JP2016096209A - Wiring board manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.
凹版の溝部に有機金属インクを充填した後、硬化性樹脂を介して被印刷体に当該有機金属インクを転写して形成された回路パターンが知られている(例えば特許文献1参照)。 There is known a circuit pattern formed by filling an intaglio groove with an organometallic ink and then transferring the organometallic ink to a printing medium via a curable resin (see, for example, Patent Document 1).
上記の技術では、凹版の溝部に充填された有機金属インクの一部が、転写の際に当該溝部に残存する場合がある。このため、回路パターンの細線化を図ることが困難であるという問題がある。 In the above technique, a part of the organometallic ink filled in the groove portion of the intaglio may remain in the groove portion during transfer. For this reason, there is a problem that it is difficult to make the circuit pattern thinner.
本発明が解決しようとする課題は、配線部の細線化を図ることができる配線基板の製造方法を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board capable of thinning a wiring part.
[1]本発明に係る配線基板の製造方法は、凹版の凹部に第1の樹脂材料を充填し、前記第1の樹脂材料を硬化収縮させ、前記凹部の底部に向かって窪む窪部を有する第1の硬化樹脂を形成する第1の工程と、前記窪部に導電性材料を充填する第2の工程と、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型する第3の工程と、を備えたことを特徴とする。 [1] In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the concave portion of the intaglio is filled with the first resin material, the first resin material is cured and contracted, and the concave portion recessed toward the bottom of the concave portion is formed. A first step of forming a first cured resin having a second step of filling the recess with a conductive material, and a first step of releasing the first cured resin and the conductive material from the intaglio. And 3 processes.
[2]上記発明において、前記第2の工程は、前記窪部に充填された導電性材料を硬化させることを含んでもよい。 [2] In the above invention, the second step may include curing the conductive material filled in the recess.
[3]上記発明において、前記第2の工程の後に、前記凹版上に第2の樹脂材料を塗布して硬化させることにより第2の硬化樹脂を形成する工程をさらに備え、前記第3の工程は、前記第2の硬化樹脂が前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記第2の硬化樹脂を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型してもよい。 [3] In the above invention, after the second step, the method further includes a step of forming a second cured resin by applying and curing a second resin material on the intaglio, the third step The second cured resin and the conductive material are separated from the intaglio in a state where the second cured resin is fixed to the first cured resin and the conductive material. May be released from the intaglio.
[4]上記発明において、前記第1の樹脂材料及び前記第2の樹脂材料は、同一の組成を有してもよい。 [4] In the above invention, the first resin material and the second resin material may have the same composition.
[5]上記発明において、前記第2の工程の後に、接着材を介して基材を前記凹版上に配置する工程をさらに備え、前記第3の工程は、前記基材が前記接着材を介して前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記基材を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型してもよい。 [5] In the above invention, after the second step, the method further includes a step of disposing a base material on the intaglio via an adhesive, and the third step includes the base material passing through the adhesive. Then, the first cured resin and the conductive material may be released from the intaglio by releasing the substrate from the intaglio in a state of being fixed to the first cured resin and the conductive material.
[6]上記発明において、前記凹版は、前記凹部を複数有しており、前記第1の工程は、隣り合う前記凹部の間における前記凹版の表面に、前記第1の樹脂材料を塗布して硬化することを含んでもよい。 [6] In the above invention, the intaglio has a plurality of the recesses, and the first step is to apply the first resin material to the surface of the intaglio between the adjacent recesses. It may include curing.
[7]上記発明において、前記第1の樹脂材料は、有色材料であり、前記第1の工程は、前記凹部のみに前記第1の樹脂材料を充填することを含んでもよい。 [7] In the above invention, the first resin material may be a colored material, and the first step may include filling only the concave portion with the first resin material.
本発明によれば、凹版の凹部に充填された第1の樹脂材料を硬化収縮させた際に形成される窪部に導電性材料を充填する。これにより、離型する際に凹版の凹部内に導電性材料が残存することを防ぎつつ、配線部の細線化を図ることができる。 According to the present invention, the conductive material is filled into the recess formed when the first resin material filled in the concave portion of the intaglio is cured and shrunk. Thereby, it is possible to reduce the thickness of the wiring portion while preventing the conductive material from remaining in the concave portion of the intaglio when releasing the mold.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<<第1実施形態>>
図1は本実施形態における配線基板を示す断面図であり、図2は本実施形態における配線基板の変形例を示す図である。
<< first embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a wiring board in this embodiment, and FIG. 2 is a view showing a modification of the wiring board in this embodiment.
