金属膜81上に第2パターン21bなどを含む第1導体層21がダミーパターンと共に形成され、さらに図示されていない導体ポストと共に、ダミーポストまたはダミー壁12が形成されて、樹脂絶縁層30により埋め込まれる構造になっている。   First, FIG. 1B shows an explanatory diagram of the 1B-1B cross section of FIG. 1A in the state of the final manufacturing process. That is, it is not a complete cross-sectional view, but is a view of only a main part partially omitted, and the dummy pattern 11 and the dummy post or the dummy wall 12 are shown in only one row. As described above, the first conductor layer 21 and the resin insulating layer 30 are laminated on the support plate 80 via the metal film 81, and finally the support plate 80 is removed to form a printed wiring board. The support plate 80 is, for example, bonded to the dummy substrate 80a (see FIG. 4A), for example, the carrier copper foil 80b side of the metal film 81 with the carrier copper foil 80b. Then, the first conductor layer 21 including the second pattern 21b and the like is formed on the metal film 81 together with the dummy pattern, and the dummy post or the dummy wall 12 is formed together with the conductor post (not shown), and the resin insulating layer 30 is embedded.

その後、支持板80を剥離すると、支持板80の両面に形成された大判のパネル200が得られる。その大判のパネル200にした状態で前述のD−D線で切断されるのが第1の方法である。図1Cは、このように支持板80が剥離され、さらに金属膜81が除去された後に、切断された状態が示されている。このようにすれば、切断は容易であるが、薄い大判のパネル200を取り扱わなければならないので、注意しながら作業を進める必要がある。   Thereafter, when the support plate 80 is peeled off, a large panel 200 formed on both surfaces of the support plate 80 is obtained. In the state where the large panel 200 is formed, the first method is to cut along the DD line. FIG. 1C shows a state in which the support plate 80 is peeled and the metal film 81 is further removed and then cut. In this way, cutting is easy, but the thin large panel 200 must be handled, so it is necessary to proceed with caution.

一方、図1Bの状態から支持板80の剥離前に切断されるのが第2の方法である。その様子を示したのが、図1Dである。すなわち、図1Bの状態で切断分離された状態が図1Dに示されている。この後で、短冊状の多数個取りプリント配線板100が支持板80から剥がされ、それぞれの多数個取りプリント配線板100になる。この後で、後述される金属膜81のエッチング除去などが行われる。この方法であれば、切断作業時の取り扱いは容易であるが、多数個取りプリント配線板100を支持板80から剥がす作業および金属膜81の除去をそれぞれの多数個取りプリント配線板100の中判サイズで行う必要があるので、工数がかかる。   On the other hand, the second method is to cut from the state of FIG. This is shown in FIG. 1D. That is, FIG. 1D shows a state of being cut and separated in the state of FIG. 1B. Thereafter, the strip-shaped multi-cavity printed wiring board 100 is peeled off from the support plate 80 to become the respective multi-cavity printed wiring boards 100. After this, etching removal of the metal film 81 described later is performed. With this method, the handling during the cutting operation is easy, but the work of peeling the multi-piece printed wiring board 100 from the support plate 80 and the removal of the metal film 81 are the medium size of each of the multi-piece printed wiring boards 100. Since it is necessary to do by size, man-hours are required.

樹脂絶縁層30は、特に限定されないが、前述のように、ガラス繊維などの芯材が入っていない方が、クラックが延びやすい。これは芯材があればクラックは止まりやすいが、芯材が無いと止まるところがなく、クラックが進行するからと考えられる。従って、本実施形態では、芯材が入っていない樹脂が用いられる場合に特に有効である。芯材が入っていない樹脂としては、層間絶縁用の樹脂フィルム(無機フィラーと樹脂組成物のみで形成されたフィルム)とか、モールド用の樹脂(型内に流し込んで固める樹脂)などがあるが、そのいずれでも構わない。しかし、本実施形態がこの芯材の入っていない樹脂に限定されるものでは無く、芯材入りの樹脂でも、本実施形態の効果は及ぶ。なお、樹脂絶縁層30に含浸される無機フィラーは、70〜90重量%含まれることが好ましい。また、モールド用の樹脂が用いられる場合は、熱膨張率が3〜120ppm/℃、かつ、弾性率が0.01〜30GPaのモールド成形用樹脂材料が用いられると、プリント配線板100に実装される電子部品などの接合部などに大きな熱応力が生じ難くなるため好ましい。   The resin insulating layer 30 is not particularly limited, but as described above, cracks are likely to extend when a core material such as glass fiber is not contained. This is thought to be because cracks tend to stop if there is a core material, but there is no place to stop if there is no core material, and the crack progresses. Therefore, this embodiment is particularly effective when a resin containing no core material is used. Examples of the resin that does not contain the core material include a resin film for interlayer insulation (a film formed only with an inorganic filler and a resin composition) or a mold resin (a resin that is poured into a mold and hardened). Either of them is acceptable. However, the present embodiment is not limited to the resin without the core material, and the effect of the present embodiment can be achieved even with the resin with the core material. In addition, it is preferable that the inorganic filler impregnated in the resin insulating layer 30 is contained in an amount of 70 to 90% by weight. Further, when a molding resin is used, when a molding resin material having a thermal expansion coefficient of 3 to 120 ppm / ° C. and an elastic modulus of 0.01 to 30 GPa is used, it is mounted on the printed wiring board 100. This is preferable because a large thermal stress is unlikely to be generated at a joint portion of an electronic component.

以上のように、本実施形態では、ダミーパターン11がダミーエリア10に形成されると共に、さらにダミーポストまたはダミー壁12が、ダミーパターン11の一部のパターン上のみに形成されることにより、パネル200から多数個取りのプリント配線板100に切断する際に、たとえば多数個取りのプリント配線板100の端縁10aにクラックが入った場合でも、そのクラックが製品エリア20に侵入するのを抑制することができると共に、均一な高さの導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12がより少ない工程時間で製造され得ると考えられる。   As described above, in the present embodiment, the dummy pattern 11 is formed in the dummy area 10, and the dummy post or the dummy wall 12 is formed only on a part of the dummy pattern 11. When cutting from 200 to a multi-piece printed wiring board 100, for example, even when a crack has occurred in the edge 10 a of the multi-piece printed wiring board 100, the crack is prevented from entering the product area 20. It is possible that a uniform height conductor post 25 and dummy post or dummy wall 12 could be manufactured with less process time.

この多数個取りプリント配線板100を構成する個々のプリント配線板1のパターンの一例が図3A〜3Bに示される。すなわち、図3Aには、プリント配線板1の導体ポスト25の樹脂絶縁層30の第2面SF2における配置例が、図3Bには樹脂絶縁層30の第1面SF1の配置例が示されている。図3Aに示されるように、複数の導体ポスト25が一方向に並べて形成されてなる導体ポスト列26が、プリント配線板1の各辺に沿って2列並置して形成されている。導体ポスト列26は3列以上並置されてもよく、図3Aに示されるように、各辺に沿って形成されている導体ポスト列26と一定の間隔を空けて、さらに中心部に格子状に導体ポスト25が配置されてもよい。また、たとえば、樹脂絶縁層30の第2面SF2の全面に亘って格子状に形成されてもよい。図3Aには示されていないが、これらの導体ポスト25と同時に、前述のダミーエリア10のダミーポストまたはダミー壁12も形成される。   An example of the pattern of each printed wiring board 1 constituting the multi-cavity printed wiring board 100 is shown in FIGS. 3A shows an arrangement example of the resin insulation layer 30 of the conductor post 25 of the printed wiring board 1 on the second surface SF2, and FIG. 3B shows an arrangement example of the first surface SF1 of the resin insulation layer 30. Yes. As shown in FIG. 3A, conductor post rows 26 formed by arranging a plurality of conductor posts 25 in one direction are arranged in two rows along each side of the printed wiring board 1. Three or more conductor post rows 26 may be juxtaposed. As shown in FIG. 3A, the conductor post rows 26 are spaced apart from the conductor post rows 26 formed along each side, and in a lattice form at the center. A conductor post 25 may be disposed. Further, for example, the resin insulating layer 30 may be formed in a lattice shape over the entire second surface SF2. Although not shown in FIG. 3A, simultaneously with these conductor posts 25, the dummy posts or dummy walls 12 of the aforementioned dummy area 10 are also formed.

