JP2016096209A - Wiring board manufacturing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board manufacturing method which can achieve thinning of a wiring part.SOLUTION: A manufacturing method of a wiring board 1 comprises: a first process of filling a recess 61 of an engraved plate 6 with a first resin material 62 and causing cure shrinkage of the first resin material 62 to form a first cured resin 621 having a depressed part 63 which is depressed toward a bottom of the recess 61; a second process of filling the depressed part 63 with a conductive material 64; and a third process of demolding the first cured resin 621 and the conductive material 64 from the engraved plate 6.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.

凹版の溝部に有機金属インクを充填した後、硬化性樹脂を介して被印刷体に当該有機金属インクを転写して形成された回路パターンが知られている(例えば特許文献1参照)。   There is known a circuit pattern formed by filling an intaglio groove with an organometallic ink and then transferring the organometallic ink to a printing medium via a curable resin (see, for example, Patent Document 1).

特開平4−240792号公報JP-A-4-240792

上記の技術では、凹版の溝部に充填された有機金属インクの一部が、転写の際に当該溝部に残存する場合がある。このため、回路パターンの細線化を図ることが困難であるという問題がある。   In the above technique, a part of the organometallic ink filled in the groove portion of the intaglio may remain in the groove portion during transfer. For this reason, there is a problem that it is difficult to make the circuit pattern thinner.

本発明が解決しようとする課題は、配線部の細線化を図ることができる配線基板の製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board capable of thinning a wiring part.

[1]本発明に係る配線基板の製造方法は、凹版の凹部に第1の樹脂材料を充填し、前記第1の樹脂材料を硬化収縮させ、前記凹部の底部に向かって窪む窪部を有する第1の硬化樹脂を形成する第1の工程と、前記窪部に導電性材料を充填する第2の工程と、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型する第3の工程と、を備えたことを特徴とする。   [1] In the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, the concave portion of the intaglio is filled with the first resin material, the first resin material is cured and contracted, and the concave portion recessed toward the bottom of the concave portion is formed. A first step of forming a first cured resin having a second step of filling the recess with a conductive material, and a first step of releasing the first cured resin and the conductive material from the intaglio. And 3 processes.

[2]上記発明において、前記第2の工程は、前記窪部に充填された導電性材料を硬化させることを含んでもよい。   [2] In the above invention, the second step may include curing the conductive material filled in the recess.

[3]上記発明において、前記第2の工程の後に、前記凹版上に第2の樹脂材料を塗布して硬化させることにより第2の硬化樹脂を形成する工程をさらに備え、前記第3の工程は、前記第2の硬化樹脂が前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記第2の硬化樹脂を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型してもよい。   [3] In the above invention, after the second step, the method further includes a step of forming a second cured resin by applying and curing a second resin material on the intaglio, the third step The second cured resin and the conductive material are separated from the intaglio in a state where the second cured resin is fixed to the first cured resin and the conductive material. May be released from the intaglio.

[4]上記発明において、前記第1の樹脂材料及び前記第2の樹脂材料は、同一の組成を有してもよい。   [4] In the above invention, the first resin material and the second resin material may have the same composition.

[5]上記発明において、前記第2の工程の後に、接着材を介して基材を前記凹版上に配置する工程をさらに備え、前記第3の工程は、前記基材が前記接着材を介して前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記基材を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型してもよい。   [5] In the above invention, after the second step, the method further includes a step of disposing a base material on the intaglio via an adhesive, and the third step includes the base material passing through the adhesive. Then, the first cured resin and the conductive material may be released from the intaglio by releasing the substrate from the intaglio in a state of being fixed to the first cured resin and the conductive material.

[6]上記発明において、前記凹版は、前記凹部を複数有しており、前記第1の工程は、隣り合う前記凹部の間における前記凹版の表面に、前記第1の樹脂材料を塗布して硬化することを含んでもよい。   [6] In the above invention, the intaglio has a plurality of the recesses, and the first step is to apply the first resin material to the surface of the intaglio between the adjacent recesses. It may include curing.

[7]上記発明において、前記第1の樹脂材料は、有色材料であり、前記第1の工程は、前記凹部のみに前記第1の樹脂材料を充填することを含んでもよい。   [7] In the above invention, the first resin material may be a colored material, and the first step may include filling only the concave portion with the first resin material.

本発明によれば、凹版の凹部に充填された第1の樹脂材料を硬化収縮させた際に形成される窪部に導電性材料を充填する。これにより、離型する際に凹版の凹部内に導電性材料が残存することを防ぎつつ、配線部の細線化を図ることができる。   According to the present invention, the conductive material is filled into the recess formed when the first resin material filled in the concave portion of the intaglio is cured and shrunk. Thereby, it is possible to reduce the thickness of the wiring portion while preventing the conductive material from remaining in the concave portion of the intaglio when releasing the mold.

図1は、本発明の第1実施形態における配線基板を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a wiring board according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1実施形態における配線基板の変形例を示す図である。FIG. 2 is a view showing a modification of the wiring board in the first embodiment of the present invention. 図3(A)〜図3(F)は、本発明の第1実施形態における配線基板の製造方法を示す断面図である。FIG. 3A to FIG. 3F are cross-sectional views showing a method for manufacturing a wiring board in the first embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第2実施形態における配線基板を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a wiring board according to the second embodiment of the present invention. 図5(A)〜図5(E)は、本発明の第2実施形態における配線基板の製造方法を示す断面図である。FIG. 5A to FIG. 5E are cross-sectional views showing a method for manufacturing a wiring board in the second embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第3実施形態における配線基板を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a wiring board according to the third embodiment of the present invention. 図7(A)〜図7(E)は、本発明の第3実施形態における配線基板の製造方法を示す断面図である。FIG. 7A to FIG. 7E are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a wiring board according to a third embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第4実施形態における配線基板を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a wiring board according to the fourth embodiment of the present invention. 図9(A)〜図9(E)は、本発明の第4実施形態における配線基板の製造方法を示す断面図である。FIG. 9A to FIG. 9E are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a wiring board in the fourth embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<<第1実施形態>>
図1は本実施形態における配線基板を示す断面図であり、図2は本実施形態における配線基板の変形例を示す図である。
<< first embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a wiring board in this embodiment, and FIG. 2 is a view showing a modification of the wiring board in this embodiment.

本実施形態における配線基板1は、タッチパネルの電極基板として用いられ、図1に示すように、基材2と、接着部3と、配線部4と、被覆部5と、を備えている。本実施形態では、特に図示しないが、基材2上に設けられたメッシュ状の電極を構成する細線が配線部4によって形成されている。なお、配線基板1の用途は特に限定されない。例えば、タッチセンサの電極基板として配線基板1を用いてもよい。   The wiring board 1 in the present embodiment is used as an electrode substrate of a touch panel, and includes a base material 2, an adhesive part 3, a wiring part 4, and a covering part 5, as shown in FIG. In the present embodiment, although not particularly illustrated, the thin wire constituting the mesh electrode provided on the base material 2 is formed by the wiring portion 4. In addition, the use of the wiring board 1 is not specifically limited. For example, the wiring substrate 1 may be used as the electrode substrate of the touch sensor.