本実施形態における配線基板1は、タッチパネルの電極基板として用いられ、図1に示すように、基材2と、接着部3と、配線部4と、被覆部5と、を備えている。本実施形態では、特に図示しないが、基材2上に設けられたメッシュ状の電極を構成する細線が配線部4によって形成されている。なお、配線基板1の用途は特に限定されない。例えば、タッチセンサの電極基板として配線基板1を用いてもよい。
The
本実施形態において基材2は、ポリエチレンテレフタレート(PET)製フィルムから構成されている。なお、基材2を構成する材料は、特にこれに限定されない。例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド樹脂(PI)、ポリエーテルイミド樹脂(PEI)等の材料を用いて基材2を構成してもよい。
In this embodiment, the
接着部3は、基材2と、配線部4及び被覆部5と、を相互に接着して固定する部材であり、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂、セラミックグリーンシート等から構成されており、基材2の主面21上に略一定の厚さで設けられている。
The
本実施形態において、接着部3の上面(配線部4及び被覆部5が設けられている面)は平坦面となっているが、特にこれに限定されない。例えば、図2に示すように、配線部4に対応する位置に凸部32が形成されていてもよい。この凸部32は、基材2の主面21と配線部4との間において、当該配線部4の突出方向に沿って突出するように形成されている。このため、凸部32の頂部における接着部3の厚さ(高さ)H1は、凸部32が設けられていない部分における接着部3の厚さ(高さ)H2よりも大きくなっている(H1>H2)。
In the present embodiment, the upper surface of the bonding portion 3 (the surface on which the
配線部4は、例えば銀や銅等から構成される導電性粒子等を含む導電性材料から構成されており、接着部3の主面31に設けられている。本実施形態では、接着部3の主面31の3か所に、略等間隔で配線部4がそれぞれ設けられているが、接着部3の主面31上に設けられる配線部4の数及び配置は特にこれに限定されない。
The
配線部4の幅は、当該配線部4の形成精度向上の観点から50nm〜300μmであることが好ましく、さらに好ましくは500nm〜150μmであり、さらにより好ましくは1μm〜100μmである。配線部4の高さは、50nm〜300μmであることが好ましく、さらに好ましくは500nm〜150μmであり、さらにより好ましくは1μm〜100μmである。
The width of the
本実施形態における配線部4は、接着部3の主面31から図1中上側に向かって突出するように形成されている。本実施形態における配線部4の断面形状は略半楕円状となっているが、特にこれに限定されない。例えば、配線部4の断面形状が、多角形状や、導電性材料の小片が集合して形成された形状等であってもよい。また、本実施形態では、接着部3の主面31上に設けられた複数の配線部4が、相互に略等しい断面形状をそれぞれ有しているが、複数の配線部4が相互に異なる断面形状をそれぞれ有していてもよい。
The
被覆部5は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等の樹脂材料や、ゾルゲル法によって得られるガラス等から構成されており、配線被覆部51と、主面被覆部52と、を有している。なお、被覆部5と接着部3の熱膨張率差によって発生する配線基板1の反りの発生を抑制する観点から、被覆部5を構成する材料を、接着部3を構成する材料と同一組成とすることが好ましい。
The covering
配線被覆部51は、接着部3との接着面を除いた配線部4の外面全体を覆っており、図1に示すように、当該配線部4の突出方向に向かって狭幅となる台形形状の断面外形を有している。即ち、配線被覆部51の断面外形は、基材2の主面21及び接着部3の主面31と略平行となるように形成された頂辺511と、当該頂辺511の両端部から接着部3の主面31に向かって幅広となるように形成される側辺512と、を有している。このため、頂辺511の両端部に形成される角部513は90度以上となっている。なお、配線被覆部51の断面外形は特に上記に限定されない。
The
主面被覆部52は、図1に示すように、配線部4及び当該配線部4を被覆する配線被覆部51を除いて、接着部3の主面31全体を略一定の厚さで被覆している。即ち、隣り合う配線部4の間において、主面被覆部52は接着部3を介して基材2の主面21を被覆している。主面被覆部52は配線被覆部51と連続しており、本実施形態ではそれら主面被覆部52及び配線被覆部51は一体的に形成されている。主面被覆部52の高さ(厚さ)D1は、配線被覆部51の高さ(厚さ)D2よりも小さくなっており、配線被覆部51は主面被覆部52の端部から突出している。
