JP2016110010A - Light control film - Google Patents

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直哉 西村
Naoya Nishimura
直哉 西村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light control film that prevents decrease in haze reduction rate caused by continuous motion.SOLUTION: The present invention provides a light control film having a light control layer between a pair of light-transmitting electrodes, where at least one of the light-transmitting electrodes is a light-transmitting electrode having a thin metallic wire pattern on a light-transmitting support, and the light control layer is a polymer dispersion-type liquid crystal body at least having a liquid crystal compound, a binder resin, and a nitrogen-containing heterocyclic compound.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、連続動作に伴うヘイズ減少率の低下を改善した調光フィルムに関するものである。   The present invention relates to a light control film having improved reduction in haze reduction rate due to continuous operation.

近年、電圧を印加することによりヘイズが変化する調光フィルムが、住宅、自動車、電車、飛行機等の窓を対象とした太陽光遮光用途、オフィスや展示会場等のパーテションを対象とした視線遮蔽用途等で注目を集めている。   In recent years, dimming films whose haze changes when voltage is applied are used to block sunlight in houses, automobiles, trains, airplanes, etc., and to block lines of sight for partitions in offices and exhibition halls. Etc. are attracting attention.

一般的に調光フィルムは、一対の光透過性電極の間に調光層を有する。調光層としては、液晶化合物を用いた調光層と、エレクトロクロミック材料を用いた調光層とに大別される。なかでも、液晶化合物を調光層として用いた調光フィルムは、電圧印加時のヘイズ変化応答速度が速いという利点があり、広く検討されている。しかし、液晶化合物を調光層として用いた調光フィルムは、調光層の周囲を密閉しない限り、液晶化合物が漏出する。このため、耐久性が低い、作製後の調光フィルムを自由な形状に裁断できない、等の問題があった。   Generally, the light control film has a light control layer between a pair of light-transmitting electrodes. The light control layer is roughly classified into a light control layer using a liquid crystal compound and a light control layer using an electrochromic material. Especially, the light control film which used the liquid crystal compound as a light control layer has the advantage that a haze change response speed at the time of a voltage application is quick, and is examined widely. However, in a light control film using a liquid crystal compound as a light control layer, the liquid crystal compound leaks out unless the periphery of the light control layer is sealed. For this reason, there existed problems, such as low durability and the ability to cut the light control film after preparation to a free shape.

この問題の解決策として、特開平9−235555号公報(特許文献1)、特開平1−198725号公報(特許文献2)では、高分子分散型液晶体を、調光層として用いた調光フィルムが提案されている。高分子分散型液晶体では、バインダー樹脂中に液晶化合物が封入される形で分散しているため、調光層の周囲を密閉する必要がなく、作製後の調光フィルムを自由に裁断することも可能である。   As a solution to this problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-235555 (Patent Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-198725 (Patent Document 2) use a polymer dispersed liquid crystal as a light control layer. A film has been proposed. In the polymer-dispersed liquid crystal body, the liquid crystal compound is dispersed in a binder resin so that it is not necessary to seal the periphery of the light control layer, and the light control film after production can be cut freely. Is also possible.

一般的な高分子分散型液晶体では、電圧未印加時は液晶化合物がランダムに配向するため、ヘイズが高い不透明な状態になる。電圧印加時は液晶化合物が一定方向に配向するため、電圧未印加時よりヘイズが減少し、透明感が増す。この挙動は、不透明な状態での使用が多い上記した視線遮蔽用途において、消費電力の観点から特に好ましいものである。   In a general polymer dispersion type liquid crystal, the liquid crystal compound is randomly oriented when no voltage is applied, so that it becomes an opaque state with high haze. When a voltage is applied, the liquid crystal compound is aligned in a certain direction, so that the haze is reduced and the transparency is increased when no voltage is applied. This behavior is particularly preferable from the viewpoint of power consumption in the above-described line-of-sight shielding application that is often used in an opaque state.

例えば特開2010−145856号公報(特許文献3)には液晶化合物を含有するマイクロカプセルと、バインダー樹脂とを混合した混合溶液を調製し、それを塗布・乾燥することで形成した高分子分散型液晶体を調光層とし、ITOガラスを光透過性電極とする調光積層体が開示されている。特開2011−105908号公報(特許文献4)にはITO付きPETフィルム上に、特定の液晶化合物と非液晶性重合性化合物等とを含有する液晶組成物を塗布・硬化させ形成した高分子分散型液晶体を調光層とする調光用フィルムが開示されている。   For example, JP 2010-145856 (Patent Document 3) discloses a polymer dispersion type formed by preparing a mixed solution in which a microcapsule containing a liquid crystal compound and a binder resin are mixed, and applying and drying the solution. A light control laminate having a liquid crystal body as a light control layer and ITO glass as a light transmissive electrode is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-105908 (Patent Document 4) discloses a polymer dispersion formed by coating and curing a liquid crystal composition containing a specific liquid crystal compound and a non-liquid crystalline polymerizable compound on a PET film with ITO. A light control film having a liquid crystal body as a light control layer is disclosed.

現在、光透過性電極としては主に光透過性支持体上にITO膜が蒸着されたものが検討されている。しかしながら近年、例えば調光フィルムを施工した窓ガラスの一部領域のみ透明化する等、調光フィルムの任意の箇所に電圧を印加できる仕様が市場で要求されつつあり、光透過性電極のパターニングが検討され始めているが、ITO膜のパターニングには一般的にレジスト膜の形成やエッチング等、複数の工程が必要であり、生産性が低いという問題がある。また、調光フィルムの大面積化に伴い、光透過性電極の低抵抗化も求められている。その解決のため、ITO膜に代わり光透過性支持体上に金属細線パターンを形成し、光透過性電極とする方法が検討されている。この方法では金属が有する高い導電性のため、金属細線パターンの微細化が可能であり、全光線透過率に優れた光透過性電極が得られる。例えば特開2013−148687号公報(特許文献5)には調光層が高分子分散型液晶を含有し、光透過性電極が金属細線パターンを有する調光フィルムが開示されている。   At present, as the light transmissive electrode, an electrode in which an ITO film is deposited on a light transmissive support has been studied. However, in recent years, there has been a demand in the market for a specification that can apply a voltage to an arbitrary portion of the light control film, such as making only a partial region of the window glass on which the light control film is applied. Although being studied, patterning of the ITO film generally requires a plurality of processes such as formation of a resist film and etching, and there is a problem that productivity is low. Further, as the area of the light control film is increased, the resistance of the light transmissive electrode is also required to be reduced. In order to solve the problem, a method of forming a thin metal wire pattern on a light transmissive support instead of an ITO film to form a light transmissive electrode has been studied. In this method, the metal fine line pattern can be miniaturized because of the high electrical conductivity of the metal, and a light transmissive electrode having excellent total light transmittance can be obtained. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-148687 (Patent Document 5) discloses a light control film in which a light control layer contains a polymer-dispersed liquid crystal and a light transmissive electrode has a fine metal wire pattern.

一般的に、調光フィルムは電圧未印加時に対する電圧印加時のヘイズ減少率が高いことが望まれる。しかし、光透過性電極として金属細線パターンを有し、高分子分散型液晶体を調光層とした調光フィルムは、連続動作に伴いヘイズ減少率が低下する問題があり、改善が求められていた。   In general, it is desirable that the light control film has a high haze reduction rate when a voltage is applied relative to when no voltage is applied. However, a light control film having a fine metal wire pattern as a light-transmitting electrode and having a polymer dispersed liquid crystal body as a light control layer has a problem that the haze reduction rate decreases with continuous operation, and improvement is required. It was.

一方、例えば特開2014−29671号公報(特許文献6)には第1光透過性電極上および第2光透過性電極上の少なくとも一方に、金属腐食防止剤としてトリアゾール化合物を含有する粘着層を有するタッチパネル用導電性フィルムにより、経時に伴う動作不良を改善できることが記載されている。   On the other hand, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-29671 (Patent Document 6), an adhesive layer containing a triazole compound as a metal corrosion inhibitor is provided on at least one of the first light transmissive electrode and the second light transmissive electrode. It is described that the operation failure with time can be improved by the conductive film for a touch panel.

特開平9−235555号公報JP-A-9-235555 特開平1−198725号公報JP-A-1-198725 特開2010−145856号公報JP 2010-145856 A 特開2011−105918号公報JP 2011-105918 A 特開2013−148687号公報JP2013-148687A 特開2014−29671号公報JP 2014-29671 A

本発明の課題は、連続動作に伴うヘイズ減少率の低下を改善した調光フィルムを提供することにある。   The subject of this invention is providing the light control film which improved the fall of the haze reduction rate accompanying continuous operation | movement.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
(1)一対の光透過性電極の間に調光層を有する調光フィルムであって、該光透過性電極の少なくとも一方が、光透過性支持体上に金属細線パターンを有する光透過性電極であり、該調光層が液晶化合物と、バインダー樹脂と、含窒素複素環化合物を少なくとも含有する高分子分散型液晶体であることを特徴とする調光フィルム。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
(1) A light-controlling film having a light-controlling layer between a pair of light-transmitting electrodes, wherein at least one of the light-transmitting electrodes has a metal fine line pattern on a light-transmitting support A light control film, wherein the light control layer is a polymer-dispersed liquid crystal body containing at least a liquid crystal compound, a binder resin, and a nitrogen-containing heterocyclic compound.

本発明により、連続動作に伴うヘイズ減少率の低下を改善した調光フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a light control film in which a decrease in the haze reduction rate due to continuous operation is improved.

本発明の調光フィルムが有する光透過性電極の概略断面図Schematic sectional view of a light transmissive electrode of the light control film of the present invention 図1の(1−1)あるいは(1−3)で示した金属細線を有する調光フィルムの一例の概略断面図1 is a schematic cross-sectional view of an example of a light control film having a thin metal wire shown in (1-1) or (1-3) of FIG. 図1の(1−2)で示した金属細線を有する調光フィルムの別の一例の概略断面図Schematic sectional view of another example of a light control film having a fine metal wire shown in (1-2) of FIG. 実施例で使用した透過原稿の概略図Schematic diagram of transparent document used in the example 実施例で作製した光透過性電極の概略図Schematic of the light transmissive electrode produced in the example

以下、本発明について詳細に説明する。まず、本発明の調光フィルムを構成する光透過性電極について図を用いて説明する。図1は本発明の調光フィルムが有する光透過性電極の概略断面図である。本発明の調光フィルムは、一対の光透過性電極を有し、その少なくとも一方が光透過性支持体上に金属細線パターンを有する光透過性電極である。かかる金属細線としては、図1中、(1−1)〜(1−3)で示したような構成を例示できるが、これに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, the light transmissive electrode which comprises the light control film of this invention is demonstrated using figures. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light transmissive electrode included in the light control film of the present invention. The light control film of the present invention has a pair of light transmissive electrodes, at least one of which is a light transmissive electrode having a metal fine wire pattern on a light transmissive support. Examples of such fine metal wires include the configurations shown in (1-1) to (1-3) in FIG. 1, but are not limited thereto.

(1−1)に示した光透過性電極は、光透過性支持体11上であって、必要に応じて設けられる下引き層15上に金属細線パターンを形成する金属細線12を有する。金属細線12は金属13とバインダー14を含有し、金属13がバインダー14によって保持されている。図中、金属が存在しない部分(光透過性部)にはバインダー14は存在しない。このような金属細線パターンの製造方法として以下に示す2つの方法が例示できるが、これに限定されない。第1の製造方法としては、例えば特開2014−181316号公報に開示される方法に従い、金属13およびバインダー14を含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、光透過性支持体11上に印刷等の方法で付与し金属細線パターンを得る方法が挙げられる。ここで該導電性金属インキや導電性ペーストが含有する金属としては、銅、ニッケル、亜鉛、スズ、銀等が挙げられる。第2の製造方法としては、例えば特開2007−59270号公報に開示される方法に従い、光透過性支持体11上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、硬化現像方式を用いて金属細線パターンを形成する方法が挙げられる。この方法では硬化したゼラチンを主体としたバインダー14中に銀からなる金属13が局在化することで金属細線12が形成される。   The light transmissive electrode shown in (1-1) has the metal fine wire 12 which forms the metal fine wire pattern on the undercoat layer 15 on the light transmissive support 11 and provided as necessary. The fine metal wire 12 contains a metal 13 and a binder 14, and the metal 13 is held by the binder 14. In the drawing, the binder 14 does not exist in a portion where no metal exists (light transmitting portion). Although two methods shown below can be illustrated as a manufacturing method of such a metal fine wire pattern, it is not limited to this. As the first production method, for example, in accordance with the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-181316, conductive metal ink or conductive paste containing the metal 13 and the binder 14 is printed on the light-transmissive support 11. The method of giving by a method etc. and obtaining a metal fine wire pattern is mentioned. Here, examples of the metal contained in the conductive metal ink and the conductive paste include copper, nickel, zinc, tin, and silver. As a second production method, for example, according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-59270, a silver salt photosensitive material in which a silver halide emulsion layer is provided on a light transmissive support 11 is used as a conductive material precursor. And a method of forming a fine metal wire pattern using a curing development method. In this method, the fine metal wire 12 is formed by localizing the metal 13 made of silver in the binder 14 mainly composed of hardened gelatin.

