JP2016127744A - 真空遮断器 - Google Patents

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Abstract

【課題】真空遮断器を小型化する。【解決手段】真空インタラプタ2,3と、真空インタラプタ2を包囲するブッシング4と、真空インタラプタ3を包囲するブッシング5と、ブッシング4,5を支持する接地タンク6と、を有する真空遮断器1である。真空インタラプタ2の固定リード2aをブッシング4の上端部に固定し、真空インタラプタ2を固定したブッシング4を接地タンク6に支持する。真空インタラプタ3の固定リード3aをブッシング5の上端部に固定し、真空インタラプタ3を固定したブッシング5を接地タンク6に支持する。接地タンク6内に、中間導体18を設け、真空インタラプタ2の可動リード2bと真空インタラプタ3の可動リード3bとを中間導体18を介して電気的に接続する。【選択図】図1

Description

本発明は、真空遮断器に関し、特に2点切りの真空遮断器の構造に関する。
真空遮断器(VCB)は、主として84kV以下の中電圧階級を中心に広く電力系統で適用されている。真空遮断器は、他の遮断器(例えば、ガス遮断器(GCB))と比較して、遮断部の寿命が長い、地球温暖化係数の高いガス(例えば、SF6ガス)の使用量が少ない、SF6ガスの回収・再利用が容易でライフサイクルコスト(LCC)が少ない等の利点がある。また、タンク形遮断器は、真空インタラプタ(VI)が接地層に覆われており重心が低く、従来の碍子形遮断器と比較して、変流器の取付けが可能であり、耐震性が向上する等の利点を有する。
近年、真空遮断器を高電圧・大容量化することで、真空遮断器の適用拡大が図られている(例えば、非特許文献1)。真空遮断器の高電圧化に対して、遮断部である真空インタラプタを2点直列に接続することで、耐電圧性を向上している(例えば、特許文献1)。
図7に示すように、2点切りの真空遮断器40は、接地タンク6内に真空インタラプタ2,3が直列に配置された構造を有する。真空遮断器40にかかる電圧は、各真空インタラプタ2,3に分担されることなる。
特開2007−188734号公報 特許第5236120号公報 特開2002−281620号公報
長竹和浩、外4名、「168kV 40kA 2点切りタンク形真空遮断器の開発」、平成17年電気学会電力・エネルギー部門大会、2005年、No.319、pp.38−3,38−4
しかしながら、このような真空遮断器40は、真空インタラプタ2,3が接地タンク6内に配置されていることから、接地タンク6の影響により、真空インタラプタ2,3が分担する電圧に偏りが生じる(例えば、8:2程度の分担比率になる場合がある)。真空インタラプタ2,3が分担する電圧に偏りが生じると、一方の真空インタラプタにかかる電圧が大きくなるため、より高い電圧に耐え得る真空インタラプタを用いることが必要となる。
そこで、従来の2点切りの真空遮断器40では、各真空インタラプタ2,3に並列に分圧コンデンサ41,42を設け、真空インタラプタ2,3に分担される電圧の偏りを低減している。このように、分圧コンデンサ41,42を設けると接地タンク6形が大きくなり、真空遮断器40が大型化することとなる。
上記事情に鑑み、本発明は、2点切り真空遮断器の小型化に貢献する技術を提供することを目的とする。
上記目的を達成する本発明の真空遮断器は、絶縁ガスが充填される接地タンクと、接地タンクに支持される第1ブッシング及び第2ブッシングと、を有する真空遮断器であって、第1ブッシング内に第1真空インタラプタを設け、第1真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第1ブッシングを接地タンクに支持し、第2ブッシング内に第2真空インタラプタを設け、第2真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第2ブッシングを接地タンクに支持し、接地タンク内に、第1真空インタラプタの可動軸と第2真空インタラプタの可動軸とを電気的に接続する中間導体と、第1真空インタラプタ及び第2真空インタラプタの開閉を行うリンク機構と、を設けることを特徴としている。
以上の本発明によれば、2点切り真空遮断器の小型化に貢献することができる。