図3Aに示されるプリント配線板1の樹脂絶縁層30の第1面SF1側の第1導体層21には、たとえば、図3Bに示されるように、第1および第2パターン21a、21b、および、第1パターン21aと第2パターン21bとを接続する配線パターン21dが形成され得る。すなわち、第1パターン21aそれぞれの図3Bに示されている面(第1面SF1)の反対側の面(第2面SF2)上には、図3Aに示される導体ポスト25が形成されている。第2パターン21bは、図3Bに示される例では、図示されていない半導体素子が接続される接続パッド21cであり、たとえば、ICチップなどの電極とハンダバンプやボンディングワイヤなどにより電気的に接続される。図3Bは、矩形状の外形の4辺それぞれに電極が配置されている半導体素子と接続される接続パッド21cの例であり、接続パッド21cが一定のピッチで配列されてなる4つの接続パッド列が、全体として矩形をなすように配置されている。また、接続パッド21c(第2パターン21b)と、その周囲に形成されている第1パターン21aとは、配線パターン21dにより接続されている。これにより、図示されない半導体素子の電極が、導体ポスト25を介して、図示されないマザーボードなどの他の配線板と電気的に接続され得る。なお、図3Bに示されている第1導体層21の各パターンは一例に過ぎず、プリント配線板1内に形成される電気回路に応じて、任意の導体パターンが形成されてよい。   The first conductor layer 21 on the first surface SF1 side of the resin insulating layer 30 of the printed wiring board 1 shown in FIG. 3A includes, for example, first and second patterns 21a, 21b, and A wiring pattern 21d that connects the first pattern 21a and the second pattern 21b can be formed. That is, the conductor post 25 shown in FIG. 3A is formed on the surface (second surface SF2) opposite to the surface (first surface SF1) shown in FIG. 3B of each first pattern 21a. . In the example shown in FIG. 3B, the second pattern 21b is a connection pad 21c to which a semiconductor element (not shown) is connected. For example, the second pattern 21b is electrically connected to an electrode such as an IC chip by a solder bump or a bonding wire. . FIG. 3B is an example of a connection pad 21c connected to a semiconductor element in which electrodes are arranged on each of four sides of a rectangular outer shape, and four connection pad rows in which the connection pads 21c are arranged at a constant pitch. However, they are arranged so as to form a rectangle as a whole. Further, the connection pad 21c (second pattern 21b) and the first pattern 21a formed around the connection pad 21c are connected by a wiring pattern 21d. Thereby, the electrode of the semiconductor element (not shown) can be electrically connected to another wiring board such as a mother board (not shown) via the conductor post 25. Note that each pattern of the first conductor layer 21 shown in FIG. 3B is merely an example, and an arbitrary conductor pattern may be formed according to an electric circuit formed in the printed wiring board 1.

次に、前述の樹脂絶縁層30の第1面SF1に第1導体層21が形成され、第2面SF2側には、導体ポスト25だけが露出するプリント配線板で、製品エリア20の外周部に設けられるダミーエリア10にダミーパターン11とダミーポストまたはダミー壁12が形成される例で、図4A〜4Gを参照して製造方法が説明される。なお、図4A〜4Gの両サイドが主要部で、中心部は省略されると共に、第1導体層21も簡略化されており、また、ダミーパターン11が両サイドに1つずつ示されている。ここで、ダミーパターン11の一部のパターン上のみにダミーポストまたはダミー壁12が形成されていることを簡潔に示すため、ダミーポストまたはダミー壁12は片方のサイドのダミーパターン11g上にのみ形成されている。   Next, the first conductor layer 21 is formed on the first surface SF1 of the resin insulating layer 30 described above, and the second surface SF2 side is a printed wiring board in which only the conductor posts 25 are exposed. In the example in which the dummy pattern 11 and the dummy post or the dummy wall 12 are formed in the dummy area 10 provided in FIG. 4, the manufacturing method will be described with reference to FIGS. 4A to 4G are the main parts, the central part is omitted, the first conductor layer 21 is also simplified, and one dummy pattern 11 is shown on each side. . Here, in order to briefly show that the dummy post or the dummy wall 12 is formed only on a part of the dummy pattern 11, the dummy post or the dummy wall 12 is formed only on the dummy pattern 11g on one side. Has been.

まず、図4Aに示されるように、金属膜81が準備される。具体的には、出発材料として、ダミー基板80aとキャリア銅箔80bとからなる支持板80および金属膜81が用意され、ダミー基板80aの両面にキャリア銅箔80bが積層され、加圧および加熱されて接合されることにより、支持板80とされ、この支持板80のキャリア銅箔80bに金属膜81が接着される。キャリア銅箔80bが予め金属膜81に接着され、そのキャリア銅箔80b付き金属膜81のキャリア金属箔80b側が支持板80のダミー基板80aに貼り付けられてもよい。支持板80には、好ましくは、ガラスクロスなどの芯材に無機フィラーを含むエポキシなどの絶縁性樹脂を含浸させた材料などからなる半硬化状態のプリプレグ材などが用いられるが、これに限定されず、他の材料が用いられてもよい。金属膜81の材料は、表面上に、第1導体層21が形成され得る材料が用いられ、好ましくは、1〜3μm程度の厚さの銅箔が用いられる。また、キャリア銅箔80bは、たとえば、15〜30μm程度、好ましくは18μm程度の厚さの銅箔が用いられる。しかしながら、キャリア銅箔80bの厚さは、これに限定されず、他の厚さにされてもよい。   First, as shown in FIG. 4A, a metal film 81 is prepared. Specifically, as a starting material, a support plate 80 and a metal film 81 made of a dummy substrate 80a and a carrier copper foil 80b are prepared, and carrier copper foil 80b is laminated on both sides of the dummy substrate 80a, and is pressed and heated. By being joined together, the support plate 80 is formed, and the metal film 81 is bonded to the carrier copper foil 80b of the support plate 80. The carrier copper foil 80b may be bonded to the metal film 81 in advance, and the carrier metal foil 80b side of the metal film 81 with the carrier copper foil 80b may be attached to the dummy substrate 80a of the support plate 80. The support plate 80 is preferably made of a semi-cured prepreg material made of a material in which a core material such as glass cloth is impregnated with an insulating resin such as epoxy containing an inorganic filler, but is not limited thereto. Instead, other materials may be used. As the material of the metal film 81, a material on which the first conductor layer 21 can be formed is used, and a copper foil having a thickness of about 1 to 3 μm is preferably used. The carrier copper foil 80b is, for example, a copper foil having a thickness of about 15 to 30 μm, preferably about 18 μm. However, the thickness of the carrier copper foil 80b is not limited to this, and may be another thickness.