(1−2)に示した光透過性電極は、光透過性支持体11上であって、必要に応じて設けられる下引き層15上の全面にバインダー14が存在し、該バインダー14の一部分に金属13が局在化し、金属細線パターンを形成する金属細線12が形成されている。このような金属細線パターンの製造方法としては以下に示す直接現像方式が例示できるが、これに限定されない。直接現像方式とは、例えば特開2004−221564号公報、特開2007−12314号公報等に開示される方法に従い、光透過性支持体11上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、直接現像方式を用いてゼラチンを主体としたバインダー14中に銀からなる金属13が局在化することで、金属細線12が形成されている。   The light transmissive electrode shown in (1-2) is on the light transmissive support 11, and the binder 14 is present on the entire surface of the undercoat layer 15 provided as necessary. The metal 13 is localized in the metal wire 12 to form a metal wire pattern. As a method for producing such a fine metal wire pattern, the following direct development method can be exemplified, but it is not limited thereto. The direct development method is a silver salt light-sensitive material in which a silver halide emulsion layer is provided on a light-transmitting support 11 according to a method disclosed in, for example, JP-A Nos. 2004-221564 and 2007-12314. As a conductive material precursor, the metal 13 made of silver is localized in the binder 14 mainly composed of gelatin using a direct development method, thereby forming the fine metal wire 12.

(1−3)に示した光透過性電極は、光透過性支持体11上であって、必要に応じて設けられる下引き層15上に、バインダーによって保持されない金属13によって形成された金属細線12が形成されている。このような金属細線の製造方法として以下に示す2つの方法が例示できるが、これに限定されない。第1の方法は、例えば特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報、特開2007−188655号公報、特開2004−207001号公報等に開示される方法に従い、光透過性支持体11上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて銀からなる金属13を物理現像核層上に局在化し金属細線パターンを形成する方法が挙げられる。第2の方法として、例えば特開2014−197531号公報に開示される方法に従い、光透過性支持体11上に水溶性高分子化合物、架橋剤及び金属硫化物を含有する下地層を設け、感光性レジスト層を積層し、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属13を局在化させ、その後レジスト画像を除去する方法(以下、無電解めっき金属細線形成法)が挙げられる。ここで無電解めっきされる金属としては、銅、ニッケル、亜鉛、スズ、銀等が挙げられる。   The light transmissive electrode shown in (1-3) is a thin metal wire formed on the light transmissive support 11 and on the undercoat layer 15 provided as necessary by a metal 13 not held by a binder. 12 is formed. Although two methods shown below can be illustrated as a manufacturing method of such a metal fine wire, it is not limited to this. The first method is, for example, according to the method disclosed in JP-A No. 2003-77350, JP-A No. 2005-250169, JP-A No. 2007-188655, JP-A No. 2004-207001, etc. A silver salt light-sensitive material having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on the body 11 is used as a conductive material precursor, and a so-called silver is formed by allowing a soluble silver salt forming agent and a reducing agent to act in an alkaline solution. There is a method in which a metal 13 made of silver is localized on a physical development nucleus layer using a salt diffusion transfer method to form a fine metal wire pattern. As a second method, for example, according to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-197531, a base layer containing a water-soluble polymer compound, a crosslinking agent, and a metal sulfide is provided on the light-transmissive support 11, and photosensitive. A photosensitive resist layer is laminated, the photosensitive resist layer is exposed to an arbitrary pattern, developed, and a resist image is formed. Then, electroless plating is performed to deposit the metal 13 on the base layer not covered with the resist image. A method of localizing and then removing the resist image (hereinafter, electroless-plated metal fine wire forming method) can be mentioned. Examples of the metal to be electrolessly plated include copper, nickel, zinc, tin, and silver.

上記した構成のうち、金属細線12がバインダーを含まないため、高い導電性を有する金属細線パターンが得られることから、(1−3)で示した構成、すなわち光透過性支持体上にバインダーによって保持されない金属細線によって金属細線パターンが形成されている光透過性電極が特に好ましい。また得られる導電性の観点から金属細線は銀を含有することが好ましい。さらに金属細線が含有する全金属量に対する銀の占める割合は50質量%以上であることが好ましく、より好ましくは70質量%以上であり、さらに好ましくは90質量%である。銀以外に金属細線が含有していてもよい金属としては、銅、ニッケル、金、パラジウム等が挙げられる。   Among the above-described configurations, since the fine metal wire 12 does not contain a binder, a fine metal wire pattern having high conductivity can be obtained. Therefore, the configuration shown in (1-3), that is, on the light-transmitting support by the binder. A light transmissive electrode in which a fine metal wire pattern is formed by fine metal wires that are not held is particularly preferable. Moreover, it is preferable that a metal fine wire contains silver from a viewpoint of the electroconductivity obtained. Furthermore, the ratio of silver to the total amount of metal contained in the fine metal wire is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 90% by mass. Examples of the metal that may be contained in the fine metal wire other than silver include copper, nickel, gold, and palladium.

上記した構成において、光透過性支持体としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら光透過性支持体は全光線透過率が60%以上であるものが好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で、好適に用いられる。光透過性支持体として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。また樹脂フィルムの厚さは25〜300μmであることが好ましい。光透過性支持体上の金属細線パターンを有する側の面に易接着層等の公知の層を有していてもよく、あるいはこれらの公知の層を反対側の面に有していてもよい。   In the above-described configuration, plastic, glass, rubber, ceramics and the like are preferably used as the light transmissive support. These light transmissive supports preferably have a total light transmittance of 60% or more. Among plastics, a resin film having flexibility is preferably used because it is easy to handle. Specific examples of the resin film used as the light transmissive support include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, polycarbonate resins, Examples include acetate resin, triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, and cyclic polyolefin resin. Moreover, it is preferable that the thickness of a resin film is 25-300 micrometers. The light-transmitting support may have a known layer such as an easy-adhesion layer on the surface having the fine metal wire pattern, or may have these known layers on the opposite surface. .

本発明の調光フィルムを構成する光透過性電極の、特に好ましい構成である図1の(1−3)に示した光透過性電極を作製する方法について、以下で詳細に説明する。まず、前述した図1の(1−3)の光透過性電極を作製するための第1の方法である銀塩拡散転写法について説明する。   A method for producing the light transmissive electrode shown in FIG. 1 (1-3), which is a particularly preferred structure of the light transmissive electrode constituting the light control film of the present invention, will be described in detail below. First, the silver salt diffusion transfer method, which is the first method for producing the above-described light transmissive electrode shown in FIG. 1 (1-3), will be described.

銀塩拡散転写法は、光透過性支持体上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いる。銀塩拡散転写法の原理は、米国特許第2,352,014号等に記載されている。即ち、露光部のハロゲン化銀は現像されるが、未露光部のハロゲン化銀は可溶性銀錯塩形成剤で溶解することで可溶性銀錯塩として受像層へと転写され、そこで物理現像核上に金属銀として析出させることでポジ型の銀画像パターンを形成するというものである。詳細には、未露光部である画像部のハロゲン化銀粒子は可溶性銀錯塩形成剤により可溶性銀錯塩として溶解され、物理現像核近傍まで拡散した可溶性銀錯塩はハイドロキノン等の還元剤により還元され、物理現像核上で金属銀として析出する。一方、露光部のハロゲン化銀粒子はハロゲン化銀乳剤層中にとどまり、その場で還元剤の作用により還元される。そして現像後の銀塩感光材料を水洗すると、露光部の銀は不要となったハロゲン化銀乳剤層と共に洗い流される一方、物理現像核近傍で析出した銀は水洗によって露出し、光透過性支持体上にバインダーによって保持されない銀からなる金属13によって形成された金属細線12が得られる。   In the silver salt diffusion transfer method, a silver salt photosensitive material having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on a light-transmitting support is used as a conductive material precursor. The principle of the silver salt diffusion transfer method is described in US Pat. No. 2,352,014. That is, the exposed silver halide is developed, but the unexposed silver halide is dissolved in a soluble silver complex salt forming agent and transferred to the image receiving layer as a soluble silver complex salt. By depositing as silver, a positive silver image pattern is formed. Specifically, the silver halide grains in the image area which is an unexposed area are dissolved as a soluble silver complex salt by the soluble silver complex forming agent, and the soluble silver complex salt diffused to the vicinity of the physical development nucleus is reduced by a reducing agent such as hydroquinone, Deposited as metallic silver on the physical development nuclei. On the other hand, the silver halide grains in the exposed area remain in the silver halide emulsion layer and are reduced in situ by the action of the reducing agent. When the developed silver salt light-sensitive material is washed with water, the exposed silver is washed away together with the silver halide emulsion layer that is no longer needed, while the silver deposited in the vicinity of the physical development nuclei is exposed by washing with water, and a light-transmitting support. A fine metal wire 12 formed of a metal 13 made of silver that is not held by a binder is obtained.

銀塩拡散転写法に用いる導電材料前駆体の物理現像核層について説明する。物理現像核層は、物理現像核を少なくとも含有する。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子(平均粒子径は1〜数十nm程度)が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられるが、銀コロイドおよび硫化パラジウムが好ましい。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で1平方メートルあたり0.1〜10mg程度が好ましい。   The physical development nucleus layer of the conductive material precursor used in the silver salt diffusion transfer method will be described. The physical development nuclei layer contains at least physical development nuclei. As the physical development nuclei, fine particles (average particle diameter of about 1 to several tens of nanometers) made of heavy metal or sulfide thereof are used. Examples thereof include colloids such as gold and silver, metal sulfides obtained by mixing water-soluble salts such as palladium and zinc and sulfides, and silver colloids and palladium sulfide are preferable. The content of physical development nuclei in the physical development nuclei layer is preferably about 0.1 to 10 mg per square meter in solid content.