本発明の第1実施形態に係る2点切りタンク形真空遮断器の断面図である。 真空インタラプタの拡大断面図である。 (a)本発明の第1実施形態に係る真空遮断器のリンク機構(ガイドなし)を示す図、(b)本発明の第1実施形態に係る真空遮断器のリンク機構(ガイドあり)を示す図である。 (a)真空インタラプタが接地タンク内にある場合の電位分布を示す図、(b)真空インタラプタがブッシング内にある場合の電位分布を示す図である。 本発明の第2実施形態に係る2点切りタンク形真空遮断器の断面図である。 (a)本発明の第2実施形態に係る真空遮断器のリンク機構を示す図、(b)本発明の第2実施形態に係る真空遮断器のリンク機構(三角リンクあり)を示す図である。 従来技術に係る真空遮断器の断面図である。
本発明の実施形態に係る真空遮断器について、図面を参照しながら説明する。なお、図1及び図5に示す真空遮断器の断面図は、本発明の実施形態に係る真空遮断器の概略を示す図であり、各構成部材の寸法は説明のため誇張されたものとなっている。
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係るタンク形真空遮断器1の断面図である。
真空遮断器1は、真空インタラプタ2,3と、真空インタラプタ2を包囲するブッシング4と、真空インタラプタ3を包囲するブッシング5と、ブッシング4,5を支持する接地タンク6と、を有する。
真空インタラプタ2は、ブッシング4の中心軸上に配置される。図2に示すように、真空インタラプタ2は、絶縁筒と金属フランジで構成された真空容器7内に一対の電極(固定電極8及び可動電極9)を収納して構成される。真空容器7内であって、固定電極8及び可動電極9を覆うように中間シールド10が設けられる。固定電極8は固定リード2aの一端に固定される。固定リード2aの他端部は真空容器7の端面から延在し、ブッシング4の上端部に固定される。可動電極9は、可動リード2bの一端に固定される。可動リード2bの他端部は真空容器7の端面から接地タンク6内部方向に延在している。なお、真空容器7内であって、可動リード2bの挿通部にはベローズ11が設けられており、真空容器7内を真空に保った状態で可動リード2bが軸方向に移動可能となっている。また、可動リード2bには、圧接ばね2cが設けられており、この圧接ばね2cにより可動電極9が設けられたリードが固定電極8方向に付勢される。
真空インタラプタ3は、ブッシング5の中心軸上に配置される。真空インタラプタ3は、真空インタラプタ2と同様の構成を有する。すなわち、図1に示すように、真空インタラプタ3は、固定リード3aと可動リード3bを有する。固定リード3aの一端は真空容器7内に設けられ、その端部に固定電極8が設けられる。固定リード3aの他端部は真空容器7から延在し、ブッシング5の上端部に固定される。また、可動リード3bの一端は真空容器7内に設けられ、その端部に可動電極9が設けられる。可動リード3bの他端部は真空容器7から接地タンク6内部方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード3bの内部には圧接ばね3cが設けられており、この圧接ばね3cにより可動電極9が設けられたリードが固定電極8方向に付勢される。
ブッシング4,5は、例えば、セラミックス等で形成された碍管である。ブッシング4は、接地タンク6に支持される。このブッシング4の内周部は接地タンク6の内周部と連通している。また、ブッシング4の上端部には、固定リード2aと導通するブッシング端子4aが設けられる。さらに、ブッシング4の内周部には軸受4bが設けられており、この軸受4bに可動リード2bが支持される。なお、ブッシング4と接地タンク6との接続部にはブッシング変流器12が設けられる。同様に、ブッシング5は、接地タンク6に支持される。ブッシング5の内周部は接地タンク6の内周部と連通している。また、ブッシング5の上端部には、固定リード3aと導通するブッシング端子5aが設けられ、ブッシング5の内周部には可動リード3bを支持する軸受5bが設けられる。そして、ブッシング5と接地タンク6との接続部には、ブッシング変流器13が設けられる。
接地タンク6は、接地された金属容器であり、内部に絶縁ガス(例えば、SF6ガスや乾燥空気等)が充填される。接地タンク6の内部であって対向する側部には、一対の支持碍子14,15が設けられる。支持碍子14にはコンタクトケース16が支持され、支持碍子15にはコンタクトケース17が支持される。コンタクトケース16とコンタクトケース17との間には、中間導体18が設けられる。また、接地タンク6内であってコンタクトケース16,17の下方には、リンク機構ケース19が設けられる。
