JP2016125942A - 磁気センサ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】バイアス磁石の小型化と実装位置精度の向上とを図った磁気センサ装置を提供する。【解決手段】磁気センサ装置1は、磁気抵抗素子を有するICチップ2と、ICチップ2を搭載するアイランド部3と、アイランド部3の周囲に配置されてICチップ2と電気的に接続された複数のリード部4と、磁気抵抗素子にバイアス磁界を付与するバイアス磁石5と、ICチップ2、アイランド部3、リード部4及びバイアス磁石5を樹脂封止する封止樹脂部6とを備えている。アイランド部3は、ICチップ2の裏面にバイアス磁石5を位置決めガイドする貫通孔3aを有している。【選択図】図1

Description

本発明は、磁界の変化を検出する磁気抵抗素子を備えた磁気センサ装置に関する。
従来の磁気センサ装置の一例としては、検出対称となる歯車の回転に伴い変化する永久磁石からなるバイアス磁石の磁界の変化を検出する半導体磁気抵抗素子を備えた磁性体検出器が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
上記特許文献1に記載された従来の磁性体検出器は、半導体磁気抵抗素子を備えたチップがリードフレームのアイランドにダイボンドされるとともに、リードフレームの外部接続リードと電気的に接続されており、外部接続リード及びアイランドの裏面を除いてパッケージによって樹脂封止されている。アイランドの裏面には、半導体磁気抵抗素子の感磁面に垂直磁界を付与する永久磁石が接着固定されており、パッケージは、永久磁石と外部接続リードとを挿入するホルダに組み付けられている。
特開2005−337865号公報
上記特許文献1記載の従来の磁性体検出器は、半導体磁気抵抗素子と永久磁石とがリードフレームを挟んで対向配置された構造となっている。その構造上、半導体磁気抵抗素子及び永久磁石の間の相対距離に制約を受けるため、半導体磁気抵抗素子に印加する磁束を強くするには大きい磁石又は強い磁石が必要となり、永久磁石を小型化することは困難である。
一方、半導体磁気抵抗素子及び永久磁石の組付誤差や部品公差等により半導体磁気抵抗素子及び永久磁石の間の相対位置関係にばらつきが発生するため、半導体磁気抵抗素子に対する永久磁石の実装位置精度の向上に配慮する必要がある。
従って、本発明の目的は、バイアス磁石の小型化と実装位置精度の向上とを図った磁気センサ装置を提供することにある。
[1]本発明は、磁気抵抗素子を有するICチップと、前記ICチップを搭載するアイランド部と、前記アイランド部の周囲に配置されて前記ICチップと電気的に接続された複数のリード部と、前記磁気抵抗素子にバイアス磁界を付与するバイアス磁石と、前記ICチップ、前記アイランド部、前記リード部及び前記バイアス磁石を樹脂封止する封止樹脂部と、を備え、前記アイランド部は、前記ICチップの裏面に前記バイアス磁石を位置決めガイドする貫通孔を有していることを特徴とする磁気センサ装置にある。
[2]上記[1]記載の前記貫通孔は、前記アイランド部の一側辺部に切り欠かれた切欠開口からなることを特徴とする。
[3]上記[1]又は[2]記載の前記バイアス磁石は、前記貫通孔に嵌め合わされる小形部と、前記貫通孔の開口周辺部に接触する大形部とを有していることを特徴とする。
[4]上記[3]記載の前記小形部の厚さは、前記アイランド部の厚さと実質的に同一寸法に設定されていることを特徴とする。
[5]上記[1]記載の前記磁気抵抗素子は、MR素子からなることを特徴とする。
本発明によると、磁気抵抗素子とバイアス磁石との間の相対距離を縮小することで小型化を実現することができるとともに、バイアス磁石の実装位置精度を高めることが可能になる。
本発明に好適な実施の形態に係る磁気センサ装置の内部構造を図2のI−I線矢視部に相当する部位からみた説明図である。 実施の形態に係る磁気センサ装置の構成部品をリードフレーム上に実装した状態を説明するための上面模式図である。 実施の形態に係る磁気センサ装置のバイアス磁石を示す斜視拡大図である。 実施の形態に係る磁気センサ装置のバイアス磁石から発生する磁界分布を説明するための説明図(a)及び(b)である。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて具体的に説明する。
(磁気センサ装置の全体構成)
図1において、全体を示す符号1は、本実施の形態に係る典型的な磁気センサ装置を例示している。
この磁気センサ装置1は、印加される磁界の方向に応じて抵抗値が変化する図示しない磁気抵抗素子及び磁気抵抗素子に電気接続された電子回路をシリコン基板上に集積一体化したICチップ2を備えている。電子回路は、磁気抵抗素子から出力された出力信号に増幅処理を行う増幅回路、磁気抵抗素子の出力信号を信号処理する信号処理回路及び回路全体の動作を制御する制御回路等からなる。