他に物理現像核層が含有していてもよい物質としては、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、無水マレイン酸とスチレンの共重合体等、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリリジン等のタンパク質、カラギーナン、ヒアルロン酸等のムコ多糖類、「高分子の化学反応」(大河原 信著 1972、化学同人社)2.6.4章記載のアミノ化セルロース、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリジアリルアミン、アリルアミンとジアリルアミンの共重合体、ジアリルアミンと無水マレイン酸との共重合体、ジアリルアミンと二酸化硫黄との共重合体等の高分子化合物や、酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、メタクリロニトリル、ブタジエン、イソプレン等の単独重合樹脂、エチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・p−メトオキシスチレン共重合体、スチレン・酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル・マレイン酸ジエチル共重合体、メチルメタクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルメタクリレート・ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・酢酸ビニル共重合体、メチルメタクリレート・塩化ビニリデン共重合体、メチルアクリレート・アクリロニトリル共重合体、メチルアクリレート・ブタジエン共重合体、メチルアクリレート・スチレン共重合体、メチルアクリレート・酢酸ビニル共重合体、アクリル酸・ブチルアクリレート共重合体、メチルアクリレート・塩化ビニル共重合体、ブチルアクリレート・スチレン共重合体、ポリエステル、各種ウレタン等の共重合樹脂が例示できる。上記した高分子化合物や樹脂の中でも、アミノ基を有する高分子化合物もしくは樹脂を用いることが、光透過性支持体に対する金属細線の接着性、導電性の観点から好ましい。   Other substances that the physical development nucleus layer may contain include polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, a copolymer of maleic anhydride and styrene, gelatin, albumin, casein, polylysine, etc. Mucopolysaccharides such as protein, carrageenan, hyaluronic acid, aminated cellulose, polyethyleneimine, polyallylamine, polydiallylamine described in Chapter 2.6.4, “Chemical Reaction of Polymer” (Nobu Okawara, 1972, Chemical Dojinsha), Polymer compounds such as copolymers of allylamine and diallylamine, copolymers of diallylamine and maleic anhydride, copolymers of diallylamine and sulfur dioxide, vinyl acetate, vinyl chloride, styrene, methyl acrylate, butyl acrylate, methacrylate Ronitrile, butadiene , Homopolymer resins such as isoprene, ethylene / butadiene copolymer, styrene / butadiene copolymer, styrene / p-methoxystyrene copolymer, styrene / vinyl acetate copolymer, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, Vinyl acetate / diethyl maleate copolymer, methyl methacrylate / acrylonitrile copolymer, methyl methacrylate / butadiene copolymer, methyl methacrylate / styrene copolymer, methyl methacrylate / vinyl acetate copolymer, methyl methacrylate / vinylidene chloride copolymer Polymer, methyl acrylate / acrylonitrile copolymer, methyl acrylate / butadiene copolymer, methyl acrylate / styrene copolymer, methyl acrylate / vinyl acetate copolymer, acrylic acid / butyl acrylate copolymer, methyl acrylate Rate chloride copolymer, butyl acrylate-styrene copolymer, a polyester, a copolymer resin of various urethane and the like. Among the above-described polymer compounds and resins, it is preferable to use a polymer compound or resin having an amino group from the viewpoints of adhesion of thin metal wires to the light-transmitting support and conductivity.

物理現像核層が高分子化合物を含有する場合、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤は特に限定されず、クロム明ばん等の無機化合物、ホルムアルデヒド、グリオキサール、マロンアルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド類、尿素やエチレン尿素等のN−メチロール化合物、ムコクロル酸、2,3−ジヒドロキシ−1,4−ジオキサンのようなアルデヒド等価体、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン塩や、2,4−ジヒドロキシ−6−クロロ−トリアジン塩のような活性ハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、ジビニルケトンやN,N,N−トリアクリロイルヘキサヒドロトリアジン、活性な三員環であるエチレンイミノ基を二個以上有する化合物、エポキシ基を分子中に二個以上有する化合物類、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテルやポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等、あるいはこれら以外に「高分子の化学反応」(大河原 信著 1972、化学同人社)の2・6・7章、5・2章、9・3章等記載の架橋剤等の公知の架橋剤が例示できる。エポキシ基を分子中に二個以上有する化合物を架橋剤として用いることが光透過性支持体に対する金属細線の接着性、導電性の観点から好ましい。   When the physical development nucleus layer contains a polymer compound, it preferably contains a crosslinking agent. The crosslinking agent is not particularly limited, inorganic compounds such as chromium alum, aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, malonaldehyde, glutaraldehyde, N-methylol compounds such as urea and ethylene urea, mucochloric acid, 2,3-dihydroxy Aldehyde equivalents such as -1,4-dioxane, compounds having an active halogen such as 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine salt and 2,4-dihydroxy-6-chloro-triazine salt, Divinyl sulfone, divinyl ketone, N, N, N-triacryloylhexahydrotriazine, compounds having two or more active three-membered ethyleneimino groups, compounds having two or more epoxy groups in the molecule, for example, Sorbitol polyglycidyl ether and polyglycerol polyglycidyl -Diterpolyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, etc., or other “chemical reaction of polymer” (Nobu Okawara 1972, Kagaku Dojinsha) Examples of known crosslinking agents such as the crosslinking agents described in Chapters 6 and 7, Chapters 5 and 2, and Chapters 9 and 3 can be given. It is preferable to use a compound having two or more epoxy groups in the molecule as a cross-linking agent from the viewpoints of adhesion of thin metal wires to the light-transmitting support and electrical conductivity.

銀塩拡散転写法に用いる導電材料前駆体のハロゲン化銀乳剤層が含有するハロゲン化銀乳剤のハロゲン化物組成には好ましい範囲が存在し、塩化物を80モル%以上含有するのが好ましく、90モル%以上が塩化物であることが特に好ましい。このようなハロゲン化物組成とすることにより、可溶性銀錯塩形成剤が作用した際にハロゲン化銀粒子の溶解性が高まるため好ましい。   There is a preferred range in the halide composition of the silver halide emulsion contained in the silver halide emulsion layer of the conductive material precursor used in the silver salt diffusion transfer method, and it is preferable to contain 80 mol% or more of chloride, 90 It is particularly preferable that the mol% or more is chloride. Such a halide composition is preferable because the solubility of silver halide grains is enhanced when a soluble silver complex salt forming agent acts.

銀塩拡散転写法に用いる導電材料前駆体は、上記した物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層との間に、高分子化合物を含有する中間層を設けることが好ましい。該中間層は架橋剤を含有しない層であり、このような中間層を設けることによって現像後のハロゲン化銀乳剤層の水洗除去性が向上する。なおこの中間層はハロゲン化銀乳剤層よりも光透過性支持体に近い側に位置するが、可溶性銀錯塩は物理現像核近傍で析出すること、また現像後の水洗により中間層は除去されることから、この方法により得られる光透過性電極に該中間層は存在しない。中間層が含有する高分子化合物としては、物理現像核層が含有していてもよい高分子化合物が例示できるが、特に限定されない。   The conductive material precursor used in the silver salt diffusion transfer method is preferably provided with an intermediate layer containing a polymer compound between the physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer. The intermediate layer is a layer that does not contain a crosslinking agent. By providing such an intermediate layer, the water-removability of the silver halide emulsion layer after development is improved. Although this intermediate layer is located closer to the light-transmitting support than the silver halide emulsion layer, the soluble silver complex salt precipitates in the vicinity of the physical development nucleus, and the intermediate layer is removed by washing with water after development. Therefore, the intermediate layer does not exist in the light transmissive electrode obtained by this method. Examples of the polymer compound contained in the intermediate layer include, but are not particularly limited to, polymer compounds that the physical development nucleus layer may contain.

未露光部のハロゲン化銀を溶解する可溶性銀錯塩形成剤は、現像液が含有する。このような可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウムやチオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウムやチオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、オキサゾリドン類、2−メルカプト安息香酸およびその誘導体、ウラシルのような環状イミド類、アルカノールアミン、ジアミン、特開平9−171257号公報に記載のメソイオン性化合物、USP5,200,294に記載のようなチオエーテル類、5,5−ジアルキルヒダントイン類、アルキルスルホン類、他に、「The Theory of the photographic Process(4th edition,p474〜475)」、T.H.James著に記載されている化合物が挙げられる。   The developer contains a soluble silver complex salt-forming agent that dissolves unexposed silver halide. Such soluble silver complex salt forming agents include thiosulfates such as sodium thiosulfate and ammonium thiosulfate, thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, sulfites such as sodium sulfite and potassium bisulfite, Oxazolidones, 2-mercaptobenzoic acid and derivatives thereof, cyclic imides such as uracil, alkanolamines, diamines, mesoionic compounds described in JP-A-9-171257, thioethers as described in USP 5,200,294 , 5,5-dialkylhydantoins, alkylsulfones, “The Theory of the Photographic Process (4th edition, p474-475)”, T. et al. H. Examples include compounds described in James.

これらの可溶性銀錯塩形成剤の中でも特に、アルカノールアミンが好ましい。アルカノールアミンを含有した処理液で現像を行い得られた金属細線は比較的低い抵抗値を有する。該アルカノールアミンとしては、例えばN−(2−アミノエチル)エタノールアミン、ジエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エタノールアミン、4−アミノブタノール、N,N−ジメチルエタノールアミン、3−アミノプロパノール、N−エチル−2,2′−イミノジエタノール、2−メチルアミノエタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール等が挙げられる。   Among these soluble silver complex salt forming agents, alkanolamine is particularly preferable. A fine metal wire obtained by development with a processing solution containing an alkanolamine has a relatively low resistance value. Examples of the alkanolamine include N- (2-aminoethyl) ethanolamine, diethanolamine, N-methylethanolamine, triethanolamine, N-ethyldiethanolamine, diisopropanolamine, ethanolamine, 4-aminobutanol, N, N -Dimethylethanolamine, 3-aminopropanol, N-ethyl-2,2'-iminodiethanol, 2-methylaminoethanol, 2-amino-2-methyl-1-propanol and the like.

銀塩拡散転写法に用いる現像液が含有する還元剤としては、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、アスコルビン酸およびその誘導体、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等の3−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等、公知の還元剤を用いることができる。これらの還元剤は単独で、または複数組み合わせて使用することができる。銀塩拡散転写法に用いる現像液はその他に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ剤、リン酸、炭酸等のpH緩衝剤を単独、または組み合わせて含有できる他、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸カリウム等の保恒剤を含有できる。   The reducing agent contained in the developer used in the silver salt diffusion transfer method includes hydroquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, chlorohydroquinone and other polyhydroxybenzenes, ascorbic acid and its derivatives, 1-phenyl-4,4-dimethyl. 3-pyrazolidones such as -3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, para A known reducing agent such as phenylenediamine can be used. These reducing agents can be used alone or in combination. The developer used for the silver salt diffusion transfer method can contain other alkali agents such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, pH buffering agents such as phosphoric acid and carbonic acid alone or in combination, sodium sulfite, potassium sulfite, etc. Of preservatives.

次に、前述した図1の(1−3)の光透過性電極を作製するための第2の方法である無電解めっき金属細線形成法について説明する。   Next, an electroless plated metal fine wire forming method, which is a second method for producing the above-described light transmissive electrode shown in FIG. 1 (1-3), will be described.

無電解めっき金属細線形成法では、光透過性支持体上に水溶性高分子化合物、架橋剤及び金属硫化物を含有する下地層と、感光性レジスト層をこの順に有する積層体を導電材料前駆体として用いる。   In the electroless-plated metal fine wire forming method, a conductive material precursor is formed of a laminate having a base layer containing a water-soluble polymer compound, a crosslinking agent and a metal sulfide on a light-transmitting support, and a photosensitive resist layer in this order. Used as

下地層が含有する水溶性高分子化合物としては水溶性のアニオン性高分子化合物、ノニオン性高分子化合物、及び両性高分子化合物等が挙げられる。アニオン性高分子化合物としては、天然由来の化合物、あるいは半合成品、もしくは合成された化合物のいずれでも用いることができ、例えば−COO基、−SO 基等を有するものが挙げられる。具体的な水溶性のアニオン性高分子化合物としては、天然由来の化合物としてはアラビアゴム、アルギン酸、ペクチン等が挙げられ、半合成品としてはカルボキシメチルセルロース、フタル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、硫酸化デンプン、硫酸化セルロース、リグニンスルホン酸等が挙げられる。また、合成品としては無水マレイン酸系(加水分解したものも含む)共重合体、アクリル酸系(メタクリル酸系も含む)重合体及び共重合体、ビニルベンゼンスルホン酸系重合体及び共重合体、カルボキシ変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水溶性のノニオン性高分子化合物としては、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース等が挙げられる。水溶性の両性高分子化合物としてはゼラチン等が挙げられる。 Examples of the water-soluble polymer compound contained in the underlayer include a water-soluble anionic polymer compound, a nonionic polymer compound, and an amphoteric polymer compound. The anionic polymeric compounds, naturally occurring compounds, or semi-synthetic, or can be used in any of the synthesized compounds, for example, -COO - group, -SO 3 - include those having a group. Specific examples of water-soluble anionic polymer compounds include gum arabic, alginic acid, pectin and the like as naturally derived compounds, and gelatin derivatives such as carboxymethyl cellulose and phthalated gelatin, sulfated starch as semi-synthetic products. , Sulfated cellulose, lignin sulfonic acid and the like. Synthetic products include maleic anhydride (including hydrolyzed) copolymers, acrylic acid (including methacrylic acid) polymers and copolymers, vinyl benzene sulfonic acid polymers and copolymers. And carboxy-modified polyvinyl alcohol. Examples of the water-soluble nonionic polymer compound include polyvinyl alcohol, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose and the like. Examples of the water-soluble amphoteric polymer compound include gelatin.