コンタクトケース16には、可動リード2bが挿通して設けられる。コンタクトケース16の可動リード2b挿通部にはリングコンタクト等の接続部(図示せず)が設けられ、コンタクトケース16と可動リード2bが電気的に接続される。また、コンタクトケース17には、可動リード3bが挿通して設けられる。コンタクトケース17の可動リード3b挿通部にはリングコンタクト等の接続部(図示せず)が設けられ、コンタクトケース17と可動リード3bが電気的に接続される。つまり、可動リード2bは、コンタクトケース16,17及び中間導体18を介して可動リード3bと電気的に接続される。
リンク機構ケース19は、真空インタラプタ2,3の開閉を行うリンク機構(図示せず)を収納する。
リンク機構は、可動リード2bの端部に接続される絶縁棒20及び可動リード3bの端部に接続される絶縁棒21に連結される。リンク機構は、可動リード2bと可動リード3bを軸に沿って移動可能であるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、図3(a)に示すリンク機構22や図3(b)に示すリンク機構23が用いられる。リンク機構22(または、リンク機構23)には、リンク機構22(または、リンク機構23)を動作させる絶縁操作棒24の一端部が接続され、絶縁操作棒24の他端部は接地タンク6の外部に延出して設けられる。そして、接地タンク6の外部にて、真空インタラプタ2,3の開閉動作を行う操作装置(図示せず)が3相の絶縁操作棒を駆動する相間リンクを介して絶縁操作棒24に連結される。
具体的に説明すると、図3(a)のリンク機構22は、第1リンク22a,22bと第2リンク22c,22dとを有する。第1リンク22aの一端部はリンク機構ケース19内に設けられたハウジング25に回転可能に支持され、第1リンク22aの他端部は接続金具26に回転可能に支持される。第2リンク22cの一端部は第1リンク22aに回転可能に支持され、第2リンク22cの他端部は絶縁操作棒24の端部に回転可能に支持される。なお、接続金具26の端部には絶縁棒20の一端部が接続され、絶縁棒20の他端部には可動リード2bの端部が接続される。同様に、第1リンク22bの一端部はハウジング25に回転可能に支持され、第1リンク22bの他端部は接続金具27に回転可能に支持される。第2リンク22dの一端部は第1リンク22bに回転可能に支持され、第2リンク22dの他端部は絶縁操作棒24の端部に回転可能に支持される。そして、接続金具27の端部には絶縁棒21の一端部が接続され、絶縁棒21の他端部には可動リード3bの端部が接続される。
リンク機構22による真空遮断器1の投入動作は、絶縁操作棒24がハウジング25に形成されたガイド25aに沿って接地タンク6内部方向(図中上方向)に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒24の移動に応じて第2リンク22cが右旋回しながら上昇する。この第2リンク22cの回転運動に応じて、第1リンク22aが可動リード2bを軸に沿って真空インタラプタ2方向に移動させる。その結果、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが接続される。同様に、絶縁操作棒24の移動に応じて、第2リンク22dが左旋回しながら上昇する。そして、この第2リンク22dの回転運動に応じて、第1リンク22bが可動リード3bを軸に沿って真空インタラプタ3方向に移動させる。その結果、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが接続される。
また、リンク機構22による真空遮断器1の遮断動作は、絶縁操作棒24がガイド25aに沿って接地タンク6の外部方向(図中下方向)に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが離隔される。同様に、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが離隔される。