キャリア銅箔80bと金属膜81との接合方法は、特に限定されないが、たとえば、両者の貼り付け面の略全面において図示されない剥離し易い熱可塑性の接着剤により接着されてもよく、あるいは、第1導体層21の導体パターンが設けられない外周付近の余白部において、接着剤または超音波接続により接合されてもよい。なお、たとえば、支持板80に両面銅張積層板が用いられ、表面の銅箔をキャリア銅箔80bとして、その上に単体の金属膜81が前述の方法などを用いて接合されてもよい。   The method for joining the carrier copper foil 80b and the metal film 81 is not particularly limited. For example, the carrier copper foil 80b may be bonded to a substantially adhesive surface of the both surfaces by an easily peelable thermoplastic adhesive, In a blank portion near the outer periphery where the conductor pattern of one conductor layer 21 is not provided, the conductor pattern may be bonded by an adhesive or ultrasonic connection. For example, a double-sided copper-clad laminate may be used for the support plate 80, the surface copper foil may be the carrier copper foil 80b, and the single metal film 81 may be bonded thereon using the method described above.

なお、図4A〜4Eには、支持板80の両面に金属膜81が接合され、それぞれの面において、第1導体層21、導体ポスト25、ダミーポストまたはダミー壁12および樹脂絶縁層30が形成される製造方法の例が示されている。このような方法で製造されれば、第1導体層21や導体ポスト25、ダミーポストもしくはダミー壁12などが2つ同時に形成されるという点で好ましい。しかしながら、支持板80の一方の面だけに第1導体層21などが形成されてもよく、また、両側で互いに異なる回路パターンの導体層などが形成されてもよい。以下の説明は、両面に同じ回路パターンが形成される例で説明されるため、一方の面だけについて説明され、他面側に関しての説明は省略され、各図面における他面側の符号も一部省略されている。   4A to 4E, the metal film 81 is bonded to both surfaces of the support plate 80, and the first conductor layer 21, the conductor post 25, the dummy post or dummy wall 12, and the resin insulating layer 30 are formed on each surface. An example of a manufacturing method is shown. If it manufactures by such a method, it is preferable at the point that the 1st conductor layer 21, the conductor post 25, the dummy post, the dummy wall 12, etc. are formed simultaneously. However, the first conductor layer 21 or the like may be formed only on one surface of the support plate 80, or conductor layers having different circuit patterns may be formed on both sides. In the following description, since the same circuit pattern is formed on both surfaces, only one surface will be described, the description on the other surface side will be omitted, and some of the reference numerals on the other surface side in each drawing are also partly described. It is omitted.

つぎに、この金属膜81上に、複数個の多数個取りプリント配線板用の第1導体層21の配線パターン21a、21bおよびダミーパターン11が形成される。第1導体層21の各配線パターン21a、21bおよびダミーパターン11の形成方法は特に限定されないが、たとえば、電気めっき法が用いられる。この場合、まず、金属膜81上にレジスト材(図示せず)が全面に塗布または積層され、パターニングされることにより第1導体層21およびダミーパターン11が形成される部分以外の所定の領域にめっきレジスト膜(図示せず)が形成される。続いて、めっきレジスト膜が形成されていない金属膜81の露出面に、金属膜81を電気めっきのシード層(給電層)として、たとえば、電気めっきによるめっき層が形成される。その後、めっきレジスト膜が除去される。その結果、図4Bに示されるように、第1パターン21a(導体ポスト25が形成されるパターン)、および第2パターン21b(半導体素子などが搭載されるパッドなど)などが形成されている第1導体層21、およびダミーパターン11が所定の回路パターンで金属膜81上に形成される。第1導体層21は、好ましくは後述の導体ポスト25やダミーポストもしくはダミー壁12と同じ材料で形成され、好ましくは銅で形成される。また、第1導体層21およびダミーパターン11は、好ましくは5〜30μm程度の厚さに形成され得るが、これに限定されない。   Next, wiring patterns 21 a and 21 b and a dummy pattern 11 of the first conductor layer 21 for a multi-piece printed wiring board are formed on the metal film 81. The method for forming the wiring patterns 21a and 21b and the dummy pattern 11 of the first conductor layer 21 is not particularly limited. For example, an electroplating method is used. In this case, first, a resist material (not shown) is applied or laminated on the entire surface of the metal film 81 and patterned to form a predetermined region other than the portion where the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11 are formed. A plating resist film (not shown) is formed. Subsequently, for example, a plating layer by electroplating is formed on the exposed surface of the metal film 81 on which the plating resist film is not formed using the metal film 81 as a seed layer (feeding layer) for electroplating. Thereafter, the plating resist film is removed. As a result, as shown in FIG. 4B, the first pattern 21a (pattern on which the conductor post 25 is formed), the second pattern 21b (pad on which a semiconductor element or the like is mounted) and the like are formed. The conductor layer 21 and the dummy pattern 11 are formed on the metal film 81 with a predetermined circuit pattern. The first conductor layer 21 is preferably made of the same material as a conductor post 25, a dummy post or a dummy wall 12 described later, and preferably made of copper. The first conductor layer 21 and the dummy pattern 11 can be preferably formed to a thickness of about 5 to 30 μm, but are not limited thereto.

つぎに、図4Cに示されるように、第1導体層21の一部のパターン(第1パターン21a)および一部のダミーパターン11g上にそれぞれ、導体ポスト25、およびダミーポストもしくはダミー壁12が形成される。具体的には、まず、第1導体層21およびダミーパターン11の金属膜81と接している側の面と反対側の面(露出面)であって、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12が形成される部分を除く部分ならびに第1導体層21やダミーパターン11に覆われずに露出している金属膜81上に図示しないめっきレジスト膜が形成される。めっきレジスト膜は少なくとも10〜150μm程度の厚さに形成される。続いて、第1パターン21aおよびダミーパターン11上のめっきレジスト膜の開口部に、金属膜81を電気めっきのシード層(給電層)として、電気めっきによるめっき層が形成される。その後、めっきレジスト膜が除去される。その結果、図4Cに示されるように、第1パターン21aの露出面上に電気めっき層からなる導体ポスト25が形成され、同様に一部のダミーパターン11gの露出面上にダミーポストまたはダミー壁12が形成される。導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12は、好ましくは第1導体層21と同じ材料で形成され、好ましくは銅で形成される。また、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12は、好ましくは10〜150μm程度の厚さに形成され得るが、これに限定されない。本実施形態では、ダミーポストまたはダミー壁12がダミーパターン11の一部のパターン11g上のみに形成されているので、前述のように、製品エリア20の第2面SF2側の残銅率と、ダミーエリア10の第2面SF2側の残銅率との差が小さく、好ましくは10%以下となり、電気めっきによって同時に形成される導体ポスト25およびダミーポスト12の高さが略同じとなる。この結果、後述の、導体ポスト25およびダミーポスト12の端部を露出させるための樹脂絶縁層30の研磨工程の時間が短くなり得る。   Next, as shown in FIG. 4C, conductor posts 25 and dummy posts or dummy walls 12 are respectively formed on a part of the first conductor layer 21 (first pattern 21a) and a part of the dummy pattern 11g. It is formed. Specifically, first, the conductor post 25 and the dummy post or the dummy wall 12 are the surfaces (exposed surfaces) opposite to the surfaces of the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11 that are in contact with the metal film 81. A plating resist film (not shown) is formed on the metal film 81 exposed without being covered with the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11, except for the part where the film is formed. The plating resist film is formed to a thickness of at least about 10 to 150 μm. Subsequently, a plating layer by electroplating is formed in the opening portion of the plating resist film on the first pattern 21a and the dummy pattern 11 using the metal film 81 as an electroplating seed layer (power feeding layer). Thereafter, the plating resist film is removed. As a result, as shown in FIG. 4C, conductor posts 25 made of an electroplating layer are formed on the exposed surface of the first pattern 21a, and dummy posts or dummy walls are similarly formed on the exposed surface of some dummy patterns 11g. 12 is formed. The conductor posts 25 and the dummy posts or the dummy walls 12 are preferably made of the same material as the first conductor layer 21 and are preferably made of copper. The conductor posts 25 and the dummy posts or the dummy walls 12 can be preferably formed to a thickness of about 10 to 150 μm, but are not limited thereto. In this embodiment, since the dummy post or the dummy wall 12 is formed only on the partial pattern 11g of the dummy pattern 11, as described above, the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the product area 20, The difference from the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the dummy area 10 is small, preferably 10% or less, and the heights of the conductor posts 25 and the dummy posts 12 formed simultaneously by electroplating are substantially the same. As a result, the time required for the polishing step of the resin insulating layer 30 for exposing the ends of the conductor posts 25 and the dummy posts 12 described later can be shortened.