上記した水溶性高分子化合物の中でも、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビニルアルコールを用いた場合、優れた接着性に加え、とりわけ優れた導電性を有する金属細線が得られるため好ましい。ポリビニルアルコールは下地層の皮膜形成性及び皮膜強靱性の観点から、完全または部分鹸化されたポリビニルアルコールが好ましく、中でも鹸化度が80%以上のポリビニルアルコールが特に好ましい。また、ポリビニルアルコールの平均重合度は500〜6000が好ましく、1000〜5000がより好ましい。本発明で用いられるポリビニルアルコールとしては、一般的なポリビニルアルコールに加え、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール及びその他ポリビニルアルコールの誘導体も含まれる。ポリビニルアルコールは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Among the water-soluble polymer compounds described above, gelatin, gelatin derivatives, and polyvinyl alcohol are preferable. Particularly, when polyvinyl alcohol is used, a metal fine wire having particularly excellent conductivity is obtained in addition to excellent adhesiveness, which is preferable. Polyvinyl alcohol is preferably completely or partially saponified polyvinyl alcohol from the viewpoint of film formation and film toughness of the underlayer, and particularly preferably polyvinyl alcohol having a saponification degree of 80% or more. Moreover, 500-6000 are preferable and, as for the average degree of polymerization of polyvinyl alcohol, 1000-5000 are more preferable. The polyvinyl alcohol used in the present invention includes, in addition to general polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol, and other polyvinyl alcohol derivatives. Polyvinyl alcohol may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

なお、上記した水溶性高分子化合物の水溶性とは、25℃における水に対する溶解量が少なくとも0.5質量%以上であることを意味し、好ましくは5質量%以上である。下地層における水溶性高分子化合物の含有量は、固形分として1〜1000mg/mが好ましく、より好ましくは5〜200mg/mである。 The water solubility of the above water-soluble polymer compound means that the amount dissolved in water at 25 ° C. is at least 0.5 mass%, preferably 5 mass% or more. The content of the water-soluble polymer compound in the underlayer is preferably 1 to 1000 mg / m 2 as solid content, more preferably from 5 to 200 mg / m 2.

無電解めっき金属細線形成法で用いる導電材料前駆体の下地層は、上記した水溶性高分子化合物以外に、ウレタン樹脂を含有することが下地層の強靱性の観点、金属細線の導電性の観点から好ましい。ウレタン樹脂としては、ポリエーテルポリオールとポリイソシアネートから合成されたポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリオールとポリイソシアネートから合成されたポリエーテル系ウレタン樹脂が例示でき、いずれも好ましく用いることができる。なお該ウレタン樹脂は、水分散物(エマルション)を利用することが好ましい。   In addition to the water-soluble polymer compound described above, the base layer of the conductive material precursor used in the electroless plating fine metal wire forming method contains a urethane resin from the viewpoint of toughness of the base layer, and from the viewpoint of the conductivity of the fine metal wire To preferred. Examples of the urethane resin include polyether-based urethane resins synthesized from polyether polyol and polyisocyanate, and polyether-based urethane resins synthesized from polycarbonate polyol and polyisocyanate, and any of them can be preferably used. The urethane resin is preferably an aqueous dispersion (emulsion).

無電解めっき金属細線形成法で用いる導電材料前駆体の下地層が含有する架橋剤としては、前記した物理現像核層が含有していてもよい架橋剤を例示できる。金属細線の導電性の観点から、架橋剤としてアルデヒド化合物を用いることが好ましく、グリオキサール、マロンアルデヒド、グルタルアルデヒド等の多価アルデヒド化合物が特に好ましい。下地層における架橋剤の含有量は、水溶性高分子化合物の固形分量に対して1〜200質量%であることが好ましい。   Examples of the crosslinking agent contained in the base layer of the conductive material precursor used in the electroless plating fine metal wire forming method include the crosslinking agent that may be contained in the physical development nucleus layer. From the viewpoint of electrical conductivity of the fine metal wire, an aldehyde compound is preferably used as the crosslinking agent, and polyvalent aldehyde compounds such as glyoxal, malonaldehyde, and glutaraldehyde are particularly preferable. The content of the crosslinking agent in the underlayer is preferably 1 to 200% by mass with respect to the solid content of the water-soluble polymer compound.

無電解めっき金属細線形成法で用いる導電材料前駆体の下地層が含有する金属硫化物は、主に重金属の硫化物の微粒子(粒子サイズは1〜数十nm程度)である。金属硫化物としては、例えば、金、銀等のコロイド粒子や、パラジウム、亜鉛、スズ等の水溶性塩と硫化物を反応させて得られた金属硫化物が例示できる。下地層の金属硫化物の含有量は、固形分として0.1〜10mg/mであることが好ましい。 The metal sulfide contained in the base layer of the conductive material precursor used in the electroless plating fine metal wire forming method is mainly heavy metal sulfide fine particles (particle size is about 1 to several tens of nm). Examples of metal sulfides include colloidal particles such as gold and silver, and metal sulfides obtained by reacting sulfides with water-soluble salts such as palladium, zinc, and tin. The content of the metal sulfide in the underlayer is preferably 0.1 to 10 mg / m 2 as a solid content.

無電解めっき金属細線形成法で用いる導電材料前駆体の感光性レジスト層が含有する感光性レジストについて説明する。感光性レジストとは、露光により水や各種有機溶媒から構成される現像液に対する溶解性が変化する物質として広く知られている組成物を利用することができる。感光性レジストとしては、露光により現像液に対する溶解性が低下するネガ型と、露光により逆に現像液に対する溶解性が増大するポジ型が知られている。下地層との接触による感光性能の経時変化を防ぐ観点、より微細な金属細線を得る観点から、ポジ型感光性レジストを用いることが特に好ましい。   The photosensitive resist contained in the photosensitive resist layer of the conductive material precursor used in the electroless plated metal fine wire forming method will be described. As the photosensitive resist, it is possible to use a composition widely known as a substance whose solubility in a developer composed of water or various organic solvents changes upon exposure. As the photosensitive resist, there are known a negative type in which the solubility in a developer is lowered by exposure and a positive type in which the solubility in a developer is increased by exposure. From the viewpoint of preventing the temporal change in the photosensitive performance due to contact with the underlayer and from the viewpoint of obtaining finer fine metal wires, it is particularly preferable to use a positive photosensitive resist.

ポジ型感光性レジストとしては、露光により溶解可能となった部分を、アルカリ性化合物を含有する水系現像液で溶解除去できる公知のポジ型感光性レジストが好ましく用いられる。特にキノンジアジド系ポジ型フォトレジストが好ましい。キノンジアジド系ポジ型フォトレジストは、アルカリ可溶性樹脂と光分解成分であるフォトセンシタイザーを含有する。アルカリ可溶性樹脂としてはクレゾールノボラック樹脂が好ましく、フォトセンシタイザーとしてはナフトキノンジアジドスルホン酸エステルが好ましい。   As the positive photosensitive resist, a known positive photosensitive resist capable of dissolving and removing a portion that can be dissolved by exposure with an aqueous developer containing an alkaline compound is preferably used. A quinonediazide positive photoresist is particularly preferable. The quinonediazide-based positive photoresist contains an alkali-soluble resin and a photosensitizer that is a photodecomposition component. The alkali-soluble resin is preferably a cresol novolak resin, and the photosensitizer is preferably a naphthoquinone diazide sulfonate ester.

水系現像液が含有するアルカリ化合物としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、n−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−n−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミノアルコール類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等を例示できる。水系現像液は、界面活性剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。   Examples of the alkaline compound contained in the aqueous developer include inorganic alkalis such as sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium silicate, sodium metasilicate, and aqueous ammonia, and primary amines such as ethylamine and n-propylamine. Secondary amines such as diethylamine and di-n-butylamine, tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine, amino alcohols such as dimethylethanolamine and triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, etc. And quaternary ammonium salts, cyclic amines such as pyrrole and piperidine, and the like. The aqueous developer may contain a known additive such as a surfactant.

感光性レジスト層は、上記した感光性レジスト以外に、例えば強靱性を向上させる目的で、アルカリ可溶性樹脂と相溶性のあるエポキシ樹脂やアクリル樹脂、可塑剤としてのポリビニルエーテル類、その他安定剤、レベリング剤、染料、顔料等を含有していてもよい。   In addition to the above-described photosensitive resist, the photosensitive resist layer is, for example, an epoxy resin or acrylic resin compatible with an alkali-soluble resin, a polyvinyl ether as a plasticizer, other stabilizers, leveling for the purpose of improving toughness. Agents, dyes, pigments and the like may be contained.

上記した感光性レジスト層を露光後、現像し、レジスト画像を形成すると、レジスト画像に被覆されない下地層が露出する。無電解めっき金属細線形成法では、この露出した下地層に無電解めっきを施す。かかる無電解めっき法としては銅めっき、ニッケルめっき、亜鉛めっき、スズめっき、銀めっき等の公知の無電解めっき法を用いることができるが、その中でも、金属細線の導電性の観点から無電解銀めっき法が好ましい。   When the above-described photosensitive resist layer is exposed and developed to form a resist image, the underlying layer not covered with the resist image is exposed. In the electroless plating metal wire forming method, electroless plating is applied to the exposed underlayer. As the electroless plating method, known electroless plating methods such as copper plating, nickel plating, zinc plating, tin plating, silver plating, etc. can be used. Among them, electroless silver is used from the viewpoint of conductivity of fine metal wires. Plating is preferred.

無電解銀めっき法としては、例えば硝酸銀及びアンモニアを含むアンモニア性硝酸銀溶液と、還元剤及び強アルカリ成分を含む還元剤溶液の2液を、露出した下地層の表面上で混合されるように付与し酸化還元反応によって該下地層上に金属銀を析出させる方法が挙げられる。   As an electroless silver plating method, for example, two solutions of an ammoniacal silver nitrate solution containing silver nitrate and ammonia and a reducing agent solution containing a reducing agent and a strong alkali component are applied so as to be mixed on the surface of the exposed underlayer. An example is a method in which metallic silver is deposited on the underlayer by a redox reaction.

還元剤溶液としては、グルコース、グリオキザール等のアルデヒド化合物、硫酸ヒドラジン、炭酸ヒドラジンまたはヒドラジン水和物等のヒドラジン化合物等の還元剤と、水酸化ナトリウムに代表される強アルカリ成分を含有する還元剤溶液が挙げられ、かかる還元剤溶液は、亜硫酸ナトリウムやチオ硫酸ナトリウム等を含有してもよい。   As the reducing agent solution, a reducing agent solution containing a reducing agent such as an aldehyde compound such as glucose or glyoxal, a hydrazine compound such as hydrazine sulfate, hydrazine carbonate or hydrazine hydrate, and a strong alkali component typified by sodium hydroxide. Such a reducing agent solution may contain sodium sulfite, sodium thiosulfate, or the like.

アンモニア性硝酸銀溶液は、金属細線パターンの導電性の観点から、添加剤を含有することが好ましい。添加剤としては、モノエタノールアミン、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、1−アミノ−2−プロパノール、2−アミノ−1−プロパノール、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等のアミノアルコール化合物、グリシン、アラニン、グリシンナトリウム等のアミノ酸またはその塩等が例示できる。   The ammoniacal silver nitrate solution preferably contains an additive from the viewpoint of the conductivity of the fine metal wire pattern. As additives, monoethanolamine, tris (hydroxymethyl) aminomethane, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 1-amino-2-propanol, 2-amino-1-propanol, diethanolamine And amino alcohol compounds such as diisopropanolamine, triethanolamine and triisopropanolamine, and amino acids such as glycine, alanine and sodium glycine or salts thereof.