本実施形態において基材2は、ポリエチレンテレフタレート(PET)製フィルムから構成されている。なお、基材2を構成する材料は、特にこれに限定されない。例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド樹脂(PI)、ポリエーテルイミド樹脂(PEI)等の材料を用いて基材2を構成してもよい。   In this embodiment, the base material 2 is comprised from the film made from a polyethylene terephthalate (PET). In addition, the material which comprises the base material 2 is not specifically limited to this. For example, you may comprise the base material 2 using materials, such as a polyethylene naphthalate (PEN), a polyimide resin (PI), and a polyetherimide resin (PEI).

接着部3は、基材2と、配線部4及び被覆部5と、を相互に接着して固定する部材であり、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂、セラミックグリーンシート等から構成されており、基材2の主面21上に略一定の厚さで設けられている。   The adhesion part 3 is a member that adheres and fixes the substrate 2, the wiring part 4 and the covering part 5 to each other. For example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a UV curable resin, a ceramic green sheet Etc., and is provided on the main surface 21 of the substrate 2 with a substantially constant thickness.

本実施形態において、接着部3の上面(配線部4及び被覆部5が設けられている面)は平坦面となっているが、特にこれに限定されない。例えば、図2に示すように、配線部4に対応する位置に凸部32が形成されていてもよい。この凸部32は、基材2の主面21と配線部4との間において、当該配線部4の突出方向に沿って突出するように形成されている。このため、凸部32の頂部における接着部3の厚さ(高さ)H1は、凸部32が設けられていない部分における接着部3の厚さ(高さ)H2よりも大きくなっている(H1>H2)。   In the present embodiment, the upper surface of the bonding portion 3 (the surface on which the wiring portion 4 and the covering portion 5 are provided) is a flat surface, but is not particularly limited thereto. For example, as shown in FIG. 2, a convex portion 32 may be formed at a position corresponding to the wiring portion 4. The convex portion 32 is formed between the main surface 21 of the substrate 2 and the wiring portion 4 so as to protrude along the protruding direction of the wiring portion 4. For this reason, the thickness (height) H1 of the adhesive portion 3 at the top of the convex portion 32 is larger than the thickness (height) H2 of the adhesive portion 3 at a portion where the convex portion 32 is not provided ( H1> H2).

配線部4は、例えば銀や銅等から構成される導電性粒子等を含む導電性材料から構成されており、接着部3の主面31に設けられている。本実施形態では、接着部3の主面31の3か所に、略等間隔で配線部4がそれぞれ設けられているが、接着部3の主面31上に設けられる配線部4の数及び配置は特にこれに限定されない。   The wiring part 4 is made of a conductive material containing conductive particles made of, for example, silver or copper, and is provided on the main surface 31 of the bonding part 3. In the present embodiment, the wiring portions 4 are provided at three positions on the main surface 31 of the bonding portion 3 at substantially equal intervals. However, the number of wiring portions 4 provided on the main surface 31 of the bonding portion 3 and The arrangement is not particularly limited to this.

配線部4の幅は、当該配線部4の形成精度向上の観点から50nm〜300μmであることが好ましく、さらに好ましくは500nm〜150μmであり、さらにより好ましくは1μm〜100μmである。配線部4の高さは、50nm〜300μmであることが好ましく、さらに好ましくは500nm〜150μmであり、さらにより好ましくは1μm〜100μmである。   The width of the wiring part 4 is preferably 50 nm to 300 μm, more preferably 500 nm to 150 μm, and still more preferably 1 μm to 100 μm from the viewpoint of improving the formation accuracy of the wiring part 4. The height of the wiring part 4 is preferably 50 nm to 300 μm, more preferably 500 nm to 150 μm, and still more preferably 1 μm to 100 μm.

本実施形態における配線部4は、接着部3の主面31から図1中上側に向かって突出するように形成されている。本実施形態における配線部4の断面形状は略半楕円状となっているが、特にこれに限定されない。例えば、配線部4の断面形状が、多角形状や、導電性材料の小片が集合して形成された形状等であってもよい。また、本実施形態では、接着部3の主面31上に設けられた複数の配線部4が、相互に略等しい断面形状をそれぞれ有しているが、複数の配線部4が相互に異なる断面形状をそれぞれ有していてもよい。   The wiring part 4 in the present embodiment is formed so as to protrude from the main surface 31 of the bonding part 3 toward the upper side in FIG. Although the cross-sectional shape of the wiring part 4 in this embodiment is substantially semi-elliptical, it is not particularly limited to this. For example, the cross-sectional shape of the wiring part 4 may be a polygonal shape, a shape formed by collecting small pieces of conductive material, or the like. In the present embodiment, the plurality of wiring portions 4 provided on the main surface 31 of the bonding portion 3 have substantially the same cross-sectional shape, but the plurality of wiring portions 4 have different cross sections. Each may have a shape.

被覆部5は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等の樹脂材料や、ゾルゲル法によって得られるガラス等から構成されており、配線被覆部51と、主面被覆部52と、を有している。なお、被覆部5と接着部3の熱膨張率差によって発生する配線基板1の反りの発生を抑制する観点から、被覆部5を構成する材料を、接着部3を構成する材料と同一組成とすることが好ましい。   The covering portion 5 is made of a resin material such as a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or a UV curable resin, glass obtained by a sol-gel method, and the like. The wiring covering portion 51, the main surface covering portion 52, have. In addition, from the viewpoint of suppressing the occurrence of warping of the wiring substrate 1 caused by the difference in thermal expansion coefficient between the covering portion 5 and the bonding portion 3, the material constituting the covering portion 5 has the same composition as the material constituting the bonding portion 3. It is preferable to do.

配線被覆部51は、接着部3との接着面を除いた配線部4の外面全体を覆っており、図1に示すように、当該配線部4の突出方向に向かって狭幅となる台形形状の断面外形を有している。即ち、配線被覆部51の断面外形は、基材2の主面21及び接着部3の主面31と略平行となるように形成された頂辺511と、当該頂辺511の両端部から接着部3の主面31に向かって幅広となるように形成される側辺512と、を有している。このため、頂辺511の両端部に形成される角部513は90度以上となっている。なお、配線被覆部51の断面外形は特に上記に限定されない。   The wiring covering portion 51 covers the entire outer surface of the wiring portion 4 excluding the bonding surface with the bonding portion 3, and has a trapezoidal shape that becomes narrower in the protruding direction of the wiring portion 4 as shown in FIG. It has a cross-sectional outer shape. That is, the cross-sectional outer shape of the wiring covering portion 51 is bonded from the top side 511 formed so as to be substantially parallel to the main surface 21 of the substrate 2 and the main surface 31 of the bonding portion 3, and from both ends of the top side 511. And side sides 512 formed so as to be wider toward the main surface 31 of the portion 3. For this reason, the corner | angular part 513 formed in the both ends of the top side 511 is 90 degree | times or more. The cross-sectional outer shape of the wiring covering portion 51 is not particularly limited to the above.