図3(b)に示すリンク機構23は、リンク23a,23bを有する。リンク23aの一端部は絶縁操作棒24の端部に回転可能に支持され、リンク23aの他端部は接続金具26の端部に接続される。また、リンク23bの一端部は絶縁操作棒24の端部に回転可能に支持され、リンク23bの他端部は接続金具27の端部に接続される。なお、リンク機構ケース19内に設けられるハウジング28にはガイド28a,28bが形成される。ガイド28aは、可動リード2bが軸に沿って往復運動するように、接続金具26を案内する。同様に、ガイド28bは、可動リード3bが軸に沿って往復運動するように接続金具27を案内する。
リンク機構23による真空遮断器1の投入動作は、絶縁操作棒24がハウジング28に形成されたガイド28cに沿って接地タンク6の内部方向(図中上方向)に移動することにより行われる。すなわち、絶縁操作棒24の移動に応じて、リンク23aが右旋回しながら上昇する。その結果、リンク23aが接続金具26を押し上げ、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが接続される。同様に、絶縁操作棒24の移動に応じて、リンク23bが左旋回しながら上昇する。その結果、リンク23bが接続金具27を押し上げ、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが接続される。
また、リンク機構23による真空遮断器1の遮断動作は、絶縁操作棒24がガイド28cに沿って接地タンク6の外部方向(図中下方向)に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが離隔される。同様に、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが離隔される。
以上のような本発明の第1実施形態に係る真空遮断器1によれば、真空インタラプタ2,3をブッシング4,5内に設けることで、真空インタラプタ2,3が受ける接地の影響を低減することができる。その結果、真空インタラプタ2,3が分担する電圧の偏りを抑制することができる。このように真空インタラプタ2,3が分担する電圧の偏りを抑制することで、従来の2点切りタンク形真空遮断器で設けられていた分圧コンデンサが不要となり、真空遮断器1を小型化することができる。
このように、電圧分担が改善されることにより、真空遮断器1の耐電圧性能、遮断性能が向上し、遮断部の小型化、操作装置の低操作力化を図ることができる。また、部品点数を削減することにより、コストの低減及び真空遮断器1の縮小化を図ることができる。
また、接地のない碍子(ブッシング4)内に真空インタラプタ2を配置することで、真空インタラプタ2を接地タンク6内に配置した場合よりも真空インタラプタ2の貫通破壊に対する優位性が向上する。同様に、ブッシング5内に真空インタラプタ3を配置することで、真空インタラプタ3を接地タンク6内に配置した場合よりも真空インタラプタ3の貫通破壊に対する優位性が向上する。つまり、図4(a)に示すように、接地タンク6内に真空インタラプタ2(または、真空インタラプタ3)を配置した場合、セラミック沿面(すなわち、真空容器7沿面)に対して、法線方向を含むベクトルの電界が発生する(図中矢印で示す)。電界ストレスの向き(すなわち、電位分布と直角方向)は、電子の軌道を表すため、電界ストレスの向きがセラミック沿面に対して法線方向を含む場合、セラミック沿面の貫通破壊を引き起こすおそれがある。これに対して、図4(b)に示すように、碍子(ブッシング4)内に真空インタラプタ2を配置した場合、電界ストレスの向きは、セラミック沿面(真空容器7沿面)に対して接線方向となる(図中矢印で示す)。その結果、真空容器7の貫通破壊に対する優位性は、接地タンク6内に真空インタラプタ2を配置した場合より、碍子(ブッシング4)内に真空インタラプタ2を配置した場合の方が非常に優れることとなる。同様に、接地タンク6内に真空インタラプタ3を配置した場合より、ブッシング5内に真空インタラプタ3を配置した場合の方が、真空容器7沿面の貫通破壊に対する優位性が非常に優れることとなる。
また、真空インタラプタ2の可動リード2bの軸と真空インタラプタ3の可動リード3bの軸が鋭角となるようにブッシング4,5を接地タンク6に支持すると、真空インタラプタ2,3を駆動させるリンク機構がV字状となり、真空インタラプタ2,3を閉じるときの可動リード2b,3bのストロークを稼ぐことができる。その結果、固定電極8と可動電極9との接触(圧接)を確実に行うことができ、真空遮断器1の信頼性が向上する。