アンモニア性硝酸銀溶液と還元剤溶液の2液を、任意のパターンを有するレジスト画像が形成された導電材料前駆体の表面上で混合されるように付与する方法としては、2液をあらかじめ混合し、この混合液にレジスト画像が形成された導電材料前駆体を浸漬する方法、2液をあらかじめ混合し、この混合液をスプレーガン等を用いてレジスト画像が形成された導電材料前駆体の表面に吹き付ける方法、スプレーガンのヘッド内で2液を混合して直ちに吐出する構造を有する同芯スプレーガンを用いて吹き付ける方法、2液を2つのスプレーノズルを持つ双頭スプレーガンから各々吐出させ吹き付ける方法、2液を2つの別々のスプレーガンを用いて、同時に吹き付ける方法等があり、いずれも好ましく用いることができる。2液をあらかじめ混合して用いる場合、混合後の液の安定性の観点から、混合後の液を速やかに任意のパターンを有するレジスト画像が形成された導電材料前駆体の表面に付与することが特に好ましい。   As a method of applying two liquids of an ammoniacal silver nitrate solution and a reducing agent solution so as to be mixed on the surface of the conductive material precursor on which a resist image having an arbitrary pattern is formed, the two liquids are mixed in advance, A method of immersing a conductive material precursor on which a resist image has been formed in this mixed liquid. Two liquids are mixed in advance, and this mixed liquid is sprayed onto the surface of the conductive material precursor on which the resist image has been formed using a spray gun or the like. A method of spraying using a concentric spray gun having a structure in which two liquids are mixed and immediately discharged in the head of the spray gun, and a method of spraying and spraying two liquids from a double-head spray gun having two spray nozzles. There is a method of spraying the liquid simultaneously using two separate spray guns, and any of them can be preferably used. When two liquids are mixed in advance, from the viewpoint of the stability of the liquid after mixing, the liquid after mixing can be quickly applied to the surface of the conductive material precursor on which a resist image having an arbitrary pattern is formed. Particularly preferred.

無電解めっき後に残ったレジスト画像は、用いた感光性レジスト層が含有する感光性レジストに適した公知の剥離液を用いて除去する。剥離液としては、一般的にはレジスト画像を膨潤させる有機溶剤や、アルカリ性水溶液が用いられる。環境負荷低減の観点からは、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液が含有するアルカリ性化合物としては、水系現像液の主成分として上記したアルカリ性化合物を例示できる。剥離液は、界面活性剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。   The resist image remaining after electroless plating is removed using a known stripping solution suitable for the photosensitive resist contained in the used photosensitive resist layer. As the stripping solution, an organic solvent that swells the resist image or an alkaline aqueous solution is generally used. From the viewpoint of reducing environmental load, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. Examples of the alkaline compound contained in the aqueous alkaline solution include the alkaline compounds described above as the main component of the aqueous developer. The stripping solution may contain a known additive such as a surfactant.

本発明では、時間経過による金属細線の抵抗値上昇を改善する目的で、金属細線を形成後、特開2008−34366号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよい。あるいは本発明の調光層と金属細線との接着性を向上させる目的で、特開2007−12404号公報に記載されているように、金属細線をタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理してもよく、金属細線の金属反射を低下させ視認性を低下させるため、例えば特開2011−209626号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。   In the present invention, for the purpose of improving the resistance value increase of the fine metal wire over time, after forming the fine metal wire, a reducing substance, a water-soluble phosphorus oxo acid compound, a water-soluble compound as described in JP-A-2008-34366 A functional halogen compound may be allowed to act. Alternatively, for the purpose of improving the adhesion between the light control layer of the present invention and the fine metal wire, the metal fine wire is treated with a treatment liquid containing an enzyme such as a proteolytic enzyme as described in JP-A-2007-12404. In order to reduce the metal reflection of the fine metal wires and reduce the visibility, for example, as described in JP 2011-209626 A, a blackening treatment by a sulfurization reaction may be performed.

光透過性電極が有する金属細線パターンについて説明する。金属細線パターンはいかなる幾何学形状を取ることもできるが、本発明の目的を達するために、少なくともその一部において、極細線からなるメッシュ状やストライプ状の、全体として見た場合、光透過性と導電性を両方とも兼備する形状、パターンを有することが好ましい。かかる細線パターンとしては例えば、正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形等の(正)n角形、円、楕円、星形等を組み合わせた繰り返しパターンでありこれらの単位の単独の繰り返しあるいは2種類以上の組み合わせパターン等を用いることができる。また、辺が直線でなくとも例えばジグザグ線、波線等で構成されていてもよい。さらに特開2002−223095号公報で開示されているような、ストライプ状、煉瓦積み模様状のパターン、あるいは特開2011−216377号公報、特開2013−37683号公報等に記載されるランダム図形も用いることができる。金属細線パターンを構成する金属細線の線幅は20μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下である。金属細線の厚みとしては、厚すぎると該光透過性電極と調光層との間に泡が入る等のトラブルが発生しやすくなるが、一方で薄すぎると導電性が不足する。よって、金属細線の好ましい厚みは0.01〜3μmであり、さらに好ましくは0.05〜1μmである。   The thin metal wire pattern of the light transmissive electrode will be described. The fine metal line pattern can take any geometrical shape, but in order to achieve the object of the present invention, at least a part of the fine metal line pattern, such as a mesh shape or a stripe shape, is considered to be light transmissive as a whole. It is preferable to have a shape and a pattern that have both conductivity and conductivity. Examples of such fine line patterns include triangles such as regular triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, etc., (positive) hexagons, (positive) octagons, (positive) Repetitive patterns combining (positive) n-gons such as dodecagons, (positive) icosahedrons, circles, ellipses, stars, etc., and these units may be used alone or in combination of two or more types. Can do. Further, even if the side is not a straight line, it may be constituted by, for example, a zigzag line or a wavy line. Furthermore, stripes and brickwork patterns as disclosed in JP-A-2002-223095, or random figures described in JP-A-2011-216377, JP-A-2013-37683, etc. Can be used. The line width of the fine metal wires constituting the fine metal line pattern is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less. If the thickness of the thin metal wire is too thick, troubles such as bubbles are likely to occur between the light-transmitting electrode and the light control layer, but if it is too thin, the conductivity is insufficient. Therefore, the preferable thickness of the fine metal wire is 0.01 to 3 μm, and more preferably 0.05 to 1 μm.

次に、本発明の調光フィルムを構成する調光層、および本発明の調光フィルムが有するもう一方の光透過性電極について図を用いて説明する。図2は、前記した図1の(1−1)あるいは(1−3)で示した金属細線を有する調光フィルムの一例の概略断面図である。図3は、上記した図1の(1−2)で示した金属細線を有する調光フィルムの一例の概略断面図である。本発明において調光層は液晶化合物と、バインダー樹脂と、含窒素複素環化合物を含有する高分子分散型液晶体であり、本発明において高分子分散型液晶体とは、図2、および図3において示すように、液晶化合物相42がバインダー樹脂相43中に分散している構造体であることを意味する。なお高分子分散型液晶体中、含窒素複素環化合物は、液晶化合物相42および/またはバインダー樹脂相43が含有する。本発明の調光フィルムが有するもう一方の光透過性電極44は、図1の(1−1)〜(1−3)で示した光透過性電極以外に、後述するように、光透過性支持体上にITO等の金属酸化物、ポリチオフェン等の導電性ポリマー、グラフェン、等の公知の非金属導電性膜を有するものであってもよい。本発明において、一対の光透過性電極の間に調光層を有するとは、図2、および図3において示すように、光透過性支持体上に金属細線パターンを有する光透過性電極の金属細線パターンと、もう一方の光透過性電極44が有する金属細線パターンまたは非金属導電性膜とが、調光層と接する形で、調光層を挟んだ状態を意味する。   Next, the light control layer which comprises the light control film of this invention, and the other light transmissive electrode which the light control film of this invention has is demonstrated using figures. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a light control film having the fine metal wires shown in (1-1) or (1-3) of FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an example of a light control film having the fine metal wires shown in FIG. In the present invention, the light control layer is a polymer dispersed liquid crystal body containing a liquid crystal compound, a binder resin, and a nitrogen-containing heterocyclic compound. In the present invention, the polymer dispersed liquid crystal body is shown in FIGS. Means that the liquid crystal compound phase 42 is a structure dispersed in the binder resin phase 43. In the polymer dispersed liquid crystal, the nitrogen-containing heterocyclic compound is contained in the liquid crystal compound phase 42 and / or the binder resin phase 43. The other light transmissive electrode 44 which the light control film of this invention has is light transmissive so that it may mention later other than the light transmissive electrode shown by (1-1)-(1-3) of FIG. A known non-metallic conductive film such as a metal oxide such as ITO, a conductive polymer such as polythiophene, or graphene may be provided on the support. In the present invention, having a light control layer between a pair of light transmissive electrodes means that the metal of the light transmissive electrode has a fine metal wire pattern on a light transmissive support as shown in FIGS. This means that the fine line pattern and the metal fine line pattern or non-metal conductive film of the other light-transmitting electrode 44 are in contact with the dimming layer and sandwich the dimming layer.

本発明の調光フィルムの調光層41を構成する高分子分散型液晶体について説明する。前述のとおり、高分子分散型液晶体において液晶化合物相は、バインダー樹脂相中に分散されており、図2、および図3では球状の液晶化合物相42が、バインダー樹脂相43に分散されている例を示したが、その形状はこれに限定されるものではなく、例えば特許文献1に記載されているような、バインダー樹脂相中に液晶化合物相が不連続な液滴状に存在する、いわゆるPolymer Dispersed Liquid Crystal構造(以下PDLC構造)や、特許文献2に記載されているような、バインダー樹脂相中に液晶化合物相が連続的なネットワーク状に存在する、いわゆるPolymer Network Liquid Crystal構造(以下PNLC構造)として例示されるいずれの構造も好ましく用いることができる。調光層41は、PDLC構造とPNLC構造の両者が混在して構成されていてもよい。バインダー樹脂相中に液晶化合物相が不連続な液滴状に存在するPDLC構造の方が、調光フィルム破損時等の液晶化合物流失可能性が低く、取り扱い易いため好ましい。   The polymer dispersed liquid crystal constituting the light control layer 41 of the light control film of the present invention will be described. As described above, in the polymer dispersion type liquid crystal, the liquid crystal compound phase is dispersed in the binder resin phase, and the spherical liquid crystal compound phase 42 is dispersed in the binder resin phase 43 in FIGS. Although an example is shown, the shape is not limited to this, for example, as described in Patent Document 1, a liquid crystal compound phase exists in a discontinuous droplet form in a binder resin phase, so-called Polymer Dispersed Liquid Crystal structure (hereinafter referred to as PDLC structure) or a so-called Polymer Network Liquid Crystal structure (hereinafter referred to as PNLC) in which a liquid crystal compound phase is present in a continuous network in the binder resin phase as described in Patent Document 2. Any structure exemplified as (structure) is preferably used It can be. The light control layer 41 may be configured by mixing both the PDLC structure and the PNLC structure. The PDLC structure in which the liquid crystal compound phase is present in the form of discontinuous droplets in the binder resin phase is preferable because the liquid crystal compound is less likely to be lost when the light control film is broken and is easy to handle.

高分子分散型液晶体の形成方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。その中でも以下に示す形成方法が容易であり、均一な調光層を有する調光フィルムが得られるため特に好ましい。まず、液晶化合物と、液状のモノマーやオリゴマーと、重合開始剤と、含窒素複素環化合物とを含有せしめた液状調光層形成材料を作製する。次に、該液状調光層形成材料を光透過性電極上に塗布する。そして光や熱により、光透過性電極上に塗布したモノマーやオリゴマーを重合させてバインダー樹脂相43を形成する。該バインダー樹脂相43を形成する工程でバインダー樹脂と液晶化合物は相分離し、PDLC構造やPNLC構造が形成される。光の照射によりモノマーやオリゴマーを重合させることが、バインダー樹脂相と液晶化合物相との相分離が温度変化により不均一化する危険性を抑制できるため、調光フィルムの生産性、均一性の観点から特に好ましい。   The method for forming the polymer dispersed liquid crystal is not particularly limited, and a known method can be used. Among them, the formation method shown below is easy, and a light control film having a uniform light control layer is obtained, which is particularly preferable. First, a liquid light control layer forming material containing a liquid crystal compound, a liquid monomer or oligomer, a polymerization initiator, and a nitrogen-containing heterocyclic compound is prepared. Next, the liquid light control layer forming material is applied onto the light transmissive electrode. The binder resin phase 43 is formed by polymerizing the monomer or oligomer applied on the light transmissive electrode by light or heat. In the step of forming the binder resin phase 43, the binder resin and the liquid crystal compound are phase-separated to form a PDLC structure or a PNLC structure. By polymerizing monomers and oligomers by light irradiation, the risk of phase separation between the binder resin phase and the liquid crystal compound phase becoming non-uniform due to temperature changes can be suppressed. Is particularly preferred.

