JP2016110945A - Method of manufacturing organic el display panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an organic EL display panel that corrects positional displacement of a landing position of ink droplets caused by local distortion of a sub pixel pattern.SOLUTION: A method of manufacturing an organic EL display panel prepares an EL substrate on which plural coating scheduled areas are formed in a matrix form so that liquid droplets of ink containing organic light emitting material or high-performance material solved in solvent will be jetted from plural nozzles 423 and coated on the plural coating scheduled areas, and jetting the liquid droplets to the respective coating scheduled areas so as to correct the positional displacement by referring to positional displacement information representing the positional displacements of landing positions of liquid droplets from a target position. The positional displacement information is achieved by preparing a substrate 30 for measurement on which plural measurement cells 33 are formed in a matrix form in conformity with an arrangement pattern common to the arrangement pattern of the plural coating scheduled areas, jetting droplets from the plural nozzles 423 onto the substrate 30 for measurement, and measuring the positional displacements in the line direction between the respective reference positions of the plural measurement cells 33 and the landing positions of the corresponding droplets in a lump.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、有機EL表示パネルの製造方法に関し、特にインクジェット法を用いた製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display panel, and more particularly to a manufacturing method using an inkjet method.

近年、有機EL(Electro−Luminescence)表示パネルの開発が盛んに行われている。有機EL表示パネルは、画素電極と共通電極との間に、発光層や発光層を発光させるための機能層が積層された構成を有する。これら発光層および機能層の形成方法として、発光層を形成するための有機発光材料や機能層を形成するための機能性材料を含むインクをインクジェット法等により下地基板上に塗布する方法(塗布法)がある(例えば、特許文献1)。   In recent years, organic EL (Electro-Luminescence) display panels have been actively developed. The organic EL display panel has a configuration in which a light emitting layer and a functional layer for causing the light emitting layer to emit light are laminated between a pixel electrode and a common electrode. As a method for forming these light-emitting layers and functional layers, a method of applying an organic light-emitting material for forming a light-emitting layer or an ink containing a functional material for forming a functional layer onto a base substrate by an inkjet method or the like (application method) (For example, Patent Document 1).

インクジェットを用いて基板にインクを塗布して有機EL表示パネルを形成する場合、バンクによりサブピクセルごとに区画された複数の塗布予定領域それぞれの内部にインク液滴を塗布するのであるが、所望の性能を有する機能層を得るためには、各塗布予定領域内に形成される機能層が所望の膜厚を有することが重要である。そして、そのためには、各塗布予定領域内に塗布されるインクの量を正確に制御する必要があり、インクジェットヘッドが備える複数のノズルから吐出されたインク液滴のそれぞれが狙った塗布予定領域内に正確に着弾するように制御する必要がある。ステージ上に基板がずれて載置された場合や、基板自体に全体的に伸びや縮み、歪みが生じている場合など、インクジェットヘッドと基板とが相対的にずれて配置されていると、吐出されるインク液滴の着弾位置もずれることになる。そこで従来から、画像表示予定部の外側であって基板の周縁部に設けられたアラインメントマークを読み取り、基板とインクジェットヘッドとの相対的な位置のずれを補正する方法が採用されている。   In the case where an organic EL display panel is formed by applying ink to a substrate using inkjet, ink droplets are applied to the inside of each of a plurality of application scheduled areas partitioned for each subpixel by a bank. In order to obtain a functional layer having performance, it is important that the functional layer formed in each application planned region has a desired film thickness. For this purpose, it is necessary to accurately control the amount of ink applied to each application planned area, and each of the ink droplets ejected from a plurality of nozzles provided in the inkjet head is within the target application area. It is necessary to control so that it will land accurately. When the substrate is displaced on the stage, or when the inkjet head and the substrate are relatively displaced, such as when the substrate itself is stretched, contracted, or distorted as a whole, The landing positions of the ink droplets to be shifted are also shifted. Therefore, conventionally, a method has been adopted in which an alignment mark provided on the peripheral portion of the substrate is read outside the image display scheduled portion and a relative positional deviation between the substrate and the inkjet head is corrected.

特開2009−54608号公報JP 2009-54608 A

画素電極やバンクの塗布予定領域は、マスクを用いてパターニングを行うことによりサブピクセルごとに形成されるのであるが、このとき、マスクのフレームを固定する装置の動作の癖や装置そのものの固体差などに由来して、形成されるサブピクセルのパターンに局所的な歪みや伸び、縮み等が生じる場合がある。
しかしながら、特許文献2の方法では、下地基板全体に亘って均一に生じた伸び、縮み、歪みに起因するずれや、下地基板が載置されるステージと下地基板とのずれ(縦方向、横方向、回転方向)には対しては、これらのずれを補正することができるが、下地基板に局所的に生じた歪みや伸び、縮みに対しては、ずれを補正することができない。
The pixel electrode or bank application planned area is formed for each sub-pixel by patterning using a mask. At this time, the operation error of the apparatus for fixing the frame of the mask and the solid difference of the apparatus itself are formed. In some cases, local distortion, elongation, shrinkage, or the like occurs in the formed subpixel pattern.
However, in the method of Patent Document 2, a shift caused by elongation, shrinkage, or distortion that occurs uniformly over the entire base substrate, or a shift between the stage on which the base substrate is placed and the base substrate (vertical direction, horizontal direction). , In the rotational direction), these deviations can be corrected. However, the deviation cannot be corrected for distortion, elongation or shrinkage locally generated in the base substrate.

近年、有機EL表示パネルの高精細化に伴い、サブピクセルのサイズがより小さくなっているため、このようなずれに対しても適切に補正する必要性が高まっている。
本発明は、サブピクセルパターンの局所的な歪み、伸び、縮みによるインク液滴の着弾位置のずれを補正することができる有機EL表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
In recent years, with the increase in definition of organic EL display panels, the size of subpixels has become smaller. Therefore, the necessity for appropriately correcting such a shift is increasing.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL display panel that can correct a deviation in landing position of an ink droplet due to local distortion, expansion, and contraction of a subpixel pattern.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法は、有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するEL基板とを準備し、吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機EL表示パネルの製造方法であって、前記位置ずれ情報は、前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得されることを特徴とする。   An organic EL display panel manufacturing method according to one embodiment of the present invention includes: an ink in which an organic light emitting material or a functional material is dissolved in a solvent; and the ink is applied by discharging droplets of the ink from a plurality of nozzles. A target position of a landing position of the ejected liquid droplets is prepared by preparing an EL substrate having a partition layer formed in a matrix in a display scheduled portion where a plurality of planned application regions to be displayed are to display an image With reference to misalignment information indicating misalignment from the nozzle, the nozzle having misalignment among the plurality of nozzles corresponds to each of the planned application regions of the plurality of nozzles so as to correct the misalignment. The droplets are ejected from the nozzles to each of the planned application areas, the ink is applied to the predetermined application area, and the solvent of the applied ink is dried. And a manufacturing method of an organic EL display panel in which a light emitting layer containing the organic light emitting material or a functional layer containing the functional material is formed in the planned application region, wherein the misregistration information includes the plurality of application information. Preparing a measurement substrate in which a plurality of measurement cells are formed in a matrix with an arrangement pattern common to the arrangement pattern of the planned region, and discharging the droplets from the plurality of nozzles on the measurement substrate; It is obtained by measuring the positional deviation in the row direction between the reference position of each of the plurality of measurement cells and the landing position of the corresponding droplet at a time.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法によると、EL基板の塗布予定領域へのインク塗布の際には、記憶部に記憶されている位置ずれ情報を参照して、各塗布予定領域に対応する測定用セルに係る位置ずれを補正するようにインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出する。
これにより、EL基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
According to the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, when applying ink to a predetermined application area of an EL substrate, each application schedule is referred to by referring to positional deviation information stored in the storage unit. Ink droplets are ejected from the nozzles of the ink-jet head so as to correct the positional shift related to the measurement cell corresponding to the region.
Thereby, it is possible to perform the positional deviation correction of the ink droplet corresponding to the local distortion of the arrangement pattern of the application region in the surface of the EL substrate.

さらには、同じ画像内における測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報(座標データ)に基づいて位置ずれを算出することができるため、得られた位置ずれ情報が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機EL表示パネルを製造することができる。
Further, since the positional deviation can be calculated based on the positional information (coordinate data) between the reference position of the measurement cell and the corresponding ink landing position in the same image, the obtained positional deviation information is used as the imaging apparatus. Not affected by the reproducibility of the operation.
Therefore, ink droplets can be landed more reliably in the intended application region, and the film thickness of the light emitting layer and functional layer can be made more uniform between subpixels, and color mixing can be suppressed. Thus, a higher quality organic EL display panel can be manufactured.

本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルにおける、サブピクセルの配置形態を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows the arrangement form of the sub pixel in the organic electroluminescence display panel which concerns on Embodiment 1 of this invention. 図2のA−A断面を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the AA cross section of FIG. 本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。(a)は、基材上にTFT層が形成された状態を示す部分断面図である。(b)は、TFT層上に層間絶縁層が形成された状態を示す部分断面図である。(c)は、層間絶縁層上に画素電極材料層が形成された状態を示す部分断面図である。(d)は、画素電極材料層上に正孔注入材料層が形成された状態を示す部分断面図である。(e)は、画素電極及び正孔注入層が形成された状態を示す部分断面図である。(f)は、正孔注入層および層間絶縁層上に第1バンク材料層が形成された状態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows typically a part of manufacturing process of the organic electroluminescence display panel which concerns on Embodiment 1 of this invention. (A) is a fragmentary sectional view which shows the state in which the TFT layer was formed on the base material. (B) is a partial cross-sectional view showing a state in which an interlayer insulating layer is formed on the TFT layer. (C) is a partial cross-sectional view showing a state in which a pixel electrode material layer is formed on an interlayer insulating layer. (D) is a fragmentary sectional view showing a state where a hole injection material layer is formed on the pixel electrode material layer. (E) is a fragmentary sectional view showing a state where a pixel electrode and a hole injection layer are formed. (F) is a fragmentary sectional view showing the state where the first bank material layer is formed on the hole injection layer and the interlayer insulating layer. 図3の続きの有機EL表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。(a)は、正孔注入層および層間絶縁層上に第1バンクが形成された状態を示す部分断面図である。(b)は、正孔注入層,層間絶縁層,および第1バンク上に第2バンク材料層が形成された状態を示す部分断面図である。(c)は、正孔注入層,層間絶縁層,および第1バンク上に第2バンクが形成された状態を示す部分断面図である。(d)は、バンクの塗布予定領域内に正孔輸送層が形成された状態を示す部分断面図である。(e)は、バンクの塗布予定領域内において正孔輸送層上に発光層が形成された状態を示す部分断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view schematically showing a part of the manufacturing process of the organic EL display panel continued from FIG. 3. (A) is a fragmentary sectional view which shows the state in which the 1st bank was formed on the positive hole injection layer and the interlayer insulation layer. FIG. 6B is a partial cross-sectional view showing a state in which the hole injection layer, the interlayer insulating layer, and the second bank material layer are formed on the first bank. (C) is a partial cross-sectional view showing a state in which a second bank is formed on the hole injection layer, the interlayer insulating layer, and the first bank. (D) is a fragmentary sectional view showing a state in which a hole transport layer is formed in a bank application planned region. (E) is a partial cross-sectional view showing a state in which a light emitting layer is formed on the hole transport layer in a bank application planned region. 図4の続きの有機EL表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。(a)は、バンク上および発光層上に電子輸送層が形成された状態を示す部分断面図である。(b)は、電子輸送層上に電子注入層が形成された状態を示す部分断面図である。(c)は、電子注入層上に共通電極が形成された状態を示す部分断面図である。(d)は、共通電極上に封止層が形成された状態を示す部分断面図である。FIG. 5 is a partial cross-sectional view schematically showing a part of the manufacturing process of the organic EL display panel continued from FIG. 4. (A) is a fragmentary sectional view which shows the state in which the electron carrying layer was formed on the bank and the light emitting layer. (B) is a fragmentary sectional view showing a state where an electron injection layer is formed on the electron transport layer. (C) is a fragmentary sectional view which shows the state in which the common electrode was formed on the electron injection layer. (D) is a fragmentary sectional view which shows the state in which the sealing layer was formed on the common electrode. 本発明の実施形態1に係る有機表示パネルの製造過程を示す模式工程図である。It is a schematic process drawing which shows the manufacturing process of the organic display panel which concerns on Embodiment 1 of this invention. インクジェット装置の主要構成を示す模式斜視図である。It is a model perspective view which shows the main structures of an inkjet apparatus. インクジェット装置の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of an inkjet apparatus. インクジェットヘッドの模式底面図である。It is a model bottom view of an inkjet head. サブヘッドの模式断面図である。It is a schematic cross section of a sub head. 本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、EL基板に初期モードでインクを塗布した場合のインク液滴の着弾位置と塗布予定領域との位置関係を示す模式平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a positional relationship between a landing position of an ink droplet and a planned application area when ink is applied to an EL substrate in an initial mode in the method for manufacturing an organic EL display panel according to Embodiment 1 of the present invention. . 本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法において、EL基板に補正モードでインクを塗布した場合のインク液滴の着弾位置と塗布予定領域との位置関係を示す模式平面図である。In the manufacturing method of the organic EL display panel according to Embodiment 1 of the present invention, it is a schematic plan view showing a positional relationship between a landing position of an ink droplet and a planned application area when ink is applied to an EL substrate in a correction mode. . (a)は、図11のB−B断面図である。(b)は、初期モードにおいてノズルのピエゾ素子に印加するパルス信号を模式的に示す図である。(c)は、補正モードにおいてノズルのピエゾ素子に印加するパルス信号を模式的に示す図である。(d)は、図12のC−C断面図である。(A) is BB sectional drawing of FIG. (B) is a figure which shows typically the pulse signal applied to the piezoelectric element of a nozzle in an initial mode. (C) is a figure which shows typically the pulse signal applied to the piezoelectric element of a nozzle in correction mode. (D) is CC sectional drawing of FIG. 本発明の実施形態2に係る有機EL表示パネルの製造方法の一部を模式的に示す平面図である。(a)は、EL基板の非表示予定部に補正モードでインク液滴を吐出した状態を示す模式平面図である。(b)は、表示予定部の塗布予定領域内に追加補正モードでインク液滴を吐出した状態を示す模式平面図である。It is a top view which shows typically a part of manufacturing method of the organic electroluminescent display panel which concerns on Embodiment 2 of this invention. (A) is a schematic top view which shows the state which ejected the ink droplet by the correction mode to the non-display plan part of EL board | substrate. (B) is a schematic plan view showing a state in which ink droplets are ejected in an additional correction mode within a planned application region of a display scheduled portion.

≪本発明の一態様の概要≫
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法は、有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するEL基板とを準備し、吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機EL表示パネルの製造方法であって、前記位置ずれ情報は、前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得されることを特徴とする。
<< Outline of One Embodiment of the Present Invention >>
An organic EL display panel manufacturing method according to one embodiment of the present invention includes: an ink in which an organic light emitting material or a functional material is dissolved in a solvent; and the ink is applied by discharging droplets of the ink from a plurality of nozzles. A target position of a landing position of the ejected liquid droplets is prepared by preparing an EL substrate having a partition layer formed in a matrix in a display scheduled portion where a plurality of planned application regions to be displayed are to display an image With reference to misalignment information indicating misalignment from the nozzle, the nozzle having misalignment among the plurality of nozzles corresponds to each of the planned application regions of the plurality of nozzles so as to correct the misalignment. The droplets are ejected from the nozzles to each of the planned application areas, the ink is applied to the predetermined application area, and the solvent of the applied ink is dried. And a manufacturing method of an organic EL display panel in which a light emitting layer containing the organic light emitting material or a functional layer containing the functional material is formed in the planned application region, wherein the misregistration information includes the plurality of application information. Preparing a measurement substrate in which a plurality of measurement cells are formed in a matrix with an arrangement pattern common to the arrangement pattern of the planned region, and discharging the droplets from the plurality of nozzles on the measurement substrate; It is obtained by measuring the positional deviation in the row direction between the reference position of each of the plurality of measurement cells and the landing position of the corresponding droplet at a time.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法によると、EL基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
さらには、測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報(座標データ)を別々にではなく一度で測定するため、得られた位置ずれ情報が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
According to the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, it is possible to perform ink droplet misregistration correction corresponding to the local distortion of the arrangement pattern of the application region in the surface of the EL substrate.
Furthermore, since the positional information (coordinate data) between the reference position of the measurement cell and the corresponding ink landing position is measured at once rather than separately, the obtained positional deviation information is used for the reproducibility of the operation of the imaging device. Not affected.

従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機EL表示パネルを製造することができる。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれの測定は、前記測定用セルと前記測定用基板に着弾した前記液滴とを撮像装置で撮像し、当該撮像された画像において行うことを特徴とする。
Therefore, ink droplets can be landed more reliably in the intended application region, and the film thickness of the light emitting layer and functional layer can be made more uniform between subpixels, and color mixing can be suppressed. Thus, a higher quality organic EL display panel can be manufactured.
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, measurement of a positional deviation in the row direction between the reference position of each of the plurality of measurement cells and the landing position of the corresponding droplet is performed. Is characterized in that the measurement cell and the droplet landed on the measurement substrate are picked up by an image pickup device and performed on the picked up image.