As shown in FIG. 1, the main
本実施形態では、接着部3の主面31に設けられた3つの配線部4をそれぞれ被覆する配線被覆部51の断面外形は相互に略同一の形状であるが、特にこれに限定されない。例えば、複数の配線被覆部51の断面外形が相互に異なっていてもよい。
In the present embodiment, the cross-sectional outer shapes of the
次に、本実施形態における配線基板1の製造方法について説明する。図3(A)〜図3(F)は、本実施形態における配線基板の製造方法を説明するための断面図である。
Next, the manufacturing method of the
まず、図3(A)に示すように、形成する配線部4のパターンに対応した凹部61が形成された凹版6を準備する。このような凹版6を構成する材料としては、シリコン(Si)、シリカ(SiO2)、グラッシーカーボン、ニッケル等の金属材料や、セラミックス等を例示することができる。
First, as shown in FIG. 3 (A), an
本実施形態における凹部61はテーパ形状を有しており、当該凹部61の底部の幅は、当該凹部61の開口部の幅よりも小さくなっている。なお、凹版6の表面には、離型性を向上するための離形膜処理を予め施すことが好ましい。
The
続いて、被覆部5を形成するための第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填すると共に、当該凹版6の主面60に所定厚で塗布する。第1の樹脂材料62としては、未硬化若しくは半硬化状態であり透明又は半透明の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化樹脂を例示することができる。具体的には、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂やセラミックス含有樹脂等の樹脂材料を挙げることができる。本実施形態のように、凹版6の凹部61がテーパ形状を有する場合には、凹部61への第1の樹脂材料62の充填を容易とすることができる。なお、被覆部5を形成するための第1の樹脂材料62が、硬化収縮後において粘着性又は接着性を有する場合には、接着部3の形成(図3(D)に示す工程)を省略することができる。
Subsequently, the
第1の樹脂材料62を凹部61に充填する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法、ディップ法、インジェクト法、スパッタ法、CVD法、蒸着法等を例示することができる。
Examples of the method for filling the
続いて、第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填すると共に当該凹版6の主面60に塗布した第1の樹脂材料62を硬化収縮させ、第1の硬化樹脂621とする(第1の工程)。この第1の硬化樹脂621により、主面60及び凹部61の内壁面は覆われる(図3(B)参照)。凹版6の凹部61同士の間を覆う第1の硬化樹脂621は略均一な厚さを有している。また、凹部61の内壁面を覆う第1の硬化樹脂621によって、当該凹部61の底部に向かって窪む断面略U字状の窪部63が形成される。この第1の硬化樹脂621によって、配線基板1の被覆部5が構成される。
Subsequently, the
第1の樹脂材料62の硬化及び収縮を行うための具体的な条件としては、例えば、幅5μm、深さ5μmの凹部61が形成されたニッケル製の凹版6を用い、スクリーン印刷法を用いてアクリル樹脂を第1の樹脂材料62として凹部61に充填、塗布した場合、120度で5分間当該第1の樹脂材料62を加熱することにより行うことができる。なお、第1の樹脂材料62を、スパッタ法、CVD法、蒸着法により凹版6に充填、塗布した場合には、上述した第1の樹脂材料62の硬化収縮工程を省略することができる。
Specific conditions for curing and shrinking the
次いで、図3(C)に示すように、凹部61内に形成された窪部63に、配線部4を形成するための導電性材料64を充填する(第2の工程)。この様な導電性材料64としては、銀や銅等の導電性粒子がバインダ樹脂及び溶剤と混合されて構成される導電性ペーストを例示することができる。導電性材料64に含まれるバインダ樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、導電性材料64に含まれる溶剤としては、ブチルカルビトールアセテート、1−デカノール、ブチルセルソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラデカン等を例示することができる。窪部63に導電性材料64を充填する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、インクジェット法等を例示することができる。なお、導電性材料64にバインダ樹脂が含まれる場合における当該バインダ樹脂は、本発明の第1の樹脂材料及び第2の樹脂材料の何れにも含まれない。