導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12が形成された後、図示されていないが、好ましくは、後述の樹脂絶縁層30との密着性を高めるために、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12の側面および第1導体層21の側面、並びに導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12が形成されていない部分の露出面に粗化処理が行われる。粗化処理の方法は、特に限定されないが、たとえば、ソフトエッチング処理や、黒化(酸化)−還元処理などが例示される。粗化される各面は、好ましくは、算術平均粗さで0.1〜1μmの表面粗さに処理される。また、粗化処理が行われる場合は、めっきレジスト膜85の除去と粗化処理との間に、粗化を安定させるために電気めっき銅の結晶を成長させるアニール処理が行われてもよい。   Although not shown in the figure after the conductor post 25 and the dummy post or dummy wall 12 are formed, the conductor post 25 and the dummy post or dummy wall 12 are preferably used in order to improve adhesion to the resin insulating layer 30 described later. A roughening process is performed on the side surfaces of the first conductive layer 21 and the exposed surfaces of the conductive post 25 and the dummy post or the portion where the dummy wall 12 is not formed. The method of roughening treatment is not particularly limited, and examples thereof include soft etching treatment and blackening (oxidation) -reduction treatment. Each surface to be roughened is preferably processed to a surface roughness of 0.1 to 1 μm in arithmetic mean roughness. Further, when a roughening process is performed, an annealing process for growing an electroplated copper crystal may be performed between the removal of the plating resist film 85 and the roughening process in order to stabilize the roughening.

次に、図4Dに示されるように、第1導体層21およびダミーパターン11の露出面、導体ポスト25の側面およびダミーポストもしくはダミー壁12の側面を被覆するように樹脂絶縁層30が形成される。具体的には、図示されていないが、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12上に、シート状またはフィルム状の絶縁材(プリプレグ)が積層され、支持板80側に向かって加圧されると共に加熱される。加熱により絶縁材が軟化し、第1パターン21aおよびダミーパターン11と第2パターン21bとの間、第2パターン21b同士の間、および導体ポスト25やダミーポストもしくはダミー壁12同士の間に流れ込み、半硬化の状態となる。その後、さらに加熱されることにより絶縁材が完全に硬化し、図4Dに示されるように、樹脂絶縁層30が形成され、第1パターン21a、第2パターン21b、ダミーパターン11、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12が樹脂絶縁層30に埋め込まれる。このように、シート状またはフィルム状の絶縁材を積層して樹脂絶縁層30を形成する方法は、一般的なプリント配線板の製造設備により樹脂絶縁層30が形成され得る点で好ましい。樹脂絶縁層30が形成された後、好ましくは、バフ研磨が行われ、樹脂絶縁層30の形成時に生じたバリが除去される。   Next, as shown in FIG. 4D, a resin insulating layer 30 is formed so as to cover the exposed surfaces of the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11, the side surfaces of the conductor posts 25, and the side surfaces of the dummy posts or the dummy walls 12. The Specifically, although not shown, a sheet-like or film-like insulating material (prepreg) is laminated on the conductor post 25 and the dummy post or the dummy wall 12 and is pressed toward the support plate 80 side. Heated with. The insulating material is softened by heating and flows between the first pattern 21a and the dummy pattern 11 and the second pattern 21b, between the second patterns 21b, and between the conductor posts 25 and the dummy posts or the dummy walls 12, It becomes a semi-cured state. Thereafter, by further heating, the insulating material is completely cured, and as shown in FIG. 4D, the resin insulating layer 30 is formed, and the first pattern 21a, the second pattern 21b, the dummy pattern 11, the conductor post 25, and A dummy post or dummy wall 12 is embedded in the resin insulating layer 30. Thus, the method of forming the resin insulating layer 30 by laminating sheet-like or film-like insulating materials is preferable in that the resin insulating layer 30 can be formed by a general printed wiring board manufacturing facility. After the resin insulating layer 30 is formed, buffing is preferably performed to remove burrs generated when the resin insulating layer 30 is formed.

つぎに、図4Eに示されるように、樹脂絶縁層30の第2面SF2側を研磨することにより、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12の端部が露出される。具体的には、樹脂絶縁層30の金属膜81側と反対側(露出面側)において、好ましくは全ての導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12の先端が樹脂絶縁層30の第2面SF2側に露出するまで、バフ研磨、または、化学機械研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)などにより研磨される。好ましくは、さらに所定の高さまで研磨される。この際、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12の高さが不揃いであると、一番短い導体ポスト25の端部が露出し、かつ、所定の高さとなる迄の研磨量(研磨長)が増えるため、長い研磨時間が必要となると考えられる。一方、前述のように、本実施形態では、ダミーエリア10の第2面SF2側の残銅率が製品エリア20の第2面SF2側の残銅率に近づいているので、高さの揃った導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12が電気めっきにより形成されている。そのため研磨工程は短くてすみ、製造コストが低減されると共に、研磨のあいだの損傷の可能性が低減されることがある。   Next, as shown in FIG. 4E, by polishing the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30, the end portions of the conductor posts 25 and the dummy posts or the dummy walls 12 are exposed. Specifically, on the side opposite to the metal film 81 side of the resin insulating layer 30 (exposed surface side), preferably all the conductor posts 25 and the dummy posts or the tips of the dummy walls 12 are the second surfaces SF2 of the resin insulating layer 30. Polishing is performed by buffing or chemical mechanical polishing (CMP) until exposed to the side. Preferably, it is further polished to a predetermined height. At this time, if the heights of the conductor post 25 and the dummy post or the dummy wall 12 are not uniform, the end of the shortest conductor post 25 is exposed and the polishing amount (polishing length) until a predetermined height is reached. Therefore, it is considered that a long polishing time is required. On the other hand, as described above, in the present embodiment, the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the dummy area 10 is close to the remaining copper ratio on the second surface SF2 side of the product area 20, so the heights are uniform. Conductor posts 25 and dummy posts or dummy walls 12 are formed by electroplating. As a result, the polishing process may be short, reducing manufacturing costs and reducing the possibility of damage during polishing.