これにより、測定用セルの基準位置とインク液滴の着弾位置とを別々に測定した後に、双方の測定値から行方向の位置ずれを算出する場合と比較して、実測により得られた位置ずれは、撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機EL表示パネルを製造することができる。
Thus, after measuring the reference position of the measurement cell and the landing position of the ink droplet separately, the positional deviation obtained by actual measurement is compared with the case where the positional deviation in the row direction is calculated from both measured values. Is not affected by the reproducibility of the operation of the imaging apparatus.
Therefore, ink droplets can be landed more reliably in the intended application region, and the film thickness of the light emitting layer and functional layer can be made more uniform between subpixels, and color mixing can be suppressed. Thus, a higher quality organic EL display panel can be manufactured.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記測定用セルの基準位置は、前記測定用セルそれぞれの列方向における両端部の行方向における中心同士を結ぶ線であることを特徴とする。
これにより、インク液滴の着弾位置が塗布予定領域の基準位置から多少ずれた場合であっても、塗布予定領域内に着弾する確率を高くすることができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the reference position of the measurement cell is a line connecting the centers in the row direction of both end portions in the column direction of the measurement cell. It is characterized by being.
Thereby, even when the landing position of the ink droplet is slightly deviated from the reference position of the planned application area, the probability of landing in the planned application area can be increased.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布における前記複数の塗布予定領域それぞれについての前記インクの着弾位置の位置ずれの補正は、前記ノズルからの前記液滴の吐出タイミングを調整することにより行うことを特徴とする。
これにより、ノズルに印加する吐出信号のパルスのタイミングを調整する簡単な方法で、位置ずれ補正を実行することができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the displacement of the ink landing position for each of the plurality of planned application areas in the application of the ink into the predetermined application area. This correction is performed by adjusting the discharge timing of the droplets from the nozzle.
Thereby, the positional deviation correction can be executed by a simple method of adjusting the timing of the pulse of the ejection signal applied to the nozzle.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記位置ずれ情報の取得は、前記表示予定部に形成された前記塗布予定領域に対応する全ての前記測定用セルについて行うことを特徴とする。
これにより、表示予定部の全面に亘って塗布予定領域の配列パターンの局所的な歪みを検出することができ、当該局所的な歪みに起因する位置ずれをより網羅的に補正することができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the acquisition of the positional deviation information is performed for all the measurement cells corresponding to the planned application area formed in the planned display portion. It is characterized by performing about.
As a result, it is possible to detect local distortions in the arrangement pattern of the application-scheduled region over the entire display-scheduled portion, and to more comprehensively correct misalignment caused by the local distortions.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記有機EL表示パネルは、前記塗布予定領域と共通する配列パターンで形成された画素電極を有し、前記測定用セルは、前記画素電極の材料と同種の材料から成ることを特徴とする。
これにより、画素電極を形成する工程と同じ工程で測定用セルを形成することができ、測定用セルを形成するために別の材料や別の製造装置を用意しなくてもよいため、コスト抑制に資することができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the organic EL display panel has pixel electrodes formed with an array pattern common to the application-scheduled region, and is used for the measurement. The cell is made of the same kind of material as that of the pixel electrode.
As a result, the measurement cell can be formed in the same process as the process of forming the pixel electrode, and it is not necessary to prepare another material or another manufacturing apparatus in order to form the measurement cell. Can help.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記測定用基板は、前記複数の測定用セルの上方に配され、上面が平坦な撥液性の層を有し、前記液滴は前記撥液性の層上に着弾するように吐出されることを特徴とする。
これにより、測定用基板上に着弾したインク液滴が濡れ広がらないので、インク液滴の着弾位置を容易に特定することができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the measurement substrate includes a liquid-repellent layer that is disposed above the plurality of measurement cells and has a flat upper surface. The droplets are ejected so as to land on the liquid-repellent layer.
Thereby, since the ink droplets that have landed on the measurement substrate do not get wet and spread, the landing positions of the ink droplets can be easily specified.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記撥液性の層は、前記隔壁層を形成するための材料と同種の材料から成ることを特徴とする。
これにより、隔壁層を形成する工程と同じ工程で撥液性の層を形成することができ、撥液性の層を形成するために別の材料や別の製造装置を用意しなくてもよいため、コスト抑制に資することができる。
In a specific aspect of the method for producing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the liquid repellent layer is made of the same material as that for forming the partition wall layer.
Accordingly, the liquid repellent layer can be formed in the same step as the step of forming the partition wall layer, and it is not necessary to prepare another material or another manufacturing apparatus in order to form the liquid repellent layer. Therefore, it can contribute to cost control.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記塗布予定領域および前記測定用セルのパターニングは、共通のマスクを用いて行い、前記マスクを交換する毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。   In a specific aspect of the method for producing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the patterning of the coating application region and the measurement cell is performed using a common mask, and each time the mask is replaced, The measurement substrate is newly created, and the measurement of the displacement is newly performed using the newly created measurement substrate, and the newly measured displacement information is stored in the storage unit. The positional deviation information is updated.

これにより、マスクの不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記マスクのメンテナンスを行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。
As a result, it is possible to cope with the distortion of the arrangement pattern of the planned application area due to the defect of the mask.
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, each time the mask is maintained, the measurement substrate is newly created, and the newly created measurement substrate The positional deviation information stored in the storage unit is updated with the newly measured positional deviation information.

これにより、マスクのメンテナンスの際にマスクに不具合が生じた場合に、その不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記EL基板への前記インクの塗布を所定枚数行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。
Thereby, when a defect occurs in the mask during the maintenance of the mask, it is possible to cope with the distortion of the array pattern of the planned application area due to the defect.
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, each time a predetermined number of inks are applied to the EL substrate, the measurement substrate is newly created. The positional deviation information stored in the storage unit is updated with the newly measured positional deviation information by newly measuring the positional deviation using the created measurement substrate.

これにより、有機EL表示パネルの製造枚数が多くなるにつれてマスクに生じる経時的な疲労やゴミ等の付着によりマスクに不具合が生じた場合に、その不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記表示予定部は、前記EL基板において画像を表示する側の主面の中央部に配され、前記表示予定部の列方向に隣接して、画像が表示されない非表示予定部が配され、前記EL基板の準備の後、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布に先立って、前記非表示予定部に最も近い前記複数の塗布予定領域の行である補正参照行に属する各塗布予定領域のうち少なくとも行方向における両端部に位置する複数の塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで、前記表示予定部には前記液滴を吐出せずに、前記非表示予定部に前記液滴を複数吐出し、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置と、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域の基準位置との行方向における位置ずれを測定し、前記表示予定部に形成された前記複数の塗布予定領域内への前記インクの塗布において、前記測定用基板における位置ずれと、前記非表示予定部において測定された位置ずれの両方を補正するように前記液滴を吐出する追加補正モードで前記ノズルから前記液滴を吐出することを特徴とする。
As a result, when a defect occurs in the mask due to fatigue over time or adhesion of dust or the like that occurs in the mask as the number of manufactured organic EL display panels increases, the distortion of the arrangement pattern of the planned application area due to the defect occurs. Can respond.
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the display scheduled portion is disposed at a central portion of a main surface on the image display side of the EL substrate, and the display scheduled portion A non-display scheduled portion where no image is displayed is arranged adjacent to the column direction, and after the preparation of the EL substrate, prior to the application of the ink into the application planned region, When the droplets are ejected in the correction mode to a plurality of application scheduled areas located at both ends in the row direction among the application scheduled areas belonging to the correction reference row that is a row of the plurality of application scheduled areas close to each other. At the same timing, the liquid droplets are discharged to the non-display-scheduled part without discharging the liquid droplets to the display-scheduled part, and the landing positions of the liquid droplets discharged to the non-display-scheduled part , See above correction In the application of the ink into the plurality of planned application areas formed in the planned display portion, the position on the measurement substrate is measured. The liquid droplets are ejected from the nozzle in an additional correction mode in which the liquid droplets are ejected so as to correct both the displacement and the positional deviation measured in the non-display scheduled portion.

このように、非表示予定部にインク液滴を吐出して着弾位置と補正参照行の基準位置との行方向の位置ずれを測定し、個々の有機EL表示パネルについての行方向の局所的な伸びや縮みを検出することができる。そして、検出された伸びや縮みを補正するようにインク液滴を吐出することにより、個々の有機EL表示パネルの行方向の局所的な伸びや縮みに対応して、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機EL表示パネルを製造することができる。   In this way, the ink droplets are ejected to the non-display planned portion, the positional deviation in the row direction between the landing position and the reference position of the corrected reference row is measured, and the local direction in the row direction of each organic EL display panel is measured. Elongation and shrinkage can be detected. Then, by discharging ink droplets so as to correct the detected elongation and shrinkage, it is possible to more reliably target the application according to the local elongation and shrinkage in the row direction of each organic EL display panel. Ink droplets can be landed in the area, and the film thickness of the light-emitting layer and functional layer can be made more uniform between the sub-pixels, and color mixing can be suppressed, resulting in higher-quality organic EL display Panels can be manufactured.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部で測定された位置ずれの補正は、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置の位置ずれを、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行うことを特徴とする。
個々のEL基板について位置ずれを測定して、追加補正モードで塗布予定領域内にインクを塗布することにより、個々のEL基板で伸び、縮み、歪み等が異なる場合に、これらに起因する位置ずれを個々のEL基板10についてそれぞれ追加で補正することができるため、より確実にインク液滴を狙った塗布領域内に着弾させることができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the correction of the positional deviation measured in the non-display scheduled portion is performed by landing of the liquid droplets ejected on the non-display scheduled portion. The positional deviation is applied to the planned application area belonging to the same column as the corresponding planned application area in the correction reference row.
When the positional deviation is measured for each EL substrate, and the ink is applied in the area to be applied in the additional correction mode, when the expansion, contraction, distortion, etc. differ in each EL substrate, the positional deviation caused by these Can be additionally corrected for each EL substrate 10, so that ink droplets can be landed more reliably in the application region.

これにより、各サブピクセルにおける発光層および機能層の膜厚がより均一化され、また混色の発生をより低下させることができるため、より高品質な有機EL表示パネルを生産することができる。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部における位置ずれの測定は、前記EL基板毎に行うことを特徴とする。
Thereby, since the film thickness of the light emitting layer and the functional layer in each subpixel is made more uniform, and the occurrence of color mixing can be further reduced, a higher quality organic EL display panel can be produced.
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the measurement of the positional deviation in the non-display scheduled portion is performed for each EL substrate.

これにより、EL基板の伸びや縮みが行方向にのみ発生し、列方向には伸びや縮みが無い場合や、列方向に長尺なラインバンクを有するEL基板の場合には、補正参照行の位置ずれ補正を、補正参照行における対応する塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行うことにより、表示予定部内の全ての塗布予定領域に対して、追加の位置ずれ補正を行うことができる。   As a result, the expansion and contraction of the EL substrate occurs only in the row direction and there is no expansion or contraction in the column direction, or in the case of an EL substrate having a long line bank in the column direction, By applying the misregistration correction to the planned application area belonging to the same column as the corresponding planned application area in the correction reference row, additional misregistration correction is performed for all the planned application areas in the display scheduled portion. It can be performed.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部への前記液滴の吐出は、前記補正参照行に属する全ての前記塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで行うことを特徴とする。
これにより、EL基板の行方向における全体的な伸びや縮みのみならず、行方向における局所的な伸びや縮みを検出することができ、より正確に追加の位置ずれ補正を行うことができる。
In a specific aspect of the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the ejection of the droplets to the non-display scheduled portion is performed on all the planned application regions belonging to the correction reference row. It is performed at the same timing as when the droplet is ejected in the correction mode.
Thereby, it is possible to detect not only the overall expansion and contraction in the row direction of the EL substrate but also the local extension and contraction in the row direction, and more accurate misalignment correction can be performed.

以下、本発明の実施形態および変形例について具体例を示し、構成および作用・効果を説明する。
なお、以下の説明で用いる実施形態および変形例は、本発明の一態様に係る構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の実施形態および変形例に限定を受けるものではない。
Hereinafter, a specific example is shown about embodiment and modification of this invention, and a structure, an effect | action, and an effect are demonstrated.
Note that the embodiment and the modification used in the following description are examples used for easy understanding of the configuration, operation, and effect according to one aspect of the present invention, and the present invention is not limited to the essential part. The present invention is not limited to the following embodiments and modifications.

≪実施形態1≫
[1.有機EL表示パネルの概略構成]
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法の一例として、実施形態1に係る製造方法および、当該製造方法により製造される実施形態1に係る有機EL表示パネルの構成について、図1〜図11を参照しながら説明する。
Embodiment 1
[1. Schematic configuration of organic EL display panel]
As an example of a method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, a manufacturing method according to Embodiment 1 and a configuration of the organic EL display panel according to Embodiment 1 manufactured by the manufacturing method are illustrated in FIGS. This will be described with reference to FIG.

図1は、有機EL表示パネル100の概略構成を示す模式平面図である。図2に示すように、本実施形態に係る有機EL表示パネル100は、所謂ラインバンク構造を採用している。即ち、有機EL表示パネル100は、各々がX軸方向に長尺で、Y軸方向に互いに間隔をあけて配置された複数条の第1バンク(第1隔壁層)15aと、各々がY軸方向に長尺で、X軸方向に互いに間隔をあけて配置された複数条の第2バンク(第2隔壁層)15bとを備える。   FIG. 1 is a schematic plan view showing a schematic configuration of the organic EL display panel 100. As shown in FIG. 2, the organic EL display panel 100 according to this embodiment employs a so-called line bank structure. That is, the organic EL display panel 100 includes a plurality of first banks (first partition wall layers) 15a each having a length in the X-axis direction and spaced from each other in the Y-axis direction, A plurality of second banks (second partition wall layers) 15b that are long in the direction and are spaced apart from each other in the X-axis direction.

隣接する一対の第1バンク15aと、隣接する一対の第2バンク15bとで規定される各領域に、発光素子1R,1G,1Bの何れかが形成され、各発光素子1R,1G,1Bがサブピクセルとなっている。各サブピクセルのY方向の長さは、例えば、300μmである。
発光素子1Rは赤色(R)の光を出射し、発光素子1Gは緑色(G)の光を出射し、発光素子1Bは青色(B)の光を出射する。X方向に隣接する3つの発光素子1R,1G,1Bで1つの画素(ピクセル)が構成されている。なお、発光色を特に限定する必要がない場合には、これらの発光素子を総称して発光素子1と呼ぶ。
One of the light emitting elements 1R, 1G, and 1B is formed in each region defined by the pair of adjacent first banks 15a and the pair of adjacent second banks 15b, and each of the light emitting elements 1R, 1G, and 1B is formed. It is a subpixel. The length of each subpixel in the Y direction is, for example, 300 μm.
The light emitting element 1R emits red (R) light, the light emitting element 1G emits green (G) light, and the light emitting element 1B emits blue (B) light. Three light emitting elements 1R, 1G, and 1B adjacent in the X direction constitute one pixel. Note that when there is no need to particularly limit the emission color, these light-emitting elements are collectively referred to as the light-emitting element 1.

また、第1バンク15aの高さは、例えば、第2バンク15bの高さの40%〜70%の範囲内であって、より好ましくは、50%〜55%の範囲内である。また、第1バンク15aと第2バンク15bとを特に区別する必要が無い場合には、総称してバンク(隔壁層)15と呼ぶ。
図2は、図1におけるA−A断面図である。有機EL表示パネル100は、基板11、層間絶縁層12、画素電極13、正孔注入層14、バンク15(図3では、第2バンク15bのみが表示されている)、正孔輸送層16、発光層17(17R,17G,17B)、電子輸送層18、電子注入層19、共通電極20、および封止層21を備え、これらが積層された積層構造を有する。基板11、層間絶縁層12、電子輸送層18、電子注入層19、共通電極20、および封止層21は、複数の画素に共通して形成されている。本実施形態においては、正孔輸送層16、発光層17、電子輸送層18が、有機発光機能層であり、塗布法により形成される。
The height of the first bank 15a is, for example, in the range of 40% to 70% of the height of the second bank 15b, and more preferably in the range of 50% to 55%. When there is no need to distinguish between the first bank 15a and the second bank 15b, they are collectively referred to as a bank (partition wall layer) 15.
2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The organic EL display panel 100 includes a substrate 11, an interlayer insulating layer 12, a pixel electrode 13, a hole injection layer 14, a bank 15 (only the second bank 15b is displayed in FIG. 3), a hole transport layer 16, The light emitting layer 17 (17R, 17G, 17B), the electron transport layer 18, the electron injection layer 19, the common electrode 20, and the sealing layer 21 are provided and have a laminated structure in which these are laminated. The substrate 11, the interlayer insulating layer 12, the electron transport layer 18, the electron injection layer 19, the common electrode 20, and the sealing layer 21 are formed in common for a plurality of pixels. In the present embodiment, the hole transport layer 16, the light emitting layer 17, and the electron transport layer 18 are organic light emitting functional layers and are formed by a coating method.