液晶化合物としては公知の液晶化合物を用いることができる。例えばネマティック型、スメクティック型、コレステリック型液晶化合物が例示でき、電圧印加時のヘイズ減少率が高い調光フィルムが得られることから、ネマティック型液晶化合物を用いることが特に好ましい。   As the liquid crystal compound, a known liquid crystal compound can be used. For example, nematic type, smectic type, and cholesteric type liquid crystal compounds can be exemplified, and a light control film having a high haze reduction rate upon application of a voltage can be obtained. Therefore, it is particularly preferable to use a nematic type liquid crystal compound.

ネマティック液晶化合物としては、ビフェニル系化合物、ターフェニル系化合物、フェニルシクロヘキシル系化合物、ビフェニルシクロヘキシル系化合物、フェニルビシクロヘキシル系化合物、安息香酸フェニル系化合物、シクロヘキシル安息香酸フェニル系化合物、フェニル安息香酸フェニル系化合物、ビシクロヘキシルカルボン酸フェニル系化合物、アゾメチン系化合物、アゾ系化合物、およびアゾオキシ系化合物、スチルベン系化合物、ビシクロヘキシル系化合物、フェニルピリミジン系化合物、ビフェニルピリミジン系化合物、ピリミジン系化合物、およびビフェニルエチン系化合物等が挙げられる。上記のネマティック型液晶化合物は市販されており、例えばBL038、BL006、E7、E44,E48、TL213(以上、メルク(株)製)、JC1041XX(以上、JCN(株)製)等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。   Nematic liquid crystal compounds include biphenyl compounds, terphenyl compounds, phenylcyclohexyl compounds, biphenylcyclohexyl compounds, phenylbicyclohexyl compounds, phenyl benzoate compounds, cyclohexyl phenylbenzoate compounds, phenylbenzoate phenyl compounds Biphenyl carboxylic acid phenyl compounds, azomethine compounds, azo compounds, and azooxy compounds, stilbene compounds, bicyclohexyl compounds, phenylpyrimidine compounds, biphenylpyrimidine compounds, pyrimidine compounds, and biphenylethyne compounds Etc. The above nematic liquid crystal compounds are commercially available, and examples thereof include BL038, BL006, E7, E44, E48, TL213 (above, manufactured by Merck Co., Ltd.), JC1041XX (above, manufactured by JCN Corporation), and the like. Can also be preferably used.

ネマティック液晶化合物以外の液晶化合物としては、スメクティック型液晶化合物として、ポリエステル等を例示することができ、コレステリック型液晶化合物として、コレステリルリノレート、コレステリルオレエート、セルロース、セルロース誘導体、ポリペプチド等を例示することができる。   Examples of liquid crystal compounds other than nematic liquid crystal compounds include polyesters as smectic liquid crystal compounds, and examples of cholesteric liquid crystal compounds include cholesteryl linoleate, cholesteryl oleate, cellulose, cellulose derivatives, and polypeptides. be able to.

本発明の調光フィルムの調光層を構成する高分子分散型液晶体が含有するバインダー樹脂の形成に用いることのできるモノマー、オリゴマー、重合開始剤について説明する。モノマーやオリゴマーは特に限定されず、重合物が透明性を有する公知のモノマーやオリゴマーを用いることができる。その中でも、透明性に優れることからアクリル系モノマーを用いることが好ましい。   The monomer, oligomer, and polymerization initiator that can be used for forming the binder resin contained in the polymer dispersed liquid crystal constituting the light control layer of the light control film of the present invention will be described. A monomer and an oligomer are not specifically limited, The well-known monomer and oligomer which a polymer has transparency can be used. Among them, it is preferable to use an acrylic monomer because of its excellent transparency.

本発明におけるアクリル系モノマーとは、アクリル基またはメタクリル基を有するモノマーを意味する。アクリル系モノマーは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸3,5,5−トリメチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸−2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−エトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸−3−メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸−3−エトキシプロピル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸−4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸アミノエチル等の極性基含有アクリル酸エステル、ジ(メタ)アクリル酸ヘキサンジオール、ジ(メタ)アクリル酸ブタンジオール、ジ(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸(ポリ)プロピレングリコール、ジ(メタ)アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ(メタ)アクリル酸ペンタエリスリトール、トリ(メタ)アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ(メタ)アクリル酸ジペンタエリスリトール、トリ(メタ)アクリル酸トリメチロールプロパン、トリ(メタ)アクリル酸テトラメチロールメタン、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ビニル、等の多官能性(メタ)アクリル酸エステル、等が例示できる。なお、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」および/または「メタクリル」を表し、他も同様である。上記のアクリル系モノマーは市販されており、例えばアロニックスM−110、アロニックスM−220、アロニックスM−309、アロニックスM−400(以上、東亞合成(株)製)、KAYARAD R−551、KAYARAD R−604、KAYARAD R−712、KAYARAD HX−220、KAYARAD HX−620(以上、日本化薬(株)製)、ビスコート#260、ビスコート#295、ビスコート#300、ビスコート#312(以上、大阪有機化学工業(株)製)等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。   The acrylic monomer in the present invention means a monomer having an acrylic group or a methacryl group. Acrylic monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, ( T-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-2-ethylhexyl, (meth) acrylic (Meth) acrylic acid alkyl esters such as 3,5,5-trimethylhexyl acid, isooctyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, (meth ) Methoxytriethylene glycol acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid alkoxyalkyl esters such as 3-ethoxypropyl, polar group-containing acrylic esters such as (meth) acrylic acid-4-hydroxybutyl, aminoethyl (meth) acrylate, di (meth) ) Hexanediol acrylate, butanediol di (meth) acrylate, di (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol, di (meth) acrylic acid (poly) propylene glycol, di (meth) acrylic acid neopentyl glycol, di (Meth) acrylic acid pentaerythritol, tri (meth) acrylic acid pentaerythritol, hexa (meth) acrylic acid dipentaerythritol, tri (meth) acrylic acid trimethylolpropane, tri (meth) acrylic acid tetramethylolmethane, (meth) Allyl acrylate, ( Data) vinyl acrylate, polyfunctional (meth) acrylic acid esters and the like, etc. can be exemplified. “(Meth) acryl” means “acryl” and / or “methacryl”, and the same applies to others. The above acrylic monomers are commercially available. For example, Aronix M-110, Aronix M-220, Aronix M-309, Aronix M-400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD R-551, KAYARAD R- 604, KAYARAD R-712, KAYARAD HX-220, KAYARAD HX-620 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Biscote # 260, Biscote # 295, Biscote # 300, Biscote # 312 (above, Osaka Organic Chemical Industry) Etc.) and any of them can be preferably used.

アクリル系モノマー以外に、本発明の調光フィルムの調光層を構成する高分子分散型液晶体が含有するバインダー樹脂の形成に用いることのできるモノマー、オリゴマーとしては、アクリル系オリゴマーやビニルエーテル系モノマーが例示できる。アクリル系オリゴマーとはアクリル基を少なくとも1つ以上有するオリゴマーを意味する。アクリル系オリゴマーは、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等を例示できる。上記のアクリル系オリゴマーは市販されており、ウレタンアクリレートとしてはアロニックスM−1100、アロニックスM−1200(以上、東亞合成(株)製)、UA−1100H、UA−160TM(以上、新中村化学工業(株)製)、ビームセット505A−6、550B、575(以上、荒川化学工業(株)製)等が例示でき、エポキシアクリレートとしてはユニディックV−5500、ユニディックV−5502(以上、DIC(株)製)、エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3000MK(以上、共栄社化学(株)製)等が例示でき、ポリエステルアクリレートとしてはアロニックスM−7100、アロニックスM−8100(以上、東亞合成(株)製)、EBECRYL436、EBECRYL450、EBECRYL810(以上、ダイセル・オルネクス(株)製)等が例示でき、いずれも好ましく用いることができる。   In addition to acrylic monomers, monomers and oligomers that can be used to form a binder resin contained in the polymer dispersed liquid crystal constituting the light control layer of the light control film of the present invention include acrylic oligomers and vinyl ether monomers. Can be illustrated. An acrylic oligomer means an oligomer having at least one acrylic group. Examples of the acrylic oligomer include urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate. The above acrylic oligomers are commercially available. As urethane acrylates, Aronix M-1100, Aronix M-1200 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), UA-1100H, UA-160TM (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.), beam sets 505A-6, 550B, 575 (above, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Examples of epoxy acrylates include Unidic V-5500, Unidic V-5502 (above, DIC ( ), Epoxy ester 80MFA, epoxy ester 3000MK (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like, and polyester acrylates such as Aronix M-7100, Aronix M-8100 (above, Toagosei Co., Ltd.) , EBECRYL436, EBECRYL450, EBE RYL810 (above, Daicel Orunekusu Ltd. Co.) and the like can be exemplified, any of them can be preferably used.

ビニルエーテル系モノマーとはビニルエーテル基を有するモノマーを意味する。ビニルエーテル系モノマーは特に限定されず、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、ペンチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルモノビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等のアルキルジビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル等が例示できる。上記のビニルエーテル系モノマーは市販されており、例えば日本カーバイド工業(株)、BASFジャパン(株)等から購入できる。   The vinyl ether monomer means a monomer having a vinyl ether group. The vinyl ether monomer is not particularly limited, and methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, pentyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl Examples thereof include alkyl monovinyl ethers such as vinyl ether, alkyl divinyl ethers such as 1,4-butanediol divinyl ether and triethylene glycol divinyl ether, and hydroxyalkyl vinyl ethers such as 2-hydroxyethyl vinyl ether and cyclohexanedimethanol monovinyl ether. The above vinyl ether monomers are commercially available, and can be purchased from, for example, Nippon Carbide Industries Co., Ltd. or BASF Japan Co., Ltd.

本発明の調光フィルムの調光層を構成する高分子分散型液晶体が含有するバインダー樹脂の形成に用いることのできるモノマー、オリゴマーとして、上記した化合物以外に、Macromolecules、1998年、31号,6806ページ〜6812ページに発表されているNOA65(ノーランド製紫外線硬化型接着剤)が例示できる。   As monomers and oligomers that can be used for forming the binder resin contained in the polymer dispersed liquid crystal constituting the light control layer of the light control film of the present invention, Macromolecules, 1998, No. 31, Examples thereof include NOA65 (Noland UV curable adhesive) published on pages 6806 to 6812.

本発明の調光フィルムの調光層を構成する高分子分散型液晶体は、その剛性や耐久性が許容される範囲内で液晶化合物が多くを占める方が、電圧印加時のヘイズ減少率が高い調光フィルムが得られる。そのため、高分子分散型液晶体中における液晶化合物が占める割合は50〜90質量%以上が好ましく、55〜90質量%が特に好ましい。   The polymer-dispersed liquid crystal body constituting the light control layer of the light control film of the present invention has a higher haze reduction rate when voltage is applied when the liquid crystal compound occupies more within the allowable range of rigidity and durability. A high light control film can be obtained. Therefore, the proportion of the liquid crystal compound in the polymer-dispersed liquid crystal body is preferably 50 to 90% by mass, particularly preferably 55 to 90% by mass.

重合開始剤とは、光や熱により、上記したモノマーやオリゴマーの重合反応を開始させる化合物を意味し、本発明の調光フィルムでは重合開始剤として公知のものを用いることができる。具体的には、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル等が例示できるが、これに限定されない。光により重合反応を開始させる重合開始剤を用いることが、熱により重合反応を開始させる重合開始剤を用いる場合より、バインダー樹脂相と液晶化合物相との相分離が温度変化により不均一化する危険性を抑制できるため、調光フィルムの生産性、均一性の観点から特に好ましい。   A polymerization initiator means the compound which starts the polymerization reaction of an above-described monomer or oligomer with light or a heat | fever, A well-known thing can be used as a polymerization initiator in the light control film of this invention. Specifically, benzoin, benzophenone, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Phenylpropan-1-one, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvalero Although a nitrile etc. can be illustrated, it is not limited to this. Using a polymerization initiator that initiates a polymerization reaction by light is more dangerous than using a polymerization initiator that initiates a polymerization reaction by heat, because the phase separation between the binder resin phase and the liquid crystal compound phase becomes uneven due to temperature changes. Therefore, it is particularly preferable from the viewpoint of productivity and uniformity of the light control film.