Next, as shown in FIG. 3C, the
その後、熱やUV光、電磁波等を用いて導電性材料64を硬化させることにより配線部4が形成される。導電性材料64を硬化させるための具体的な条件としては、例えば、銀粒子とエポキシ樹脂(バインダ樹脂)を含有するペーストを用いた場合には、150度で10分間当該導電性材料64を加熱することにより行うことができる。
Then, the
なお、接着部3に凸部32(図2参照)を形成する場合は、導電性材料64として、硬化後の体積収縮率が比較的大きいバインダ樹脂(例えばアクリル樹脂等)を含有する導電性材料を使用する。
In the case where the protrusions 32 (see FIG. 2) are formed on the
次いで、図3(D)に示すように、被覆部5及び配線部4の上から接着部3を形成するための接着材65を塗布する。このような接着材65としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂、セラミックグリーンシート等を例示することができる。接着材65を塗布する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法等を例示することができる。
Next, as shown in FIG. 3D, an adhesive 65 for forming the
なお、接着部3に凸部32(図2参照)を形成する場合は、以下の様にして行う。即ち、窪部63に充填された導電性材料64を硬化した際、当該導電性材料64の収縮によって、凹部61の底面に向かって凹む断面略U字状の凹形状が窪部63内に形成される。そして、接着材65を塗布する際は、この凹形状内に接着材65を充填する。
In addition, when forming the convex part 32 (refer FIG. 2) in the
続いて、図3(E)に示すように、接着材65上の所定位置に基材2を配置する。そして、基材2を接着材65に接触させた状態で、加熱、加圧、UV照射、マイクロ波照射等により当該接着材65を硬化させて接着部3とする。これにより、接着材65を介して基材2は配線部4及び被覆部5に固着される。具体的には、例えば、基材2としてポリエチレンテレフタレート(PET)を用い、接着材65としてUV硬化型アクリル樹脂を用いた場合には、当該基材2を接着材65上に貼り合わせ、基材2側からUV照射することにより、基材2の固着を行うことができる。
Subsequently, as shown in FIG. 3E, the
次いで、図3(F)に示すように、接着材65を介して、基材2が被覆部5及び配線部4に固着した状態で、これを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5(第1の硬化樹脂621)が凹版6から離型される(第3の工程)。以上の工程を経て、配線基板1を得ることができる。
Next, as shown in FIG. 3 (F), in a state where the
次に、本実施形態における配線基板1の製造方法の作用について説明する。
Next, the effect | action of the manufacturing method of the
配線部を構成する導電性材料を凹版の凹部に直接充填し、当該導電性材料を基材に転写することにより配線基板を製造する際は、転写の際に導電性材料の一部が凹部内に残存することがあり、凹部の溝の幅が狭い場合には得られる配線が断線することがあるため、配線部の細線化を図ることが困難な場合がある。 When a wiring board is manufactured by directly filling a concave part of an intaglio with a conductive material constituting the wiring part and transferring the conductive material to a base material, a part of the conductive material is transferred into the concave part during the transfer. In the case where the width of the groove of the concave portion is narrow, the obtained wiring may be disconnected, and it may be difficult to make the wiring portion thin.