続いて、有機EL表示パネル100の各部構成について説明する。
<基板>
基板11は、絶縁材料である基材111と、TFT(Thin Film Transistor)層112とを含む。TFT層112には、サブピクセル毎に駆動回路(不図示)が形成されている。基材111が形成される材料としては、例えば、ガラスが用いられる。ガラス材料としては、具体的には例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英等のガラスなどが挙げられる。
Next, the configuration of each part of the organic EL display panel 100 will be described.
<Board>
The substrate 11 includes a base material 111 that is an insulating material and a TFT (Thin Film Transistor) layer 112. In the TFT layer 112, a drive circuit (not shown) is formed for each subpixel. As a material for forming the base material 111, for example, glass is used. Specific examples of the glass material include alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, borate glass, quartz glass, and the like.

<層間絶縁層>
層間絶縁層12は、基板11上に形成されている。層間絶縁層12は、樹脂材料からなり、TFT層112の上面の段差を平坦化するためのものである。層間絶縁層12が形成される樹脂材料としては、例えば、ポジ型の感光性材料が用いられる。また、このような感光性材料としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
<Interlayer insulation layer>
The interlayer insulating layer 12 is formed on the substrate 11. The interlayer insulating layer 12 is made of a resin material, and is for flattening a step on the upper surface of the TFT layer 112. As the resin material on which the interlayer insulating layer 12 is formed, for example, a positive photosensitive material is used. Examples of such photosensitive materials include acrylic resins, polyimide resins, siloxane resins, and phenol resins.

<画素電極>
画素電極13は、導電材料からなり、層間絶縁層12上にサブピクセル毎に形成される。本実施形態に係る有機EL表示パネル100は、トップエミッション型であるので、画素電極13は、光反射性を具備した導電材料により形成されるとよい。光反射性を具備する導電材料としては、金属が挙げられる。具体的には、Ag(銀)、Al(アルミニウム)、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、MoW(モリブデンとタングステンの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)等を用いることができる。また、画素電極13は、上記光反射性を具備する導電材料と透明導電材料との積層構造であってもよい。この場合、透明導電材料としては、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ZnO(酸化亜鉛)等を用いることができる。
<Pixel electrode>
The pixel electrode 13 is made of a conductive material, and is formed on the interlayer insulating layer 12 for each subpixel. Since the organic EL display panel 100 according to the present embodiment is a top emission type, the pixel electrode 13 may be formed of a conductive material having light reflectivity. Examples of the conductive material having light reflectivity include metals. Specifically, Ag (silver), Al (aluminum), aluminum alloy, Mo (molybdenum), APC (silver, palladium, copper alloy), ARA (silver, rubidium, gold alloy), MoCr (molybdenum and chromium) Alloy), MoW (alloy of molybdenum and tungsten), NiCr (alloy of nickel and chromium), and the like can be used. Further, the pixel electrode 13 may have a laminated structure of the conductive material having the light reflectivity and the transparent conductive material. In this case, as the transparent conductive material, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO (zinc oxide), or the like can be used.

なお、この断面図には現れていないが、層間絶縁層12には、コンタクトホールがサブピクセル毎に形成されている。当該コンタクトホールにはTFT接続配線が埋め込まれており、画素電極13は、TFT接続配線を介して、TFT層112に形成された駆動回路と電気的に接続されている。
<正孔注入層>
正孔注入層14は、画素電極13から発光層17への正孔の注入を促進させる機能を有する。正孔注入層14は、例えば、金属酸化物から成り、画素電極13上に配置される。正孔注入層14の形成は、例えば、スパッタリング法により行われる。正孔注入層14の形成材料である金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン(WOx)、酸化モリブデン(MoOx)や、銀(Ag)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)等の酸化物を用いることができる。
Although not shown in the sectional view, a contact hole is formed in the interlayer insulating layer 12 for each subpixel. A TFT connection wiring is embedded in the contact hole, and the pixel electrode 13 is electrically connected to a drive circuit formed in the TFT layer 112 via the TFT connection wiring.
<Hole injection layer>
The hole injection layer 14 has a function of promoting injection of holes from the pixel electrode 13 to the light emitting layer 17. The hole injection layer 14 is made of, for example, a metal oxide and is disposed on the pixel electrode 13. The hole injection layer 14 is formed by, for example, a sputtering method. Examples of the metal oxide that is a material for forming the hole injection layer 14 include tungsten oxide (WOx), molybdenum oxide (MoOx), silver (Ag), chromium (Cr), vanadium (V), and nickel (Ni). An oxide such as iridium (Ir) can be used.

<バンク>
バンク15は、正孔注入層14の上面の一部の領域を露出させ、その周辺の領域を被覆した状態で正孔注入層14上に形成されている。正孔注入層14の上面においてバンク15で被覆されていない領域(以下、「開口部」という。)は、サブピクセルに対応している。即ち、バンク15は、サブピクセル毎に設けられた塗布予定領域15cを有する。
<Bank>
The bank 15 is formed on the hole injection layer 14 in a state where a part of the upper surface of the hole injection layer 14 is exposed and a peripheral region is covered. A region not covered with the bank 15 on the upper surface of the hole injection layer 14 (hereinafter referred to as “opening”) corresponds to a subpixel. That is, the bank 15 has a coating application region 15c provided for each subpixel.

バンク15は、例えば、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック樹脂、フェノール樹脂等)からなる。バンク15は、発光層17を塗布法で形成する場合には、塗布されたインクがあふれ出ないようにするための構造物として機能し、発光層17を蒸着法で形成する場合には、蒸着マスクを載置するための構造物として機能する。本実施形態では、バンク15は、樹脂材料からなり、例えば、ポジ型の感光性材料を用いることができる。このような感光性材料として、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。   The bank 15 is made of, for example, an insulating organic material (for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolac resin, a phenol resin, or the like). The bank 15 functions as a structure for preventing the applied ink from overflowing when the light emitting layer 17 is formed by a coating method. When the light emitting layer 17 is formed by a vapor deposition method, the bank 15 is vapor deposited. It functions as a structure for mounting the mask. In the present embodiment, the bank 15 is made of a resin material, and for example, a positive photosensitive material can be used. Specific examples of such photosensitive materials include acrylic resins, polyimide resins, siloxane resins, and phenol resins.

<正孔輸送層>
正孔輸送層16は、正孔注入層14から注入された正孔を発光層17へ輸送する機能を有し、有機材料から成る。正孔輸送層16を形成する有機材料としては、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物を用いることができる。
<Hole transport layer>
The hole transport layer 16 has a function of transporting holes injected from the hole injection layer 14 to the light emitting layer 17 and is made of an organic material. As an organic material for forming the hole transport layer 16, polymer compounds such as polyfluorene and derivatives thereof, or polyarylamine and derivatives thereof can be used.

また、正孔輸送層16はトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体を用いて形成されてもよい。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物等を用いてもよい。この場合、正孔輸送層16は、真空蒸着法により形成される。   The hole transport layer 16 is composed of triazole derivative, oxadiazole derivative, imidazole derivative, polyarylalkane derivative, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, phenylenediamine derivative, arylamine derivative, amino-substituted chalcone derivative, oxazole derivative, styrylanthracene derivative, It may be formed using fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds, butadiene compounds, polystyrene derivatives, hydrazone derivatives, triphenylmethane derivatives, tetraphenylbenzine derivatives. . Particularly preferably, a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound may be used. In this case, the hole transport layer 16 is formed by a vacuum evaporation method.

<発光層>
発光層17は、有機発光材料を含み、画素電極13の上方に位置する塗布予定領域15c内に形成されている。発光層17は、正孔と電子の再結合によりR、G、Bのうち何れか対応する発光色の光を出射する機能を有する。
発光層17に含まれる有機発光材料としては、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物およびアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、2−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とIII族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質を用いることができる。また、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウムなどの燐光を発光する金属錯体等の公知の燐光物質を用いることができる。また、発光層17は、ポリフルオレンやその誘導体、ポリフェニレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物等、もしくは前記低分子化合物と前記高分子化合物の混合物を用いて形成されてもよい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer 17 includes an organic light emitting material, and is formed in the planned application region 15 c located above the pixel electrode 13. The light emitting layer 17 has a function of emitting light of an emission color corresponding to any of R, G, and B by recombination of holes and electrons.
Examples of the organic light emitting material included in the light emitting layer 17 include an oxinoid compound, a perylene compound, a coumarin compound, an azacoumarin compound, an oxazole compound, an oxadiazole compound, a perinone compound, a pyrrolopyrrole compound, a naphthalene compound, an anthracene compound, a fluorene compound, Fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone compound, styryl compound, butadiene compound, Dicyanomethylenepyran compound, dicyanomethylenethiopyran compound, fluorescein compound, pyrylium Product, thiapyrylium compound, serenapyrylium compound, telluropyrylium compound, aromatic aldadiene compound, oligophenylene compound, thioxanthene compound, cyanine compound, acridine compound, metal chain of 8-hydroxyquinoline compound, metal chain of 2-bipyridine compound A fluorescent substance such as a chain of a Schiff salt and a group III metal, an oxine metal chain, or a rare earth chain can be used. In addition, a known phosphor such as a metal complex emitting phosphorescence such as tris (2-phenylpyridine) iridium can be used. The light emitting layer 17 is formed using polyfluorene or a derivative thereof, polyphenylene or a derivative thereof, a polymer compound such as polyarylamine or a derivative thereof, or a mixture of the low molecular compound and the polymer compound. Also good.

<電子輸送層>
電子輸送層18は、複数の画素に共通して発光層17およびバンク15上に設けられており、共通電極20から注入された電子を発光層17へと輸送する機能を有する。電子輸送層18は、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などを用い形成されている。
<Electron transport layer>
The electron transport layer 18 is provided on the light emitting layer 17 and the bank 15 in common to a plurality of pixels, and has a function of transporting electrons injected from the common electrode 20 to the light emitting layer 17. The electron transport layer 18 is formed using, for example, an oxadiazole derivative (OXD), a triazole derivative (TAZ), a phenanthroline derivative (BCP, Bphen), or the like.

<電子注入層>
電子注入層19は、電子輸送層18上に複数の画素に共通して設けられており、共通電極20から発光層17への電子の注入を促進させる機能を有する。電子注入層19は、例えば、リチウム、バリウム、カルシウム、カリウム、セシウム、ナトリウム、ルビジウム等の低仕事関数金属や、フッ化リチウム等の低仕事関数金属塩、酸化バリウム等の低仕事関数金属酸化物などを用いて形成されている。
<Electron injection layer>
The electron injection layer 19 is provided in common to a plurality of pixels on the electron transport layer 18 and has a function of promoting injection of electrons from the common electrode 20 to the light emitting layer 17. The electron injection layer 19 includes, for example, a low work function metal such as lithium, barium, calcium, potassium, cesium, sodium, and rubidium, a low work function metal salt such as lithium fluoride, and a low work function metal oxide such as barium oxide. It is formed using etc.

<共通電極>
共通電極20は、電子注入層19上に複数の画素に共通して設けられている。共通電極20は、例えば、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム亜鉛)等の導電性を有する光透過性材料で形成されている。共通電極20が透明導電材料を用いて形成されることにより、発光層17で発生した光を、共通電極20側から取り出すことができる。共通電極20に用いられる透明導電材料としては、上記以外にも、例えば、MgAg(マグネシウム銀)を用いることができる。この場合、共通電極20の厚みを数10nm程度とすることで、光を透過させることができる。
<Common electrode>
The common electrode 20 is provided on the electron injection layer 19 in common to a plurality of pixels. The common electrode 20 is formed of, for example, a light-transmitting material having conductivity such as ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide). By forming the common electrode 20 using a transparent conductive material, the light generated in the light emitting layer 17 can be extracted from the common electrode 20 side. In addition to the above, for example, MgAg (magnesium silver) can be used as the transparent conductive material used for the common electrode 20. In this case, light can be transmitted by setting the thickness of the common electrode 20 to about several tens of nm.

<封止層>
共通電極20の上には、封止層21が設けられている。封止層21は、基板11の反対側から不純物(水,酸素)が共通電極20,電子注入層19,電子輸送層18,発光層17等へと侵入するのを防ぎ、不純物によるこれらの層の劣化を抑制する機能を有する。本実施形態に係る有機EL表示パネル100はトップエミッション型の表示パネルであるため、封止層21の材料としては、例えばSiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)等の光透過性材料が用いられる。
<Sealing layer>
A sealing layer 21 is provided on the common electrode 20. The sealing layer 21 prevents impurities (water, oxygen) from entering the common electrode 20, the electron injection layer 19, the electron transport layer 18, the light emitting layer 17, and the like from the opposite side of the substrate 11. It has a function to suppress deterioration of. Since the organic EL display panel 100 according to the present embodiment is a top emission type display panel, the material of the sealing layer 21 is a light transmissive material such as SiN (silicon nitride) or SiON (silicon oxynitride). Used.

<その他>
なお、図3には図示されていないが、封止層21の上にカラーフィルタや上部基板を載置し、接合してもよい。上部基板を載置および接合することにより、共通電極20,電子注入層19,電子輸送層18,発光層17等に対する不純物からのさらなる保護を図ることができる。
<Others>
Although not shown in FIG. 3, a color filter or an upper substrate may be placed on the sealing layer 21 and bonded. By placing and bonding the upper substrate, it is possible to further protect the common electrode 20, the electron injection layer 19, the electron transport layer 18, the light emitting layer 17, and the like from impurities.

[2.有機EL表示パネルの製造方法]
次に、有機EL表示パネル100の製造方法の一例を、図3〜図6を用いて説明する。なお、図3〜図5は、有機EL表示パネル100の製造過程を模式的に示す部分断面図であり、図6は、有機EL表示パネル100の製造過程を示す模式工程図である。
先ず、図3(a)に示すように、基材111上にTFT層112を形成して、基板11を形成する(図6のステップS1)。
[2. Manufacturing method of organic EL display panel]
Next, an example of a method for manufacturing the organic EL display panel 100 will be described with reference to FIGS. 3 to 5 are partial cross-sectional views schematically illustrating the manufacturing process of the organic EL display panel 100, and FIG. 6 is a schematic process diagram illustrating the manufacturing process of the organic EL display panel 100.
First, as shown in FIG. 3A, a TFT layer 112 is formed on a substrate 111 to form a substrate 11 (step S1 in FIG. 6).

次に、図3(b)に示すように、基板11上に層間絶縁層12を成膜する(図6のステップS2)。層間絶縁層12の材料である層間絶縁層用樹脂には、本実施形態においては、ポジ型の感光性材料であるアクリル樹脂を用いる。層間絶縁層12は、層間絶縁層用樹脂であるアクリル樹脂を層間絶縁層用溶媒(例えば、PGMEA)に溶解させた層間絶縁層用溶液を基板11上に塗布して成膜した後、焼成を行う。焼成は、例えば、150℃以上210℃以下の温度で180分間行う。   Next, as shown in FIG. 3B, an interlayer insulating layer 12 is formed on the substrate 11 (step S2 in FIG. 6). In this embodiment, an acrylic resin that is a positive photosensitive material is used as the interlayer insulating layer resin that is a material of the interlayer insulating layer 12. The interlayer insulating layer 12 is formed by applying an interlayer insulating layer solution in which an acrylic resin, which is an interlayer insulating layer resin, is dissolved in an interlayer insulating layer solvent (for example, PGMEA) on the substrate 11, and then baking. Do. Firing is performed at a temperature of 150 ° C. or higher and 210 ° C. or lower for 180 minutes, for example.

続いて、図3(c)に示すように、層間絶縁層12上に画素電極材料層130を形成する。画素電極材料層130は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法により、150〔nm〕程度の厚みに形成する(図6のステップS3)。
次に、図3(d)に示すように、画素電極材料層130上に正孔注入材料層140を形成する(図6のステップS4)。正孔注入材料層140は、例えば、反応性スパッタ法により酸化タングステンの層として形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 3C, a pixel electrode material layer 130 is formed on the interlayer insulating layer 12. The pixel electrode material layer 130 is formed to a thickness of about 150 [nm] by, for example, vacuum deposition or sputtering (step S3 in FIG. 6).
Next, as shown in FIG. 3D, the hole injection material layer 140 is formed on the pixel electrode material layer 130 (step S4 in FIG. 6). The hole injection material layer 140 is formed as a tungsten oxide layer by, for example, reactive sputtering.

そして、図3(e)に示すように、画素電極材料層130及び正孔注入材料層140をエッチングによりパターニングして、サブピクセル毎に区画された複数の画素電極13及び正孔注入層14を形成する(図6のステップS5)。本実施形態においては、画素電極13は陽極である。
続いて、図3(f)に示すように、正孔注入層14及び層間絶縁層12上に、第1バンク15aの材料である第1バンク用樹脂を塗布し、第1バンク材料層150aを形成する(図6のステップS6)。第1バンク用樹脂には、例えば、ポジ型の感光性材料であるフェノール樹脂が用いられる。第1バンク材料層150aは、第1バンク用樹脂であるフェノール樹脂を溶媒(例えば、乳酸エチルとGBLの混合溶媒)に溶解させた溶液を正孔注入層14上および層間絶縁層12上にスピンコート法などを用いて一様に塗布することにより形成される。そして、第1バンク材料層150aにパターン露光と現像を行うことで第1バンク15aを形成し、焼成して第1バンク15aが完成する(図4(a),図6のステップS7)。
Then, as shown in FIG. 3E, the pixel electrode material layer 130 and the hole injection material layer 140 are patterned by etching, so that the plurality of pixel electrodes 13 and the hole injection layer 14 partitioned for each subpixel are formed. It forms (step S5 of FIG. 6). In the present embodiment, the pixel electrode 13 is an anode.
Subsequently, as shown in FIG. 3F, a first bank resin, which is a material of the first bank 15a, is applied on the hole injection layer 14 and the interlayer insulating layer 12, and the first bank material layer 150a is applied. It forms (step S6 of FIG. 6). For example, a phenol resin, which is a positive photosensitive material, is used as the first bank resin. The first bank material layer 150a spins a solution obtained by dissolving a phenol resin, which is a resin for the first bank, in a solvent (for example, a mixed solvent of ethyl lactate and GBL) on the hole injection layer 14 and the interlayer insulating layer 12. It is formed by applying uniformly using a coating method or the like. Then, pattern exposure and development are performed on the first bank material layer 150a to form the first bank 15a, which is then baked to complete the first bank 15a (step S7 in FIGS. 4A and 6).