主面被覆部52は、図1に示すように、配線部4及び当該配線部4を被覆する配線被覆部51を除いて、接着部3の主面31全体を略一定の厚さで被覆している。即ち、隣り合う配線部4の間において、主面被覆部52は接着部3を介して基材2の主面21を被覆している。主面被覆部52は配線被覆部51と連続しており、本実施形態ではそれら主面被覆部52及び配線被覆部51は一体的に形成されている。主面被覆部52の高さ(厚さ)D1は、配線被覆部51の高さ(厚さ)D2よりも小さくなっており、配線被覆部51は主面被覆部52の端部から突出している。   As shown in FIG. 1, the main surface covering portion 52 covers the entire main surface 31 of the bonding portion 3 with a substantially constant thickness except for the wiring portion 4 and the wiring covering portion 51 that covers the wiring portion 4. ing. That is, between the adjacent wiring portions 4, the main surface covering portion 52 covers the main surface 21 of the base material 2 via the bonding portion 3. The main surface covering portion 52 is continuous with the wiring covering portion 51. In the present embodiment, the main surface covering portion 52 and the wiring covering portion 51 are integrally formed. The height (thickness) D1 of the main surface covering portion 52 is smaller than the height (thickness) D2 of the wiring covering portion 51, and the wiring covering portion 51 protrudes from the end of the main surface covering portion 52. Yes.

本実施形態では、接着部3の主面31に設けられた3つの配線部4をそれぞれ被覆する配線被覆部51の断面外形は相互に略同一の形状であるが、特にこれに限定されない。例えば、複数の配線被覆部51の断面外形が相互に異なっていてもよい。   In the present embodiment, the cross-sectional outer shapes of the wiring covering portions 51 that respectively cover the three wiring portions 4 provided on the main surface 31 of the bonding portion 3 are substantially the same shape, but are not particularly limited thereto. For example, the cross-sectional outlines of the plurality of wiring covering portions 51 may be different from each other.

次に、本実施形態における配線基板1の製造方法について説明する。図3(A)〜図3(F)は、本実施形態における配線基板の製造方法を説明するための断面図である。   Next, the manufacturing method of the wiring board 1 in this embodiment is demonstrated. FIG. 3A to FIG. 3F are cross-sectional views for explaining a method for manufacturing a wiring board in the present embodiment.

まず、図3(A)に示すように、形成する配線部4のパターンに対応した凹部61が形成された凹版6を準備する。このような凹版6を構成する材料としては、シリコン(Si)、シリカ(SiO)、グラッシーカーボン、ニッケル等の金属材料や、セラミックス等を例示することができる。 First, as shown in FIG. 3 (A), an intaglio 6 having a recess 61 corresponding to the pattern of the wiring portion 4 to be formed is prepared. Examples of the material constituting the intaglio 6 include metal materials such as silicon (Si), silica (SiO 2 ), glassy carbon, nickel, and ceramics.

本実施形態における凹部61はテーパ形状を有しており、当該凹部61の底部の幅は、当該凹部61の開口部の幅よりも小さくなっている。なお、凹版6の表面には、離型性を向上するための離形膜処理を予め施すことが好ましい。   The recess 61 in the present embodiment has a tapered shape, and the width of the bottom of the recess 61 is smaller than the width of the opening of the recess 61. The surface of the intaglio 6 is preferably preliminarily subjected to a release film treatment for improving the release property.

続いて、被覆部5を形成するための第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填すると共に、当該凹版6の主面60に所定厚で塗布する。第1の樹脂材料62としては、未硬化若しくは半硬化状態であり透明又は半透明の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化樹脂を例示することができる。具体的には、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂やセラミックス含有樹脂等の樹脂材料を挙げることができる。本実施形態のように、凹版6の凹部61がテーパ形状を有する場合には、凹部61への第1の樹脂材料62の充填を容易とすることができる。なお、被覆部5を形成するための第1の樹脂材料62が、硬化収縮後において粘着性又は接着性を有する場合には、接着部3の形成(図3(D)に示す工程)を省略することができる。   Subsequently, the first resin material 62 for forming the covering portion 5 is filled in the concave portion 61 of the intaglio 6 and applied to the main surface 60 of the intaglio 6 with a predetermined thickness. Examples of the first resin material 62 include an uncured or semi-cured state and a transparent or semi-transparent thermosetting resin, thermoplastic resin, and UV curable resin. Specific examples include resin materials such as acrylic resin, polyimide resin, epoxy resin, and ceramic-containing resin. When the concave portion 61 of the intaglio 6 has a tapered shape as in this embodiment, the first resin material 62 can be easily filled into the concave portion 61. In addition, when the 1st resin material 62 for forming the coating | coated part 5 has adhesiveness or adhesiveness after hardening shrinkage | contraction, formation of the adhesion part 3 (process shown in FIG.3 (D)) is abbreviate | omitted. can do.

第1の樹脂材料62を凹部61に充填する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法、ディップ法、インジェクト法、スパッタ法、CVD法、蒸着法等を例示することができる。   Examples of the method for filling the first resin material 62 into the recess 61 include screen printing, spray coating, bar coating, dipping, injection, sputtering, CVD, and vapor deposition. .

続いて、第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填すると共に当該凹版6の主面60に塗布した第1の樹脂材料62を硬化収縮させ、第1の硬化樹脂621とする(第1の工程)。この第1の硬化樹脂621により、主面60及び凹部61の内壁面は覆われる(図3(B)参照)。凹版6の凹部61同士の間を覆う第1の硬化樹脂621は略均一な厚さを有している。また、凹部61の内壁面を覆う第1の硬化樹脂621によって、当該凹部61の底部に向かって窪む断面略U字状の窪部63が形成される。この第1の硬化樹脂621によって、配線基板1の被覆部5が構成される。   Subsequently, the first resin material 62 is filled in the concave portion 61 of the intaglio 6 and the first resin material 62 applied to the main surface 60 of the intaglio 6 is cured and contracted to form the first cured resin 621 ( First step). The first hardened resin 621 covers the main surface 60 and the inner wall surface of the recess 61 (see FIG. 3B). The first cured resin 621 covering between the recesses 61 of the intaglio 6 has a substantially uniform thickness. Further, the first cured resin 621 covering the inner wall surface of the recess 61 forms a recess 63 having a substantially U-shaped cross section that is recessed toward the bottom of the recess 61. The covering portion 5 of the wiring board 1 is configured by the first cured resin 621.