つぎに、支持板80を剥離し、さらに、金属膜81を除去すること、および1または2以上の製品エリアを含む多数個取りプリント配線板に切断分離することが、いずれかが先に行われ、支持板80および金属膜81が除去されると共に、図1AのD−D線で切断分離される。すなわち、パネル200から多数個取りプリント配線板100に切断する時期は、前述の図1Cおよび図1Dを参照して説明されたように2通りあるが、いずれかの方法により行われる。支持板80の分離が先に行われる場合は、たとえば図4Fに示されるように、まず、支持板80と、金属膜81とが分離される。具体的には、たとえば工程途上のプリント配線板の全体が加熱され、支持板80のキャリア銅箔80bと金属膜81とを接合している図示しない熱可塑性接着剤が軟化している状態で、支持板80のキャリア銅箔80bに、金属膜81との界面に沿う方向の力が加えられ、キャリア銅箔80bと金属膜81とが引き離される。あるいは、前述のように、両者が外周付近の余白部において接着剤または超音波接続により接合されている場合は、接合箇所よりも内周側で、支持板80および金属膜81が樹脂絶縁層30などと共に切断され、接着剤などによる接合箇所が切除されることによりキャリア銅箔80bと金属膜81とが分離されてもよい。その結果、中心部の支持板80の両側に形成された工程途上のプリント配線板のパネル200が2個得られる。図4Fには、その状態が示されており、図4Eにおいて支持板80の下面側に示されているパネル200の工程途上品だけが示されている。   Next, the support plate 80 is peeled off, the metal film 81 is further removed, and cutting or separation into a multi-piece printed wiring board including one or two or more product areas is performed first. The support plate 80 and the metal film 81 are removed and cut and separated along the line DD in FIG. 1A. That is, there are two timings for cutting the multi-piece printed wiring board 100 from the panel 200 as described with reference to FIGS. 1C and 1D described above, but any one of the methods is used. When the separation of the support plate 80 is performed first, for example, as shown in FIG. 4F, first, the support plate 80 and the metal film 81 are separated. Specifically, for example, the entire printed wiring board in the process is heated, and a thermoplastic adhesive (not shown) that joins the carrier copper foil 80b of the support plate 80 and the metal film 81 is softened. A force in a direction along the interface with the metal film 81 is applied to the carrier copper foil 80b of the support plate 80, and the carrier copper foil 80b and the metal film 81 are separated. Alternatively, as described above, when both are bonded by an adhesive or ultrasonic connection in a blank portion near the outer periphery, the support plate 80 and the metal film 81 are on the inner peripheral side of the bonding portion, and the resin insulating layer 30. The carrier copper foil 80b and the metal film 81 may be separated by cutting together with an adhesive or the like and cutting off the joint portion by an adhesive or the like. As a result, two printed wiring board panels 200 formed on both sides of the support plate 80 at the center are obtained. FIG. 4F shows the state, and only the in-process product of the panel 200 shown on the lower surface side of the support plate 80 in FIG. 4E is shown.

続いて、図4Gに示されるように、金属膜81が、たとえばエッチングなどにより除去される。前述のように、金属膜81、第1導体層21、導体ポスト25およびダミーパターン11、ダミーポストもしくはダミー壁12に全て銅が用いられている場合には、それぞれの構成材料がいずれも同じエッチング液に溶解される。このため、金属膜81のエッチングの際に、導体ポスト25およびダミーポストもしくはダミー壁12の樹脂絶縁層30の第2面SF2側に露出する面が、エッチング液に晒されることにより、金属膜81と共にエッチングされる。そして、金属膜81が全て除去された後も、金属膜81の除去により樹脂絶縁層30の第1面SF1に露出する第1導体層21およびダミーパターン11の露出面、ならびに、導体ポスト25の先端部25aおよびダミーポストもしくはダミー壁12の先端部12bがエッチング液に晒されることにより、エッチングされる。この結果、図4Gに示されるように、第1導体層21の露出面およびダミーパターン11の露出面が樹脂絶縁層30の第1面SF1よりも凹み、導体ポスト25の端部25aおよびダミーポストもしくはダミー壁12の端部12bが樹脂絶縁層30の第2面SF2よりも凹み、かつ、導体ポスト25の端部25aの樹脂絶縁層30の第2面SF2からの凹みの方が、第1導体層21の樹脂絶縁層30の第1面SF1からの凹みよりも大きくなる。パネル200から多数個取りのプリント配線板100への切断は、図4Fに示される金属膜81の残っている状態で行ってもよいし、図4G後の金属膜81が除去された後に行われてもよい。この方法が、前述の図1Cに示される方法である。なお、図1Cでは、樹脂絶縁層30の第1および第2面SF1、SF2からの第1導体層21の表面や導体ポスト25の端面25aなどの凹みは省略されている。   Subsequently, as shown in FIG. 4G, the metal film 81 is removed, for example, by etching or the like. As described above, when copper is used for the metal film 81, the first conductor layer 21, the conductor post 25 and the dummy pattern 11, the dummy post or the dummy wall 12, all the constituent materials are the same etching. Dissolved in the liquid. For this reason, when the metal film 81 is etched, a surface of the conductor post 25 and the dummy post or the dummy wall 12 exposed to the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30 is exposed to the etching solution, whereby the metal film 81 is exposed. Etched together. Even after all the metal film 81 is removed, the exposed surface of the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11 exposed on the first surface SF1 of the resin insulating layer 30 by the removal of the metal film 81, and the conductor post 25 are removed. The tip portion 25a and the dummy post or the tip portion 12b of the dummy wall 12 are etched by being exposed to an etching solution. As a result, as shown in FIG. 4G, the exposed surface of the first conductor layer 21 and the exposed surface of the dummy pattern 11 are recessed from the first surface SF1 of the resin insulating layer 30, and the end 25a of the conductor post 25 and the dummy post Alternatively, the end 12b of the dummy wall 12 is recessed from the second surface SF2 of the resin insulating layer 30, and the recess from the second surface SF2 of the resin insulating layer 30 of the end 25a of the conductor post 25 is the first. It becomes larger than the dent from 1st surface SF1 of the resin insulating layer 30 of the conductor layer 21. FIG. The cutting from the panel 200 to the multi-piece printed wiring board 100 may be performed with the metal film 81 shown in FIG. 4F remaining, or after the metal film 81 after FIG. 4G is removed. May be. This method is the method shown in FIG. 1C described above. In FIG. 1C, dents such as the surface of the first conductor layer 21 from the first and second surfaces SF1 and SF2 of the resin insulating layer 30 and the end surface 25a of the conductor post 25 are omitted.

一方、図1Dに示される方法は、図4Eの工程の後に、図1AのD−D線で切断され、その後に、支持板80の除去、金属膜81のエッチング除去、が順次行われることにより、多数個取りのプリント配線板100が得られる。   On the other hand, in the method shown in FIG. 1D, the step of FIG. 4E is followed by cutting along the line DD in FIG. 1A, and thereafter, the support plate 80 is removed and the metal film 81 is removed by etching. Thus, a multi-piece printed wiring board 100 is obtained.

金属膜81の除去後に、好ましくは、表面保護膜28(図5A参照)が、第1導体層21およびダミーパターン11の露出面および導体ポスト25の端部25aやダミーポストもしくはダミー壁12の端部12bに形成される。表面保護膜28の形成は、Ni/Au、Ni/Pd/Au、またはSnなどの複数または単一の金属膜をめっき法により形成することにより行われてよい。また、液状の保護材料内への浸漬や保護材料の吹付けなどによりOSPが形成されてもよい。表面保護膜28は、第1導体層21の露出面と導体ポスト25の端部25aとの両方に形成されてよく、いずれか一方だけに形成されてもよい。また、ダミーパターン11の表面またはダミーポストもしくはダミー壁12の端部12bには表面保護膜28は形成されなくてもよい。さらに、第1導体層21の露出面と導体ポスト25の端部25aとで、異なる材料の表面保護膜が形成されてもよい。   After the removal of the metal film 81, the surface protective film 28 (see FIG. 5A) is preferably formed on the exposed surfaces of the first conductor layer 21 and the dummy pattern 11, the end 25a of the conductor post 25, the end of the dummy post or the dummy wall 12. It is formed in the part 12b. The surface protective film 28 may be formed by forming a plurality of or a single metal film such as Ni / Au, Ni / Pd / Au, or Sn by a plating method. Further, the OSP may be formed by immersion in a liquid protective material or spraying of the protective material. The surface protective film 28 may be formed on both the exposed surface of the first conductor layer 21 and the end portion 25a of the conductor post 25, or may be formed on only one of them. Further, the surface protective film 28 may not be formed on the surface of the dummy pattern 11 or the end portion 12 b of the dummy post or the dummy wall 12. Furthermore, a surface protective film made of a different material may be formed on the exposed surface of the first conductor layer 21 and the end portion 25a of the conductor post 25.