調光層の全質量に対し、重合開始剤は0.3〜5質量%であることがモノマーおよびオリゴマーの硬化性の観点から好ましく、0.5〜3質量%が特に好ましい。   From the viewpoint of curability of the monomer and oligomer, the polymerization initiator is preferably 0.3 to 5% by mass, particularly preferably 0.5 to 3% by mass, based on the total mass of the light control layer.

本発明の調光フィルムを構成する高分子分散型液晶体が含有する含窒素複素環化合物について説明する。含窒素複素環化合物とは、非金属原子から構成される環構造中に少なくとも1つ以上の窒素を含有する5または6員環構造(以下、含窒素複素環構造)を有する化合物を意味する。含窒素複素環化合物は縮合環を有していてもよい。縮合環を有さない含窒素複素環構造としては、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピロール、ピリジン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イミダゾロン、ピラゾリン、ピラゾール、オキサゾリン、チアゾリン、セレナゾリン、セレナゾール、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、オキサジン、テトラジン、ピロリジンが例示できる。縮合環を有する含窒素複素環構造としては、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾセレナゾール、キノリジン、インドリジン、インドール、キノリン、ベンゾトリアジン、テトラザインデンが例示できる。上記の中でも、以下に一般式A−1、A−2、A−3、A−4、A−5として示すベンゾイミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類、テトラザインデン類が、連続動作に伴うヘイズ減少率の低下を改善する観点から特に好ましい。   The nitrogen-containing heterocyclic compound contained in the polymer dispersed liquid crystal constituting the light control film of the present invention will be described. The nitrogen-containing heterocyclic compound means a compound having a 5- or 6-membered ring structure (hereinafter referred to as a nitrogen-containing heterocyclic structure) containing at least one nitrogen in a ring structure composed of nonmetallic atoms. The nitrogen-containing heterocyclic compound may have a condensed ring. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic structure having no condensed ring include imidazole, triazole, tetrazole, pyrrole, pyridine, thiazole, thiadiazole, oxazole, oxadiazole, imidazolone, pyrazoline, pyrazole, oxazoline, thiazoline, selenazoline, selenazole, pyrimidine, Examples include pyridazine, triazine, oxazine, tetrazine and pyrrolidine. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic structure having a condensed ring include benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, benzoselenazole, quinolidine, indolizine, indole, quinoline, benzotriazine, and tetrazaindene. Among the above, benzimidazoles, benzotriazoles, mercaptotetrazoles, and tetrazaindenes represented by the following general formulas A-1, A-2, A-3, A-4, and A-5 are continuously operated. This is particularly preferable from the viewpoint of improving the accompanying decrease in the haze reduction rate.

一般式A−1、A−2、A−3、A−4、A−5中、R〜R18はそれぞれ水素原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、沃素等)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、アミノ基、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(ベンジル基等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ、ナフトキシ基等)、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基(フェニル、ナフチル基等)、アルキルチオ基(メチルチオ、ヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、リン酸アミド基、ニトロ基を表わす。これらの基は塩を形成していてもよく、さらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、上記R〜R18として挙げた基やアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。一般式A−4中のR12とR13、または一般式A−5中のR16とR17が特にアルキル基である場合、これらは互いに結合して環を形成することもできる。 In general formulas A-1, A-2, A-3, A-4, and A-5, R 1 to R 18 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.) ), Cyano group, sulfo group, carboxyl group, amino group, alkyl group (methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy group, etc.), aryloxy group ( Phenoxy, naphthoxy group, etc.), amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group (phenyl, naphthyl group, etc.), alkylthio group (methylthio, hexylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio) Group), phosphoric acid amide group, nitro group. These groups may form a salt and may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups mentioned as R 1 to R 18 and alkyloxycarbonyl groups. When R 12 and R 13 in the general formula A-4, or R 16 and R 17 in the general formula A-5 are particularly an alkyl group, they may be bonded to each other to form a ring.

一般式A−1で表される含窒素複素環化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。これらの中でも含窒素複素環化合物A−1−2が好ましい。   Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound represented by General Formula A-1 are shown below, but are not limited thereto. Among these, nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2 is preferable.

一般式A−2で表される含窒素複素環化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。これらの中でも含窒素複素環化合物A−2−1、A−2−2、A−2−4、A−2−5、A−2−6が好ましい。   Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound represented by General Formula A-2 are shown below, but are not limited thereto. Among these, nitrogen-containing heterocyclic compounds A-2-1, A-2-2, A-2-4, A-2-5, and A-2-6 are preferable.

一般式A−3で表される含窒素複素環化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。これらの中でも含窒素複素環化合物A−3−1、A−3−3が好ましい。   Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound represented by General Formula A-3 are shown below, but are not limited thereto. Among these, nitrogen-containing heterocyclic compounds A-3-1 and A-3-3 are preferable.

一般式A−4あるいはA−5で表される含窒素複素環化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。これらの中でも含窒素複素環化合物A−4−1が好ましい。   Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound represented by General Formula A-4 or A-5 are shown below, but are not limited thereto. Among these, nitrogen-containing heterocyclic compound A-4-1 is preferable.

前記した一般式A−1〜A−5として例示する含窒素複素環化合物以外の、本発明に用いることができる含窒素複素環化合物の具体例としては、以下に示すように、上記した含窒素複素環構造を有し、かつ置換基を有さない化合物(A−6−1〜A−6−4)や、メルカプト基を有するトリアジン類(A−7−1〜A−7−3)が挙げられる。   Specific examples of the nitrogen-containing heterocyclic compounds that can be used in the present invention other than the nitrogen-containing heterocyclic compounds exemplified as the general formulas A-1 to A-5 described above include the nitrogen-containing compounds described above as shown below. Compounds having a heterocyclic structure and having no substituent (A-6- 1 to A-6-4) and triazines (A-7-1 to A-7-3) having a mercapto group Can be mentioned.

調光層中の含窒素複素環化合物含有量は特に限定されないが、少なすぎると連続動作に伴うヘイズ減少率の低下を改善する効果が薄れる場合があり、多すぎると含窒素複素環化合物の析出によるヘイズの上昇や、モノマーやオリゴマーの重合反応を阻害する場合がある。よって調光層中の含窒素複素環化合物含有量は、調光層の全質量に対して0.1〜7質量%が好ましく、0.5〜5質量%が特に好ましい。   The content of the nitrogen-containing heterocyclic compound in the light control layer is not particularly limited, but if it is too small, the effect of improving the decrease in the haze reduction rate due to continuous operation may be diminished, and if it is too large, precipitation of the nitrogen-containing heterocyclic compound In some cases, haze increases due to, and polymerization reaction of monomers and oligomers may be inhibited. Therefore, the nitrogen-containing heterocyclic compound content in the light control layer is preferably from 0.1 to 7% by weight, particularly preferably from 0.5 to 5% by weight, based on the total weight of the light control layer.

含窒素複素環化合物を調光層に含有せしめるには、前記した液状調光層形成材料に含窒素複素環化合物を溶解して加えることが均一な高分子分散型液晶体を形成できるため好ましい。含窒素複素環化合物の溶解性を向上させるべく、液状調光層形成材料にアルコール類、ケトン類、エステル類等の公知の有機溶媒を添加してもよい。液状調光層形成材料に有機溶媒を添加する場合、液状調光層形成材料の塗布後、モノマーやオリゴマーを重合させる前に、温風や自然乾燥による有機溶媒乾燥工程を設け、有機溶媒を除去することが好ましい。   In order to allow the nitrogen-containing heterocyclic compound to be contained in the light control layer, it is preferable to dissolve and add the nitrogen-containing heterocyclic compound to the liquid light control layer forming material described above because a uniform polymer dispersed liquid crystal can be formed. In order to improve the solubility of the nitrogen-containing heterocyclic compound, a known organic solvent such as alcohols, ketones and esters may be added to the liquid light control layer forming material. When adding an organic solvent to the liquid light-control layer forming material, after applying the liquid light-control layer forming material and before polymerizing the monomer or oligomer, an organic solvent drying process is performed by warm air or natural drying to remove the organic solvent It is preferable to do.

液状調光層形成材料は、その他に界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、着色剤(顔料や染料等)、酸化防止剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。   The liquid light control layer forming material may contain other known additives such as surfactants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants (pigments, dyes, etc.) and antioxidants.

本発明の調光フィルムのもう一方の光透過性電極44について説明する。該光透過性電極は光透過性と導電性を併せ持つ材料であれば特に限定されず、図1の(1−1)〜(1−3)で示した金属細線12から構成される金属細線パターンを有する光透過性電極以外に、光透過性支持体上に非金属導電性膜、例えばITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム亜鉛)、ZnO(酸化亜鉛)、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)、ATO(アルミニウムドープ酸化スズ)、GTO(ガリウムドープ酸化スズ)、GZO(ガリウムドープ酸化亜鉛)等の金属酸化物や、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性ポリマー、グラフェン等によって形成された非金属導電性膜を有する光透過性電極が挙げられるが、これらに限定されない。   The other light transmissive electrode 44 of the light control film of this invention is demonstrated. The light-transmitting electrode is not particularly limited as long as it is a material having both light-transmitting property and conductivity, and a thin metal wire pattern composed of the thin metal wires 12 shown by (1-1) to (1-3) in FIG. In addition to the light-transmitting electrode having a non-metallic conductive film on the light-transmitting support, for example, ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO (zinc oxide), FTO (fluorine-doped tin oxide) , Metal oxides such as ATO (aluminum doped tin oxide), GTO (gallium doped tin oxide), GZO (gallium doped zinc oxide), conductive polymers such as polythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polyaniline, graphene, etc. Examples include, but are not limited to, light transmissive electrodes having a non-metallic conductive film.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

<調光フィルム1の作製>
光透過性支持体として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)ルミラーU34、易接着加工済み)を用いた。なおこの光透過性支持体の全光線透過率は92%であった。
<Preparation of light control film 1>
As the light transmissive support, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm (Toray Industries, Inc. Lumirror U34, which has been easily bonded) was used. The total light transmittance of this light transmissive support was 92%.

次に下記処方に従い、物理現像核(硫化パラジウムゾル)を作製し、該物理現像核を含有する物理現像核層塗液を作製し、光透過性支持体上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。その後50℃で1日加温した。   Next, according to the following formulation, physical development nuclei (palladium sulfide sol) are prepared, a physical development nucleation layer coating solution containing the physical development nuclei is prepared, applied onto a light-transmitting support, and dried to develop physical development nuclei. A layer was provided. Thereafter, the mixture was heated at 50 ° C. for 1 day.

<硫化パラジウムゾルの作製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40ml
蒸留水 1000ml
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000ml
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
1000ml distilled water
B liquid sodium sulfide 8.6g
1000ml distilled water
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液1>各1mあたり
前記硫化パラジウムゾル 0.4mg
2質量%グリオキザール水溶液 0.2ml
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコールEX−830 5mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%SP−200水溶液 0.5g
((株)日本触媒製ポリエチレンイミン)
<Physical development nucleus layer coating solution 1> per 1 m 2 of the palladium sulfide sol 0.4 mg
0.2% aqueous 2% glyoxal solution
Surfactant (S-1) 4mg
Denacol EX-830 5mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10 mass% SP-200 aqueous solution 0.5g
(Nippon Shokubai polyethyleneimine)

続いて、光透過性支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核層の上に塗設し、導電性材料前駆体を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀95モル%と臭化銀5モル%で、平均粒径が0.15μmになるように作製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀1gあたり0.5gのゼラチンを含む。   Subsequently, an intermediate layer having the following composition, a silver halide emulsion layer, and a protective layer were coated on the physical development nucleus layer in order from the side closest to the light-transmitting support to obtain a conductive material precursor. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared such that 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide had an average particle size of 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.