これに対し、本実施形態では、配線基板1の製造時において、第1の樹脂材料62を凹版6の凹部61にまず充填し、当該第1の樹脂材料62を硬化収縮させることにより、窪部63を有する被覆部5を形成する(図3(B)参照)。そして、当該窪部63に、配線部4を構成する導電性材料64を充填する(図3(C)参照)。この際、被覆部5は、接着部3を介して基材2に強固に固定されるため、被覆部5は凹版6の凹部61内に残存することなく離型される。これに伴い、窪部63内に充填された導電性材料64も、凹部61内に残存することなく凹版6から離型される。これにより、配線部4の断線を防ぎつつ配線部4の細線化を図ることができる。
On the other hand, in the present embodiment, when the
また、配線基板1を製造する際、凹版6の凹部61内に導電性材料64等が残存することによる当該凹版6の汚染を抑制することができる。
Further, when the
さらに、配線部4は接着部3を介して基材2と被覆部5の間に挟まれた状態となるため、配線基板1の折れ曲がり等によって配線部4が基材2から剥離してしまうことを抑制することができると共に、外部からの衝撃等から配線部4を保護することができる。なお、窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化することにより、接着部3に凸部32を形成した場合(図2参照)は、接着部3と配線部4との接着面積が拡大すると共に、配線部4と接着部3(凸部32)との境界が非直線状(例えば、曲線状や波形状、ジグザグ形状等の凹凸状)となり、配線部4と接着部3との間の接触面積が増加するため、上記効果をより向上することができる。接着部3と配線部4との接触面積が増加することにより、配線基板1の折れ曲がり等によって配線部4が基材2から剥離することを抑制できると共に、外部からの衝撃等から配線部4を保護することができる。
Furthermore, since the
また、本実施形態の配線基板1では、配線部4が被覆部5によって被覆されるため、マイグレーションの発生を抑制することができる。
Moreover, in the
<<第2実施形態>>
図4は第2実施形態における配線基板1Bを示す断面図であり、図5(A)〜図5(E)は第2実施形態における配線基板1Bの製造方法を示す断面図である。第2実施形態における配線基板1Bは、接着部3が省略されていること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Second Embodiment >>
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a
本実施形態における配線基板1Bは、図4に示すように、第2の硬化樹脂2Bと、配線部4と、被覆部5と、を備えている。第2の硬化樹脂2Bは、第1実施形態で説明した基材2と同様の材料から構成されている。本実施形態における配線基板1Bの配線部4は、第2の硬化樹脂2Bの主面21上に直接設けられている。
As shown in FIG. 4, the
被覆部5は、第1実施形態と同様、配線被覆部51と主面被覆部52とから構成されている。本実施形態において、主面被覆部52は、第2の硬化樹脂2Bの主面21を直接被覆している。
The covering
なお、第2の硬化樹脂2Bを構成する材料と被覆部5を構成する材料は、同一組成であることが好ましい。この場合には、第2の硬化樹脂2Bと被覆部5の熱膨張率差によって配線基板1Bに反りが発生することを抑制することができる。
In addition, it is preferable that the material which comprises the 2nd cured
配線基板1Bを製造する際は、まず、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(A)〜図3(C)参照)を行う。即ち、凹版6に第1の樹脂材料62を塗布すると共に凹部61に当該第1の樹脂材料62を充填した後(図5(A))、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を形成する(図5(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図5(C))。
When manufacturing the
次いで、図5(D)に示すように、被覆部5及び配線部4を介して第2の樹脂材料7を凹版6上に塗布する。すなわち、少なくとも被覆部5(第1の硬化樹脂621)及び配線部4(硬化した導電性材料64)上に第2の樹脂材料7を塗布する。この第2の樹脂材料7は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等から構成されている。第2の樹脂材料7を塗布する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法等を例示することができる。
Next, as shown in FIG. 5D, the
続いて、塗布した第2の樹脂材料7を硬化させることにより、第2の硬化樹脂2Bを形成する。具体的な硬化条件としては、例えば、第2の樹脂材料7としてポリイミドワニスを用いた場合、当該第2の樹脂材料7を300度で1時間加熱焼成することにより硬化させることができる。次いで、第2の硬化樹脂2Bが被覆部5及び配線部4に固着した状態で第2の硬化樹脂2Bを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5を凹版6から離型する。これにより、配線基板1Bを得ることができる。
Subsequently, the applied
本実施形態における配線基板1Bの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。
The manufacturing method of the
また、本実施形態では、第1実施形態で説明した接着部3を省略することができるため、配線基板1Bの薄型化を図ることができる。
Moreover, in this embodiment, since the
<<第3実施形態>>
図6は第3実施形態における配線基板1Cを示す断面図であり、図7(A)〜図7(E)は第3実施形態における配線基板1Cの製造方法を示す断面図である。第3実施形態における配線基板1Cは、接着部3が省略されていると共に、接着性能を有するフィルム素材を基材として用いること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Third Embodiment >>
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a
本実施形態における配線基板1Cは、図6に示すように、基材2Cと、配線部4と、被覆部5と、を備えている。
As shown in FIG. 6, the
基材2Cは、接着性能を有するフィルムから構成されている。このようなフィルムを構成する材料としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等を例示することができる。また、基材2Cとして粘着性フィルムを用いてもよい。
The
配線基板1Cを製造する際は、まず、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(A)〜図3(C)参照)を行う。即ち、凹版6に第1の樹脂材料62を塗布すると共に凹部61に当該第1の樹脂材料62を充填した後(図7(A))、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を形成する(図7(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図7(C))。