また、表面保護膜の形成に加えて、または表面保護膜が形成されずに、導体ポスト25の端部25a上に、導体ポスト25と外部のマザーボードなどとを接合する接合材からなる接合材層27(図5B参照)が形成されてもよい。接合材層27の材料には好ましくはハンダが用いられ、ペースト状のハンダの塗布やハンダボールを配置して一旦溶融後硬化させたり、めっき法を用いたりして形成され得る。しかしながら、接合材層の材料や形成方法は、特に限定されず、他の材料および方法が用いられ得る。   Further, in addition to the formation of the surface protective film, or without the surface protective film being formed, a bonding material layer made of a bonding material for bonding the conductor post 25 to an external motherboard or the like on the end portion 25a of the conductor post 25. 27 (see FIG. 5B) may be formed. Solder is preferably used as the material of the bonding material layer 27, and may be formed by applying paste-like solder or placing a solder ball, and once cured after being melted or using a plating method. However, the material and forming method of the bonding material layer are not particularly limited, and other materials and methods can be used.

以上の工程を経ることにより、図1AのD−D線により切断された多数個取りのプリント配線板100が完成する。すなわち、ダミーエリア10に、樹脂絶縁層30の第1面SF1に形成されるダミーパターン11と、ダミーパターン11の一部のパターン11g上のみに、樹脂絶縁層30を貫通し、第2面SF2側に端部12bがドット状または線状に露出するようにダミーパターン11と接続されて形成されるダミーポストまたはダミー壁12とを有する中判の多数個取りプリント配線板100が得られる。   By passing through the above process, the multi-piece printed wiring board 100 cut | disconnected by the DD line | wire of FIG. 1A is completed. That is, in the dummy area 10, only the dummy pattern 11 formed on the first surface SF1 of the resin insulating layer 30 and the partial pattern 11g of the dummy pattern 11 penetrate the resin insulating layer 30, and the second surface SF2. A medium-sized multi-piece printed wiring board 100 having a dummy post or a dummy wall 12 formed so as to be connected to the dummy pattern 11 so that the end portion 12b is exposed in a dot shape or a line shape on the side is obtained.

第1導体層21は、一面が樹脂絶縁層30の第1面SF1側に露出するように、樹脂絶縁層30の第1面SF1側に全体が埋め込まれている。すなわち、第1導体層21と樹脂絶縁層30とは、第1導体層21の他面だけではなく、第1導体層21の側面、具体的には、第1導体層21に形成されている第1パターン21aや第2パターン21bの側面においても接している。このため、第1パターン21aや第2パターン21bがファインピッチで形成され、第1導体層21の一面の面積が小さくなっても、第1導体層21と樹脂絶縁層30との密着性が維持され得る。また、第1導体層21が樹脂絶縁層30内に埋め込まれていることによって、プリント配線板1自体が薄くされ得る。   The first conductor layer 21 is entirely embedded on the first surface SF1 side of the resin insulating layer 30 so that one surface is exposed on the first surface SF1 side of the resin insulating layer 30. That is, the first conductor layer 21 and the resin insulating layer 30 are formed not only on the other surface of the first conductor layer 21 but also on the side surface of the first conductor layer 21, specifically, on the first conductor layer 21. Also in contact with the side surfaces of the first pattern 21a and the second pattern 21b. Therefore, even when the first pattern 21a and the second pattern 21b are formed with a fine pitch and the area of one surface of the first conductor layer 21 is reduced, the adhesion between the first conductor layer 21 and the resin insulating layer 30 is maintained. Can be done. Further, since the first conductor layer 21 is embedded in the resin insulating layer 30, the printed wiring board 1 itself can be thinned.

第1導体層21には、前述のように、第1パターン21aおよび第2パターン21bが形成されている。本実施形態では、第1パターン21aは、樹脂絶縁層30の第2面SF2側で、このプリント配線板1と接続される他のプリント配線板(図示せず)などと電気的に接続される配線パターンである。ここで、他のプリント配線板とは、プリント配線板1が用いられる電子機器などのマザーボードであってよく、または、プリント配線板1と共に多層配線板を構成する、絶縁層と導体層との積層体であってもよい。また、第2パターン21bは、たとえば半導体素子(図示せず)などが接続される接続パッドであってもよい。また、第1導体層21には、第1および第2のパターン21a、21b以外の配線パターンが形成されていてもよい。たとえば、第2パターン21bに接続される半導体素子の電極のうち外部と電気的に接続されるものは、第2パターン21bと第1パターン21aとを接続するように第1導体層21に形成される配線パターン21d(図3B参照)を介して、第1パターン21aおよび導体ポスト25と電気的に接続される。   As described above, the first conductor layer 21 is formed with the first pattern 21a and the second pattern 21b. In the present embodiment, the first pattern 21a is electrically connected to another printed wiring board (not shown) connected to the printed wiring board 1 on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30. It is a wiring pattern. Here, the other printed wiring board may be a mother board such as an electronic device in which the printed wiring board 1 is used, or a laminate of an insulating layer and a conductor layer that constitutes a multilayer wiring board together with the printed wiring board 1. It may be a body. The second pattern 21b may be a connection pad to which, for example, a semiconductor element (not shown) is connected. The first conductor layer 21 may be formed with a wiring pattern other than the first and second patterns 21a and 21b. For example, the electrode of the semiconductor element connected to the second pattern 21b that is electrically connected to the outside is formed on the first conductor layer 21 so as to connect the second pattern 21b and the first pattern 21a. The first pattern 21a and the conductor post 25 are electrically connected via the wiring pattern 21d (see FIG. 3B).

前述の図4A〜4Gに示される例は、絶縁層が1層だけの片面に第1導体層21が形成された例であるが、この樹脂絶縁層30の第2面SF2側にさらに導体層と樹脂絶縁層とが積層され、最外層(最下層)の樹脂絶縁層の下端側に導体層が形成されない場合でも、同様にクラックが樹脂絶縁層内を走りやすい。そのため、樹脂絶縁層が多層に積層される場合でも、最下層の樹脂絶縁層のダミーエリアには、ダミーポストまたはダミー壁が形成されることが好ましい。この場合、最下層以外の樹脂絶縁層には、片面だけに導体層が形成されたものでも両面に導体層が形成されたものでもよく、要は、樹脂絶縁層の1つの面には、導体層が形成されないで、導体ポストのみが露出している樹脂絶縁層には、その外周のダミーエリアにダミーポストまたはダミー壁が形成されていることが好ましい。勿論、両面に導体層が設けられている場合の樹脂絶縁層でも、導体ポストや導体パターンが設けられていることが好ましい。   The example shown in FIGS. 4A to 4G is an example in which the first conductor layer 21 is formed on one side having only one insulating layer. However, a conductor layer is further provided on the second surface SF2 side of the resin insulating layer 30. When the conductor layer is not formed on the lower end side of the outermost (lowermost) resin insulation layer, cracks are likely to run in the resin insulation layer as well. Therefore, even when the resin insulating layers are laminated in multiple layers, it is preferable that a dummy post or a dummy wall be formed in the dummy area of the lowermost resin insulating layer. In this case, the resin insulating layer other than the lowermost layer may have a conductor layer formed on only one side or a conductor layer formed on both sides. In short, one surface of the resin insulating layer has a conductor on It is preferable that a dummy post or a dummy wall is formed in a dummy area on the outer periphery of the resin insulating layer in which only the conductor post is exposed without forming the layer. Of course, it is preferable that the conductor post and the conductor pattern are provided also in the resin insulating layer when the conductor layers are provided on both surfaces.