次に、図4(b)に示すように、正孔注入層14,層間絶縁層12,および第1バンク15a上に、第2バンク15bの材料である第2バンク用樹脂を塗布し、第2バンク材料層150bを形成する(図6のステップS8)。第2バンク用樹脂には、第1バンク用樹脂とは異なる種類の感光性材料(例えば、第1バンク用樹脂とは異なる波長の光により硬化する感光性材料)が用いられる。   Next, as shown in FIG. 4B, a second bank resin, which is a material of the second bank 15b, is applied on the hole injection layer 14, the interlayer insulating layer 12, and the first bank 15a, A two-bank material layer 150b is formed (step S8 in FIG. 6). As the second bank resin, a photosensitive material of a different type from the first bank resin (for example, a photosensitive material that is cured by light having a wavelength different from that of the first bank resin) is used.

第2バンク材料層150bは、第1バンク材料層150aよりも大きな膜厚で形成される。そして、第1バンク材料層150aと同様にパターン露光と現像を行って第2バンク15bを形成し、焼成して第2バンク15bが完成する(図4(c),図6のステップS9)。
これにより、正孔輸送層16及び発光層17を形成するためのインクが塗布される領域であって、正孔輸送層16及び発光層17の形成領域となる塗布予定領域15cが規定される。第1バンク15aおよび第2バンク15bの焼成は、例えば、150℃以上210℃以下の温度で60分間行う。
The second bank material layer 150b is formed with a larger film thickness than the first bank material layer 150a. Then, pattern exposure and development are performed in the same manner as the first bank material layer 150a to form the second bank 15b, followed by baking to complete the second bank 15b (step S9 in FIGS. 4C and 6).
Thereby, a region to be coated with ink for forming the hole transport layer 16 and the light emitting layer 17, and a region to be coated 15 c serving as a region for forming the hole transport layer 16 and the light emitting layer 17 is defined. Firing of the first bank 15a and the second bank 15b is performed, for example, at a temperature of 150 ° C. to 210 ° C. for 60 minutes.

なお、第1バンク15aと第2バンク15bとを同一の材料を用いて同時に形成してもよい。その場合、第1バンク15aが形成される予定の領域と第2バンク15bが形成される予定の領域とで、露光強度や露光深度を変えるなどして、第2バンク15bよりも第1バンク15aの方が低くなるようにするとよい。
また、バンク15の形成工程においては、さらに、バンク15の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施すこととしてもよい。これは、塗布予定領域15cに塗布するインクに対するバンク15の接触角を調節する目的で、もしくは、表面に撥水性を付与する目的で行われる。なお、このような表面処理を、第1バンク15aに対しては行わず、第2バンク15bに対してのみ行ってもよい。
Note that the first bank 15a and the second bank 15b may be formed simultaneously using the same material. In that case, the first bank 15a is more than the second bank 15b by changing the exposure intensity and the exposure depth between the region where the first bank 15a is to be formed and the region where the second bank 15b is to be formed. Should be lower.
Further, in the bank 15 forming step, the surface of the bank 15 may be surface-treated with a predetermined alkaline solution, water, an organic solvent, or the like, or may be subjected to plasma treatment. This is performed for the purpose of adjusting the contact angle of the bank 15 with respect to the ink applied to the intended application region 15c, or for the purpose of imparting water repellency to the surface. Such a surface treatment may be performed only on the second bank 15b without being performed on the first bank 15a.

次に、塗布予定領域15cに対し、正孔輸送層16の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド420のノズル423から吐出して塗布予定領域15c内の正孔注入層14上に塗布した後、焼成(乾燥)を行って、正孔輸送層16を形成する(図4(d),図6のステップS10)。
そして、発光層17の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド420のノズル423から吐出して塗布予定領域15c内の正孔輸送層16上に塗布した後、焼成(乾燥)を行って、発光層17を形成する(図4(e),図6のステップS11)。なお、このとき、本実施形態においては、発光層17の上面は、第1バンク15aの上面よりもZ軸方向において高い位置にあり、第1バンク15aは発光層17に覆われている。
Next, after the ink containing the constituent material of the hole transport layer 16 is ejected from the nozzle 423 of the inkjet head 420 and applied onto the hole injection layer 14 in the application planned region 15c, Baking (drying) is performed to form the hole transport layer 16 (step S10 in FIG. 4D and FIG. 6).
Then, an ink containing the constituent material of the light emitting layer 17 is ejected from the nozzle 423 of the ink jet head 420 and applied onto the hole transport layer 16 in the application planned region 15c, and then baked (dried) to perform the light emitting layer. 17 is formed (FIG. 4E, step S11 in FIG. 6). At this time, in this embodiment, the upper surface of the light emitting layer 17 is located higher in the Z-axis direction than the upper surface of the first bank 15a, and the first bank 15a is covered with the light emitting layer 17.

続いて、図5(a)に示すように、発光層17上および第2バンク15b上に、電子輸送層18を構成する材料を真空蒸着法またはスパッタリング法により各サブピクセルに共通して成膜し、電子輸送層18を形成する(図6のステップS12)。
次に、図5(b)に示すように、電子注入層19を構成する材料を、蒸着法、スピンコート法、キャスト法などの方法により電子輸送層18上に成膜し、各サブピクセルに共通して電子注入層19を形成する(図6のステップS13)。
Subsequently, as shown in FIG. 5A, the material constituting the electron transport layer 18 is formed on the light emitting layer 17 and the second bank 15b in common for each sub-pixel by vacuum deposition or sputtering. Then, the electron transport layer 18 is formed (step S12 in FIG. 6).
Next, as shown in FIG. 5B, the material constituting the electron injection layer 19 is formed on the electron transport layer 18 by a method such as a vapor deposition method, a spin coating method, or a casting method, and is applied to each subpixel. In common, the electron injection layer 19 is formed (step S13 in FIG. 6).

そして、図5(c)に示すように、電子注入層19上に、ITO,IZO等の材料を用い、真空蒸着法,スパッタリング法等により成膜して、共通電極20を形成する(図6のステップS14)。本実施形態においては、共通電極20は、陰極である。
続いて、図5(d)に示すように、共通電極20上に、SiNを材料にスパッタリング法,CVD(Chemical Vapor Deposition)法等により成膜し、封止層21を形成する(図6のステップS15)。
Then, as shown in FIG. 5C, a common electrode 20 is formed on the electron injection layer 19 by using a material such as ITO or IZO by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like (FIG. 6). Step S14). In the present embodiment, the common electrode 20 is a cathode.
Subsequently, as shown in FIG. 5D, a sealing layer 21 is formed on the common electrode 20 by using SiN as a material by sputtering, CVD (Chemical Vapor Deposition), or the like (FIG. 6). Step S15).

以上の工程を経ることにより有機EL表示パネル100が完成する。
なお、封止層21の上にカラーフィルタや上部基板を載置し、接合してもよい。
[3.インクジェット法によるインク塗布]
次に、正孔輸送層16及び発光層17の形成におけるインクジェット法によるインク塗布について説明する。
The organic EL display panel 100 is completed through the above steps.
A color filter or an upper substrate may be placed on the sealing layer 21 and bonded.
[3. Ink application by inkjet method]
Next, ink application by an inkjet method in forming the hole transport layer 16 and the light emitting layer 17 will be described.

<インクジェット装置1000の構成>
まず、インクジェット法によるインク塗布に用いるインクジェット装置1000の構成について説明する。図7は、インクジェット装置1000の主要部分の概略構成を示す模式斜視図である。図8は、インクジェット装置1000の機能ブロック図である。
インクジェット装置1000は、主要な構成要素として、作業テーブル300、ヘッド部400、制御装置500等を備える。
<Configuration of Inkjet Device 1000>
First, the configuration of the ink jet apparatus 1000 used for ink application by the ink jet method will be described. FIG. 7 is a schematic perspective view showing a schematic configuration of a main part of the ink jet apparatus 1000. FIG. 8 is a functional block diagram of the ink jet apparatus 1000.
The ink jet device 1000 includes a work table 300, a head unit 400, a control device 500, and the like as main components.

図8に示すように、制御装置500は、CPU501、記憶部502(HDD等の大容量記憶手段を含む)、ディスプレイ503、入力部504を備える。当該制御装置500として、具体的にはパーソナルコンピューター(PC)を用いることができる。記憶部502には、制御装置500に接続されたガントリー部320、ヘッド部400を駆動するための制御プログラム等が格納されている。インクジェット装置1000の駆動時には、CPU501が入力部504を通じてオペレータにより入力された指示と、記憶部502に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。   As illustrated in FIG. 8, the control device 500 includes a CPU 501, a storage unit 502 (including a large capacity storage unit such as an HDD), a display 503, and an input unit 504. Specifically, a personal computer (PC) can be used as the control device 500. The storage unit 502 stores a gantry unit 320 connected to the control device 500, a control program for driving the head unit 400, and the like. When the inkjet apparatus 1000 is driven, the CPU 501 performs predetermined control based on an instruction input by an operator through the input unit 504 and each control program stored in the storage unit 502.

(作業テーブル)
図7に示すように、作業テーブル300は、いわゆるガントリー式の作業テーブルであって、インク塗布の対象物であるEL基板10が載置される基台310と、基台310の上方に配置された長尺状の移動架台322とを備える。なお、EL基板10は、例えば、有機EL表示パネル100の製造途中の基板であって、塗布予定領域15cが形成された後、正孔輸送層16又は発光層17を形成するためのインクが塗布される前の状態(図4(c)および図4(d)に示す状態)の基板や、後述するインク液滴着弾位置ずれ測定に用いる測定用基板である。また、例えば、EL基板10は、全ての層が形成された後に分割されて複数の有機EL表示パネル100となるような言わば有機EL表示パネル100の集合体の製造途中の基板であってもよい。この場合においても、EL基板10の上面10aに形成された各塗布予定領域15cは、上面10aの短辺方向であるY方向に沿って長尺な形状となっている。
(Work table)
As shown in FIG. 7, the work table 300 is a so-called gantry-type work table, and is disposed above the base 310 and the base 310 on which the EL substrate 10 that is the object of ink application is placed. And a long movable gantry 322. The EL substrate 10 is, for example, a substrate in the process of manufacturing the organic EL display panel 100, and after the planned application region 15c is formed, ink for forming the hole transport layer 16 or the light emitting layer 17 is applied. This is a substrate in a state before being applied (the state shown in FIGS. 4C and 4D), or a measurement substrate used for measuring an ink droplet landing position deviation described later. Further, for example, the EL substrate 10 may be a substrate in the middle of manufacturing an assembly of the organic EL display panels 100 so that the plurality of organic EL display panels 100 are divided after all layers are formed. . Also in this case, each application | coating scheduled area | region 15c formed in the upper surface 10a of EL substrate 10 becomes a long shape along the Y direction which is a short side direction of the upper surface 10a.

移動架台322は、基台310の長手方向に沿って平行に配置された一対のガイドシャフト312a、312b間に架け渡され、移動架台322の長手方向が基台310の短手方向に沿うように配置されている。一対のガイドシャフト312a、312bは、基台310上面の四隅に配置された柱状のスタンド311a、311b、311c、311dによって支持されている。   The moving gantry 322 is bridged between a pair of guide shafts 312 a and 312 b arranged in parallel along the longitudinal direction of the base 310, so that the longitudinal direction of the moving gantry 322 is along the short direction of the base 310. Has been placed. The pair of guide shafts 312a and 312b are supported by columnar stands 311a, 311b, 311c, and 311d disposed at the four corners of the upper surface of the base 310.

基台310の上面の四隅には、柱状のスタンド311a、311b、311c、311dがそれぞれ配設されている。これらのスタンド311a、311b、311c、311dにより、基台310の長手方向に沿って、一対のガイドシャフト312a、312bが互いに平行に支持されている。ガイドシャフト312aと312bとの間には、移動架台322がその長手方向が基台310の短手方向に沿うように架け渡されている。移動架台322の長手方向端部には、リニアモータ321a,321bがそれぞれ取り付けられており、リニアモータ321a,321bは、それぞれガイドシャフト312aと312bに取り付けられている。リニアモータ321a,321bが駆動されることにより、移動架台322がガイドシャフト312a、312bの長手方向(X軸方向)に沿って往復自在に移動する。   Column-shaped stands 311a, 311b, 311c, and 311d are disposed at the four corners of the upper surface of the base 310, respectively. A pair of guide shafts 312a and 312b are supported in parallel with each other along the longitudinal direction of the base 310 by these stands 311a, 311b, 311c and 311d. Between the guide shafts 312 a and 312 b, the movable frame 322 is bridged so that the longitudinal direction thereof is along the short direction of the base 310. Linear motors 321a and 321b are respectively attached to the longitudinal ends of the movable frame 322, and the linear motors 321a and 321b are attached to the guide shafts 312a and 312b, respectively. By driving the linear motors 321a and 321b, the movable frame 322 moves reciprocally along the longitudinal direction (X-axis direction) of the guide shafts 312a and 312b.

移動架台322には、その長手方向(Y軸方向)に沿ってガイド溝322aが形成されており、ガイド溝322aの内部には長手方向に沿って微細なラックが形成されている。また、移動架台322には、L字型の台座323が取り付けられており、台座323には、サーボモータ324が配設されている。サーボモータ324には不図示のギヤが取り付けられており、当該ギヤが、ガイド溝322aのラックと噛合している。これにより、サーボモータ324が駆動されると、台座323は、いわゆるピニオンラック機構によって、移動架台322の長手方向に沿って往復自在に精密に移動する。   A guide groove 322a is formed in the movable frame 322 along the longitudinal direction (Y-axis direction), and a fine rack is formed in the guide groove 322a along the longitudinal direction. An L-shaped base 323 is attached to the movable base 322, and a servo motor 324 is disposed on the base 323. A gear (not shown) is attached to the servo motor 324, and the gear meshes with the rack of the guide groove 322a. As a result, when the servo motor 324 is driven, the pedestal 323 precisely moves reciprocally along the longitudinal direction of the movable frame 322 by a so-called pinion rack mechanism.

なお、リニアモータ321a、321b、サーボモータ324は、それぞれ通信ケーブル601、602を介して接続された制御装置500によって制御駆動される。
(ヘッド部400)
ヘッド部400は、本体部410及びインクジェットヘッド420を備える。本体部410は、ガントリー部320の台座323に固定され、インクジェットヘッド420は、本体部410に取り付けられている。これにより、移動架台322のガイドシャフト312a及び312bに沿った長手方向(X軸方向)の移動及び、台座323の移動架台322に沿った短手方向(Y方向)の移動に連動して、ヘッド部400は、基台310の長手方向及び短手方向に移動可能である。また、本体部410には、制御装置500からの制御信号を受けてインクジェットヘッド420の動作を制御するマイコン等から成る吐出制御部430が内蔵されており、吐出制御部430は、通信ケーブル603を介して制御装置500に接続されている。
The linear motors 321a and 321b and the servo motor 324 are controlled and driven by the control device 500 connected via the communication cables 601 and 602, respectively.
(Head 400)
The head unit 400 includes a main body unit 410 and an inkjet head 420. The main body portion 410 is fixed to the pedestal 323 of the gantry portion 320, and the ink jet head 420 is attached to the main body portion 410. As a result, the head moves in conjunction with the movement in the longitudinal direction (X-axis direction) along the guide shafts 312a and 312b of the moving base 322 and the movement in the short direction (Y direction) along the moving base 322 of the base 323. The part 400 is movable in the longitudinal direction and the lateral direction of the base 310. The main body 410 also has a built-in discharge controller 430 that includes a microcomputer that controls the operation of the inkjet head 420 in response to a control signal from the control device 500, and the discharge controller 430 connects the communication cable 603. Via the control device 500.