第1の樹脂材料62の硬化及び収縮を行うための具体的な条件としては、例えば、幅5μm、深さ5μmの凹部61が形成されたニッケル製の凹版6を用い、スクリーン印刷法を用いてアクリル樹脂を第1の樹脂材料62として凹部61に充填、塗布した場合、120度で5分間当該第1の樹脂材料62を加熱することにより行うことができる。なお、第1の樹脂材料62を、スパッタ法、CVD法、蒸着法により凹版6に充填、塗布した場合には、上述した第1の樹脂材料62の硬化収縮工程を省略することができる。   Specific conditions for curing and shrinking the first resin material 62 include, for example, a nickel intaglio 6 in which a recess 61 having a width of 5 μm and a depth of 5 μm is formed, and using a screen printing method. When acrylic resin is filled and applied to the recess 61 as the first resin material 62, the first resin material 62 can be heated at 120 degrees for 5 minutes. Note that when the first resin material 62 is filled and applied to the intaglio 6 by sputtering, CVD, or vapor deposition, the above-described curing shrinkage step of the first resin material 62 can be omitted.

次いで、図3(C)に示すように、凹部61内に形成された窪部63に、配線部4を形成するための導電性材料64を充填する(第2の工程)。この様な導電性材料64としては、銀や銅等の導電性粒子がバインダ樹脂及び溶剤と混合されて構成される導電性ペーストを例示することができる。導電性材料64に含まれるバインダ樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、導電性材料64に含まれる溶剤としては、ブチルカルビトールアセテート、1−デカノール、ブチルセルソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラデカン等を例示することができる。窪部63に導電性材料64を充填する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、インクジェット法等を例示することができる。なお、導電性材料64にバインダ樹脂が含まれる場合における当該バインダ樹脂は、本発明の第1の樹脂材料及び第2の樹脂材料の何れにも含まれない。   Next, as shown in FIG. 3C, the recess 63 formed in the recess 61 is filled with a conductive material 64 for forming the wiring portion 4 (second step). As such a conductive material 64, a conductive paste configured by mixing conductive particles such as silver and copper with a binder resin and a solvent can be exemplified. Examples of the binder resin contained in the conductive material 64 include a phenol resin, a polyester resin, and an epoxy resin. Examples of the solvent contained in the conductive material 64 include butyl carbitol acetate, 1-decanol, butyl cellosolve, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and tetradecane. Examples of the method for filling the recess 63 with the conductive material 64 include a screen printing method, a spray coating method, and an ink jet method. In the case where the conductive material 64 includes a binder resin, the binder resin is not included in any of the first resin material and the second resin material of the present invention.

その後、熱やUV光、電磁波等を用いて導電性材料64を硬化させることにより配線部4が形成される。導電性材料64を硬化させるための具体的な条件としては、例えば、銀粒子とエポキシ樹脂(バインダ樹脂)を含有するペーストを用いた場合には、150度で10分間当該導電性材料64を加熱することにより行うことができる。   Then, the wiring part 4 is formed by hardening the conductive material 64 using heat, UV light, electromagnetic waves, or the like. As specific conditions for curing the conductive material 64, for example, when a paste containing silver particles and an epoxy resin (binder resin) is used, the conductive material 64 is heated at 150 degrees for 10 minutes. This can be done.

なお、接着部3に凸部32(図2参照)を形成する場合は、導電性材料64として、硬化後の体積収縮率が比較的大きいバインダ樹脂(例えばアクリル樹脂等)を含有する導電性材料を使用する。   In the case where the protrusions 32 (see FIG. 2) are formed on the bonding part 3, a conductive material containing a binder resin (for example, an acrylic resin) having a relatively large volume shrinkage after curing as the conductive material 64. Is used.

次いで、図3(D)に示すように、被覆部5及び配線部4の上から接着部3を形成するための接着材65を塗布する。このような接着材65としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂、セラミックグリーンシート等を例示することができる。接着材65を塗布する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法等を例示することができる。   Next, as shown in FIG. 3D, an adhesive 65 for forming the adhesive portion 3 is applied from above the covering portion 5 and the wiring portion 4. Examples of the adhesive 65 include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a UV curable resin, and a ceramic green sheet. Examples of the method for applying the adhesive 65 include screen printing, spray coating, and bar coating.

なお、接着部3に凸部32(図2参照)を形成する場合は、以下の様にして行う。即ち、窪部63に充填された導電性材料64を硬化した際、当該導電性材料64の収縮によって、凹部61の底面に向かって凹む断面略U字状の凹形状が窪部63内に形成される。そして、接着材65を塗布する際は、この凹形状内に接着材65を充填する。   In addition, when forming the convex part 32 (refer FIG. 2) in the adhesion part 3, it carries out as follows. That is, when the conductive material 64 filled in the concave portion 63 is cured, a concave shape having a substantially U-shaped cross section that is recessed toward the bottom surface of the concave portion 61 is formed in the concave portion 63 due to the shrinkage of the conductive material 64. Is done. And when apply | coating the adhesive material 65, the adhesive material 65 is filled in this concave shape.

続いて、図3(E)に示すように、接着材65上の所定位置に基材2を配置する。そして、基材2を接着材65に接触させた状態で、加熱、加圧、UV照射、マイクロ波照射等により当該接着材65を硬化させて接着部3とする。これにより、接着材65を介して基材2は配線部4及び被覆部5に固着される。具体的には、例えば、基材2としてポリエチレンテレフタレート(PET)を用い、接着材65としてUV硬化型アクリル樹脂を用いた場合には、当該基材2を接着材65上に貼り合わせ、基材2側からUV照射することにより、基材2の固着を行うことができる。   Subsequently, as shown in FIG. 3E, the base material 2 is disposed at a predetermined position on the adhesive material 65. Then, in a state where the base material 2 is in contact with the adhesive material 65, the adhesive material 65 is cured by heating, pressurization, UV irradiation, microwave irradiation, or the like to form the bonding portion 3. Thereby, the base material 2 is fixed to the wiring part 4 and the covering part 5 through the adhesive 65. Specifically, for example, when polyethylene terephthalate (PET) is used as the base material 2 and a UV curable acrylic resin is used as the adhesive material 65, the base material 2 is bonded onto the adhesive material 65. The substrate 2 can be fixed by irradiating UV from the second side.

次いで、図3(F)に示すように、接着材65を介して、基材2が被覆部5及び配線部4に固着した状態で、これを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5(第1の硬化樹脂621)が凹版6から離型される(第3の工程)。以上の工程を経て、配線基板1を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 3 (F), in a state where the base material 2 is fixed to the covering portion 5 and the wiring portion 4 via an adhesive 65, the wiring portion 4 and the covering portion are separated from the intaglio 6 by separating them. The part 5 (first cured resin 621) is released from the intaglio 6 (third step). The wiring board 1 can be obtained through the above steps.