図6に、樹脂絶縁層30の第2面SF2側に第2導体層22が形成され、さらにその表面に第2樹脂絶縁層31が形成され、その第2樹脂絶縁層31を貫通して第2導体層22と接続するように、第2導体ポスト29および第2ダミーポストもしくはダミー壁12aが形成された、導体層が2層で、最外層である第2樹脂絶縁層31の露出面SF3側には導体層が形成されないで、第2導体ポスト29だけが露出するプリント配線板が示されている。   In FIG. 6, the second conductor layer 22 is formed on the second surface SF <b> 2 side of the resin insulating layer 30, the second resin insulating layer 31 is further formed on the surface, and the second resin insulating layer 31 penetrates through the second resin insulating layer 31. The second conductor post 29 and the second dummy post or dummy wall 12a are formed so as to be connected to the two conductor layer 22. The exposed surface SF3 of the second resin insulating layer 31 which is the outermost layer is composed of two conductor layers. A printed wiring board is shown in which no conductor layer is formed on the side and only the second conductor post 29 is exposed.

このようなプリント配線板を製造するには、前述の図4Eの工程に続いて、たとえば樹脂絶縁層30の第2面SF2上に無電解めっき法により金属被膜が形成され、さらに、たとえばアディティブ法により電気めっき膜により第2導体層22のパターンと第2ダミーパターン13のパターンおよび第2導体ポスト29と第2ダミーポストもしくはダミー壁12aが形成され、その上に図4Dおよび4Eに示される方法と同様に第2樹脂絶縁層31が形成され、その後は図4Fと同様に、支持板80が除去され、さらに金属膜81が除去され、その支持板80および金属膜81の除去の前か後にパネル状態から中判の基板に切断される。この実施形態においても、第2ダミーポストもしくはダミー壁12aは、ドット状に第2樹脂絶縁層31のSF3側に露出するパターンに限らず、連結されたドット状パターンまたは線状パターン、もしくはそれらの組み合わせで第2樹脂絶縁層31のSF3側に露出してもよい。また、第2ダミーポストまたはダミー壁12aの数が、第2ダミーパターン13の数より少なくなるよう、第2ダミーポストまたはダミー壁12aは第2ダミーパターン13に対して間引かれ、第2ダミーパターン13の一部のパターン13aにのみ形成されて、ダミーエリアのSF3側の残銅率が製品エリアのSF3側の残銅率に近くなるように調整されるのが好ましい。   In order to manufacture such a printed wiring board, following the process of FIG. 4E described above, for example, a metal film is formed on the second surface SF2 of the resin insulating layer 30 by an electroless plating method. The pattern of the second conductor layer 22 and the pattern of the second dummy pattern 13 and the second conductor post 29 and the second dummy post or dummy wall 12a are formed by the electroplating film, and the method shown in FIGS. 4D and 4E is formed thereon. The second resin insulation layer 31 is formed in the same manner as in FIG. 4B, and thereafter, the support plate 80 is removed, and the metal film 81 is further removed, before or after the removal of the support plate 80 and the metal film 81, as in FIG. 4F. The panel is cut into a medium format substrate. Also in this embodiment, the second dummy post or the dummy wall 12a is not limited to the pattern exposed on the SF3 side of the second resin insulating layer 31 in a dot shape, but is a connected dot pattern or a linear pattern, or those patterns. The second resin insulating layer 31 may be exposed on the SF3 side in combination. Further, the second dummy posts or dummy walls 12a are thinned out with respect to the second dummy patterns 13 so that the number of second dummy posts or dummy walls 12a is smaller than the number of second dummy patterns 13. It is preferable that the pattern 13a is formed only on a part of the pattern 13a and is adjusted so that the residual copper ratio on the SF3 side of the dummy area is close to the residual copper ratio on the SF3 side of the product area.

なお、製造方法に関しては、この方法に限定されるものでは無く、種々の方法が採用され得る。たとえば樹脂絶縁層30の形成の際に、銅箔などの金属箔と樹脂フィルムとを圧接加熱して形成されてもよく、また、第2導体ポスト29や第2ダミーポストもしくはダミー壁12aの形成が、第2樹脂絶縁層31が形成された後に、開口部が形成されて、その開口部内に第2導体ポスト29や第2ダミーポストもしくはダミー壁12aが埋め込まれるように形成されてもよい。さらに、多層のプリント配線板が形成される場合には、これらの工程が繰り返されることにより、所望の多層プリント配線板が形成され得る。   In addition, regarding a manufacturing method, it is not limited to this method, A various method can be employ | adopted. For example, when the resin insulating layer 30 is formed, a metal foil such as a copper foil and a resin film may be pressed and heated, and the second conductor post 29, the second dummy post, or the dummy wall 12a is formed. However, after the second resin insulating layer 31 is formed, an opening may be formed so that the second conductor post 29, the second dummy post, or the dummy wall 12a is embedded in the opening. Furthermore, when a multilayer printed wiring board is formed, a desired multilayer printed wiring board can be formed by repeating these steps.

1 プリント配線板
10 ダミーエリア
11 ダミーパターン
11a ドット状パターン
11b、11c 線状パターン
12 ダミーポストまたはダミー壁
121 ダミーポスト
122 ダミー壁
12b ダミーポストまたはダミー壁の端部
20 製品エリア
21 第1導体層
21a 第1パターン
21b 第2パターン
25 導体ポスト
25a 導体ポストの端部
27 接合材層
28 表面保護膜
30 樹脂絶縁層
80 支持板
80a ダミー基板
80b キャリア銅箔
81 金属膜
SF1 樹脂絶縁層の第1面
SF2 樹脂絶縁層の第2面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 10 Dummy area 11 Dummy pattern 11a Dot pattern 11b, 11c Linear pattern 12 Dummy post or dummy wall 121 Dummy post 122 Dummy wall 12b End of dummy post or dummy wall 20 Product area 21 First conductor layer 21a First pattern 21b Second pattern 25 Conductor post 25a End of conductor post 27 Bonding material layer 28 Surface protective film 30 Resin insulating layer 80 Support plate 80a Dummy substrate 80b Carrier copper foil 81 Metal film SF1 First surface of resin insulating layer SF2 Second surface of resin insulation layer

Claims (19)