磁気抵抗素子は、例えば磁石から発生する磁界に起因する磁場ベクトルの方向変化を検出するMR素子により構成されている。磁気抵抗素子及び電子回路は、例えば絶縁性、耐食性や耐熱性等に優れるエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂によりモールドした樹脂部材により封止されている。
この磁気センサ装置1は更に、図1及び図2に示すように、ICチップ2を搭載するアイランド部3と、アイランド部3の周囲に配置されてICチップ2と電気的に接続された複数のリード部4,…,4と、磁気抵抗素子にバイアス磁界を付与するバイアス磁石5と、これらの組立部品を樹脂封止する封止樹脂部6とを備えている。
封止樹脂部6は、ICチップ2、アイランド部3、リード部4及びバイアス磁石5の組立部品をインサートとして、モールド樹脂を射出成形するインサート成形により直方体形状に樹脂封止している。封止樹脂部6の材質としては、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂などが用いられる。
リード部4は、左右両側にカギ状に折り曲げた8本のリード板に形成されており、封止樹脂部6により被覆されるインナーリード部4aと封止樹脂部6から外部に露出するアウターリード部4bとからなる。左側の4本のリード部4と右側の4本のリード部4とが集束した一端部の中心部には、略四角板形状のアイランド部3がインナーリード部4aから所要の高さだけ下がった段違いの位置に配置されている。アイランド部3は、リード部4の板厚よりも肉厚の差厚形状に形成されている。
アイランド部3及びリード部4の材質としては、例えばアルミニウム、黄銅、銅や銅合金等の非磁性及び導電性を有する金属材料などが用いられる。アイランド部3及びリード部4の表面には、例えば錫、ニッケル、金や銀等の金属材料によりメッキ処理が施されてもよい。
このアイランド部3の上面には、塗布した接着剤を介してICチップ2がダイボンディングされている。アイランド部3の大きさは、ICチップ2と同一か又は僅かに大きく形成されている。ICチップ2の入力電極、出力電極及び接地電極等の電極パッド2aと8本のリード部4のパッド部4cとがボンディングワイヤ7を介してボンディング接続されている。
ICチップ2の接着剤としては、例えばシリコン系ペースト等の絶縁性接着剤などが用いられる。ボンディングワイヤ7の材質としては、例えばアルミニウム、銅やニッケルなどの導電性、柔軟性及び可撓性を有する金属材料が用いられる。
(磁石位置決めガイドの構成)
上記のように構成された磁気センサ装置1の全体構成において最も主要な構成とするところは、ICチップ2とバイアス磁石5との間の相対距離に制約を受けないように配置された構造にある。従って、図示例による磁気センサ装置1の全体構成については、特に限定されるものではない。
アイランド部3の一側辺部には、直線状に切り欠かれた長い貫通孔3aが形成されている。この貫通孔3aは、ICチップ2の裏面にバイアス磁石5を位置決めガイドするためのガイドスリット状の切欠開口として構成されている。貫通孔3aの形状としては、縦横比を有するガイドスリット状の切欠開口に限定されるものではなく、例えば円形状や多角形形状等の各種形状の貫通孔を用いることができる。
一方のバイアス磁石5は、図3に示すように、アイランド部3の貫通孔3aの形状に対応するブロック状の永久磁石により構成されている。永久磁石としては、例えばネオジム磁石、フェライト磁石、樹脂材料に粉体又は粒子からなる磁性材料を混合することで成形されたプラスチック磁石が用いられる。
図示例によるバイアス磁石5は、円盤形状の大形部5aを有しており、大形部5aの中央部には、円盤形状の小形部5bが形成されている。大形部5aは、アイランド部3の貫通孔3aの開口周辺部に接触する大径に形成されている。一方の小形部5bは、アイランド部3の貫通孔3aの最奥部である端面に当接するように嵌め合わされる小径に形成されており、塗布された接着剤によりICチップ2の裏面に接着固定されている。バイアス磁石5の小形部5bの肉厚Tは、アイランド部3の板厚Tと実質的に同一寸法に設定されている。
バイアス磁石5の接着剤としては、例えば熱硬化型のアクリル系接着剤などが用いられる。バイアス磁石5の形状としては、磁気抵抗素子にバイアス磁界を印加する機能を奏することができる形状であれば、図示例の形状に限定されるものではなく、適宜の形状を採用することができることは勿論である。
バイアス磁石5は、図4(a)及び(b)に示すように、ICチップ2の感磁方向と同一の面に沿った方向に着磁されている。バイアス磁石5から発生するバイアス磁界の磁束BをICチップ2の感磁方向に印加することで、磁気回路の動作点にバイアスをかけ、抵抗変化の直線領域を使うことで、磁気情報を増幅する。ICチップ2において、検出対象物のストロークの長い動きを高感度で検出することができる。