When manufacturing the
次いで、図7(D)に示すように、被覆部5及び配線部4の上から基材2Cを配置し、当該基材2Cに対して加熱やUV照射等を行うことにより、被覆部5と基材2Cとを相互に固着させる。粘着性フィルムを用いて基材2Cを構成する場合には、当該フィルムの粘着性を用いて被覆部5と基材2Cとを相互に固着させる。
Next, as shown in FIG. 7D, the
続いて、基材2Cが被覆部5及び配線部4に固着した状態で基材2Cを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5を凹版6から離型する。これにより、配線基板1Cを得ることができる。
Subsequently, the
本実施形態における配線基板1Cの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。
The manufacturing method of the
また、本実施形態においても、第1実施形態で説明した接着部3を省略することができるため、配線基板1Cの薄型化を図ることができる。
Also in this embodiment, since the
<<第4実施形態>>
図8は第4実施形態における配線基板1Dを示す断面図であり、図9(A)〜図9(F)は第4実施形態における配線基板1Dの製造方法を示す断面図である。第4実施形態における配線基板1Dは、被覆部5の主面被覆部52が省略されていること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Fourth embodiment >>
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a
本実施形態における配線基板1Dは、図8に示すように、基材2と、接着部3と、配線部4と、被覆部5Bと、を備えている。
As shown in FIG. 8, the
本実施形態における被覆部5Bは、配線被覆部51のみから構成されている。このため、接着部3の主面31は、配線部4及び配線被覆部51を除いて配線基板1Dの外部に露出した状態となっている。
The covering
配線基板1Dを製造する際は、まず、被覆部5Bを形成するための第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填する(図9(A))。この際、第1の樹脂材料62を凹部61の縁で擦り切るようにして充填することにより、当該凹部61内にのみ第1の樹脂材料62を充填する。その後は、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(B)から図3(F)参照)と同様の工程を行う。
When manufacturing the
即ち、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を有する第1の硬化樹脂621(被覆部5B)形成する(図9(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図9(C))。その後、配線部4及び被覆部5B上に接着材65を塗布し(図9(D))、基材2を配置する(図9(E))。次いで、接着材65を硬化させて接着部3とし、基材2が当該接着部3を介して被覆部5B及び配線部4に固着した状態で基材2を凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5Bを凹版6から離型する(図9(F))。これにより、配線基板1Dを得ることができる。
That is, the
本実施形態における配線基板1Dの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。
The manufacturing method of the
また、本実施形態の配線基板1Dは、被覆部5Bが配線被覆部51のみから構成されており、被覆部5Bが基材2及び接着部3を覆っていないため、配線基板1D全体の光透過性を向上することができる。このため、配線基板1Dをタッチパネル等に用いた場合の視認性の向上を図ることができる。
Further, in the
さらに、被覆部5Bを構成する材料を黒色や白色等の有色材料とすることにより、配線部4での光の乱反射を抑制し、配線基板1Dをタッチパネル等に用いた場合の視認性をさらに向上することができる。
Furthermore, by using a colored material such as black or white as the material constituting the covering
なお、以上に説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating the understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
例えば、第1〜第3実施形態で説明した配線基板1〜1Cについて、第4実施形態で説明した配線基板1Dと同様に、被覆部5を配線被覆部51のみから構成してもよい。また、この際、被覆部5を構成する材料を有色材料としてもよい。これらの場合には、配線基板1〜1Cをタッチパネル等に用いた場合の視認性を向上することができる。
For example, for the
また、例えば、第1実施形態の変形例として説明した接着部3の凸部32の形態を、第2〜第4実施形態で説明した配線基板1B〜1Dに応用してもよい。具体的には、導電性材料64として、硬化後の体積収縮率が比較的大きい樹脂(例えばアクリル樹脂等)をバインダ樹脂として含有する導電性材料64を用いる。そして、窪部63に充填された導電性材料64を硬化収縮した際、当該窪部63内に形成される凹形状内に上述の接着材65又は第2の樹脂材料7を充填する工程を経ることにより、配線基板1B〜1Dを製造してもよい。
For example, the form of the
これらの場合には、第1実施形態の変形例で説明した配線基板1と同様に、配線基板1B〜1Dの折れ曲がり等によって配線部4が基材2、2B、2Cから剥離してしまうことを抑制し、外部からの衝撃等から配線部4を保護する効果をより向上することができる。
In these cases, similarly to the
また、特に図示しないが、第4実施形態で説明した配線基板1Dの配線部4の近傍のみに接着部3を設けてもよい。ここで、配線部4の「近傍」とは、配線部4の周囲において当該配線部4の幅の300%程度以内の範囲をいう。このような接着部3は、例えば、基材2の主面21全体に接着部3を形成して配線基板を作製した後、配線部4の近傍を除く接着部3をエッチング等で除去することにより形成することができる。この場合には、配線基板の光透過性を向上し、当該配線基板をタッチパネル等に用いた場合の視認性を向上することができる。
Further, although not particularly illustrated, the
1、1B〜1D・・・配線基板
2、2C・・・基材
2B・・・第2の硬化樹脂
21・・・主面
3・・・接着部
31・・・主面
32・・・凸部
4・・・配線部
5・・・被覆部
51・・・配線被覆部
511・・・頂辺
512・・・側辺
513・・・角部
52・・・主面被覆部
6・・・凹版
61・・・凹部
62・・・第1の樹脂材料
621・・・第1の硬化樹脂