複数のプリント配線板からなる製品エリア、および1または2以上の前記製品エリアの周囲に形成されるダミーエリアを有する多数個取りのプリント配線板であって、
第1面と該第1面の反対面である第2面を有する樹脂絶縁層を有し、さらに
前記製品エリアの各プリント配線板は、前記樹脂絶縁層の第1面側に一面のみが露出するように埋め込まれる第1導体層と、前記第1導体層と接続され、前記樹脂絶縁層を貫通して前記第2面側に端部が露出する導体ポストとを有し、
前記ダミーエリアは、前記樹脂絶縁層の第1面に形成されるダミーパターンと、前記樹脂絶縁層を貫通し、前記第2面側に端部が露出するように前記ダミーパターンと接続されるダミーポストまたはダミー壁とを有し、
前記ダミーパターンの一部のパターンのみに前記ダミーポストまたはダミー壁が接続されている。
A multi-piece printed wiring board having a product area composed of a plurality of printed wiring boards and a dummy area formed around one or more of the product areas,
A resin insulation layer having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and each printed wiring board in the product area is exposed only on the first surface side of the resin insulation layer. A first conductor layer embedded so as to have a conductor post connected to the first conductor layer and penetrating through the resin insulating layer and having an end exposed on the second surface side;
The dummy area includes a dummy pattern formed on the first surface of the resin insulating layer and a dummy that penetrates the resin insulating layer and is connected to the dummy pattern so that an end portion is exposed on the second surface side. With a post or dummy wall,
The dummy post or the dummy wall is connected to only a part of the dummy pattern.
請求項1記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層の第2面において、前記ダミーエリアの残銅率と前記製品エリアの残銅率との差が、10%以下である。 2. The printed wiring board according to claim 1, wherein a difference between a remaining copper ratio in the dummy area and a remaining copper ratio in the product area is 10% or less on the second surface of the resin insulating layer. 請求項1または2に記載のプリント配線板であって、前記ダミーパターンは、円形、楕円形、菱形、または多角形である。 3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the dummy pattern is a circle, an ellipse, a rhombus, or a polygon. 請求項1〜3のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記ダミーポストが少なくとも2列に形成され、各ダミーポストが千鳥状に配置されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-3, Comprising: The said dummy post is formed in at least 2 rows, and each dummy post is arrange | positioned at zigzag form. 請求項1または2項に記載のプリント配線板であって、前記ダミーパターンが、線状パターンが並列すると共に、交差し、メッシュ状に形成され、一部の線状パターンのみに前記ダミー壁が形成されている。 3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the dummy pattern has a linear pattern arranged in parallel and intersects to be formed in a mesh shape, and the dummy wall is formed only on a part of the linear pattern. 4. Is formed. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層が、芯材を含まない樹脂により形成されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-5, Comprising: The said resin insulation layer is formed with resin which does not contain a core material. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層の前記第2面にさらに積層樹脂絶縁層が形成されており、該積層樹脂絶縁層の最外層樹脂絶縁層にダミーポストまたはダミー壁が露出している。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-6, Comprising: The laminated resin insulating layer is further formed in the said 2nd surface of the said resin insulating layer, and outermost layer resin of this laminated resin insulating layer Dummy posts or dummy walls are exposed on the insulating layer. 請求項1〜7のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁が共に電気めっき膜により形成されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-7, Comprising: Both the said conductor post and the said dummy post, or a dummy wall are formed of the electroplating film. 請求項1〜8のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層の第2面側で前記ダミーエリアの残銅率が、5〜30%である。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-8, Comprising: The remaining copper rate of the said dummy area is 5 to 30% on the 2nd surface side of the said resin insulation layer. 請求項1〜9のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の高さが10〜150μmであり、前記第1導体層の厚さが5〜30μmである。 10. The printed wiring board according to claim 1, wherein a height of the conductor post and the dummy post or the dummy wall is 10 to 150 μm, and a thickness of the first conductor layer is 5. ˜30 μm. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層は、熱膨張率が3〜120ppm/℃、かつ、弾性率が0.01〜30GPaのモールド成形用樹脂材料からなる。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-10, Comprising: The said resin insulation layer is for mold forming whose coefficient of thermal expansion is 3-120 ppm / degreeC, and whose elasticity modulus is 0.01-30 GPa. Made of resin material. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記樹脂絶縁層は、無機フィラーを70〜90重量%含む。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-11, Comprising: The said resin insulation layer contains 70 to 90 weight% of inorganic fillers. 請求項1〜12のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記導体ポストおよび/または前記ダミーポストもしくはダミー壁の側面に表面粗さを粗くする粗化処理が施されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-12, Comprising: The roughening process which roughens surface roughness is given to the side surface of the said conductor post and / or the said dummy post or a dummy wall. 請求項1〜13のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記導体ポストの前記端部に表面保護膜が形成されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-13, Comprising: The surface protective film is formed in the said edge part of the said conductor post. 請求項14記載のプリント配線板であって、前記第1導体層の露出面に、前記導体ポストの前記端部に形成されている表面保護膜の材料と異なる材料からなる表面保護膜が形成されている。 15. The printed wiring board according to claim 14, wherein a surface protection film made of a material different from a material of the surface protection film formed on the end portion of the conductor post is formed on the exposed surface of the first conductor layer. ing. 請求項1〜15のいずれか1項に記載のプリント配線板であって、前記導体ポストの前記端部にハンダが塗布されている。 It is a printed wiring board of any one of Claims 1-15, Comprising: Solder is apply | coated to the said edge part of the said conductor post. 複数のプリント配線板を含む製品エリア、および1または2以上の前記製品エリアの周囲に形成されるダミーエリアを有する多数個取りのプリント配線板の製造方法であって、
金属膜を準備することと、
前記金属膜上に、複数個の多数個取りプリント配線板用の前記第1導体層の配線パターンおよびダミーパターンを形成することと、
前記第1導体層の一部のパターンおよび前記ダミーパターンの一部のパターン上に導体ポストおよびダミーポストもしくはダミー壁をそれぞれ形成することと、
前記第1導体層の露出面ならびに前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の側面を被覆するように樹脂絶縁層を形成することと、
前記樹脂絶縁層の第2面側を研磨することにより、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の端部を露出させることと、
前記支持板と前記金属膜を除去すること、および1または2以上の製品エリアを含む多数個取りプリント配線板に切断分離することを、いずれかを先に行う順番で行うことと、
を含み、
前記ダミーポストまたはダミー壁は、前記ダミーパターンの一部のパターンのみに接続して、前記樹脂絶縁層を貫通して端部が前記樹脂絶縁層の前記第2面側に露出するように形成される。
A method of manufacturing a multi-piece printed wiring board having a product area including a plurality of printed wiring boards and a dummy area formed around one or more of the product areas,
Preparing a metal film,
Forming a wiring pattern and a dummy pattern of the first conductor layer for a plurality of multi-cavity printed wiring boards on the metal film;
Forming a conductor post and a dummy post or a dummy wall on the partial pattern of the first conductor layer and the partial pattern of the dummy pattern, respectively;
Forming a resin insulating layer so as to cover the exposed surface of the first conductor layer and the side surface of the conductor post and the dummy post or the dummy wall;
Polishing the second surface side of the resin insulating layer to expose the end of the conductor post and the dummy post or dummy wall;
Removing the support plate and the metal film, and cutting and separating into a multi-piece printed wiring board including one or two or more product areas, in the order in which one is performed,
Including
The dummy post or the dummy wall is connected to only a part of the dummy pattern, and is formed so as to penetrate through the resin insulating layer and to expose an end portion on the second surface side of the resin insulating layer. The
請求項17記載の多数個取りプリント配線板の製造方法であって、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁が同時に電気めっきにより形成される。 The method for manufacturing a multi-cavity printed wiring board according to claim 17, wherein the conductor post and the dummy post or the dummy wall are simultaneously formed by electroplating. 請求項17または18記載の多数個取りプリント配線板の製造方法であって、前記樹脂絶縁層の形成前に、前記導体ポストおよび前記ダミーポストもしくはダミー壁の側面に粗化処理が施される。 The method for manufacturing a multi-cavity printed wiring board according to claim 17 or 18, wherein a roughening process is performed on a side surface of the conductor post and the dummy post or the dummy wall before forming the resin insulating layer.
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