つまり、図7に示すように、真空インタラプタ2,3の可動リード2b,3bの軸が同軸に設けられた真空遮断器40では、真空インタラプタ2,3が閉じるにしたがって絶縁操作棒24の移動に対する可動リード2b,3bの移動距離が小さくなることとなる。例えば、固定電極8と可動電極9とが接続されたとき、固定電極8と可動電極9は圧接して設けられる。この圧接が不十分であると、事故電流の電磁反発力等の原因により固定電極8と可動電極9との間にアークが発生し、固定電極8及び可動電極9が損耗または溶着するおそれがある。すなわち、従来技術に係る真空遮断器40において、固定電極8と可動電極9との接触が不十分であると、真空遮断器40の遮断性能が損なわれるおそれがあり、固定電極8と可動電極9との接続位置を正確に位置合わせることが必要となる。これに対して、リンク機構がV字状であると、真空インタラプタ2,3が閉じるにしたがって絶縁操作棒24の移動に対する可動リード2b,3bの移動距離が小さくなる割合が少なくなり、固定電極8と可動電極9の接続時の可動リード2b,3bのストロークを稼ぐことができる。
また、接地タンク6内に中間導体18を設けることにより、中間導体18が接地層に覆われることとなり、真空遮断器1にブッシング変流器12,13を設けることができる。さらに、接地タンク6を設けることで、重心が低くなり、真空遮断器1の耐震性が向上する。
なお、本発明の真空遮断器1では、可動リード2bが長くなるので、可動リード2bとコンタクトケース16と導通する導体筒を真空インタラプタ2とコンタクトケース16との間に設ける形態とすることもできる(後述の第2実施形態も同様である)。すなわち、この導体筒内であって、導体筒と同軸に可動リード2b(または、可動リード2bの端部に接続される絶縁棒20)を設けることで、導体筒に沿って可動リード2bを移動させることができ、真空遮断器1の信頼性が向上する。同様に、可動リード3bとコンタクトケース17と導通する導体筒を真空インタラプタ3とコンタクトケース17との間に設ける形態とすることもできる。
[第2実施形態]
本発明の第2実施形態に係るタンク形真空遮断器について、図5及び図6を参照して詳細に説明する。本発明の第2実施形態に係る真空遮断器29は、真空インタラプタ2の可動リード2bと真空インタラプタ3の可動リード3bが平行となるように接地タンク6にブッシング4,5を設けたものである。よって、第1実施形態に係る真空遮断器1と同様の構成については同じ符号を付し、異なる部分について詳細に説明する。
図5に示すように、本発明の第2実施形態に係る真空遮断器29は、真空インタラプタ2,3と、真空インタラプタ2を包囲するブッシング4と、真空インタラプタ3を包囲するブッシング5と、ブッシング4,5を支持する接地タンク6とを有する。
真空インタラプタ2の固定リード2aは、ブッシング4の上端部に固定されるとともに、ブッシング端子4aに接続される。また、真空インタラプタ2の可動リード2bは、接地タンク6方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード2bの内部には圧接ばね2cが設けられており、この圧接ばね2cにより可動電極9が設けられたリードが固定電極8方向に付勢される。
真空インタラプタ3の固定リード3aは、ブッシング5の上端部に固定されるとともに、ブッシング端子5aに接続される。また、真空インタラプタ3の可動リード3bは、接地タンク6方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード3bの内部には圧接ばね3cが設けられており、この圧接ばね3cにより可動電極9が設けられたリードが固定電極8方向に付勢される。
ブッシング4及びブッシング5は、接地タンク6に支持される。このとき、真空インタラプタ2の可動リード2b及び真空インタラプタ3の可動リード3bが平行となるように、ブッシング4,5が接地タンク6に支持される。また、ブッシング4と接地タンク6との接続部にはブッシング変流器12が設けられる。同様に、ブッシング5と接地タンク6との接続部にはブッシング変流器13が設けられる。
接地タンク6の内部であって対向する側部には、一対の支持碍子14,15が設けられる。支持碍子14と支持碍子15との間には、コンタクトケース30が設けられる。また、接地タンク6の内周部には、コンタクトケース30を支持する支持部31が設けられる。