63・・・窪部
64・・・導電性材料
65・・・接着材
7・・・第2の樹脂材料
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記窪部に導電性材料を充填する第2の工程と、
前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型する第3の工程と、を備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。 A first step of filling a concave portion of the intaglio with a first resin material, curing and shrinking the first resin material, and forming a first cured resin having a recess that is recessed toward the bottom of the concave portion; ,
A second step of filling the recess with a conductive material;
And a third step of releasing the first cured resin and the conductive material from the intaglio.
前記第2の工程は、前記窪部に充填された導電性材料を硬化させることを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。 It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the second step includes curing the conductive material filled in the recess.
前記第2の工程の後に、前記凹版上に第2の樹脂材料を塗布して硬化させることにより第2の硬化樹脂を形成する工程をさらに備え、
前記第3の工程は、前記第2の硬化樹脂が前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記第2の硬化樹脂を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型することを特徴とする配線基板の製造方法。 It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1 or 2,
After the second step, further comprising a step of forming a second cured resin by applying and curing a second resin material on the intaglio,
In the third step, the first cured resin is separated from the intaglio in a state where the second cured resin is fixed to the first cured resin and the conductive material. And the manufacturing method of the wiring board characterized by releasing the said electroconductive material from the said intaglio.
前記第1の樹脂材料及び前記第2の樹脂材料は、同一の組成を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 3,
The method for manufacturing a wiring board, wherein the first resin material and the second resin material have the same composition.
前記第2の工程の後に、接着材を介して基材を前記凹版上に配置する工程をさらに備え、
前記第3の工程は、前記基材が前記接着材を介して前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記基材を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型することを特徴とする配線基板の製造方法。 It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1 or 2,
After the second step, further comprising a step of placing a base material on the intaglio via an adhesive,
In the third step, the first cured resin is formed by separating the substrate from the intaglio in a state where the substrate is fixed to the first cured resin and the conductive material via the adhesive. And the manufacturing method of the wiring board characterized by releasing the said electroconductive material from the said intaglio.
前記凹版は、前記凹部を複数有しており、
前記第1の工程は、隣り合う前記凹部の間における前記凹版の表面に、前記第1の樹脂材料を塗布して硬化させることを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。 A method of manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 5,
The intaglio has a plurality of the recesses,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the first step includes applying and curing the first resin material on a surface of the intaglio between adjacent recesses.
前記第1の樹脂材料は、有色材料であり、
前記第1の工程は、前記凹部のみに前記第1の樹脂材料を充填することを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。 A method of manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 5,
The first resin material is a colored material,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the first step includes filling only the concave portion with the first resin material.
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