次に、本実施形態における配線基板1の製造方法の作用について説明する。   Next, the effect | action of the manufacturing method of the wiring board 1 in this embodiment is demonstrated.

配線部を構成する導電性材料を凹版の凹部に直接充填し、当該導電性材料を基材に転写することにより配線基板を製造する際は、転写の際に導電性材料の一部が凹部内に残存することがあり、凹部の溝の幅が狭い場合には得られる配線が断線することがあるため、配線部の細線化を図ることが困難な場合がある。   When a wiring board is manufactured by directly filling a concave part of an intaglio with a conductive material constituting the wiring part and transferring the conductive material to a base material, a part of the conductive material is transferred into the concave part during the transfer. In the case where the width of the groove of the concave portion is narrow, the obtained wiring may be disconnected, and it may be difficult to make the wiring portion thin.

これに対し、本実施形態では、配線基板1の製造時において、第1の樹脂材料62を凹版6の凹部61にまず充填し、当該第1の樹脂材料62を硬化収縮させることにより、窪部63を有する被覆部5を形成する(図3(B)参照)。そして、当該窪部63に、配線部4を構成する導電性材料64を充填する(図3(C)参照)。この際、被覆部5は、接着部3を介して基材2に強固に固定されるため、被覆部5は凹版6の凹部61内に残存することなく離型される。これに伴い、窪部63内に充填された導電性材料64も、凹部61内に残存することなく凹版6から離型される。これにより、配線部4の断線を防ぎつつ配線部4の細線化を図ることができる。   On the other hand, in the present embodiment, when the wiring substrate 1 is manufactured, the first resin material 62 is first filled in the recess 61 of the intaglio 6, and the first resin material 62 is cured and shrunk so that the recess The covering portion 5 having 63 is formed (see FIG. 3B). Then, the recess 63 is filled with a conductive material 64 constituting the wiring portion 4 (see FIG. 3C). At this time, since the covering portion 5 is firmly fixed to the base material 2 through the adhesive portion 3, the covering portion 5 is released without remaining in the concave portion 61 of the intaglio 6. Accordingly, the conductive material 64 filled in the recess 63 is also released from the intaglio 6 without remaining in the recess 61. Thereby, thinning of the wiring part 4 can be achieved while preventing disconnection of the wiring part 4.

また、配線基板1を製造する際、凹版6の凹部61内に導電性材料64等が残存することによる当該凹版6の汚染を抑制することができる。   Further, when the wiring board 1 is manufactured, contamination of the intaglio 6 due to the conductive material 64 and the like remaining in the recess 61 of the intaglio 6 can be suppressed.

さらに、配線部4は接着部3を介して基材2と被覆部5の間に挟まれた状態となるため、配線基板1の折れ曲がり等によって配線部4が基材2から剥離してしまうことを抑制することができると共に、外部からの衝撃等から配線部4を保護することができる。なお、窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化することにより、接着部3に凸部32を形成した場合(図2参照)は、接着部3と配線部4との接着面積が拡大すると共に、配線部4と接着部3(凸部32)との境界が非直線状(例えば、曲線状や波形状、ジグザグ形状等の凹凸状)となり、配線部4と接着部3との間の接触面積が増加するため、上記効果をより向上することができる。接着部3と配線部4との接触面積が増加することにより、配線基板1の折れ曲がり等によって配線部4が基材2から剥離することを抑制できると共に、外部からの衝撃等から配線部4を保護することができる。   Furthermore, since the wiring part 4 is sandwiched between the base material 2 and the covering part 5 via the adhesive part 3, the wiring part 4 is peeled off from the base material 2 due to bending of the wiring board 1 or the like. Can be suppressed, and the wiring portion 4 can be protected from an external impact or the like. In addition, after filling the recessed part 63 with the electroconductive material 64, the convex part 32 is formed in the adhesion part 3 by hardening the said electroconductive material 64 (refer FIG. 2), the adhesion part 3 and the wiring part 4, the boundary between the wiring portion 4 and the bonding portion 3 (convex portion 32) becomes a non-linear shape (for example, an uneven shape such as a curved shape, a wave shape, or a zigzag shape), and the wiring portion 4 Since the contact area between the adhesive portion 3 and the adhesive portion 3 increases, the above effect can be further improved. By increasing the contact area between the bonding portion 3 and the wiring portion 4, it is possible to prevent the wiring portion 4 from being peeled off from the base material 2 due to bending of the wiring substrate 1, etc. Can be protected.

また、本実施形態の配線基板1では、配線部4が被覆部5によって被覆されるため、マイグレーションの発生を抑制することができる。   Moreover, in the wiring board 1 of this embodiment, since the wiring part 4 is coat | covered with the coating | coated part 5, generation | occurrence | production of migration can be suppressed.

<<第2実施形態>>
図4は第2実施形態における配線基板1Bを示す断面図であり、図5(A)〜図5(E)は第2実施形態における配線基板1Bの製造方法を示す断面図である。第2実施形態における配線基板1Bは、接着部3が省略されていること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Second Embodiment >>
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a wiring board 1B in the second embodiment, and FIGS. 5A to 5E are cross-sectional views showing a method for manufacturing the wiring board 1B in the second embodiment. Since the wiring board 1B in the second embodiment is the same as the first embodiment described above except that the bonding part 3 is omitted, only the parts different from the first embodiment will be described. The same reference numerals as those of the embodiment are attached and description thereof is omitted.

本実施形態における配線基板1Bは、図4に示すように、第2の硬化樹脂2Bと、配線部4と、被覆部5と、を備えている。第2の硬化樹脂2Bは、第1実施形態で説明した基材2と同様の材料から構成されている。本実施形態における配線基板1Bの配線部4は、第2の硬化樹脂2Bの主面21上に直接設けられている。   As shown in FIG. 4, the wiring board 1 </ b> B in the present embodiment includes a second cured resin 2 </ b> B, a wiring part 4, and a covering part 5. The 2nd cured resin 2B is comprised from the material similar to the base material 2 demonstrated in 1st Embodiment. The wiring part 4 of the wiring board 1B in the present embodiment is directly provided on the main surface 21 of the second cured resin 2B.

被覆部5は、第1実施形態と同様、配線被覆部51と主面被覆部52とから構成されている。本実施形態において、主面被覆部52は、第2の硬化樹脂2Bの主面21を直接被覆している。   The covering portion 5 includes a wiring covering portion 51 and a main surface covering portion 52 as in the first embodiment. In the present embodiment, the main surface covering portion 52 directly covers the main surface 21 of the second cured resin 2B.

なお、第2の硬化樹脂2Bを構成する材料と被覆部5を構成する材料は、同一組成であることが好ましい。この場合には、第2の硬化樹脂2Bと被覆部5の熱膨張率差によって配線基板1Bに反りが発生することを抑制することができる。   In addition, it is preferable that the material which comprises the 2nd cured resin 2B, and the material which comprises the coating | coated part 5 are the same compositions. In this case, it is possible to suppress the occurrence of warpage in the wiring board 1B due to the difference in thermal expansion coefficient between the second cured resin 2B and the covering portion 5.