インクジェットヘッド420は、基台310の短手方向に延伸する長尺状の部材であるベース部421と、ベース部421の下面側に複数列設されたサブヘッド422とを有する。図9は、インクジェットヘッド420の模式底面図である。インクジェットヘッド420の下面側には、複数の長尺状のサブヘッド422が、ベース部421の長手方向(すなわち基台310の短手方向であって図7におけるY軸方向)に沿って列設されている。各サブヘッド422には、サブヘッド422の長手方向に沿って、複数のノズル423が等間隔で列設されている。各サブヘッド422は、自身の長手方向中央部でベース部421に固定され、かつベース部421に対して当該中央部を中心に、基台310の上面に平行な平面において、相対回転可能である。インクジェット装置1000では、サブヘッド422がベース部421に対して相対回転させることによって、インク塗布時のインクジェットヘッド420の長手方向(Y軸方向)に沿ったノズル423の間隔(ピッチ)を調整することができる。このサブヘッド422の回転は、制御装置500が吐出制御部430を介して本体部410内に設けられたサーボモータ411(図8参照)を制御駆動することにより行われる。   The inkjet head 420 includes a base portion 421 that is a long member extending in the short direction of the base 310, and a plurality of sub heads 422 provided on the lower surface side of the base portion 421. FIG. 9 is a schematic bottom view of the inkjet head 420. On the lower surface side of the inkjet head 420, a plurality of elongate sub-heads 422 are arranged along the longitudinal direction of the base portion 421 (that is, the short direction of the base 310 and the Y-axis direction in FIG. 7). ing. In each sub head 422, a plurality of nozzles 423 are arranged at equal intervals along the longitudinal direction of the sub head 422. Each sub head 422 is fixed to the base portion 421 at the center portion in the longitudinal direction of the sub head 422, and is relatively rotatable with respect to the base portion 421 on a plane parallel to the upper surface of the base 310 around the center portion. In the ink jet apparatus 1000, the sub head 422 rotates relative to the base portion 421, thereby adjusting the interval (pitch) of the nozzles 423 along the longitudinal direction (Y axis direction) of the ink jet head 420 during ink application. it can. The rotation of the sub head 422 is performed when the control device 500 controls and drives a servo motor 411 (see FIG. 8) provided in the main body 410 via the discharge controller 430.

図10は、サブヘッド422の模式断面図である。サブヘッド422には、その下面側の吐出口423aからインクを吐出するノズル423が複数列設されている。また、サブヘッド422の上面側には、各吐出口423aに対応する位置にピエゾ素子423bが配置され、各ピエゾ素子423bの下方には振動板423cを介して液室423dが配置されている。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of the sub head 422. In the sub head 422, a plurality of nozzles 423 for discharging ink from the discharge ports 423a on the lower surface side are provided. Further, on the upper surface side of the sub head 422, piezo elements 423b are arranged at positions corresponding to the respective discharge ports 423a, and liquid chambers 423d are arranged below the piezo elements 423b via vibration plates 423c.

各ピエゾ素子423bは、吐出制御部430を介して制御装置500に接続され、制御装置500からの信号に応じ、振動板423cを変形させる。振動板423cは、各ノズル423に共通する板状の部材であり、ピエゾ素子423bによって変形され、液室423dに圧力を加える。液室423dは、輸液チューブ604(図7参照)を介してインクタンク(不図示)から供給されたインクで満たされており、振動板423cによって圧力が加えられることで、吐出口423aからインクが吐出される。すなわち、インクジェット装置1000では、制御装置500によって、各ノズル423のインクの吐出量及び吐出タイミングを独立して制御することができる。   Each piezo element 423b is connected to the control device 500 via the ejection control unit 430, and deforms the diaphragm 423c in accordance with a signal from the control device 500. The vibration plate 423c is a plate-like member common to the nozzles 423, is deformed by the piezo element 423b, and applies pressure to the liquid chamber 423d. The liquid chamber 423d is filled with ink supplied from an ink tank (not shown) via an infusion tube 604 (see FIG. 7), and when pressure is applied by the diaphragm 423c, ink is discharged from the ejection port 423a. Discharged. That is, in the ink jet apparatus 1000, the control apparatus 500 can independently control the ink discharge amount and the discharge timing of each nozzle 423.

なお、インク液滴は、厳密には、ノズル423の吐出口423aから吐出されるのではあるが、以下、特に断りが無い限り、ノズル423からインク液滴が吐出されると表現する。
(撮像装置)
撮像装置700は、例えばCCDカメラであって、通信ケーブル605を介して制御装置500と接続されている。撮像装置700は、EL基板10および測定用基板30の上面を撮像し、その撮像データを制御装置500へ送信する。撮像装置700は、本体部410に取着されており、制御装置500のCPU501がリニアモータ321a,321b、サーボモータ324を制御駆動することにより、本体部410を介して台座323に固定された撮像装置700を行方向および列方向に移動させることができる。
Strictly speaking, the ink droplet is ejected from the ejection port 423a of the nozzle 423, but hereinafter, it is expressed that the ink droplet is ejected from the nozzle 423 unless otherwise specified.
(Imaging device)
The imaging device 700 is a CCD camera, for example, and is connected to the control device 500 via a communication cable 605. The imaging device 700 images the upper surfaces of the EL substrate 10 and the measurement substrate 30 and transmits the imaging data to the control device 500. The imaging device 700 is attached to the main body 410, and the CPU 501 of the control device 500 controls and drives the linear motors 321 a and 321 b and the servo motor 324 so that the imaging device 700 is fixed to the base 323 via the main body 410. The device 700 can be moved in the row and column directions.

なお、本実施形態においては、撮像装置700は本体部410に取着され、本体部410と共に行方向および列方向に移動可能な構成であるが、これに限られず、撮像装置がインクジェット装置とは独立した別の装置であってもよい。その場合、撮像装置がEL基板10および測定用基板30の上面を撮像できるように、撮像装置を行方向および列方向に移動させる駆動手段を別個備えていてもよい。   In this embodiment, the imaging device 700 is attached to the main body 410 and is movable in the row direction and the column direction together with the main body 410. However, the present invention is not limited to this, and the imaging device is an inkjet device. Another independent device may be used. In that case, driving means for moving the imaging device in the row direction and the column direction may be separately provided so that the imaging device can capture the upper surfaces of the EL substrate 10 and the measurement substrate 30.

[4.インク液滴着弾位置ずれ補正]
インクジェットヘッドのノズルには、製造誤差等の要因により、インク液滴が吐出される際に偏向して吐出されるといった個々のノズルに特有の癖のようなものが一般に存在する。そのため、インクジェットヘッドに備えられた複数のノズルからインク液滴を吐出する際に、一般にインク吐出方向にばらつきが生じ、その結果、インク液滴の着弾位置にばらつきが生じる。吐出されたインク液滴が、狙った塗布予定領域から外れて着弾すると、その分、塗布予定領域内に塗布されるインクの量が少なくなり、形成される層の膜厚が小さくなるため、サブピクセル間で品質にばらつきが生じる原因となる。さらには、インク液滴が狙った塗布予定領域から大きく外れて隣の列の塗布予定領域内に着弾してしまうと、混色を引き起こす原因にもなるため、このようなインク液滴着弾位置のばらつきを補正する必要がある。
[4. Ink droplet landing position deviation correction]
In general, nozzles of an ink jet head have a kind of wrinkles peculiar to individual nozzles such that ink droplets are deflected and ejected when ink droplets are ejected due to factors such as manufacturing errors. For this reason, when ink droplets are ejected from a plurality of nozzles provided in the ink jet head, generally, variations occur in the ink ejection direction, and as a result, variations occur in the landing positions of the ink droplets. If the ejected ink droplets land outside the intended application area, the amount of ink applied in the application area is reduced, and the film thickness of the formed layer is reduced. This causes variations in quality among pixels. In addition, if the ink droplets deviate significantly from the intended application area and land within the adjacent application area, this may cause color mixing. Need to be corrected.

以下、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法におけるインク液滴着弾位置ずれ補正について説明する。
(概要)
本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造方法においては、EL基板10にインクを塗布する際に、予め取得されて記憶部502に記憶されている位置ずれ補正情報を参照し、当該位置ずれ情報が示す位置ずれを補正するようにノズル423から塗布予定領域15c内にインク液滴を吐出する。上記位置ずれ情報は、以下のようにして取得する。
Hereinafter, ink droplet landing position deviation correction in the method of manufacturing the organic EL display panel according to Embodiment 1 will be described.
(Overview)
In the method of manufacturing the organic EL display panel according to the present embodiment, when applying ink to the EL substrate 10, the positional deviation correction information acquired in advance and stored in the storage unit 502 is referred to. Ink droplets are ejected from the nozzles 423 into the planned application region 15c so as to correct the misalignment indicated by. The positional deviation information is acquired as follows.

まず、EL基板10における塗布予定領域15cの配列パターンと共通したパターンで測定用セルが形成された測定用基板に対してインクジェット装置1000を用いてインク液滴を吐出する。
次に、インク液滴が吐出された測定用基板を撮像装置700で撮像する。
そして、撮像された画像内において、測定用セルの基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向(印刷方向)におけるずれの方向(位置ずれ方向)および距離(位置ずれ量)を測定する。当該測定を全ての測定用セルについて行い、全ての測定用セルについて測定した位置ずれ量および位置ずれ方向のデータを位置ずれ情報として記憶部502に記憶する。以下、位置ずれ量および位置ずれ方向を合わせて単に「位置ずれ」という。
First, ink droplets are ejected to the measurement substrate on which the measurement cells are formed in the same pattern as the arrangement pattern of the application planned region 15 c on the EL substrate 10 using the inkjet apparatus 1000.
Next, the imaging substrate 700 images the measurement substrate on which the ink droplets are ejected.
Then, in the captured image, the displacement direction (position displacement direction) and distance (position displacement amount) in the row direction (printing direction) between the reference position of the measurement cell and the landing position of the corresponding ink droplet are measured. To do. The measurement is performed for all the measurement cells, and the data of the positional deviation amount and the positional deviation direction measured for all the measurement cells is stored in the storage unit 502 as positional deviation information. Hereinafter, the positional deviation amount and the positional deviation direction are simply referred to as “positional deviation”.

以下、本実施形態におけるインク液滴着弾位置ずれ補正についてより詳細に説明する。
(測定用基板)
図11は、ノズル423から測定用基板30に対して吐出されたインク液滴が測定用基板30上に着弾した状態を撮像装置700で撮像した様子を示す模式平面図である。図13(a)は、図11のB−B線における測定用基板30の模式断面図である。
Hereinafter, the ink droplet landing position deviation correction in the present embodiment will be described in more detail.
(Measurement board)
FIG. 11 is a schematic plan view illustrating a state in which the ink droplets ejected from the nozzles 423 to the measurement substrate 30 have landed on the measurement substrate 30 and are imaged by the imaging device 700. FIG. 13A is a schematic cross-sectional view of the measurement substrate 30 taken along line BB in FIG.

図13(a)に示すように、測定用基板30は、基材31と、基材31上に形成された複数の測定用セル33と、基材31および測定用セル33上を覆う撥液性の層35とで構成されている。なお、ここでの「撥液性」とはインクに対する親和性が低いことを意味する。測定用基板30が撥液性の層35を有することにより、インク液滴が測定用基板30上に着弾した際にインクが濡れ広がらず、インク液滴の着弾位置を撮像装置で観察しやすいという利点がある。   As shown in FIG. 13A, the measurement substrate 30 includes a base material 31, a plurality of measurement cells 33 formed on the base material 31, and a liquid repellent covering the base material 31 and the measurement cells 33. And a sex layer 35. Here, “liquid repellency” means low affinity for ink. Since the measurement substrate 30 has the liquid-repellent layer 35, when the ink droplets land on the measurement substrate 30, the ink does not spread out and the landing position of the ink droplets can be easily observed with the imaging device. There are advantages.

本実施形態においては、基材31には、基材111と同じ(同種の)材料が用いられており、測定用セル33には、画素電極13(画素電極材料層130)と同じ(同種の)材料が用いられており、撥液性の層35には、第1バンク15a(第1バンク材料層150a)又は第2バンク15b(第2バンク材料層150b)と同じ(同種の)材料が用いられている。測定用セル33は、画素電極13と同種の材料により、同じマスクを用い、同じ形成方法で形成される。   In this embodiment, the same material (same type) as that of the base material 111 is used for the base material 31, and the same (same type) as that of the pixel electrode 13 (pixel electrode material layer 130) is used for the measurement cell 33. ) Material is used, and the liquid repellent layer 35 is made of the same (same type) material as the first bank 15a (first bank material layer 150a) or the second bank 15b (second bank material layer 150b). It is used. The measurement cell 33 is formed of the same material as the pixel electrode 13 using the same mask and the same formation method.

図11に示すように、測定用基板30は、行列状に形成された複数の測定用セル33を有する。図11においては、Ra,Rb,Rc,Rdの4つの列に属する複数の測定用セル33の一部がそれぞれ示されており、列Rbおよび列Rcに属する測定用セル33は、行方向の位置が揃っておらず、配列がずれて形成されている。即ち、列Rbおよび列Rcには、測定用セル33の配列パターンに歪みが存在する。なお、図13(a)に示すように、測定用セル33の上には、撥液性の層35が一様に形成されているが、撥液性の層35は十分に薄いため、図11では、下の測定用セル33が透けて見えている。同図においては、測定用セル33は実線で示している。   As shown in FIG. 11, the measurement substrate 30 includes a plurality of measurement cells 33 formed in a matrix. In FIG. 11, a part of the plurality of measurement cells 33 belonging to the four columns Ra, Rb, Rc, and Rd is shown, and the measurement cells 33 belonging to the columns Rb and Rc are arranged in the row direction. The positions are not aligned and the arrangement is shifted. That is, in the column Rb and the column Rc, there is a distortion in the arrangement pattern of the measurement cells 33. As shown in FIG. 13A, a liquid repellent layer 35 is uniformly formed on the measurement cell 33, but the liquid repellent layer 35 is sufficiently thin. 11, the lower measurement cell 33 is seen through. In the figure, the measurement cell 33 is indicated by a solid line.

本実施形態に係る有機EL表示パネル100の製造方法においては、画素電極13のパターニングと塗布予定領域15cの形成には、同一のマスクが用いられる。また、測定用セル33と画素電極13とは同一のマスクを用いてパターニングされる。即ち、測定用セル33のパターニングと塗布予定領域15cの形成には、同一のマスクが用いられる。ここで、図11に示す測定用セル33の配列パターンの歪みは、マスクの不具合に起因するものである。従って、バンク15が形成されて、塗布予定領域15cが形成されると、図12に示すように、塗布予定領域15cの配列にも、測定用セル33の配列パターン(画素電極13の配列パターン)と共通する配列パターンの歪みが生じることとなる。図11においては、マスクに不具合が存在せず、列Rbおよび列Rcにおいて配列パターンに歪みが存在しないと仮定した場合に想定される設計上の測定用セル33Dを破線で示している。なお、列Raおよび列Rdでは、配列パターンに歪みが無く、設計上の測定用セルと実際の測定用セルの配置が一致しているので、設計上の測定用セルについては図示を省略している。   In the method for manufacturing the organic EL display panel 100 according to the present embodiment, the same mask is used for patterning the pixel electrodes 13 and forming the coating application region 15c. The measurement cell 33 and the pixel electrode 13 are patterned using the same mask. That is, the same mask is used for patterning the measurement cell 33 and forming the planned application region 15c. Here, the distortion of the arrangement pattern of the measurement cells 33 shown in FIG. 11 is caused by a defect of the mask. Therefore, when the bank 15 is formed and the planned application region 15c is formed, as shown in FIG. 12, the measurement cell 33 array pattern (the array pattern of the pixel electrodes 13) is arranged in the array of the planned application region 15c. As a result, distortion of the arrangement pattern common to the above occurs. In FIG. 11, the design measurement cell 33 </ b> D assumed when there is no defect in the mask and there is no distortion in the array pattern in the columns Rb and Rc is indicated by a broken line. In the column Ra and the column Rd, there is no distortion in the arrangement pattern, and the arrangement of the design measurement cell and the actual measurement cell is the same, so the illustration of the design measurement cell is omitted. Yes.

なお、図11における測定用セル33の配列パターンの歪みおよび、図12における画素電極13と塗布予定領域15cの配列パターンの歪みについては、わかりやすくするために強調して描いている。
なお、基材31、画素電極13、撥液性の層35が、有機EL表示パネル100の製造に用いられるのと同じ材料で形成されていることに特に限定されるものではないが、このように、有機EL表示パネル100の製造に用いられるのと同じ材料を用いて測定用基板30が形成されていることにより、測定用基板30を形成するために別の材料を用意しなくてもよいため、材料コストおよび材料管理の煩わしさを低減することができるという利点がある。また、測定用基板は、最上面に撥液性を有する平坦な層を有していれば、当該撥液性の層の下に、TFT層、層間絶縁層、正孔注入層等を備えていてもよい。即ち、有機EL表示パネル100を製造する途中の状態、例えば、図3(f)や図4(b)に示す状態の途中成果物を、測定用基板として用いてもよい。このようにすると、有機EL表示パネル100の製造ラインにおいて、途中成果物を1つ抜き取って測定用基板として利用することができる。これにより、わざわざ測定用基板を形成するために、有機EL表示パネル100の製造ラインを停止したり、測定用基板形成用に別の製造ラインを用意したりしなくてよいため、コスト抑制および生産性低下抑制に資することができる。
Note that the distortion of the arrangement pattern of the measurement cells 33 in FIG. 11 and the distortion of the arrangement pattern of the pixel electrode 13 and the application scheduled region 15c in FIG.
In addition, although it does not specifically limit that the base material 31, the pixel electrode 13, and the liquid repellent layer 35 are formed with the same material as used for manufacture of the organic electroluminescence display panel 100, it is like this In addition, since the measurement substrate 30 is formed using the same material used for manufacturing the organic EL display panel 100, it is not necessary to prepare another material for forming the measurement substrate 30. Therefore, there is an advantage that the material cost and the troublesomeness of material management can be reduced. Further, if the measurement substrate has a flat layer having liquid repellency on the uppermost surface, a TFT layer, an interlayer insulating layer, a hole injection layer, and the like are provided below the liquid repellant layer. May be. That is, an intermediate product in the state of manufacturing the organic EL display panel 100, for example, an intermediate product in the state shown in FIG. 3F or FIG. 4B may be used as the measurement substrate. In this way, in the production line of the organic EL display panel 100, one intermediate product can be extracted and used as a measurement substrate. Accordingly, it is not necessary to stop the production line of the organic EL display panel 100 or to prepare another production line for forming the measurement substrate in order to form the measurement substrate. It can contribute to the suppression of the deterioration of sex.