<中間層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1 5mg
<Intermediate layer composition / per 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5mg
Dye 1 5mg

<ハロゲン化銀乳剤層組成1/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
ハロゲン化銀乳剤 4.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition per 1/1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Silver halide emulsion 4.0g Equivalent to silver 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20mg

<保護層組成/1mあたり>
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition / per 1 m 2 >
1g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5μm) 10mg
Surfactant (S-1) 10mg

このようにして得た導電性材料前駆体と、図4に示した透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、図4においての金属細線パターン相当部21は線幅7μm、細線間隔300μmの正方形を単位図形とするメッシュであり、該金属細線パターン相当部21は端子相当部22に接続している。   The conductive material precursor thus obtained and the transparent original shown in FIG. 4 were brought into close contact with each other, and exposed through a resin filter that cut light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. In FIG. 4, the fine metal line pattern equivalent portion 21 is a mesh having a unit figure of a square having a line width of 7 μm and a fine wire interval of 300 μm, and the fine metal line pattern equivalent portion 21 is connected to the terminal equivalent portion 22.

上記露光を行った後、下記拡散転写現像液中に20℃で90秒間浸漬し、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥した。こうして光透過性支持体上に、図1中、(1−3)の態様の金属細線から構成される金属細線パターンを有する光透過性電極1を得た。   After the exposure, the film was immersed in the following diffusion transfer developer for 90 seconds at 20 ° C., and then the silver halide emulsion layer, intermediate layer, and protective layer were washed away with warm water at 40 ° C. and dried. Thus, on the light transmissive support, a light transmissive electrode 1 having a fine metal wire pattern composed of fine metal wires of the form (1-3) in FIG. 1 was obtained.

<拡散転写現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000ml
pH=12.2に調整する。
<Diffusion transfer developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
Total volume 1000ml with water
Adjust to pH = 12.2.

図5は、光透過性電極1の概略図である。黒色部分(線画部)は図1における金属細線12である。図4に示した透過原稿と、図5に示した光透過性電極1の対応については、図4の金属細線パターン相当部21は、図5の金属細線パターン部31に対応し、図4の端子相当部22は、図5の端子部32にそれぞれ対応する。共焦点顕微鏡(レーザーテック(株)製、オプテリクスC130)を用いた観察の結果、光透過性電極である金属細線パターン31の線幅、細線間隔は、透過原稿の金属細線パターン相当部21の線幅、細線間隔と同じであり、その他の形状も全く同じであった。また、共焦点顕微鏡を用いて評価した金属細線の厚みは0.10μmであった。   FIG. 5 is a schematic view of the light transmissive electrode 1. A black part (line drawing part) is the metal fine wire 12 in FIG. As for the correspondence between the transparent original shown in FIG. 4 and the light-transmissive electrode 1 shown in FIG. 5, the fine metal wire pattern equivalent portion 21 in FIG. 4 corresponds to the fine metal wire pattern portion 31 in FIG. The terminal equivalent portion 22 corresponds to the terminal portion 32 of FIG. As a result of observation using a confocal microscope (Latertech Co., Ltd., Optics C130), the line width and fine line interval of the thin metal wire pattern 31 that is a light-transmitting electrode are as follows. It was the same as the fine wire interval, and the other shapes were exactly the same. Moreover, the thickness of the metal fine wire evaluated using the confocal microscope was 0.10 micrometer.

次に下記処方に従い、液状調光層形成材料を作製し、上記した光透過性電極1(端子部除く)上に、厚みが20μmとなるように塗布し、続いて光透過性電極2として、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にITO膜を形成したITOフィルム(東洋紡(株)製)を、ITO膜が調光層側になるように載せた。その後、ITOフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム側から高圧水銀ランプを用いて1000mJ/cmの光量で光を照射し、液状調光層形成材料中のモノマーを重合させた。こうして、一対の光透過性電極の間に調光層を有する調光フィルム1を得た。 Next, according to the following prescription, a liquid light-modulating layer forming material is prepared, applied on the above-described light-transmissive electrode 1 (excluding the terminal portion) so as to have a thickness of 20 μm, and subsequently as the light-transmissive electrode 2, An ITO film (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having an ITO film formed on a polyethylene terephthalate film was placed so that the ITO film was on the light control layer side. Then, light was irradiated with the light quantity of 1000 mJ / cm < 2 > using the high pressure mercury lamp from the polyethylene terephthalate film side of the ITO film, and the monomer in the liquid light control layer forming material was polymerized. In this way, the light control film 1 which has a light control layer between a pair of transparent electrodes was obtained.

<液状調光層形成材料組成>
E7(ネマティック液晶化合物、メルク(株)製) 79g
アクリル酸3,5,5−トリメチルヘキシル 15g
KAYARAD HX−620(アクリル系モノマー、日本化薬(株)製)
5g
2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(重合開始剤)
1g
含窒素複素環化合物A−1−2 2g
含窒素複素環化合物を添加後によく撹拌し、粉末状の未溶解物が残存していないことを確認した。
<Liquid light control layer forming material composition>
E7 (nematic liquid crystal compound, manufactured by Merck & Co., Inc.) 79 g
3,5,5-trimethylhexyl acrylate 15g
KAYARAD HX-620 (acrylic monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
5g
2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (polymerization initiator)
1g
Nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2 2 g
It stirred well after adding a nitrogen-containing heterocyclic compound, and it confirmed that the powdery undissolved substance did not remain | survive.

<調光フィルム2の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−2−1を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム2を得た。
<Preparation of light control film 2>
A light control film 2 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-2-1 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム3の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−2−2を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム3を得た。
<Preparation of light control film 3>
A light control film 3 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-2-2 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム4の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−2−4を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム4を得た。
<Preparation of light control film 4>
A light control film 4 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-2-4 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム5の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−2−5を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム5を得た。
<Preparation of light control film 5>
A light control film 5 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-2-5 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム6の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−3−1を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム6を得た。
<Preparation of light control film 6>
A light control film 6 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-3-1 was used in place of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム7の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−3−3を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム7を得た。
<Preparation of light control film 7>
A light control film 7 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-3-3 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム8の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−4−1を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム8を得た。
<Preparation of light control film 8>
A light control film 8 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-4-1 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム9の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−6−2を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム9を得た。
<Preparation of light control film 9>
A light control film 9 was obtained in the same manner as in the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-6-2 was used instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム10の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−6−3を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム10を得た。
<Preparation of light control film 10>
The light control film 10 was obtained similarly to preparation of the light control film 1 except having used the nitrogen-containing heterocyclic compound A-6-3 instead of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム11の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって含窒素複素環化合物A−7−2を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム11を得た。
<Preparation of light control film 11>
A light control film 11 was obtained in the same manner as in the preparation of the light control film 1 except that the nitrogen-containing heterocyclic compound A-7-2 was used in place of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム12の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2を用いずに調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム12を得た。
<Preparation of light control film 12>
The light control film 12 was obtained in the same manner as the preparation of the light control film 1 without using the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2.

<調光フィルム13の作製>
含窒素複素環化合物A−1−2に代わって、下記非含窒素複素環化合物B−1を用いた以外は調光フィルム1の作製と同様にして、調光フィルム13を得た。
<Preparation of light control film 13>
In place of the nitrogen-containing heterocyclic compound A-1-2, the light-controlling film 13 was obtained in the same manner as the preparation of the light-controlling film 1 except that the following non-nitrogen-containing heterocyclic compound B-1 was used.

<調光フィルムの初期動作確認>
調光フィルム1〜13それぞれについて交流電圧未印加時のヘイズを測定したところ、ヘイズは面内で均一であり、調光層を構成する高分子分散型液晶体が均一であることを確認した。この際のヘイズをヘイズ値1(単位:%)とした。次に、調光フィルム1〜13それぞれについて光透過性電極1の端子部と、光透過性電極2のITO膜との間に交流電圧70Vを印加すると調光フィルムのヘイズが低下した。この際のヘイズをヘイズ値2(単位:%)とした。電圧印加を終了すると調光フィルムのヘイズがヘイズ値1まで回復することを確認した。ヘイズ値1からヘイズ値2へのヘイズ減少率を以下の式にて算出し、調光フィルム1〜13の作製直後のヘイズ減少率(単位:%)とした。結果を表1に示す。ヘイズの測定にはスガ試験機(株)製ヘーズコンピューターHZ−2を用いた。
<Checking the initial operation of the light control film>
When the haze when no alternating voltage was applied was measured for each of the light control films 1 to 13, it was confirmed that the haze was uniform in the surface and the polymer dispersed liquid crystal constituting the light control layer was uniform. The haze at this time was set to 1 (unit:%). Next, when an AC voltage of 70 V was applied between the terminal portion of the light transmissive electrode 1 and the ITO film of the light transmissive electrode 2 for each of the light control films 1 to 13, the haze of the light control film was lowered. The haze at this time was set to 2 (unit:%). When voltage application was completed, it was confirmed that the haze of the light control film was recovered to a haze value of 1. The haze reduction rate from the haze value 1 to the haze value 2 was calculated by the following formula and used as the haze reduction rate (unit:%) immediately after the production of the light control films 1 to 13. The results are shown in Table 1. A haze computer HZ-2 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used for haze measurement.

作製直後のヘイズ減少率={(ヘイズ値1−ヘイズ値2)/ヘイズ値1}×100 Haze reduction rate immediately after production = {(haze value 1−haze value 2) / haze value 1} × 100

<連続動作に伴うヘイズ減少率変化の評価>
調光フィルム1〜13それぞれについて交流電圧70Vを1ヶ月間連続印加した。その後、一旦電圧印加を終了して24時間放置後に再度各調光フィルムのヘイズを測定したところ、ヘイズ値1と同じであった。再び交流電圧70Vを印加すると、調光フィルムのヘイズが低下した。この際のヘイズをヘイズ値3(単位:%)とした。ヘイズ値1からヘイズ値3へのヘイズ減少率を以下の式にて算出し、調光フィルム1〜13の連続動作後のヘイズ減少率(単位:%)とした。結果を表1に示す。
<Evaluation of haze reduction rate change with continuous operation>
An AC voltage of 70 V was continuously applied to each of the light control films 1 to 13 for one month. Thereafter, once the voltage application was finished and the haze of each light control film was measured again after being left for 24 hours, it was the same as the haze value 1. When AC voltage 70V was applied again, the haze of the light control film fell. The haze at this time was set to 3 (unit:%). The haze reduction rate from the haze value 1 to the haze value 3 was calculated by the following formula, and used as the haze reduction rate (unit:%) after continuous operation of the light control films 1 to 13. The results are shown in Table 1.

連続動作後のヘイズ減少率={(ヘイズ値1−ヘイズ値3)/ヘイズ値1}×100 Haze reduction rate after continuous operation = {(haze value 1−haze value 3) / haze value 1} × 100

表1の結果から、本発明の有効性が判る。   From the results in Table 1, the effectiveness of the present invention can be seen.

11 光透過性支持体
12 金属細線
13 金属
14 バインダー
15 下引き層
21 金属細線パターン相当部
22 端子相当部
31 金属細線パターン部
32 端子部
41 調光層
42 液晶化合物相
43 バインダー樹脂相
44 もう一方の光透過性電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Light transmissive support body 12 Metal fine wire 13 Metal 14 Binder 15 Undercoat layer 21 Metal fine wire pattern equivalent part 22 Terminal equivalent part 31 Metal fine wire pattern part 32 Terminal part 41 Light control layer 42 Liquid crystal compound phase 43 Binder resin phase 44 The other Light transmissive electrode

Claims (1)

一対の光透過性電極の間に調光層を有する調光フィルムであって、該光透過性電極の少なくとも一方が、光透過性支持体上に金属細線パターンを有する光透過性電極であり、該調光層が液晶化合物と、バインダー樹脂と、含窒素複素環化合物を少なくとも含有する高分子分散型液晶体であることを特徴とする調光フィルム。   A light-control film having a light-control layer between a pair of light-transmitting electrodes, wherein at least one of the light-transmitting electrodes is a light-transmitting electrode having a metal fine line pattern on the light-transmitting support, A light control film, wherein the light control layer is a polymer dispersed liquid crystal containing at least a liquid crystal compound, a binder resin, and a nitrogen-containing heterocyclic compound.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2019045669A (en) * 2017-09-01 2019-03-22 凸版印刷株式会社 Lighting control body
WO2021235073A1 (en) * 2021-03-22 2021-11-25 合同会社O&O Private room unit

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