配線基板1Bを製造する際は、まず、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(A)〜図3(C)参照)を行う。即ち、凹版6に第1の樹脂材料62を塗布すると共に凹部61に当該第1の樹脂材料62を充填した後(図5(A))、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を形成する(図5(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図5(C))。   When manufacturing the wiring board 1B, first, the same process (see FIGS. 3A to 3C) as the manufacturing method of the wiring board 1 described in the first embodiment is performed. That is, after the first resin material 62 is applied to the intaglio 6 and the recess 61 is filled with the first resin material 62 (FIG. 5A), the first resin material 62 is cured and contracted to form the recess. 63 is formed (FIG. 5B). Next, after filling the recess 63 with the conductive material 64, the conductive material 64 is cured to form the wiring portion 4 (FIG. 5C).

次いで、図5(D)に示すように、被覆部5及び配線部4を介して第2の樹脂材料7を凹版6上に塗布する。すなわち、少なくとも被覆部5(第1の硬化樹脂621)及び配線部4(硬化した導電性材料64)上に第2の樹脂材料7を塗布する。この第2の樹脂材料7は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等から構成されている。第2の樹脂材料7を塗布する方法としては、スクリーン印刷法、スプレーコート法、バーコート法等を例示することができる。   Next, as shown in FIG. 5D, the second resin material 7 is applied on the intaglio 6 through the covering portion 5 and the wiring portion 4. That is, the second resin material 7 is applied on at least the covering portion 5 (first cured resin 621) and the wiring portion 4 (cured conductive material 64). The second resin material 7 is composed of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a UV curable resin, or the like. Examples of the method for applying the second resin material 7 include a screen printing method, a spray coating method, and a bar coating method.

続いて、塗布した第2の樹脂材料7を硬化させることにより、第2の硬化樹脂2Bを形成する。具体的な硬化条件としては、例えば、第2の樹脂材料7としてポリイミドワニスを用いた場合、当該第2の樹脂材料7を300度で1時間加熱焼成することにより硬化させることができる。次いで、第2の硬化樹脂2Bが被覆部5及び配線部4に固着した状態で第2の硬化樹脂2Bを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5を凹版6から離型する。これにより、配線基板1Bを得ることができる。   Subsequently, the applied second resin material 7 is cured to form the second cured resin 2B. As specific curing conditions, for example, when polyimide varnish is used as the second resin material 7, the second resin material 7 can be cured by heating and baking at 300 degrees for 1 hour. Next, the wiring part 4 and the covering part 5 are released from the intaglio 6 by separating the second hardening resin 2B from the intaglio 6 while the second hardening resin 2B is fixed to the covering 5 and the wiring part 4. Thereby, the wiring board 1B can be obtained.

本実施形態における配線基板1Bの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。   The manufacturing method of the wiring board 1B in the present embodiment can achieve the same effects as the manufacturing method of the wiring board 1 described in the first embodiment.

また、本実施形態では、第1実施形態で説明した接着部3を省略することができるため、配線基板1Bの薄型化を図ることができる。   Moreover, in this embodiment, since the adhesion part 3 demonstrated in 1st Embodiment can be abbreviate | omitted, thickness reduction of the wiring board 1B can be achieved.

<<第3実施形態>>
図6は第3実施形態における配線基板1Cを示す断面図であり、図7(A)〜図7(E)は第3実施形態における配線基板1Cの製造方法を示す断面図である。第3実施形態における配線基板1Cは、接着部3が省略されていると共に、接着性能を有するフィルム素材を基材として用いること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Third Embodiment >>
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a wiring board 1C in the third embodiment, and FIGS. 7A to 7E are cross-sectional views showing a method for manufacturing the wiring board 1C in the third embodiment. The wiring board 1C in the third embodiment is the same as the first embodiment described above except that the bonding portion 3 is omitted and a film material having bonding performance is used as a base material. Only the parts different from the embodiment will be described, and the same reference numerals as those in the first embodiment will be attached and the description thereof will be omitted.

本実施形態における配線基板1Cは、図6に示すように、基材2Cと、配線部4と、被覆部5と、を備えている。   As shown in FIG. 6, the wiring board 1 </ b> C in this embodiment includes a base material 2 </ b> C, a wiring part 4, and a covering part 5.

基材2Cは、接着性能を有するフィルムから構成されている。このようなフィルムを構成する材料としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化型樹脂等を例示することができる。また、基材2Cとして粘着性フィルムを用いてもよい。   The base material 2C is composed of a film having adhesive performance. Examples of the material constituting such a film include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and a UV curable resin. Moreover, you may use an adhesive film as the base material 2C.

配線基板1Cを製造する際は、まず、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(A)〜図3(C)参照)を行う。即ち、凹版6に第1の樹脂材料62を塗布すると共に凹部61に当該第1の樹脂材料62を充填した後(図7(A))、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を形成する(図7(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図7(C))。   When manufacturing the wiring substrate 1 </ b> C, first, the same process (see FIGS. 3A to 3C) as the manufacturing method of the wiring substrate 1 described in the first embodiment is performed. That is, after the first resin material 62 is applied to the intaglio 6 and the recess 61 is filled with the first resin material 62 (FIG. 7A), the first resin material 62 is cured and contracted to form the recess. 63 is formed (FIG. 7B). Next, after filling the recess 63 with the conductive material 64, the conductive material 64 is cured to form the wiring portion 4 (FIG. 7C).

次いで、図7(D)に示すように、被覆部5及び配線部4の上から基材2Cを配置し、当該基材2Cに対して加熱やUV照射等を行うことにより、被覆部5と基材2Cとを相互に固着させる。粘着性フィルムを用いて基材2Cを構成する場合には、当該フィルムの粘着性を用いて被覆部5と基材2Cとを相互に固着させる。   Next, as shown in FIG. 7D, the base material 2C is arranged from above the covering part 5 and the wiring part 4, and the base part 2C is heated, irradiated with UV, etc. The base material 2C is fixed to each other. When the base material 2 </ b> C is configured using an adhesive film, the covering portion 5 and the base material 2 </ b> C are fixed to each other using the adhesiveness of the film.

続いて、基材2Cが被覆部5及び配線部4に固着した状態で基材2Cを凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5を凹版6から離型する。これにより、配線基板1Cを得ることができる。   Subsequently, the wiring part 4 and the covering part 5 are released from the intaglio 6 by separating the base 2C from the intaglio 6 in a state where the base 2C is fixed to the covering 5 and the wiring part 4. Thereby, the wiring board 1C can be obtained.