(位置ずれ情報の取得)
続いて、位置ずれ情報の取得方法について説明する。
先ず、測定用基板30をインクジェット装置1000にセットする。このとき、予め測定用基板の四隅にアラインメントマークM(図14参照)を形成しておき、アラインメントマークを用いてアラインメントの調整を行ってもよい。
(Acquisition of misalignment information)
Next, a method for acquiring misregistration information will be described.
First, the measurement substrate 30 is set in the ink jet apparatus 1000. At this time, alignment marks M (see FIG. 14) may be formed in advance at the four corners of the measurement substrate, and the alignment may be adjusted using the alignment marks.

次に、測定用基板30に対して、インクジェットヘッド420を行方向(X軸方向)に走査しながらインクジェットヘッド420のノズル423から測定用基板30上にインク液滴を吐出する。
続いて、インク液滴が吐出された測定用基板30を、撮像装置700で撮像する。このとき、インク液滴を塗布する場合と同様に、制御装置500のCPU501がリニアモータ321a,321b、サーボモータ324を制御駆動することにより、台座323に固定された撮像装置700を測定用基板30に対して行方向および列方向に移動させて、測定用基板30における表示予定部10b(図14(a),図14(b)参照)に対応する領域に形成された測定用セル33全てについて撮像を行う。そして、撮像された画像内において、各測定用セル33について、測定用セル33の基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向のずれ(距離およびずれの方向)を測定する。ここで、対応するインク液滴とは、本来ならば測定対象の測定用セル33のエリア内に着弾するようにノズル423から吐出されたインク液滴のことを意味する。測定用セル33の基準位置とは、測定用セル33の列方向における両端部それぞれの行方向における中心同士を結ぶ中心線である。インク液滴の着弾位置とは、例えば、測定用セル33の撥液性の層35の上面に着弾したインク液滴(以下、「着弾インク」という。)を平面視した場合の面積中心であってもよいし、行方向における両端を結ぶ線と列方向における両端を結ぶ線との交点としてもよい。図13(a)に示す断面図においては、測定用セル33aの基準位置XDaと対応する着弾インクIaの着弾位置Paとの間の位置ずれ量は、Laであって、位置ずれ方向は、印刷方向上流側(−X方向)である。測定用セル33bの基準位置XDbと対応する着弾インクIbの着弾位置Pbとの間の位置ずれ量は、Lbであって、位置ずれ方向は、−X方向である。測定用セル33cの基準位置XDcと対応する着弾インクIcの着弾位置Pcとの間の位置ずれ量は、Lcであって、位置ずれ方向は、−X方向である。測定用セル33dの基準位置XDdと対応する着弾インクIdの着弾位置Pdとの間の位置ずれ量は、Ldであって、位置ずれ方向は、−X方向である。なお、図11および図13(a)においては、着弾インクIa,Ib,Ic,Idは何れもノズル423sから吐出されたものである。
Next, ink droplets are discharged onto the measurement substrate 30 from the nozzles 423 of the inkjet head 420 while scanning the measurement substrate 30 with the inkjet head 420 in the row direction (X-axis direction).
Subsequently, the measurement substrate 30 on which the ink droplets are ejected is imaged by the imaging device 700. At this time, as in the case of applying ink droplets, the CPU 501 of the control device 500 controls and drives the linear motors 321a and 321b and the servo motor 324, whereby the imaging device 700 fixed to the pedestal 323 is measured. With respect to all the measurement cells 33 formed in the region corresponding to the display scheduled portion 10b (see FIGS. 14A and 14B) on the measurement substrate 30 by moving in the row direction and the column direction. Take an image. Then, in the captured image, for each measurement cell 33, a shift in the row direction (distance and shift direction) between the reference position of the measurement cell 33 and the landing position of the corresponding ink droplet is measured. Here, the corresponding ink droplet means an ink droplet ejected from the nozzle 423 so as to land in the area of the measurement cell 33 to be measured. The reference position of the measurement cell 33 is a center line connecting the centers in the row direction of both end portions in the column direction of the measurement cell 33. The ink droplet landing position is, for example, the center of the area when the ink droplet landed on the upper surface of the liquid repellent layer 35 of the measurement cell 33 (hereinafter referred to as “landing ink”) is viewed in plan. Alternatively, it may be an intersection of a line connecting both ends in the row direction and a line connecting both ends in the column direction. In the cross-sectional view shown in FIG. 13A, the amount of misalignment between the reference position XDa of the measurement cell 33a and the landing position Pa of the corresponding landing ink Ia is La, and the misalignment direction is the printing direction. It is the direction upstream (−X direction). The amount of positional deviation between the reference position XDb of the measurement cell 33b and the landing position Pb of the corresponding landing ink Ib is Lb, and the positional deviation direction is the −X direction. The amount of positional deviation between the reference position XDc of the measurement cell 33c and the landing position Pc of the corresponding landing ink Ic is Lc, and the positional deviation direction is the −X direction. The amount of positional deviation between the reference position XDd of the measurement cell 33d and the landing position Pd of the corresponding landing ink Id is Ld, and the positional deviation direction is the −X direction. In FIG. 11 and FIG. 13A, the landing inks Ia, Ib, Ic, and Id are all ejected from the nozzle 423s.

以上説明した方法により、全ての測定用セル33についてそれぞれ測定した位置ずれ量および位置ずれ方向のデータを、位置ずれ情報として記憶部502に記憶する。
上記測定用セル33の基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向のずれの測定において、インクジェットヘッド420のノズル423から測定用基板30上にインク液滴を吐出する際には、特に限定されるわけではないが、本実施形態においては、設計上の測定用セル33Dの基準位置に狙ってインク液滴を吐出する。ここで、設計上の測定用セル33Dの基準位置に狙ってインク液滴を吐出するとは、インクジェットヘッド420が有する全てのノズル423に癖が無い(吐出方向のばらつきが無い)と仮定した場合に、設計上の測定用セル33Dの基準位置にインク液滴が着弾するタイミングで各ノズル423からインク液滴を吐出するという意味である。このように設計上の測定用セル33Dの基準位置に狙ってインク液滴を吐出する方式を、以下、「初期モード」という。
The positional deviation amount and the positional deviation direction data measured for all the measurement cells 33 by the method described above are stored in the storage unit 502 as positional deviation information.
In measuring the deviation in the row direction between the reference position of the measurement cell 33 and the landing position of the corresponding ink droplet, when ejecting the ink droplet from the nozzle 423 of the inkjet head 420 onto the measurement substrate 30, Although not particularly limited, in the present embodiment, ink droplets are ejected toward the designed reference position of the measurement cell 33D. Here, ejecting ink droplets toward the reference position of the design measurement cell 33D is based on the assumption that all nozzles 423 of the inkjet head 420 are free of wrinkles (no variation in ejection direction). This means that the ink droplets are ejected from each nozzle 423 at the timing when the ink droplets land on the reference position of the designed measurement cell 33D. Such a method of ejecting ink droplets aiming at the designed reference position of the measurement cell 33D is hereinafter referred to as “initial mode”.

例えば、ノズル423sはインク液滴を印刷方向上流側に偏向して吐出する癖を有しているため、着弾インクIa,Ib,Ic,Idは、何れも設計上の測定用セル33Dの基準位置(XDa,XDb,XDc,XDd)よりも印刷方向上流側にずれた着弾位置(Pa,Pb,Pc,Pd)に着弾している。
また、測定用セル33aと33dは、それぞれ設計上の測定用セルの配置と一致しているため、ここでは、ずれ量は略等しくなり、LaとLdは略等しい。
For example, since the nozzle 423s has a spear that deflects and discharges ink droplets upstream in the printing direction, the landing inks Ia, Ib, Ic, and Id are all designed reference positions of the measurement cell 33D. Landing is made at a landing position (Pa, Pb, Pc, Pd) shifted to the upstream side in the printing direction from (XDa, XDb, XDc, XDd).
Further, since the measurement cells 33a and 33d coincide with the design measurement cell arrangement, the shift amounts are substantially equal here, and La and Ld are approximately equal.

(位置ずれ補正)
図13(b)は、初期モードでインク液滴を吐出する場合に、ノズル423sのピエゾ素子423bに印加するパルス信号を模式的に表す図である。図13(c)は、取得された位置ずれ情報に含まれる位置ずれを補正する補正モードでインク液滴を吐出する場合に、ノズル423sのピエゾ素子423bに印加するパルス信号を模式的に表す図である。図12は、補正モードで吐出されたインク液滴がEL基板10上に着弾した状態を示す模式平面図である。図13(d)は、図12のC−C線におけるEL基板10の模式断面図である。なお、図12および図13(d)においては、着弾したインクが濡れ広がる前の状態を示している。
(Position correction)
FIG. 13B is a diagram schematically illustrating a pulse signal applied to the piezo element 423b of the nozzle 423s when ink droplets are ejected in the initial mode. FIG. 13C schematically shows a pulse signal applied to the piezo element 423b of the nozzle 423s when ink droplets are ejected in the correction mode for correcting the positional deviation included in the obtained positional deviation information. It is. FIG. 12 is a schematic plan view showing a state where ink droplets ejected in the correction mode have landed on the EL substrate 10. FIG. 13D is a schematic cross-sectional view of the EL substrate 10 taken along the line CC in FIG. 12 and 13 (d) show a state before the landed ink spreads wet.

なお、図13(b)においては、わかりやすくするために、パルスのタイミングと設計上の測定用セルの基準位置(XDa,XDb,XDc,XDd)とを揃えて図示しているが、実際には、ノズル423の吐出口423aから測定用基板30の上面までインク液滴が飛行(落下)するのに要する時間分だけ測定用セルの基準位置よりも印刷方向上流側でパルスは印加されている。   In FIG. 13B, for the sake of simplicity, the pulse timing and the reference position (XDa, XDb, XDc, XDd) of the design measurement cell are shown in a line. The pulse is applied upstream from the reference position of the measurement cell for the time required for the ink droplet to fly (fall) from the discharge port 423a of the nozzle 423 to the upper surface of the measurement substrate 30. .

補正モードでは、位置ずれ量に相当する距離をインクジェットヘッドが移動するのに要する時間の分だけ、ピエゾ素子423bにパルス信号を印加するタイミングを初期モードからずらすことにより、位置ずれ補正を行う。具体的には、例えば、測定用セル33bに狙って吐出されたインク液滴が、基準位置XAbよりも印刷方向上流側の着弾位置Pbに着弾する場合、これを基準位置XAbに着弾させるために、補正モードでは、インクジェットヘッドの移動速度をvとした場合、図13(c)に示すように、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからtb=Lb/vとなるような時間tbだけ後ろにずらしたタイミングでノズル423sのピエゾ素子423bにパルス信号を印加する。より具体的な一例をあげると、v=50mm/secで、Lb=5μmの場合、tb=0.1μsecである。   In the correction mode, the position shift correction is performed by shifting the timing of applying the pulse signal to the piezo element 423b from the initial mode by the time required for the inkjet head to move the distance corresponding to the position shift amount. Specifically, for example, when an ink droplet ejected toward the measurement cell 33b lands on the landing position Pb upstream of the reference position XAb in the printing direction, in order to land on the reference position XAb In the correction mode, when the moving speed of the inkjet head is v, as shown in FIG. 13C, the time is shifted backward by a time tb such that tb = Lb / v from the timing of applying the pulse signal in the initial mode. At this timing, a pulse signal is applied to the piezo element 423b of the nozzle 423s. As a more specific example, when v = 50 mm / sec and Lb = 5 μm, tb = 0.1 μsec.

このようにしてEL基板10に対して補正モードでインク液滴を吐出することにより、位置ずれが補正され、吐出されたインク液滴は基準位置XAbに、より近接した位置に着弾する。具体的には、例えば、図13(d)に示すように、着弾インクIKbの着弾位置は、着弾インクIbの着弾位置Pbよりも基準位置XAbに近接している。即ち、初期モードでは基準位置XAbから大きく外れて塗布予定領域15cbに相当する領域の外側に着弾していたのが、補正モードでは、吐出されたインク液滴を基準位置XAbに近接した塗布予定領域15cb内に着弾させることができる。なお、補正モードでインク液滴を吐出する場合、吐出されたインク液滴の着弾位置が基準位置と一致しているのが最も好ましいが、一致していなくても、開口部内に収まる範囲内で基準位置に近接した位置であればよい。以下、インク液滴の着弾位置が基準位置と一致している場合も含めて、インク液滴の着弾位置が基準位置に近接していると表現する。   By discharging ink droplets in the correction mode to the EL substrate 10 in this way, the positional deviation is corrected, and the discharged ink droplets land at a position closer to the reference position XAb. Specifically, for example, as shown in FIG. 13D, the landing position of the landing ink IKb is closer to the reference position XAb than the landing position Pb of the landing ink Ib. In other words, in the initial mode, the ink droplet is greatly deviated from the reference position XAb and landed outside the region corresponding to the planned application region 15cb. In the correction mode, the ejected ink droplet is close to the reference position XAb. It can be landed in 15cb. When ink droplets are ejected in the correction mode, it is most preferable that the landing position of the ejected ink droplets coincides with the reference position. Any position close to the reference position may be used. Hereinafter, the ink droplet landing position is expressed as being close to the reference position, including the case where the ink droplet landing position matches the reference position.

同様に、塗布予定領域15ca内の基準位置XAaを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからta=La/vとなるような時間taだけ後ろにずらしたタイミングでノズル423sのピエゾ素子423bにパルス信号を印加することにより、着弾インクIKaの着弾位置は、基準位置XAaにより近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域15ca内に着弾させることができる。塗布予定領域15cc内の基準位置XAcを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからtc=Lc/vとなるような時間tcだけ後ろにずらしたタイミングでノズル423sのピエゾ素子423bにパルス信号を印加することにより、着弾インクIKcの着弾位置は、基準位置XAcに近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域15cc内に着弾させることができる。塗布予定領域15cd内の基準位置XAdを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからtd=Ld/vとなるような時間tdだけ後ろにずらしたタイミングでノズル423sのピエゾ素子423bにパルス信号を印加することにより、着弾インクIKdの着弾位置は、基準位置XAdに近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域15cd内に着弾させることができる。   Similarly, when ink droplets are ejected aiming at the reference position XAa in the planned application region 15ca, in the correction mode, a time ta such that ta = La / v is set behind the pulse signal application timing in the initial mode. By applying a pulse signal to the piezo element 423b of the nozzle 423s at the shifted timing, the landing position of the landing ink IKa becomes closer to the reference position XAa, and the ink droplet can be landed in the planned application region 15ca. it can. In the case where ink droplets are ejected aiming at the reference position XAc within the application scheduled region 15cc, in the correction mode, a timing shifted backward by a time tc such that tc = Lc / v from the timing of applying the pulse signal in the initial mode. Thus, by applying a pulse signal to the piezo element 423b of the nozzle 423s, the landing position of the landing ink IKc becomes a position close to the reference position XAc, and ink droplets can be landed in the intended application region 15cc. In the case of ejecting ink droplets aiming at the reference position XAd in the application planned region 15cd, in the correction mode, a timing shifted backward by a time td such that td = Ld / v from the timing of applying the pulse signal in the initial mode. Thus, by applying a pulse signal to the piezo element 423b of the nozzle 423s, the landing position of the landing ink IKd becomes a position close to the reference position XAd, and ink droplets can be landed in the planned application region 15cd.

EL基板10に補正モードでインクを塗布する場合、制御装置500のCPU501は、記憶部502に記憶された位置ずれ情報を参照し、位置ずれ情報に含まれる各測定用セル33についての位置ずれを補正するタイミングで、各測定用セル33に対応する塗布予定領域15cに向けて、対応するノズル423のピエゾ素子423bにパルス信号を印加してインク液滴を吐出させる。   When applying ink to the EL substrate 10 in the correction mode, the CPU 501 of the control device 500 refers to the positional deviation information stored in the storage unit 502 and determines the positional deviation for each measurement cell 33 included in the positional deviation information. At the correction timing, a pulse signal is applied to the piezo element 423b of the corresponding nozzle 423 toward the application scheduled region 15c corresponding to each measurement cell 33, and ink droplets are ejected.