コンタクトケース30には、可動リード2bが挿通して設けられる。コンタクトケース30の可動リード2b挿通部には、リングコンタクト(図示せず)等の接続部が設けられ、コンタクトケース30と可動リード2bが電気的に接続される。また、コンタクトケース30には、可動リード3bが挿通して設けられる。コンタクトケース30の可動リード3b挿通部には、リングコンタクト(図示せず)等の接続部が設けられ、コンタクトケース30と可動リード3bが電気的に接続される。すなわち、コンタクトケース30は、実施形態1のコンタクトケース16,17と中間導体18が一体となったものに相当し、可動リード2bが、コンタクトケース30を介して可動リード3bと電気的に接続される。また、コンタクトケース30内には、真空インタラプタ2,3の開閉を行うリンク機構(図示せず)が収納される。リンク機構には、真空インタラプタ2,3の開閉動作を行う絶縁操作棒24の一端部が接続され、絶縁操作棒24の他端部は、支持部31を挿通して接地タンク6の外部に延出して設けられる。そして、接地タンク6の外部にて、真空インタラプタ2,3の開閉動作を行う操作装置(図示せず)が絶縁操作棒24に連結される。
リンク機構は、可動リード2bと可動リード3bを軸に沿って移動可能であるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、図6(a)に示すリンク機構32や図6(b)に示すリンク機構33が用いられる。
具体的に説明すると、図6(a)のリンク機構32は、第1リンク32a,32bと第2リンク32cとを有する。第1リンク32aの一端部は可動リード2bの端部に接続され、第1リンク32aの他端部は、第2リンク32cの一端部に固定される。また、第1リンク32bの一端部は可動リード3bの端部に接続され、第1リンク32bの他端部は、第2リンク32cの他端部に固定される。第1リンク32aの側部には、ガイド34が設けられる。ガイド34は、可動リード2bが軸方向に移動するように、第1リンク32aを案内する。同様に、第1リンク32bの側部には、ガイド35が設けられる。ガイド35は、可動リード3bが軸方向に移動するように、第1リンク32bを案内する。そして、第2リンク32cの中央部(すなわち、第1リンク32aの接続部と第1リンク32bの接続部の中心部)には、絶縁操作棒24の一端部が固定される。
リンク機構32による真空遮断器29の投入動作は、絶縁操作棒24がガイド36に沿って接地タンク6内部方向(図中上方向)に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒24の動作に応じて、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが接続される。同様に、絶縁操作棒24の動作に応じて、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが接続される。
また、リンク機構32による真空遮断器29の遮断動作は、絶縁操作棒24がガイド36に沿って接地タンク6の外部方向(図中下方向)に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが離隔される。同様に、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが離隔される。
図6(b)に示すリンク機構33は、図6(a)のリンク機構32において、第1リンク32a,32bと第2リンク32cとの接続部に三角リンク37,38を設け、第2リンク32cと絶縁操作棒24との間に三角リンク39を設けたものである。
リンク機構33による真空遮断器29の投入動作は、絶縁操作棒24がガイド36に沿って接地タンク6の内部方向(図中上方向)に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒24の動作に応じて、三角リンク39が回転軸39aを中心に左回転し、第2リンク32cが回転軸39aを中心に回転する。第2リンク32cの回転運動に応じて、三角リンク37が回転軸37aを中心に左回転し、三角リンク37の回転運動に応じて第1リンク32aが真空インタラプタ2方向に移動する。その結果、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが接続される。同様に、第2リンク32cの回転運動に応じて、三角リンク38が回転軸38aを中心に左回転し、三角リンク38の回転運動に応じて第1リンク32bが真空インタラプタ3方向に移動する。その結果、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが接続される。