本実施形態における配線基板1Cの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。   The manufacturing method of the wiring board 1C in the present embodiment can achieve the same effects as the manufacturing method of the wiring board 1 described in the first embodiment.

また、本実施形態においても、第1実施形態で説明した接着部3を省略することができるため、配線基板1Cの薄型化を図ることができる。   Also in this embodiment, since the bonding portion 3 described in the first embodiment can be omitted, the wiring board 1C can be thinned.

<<第4実施形態>>
図8は第4実施形態における配線基板1Dを示す断面図であり、図9(A)〜図9(F)は第4実施形態における配線基板1Dの製造方法を示す断面図である。第4実施形態における配線基板1Dは、被覆部5の主面被覆部52が省略されていること以外は、上述した第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と相違する部分についてのみ説明し、第1実施形態と同一の符号を付して説明を省略する。
<< Fourth embodiment >>
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a wiring board 1D in the fourth embodiment, and FIGS. 9A to 9F are cross-sectional views showing a method for manufacturing the wiring board 1D in the fourth embodiment. The wiring board 1D according to the fourth embodiment is the same as the first embodiment described above except that the main surface covering portion 52 of the covering portion 5 is omitted, and therefore only the portions different from the first embodiment are described. Explanation will be given, and the same reference numerals as those in the first embodiment will be given, and description thereof will be omitted.

本実施形態における配線基板1Dは、図8に示すように、基材2と、接着部3と、配線部4と、被覆部5Bと、を備えている。   As shown in FIG. 8, the wiring board 1 </ b> D in the present embodiment includes a base material 2, an adhesive part 3, a wiring part 4, and a covering part 5 </ b> B.

本実施形態における被覆部5Bは、配線被覆部51のみから構成されている。このため、接着部3の主面31は、配線部4及び配線被覆部51を除いて配線基板1Dの外部に露出した状態となっている。   The covering portion 5 </ b> B in the present embodiment is composed only of the wiring covering portion 51. For this reason, the main surface 31 of the bonding part 3 is in a state exposed to the outside of the wiring board 1 </ b> D except for the wiring part 4 and the wiring covering part 51.

配線基板1Dを製造する際は、まず、被覆部5Bを形成するための第1の樹脂材料62を、凹版6の凹部61に充填する(図9(A))。この際、第1の樹脂材料62を凹部61の縁で擦り切るようにして充填することにより、当該凹部61内にのみ第1の樹脂材料62を充填する。その後は、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の工程(図3(B)から図3(F)参照)と同様の工程を行う。   When manufacturing the wiring substrate 1D, first, the concave portion 61 of the intaglio 6 is filled with the first resin material 62 for forming the covering portion 5B (FIG. 9A). At this time, the first resin material 62 is filled only in the concave portion 61 by filling the first resin material 62 so as to be scraped off at the edge of the concave portion 61. After that, the same process as the process for manufacturing the wiring board 1 described in the first embodiment (see FIGS. 3B to 3F) is performed.

即ち、第1の樹脂材料62を硬化収縮させて窪部63を有する第1の硬化樹脂621(被覆部5B)形成する(図9(B))。次いで、当該窪部63に導電性材料64を充填した後、当該導電性材料64を硬化させて配線部4を形成する(図9(C))。その後、配線部4及び被覆部5B上に接着材65を塗布し(図9(D))、基材2を配置する(図9(E))。次いで、接着材65を硬化させて接着部3とし、基材2が当該接着部3を介して被覆部5B及び配線部4に固着した状態で基材2を凹版6から離すことにより、配線部4及び被覆部5Bを凹版6から離型する(図9(F))。これにより、配線基板1Dを得ることができる。   That is, the first resin material 62 is cured and contracted to form the first cured resin 621 (covering portion 5B) having the recess 63 (FIG. 9B). Next, after filling the recess 63 with the conductive material 64, the conductive material 64 is cured to form the wiring portion 4 (FIG. 9C). Thereafter, an adhesive 65 is applied on the wiring part 4 and the covering part 5B (FIG. 9D), and the base material 2 is disposed (FIG. 9E). Next, the adhesive 65 is cured to form the adhesive part 3, and the base material 2 is separated from the intaglio 6 in a state where the base material 2 is fixed to the covering part 5 </ b> B and the wiring part 4 via the adhesive part 3. 4 and the covering portion 5B are released from the intaglio 6 (FIG. 9F). Thereby, wiring board 1D can be obtained.

本実施形態における配線基板1Dの製造方法も、第1実施形態で説明した配線基板1の製造方法と同様の効果を奏することができる。   The manufacturing method of the wiring board 1D in the present embodiment can also achieve the same effects as the manufacturing method of the wiring board 1 described in the first embodiment.

また、本実施形態の配線基板1Dは、被覆部5Bが配線被覆部51のみから構成されており、被覆部5Bが基材2及び接着部3を覆っていないため、配線基板1D全体の光透過性を向上することができる。このため、配線基板1Dをタッチパネル等に用いた場合の視認性の向上を図ることができる。   Further, in the wiring board 1D of the present embodiment, the covering portion 5B is composed only of the wiring covering portion 51, and the covering portion 5B does not cover the base member 2 and the bonding portion 3, so that the entire wiring substrate 1D transmits light. Can be improved. Therefore, it is possible to improve the visibility when the wiring board 1D is used for a touch panel or the like.

さらに、被覆部5Bを構成する材料を黒色や白色等の有色材料とすることにより、配線部4での光の乱反射を抑制し、配線基板1Dをタッチパネル等に用いた場合の視認性をさらに向上することができる。   Furthermore, by using a colored material such as black or white as the material constituting the covering portion 5B, the irregular reflection of light at the wiring portion 4 is suppressed, and the visibility when the wiring board 1D is used for a touch panel or the like is further improved. can do.

なお、以上に説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating the understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

例えば、第1〜第3実施形態で説明した配線基板1〜1Cについて、第4実施形態で説明した配線基板1Dと同様に、被覆部5を配線被覆部51のみから構成してもよい。また、この際、被覆部5を構成する材料を有色材料としてもよい。これらの場合には、配線基板1〜1Cをタッチパネル等に用いた場合の視認性を向上することができる。   For example, for the wiring boards 1 to 1 </ b> C described in the first to third embodiments, the covering portion 5 may be configured by only the wiring covering portion 51, similarly to the wiring substrate 1 </ b> D described in the fourth embodiment. At this time, the material constituting the covering portion 5 may be a colored material. In these cases, the visibility when the wiring boards 1 to 1C are used for a touch panel or the like can be improved.