上記吐出タイミングの補正は、必ずしも全てのインク液滴の吐出に対して行う必要はなく、取得された位置ずれ情報において、着弾位置が測定用セル33から外れている(即ち、着弾位置が測定用セル33の外側に位置している)インク液滴について、少なくとも行えばよい。このとき、撮像画像において、着弾したインクの一部が測定用セル33の輪郭に重なっているものについては、着弾位置が測定用セル33の内側であっても測定用セル33から外れていると判断して吐出タイミング補正の対象に含めてもよい。また、測定用セル33の輪郭と塗布予定領域15cの輪郭(即ちバンク15の開口部の内周縁)とが一致していない場合、例えば、平面視した際に測定用セル33(画素電極13)の輪郭の内側に塗布予定領域15cの輪郭が入っている場合には、その分を考慮に入れて、着弾位置が測定用セル33から外れているかどうかの判断の境界を、測定用セル33のより内側に定めてもよい。   The correction of the ejection timing is not necessarily performed for ejection of all ink droplets, and the landing position is out of the measurement cell 33 in the acquired positional deviation information (that is, the landing position is for measurement). At least the ink droplets (located outside the cell 33) may be performed. At this time, in the captured image, a part of the landed ink is overlapped with the outline of the measurement cell 33, even if the landing position is inside the measurement cell 33, it is deviated from the measurement cell 33. It may be determined and included in the target of discharge timing correction. Further, when the contour of the measurement cell 33 and the contour of the planned application region 15c (that is, the inner peripheral edge of the opening of the bank 15) do not match, for example, when viewed in plan, the measurement cell 33 (pixel electrode 13) If the contour of the planned application region 15 c is inside the contour, the boundary for determining whether or not the landing position is out of the measurement cell 33 is taken into consideration. It may be determined on the inner side.

また、着弾したインク液滴が対応する測定用セル33の内側に入っている(即ち、測定用セル33からはみ出していない)場合であっても、着弾位置が対応する測定用セル33の基準位置からずれているインク液滴の全部に対して吐出タイミングの補正を行ってもよい。着弾位置が対応する測定用セル33の基準位置と一致しているものについては、もちろん吐出タイミングの補正を行う必要はない。補正モードでのインク液滴の吐出には、一部のインク液滴の吐出については、このような吐出タイミングの補正を行わないインク液滴の吐出も含まれる。   Further, even when the landed ink droplet is inside the corresponding measurement cell 33 (that is, does not protrude from the measurement cell 33), the landing position is the reference position of the corresponding measurement cell 33. The ejection timing may be corrected for all of the ink droplets deviating from the above. Of course, it is not necessary to correct the ejection timing for the landing positions that coincide with the reference positions of the corresponding measurement cells 33. The ejection of ink droplets in the correction mode includes the ejection of ink droplets in which the ejection timing is not corrected for the ejection of some of the ink droplets.

[5.実施形態1のまとめ]
本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造方法においては、発光層や正孔輸送層といった層を形成する際に、これらの層を形成するための材料を含むインクをインクジェットヘッドのノズルからEL基板の塗布予定領域に吐出して塗布する。
ここで、塗布予定領域へのインク塗布に先立って、塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで測定用セルが形成された測定用基板に対してインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出し、インクが着弾した測定用基板を撮像装置で撮像して、撮像画像内においてインク液滴の着弾位置と対応する測定用セルの基準位置との位置ずれを測定し、測定された各測定用セルについての位置ずれのデータを位置ずれ情報として記憶部に記憶させておく。
[5. Summary of Embodiment 1]
In the method for manufacturing an organic EL display panel according to the present embodiment, when layers such as a light emitting layer and a hole transport layer are formed, ink containing materials for forming these layers is transferred from the nozzles of the inkjet head to the EL substrate. It is discharged and applied to a predetermined application area.
Here, prior to ink application to the planned application region, ink droplets are ejected from the nozzles of the inkjet head onto the measurement substrate on which the measurement cells are formed with the same arrangement pattern as the arrangement pattern of the planned application region. The measurement substrate on which the ink has landed is imaged with an imaging device, and the positional deviation between the landing position of the ink droplet and the reference position of the corresponding measurement cell is measured in the captured image, and each measured measurement cell Is stored in the storage unit as misalignment information.

そして、EL基板の塗布予定領域へのインク塗布の際には、記憶部に記憶されている位置ずれ情報を参照して、各塗布予定領域に対応する測定用セルに係る位置ずれを補正するようにインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出する。
これにより、EL基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
Then, when ink is applied to the planned application area of the EL substrate, the positional deviation related to the measurement cell corresponding to each planned application area is corrected with reference to the positional deviation information stored in the storage unit. Ink droplets are ejected from the nozzles of the inkjet head.
Thereby, it is possible to perform the positional deviation correction of the ink droplet corresponding to the local distortion of the arrangement pattern of the application region in the surface of the EL substrate.

さらには、本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造方法においては、同一撮像画像内において測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報(座標データ)を取得して比較し、位置ずれ量を算出するため、得られた位置ずれ量が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
一方、インク液滴の位置ずれ情報を複数回の撮像を行って取得する場合には、得られた位置ずれ量に、撮像装置の動作の再現性の影響による誤差が含まれることになる。
Furthermore, in the method of manufacturing the organic EL display panel according to the present embodiment, position information (coordinate data) between the reference position of the measurement cell and the corresponding ink landing position is acquired and compared in the same captured image. Since the displacement amount is calculated, the obtained displacement amount is not affected by the reproducibility of the operation of the imaging apparatus.
On the other hand, when the positional deviation information of the ink droplet is acquired by performing imaging a plurality of times, an error due to the influence of the reproducibility of the operation of the imaging apparatus is included in the obtained positional deviation amount.

それは次のような理由からである。例えば、次のような場合を想定する。先ず、インクが塗布されていないEL基板を用いて塗布予定領域を撮像装置により撮像して、各塗布予定領域のEL基板上の位置(座標データ)を記憶部に記憶させる。次にEL基板又は検査用基板(必ずしも塗布予定領域やそれに相当する測定用セルが形成されていなくてもよい)にインク液滴を吐出した後の状態を撮像装置で撮像して、インク液滴の着弾位置(座標データ)を記憶部に記憶させる。そして、双方の座標データを比較して位置ずれ量を算出する。このような方法の場合には、塗布予定領域の座標データを取得するとき(1回目の撮像)と、インク液滴の着弾位置の座標データを取得するとき(2回目の撮像)とで、撮像装置を厳密に同じ動作で動かすことは非常に困難である。それは、リニアモータやサーボモータが1回目の撮像と2回目の撮像とで厳密に同じ位置において同じスピードで駆動されているとは限らず、スピードの微小な揺らぎも存在するからである。従って、このような撮像装置の動作の微小な差異による誤差が得られた位置ずれ量に含まれることとなる。加えて、1回目の撮像と2回目の撮像とで、装置が設置されている場所の温度が変化すると、ガイドシャフトや移動架台に微小な伸縮が生じ、双方の座標データに微小なずれが生じることが考えられるからである。   The reason is as follows. For example, assume the following case. First, a coating application area is imaged by an imaging device using an EL substrate to which ink is not applied, and the position (coordinate data) of each coating application area on the EL substrate is stored in the storage unit. Next, the state after the ink droplets are ejected onto the EL substrate or the inspection substrate (the application target region and the measurement cell corresponding thereto are not necessarily formed) is imaged by the imaging device, and the ink droplets are captured. The landing position (coordinate data) is stored in the storage unit. Then, the positional deviation amount is calculated by comparing both coordinate data. In the case of such a method, imaging is performed when the coordinate data of the coating application area is acquired (first imaging) and when the coordinate data of the landing position of the ink droplet is acquired (second imaging). It is very difficult to move the device in exactly the same way. This is because the linear motor and the servo motor are not always driven at the same speed at the same position in the first imaging and the second imaging, and there is a slight fluctuation in speed. Therefore, an error due to such a small difference in operation of the imaging apparatus is included in the obtained positional deviation amount. In addition, if the temperature of the place where the device is installed changes between the first imaging and the second imaging, a minute expansion / contraction occurs in the guide shaft and the moving frame, and a slight deviation occurs in both coordinate data. Because it is possible.

本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記のような座標データの微小なずれが位置ずれ量に含まれないため、より正確な位置ずれ補正を行うことができる。これは、高精細化により塗布予定領域がより小さくなり、隣り合う塗布予定領域間の間隔がより狭くなっている場合に、なおさら好適である。
≪実施形態2≫
実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法においては、マスクの歪みに起因する塗布予定領域の配列パターンの面内における歪みに対して、より正確に位置ずれ補正を行うことができるという効果があった。
In the manufacturing method of the organic EL display panel according to the present embodiment, since the above-described minute shift of the coordinate data is not included in the position shift amount, more accurate position shift correction can be performed. This is even more preferable when the planned application area becomes smaller due to high definition and the interval between adjacent application planned areas becomes narrower.
<< Embodiment 2 >>
In the manufacturing method of the organic EL display panel according to the first embodiment, there is an effect that the displacement correction can be performed more accurately with respect to the in-plane distortion of the array pattern of the application scheduled region due to the mask distortion. there were.

しかし、EL基板は、塗布予定領域を規定するバンクおよびバンクよりも下層の各層を形成する際に、エッチングや焼成等の様々な工程を経ており、EL基板には、それぞれ伸びや縮み、歪み(SKEW)等が生じる場合があり、その程度は個々のEL基板によって異なる。このような言わば歪みの固体差に対しては、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法では、対応することができない。   However, the EL substrate has undergone various processes such as etching and baking when forming the bank that defines the region to be coated and the layers below the bank. SKEW) or the like may occur, and the degree varies depending on the individual EL substrate. In other words, the manufacturing method of the organic EL display panel according to the first embodiment cannot cope with such a solid difference in strain.

そこで、実施形態2に係る有機EL表示パネルの製造方法においては、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法に加えて、以下に説明する追加の位置ずれ補正を行う。
実施形態2においては、個々のEL基板の伸びに対応して位置ずれ補正を行う場合を例に、図14(a)および14(b)を参照しながら説明する。
なお、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造方法と共通する部分については実施形態1で既に説明しているため、実施形態2では、上記追加の位置ずれ補正に係る部分にフォーカスして説明する。また、実施形態1と同じ構成要素については、同符号を付し、その説明については実施形態1で既に説明している。以下、各変形例においても、同様である。
Therefore, in the method for manufacturing the organic EL display panel according to the second embodiment, in addition to the method for manufacturing the organic EL display panel according to the first embodiment, additional misalignment correction described below is performed.
The second embodiment will be described with reference to FIGS. 14 (a) and 14 (b), taking as an example a case where positional deviation correction is performed corresponding to the elongation of each EL substrate.
Since parts common to the method for manufacturing the organic EL display panel according to the first embodiment have already been described in the first embodiment, the second embodiment focuses on the part related to the additional misregistration correction. To do. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof has already been described in the first embodiment. Hereinafter, the same applies to each modification.

図14(a)に示すように、EL基板10は、画像が表示される予定の領域である表示予定部10bを中央に有し、その外側に、画像を表示しない予定の領域である非表示予定部10cを有する。表示予定部10bには、複数の塗布予定領域15cが形成されている。
先ず、インクジェットヘッド420(図9参照)のノズル423(図9参照)からEL基板10の非表示予定部10c上に補正モードで複数のインク液滴を吐出する。本実施形態においては、表示予定部10bの列方向における両側の非表示予定部10cに対して、それぞれ1行分ずつインク液滴の吐出を行う。
As shown in FIG. 14A, the EL substrate 10 has a display scheduled portion 10b that is an area where an image is to be displayed in the center, and a non-display area that is an area where no image is to be displayed outside. It has a planned portion 10c. A plurality of planned application areas 15c are formed in the scheduled display portion 10b.
First, a plurality of ink droplets are ejected in the correction mode from the nozzle 423 (see FIG. 9) of the inkjet head 420 (see FIG. 9) onto the non-display scheduled portion 10c of the EL substrate 10. In the present embodiment, ink droplets are ejected for each row to the non-display planned portions 10c on both sides in the column direction of the display planned portion 10b.

次に、撮像装置700(図7参照)により吐出されたインク液滴が非表示予定部10cに着弾した様子を撮像する。このとき、表示予定部10bに形成された塗布予定領域15cの行のうち、非表示予定部10cに最も近い行(即ち、列方向において最も端に位置する行)である補正参照行Rfに属する塗布予定領域15cと着弾インクとが同じ画像内に収まるように撮像する。補正参照行Rfに属する塗布予定領域15cは、撮像対象の着弾インクに対応する塗布予定領域15cのみが同じ画像内に収まっていればよい。ここで、着弾インクに対応する塗布予定領域15cとは、補正参照行Rfに属する複数の塗布予定領域15cのうち、非表示予定部10cに塗布予定領域15cが形成されていると仮定した場合に、撮像対象の着弾インクが着弾予定であった非表示予定部10cの仮定の塗布予定領域15cと同じ列に属する塗布予定領域15cのことである。   Next, the state in which the ink droplet ejected by the imaging device 700 (see FIG. 7) has landed on the non-display planned portion 10c is imaged. At this time, it belongs to the corrected reference row Rf which is the row closest to the non-display scheduled portion 10c (that is, the row located at the end in the column direction) among the rows of the planned application region 15c formed in the display planned portion 10b. Imaging is performed so that the application-scheduled region 15c and the landing ink are within the same image. In the planned application region 15c belonging to the correction reference row Rf, only the planned application region 15c corresponding to the landing ink to be imaged needs to be within the same image. Here, the planned application region 15c corresponding to the landing ink is based on the assumption that the planned application region 15c is formed in the non-display scheduled portion 10c among the plurality of planned application regions 15c belonging to the correction reference row Rf. This is a coating application region 15c belonging to the same column as the assumed coating application region 15c of the non-display scheduled portion 10c where the landing ink to be imaged is scheduled to land.

続いて、撮像画像内において、着弾インクの基準位置の座標データと補正参照行Rfの対応する塗布予定領域15cの基準位置の座標データを取得して、位置ずれ量と位置ずれ方向を算出する。これを、非表示予定部10cの各着弾インクについて行う。
図14(a)に示すように、EL基板10には、印刷方向下流側(X方向側)の端部に伸びが生じており、補正参照行Rfに属する複数の塗布予定領域15cのうち、印刷方向下流側の端部に位置する3つの塗布予定領域15c(15c1,15c2,15c3)については、下流側ほど間隔が広くなっている。そのため、着弾インクIN1の基準位置P1と塗布予定領域15c1の基準位置との間には、位置ずれ量G1が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側(−X方向)である。着弾インクIN2の基準位置P2と塗布予定領域15c2の基準位置との間には、位置ずれ量G2が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側(−X方向)である。着弾インクIN3の基準位置P3と塗布予定領域15c3の基準位置との間には、位置ずれ量G3が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側(−X方向)である。なお、その他の着弾インクと対応する塗布予定領域15cとの間には、位置ずれは生じていない。
Subsequently, in the captured image, the coordinate data of the reference position of the landing ink and the coordinate data of the reference position of the corresponding application scheduled area 15c of the correction reference row Rf are obtained, and the amount of displacement and the displacement direction are calculated. This is performed for each landing ink of the non-display scheduled portion 10c.
As shown in FIG. 14A, the EL substrate 10 has an extension at the end on the downstream side in the printing direction (X direction side), and among the plurality of planned coating regions 15c belonging to the correction reference row Rf, As for the three planned application regions 15c (15c1, 15c2, 15c3) located at the end on the downstream side in the printing direction, the intervals are wider toward the downstream side. Therefore, there is a misregistration amount G1 between the reference position P1 of the landing ink IN1 and the reference position of the planned application region 15c1, and the misalignment direction is the upstream side in the printing direction (−X direction). There is a misregistration amount G2 between the reference position P2 of the landing ink IN2 and the reference position of the planned application region 15c2, and the misalignment direction is on the upstream side in the printing direction (−X direction). There is a misregistration amount G3 between the reference position P3 of the landing ink IN3 and the reference position of the planned application region 15c3, and the misregistration direction is upstream in the printing direction (−X direction). It should be noted that there is no misalignment between the other landing ink and the corresponding application scheduled region 15c.

上記の方法により得られた非表示予定部10cの各着弾インクについての追加位置ずれ情報を記憶部502(図8参照)に記憶する。
このように、実施形態1では、測定用基板30を用いて位置ずれ情報を取得したが、実施形態2では、実際に有機EL表示パネル100の製造に供するEL基板10を用いて追加位置ずれ情報を取得する。
The additional position deviation information for each landing ink of the non-display scheduled portion 10c obtained by the above method is stored in the storage unit 502 (see FIG. 8).
As described above, in the first embodiment, the positional deviation information is acquired by using the measurement substrate 30, but in the second embodiment, the additional positional deviation information is actually obtained by using the EL substrate 10 that is actually used for manufacturing the organic EL display panel 100. To get.