また、リンク機構33による真空遮断器29の遮断動作は、絶縁操作棒24がガイド36に沿って接地タンク6の外部方向(図中下方向)に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード2bが軸に沿って真空インタラプタ2から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ2の固定電極8と可動電極9とが離隔される。同様に、可動リード3bが軸に沿って真空インタラプタ3から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ3の固定電極8と可動電極9とが離隔される。
以上のような本発明の第2実施形態に係る真空遮断器29によれば、第1実施形態に係る真空遮断器1と同様に、真空遮断器29を小型化することができる。また、電圧分担が改善されることにより、耐電圧性能、遮断性能が向上し、遮断部の小形化、操作装置の低操作力化、部品点数削減を図ることができる。さらには、貫通破壊に対する優位性が高い真空遮断器29を得ることができる。
また、真空インタラプタ2,3を接地タンク6に対して垂直に配置することで、真空遮断器29の組立性が向上する。
また、真空インタラプタ2の可動リード2bの軸と真空インタラプタ3の可動リード3bの軸が平行となるように真空インタラプタ2,3を設けることで、絶縁操作棒24の移動距離に応じて、第1リンク32a,32b(すなわち、可動リード2b,3b)が移動することとなる。その結果、第1実施形態の真空遮断器1よりもさらに、真空インタラプタ2,3を閉じるときの可動リード2b,3bのストロークを稼ぐことができる。
1,29…真空遮断器
2,3…真空インタラプタ
2a,3a…固定リード
2b,3b…可動リード(可動軸)
2c,3c…圧接ばね
4,5…ブッシング
6…接地タンク
7…真空容器
8…固定電極
9…可動電極
10…中間シールド
11…ベローズ
12,13…ブッシング変流器
14,15…支持碍子
16,17…コンタクトケース
18…中間導体
19…リンク機構ケース
20,21…絶縁棒
22,23,32,33…リンク機構
24…絶縁操作棒
30…コンタクトケース(中間導体)

Claims (3)

  1. 絶縁ガスが充填される接地タンクと、接地タンクに支持される第1ブッシング及び第2ブッシングと、を有する真空遮断器であって、
    第1ブッシング内に第1真空インタラプタを設け、第1真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第1ブッシングを接地タンクに支持し、
    第2ブッシング内に第2真空インタラプタを設け、第2真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第2ブッシングを接地タンクに支持し、
    接地タンク内に、第1真空インタラプタの可動軸と第2真空インタラプタの可動軸とを電気的に接続する中間導体と、第1真空インタラプタ及び第2真空インタラプタの開閉を行うリンク機構と、を設ける
    ことを特徴とする真空遮断器。
  2. 第1真空インタラプタの可動軸と第2真空インタラプタの可動軸との角度が鋭角となるように接地タンクに第1ブッシングと第2ブッシングとを支持し、
    第1真空インタラプタ及び第2真空インタラプタの開閉を行う絶縁操作棒を、リンク機構を介して第1真空インタラプタの可動軸及び第2真空インタラプタの可動軸に接続する
    ことを特徴とする請求項1に記載の真空遮断器。
  3. 第1真空インタラプタの可動軸と第2真空インタラプタの可動軸とが平行となるように接地タンクに第1ブッシングと第2ブッシングとを支持し、
    第1真空インタラプタ及び第2真空インタラプタの開閉を行う絶縁操作棒を、リンク機構を介して第1真空インタラプタの可動軸及び第2真空インタラプタの可動軸に接続する
    ことを特徴とする請求項1に記載の真空遮断器。
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