また、例えば、第1実施形態の変形例として説明した接着部3の凸部32の形態を、第2〜第4実施形態で説明した配線基板1B〜1Dに応用してもよい。具体的には、導電性材料64として、硬化後の体積収縮率が比較的大きい樹脂(例えばアクリル樹脂等)をバインダ樹脂として含有する導電性材料64を用いる。そして、窪部63に充填された導電性材料64を硬化収縮した際、当該窪部63内に形成される凹形状内に上述の接着材65又は第2の樹脂材料7を充填する工程を経ることにより、配線基板1B〜1Dを製造してもよい。   For example, the form of the convex part 32 of the adhesion part 3 described as a modification of the first embodiment may be applied to the wiring boards 1B to 1D described in the second to fourth embodiments. Specifically, as the conductive material 64, a conductive material 64 containing, as a binder resin, a resin having a relatively large volume shrinkage after curing (for example, an acrylic resin) is used. Then, when the conductive material 64 filled in the recess 63 is cured and contracted, the above-described adhesive 65 or the second resin material 7 is filled in the concave shape formed in the recess 63. Accordingly, the wiring boards 1B to 1D may be manufactured.

これらの場合には、第1実施形態の変形例で説明した配線基板1と同様に、配線基板1B〜1Dの折れ曲がり等によって配線部4が基材2、2B、2Cから剥離してしまうことを抑制し、外部からの衝撃等から配線部4を保護する効果をより向上することができる。   In these cases, similarly to the wiring board 1 described in the modification of the first embodiment, the wiring portion 4 is peeled off from the base material 2, 2 </ b> B, 2 </ b> C due to the bending of the wiring boards 1 </ b> B to 1 </ b> D. It can suppress and can improve the effect which protects the wiring part 4 from the impact from the outside, etc. more.

また、特に図示しないが、第4実施形態で説明した配線基板1Dの配線部4の近傍のみに接着部3を設けてもよい。ここで、配線部4の「近傍」とは、配線部4の周囲において当該配線部4の幅の300%程度以内の範囲をいう。このような接着部3は、例えば、基材2の主面21全体に接着部3を形成して配線基板を作製した後、配線部4の近傍を除く接着部3をエッチング等で除去することにより形成することができる。この場合には、配線基板の光透過性を向上し、当該配線基板をタッチパネル等に用いた場合の視認性を向上することができる。   Further, although not particularly illustrated, the bonding portion 3 may be provided only in the vicinity of the wiring portion 4 of the wiring substrate 1D described in the fourth embodiment. Here, the “vicinity” of the wiring portion 4 refers to a range within about 300% of the width of the wiring portion 4 around the wiring portion 4. For example, such an adhesive portion 3 is formed by forming the adhesive portion 3 on the entire main surface 21 of the base material 2 to produce a wiring board, and then removing the adhesive portion 3 except for the vicinity of the wiring portion 4 by etching or the like. Can be formed. In this case, the light transmittance of the wiring board can be improved, and the visibility when the wiring board is used for a touch panel or the like can be improved.

1、1B〜1D・・・配線基板
2、2C・・・基材
2B・・・第2の硬化樹脂
21・・・主面
3・・・接着部
31・・・主面
32・・・凸部
4・・・配線部
5・・・被覆部
51・・・配線被覆部
511・・・頂辺
512・・・側辺
513・・・角部
52・・・主面被覆部
6・・・凹版
61・・・凹部
62・・・第1の樹脂材料
621・・・第1の硬化樹脂
63・・・窪部
64・・・導電性材料
65・・・接着材
7・・・第2の樹脂材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1B-1D ... Wiring board 2, 2C ... Base material 2B ... 2nd cured resin 21 ... Main surface 3 ... Adhesion part 31 ... Main surface 32 ... Convex Portion 4 ··· Wiring portion 5 ··· Covering portion 51 ··· Wiring covering portion 511 ··· Top side 512 · · · Side edge 513 · · · Corner portion 52 · · · Main surface covering portion 6 ··· Intaglio 61 ... Recess 62 ... First resin material 621 ... First cured resin 63 ... Depression 64 ... Conductive material 65 ... Adhesive 7 ... Second Resin material

Claims (7)

凹版の凹部に第1の樹脂材料を充填し、前記第1の樹脂材料を硬化収縮させ、前記凹部の底部に向かって窪む窪部を有する第1の硬化樹脂を形成する第1の工程と、
前記窪部に導電性材料を充填する第2の工程と、
前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型する第3の工程と、を備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。
A first step of filling a concave portion of the intaglio with a first resin material, curing and shrinking the first resin material, and forming a first cured resin having a recess that is recessed toward the bottom of the concave portion; ,
A second step of filling the recess with a conductive material;
And a third step of releasing the first cured resin and the conductive material from the intaglio.
請求項1に記載の配線基板の製造方法であって、
前記第2の工程は、前記窪部に充填された導電性材料を硬化させることを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the second step includes curing the conductive material filled in the recess.
請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法であって、
前記第2の工程の後に、前記凹版上に第2の樹脂材料を塗布して硬化させることにより第2の硬化樹脂を形成する工程をさらに備え、
前記第3の工程は、前記第2の硬化樹脂が前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記第2の硬化樹脂を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型することを特徴とする配線基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1 or 2,
After the second step, further comprising a step of forming a second cured resin by applying and curing a second resin material on the intaglio,
In the third step, the first cured resin is separated from the intaglio in a state where the second cured resin is fixed to the first cured resin and the conductive material. And the manufacturing method of the wiring board characterized by releasing the said electroconductive material from the said intaglio.
請求項3に記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の樹脂材料及び前記第2の樹脂材料は、同一の組成を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 3,
The method for manufacturing a wiring board, wherein the first resin material and the second resin material have the same composition.
請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法であって、
前記第2の工程の後に、接着材を介して基材を前記凹版上に配置する工程をさらに備え、
前記第3の工程は、前記基材が前記接着材を介して前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料に固着した状態で前記基材を前記凹版から離すことにより、前記第1の硬化樹脂及び前記導電性材料を前記凹版から離型することを特徴とする配線基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the wiring board according to claim 1 or 2,
After the second step, further comprising a step of placing a base material on the intaglio via an adhesive,
In the third step, the first cured resin is formed by separating the substrate from the intaglio in a state where the substrate is fixed to the first cured resin and the conductive material via the adhesive. And the manufacturing method of the wiring board characterized by releasing the said electroconductive material from the said intaglio.
請求項1〜5の何れか1項に記載の配線基板の製造方法であって、
前記凹版は、前記凹部を複数有しており、
前記第1の工程は、隣り合う前記凹部の間における前記凹版の表面に、前記第1の樹脂材料を塗布して硬化させることを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
A method of manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 5,
The intaglio has a plurality of the recesses,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the first step includes applying and curing the first resin material on a surface of the intaglio between adjacent recesses.
請求項1〜5の何れか1項に記載の配線基板の製造方法であって、
前記第1の樹脂材料は、有色材料であり、
前記第1の工程は、前記凹部のみに前記第1の樹脂材料を充填することを含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
A method of manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 5,
The first resin material is a colored material,
The method of manufacturing a wiring board, wherein the first step includes filling only the concave portion with the first resin material.
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