そして、図4(d)および図4(e)に示す、正孔輸送層16および発光層17の形成の際には、記憶部502に記憶されている実施形態1の方法で得られた位置ずれ情報と実施形態2の方法で得られた追加位置ずれ情報とを参照し、実施形態1の方法で得られた位置ずれ情報に基づく位置ずれ補正に加えて、上記実施形態2の方法で得られた追加位置ずれ情報に基づく位置ずれ補正を行う追加補正モードでインクジェットヘッド420のノズル423からインク液滴を吐出し、EL基板10の塗布予定領域15c内にインクを塗布する。その結果、図14(b)に示すように、塗布予定領域15c1を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域15c1内に着弾し(着弾インクIK1)、塗布予定領域15c2を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域15c2内に着弾し(着弾インクIK2)、塗布予定領域15c3を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域15c3内に着弾する(着弾インクIK3)。   Then, when forming the hole transport layer 16 and the light emitting layer 17 shown in FIGS. 4D and 4E, the positions obtained by the method of Embodiment 1 stored in the storage unit 502 are obtained. With reference to the deviation information and the additional positional deviation information obtained by the method of the second embodiment, in addition to the positional deviation correction based on the positional deviation information obtained by the method of the first embodiment, it is obtained by the method of the second embodiment. In an additional correction mode in which positional deviation correction is performed based on the added additional positional deviation information, ink droplets are ejected from the nozzles 423 of the inkjet head 420, and ink is applied in the application application region 15c of the EL substrate 10. As a result, as shown in FIG. 14B, the ink droplets ejected aiming at the planned application region 15c1 land on the planned application region 15c1 (landing ink IK1), and ejected toward the planned application region 15c2. The applied ink droplets land in the application planned area 15c2 (landing ink IK2), and the ink droplets ejected aiming at the application planned area 15c3 land in the application planned area 15c3 (landing ink IK3).

そして、補正参照行以外の行に属する塗布予定領域15cについても、補正参照行におけるそれぞれの塗布予定領域と同一の列に属する塗布予定領域に対して対応する補正参照行の塗布予定領域に対して行う位置ずれ補正を適用する。
EL基板の伸びや縮みが行方向にのみ発生し、列方向には伸びや縮みが無い場合や、列方向に長尺なラインバンクを有するEL基板の場合には、同一列に属する全ての塗布予定領域15cに対して同一の位置ずれ補正を適用しても問題ないため、補正参照行Rf以外の表示予定部10bの塗布予定領域15c全体に対して位置ずれ補正を有効に実施することができる。
And about the application | coating scheduled area | region 15c which belongs to lines other than a correction | amendment reference line, with respect to the application | coating scheduled area | region of the correction | amendment reference line corresponding to the application | coating scheduled area | region which belongs to the same column as each application | coating scheduled area in a correction | amendment reference line Apply the misalignment correction to be performed.
In the case where the EL substrate expands or contracts only in the row direction and does not expand or contract in the column direction, or in the case of an EL substrate having a long line bank in the column direction, all coatings belonging to the same column There is no problem even if the same misregistration correction is applied to the planned area 15c, so that the misregistration correction can be effectively performed on the entire planned application area 15c of the scheduled display portion 10b other than the correction reference row Rf. .

実施形態2に係る有機EL表示パネルの製造方法によると、個々のEL基板10について追加位置ずれ情報を取得して、追加補正モードで塗布予定領域15c内にインクを塗布することにより、個々のEL基板10で異なる伸び、縮み、歪み等に起因する位置ずれを個々のEL基板10についてそれぞれ補正することができるため、より確実にインク液滴を狙った塗布領域内に着弾させることができる。   According to the method of manufacturing the organic EL display panel according to the second embodiment, the additional EL information is obtained for each EL substrate 10, and the ink is applied in the application scheduled region 15c in the additional correction mode, whereby each EL Since misalignment caused by different expansion, contraction, distortion, etc. in the substrate 10 can be corrected for each EL substrate 10, ink droplets can be landed more reliably in the application region.

これにより、各サブピクセルにおける発光層および機能層の膜厚がより均一化され、また混色の発生をより低下させることができるため、より高品質な有機EL表示パネルを生産することができる。また、高精細化により塗布予定領域がより小さくなり、隣り合う塗布予定領域間の間隔がより狭くなっている有機EL表示パネルを製造する場合に、本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造方法はさらに好適である。   Thereby, since the film thickness of the light emitting layer and the functional layer in each subpixel is made more uniform, and the occurrence of color mixing can be further reduced, a higher quality organic EL display panel can be produced. In addition, when manufacturing an organic EL display panel in which the planned application area becomes smaller and the interval between adjacent application planned areas becomes narrower due to higher definition, the method for manufacturing the organic EL display panel according to this embodiment Is more preferred.

≪変形例≫
以上、本発明を実施形態1および実施形態2に基づいて説明してきたが、本発明が上述の実施形態に限定されないのは勿論であり、以下のような変形例を実施することが出来る。なお、説明の重複を避けるため、実施形態と同じ構成要素については、同符号を付して、その説明を省略する。
≪Modification≫
As described above, the present invention has been described based on the first embodiment and the second embodiment. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the following modifications can be implemented. In addition, in order to avoid duplication of description, about the same component as embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the description is abbreviate | omitted.

(変形例1)
実施形態2においては、非表示予定部10cに、1行分のインク液滴を吐出したが、これに限られない。例えば、行方向における両端部に1滴ずつ、または数滴ずつインク液滴を吐出し、行方向の中央部にインク液滴を吐出しなくてもよい。行方向における両端部それぞれに少なくとも1滴ずつインク液滴を吐出すれば、EL基板10全体の行方向の伸びや縮み、歪みを検出することができ、検出された伸び、縮み、歪みに起因する位置ずれを補正することができる。
(Modification 1)
In the second embodiment, one line of ink droplets is ejected to the non-display scheduled portion 10c. However, the present invention is not limited to this. For example, one or several ink droplets may be ejected at both ends in the row direction, and the ink droplets may not be ejected at the center in the row direction. If at least one ink droplet is ejected to each of both end portions in the row direction, the expansion, contraction, and distortion in the row direction of the entire EL substrate 10 can be detected, and this is caused by the detected elongation, shrinkage, and distortion. Misalignment can be corrected.

(変形例2)
実施形態2においては、非表示予定部10cに、1行分全部のインク液滴を吐出したが、これに限られず、間引いてもよい。
なお、吐出する液滴の数が多いほど、EL基板10の行方向における局所的な伸びや縮みを検出することができるという利点がある。
(Modification 2)
In the second embodiment, all the ink droplets for one line are ejected to the non-display scheduled portion 10c. However, the present invention is not limited to this, and thinning may be performed.
In addition, there is an advantage that local expansion and contraction in the row direction of the EL substrate 10 can be detected as the number of droplets to be ejected increases.

(変形例3)
実施形態2においては、表示予定部10bの列方向における両側の非表示予定部10cにそれぞれインク液滴を吐出したが、これに限られず、列方向における一方の非表示予定部10cにのみインク液滴を吐出してもよい。一方の非表示予定部10cにのみインク液滴を吐出する場合であっても、EL基板10の列方向における伸びや縮みを検出することはできる。ただし、この場合、EL基板10の歪みは検出することができない。
(Modification 3)
In the second embodiment, ink droplets are respectively ejected to the non-display scheduled portions 10c on both sides in the column direction of the display scheduled portion 10b. However, the present invention is not limited to this, and the ink liquid is applied only to one non-display scheduled portion 10c in the column direction. Drops may be ejected. Even when ink droplets are ejected only to one non-display-scheduled portion 10c, it is possible to detect the expansion and contraction of the EL substrate 10 in the column direction. However, in this case, the distortion of the EL substrate 10 cannot be detected.

(変形例4)
実施形態1および2においては、EL基板10および測定用基板30がラインバンクを有する場合を例に説明したが、これに限られない。本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法は、EL基板および測定用基板がピクセルバンクを有する場合にも適用可能である。
(Modification 4)
In the first and second embodiments, the case where the EL substrate 10 and the measurement substrate 30 have line banks has been described as an example, but the present invention is not limited to this. The method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention can also be applied when the EL substrate and the measurement substrate have pixel banks.

以上、本発明に係る有機発光デバイスおよび表示装置について、実施形態および変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施形態および変形例に限定されるものではない。上記実施形態および変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施形態および各変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。   As mentioned above, although the organic light-emitting device and display apparatus which concern on this invention were demonstrated based on embodiment and a modification, this invention is not limited to said embodiment and a modification. A form obtained by making various modifications conceivable by those skilled in the art with respect to the above-described embodiments and modifications, and by arbitrarily combining components and functions in each embodiment and each modification without departing from the spirit of the present invention. Implemented forms are also included in the present invention.

本発明は、高品質の有機EL表示パネルを製造するのに有用である。   The present invention is useful for manufacturing a high-quality organic EL display panel.

10 EL基板
10b 表示予定部
10c 非表示予定部
13 画素電極
15 バンク(隔壁層)
15a 第1バンク
15b 第2バンク
15c 塗布予定領域
16 正孔輸送層(機能層)
17 発光層
30 測定用基板
33 測定用セル
35 撥液性の層
502 記憶部
423 ノズル
Rf 補正参照行
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 EL board | substrate 10b Display plan part 10c Non-display plan part 13 Pixel electrode 15 Bank (partition wall layer)
15a First bank 15b Second bank 15c Planned coating region 16 Hole transport layer (functional layer)
17 Light emitting layer 30 Measurement substrate 33 Measurement cell 35 Liquid repellent layer 502 Storage unit 423 Nozzle Rf Correction reference row

Claims (15)

有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するEL基板とを準備し、
吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、
前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機EL表示パネルの製造方法であって、
前記位置ずれ情報は、
前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、
前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、
前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得される
有機EL表示パネルの製造方法。
An ink in which an organic light emitting material or a functional material is dissolved in a solvent, and a plurality of application planned areas to which the ink is to be applied by discharging droplets of the ink from a plurality of nozzles are scheduled to display an image. Preparing an EL substrate having a partition layer formed in a matrix in a display scheduled portion,
Reference is made to misalignment information indicating misalignment of the landing position of the ejected liquid droplet from the target position, and the plurality of nozzles having misalignment among the plurality of nozzles are corrected so as to correct the misalignment. From the nozzles corresponding to each of the planned application areas of the nozzles, the droplets are ejected to each of the planned application areas, and the ink is applied in the planned application area,
A method for producing an organic EL display panel, wherein a light emitting layer containing the organic light emitting material or a functional layer containing the functional material is formed in the planned application region by drying the solvent of the applied ink. And
The positional deviation information is
Preparing a measurement substrate in which a plurality of measurement cells are formed in a matrix with an array pattern common to the array pattern of the plurality of application scheduled regions;
The droplets are ejected from the plurality of nozzles onto the measurement substrate,
A method for manufacturing an organic EL display panel, which is obtained by measuring a positional deviation in a row direction between a reference position of each of the plurality of measurement cells and a corresponding landing position of the droplet.
前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれの測定は、前記測定用セルと前記測定用基板に着弾した前記液滴とを撮像装置で撮像し、当該撮像された画像において行う
請求項1に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The measurement of the positional deviation in the row direction between the reference position of each of the plurality of measurement cells and the landing position of the corresponding droplet is performed by imaging the measurement cell and the droplet landed on the measurement substrate. The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the image is picked up by the method and performed on the picked-up image.
前記測定用セルの基準位置は、前記測定用セルそれぞれの列方向における両端部の行方向における中心同士を結ぶ線である
請求項1又は2に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the reference position of the measurement cell is a line connecting the centers in the row direction of both end portions in the column direction of the measurement cell.
前記塗布予定領域内への前記インクの塗布における前記複数の塗布予定領域それぞれについての前記インクの着弾位置の位置ずれの補正は、
前記ノズルからの前記液滴の吐出タイミングを調整することにより行う
請求項1から3の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
Correction of positional deviation of the landing position of the ink for each of the plurality of planned application areas in the application of the ink into the predetermined application area,
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the method is performed by adjusting a discharge timing of the droplets from the nozzle.
前記位置ずれ情報の取得は、前記表示予定部に形成された前記塗布予定領域に対応する全ての前記測定用セルについて行う
請求項1から4の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
5. The organic EL display panel according to claim 1, wherein the acquisition of the positional deviation information is performed for all of the measurement cells corresponding to the planned application area formed in the planned display portion. Method.
前記有機EL表示パネルは、複数の画素電極を有し、
前記画素電極、前記測定用セル、および前記塗布予定領域は、共通のマスクを用いて形成され、
前記測定用セルは、前記画素電極の材料と同種の材料から成る
請求項1から5の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The organic EL display panel has a plurality of pixel electrodes,
The pixel electrode, the measurement cell, and the coating application region are formed using a common mask,
6. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the measurement cell is made of the same material as the material of the pixel electrode.
前記測定用基板は、前記複数の測定用セルの上方に配され、上面が平坦な撥液性の層を有し、
前記液滴は前記撥液性の層上に着弾するように吐出される
請求項1から6の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The measurement substrate is disposed above the plurality of measurement cells and has a liquid-repellent layer having a flat upper surface,
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the droplets are ejected so as to land on the liquid-repellent layer.
前記撥液性の層は、前記隔壁層を形成するための材料と同種の材料から成る
請求項7に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 7, wherein the liquid repellent layer is made of the same material as that for forming the partition wall layer.
前記位置ずれ情報は記憶部に記憶されており、
前記塗布予定領域および前記測定用セルのパターニングは、共通のマスクを用いて行い、
前記マスクを交換する毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項1から8の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The positional deviation information is stored in a storage unit,
The patterning of the coating application region and the measurement cell is performed using a common mask,
Each time the mask is replaced, a new measurement substrate is created, and a new measurement of misalignment is performed using the newly created measurement substrate, and the newly measured misregistration information is used. The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the positional deviation information stored in the storage unit is updated.
前記マスクのメンテナンスを行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項9に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
Every time maintenance of the mask is performed, the measurement substrate is newly created, and the newly created measurement substrate is used to newly measure misalignment, and the newly measured misregistration information. The manufacturing method of the organic EL display panel according to claim 9, wherein the positional deviation information stored in the storage unit is updated.
前記EL基板への前記インクの塗布を所定枚数行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項9又は10に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
Each time a predetermined number of inks are applied to the EL substrate, the measurement substrate is newly created, and the newly created measurement substrate is used to newly measure misalignment. The manufacturing method of the organic EL display panel according to claim 9 or 10, wherein the positional deviation information stored in the storage unit is updated with the positional deviation information measured in a step.
前記表示予定部は、前記EL基板において画像を表示する側の主面の中央部に配され、前記表示予定部の列方向に隣接して、画像が表示されない非表示予定部が配され、
前記位置ずれ情報が示す位置ずれを補正する前記液滴の吐出を補正モードとすると、
前記EL基板の準備の後、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布に先立って、
前記非表示予定部に最も近い前記複数の塗布予定領域の行である補正参照行に属する各塗布予定領域のうち少なくとも行方向における両端部に位置する複数の塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで、前記表示予定部には前記液滴を吐出せずに、前記非表示予定部に前記液滴を複数吐出し、
前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置と、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域の基準位置との行方向における位置ずれを測定し、
前記表示予定部に形成された前記複数の塗布予定領域内への前記インクの塗布において、前記測定用基板における位置ずれと、前記非表示予定部において測定された位置ずれの両方を補正するように前記液滴を吐出する追加補正モードで前記ノズルから前記液滴を吐出する
請求項1から11に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The display scheduled portion is arranged at a central portion of the main surface on the EL substrate side where an image is displayed, adjacent to the column direction of the display scheduled portion, a non-display scheduled portion where no image is displayed is arranged,
When the ejection of the droplet for correcting the positional deviation indicated by the positional deviation information is set as a correction mode,
After the preparation of the EL substrate, prior to the application of the ink into the application planned area,
In the correction mode, a plurality of planned application regions at least at both ends in the row direction among the planned application regions belonging to the correction reference row that is the row of the plurality of planned application regions closest to the non-display scheduled portion. At the same timing as when the liquid droplets are discharged, the liquid droplets are not discharged onto the display scheduled portion, and a plurality of liquid droplets are discharged onto the non-display planned portion,
Measure the positional deviation in the row direction between the landing position of the droplets ejected on the non-display scheduled portion and the reference position of the corresponding application scheduled region in the correction reference row,
In the application of the ink into the plurality of planned application regions formed in the scheduled display portion, both the positional deviation in the measurement substrate and the positional deviation measured in the non-display planned portion are corrected. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1, wherein the droplets are discharged from the nozzles in an additional correction mode for discharging the droplets.
前記非表示予定部で測定された位置ずれの補正は、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置の位置ずれを、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行う
請求項12に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The correction of the misregistration measured in the non-display scheduled portion is performed by calculating the misalignment of the landing positions of the droplets ejected on the non-display scheduled portion in the same column as the corresponding application planned region in the correction reference row. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 12, wherein the method is applied to the application-scheduled region belonging to the above.
前記非表示予定部における位置ずれの測定は、前記EL基板毎に行う
請求項12又は13に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 12 or 13, wherein the measurement of the positional deviation in the non-display scheduled portion is performed for each EL substrate.
前記非表示予定部への前記液滴の吐出は、前記補正参照行に属する全ての前記塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで行う
請求項12から14の何れか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
15. The ejection of the droplets to the non-display scheduled portion is performed at the same timing as when the droplets are ejected in the correction mode to all the application scheduled regions belonging to the correction reference row. The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of any one of these.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116691203A (en) * 2023-08-08 2023-09-05 武汉国创科光电装备有限公司 Ink-jet printing process method and system for display device and display device
CN116691203B (en) * 2023-08-08 2023-10-20 武汉国创科光电装备有限公司 Ink-jet printing process method and system for display device and display device

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