(磁気センサ装置の製造)
アイランド部3及びリード部4の材料となるリードフレーム8は、図2に示すように、矩形平板状の外枠に複数本一組のリードフレームを多数個配列した多数個取り可能な多数個取りのフレームである。定法に従いリードフレーム8となる導電性の金属板をプレスによって所要の外形に打ち抜くとともに、プレス加工又はエッチング加工により薄肉化されたアイランド部3及びリード部4が段違いに製作される。多数個配列した複数本一組のリードフレーム8は、一回の製造プロセスで多数個取りされる。
リードフレーム8の加工後、ICチップ2がリードフレーム8のアイランド部3上にダイボンディングされ、ボンディングワイヤ7によりICチップ2の電極パッド2aとリード部4のパッド部4cとがボンディング接続される。バイアス磁石5の小形部5bがアイランド部3の貫通孔3aに位置決めガイドされるとともに、ICチップ2の裏面に接着固定され、ICチップ2、アイランド部3、リード部4及びバイアス磁石5の組立部品は、封止樹脂部6を射出成形するインサート成形により一体化される。
カッティングデバイスを用いてリードフレーム8の矩形平板状の外枠を複数の領域に分離するダイシングラインに沿って切断することで、複数の磁気センサ装置1が完成する。従って、多数個の独立した磁気センサ装置1を効率的に製造することが可能となる。
(実施の形態の効果)
以上のように構成された磁気センサ装置1を採用することで、上記効果に加えて以下の効果が得られる。
(1)ICチップとバイアス磁石とがリードフレームを挟んで対向配置された構造と比較して、ICチップ2とバイアス磁石5との間の相対距離を縮小することが可能となり、バイアス磁石5の小型化を達成することができる。
(2)リードフレーム8のアイランド部3に対するバイアス磁石5の実装位置精度の向上に配慮する必要がなくなり、バイアス磁石5の高精度な実装が可能になる。
(3)リードフレーム8のアイランド部3に対するバイアス磁石5の実装位置精度の向上に配慮する必要がなくなるため、製品の歩留り向上も達成できるようになる。
なお、本発明における磁気センサ装置1の代表的な実施の形態として、ICチップ2とリード部4とがボンディングワイヤ7により電気的に接続された構成を例示したが、ICチップ2とリード部4とをフリップチップ接続により電気的に接続された構成を用いることができる。
また、本発明における磁気センサ装置1は、例えばシートベルトバックル装置、シフト装置又はコンビネーションスイッチ等の車載機器や各種機器に効果的に用いることができる。
以上の説明からも明らかなように、本発明に係る代表的な実施の形態、変形例及び図示例を例示したが、上記実施の形態、変形例及び図示例は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。従って、上記実施の形態、変形例及び図示例の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。
1…磁気センサ装置、2…ICチップ、2a…電極パッド、3…アイランド部、3a…貫通孔、4…リード部、4a…インナーリード部、4b…アウターリード部、4c…パッド部、5…バイアス磁石、5a…大形部、5b…小形部、6…封止樹脂部、7…ボンディングワイヤ、8…リードフレーム、B…磁束、T…板厚、T…肉厚

Claims (5)

  1. 磁気抵抗素子を有するICチップと、
    前記ICチップを搭載するアイランド部と、
    前記アイランド部の周囲に配置されて前記ICチップと電気的に接続された複数のリード部と、
    前記磁気抵抗素子にバイアス磁界を付与するバイアス磁石と、
    前記ICチップ、前記アイランド部、前記リード部及び前記バイアス磁石を樹脂封止する封止樹脂部と、
    を備え、
    前記アイランド部は、前記ICチップの裏面に前記バイアス磁石を位置決めガイドする貫通孔を有していることを特徴とする磁気センサ装置。
  2. 前記貫通孔は、前記アイランド部の一側辺部に切り欠かれた切欠開口からなることを特徴とする請求項1記載の磁気センサ装置。
  3. 前記バイアス磁石は、前記貫通孔に嵌め合わされる小形部と、前記貫通孔の開口周辺部に接触する大形部とを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の磁気センサ装置。
  4. 前記小形部の厚さは、前記アイランド部の厚さと実質的に同一寸法に設定されていることを特徴とする請求項3記載の磁気センサ装置。
  5. 前記磁気抵抗素子は、MR素子からなることを特徴とする請求項1記載の磁気センサ装置。
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